TWI765983B - 用於將結構化層沉積在基板上之裝置以及該裝置之調整方法 - Google Patents

用於將結構化層沉積在基板上之裝置以及該裝置之調整方法 Download PDF

Info

Publication number
TWI765983B
TWI765983B TW107108455A TW107108455A TWI765983B TW I765983 B TWI765983 B TW I765983B TW 107108455 A TW107108455 A TW 107108455A TW 107108455 A TW107108455 A TW 107108455A TW I765983 B TWI765983 B TW I765983B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
mask
adjustment
substrate
vertical
support frame
Prior art date
Application number
TW107108455A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201841404A (zh
Inventor
亞普 歐德斯
馬庫斯 賈科柏
威爾赫馬斯 詹森
福迪米爾斯 里昂惕夫
Original Assignee
德商愛思強歐洲公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 德商愛思強歐洲公司 filed Critical 德商愛思強歐洲公司
Publication of TW201841404A publication Critical patent/TW201841404A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI765983B publication Critical patent/TWI765983B/zh

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C16/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/12—Organic material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/50—Substrate holders
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/458—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for supporting substrates in the reaction chamber
    • C23C16/4582—Rigid and flat substrates, e.g. plates or discs
    • C23C16/4583—Rigid and flat substrates, e.g. plates or discs the substrate being supported substantially horizontally

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Springs (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

本發明係有關於一種用於將透過安放遮罩(4)而結構化之層沉積在基板(13)上之裝置，具有用於調整遮罩支架(6)相對支承框架(7)之位置的調整裝置(100、200)。調整裝置(100、200)具有調整桿(101、201)，該調整桿以可圍繞樞軸承(106、206)之旋轉軸(107、207)旋轉之方式支承在支承框架(7)上且具有第一臂部(102、202)及第二臂部(103、203)，其中，第二臂部(103、203)卡設在遮罩支架(6)上且在第一臂部(102、202)上卡設有可由致動器(121、221)豎向移動之控制桿(108、208)。在垂直調整裝置(100)中，第二臂部(103)及第一臂部(102)沿水平方向延伸，其中，第二臂部(103)卡設在與遮罩支架(6)連接之挺桿(110)上。在水平調整裝置(200)中，第二臂部(203)沿垂直方向且第一臂部(202)沿水平方向延伸，其中，第二臂部(203)以鉸接於其上之導桿(210)與遮罩支架(6)連接。

