WO1993007516A1 - Ceramic mirror and method of manufacturing the same - Google Patents
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Definitions
- the present invention relates to a ceramic spar used in precision optical instruments and the like for a laser device, an X-ray device, a force membra and the like, and a method for producing the same.
- Mirrors used in precision optical instruments and the like mainly use single crystal ceramics such as glass, glass, and sapphire.
- Alumina SiC has been used as a part of polycrystalline ceramics.
- Glass-based mirrors are relatively thick because they are weak and fragile, making the entire hood heavy and bulky. Problems and strengths.
- ceramic materials such as polycrystalline aluminum and SiC are used after polishing and lapping the sintered body, and the ceramics are used. The pores of the material itself were left on the rough * surface, and the surface smoothness and optical characteristics were not sufficiently satisfactory.
- the present inventors sinter high-purity and fine titanium oxide powder at a relatively low temperature. This has led to the discovery that a mirror having a reduced number of bores, excellent surface smoothness, low diffused reflection of light, and excellent optical characteristics can be obtained. completed. That is, the gist of the present invention is a ceramic characterized in that the surface flatness is 1 m or less and the center line average roughness by ⁇ or laser drying method is 1 nm or less.
- fine and high-purity titanium oxide powder is used as a raw material, and sintering is performed at a temperature lower than a normal sintering temperature, so that a sufficient sintering density cannot be achieved.
- a sintered body having excellent surface smoothness was obtained by suppressing grain growth and avoiding coarsening of the bore.
- the temperature lower than the normal firing temperature is 100000 to: L300′C.
- My body does not progress.
- the grain growth is remarkable, and the surface smoothness is reduced and the light is reduced due to the decrease in mechanical strength and the movement and growth of pores to the grain boundary phase.
- the titanium oxide content is not more than 99% or the average particle size is coarser than 1 m, the properties of the low-temperature calcined hole will be lost. In the temperature range of ⁇ 1300 ° C, a sufficient sintering density cannot be obtained.
- the purity of the titanium oxide powder should be at least 99%, preferably at least 99.8%, and the average particle size should be at most 1 m, preferably at most 0.5 m.
- This titanium oxide powder is molded by a method such as CIP (cold isostatic pressing), mecha press, doctor blade, or extrusion molding depending on the product shape. I do.
- CIP cold isostatic pressing
- mecha press mecha press
- doctor blade or extrusion molding depending on the product shape.
- an organic binder suitable for each molding method is used as a molding aid.
- the compact obtained in this way is sintered at 100 ° C. to 130 ° C., which is the above-mentioned optimum firing temperature, in air, in a vacuum, in an atmosphere of N 2 , Ar, H 2, etc. You. If more surface smoothness is required, hot-blow sintering is performed under a pressure of 50 kg / cm 2 or more. Then, these sintered bodies are HIPed under a pressure of 500 kg / cm 2 or more.
- the Ti0z sintered body obtained in this way is subjected to machining such as surface grinding and lapping, and is then subjected to laser equipment and X-ray equipment.
- a mirror used for precision optical equipment such as a camera. If necessary, a high-reflectance metal is coated to form a mirror for precision optical equipment.
- These ceramic mirrors have a surface flatness of 1 m or less and / or a center line average roughness of 1 nm or less, and the amount of diffuse reflection of incident light by a colorimeter is low.
- the characteristic value is more than the above value, the light is diffused so much that the mirror has insufficient optical characteristics.
- Titanium oxide powder with an average particle size of 0.25 / m and a purity of 99.8% (Ishihara Sangyo, CR-EL (trade name)) was used as a molding aid with polyvinyl alcohol (PVA). 2% was added, mixed in a mortar, dried and sized with a sieve.
- Example 2 After CIP molding at a pressure of 1000 kg Z cm 2 or more, normal pressure sintering was performed in the air at 1200 kg. After lapping the obtained sintered body, the surface flatness and the amount of irregular reflection were measured, and the results are shown in Table 1. (Example 2)
- Example 3 Using the titanium oxide powder of Example 1, after molding, it was sintered at 110 O'C in an Ar atmosphere. The characteristics of the sintered body after the lapping are shown in Table 1 (1). -(Example 3)
- Example 1 using titanium oxide motor down ⁇ , 1 0 0 0 hands in N z atmosphere, 2 0 0 and host Tsu preparative flop-less sintering at a pressure of kg / cm 2.
