TWI751200B

TWI751200B - 可聚合的液晶材料及經聚合的液晶薄膜

Info

Publication number: TWI751200B
Application number: TW106133052A
Authority: TW
Inventors: 宋東美; 崔榕峴; 姜在炫; 尹容國
Original assignee: 德商馬克專利公司
Priority date: 2016-09-28
Filing date: 2017-09-27
Publication date: 2022-01-01
Also published as: CN109790468A; WO2018060110A1; CN109790468B; EP3519533A1; JP2019532167A; EP3519533B1; KR20190058587A; JP7179735B2; TW201827574A; US11820932B2; US20190218459A1; KR102458810B1

Abstract

本發明係關於一種可聚合的LC材料，其包含至少一種雙反應性或多反應性液晶原基化合物及至少一種式CO-1化合物，

其中R¹ 、R² 、L¹ 、L² 、L³ 及n具有如技術方案1中給出的含義中之一者。此外，本發明亦關於一種用於製備該可聚合的LC材料之方法、可獲自該對應的可聚合的LC材料之具有經改良熱耐久性的聚合物薄膜、製備此聚合物薄膜之方法以及此聚合物薄膜及該可聚合的LC材料用於光學、電光學、裝飾或安全裝置之用途。

Description

可聚合的液晶材料及經聚合的液晶薄膜

其中 R¹ 及R² 表示H、烷基、烷氧基，單氟化、寡氟化或多氟化烷基或烷氧基，較佳為烷基， L¹ 表示H、烷基、烷氧基、硫烷基、烷羰基、烷氧羰基、烷基羰氧基或烷氧基羰氧基；鹵素、CN、NO₂ 、OCN、SCN，或單氟化、寡氟化或多氟化烷基或烷氧基原子；或-(Sp³¹ -A³¹ )，較佳為H、鹵素、CN或NO₂ ， L² 至L³ 表示H、烷基，單氟化、寡氟化或多氟化烷基，或-(Sp³¹ -A³¹ )，較佳為H、烷基或-(Sp³¹ -A³¹ )， Sp³¹ 表示間隔基團或單鍵，較佳為單鍵或C₁ _- ₁₂ 伸烷基，更佳為單鍵或C₁ _- ₆ 伸烷基，最佳為單鍵或C₁ _- ₂ 伸烷基，且 A³¹ 表示芳基、雜芳基、(非芳族)脂環及雜環基團，視情況具有一或多個取代基，其選自包含以下各者之群：矽烷基、磺酸基、磺醯基、甲醯基、胺、亞胺、腈、巰基、硝基、鹵素、C₁ _- ₁₂ 烷基、C₆ _- ₁₂ 芳基、C₁ _- ₁₂ 烷氧基、羥基或此等基團之組合，較佳為苯基、環己基或環戊基， n 表示0或1，較佳為1。此外，本發明亦關於一種用於製備該可聚合的LC材料之方法、可獲自該對應的可聚合的LC材料之具有經改良熱耐久性的聚合物薄膜、製備此聚合物薄膜之方法以及此聚合物薄膜及該可聚合的LC材料用於光學、電光學、裝飾或安全裝置之用途。

