TWI786053B - 附相位差層之偏光板及有機el顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明之附相位差層之偏光板可抑制反射光之不均，改善視認性。附相位差層之偏光板10依序包含偏光元件1、第1相位差層2及第2相位差層3，且偏光元件1與第1相位差層2經由第1接著劑層4而貼合，第1相位差層2與第2相位差層3經由第2接著劑層5而貼合，第1相位差層2及第2相位差層3之厚度為5 μm以下，且第2接著劑層5之平均折射率為1.55以上，並且與第1相位差層2之平均折射率之差、及與第2相位差層3之平均折射率之差未達0.08。

Description

附相位差層之偏光板及有機EL顯示裝置
本發明係關於一種附相位差層之偏光板及有機EL(Electroluminescence，電致發光)顯示裝置。
為了改善顯示裝置之顯示畫面中之由外界光反射或背景之映入引起之視認性不良，已知有於顯示面板之視認側配置有圓偏光板之顯示裝置。專利文獻1及2中，提出有減少黑顯示中之來自斜方向之入射光之反射而實現優異之斜方向之反射色相的偏光板及具備上述偏光板之顯示裝置。 先前技術文獻 專利文獻 專利文獻1：日本專利特開2015-111236號公報 專利文獻2：日本專利特開2015-210459號公報
[發明所欲解決之問題] 然而，使用專利文獻1及2中記載之偏光板之顯示裝置存在反射光產生不均，視認性不充分之問題。 本發明係鑒於上述課題而成者，其目的在於提供一種能夠抑制反射光之不均而改善視認性之附相位差層之偏光板及具備上述附相位差層之偏光板之有機EL顯示裝置。 [解決問題之技術手段] 本發明之附相位差層之偏光板依序具備偏光元件、第1相位差層及第2相位差層，上述偏光元件與上述第1相位差層經由第1接著劑層而貼合，上述第1相位差層與上述第2相位差層經由第2接著劑層而貼合，上述第1相位差層及上述第2相位差層之厚度為5 μm以下，且上述第2接著劑層之平均折射率為1.55以上，並且與上述第1相位差層之平均折射率之差、及與上述第2相位差層之平均折射率之差未達0.08。 一實施形態中，上述第1接著劑層之平均折射率與上述偏光元件之平均折射率之差、及與上述第1相位差層之平均折射率之差為0.06以下。 一實施形態中，上述第1接著劑層及上述第2接著劑層之厚度為6 μm以下。 一實施形態中，上述第1相位差層及上述第2相位差層分別為液晶化合物之配向固化層。 一實施形態中，上述第1相位差層為λ/2板，上述第2相位差層為λ/4板。 一實施形態中，上述偏光元件之厚度為12 μm以下。 一實施形態中，從上述偏光元件至上述第2相位差層之厚度為35 μm以下。 根據本發明之另一態樣，提供一種有機EL顯示裝置。該有機EL顯示裝置具備上述附相位差層之偏光板。 [發明之效果] 根據本發明，可提供一種能夠抑制反射光之不均而改善視認性之附相位差層之偏光板及具備上述附相位差層之偏光板之有機EL顯示裝置。
以下對本發明之實施形態進行說明，但本發明不限定於該等實施形態。 (用語及符號之定義) 本說明書中之用語及符號之定義如下文所述。 (1)折射率(nx、ny、nz) 「nx」係面內之折射率最大之方向(即遲相軸方向)之折射率，「ny」係面內與遲相軸正交之方向(即進相軸方向)之折射率，「nz」係厚度方向之折射率。 (2)面內相位差(Re) 「Re(λ)」係23℃下之以波長λ nm之光測得之面內相位差。於將層(膜)之厚度設為d(nm)時，Re(λ)藉由式：Re＝(nx－ny)×d求出。例如，「Re(550)」係23℃下之以波長550 nm之光測得之面內相位差。 (3)厚度方向之相位差(Rth) 「Rth(λ)」係23℃下之以波長λ nm之光測得之厚度方向之相位差。例如，「Rth(550)」係23℃下之以波長550 nm之光測得之厚度方向之相位差。於將層(膜)之厚度設為d(nm)時，Rth(λ)藉由式：Rth＝(nx－nz)×d求出。 A.附相位差層之偏光板 圖1係本發明之一實施形態之附相位差層之偏光板之剖視圖。附相位差層之偏光板10依序具備偏光元件1、第1相位差層2及第2相位差層3。 第1相位差層2及第2相位差層3之厚度分別為5 μm以下。第1相位差層2代表性而言發揮作為λ/2板之功能，第2相位差層3代表性而言發揮作為λ/4板之功能。第1相位差層2具有遲相軸。一實施形態中，第1相位差層2之遲相軸與偏光元件1之吸收軸所成之角度例如為5°～25°，較佳為10°～20°，更佳為10°～17°，進而較佳為約15°。