TWI828761B - 光學積層體、偏光板複合體及影像顯示裝置 - Google Patents
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Abstract
本發明之課題為提供一種光學積層體，係具備具有優異接著性之接著層，且即使彎曲時亦可抑制彎曲部分產生皺摺。
本發明提供一種光學積層體，係依序具備第1光學層、使活性能量線硬化型接著劑硬化所成之第1接著層、以及第2光學層，第1光學層的第1接著層側的表面為由液晶化合物所構成之液晶層，前述活性能量線硬化型接著劑係含有硬化性成分及陽離子聚合起始劑，以前述硬化性成分之總量為100質量份時，前述硬化性成分含有在溫度25℃的黏度為30Pa．s以下之多官能芳香族環氧化合物10至90質量份，且可含有脂環式環氧化合物或單官能環氧化合物，前述脂環式環氧化合物含量未達25質量份，前述單官能環氧化合物含量未達20質量份，前述第1接著層在波長589nm的折射率為1.53以上。
Description
本發明係關於光學積層體、具有該光學積層體及線性偏光板之偏光板複合體、以及具有該偏光板複合體之影像顯示裝置。
以往，影像顯示裝置係採用有下述的方法：於影像顯示面板之觀視側配置具有抗反射性能之光學積層體，並抑制外來光的反射所造成的觀視性降低。
具有抗反射性能之光學積層體已知有以線性偏光板及相位差層所構成之圓偏光板。圓偏光板中，朝向影像顯示面板的外來光藉由線性偏光板而轉換為線性偏光，接著藉由相位差層而轉換為圓偏光。轉換為圓偏光之外來光雖然在影像顯示面板表面反射，但在做此反射時偏光面的旋轉方向係逆轉，以相位差層轉換為線性偏光後，接著被線性偏光板遮蔽。其結果可顯著地抑制對外部之射出。
作為圓偏光板之構成要素，已知有以接著層接著複數相位差層所成之光學積層體。例如專利文獻1、2記載有以接著層接著1/2波長層及1/4波長
層所成之光學積層體。1/2波長層及1/4波長層係具有由液晶化合物所構成之液晶層。
專利文獻1：日本特開2015-21975號公報。
專利文獻2：日本特開2015-21976號公報。
光學積層體係以單獨或與其他光學構件組合之構成而被彎曲。例如在搬送、捲繞等步驟與滾筒狀構件接觸、或配置於具有彎曲部之影像顯示面板表面，藉此使之彎曲。光學積層體有彎曲部分易產生皺摺的問題。
又，光學積層體有接著層與液晶層相接時不易獲得高接著性的問題。
本發明目的在於提供具備具有良好接著性之接著層，且即使彎曲時可抑制彎曲部分所產生皺摺之光學積層體、具有該光學積層體及線性偏光板之偏光板複合體、以及具有該偏光板複合體之影像顯示裝置。
又，本發明目的在於提供干涉不均被抑制之光學積層體、具有該光學積層體及線性偏光板之偏光板複合體、以及具有該偏光板複合體之影像顯示裝置。
本發明提供下述所示之光學積層體、偏光板複合體、以及影像顯示裝置。
[1]一種光學積層體，係依序具備第1光學層、使活性能量線硬化型接著劑硬化所成之第1接著層、以及第2光學層，第1光學層的第1接著層側的表面為由液晶化合物所構成之液晶層，前述活性能量線硬化型接著劑係含有硬化性成分及陽離子聚合起始劑，以前述硬化性成分之總量為100質量份時，前述硬化性成分含有在溫度25℃的黏度為30Pa．s以下之多官能芳香族環氧化合物10至90質量份，可含有脂環式環氧化合物或單官能環氧化合物，前述脂環式環氧化合物之含量未達25質量份，前述單官能環氧化合物之含量未達20質量份，前述第1接著層在波長589nm的折射率為1.53以上。
[2]一種光學積層體，係依序具備第1光學層、使活性能量線硬化型接著劑硬化所成之第1接著層、以及第2光學層，從前述第1光學層側之最外側的表面照射檢查光時，在根據所產生之反射光的亮度所取得之沿著前述最外側的表面上之第1直線之亮度分佈中，最小亮度相對於最大亮度之比為40%以上。
[3]如[2]所記載之光學積層體，其中前述第1光學層的第1接著層側的表面為由液晶化合物所構成之液晶層，前述活性能量線硬化型接著劑係含有硬化性成分及陽離子聚合起始劑，以前述硬化性成分之總量為100質量份時，
前述硬化性成分含有溫度25℃的黏度為30Pa．s以下之多官能芳香族環氧化合物10至90質量份，可含有脂環式環氧化合物或單官能環氧化合物，前述脂環式環氧化合物之含量未達25質量份，前述單官能環氧化合物之含量未達20質量份，前述第1接著層在波長589nm的折射率為1.53以上。
[4]如[1]或[3]所記載之光學積層體，其中相對於硬化性成分之總量100質量份，前述多官能芳香族環氧化合物之含量為30至75質量份。
[5]如[1]、[3]及[4]中任一項所記載之光學積層體，其中前述多官能芳香族環氧化合物為萘型環氧化合物、雙酚A型環氧化合物、雙酚F型環氧化合物、或此等的組合。
[6]如[1]至[5]中任一項所記載之光學積層體，其中前述活性能量線硬化型接著劑係含有氧環丁烷(oxetane)化合物。
[7]如[1]至[6]中任一項所記載之光學積層體，其中前述活性能量線硬化型接著劑在溫度25℃的黏度為0.18Pa．s以下。
[8]如[1]至[7]中任一項所記載之光學積層體，其中前述活性能量線硬化型接著劑不含有溶劑。
[9]如[1]至[8]中任一項所記載之光學積層體，其中前述第2光學層的第1接著層側的表面為由液晶化合物所構成之液晶層。
[10]如[1]至[9]中任一項所記載之光學積層體，其中前述第1接著層之厚度為5μm以下。
[11]如[1]至[10]中任一項所記載之光學積層體，其中前述第1光學層及前述第2光學層為相位差層。
[12]如[1]至[11]中任一項所記載之光學積層體，其中前述第1光學層為1/2波長層，前述第2光學層為1/4波長層。
[13]一種偏光板複合體，係具備線性偏光板、以及積層於前述線性偏光板之[1]至
[12]中任一項所記載之光學積層體，其中，前述光學積層體係以令前述第1光學層位於前述線性偏光板側之朝向被積層。
[14]如[13]所記載之偏光板複合體，其為圓偏光板。
[15]一種影像顯示裝置，係具備影像顯示面板、以及配置於前述影像顯示面板之觀視側之[13]或[14]所記載之偏光板複合體。
[16]如[15]所記載之影像顯示裝置，其中前述偏光板複合體係以令前述線性偏光板位於觀視側之朝向被配置。
[17]如[15]或[16]所記載之影像顯示裝置，其為有機電致發光顯示裝置。
根據本發明之光學積層體，係具備具有優異接著性之接著層，且即使彎曲時亦可抑制彎曲部分產生皺摺。
1、10:第1相位差層
2、20:第2相位差層
4、40:第1接著層
5、50:光學積層體
11:第1基材層
12:第1配向層
13:第1相位差展現層
21:第2基材層
22:第2配向層
23:第2相位差展現層
31:基材層
32:配向層
33:相位差展現層
100:光學積層體
100a:檢查面
112a:第1慢軸
113a:第2慢軸
120:檢查光學系統
121:光源部
122:檢測部
123:第1偏光過濾器
123a:第1吸收軸
124:第2偏光過濾器
124a:第2吸收軸
125:背面板
125a:背面板之主面
W:寬度方向
d1、d2:距離
L1:檢查光
L2:反射光
α1、α2、β、θ1至θ6:角度
第1圖係示意表示第1實施形態之光學積層體之概略剖面圖。
第2圖係示意表示具有液晶層之相位差層之一例之概略剖面圖。
第3圖(A)至(C)係示意表示為第1實施形態之光學積層體之製造方法中的各製造步驟一例之概略剖面圖。
第4圖係用以說明光學積層體之檢查方法。
第5圖係說明光學積層體所具有之λ/2相位差層及λ/4相位差層之配置關係。
第6圖係說明第1偏光過濾器及第2偏光過濾器相對於光學積層體之配置關係。
第7圖係用以說明光學積層體為矩形時，光學積層體相對於MD方向(搬送方向)之方向。
第8圖係表示實施例19之沿著第1直線之亮度分佈。
以下，一邊參照圖面一邊說明本發明之光學積層體及偏光板複合體。
[光學積層體]
本發明之光學積層體一例係依序具備第1光學層、活性能量線硬化型接著劑硬化所成之第1接著層、以及第2光學層。第1光學層的第1接著劑層側表面為液晶化合物所構成之液晶層。
本發明之光學積層體之其他例係依序具備第1光學層、活性能量線硬化型接著劑硬化所成之第1接著層、以及第2光學層，從第1光學層側之最外側的表面照射檢查光時，在根據所產生反射光亮度所取得之沿著前述最外側
的表面上之第1直線之亮度分佈中，最小亮度相對於最大亮度之比為40%以上。第1光學層的第1接著劑層側表面為液晶化合物所構成之液晶層。
以薄型化之觀點來看，光學積層體之厚度較佳為2μm至100μm，又更佳為2μm至50μm。光學積層體之形態可舉出以捲筒至捲筒(roll to roll)方式等製作之長條狀者、將長條狀轉繞為捲狀之膜捲(film roll、或稱為膠捲)狀者、裁切長條狀者所製作之單片狀者(片狀體)等。片狀體之形狀並無特別限制，較佳為具有具長邊及短邊之方形形狀，典型而言為長方形。長邊及短邊之長度為並無特別限制，通常而言片狀體之長邊為50mm以上，短邊為30mm以上。片狀體之大小例如為長邊為300至1500mm，短邊為300至1500mm。
<活性能量線硬化型接著劑>
活性能量線硬化型接著劑之一形態係照射活性能量線並硬化者。活性能量線硬化型接著劑係含有硬化性成分與陽離子聚合起始劑(D)。硬化性成分係含有多官能芳香族環氧化合物(A)，也可含有脂環式環氧化合物(B)或單官能環氧化合物(C)。活性能量線硬化型接著劑中之硬化性成分中，以硬化性成分之總量為100質量份時，
作為多官能芳香族環氧化合物(A)之溫度25℃的黏度為30Pa．s以下之多官能芳香族環氧化合物含有10至90質量份，較佳為30至75質量份，脂環式環氧化合物(B)含有未達25質量份，例如1至22質量份，單官能環氧化合物(C)含有未達20質量份，例如1至18質量份。
硬化性成分可含有多官能芳香族環氧化合物(A)、脂環式環氧化合物(B)及單官能環氧化合物(C)以外之化合物，可含有多官能脂肪族環氧化合物
(E)、氧環丁烷化合物(F)。活性能量線硬化型接著劑中之硬化性成分中，以硬化性成分之總量為100質量份時，多官能脂肪族環氧化合物(E)例如含有1至50質量份，氧環丁烷化合物(F)例如含有1至50質量份。
活性能量線硬化型接著劑較佳為不含有溶劑。以下詳細說明各成分。
(1)硬化性成分
(多官能芳香族環氧化合物(A))
多官能芳香族環氧化合物(A)為具有2個以上環氧基且具有芳香環之化合物。但本說明書之多官能芳香族環氧化合物(A)不包括被包含於脂環式環氧化合物(B)內、於分子內具有脂環式環氧基之化合物。脂環式環氧基如後述。
