WO1996023237A1 - Composition polymerisable pour un filtre colore - Google Patents

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WO1996023237A1
WO1996023237A1 PCT/JP1995/002437 JP9502437W WO9623237A1 WO 1996023237 A1 WO1996023237 A1 WO 1996023237A1 JP 9502437 W JP9502437 W JP 9502437W WO 9623237 A1 WO9623237 A1 WO 9623237A1
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WO
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meth
color filter
polymer composition
group
compound
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PCT/JP1995/002437
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Tameichi Ochiai
Ryuichiro Takasaki
Noriko Endou
Yuzuru Chika
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Mitsubishi Chemical Corporation
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    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029

Definitions

  • the present invention relates to a polymer composition suitable for producing a color filter, and a polymer composition suitable for producing a color filter.
  • the present invention relates to a color filter to be manufactured and a manufacturing method thereof. Background art
  • a color filter is used in which pixels such as red, green, and blue are formed on a glass substrate by a dyeing method, a printing method, an electrodeposition method, a pigment dispersion method, or the like.
  • a color filter by a dyeing method is manufactured by forming an image with a photosensitive resin obtained by mixing a dichromate as a photosensitive agent with gelatin or polyvinyl alcohol, and then dyeing the resultant.
  • an anti-staining process is indispensable, and the process becomes complicated.
  • light resistance is poor due to the use of dyes.
  • Bichromic acid used as a photosensitizer is also a problem from the viewpoint of preventing pollution.
  • a color filter by a printing method transfers a thermosetting or light-curing ink to a glass substrate by a method such as screen printing or flexographic printing.
  • the process is simple because image formation and dyeing are not required, but high-definition images cannot be obtained, and there is a problem with ink smoothness.
  • a color filter by the electrodeposition method is one in which a glass substrate provided with electrodes is immersed in a bath containing a pigment or dye, and a hue is attached by electrophoresis. Although excellent in smoothness, it is difficult to form a complicated pattern because an electrode is required on the glass substrate in advance.
  • an image is formed using a colored resist in which a pigment is dispersed in a photocurable resin. It has advantages such as high heat resistance and no need for dyeing. Because of the ability to form images with high accuracy, it is currently the mainstream in the production of power filters. However, the use of a colored resist in which a pigment is dispersed at a high concentration makes it inferior in photocurability and low sensitivity, and also has a serious problem in workability due to low chemical resistance.
  • an image is formed using a colored resist in which a pigment is dispersed at a high temperature.
  • the pigment absorbs light strongly and has low sensitivity because it inhibits curing by oxygen. Therefore, a long exposure time is required to form an image, and the work efficiency is extremely poor.
  • a protective film for blocking oxygen is required to be formed on the resist film in order to prevent curing inhibition due to oxygen. This further complicates the process.
  • the image formed in this manner is not sufficiently photocured, it is inferior in heat resistance and chemical resistance, and it is essential to protect a colored image when forming a polyimide film that serves as a liquid crystal alignment film. Had become.
  • An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the conventional colored resist and to provide a polymer composition for a color filter having high sensitivity and excellent chemical resistance.
  • Another object of the present invention is to provide a high quality color filter using a powerful polymerization composition.
  • the present inventors have made intensive studies for the above purpose, and as a result, as an organic polymer substance, a color filter containing a (meth) acryl copolymer having an alicyclic (meth) acryloyl group in a side chain.
  • the present inventors have found that the polymerizable composition for use has high sensitivity and high resolution, and is excellent in strength, chemical resistance and pigment dispersibility, and has completed the present invention.
  • “(meth) atalyl” and “(meth) atalyloyl” are synonymous with “acryl or methacryl” and “atariloyl or methacryloyl”, respectively.
  • "Acrylic acid” shall mean "acrylic acid or methacrylic acid.” Disclosure of the invention
  • the present invention comprises an alicyclic (meth) atalyloyl group in a side chain.
  • a (meth) acrylic copolymer a compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, a photopolymerization initiator, and a color material.
  • the present invention resides in a color filter formed by applying the above-mentioned polymerized composition to a glass substrate, exposing the image to light, and developing an image.
  • the present invention resides in a method for producing a color filter, which comprises applying the above-mentioned polymerizable composition to a glass substrate, exposing to light, and developing an image.
  • a (meth) acrylic copolymer having an alicyclic (meth) acryloyl group as a polymer group in a side chain is used as the resin.
  • a synthetic means for introducing such a polymerization group into a resin the methods described in Japanese Patent Publication No. 50-34443, Japanese Patent Publication No. 50-34444, etc. are known. .
  • a compound having an alicyclic epoxy group such as an epoxycyclyl hexyl group or an epoxycyclopentyl group and a (meth) acryloyl group, for example.
  • a resin having a polymer group in the side chain can be obtained.
  • Preferred examples of the above compound include epoxycyclohexylmethyl (meth) atalylate and epoxycyclopentylmethyl (meth) atalylate. Of these, (3,4-epoxycyclohexyl) methyl ( Meta) It is acrylate.
  • a polymer composition for a color filter having particularly excellent adhesion and high chemical resistance can be obtained.
  • the resin skeleton into which the (meth) acryloyl group as the polymer group is introduced is a (meth) acrylic copolymer
  • the monomers to be copolymerized with the (meth) acrylic acid include styrene and ⁇ -methylstyrene. ⁇ position Styrene optionally substituted with a alkyl group, methyl (meth) acrylate,
  • a copolymer containing (meth) acrylic acid and styrene, which may be substituted with an alkyl group at the ⁇ -position is preferable.
  • the molar ratio of (meth) acrylic acid in the copolymer is preferably from 0.2 to 0.8, more preferably from 0.3 to 0.7.
  • the content ratio of the above-mentioned copolymer component such as styrene in the copolymer is preferably from 0.8 to 0.2, more preferably from 0.7 to 0.3.
  • the weight average molecular weight of the (meth) acrylic copolymer used in the present invention is preferably from 1,000 to 500,000. If the weight-average molecular weight is less than 1,000, it is difficult to obtain a uniform coating film, and if it exceeds 50,000, it tends to be unstable and gel. Further, the preferred content of an acidic group such as a hydroxyl group is about 5 to 200 in terms of acid value. When the acid value is 5 or less, it becomes insoluble in an alkali developing solution, and when it exceeds 200, the sensitivity may decrease.
  • Any known photopolymerization initiator can be used. However, in terms of sensitivity and chemical resistance, a combination of an imidazole compound and an aminobenzene derivative, a 2-amino-2-benzoylyl-1-phenylalkane compound, Either a halomethylated triazine compound or a halomethyloxadiazole is preferred.
  • Preferred imidazole compounds include those having the following structure in which two imidazoles are connected by one covalent bond.
  • Ar represents an aryl group which may be substituted
  • an optionally substituted phenyl group is preferable.
  • the substituent of the aryl group include a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom, a nitro group, a methyl group and a methoxy group.
  • Hexafuirubilimidazole in which the ortho position of the phenyl group at the 2-position and the 2'-position is substituted with a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom, a nitro group or a methyl group, has thermal stability and photoreaction speed. This is advantageous in terms of the degree characteristics.
  • hexaarylbiimidazole examples include 2,2'-bis (o-chloro-opening) 1,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazolone, 2,2'- Bis (o-bromopheninole) 1-4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o, p-dichlorophenyl) 1-4,4', 5,5'-tetraphen 2,4 ', 5,5'-Tetra (m-methoxyphenyl) Biimidazole, 2,2'-bis o, o 'Jikuro port phenylene Honoré) one 4, 4', 5, 5 'Ichite Bok Rafueninorebyi imidazole, 2, 2' single-bis (o-nitrophenyl) one 4, 4 ', 5, 5 7 - Tetorafue two Rubiimidazole, 2,2'-bis (o-ch
  • An aminobenzene derivative is a compound having an aminophenyl group in its structure, and is 4,4'-dimethylaminobenzophenone, 4,4'-dimethylaminobenzophenone, 2-aminobenzophenone, 4-aminobenzobenzophenone, 4,4 ' —Diaminobenzophenone, 3, 3 '—Diaminobenzophenone, benzophenone compounds such as 3,4 diaminobenzophenone, 2- (p-dimethylaminophenyl) benzoxazole, 2- (p-Jetyl) Aminophenyl) benzoxazole, 2- (p-dimethylaminophenyl) benzo [4,5] benzoxazole, 2- (p-dimethylaminophenyl) benzo [6,7] benzoxazole, 2,5 —Bis (p-getinoleaminophenyl) 1,3,4-oxazole, 2- (p-dimethylaminophenyl)
  • the 2-amino-2-benzyl 1-phenylalkane compound which is the starting point of the optical IE synthesis in the tree investigation, is represented by the general formula of lig 1.
  • R ′, R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and X is a morpholino group or an SR 4 group.