- Table 1 shows the characteristics of the sintered compact after lapping.
- Example 1 The sintered body obtained in Example 1 was subjected to a HIP treatment in an Ar atmosphere under a pressure of 100 kg / cm 2 under a pressure of 1,000. Table 1 shows the characteristics of the sintered body after lapping.
- Sample N0.5 was obtained in the same manner as in Example 1, except that titanium oxide powder having an average particle size of 0.25 / m and a purity of 96.0% was used. Table 11 shows the characteristics of the sintered body after polishing. (Comparative Example 6)
- Example 4 After molding, the sample No. 5 was subjected to normal pressure sintering at 100 ° C. in air and subjected to HIP treatment under the conditions of Example 4 to obtain a sample No. 6. Table 11 shows the characteristics of the sintered body after polishing.
- Sample N 0 was prepared in the same manner as in Example 1 except that titanium oxide powder having an average particle size of 1.5 m and a purity of 99.5% was used. 7 got. Table 11 shows the characteristics of the sintered body after polishing. (Comparative Example 8)
- Sample N0.7 was subjected to normal pressure sintering in air at 1000 and subjected to HIP treatment under the conditions of Example 4 to obtain sample N0.8.8. It is shown in 1-1.
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Description
明 細 発明の名称
セ ラ ミ ッ ク ス ミ ラ 一及びそ の製造方法 技術分野
本発明 は、 レ一ザ一装置用、 X線装置用 、 力 メ フ 用 等精密光学機器等に使用 さ れる セ ラ ッ ク ス フ 一及 びその製造方法に関す る も の で あ る 。
背景技術
精密光学機器等に使用 さ れる ミ ラ ー は、 主 と して ガ ラ ス ゃ ノレ ビ 一 、 サ フ ァ イ ア等、 単結晶セ ラ ミ ッ ク スが 使甩さ れてお り 、 近年多結晶セ ラ ミ ッ ク ス と して、 ァ ル ミ ナ ゃ S i C がー部使用 さ れて き て い る
発明の開示
ガ ラ ス を用 い た ミ ラ ー は、 強度が弱 く 割れやすい た め、 比較的厚 く 形成さ れてお り 、 そ のた め フ ー全体 が重 く かつ大き く な る と い う 問題点、力 め つ た。 ま た、 多結晶ア ル ミ ナや S i C等のセ ラ ミ ッ ク ス材料は、 焼 結体を研磨 · ラ ッ プ し た の ち に使用 さ れる が、 その セ ラ ミ ッ ク ス材料自 体が有す る ポ ア が ラ ッ フ*面に残 ¾ 、 表面平滑性や光学的特性等、 十分満足す る も のが り れて い な か つ た
本発明者は、 こ れ ら の問題点を解決する ため、 高純 度で微細な酸化チタ ン粉末を、 比較的低温で焼結す る
こ と によ り 、 ボアが少な く な り 、 表面平滑性に優れ、 かつ、 光の乱反射が少な く 、 光学的特性に優れてい る ミ ラ ーが得 られる こ とを発見 し、 本発明を完成 した。 すなわ ち、 本発明の要旨は表面平坦度 1 m以下お よび κま た は、 レーザー干涉法によ る 中心線平均粗さ が l n m以下であ る こ とを特徴とする セ ラ ミ ッ ク ス ミ ラ ー、 および、 平均粒径 1 m以下で純度 9 9 %以上 の酸化チ タ ン粉末を成形後、 1 0 0 0 〜 1 3 0 0 て の 大気雰囲気、 不活性雰囲気、 真空雰囲気ま た は還元雰 囲気で焼結する こ とを特徴とする請求項 1 に記載のセ ラ ミ ッ ク ス ミ ラ ーの製造方法にあ る。