Description

用於將結構化層沉積在基板上之裝置以及該裝置之調整方法
本發明係有關於一種用於將透過安放遮罩而結構化之層沉積在基板上之裝置，具有用於調整遮罩支架相對支承框架之位置的調整裝置。
此外，本發明係有關一種調整此種裝置之方法。
利用本發明之裝置將OLED沉積在例如由玻璃構成的平面狀基板上。採用此種裝置時，用源裝置以例如WO 2012/175128 A1中所描述之方式將粉末狀的有機起始材料轉化成蒸汽。用載氣將經蒸發的起始材料輸往氣體入口構件，此點在DE 10 2014 116 991 A1中有所描述。氣體入口構件為淋盤。其具有大體在整個待塗佈基板上延伸之平面延伸度。在氣體入口構件之排氣平面上佈置有數個排氣開口，蒸汽穿過此等排氣開口進入製程室。為防止蒸汽在氣體入口構件之區域內冷凝，氣體入口構件被加熱。在此氣體入口構件下方設有製程室，其底部由基板架構成。基板佈置在基板架上。可將基板架以DE 10 2010 000 447 A1中所描述之方式沿垂直方向自裝載位置送入製程位置。在製程位置中，框架所保持的遮罩佈置在基板上。此遮罩係指在塗佈製程期間接觸性地抵靠在基板之指向氣體入口構件的寬面區上的蔭罩。藉此，將結構化層沉積。沉積製程實質上指蒸汽冷凝在基板之表面的未被遮罩覆蓋的位 置上。為此，例如透過穿過冷卻劑來主動將本發明之基板架冷卻。透過自遮罩或自基板表面穿過基板進入基板架之熱流來將基板表面及遮罩冷卻。在進行基板更換時，將遮罩與基板之接觸分離，從而導致散熱減少以及遮罩重新變熱。由此，基於熱膨脹而導致遮罩幾何形狀發生畸變。為防止此情形發生，前述DE 10 2010 000 447 A1提出一種屏蔽板，在進行基板更換或遮罩更換時，將此屏蔽板送至入口構件與基板架之間。
本發明之目的在於改良前述裝置以利其使用以及提出一種方法，其用來以有利的方式準備該裝置以沉積層。
該目的透過申請專利範圍所給出之發明而達成，其中附屬項不僅為並列請求項之有益改良方案，亦為該目的之獨立解決方案。並列請求項中所給出之發明亦可相互組合，其中在該等情形中，亦可將針對相應的目的而言不必要的特徵省略。
本發明之裝置用於將有機層沉積在平整的基板上，以便例如製造具有光學活性之平面元件，例如螢幕、顯示器或太陽能電池。該裝置具有反應器殼體，在該反應器殼體中佈置有特別是形式為淋盤之氣體入口構件，將該氣體入口構件加熱至較高的溫度，使得由此被送入製程室之蒸汽狀起始材料不會在該氣體入口構件上冷凝。基板處於基板架上，該基板可自裝載位置被送入製程位置，在該裝載位置中，基板架在豎向上與淋盤有所間隔，在該製程位置中，基板架以較小的豎向間隔相對氣體入口構件之排氣面佈置。為對沉積在基板上之層進行結構化處理，設有受支架裝置支承之遮罩，其中，該遮罩支架裝置具有遮罩支架，該遮罩支架承載該 遮罩裝置並且可在該反應器殼體內部沿垂直方向自遮罩更換位置移入製程位置。在該製程位置中，該遮罩在接觸位置中支承在該基板表面上。必須在與基板表面實現接觸前沿水平方向對該遮罩進行調整，使得該基板之調整標記被送入具有該遮罩之調整標記的調整位置。此外，在進行遮罩更換時，必須對遮罩之垂直位置進行調整。不同的遮罩具有與公差相關的區別，該等區別可能導致遮罩表面相對基板表面之傾斜狀態。可透過進行豎向調整來補償該傾斜狀態。在該遮罩及該基板之面延伸度處於分米或米範圍內期間，必須在微米範圍內實施豎向調節或水平調節。在此過程中，無法避免的振動及裝置之構件的公差起干擾作用。
本發明之一目標在於，提出能夠用來使得遮罩相對基板架或遮罩支架之調節具有更大抗振強度之措施。
本發明設有調整裝置。該調整裝置放置在支承框架上，該支承框架為該遮罩支架之支架，該遮罩裝置支承在該遮罩支架上，其中該遮罩裝置具有張緊該遮罩之框架。該遮罩框架可用適宜的構件緊固至該遮罩支架，使其保留在相對該遮罩支架之定義位置。該調整裝置較佳具有以可圍繞樞軸承之旋轉軸旋轉之方式支承的調整桿。在調整桿較佳具有短臂且較佳具有長臂並且以該短臂卡設在遮罩支架上的情況下，該調整桿構成桿部傳動裝置。傳動比較佳為至少5：1，較佳至少6：1。在長臂上卡設有可豎向位移之控制桿。該控制桿穿過反應器殼體之開口伸入該氣密的反應器殼體外部之區域內，在該處佈置有反應器，其可用來沿該控制桿之延伸方向移動該控制桿。此種調整裝置可建構為垂直調整裝置及水平調整裝置。一種較佳裝置既具有垂直調整裝置又具有水平調整裝置。在該 垂直調整裝置中，短臂及長臂大體沿水平方向延伸，其中該等臂部可以零度或180°角彼此定向。因此，可平衡地進行自控制桿朝卡設在遮罩支架上之挺桿的運動傳遞，或者進行方向翻轉之運動。挺桿要麼可以鉸接之方式固定在短臂之末端上，要麼以鉸接之方式固定在遮罩支架上。在該水平調整裝置中，該長臂同樣較佳沿水平方向延伸，使得其上可以鉸接之方式卡設有控制桿。短臂較佳與長臂成90°角且以導桿鉸接在遮罩支架上。該導桿及該二臂部大體沿同一方向延伸。根據本發明之一種較佳改良方案，同樣具有獨創意義之該導桿為稜柱形接頭。該接頭具有壓桿，其以相對佈置的尖端卡入特別是至少在其最深處呈截球狀之凹部中。該等凹部由末端件構成。該等末端件中之一者較佳與短臂連接。另一末端件與小架連接，該小架與遮罩支架連接。為將末端件保持在壓桿上，設有在相對側上支撐在末端件上之支撐元件。此點同樣可透過將尖端卡入凹部、特別是截球狀凹部來實施。該等支撐元件又以拉伸元件相連，其中該拉伸元件可由一或數個拉桿或拉伸體構成。設有產生拉力之彈簧元件。該彈簧可指拉伸彈簧或壓力彈簧。壓桿例如可伸出支撐元件之通孔。在拉桿之末端區段上可設有壓力彈簧，該壓力彈簧支撐在用來使得兩個拉桿之末端相連之連接件上。拉伸元件特別是可由兩個相互嵌套的拉伸元件構成，其中一拉伸元件具有供壓桿穿過之空腔。該拉伸元件可跨越彈簧元件或被彈簧元件跨越。拉力可由螺旋線壓力彈簧施加，該螺旋線壓力彈簧放置在徑向內拉伸元件上、在該處支撐在例如凸緣之凸起上、由徑向外拉伸元件搭接並且以其另一末端支撐在該徑向外拉伸元件之凸起上，該徑向外拉伸元件在此亦可建構為凸緣。
先前技術之同樣具有獨創意義的一種進一步發展方案為該調整桿之樞軸承且特別是用於旋轉支承該調整桿之板簧軸承的應用。該板簧軸承具有兩個各具一渾圓輪廓線之區段，該等區段就穿過該圓之中心點的軸線而言軸向地並排佈置。板簧軸承之該二區段透過貫穿中心之彎條相連。該二軸向地並排佈置之區段可無摩擦且無間隙地相對彼此旋轉，其中大體呈直線地穿過軸線之連接條發生彎曲。板簧軸承具有中心區段，調整桿支承在該區段上，以及具有兩個自該調整桿突出之軸端，該等軸端支承在支承框架中。該中間區段與該二軸向外區段夾緊支承在一起，使得該等區段在桿部旋轉時不會發生旋轉。桿部圍繞其軸線之旋轉使得彈簧元件發生固體彎曲。本發明還有關於一種遮罩升降裝置，其可用來豎向地在氣密地對外封閉的反應器殼體中沿垂直方向移動該遮罩支架。在此過程中，較佳同時沿垂直方向移動該支承框架、該遮罩支架及該至少一個調整桿。卡設在支承框架上之一或數個支柱可藉由佈置在反應器殼體外部之驅動構件而位移。為此，設有氣密的運動傳遞構件，其例如可建構為波紋管裝置。支柱可藉由該等運動傳遞構件沿垂直方向位移並且豎向地移動調整桿之控制桿。在一種較佳設計方案中，該等控制桿在該等支柱內延伸。該等控制桿較佳在控制桿導引裝置內延伸。該等控制桿導引裝置較佳指佈置在支柱內之管道。該遮罩升降裝置可具有遮罩升降板。該遮罩升降板較佳在固定在托架上之導軌或諸如此類上被導引。該托架佈置在反應器殼體外部並且可支承該反應器殼體。在本發明之一種較佳設計方案中，垂直調整裝置及水平調整裝置總是成對地設置。垂直調整裝置之調整桿較佳總是與水平調整裝置之調整桿相鄰佈置。較佳各有三個調整桿對 佈置在支承框架上。調整桿之旋轉軸較佳對準同一點，該點可處於支承框架之面內。在一種較佳設計方案中，該等旋轉軸總是以相同的角度相互錯開。該等旋轉軸相互錯開之角度在100°至160°範圍內便足夠。垂直調整裝置之調整桿與水平調整裝置之調整桿的旋轉軸相交之該二點可重合，但亦可為不同的點。在控制桿在控制桿導引裝置中被導引的情況下，處於該控制桿導引裝置之下末端上的致動器單元之位置存在一定的獨立性。控制桿以其上末端固定在支承框架上且以其下末端與致動器單元之殼體固定連接。在致動器單元中較佳設有用於調節垂直調整裝置之控制桿的致動器及用於調節水平調整裝置之控制桿的致動器。控制桿較佳指拉桿，使得控制桿導引裝置傳遞壓力並且固定在支承框架上或致動器單元之殼體上至關重要。但控制桿導引裝置較佳亦以具有抗拉強度之方式與支承框架或致動器單元之殼體連接，從而使得控制桿用作拉-壓桿。支撐有特別是用於支承支承框架之支柱的遮罩升降板可具有通孔，與致動器單元連接之控制桿導引裝置以可沿垂直方向自由運動之方式穿過該通孔。該佈置方案使得支承框架相對遮罩升降板可動，以便將支柱與該遮罩升降板機械分離。
