JPS5833099B2 - 多層コ−テイング反射板 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は金属又は非金属板からなる基板上に樹脂層を設
は或いは設けることなく、その上に光を反射する層と２
層の保護層とを設けた、照明セード等の照明用、各種光
学機械器具用、太陽光用等に好適な反射板に関するもの
である。

従来の光反射板はおよそ次のようｌこ分類し得られる。

（１）ステンレス、或いはアルミニウム等の金属め表面
をパフ研磨、電解研磨、或いは化学研磨したもの。

（２）鉄或いはアルミニウム等の金属の表面にホーロー
処理を施したもめ。

（３）ガラス或いは透明樹脂の表面または裏面に真空蒸
着法でアルミニウム等の金属をコーティングするか、或
いは銀鏡反応によって銀をコーティングしたも０）。

（４）前記（１）または（３）の表面に透明樹脂皮膜を
設けたもの。

が代表的なものである。

しかし、（１）のものは表面研磨を必要とし、パブ研磨
ではその仕上げ表面が粗く、金属表面だけでは正反射性
を出すことは極めて困難である。

また電解研磨または化学研磨では湿式となり、使用する
化学薬品の公害問題があるばかりでなく、その研磨面の
正反射性はよくなく光輝面を形成するには不十分である
欠点を有する。

（２）のものは、ホーロー処理を施した表面は平滑性は
兎も肉圧反射性は全くなく、殆んどが乱反射光或いは分
散光しか得られない。

（３）のものは、その表面が金属であるため、耐薬品性
、耐候性、耐摩耗性が小さく、正反射性はよいが、全反
射性はニッケルやクロム等の金属メッキの場合はよくな
い。

またメッキは湿式であるので使用する化学薬品の公害問
題がある等の欠点がある。

（４）のものは前記のものの欠点を解決せんとしたもの
で、金属表向を保護し、正反射率の高いもＱ）となる点
は優れているが、他方樹脂の耐熱性、耐摩耗性、耐光性
、耐候性、耐薬性が問題となる。

即ち耐光性、耐熱性、耐候性が悪いものは経時使用する
と、表面が着色したり、或いは失透したりすること、表
面を清浄にするため布などで拭くと、摩耗傷が生ずるこ
と、樹脂層が厚くなると、光および熱線の吸収が大きく
なり、表面温度が上昇し、物性の低下を来たすこと等の
欠点を有する。

本発明者らはさきにこれらの欠点をなくすべく、樹脂に
代え、光透過性の無機物保護膜を真空コーティングする
ことを発明した。

こ０方法によるときは、無機物は真空コーティングによ
り、下地０光反射性金属膜と全く同じレプリカの薄膜を
形成し得られ、保護膜による光の屈折や吸収を少なくシ
、全反射率や正反射率、屈折率の変化を少なくし得られ
ること。

耐油、耐磨耗性に優れ、熱伝導性もよく、温度上昇が小
さく、耐久性が良くなる等の効果を奏し得られた。

しかしながら、光透過性の樹脂膜および無機物膜におい
ても一長一短があり、凡ての点で優れたものとなし得な
かった。

本発明者らは更に研究を重ねた結果、光透過性の樹脂膜
と光透過性の無機物膜とを同時に使用するときは両者が
相乗的効果を発輝し、優れた特性を有するものとなるこ
とを知見し得た。

こり知見に基づいて本発明を完成したものである。

本発明において使用する基板としては、金属、非金属の
いずれも使用し得られる。

金属としては、鉄、ステンレス、銅、真鍮、青銅、白銅
、アルミニウム、ジュラルミンの如き単体金属またはそ
Ｑ）合金は勿論、トタン板、ブリキ板の如き金属で表面
をコーティングしたもの、または金属表面を樹脂でコー
ティングしたものであっても差支えない。

非金属基板としては、各種の合成高分子材料、ガラス、
マイカ、陶磁器、木材、紙等が挙げられるが、真空下で
この上に金属をコーティングするので、真空下において
蒸気圧の高い水あるいは低分子量の物質を含有する材料
は使用し得ない。

このような場合、樹脂をコーティングすることが必要で
ある。

基板の合成高分子材料０）樹脂としては例えば、エポキ
シ樹脂、ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、アリル樹
脂、シリコン樹脂、ポリカーボネート、尿素樹脂等が挙
げられる。

しかしこれに限定されるものではない。

基板上へり樹脂のコーティングは望ましくは無溶剤で塗
布し熱硬化、または焼付硬化するのがよいが、溶剤を使
用し塗布する方法、静電途装する方法、フィルムを貼り
付ける方法等いずれの方法も使用することができる。

前記基板に金属を真空コーティングする方法としては、
真空蒸着法、スパッタリング法、イオンブレーティング
法が適用できる。

方法によっては使用する金属も多少異なるが、これらに
使用される金属としては、アルミニウム、ジュラルミン
、銀、ホワイトコールド、金、ニッケル、クロム、イン
ジュウム、パラジウム、バナジュウム等の光輝性金属が
挙げられる。

しかしこれに限定されるものではない。

例えば銅等は光輝性はあるが、単体で空気中で使用する
場合、空気中の酸素、炭酸ガス、水等と化合して光輝性
を失うが、その表面を保護膜で保護されるので、使用し
得られる。

