JPH02251704A - レーザ干渉計における移動ミラー取付け構造 - Google Patents

レーザ干渉計における移動ミラー取付け構造

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JPH02251704A
JPH02251704A JP1074166A JP7416689A JPH02251704A JP H02251704 A JPH02251704 A JP H02251704A JP 1074166 A JP1074166 A JP 1074166A JP 7416689 A JP7416689 A JP 7416689A JP H02251704 A JPH02251704 A JP H02251704A
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JP
Japan
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mirror
block
stage
shaped
fixed
Prior art date
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Pending
Application number
JP1074166A
Other languages
English (en)
Inventor
Haruo Kasahara
春生 笠原
Makoto Tamai
玉井 誠
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jeol Ltd
Original Assignee
Jeol Ltd
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Filing date
Publication date
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  • Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、電子ビーム描画装置やイオンビーム描画装置
において、材料が載置されるステージの移動量を測定す
るレーザ干渉計の移動ミラーの取付は構造に関する。
(従来の技術) 電子ビーム描画装置やイオンビーム描画装置では、高真
空に排気された描画室内に、被描画材料が載られる移動
ステージを設け、このステージを移動させながら材料全
面に渡っての描画を行っている。この種装置では、ステ
ージの移動を常にレーザ干渉針によって監視するように
している。第3図は、このようなレーザ干渉計を示して
おり、1は描画室2内の移動ステージである。ステージ
1上には、L字状のミラー3が固定されている。
レーザ発振器4からのレーザ光は、ビームスプリッタ5
によってX方向用とY方向用の2つのビームに分けられ
る。
ビームスプリッタ5を通過して直進するレーザビームは
、ベンダー6によって曲げられ、透明窓7を透過して描
画室2内のY方向干渉計ユニット8に入る。このユニッ
ト8内でビームは2光束に分けられ、一方はユニット8
内の固定ミラーで反射され、他方はL字状の移動ミラー
3の第1の鏡面3mによって反射される。固定ミラーと
移動ミラーとで反射されたビームは干渉し、その干渉光
はレシーバ9によって検出される。
ビームスプリッタ5によって反射されたレーザビームは
、ベンダー10によって曲げられ、透明窓11を透過し
て描画室2内のX方向干渉計ユニット12に入る。この
ユニット12内でビームは2光束に分けられ、一方はユ
ニット12内の固定ミラーで反射され、他方はL字状の
移動ミラー3の第2の鏡面3bによって反射される。固
定ミラーと移動ミラーとで反射されたビームは干渉し、
その干渉光はレシーバ13によって検出される。
このような構成で、ステージ1をX、Yの両方向に移動
させれば、その移動に伴ってミラー3も移動し、レシー
バ9,13によって検出される干渉光の強度が変化する
。この干渉光の強度変化によってステージ1の移動量が
測定される。
(発明が解決しようとする課題) ところで、電子ビーム描画装置やイオンビーム描画装置
などの半導体素子加工分野では、材料が入れられる描画
室を通常高真空と呼ばれる10−6〜10−’torr
よりも更に真空度が高い10−”t。
rr以下の超高真空としなければならない。このような
高い到達真空度を得るためには、初期の排気モードにお
いて描画室壁や内装部品の焼き出し処理が必須の要件と
なる。この加熱温度は百数十度以上となるため、内装部
品もこの熱に耐え得る構造としなければならない。
第3図に示したレーザ干渉計において、ステージ1上の
移動ミラー3は、通常ステージ台座に接着剤によって接
着固定されている。このような接着固定では、100℃
をこえる温度差により、ミラー3のステージ1に対する
位置関係がずれたり、ミラー3の鏡面の平面度が損なわ
れてしまい、結果として、移動量の測定精度が低下して
しまう。
本発明はこのような点に鑑みてなされたもので、その目
的は、描画室などの焼き出し処理を行っても、常に移動
ミラーを正確に位置させ、ミラーの平面度も初期の精度
に維持することができるレーザ干渉計における移動ミラ
ー取付は構造を実現することにある。
(課題を解決するための手段) 本発明に基づくレーザ干渉計における移動ミラー取付は
構造は、高真空に排気された真空室内で、移動するステ
ージ上にレーザ干渉計の移動ミラーを取付ける構造であ
って、ステージ上に配置される2面の鏡面を有したL字
状の干渉計の移動ミラーと、L字状ミラーの一方の鏡面
と接する平面を有し、ステージに固定された第1のブロ
ックと、L字状ミラーの他方の鏡面と接する曲面を有し
、ステージに固定された第2のブロックと、L字状ミラ
ーを挟んで第1ブロックと対向する位置に配置され、L
字状ミラーを第1のブロックに押付ける第1の押圧体と
、L字状ミラーを挟んで第2ブロックと対向する位置に
配置され、L字状ミラーを第2のブロックに押付ける第
2の押圧体とを備えており、第1と第2のブロックは、
L字状ミラーの重心からL字状ミラーの2つの鏡面に下
ろした垂線上、もしくは、その近傍に配置されているこ
とを特徴としている。
(作用) L字状ミラーの一方の鏡面と平面状に接する第1のブロ
ックる、他方の鏡面に実質的に一点で接する第2のブロ
ックに、L字状ミラーを弾性体などで押し付け、熱膨張
や収縮に対して鏡面の位置変化を無くし、ミラー鏡面の
平面度を維持する。
(実施例) 以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する
。第1図は、本発明の一実施例であるレーザ干渉計の要
部を示しており、第3図と同一部分には、同一番号を付
しである。L字状のレーザ干渉計の移動ミラー3は、ス
テージ1上に載せられているが、この実施例では、ミラ
ー3はステ−ジ1の台座に接着されていない。ミラー3
の底面とミラーが載せられているステージの台座部分の
表面は、同じように研磨されており、ミラー3はステー
ジ台座上を摺動できるようになっている。
L字状ミラー3の重心GからL字状ミラー3の第1の鋺
面3aに下ろした垂線上には、第1の鏡面3aに平面状
に接する面を有した第1のブロック15が、ネジ16に
よってステージ1上に固定されている。又、重心Gから
L字状ミラー3の第2の鏡面3bに下ろした垂線上には
、第2の鏡面と線状に接する円弧状の面を有した第2の
ブロック17が、ネジ18によってステージ1上に固定
されている。
第1のブロック15のL字状ミラー3を挟んで対向した
位置には、固定柱19が設けられ、この固定柱19には
、弾性体20によってL字状ミラー3を第1のブロック
15に押し付けるための押圧棒21が設けられている。
第1のブロック17のL字状ミラー3を挟んで対向した
位置には、固定柱22が設けられ、この固定柱22には
、弾性体23によってL字状ミラー3を第1のブロック
17に押し付けるための押圧棒24が設けられている。
第2図は、第1図のA−A断面図である。この図から明
らかなように、押圧棒21は、ミラー3を斜めに下方に
押し付けるようになっている。このように構成すること
により、ミラー3は常にブロック15とステージ1の方
向に押圧され、その結果、熱膨張によってステージ1と
ミラー3とがずれたときでも、ミラー3が浮き上がるこ
とは防止される。
このような構成により、L字状ミラー3は、第1のブロ
ック15と押圧棒21、および、第2のブロック17と
押圧棒24とによって所定の位置に固定配置される。こ
の状態で、描画室の焼き出しを行って、描画室内の温度
を100℃以上に上昇させ、更にその後、常温に戻す処
理を行った場合、ステージ1とミラー3は、異なった膨
脹率で膨脹し、又、収縮をする。この場合、両者は接着
などによって固定されていないため、極端な温度変化に
よる熱膨張によっても、ミラー2が歪むことは防止され
、常に、ミラー3の鏡面の平面度は高精度に維持される
。又、ミラー3の位置は、第1のブロック15と第2の
ブロック17によって決められるため、正確で再現性を
有することになる。すなわち、第1のブロック15は、
面でミラー3を支持し、第2のブロック17は、ステー
ジ平面に垂直な方向の線でミラーを支持しているため、
実質的に3点支持となり、位置決めを正確に行うことが
できる。更に、ミラー3は、実質的に重心Gの部分で支
持されているので、熱変化や衝撃に対して、安定した支
持を行うことができる。
以上本発明を詳述したが、本発明は、上述した実施例に
限定されない。例えば、第2のブロック17のミラー3
に対向する面は、円弧状として、ステージ平面に垂直な
線でミラー3を支持するようにしたが、その支持面を球
面状とし、点でミラー3の支持を行うようにしても良い
(発明の効果) 以上説明したように、本発明では、面と線あるいは点で
移動ステージに設けられた干渉計の移動ミラーの支持を
行うようにしたので、焼き出し処理を行っても、常に正
確な位置にミラーを配置することができ、又、ミラーの
鏡面の平面度も高い精度で維持することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の一実施例を示す図、第2図は、第1
図のA−A断面図、第3図は、描画室内のステージの移
動量を測定するレーザ干渉計を説明するための図である
。 1・・・ステージ    2・・・描画室3・・・ミラ
ー     4・・・レーザ発振器5・・・ビームスプ
リッタ 6.10・・・ベンダー 7.11・・・光透過窓8.
12・・・干渉計ユニット 9.13・・・レシーバ 15・・・第1のブロック 17・・・第2のブロック