以下に本発明を詳細に説明する。
本発明において は、 微細で高純度な酸化チタ ン粉末 を原料と して用 い、 通常の焼結温度よ り 低温で焼結す る こ と によ り 、 十分な焼結密度に到達させなが ら、 か つ粒成長を抑制してボ ア の粗大化を避ける こ とによ り 表面平滑性に優れた焼結体を得た も のであ る。
上記手段によ っ て優れた特性を もつセ ラ ミ ッ ク ス ミ ラーが得られる理由について は、 理論的に解明されて いないが、 高純度、 微細な酸化チ タ ン粉末を低温焼結 する こ とによ り 、 ボア を結晶粒内に と どめ （ ゴ一ス ト 化とい う ） 、 粒舁相への集積 · 成長を抑制 したた め と 考 られる。
本発明でい う 、 通常の焼成温度よ り 低温と は、 1 0 0 0 〜 ： L 3 0 0 'C であ り 、 1 0 0 0 て以下で は焼結自
体が進行 しな い。 ま た、 1 3 0 0 て よ り 高温で は、 粒 成長が著 し く 、 機械的強度の低下やポ ア の粒界相への 移動 · 成長に よ り 、 表面平滑性の低下や光の乱反射が 多 く 、 ミ ラ ー と しての光学的特性を満足す る も のが得 られない。
酸化チタ ン と し て 9 9 %以上でない場合な い場合、 ま た は平均粒径が 1 m よ り 粗い場合は、 低温勿焼 ¾口 の性質が失われて し ま い、 1 0 0 0 〜 1 3 0 0 °C の温 度域で は、 十分な焼結密度が得 られな い。
したがっ て、 酸化チ タ ン粉末の純度は 9 9 %以上、 望ま し く は 9 9 . 8 %以上ま た、 平均粒径は 1 m以 下望ま し く は 0 . 5 m以下がよ い。
こ の酸化チ タ ン粉末を、 製品形状によ り C I P (冷 間静水圧プ レ ス処理） 、 メ カ プ レ ス 、 ド ク タ ーブ レ 一 ド、 押出 し成形法等の方法で成形する。 いずれの成形 法の場合 も それぞれの成形法に適 した有機バイ ンダ一 類を成形助剤と し て用 い る。 こ う して得 られた成形体 を前述した最適焼成温度の 1 0 0 0 〜 1 3 0 0 'C で、 大気中、 真空中、 N 2 , A r , H 2 等の雰囲気中で焼 結す る。 ま た、 よ り 表面平滑性が要求される場合は、 5 0 k g / c m 2 以上の圧力下でホ ッ ト ブ レ ス焼結す る。 そ して、 さ ら に、 こ れ ら焼結体を 5 0 0 k g / c m 2 以上の圧力下で H I P 処理す る。
こ う して得 ら れた T i 0 z 焼結体を、 平面研削、 ラ ッ プ加工等の機械加工を施 して レーザー装置、 X 線装
置カ メ ラ等の精密光学機器等に使用 さ れる ミ ラ ーにす る。 ま た、 必要に応 じて、 高反射率の金属を コ 一テ ィ ング し、 精密光学機器用 ミ ラ 一 とする 。
これら のセ ラ ミ ッ ク ス ミ ラーは、 その表面が表面平 坦度 1 m以下および /ま たは中心線平均粗さ 1 n m 以下、 さ ら に色彩計によ る入射光に対する 乱反射量が
5 %以下であ る。 特性値が上記数値以上であ る と、 光 の乱反射が多 く ミ ラ ーと して光学的特性が不十分であ る。
発明を実施する ため の最良の形態
以下、 本発明の実施例 1 〜 4 および比較例 5 〜 8 -を 示す。
(実施例 1 )
平均粒径 0 . 2 5 / m、 純度 9 9 . 8 %の酸化チタ ン粉末 （石原産業、 C R— E L (商品名 ） ） に成形助 剤と してボ リ ビュ ルア ル コ ール （ P V A ) 2 %を添加 し、 乳鉢で混合 し、 乾燥後フル イ で整粒した。
圧力 1 0 0 0 k g Z c m 2 以上で C I P成形後、 大 気中 1 2 0 0 て で常圧焼結した。 得られた焼結体を ラ ッ プ研磨後、 表面平坦度、 乱反射量を測定し、 結果を 表 1 に示した。
(実施例 2 )
実旌例 1 の酸化チ タ ン粉末を使用 し、 成形後、 A r 雰囲気中 1 1 0 O 'C で焼結 した。 ラ ッ プ研磨後の焼結 体特性を表 1 の②に示 した。 - (実施例 3 )
実施例 1 の酸化チ タ ン紛末を使用 し、 N z 雰囲気中 1 0 0 0 て で、 2 0 0 k g / c m 2 の圧力で ホ ッ ト プ レス焼結 した。 ラ ッ プ研磨後の焼結体特性を表一 1 に 示した。
(実施例 4 )