  • R 4 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a phenyl group.
  • 2-alkanoyl 2-benzoyl-1-phenylalkane compounds include compounds represented by the following formulas (2) to (9).
  • 2-amino-2-benzyl-1-phenylalkane compounds represented by the general formula of Yidani 1 preferred are those compounds in which R 1 , R 2 , and R 3 each independently represent a carbon atom It is a compound in which 1 to 4 alkyl groups and X is a morpholino group. Even more preferred are compounds wherein R 1 is a C 1 -C 4 alkyl group and R 2 and R 3 are each independently a C 1 -C 2 alkyl group. .
  • the ⁇ -methylated trizine compound which is a photopolymerization initiator used in the present invention, is represented by the following general formula:
  • R 5 and R s are halomethyl groups
  • is an organic group having 5 ⁇ carbon atoms
  • Noromethyl groups include, for example, trifluoromethyl group, tribromomethyl group, dichloromethyl group, dibromomethyl group, and the like, and organic groups having 5 or more carbon atoms may have, for example, a substituent. Examples include phenyl, naphthyl, styryl, styrylphenyl, furylvinyl, and quaternized aminoethylamino. Specific examples of the halomethylated triazine compound include compounds represented by the following formulas 11 to 32.
  • halomethylated triazine compounds represented by the general formula of Dani10 preferred are the compounds represented by the following general formulas 33 to 35.
  • R 6 is a halomethyl group
  • R is each independently an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms
  • n is an integer of 0 to 3.
  • R 5 and R 6 are a halomethyl group
  • R is each independently an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms
  • is an integer of () to 3.
  • R 5 and R 6 are a halomethyl group
  • R is each independently an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms
  • is an integer of 0 to 1.
  • R 5 and R 6 are preferably a trichloromethyl group, R has 1 to 2 carbon atoms, and A compound in which n is an integer of 0 to 2, and in Chemical Formula 35, it is an integer of 0 to 1.
  • halomethylated oxaziazole compound used in the present invention which is a photopolymerization initiator, is represented by the following general formula:
  • R 7 is a halomethyl group
  • Z is a benzofuryl group or a benzofurylvinyl group which may have a substituent.
  • halomethylated oxazidiazole compound examples include compounds represented by the following formulas 37 to 54. [Formula 3 7]
  • halomethylated oxadiazole compounds represented by the general formula of Yig36 preferred are compounds represented by the following general formula 55.
  • R 7 is a halomethyl group
  • R is each independently an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms
  • n is an integer of 0 to 2.
  • R 7 is a trichloromethyl group
  • R is independently an alkyl or alkoxy group of carbon numbers ⁇ 2
  • is an integer of 0-1.
  • the compound having at least one ethylenically unsaturated double bond used as the photopolymerizable monomer is preferably a compound containing at least one, more preferably three or more acryloyl groups, but is not limited thereto. ,.
  • acrylyl monomers having three or more functional groups are particularly preferred. These monomers are used alone or in combination.
  • Pigments include inorganic pigments such as barium sulfate, lead sulfate, titanium oxide, yellow lead, red iron oxide, chromium oxide, and carbon black, anthraquinone pigments, perylene pigments, disazo pigments, phthalocyanine pigments, isoindrin pigments, Organic pigments such as dioxazine pigments, quinatalidone pigments, perinone pigments, triphenylmethane pigments, and thioindigo pigments. These can be used alone or in combination. Specifically, for example, facial pigments indicated by the following color index (C.I.) numbers can be mentioned.
  • C.I. color index
  • anthraquinone pigments phthaloanine pigments, azo pigments, dioxazine pigments and carbon black
  • the pigment it is preferable to use at least one of anthraquinone pigments, phthaloanine pigments, azo pigments, dioxazine pigments and carbon black as the pigment.
  • a colored resist in which a black pigment such as carbon black is dispersed to form a black matrix has poor pigment dispersibility, poor workability during application, and foreign matter on the resist film. The problem is that it may remain or pinhole defects may occur.
  • the (meth) acrylic copolymer having an alicyclic (meth) acryloyl group in the side chain is a black pigment, especially 5-carbon black. Since it is well dispersed, it is possible to form a high-quality black matrix with less foreign matter on the resist film, thereby providing a high-quality color filter.
  • the average particle size of these pigments is preferably in the range of 0.005 to 0.5 /. More preferably, it is 0.01 to 0.3 ⁇ . If the average particle size is less than ⁇ , thixotropy is likely to occur and good coating properties cannot be obtained, and if it is more than this, the coating film lacks transparency. In order to achieve such a particle size, a dispersion treatment such as ball minole, sand mill, bead mill, three-piece roll, paint shear, and ultrasonic wave is effective.
  • the solvent include diisopropyl ether, mineral spirits, ⁇ -pentane, aminoleethenol, ethynolecaprylate, ⁇ -hexane, getylethenol, isoprene, ethynoleisobutynol ether, Butyl stearate, ⁇ -octane, NOKNORESOL # 2, AAPCO # 18 solvent, diisobutylene, amyl acetate, butyl butyrate, AP Koshinner, Butinoleatenore, Diisoptinoleketone, Methynolecyclohexene, Methylnonylketone, Propyl ether, Dodecane, Soca 1 solvent No.1 and No.2, Amyl formate, Dihexylphenol, Diisopropene Noreketone, Sonorebso # 150, (n, sec, t) Butyl monoxide, he
  • solvents are used alone or in combination.
  • propylene glycol methyl ether acetate can be advantageously used.
  • each component of the polymer composition for a color filter of the present invention varies depending on the type of the compound to be used, and is usually based on 100 parts by weight of a (meth) acrylic copolymer having a (meth) acryloyl group in a side chain.
  • the photopolymerization initiator is 0.05 to 50 parts by weight, preferably 0.05 to 30 parts by weight
  • the photopolymerizable monomer is 5 to 200 parts by weight
  • the pigment is 10 to 500 parts by weight
  • the dissolution agent is preferably 200 to 500 parts. It is contained in the range of parts by weight.
  • the content (P) of the pigment is desirably such that the ratio PZV of the solid component (V) excluding the pigment is in the range of 0.15 to 0.60.
  • a film having a thickness of 1. or less, preferably 0.3 to 0.9 ⁇ , more preferably 0.4 to 0.8 ⁇ is used.
  • the PZV is 0.5 to 1.5, preferably 0.7 to 0.7. 1.4, most preferably 0.9 to: It is desirable to be in the range of 1.3.
  • the content of the photopolymerization initiator is not a 25 sufficient sensitivity is e is not more than the above range, also exceeds the above range when the internal curability is deteriorated, that is recrystallization of the initiator occurs precipitates when is there. If the amount of the monomer is less than the above range, the cross-linking density of the image-exposed image area is not sufficient, and it is difficult to obtain a good image, and if the amount exceeds the above range, the solidified resist film after drying is obtained. And the workability becomes inferior.
  • the amount of the pigment is less than the above range, it becomes difficult to obtain the color density necessary for producing a color filter, and if the amount exceeds the above range, the light absorption by the pigment becomes too strong, and internal light curing does not occur and the image is not formed. No longer. If the amount of the solvent is less than the above range, the photosensitive solution has a high viscosity and coating unevenness is likely to occur, resulting in poor uniformity of film thickness and poor workability. If it exceeds the above range, a sufficient film thickness cannot be obtained, and coating defects such as pinholes are likely to occur.
  • a sensitizer in addition to the essential components as described above, a sensitizer, a pigment dispersing aid, a coatability improver, a framing agent, a development improver, a polymerization inhibitor, a plasticizer, a flame retardant, and the like can be added. . These can be used alone or in combination of several kinds.
  • the composition of the present invention is applied to a glass substrate by a known method such as a spin coater, a roll coater, a curtain coater, and screen printing.
  • the coating film thickness is 0.5 / ⁇ ! 110 ⁇ is preferred.
  • a compaction oven or hot plate is used to dry the coating.
  • the drying temperature is 50 ° C to 150 ° C (: The drying time is preferably 30 seconds to 60 minutes.
  • a high-pressure mercury lamp is generally used for the exposure, and the resist film is exposed by exposure through a mask.
  • An image is formed by developing with a solvent that dissolves the unexposed areas
  • the developing solution can be an organic solvent such as acetone, toluene, or methyl ethyl ketone.
  • aqueous sodium hydroxide solution aqueous potassium hydroxide solution, aqueous sodium carbonate solution, potassium carbonate, aqueous ammonia, aqueous tetramethylammonium hydroxide solution
  • the developing method is not particularly limited, and it can be performed by a known method such as a paddle method, a diving method, and a spray method. Ett the may be for 13 ⁇ 4. Drying of the image forming after the developing solution, Bosutobeta the purpose of increasing the curing of registry film, it may also be employed as halo curing les.