多官能芳香族環氧化合物(A)之具體例可舉出萘、或萘衍生物之聚環氧丙基醚化物(亦稱為「萘型環氧化合物」)；雙酚A、雙酚F等雙酚衍生物之聚環氧丙基醚化物(亦稱為「雙酚A型環氧化合物」、「雙酚F型環氧化合物」)；環氧基酚醛清漆樹脂；間苯二酚或氫醌、鄰苯二酚等具有2個以上苯酚性羥基之芳香族化合物之聚環氧丙基醚化物；苯二甲醇或苯二乙醇、苯二丁醇等具有2個以上醇性羥基之芳香族化合物之聚環氧丙基醚化物；鄰苯二甲酸、對苯二甲酸、偏苯三甲酸等具有2個以上羧基之多元酸芳香族化合物之聚環氧丙基酯；安息香酸之環氧丙基酯或甲苯甲酸、萘甲酸之聚環氧丙基酯等；苯乙烯氧化物或烷基化苯乙烯氧化物、乙烯基萘之環氧化物等苯乙烯氧化物類或二乙烯基苯之二環氧化物等。
本發明之活性能量線硬化型接著劑在以硬化性成分之總量為100質量份時，作為多官能芳香族環氧化合物(A)之溫度25℃的黏度為30Pa．s以下
之多官能芳香族環氧化合物含有10至90質量份，較佳為30至75質量份。藉由使用溫度25℃的黏度為30Pa．s以下之多官能芳香族環氧化合物作為多官能芳香族環氧化合物(A)，可降低活性能量線硬化型接著劑之黏度。又，可提高接著劑硬化層之折射率，提高接著性，且可抑制彎曲時光學積層體所產生之皺摺。
溫度25℃的黏度為30Pa．s以下之多官能芳香族環氧化合物可使用市售品，可舉例如「Denacol EX-201」、「Denacol EX-711」及「Denacol EX-721」(以上皆為Nagasechemtex股份有限公司製)；「OGSOL EG-280」及「OGSOL CG-400」(以上皆為大阪氣體化學股份有限公司製)；「EXA-80CRP」及「HP4032D」(以上皆為DIC股份有限公司製)；「「jER828」及「jER828EL」(以上皆為三菱化學股份有限公司製)；「ADEKA RESIN EP-4100」、「ADEKA RESIN EP-4100G」、「ADEKA RESIN EP-4100E」、「ADEKA RESIN EP-4100L」、「ADEKA RESIN EP-4100TX」、「ADEKA RESIN EP-4000」、「ADEKA RESIN EP-4005」、「ADEKA RESIN EP-4901」、「ADEKA RESIN EP-4901E」(以上皆為ADEKA股份有限公司製)等。
溫度25℃的黏度為30Pa．s以下之多官能芳香族環氧化合物可單獨使用1種化合物，亦可組合相異複數種使用。
(脂環式環氧化合物(B))
脂環式環氧化合物(B)為具有1個以上脂環式環氧基之化合物。脂環式環氧化合物(B)若為具有1個以上脂環式環氧基之化合物，則可進一步具有脂環式環氧基以外之環氧基。本說明書中，脂環式環氧基是指鍵結於脂環式環之環氧基，是指下式(a)所示構造中的橋接之氧原子-O-。
上述式(a)中，m為2至5之整數。去除上述式(a)中的(CH2)m中之1個或複數個氫原子的形式的基鍵結於其他化學構造之化合物即可為脂環式環氧化合物(B)。(CH2)m中之1個或複數個氫原子可經甲基或乙基之類之直鏈狀烷基適宜取代。可藉由脂環式環氧化合物(B)而調整活性能量線硬化型接著劑之硬化速度，又，可得具有良好高溫耐性之接著劑硬化層。
脂環式環氧化合物(B)之具體例可舉出3,4-環氧環己烷羧酸3,4-環氧環己基甲酯、1,2-環氧基-4-乙烯基環己烷、1,2-環氧基-1-甲基-4-(1-甲基環氧基乙基)環己烷、甲基丙烯酸3,4-環氧環己基甲酯、2,2-雙(羥基甲基)-1-丁醇之4-(1,2-環氧基乙基)-1,2-環氧環己烷加成物、伸乙基雙(3,4-環氧環己烷羧酸酯)、氧二伸乙基雙(3,4-環氧環己烷羧酸酯)、1,4-環己烷二甲基雙(3,4-環氧環己烷羧酸酯)、以及3-(3,4-環氧環己基甲氧基羰基)丙基3,4-環氧環己烷羧酸酯等。
以具有適度硬化性且可較廉價獲得來看，脂環式環氧化合物(B)中較佳為使用3,4-環氧環己基甲基、3,4-環氧環己烷羧酸酯。脂環式環氧化合物(B)可單獨使用1種脂環式環氧化合物，亦可組合相異複數種使用。
脂環式環氧化合物(B)可使用市售品，可舉例如分別以商品名為Daicel股份有限公司所販售之「celloxide(註冊商標)」系列及「cyclomer(註冊商標)」，陶氏化學公司所販售之「CYRACURE UVR」系列等。
(單官能環氧化合物(C))
單官能環氧化合物(C)為具有1個環氧基之化合物。但本說明書之單官能環氧化合物(C)不包括被包含於脂環式環氧化合物(B)，於分子內具有脂環式環氧基
之化合物。單官能環氧化合物(C)可在分子內具有或不具有芳香環。可藉由單官能環氧化合物(C)而調整活性能量線硬化型接著劑之黏度。
具有芳香環之單官能環氧化合物(C)可舉出苯酚、甲酚、丁基苯酚等1價苯酚或雙酚A、雙酚F等雙酚衍生物、或該等環氧烷加成物之單環氧丙基醚化物；環氧基酚醛清漆樹脂；間苯二酚或氫醌、鄰苯二酚等具有2個以上苯酚性羥基之芳香族化合物之單環氧丙基醚化物；苯二甲醇或苯二乙醇、苯二丁醇等具有2個以上醇性羥基之芳香族化合物之單環氧丙基醚化物；鄰苯二甲酸、對苯二甲酸、偏苯三甲酸等具有2個以上羧基之多元酸芳香族化合物之單環氧丙基酯；安息香酸之環氧丙基酯或甲苯甲酸、萘甲酸之單環氧丙基酯等。
不具有芳香環之單官能環氧化合物(C)可舉出脂肪族醇之環氧丙基醚化物、烷基羧酸之環氧丙基酯等其具體例包括烯丙基環氧丙基醚、丁基環氧丙基醚、第二丁基苯基環氧丙基醚、2-乙基己基環氧丙基醚、碳數12及13混合烷基環氧丙基醚、醇之環氧丙基醚、脂肪族高級醇之單環氧丙基醚、高級脂肪酸之環氧丙基酯等。單官能環氧化合物(C)可單獨使用1種單官能環氧化合物，亦可組合相異複數種使用。
單官能環氧化合物(C)可使用市售品，可舉例如「EX-142」、「EX-146」、EX-147」、「EX-121」(以上皆為Nagasechemtex股份有限公司製)等。
(多官能脂肪族環氧化合物(E))
多官能脂肪族環氧化合物(E)為具有2個以上環氧基且不具有芳香環之化合物。但本說明書之多官能脂肪族環氧化合物(E)不包括被包含於脂環式環氧化合物(B)，具有脂環式環氧基之化合物。可藉由多官能脂肪族環氧化合物(E)而調整接著劑硬化層之接著性。
多官能脂肪族環氧化合物(E)更佳為下式(I)所示脂肪族二環氧化合物。藉由含有下式(I)所示脂肪族二環氧化合物作為多官能脂肪族環氧化合物(E)，可得黏度低且容易塗布之活性能量線硬化型接著劑。
式(I)中，Z為碳數1至9之伸烷基、碳數3或4之亞烷基、2價脂環式烴基、或式-CmH2m-Z1-CnH2n-所示2價基。又，前述式-CmH2m-Z1-CnH2n-中，-Z1-為-O-、-CO-O-、-O-CO-、-SO2-、-SO-或-CO-，m及n各自獨立表示1以上之整數，m及n之合計為9以下。
2價脂環式烴基例如可為碳數4至8之2價脂環式烴基，可舉例如下式(I-1)所示2價基等。
式(I)所示化合物之具體例可舉例如烷二醇之二環氧丙基醚、重複單元數到4左右為止的寡聚烷二醇之二環氧丙基醚、或脂環式二醇之二環氧丙基醚等。
可形成前述式(I)所示化合物之二醇(二醇)可舉例如乙二醇、丙二醇、1,3-丙二醇、2-甲基-1,3-丙二醇、2-丁基-2-乙基-1,3-丙二醇、1,4-丁二醇、新戊二醇、3-甲基-2,4-戊二醇、2,4-戊二醇、1,5-戊二醇、3-甲基-1,5-戊二醇、2-甲基-2,4-戊二醇、2,4-二乙基-1,5-戊二醇、1,6-己二醇、1,7-庚二醇、3,5-庚二醇、1,8-
辛二醇、2-甲基-1,8-辛二醇、1,9-壬二醇等烷二醇；二乙二醇、三乙二醇、四乙二醇、二丙二醇等寡聚烷二醇；環己二醇、環己烷二甲醇等脂環式二醇。
本發明中，以獲得黏度低且容易塗布之活性能量線硬化型接著劑的觀點來看，多官能脂肪族環氧化合物(E)較佳為1,4-丁二醇二環氧丙基醚、1,6-己二醇二環氧丙基醚、新戊二醇二環氧丙基醚。多官能脂肪族環氧化合物(E)可單獨使用1種脂肪族環氧化合物，亦可組合相異複數種使用。
多官能脂肪族環氧化合物(E)可使用市售品，可舉例如「EP-4088S」(以上為ADEKA股份有限公司製)、「EHPE3150」(以上為Daicel股份有限公司製)、「EX-211L」、「EX-212L」(以上皆為Nagasechemtex股份有限公司製)等。
(氧環丁烷化合物(F))
本說明書中，氧環丁烷化合物(F)為具有氧雜環丁基之化合物，脂肪族化合物可為脂環式化合物或芳香族化合物。本說明書之氧環丁烷化合物(F)為不具有環氧基之化合物。可藉由氧環丁烷化合物(F)而調整活性能量線硬化型接著劑之硬化速度或黏度，且可提高反應性。
氧環丁烷化合物(F)之具體例包括3,7-雙(3-氧雜環丁基)-5-氧雜-壬烷、1,4-雙[(3-乙基-3-氧雜環丁基甲氧基)甲基]苯、1,2-雙[(3-乙基-3-氧雜環丁基甲氧基)甲基]乙烷、1,3-雙[(3-乙基-3-氧雜環丁基甲氧基)甲基]丙烷、乙二醇雙(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、三乙二醇雙(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、四乙二醇雙(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、1,4-雙(3-乙基-3-氧雜環丁基甲氧基)丁烷、1,6-雙(3-乙基-3-氧雜環丁基甲氧基)己烷、3-乙基-3-[(苯氧基)甲基]氧環丁烷、3-乙基-3-(己氧基甲基)氧環丁烷、3-乙基-3-(2-乙基己氧基甲基)氧環丁烷、3-乙基-3-(羥
基甲基)氧環丁烷、3-乙基-3-(氯甲基)氧環丁烷等。氧環丁烷化合物(F)可單獨使用1種氧環丁烷化合物，亦可組合相異複數種使用。
氧環丁烷化合物(F)可使用市售品，可舉例如分別以商品名為東亞合成股份有限公司所販售之「ARON OXETANE(註冊商標)」系列、宇部興產股份有限公司所販售之「ETERNACOLL(註冊商標)」系列等。
上述硬化性成分(多官能環氧化合物(A)、脂環式環氧化合物(B)、單官能環氧化合物(C)、多官能脂肪族環氧化合物(E)、氧環丁烷化合物(F))中，為了使活性能量線硬化型接著劑成為無溶劑，較佳為使用未以有機溶劑等稀釋者。