可聚合的液晶材料在先前技術中已知用於製備具有均一定向之各向異性聚合物薄膜。此等薄膜通常藉由以下製備：將可聚合的液晶混合物之薄層塗佈於基板上，使混合物配向成均一定向且使混合物聚合。薄膜之定向可為平面的(亦即，其中液晶分子實質上平行於該層定向)、垂直的(與該層成直角或垂直於該層)或傾斜的。此等光學薄膜係描述於例如EP 0 940 707 B1、EP 0 888 565 B1及GB 2 329 393 B1中。當可聚合的液晶(LC)材料在室溫下穩定時，該等可聚合的液晶材料可在經受升高的溫度時降解。舉例而言，當加熱一段時間時，諸如色散或延遲之光學特性降低，且因此光學薄膜之效能隨時間推移而下降。特定言之，此可造成低程度的聚合及聚合物中之對應高含量的殘餘自由基、聚合物收縮及/或熱氧化降解。高度聚合可例如受所利用之光引發劑之選擇影響。就此而言，Nie等人在J. Appl. Polym. Sci. 2012, 123, 725-731中描述合適的肟酯光引發劑之合成及光聚合動力學。 JP 5054456 B2描述包含一或多種雙反應性液晶原基化合物之可聚合的液晶(LC)材料及可購自Ciba之市售可得之光引發劑Oxe02及可購自Adeka之N-1919 (T)。特定言之，光學延遲薄膜之所要特性(例如液晶原基化合物之均一配向、薄膜結構、薄膜黏著性、溫度穩定性及光學效能)高度取決於可聚合的液晶材料之組成，尤其關於單反應性與雙反應性液晶原基化合物之比率及選擇。舉例而言，根據R = dΔn，聚合物收縮(其為光學薄膜厚度之減小)減少了穿過的光之延遲，其中R為延遲，d為雙折射薄膜之厚度，Δn為雙折射率。聚合物收縮可例如藉由利用具有多於一個可聚合基團之可聚合化合物(例如雙反應性或多反應性化合物)來減少，且因此能夠形成更交聯且更剛性的聚合物。然而，光學延遲薄膜之所要特性同樣高度取決於可聚合的液晶材料之組成。就此而言，在垂直於薄膜平面之方向上調整配向概況之一種可能的方式係適當選擇單反應性液晶原基化合物(亦即，具有一個可聚合基團之化合物)與雙反應性液晶原基化合物(亦即，具有兩個可聚合基團之化合物)的比率。另外，低二丙烯酸酯含量的RM薄膜高度適用於其中注重RM薄膜與基板之良好黏著性的應用。然而，如上文所陳述，在低二丙烯酸酯含量的RM薄膜中，光學延遲通常尤其由於聚合物收縮而顯著下降。熱氧化降解為在高溫下藉由氧化反應催化之聚合物網路的分解。如通常已知，抗氧化劑添加劑或短抗氧化劑可用於在經受升高的溫度時降低聚合物之熱氧化降解。當由於高溫而將光學薄膜用於內嵌式應用時，此為尤其重要的。特定言之，當在LC單元中退火聚醯亞胺層時，光學薄膜必須具耐受性。就此而言，文獻WO 2009/86911 A1及JP 5354238 B1描述包含市售可得之抗氧化劑Irganox®1076之可聚合的液晶(LC)材料。由於所利用之LC材料，所有的上述材料均具有不同的缺點，諸如所得聚合物薄膜之熱耐久性仍不夠高，其對VIS光之透光度係有限的，其需要使用另外的添加劑，或其的應用頻寬係有限的。因此，仍需要新穎且經較佳改良之可聚合的液晶材料或混合物，該等可聚合的液晶材料或混合物並未呈現先前技術材料之缺陷，或若如此，僅在較小程度上呈現該等缺陷。有利的是，此類可聚合的LC材料應較佳適用於製備諸如聚合物薄膜或聚合物網路LC應用之不同、均一配向的聚合物網路，且特定言之，應同時： - 顯示對基板之有利黏著性， - 對VIS光高度透明， - 呈現隨時間推移而減少之著黃色(黃化)，且 - 顯示有利的高溫穩定性或耐久性，且另外， - 均一配向的聚合物薄膜應藉由用於大批量生產之相容的、通常已知的方法來產生。熟習此項技術者自以下實施方式立即顯而易知本發明之其他目標。出人意料地，本發明之發明人發現，以上要求目標中之一或多者、較佳所有者均可藉由使用如技術方案1之可聚合的LC材料實現，較佳同時實現。

因此，本發明係關於一種可聚合的LC材料，其包含至少一種雙反應性或多反應性液晶原基化合物及至少一種式CO-1化合物。另外，本發明亦關於產生可聚合的LC材料之對應方法。本發明進一步係關於一種聚合物網路或聚合物薄膜，該聚合物網路或聚合物薄膜可如上文及下文所描述獲自、較佳獲自可聚合的LC材料，以及一種如上文及下文所描述產生聚合物薄膜之方法。本發明進一步係關於一種提高聚合物薄膜之耐久性的方法，該聚合物薄膜可在聚合之前藉由將式CO-1化合物添加至LC材料而如上文及下文所描述獲自、較佳獲自可聚合的LC材料。本發明進一步係關於如上文及下文所描述之聚合物網路或聚合物薄膜或可聚合的LC材料之用途，其用於光學、電光學、資訊儲存、裝飾及安全應用，如液晶顯示器、投影系統、偏光器、補償器、配向層、圓形偏光器、濾色器、裝飾影像、液晶顏料、具有在空間上變化之反射色彩的反射薄膜、多色影像、如身分證或信用卡或鈔票之不可偽造的文件。本發明進一步係關於光學組件或裝置、偏光器、圖案化延遲器、補償器、配向層、圓形偏光器、濾色器、裝飾影像、液晶透鏡、液晶顏料、具有在空間上變化之反射色彩的反射薄膜、用於裝飾或資訊儲存之多色影像，其包含至少一種如上文及下文所描述之聚合物網路或聚合物薄膜或可聚合的LC材料。本發明進一步係關於一種液晶顯示器，其包含至少一種如上文及下文所描述之聚合物網路或聚合物薄膜或可聚合的LC材料或光學元件。本發明進一步係關於認證、驗證或安全標記、用於安全用途之有色或多色影像、不可偽造的具有價值之物品或文件(如身分證或信用卡或鈔票)，其包含至少一種如上文及下文所描述之聚合物網路或聚合物薄膜或可聚合的LC材料或光學元件。