本發明之另一態樣係有關於一種用於將透過安放遮罩而結構化之層沉積在基板上之裝置，具有水平調整裝置及垂直調整裝置。垂直調整裝置在此同樣較佳在正好三個角度錯開的位置上卡設在遮罩支架上。亦可存在數個位置。藉由垂直調整裝置便能調節遮罩之垂直位置及其傾斜角。藉由水平調整裝置便能改變遮罩之橫向位置。遮罩可在平面之該二方向上移動，但亦可在平面內旋轉。因此，可將遮罩送入相對遮罩支架、支承框架或基板架之調整 位置。基板無法可重複地安放在基板架上，因此，遮罩較佳相對基板可調整，其中將基板之調整標記送入具有遮罩之調整標記之調整位置。此點可透過光學影像擷取來實施。此外，在進行遮罩更換時，必須相對基板表面來補償遮罩面之可能的傾斜角。必須將供基板安放之遮罩面及基板架平面送入平行位置。為此，設有本發明之距離感測器，其特別是佈置在用於豎向調整之構件所處之位置。該距離感測器較佳指接近開關。可應用感應式或電容式接近開關。可供考慮的還有透過反射來測定距離之光學測距設備。距離感測器可佈置在支承框架上。該等距離感測器亦可佈置在基板架上。該等距離感測器較佳佈置成使其對遮罩之邊緣、即遮罩之直接鄰接在遮罩框架上之區段相對基板架或支承框架之豎向距離進行測定。在採用調整裝置之方法時，依次實施以下步驟：-將支承遮罩支架之支承框架移入遮罩更換位置；-將具有張緊遮罩之遮罩框架的遮罩裝置放置在該遮罩支架上；-將該支承框架連同該遮罩支架及該遮罩裝置自該遮罩更換位置豎向移入製程位置，其中，該遮罩支架相對該支承框架而言處於調整位置；-確定該遮罩之各邊緣在垂直調整裝置卡設在該遮罩支架上之三個位置上相對該支承框架或相對被送入製程位置中之基板架的豎向距離；-藉由該垂直調整裝置改變該距離，直至該等距離相等；-將該基板架移入裝載位置；-將基板放置在該基板架上； -將該基板架移入該製程位置，在該製程位置中，在該遮罩支架處於該調整位置的情況下，該基板架具有相對該遮罩之最小距離；-藉由該水平調整裝置水平調整該遮罩支架，直至該遮罩被送入相對該基板之調整位置；-藉由該垂直調整裝置將該遮罩自該調整位置沉降入與基板之表面的接觸位置。
在此同樣透過前述調整桿進行垂直及/或水平調整。隨後對基板進行塗佈時，通常毋需再調節遮罩之垂直位置，因為傾斜角通常不會再改變。因此，在不具有基板的情況下對傾斜角進行補償。而必須在有基板安放在基板架上的情況下進行水平調整。
單獨一升降裝置將基板架自其裝載位置送入製程位置。為此，較佳設有基板升降板，佈置在該反應器殼體外部之驅動裝置可沿垂直方向移動該基板升降板。該基板升降板支承一支柱。但亦可存在數個支柱。支柱穿過套管伸入反應器殼體。若基板升降板放置在遮罩升降板下方，則該遮罩升降板具有供基板升降裝置之支柱穿過的通孔。在基板架被送入其製程位置的情況下，其較佳直接以拉緊構件與支承框架連接。拉緊構件可指V型槽及球面。球面較佳由在空間上對應於支承框架之球元件構成。該等球元件支撐在V型槽之相互傾斜的邊沿上。透過三個球元件與三個V型槽之相互作用便能實現一靜定的拉緊位置，其中，V型槽之頂點線較佳相交於同一點。
1‧‧‧氣體入口構件
2‧‧‧反應器殼體
3‧‧‧遮罩裝置
4‧‧‧遮罩
5‧‧‧遮罩框架
6‧‧‧遮罩支架
7‧‧‧支承框架
8‧‧‧支柱
9‧‧‧遮罩升降板
10‧‧‧基板架
10'‧‧‧安放面
11‧‧‧支柱
12‧‧‧基板升降板
13‧‧‧基板
14‧‧‧間隙
15‧‧‧距離
16‧‧‧致動器單元
17‧‧‧通孔
19‧‧‧保持彈簧
20‧‧‧球面
21‧‧‧V型槽
22‧‧‧彈簧元件
23‧‧‧冷卻通道
24‧‧‧延長部
25‧‧‧距離感測器
26‧‧‧運動傳遞構件，波紋管
27‧‧‧板簧，板簧軸承
28‧‧‧槽
29‧‧‧槽
30‧‧‧軸承空隙
31‧‧‧軸承密封元件
32‧‧‧連接條
33‧‧‧端板
34‧‧‧構件
35‧‧‧構件
36‧‧‧環形件
37‧‧‧球
38‧‧‧V型槽
39‧‧‧連接條
40‧‧‧連接條
41‧‧‧軸端，軸向末端區域
42‧‧‧中間區
43‧‧‧軸端，軸向末端區域
100‧‧‧垂直調整裝置
101‧‧‧調整桿
102‧‧‧長臂
103‧‧‧短臂
104‧‧‧鉸接點
105‧‧‧鉸接點
106‧‧‧旋轉軸，樞軸承
107‧‧‧旋轉軸
108‧‧‧控制桿
109‧‧‧控制桿導引裝置
110‧‧‧挺桿
120‧‧‧彈簧元件
121‧‧‧致動器
123‧‧‧波紋管
124‧‧‧環
125‧‧‧套管
126‧‧‧開口
127‧‧‧軸承眼
200‧‧‧水平調整裝置
201‧‧‧調整桿
202‧‧‧長臂
203‧‧‧短臂
204‧‧‧鉸接點
205‧‧‧鉸接點
206‧‧‧樞軸承
207‧‧‧旋轉軸
208‧‧‧移動控制桿
209‧‧‧控制桿導引裝置
210‧‧‧導桿
211‧‧‧壓桿
212‧‧‧拉伸元件
213‧‧‧末端件
214‧‧‧末端件
215‧‧‧尖端
216‧‧‧凹部
216'‧‧‧凹部
217‧‧‧支撐元件
217'‧‧‧支撐元件
218‧‧‧套管
219‧‧‧連接件
220‧‧‧彈簧元件
221‧‧‧致動器
222‧‧‧小架
223‧‧‧波紋管
224‧‧‧環
225‧‧‧套管
226‧‧‧彈簧元件
227‧‧‧軸承眼
228‧‧‧拉伸元件之區段
229‧‧‧凸起
230‧‧‧拉伸元件
P1‧‧‧點
P2‧‧‧點
α‧‧‧角
下面結合所附圖式闡述本發明之實施例。其中： 圖1為裝置之實施例的粗略示意圖，用來以垂直剖面的形式說明重要的結構元件及其相互作用，其中遮罩升降裝置處於遮罩更換位置且基板架升降裝置處於裝載位置，圖2為圖1中之視圖，但具有被移入製程位置之遮罩升降裝置，圖3為圖2之後續圖，但具有被移入製程位置之基板架升降裝置，圖4為圖3之後續圖，其中，基板升降板12被小幅抬升或遮罩升降板9被小幅沉降，從而形成間隙14，圖5為圖4之後續圖，但在將基板13裝上基板架10、將基板架10送入製程位置以及將遮罩4沉降至基板13之待塗佈基板表面之後，圖6為支承框架7之俯視示意圖，用來說明垂直調整裝置100及水平調整裝置200之佈置方案，上述裝置可用來調節遮罩支架6相對支承框架7之水平位置及垂直位置，圖7為水平調整裝置200之調整桿201的示意圖，圖8為稜柱形接頭210之示意圖，圖9為垂直調整裝置100之調整桿101的示意圖，圖10為圖1中之局部X的放大圖，圖11為圖4中之局部XI的放大圖，圖12為圖11中之局部XII的放大圖，圖13為本發明之裝置的底架的透視圖，圖14支承框架7及佈置在支承框架7之槽中的調整裝置100、200的俯視圖，圖15為圖13所示裝置的若干構件的分解圖， 圖16為根據圖14中之線XVI-XVI的截面，圖17為圖16中之局部XVII的放大圖，圖18為圖16中之局部XVIII的放大圖，圖19為圖16中之局部XIX的放大圖，圖20為圖19中所示區域之放大圖，但係沿圖14中之切線XX-XX，圖21為用於構成樞軸承106、206之板簧27的透視圖，圖22為根據圖21中之線XXII的截面，圖23為根據圖21中之線XXIII-XXIII的截面，圖24為垂直調整裝置100之透視圖，圖25為調整桿101之俯視圖，圖26為根據圖25中之線XXVI-XXVI的截面，圖27為水平調整裝置200之透視圖，圖28為該水平調整裝置之視圖，圖29為根據圖28中之線XXIX-XXIX的截面，圖30為第二實施例之水平調整裝置，圖31為圖30中之該水平調整裝置的俯視圖，圖32為根據圖31中之線XXXII-XXXII的截面。
