TWI770189B - 質量分析裝置以及質量分析方法 - Google Patents

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Abstract

提供質量分析裝置和質量分析方法，能夠在視覺上清晰地識別質量分析困難的副成分有無存在。一種質量分析裝置(110)，其具有顯示部(220)，並且對含有測定物質的試樣進行分析，其中，質量分析裝置(110)還具有：存儲部(215)，其存儲針對測定物質的質譜的區域進行計算而求取的理論峰(T)；一致度計算部(217)，其根據區域內的試樣的質譜(N)與理論峰各自所具有的多個峰來計算表示一致的程度的一致度；一致度顯示控制部(219a)，其使顯示部顯示一致度；以及重疊顯示控制部(219b)，其使顯示部以質荷比一致的方式將試樣的質譜和理論峰重疊顯示。

Description

質量分析裝置以及質量分析方法
本發明有關質量分析裝置和質量分析方法。
關於一種多溴二苯醚類的十溴二苯醚(以下DBDE)，溴含有率高，作為阻燃材料使用，但近年來成為限制對象物質。因此，需要分析在樹脂等的試樣中是否含有DBDE。
由於DBDE是揮發性成分，因此能夠使用現有公知的產生氣體分析(EGA；Evolved Gas Analysis：逸出氣分析)進行分析。關於該產生氣體分析，是以氣相色譜儀或質譜分析等各種分析裝置對加熱試樣而產生的氣體成分進行分析者。
而且，公開有如下的技術：對作為溴系阻燃劑的四溴雙酚A(TBBPA)進行質量分析，以兩個峰強度比進行判定(專利文獻1)。
專利文獻1：日本特許第5502648號公報
然而，來自試樣中的其他物質(在試樣中含有的其他成分)等的信號作為雜訊而與作為測定物質的DBDE的質譜區域重疊，存在DBDE的質量分析困難這樣的問題。
因此，本發明是為了解決上述的課題而完成的，其目的在於，提供能夠在視覺上清晰地識別測定物質有無存在的質量分析裝置和質量分析方法。
為了達成上述的目的，本發明的質量分析裝置具有顯示部，並且對含有測定物質的試樣進行分析，該質量分析裝置的特徵在於，前述質量分析裝置還具有：存儲部，其存儲針對前述測定物質的質譜的區域進行計算而求取的理論峰；一致度計算部，其根據前述區域內的前述試樣的質譜和前述理論峰各自所具有的多個峰來計算表示一致的程度的一致度；一致度顯示控制部，其使前述顯示部顯示前述一致度；以及重疊顯示控制部，其使前述顯示部以質荷比一致的方式將前述試樣的前述質譜和前述理論峰重疊顯示。
根據該質量分析裝置，計算並顯示試樣的質譜與測定物質的理論峰的一致度。並且，將試樣的質譜和測定物質的理論峰重疊顯示。藉此，即使在質量分析困難的狀況下，也能夠在視覺上清晰地識別測定物質有無存在。
而且，藉由使用理論峰來表示與試樣的質譜的一致度，即使例如質譜自身的波形包含雜訊而不清晰，也只要 以與理論峰的一致度進行判定即可，因此能夠可靠地判定測定物質有無存在。
在本發明的質量分析裝置中，也可以是，前述一致度顯示控制部對前述一致度和規定的第一閾值進行比較，使前述顯示部顯示前述測定物質有無存在。
根據該質量分析裝置，將一致度與第一閾值進行比較，在系統側顯示前述測定物質有無存在，因此即使作業人員不判斷也能夠識別測定物質有無存在。尤其是，在第一閾值按照每個測定物質而不同的情況下，判斷各個一致度的值和有無存在需要經驗，但能夠在系統上容易地進行該判斷。
在本發明的質量分析裝置中，也可以是，前述一致度計算部還對與前述理論峰相同的質荷比下的前述試樣的質譜的強度進行合計，計算其強度合計值，前述一致度顯示控制部使前述顯示部顯示前述強度合計值。