又，第2相位差層3亦具有遲相軸。第2相位差層3之遲相軸與偏光元件1之吸收軸所成之角度例如為60°～90°，較佳為65°～85°，更佳為70°～78°，進而較佳為約75°。第1相位差層2之遲相軸與第2相位差層3之遲相軸所成之角度例如為50°～70°，較佳為52°～65°，更佳為55°～65°，進而較佳為約60°。 另一實施形態中，第1相位差層2之遲相軸與偏光元件1之吸收軸所成之角度例如為-5°～-25°，較佳為-10°～-20°，更佳為-10°～-17°，進而較佳為約-15°。又，第2相位差層3亦具有遲相軸。第2相位差層3之遲相軸與偏光元件1之吸收軸所成之角度例如為-60°～-90°，較佳為-65°～-85°，更佳為-70°～-78°，進而較佳為約-75°。第1相位差層2之遲相軸與第2相位差層3之遲相軸所成之角度例如為50°～70°，較佳為52°～65°，更佳為55°～65°，進而較佳為約60°。 進而另一實施形態中，第1相位差層2之遲相軸與偏光元件1之吸收軸所成之角度例如為60°～90°，較佳為65°～85°，更佳為70°～78°，進而較佳為約75°。又，第2相位差層3亦具有遲相軸。第2相位差層3之遲相軸與偏光元件1之吸收軸所成之角度例如為5°～25°，較佳為10°～20°，更佳為10°～17°，進而較佳為約15°。第1相位差層2之遲相軸與第2相位差層3之遲相軸所成之角度例如為50°～70°，較佳為52°～65°，更佳為55°～65°，進而較佳為約60°。 進而另一實施形態中，第1相位差層2之遲相軸與偏光元件1之吸收軸所成之角度例如為-60°～-90°，較佳為-65°～-85°，更佳為-70°～-78°，進而較佳為約-75°。又，第2相位差層3亦具有遲相軸。第2相位差層3之遲相軸與偏光元件1之吸收軸所成之角度例如為-5°～-25°，較佳為-10°～ -20°，更佳為-10°～-17°，進而較佳為約-15°。第1相位差層2之遲相軸與第2相位差層3之遲相軸所成之角度例如為50°～70°，較佳為52°～65°，更佳為55°～65°，進而較佳為約60°。 偏光元件1與第1相位差層2係經由第1接著劑層4而貼合，第1相位差層2與第2相位差層3係經由第2接著劑層5而貼合。第1接著劑層4及第2接著劑層5之厚度代表性而言分別為6 μm以下。第1接著劑層4之平均折射率與鄰接於第1接著劑層4之層(偏光元件1及第1相位差層2)之平均折射率之差代表性而言未達0.12。第1接著劑層4之平均折射率與上述鄰接層之平均折射率之差較佳為未達0.10，更佳為未達0.08，進而較佳為0.06以下。第2接著劑層5之平均折射率為1.55以上，並且與鄰接於第2接著劑層5之層(第1相位差層2及第2相位差層3)之平均折射率之差未達0.08。第2接著劑層5之平均折射率與上述鄰接層之平均折射率之差較佳為0.06以下，更佳為0.01以下。藉由將上述附相位差層之偏光板10用於顯示裝置，能夠抑制顯示裝置之反射光之不均而改善視認性。再者，附相位差層之偏光板10亦可於偏光元件1之與第1相位差層2相反一側具有保護膜(未圖示)。 附相位差層之偏光板10之厚度(偏光元件1/第1接著劑層4/第1相位差層2/第2接著劑層5/第2相位差層3之合計厚度)較佳為4 μm～35 μm，更佳為6 μm～20 μm。 B.偏光元件 作為偏光元件1，可採用任意適合之偏光元件。例如，形成偏光元件之樹脂膜可為單層之樹脂膜，亦可為二層以上之積層體。 作為由單層之樹脂膜構成之偏光元件之具體例，可列舉：對聚乙烯醇(PVA)系膜、部分縮甲醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜實施利用碘或二色性染料等二色性物質之染色處理及延伸處理而成者、以及PVA之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等多烯系配向膜等。就光學特性優異而言，較佳為使用將PVA系膜以碘染色並進行單軸延伸而獲得之偏光元件。 上述利用碘之染色例如係藉由將PVA系膜浸漬於碘水溶液中而進行。上述單軸延伸之延伸倍率較佳為3～7倍。延伸可於染色處理後進行，亦可一面染色一面進行。又，亦可於延伸後進行染色。視需要對PVA系膜實施膨潤處理、交聯處理、洗淨處理、乾燥處理等。例如，藉由於染色前將PVA系膜浸漬於水中進行水洗，不僅可洗淨PVA系膜表面之污垢或抗黏連劑，而且可使PVA系膜膨潤而防止染色不均等。 