真空コーティングし得る無機物としては、水晶、石英の
如き酸化硅素類、ナトリウムガラス、カリウムガラス、
鉛ガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミナケイ酸ガラス等
のガラス類がまず挙げられる。

これらは真空コーティングしない場合は原料が結晶性又
は非結晶質であるが、コーテイング膜は多くの場合非晶
質となる。

また結晶質材料として光透過性のあるセラミック材料が
挙げられる。

この材料としては例えば、アルミナ、マグネシャ、ジル
コニア、スピネル等の酸化物系セラミック、コージェラ
イトの如きキン青石セラミック、高アルミナ及びムライ
トセラミック、ジルコンセラミック、パイロセラミック
の如きリシャセラミック、ステアタイトセラミック、酸
化チタンセラミック、セルシャンセラミック等があるが
、必ずしもこれに限定されるものではない。

これらのセラミック類は多くの場合真空コーテイング膜
も結晶性となる。

真空コーティング用無機物を選択するに当っては、その
目的に応じて選択する。

例えば、耐熱、耐酸を必要とする場合には、酸化物セラ
ミックや高アルミナおよびムライトセラミックが望しく
、耐アルカリを必要とする場合は鉄カンランやジャモン
岩等のセラミックが望しく、耐熱を必要とする場合はキ
ン青石セラミック、リシャセラミック等が望しく、特に
熱膨張収縮の少ないことを必要とする場合はパイロセニ
ム等のリシャセラミックが望しい。

保護膜用樹脂としては光透過性であることが必要であり
、また成形時または使用時に金属を腐食したり、樹脂自
身が失透するものであってはならない。

このような樹脂としては、光透過性のエポキシ樹脂、ポ
リエステル樹脂、メラミン樹脂、シリコン樹脂、アクリ
ル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、フ
ッ素樹脂等が挙げられる。

しかしこれに限定されるものではない。この内シリコン
樹脂特に高アリールシリコン樹脂は高耐熱性で発水性を
有し、耐寒性、耐薬品性で、化学的に安定であり機械的
強度も強い等で最も好ましい。

高アリールシリコン樹脂とは、先願特許願昭５３−０３
８４０９号に述べたアリール基／（アルキル基＋アリー
ル基）のモル百分率が６５〜１００％、重合し得る官能
基数が２〜３で、且つ炭素数／硅素数が４．２５〜１６
であるポリアリールアルキルシロキサンを加熱硬化した
ものを示すものである。

前記のモル百分率が６５優より小さいと耐熱性が劣る欠
点を生ずる。

また官能基数が２〜３としたのは、樹脂の塗布を容易に
し、塗布後、加熱により重合させ硬化させるためである
。

従来のアルキル基の多いシリコン樹脂に比べて硬度が高
く、次のような各種優れた性能を有するものである。

（１）従来なかったアリール基含有率の高いシリコン樹
脂。

（２）従来０アルキル基だけ又はアルキル基の多いシリ
コン樹脂に比べて、耐熱性が優れ、２５０℃以下の経時
使用に耐えられ、２５０℃以上〜６００℃未満の高温に
おいても長時間でなければ耐え得る。

又、耐光性、耐候性、耐薬品性、耐水性に優れている。

（３）基板に対する十分な接着性を有する。

（４）金属０）真空コーテイング性に優れており、特に
高温度における真空コーティングに関しては殆んど類を
見ない。

（５）ガラス、石英と屈折率が類似しているので、これ
らに塗着した場合、塗着感が少ない。

（６）無色透明な光透過性のよい塗膜が得られる。

（７）耐曲げ性が極めてよく、折り曲げによる塗膜のひ
び割れや剥離が殆んどない。

（８）製造に当ての作業性がよく、公害上の問題も殆ん
どない。

以上のような特性を有しており、従来のアルキル基含有
率の多いシリコン樹脂では使用することが困難であった
耐熱性用途分野及び各種新分野にも利用し得られる。

次に本発明の多層コーティング反射板の製法について述
べる。

金属を基板に真空コーティングする方法としては、前記
した如く、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンブレ
ーティング法がある。

真空蒸着法は最も簡単な方法であるが、平均自山折路内
での金属蒸着粒子の運動エネルギー０みを利用するもの
であるから、多くとも０．１ｅＶ以下のエネルギーしか
なく、被着体への侵入度も１λ以下となるめで、弱いコ
ーテイング膜しか形成できない。

また被着体と金属膜との接着強度も小さく且つ膜密度も
小さいので、剥離強度が小さい（該方法における平均自
由行路は金属粒子の粒子重量が小さく、また真空度が高
く温度が高い程長くなる。

従って、原子量或いは原子直径の小さい金属がコーティ
ングしやすく、真空度は少なくとも１０−’Ｔｏｒｒ望
ましくは１Ｏ−５Ｔｏｒｒ以下で行うのがよい。

合金を用いる場合には、互の金属が分子化合物を作る場
合や、平均自由行路や蒸発速度が似通った場合には、真
空蒸着法を用いることができるが、そうでない場合は、
合金を構成している各金属が別々に解離して蒸着するの
で、不均一な膜や強度の弱い膜となるので、スパッタリ
ング法を用いるのがよい。