根據該質量分析裝置，除了一致度之外也將與理論峰相同的質荷比下的試樣的質譜的強度合計值顯示於顯示部，因此能夠提供使得更可靠地判斷測定物質有無存在的材料。
在本發明的質量分析裝置中，也可以是，前述一致度顯示控制部將前述強度合計值和規定的第二閾值進行比較，使前述顯示部顯示前述測定物質有無存在的可靠度。
根據該質量分析裝置，將強度合計值和第二閾值進行比較，系統側顯示前述測定物質有無存在的可靠度，因此 能夠更可靠地判斷測定物質有無存在。
在本發明的質量分析裝置中，也可以是，前述一致度計算部根據前述理論峰的規定寬度範圍內的前述試樣的前述質譜的強度的平均值來計算前述一致度。
質譜有根據時間而發生變動的情況，在該情況下與理論峰的一致度的值變得不穩定。因此，在理論峰的質荷比的方向上求取規定寬度範圍內的質譜的強度的平均值，根據該平均值來計算一致度，藉此能夠更可靠地判斷測定物質有無存在。
在本發明的質量分析裝置中，也可以是，前述顯示控制部以使前述理論峰中的最大峰的強度和前述試樣的前述質譜中的與前述最大峰相同的質荷比下的強度一致的方式將前述理論峰和前述試樣的前述質譜重疊顯示於前述顯示部。
根據該質量分析裝置，容易將試樣的質譜和理論峰進行比較、觀察。
在本發明的質量分析裝置中，也可以是，前述一致度計算部使用相關係數來計算前述一致度。
本發明的質量分析方法對含有測定物質的試樣進行分析，該質量分析方法的特徵在於，前述質量分析方法還具有以下的步驟：存儲步驟，存儲針對前述測定物質的質譜的區域進行計算而求取的理論峰；一致度計算步驟，根據前述區域內的前述試樣的質譜和前述理論峰各自所具有的多個峰來計算表示一致的程度的一致度；一致度顯示控制 步驟，使顯示部顯示前述一致度；以及重疊顯示控制步驟，使前述顯示部以質荷比一致的方式將前述試樣的前述質譜和前述理論峰重疊顯示。
根據本發明，能夠在視覺上清晰地識別測定物質有無存在。
110:質量分析計(質量分析裝置)
217:一致度計算部
215:存儲部
219a:一致度顯示控制部
219b:重疊顯示控制部
220:顯示部
T:理論峰
N:區域內的試樣的質譜
S:試樣
W:理論峰的規定寬度
Pmax:理論峰中的最大峰的強度
Nmax:試樣的質譜中的與最大峰相同的質荷比下的強度
圖1是顯示包含本發明的實施方式的質量分析裝置在內的產生氣體分析裝置的結構的立體圖。
圖2是顯示氣體產生部的結構的立體圖。
圖3是顯示氣體產生部的結構的縱剖視圖。
圖4是顯示氣體產生部的結構的橫剖視圖。
圖5是圖4的局部放大圖。
圖6是顯示產生氣體分析裝置進行的氣體成分的分析動作的框圖。
圖7是顯示含有測定物質和DBDE的試樣的氣體質譜的圖。
圖8是顯示DBDE的質譜的理論峰的圖。
圖9是顯示計算質譜與理論峰的一致度的方法的示意圖。
圖10是顯示根據理論峰的規定寬度範圍內的試樣的質譜的強度的平均值來計算一致度的方法的示意圖。
圖11是顯示將試樣的質譜和理論峰以質荷比一致的方 式重疊顯示的形態的圖。
以下，參照附圖對本發明的實施方式進行說明。圖1是顯示包含本發明的實施方式的質量分析計(質量分析裝置)110在內的產生氣體分析裝置200的結構的立體圖，圖2是顯示氣體產生部100的結構的立體圖，圖3是顯示氣體產生部100的結構的沿著軸心O的縱剖視圖，圖4是顯示氣體產生部100的結構的沿著軸心O的橫剖視圖，圖5是圖4的局部放大圖。圖6是顯示產生氣體分析裝置進行的氣體成分的分析動作的框圖。
產生氣體分析裝置200具有作為箱體的主體部202、安裝在主體部202的正面上的箱型的氣體產生部安裝部204以及對整體進行控制的電腦(控制部)210。電腦210具有進行資料處理的CPU、存儲電腦程式和資料的存儲部215、液晶監視器等顯示部220、以及鍵盤等輸入部222等。