作為使用積層體獲得之偏光元件之具體例，可列舉使用樹脂基材與積層於該樹脂基材之PVA系樹脂層(PVA系樹脂膜)之積層體、或樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體獲得之偏光元件。使用樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體獲得之偏光元件可藉由例如以下方式製作：將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材，使之乾燥而於樹脂基材上形成PVA系樹脂層，獲得樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體；對該積層體進行延伸及染色，將PVA系樹脂層作為偏光元件。本實施形態中，延伸代表性而言包括將積層體浸漬於硼酸水溶液中進行延伸。進而，延伸視需要可進而包括於硼酸水溶液中延伸之前將積層體於高溫(例如95℃以上)下進行空中延伸。所得之樹脂基材/偏光元件之積層體可直接使用(即，可將樹脂基材作為偏光元件之保護層)，亦可從樹脂基材/偏光元件之積層體剝離樹脂基材，於該剝離面上積層對應目的之任意適合之保護層而使用。此種偏光元件之製造方法之詳細情況例如記載於日本專利特開2012-73580號公報中。該公報之全部記載係作為參考被援用於本說明書。 偏光元件1之厚度較佳為12 μm以下，更佳為1 μm～10 μm，進而較佳為3 μm～8 μm，尤佳為3 μm～5 μm。若偏光元件1之厚度為上述範圍，則可將附相位差層之偏光板10之整體薄型化。藉由使用樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體，可製作如上所述之薄型之偏光元件1。 偏光元件1較佳為於波長380 nm～780 nm之任意波長下顯示吸收二色性。偏光元件之單體透過率較佳為42.0%～46.0%，更佳為44.5%～46.0%。偏光元件之偏光度較佳為97.0%以上，更佳為99.0%以上，進而較佳為99.9%以上。 偏光元件1之平均折射率較佳為1.48～1.65，代表性而言為1.55。若偏光元件1之平均折射率為上述範圍內之值，則容易調整與第1接著劑層4之平均折射率之差。 C.第1相位差層及第2相位差層 如上所述，本發明之一實施形態中，第1相位差層2可發揮作為λ/2板之功能，第2相位差層3可發揮作為λ/4板之功能。藉由使第1相位差層2發揮作為λ/2板之功能，能夠針對與發揮作為λ/4板之功能之第2相位差層3積層後之波長分散特性(尤其是相位差偏離λ/4之波長範圍)適當調節相位差，可發揮較廣波長範圍之圓偏光功能。 此種第1相位差層2之面內相位差Re(550)為180 nm～320 nm，較佳為200 nm～300 nm，進而較佳為200 nm～280 nm。第1相位差層2代表性而言具有nx＞ny＝nz或nz＝nx＞ny之折射率橢圓體。又，此種第2相位差層3之面內相位差Re(550)為80 nm～180 nm，較佳為90 nm～170 nm，進而較佳為100 nm～150 nm。第2相位差層3代表性而言具有nx＞ny＝nz或nz＝nx＞ny之折射率橢圓體。 第1相位差層2之平均折射率較佳為1.50～1.70，代表性而言為1.59或1.60。若第1相位差層2之平均折射率為上述範圍內之值，則能夠將與第1接著劑層4及/或第2接著劑層5之平均折射率之差設為未達0.12(進而0.06以下)。第1相位差層2之厚度較佳為1 μm～5 μm，更佳為1 μm～3 μm，尤佳為2 μm。 第2相位差層3之平均折射率較佳為1.50～1.70，代表性而言為1.59或1.60。若第2相位差層3之平均折射率為上述範圍內之值，則能夠將與第2接著劑層5之平均折射率之差設為未達0.08。第2相位差層3之厚度較佳為1 μm～5 μm，更佳為1 μm～3 μm，尤佳為1 μm。 一實施形態中，第1相位差層2及/或第2相位差層3可為液晶化合物之配向固化層。藉由使用液晶化合物，可較非液晶材料明顯提高所得之第1相位差層2及/或第2相位差層3之nx與ny之差，故而可明顯降低用以獲得所需之面內相位差之第1相位差層及/或第2相位差層之厚度。其結果，可實現附相位差層之偏光板10(最終為有機EL顯示裝置)之進一步之薄型化。本說明書中，所謂「配向固化層」係指液晶化合物於層內向特定之方向配向，其配向狀態被固定之層。 一實施形態中，代表性而言，棒狀之液晶化合物以排列於第1相位差層2(第2相位差層3)之遲相軸方向之狀態進行配向(水平配向)。