上述硬化性成分通常在室溫中為液體，即使不存在溶劑亦具有適度流動性，選擇可賦予適當接著強度並於其中調配適合的陽離子聚合起始劑，該活性能量線硬化型接著劑在光學積層體之製造設備中，於接著第1光學層與第2光學層之步驟中可省去用以蒸發溶劑的乾燥設備。又，藉由照射適當活性能量線量而可促進硬化速度並提高生產速度。
(其他硬化性成分)
活性能量線硬化型接著劑所含之硬化性成分不限定於上述硬化性成分，可含有上述陽離子聚合性硬化性成分以外之陽離子聚合性硬化性成分以及自由基聚合性硬化性成分。自由基聚合性硬化性成分可舉例如丙烯酸系化合物。
但是，自由基聚合有硬化收縮較大之傾向，故活性能量線硬化型接著劑較佳為僅含有陽離子聚合性硬化性成分作為硬化性成分。
(2)陽離子聚合起始劑(D)
活性能量線硬化型接著劑係含有陽離子聚合起始劑(D)。藉此可將硬化性成分藉由照射活性能量線而以陽離子聚合硬化並形成接著劑層。陽離子聚合起始
劑(D)可藉由照射可見光線、紫外線、X射線、電子線之類之活性能量線而產生陽離子種或路易士酸，並開始硬化性成分之聚合反應。陽離子聚合起始劑(D)係以光作為觸媒，故即使混合於硬化性成分其保存穩定性或操作性亦優異。可使用作為陽離子聚合起始劑(D)之可藉由照射活性能量線而產生陽離子種或路易士酸之化合物可舉例如芳香族重氮鹽；芳香族錪鹽或芳香族鋶鹽之類之鎓鹽；鐵-芳烴(iron-arene)錯合物等。
芳香族重氮鹽可舉例如苯重氮鎓六氟銻酸鹽、苯重氮鎓六氟磷酸鹽、苯重氮鎓六氟硼酸鹽。
芳香族錪鹽可舉例如二苯基錪四(五氟苯基)硼酸鹽、二苯基錪六氟磷酸鹽、二苯基錪六氟銻酸鹽、二(4-壬基苯基)錪六氟磷酸鹽。
芳香族鋶鹽可舉例如三苯基鋶六氟磷酸鹽、三苯基鋶六氟銻酸鹽、三苯基鋶四(五氟苯基)硼酸鹽、4,4’-雙[二苯基二氫硫基]二苯基硫醚雙六氟磷酸鹽、4,4’-雙[二(β-羥基乙氧基)苯基二氫硫基]二苯基硫醚雙六氟銻酸鹽、4,4’-雙[二(β-羥基乙氧基)苯基二氫硫基]二苯基硫醚雙六氟磷酸鹽、7-[二(對甲苯基)二氫硫基]-2-異丙基噻噸酮六氟銻酸鹽、7-[二(對甲苯基)二氫硫基]-2-異丙基噻噸酮四(五氟苯基)硼酸鹽、4-苯基羰基-4’-二苯基二氫硫基-二苯基硫醚六氟磷酸鹽、4-(對第三丁基苯基羰基)-4’-二苯基二氫硫基-二苯基硫醚六氟銻酸鹽、4-(對第三丁基苯基羰基)-4’-二(對甲苯基)二氫硫基-二苯基硫醚四(五氟苯基)硼酸鹽。
鐵/芳烴錯合物可舉例如二甲苯/二茂鐵(II)六氟銻酸鹽、異丙苯/二茂鐵(II)六氟磷酸鹽、二甲苯/二茂鐵(II)三(三氟甲基磺醯基)甲烷化物。
陽離子聚合起始劑(D)可僅單獨使用1種或併用2種以上。上述中，尤其芳香族鋶鹽即使在300nm附近之波長區域亦具有紫外線吸收特性，故
可獲得硬化性優異且具有良好機械強度或接著強度之接著劑硬化層，故可較佳地使用。
相對於硬化性成分之合計量100質量份，陽離子聚合起始劑(D)含量為0.5至10質量份，較佳為1至4質量份。含有陽離子聚合起始劑(D)1質量份以上，藉此可使硬化性成分充分硬化，可獲得具有充分接著強度及硬度之接著劑硬化層。另一方面，其量若多，則硬化物中之離子性物質會增加，因此會提高硬化物之吸濕性，可能會降低光學積層體之耐久性能，故相對於硬化性成分之合計量100質量份，陽離子聚合起始劑(D)之量為10質量份以下。
含有自由基聚合性硬化性成分作為硬化性成分時，較佳為除了陽離子聚合起始劑(D)以外亦含有自由基聚合起始劑作為聚合起始劑。
(3)光敏化劑
活性能量線硬化型接著劑可含有光敏化劑。上述陽離子聚合起始劑(D)在300nm附近或比其更短波長域顯示極大吸收，感應其附近波長的光而產生陽離子種或路易士酸並開始陽離子聚合性硬化性成分之陽離子聚合，但為了亦感應比其更長波長的光，光敏化劑較佳為在比380nm更長波長域顯示極大吸收者。該光敏化劑適合使用蒽系化合物。
蒽系化合物之具體例可舉例如：9,10-二甲氧基蒽、9,10-二乙氧基蒽、9,10-二丙氧基蒽、9,10-二異丙氧基蒽、9,10-二丁氧基蒽、
9,10-二戊基氧蒽、9,10-二己基氧蒽、9,10-雙(2-甲氧基乙氧基)蒽、9,10-雙(2-乙氧基乙氧基)蒽、9,10-雙(2-丁氧基乙氧基)蒽、9,10-雙(3-丁氧基丙氧基)蒽、2-甲基或2-乙基-9,10-二甲氧基蒽、2-甲基或2-乙基-9,10-二乙氧基蒽、2-甲基或2-乙基-9,10-二丙氧基蒽、2-甲基或2-乙基-9,10-二異丙氧基蒽、2-甲基或2-乙基-9,10-二丁氧基蒽、2-甲基或2-乙基-9,10-二戊基氧蒽、2-甲基或2-乙基-9,10-二己基氧蒽。
藉由使活性能量線硬化型接著劑含有光敏化劑，與不含光敏化劑時相比，可提高接著劑之硬化性。相對於硬化性成分之合計量100質量份，藉由使光敏化劑的含量為0.1質量份以上，可展現上述效果。另一方面，若光敏化劑的含量較多，則在低溫保管時會產生析出等問題，故相對於硬化性成分之合計量100質量份，光敏化劑的含量較佳為2質量份以下。
(4)光敏化助劑
活性能量線硬化型接著可含有光敏化助劑。光敏化助劑較佳為萘系光敏化助劑。
萘系光敏化助劑之具體例可舉例如：
4-甲氧基-1-萘酚、4-乙氧基-1-萘酚、4-丙氧基-1-萘酚、4-丁氧基-1-萘酚、4-己基氧-1-萘酚、1,4-二甲氧基萘、1-乙氧基-4-甲氧基萘、1,4-二乙氧基萘、1,4-二丙氧基萘、1,4-二丁氧基萘。
藉由使活性能量線硬化型接著劑含有萘系光敏化助劑，與不含光敏化助劑時相比，可提高接著劑之硬化性。相對於硬化性成分之合計量100質量份，藉由使萘系光敏化助劑含量為0.1質量份以上，可展現上述效果。另一方面，萘系光敏化助劑的含量較多，則在低溫保管時會產生析出等問題，故相對於硬化性成分之合計量100質量份，萘系光敏化助劑的含量較佳為5質量份以下。相對於硬化性成分之合計量100質量份，萘系光敏化助劑的含量較佳為3質量份以下。
(5)添加劑成分
在不損及本發明效果之範圍內，活性能量線硬化型接著劑中可含有添加劑成分作為任意成分之其他成分。添加劑成分可舉出離子捕集劑、抗氧化劑、光穩定劑、鏈轉移劑、增黏劑、熱塑性樹脂、填充劑、流動調整劑、塑化劑、消泡劑、調平劑、色素、有機溶劑等。
含有添加劑成分時，相對於硬化性成分之合計量100質量份，其含量較佳為10質量份以下。含量為10質量份以下時，藉由必要成分之硬化性成分與陽離子聚合起始劑(D)之組合，可良好地發揮第1光學層與第2光學層之間之優異接著強度、活性能量線硬化性接著劑之低黏度化及伴隨於此的良好塗布性、以及抑制硬化後第1接著層中的氣泡缺陷等效果。
在調製活性能量線硬化型接著劑時，上述陽離子聚合起始劑(D)、光敏化劑、光敏化助劑、以及添加劑成分可在不含溶劑的狀態添加，也可於溶劑稀釋後直接添加。上述含量之數值範圍皆為固形分基準的數值範圍。
(6)黏度
活性能量線硬化型接著劑之黏度只要具有可用各種方法塗布之黏度即可，其在溫度25℃中的黏度較佳為0.18Pa．s以下，更佳為0.01Pa．s以上。若其黏度過小，則有難以形成所求厚度的層的傾向。另一方面，若其黏度為過大，則難以流動，有難以獲得均一均質塗膜的傾向。在此所述黏度，為使用E型黏度計並將該接著劑調溫至25℃後以10rpm所測定的值。
(7)硬化方法
活性能量線硬化型接著劑能夠以電子線硬化型、紫外線硬化型之態樣使用。本說明書中，活性能量線係定義為可分解會產生活性種之化合物並讓活性種產生的能量線。如此的活性能量線可舉出可見光、紫外線、紅外線、X射線、α線、β線、γ線及電子線等。
電子線硬化型中，電子線之照射條件只要為可硬化活性能量線硬化型接著劑之條件，可採用任意適當條件。例如電子線照射時，加速電壓較佳為5kV至300kV，又更佳為10kV至250kV。加速電壓未達5kV時，電子線無法到
達接著劑而有硬化不足之虞，加速電壓若超過300kV，則通過試料的浸透力過強使電子線會返彈，有對透明保護膜或偏光片造成損傷之虞。照射線量為5至100kGy，又更佳為10至75kGy。照射線量未達5kGy時，接著劑會硬化不足，若超過100kGy則會對光學層造成損傷，會降低機械性強度或產生黃變，無法獲得所求的光學特性。
電子線照射通常在非活性氣體中進行照射，但若有必要可在大氣中或導入少許氧之條件下進行。藉由適宜導入氧，而可在電子線最早接觸的光學層產生氧阻礙，可預防對其他光學層造成傷害，可有效率地僅於接著劑照射電子線。
紫外線硬化型中，活性能量線硬化型接著劑之光照射強度係對每個接著劑的組成而決定，無特別限定，但較佳為10至1,000mW/cm2。若對樹脂組成物的光照射強度未達10mW/cm2，則反應時間會過長，若超過1,000mW/cm2，則有可能會因光源的輻射熱及組成物聚合時的發熱而使接著劑之構成材料產生黃變。又，照射強度較佳為有效活化陽離子聚合起始劑(D)的波長區域中的強度，更佳為波長400nm以下之波長區域中的強度，又更佳為波長280至320nm之波長區域中的強度。以上述光照射強度照射1次或複數次，該累積光量較佳為設定為10mJ/cm2以上，又更佳為100至1,000mJ/cm2。若對上述接著劑的累積光量未達10mJ/cm2，則聚合起始劑所產生的活性種不充分，接著劑之硬化變得不充分。另一方面，若該累積光量超過1,000mJ/cm2，則照射時間變長，不利於提高生產性。此時，根據第1光學層及第2光學層之種類或接著劑種的組合等，一波長區域(UVA(320至390nm)或UVB(280至320nm)等)的所需累積光量會不同。
本發明中藉由照射活性能量線而進行接著劑之聚合硬化所使用之光源並無特別限定，可舉例如低壓汞燈、中壓汞燈、高壓汞燈、超高壓汞燈、氙燈、鹵素燈、碳電弧燈、鎢燈、鎵燈、準分子雷射、在波長範圍380至440nm發光之LED光源、化學燈、黑光燈、微波激發汞燈、金屬鹵化物燈。以能量穩定性或裝置簡便性的觀點來看，較佳為在波長400nm以下具有發光分佈之紫外光源。
<第1接著層>
第1接著層在波長589nm的折射率較佳為1.53以上，更佳為1.54以上。藉由使第1接著層之折射率在上述範圍內，即便用於折射率較高的層，例如用於液晶層的接著時，亦可減少界面反射光的強度，可抑制干涉不均之產生。第1接著層之厚度為並無特別限制，較佳為20μm以下，更佳為10μm以下，又更佳為5μm以下。以確保接著性之觀點來看，第1接著層之厚度例如為0.5μm以上。
<亮度分佈>