スパッタリング法は、真空コーティング法よりも高速の
運動エネルギーを持つ励起粒子を被着体に当ててコーテ
ィングする方法であり、運動エネルギーは数１０〜１０
０ ｅＶ余で被着体に数λ〜数１０人侵入するので、真
空蒸着法に比べて強度および耐久性の高いコーテイング
膜が得られ、金属コーテイング膜の反射性もかなりよい
。

また、合金のコーティングの場合、真空蒸着法において
は合金の融溶物の蒸発によって行うに対し、本方法は固
体ターゲットからの昇華によって気体を発生するため成
分解離が起りにくいので、コーティングすることができ
る特長を有する。

しかし、コーティング材料は円板状の如き特殊な形状に
成形した所謂ターゲットとして使用しなければならない
不便さと、コーティング速度がおそいので、生産能率が
悪い欠点がある。

イオンブレーティング法は更に数種の方法に別れるが、
コーティング効率のよい方法を用いた場合は、数のｋｅ
Ｖのエネルギーで、数１００λ被着体に侵入したコーテ
イング膜を得ることができる。

この方法は前記三方法と異なり、中性粒子ではなく、陽
イオン粒子を利用する方法である。

陽イオン粒子は電場をかけた被着体、即ちカソードに向
って電圧加速されて動くので、飛行速度はスパッタリン
グ法よりも更に速くなる。

また粒子が陽イオンであるため粒子径が小さいので、そ
の平均自由行路は同温同圧では真空蒸着法やスパッタリ
ング法よりも長くなる。

イオンブレーティング法の代表的なものを挙げると次の
通りである。

（１） プラズマイオンブレーティング法１０−２〜
１０−” Ｔｏｒｒ Ｏ）減圧下、数１００〜数１００
０Ｖの電圧を、コーティング材料と被着体と０間に印加
して、グロー放電を行い、生じたプラズマによって蒸発
中性粒子をイオン化してコーティングする方法である。

この方法の特徴はイオン化率が数１ｏ％高く強力なコー
テイング膜を形成することができ、且つ電場の電気力線
に沿って粒子が飛行するので、裏面コーティングが可能
であるという利点がある。

しかしカソードの温度上昇が大きく、被着体の耐熱性が
要求されることと平均自由行路が短いため、大型の物を
コーティングする場合には工夫が必要である欠点を有す
る。

（２）ＲＦシイオンブレーティング 法発粒子を高周波発振コイルの中を通過させ、イオン化
してコーティングする方法である。

この方法の特徴は、グロー放電を用いないため、１０”
−” 〜１０−’ Ｔｏｒｒの真空度でもコーティング
できることと、カソードの温度上昇が少ない利点を有す
るが、反面イオン化率が小さいこと及びＲＦコイルの直
径以上のコーティングが困難であるので、投影面積の広
いコーティングが出来にくい欠点がある。

（３）印加電圧法 （１）のプラズマイオンブレーティング法と同様の条件
で、但し減圧度を１０−’ 〜１０−５Ｔｏｒｒで真空
コーティングを行なわしめる印加電圧法である０本方法
においては、目に見えるグロー放電はほとんど観察され
ないが、カソード電流は十分観察することが出来、１０
−’Ｔｏｒｒ程度の真空度より真空度が低く、且つ電圧
勾配が数１０Ｖ／ｃＩｆＬ以上の場合においてはかなり
効果を有する方法である。

こび）方法はプラズマイオンブレーティング法と真空蒸
着法との中間の特徴を有する方法である。

（４）イオンガンを使用する方法 第１〜第３の方法は予め抵抗加熱や電子線で蒸発させた
粒子を、電場やプラズマ或いは高周波でイオン化するに
対し、この方法はガンによつて直接イオン化する方法で
ある。

この方法の代表的なものとしでは、高周波を用いるｉ−
ガン法とホローカソード法とがある。

いずれもイオン化効率が高く、真空度が高い真空系でも
コーティングが可能である利点を有する。

イオンブレーティング法を行う場合はこれらの特徴を十
分留意してコーティングを行うことが大切である。

さもなければ金属コーティングの場合、光輝面が着色し
たり或いは濁ったりして反射率を低下させることになる
。

反射性金属をコーティングする場合は、反射性を良好に
するため空気等の反応性ガスを可及的に除去して置く必
要がある。

さもないと、全反射率が落ちたり、或いは反射面が着色
したりまたは変色することがある。

無機物の真空コーティングを行うには前記の金属を真空
コーティングする装置を使用してコーティングすること
ができる。

しかしながら、金属と無機物との操作は相当具なる。

その第１は無機物の融解又は昇華、蒸発に要するエネル
ギーは金属の場合のエネルギーに比べてはるかに高いこ
とである。

従って、いずれのコーティング法をとる場合においても
、コーティング時間は金属の場合に比べて長くなり、ま
た気化やイオン化を行う方法も無機物の場合がより限定
される。