圖1-12示意性地示出與闡述本發明之裝置的工作原理及結構相關之細節，下面將闡述該等細節：由鋼製成的反應器殼體2氣密地對外封閉並且可將其抽真空。為此，設有未示出的真空泵。此外，反應器殼體2具有可封閉的開口，可將由遮罩4及遮罩框架5構成之遮罩裝置3穿過 該開口送入反應器殼體2。此外，反應器殼體2之壁部具有未示出的開口，其可用來將基板裝上該反應器殼體。
在未示出的可支承反應器殼體2之托架上佈置有可豎向位移的基板升降板12。基板升降板12支承支柱11，該支柱穿過開口伸入反應器殼體2。該支柱在該處支承具有冷卻通道23之基板架10，冷卻劑可穿過該冷卻通道來冷卻基板架10之基板安放面。可設有運動傳遞構件、例如波紋管，從而使得支柱11氣密地穿過反應器殼體2之開口。
此外，在基板架10之豎向上方佈置有形式為淋盤之氣體入口構件1，其可具有未示出的加熱元件，以便將氣體入口構件1加熱至一溫度，在該溫度下，透過該氣體入口構件被導入佈置在下方之製程室的有機起始材料的蒸汽不會發生冷凝。
此外，在反應器殼體2外部佈置有同樣可沿垂直方向位移之遮罩升降板9。支柱11可伸出遮罩升降板9之通孔。在此亦可設有適宜的運動傳遞構件，以便將遮罩升降板9之運動氣密地傳入反應器殼體2。遮罩升降板9支承支柱8，該支柱穿過開口伸入反應器殼體2。支柱8在其末端支承支承框架7，其中佈置有三個垂直調整裝置100及三個水平調整裝置200。該等垂直及水平調整裝置在圖1-6中僅象徵性地示出，在圖7-9中在功能方面象徵性地示出。
支柱8之下末端僅支撐在遮罩升降板9上。該等支柱以彈簧元件22與遮罩升降板9連接，使得能夠沿垂直方向將該等支柱自遮罩升降板9移除，從而對圖14所示的間隙進行調節。支柱8隨後與遮罩升降板9分離。
支柱8為空心的。用於垂直調整裝置之控制桿108的控制桿導引裝置109及具有水平調整裝置200之控制桿208的控制桿導引裝置209在遮罩支柱之空腔中延伸。各有一控制桿導引裝置109及控制桿導引裝置209穿過遮罩升降板9之通孔17並且以控制桿導引裝置之下末端與致動器單元16之殼體連接。因此，致動器單元16並非直接與遮罩升降板9連接。在致動器單元16中佈置有用於在控制桿導引裝置109中移動控制桿108之第一致動器121。在該處佈置有用於在控制桿導引裝置209中移動控制桿208之第二致動器221。
垂直調整裝置100具有調整桿101，該等調整桿各具一樞軸承106。樞軸承106之旋轉軸107在點P1上相交(參閱圖6)，該點處於被支承框架7包圍之表面上。
水平調整裝置200具有三個調整桿201，該等調整桿約佈置在三個調整桿101所處之位置。調整桿201亦可圍繞樞軸承206旋轉。樞軸承206之旋轉軸207在點P2上相交。點P1及P2之位置原則上可為任意的。但點P1與P2較佳近似重合。圖6中以點劃線示出之軸線107、207較佳互成120°之角α。但該角亦可為100°至160°。
圖7示意性地示出水平調整裝置200之單個元件的結構。與支承框架7固定連接之樞軸承206以使用板簧軸承之方式特別是無間隙地支承在此建構為直角桿之調整桿201。長度約為短桿臂203五倍之長桿臂202沿水平方向延伸，而短桿臂203沿垂直方向延伸。在長臂202之自由端的鉸接點204上鉸接有能夠沿垂直方向在管狀控制桿導引裝置209中運動之控制桿208。在短臂203之 自由端上，在鉸接點205上鉸接有導桿210，該導桿又鉸接在與遮罩支架6固定連接之小架222上。
若控制桿208沿垂直方向位移，調整桿201遂圍繞其樞軸承206旋轉，此點致使短臂203上之鉸接點205沿圖7中之雙箭頭方向發生水平運動。透過抗彎的小架222將該水平運動傳遞至遮罩支架6。
圖8示例性地示出導桿210之較佳設計方案。該導桿以末端件213及214與短臂203之鉸接點205及小架222連接。末端件213、214之相向側具有凹部216，壓桿211之相互背離的尖端215支撐在該等凹部中。凹部216各具一截球狀深點，尖端215支撐在該點上。末端件213、214在相對側上同樣具有凹部216'，支撐元件217、217'支撐在該等凹部中。支撐元件217、217'藉由拉伸元件212相連。拉伸元件係指以末端固定在支撐元件217上的拉桿。拉桿之另一末端伸出另一支撐元件217'之套管218。在與尖端相對佈置的一側上，在支撐元件217'上支承有被拉伸元件212穿過之彈簧元件220，該等彈簧元件在此為壓力彈簧，對該等壓力彈簧施加連接件219，在該等壓力彈簧上固定有拉伸元件212之末端，使得將尖端215保持在與其對應的凹部216中之彈簧元件220形成彈力。
圖9示意性地示出垂直調整裝置100之元件的調整桿101的結構及軸承結構。調整桿係指雙臂的桿部，其具有長桿臂102，該長桿臂之長度約為短臂103的五倍。該二臂部102及103沿水平方向成180°角。但該等臂部亦可成90°角。在長桿臂102之自由端上，在鉸接點104上鉸接有受控制桿導引裝置109導引之控 制桿108。在短臂103之自由端上，在鉸接點105上鉸接有自下方抓住遮罩支架6之挺桿110。挺桿110在鉸接點111上以滑動或鉸接之方式卡在遮罩支架6上。若控制桿108豎向位移，則該豎向位移使得挺桿110發生豎向位移。此外，還設有一可選的彈簧元件120，其在挺桿110僅滑動連接在遮罩支架6上的情況下沿垂直方向施加額外的拉力。
圖11及圖12示出基板架10之上區域。基板架10具有形式為V型槽之拉緊元件24。V型槽21在此僅示意性地示出。其與延長部24對應。總共設有三個V型槽21。V型槽21之頂點線相交於同一點。V型槽21在水平平面內延伸。V型槽21朝上方曝露。
支承框架7在其底側具有構成球面20之球，該球支撐在V型槽之邊沿上。基板架10可藉由由V型槽21及球面20構成之拉緊構件靜定地直接支承支承框架7。在基板架10與支承框架7產生剛性的特別是具有抗振剛度的連接。透過調整桿101及201，支承框架7以具有機械剛性之方式耦合至支承遮罩框架5之遮罩支架6。
在進行遮罩更換後，較佳以下列步驟設置裝置：在圖1所示位置中，基板架10以及由支承框架、遮罩支架6及調整裝置100、200所構成的遮罩支承裝置分別處於一更換位置。基板可安放在基板架10之構成安放面10'的頂側上。可將另一遮罩以其遮罩框架5安放在遮罩支架6上。具有通孔之薄遮罩4透過遮罩框架5而張緊，使得該遮罩近似在平面內延伸。
透過移動遮罩升降板9將配設有經更換的遮罩裝置3 之遮罩支架6朝上移入圖2所示的製程位置。
隨後，透過移動基板升降板12將基板架10朝上移入如圖3所示之球面20尚未支撐在V型槽21中的位置。
隨後，將基板架10相對遮罩升降板9朝上移動，或者將遮罩升降板9小幅地朝下移動。在該相對移動中，球面20在基板升降板12與遮罩升降板9之間進入V型槽21。遮罩升降板9與支承框架7之間的距離增大。支柱8並非以具有抗拉強度之方式與遮罩升降板9連接，因此，在支柱8與遮罩升降板9之間產生圖4中用元件符號14表示之間隙。支承框架7不再由遮罩升降板9支承，而是僅由基板架10支承，確切而言，支承在三個支撐點上，在這些支撐點上各有一球面20支撐在V型槽21之邊沿上。