作為液晶化合物，例如可列舉液晶相為向列相之液晶化合物(向列型液晶)。作為上述液晶化合物，例如可使用液晶聚合物或液晶單體。液晶化合物之液晶性之表現機制可為向液性或向熱性之任一者。液晶聚合物及液晶單體可分別單獨使用，亦可加以組合。作為上述液晶單體，可採用任意適合之液晶單體。例如，可使用日本專利特表2002-533742(WO00/37585)、EP358208(US5211877)、EP66137(US4388453)、WO93/22397、EP0261712、DE19504224、DE4408171、及GB2280445等中記載之聚合性液晶原基化合物等。作為此種聚合性液晶原基化合物之具體例，例如可列舉BASF公司之商品名LC242、Merck公司之商品名E7、Wacker-Chem公司之商品名LC-Sillicon-CC3767。作為液晶單體，例如較佳為向列性液晶單體。液晶化合物之具體例及配向固化層之形成方法之詳細情況記載於日本專利特開2006-163343號公報中。該公報之記載係作為參考被援用於本說明書。 另一實施形態中，代表性而言，圓盤狀之液晶化合物以垂直配向、混合配向(hybrid alignment)及傾斜配向之任一狀態進行配向。作為液晶化合物，例如可列舉圓盤型液晶性化合物。圓盤型液晶性化合物代表性而言以圓盤型液晶性化合物之圓盤面相對於第1相位差層(第2相位差層)之膜面實質上垂直之方式進行配向。所謂圓盤型液晶性化合物實質上垂直，係指膜面與圓盤型液晶性化合物之圓盤面所成之角度之平均值為70°～90°之範圍內。更佳為80°～90°，進而較佳為85°～90°。作為圓盤型液晶性化合物，例如可較佳地使用日本專利特開2007-108732號或日本專利特開2010-244038號中記載者，但並不限定於該等。 D.第1接著劑層 如上所述，第1接著劑層4之平均折射率與鄰接於第1接著劑層4之層之平均折射率之差未達0.12。於將相位差層之厚度較薄(例如5 μm以下)之薄型之附相位差層之偏光板用於顯示裝置之情形時，會於構成附相位差層之偏光板之各層之間，因折射率差而以干涉斑之形式視認到各層之厚度不均或凹凸等。針對於此，藉由使第1接著劑層4之平均折射率與鄰接於第1接著劑層4之層之平均折射率之差未達0.12，能夠抑制上述干涉斑，結果能夠改善視認性。 第1接著劑層4之平均折射率較佳為1.52～1.64，更佳為1.55～1.64。第1接著劑層4之厚度較佳為10 nm～6 μm、進而較佳為200 nm～2 μm。 可構成第1接著劑層4之接著劑較佳為具有透明性及光學各向同性。作為接著劑，代表性而言，可使用活性能量線硬化型接著劑。作為活性能量線硬化型接著劑，可視需要選擇自由基硬化型、陽離子硬化型、陰離子硬化型等，亦可適當組合而使用，例如使用自由基硬化型與陽離子硬化型之混合物(hybrid)等。作為自由基硬化型接著劑，例如可列舉含有具有(甲基)丙烯酸酯基或(甲基)丙烯醯胺基等自由基聚合性基之化合物(例如單體及/或低聚物)作為硬化成分之接著劑。再者，所謂「(甲基)丙烯酸」係指丙烯酸及/或甲基丙烯酸。 作為活性能量線硬化型接著劑，藉由調整含有雙鍵之單體及/或低聚物或交聯劑等之種類、組合、及調配比率，可獲得具有所需特性(例如硬化後之折射率)之活性能量線硬化型接著劑。作為能夠調整硬化後之折射率之成分，例如可列舉具有芳香環之化合物、具有鹵素原子之化合物、及具有硫原子之化合物、氧化鈦、氧化鋯等無機粒子。作為具有芳香環之化合物，可列舉具有萘骨架、苯氧基苄基骨架、茀骨架、及9-乙烯基咔唑骨架之化合物。又，可含有作為稀釋劑成分之含有(甲基)丙烯醯基之化合物、作為塑化劑之丙烯酸系低聚物、及作為光聚合起始劑之自由基系光聚合起始劑。 E.第2接著劑層 第2接著劑層5可由任意適合之接著劑構成。如上所述，第2接著劑層5之平均折射率與鄰接於第2接著劑層5之層之平均折射率之差未達0.08。藉此，能夠抑制上述干涉斑，結果能夠改善視認性。 第2接著劑層5之平均折射率為1.55以上，較佳為1.55～1.64，更佳為1.55～1.63。第2接著劑層5之厚度較佳為10 nm～6 μm、進而較佳為200 nm～2 μm。可構成第2接著劑層5之接著劑與D項中關於第1接著劑層4所說明之接著劑相同。 F.保護膜 保護膜係以可用作偏光元件1之保護膜之任意適合之膜形成。作為成為該膜之主成分之材料之具體例，可列舉：三乙醯纖維素(TAC)等纖維素系樹脂、或聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚降𦯉烯系、聚烯烴系、(甲基)丙烯酸系、乙酸酯系等之透明樹脂等。