例えば金属の多くは高融点金属を用いた抵抗加熱によっ
て融解し気化することが出来るが、無機物のほとんどは
抵抗加熱を用いることが出来ず電子線やイオン流によっ
て気化しなければならない。

また第２の相違として、金属は熱伝度が太きいため、一
部を加熱すれば全体が均一に熱せられ融解するが、無機
物の場合は加熱された部分およびその近傍のみが融解す
ることが多い。

本発明に於て用いる無機物はすべて化合物の構造を有し
ておりこのことが又金属とは異なった真空コーティング
特性をもっているのでこの点にも留意して真空コーティ
ングを行なわなければならない。

その代表的な例として例えば、二酸化硅素を電子銃で加
熱する場合、結合解離を起し硅素、−酸化硅素、酸素等
に解離するものがわずかではあるがある。

酸素は軽量気体であるので真空系から除去されやすくそ
の結果コーティングした保護膜の組成は酸素欠陥の有す
るコーチイン膜となり、かくの如きコーテイング膜は外
気条件ｔこさらされた時例えば水溶性硅酸質に変化して
失透白濁現象を起す原因となることがある。

本発明に於てはかくの如き場合には酸素を十分に補給す
るか又は酸素と反応コーティングせしめてこの問題を解
決することに成功した。

典型的な例はアルミナ０）通常コーティングを行う場合
には、その膜は黄色乃至酷い場合には黒褐色になること
が多いが、本発明の方法を適用することにより無色透明
のコーテイング膜を得ることに成功した。

次に無機物の平均自由行路は多くの場合金属の平均自由
行路よりも短かいので他の条件が同一の場合金属よりも
高真空度或いは高温度或いは高イオン化率等のより厳し
い条件で行わなければならない。

例えばアルミニウムは１０ ’Ｔｏｒｒ台でも真空蒸着
出来るが、二酸化硅素は１Ｏ−５Ｔｏｒｒ台の真空度で
蒸着しなければ良なコーテイング膜を得ることが困難で
ある。

スパッタリングの場合は、無機物は金属の場合に比べて
コーティング速度がはるかに遅くなる。

イオンブレーティングの場合は金属に比べて無機物のイ
オン化が困難であることと、コーティングされた被着体
即ちカソードが絶縁されるためイオンブレーティングが
行いにくくなることが有る。

これはプラズマイオンブレーティングめようにカソード
電圧が高くイオン電流が大きいイオンブレーティング法
の場合には特に著しい。

この様な場合には、被着体をカソードとせず被着体の近
傍に金属網を作ったカソードを用意することによってか
なり改善される。

プラズマイオンブレーティングの場合は、印加電圧をイ
オン化電圧以上通常１０ｋＶ以下ぐらいに保ち少なくと
も１０−”Ｔｏｒｒ以上Ｉ Ｔｏｒｒ以下、望ましくは
１ ｏ−２’ｒｏｒｒ台の減圧度でコーティングを行う
。

減圧度が高すぎると、グロー放電が行わなくなったり、
陰極暗部が消失したりし反対に減圧度が低すぎるとアー
ク放電やスパーク放電が起り都合が悪くなることがある
。

ＲＦイオンブレーティングや高周波イオン化ガン、ホロ
ーカソード等の如きイオン発生装置を用いる場合には最
高１Ｏ−４Ｔｏｒｒに至る真空度でもコーティングする
ことが可能な場合もある。

イオン化率か十分に高い場合は真空蒸着０場合よりも物
質粒子の平均自由行路が長くなり且つ又印加電圧が大き
くなると平均自山折路がさらに長くなるので減圧度が低
くてもコーティングが可能なことがイオンブレーティン
グの利点である。

但し無機物のイオン化電圧は大きく、平均自由行路は短
かいので出来るだけ励起電圧の大きいプラズマイオンブ
レーティングを行うか、さもなければホローカソードや
高周波イオンガンを用いることが望ましい。

この際平均自由行路やイオン速度があまり異なる材料を
用いると膜面が失透したり変色したりする事があり、又
コーテイング膜が不均一組成となることがあるので化学
的に出来るだけ均一な材料を用いることが望ましい。

又酸素欠損になることがあるので酸素雰囲気下でコーテ
ィングすることが望ましい。

これは前述した第３層０金属の場合酸素や空気を除く必
要があったのとは全く逆の注意事項である。

本発明の反射板を製造するに当っては、無機物の真空コ
ーティングを行う真空コーティング装置は金属の場合と
同じ装置を用いることができるので、その操作の点から
は引続いて連続コーティングすることが好ましい。

しかし、樹脂層と無機物の保護層のいずれを表面にする
かは、反射板に使用目的に応じて選定される。

このようにして得られた反射板は製造後直ちに高耐久性
を発輝し得るものもあるが、一般には（１）室温で数日
放置する。

（２）熱変形温度以下で数１０乃至数時間加温する。

（３）熱変形温度以下で加温と冷却を数回繰返す等の熟
成を行うことにより更に耐久性を増加させることができ
る。

本発明の反射板は次のような優れた効果を有するもので
ある。

（１）基板上に樹脂をコーティングすることによって一
層高い正反射率が得られる。

（２）保護膜が光透過性の無機物真空コーティング層と
樹脂層とが積層されているため、各単独保護膜における
場合に比較して、各々の膜厚も小さくすることが可能で
ある。