在下一步驟中，在圖4中之操作位置中藉由圖11所示之距離感測器25在至少三個位置、較佳在垂直調整裝置100之元件所處之三個位置上對遮罩4之邊緣相對基板架10之豎向距離進行測定，該距離感測器可指接近開關。可藉由垂直調整裝置100之調整桿101改變該等豎向距離，直至其相等。遮罩4由此平行於基板架10。
但在本發明之變體中，距離感測器25亦可固定在支承框架7上。
在遮罩4被送入相對基板架10之安放面10'而言的平行位置後，可將基板架10重新降入其裝載位置(圖2)，以便將基板13裝上該基板架。隨後，將該基板架送入製程位置，其中，遮罩4與基板13之頂側存在例如0.5mm之微小距離。可藉由水平調整裝置200及未示出的成像型調整輔助構件相對基板13沿水平方向調 整遮罩4。為此，將未在附圖中示出之遮罩調整標記用基板之調整標記覆蓋。藉由調整桿101及相應短臂103與遮罩支架6之鉸接連接，遮罩支架6不僅可線性地在平面內移動。同樣可旋轉該遮罩支架。調整輔助構件可具有固定在基板架上之雷射器，其雷射束指向遮罩方向。
圖13-32示出本發明之用於將有機分子沉積在基板上之裝置的細節。圖13示出具有框架之底架的透視圖，遮罩升降板9及基板升降板12能夠沿垂直方向大體相互獨立地在該底架中位移。為移動遮罩升降板9或基板升降板12，設有電驅動器。支承框架7可藉由遮罩升降板9豎向地位移，該支承框架支承遮罩支架6，該遮罩支架又支承固定有未示出的蔭罩之遮罩框架7。蔭罩相對遮罩框架5被張緊，使其僅小幅地沿垂直方向下垂。在該視圖中，基板架及安放在其上的基板同樣如氣密的反應器殼體那般被隱藏。
圖14示出在遮罩支架6被打開的情況下，支承框架7之俯視圖。支承框架7具有矩形輪廓線及佈置有水平調整裝置200之槽28。槽28如佈置有垂直調整裝置100之槽29那般同樣朝上方曝露。垂直調整裝置100各具一挺桿110。挺桿110佈置在三角形之點上。水平調整裝置200具有可沿水平方向位移之小架222。小架222同樣佈置在三角形之點上。
在支承框架7之短邊上沿延伸方向依次佈置有兩個調整裝置。垂直調整裝置100與水平調整裝置200對齊地延伸。挺桿110及小架222佈置在由垂直調整裝置100及水平調整裝置200構成之裝置的該二相互背離的末端上。
垂直調整裝置100及水平調整裝置200之另兩個鏡像 裝置佈置在另一短框架側邊之角區中。在此，各有一垂直調整裝置100佈置在水平調整裝置200旁邊，其中挺桿110在此亦佈置在背離小架222之一側。垂直調整裝置100及水平調整裝置200係佈置成使得調整桿101、201之樞軸承106、206的旋轉軸107、207分別對準被支承框架7包圍之區域內的一點。
圖15示出支承有調整裝置100、200之樞軸承206、106的軸承空隙30。其分別指嵌有樞軸承106、206之軸端的相互對齊的半圓形空隙。設有將軸承空隙30朝上封閉之軸承密封元件31。
圖17為垂直調整裝置100之截面。調整桿101以可圍繞樞軸承106旋轉之方式支承。調整桿101具有沿水平方向延伸之長臂。在長臂102之末端上的鉸接點104上鉸接有穿過控制桿導引裝置109延伸之控制桿108。在調整桿101之同樣沿水平方向延伸的短臂103上卡設有彈簧元件120，其用來將短臂103朝上拉伸。此外，在短臂103上佈置有支撐在遮罩支架6上之挺桿110。
圖18示出水平調整裝置200之數個實施例中的一個。桿臂201圍繞樞軸承206支承。該桿臂具有長桿臂202及短桿臂203。長桿臂202沿水平方向延伸且在鉸接點204上鉸接至沿垂直方向穿過控制桿導引裝置209延伸之控制桿208。
短桿臂203沿垂直方向朝上延伸。其上鉸接有導桿210。導桿210具有壓桿211及形式為彈簧元件220之拉伸元件。壓桿211以其一末端支撐在短桿臂203上並且以其另一末端支撐在與遮罩支架6抗彎地連接之小架222上。彈簧元件226將小架222朝下作用。該彈簧元件固定在槽28底部。
圖19示出穿過遮罩升降板9之通孔17。在遮罩升降板9上固定有構件35，端板33可支撐在該構件上。在端板33上固定有形式為波紋管26之運動傳遞構件。在該波紋管外部為大氣壓，在該波紋管內部為真空或低壓。端板33之邊緣區域藉由彈簧22緩和相對構件34之衝擊，該構件如構件35那般同樣與遮罩升降板9固定連接。在將遮罩升降板9沉降時，端板33自構件35脫離，以便懸浮在構件34與35之間的間隙中。
構件33支承環形件36，該等環形件構成用於垂直調整裝置之控制桿108的套管125及用於水平調整裝置之控制桿208的套管225。環形件36為波紋管223、123之末端區段，該等波紋管在其另一末端構成與控制桿108或208固定連接之環形件124、224。因此，波紋管123、223構成用於控制桿108及208之運動傳遞構件。在波紋管123、223內部為大氣壓。在波紋管123、223外部為真空或低壓。
在環形件124、224上方佈置有與端板33固定連接之連接條32。在連接條32上支撐有控制桿導引裝置109、209，該二控制桿導引裝置皆設計為管狀。控制桿導引裝置109、209可實施支柱之功能，以便在端板33放置在構件35上時以遮罩升降板9支承支承框架7。連接條32較佳與端板33剛性連接。
控制桿108、208之該二下末端與致動器121、221連接。未在圖19中示出之致動器殼體與端板33固定連接從而與連接條32固定連接。
圖20所示步驟示出類似於圖19之反向實施的步驟。底板33在此透過球37相對構件35支撐，該構件在此形成相對佈 置且嵌有球37兩個V型槽38。
圖21示出例如用作樞軸承106及206之板簧元件27。中間區段42支承調整桿101或201。該調整桿具有相關的圓形開口，該開口可透過夾緊螺釘而變窄，從而使得中間區域42以抗旋方式嵌入樞軸承106或206之軸承開口。
軸端41、43沿該二軸向伸出調整桿101、201之寬側。在軸端41與中間區域42或者軸端43與中間區域42之間，接縫44在板簧27之兩個區段之間延伸。板簧27之末端區段以連接條39或40相連，其中，連接條39處於軸端區域41、43內且連接條40處於中間區域42內。在使得中間區域42相對該二外軸端區域41、43旋轉的情況下，連接條39、40發生彎曲，從而以無摩擦的方式僅透過彎曲來實施旋轉運動。隨後在接縫44之區域內，板簧之區段42、43沿旋轉方向相對彼此運動。
圖24-26示出調整裝置之調整桿101。挺桿110插入開口126。可將構成樞軸承106之板簧插入軸承眼127。
圖27-29示出水平調整裝置之一實施例。調整桿201具有長臂202，在其末端上設有鉸接點204。板簧軸承27插入軸承眼227。短桿臂203支承一定程度上構成該短桿臂203之末端件213。拉伸元件212支撐在末端件之一側上。壓桿211支撐在末端件213之另一側上。拉伸元件212具有供壓桿211穿過之空腔。壓桿211以其另一尖端支撐在放置在小架222上之末端件214上，該小架與遮罩支架6固定連接。拉伸元件212之區段228從後面卡住建構為壓力彈簧之彈簧元件22，該彈簧元件支撐在另一拉伸元件230之凸起229上。拉伸元件230呈管道形並且彈簧元件220支承 在該拉伸元件之外壁上。拉伸元件230固定在末端件214上。在此，該拉伸元件由兩個相互施加彈簧之拉伸元件構成。
圖30-32示出水平調整裝置200之另一實施例，其中拉伸元件212由兩個相互平行的拉桿構成。調整桿201在此亦具有用於構成插有板簧軸承27之樞軸承206的軸承眼。軸承眼可被壓緊在板簧軸承27之中間區域上。參閱針對圖8之闡述以闡述該實施例。
前述實施方案係用於說明本申請整體所包含之發明，該等發明至少透過以下特徵組合分別獨立構成相對於先前技術之改良方案，其中，亦可將此等特徵組合中的兩個、數個或所有相互組合，亦即：一種裝置，其特徵在於：該調整裝置100、200具有調整桿101、201，該調整桿以可圍繞樞軸承106、206之旋轉軸107、207旋轉之方式支承在該支承框架7上且具有第一臂部102、202及第二臂部103、203，其中，該第二臂部103、203卡設在該遮罩支架6上且在該第一臂部102、202上卡設有可由致動器121、221豎向移動之控制桿108、208。