又，亦可列舉：(甲基)丙烯酸系、胺基甲酸酯系、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等之熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。此外亦可列舉例如矽氧烷系聚合物等玻璃質系聚合物。又，亦可使用日本專利特開2001-343529號公報(WO01/37007)中記載之聚合物膜。作為該膜之材料，例如可使用含有側鏈具有經取代或未經取代之醯亞胺基之熱塑性樹脂與側鏈具有經取代或未經取代之苯基及腈基之熱塑性樹脂的樹脂組合物，例如可列舉具有包含異丁烯及N-甲基馬來醯亞胺之交替共聚物與丙烯腈-苯乙烯共聚物的樹脂組合物。該聚合物膜例如可為上述樹脂組合物之擠出成形物。 作為上述(甲基)丙烯酸系樹脂，Tg(玻璃轉移溫度)較佳為115℃以上、更佳為120℃以上、進而較佳為125℃以上、尤佳為130℃以上。其原因在於，可使耐久性變得優異。上述(甲基)丙烯酸系樹脂之Tg之上限值並無特別限定，就成形性等觀點而言，較佳為170℃以下。 作為上述(甲基)丙烯酸系樹脂，可於不損及本發明之效果之範圍內採用任意適合之(甲基)丙烯酸系樹脂。例如可列舉：聚甲基丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物(MS樹脂等)、具有脂環族烴基之聚合物(例如，甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸環己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降𦯉酯共聚物等)。較佳為列舉聚(甲基)丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸C1-6烷基酯。更佳為列舉以甲基丙烯酸甲酯為主成分(50～100重量%、較佳為70～100重量%)之甲基丙烯酸甲酯系樹脂。 作為上述(甲基)丙烯酸系樹脂之具體例，例如可列舉：Mitsubishi Rayon公司製造之Acrypet VH或Acrypet VRL20A、日本專利特開2004-70296號公報中記載之於分子內具有環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂、藉由分子內交聯或分子內環化反應而獲得之高Tg(甲基)丙烯酸系樹脂。 作為上述(甲基)丙烯酸系樹脂，就具有較高之耐熱性、較高之透明性、較高之機械強度之方面而言，尤佳為具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂。作為上述具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂，可列舉日本專利特開2000-230016號公報、日本專利特開2001-151814號公報、日本專利特開2002-120326號公報、日本專利特開2002-254544號公報、日本專利特開2005-146084號公報等中記載之具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂。 上述具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之質量平均分子量(有時亦稱為重量平均分子量)較佳為1000～2000000、更佳為5000～1000000、進而較佳為10000～500000、尤佳為50000～500000。 上述具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之Tg(玻璃轉移溫度)較佳為115℃以上、更佳為125℃以上、進而較佳為130℃以上、尤佳為135℃、最佳為140℃以上。其原因在於，可使耐久性變得優異。上述具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之Tg之上限值並無特別限定，就成形性等觀點而言，較佳為170℃以下。再者，本說明書中，所謂「(甲基)丙烯酸系」係指丙烯酸系及/或甲基丙烯酸系。 本發明之附相位差層之偏光板10代表性而言配置於圖像顯示裝置之視認側，保護膜代表性而言配置於其視認側。因此，對於保護膜，視需要可實施硬塗處理、抗反射處理、抗黏連處理、防眩處理等表面處理。 