  • Styrene acrylic acid resin with an acid value of 200 and a molecular weight of 50,000, 20 g, p-methoxyphenol 0.2 g, dodecyltrimethylammonium chloride 0.2 g, propylene glycol monomethyl ether acetate 4 0 g was charged into the flask, 7.6 g of (3,4 epoxycyclohexyl) methyl acrylate was added dropwise, and the mixture was reacted at a temperature of 100 for 30 hours. The reaction solution was reprecipitated in water and dried to obtain a resin. As a result of neutralization titration with KOH, the acid value of the resin was 80.
  • Styrene having an acid value of 200, molecular weight of 5,000, styrene acrylic acid resin, 20 g, p-methoxyphenol, 0.2 g, dodecyltrimethylammonium chloride, 0.2 g, propylene glycol monomethyl ether 40 g of acetate was charged into the flask, and 7.7 g of a compound of (3,4 epoxycyclohexyl) methyl methacrylate was added dropwise and reacted at 100 ° C. for 30 hours. The reaction solution was reprecipitated in water and dried to obtain a resin. As a result of neutralization titration with KOH, the acid value of the resin was 80.
  • Styrene acrylic acid resin with an acid value of 200 and a molecular weight of 50,000, 20 g, p-methoxyphenol 0.2 g, dodecyltrimethylammonium chloride 0.2 g, propylene glycol monomethyl ether acetate 4 0 g was charged into the flask, and 5.9 g of glycidyl methacrylate was added dropwise and reacted at 100 ° C. for 30 hours. Reprecipitate the reaction solution in water and dry To obtain a resin. The acid value of the resin was 80 after neutralization titration with KOH. Examples 1 to 22 and Comparative Examples 1 to 32
  • the photopolymerization initiator shown in Table 1 (used in the ratio shown in Table 1) was used.
  • a photopolymerizable monomer dipentaerythritol hexacrylate was 50 parts by weight.
  • the numbers of the initiators represent the following compounds.
  • b—1 2,2'-bis (o-cloth feninole) 1,4,4'5,5'-tetraphenylbiimidazole
  • Each photosensitive solution was applied to a glass substrate with a spin coater and dried on a hot plate for 1 minute.
  • the resist film thickness was 1.5 / 2.
  • This sample was image-exposed with a high-pressure mercury lamp through a mask, and immersed in a 1% aqueous solution of carbonated lime at a developing temperature of 25 for 1 minute to obtain a resist pattern.
  • the exposure amount at which the resist pattern was completed according to the image size of the mask was defined as the sensitivity of the resist.
  • the minimum dimension of the resist pattern that can be formed at this time was defined as the resolution.
  • Example 1 16 b-6 (5 parts by weight)
  • Example 1 17 Synthesis example 1 2b-7 (10 parts by weight)
  • Example 1 18 b-8 (10 parts by weight)
  • Example 1 19 b-9 (10 parts by weight)
  • Example 1 20 b-10 (10 parts by weight)
  • Example 21 b-11 (10 parts by weight)
  • Example 1 22 b-12 (10 parts by weight)
  • Example 1 1 8 60 Om j ⁇ 10 ⁇ ⁇
  • Example 1 20 60 Om j ⁇ 10 ⁇ ⁇
  • Example 1 2 1 60 Om j ⁇ 10 ⁇ ⁇
  • Example 1 22 60 Om j ⁇ 10 ⁇ ⁇
  • a color resist composition having excellent image forming ability and chemical resistance can be obtained by combining a polymer having a polymerizable group in a side chain with a specific photopolymerization initiator.
  • the sensitivity was about 1.3 to 50 times higher than that of the comparative example.
  • Comparative Examples 1 Polymers having no polymerizable group in the side chain as in Examples 1 to 16 are inferior in chemical resistance and lower in sensitivity.
  • the side chain was changed to another polymerizable group as in Comparative Examples 17 to 32, the sensitivity was greatly reduced and the chemical resistance was poor.
  • the resist film after dipping in N-methylpyrrolidone, the resist film was partially or completely peeled off from the glass substrate. Examples 23 to 26 and Comparative Examples 33 to 38
  • compositions shown in Table 1 were dispersed in a paint shaker for 10 hours to obtain dispersed pastes of Ribon Black MA-100 and MA-2220 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation.
  • this carbon black dispersion paste b-1 (2 parts by weight) and b-2 (1 part by weight), dipentaerythritol hexatalylate (15 parts by weight), and PGMEA (450 parts by weight) are used as initiators.
  • b-1 (2 parts by weight) and b-2 (1 part by weight)
  • dipentaerythritol hexatalylate 15 parts by weight
  • PGMEA 450 parts by weight
  • the black resist composition photosensitive solution was applied on a glass substrate by a spin coater to a thickness of 1 ⁇ m , and prebaked on a hot plate at 100 ° C. for 60 seconds.
  • the image was exposed through a mask with a high-pressure mercury lamp, and then immersed and developed in a 25 ° (: 0.05% aqueous hydroxide aqueous solution for 30 seconds).