本發明之光學積層體係在從第1光學層側之最外側的表面照射檢查光時，在根據所產生反射光亮度所取得之沿著最外側的表面上之第1直線之亮度分佈中，最小亮度相對於最大亮度之比(最小亮度/最大亮度)較佳為40%以上，更佳為50%以上，又更佳為55%以上。藉由使該比為40%以上，而可抑制干涉不均。亮度分佈之取得方法係根據後述實施例之方法。第1直線可為任意直線，在後述實施例之方法中，為橫切裁切為特定大小樣品的最外側的表面之直線，為搬送方向之直線。光學積層體中，例如藉由調整第1接著層之組成、厚度等而可調整沿著第1直線之亮度分佈中的最小亮度相對於最大亮度之比。
<第1光學層及第2光學層>
第1光學層及第2光學層只要為穿透光的層，則無特別限定，例如為對穿透的光賦予特定相位差之相位差層。第1光學層較佳為第1接著層側的表面為液晶化合物所構成之液晶層。液晶層雖折射率較高且容易在與其相接之接著層之間產生界面反射，但可藉由使第1接著層之折射率為1.53以上而抑制界面反射。第2光學層並無特別限定，為相位差層時，以光學積層體薄型化之觀點來看，較佳為具有液晶化合物所構成之液晶層。
<第1實施形態>
第1實施形態之光學積層體中，第1光學層及第2光學層為相位差層。第1圖之概略剖面圖示意表示第1實施形態之光學積層體。如第1圖所示，光學積層體5具備：為第1光學層之第1相位差層1、為第2光學層之第2相位差層2、以及接著第1相位差層1與第2相位差層2之第1接著層4。
光學積層體5有時會單獨或是以與其他光學構件組合之構成被彎曲。例如在搬送、捲繞等步驟與滾筒狀構件接觸、或配置於具有彎曲部之影像顯示面板表面，藉此而彎曲。藉由光學積層體5，可抑制彎曲部分產生皺摺。
(1)第1相位差層及第2相位差層
第1相位差層1及第2相位差層2只要為至少含有一個對光賦予特定相位差的相位差展現層的相位差層，則無特別限定，例如可為1/2波長層、1/4波長層、正-C板等光學補償層。相位差層可為正分散性相位差層，也可為逆波長色散性相位差層。第1相位差層1及第2相位差層2只要至少含有一個相位差展現層，則可為僅相位差展現層所構成者、或與相位差展現層一起含有其他層者。其他層可舉例如基材層、配向膜層、保護層等。又，其他層不會影響相位差的值。
相位差展現層可舉出液晶層、或延伸膜。第1相位差層1的第1接著層4側表面為相位差展現層之液晶層。以薄型化之觀點來看，第2相位差層2較佳為相位差展現層之液晶層。第2相位差層2例如為第1接著層4側表面為相位差展現層之液晶層。相較於延伸膜之相位差展現層，液晶層之相位差展現層一般而言容易薄膜化。本實施形態中，與第1接著層4相接之第1相位差層1及第2相位差層2的表面層皆為液晶層時，藉由使第1接著層4在波長589nm的折射率為1.53以上，而可抑制界面反射並提高接著性。又，即使彎曲時也可抑制彎曲部分產生皺摺。
第1相位差層1及第2相位差層2係分別為僅由相位差展現層所構成時，分別之厚度較佳為0.5μm至10μm，更佳為0.5μm至5μm。
第1相位差層1及第2相位差層分別具有相位差展現層以外之其他層(基材層、配向膜層、保護層等)時，整體厚度較佳為0.5μm至300μm，更佳為0.5μm至150μm。
第1相位差層1及第2相位差層2之厚度越薄，則在彎曲光學積層體時，在彎曲部分中，越容易於第1相位差層1及第2相位差層2產生皺摺，根據本實施形態之光學積層體，即使第1相位差層1及第2相位差層2如上述為5μm以下之較薄情形時，亦可抑制彎曲部分產生皺摺。
本實施形態之光學積層體中的第1相位差層1與第2相位差層2的組合可舉例如：i)1/2波長層與1/4波長層的組合；ii)1/2波長層與光學補償層的組合；iii)1/4波長層與光學補償層的組合等。
1/2波長層為對入射光之電場振動方向(偏光面)賦予π(=λ/2)之相位差者，具有改變線性偏光方向(偏光方位)之功能。又，若射入圓偏光的光，則可使圓偏光之旋轉方向相反。
1/2波長層為特定波長λnm中的面內延遲值之Re(λ)滿足Re(λ)=λ/2的層。雖在可見光域之任一波長中達成Re(λ)=λ/2即可，但其中較佳為在波長550nm中達成。波長550nm中的面內延遲值之Re(550)較佳為滿足210nm≦Re(550)≦300nm。又，更佳為滿足220nm≦Re(550)≦290nm。
1/4波長層為對入射光之電場振動方向(偏光面)賦予π/2(=λ/4)之相位差者，具有將一特定波長之線性偏光轉換為圓偏光(或將圓偏光轉換為線性偏光)之功能。
1/4波長層為在特定波長λnm中的面內延遲值之Re(λ)滿足Re(λ)=λ/4的層，雖在可見光域之任一波長中達成即可，但其中較佳為在波長550nm達成。波長550nm中的面內延遲值之Re(550)較佳為滿足100nm≦Re(550)≦160nm。又，更佳為滿足110nm≦Re(550)≦150nm。
光學補償層可舉例如正A板、正-C板等。正A板中，以其面內中的慢軸方向之折射率為Nx、其面內中的快軸方向之折射率為Ny、其厚度方向中的折射率為Nz時，滿足Nx>Ny之關係。正A板較佳為滿足Nx>Ny≧Nz之關係。又，正A板可作為1/4波長層發揮功能。正-C板係滿足Nz>Nx≧Ny之關係。
逆波長色散性是指短波長的面內延遲值小於長波長的面內延遲值之光學特性，較佳為滿足下式(b)。
Re(450)≦Re(550)≦Re(650)(b)
又，Re(λ)表示相對於波長λnm之光的面內延遲值。
可藉由構成相位差展現層之液晶化合物之配向狀態、或構成相位差展現層之延伸膜之延伸方法，而調節相位差層之光學特性。藉由適宜調節相位差層之光學特性，可積層光學積層體5與線性偏光板，並獲得具有抗反射性能之偏光板複合體。
(2)液晶層所形成之相位差展現層
說明相位差展現層為液晶層的情形。第2圖係示意表示具有液晶層之相位差展現層及其他層之相位差層之一例之概略剖面圖。如第2圖所示，相位差層30係依序積層有基材層31、配向層32、液晶層之相位差展現層33所成。相位差層只要為具有液晶層之相位差展現層33之構成，則不限定於第2圖所示相位差層30，可為從相位差層30剝離基材層31並僅為配向層32及相位差展現層33所構成之構成，也可為從相位差層30剝離基材層31及配向層32並僅為液晶層之相位差展現層33所構成之構成。以薄膜化之觀點來看，相位差層更佳為基材層31經剝離之構成，又更佳為僅由液晶層之相位差展現層33所構成之構成。基材層31係具有作為支持層的功能，其係支持形成於基材層31上之配向層32、以及液晶層之相位差展現層33。基材層31較佳為樹脂材料所形成之膜。
樹脂材料例如使用透明性、機械性強度、熱穩定性、延伸性等優異之樹脂材料。具體而言可舉出聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴系樹脂；降莰烯系聚合物等環狀聚烯烴系樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂；(甲基)丙烯酸、聚(甲基)丙烯酸甲酯等(甲基)丙烯酸系樹脂；三乙酸纖維素、二乙酸纖維素及乙酸丙酸纖維素等纖維素酯系樹脂；聚乙烯醇及聚乙酸乙烯酯等乙烯醇系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；聚芳酯系樹脂；聚碸系樹
脂；聚醚碸系樹脂；聚醯胺系樹脂；聚醯亞胺系樹脂；聚醚酮系樹脂；聚苯硫醚系樹脂；聚苯醚系樹脂、以及該等之混合物、共聚物等。該等樹脂中較佳為使用環狀聚烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、纖維素酯系樹脂及(甲基)丙烯酸系樹脂之任一者或該等之混合物。又，上述「(甲基)丙烯酸」是指「丙烯酸及甲基丙烯酸之至少1種」。
基材層31可為上述樹脂1種類或混合2種以上的單層，也可具有2層以上之多層構造。具有多層構造時，形成各層的樹脂可相同或相異。
形成樹脂膜的樹脂材料中可添加任意添加劑。添加劑可舉例如紫外線吸收劑、抗氧化劑、滑劑、塑化劑、脫模劑、著色防止劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料、以及著色劑等。
基材層31之厚度並無特別限定，一般而言，以強度或操作性等操作性之觀點來看較佳為5至200μm，更佳為10至200μm，又更佳為10至150μm。
為了提高基材層31與配向層32的密著性，故可至少在基材層31之配向層32形成側表面進行電暈處理、電漿處理、火炎處理等，也可形成底漆層等。又，將基材層31、或基材層31及配向層32剝離並形成相位差層時，可藉由調整剝離界面的密著力而更容易剝離。
配向層32具有配向控制力，係使形成於該等配向層32上之液晶層之相位差展現層33所含液晶化合物於所求方向液晶配向。配向層32可舉出以配向性聚合物形成之配向性聚合物層、以光配向聚合物形成之光配向聚合物層、層表面具有凹凸圖案或複數溝槽(groove，溝)之溝槽配向層。配向層32之厚度通常為0.01至10μm，較佳為0.01至5μm。
可將使配向性聚合物溶解於溶劑之組成物塗布於基材層31，去除溶劑，並視需要進行刷磨(rubbing)處理，而形成配向性聚合物層。此時，可根據配向性聚合物形成之配向性聚合物層中的配向性聚合物表面狀態或刷磨條件，而任意調整配向控制力。
將含有具有光反應性基之聚合物或單體與溶劑的組成物塗布於基材層31，並照射偏光，藉此可形成光配向聚合物層。此時，可根據光配向聚合物層中對於光配向聚合物之偏光照射條件等而任意調整配向控制力。
溝槽配向層例如可藉由下述方法等而形成。於感光性聚醯亞胺膜表面透過具有圖案形狀之狹縫之曝光用遮罩進行曝光、顯影等而形成凹凸圖案之方法；於表面具有溝槽的板狀原盤形成活性能量線硬化性樹脂之未硬化層，並將該層轉印於基材層31並硬化之方法；及於基材層31形成活性能量線硬化性樹脂之未硬化層，於該層壓接具有凹凸之滾筒狀原盤等，藉此形成凹凸並硬化之方法等。
液晶層之相位差展現層33只要為對光賦予特定相位差者，則無特別限定，可舉例如作為1/2波長層用相位差展現層、1/4波長層用相位差展現層、正-C板等光學補償層用相位差展現層、逆波長色散性1/4波長層用相位差展現層而發揮功能者。
液晶層之相位差展現層33可使用公知液晶化合物形成。液晶化合物之種類無特別限定，可使用棒狀液晶化合物、圓盤狀液晶化合物、以及該等之混合物。又，液晶化合物可為高分子液晶化合物、聚合性液晶化合物、或該等之混合物。液晶化合物可舉例如日本特表平11-513019號公報、日本特開2005-289980號公報、日本特開2007-108732號公報、日本特開2010-244038號公報、
日本特開2010-31223號公報、日本特開2010-270108號公報、日本特開2011-6360號公報、日本特開2011-207765號公報、日本特開2016-81035號公報、國際公開第2017/043438號、以及日本特表2011-207765號公報所記載之液晶化合物。