術語及定義 如本文所使用，術語「聚合物」應理解為意謂包涵一或多種不同類型之重複單元(分子之最小組成單元)之主鏈的分子，且包括通常已知之術語「低聚物」、「共聚物」、「均聚物」及類似物。另外，應瞭解，術語聚合物除聚合物本身外包括來自伴隨此類聚合物合成之引發劑、催化劑及其他元素之殘基，其中此等殘基應理解為不共價併於其中。此外，雖然通常在後聚合純化製程期間移除此等殘基及其他元素，但其通常與聚合物混合或共混，使得當該聚合物在容器或溶劑或分散介質之間轉移時，其一般與聚合物一同保留。如本發明中所使用之術語「(甲基)丙烯酸聚合物」包括獲自丙烯酸單體之聚合物、可獲自甲基丙烯酸單體之聚合物及可獲自此等單體之混合物的對應共聚物。術語「聚合」意謂藉由使多個可聚合的基團或含有此等可聚合的基團之聚合物前驅物(可聚合化合物)鍵結在一起形成聚合物之化學製程。術語「薄膜」及「層」包括具有機械穩定性之剛性或可撓性、自撐式或獨立式薄膜，以及在支撐基板上或兩種基板之間的塗層或層。術語「液晶」或「LC」係關於在溶液中在一定溫度範圍內(熱致性LC)或在一定濃度範圍內(溶致性LC)具有液晶介相之材料。其強制性地含有液晶原基化合物。術語「液晶原基化合物」及「液晶化合物」意謂包含一或多種棒狀(條狀或板狀/板條狀)或圓盤狀(盤狀)液晶原基基團之化合物。術語「液晶原基」意謂具有誘發液晶相(或介相)行為之能力的基團。包含液晶原基之化合物本身未必必須呈現液晶介相。亦有可能其僅在與其他化合物之混合物中，或在聚合液晶原基化合物或材料或其混合物時顯示液晶介相。此包括低分子量非反應性液晶化合物、反應性或可聚合的液晶化合物及液晶聚合物。棒狀液晶原基基團通常包含由直接地連接至彼此或經由鍵聯基團連接之一或多個芳族或非芳族環狀基團組成的液晶原基核，視情況包含連接至液晶原基核之末端的端基，且視情況包含連接至液晶原基核之長側的一或多個側基，其中此等端基及側基通常選自例如：碳基或烴基；極性基團，如鹵素、硝基、羥基等；或可聚合的基團。術語「反應性液晶原基」意謂可聚合的液晶原基或液晶化合物，較佳為單體化合物。此等化合物可用作純化合物或反應性液晶原基與充當光引發劑、抑制劑、界面活性劑、穩定劑、鏈轉移劑、非可聚合化合物等之其他化合物的混合物。亦將具有一個可聚合基團之可聚合化合物稱作「單反應性」化合物，將具有兩個可聚合基團之化合物稱作「雙反應性」化合物，且將具有多於兩個可聚合基團之化合物稱作「多反應性」化合物。亦將不具有可聚合基團之化合物稱作「非反應性或非可聚合」化合物。術語「非液晶原基化合物或材料」意謂不含有如上文所定義之液晶原基的化合物或材料。可見光為波長在約400 nm至約740 nm範圍內之電磁輻射。紫外(UV)光為波長在約200 nm至約450 nm範圍內之電磁輻射。將輻照度(E_e )或輻射功率定義為入射在表面的上每單位面積(dA)之電磁輻射(dθ)的功率： E_e = dθ/dA。輻射曝光或輻射劑量(H_e )為每時刻(t)之輻照度或輻射功率(E_e )： H_e = E_e ∙ t。所有溫度(諸如(例如)熔點T(C,N)或T(C,S)、自近晶相(S)至向列相(N)之轉化T(S,N)，及液晶之清澈點T(N,I))均以攝氏度引述。所有溫度差異均以不同度數引述。術語「清澈點」意謂具有最高溫度範圍之介相與各向同性相之間發生轉化之溫度。術語「引向器」在先前技術中已知且意謂液晶或RM分子之長分子軸(在棒狀化合物情況下)或短分子軸(在圓盤狀化合物情況下)之較佳定向方向。在此等各向異性分子之單軸排序之情況下，引向器為各向異性之軸。術語「配向」或「定向」係關於材料之各向異性單元之配向(定向排序)，諸如在稱為「配向方向」之共同方向上之小分子或大分子之碎片。在液晶或RM材料之配向層中，液晶引向器與配向方向一致以使得配向方向對應於材料之各向異性軸之方向。液晶或RM材料之術語「均一定向」或「均一配向」，例如在材料之層中意謂液晶或RM分子之長分子軸(在棒狀化合物情況下)或短分子軸(在圓盤狀化合物情況下)實質上在相同方向中定向。換言之，液晶引向器之線平行。術語「垂直結構」或「垂直定向」係指其中光軸實質上垂直於薄膜平面的薄膜。