（３）両保護膜は強固に接着し得られるので、無機物層
は樹脂層によって補強され、無機物単独層の欠点とする
脆さがなくなり、耐衝撃性が強くなる。

（４）無機物膜と樹脂膜とも薄くてすむめで、金属の正
反射性の特性を発輝し得られ優れた反射性を示し、任意
の反射面との組合せにより極めて鮮明な反射像或いは精
度の高い集光性、配光性を有するものとなる。

（５）光透過性の樹脂単独層の場合に比較して、無機物
膜と樹脂膜との複合膜厚が薄くてすむめで、熱伝導性が
良くなり、温度上昇も小さく、従って耐久性がよくなる
。

（６）両保護膜では最外層が無機物の場合は内層の樹脂
膜の耐油性、耐溶剤性、耐光性、耐熱性、耐摩耗性等に
弱い欠点をカバーし、これに対して、最外層が樹脂の場
合は内層の無機物の耐薬品性、耐水性、耐湿性、脆さ等
に弱い欠点をカバーし得られる。

実施例 １ 基板材料として厚さ０．１ ＣＩ′ｒＬＸ ４０ｃｍ角
のアルミニウムブライト仕上板を、真空コーター０ペル
ジヤー内に入れて、ハースライナの真上に平行で距離４
２ｃＩｒＬの位置に保持しペルジャー内の真空度が３
Ｘ １０−５Ｔｏｒｒになった後に空気雰囲気中で電子
ビームをもってアルミニウムを蒸発させ表２の１に示す
如き、印加電圧−３ｋＶ、ＥＢ出力２ｋＷ。

コーティング圧力４〜６ Ｘ １０−５Ｔｏｒｒの条件
下で３０秒間真空コーティングを行った。

この時０基板温度は室温であった。

得られたアルミニウム反射板をペルジャー内から取り出
す事なく真空度を３Ｘ１０−５Ｔｏｒｒにした後に空気
雰囲気中で電子ビームをもってパイロセラムを蒸発させ
表２０９１に示す如き印加電圧０、７ ｋＶ、ＥＢ出力
０．６ ｋＷ、コーティング圧力６〜８Ｘ１０−５Ｔｏ
ｒｒの条件下で５分間真空コーティングを行った。

この時の基板温度も常温であった。

以上述べた真空コーティングによって得られた３層構造
の反射板をペルジャーから取り出して、第３層り無機物
保護膜の上にフェニル基／（メチル基＋フェニル基）＝
８３．６モル％０）高アリールシリコン樹脂を塗布して
加熱硬化せしめ、４層からなる反射板を形成した。

この様にして得られた反射板を４００Ｗ角型照明器具に
取付けて点灯し、１８０℃に昇温してから２４時間加熱
保温せしめた結果、反射率を始め、表面の変色、ひび割
れ等外観に伺ら変化が認められず、耐熱度の高い反射板
であった。

又、こＱ）反射板の中に雨水を入れて５日間放置した結
果も上記と同様細管変化なく特にゴバン目テストでは１
００／１００と優れた密着性が得られることも判明した
。

而してこの反射板は従来Φアルマイト加工したものや、
化学研摩したアルミニウムの上に湿式法で無水硅酸をコ
ーティングした反射板と比較して、全反射率は若干優れ
る程度であるが、正反射率は極めて優れたものであるこ
とも確認された。

したがって屋外航空照明器具等に最適である。

実施例 ２ 表面を充分に脱脂洗浄し乾燥させた厚さ０．１ｃｆｒＬ
縦横とも１０ｃｒｒＬのガラス板を真空コーターのハー
スライナの真上８ＣｒｒＬの処に装着された直径１０ｃ
ｒＩＬ１高さ１０ｃ１１Ｌの高周波発振コイルより上方
７ｃｍの位置に保持し、ペルジャー内の真空度を２Ｘ１
０−５Ｔｏｒｒにした後アルゴンガスを５ Ｘ １０−
３Ｔｏｒｒ程度に導入し、再び２ Ｘ １０”−５Ｔｏ
ｒｒに減圧し、同じ操作を２回繰り返した後アルゴン雰
囲気め中で真空度を１〜２ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒに保
ちながら表２の２に示す如き印加電圧−１ｋＶ、ＥＢ出
力１．５〜２ｋＷＺ、１条件下でＲＦ出力５００Ｗ、周
波数１３．５６■丑基板が室温の状態で電子ビームを以
ってアルミニウムを加熱蒸発させ、蒸発粒子を高周波コ
イルの中を通過せしめて３０秒間コーティングを行なっ
た。

引き続きペルジャー内のアルゴンガス分圧ヲ４〜５ Ｘ
１０”−’Ｔｏｒｒ程度にして、表２の２に示す如き
印加電圧−０，１５ｋＶ、電子ビーム出力０．６ ｋＷ
で以って酸化硅素を加熱蒸発せしめ、４分間コーティン
グした。