例如，使用聚合性液晶化合物時，將含有聚合性液晶化合物之組成物塗布於配向層32上並形成塗膜，硬化該塗膜，藉此可形成相位差展現層33。相位差展現層33之厚度較佳為0.5μm至10μm，更佳為0.5至5μm。
含有聚合性液晶化合物之組成物除了液晶化合物以外，可含有聚合起始劑、聚合性單體、界面活性劑、溶劑、密著改良劑、塑化劑、配向劑等。含有聚合性液晶化合物之組成物之塗布方法可舉出模塗層法等公知方法。含有聚合性液晶化合物之組成物之硬化方法可舉出照射活性能量線(例如紫外線)等公知方法。
(3)具備延伸膜作為相位差展現層之相位差層
說明相位差展現層為延伸膜的情形。延伸膜通常可藉由延伸基材而獲得。延伸基材之方法例如為準備將基材捲繞於捲筒的捲筒(捲繞體)，並從該捲繞體連續地拉出基材，並將拉出之基材搬送往加熱爐。加熱爐設定溫度為基材之玻璃轉移溫度附近(℃)至[玻璃轉移溫度+100](℃)之範圍，較佳為玻璃轉移溫度附近(℃)至[玻璃轉移溫度+50](℃)之範圍。在該加熱爐中，往基材進行方向或與進行方向正交之方向延伸時，調整搬送方向或張力，傾斜任意角度，並進行單軸或雙軸之熱延伸處理。延伸之倍率通常為1.1至6倍，較佳為1.1至3.5倍。
又，於斜方向延伸之方法只要為連續地使配向軸傾斜往所求角度者，則無特別限定，可採用公知延伸方法。如此延伸方法可舉例如日本特開昭50-
83482號公報或日本特開平2-113920號公報所記載方法。藉由延伸而對膜賦予相位差性時，藉由延伸前之厚度或延伸倍率而決定延伸後之厚度。
前述基材通常為透明基材。透明基材是指具有可透過光，尤其是可透過可見光之透明性的基材，透明性是指相對於波長380至780nm之光線之透過率為80%以上的特性。具體之透明基材可舉出透光性樹脂基材。構成透光性樹脂基材之樹脂可舉出聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴；降莰烯系聚合物等環狀烯烴系樹脂；聚乙烯醇；聚對苯二甲酸乙二酯；聚甲基丙烯酸酯；聚丙烯酸酯；三乙酸纖維素、二乙酸纖維素、乙酸丙酸纖維素等纖維素酯；聚萘二甲酸乙二酯；聚碳酸酯；聚碸；聚醚碸；聚醚酮；聚苯硫醚及聚苯醚。以易獲得性或透明性之觀點來看，較佳為聚對苯二甲酸乙二酯、聚甲基丙烯酸酯、纖維素酯、環狀烯烴系樹脂或聚碳酸酯。
纖維素酯為使纖維素所含羥基之一部分或全部被酯化者，可由市場容易地獲得。又，纖維素酯基材亦可由市場容易地獲得。市售纖維素酯基材可舉例如「fujitac(註冊商標)膜」(fujifilm股份有限公司)；「KC8UX2M」、「KC8UY」及「KC4UY」(KONICA MINOLTA OPTO股份有限公司)等。
聚甲基丙烯酸酯及聚丙烯酸酯(以下將聚甲基丙烯酸酯及聚丙烯酸酯合稱為(甲基)丙烯酸系樹脂。)可由市場容易地獲得。
(甲基)丙烯酸系樹脂可舉例如甲基丙烯酸烷酯或丙烯酸烷酯之均聚物、或甲基丙烯酸烷酯與丙烯酸烷酯的共聚物等。甲基丙烯酸烷酯具體而言可舉出甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯等。又，丙烯酸烷酯具體而言可舉出丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯，丙烯酸丙酯等。該(甲基)丙烯酸系樹脂
中，可使用市售品作為通用的(甲基)丙烯酸系樹脂。(甲基)丙烯酸系樹脂可使用被稱為耐衝擊(甲基)丙烯樹脂者。
為了近一步提高機械性強度，較佳為於(甲基)丙烯酸系樹脂含有橡膠粒子。橡膠粒子較佳為丙烯酸系者。在此，丙烯酸系橡膠粒子是指將以丙烯酸丁酯或丙烯酸2-乙基己酯之類之丙烯酸烷酯為主成分之丙烯酸系單體在多官能單體存在下聚合而得之具有橡膠彈性的粒子。丙烯酸系橡膠粒子可為將具有上述橡膠彈性的粒子以單層形成者、或至少具有一層橡膠彈性層之多層構造體。多層構造之丙烯酸系橡膠粒子可舉出以上述具有橡膠彈性的粒子為核，並以硬質甲基丙烯酸烷酯系聚合物覆蓋其周圍者；以硬質甲基丙烯酸烷酯系聚合物為核，並以上述具有橡膠彈性之丙烯酸系聚合物覆蓋其周圍者；或以橡膠彈性之丙烯酸系聚合物覆蓋硬質之核周圍，進一步以硬質甲基丙烯酸烷酯系聚合物覆蓋其周圍等。以彈性層形成之橡膠粒子其平均直徑通常為50至400nm左右之範圍。
(甲基)丙烯酸系樹脂中的橡膠粒子的含量，在每(甲基)丙烯酸系樹脂100質量份，通常為5至50質量份左右。(甲基)丙烯酸系樹脂及丙烯酸系橡膠粒子係有混合該等狀態的市售品，故可使用該市售品。調配丙烯酸系橡膠粒子之(甲基)丙烯酸系樹脂之市售品例可舉出住友化學股份有限公司所販售之「HT55X」或「TECHNOLLOYD S001」等。「TECHNOLLOYD S001」係以膜的形態販售。
環狀烯烴系樹脂可由市場容易地獲得。市售環狀烯烴系樹脂可舉出「Topas」(註冊商標)[Ticona公司(德)]、「ARTON」(註冊商標)[JSR股份有限公司]、「ZEONOR」(註冊商標)[日本ZEON股份有限公司]、「ZEONEX」(註冊
商標)[日本ZEON股份有限公司]及「apel」(註冊商標)[三井化學股份有限公司]。可將如此環狀烯烴系樹脂例如藉由溶劑澆鑄法、熔融擠出法等公知手段而製膜並形成基材。又，亦可使用市售環狀烯烴系樹脂基材。市售環狀烯烴系樹脂基材可舉出「Esushina」(註冊商標)[積水化學工業股份有限公司]、「SCA40」(註冊商標)[積水化學工業股份有限公司]、「ZEONOR FILM」(註冊商標)[Optes股份有限公司]及「ARTON FILM」(註冊商標)[JSR股份有限公司]。
環狀烯烴系樹脂為環狀烯烴與具有鏈狀烯烴或乙烯基之芳香族化合物的共聚物時，相對於共聚物之全構造單元，源自於環狀烯烴之構造單元的含有比例通常為50莫耳%以下，較佳為15至50莫耳%之範圍。鏈狀烯烴可舉出乙烯及丙烯，具有乙烯基之芳香族化合物可舉出苯乙烯、α-甲基苯乙烯及烷基取代苯乙烯。環狀烯烴系樹脂為環狀烯烴與鏈狀烯烴與具有乙烯基之芳香族化合物的三元共聚物時，源自於鏈狀烯烴之構造單元的含有比例相對於共聚物之全構造單元通常為5至80莫耳%，源自於具有乙烯基之芳香族化合物之構造單元的含有比例相對於共聚物之全構造單元通常為5至80莫耳%。如此三元共聚物在其製造中具有可減少使用高價環狀烯烴使用量之優點。
[光學積層體之製造方法]
將如第3圖(A)所示之具有第1相位差展現層13、第1配向層12及第1基材層11之第1相位差層10、以及如第3圖(B)所示具有第2相位差展現層23、第2配向層22及第1基材層21之第2相位差層20透過第1接著層40而積層，藉此可製造第1實施形態之光學積層體。光學積層體例如為第3圖(C)所示為依序積層第1基材層11、第1配向層12、第1相位差展現層13、第1接著層40、第2相位差展現層23、第2配向層22、第2基材層21之積層體。又，光學積層
體50可為依序積層第1相位差展現層13、第1配向層12、第1基材層11、第1接著層40、第2基材層21、第2配向層22、第2相位差展現層23之積層體。第3圖(A)至(C)中，W表示光學積層體之寬度方向。
接著第1相位差層10與第2相位差層20之方法可舉出於第1相位差層10之貼合面或第2相位差層20之貼合面之任一者或於其兩者塗布活性能量線硬化型接著劑，並於其上積層另一者的貼合面，使構成第1接著層40之活性能量線硬化型接著劑硬化。活性能量線硬化型接著劑之塗布可利用例如刮刀、線棒、模塗布器、逗號塗布器、凹板塗布器等各種塗布方式。
構成第1接著層40之活性能量線硬化型接著劑之硬化方法較佳為如上述以活性能量線硬化之方法。可於第1相位差層10之貼合面或第2相位差層20之貼合面之任一者或其兩者進行電暈處理、電漿處理等，也可形成底漆層。
本發明之光學積層體可為如第3圖(C)所示之積層體，或可為剝離第1基材層11及第2基材層21之至少一層的積層體。又，可為由第3圖(C)所示積層體剝離第1基材層11及第1配向層12的積層體、或由第3圖(C)所示積層體剝離第2基材層21及第2配向層22的積層體。
[偏光板複合體]
本發明之偏光板複合體為線性偏光板與上述光學積層體積層所成者。光學積層體係將第1光學層側配置於線性偏光板側者。偏光板複合體可具有接著線性偏光板與光學積層體之第2接著層。可調整積層於線性偏光板之光學積層體之層構成，而形成具有抗反射性能之光學積層體。具有抗反射性能之光學積層體
例如為圓偏光板。影像顯示裝置中，藉由於影像顯示面板之觀視側設置具有抗反射性能之光學積層體，可抑制外來光的反射所造成的觀視性降低。
可抑制外來光的反射所造成的觀視性降低之線性偏光板與光學積層體所構成之偏光板複合體之層構成具體而言可舉例如：iv)從觀視側起依序積層線性偏光板、1/2波長層(第1光學層)、第1接著層、1/4波長層(第2光學層)所成之層構成之偏光板複合體；v)從觀視側起依序積層線性偏光板、1/4波長層(第1光學層)、第1接著層、正-C板等光學補償層(第2光學層)所成之層構成之偏光板複合體；vi)從觀視側起依序積層線性偏光板、正-C板等光學補償層(第1光學層)、第1接著層、1/4波長層(第2光學層)所成之層構成之偏光板複合體。
又，前述層構成中，具有前述(iv)之層構成之偏光板複合體中，線性偏光板所具有偏光片之穿透軸與1/2波長層之慢軸所成夾角較佳為10至20°，偏光片之穿透軸與1/2波長層之慢軸所成夾角更佳為15°。又，1/2波長層之慢軸與1/4波長層之慢軸所成夾角較佳為55至65°，1/2波長層之慢軸與1/4波長層之慢軸所成夾角更佳為60°。
具有上述(v)及(vi)之層構成之偏光板複合體中，線性偏光板所具有偏光片之穿透軸與1/4波長層之慢軸所成夾角較佳為40°至50°，偏光片之穿透軸與1/4波長層之慢軸所成夾角更佳為45°。
以薄型化之觀點來看，偏光板複合體之厚度通常為30至500μm，較佳為30至200μm，更佳為30至150μm。
又，本發明中的偏光板複合體中，從偏光板之最外側的表面照射檢查光時，在根據所產生反射光亮度所取得沿著最外側的表面上之第1直線之
亮度分佈中，最小亮度相對於最大亮度之比(最小亮度/最大亮度)較佳為75%以上。藉由使該比為75%以上，可抑制干涉不均。亮度分佈之取得方法可根據後述實施例之方法。偏光板複合體中，例如可藉由調整第1接著劑層之組成、厚度等，而調整最小亮度相對於最大亮度之比。
<線性偏光板>