在氣體產生部安裝部204的內部收納有氣體產生部100，圓筒狀的加熱爐10、試樣架20、冷卻部30、使氣體分支的分流器40、離子源50、以及惰性氣體流路19f以元件的形式成為一個整體從而得到該氣體產生部100。並且，在主體部202的內部收納有對加熱試樣而產生的氣體成分進行分析的質量分析計110。
另外，如圖1所示，從氣體產生部安裝部204的上表面朝向前表面設置有開口204h，當使試樣架20移動到加熱爐 10外側的排出位置(後述)時，該試樣架20位於開口204h處，因此能夠從開口204h將試樣從試樣架20取出或放到試樣架20上。並且，在氣體產生部安裝部204的前表面上設置有縫204s，藉由使從縫204s露出到外部的開閉把手22H左右移動，能夠使試樣架20向加熱爐10的內外移動以設置於上述的排出位置，從而取出或放入試樣。
另外，如果利用例如以電腦210控制的步進馬達等使試樣架20在移動軌道204L(後述)上移動，則能夠將使試樣架20向加熱爐10的內外移動的功能自動化。
接下來，參照圖2~圖6對氣體產生部100的各部分的結構進行說明。
首先，加熱爐10以使軸心O為水準的方式安裝在氣體產生部安裝部204的安裝板204a上，具有呈以軸心O為中心而開口的大致圓筒狀的加熱室12、加熱塊14以及保溫套16。
在加熱室12的外周配置有加熱塊14，在加熱塊14的外周配置有保溫套16。加熱塊14由鋁構成，藉由對沿著軸心O向加熱爐10的外部延伸的一對加熱電極14a(參照圖4)通電而被加熱。
另外，安裝板204a沿與軸心O垂直的方向延伸，分流器40和離子化部50安裝於加熱爐10。而且，離子化部50被氣體產生部安裝部204的上下延伸的支柱204b支承。
在加熱爐10中的與開口側相反的一側(圖3的右側)連接有分流器40。並且，在加熱爐10的下側連接有載氣保護 管18，在載氣保護管18的內部收納有與加熱室12的下表面連通並且向加熱室12內導入載氣C的載氣流路18f。並且，在載氣流路18f上配置有對載氣C的流量F1進行調整的控制閥18v。
而且，後面描述詳細內容，在加熱室12中的與開口側相反的一側(圖3的右側)的端面上連通有混合氣體流路41，載氣C與在加熱爐10(加熱室12)生成的氣體成分G的混合氣體M在混合氣體流路41中流動。
另一方面，如圖3所示，在離子化部50的下側連接有惰性氣體保護管19，在惰性氣體保護管19的內部收納有向離子化部50導入惰性氣體T的惰性氣體流路19f。並且，在惰性氣體流路19f上配置有對惰性氣體T的流量F4進行調整的控制閥19v。
試樣架20具有：載台22，其在安裝於氣體產生部安裝部204的內部上表面上的移動軌道204L上移動；托架24c，其安裝在載台22上而上下延伸；絕熱材料24b、26，它們安裝在托架24c的前表面上(圖3的左側)；試樣保持部24a，其從托架24c沿軸心O方向向加熱室12側延伸；加熱器27，其埋設於試樣保持部24a的正下方；以及試樣皿28，其收納試樣，在加熱器27的正上方配置於試樣保持部24a的上表面。
這裡，移動軌道204L沿軸心O方向(圖3的左右方向)延伸，試樣架20連同載台22沿軸心O方向進退。並且，開閉把手22H沿與軸心O方向垂直的方向延伸並且安裝在載台 22上。
另外，托架24c呈上部為半圓形的條狀，絕熱材料24b呈大致圓筒狀，安裝在托架24c上部的前表面上，加熱器27的電極27a貫通絕熱材料24b而被引出到外部。絕熱材料26呈大致矩形狀，在比絕熱材料24b更下方的位置安裝在托架24c的前表面上。並且，在托架24c的下方不安裝絕熱材料26而使托架24c的前表面露出，形成了接觸面24f。