得られた酸化硅素の保護膜上に光透過性、熱硬化性、ポ
リエステル樹脂溶液を塗布し、加熱硬化させた。

これを硫酸、塩酸等の各々１０％の水溶液中に３０分間
浸漬し、又水道水中に３日間浸漬した結果、いずれも異
常な変化はなく、耐酸性、耐水性の優れた反射板であっ
た。

したがって湿度の高い所に使用するインテリア照明反射
等に好適である。

実施例 ３ 自動車用のバックミラー、ルームミラーとしてデザイン
し設計した厚さ０．１ｃｒｆＬＸ １０ｃｍ角のポリカ
ーボネート樹脂板を真空コーターのベルジャ内に入れ、
ハースライナの真上に平行で３０ｃｒｆＬの距離に置き
、ペルジャー内の真空度”ｒ３Ｘ１０−５Ｔｏｒｒにし
た後電子ビームにより、アルミニウムを加熱蒸発せしめ
、空気雰囲気中で表２の３に示す如き基板温度が室温の
状態で印加電圧−３ｋＶ、ＥＢ出力２．ｋＷ、コーティ
ング圧力６〜７Ｘ１０−５Ｔｏｒｒの条件下で３０秒間
真空コーティングを行なった。

アルミニウムのコーティングが終った後ペルジャーから
取り出し、アルミニウム・コーテイング面Ｏこフェニル
基／（メチル基＋フェニル基）８３．６モル係の高アリ
ールシリコン樹脂を塗布して加熱硬化せしめた。

これを再びペルジャー内に入れ前述の通り、同じ位置に
保持し、真空度を１×１Ｏ−５Ｔｏｒｒにした後基板温
度が室温の状態で、表３の３に示す如き印加電圧−０，
６ｋＶ、コーティング圧力５〜７ Ｘ １０−５Ｔｏｒ
ｒｓ電子ビーム出力０．５ ｋＷで以って酸化硅素を
加熱蒸発させ、５分間コーティングした。

得られた反射板は従来のガラス製裏面鏡に比べて軽量と
なり、又、２ｍ０）高処より落下衝撃テストした結果破
損しなかった。

更に強い衝撃を与えて故意破損させてもガラスミラーの
様な飛散することなく極めて安全性の高いミラーである
事を確認した。

自動車用のバックミラー、又はルームミラーとして好適
である。

実施例 ４ 厚さ０．１２ｃＩｒＬのステンレス板を直径３４ｃｒｆ
Ｌ及び１４．５ｍに絞り、投光器反射面として加工し、
内面に温布研摩及び脱脂洗浄を施し、乾燥させた後スパ
ッタリング装置内に入れ、基板ホルダーに保持し、一方
、円筒形アルミニウムターゲットには同軸マグネトロン
スパッタ電極を用い、反射面基板とターゲット間の距離
は最も短い所に４．７ ｃｒｎ。

最も長い所は１４．５ＣｒｆＬに固定し、ペルジャー内
の減圧度を２．５ Ｘ １０−６Ｔｏｒｒに排気した後
、アルコンガスをＩ Ｘ １０−３Ｔｏｒｒまで導入し
て、シャッターを閉じたまま出力４．５ ｋＷ、周波数
１３．５６ＭＨｚの高周波で以って１０分間クリニング
スパッタリングをし、ターゲット表面の浄化と放電の安
定化を行ない、次に、シャッターを開き５分間アルミニ
ウムのスパッタリングを行なった。

得られた投光器反射板をペルジャーから取出し、反射面
上にフェニル基／（メチル基＋フェニル基）８３．６モ
ル多の高アリールシリコン樹脂で塗布し、加熱硬化せし
めた後、再びペルジャー内に上記と同じ位置に置き、円
筒形酸化硅素ターゲットを用いてペルジャー内の温度を
２００℃に加熱ベータし、上述と同じ条件で１０分間ク
リニングスバッタリングをした後、６０分間酸化硅素の
スパッタリングを行なった。

得られた４層構造の反射板は、鏡面にガーゼで強くこす
っても傷がつかず、ゴバン目テストによる剥離もなく、
１８０℃の恒温槽中で耐熱テストを行ない、室温で相対
湿度９０％の高湿環境中に３日間放置した結果、いずれ
も異状な変化はなかった。

又、石油エーテル、ケトン類、へ午サン等の有機溶剤に
も侵されず、耐摩耗性、耐熱性、耐湿性、耐溶剤性、密
着性の優れた反射板であり、船舶用投光器の反射板とし
て最適である。

実施例５及び６ 実施例５では厚さ０．１２Ｃｒｎのステンレス板を直径
４２α高さ２１に７７１の４００Ｗ用投光器反射セード
の形状に絞り加工し、温布研摩及び脱脂洗浄を施シて乾
燥後フェニル基／（メチル基＋フェニル基）＝８３．６
モル饅の高アリールシリコン樹脂を塗布し、加熱硬化せ
しめ、一方、実施例６では厚さ０．２ ｃｍ、縦横とも
１０ＣｒｒＬの合成雲母板にフェノール樹脂を塗布して
加熱硬化せしめた後、各々真空コーター０ペルジヤー内
に入れ、実施例５の場合は投光器の底辺をハースライナ
の上に平行で２０ｃＩｆＬの距離に保持し、一方、実施
例６ではハースライナの真上に平行で３０ｃＩｒＬの所
に置き、いずれも真空度を２Ｘ １０”−’Ｔｏｒｒに
した後、空気の雰囲気の中で電子ビームを以ってアルミ
ニウムを加熱蒸発させ、基板の温度はいずれも室温の状
態で表２の５及び６に示す如き、印加電圧−３ｋＶ、Ｅ
Ｂ出力２ｋＷ、コーティング圧力では実施例５の場合は
４〜６ Ｘ １０−５Ｔｏｒｒ、実施例６の場合は５〜
７ Ｘ １０−５Ｔｏｒｒの条件下でいずれも３０秒間
コーティングを行なった。