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 高真空に排気された真空室内で、移動するステージ上に
    レーザ干渉計の移動ミラーを取付ける構造であって、ス
    テージ上に配置される2面の鏡面を有したL字状の干渉
    計の移動ミラーと、L字状ミラーの一方の鏡面と接する
    平面を有し、ステージに固定された第1のブロックと、
    L字状ミラーの他方の鏡面と接する曲面を有し、ステー
    ジに固定された第2のブロックと、L字状ミラーを挟ん
    で第1ブロックと対向する位置に配置され、L字状ミラ
    ーを第1のブロックに押付ける第1の押圧体と、L字状
    ミラーを挾んで第2ブロックと対向する位置に配置され
    、L字状ミラーを第2のブロックに押付ける第2の押圧
    体とを備えており、第1と第2のブロックは、L字状ミ
    ラーの重心からL字状ミラーの2つの鏡面に下ろした垂
    線上、もしくは、その近傍に配置されていることを特徴
    とするレーザ干渉計における移動ミラー取付け構造。
JP1074166A 1989-03-27 1989-03-27 レーザ干渉計における移動ミラー取付け構造 Pending JPH02251704A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008056158A2 (en) 2006-11-09 2008-05-15 Vistec Lithography Inc. Component mounting in movement-sensitive equipment
CN106855397A (zh) * 2016-12-27 2017-06-16 苏州虹贯精益智能科技有限公司 一种钕玻璃包边面形测量装置

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WO2008056158A3 (en) * 2006-11-09 2009-02-19 Vistec Lithography Inc Component mounting in movement-sensitive equipment
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