  • the exposure was determined to be the same as the mask dimension, and the resolution was determined by observing the minimum resist dimension formed with a microscope under a microscope.
  • Table 1 3 the composition of the present invention has excellent pigment dispersibility, so that a high-quality black matrix can be obtained with high productivity.
  • Comparative Example 38 Yes (Large amount) No image formation
  • the composition of the present invention is extremely useful not only for forming a red, green, and blue coloring pattern of a color filter but also for forming a black matrix.
  • the polymer composition of the present invention has high sensitivity and excellent chemical resistance, and can produce a high-quality color filter without a protective film such as an oxygen barrier film.

Description

明細書
カラーフィルタ一用重合組成物 技術分野 本発明は、 液晶の表示装置または固体撮像素子と組み合わせて用レ、る カラ一フィルタ一の製造に好適な重合組成物並びにかかる重合組成物を 用レ、て製造されるカラーフィルタ一及びその製造方法に関する。 背景技術
カラーフィルタ一は染色法、 印刷法、 電着法、 顔料分散法などにより ガラス基板上に赤、 緑、 青などの画素を形成したものが用いられてい る。 染色法によるカラーフィルタ一はゼラチンやポリビエルアルコール などに感光剤として重クロム酸塩を混合した感光性樹脂により画像を形 成した後、 染色して製造される。 多色を同一基板に形成するためには、 防染工程が必須であり、 工程が複雑になる問題点がある。 また、 染料を 使用しているため耐光性に劣る。 感光剤として用いる重クロム酸は公害 防止の観点からも問題である。
印刷法によるカラ一フィルタ一はスクリーン印刷またはフレキソ印刷 などの方法で、 熱硬化または光硬化インキをガラス基板に転写させる。 画像形成、 染色が不要であるため工程が簡略である反面、 高精細な画像 が得られず、 インキの平滑性にも問題がある。
電着法によるカラーフィルタ一は、 顔料または染料を含んだ浴に電極 をもうけたガラス基板を浸し電気泳動により色相を付着させるものであ る。 平滑性に優れるが、 あらかじめ、 ガラス基板に電極が必要なため、 複雑なパターンを形成させるのが困難である。
顔料分散法は光硬化性樹脂に顔料を分散させた着色レジストにより画 像を形成する。 高耐熱性、 染色がいらないなどの利点があり、 また、 高 精度な画像形成が可能なため現在力ラ一フィルター製造の主流となって いる。 し力 し、 高濃度で顔料を分散させた着色レジストを使用するため 光硬化性に劣り感度が低く、 また、 耐薬品性も低いため作業性において 大きな問題点を有している。
顔料分散法では高瀵度で顔料を分散させた着色レジストで画像形成を おこなう。 このため、 顔料により強い光吸収がおこる上に、 酸素による 硬化阻害もうけるため低感度であった。 このため、 画像を形成するため には長い露光時間が必要であり作業効率が著しく悪く、 また、 酸素によ る硬化阻害を防ぐためにはレジスト膜上にさらに酸素遮断の保護膜を形 成する必要があり、 一層プロセスを複雑にする要因となっている。 さら に、 このようにして形成された画像も光硬化が十分でないため、 耐熱 性、 耐薬品性に劣り、 液晶の配向膜となるポリイミ ド膜を形成する際に は着色画像の保護が必須となっていた。
本発明の目的は上記にあげた従来の着色レジストの問題点を解決し、 高感度、 耐薬品性に優れたカラーフィルター用の重合組成物を提供する ことにある。
本発明の他の目的は、 力かる重合組成物を用いて高品質のカラーフィ ルターを提供することにある。
本発明者らは上記目的のため鋭意研究を進めた結果、 有機高分子物質 として、 側鎖に脂環式 (メタ) ァクリロイル基を含有する (メタ) ァク リル共重合体を含有するカラーフィルター用重合性組物が高感度で解像 度が高く、 力つ、 耐薬品性及び顔料分散性にも優れることを見い出し本 発明を完成するに至った。 なお、 本明細書中において 「 (メタ) アタリ ル〜」 および 「 (メタ) アタリロイル〜」 はそれぞれ 「アクリル〜また はメタクリル〜」 および 「アタリロイル〜またはメタクリロイル〜」 と 同義であり、 例えば 「 (メタ) アクリル酸」 は 「アクリル酸またはメタ クリル酸」 を意味するものとする。 発明の開示
即ち、 本発明は、 側鎖に脂環式 (メタ) アタリロイル基を含有する
(メタ) アクリル共重合体、 エチレン性不飽和二重結合を少なくとも 1 個有する化合物、 光重合開始剤及び色材料を含有することを特徴とする カラ一フィルター用重合組成物に存する。
また、 本発明は、 上記重合組成物をガラス基板に塗布し、 露光し、 現 像してなるカラーフィルターに存する。
更に、 本発明は、 上記重合組成物をガラス基板に塗布し、 露光し、 現 像することを特徴とするカラーフィルターの製造方法に存する。
以下、 本発明を具体的に説明する。
本発明に於ては、 樹脂として、 側鎖に重合基として脂環式 (メタ) ァ クリロイル基を有する (メタ) アクリル共重合体を使用する。 かかる重 合基を樹脂に導入する合成手段としては、 特公昭 5 0— 3 4 4 4 3号公 報、 特公昭 5 0 - 3 4 4 4 4号公報などに記載の方法が知られている。 具体的には、 榭脂中のカルボキシル基や水酸基に、 例えばエポキシシク 口へキシル基、 エポキシシクロペンチル基等の脂環式エポキシ基と (メ タ) ァクリロイル基とを併せ持つ化合物などを反応させることにより、 側鎖に重合基を有する樹脂を得ることができる。 上記化合物の好ましい 例としては、 エポキシシクロへキシルメチル (メタ) アタリレート、 ェ ポキシシクロペンチルメチル (メタ) アタリレートが挙げられ、 このう ち最も好ましいのは (3 , 4—エポキシシクロへキシル) メチル (メ タ) ァクリレートである。
本発明においては、 バインダーとして用いる樹脂の側鎖に脂環式の基 が導入されていることにより、 特に密着性に優れ、 耐薬品性の高い力 ラーフィルター用重合組成物を得ることができる。
重合基としての (メタ) ァクリロイル基が導入される樹脂骨格として は、 (メタ) アクリル共重合体であり、 (メタ) アクリル酸と共重合さ せるモノマーとしては、 スチレン及び α—メチルスチレン等の α位にァ ルキル基が置換していてもよいスチレン、 (メタ) アクリル酸メチル、
(メタ) アクリル酸ェチル、 (メタ) アクリル酸プロピル、 (メタ) ァ クリル酸イソプロピル、 (メタ) アクリル酸ブチル、 酢酸ビュル、 ァク リロニトリル、 (メタ) ァクリルアミ ド、 グリシジル (メタ) ァクリ レート、 ァリルグリシジルエーテル、 ェチルアクリル酸グリシジル、 ク ロトニルダリシジルエーテル、 クロ トン酸グリシジルエーテル、 (メ タ) ァクリル酸クロライド、 ベンジル (メタ) ァクリレート、 ヒ ドロキ シェチル (メタ) ァクリレート、 N—メチロールアクリルアミ ド、 N, N—ジメチルアクリルアミ ド、 N—メタクリロイルモルホリン、 N, N —ジメチルアミノエチル (メタ) アタリレート、 N, N—ジメチルアミ ノエチルアクリルアミ ドなどのモノマーを共重合させた共重合体が挙げ られる。 特に、 (メタ) アクリル酸および α位にアルキル基が置換して いてもよいスチレンを共重合成分として含有する共重合体が好ましい。 共重合体中の (メタ) アクリル酸の占める割合は、 モル比で 0 . 2〜 0 . 8が好ましく、 より好ましくは 0 . 3〜0 . 7である。 また上記の スチレン等の共重合成分の共重合体中での含有割合は 0 . 8〜0 . 2が 好ましく、 より好ましくは 0 . 7〜0 . 3である。
本発明で用いる (メタ) アクリル共重合体の、 G P Cで測定した重量 平均分子量は好ましくは、 1, 0 0 0〜5 0, 0 0 0である。 重量平均 分子量が 1, 0 0 0以下であると均一な塗膜をえるのが難しく、 また、 5 0, 0 0 0を超えると不安定になりゲル化する傾向がある。 また、 力 ルポキシル基等の酸性基の好ましい含有量は、 酸価で 5〜2 0 0程度で ある。 酸価が 5以下であるとアルカリ現像液に不溶となり、 また、 2 0 0を超えると感度が低下することがある。
光重合開始剤としては公知のいずれのものも用いうるが、 感度及び耐 薬品性の点で、 イミダゾール化合物およびアミノベンゼン誘導体の組み 合わせ、 2—アミノー 2—ベンゾィルー 1一フエニルアルカン化合物、 ハロメチル化トリァジン化合物並びにハロメチルォキサジァゾールのい ずれかが好ましい。
好ましいィミダゾール化合物としては 2個のィミダゾールが 1個の共 有結合で結ばれた下式の構造を有するものが挙げられる。
Figure imgf000007_0001
(式中、 A rは置換されていてもよいァリール基を表わす)
前記置換されていてもよいァリール基としては、 置換されていてもよ いフエニル基が好ましい。 ァリール基の置換基としては、 フッ素原子、 塩素原子、 臭素原子等のハロゲン原子、 ニトロ基、 メチル基、 メ トキシ 基等が挙げられる。 特に 2位および 2' 位のフエニル基のオルト位が フッ素原子、 塩素原子、 臭素原子等のハロゲン原子、 ニトロ基又はメチ ル基で置換されたへキサフユ二ルビイミダゾールが熱安定性、 光反応速 度の特性面から有利である。