關於保護膜之厚度，可於獲得本發明之效果之範圍內採用任意適合之厚度。保護膜之厚度例如為10 μm～100 μm，較佳為12 μm～90 μm。再者，於施有表面處理之情形時，保護膜之厚度為包括表面處理層之厚度在內之厚度。 G.顯示裝置 上述A項至F項中記載之附相位差層之偏光板可應用於液晶顯示裝置及有機EL顯示裝置等顯示裝置。因此，本發明包含使用上述附相位差層之偏光板之顯示裝置。本發明之實施形態之顯示裝置具備顯示元件、及配置於顯示元件之視認側的於上述A項至F項中記載之附相位差層之偏光板。附相位差層之偏光板係以第2相位差層3成為顯示元件側之方式配置。 實施例 以下藉由實施例對本發明進行具體說明，但本發明並不受該等實施例限定。再者，各特性之測定方法如以下所述。 1.偏光元件之折射率測定 使用稜鏡耦合器SPA-4000(Sairon Technology製)，測定偏光元件之面內之折射率中與吸收軸垂直之方向之折射率及吸收軸方向之折射率、以及厚度方向之折射率，將該等平均值作為偏光元件之平均折射率。測定溫度設為23℃、測定波長設為532 nm。 2.相位差層之折射率測定 使用稜鏡耦合器SPA-4000(Sairon Technology製)，測定相位差膜之面內之折射率中與遲相軸垂直之方向之折射率及遲相軸方向之折射率、以及厚度方向之折射率，將該等平均值作為相位差層之平均折射率。測定溫度設為23℃、測定波長設為532 nm。 3.接著劑層之折射率測定 使用稜鏡耦合器SPA-4000(Sairon Technology製)，分別測定構成接著劑層之接著劑之硬化物的面內之折射率、厚度方向之折射率，將該等平均值作為接著劑層之平均折射率。測定溫度設為23℃、測定波長設為532 nm。 4.相位差層之相位差測定 使用Axoscan(Axometrics公司製造)進行測定。測定溫度設為23℃、測定波長設為550 nm。 (偏光元件之製作) 作為樹脂基材，使用非晶質聚對苯二甲酸乙二酯(A-PET)膜(三菱樹脂公司製造，商品名「Novaclear」，厚度：100 μm)。於60℃下向樹脂基材之單面塗佈聚乙烯醇(PVA)樹脂(日本合成化學工業公司製造，商品名「Gohsenol(註冊商標)NH-26」)之水溶液並加以乾燥，形成厚度7 μm之PVA系樹脂層。將以此方式獲得之積層體於液溫30℃之不溶化浴(相對於水100重量份調配硼酸4重量份而獲得之硼酸水溶液)中浸漬30秒(不溶化步驟)。繼而，於液溫30℃之染色浴(相對於水100重量份，調配碘0.2重量份且調配碘化鉀2重量份而獲得之碘水溶液)中浸漬60秒(染色步驟)。繼而，於液溫30℃之交聯浴(相對於水100重量份，調配碘化鉀3重量份且調配硼酸3重量份而獲得之硼酸水溶液)中浸漬30秒(交聯步驟)。其後，將積層體一面浸漬於液溫60℃之硼酸水溶液(相對於水100重量份，調配硼酸4重量份且調配碘化鉀5重量份而獲得之水溶液)中一面於不同周速之輥間向縱向(長度方向)進行單軸延伸(步驟B)。向硼酸水溶液之浸漬時間為120秒，一直延伸至積層體即將破斷為止。其後，將積層體浸漬於洗淨浴(相對於水100重量份調配碘化鉀3重量份而獲得之水溶液)中之後，以60℃之溫風進行乾燥(洗淨、乾燥步驟)。以此方式獲得於樹脂基材上形成有厚度5 μm之偏光元件之積層體。繼而，從偏光元件剝離樹脂基材，於偏光元件之一面貼合日本專利特開2012-3269號公報中記載之丙烯酸系透明保護膜作為保護膜，藉此獲得附保護膜之偏光元件。對上述附保護膜之偏光元件實施電暈處理而使用。 (構成相位差層之相位差膜之製作) (相位差膜A) 向配向膜經過摩擦處理之λ/2配向用透明樹脂基材塗佈包含棒狀且聚合性之向列性液晶單體之塗佈液，於保持折射率各向異性之狀態下進行固化，藉此於透明樹脂基材上製作厚度2 μm之相位差膜A。相位差膜A之面內之折射率中進相軸方向之折射率為1.55、遲相軸方向之折射率為1.68、厚度方向之折射率為1.55、該等平均折射率為1.59。相位差膜A之面內相位差Re(550)為260 nm。對所得之相位差膜實施電暈處理而使用。 (相位差膜B) 向配向膜經過摩擦處理之λ/4配向用透明樹脂基材塗佈包含棒狀且聚合性之向列性液晶單體之塗佈液，於保持折射率各向異性之狀態下進行固化，藉此於透明樹脂基材上製作厚度1 μm之相位差膜B。相位差膜B之面內之折射率中進相軸方向之折射率為1.55、遲相軸方向之折射率為1.68、厚度方向之折射率為1.55、該等平均折射率為1.59。相位差膜B之面內相位差Re(550)為120 nm。