術語「平面結構」或「平面定向」係指其中光軸實質上平行於薄膜平面的薄膜。術語「負(光學)色散」係指顯示反向雙折射色散之雙折射或液晶材料或層，其中雙折射率(Δn)之量值隨波長(λ)增加而增加。亦即，½Dn (450) ½＜ ½Dn (550)½，或Dn (450)/Dn (550) ＜ 1，其中Dn (450)及Dn (550)分別為在450 nm及550 nm之波長處所量測之材料的雙折射率。對比而言，「正(光學)色散」意謂½Dn (450)½＞ ½Dn (550)½或Dn (450)/Dn (550) ＞ 1之材料或層。亦參見例如A. Uchiyama, T. Yatabe 「Control of Wavelength Dispersion of Birefringence for Oriented Copolycarbonate Films Containing Positive and Negative Birefringent Units」. J. Appl. Phys. 第42卷, 第6941至6945頁(2003)。由於將在所給出波長處之光學延遲定義為如上文所描述之雙折射率及層厚度的乘積[R(λ) = Dn(λ) ^. d] ，光學色散可藉由比率Dn(450)/Dn(550)表述為「雙折射率色散」，或藉由比率R(450)/R(550)表述為「延遲色散」，其中R(450)及R(550)分別為在450 nm及550 nm之波長處所量測之材料的延遲。由於層厚度d不隨波長改變，因此R(450)/R(550)等於Dn (450)/Dn (550)。因此，具有負色散或反向色散之材料或層具有R(450)/R(550) ＜ 1或½R (450)½ ＜ ½R (550)½，且具有正色散或正常色散之材料或層具有R(450)/R(550) ＞ 1或½R (450)½ ＞ ½R (550)½。在本發明中，除非另外說明，否則「光學色散」意謂延遲色散，亦即比率R(450)/R(550)。術語「高色散」意謂色散之絕對值顯示與1偏差較大，而術語「低色散」意謂色散之絕對值顯示與1偏差較小。因此，「高負色散」意謂色散值顯著小於1，且「低負色散」意謂色散值僅略微小於1。可使用光譜橢偏儀量測材料之延遲(R(λ))，例如由J. A. Woollam Co.製造之M2000光譜橢偏儀。此儀器能夠在通常370 nm至2000 nm之波長範圍內量測例如石英之雙折射樣品的光學延遲(以奈米計)。根據此資料，有可能計算材料之色散(R(450)/R(550)或Dn(450)/Dn(550))。用於實行此等量測之方法在2006年10月由N. Singh展示於National Physics Laborator(英國，倫敦)，且標題為「Spectroscopic Ellipsometry Part1 - Theory and Fundamentals, Part2 - Practical and Part3 - measurements」。根據量測程序，所描述之Retardation Measurement (RetMeas) Manual (2002)及Guide to WVASE (2002) (Woollam Variable Angle Spectroscopic Ellipsometer)由J. A. Woollam Co. Inc (Lincoln, NE, USA)出版。除非另外陳述，否則此方法用於測定本發明中所描述之材料、薄膜及裝置的延遲。術語「A板」係指利用單軸雙折射材料之層的光學延遲器，其中其之異常軸平行於層之平面定向。術語「C板」係指利用單軸雙折射材料之層的光學延遲器，其中其之異常軸垂直於層之平面定向。在包含具有均一定向之光學單軸雙折射液晶材料的A/C板中，薄膜之光軸由異常軸之方向給出。包含具有正雙折射之光學單軸雙折射材料的A (或C)板亦稱作「正A (或C)板」或「+A (或+C)板」。視圓盤狀材料之定向而定，包含具有負雙折射之光學單軸雙折射材料(諸如圓盤狀各向異性材料)之薄膜的A (或C)板亦稱作「負A (或C)板」或「-A (或C)板」由在光譜之UV部分中具有反射譜帶之膽固醇型棒狀材料製成的薄膜亦具有負C板之光學特性。