へキサァリールビイミダゾ一ルの具体例としては、 2, 2' —ビス (o—クロ口フエ二ノレ) 一4, 4' , 5, 5' —テトラフエ二ルビイミ ダゾーノレ、 2, 2' —ビス (o—ブロモフエ二ノレ) 一 4, 4 ' , 5, 5' —テトラフエ二ルビイミダゾール、 2, 2' —ビス (o, p—ジク ロロフエニル) 一 4, 4' , 5, 5' —テトラフエ二ルビイミダゾー ノレ、 2, 2' —ビス (o—クロ口フエ二ノレ) 一 4, 4' , 5, 5' —テ トラ (m—メ トキシフエ二ル) ビイミダゾール、 2, 2' 一ビス (o, o ' ージクロ口フエ二ノレ) 一 4, 4' , 5, 5 ' 一テ卜ラフエニノレビィ ミダゾール、 2, 2' 一ビス (o—ニトロフエニル) 一4, 4' , 5, 57 —テトラフエ二ルビイミダゾール、 2, 2' 一ビス (o—メチル フエニル) 一4, 4' , 5, 5' —テトラフエ二ルビイミダゾールなど が挙げられる。 特に、 2, 2' —ビス (o—クロ口フエニル) 一 4, Α' , 5, 5' —テトラフエ二ルビイミダゾールが有利に使用される。 これらのへキサァリールビイミダゾールは例えば B u 1 1 . C h e m. S o c . J a p a n, 3 3, 5 6 5 ( 1 9 6 0) および J . O r g. Ch e m. , _3_6, 2 2 6 2 (1 9 7 1) に開示されている方法に より容易に合成することができる。
ァミノベンゼン誘導体は、 その構造中にァミノフヱニル基部分を有す る化合物であり 4, 4' ージメチルァミノべンゾフエノン、 4, 4' 一 ジェチルァミノべンゾフエノン、 2—ァミノべンゾフエノン、 4—アミ ノベンゾフエノン、 4, 4' —ジァミノべンゾフエノン、 3, 3' —ジ ァミノべンゾフエノン、 3, 4ージァミノべンゾフエノンなどのべンゾ フエノン系化合物、 2— (p—ジメチルァミノフエニル) ベンゾォキサ ゾール、 2 - (p—ジェチルァミノフエニル) ベンゾォキサゾール、 2 一 (p—ジメチルァミノフエニル) ベンゾ 〔4, 5] ベンゾォキサゾー ル、 2— (p—ジメチルァミノフエニル) ベンゾ 〔6, 7〕 ベンゾォキ サゾール、 2, 5—ビス (p—ジェチノレアミノフエニル) 1, 3, 4— ォキサゾ一ル、 2— (p—ジメチルァミノフエニル) ベンゾチアゾー ノレ、 2— (p—ジェチルァミノフエニル) ベンゾチアゾール、 2— (p —ジメチノレアミノフエ二ノレ) ベンズイミダゾール、 2— (p—ジェチノレ ァミノフエニル) ベンズィミダゾール、 2, 5—ビス ( p—ジェチルァ ミノフエニル) 1, 3, 4—チアジアゾール、 (p—ジメチルァミノ フエニル) ピリジン、 (p—ジェチルァミノフエニル) ピリジン、 2— (p—ジメチルァミノフエニル) キノリン、 2— (p—ジェチルァミノ フエニル) キノ リン、 2— (p—ジメチルァミノフエニル) ピリ ミ ジン、 2— (p—ジェチノレアミノフエ二ノレ) ピリミジンなどの p—ジァ ルキルァミノフユニル基含有化合物などが挙げられる。
特に、 4, A' —ジメチルァミノべンゾフエノン、 4, Af —ジェチ ノレアミノべンゾフエノン、 2— (p—ジメチルァミノフエニル) ベンゾ ォキサゾーノレ、 2— ( p—ジメチノレアミノフエ二ノレ) ベンゾチアゾー ル、 2一— (p—ジェチルァミノフエニル) ベンズイミダゾ一ルが好まし い。 、
木究明で/]]いる光 IE合開始剂である、 2—アミノ ー 2—べンゾィルー 1 —フエ 二ルアルカン化合物は、 ィヒ 1の一般式で示される。
【化 1】
Figure imgf000009_0001
式中 R ' 、 R 2 、 R 3 は、 それぞれ独立して水素原子または炭素数 1〜4の了 ルキル基であり、 Xは、 モルホリノ基または S R 4 基である。 R 4 は、 炭素数 1 〜 6のアルキル基またはフヱニル基である。
2—了ミ ノ ー 2 —べンゾィルー 1 —フヱ二ルアルカン化合物の具体例としては 、 以下の化 2〜 9の式で示される化合物がある。
【化 2】
Figure imgf000009_0002
【化 3】
Figure imgf000010_0001
【化 4】
Figure imgf000010_0002
【化 5】
Figure imgf000010_0003
【化 6】
CH3S
Figure imgf000011_0001
【化 7】 o
H
Figure imgf000011_0002
【化 8】
Et
CII3S C— C— N 【化 9】
Figure imgf000012_0001
ィ匕 1の一般式で示される 2—ァミ ノ一 2—べンゾィルー 1ーフヱ二ルアルカン 化合物の中でも好ましいのは、 同式中、 R1 、 R2、 R3 が、 それぞれ独立して 炭素数 1〜4のアルキル基であり、 Xがモルホリノ基である化合物である。 さら に好ましいのは、 R1 が、 炭素数 1〜4の了ルキル基であり、 R2、 R3 が、 そ れぞれ独立して炭素数 1〜 2の了ルキル基である化合物である。
本発明で用いる光重合開始剤である、 ハ αメチル化ト リ了ジン化合物は、 ィ匕 1 0の一般式で示される。
【化 1 0】
Figure imgf000012_0002
式中 R5 及び Rs は、 ハロメチル基であり、 Υは炭素数 5^上の有機基である 。 ノヽロメチル基としては、 例えばト リク uロメチル基、 ト リブロモメチル基、 ジ クロロメチル基、 ジブロモメチル基などがあり、 炭素数 5以上の有機基としては 、 例えば置換基を有していてもよい、 フエ二ル基、 ナフチル基、 スチリル基、 ス チリルフヱニル基、 フリルビニル基、 四級化ァミノェチルァミノ基などがある。 ハロメチル化ト リアジン化合物の具体例としては、 以下の化 1 1〜3 2の式で 示される化合物がある。
【化 1 1】
Figure imgf000013_0001
【化 1 2】
'
Figure imgf000013_0002
c
Figure imgf000014_0001
Figure imgf000015_0001
【化 1 7】
Figure imgf000015_0002
【化 1 8】
Figure imgf000015_0003
【化 1 9】
Figure imgf000015_0004
【化 203
Figure imgf000016_0001
【化 21】
Figure imgf000016_0002
【化 22】
Figure imgf000016_0003
u 【化 2 3】
Figure imgf000017_0001
【化 2 4】
Figure imgf000017_0002
【化 2 5】
Figure imgf000017_0003
【化 2 6】
Figure imgf000018_0001
【化 2 7】
Figure imgf000018_0002
【化 2 8】
Figure imgf000018_0003
【化 2 9】
Figure imgf000019_0001
【化 30】
Figure imgf000019_0002
【化 3 1】
Figure imgf000019_0003
【化 32】
Figure imgf000019_0004
. ィ匕 1 0の一般式で示されるハロメチル化ト リアジン化合物の中でも好ましいも のは、 以下の化 3 3〜3 5の一般式で示される化合物である。
【化 3 3】
Figure imgf000020_0001
式中 及び R 6 は、 ハロメチル基であり、 Rはそれぞれ独立して炭素数 1 ~ 4のアルキル基または炭素数 1〜4のアルコキシ基であり、 n は 0〜3の整数で める。
【化: 4】
Figure imgf000020_0002
式中 R 5 及 R 6 は、 ハロメチル基であり、 Rはそれぞれ独立して炭素数 1〜 4のアルキル基または炭素数 1〜4のアルコキシ基であり、 π は()〜3の整数で める; 【化 3 5】
Figure imgf000021_0001
式中 R 5 及び R 6 は、 ハロメチル基であり、 Rはそれぞれ独立して炭素数 1〜 4のアルキル基であり、 π は 0〜 1の整数である。
化 3 3〜3 5の一般式で示される化合物の中でも好ましいのは、 R 5 及び R 6 がト リクロロメチル基であり、 Rの炭素数が 1〜2であり、 ィヒ 3 3及び 3 4では n が 0〜 2の整数であり、 化 3 5では 0〜 1の整数である化合物である。
本発明で用し、る光重合開始剤である、 ハロメチル化ォキサジァゾ一ル化合物は 、 化 3 6の一般式で示される。
【化 3 6】
Figure imgf000021_0002
式中 R 7 は、 ハロメチル基であり、 Zは置換基を有していてもよいベンゾフリ ル基またはべンゾフリルビニル基である。
ハロメチル化ォキサジ了ゾール化合物の具体例としては、 以下の化 3 7〜 5 4 の式で示される化合物がある。 【化 3 7】
Figure imgf000022_0001
【化 3 8】
Figure imgf000022_0002
【化 3 9】
Figure imgf000022_0003
【化 4 0】
Figure imgf000022_0004
【化 4 1】
Figure imgf000023_0001
【化 4 2】
Figure imgf000023_0002
【化 4 3】
Figure imgf000023_0003
【化 4 4】
Figure imgf000023_0004
【化 4 5】
Figure imgf000024_0001
【化 4 6】
Figure imgf000024_0002
【化 4 7】
Figure imgf000024_0003
【化 4 8】
Figure imgf000024_0004
【化 49】 c】 一 N
CH
Figure imgf000025_0001
cc】
【化 50】
CC】.
Figure imgf000025_0002
【化 5 1】
Figure imgf000025_0003
【化 52】
Figure imgf000025_0004
【化 5 3】
Figure imgf000026_0001
【化 5 4】
Figure imgf000026_0002
ィヒ 3 6の一般式で示されるハロメチル化ォキサジァゾール化合物の中でも好ま しいのは、 下の化 5 5の一般式で示される化合物である。
【化 5 5】
Figure imgf000026_0003
【 0 0 8 2:!