一種裝置，其特徵在於：在垂直調整裝置100中，該第二臂部103及該第一臂部102沿水平方向延伸，其中，該第二臂部103卡設在與該遮罩支架6連接之挺桿110上。
一種裝置，其特徵在於：在水平調整裝置200中，該第二臂部203沿垂直方向且該第一臂部202沿水平方向延伸，其中，該第二臂部203以鉸接於其上之導桿210與該遮罩支架6連接。
一種裝置，其特徵在於：該第一臂部為該調整桿 101、201之長臂，該第二臂部為該調整桿101、201之短臂。
一種裝置，其特徵在於：該水平調整裝置200之導桿210為稜柱形接頭，其中壓桿211之相對佈置的尖端215各支撐在末端件213、214之一凹部216中，且其中在該等末端件213、214上卡設有將該等尖端215作用進凹部216之拉伸元件212。
一種裝置，其特徵在於：該拉伸元件212在固定點217上與末端件213固定連接，其中，設有以該拉伸元件產生作用之彈簧元件220，該彈簧元件支撐在拉伸元件212上，以便朝該另一末端件213方向對該末端件214施力。
一種裝置，其特徵在於：該拉伸元件212具有供該壓桿211穿過之空腔。
一種裝置，其特徵在於：該拉伸元件212具有兩個相互嵌套的元件，其中該等元件中之內元件被建構為壓力彈簧之彈簧元件220包圍。
一種裝置，其特徵在於：該樞軸承106、206為無摩擦的板簧軸承。
一種裝置，其特徵在於：該長桿臂102、202之長度為該短桿臂103、203之長度的至少五倍、較佳至少六倍。
一種裝置，其特徵在於：該遮罩支架6、該等調整桿101、201及該支承框架7以可藉由遮罩升降裝置豎向位移之方式佈置在氣密地對外封閉之反應器殼體2中，其中，該等控制桿108、208及卡設在該支承框架7上之支柱可藉由該反應器殼體2外部之氣密運動傳遞構件位移。
一種裝置，其特徵在於：特別是具有遮罩升降板9 之該遮罩升降裝置佈置在該反應器殼體2外部。
一種裝置，其特徵在於：該等調整桿101、201之旋轉軸107、207對準同一點P1、P2，該點處於被該支承框架7框定之面內。
一種裝置，其特徵在於：設有各具調整桿101、201之分別三個水平調整裝置200及/或分別三個垂直調整裝置100，該等調整桿之樞軸承106、206以100°至160°之角相對該同一點P1、P2而言錯開佈置。
一種裝置，其特徵在於：該等控制桿108、208在控制桿導引裝置109、209中被導引，其中，該等控制桿導引裝置109、209藉由上末端以傳遞壓力之方式固定在該支承框架7上且藉由其下末端以傳遞壓力之方式固定在致動器單元16之殼體上，其中，該致動器單元16特別是具有用於移動該垂直調整裝置之控制桿108的致動器121及該水平調整裝置200之致動器221。
一種裝置，其特徵在於：可由驅動組件沿垂直方向移動之遮罩升降板9具有通孔17，與該致動器單元連接之該等控制桿導引裝置109、209穿過該通孔。
一種裝置，其特徵在於：在供該垂直調整裝置100卡設在該遮罩支架6上之該等位置上設有距離感測器25，其適於測定遮罩4之邊緣相對該基板架10或相對該支承框架7之豎向距離。
一種裝置，其特徵在於：該距離感測器25為感應式或電容式接近開關或光學測距設備。
一種方法，其特徵在於以下步驟：-將支承遮罩支架6之支承框架7移入遮罩更換位置； -將具有張緊遮罩4之遮罩框架5的遮罩裝置3放置在該遮罩支架6上；-將該支承框架7連同該遮罩支架6及該遮罩裝置3自該遮罩更換位置豎向移入製程位置，其中，該遮罩支架6相對該支承框架7而言處於調整位置；-確定該遮罩4之各邊緣在垂直調整裝置卡設在該遮罩支架6上之三個位置上相對該支承框架7或相對被送入製程位置中之基板架10的豎向距離15，-藉由該垂直調整裝置100改變該距離，直至該等距離15相等；-將該基板架10移入裝載位置；-將基板13放置在該基板架10上；-將該基板架10移入該製程位置，在該製程位置中，在該遮罩支架6處於該調整位置的情況下，該基板架具有相對該遮罩4之最小距離15，-藉由該水平調整裝置200水平調整該遮罩支架6，直至該遮罩4被送入相對基板13之調整位置；-藉由該垂直調整裝置100將該遮罩自該調整位置沉降入與基板13之表面的接觸位置。
一種方法，其特徵在於：該垂直調整裝置100及/或該水平調整裝置200具有調整桿101、201，該等調整桿實現可由佈置在該反應器殼體外部之致動器121、221移動的控制桿108、208之豎向運動，且該等調整桿卡設在挺桿110上或與該遮罩支架6連接之導桿210上。
一種裝置，其特徵在於：一中心支柱11支承該基板 架10，且數個佈置在該支柱11外圍之支柱8支承該支承框架7。
一種裝置，其特徵在於拉緊構件20、21，該等拉緊構件將該基板架10緊固至該支承框架7上之製程位置。
一種裝置，其特徵在於：該等拉緊構件具有V型槽21及球面20。
一種裝置，其特徵在於：該球面20由該支承框架7之球元件構成，且該球面20支撐在由該基板架10構成之V型槽21的邊沿上。
一種裝置，其特徵在於：設有各與一V型槽21共同作用之該等球元件，其中，該等V型槽21對準同一點。
一種裝置，其特徵在於：該遮罩升降裝置具有至少一個支柱8，該支柱可由佈置在該反應器殼體2外部之驅動裝置沿垂直方向移動。
一種裝置，其特徵在於：該基板架升降裝置具有至少一個支柱11，該支柱可由佈置在該反應器殼體2外部之驅動裝置沿垂直方向移動。
一種裝置，其特徵在於：該遮罩升降裝置及/或該基板架升降裝置具有沿水平方向延伸之遮罩升降板9或基板升降板12，該遮罩升降板或基板升降板在與該反應器殼體2連接之托架上被導引。
一種裝置，其特徵在於：設有密封的運動傳遞構件、特別是波紋管裝置，其用來將該驅動裝置之豎向運動傳遞至該支柱8、11。
一種裝置，其特徵在於：該遮罩裝置3之製程位置中 的該遮罩升降裝置之支柱8與遮罩升降板9機械分離，在該製程位置中，該遮罩4以接觸的方式支承在該基板13之表面上，該遮罩升降板被固定在與該反應器殼體2機械耦合之托架上，從而使得該支承框架7僅由該基板架10支承。
一種裝置，其特徵在於：透過在支柱8與遮罩升降板9製造間隙14來實現該支柱8與該遮罩升降板9之機械分離。
一種裝置，其特徵在於保持彈簧18，其用於將與該遮罩升降板9機械分離之該支柱8固定就位。
一種裝置或一種方法，其特徵在於：一中心支柱11支承該基板架10，且數個佈置在該支柱11外圍之支柱8支承該支承框架7。
一種裝置，其特徵在於用於調整該遮罩支架6相對該支承框架7之位置的調整裝置100、200，在該位置上該調整裝置100、200作用於可由致動器121、221豎向移動之控制桿108、208。
一種裝置，其特徵在於：該等控制桿108、208可藉由該氣密地對外封閉之反應器殼體2外部的氣密運動傳遞構件位移。
所有已揭露特徵(作為單項特徵或特徵組合)皆為發明本質所在。故本申請之揭露內容亦包含相關/所附優先權檔案(在先申請副本)所揭露之全部內容，該等檔案所述特徵亦一併納入本申請之申請專利範圍。附屬項以其特徵對本發明針對先前技術之改良方案的特徵予以說明，其目的主要在於在該等請求項基礎上進行分案申請。此外，在每個請求項中給出之發明可具有在前文描述中揭示的、特別是用元件符號表示及/或在元件符號列表中給出的特徵 中的一或多個。本發明亦涵蓋未實現前述特徵中之個別特徵的實施方案，特別是在此等特徵對於具體用途而言並非不可或缺或可被其他等效手段替代的情況下。
6‧‧‧遮罩支架
7‧‧‧支承框架
200‧‧‧水平調整裝置
201‧‧‧調整桿
202‧‧‧長臂
203‧‧‧短臂
204‧‧‧鉸接點
205‧‧‧鉸接點
206‧‧‧樞軸承
208‧‧‧移動控制桿
209‧‧‧控制桿導引裝置
210‧‧‧導桿
222‧‧‧小架