実施例 1 で得られた焼結体を A r 雰囲気中、 1 0 0 0 て で、 l S O O k g / c m 2 の圧力下で H I P処理 を行っ た。 得られた焼結体の ラ ッ プ研磨後の焼結体特 性を表一 1 に示した。
(比較例 5 )
平均粒径 0 . 2 5 / m、 純度 9 6 . 0 %の酸化チタ ン粉末を用いた以外は、 実施例 1 と 同様に して試料 N 0 . 5 を得た。 研磨後の焼結体特性を表一 1 に示す。 (比較例 6 )
試料 N o . 5 を成形後大気中 1 0 0 O 'Cで常圧焼結 し、 実施例 4 の条件下で H I P処理 して試料 N o . 6 を得た。 研磨後の焼結体特性を表一 1 に示す。
(比較例 7 )
平均粒径 1 . 5 m、 純度 9 9 . 5 %の酸化チ タ ン 粉末を用いた以外は、 実施例 1 と 同様に して試料 N 0
. 7 を得た。 研磨後の焼結体特性を表一 1 に示す。 (比較例 8 )
試料 N 0 . 7 を大気中 1 0 0 0 て で常圧焼結 し、 実 施例 4 の条件下で H I P 処理 して試料 N 0 . · 8 を得た 研磨後の焼結体特性を表一 1 に示す。
産業上の利用可能性
以上述べた よ う に、 高純度、 微細な酸化チ タ ン粉末 を、 通常の焼結温度よ り 低温で焼結す る こ と に よ り 、 ポ ア を ゴー ス ト 化す る こ と がで き 、 レ 一ザ一装置、 X 線装置、 カ メ ラ等精密光学機器用 ミ ラ ー に使用可能な 表面平滑性、 光学的特性に優れた酸化チ タ ン焼結体を 得る こ と がで き た。
Claims
1. 表面平坦度 1 m以下および/ま た は、 レーザー 干渉法によ る 中心線平均粗さが 1 n m以下であ る こ と を特徴とする セ ラ ミ ッ ク ス ミ ラ ー。 - 5
2. 色彩計で投光角度 0 〜 9 0 ° の と き 、 入射光に対 する乱反射量が 5 %以下であ る こ とを特徴 とす る請求 項 1 に記載のセ ラ ミ ッ ク ス ミ ラ 一。
3. 平均粒径 1 m以下で純度 9 9 %以上の酸化チタ ン粉末を成形後、 1 0 0 0 〜 1 3 0 0 て の大気雰囲気、 0 不活性雰囲気、 真空雰囲気ま た は還元雰囲気で焼結す る こ とを特徴とする請求項 1 又は 2 に記載のセ ラ ミ ッ ク ス ミ ラ 一 の製造方法。
4. 平均粒径 1 m以下で純度 9 9 %以 の酸化チタ ン粉末を、 5 0 k g 7 c m 2 以上の圧力下、 1 0 0 05 〜 1 3 0 0 て でホ ッ ト プ レ ス焼結する こ とを特徴とす る 請求項 1 又ば 2 に記載のセ ラ ミ ッ ク ス ミ ラ ーの製造 方法。
5. 請求項 3 又は 4 に記載の方法で得 られた焼結体を、 8 0 0 〜 1 5 0 0 て 、 5 0 0 k g / c m 2 以上の圧力0 下で H I P処理する こ とを特徴とする 請求項 1 又は 2 に記載のセ ラ ミ ッ ク ス ミ ラ ーの製造方法。
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Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0614861B1 (en) * | 1992-10-01 | 2001-05-23 | Nihon Cement Co., Ltd. | Method of manufacturing titania and alumina ceramic sintered bodies |
| US5731251A (en) * | 1993-07-12 | 1998-03-24 | Nihon Cement Co., Ltd. | Oxide ceramic sintered bodies |
| DE4407093A1 (de) * | 1994-03-03 | 1995-09-07 | Ingbuero Fuer Elektro Mechanis | Laser-Reflektor-Einrichtung |
| JP4902125B2 (ja) * | 2005-02-28 | 2012-03-21 | 財団法人電力中央研究所 | 鏡面を有する多機能材 |
| JP2016018151A (ja) * | 2014-07-10 | 2016-02-01 | イビデン株式会社 | ミラー |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5833101B2 (ja) * | 1978-11-13 | 1983-07-18 | 横浜機工株式会社 | 耐熱性反射板 |
| JPS5833099B2 (ja) * | 1978-11-13 | 1983-07-18 | 日本発条株式会社 | 多層コ−テイング反射板 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3459503A (en) * | 1966-01-03 | 1969-08-05 | Eastman Kodak Co | Hot pressing titanium dioxide |