式中、 R 7 はハロメチル基であり、 Rはそれぞれ独立して炭素数 1〜4のアル キル基または炭素数 1〜4のアルコキシ基であり、 n は 0〜 2の整数である。 さ らに好ましいのは、 R 7 力 ト リクロロメチル基であり、 Rがそれぞれ独立して炭 素数】〜 2のアルキル基またはアルコキシ基であり、 π が 0〜1の整数である化 合物である。
1レ また、 以上の光重合開始剤の他、 2—メルカプトべンゾチアゾール、 2—メルカプトべンゾォキサゾール、 2—メルカプトべンズィミダゾ一 ルなどの水素供与性化合物を含有することも可能でさらに高感度化、 密 着性を向上させることができる。
光重合性モノマーとして用いられるエチレン性不飽和二重結合を少な くとも 1個有する化合物としては、 ァクリロイル基を少なくとも 1個、 より好ましくは 3個以上含有する化合物が好ましいがこれに限定されな レ、。 具体的にはイソブチルァクリ レート、 t一ブチルアタリレート、 ラ ゥリルアタリ レート、 セチルアタリ レート、 ステアリルアタリレート、 シクロへキシルァクリレート、 イソボニルアタリ レート、 ベンジルァク リ レート、 2—メ トキシェチルアタリレート、 3—メ トキシブチルァク リ レート、 ェチルカルビトールアタリ レート、 フエノキシェチルアタリ レート、 テトラヒ ドロフリルァクリレート、 フエノキシポリエチレング リコールァクリ レート、 メ トキシプロピレンダリコールァクリレート、 2—ヒ ドロキシェチルァクリ レート、 2—ヒ ドロキシプロピルァクリ レート、 2—ァクリロイルォキシェチルハイ ドロゲンフタレート、 2— アタリロイノレォキシプロピノレハイ ドロゲンフタレート、 2—ァクリロイ ルォキシプロピルハイ ドロゲンフタレート、 2—ァクリロイルォキシブ 口ピノレテトラヒ ドロハイ ドロゲンフタレート、 モノレホリノエチノレメタク リ レート、 トリフルォロェチルアタリレート、 トリフルォロェチノレメタ クリレート、 テトラフルォロプロピル (メタ) アタリレート、 へキサフ ルォロプロピル (メタ) アタリ レート、 ォクタフルォロペンチル (メ タ) アタリ レート、 ヘプタデカフルォロ ドデシルアタリ レート、 トリメ チルシクロへキシルェチルメタクリ レート、 1, 4 _ブタンジオールジ アタリ レート、 1, 6—へキサンジオールジアタリレート、 1, 9ーノ ナンジオールジァクリ レート、 ネオペンチルグリコールジァクリ レー ト、 テトラエチレングリコ一ルジアタリ レート、 トリプロピレングリ コールジアタリ レート、 プロピレングリコ一ルジアタリ レート、 グリセ リンメタタリレートアタリレート、 ビスフエノール A、 EO付加物ジァ クリレート、 トリメチロールプロパントリアタリレート、 ペンタエリス リ トールトリアタリレート、 ペンタエリスリ トールテトラァクリ レー ト、 トリメチロールプロパン EO付カ卩トリァクリレート、 グリセリン P O付加トリアタリレート、 トリスアタリロイルォキシェチルフォス フェート、 ジペンタエリスリ トールへキサアタリレート、 ノボラックェ ポキシのアクリル酸変性物、 ノボラックエポキシのアクリル酸および酸 無水物の変性物、 N—ビュルピロリ ドン、 N—ビュル力プロラクタム、 アクリル化イソシァヌレート、 ジペンタエリスリ トールモノヒ ドロキシ ペンタアタリ レート、 ウレタンアタリレート、 不飽和ポリエステルァク リレートなどが挙げられる。
これらのモノマーのなかでは特に 3官能以上のァクリルモノマーが好 ましい。 これらのモノマーは単独または複数組み合わせて使用される。 顔料としては、 硫酸バリウム、 硫酸鉛、 酸化チタン、 黄色鉛、 ベンガ ラ、 酸化クロム、 力一ボンブラックなどの無機顔料、 アントラキノン系 顔料、 ペリ レン系顔料、 ジスァゾ顔料、 フタロシアニン顔料、 イソイン ドリン顔料、 ジォキサジン顔料、 キナタリ ドン顔料、 ペリノン系顔料、 トリフエニルメタン系顔料、 チオインジゴ顔料などの有機顔料などが挙 げられる。 これらを単独または混合して用いることができる。 具体的に は、 例えば下記のカラーインデックス (C. I ) ナンバーで示される顔 料が挙げられる。
C. I . 赤; 9、 97、 122、 23、 149、 168、 1 77
180、 192、 2 5、 216、 21 7、 220、 223、 224、 226、 227、 228、 240
C. I . 青; 15、 15 ; 6 22、 60、 64
C. I . 緑; 7、 36
C. I . 黒; 7 C. I . 黄色; 20、 24、 86、 93、 109、 1 10、 1 1 7、
125、 137、 138、 147、 148、 153、 154、 166、 168
C. I . オレンジ; 36、 43、 51、 55、 59、 61
5 C. I . バイオレッ ト ; 19、 23、 29、 30、 37、 40、 50
C. I. 茶; 23、 25、 26
特に、 アントラキノン系顔料、 フタロアニン系顔料、 ァゾ系顔料、 ジ ォキサジン顔料およびカーボンブラックの少なくとも一種を顔料として 使用するのが好ましい。
0 また、 特にブラックマトリックスを形成するための、 カーボンブラッ ク等の黒色顔料を分散させた着色レジストでは、 顔料の分散性が悪く、 塗布の際に作業性が悪い上、 レジスト膜上に異物が残ったり、 ピンホー ル欠陥が発生することがあり、 問題であつたが、 側鎖に脂環式 (メタ) ァクリロイル基を有する (メタ) アクリル共重合体は、 黒色顔料、 特に5カーボンブラックを非常によく分散させるので、 レジスト膜上の異物の 少なく、 高品質のブラックマトリックスの形成が可能となり、 ひいては 高品質のカラーフィルターを提供することができる。
これら顔料の平均粒径は 0. 005〜0. 5 / の範囲にあるのが好ま しい。 より好ましくは 0. 01〜0. 3 μである。 平均粒径がこれ以下οであるとチクソトロピー性ができやすく良好な塗布性が得られず、 ま た、 これ以上であると塗膜の透明性に欠けるようになる。 このような粒 径にするためには、 ボールミノレ、 サンドミル、 ビーズミル、 3本ロー ノレ、 ペイントシエ一力一、 超音波などの分散処理が有効である。
溶剤としては具体的に、 ジイソプロピルエーテル、 ミネラルスピリツ5 ト、 η—ペンタン、 アミノレエーテノレ、 ェチノレカプリ レート、 η —へキ サン、 ジェチルエーテノレ、 イソプレン、 ェチノレイソブチノレエ一テル、 ブ チルステアレート、 η—オクタン、 ノくノレソル # 2、 ァプコ # 18ソル ベント、 ジイソブチレン、 ァミルアセテート、 ブチルブチレート、 ァプ コシンナー、 ブチノレエーテノレ、 ジイソプチノレケトン、 メチノレシクロへキ セン、 メチルノニルケトン、 プロピルエーテル、 ドデカン、 S o c a 1 s o l v e n t N o 1および N o 2、 ァミルホルメート、 ジへキシ ノレェ一テノレ、 ジイソプロピノレケトン、 ソノレべッソ # 1 5 0、 (n, s e c, t ) 一齚酸ブチル、 へキセン、 シェル T S 2 8 ソルベント、 ブチ ノレクロライ ド、 ェチノレアミノレケトン、 ェチノレべンゾネート、 アミノレクロ ライ ド、 エチレングリコ一ノレジェチノレエーテノレ、 ェチノレオノレソホノレメー ト、 メ トキシメチルペンタノン、 メチノレブチノレケトン、 メチルへキシノレ ケトン、 メ トルイソブチレート、 ベンゾニトリル、 ェチルプロピオネー ト、 メチルセ口ソルブアセテート、 メチルイソアミルケトン、 メチ ^レイ ソブチルケトン、 プロピルアセテート、 ァミルアセテート、 ァミルホル メート、 ビシクロへキシノレ、 ジエチレングリコーノレモノェチノレエーテノレ アセテート、 ジペンテン、 メ トキシメチノレペンタノール、 メチ^^アミノレ ケトン、 メチルイソプロピルケトン、 プロピルプロピオネート、 プロピ レングリコーノレ一 t—ブチノレエ一テノレ、 メチノレエチルケトン、 メチノレセ 口ソルブ、 ェチノレセロソルブ、 ェチノレセロソルブアセテート、 カルビ トール、 シクロへキサノン、 酢酸ェチル、 プロピレングリコール、 プロ ピレングリコーノレモノメチノレエ一テノレ、 プロピレングリコーノレモノメチ ノレェ一テノレアセテート、 プロピレングリコーノレモノエチノレエ一テノレ、 プ ロピレングリコールモノェチノレエ一テノレアセテート、 ジブロピレングリ コールモノェチルエーテル、 ジプロピレングリコーノレモノメチルエーテ ノレ、 プロピレングリコールモノェチノレエーテルアセテート、 ジプロピ レングリコールモノメチルエーテルァセテ一ト、 3—メ トキシプロピ オン酸、 3—エトキシプロピオン酸、 3—エトキシプロピオン酸メチル エーテル、 3—メ トキシプロピオン酸メチル、 3—メ トキシプロピオン 酸ェチル、 3—エトキシプロピオン酸、 3—メ トキシプロピオン酸プロ ピル、 3—メ トキシプロピオン酸ブチル、 ジグライム、 ジプロピレング リ コーノレモノメチノレエーテノレ、 エチレングリコーノレアセテート、 ェチノレ カルビトール、 ブチルカノレビトール、 エチレングリコールモノブチル ェ一テノレ、 プロピレングリコ一ノレ一 tーブチノレエ一テル、 3—メチルー 3—メ トキシブタノール、 トリプロピレングリコールメチルエーテル、 3—メチルー 3—メ トキシブチルァセテートなどの有機溶剤が挙げられ