得られたアルミニウムの反射板をペルジャーから取出す
ことなく、引き続き真空度をＩ Ｘ １０−５Ｔｏｒｒ
にした後酸素ガスを導入して５ Ｘ １０−３Ｔｏｒｒ
に昇圧後、再びＩＸ １０−５Ｔｏｒｒに減圧し、同じ
操作を２回繰り返した後、表２の５及び６に示す如き、
いずれも印加電圧−０，７ｋＶ、コーティング圧カフ〜
９Ｘ１０−５Ｔｏｒｒ１ＥＢ出力は実施例５の場合では
１ｋＷ実施例６の場合では０．５ ｋＷの条件下で酸素
雰囲気中で実施例５ではムライト、実施例６では酸化硅
素を電子ビームで以って加熱蒸発せしめ、アルミニウム
光輝面上に５分間コーティングした。

得られた実施例５の様に透明なムライト保護膜上にフェ
ニル基／（メチル基＋フェニル基）８３．６％の高アリ
ールシリコン樹脂を、又、実施例６では透明な酸化硅素
保護膜上にメラミン樹脂をそれぞれ塗布し、加熱硬化せ
しめた５層構造からなる反射板であった。

これらの反射板を水道水中に３日間浸漬した結果、異状
な変化はなく、塩酸、硫酸、水酸化ナトリウム等各々の
１０優水溶液を点滴し、３０分間経過しても侵食されな
かった。

アルコール類、石油エーテル、エステル等の有機溶剤に
も侵されず、耐水性、耐薬品性、耐溶剤性の優れたもの
であり、特に高アリールシリコン樹脂は一般樹脂に比べ
て耐溶剤性、耐薬品性は遥かに強い、又、耐熱性も遥か
に高いものであった。

従来の化学工場の照明器具は薬品による腐食を防ぐ為、
本体をステンレスで成形し、その中にアルミの電解研磨
処理した反射板を組入れたもθつであるが、それでも光
輝面の侵食が避けられず、しかし、実施例５の様な特徴
を持った反射板を化学工場の照明器具に用いることによ
って、耐食性は極めて優れたものである。

更に水沫では本体に反射板は直接真空コーティングによ
り得られるもので、反射板の組み入れは不要となり、軽
量化及び製造コーストの低減が出来るという利点があり
、化学薬品工場や船舶照明器具等に最適である。

方、実施例６の様な難燃性効果を有するメラミン樹脂を
被覆した合成雲母板反射板は軽量、割れにくい、割イ１
ても破片が飛散せず、安全な難燃建築内装ミラー、天井
材ミラー、インテリア装飾材として有望である。

実施例 ７ 素材厚さ０．１６ ｃｍｏ、）アルミニウム板をヘラ絞
す加工により最大直径４０ｃｍ高さ２０ｃｍの放物面状
に成形し別布研摩後、脱脂洗浄し乾燥させた４００Ｗ用
投光器反射面の内面にフェニル基／（メチル基＋フェニ
ル基）＝８３．６モル饅の高アリールシリコン樹脂を塗
布し、加熱硬化せしめ、これを真空コーターのペルジャ
ー内に入れ、底辺がハースライナの上に平行ｆ、！２０
ｃｍの距離に保持し、ペルジャー内の真空度を３Ｘ１０
−５Ｔｏｒｒにした後空気の雰囲気中で、電子ビームに
より、アルミニウムを加熱蒸発せしめ、表２の７に示す
如き、印加電圧−３ｋＶ、ＥＢ出力１．５〜２ｋＷ１
コーティング圧力５〜７ Ｘ １０−”ｆＯｒｒＯ）条
件下で基板が室温の状態で３０秒間真空コーティングを
行なった。

アルミニウムのコーティングが終った後、反射板をペル
ジャー内から取り出し、上述した高アリールシリコン樹
脂を塗布し、加熱硬化せしめ、これを更にペルジャー内
に入れ、アルミニウムコーティングの場合と同じ位置に
置き、真空度を３Ｘ１０−５Ｔｏｒｒにした後、酸素ガ
スを導入しで５Ｘ１０＝Ｔｏｒｒに昇圧後、再び３ Ｘ
１０−５Ｔｏｒｒに減圧し、同じ操作を２回繰返した
後酸素雰囲気の中で電子ビームによってアルミナを加熱
蒸発させ、表２０）７に示す如き、印加電圧−０，５ｋ
Ｖ、ＥＢ出力０．５ｋＷ、コーティング圧力８〜１２Ｘ
１０−５Ｔｏｒｒの条件下で反射面が室温の状態で５
分間真空コーティングを行なった。