托架24c的直徑比加熱室12稍大，氣密地封堵加熱室12，試樣保持部24a收納於加熱室12的內部。
而且，載置於加熱室12的內部的試樣皿28內的試樣在加熱爐10內被加熱，生成氣體成分G。
冷卻部30以與試樣架20的托架24c對置的方式配置於加熱爐10的外側(圖3的加熱爐10的左側)。冷卻部30具有：呈大致矩形的冷卻塊32，其具有凹部32r；冷卻片34，其與冷卻塊32的下表面連接；以及風冷風扇36，其與冷卻片34的下表面連接，使空氣與冷卻片34接觸。
而且，當試樣架20在移動軌道204L上沿軸心O方向向圖3的左側移動而被排出到加熱爐10之外時，托架24c的接觸面24f收納於冷卻塊32的凹部32r內並且與凹部32r接觸，托架24c的熱經由冷卻塊32而被帶走，從而對試樣架20(尤其是試樣保持部24a)進行冷卻。
如圖3、圖4所示，分流器40具有：上述的混合氣體流路41，其與加熱室12連通；分支路42，其與混合氣體流路41連通並且向外部開放；背壓調整機構42a，其與分支路 42的排出側連接，對從分支路42排出的混合氣體M的排出壓力進行調整；箱體部43，混合氣體流路41的終端側在該箱體部43的內部開口；以及保溫部44，其包圍箱體部43。
而且，在本例中，在分支路42與背壓調整機構42a之間配置有去除混合氣體中的雜質等的篩檢程式42b、流量計42c。並且，也可以不設置背壓調整機構42a等對背壓進行調整的閥等，使分支路42的端部維持裸管的狀態。
如圖4所示，在從上表面觀察時，混合氣體流路41呈如下的曲柄狀：與加熱室12連通而沿軸心O方向延伸，然後與軸心O方向垂直地彎曲，再向軸心O方向彎曲，到達終端部41e。並且，在混合氣體流路41中的與軸心O方向垂直地延伸的部位的中央附近擴徑而形成了分支室41M。分支室41M延伸至箱體部43的上表面，嵌合有直徑比分支室41M稍小的分支路42。
混合氣體流路41也可以是與加熱室12連通而沿軸心O方向延伸至終端部41e的直線狀，根據加熱室12和離子化部50的位置關係，也可以是各種曲線或與軸心O具有角度的線狀等。
如圖3、圖4所示，離子化部50具有箱體部53、包圍箱體部53的保溫部54、放電針56以及保持放電針56的支撐件55。箱體部53呈板狀，其板面沿著軸心O方向，並且在中央貫通有小孔53c。而且，混合氣體流路41的終端部41e穿過箱體部53的內部而面對小孔53c的側壁。另一方面，放電針56與軸心O方向垂直地延伸，面對小孔53c。
而且，如圖4、圖5所示，惰性氣體流路19f沿上下貫通箱體部53，惰性氣體流路19f的前端面對箱體部53的小孔53c的底面，形成了與混合氣體流路41的終端部41e合流的合流部45。
而且，來自惰性氣體流路19f的惰性氣體T與從終端部41e導入到小孔53c附近的合流部45的混合氣體M混合而成為綜合氣體M+T，向放電針56側流動，綜合氣體M+T中的氣體成分G被放電針56離子化。
離子化部50是公知的裝置，在本實施方式中，採用了大氣壓化學離子化(APCI)型。APCI不容易產生氣體成分G的碎片(fragment)，從而不會產生碎片峰，因此即使沒有在色譜儀等中分離也能夠檢測測定物件，因此較佳。
被離子化部50離子化後的氣體成分G與載氣C和惰性氣體T一起導入到質量分析計110中進行分析。
另外，離子化部50收納於保溫部54的內部。
圖6是顯示產生氣體分析裝置200進行的氣體成分的分析動作的框圖。