5る。
溶剤は沸点が 100°Cから 200°Cの範囲のものを選択するのが好ま しい。 より好ましくは 120で〜 170°Cの沸点をもつものである。 こ れらの溶剤は単独もしくは混合して使用される。 特に、 プロピレンダリ コールメチルエーテルァセテ一トが有利に使用できる。
10 本発明のカラーフィルター用重合組成物の各成分の使用割合は、 使用 する化合物の種類により変わるが、 通常、 側鎖に (メタ) ァクリロイル 基を有する (メタ) アクリル共重合体 100重量部に対し、 光重合開始 剤は 0. 05〜50重量部、 好ましくは 0. 05〜30重量部、 光重合 性モノマー 5〜200重量部、 顔料 10〜500重量部、 好ましくは溶 is剤 200〜500重量部の範囲で含有される。 なお、 顔料の含有量 (P) は顔料を除く固型分 (V) の割合 PZVが 0. 15〜0. 60の 範囲であることが望ましい。 ただし、 カーボンブラック等の黒色顔料を 含むブラックマトリックス用重合組成物の場合には、 1. 以下、 好 ましくは 0. 3〜0. 9μ、 より好ましくは 0. 4〜0. 8 μの膜厚に 形成した塗膜の、 透過濃度が 2. 5以上、 好ましくは 3. 0以上のブ ラックマトリックスを形成させるために、 PZVが 0. 5〜1. 5、 好 ましくは 0. 7〜1. 4、 最も好ましくは 0. 9〜: I. 3の範囲である ことが望ましい。
光重合開始剤の含有量が上記範囲以下であると十分な感度がえられ 25ず、 また、 上記範囲を超えると内部硬化性が悪くなり、 ときに開始剤の 再結晶がおこり析出することがある。 モノマ一の添加量が上記範囲以下 であると像露光された画線部の架橋密度が十分でなくなり良好な画像が 得られにくく、 また、 上記範囲を超えると乾燥後のレジスト膜のベタつ きが大きくなり作業性に劣るようになる。 顔料の添加量が上記範囲以下 であるとカラーフィルタ一作成に必要な色濃度が出しにくくなり、 ま た、 上記範囲を超えると顔料による光吸収が強くなりすぎ、 内部光硬化 が起こらなくなり画像がでなくなる。 溶剤の添加量が上記範囲以下であ ると、 感光液が高粘度となり塗布むらができやすく膜厚の均一性に欠 け、 作業性にも劣る。 上記範囲を超えると十分な膜厚を得ることができ ず、 また、 ピンホールなどの塗布欠陥ができやすくなる。
本発明には上記の如き必須成分以外に增感剤、 顔料分散助剤、 塗布性 改良剤、 架橘剤、 現像改良剤、 重合禁止剤、 可塑剤、 難燃剤などを添カロ することができる。 これらは単独もしくは数種併用することも可能であ 。
本発明の組成物はスピンコーター、 ロールコーター、 カーテンコー ター、 スクリーン印刷などの公知の方法でガラス基板に塗布される。 塗 布膜厚は 0 . 5 /ζ π!〜 1 0 μ πιが好ましい。 塗布膜を乾燥させるために コンペクシヨンオーブンまたはホットプレートが使用される。 乾燥温度 は 5 0 °C〜1 5 0 ° (:、 乾燥時間は 3 0秒〜 6 0分が好適である。 露光は 高圧水銀灯が一般的に用いられ、 マスクを通して露光することにより、 レジスト膜に潜像が形成される。 未露光部分を溶解させる溶剤で現像す ることにより画像が形成される。 現像液はアセトン、 トルエン、 メチル ェチルケトンなどの有機溶剤も使用可能であるが、 環境問題からアル力 リ現像液の方が好ましい。 一例をあげるならば水酸化ナトリゥム水溶 液、 水酸化カリウム水溶液、 炭酸ナトリウム水溶液、 炭酸カリウム、 アンモニア水、 テトラメチルアンモニゥムハイドロォキサイド水溶液、 などが用いられる。 現像方法としては、 特に制限はなく、 パドル法、 ディッビング法、 スプレー法など公知の方法でおこなうことができる。 またプリウエットを 1¾用してもよい。 画像形成後現像液の乾燥、 レジス ト膜の硬化を高める目的でボストベータ、 後光硬化などを採用してもよ レ、。 発明を実施するための最良の形態
次に、 実施例を用いて本発明を具体的に説明するが、 本発明はその要 旨を超えない限り以下の実施例により何等限定されるものではない。 合成例一 1
酸価 2 0 0、 分子量 5, 0 0 0のスチレン 'アクリル酸樹脂 2 0 g、 p—メ トキシフエノール 0 . 2 g、 ドデシルトリメチルアンモニゥムク ロリ ド 0 . 2 g、 プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 4 0 gをフラスコに仕込み、 (3, 4エポキシシクロへキシル) メチル アタリレート 7 . 6 gを滴下し 1 0 0での温度で 3 0時間反応させた。 反応液を水に再沈殿、 乾燥させて樹脂を得た。 K OHによる中和滴定を おこなったところ樹脂の酸価は 8 0であった。 合成例— 2
酸価 2 0 0、 分子量 5, 0 0 0のスチレン 'アクリル酸樹脂 2 0 g、 p—メ トキシフエノーノレ 0 . 2 g、 ドデシルトリメチルアンモニゥムク ロリ ド 0 . 2 g、 プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 4 0 gをフラスコに仕込み、 (3, 4エポキシシクロへキシル) メチル メタクリレートの化合物 7 . 7 gを滴下し 1 0 0 °Cの温度で 3 0時間反 応させた。 反応液を水に再沈殿、 乾燥させて樹脂を得た。 K OHによる 中和滴定をおこなったところ樹脂の酸価は 8 0であった。 合成例一 3
酸価 2 0 0、 分子量 5, 0 0 0のスチレン 'アクリル酸樹脂 2 0 g、 p—メ トキシフエノール 0 . 2 g、 ドデシルトリメチルアンモニゥムク ロリ ド 0 . 2 g、 プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 4 0 gをフラスコに仕込み、 グリシジルメタクリレート 5 . 9 gを滴下 し 1 0 0 °Cの温度で 3 0時間反応させた。 反応液を水に再沈殿、 乾燥さ せて樹脂を得た。 K OHによる中和滴定をおこなったところ樹脂の酸価 は 80であった。 実施例 1〜22及び比較例 1〜32
表— 1に記載の樹脂 100重量部に対し、 表一 1に記載の光重合開始 剤 (表一 1に記載の割合で使用) 、 光重合性モノマーとして、 ジペンタ エリスリ トールへキサァクリレート 50重量部、 顔料としてフタロシア ニンブルー (C. I 15 ; 6) 70重量部及び溶剤としてプロピレン グリコールモノメチルエーテルァセテ一ト 1000重量部を加え、 よく 混合してカラーフィルター用感光液を調製した。
尚、 表中、 開始剤の番号は次の化合物を表わす。 b— 1 : 2, 2 ' —ビス (o —クロ口フエ二ノレ) 一 4, 4' 5, 5 ' —テトラフエニルビィミダゾール
b 2 4, 4' —ジメチルァミノべンゾフエノン
b 3 4, 4' —ジェチルァミノべンゾフエノン
b 4 2— (p—ジメチルァミノフエニル) ベンゾォキサゾル b 5 2- (p—ジメチルァミノフエニル) ベンゾチアゾール b 6 2— (p—ジェチルァミノフエニル) ベンズイミダゾール b 7 前記化 3の化合物
b 8 前記化 1 1の化合物
b 9 前記化 12の化合物
b 10 :前記化 13の化合物
b :前記化 14の化合物
b -12 :前記化 37の化合物 感光液の評価方法は以下の通りである。
各感光液をスピンコーターにてガラス基板に塗布し、 ホットプレート で 1分間乾燥した。 レジスト膜厚は 1 . 5 /2であった。 このサンプルを マスクを通して高圧水銀灯で像露光した後、 1 %の炭酸力リゥム水溶液 に現像温度 2 5でで 1分間浸漬してレジストパターンを得た。 レジスト パターンがマスクの画像寸法とおりに仕上がる露光量をもってレジスト の感度とした。 また、 このときに形成できるレジストパターンの最小寸 法を解像力とした。
耐薬品試験は現像されたサンプルを、 さらに 2 0 0 °Cで 3 0分間コン ベクシヨンオーブンで熱硬化させたあと、 N—メチルピロリ ドンに室温 で 3 0分間浸漬させ、 レジスト膜の状態を目視観察して判定した。 結果 を表— 2に示す。