線性偏光板只要為具有可從透過光獲得線性偏光之偏光功能之膜即可。該膜可舉出吸附有吸收異向性色素之延伸膜、或將塗布有吸收異向性色素的膜作為偏光片具有的膜等。吸收異向性色素可舉例如二色性色素。使用作為偏光片之塗布有吸收異向性色素的膜可舉出吸附有吸收異向性色素的延伸膜；或具有液晶層的膜等，該液晶層係塗布含有液晶性二色性色素之組成物、或含有二色性色素及聚合性液晶之組成物而得。
(1)具備延伸膜作為偏光片之線性偏光板
說明具備吸附有吸收異向性色素之延伸膜作為偏光片之線性偏光板。偏光片之吸附有吸收異向性色素之延伸膜通常經過下列步驟而製造：將聚乙烯醇系樹脂膜單軸延伸之步驟；以二色性色素染色聚乙烯醇系樹脂膜，藉此而吸附該二色性色素之步驟；及以硼酸水溶液處理吸附有二色性色素之聚乙烯醇系樹脂膜之步驟；及在硼酸水溶液處理後水洗之步驟。該偏光片可直接使用作為線性偏光板，也可將於該偏光片至少一面貼合透明保護膜者使用作為線性偏光板。
以上述方式對聚乙烯醇系樹脂膜單軸延伸、以二色性色素染色、硼酸處理、水洗及乾燥而得之偏光片之厚度較佳為5至40μm。
貼合於偏光片之單面或兩面之保護膜之材質並無特別限定，可舉例如環狀聚烯烴系樹脂膜、三乙酸纖維素、二乙酸纖維素之類之樹脂所構成之乙
酸纖維素系樹脂膜、聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯之類之樹脂所構成之聚酯系樹脂膜、聚碳酸酯系樹脂膜、(甲基)丙烯酸系樹脂膜、聚丙烯系樹脂膜等該區域中的公知膜。以薄型化之觀點來看，保護膜之厚度為通常為300μm以下，較佳為200μm以下，更佳為50μm以下，又，通常為5μm以上，較佳為20μm以上。又，觀視側之保護膜可具有也可不具有相位差。另一方面，積層於第1相位差層側之保護膜其相位差較佳為10nm以下。
(2)說明具備具有液晶層之膜作為偏光片之線性偏光板。使用作為偏光片之塗布有吸收異向性色素之膜可舉出塗布含有液晶性二色性色素之組成物、或含有二色性色素及液晶化合物之組成物而得的膜等。該膜可單獨使用作為線性偏光板，也可以於其單面或兩面具有保護膜之構成而使用作為線性偏光板。該保護膜可舉出與上述具備延伸膜作為偏光片之線性偏光板相同者。
塗布有吸收異向性色素之膜較佳為較薄，但若過薄則強度會降低，有加工性較差之傾向。該膜之厚度通常為20μm以下，較佳為5μm以下，更佳為0.5μm以上3μm以下。
前述塗布有吸收異向性色素之膜具體而言可具出日本特開2012-33249號公報等所記載之膜。
可將前述吸收異向性色素直接塗布於前述光學積層體之第1相位差層側，藉此獲得光學積層體與線性偏光板積層所成之偏光板複合體。此時可在不具有第2接著層下積層光學積層體與線性偏光板。
(3)第2接著層
第2接著層例如可由黏著劑、水系接著劑、活性能量線硬化型接著劑及該等的組合而構成。其中，第2接著層為活性能量線硬化型接著劑之硬化物層，藉
此，即使在具有本發明之光學積層體之偏光板複合體彎曲時，可抑制彎曲部中產生皺摺，故較佳。本說明書中，「第2接著層」的用語不僅是接著劑所構成之接著層，也包括黏著劑所構成之黏著層。
形成第2接著層之活性能量線硬化型接著劑係適用上述第1接著層的說明。第1接著層及第2接著層為由活性能量線硬化型接著劑形成時，第1接著層與第2接著層可由相同活性能量線硬化型接著劑形成，也可由相異活性能量線硬化型接著劑形成。
[偏光板複合體之用途]
圓偏光板之偏光板複合體可作為配置於影像顯示面板之觀視側之賦予抗反射性能的偏光板複合體，而用於各種影像顯示裝置。影像顯示裝置為具有影像顯示面板之裝置，係具有發光元件或發光裝置作為發光源。影像顯示裝置可舉出液晶顯示裝置、有機電致發光(EL)顯示裝置、無機電致發光(EL)顯示裝置、觸碰面板顯示裝置、電子放射顯示裝置(例如場放射顯示裝置(FED)、表面場放射顯示裝置(SED))、電子紙(電子印墨或使用電泳元件之顯示裝置、電漿顯示裝置、投射型顯示裝置(例如光柵光閥(GLV)顯示裝置、具有數位微鏡裝置(DMD)之顯示裝置)及壓電陶瓷顯示器等。液晶顯示裝置係包括透過型液晶顯示裝置、半透過型液晶顯示裝置、反射型液晶顯示裝置、直視型液晶顯示裝置、以及投影型液晶顯示裝置等的任一者。該等影像顯示裝置可為顯示2維影像之影像顯示裝置、或顯示3維影像之立體影像顯示裝置。尤其圓偏光板之偏光板複合體可有效利用於可具備具有彎曲部之影像顯示面板的有機電致發光(EL)顯示裝置。
根據本發明，藉由使第1接著層之折射率為1.53以上，可使第1光學層與第2光學層的接著性優異，即使沿著具有彎曲部之影像顯示面板表面使偏光板複合體彎曲並配置，也可獲得可皺摺產生被抑制之偏光板複合體。
又，根據本發明，藉由使沿著第1直線之亮度分佈中的最小亮度相對於最大亮度之比為40%以上，可得到干涉不均被抑制之偏光板複合體。
以下舉實施例及比較例進一步具體說明本發明，但本發明係並不限定於該等例。以下，表示使用量及含量的份及%在未特別說明下為質量基準或固形分基準。
[實施例1至16、比較例1至7]
<活性能量線硬化型接著劑之調製>
準備以下所示之陽離子各成分。
(多官能芳香族環氧樹脂(A))
A-1：雙酚A型環氧樹脂(商品名：jER828，三菱化學股份有限公司製，黏度13Pa．s(溫度25℃)，折射率1.57(波長589nm))。
A-2：雙酚F型環氧樹脂(商品名：EXA-830CRP，DIC股份有限公司製，黏度1.3Pa．s(溫度25℃)，折射率1.57(波長589nm))。
A-3：萘型環氧樹脂(商品名：HP-4032D，DIC股份有限公司製，黏度23Pa．s(溫度25℃)，折射率1.60(波長589nm))。
A-4：茀型環氧樹脂(商品名：OGSOLEG-200，大阪氣體化學股份有限公司製，黏度超過30Pa．s(溫度25℃)，折射率1.62(波長589nm))
(脂環式環氧樹脂(B))
B-1：3,4-環氧環己烷羧酸3',4'-環氧環己基甲酯(商品名：CEL2021P，Daicel股份有限公司製，黏度0.25Pa．s(溫度25℃)，折射率1.50(波長589nm))。
(單官能環氧樹脂(C))
C-1：聯苯基型環氧樹脂(商品名：EX-142，Nagasechemtex股份有限公司製，黏度0.23Pa．s(溫度25℃)，折射率1.60(波長589nm))。
C-2：對第三丁基苯基環氧丙基醚(商品名：EX-146，Nagasechemtex股份有限公司製，黏度0.02Pa．s(溫度25℃)，折射率1.51(波長589nm))。
C-3：2-乙基己基環氧丙基醚(商品名：EX-121，Nagasechemtex股份有限公司製，黏度0.004Pa．s(溫度25℃)，折射率1.43(波長589nm))。
(多官能脂肪族環氧樹脂(E))
E-1：DCPDM型環氧樹脂(商品名：EP-4088S，ADEKA股份有限公司製，黏度0.23Pa．s(溫度25℃)，折射率1.50(波長589nm))。
E-2：2,2-雙(羥基甲基)-1-丁醇之1,2-環氧基-4-(2-環氧乙烷基)環己烷加成物(商品名：EHPE3150，Daicel股份有限公司製，黏度超過30Pa．s(溫度25℃)，折射率1.54(波長589nm))。
E-3：新戊二醇二環氧丙基醚(商品名：EX-211L，Nagasechemtex股份有限公司製，黏度0.02Pa．s(溫度25℃)，折射率1.45(波長589nm))。
E-4：1,6-己二醇二環氧丙基醚(商品名：EX-212L，Nagasechemtex股份有限公司製，黏度0.015Pa．s(溫度25℃)，折射率1.46(波長589nm))。
(氧環丁烷樹脂(F))
F-1：3-乙基-3{[(3-乙基氧環丁烷-3-基)甲氧基]甲基}氧環丁烷(商品名：OXT-221，東亞合成股份有限公司製，黏度0.012Pa．s(溫度25℃)，折射率1.45(波長589nm))。
F-2：伸二甲苯基雙氧環丁烷(商品名：OXT-121，東亞合成股份有限公司製，黏度0.17Pa．s(溫度25℃)，折射率1.51(波長589nm))。
F-3：3-乙基-3-(苯氧基甲基)氧環丁烷(商品名：OXT-211，東亞合成股份有限公司製，黏度0.014Pa．s(溫度25℃)，折射率1.51(波長589nm))。
(陽離子聚合起始劑(D))
D-1：陽離子聚合起始劑(商品名：CPI-100P，san-apro股份有限公司製，50質量%溶液)。
(光敏化助劑)
G-1：1,4-二乙氧基萘。
將上述各成分以表1所示調配比例(單位為質量份)混合後脫泡，調製實施例1至16、比較例1至7之活性能量線硬化型接著劑。又，陽離子聚合起始劑(D-1)係作為50%碳酸伸丙酯溶液而調配，表1係表示其固形分量。
<光學積層體及複合偏光板之製造>
(線性偏光板之製造)
將平均聚合度約2,400、皂化度99.9莫耳%以上之厚度75μm之聚乙烯醇膜浸漬於30℃純水後，在30℃浸漬於碘/碘化鉀/水之質量比為0.02/2/100之水溶液並進行碘染色(碘染色步驟)。將經過碘染色步驟之聚乙烯醇膜於56.5℃浸漬於碘化鉀/硼酸/水之質量比為12/5/100之水溶液，並進行硼酸處理(硼酸處理步驟)。
將經過硼酸處理步驟之聚乙烯醇膜以8℃純水洗淨後，以65℃乾燥，而得到於聚乙烯醇膜吸附配向碘之偏光片。此時係在碘染色步驟及硼酸處理步驟中進行延伸。該延伸中的總延伸倍率為5.3倍，所得偏光片之厚度為27μm。
於所得偏光片透過水系接著劑以夾輥貼合兩面經皂化處理之三乙酸纖維素膜(商品名：KC4UYTAC，KONICA MINOLTA製，厚度40μm)。一邊將所得貼合物之張力保持於430N/m，一邊以60℃乾燥2分鐘，而得於兩面具有三乙酸纖維素膜作為保護膜之線性偏光板。又，上述水系接著劑係於水100份添加羧基改質聚乙烯醇(Kuraray POVAL KL318，Kuraray製)3份、水溶性聚醯胺環氧樹脂(Sumirez Resin 650，Sumika Chemtex製，固形分濃度30%之水溶液)1.5份而調製。
(λ/2相位差層之製造)
於透明樹脂基材塗布配向膜塗布液並乾燥，藉此進行λ/2配向處理。接著，於配向面塗布含有盤狀(discotic)液晶性化合物之塗布液，進行加熱及UV照射使液晶化合物的配向固定化，藉此於透明樹脂基材上製作厚度2μm之相位差展現層。
(λ/4相位差層之製造)
於將配向膜進行刷磨處理之λ/4配向用於透明樹脂基材，以棒狀塗布含有聚合性向列型液晶單體之塗布液，在保持折射率異向性之狀態下固化，藉此於透明樹脂基材上獲得厚度1μm之相位差展現層。