試樣S在加熱爐10的加熱室12內被加熱，生成氣體成分G。加熱爐10的加熱狀態(升溫速度、最高達到溫度等)是藉由電腦210的加熱控制部212控制。
氣體成分G與導入到加熱室12中的載氣C混合而成為混合氣體M，被導入到分流器40中，混合氣體M的一部分從分支路42向外部排出。
混合氣體M的剩餘部分和來自惰性氣體流路19f的惰性 氣體T作為綜合氣體M+T被導入到離子化部50中，氣體成分G被離子化。
電腦210的檢測信號判定部214從質量分析計110的檢測器118(後述)接收檢測信號。
流量控制部216判定從檢測信號判定部214接收到的檢測信號的峰強度是否在閾值的範圍外。然後，在範圍外的情況下，流量控制部216藉由對控制閥19v的開度進行控制，從而對在分流器40內從分支路42向外部排出的混合氣體M的流量進行控制，進而對從混合氣體流路41向離子化部50導入的混合氣體M的流量進行調整，將質量分析計110的檢測精度保持為最佳。
質量分析計110具有：第一細孔111，導入被離子化部50離子化後的氣體成分G；第二細孔112、離子引導件114和四極濾質器116，氣體成分G在第一細孔111之後依次流入該第二細孔112、離子引導件114和四極濾質器116中；以及檢測器118，其檢測從四極濾質器116排出的氣體成分G。
四極濾質器116藉由改變所施加的高頻電壓而能夠進行質量掃描，生成四極電場，在該電場內使離子進行振動運動，藉此檢測離子。四極濾質器116形成僅使處於特定的質量範圍內的氣體成分G透過的質量分離器，因此能夠以檢測器118進行氣體成分G的鑑別和定量。
並且，在本例中，藉由在比分支路42更下游側的位置使惰性氣體T流入到混合氣體流路41中，形成抑制向質量 分析計110導入的混合氣體M的流量的流路阻力，從而能夠對從分支路42排出的混合氣體M的流量進行調整。具體而言，惰性氣體T的流量越大，從分支路42排出的混合氣體M的流量也越大。
藉此，在氣體成分大量產生而使氣體濃度變得過高時，增大從分支路向外部排出的混合氣體的流量，抑制了超出檢測單元的檢測範圍、檢測信號超出標度而使測定變得不準確。
接下來，參照圖7~圖11，對本發明的特徵部分進行說明。另外，將DBDE設為“測定物質”。
圖7是含有DBDE的試樣(例如ABS樹脂)的質譜。DBDE的質譜顯現在質荷比(m/z)為大約950~970的區域R中。另外，與DBDE不同的物質的質譜M顯現在區域R之外的位置。
圖8顯示包含區域R在內的DBDE的質譜的理論峰T。在本例中，像以下那樣計算理論峰T。首先，DBDE包含十個溴，各溴以大致相同的比例包含兩個同位素79Br和81Br。在溴為一個的情況下，由於是兩個同位素79Br和81Br，因此質譜由強度比1：1的兩個峰構成。在溴為兩個的情況下，具有兩個都是79Br，79Br和81Br各一個，兩個都是81Br這四種情況，其中，在79Br和81Br各一個的情況下具有兩種情況，因此質譜由強度比為1：2：1的三個峰構成。這樣，在按照二項分佈來求取峰的相對強度的理論值(理論峰T)時，如圖8所示，DBDE由十一個峰構成。
另外，在圖8中，表面上只能看到九個峰，但實際上有十一個峰，圖8的橫軸的兩端的峰的強度只有最大峰的0.4%左右，幾乎看不到。但是，即使兩端的峰的強度幾乎為零，也是重要的資訊，在以下的一致度的計算中也使用了該資訊。
接下來，將區域R內的質譜N和理論峰T各自所具有的多個峰進行比較，計算表示該多個峰的一致的程度的一致度。具體而言，如圖9所示，將同一質荷比C下的質譜N的強度P1與理論峰T的強度P2進行比較，關於P1與P2有多相似，針對構成理論峰T的十一個峰，分別求取P1與P2的相關係數來計算一致度。