Claims (22)

  1. 一種用於將透過安放遮罩而結構化之層沉積在基板上之裝置，具有用於調整遮罩支架(6)相對支承框架(7)之位置的調整裝置(100、200)，其特徵在於：該調整裝置(100、200)具有調整桿(101、201)，該調整桿以可圍繞樞軸承(106、206)之旋轉軸(107、207)旋轉之方式支承在該支承框架(7)上且具有第一臂部(102、202)及第二臂部(103、203)，其中，該第二臂部(103、203)卡設在該遮罩支架(6)上且在該第一臂部(102、202)上卡設有可由致動器(121、221)豎向移動之控制桿(108、208)。
  2. 如請求項1之裝置，其中，在垂直調整裝置(100)中，該第二臂部(103)及該第一臂部(102)沿水平方向延伸，其中，該第二臂部(103)卡設在與該遮罩支架(6)連接之挺桿(110)上。
  3. 如請求項1之裝置，其中，在水平調整裝置(200)中，該第二臂部(203)沿垂直方向且該第一臂部(202)沿水平方向延伸，其中，該第二臂部(203)以鉸接於其上之導桿(210)與該遮罩支架(6)連接。
  4. 如請求項1之裝置，其中，該第一臂部為該調整桿(101、201)之長臂，該第二臂部為該調整桿(101、201)之短臂。
  5. 如請求項3之裝置，其中，該水平調整裝置(200)之導桿(210)為稜柱形接頭，其中壓桿(211)之相對佈置的尖端(215)各支撐在末端件(213、214)之一凹部(216)中，且其中在該等末端件(213、214)上卡設有將該等尖端(215)作用進凹部(216)之拉伸元件(212)。
  6. 如請求項5之裝置，其中，該拉伸元件(212)在固定點(217)上與末端件(213)固定連接，其中，設有以該拉伸元件產生作用之彈簧 元件(220)，該彈簧元件支撐在拉伸元件(212)上，以便朝該另一末端件(213)方向對該末端件(214)施力。
  7. 如請求項4之裝置，其中，該拉伸元件(212)具有供該壓桿(211)穿過之空腔。
  8. 如請求項5之裝置，其中，該拉伸元件(212)具有兩個相互嵌套的元件，其中該等元件中之內元件被建構為壓力彈簧之彈簧元件(220)包圍。
  9. 如請求項1之裝置，其中，該樞軸承(106、206)為無摩擦的板簧軸承。
  10. 如請求項2之裝置，其中，該長的第一臂部(102、202)之長度為該短的第二臂部(103、203)之長度的至少五倍或至少六倍。
  11. 如請求項1之裝置，其中，該遮罩支架(6)、該等調整桿(101、201)及該支承框架(7)以可藉由遮罩升降裝置豎向位移之方式佈置在氣密地對外封閉之反應器殼體(2)中，其中，該等控制桿(108、208)及卡設在該支承框架(7)上之支柱可藉由該反應器殼體(2)外部之氣密運動傳遞構件位移。
  12. 如請求項1之裝置，其中，特別是具有遮罩升降板(9)之該遮罩升降裝置佈置在該反應器殼體(2)外部。
  13. 如請求項1之裝置，其中，該等調整桿(101、201)之旋轉軸(107、207)對準同一點(P1、P2)，該點處於被該支承框架(7)框定之面內。
  14. 如請求項1之裝置，其中，設有各具調整桿(101、201)之分別三個水平調整裝置(200)及/或分別三個垂直調整裝置(100)，該等調整桿之樞軸承(106、206)以100°至160°之角α相對該同一點(P1、 P2)而言錯開佈置。
  15. 如請求項1之裝置，其中，該等控制桿(108、208)在控制桿導引裝置(109、209)中被導引，其中，該等控制桿導引裝置(109、209)藉由上末端以傳遞壓力之方式固定在該支承框架(7)上且藉由其下末端以傳遞壓力之方式固定在致動器單元(16)之殼體上，其中，該致動器單元(16)特別是具有用於移動該垂直調整裝置之控制桿(108)的致動器(121)及該水平調整裝置(200)之致動器(221)。
  16. 如請求項1之裝置，其中，可由驅動組件沿垂直方向移動之遮罩升降板(9)具有通孔(17)，與該致動器單元連接之該等控制桿導引裝置(109、209)穿過該通孔。
  17. 如請求項1之裝置，其中，一中心支柱(11)支承該基板架(10)，且數個佈置在該支柱(11)外圍之支柱(8)支承該支承框架(7)。
  18. 如請求項1之裝置，其中，該垂直調整裝置(100)及/或該水平調整裝置(200)具有調整桿(101、201)，該等調整桿實現可由佈置在該反應器殼體外部之致動器(121、221)移動的控制桿(108、208)之豎向運動，且該等調整桿卡設在挺桿(110)上或與該遮罩支架(6)連接之導桿(210)上。
  19. 一種用於將透過安放遮罩而結構化之層沉積在基板上之裝置，具有垂直調整裝置(100)及水平調整裝置(200)，其分別在至少三個角度錯開的位置上卡設在遮罩支架(6)上，以便調整該遮罩(4)相對基板架(10)之該垂直位置、傾斜角及該水平位置，其特徵在於：在供該垂直調整裝置(100)卡設在該遮罩支架(6)上之該等位置上設有距離感測器(25)，其適於對該遮罩(4)之邊緣相對該基板架(10)或相對該支承框架(7)之豎向距離進行測定。
  20. 如請求項19之裝置，其中，該距離感測器(25)為感應式或電容式接近開關或光學測距設備。
  21. 一種調整請求項1至20中任一項之裝置的方法，具有以下步驟：將支承遮罩支架(6)之支承框架(7)移入遮罩更換位置；將具有張緊遮罩(4)之遮罩框架(5)的遮罩裝置(3)放置在該遮罩支架(6)上；將該支承框架(7)連同該遮罩支架(6)及該遮罩裝置(3)自該遮罩更換位置豎向移入製程位置，其中，該遮罩支架(6)相對該支承框架(7)而言處於調整位置；確定該遮罩(4)之各邊緣在垂直調整裝置卡設在該遮罩支架(6)上之三個位置上相對該支承框架(7)或相對被送入製程位置中之基板架(10)的豎向距離(15)；藉由該垂直調整裝置(100)改變該距離，直至該等距離(15)相等；將該基板架(10)移入裝載位置；將基板(13)放置在該基板架(10)上；將該基板架(10)移入該製程位置，在該製程位置中，在該遮罩支架(6)處於該調整位置的情況下，該基板架具有相對該遮罩(4)之最小距離(15)；藉由該水平調整裝置(200)水平調整該遮罩支架(6)，直至該遮罩(4)被送入相對該基板(13)之調整位置；藉由該垂直調整裝置(100)將該遮罩自該調整位置沉降入與基板(13)之表面的接觸位置。
  22. 如請求項21之方法，其中，該垂直調整裝置(100)及/或該水 平調整裝置(200)具有調整桿(101、201)，該等調整桿實現可由佈置在該反應器殼體外部之致動器(121、221)移動的控制桿(108、208)之豎向運動，且該等調整桿卡設在挺桿(110)上或與該遮罩支架(6)連接之導桿(210)上。
TW107108455A 2017-03-14 2018-03-13 用於將結構化層沉積在基板上之裝置以及該裝置之調整方法 TWI765983B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102017105374.3A DE102017105374A1 (de) 2017-03-14 2017-03-14 Vorrichtung zum Abscheiden einer strukturierten Schicht auf einem Substrat sowie Verfahren zum Einrichten der Vorrichtung
??102017105374.3 2017-03-14
DE102017105374.3 2017-03-14