得られた反射板は、従来の化学研摩したアルミに湿式法
で無水硅酸をコーティングした反射板あるいはアルマイ
ト加工した反射板に比較して全反射率は若干優れるのみ
であるが、正反射率は極めて優れたものであるので、配
光設計が容易になり設計に応じた配光パターンを正確に
現出し得るものである。

又、コ゛パン目テストでは１００／１００と密着性も良
好で水道水中に浸水５日間経過後反射面の外観的変化は
なく耐薬品性は硫酸１ｏ％水溶液を点滴した後３０分間
たっても表面状態の変化はなく、化学工場等の悪条件下
のもとに設置する投光器等においては上述の優れた特徴
がいかんなく発揮されるものである。

実施例 ８ 厚さ０．３ ｃｍ１縦横とも１５ｃＩＩＬに成形焼結し
た高密度アルミナセラミックス板全体にフェニル基／（
メチル基＋フェニル基）＝８３．６モル饅の高アリール
シリコン樹脂を塗布し、加熱硬化せしめた後真空コータ
ーのペルジャー内に入れ、ハースライナの真上に平行で
２５ｃＩｆＬの位置に保持し、初期到達圧力を２Ｘ １
０−５Ｔｏｒｒにした後、窒素ガスを導入して３ Ｘ
１０−３Ｔｏｒｒに昇圧後、再び２Ｘ１０−５Ｔｏｒｒ
に減圧し、同じ操作を２回繰返した後窒素雰囲気中で表
２の８に示す如き、印加電圧−１ｋＶ、ＥＢ出力１．５
ｋＷ、コーティング圧力３〜４ Ｘ １０−３Ｔｏｒ
ｒの条件下でグロー放電を起させ、基板が常温の状態で
電子ビームを以って金属チタンを加熱蒸発させ、５分間
反応コーティングを行なった。

得られた金色の窒化チタン反射板をペルジャーから取り
出し、光輝面にフェニル基／（メチル基＋フェニル基）
＝８３．６モル修の高アリールシリコン樹脂を塗布し、
加熱硬化せしめた後、再び上述した真空コーター内同じ
位置に置き、ペルジャー内の真空度を１×１０″″５Ｔ
ｏｒｒにした後電子ビームで以ってパイレックスガラス
を加熱蒸発させ、表２の８に示す如き、印加電圧−〇、
７ ｋＶ、ＥＢ出力０．５ ｋＷココ−ィング圧力４
〜６×１Ｏ−５Ｔｏｒｒの条件下で、基板が常温の状態
で５分間真空コーティングを行なった。

かくして得られた５層構造の反射板を１８０℃の恒温槽
中において耐熱テストを行なった結果、異状な変化はな
く、ガーセで強くこすっても傷がつかず、アルコール、
アセトン、石油エーテル等の一般有機溶剤にも侵されな
かった。

耐熱性、耐摩耗性、耐溶剤性の優れたものであり、その
上、外観的にも美しい金の感触があって、且つ汚染され
にくい点から置物や灰皿セットの表面加工、並びに装飾
品類０表面処理、又は内装材等として幅広く応用され、
インテリアにふされしい反射板であった。

表１は本発明の実施態様を表記したものであり、表２は
本発明の各実施例における実施条件を表記したものであ
る。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 基板上に樹脂層を設は或いは設けることなく、その
   上に金属を真空コーティングした面上に、光透過性の無
   機物を真空コーティングした層および光透過性の樹脂層
   からなる保護層を設けたことを特徴とする多層コーティ
   ング反射板。 ２ 基板上に金属を真空コーティングし、そり上に光透
   過性の無機物を真空コーティングし、更にそい上に光透
   過性の樹脂をコーティングした特許請求の範囲第１項記
   載の多層コーティング反射板。 ３ 基板上に金属を真空コーティングし、その上に光透
   過性の樹脂をコーティングし、更にそ０上に光透過性の
   無機物を真空コーティングした特許請求の範囲第１項記
   載の多層コーティング反射板。 ４ 樹脂をコーティングした基板上に、金属を真空コ・
   −ティングし、その上に光透過性の無機物を真空コーテ
   ィングし、更にその上に光透過性の樹脂をコーティング
   した特許請求の範囲第１項記載の多層コーティング反射
   板。 ５ 樹脂をコーティングした基板上に、金属を真空コー
   ティングし、その上に光透過性の樹脂をコーティングし
   、更にその上に光透過性の無機物を真空コーティングし
   た特許請求の範囲第１項記載の多層コーティング反射板
   。 ６ 光透過性の無機物が酸化硅素を含んだ非晶質ガラス
   体である特許請求の範囲第１項記載の多層コーティング
   反射板。 ７ 光透過性の無機物がセラミックである特許請求の範
   囲第１項記載の多層コーティング反射板。 ８ 光透過性の樹脂がアリール基／（アルキル基＋アリ
   ール基）が６５〜１００モル多の高アリールシリコンで
   ある特許請求の範囲第１項記載Ｑつ多層コーティング反
   射板。