即，判定與構成理論峰T的十一個峰分別相同的質荷比下的質譜N的強度與理論峰T有多相似。藉此，即使質譜N自身的波形包含雜訊而不清晰，也只要判定與理論峰T的各個峰所示的特徵部分的一致度即可，因此能夠可靠地計算一致度。
另外，如圖9的虛線所示，質譜N有根據時間而發生變動的情況，在該情況下與理論峰T的一致度的值變得不穩定。
因此，如圖10所示，較佳為，在理論峰T的各個峰的質荷比的方向上求取規定寬度W的範圍內的質譜N的強度的平均值，根據該平均值來計算一致度。在該情況下，只要在規定寬度W的範圍內，按照不同的質荷比，取得P11~P14的多個(在圖10中為四個)質譜N的強度，並求取其平 均值Pav與P2的相關係數即可。
這樣，如圖11所示，將一致度(在本例中為96.8%)顯示於顯示部220(例如規定的框220a)中。而且，在顯示部220的例如規定的區域220d內以質荷比一致的方式將試樣的質譜N和理論峰T重疊顯示。
此時，如果使理論峰T中的最大峰的強度Pmax和試樣的質譜N中的與最大峰相同的質荷比C1下的強度Nmax一致而進行重疊顯示，容易將試樣的質譜N和理論峰T進行比較、觀察。
像以上那樣，在顯示部220上，顯示試樣的質譜N與DBDE的理論峰T的一致度，並且將質譜N和理論峰T重疊顯示，因此即使在質量分析困難的狀況下也能夠在視覺上清晰地識別DBDE有無存在。
而且，藉由使用理論峰來計算與試樣的質譜的一致度，藉此，即使質譜自身的波形包含雜訊而不清晰，也只要計算與理論峰的一致度即可，因此也能夠可靠地判定DBDE有無存在。
而且，也可以如圖11所示，將一致度與規定的第一閾值進行比較，在顯示部220(例如規定的框220b)上顯示DBDE有無存在。
這樣，由於在系統側顯示DBDE有無存在，因此即使作業人員不判斷也能夠容易地識別DBDE有無存在。尤其是，在第一閾值按照每個測定物質而不同的情況下，判斷各個一致度的值和有無存在雖需要經驗，但能夠容易地在 系統上進行該判斷。
另外，在本例中，關於DBDE有無存在的顯示，在一致度為第一閾值以上的情況下，判定為DBDE存在，顯示為“×”。這是因為，將DBDE作為限制物質被包含於試樣中並不佳，顯示方法不限於此。
而且，也可以是，對與理論峰T相同的質荷比下的試樣的質譜N的強度進行合計，計算其強度合計值並顯示於顯示部220(例如規定的框220e)。
此時，也可以是，設定第二閾值，將強度合計值與第二閾值進行比較，將DBDE有無存在的可靠度顯示於顯示部220(例如規定的框220c)。
藉此，除了一致度之外還顯示與理論峰T相同的質荷比下的試樣的質譜N的強度合計值，因此能夠提供使作業人員更可靠地判斷理論峰與試樣的質譜有無一致的材料。
並且，藉由在系統側顯示DBDE有無存在的可靠度，因此能夠更可靠地判斷DBDE有無存在。另外，在本例中，在強度合計值為第二閾值以上的情況下，將可靠度顯示為較高，作為測定準確。
另外，關於求取質譜N的強度的方法，雖然可以是與理論峰T完全相同的質荷比下的強度，但較佳為，像上述的圖9、圖10所示那樣，採用理論峰T的規定寬度W的範圍內的質譜N的強度的平均值，並且對這些平均值進行合計。
接下來，參照圖6對上述的處理進行說明。
理論峰T、第一閾值、第二閾值預先存儲於硬碟等存儲部215中。首先，電腦210的一致度計算部217從檢測信號判定部214取得圖7的區域R內的試樣的質譜N，計算與理論峰T的一致度。而且，一致度計算部217根據需要來計算上述的質譜N的強度合計值。
而且，電腦210的一致度顯示控制部219a使顯示部220(例如各個框220a、220e)顯示所計算出的一致度(和強度合計值)。