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201841404A TW201841404A (zh) 2018-11-16
TWI765983B true TWI765983B (zh) 2022-06-01

Family

ID=61627115

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW107108455A TWI765983B (zh) 2017-03-14 2018-03-13 用於將結構化層沉積在基板上之裝置以及該裝置之調整方法

Country Status (7)

Country Link
US (1) US11396697B2 (zh)
JP (1) JP7161485B2 (zh)
KR (1) KR102604080B1 (zh)
CN (1) CN110621802B (zh)
DE (1) DE102017105374A1 (zh)
TW (1) TWI765983B (zh)
WO (1) WO2018166953A1 (zh)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210044534A (ko) 2019-10-15 2021-04-23 주식회사 엘지화학 배터리 팩
JP7185674B2 (ja) * 2020-09-30 2022-12-07 キヤノントッキ株式会社 成膜装置、調整方法及び電子デバイスの製造方法
JP7361671B2 (ja) * 2020-09-30 2023-10-16 キヤノントッキ株式会社 成膜装置、調整装置、調整方法、及び電子デバイスの製造方法
CN112641291B (zh) * 2020-11-28 2021-12-21 西安双德喜信息科技有限公司 一种科技成果普及用展示柜
KR20220089809A (ko) * 2020-12-21 2022-06-29 삼성디스플레이 주식회사 마스크 프레임 및 마스크 프레임의 제조 방법
CN113088915B (zh) * 2021-03-30 2022-07-22 京东方科技集团股份有限公司 驱动设备和蒸镀系统
CN114775048B (zh) * 2022-04-13 2024-01-26 无锡先为科技有限公司 旋转轴固持装置及薄膜气相沉积设备
CN117976509B (zh) * 2024-04-02 2024-06-04 浙江求是创芯半导体设备有限公司 调节组件及晶圆驱动装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103597625A (zh) * 2011-06-17 2014-02-19 应用材料公司 用于有机发光二极管处理的化学气相沉积掩模对准
US20160372715A1 (en) * 2015-06-18 2016-12-22 Samsung Display Co., Ltd. Plasma-enhanced chemical vapor deposition device and method of manufacturing display apparatus using the same

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB190927667A (en) * 1908-11-30 1909-11-30 Arthur Lewis Adams Improvements in or relating to Photographic Cameras of the Type known as Reflecting or Reflex Cameras.
NL294779A (zh) 1962-07-20
DE3912296C2 (de) * 1989-04-14 1996-07-18 Leybold Ag Vorrichtung zur Aufnahme und Halterung von Substraten
JP3215643B2 (ja) * 1997-01-31 2001-10-09 ワイエイシイ株式会社 プラズマ処理装置
JP3678079B2 (ja) * 1999-10-26 2005-08-03 ウシオ電機株式会社 マスクとワークの間隔設定手段を備えたコンタクト露光装置
EP1202329A3 (en) 2000-10-31 2006-04-12 The Boc Group, Inc. Mask Restraining method and apparatus
JP2006100315A (ja) 2004-09-28 2006-04-13 Canon Inc 保持機構、光学装置、及びデバイス製造方法
JP4609756B2 (ja) 2005-02-23 2011-01-12 三井造船株式会社 成膜装置のマスク位置合わせ機構および成膜装置
PL1715075T3 (pl) 2005-04-20 2008-10-31 Applied Mat Gmbh & Co Kg Magnetyczny uchwyt maski
DE502005007746D1 (de) * 2005-04-20 2009-09-03 Applied Materials Gmbh & Co Kg Verfahren und Vorrichtung zur Maskenpositionierung
WO2007023533A1 (ja) 2005-08-24 2007-03-01 Yugengaisya Ushiozaimu 視覚障害者誘導用シート
JP4624236B2 (ja) 2005-10-25 2011-02-02 日立造船株式会社 真空蒸着用アライメント装置
DE102008037387A1 (de) * 2008-09-24 2010-03-25 Aixtron Ag Verfahren sowie Vorrichtung zum Abscheiden lateral strukturierter Schichten mittels einer magnetisch auf einem Substrathalter gehaltenen Schattenmaske
WO2011055826A1 (ja) 2009-11-09 2011-05-12 日本精工株式会社 マスク保持機構
DE102010000447A1 (de) 2010-02-17 2011-08-18 Aixtron Ag, 52134 Beschichtungsvorrichtung sowie Verfahren zum Betrieb einer Beschichtungsvorrichtung mit einer Schirmplatte
DE102011101088B4 (de) 2011-05-10 2016-10-27 Von Ardenne Gmbh Vorrichtung zum Ausrichten eines Substrates und einer Maske
CN103732786B (zh) 2011-06-22 2016-08-17 艾克斯特朗欧洲公司 气相沉积系统和供给头
KR20140100119A (ko) 2013-02-05 2014-08-14 주식회사 원익아이피에스 얼라인 장치 및 이를 이용한 얼라인 방법
KR20140115484A (ko) 2013-03-20 2014-10-01 주식회사 선익시스템 Ｏｌｅｄ 증착을 위한 기판 정렬장치
KR102181233B1 (ko) * 2013-07-19 2020-11-23 삼성디스플레이 주식회사 기상 증착 장치 및 이를 이용한 표시 장치의 제조방법
CN106415876B (zh) 2014-01-21 2018-06-26 应用材料公司 允许低压力工具替换的薄膜封装处理系统和工艺配件
KR20150101906A (ko) * 2014-02-27 2015-09-04 (주)브이앤아이솔루션 얼라이너 구조 및 얼라인 방법
CN103981491A (zh) 2014-04-30 2014-08-13 京东方科技集团股份有限公司 一种蒸镀装置
KR20160048852A (ko) 2014-09-26 2016-05-04 가부시키가이샤 아루박 Ｘｙ 스테이지, 얼라인먼트 장치, 증착 장치
DE102014116991A1 (de) 2014-11-20 2016-05-25 Aixtron Se CVD- oder PVD-Reaktor zum Beschichten großflächiger Substrate
KR102352279B1 (ko) * 2015-05-13 2022-01-18 삼성디스플레이 주식회사 마스크 프레임 조립체와 그 제조방법

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103597625A (zh) * 2011-06-17 2014-02-19 应用材料公司 用于有机发光二极管处理的化学气相沉积掩模对准
US20160372715A1 (en) * 2015-06-18 2016-12-22 Samsung Display Co., Ltd. Plasma-enhanced chemical vapor deposition device and method of manufacturing display apparatus using the same

Also Published As

Publication number Publication date
JP2020515064A (ja) 2020-05-21
CN110621802B (zh) 2023-01-24
JP7161485B2 (ja) 2022-10-26
KR102604080B1 (ko) 2023-11-17
CN110621802A (zh) 2019-12-27
US20200010950A1 (en) 2020-01-09
KR20190127810A (ko) 2019-11-13
TW201841404A (zh) 2018-11-16
US11396697B2 (en) 2022-07-26
WO2018166953A1 (de) 2018-09-20
DE102017105374A1 (de) 2018-09-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI765983B (zh) 用於將結構化層沉積在基板上之裝置以及該裝置之調整方法
TWI755501B (zh) 具有遮罩載具之基板支架組件
JP3626504B2 (ja) ２個の物品ホルダを有する位置決め装置
JP3970720B2 (ja) 座標測定テーブル装置及び座標測定装置
US7242537B2 (en) Holding and positioning apparatus for an optical element
TWI363190B (en) Driving mechanism and optical element driving apparatus
JP2000180118A (ja) 走行可能なｘ／ｙ座標測定台
KR101862428B1 (ko) 유리 기판을 열처리하기 위한 장치 및 방법
KR20080036983A (ko) 진공 증착용 얼라인먼트 장치
JP6093091B2 (ja) Ｘｙステージ、アライメント装置、蒸着装置
JP4614105B2 (ja) ステージ機構
KR20120091189A (ko) 마스크 유지 기구
KR20200075747A (ko) 기판 재치 방법, 성막 방법, 성막 장치, 및 유기 el 패널의 제조 시스템
JPH0463649A (ja) 回転並進ステージ装置
JP6142214B2 (ja) 近接露光装置及び近接露光方法
JPH07226354A (ja) 位置決め装置及びそれを用いた半導体素子の製造方法
JP2007248636A (ja) 位置測定装置のミラー固定構造
JPH11135412A (ja) 投影露光装置及びレチクル保持方法
JP2011107438A (ja) 高精度な折り曲げミラーの構成と組立方法
JP2000186753A (ja) 直動機構
JPH02251704A (ja) レーザ干渉計における移動ミラー取付け構造
JPH0645427A (ja) 試料移動台
JPS5845783B2 (ja) 精密微動装置