對所得之相位差膜實施電暈處理而使用。 (相位差膜C) 對包含醯化纖維素之透明樹脂基材進行鹼皂化處理，繼而於經鹼皂化處理之醯化纖維素之表面塗佈配向膜塗佈液並加以乾燥，藉此進行λ/2配向處理。繼而，於透明支持體之配向處理面塗佈包含圓盤型液晶性化合物之塗佈液，進行加熱及UV照射使液晶化合物之配向固定化，藉此於透明樹脂基材上製作厚度2 μm之相位差膜C。相位差膜C之面內之折射率中進相軸方向之折射率為1.53、遲相軸方向之折射率為1.64、厚度方向之折射率為1.64、該等平均折射率為1.60。相位差膜C之面內相位差Re(550)為246 nm。對所得之相位差膜實施電暈處理而使用。 (相位差膜D) 對包含醯化纖維素之透明樹脂基材進行鹼皂化處理，繼而於經鹼皂化處理之醯化纖維素之表面塗佈配向膜塗佈液並加以乾燥，藉此進行λ/4配向處理。繼而，於透明支持體之配向處理面塗佈包含圓盤型液晶性化合物之塗佈液，進行加熱及UV照射使液晶化合物之配向固定化，藉此於透明樹脂基材上製作厚度1 μm之相位差膜D。相位差膜D之面內之折射率中進相軸方向之折射率為1.53、遲相軸方向之折射率為1.64、厚度方向之折射率為1.64、該等平均折射率為1.60。相位差膜D之面內相位差Re(550)為123 nm。對所得之相位差膜實施電暈處理而使用。 (構成接著劑層之接著劑之製作) (接著劑A) 將PLACCEL FA1DDM(Diacel公司製造)50份、丙烯醯基𠰌啉(ACMO：註冊商標)(興人公司製造)40份、ARFON UP-1190(東亞合成公司製造)10份、光聚合起始劑(製品名「KAYACURE DETX-S」，日本化藥公司製造)3份、及IRGACURE 907(BASF Japan公司製造)3份加以混合，而調整接著劑A。對所得之接著劑A進行光硬化(300 mJ/cm2 )而獲得之硬化物的面內之折射率為1.52、厚度方向之折射率為1.52、該等平均折射率為1.52。 (接著劑B) 將LIGHT ACRYLATE POB-A(共榮社化學製)40份、PLACCEL FA1DDM(Diacel公司製造)10份、丙烯醯基𠰌啉(ACMO：註冊商標)(興人公司製造)40份、ARFON UP-1190(東亞合成公司製造)10份、光聚合起始劑(製品名「KAYACURE DETX-S」，日本化藥公司製造)3份、及IRGACURE 907(BASF Japan公司製造)3份加以混合，而調整接著劑B。對所得之接著劑B進行光硬化(300 mJ/cm2 )而獲得之硬化物的面內之折射率為1.55、厚度方向之折射率為1.55、該等平均折射率為1.55。 (接著劑C) 將OGSOL EA-F5710(Osaka Gas Chemicals公司製造)70份、PLACCEL FA1DDM(Diacel公司製造)10份、丙烯醯基𠰌啉(ACMO：註冊商標)(興人公司製造)18份、ARFON UP-1190(東亞合成公司製造)5份、光聚合起始劑(製品名「DAROCUR 1173」，BASF Japan公司製造)3份加以混合，而調整接著劑C。對所得之接著劑C進行光硬化(300 mJ/cm2 )而獲得之硬化物的面內之折射率為1.60、厚度方向之折射率為1.60、該等平均折射率為1.60。 (接著劑D) 將9-乙烯基咔唑(東京化成製)35份、OGSOL EA-F5710(Osaka Gas Chemicals公司製造)40份、丙烯醯基𠰌啉(ACMO：註冊商標)20份、ARFON UP-1190(東亞合成公司製造)5份、光聚合起始劑(製品名「DAROCUR 1173」，BASF Japan公司製造)3份加以混合，而調整接著劑D。對所得之接著劑D進行光硬化(300 mJ/cm2 )而獲得之硬化物的面內之折射率為1.64、厚度方向之折射率為1.64、該等平均折射率為1.64。 ＜實施例1＞ 於偏光元件塗敷構成第1接著劑層之接著劑A，將構成第1相位差層之相位差膜A以偏光元件之吸收軸與相位差膜A之遲相軸所成之角度成為15°之方式從透明樹脂基材轉印至接著劑A塗敷面，進行UV照射(300 mJ/cm2 )使接著劑A硬化。繼而，於相位差膜A之與偏光元件相反一側之面塗敷構成第2接著劑層之接著劑B，將構成第2相位差層之相位差膜D以偏光元件之吸收軸與相位差膜D之遲相軸所成之角度成為75°且相位差膜A之遲相軸與相位差膜D之遲相軸所成之角度成為60°之方式從透明樹脂基材轉印至接著劑B塗敷面，進行UV照射(300 mJ/cm2 )使接著劑B硬化，藉此獲得附相位差層之偏光板。