(光學積層體之製造)
於上述λ/2相位差層及λ/4相位差層之液晶層側實施電暈處理。以λ/2相位差層之慢軸與λ/4相位差層之慢軸所成夾角成為60°之方式配置，使用表1所示組成之活性能量線硬化型接著劑，以接著劑厚度成為3μm之方式以層合機貼合液晶層彼此，而得積層體。
從所得積層體之λ/4相位差層側使用紫外線照射裝置(fusion UV systems股份有限公司製)以累積光量400mJ/cm2(UV-B)照射紫外線，硬化接著劑並作為第1接著層，而得具有「λ/2相位差層」/第1接著層/「λ/4相位差層」之積層構造之光學積層體。
(偏光板複合體之製造)
剝離所得複合相位差板之λ/2相位差層側之配向膜及透明樹脂基材，使用丙烯酸系黏著劑貼合上述線性偏光板與λ/2相位差層之液晶層。又，丙烯酸系黏著劑所構成之接著層(第2接著層)之膜厚為5μm，偏光片之穿透軸與λ/2相位差層之慢軸所成夾角為15°。
接著剝離λ/4相位差層側之配向膜及透明樹脂基材，而得具有線性偏光板/第2接著層/「λ/2相位差層」/第1接著層/「λ/4相位差層」之積層構造之偏光板複合體(圓偏光板)。
[評估方法]
<黏度測定方法>
將上述所調製各活性能量線硬化型接著劑使用E型黏度計(東機產業股份有限公司製「TVE-25」)測定溫度25℃及10rpm下的黏度。結果示於表1。
<折射率測定方法>
將上述所調製各活性能量線硬化型接著劑使用棒塗布器(第一理化股份有限公司製)塗布於延伸降莰烯系樹脂膜(日本ZEON股份有限公司製「ZEONOR FILM」)單面，以紫外線照射裝置(fusion UV systems股份有限公司製)以累積光量600mJ/cm2(UV-B)照射紫外線，而得硬化物。所得硬化物之膜厚為約30μm。
由所得硬化物剝離降莰烯系樹脂膜，在25℃環境下使用多波長阿貝折射計(ATAGO股份有限公司製「DR-M2」)測定硬化物層之折射率(波長589nm)。結果示於表1。
<彎曲部之皺摺評估方法>
於上述所製作之偏光板複合體之λ/4相位差層側使用丙烯酸系黏著劑(膜厚25μm)貼合具有彎曲部(2R)之鋁板，目視觀察彎曲部有無產生皺摺並根據以下基準評估。結果示於表1。
A：無皺摺產生
C：有皺摺產生
<180°剝離力測定方法>
於上述所製作之偏光板複合體之λ/4相位差層側貼合丙烯酸系黏著劑(膜厚25μm)，裁切為長度200mm×寬度25mm之大小後，將該黏著劑層面貼合於鈉玻璃基板。
接著用刀片切入於λ/2相位差層與λ/4相位差層之間，於長度方向從端部剝離30mm，將該剝離部分以萬能拉伸試驗機(島津製作所股份有限公司製「AG-1」)之夾具部夾住。將該狀態之試驗片於溫度23℃相對濕度55%之環境中根據JIS K 6854-2：1999「接著劑-剝離接著強度試驗方法-第2部：180度剝離」以夾具移動速度300mm/分鐘進行180度剝離試驗，求夾具部的30mm以外之170mm長度中的平均剝離力，並根據以下基準評估。結果示於表1。
A：刀片無法切入λ/2相位差層與λ/4相位差層之間。
B：180°剝離力為0.5N以上。
C：180°剝離力未達0.5N。
[實施例17至19、比較例8]
<活性能量線硬化型接著劑A、B之調製>
從表1所示各成分中準備表2所示成分。將所準備各成分以表2所示調配比例(單位為質量份)混合後脫泡，而調製活性能量線硬化型接著劑A、B。又，陽離子聚合起始劑(D-1)係作為50%碳酸伸丙酯溶液而調配，表2表示其固形分量。
<光學積層體之製造>
(λ/2相位差層之製造)
於透明樹脂基材(三乙酸纖維素)塗布配向膜塗布液並乾燥，藉此進行λ/2配向處理。接著，於配向面塗布含有盤狀液晶性化合物之塗布液，進行加熱及UV照射使液晶化合物的配向固定化，藉此於透明樹脂基材上製作厚度2μm之相位差展現層。
(λ/4相位差層之製造)
於將配向膜進行刷磨處理之λ/4配向用透明樹脂基材(三乙酸纖維素)，以棒狀塗布含有聚合性向列型液晶單體之塗布液，在保持折射率異向性之狀態下固化，藉此於透明樹脂基材上獲得厚度1μm之相位差展現層。
(光學積層體之製造)
於上述λ/2相位差層及λ/4相位差層之液晶層側實施電暈處理。以λ/2相位差層之慢軸與λ/4相位差層之慢軸所成夾角成為60°之方式配置，使用表3所示活性能量線硬化型接著劑，以第1接著層之厚度成為表3所示之方式以層合機貼合液晶層彼此，而得積層體。
從所得積層體之λ/4相位差層側使用紫外線照射裝置(fusion UV systems股份有限公司製)以累積光量400mJ/cm2(UV-B)照射紫外線，硬化接著劑並作為第1接著層，而得具有「λ/2相位差層」/第1接著層/「λ/4相位差層」之積層構造之實施例17至19、比較例8之光學積層體。
<光學積層體之亮度分佈之測定方法>
第4圖係用以說明本說明書所採用光學積層體100之亮度分佈之測定方法(檢查步驟)。在此使用之檢查步驟中，將「λ/2相位差層」側之面作為檢查面100a，並利用具有光源部121及檢測部122之檢查光學系統120檢查光學積層體100。檢查光學系統120係使光源部121及檢測部122位於與光學積層體100相同側之反射光學系統。
檢查步驟係一邊將光學積層體100往第4圖之留白箭頭方向搬送，一邊於檢查面100a從光源部121照射檢查光L1，藉由檢測部122檢測從光源部121照射並在光學積層體100反射的光(以下稱為「反射光L2」)。在光學積層體100為單片狀時，光學積層體100例如可以皮帶輸送帶搬送。在光學積層體
100為長條狀時，光學積層體100例如能夠以搬送輥等搬送。以下將光學積層體100之搬送方向稱為MD方向。搬送速度的例子為1m/min至100m/min。
說明檢查光學系統120所具有光源部121及檢測部122。
光源部121係輸出檢查光L1。檢查光L1之波峰波長例如為500nm至700nm，較佳為550nm至680nm，又更佳為600nm至650nm。光源部121例如為複數LED線狀配置之線狀LED光源。此時，光源部121之延伸存在方向為與光學積層體100之法線n及MD方向正交之方向。
光源部121係配置於檢查面100a側。光源部121與檢查面100a之間之距離d1通常為100mm至2000mm。距離d1例如為光源部121之光射出面與檢查面100a之間之距離。光源部121之光軸與檢查面100a之法線n(光學積層體100之厚度方向)的角度α1[°]通常為1°至60°，較佳為5°至50°，又更佳為10°至45°。
檢測部122接受來自檢查面100a的反射光L2。檢測部122為2維亮度計。檢測部122之例子有區域感應相機(2維感應相機)，區域感應相機之例子有CCD相機。檢測部122可為線狀亮度計(例如線性感應相機)。
以在檢查面100a側中可接受檢查光L1在光學積層體100反射的反射光L2之方式，而配置檢測部122。檢測部122之光軸與檢查面100a之法線n的所夾角度α2之大小與角度α1之大小實質上相同。檢測部122與檢查面100a之間之距離d2之例子為100mm至2000mm。檢測部122與檢查面100a之間之距離d2可為檢測部122之受光面與檢查面100a的距離。
檢測步驟中使用第1偏光過濾器123及第2偏光過濾器124。
第1偏光過濾器123及第2偏光過濾器124可為檢查光學系統120之一部分。
第1偏光過濾器123及第2偏光過濾器124為具有線性偏光特性之過濾器。第1偏光過濾器123係配置於光源部121與光學積層體100之間。第2偏光過濾器124係配置於光學積層體100與檢測部122之間。因此，從光源部121輸出之檢查光L1通過第1偏光過濾器123而作為線性偏光光照射於光學積層體100。在光學積層體100反射之檢查光L1之反射光L2透過第2偏光過濾器124入射於檢測部122。只要第1偏光過濾器123配置於檢查光L1之光路上，且第2偏光過濾器124配置於反射光L2之光路上，則第1偏光過濾器123及第2偏光過濾器124之配置位置無特別限定。但考慮光源部121的發熱影響，第1偏光過濾器123的較佳為與光源部121有些距離。光源部121到第1偏光過濾器123的距離較佳為50mm以上。
利用第5圖及第6圖說明檢查步驟的光學積層體100、第1偏光過濾器123及第2偏光過濾器124之配置關係。配置關係之說明中，「λ/2相位差層」之面內相位差為236nm±4nm或234nm±5nm，「λ/4相位差層」之面內相位差為116nm±4nm。或者，「λ/2相位差層」之面內相位差為240nm±5nm，「λ/4相位差層」之面內相位差為120nm±4nm。
第5圖係說明光學積層體100所具有λ/2相位差層及λ/4相位差層之配置關係。第5圖中，以λ/2相位差層所具有第1慢軸112a與λ/4相位差層所具有第2慢軸113a的關係表示λ/2相位差層與λ/4相位差層之配置關係。
第5圖中之x軸及y軸為設定於檢查面100a的假想軸。x軸及y軸只要互相正交，則可任意設定。作為一例，x軸方向為MD方向。以下說明中，
MD方向為x軸方向。為了規定第1慢軸112a及第2慢軸113a之角度，將y軸作為基準軸RA。規定相對於基準軸RA的角度時，從檢查面100a側觀看光學積層體100時，將相對於基準軸RA為逆時針(逆時針旋轉)作為正角度方向，將順時針(順時針旋轉)作為負角度方向。
如第5圖所示，以第1慢軸112a與基準軸RA之間之角度為θ1，以第2慢軸113a與基準軸RA之間之角度為θ2，以第1慢軸112a與第2慢軸113a之間之角度為θ3時，λ/2相位差層及λ/4相位差層係以角度θ1、角度θ2及角度θ3滿足下述條件(1)至條件(3)之方式配置。
(1)-40°<θ1<-10°
(2)+15°<θ2<+50°
(3)+55°<θ3<+65°
第5圖中以影陰表示θ1及θ2之容許範圍。藉由滿足條件(3)而使光學積層體100作為圓偏光板發揮功能。
第6圖係說明第1偏光過濾器123及第2偏光過濾器124相對於光學積層體100的配置關係之圖。第6圖中，係以第1偏光過濾器123所具有第1吸收軸123a與第2偏光過濾器124所具有第2吸收軸124a的關係表示第1偏光過濾器123與第2偏光過濾器124的配置關係。第6圖中之x軸及y軸係與第5圖中之x軸及y軸相同。換言之，第6圖中，在將第4圖中第1偏光過濾器123移動至與法線n正交之位置(以角度α1成為0°之方式旋轉)之狀態下，第1吸收軸123a係相當於第1偏光過濾器123之第1吸收軸123a投影於檢查面100a的軸。第6圖中之第2吸收軸124a亦同。