並且，重疊顯示控制部219b使顯示部220以質荷比一致的方式將質譜N和理論峰T重疊顯示。
更佳為，一致度顯示控制部219a從存儲部215讀出第一閾值，與計算出的一致度進行比較，使顯示部220(例如框220b)顯示DBDE有無存在。
更佳為，一致度顯示控制部219a從存儲部215讀出第二閾值，與計算出的強度合計值進行比較，使顯示部220(例如框220c)顯示DBDE有無存在的可靠度。
本發明不限於上述實施方式，勿需贅言，也涵蓋包含於本發明的思想和範圍中的各種變形和等同物。
測定物質和特定的副成分不限於上述實施方式。
理論峰的計算方法、一致度的計算方法也不限於上述實施方式。
向質量分析裝置導入試樣的方法不限於在上述的加熱爐中加熱分解試樣以產生氣體成分的方法，例如也可以是導入包含氣體成分在內的溶劑、並在使溶劑揮發同時使氣 體成分產生的溶劑提取型的GC/MS或LC/MS等。
並且，在計算一致度時使用相關係數較佳，尤其使用皮爾森線性相關係數較佳。

Claims (8)

  1. 一種質量分析裝置，其具有顯示部，並且對含有測定物質的試樣進行分析，該質量分析裝置的特徵在於，前述質量分析裝置還具有：存儲部，其存儲針對前述測定物質的質譜的區域進行計算而求取的理論峰；一致度計算部，其根據前述區域內的前述試樣的質譜和前述理論峰各自所具有的多個峰來計算表示一致的程度的一致度；一致度顯示控制部，其使前述顯示部顯示前述一致度；以及重疊顯示控制部，其使前述顯示部以質荷比一致的方式將前述試樣的前述質譜和前述理論峰重疊顯示。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的質量分析裝置，其中，前述一致度顯示控制部將前述一致度和規定的第一閾值進行比較，使前述顯示部顯示前述測定物質有無存在。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述的質量分析裝置，其中，前述一致度計算部還對與前述理論峰相同的質荷比下的前述試樣的質譜的強度進行合計，計算其強度合計值，前述一致度顯示控制部使前述顯示部顯示前述強度合 計值。
  4. 如申請專利範圍第2項所述的質量分析裝置，其中，前述一致度顯示控制部將前述強度合計值和規定的第二閾值進行比較，使前述顯示部顯示前述測定物質有無存在的可靠度。
  5. 如申請專利範圍第1或2項所述的質量分析裝置，其中，前述一致度計算部根據前述理論峰的規定寬度範圍內的前述試樣的前述質譜的強度的平均值來計算前述一致度。
  6. 如申請專利範圍第1或2項所述的質量分析裝置，其中，前述重疊顯示控制部以使前述理論峰中的最大峰的強度和前述試樣的前述質譜中的與前述最大峰相同的質荷比下的強度一致的方式將前述理論峰和前述試樣的前述質譜重疊顯示於前述顯示部。
  7. 如申請專利範圍第1或2項所述的質量分析裝置，其中，前述一致度計算部使用相關係數來計算前述一致度。
  8. 一種質量分析方法，對含有測定物質的試樣進行分析，該質量分析方法的特徵在於，前述質量分析方法還具有以下的步驟：存儲步驟，存儲針對前述測定物質的質譜的區域進行計算而求取的理論峰；一致度計算步驟，根據前述區域內的前述試樣的質譜和前述理論峰各自所具有的多個峰來計算表示一致的程度的一致度；一致度顯示控制步驟，使顯示部顯示前述一致度；以及重疊顯示控制步驟，使前述顯示部以質荷比一致的方式將前述試樣的前述質譜和前述理論峰重疊顯示。
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