經硬化之接著劑A(第1接著劑層)之厚度為1 μm，經硬化之接著劑B(第2接著劑層)之厚度為1 μm。 ＜實施例2＞ 使用接著劑B作為構成第1接著劑層之接著劑，除此以外，以與實施例1同樣之方式製作附相位差層之偏光板。 ＜實施例3＞ 使用接著劑C作為構成第2接著劑層之接著劑，除此以外，以與實施例2同樣之方式製作附相位差層之偏光板。 ＜實施例4＞ 使用接著劑C作為構成第1接著劑層之接著劑，使用接著劑D作為構成第2接著劑層之接著劑，除此以外，以與實施例1同樣之方式製作附相位差層之偏光板。 ＜實施例5＞ 於偏光元件塗敷構成第1接著劑層之接著劑B，將構成第1相位差層之相位差膜C以偏光元件之吸收軸與相位差膜C之遲相軸所成之角度成為75°之方式從透明樹脂基材轉印至接著劑B塗敷面，進行UV照射(300 mJ/cm2 )使接著劑B硬化。繼而，於相位差膜C之與偏光元件相反一側之面塗敷構成第2接著劑層之接著劑B，將構成第2相位差層之相位差膜B以偏光元件之吸收軸與相位差膜B之遲相軸所成之角度成為15°且相位差膜C之遲相軸與相位差膜B之遲相軸所成之角度成為60°之方式從透明樹脂基材轉印至接著劑B塗敷面，進行UV照射(300 mJ/cm2 )使接著劑B硬化，藉此獲得附相位差層之偏光板。經硬化之接著劑B(第1接著劑層)之厚度為1 μm，經硬化之接著劑B(第2接著劑層)之厚度為1 μm。 ＜實施例6＞ 使用相位差膜C作為構成第1相位差層之相位差膜，使用相位差膜D作為構成第2相位差層之相位差膜，除此以外，以與實施例2同樣之方式製作附相位差層之偏光板。 ＜實施例7＞ 使用相位差膜B作為構成第2相位差層之相位差膜，除此以外，以與實施例2同樣之方式製作附相位差層之偏光板。 ＜比較例1＞ 使用接著劑A作為構成第2接著劑層之接著劑，除此以外，以與實施例1同樣之方式製作附相位差層之偏光板。 ＜比較例2＞ 使用接著劑B作為構成第1接著劑層之接著劑，除此以外，以與比較例1同樣之方式製作附相位差層之偏光板。 (評價) 將各實施例及比較例之附相位差層之偏光板經由丙烯酸系黏著劑貼合於反射板，於三波長管下目視觀察外觀。將按以下基準進行評價所得之結果示於表1。 未視認到不均・・・◎ 幾乎未視認到不均(於實際使用上無問題)・・・○ 視認到不均・・・× [表1] [產業上之可利用性] 本發明之附相位差層之偏光板例如適宜用於圖像顯示裝置。具體而言，適宜用作液晶電視、液晶顯示器、行動電話、數位相機、攝錄影機、攜帶型遊戲機、汽車導航、影印機、印表機、傳真機、時鐘、微波爐等之液晶面板、及有機EL器件之抗反射板等。
1‧‧‧偏光元件2‧‧‧第1相位差層3‧‧‧第2相位差層4‧‧‧第1接著劑層5‧‧‧第2接著劑層10‧‧‧附相位差層之偏光板
圖1係本發明之一實施形態之附相位差層之偏光板之剖視圖。
1‧‧‧偏光元件
2‧‧‧第1相位差層
3‧‧‧第2相位差層
4‧‧‧第1接著劑層
5‧‧‧第2接著劑層
10‧‧‧附相位差層之偏光板

Claims (8)

  1. 一種附相位差層之偏光板，其依序包含偏光元件、第1相位差層及第2相位差層，上述偏光元件與上述第1相位差層經由第1接著劑層而貼合，上述第1相位差層與上述第2相位差層經由第2接著劑層而貼合，上述第1相位差層及上述第2相位差層之厚度為5μm以下，上述第2接著劑層之平均折射率為1.55以上，並且與上述第1相位差層之平均折射率之差、及與上述第2相位差層之平均折射率之差未達0.08，且上述第1相位差層及上述第2相位差層分別為液晶化合物之配向固化層。
  2. 如請求項1之附相位差層之偏光板，其中上述第1接著劑層之平均折射率與上述偏光元件之平均折射率之差、及與上述第1相位差層之平均折射率之差為0.06以下。
  3. 如請求項1之附相位差層之偏光板，其中上述第1接著劑層及上述第2接著劑層之厚度為6μm以下。
  4. 如請求項2之附相位差層之偏光板，其中上述第1接著劑層及上述第2接著劑層之厚度為6μm以下。
  5. 如請求項1至4中任一項之附相位差層之偏光板，其中上述第1相位差層為λ/2板，上述第2相位差層為λ/4板。
  6. 如請求項1至4中任一項之附相位差層之偏光板，其中上述偏光元件之厚度為12μm以下。
  7. 如請求項1至4中任一項之附相位差層之偏光板，其中從上述偏光元件至上述第2相位差層之厚度為35μm以下。
  8. 一種有機EL顯示裝置，其包含如請求項1至7中任一項之附相位差層之偏光板。
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