如第6圖所示，使第1吸收軸123a與基準軸RA之間之角度為θ4、第2吸收軸124a與基準軸RA之間之角度為θ5、第1吸收軸123a與第2吸收軸124a之間之角度為θ6時，第1偏光過濾器123及第2偏光過濾器124係以角度θ4、角度θ5及角度θ6滿足下述條件(4)至條件(6)之方式配置。
(4)-20°<θ4<+20°
(5)+70°<θ5<+110°
(6)+70°<θ6<+110°
第6圖中以影陰表示θ4及θ5之容許範圍。條件(6)係在相對於第1吸收軸123a及第2吸收軸124a為理想正交之狀態，將第1偏光過濾器123及第2偏光過濾器124成為正交偏光鏡狀態的一點考慮固定容許範圍而表示的式。以下為了便於說明，故將滿足條件(6)之第1偏光過濾器123及第2偏光過濾器124之配置關稱為正交偏光鏡狀態。
條件(1)至條件(6)之角度θ1至角度θ6係相對於共通之基準軸RA而規定，故條件(1)至條件(6)係規定檢測步驟中的λ/2相位差層112、λ/4相位差層113、第1偏光過濾器123及第2偏光過濾器124之配置關係。利用第5圖及第6圖之條件(1)至條件(6)之關係說明中，將y軸作為基準軸RA。但是，基準軸RA可為x軸。換言之，可將光學積層體100旋轉±90°或180°，可使第1偏光過濾器123及第2偏光過濾器124之配置關係反轉。
如第7圖所示，光學積層體100之平視形狀(從厚度方向觀看的形狀)為矩形時，例如藉由調整相對於MD方向(第7圖之留白箭頭方向)的光學積層體100之角度β、角度θ4、角度θ5中的至少一個，藉此以滿足條件(1)至條件(6)之方式調整光學積層體100、第1偏光過濾器123及第2偏光過濾器124之配
置關係即可。光學積層體100之平視形狀為矩形以外之四角形(例如正方形)時亦同。第7圖中，為了表示前述x軸與MD方向的關係，故以虛線表示x軸及y軸。第7圖中，沿著表示x軸之虛線橫切光學積層體100之直線為第1直線，取得沿著第1直線之亮度分佈。角度β係規定相對於光學積層體100之MD方向的方向。因此，第7圖中，角度β為光學積層體100之長邊與MD方向的夾角，但角度β可為光學積層體100之短邊與MD方向的夾角。因此，光學積層體100為長條狀時，以滿足條件(1)至條件(6)之方式調整角度θ4及角度θ5中至少一者即可。
如第4圖所示，光學積層體100可配置於背面板(支持板)125上。背面板125之主面125a(光學積層體100側之面)之正反射率例如為45%以下。背面板125可使用具有上述所例示範圍之正反射率之材料所形成的板，也可具有以下構成：於板構件表面貼合具有上述所例示範圍之正反射率之材料，例如薄片。
<實施例17至19、比較例8之光學積層體之亮度分佈測定>
實施例17至19、比較例8之光學積層體中，λ/2相位差層之面內相位差為236nm，λ/4相位差層之面內相位差為116nm，第5圖所示角度θ3為60°。
對於實施例17至19、比較例8之各光學積層體，以TD方向為長方向之方式切出長方向200mm、寬度方向150mm之矩形樣品，實施使用第4圖說明之檢測步驟。
使用配置複數紅色LED之線性光源作為光源部121。檢查光L1之波峰波長為600nm至650nm。光源部121之光軸與檢查面100a的法線n之間之角度α1為20°。同樣地，檢查面100a的法線n與檢測部122之法線n之間之
角度α2為20°。光源部121與檢查面100a之間之距離為135mm。檢查面100a與檢測部122之間之距離d2為760mm。
檢測步驟中使用第1偏光過濾器123及第2偏光過濾器124。
光學積層體100之樣品、第1偏光過濾器123及第2偏光過濾器124之配置關係係以滿足條件(1)至條件(6)之方式配置樣品、第1偏光過濾器123及第2偏光過濾器124。第7圖所示角度β為44°。一邊將樣品以搬送速度500mm/s搬送，一邊實施檢測步驟。
對於以上述方式配置之樣品，沿著第1直線檢測反射光L2強度並取得亮度分佈。第8圖表示實施例19之光學積層體所得沿著第1直線之亮度分佈。圖中之亮度分佈中，橫軸表示第1直線之位置(單元：mm)，縱軸表示亮度。根據各樣品之亮度分佈計算最小亮度相對於最大亮度之比([最小亮度Imin/最大亮度Imax]×100(%))。表3表示計算結果。
<偏光板複合體之製造>
(線性偏光板之製造)
將平均聚合度約2,400、皂化度99.9莫耳%以上之厚度75μm之聚乙烯醇膜浸漬於30℃純水後，在30℃浸漬於碘/碘化鉀/水之質量比為0.02/2/100之水溶液並進行碘染色(碘染色步驟)。將經過碘染色步驟之聚乙烯醇膜於56.5℃浸漬於碘化鉀/硼酸/水之質量比為12/5/100之水溶液，並進行硼酸處理(硼酸處理步驟)。
在所得偏光片兩面透過水系接著劑以夾輥貼合經皂化處理之三乙酸纖維素膜(商品名：KC4UYTAC，KONICA MINOLTA製，厚度40μm)。一邊將所得貼合物之張力保持於430N/m，一邊以60℃乾燥2分鐘，而得兩面具有三乙酸纖維素膜作為保護膜之線性偏光板。又，上述水系接著劑係於水100份添加羧基改質
聚乙烯醇(Kuraray POVAL KL318，Kuraray製)3份、水溶性聚醯胺環氧樹脂(Sumirez Resin 650，Sumika Chemtex製，固形分濃度30%之水溶液)1.5份而調製。
剝離所得複合相位差板之λ/2相位差層側之配向膜及透明樹脂基材，使用丙烯酸系黏著劑貼合上述線性偏光板與λ/2相位差層之液晶層。又，丙烯酸系黏著劑所構成之接著層(第2接著層)之膜厚為5μm，偏光片之穿透軸與λ/2相位差層之慢軸所成夾角為15°。
接著剝離λ/4相位差層側之配向膜及透明樹脂基材，而得具有線性偏光板/第2接著層/「λ/2相位差層」/第1接著層/「λ/4相位差層」之積層構造之偏光板複合體(圓偏光板)。
(干涉不均評估方法)
將實施例及比較例之偏光板複合體透過丙烯酸系黏著劑(膜厚25μm)貼於鋁反射板，在三波長型螢光燈下目視觀察，並根據以下基準評估。評估結果示於表3。
A：未觀視到干涉不均
B：觀視到干涉不均
<實施例20至22>
於實施例17至19所得光學積層體中，從「λ/2相位差層」剝離透明樹脂基材及λ/2相位差層側之配向膜，而得光學積層體(1)。
將所得光學積層體(1)以與實施例17至19相同方式而求亮度。結果示於表4。
使用丙烯酸系黏著劑貼合所得光學積層體(1)之λ/2相位差層之液晶層與上述線性偏光板。又，丙烯酸系黏著劑所構成之接著層(第2接著層)之膜厚為5μm，偏光片之穿透軸與λ/2相位差層之慢軸所成夾角為15°。接著剝離λ/4相位差層側之配向膜及透明樹脂基材，而得具有線性偏光板/第2接著層/「λ/2相位差層」/第1接著層/「λ/4相位差層」之積層構造之偏光板複合體(圓偏光板)。
使用所得偏光板複合體，以與實施例17至19相同方式測定干涉不均。
結果示於表4。
<實施例23至25>
在實施例17至19所得光學積層體中，從「λ/2相位差層」剝離透明樹脂基材及λ/2相位差層側之配向膜，而得光學積層體。於所得光學積層體之λ/2相位差層透過丙烯酸系黏著劑(膜厚5μm)積層實施例17至19，而得線性偏光板。又，剝離λ/4相位差層側之配向膜及透明樹脂基材，透過丙烯酸系黏著劑層(25μm)積層透明樹脂，而得偏光板複合體。由所得複合偏光板剝離透明樹脂，以與實施例17至19相同方式而求亮度。結果示於表5。
透過所得複合偏光板之丙烯酸系黏著劑貼於鋁反射板，以與實施例17至19相同方式測定干涉不均。結果示於表5。
1:第1相位差層
2:第2相位差層
4:第1接著層
5:光學積層體
Claims (16)
- 一種光學積層體，係依序具備第1光學層、使活性能量線硬化型接著劑硬化所成之第1接著層、以及第2光學層，第1光學層之第1接著層側的表面為由液晶化合物所構成之液晶層，前述活性能量線硬化型接著劑係含有硬化性成分及陽離子聚合起始劑，以前述硬化性成分之總量為100質量份時，前述硬化性成分含有在溫度25℃的黏度為30Pa．s以下之多官能芳香族環氧化合物10至90質量份，可含有脂環式環氧化合物或單官能環氧化合物，前述脂環式環氧化合物之含量未達25質量份，前述單官能環氧化合物之含量未達20質量份，前述第1接著層在波長589nm的折射率為1.53以上。
- 如申請專利範圍第1項所述之光學積層體，其中，從前述第1光學層側之最外側的表面照射檢查光時，在根據所產生之反射光的亮度所取得之沿著前述最外側的表面上之第1直線之亮度分佈中，最小亮度相對於最大亮度之比為40%以上。
- 如申請專利範圍第1或2項所述之光學積層體，其中相對於硬化性成分之總量100質量份，前述多官能芳香族環氧化合物之含量為30至75質量份。
- 如申請專利範圍第1或2項所述之光學積層體，其中前述多官能芳香族環氧化合物為萘型環氧化合物、雙酚A型環氧化合物、雙酚F型環氧化合物、或此等的組合。
- 如申請專利範圍第1或2項所述之光學積層體，其中前述活性能量線硬化型接著劑係含有氧環丁烷化合物。
- 如申請專利範圍第1或2項所述之光學積層體，其中前述活性能量線硬化型接著劑在溫度25℃的黏度為0.18Pa．s以下。
- 如申請專利範圍第1或2項所述之光學積層體，其中前述活性能量線硬化型接著劑不含有溶劑。
- 如申請專利範圍第1或2項所述之光學積層體，其中前述第2光學層的第1接著層側的表面為由液晶化合物所構成之液晶層。
- 如申請專利範圍第1或2項所述之光學積層體，其中前述第1接著層之厚度為5μm以下。
- 如申請專利範圍第1或2項所述之光學積層體，其中前述第1光學層及前述第2光學層為相位差層。
- 如申請專利範圍第1或2項所述之光學積層體，其中前述第1光學層為1/2波長層，前述第2光學層為1/4波長層。
- 一種偏光板複合體，係具備線性偏光板、以及積層於前述線性偏光板之申請專利範圍第1至11項中任一項所述之光學積層體，其中，前述光學積層體係以令前述第1光學層位於前述線性偏光板側之朝向被積層。
- 如申請專利範圍第12項所述之偏光板複合體，其為圓偏光板。
- 一種影像顯示裝置，係具備影像顯示面板、及配置於前述影像顯示面板之觀視側之申請專利範圍第12或13項所述之偏光板複合體。
- 如申請專利範圍第14項所述之影像顯示裝置，其中前述偏光板複合體係以令前述線性偏光板位於觀視側之朝向被配置。
- 如申請專利範圍第14或15項所述之影像顯示裝置，其為有機電致發光顯示裝置。
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