表—
曰 開始剤使用量
合 H成*例 U 4一 1 b— 2 (5重量部) 室 ¾fe例一 2 合成例一 1 b— 3 (5重量部) 室施例— 3 合 {-|成*例一 1 b— 1 (10重量部) b-4 (5重量部) 実施例一 4 合成例— 1 b— 5 (5重量部) 卖施例一 5 合成例一 1 b— 6 (5重量部) 実施例一 6 合成例— 1 b— 7 (10重量部) 実施例一 7 合成例— 1 b— 8 (10重量部) 卖施例— § 合成例— 1 b— 9 (10重量部) 宝 "fife例一 Q 合成例一 1 b— 10 (10重量部) 宝 例一 1 n 合成例一 1 b— 1 1 (10重量部) 宝 life例一 1 1 合成例一 1 b- 12 (10重量部)
b-2 (5重量部) 宝施個— 1 ο b-3 (5重量部) 宝; fife例一 1 4 b- 1 (10重量部) b-4 (5重量部) 宝施例— 1 C b— 5 (5重量部) 実施例一 1 6 b— 6 (5重量部) 実施例一 17 合成例一 2 b— 7 (10重量部) 実施例一 18 b— 8 (10重量部) 実施例一 19 b-9 (10重量部) 実施例一 20 b— 10 (10重量部) 実施例— 21 b— 1 1 (10重量部) 実施例一 22 b- 12 (10重量部)
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実施例— 1 6 1 2 Om j < 1 0 ^ 〇
実施例— 1 7 60 Om j < 1 0 μ 〇
実施例一 1 8 60 Om j < 1 0 μ 〇
実施例— 1 9 60 Om j < 1 0 μ 〇
実施例一 20 60 Om j < 1 0 μ 〇
実施例一 2 1 60 Om j < 1 0 μ 〇
実施例一 22 60 Om j < 1 0 μ 〇
表一 2つづき
Figure imgf000039_0001
表一 2に示すごとく、 側鎖に重合基を有する高分子重合体と特定の光 重合開始剤を組み合わせることにより、 画像形成能、 耐薬品性に優れた カラーレジスト組成物がえられる。 実施例では溶剤の NM Pに 3 0分間 浸漬したあとでも浸漬前と同じ状態を保った。 また、 感度に関しても比 較例より約 1 . 3〜5 0倍以上高感度であった。 比較例一 1〜1 6のよ うに側鎖に重合基をもたない高分子体では耐薬品性に劣り、 また感度も 低下する。 比較例 1 7〜3 2のように側鎖を他の重合基に変えると大幅 に感度が低下し、 耐薬品性が不良である。 比較例では N—メチルピロリ ドンに浸漬したあとではレジスト膜がガラス基板から一部もしくは完全 に剥離した。 実施例 2 3〜 2 6及び比較例 3 3〜 3 8
表一 3に示す組成をペイントシェーカーにて 1 0時間分散処理して三 菱化学 (株) 製力一ボンブラック MA— 1 0 0および MA— 2 2 0の分 散ペーストを得た。 このカーボンブラック分散ペーストに開始剤として b— 1 ( 2重量部) 及び b— 2 ( 1重量部) 、 ジペンタエリスリ トール へキサアタリレート (1 5重量部) 並びに P GME A ( 4 5 0重量部) を添加して、 ブラックレジスト組成物を調合した。
続いて、 該ブラックレジス ト組成物感光液をガラス基板上にスピン コータにて 1 μの厚さで塗布し、 ホットプレート上で 1 0 0 °C、 6 0秒 間プリべークした。 レジスト塗膜上の異物を目視観察で判別した後、 マ スクを通して高圧水銀灯で像露光した、 2 5 ° (:、 0 . 0 5 %の水酸化力 リゥム水溶液で 3 0秒間浸漬現像し、 水でリンスしブラックレジストの パターニングを行った。 マスクの寸法と同一となる露光量を感度と定義 し、 そのときに形成される最小レジスト寸法を顕微鏡で観察し解像力を 求めた。 結果を表一 4に示す。 表一 4の実施例の如く、 本発明の組成物 は顔料分散性に優れるため、 高品位なブラックマトリックスを高い生産 性で得ることができる。 表一 3
成 分
樹 脂 力一ボンブラック 溶 剤
(2 5重量部) (50重量部) (1 00重量部) 実施例一 23 合成例一 1 MA- 1 00
実施例一 24 TUT Δ一 9 Π
施例一 5 合成例一 2 MA- 1 00
実施例— 26 MA— 220 PGMEA 比較例一 3 3 合成例一 3 MA— 1 00 (ブロピレンダリ 比較例一 34 MA- 220 コーノレモノメチノレ 比較例一 3 5 スチレン ·アクリル酸樹脂 MA— 1 00 エーテノレアセテー 比較例一 36 (酸化 200、 Mw 5000) MA- 220 b)
比較例— 3 7 ベンジルメタクリレート · MA- 1 00
メタクリル酸樹脂
比較例一 38 (酸化 200、 Mw 1 000 MA- 220
0)
レジスト膜上の異物 感 度 解像度 実施例一 23 200 Om j 2 0 μ 実施例一 24 挺、、 200 Om j 20 μ 実施例一 2 5 4 & 250 Om j 20 μ 実施例一 26 ハ、、 250 Om j 2 0 μ 比較例一 3 3 有り 400 Om j 5 0 μ 比較例— 34 有り 400 Om j 50 μ 比較例一 3 5 有り 500 Om j > 50 μ 比較例一 3 6 有り 500 Om j > 5 0 μ 比較例一 3 7 有り (多量) 画像形成不可
比較例一 38 有り (多量) 画像形成不可 以上、 本発明組成物はカラーフィルターの赤、 緑、 青の着色パターン だけでなく、 ブラックマトリックスの形成においてもきわめて有用であ る。 産業上の利用性
本発明の重合組成物は高感度で、 耐薬品性に優れ、 酸素遮断膜などの 保護膜をつけずに高品質のカラーフィルターの製造が可能である。

Claims

特許請求の範囲
1.側鎖に脂環式 (メタ) ァクリロイル基を含有する (メタ) アクリル共重合体、 エチレン性不飽和二重結合を少なくと も 1個有する化合物、 光重合開始剤及び色材料を含有する ことを特徴とするカラ一フィルタ一用重合組成物。
2.前記 (メタ) アクリル共重合体が、 カルボキシル基を有す るァクリル共重合体のカルボキシル基に、 エポキシシク口 へキシル基及び (メタ) ァクリロイル基を有する化合物を 反応させたアクリル共重合体であることを特徴とする請求 の範囲第 1項記載のカラーフィルタ一用重合組成物。
3.前記 (メタ) アクリル共重合体が、 (メタ) アクリル酸と α位にアルキル基を有していてよいスチレンの共重合体に、 側鎖として脂環式 (メタ) ァクリロイル基を導入してなる (メタ) アクリル共重合体であることを特徴とする請求の 範囲第 1項または第 2項記載の力ラーフィルタ一用重合組 成物。
4.前記ァクリル共重合体の重量平均分子量が 1 0 0 0〜 5 0 0 0 0であり、 酸化が 5〜2 0 0であることを特徴とする 請求の範囲第 1項乃至第 3項のいずれかに記載の力ラ一 フィルター用重合組成物。
5.前記光重合開始剤としてィミダゾール化合物及びァミノ ベンゼン誘導体を含有することを特徴とする請求の範囲第
1項乃至第 4項のいずれかに記載のカラーフィルター用重 合組成物。
6.前記光重合開始剤として 2—アミノー 2—ベンゾィルー 1 —フエ二ルアルカン化合物、 ハロメチル化トリアジン化合 物またはハロメチルォキサジァゾールを含有することを特 徴とする請求の範囲第 1項乃至第 4項のいずれかに記載の カラーフィルタ一用重合組成物。
7.光重合開始系が更に芳香族メルカプト化合物を含有するこ とを特徴とする請求の範囲第 5項または第 6項記載の力 ラーフィルタ一用重合組成物。
8.重量で表された赤、 緑または青色の顔料含有量 (P ) と顔 料分を除く固形分含有量 (V) の割合 P ZVが 0 . 1 5〜 0 . 6の範囲にあることを特徴とする請求の範囲第 1項乃 至第 7項のいずれかに記載のカラーフィルター用重合組成 物。
9.重量で表された黒色の顔料含有量 (P ) と顔料分を除く固 形分含有量 (V) の割合 P ZVが 0 . 5〜1 . 5の範囲に あることを特徴とする請求の範囲第 1項乃至第 7項のいず れかに記載のカラーフィルター用重合組成物。
10.請求の範囲第 1項乃至第 9項のいずれかに記載の重合組成 物をガラス基板に塗布し、 露光し、 現像してなるカラー フイノレター。
11.請求の範囲第 1項乃至第 9項のいずれかに記載の重合組成 物をガラス基板に塗布し、 露光し、 現像することを特徴と するカラーフィルタ一の製造方法。
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