| US3615759A (en) * | 1966-01-03 | 1971-10-26 | Owens Illinois Inc | Silica-alumina-lithia glasses, ceramics and method |
| US3639132A (en) * | 1970-04-13 | 1972-02-01 | Bell Telephone Labor Inc | Titanium dioxide ceramic composition and hot-pressing method for producing same |
| JPS5833101A (ja) * | 1981-08-21 | 1983-02-26 | Mitsubishi Electric Corp | 測定用基準線装置 |
| JPS6017995B2 (ja) * | 1981-08-22 | 1985-05-08 | 日立冷熱住設株式会社 | 冷却水供給制御方法 |
| US4492669A (en) * | 1983-03-21 | 1985-01-08 | The Perkin-Elmer Corporation | Method and means for making a beryllium mirror |
| JPH0797159B2 (ja) * | 1986-10-01 | 1995-10-18 | キヤノン株式会社 | 軟ｘ線・真空紫外線用多層膜反射鏡 |
| JP2566564B2 (ja) * | 1986-10-01 | 1996-12-25 | キヤノン株式会社 | 軟ｘ線又は真空紫外線用多層膜反射鏡 |
| US5071596A (en) * | 1989-10-23 | 1991-12-10 | Cvd Incorporated | Fabrication of lightweight ceramic mirrors by means of a chemical vapor deposition process |
-
1991
- 1991-10-02 JP JP3255101A patent/JPH06208015A/ja active Pending
-
1992
- 1992-10-01 EP EP92920699A patent/EP0559917B1/en not_active Expired - Lifetime
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- 1992-10-01 WO PCT/JP1992/001268 patent/WO1993007516A1/ja active IP Right Grant
- 1992-10-01 US US08/283,666 patent/US5492872A/en not_active Expired - Lifetime
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-
1996
- 1996-01-25 US US08/591,283 patent/US5650366A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5833101B2 (ja) * | 1978-11-13 | 1983-07-18 | 横浜機工株式会社 | 耐熱性反射板 |
| JPS5833099B2 (ja) * | 1978-11-13 | 1983-07-18 | 日本発条株式会社 | 多層コ−テイング反射板 |
Non-Patent Citations (1)
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|---|
| See also references of EP0559917A4 * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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| EP0559917B1 (en) | 1997-12-29 |
| DE69223765T2 (de) | 1998-05-28 |
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| KR0154520B1 (ko) | 1998-12-15 |
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| EP0559917A4 (ja) | 1994-02-16 |
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