雙折射率Δn係定義如下 n = n_e -n_o 其中n_e 為異常折射率且n_o 為尋常折射率，且平均折射率n_av 藉由以下方程式給出： n_av. = ((2n_o ² + n_e ² )/3)^½ 可使用Abbe折射器量測平均折射率n_av _. 及尋常折射率n_o 。接著可由上述方程式計算Dn。除非上下文另外明確指示，否則如本文中所使用，術語之複數形式在本文中應理解為包括單數形式，且反之亦然。除非另外明確陳述，否則所有實體特性均已根據或根據的「Merck Liquid Crystals, Physical Properties of Liquid Crystals」, 1997年11月狀態, Merck KGaA, Germany測定，且針對20℃之溫度給出。光學各向異性(Δn)係在589.3 nm之波長處測定。在存疑之情況下，如C. Tschierske, G. Pelzl及S. Diele, Angew. Chem. 2004, 116, 6340-6368中給出之定義將適用。除非另外明確陳述，否則在給出之通式中，以下術語具有以下含義：「碳基」表示含有至少一個碳原子之單價或多價有機基團，其不含其他原子(諸如，-CºC-)或視情況含有一或多個其他原子，諸如N、O、S、P、Si、Se、As、Te或Ge (例如，羰基等)。「烴基」表示碳基，其另外含有一或多個H原子及視情況一或多個雜原子，諸如N、O、S、P、Si、Se、As、Te或Ge。碳基或烴基可為飽和或不飽和基團。不飽和基團為例如芳基、烯基或炔基。具有多於3個C原子之碳基或烴基可為直鏈、分支鏈及/或環狀且可含有螺鏈結或縮合環。較佳碳基及烴基為具有1至40個C原子，較佳1至25個C原子，尤佳1至18個C原子之視情況經取代之烷基、烯基、炔基、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、烷基羰氧基及烷氧基羰氧基；具有6至40個C原子，較佳6至25個C原子之視情況經取代之芳基或芳氧基；或具有6至40個C原子，較佳6至25個C原子之視情況經取代之烷基芳基、芳基烷基、烷基芳氧基、芳基烷氧基、芳基羰基、芳氧基羰基、芳基羰氧基及芳氧基羰氧基。更佳碳基及烴基為C₁ -C₄₀ 烷基、C₂ -C₄₀ 烯基、C₂ -C₄₀ 炔基、C₃ -C₄₀ 烯丙基、C₄ -C₄₀ 烷基二烯基、C₄ -C₄₀ 聚烯基、C₆ -C₄₀ 芳基、C₆ -C₄₀ 烷基芳基、C₆ -C₄₀ 芳基烷基、C₆ -C₄₀ 烷基芳氧基、C₆ -C₄₀ 芳基烷氧基、C₂ -C₄₀ 雜芳基、C₄ -C₄₀ 環烷基、C₄ -C₄₀ 環烯基等。尤佳為C₁ -C₂₂ 烷基、C₂ -C₂₂ 烯基、C₂ -C₂₂ 炔基、C₃ -C₂₂ 烯丙基、C₄ -C₂₂ 烷基二烯基、C₆ -C₁₂ 芳基、C₆ -C₂₀ 芳基烷基及C₂ _- C₂₀ 雜芳基。更佳碳基及烴基為具有1至40個C原子，較佳1至25個C原子，更佳1至12個C原子之直鏈、分支鏈或環烷基，其未經取代或經F、Cl、Br、I或CN單取代或多取代，且其中一或多個不相鄰CH₂ 基團可以使得O及/或S原子不直接地連接至彼此之方式各自彼此獨立地經-C(R^x )=C(R^x )-、-CºC-、-N(R^x )-、-O-、-S-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-O-CO-O-置換。在上文中，R^x 較佳表示具有1至25個C原子之H、鹵素、直鏈、分支鏈或環烷基，其中另外，一或多個不相鄰C原子可經-O-、-S-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-O-CO-O-置換，且其中一或多個H原子可經氟、具有6至40個C原子之視情況經取代之芳基或芳氧基、具有2至40個C原子之視情況經取代之雜芳基或雜芳氧基置換。較佳烷基為例如甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、第二丁基、第三丁基、2-甲基丁基、正戊基、第二戊基、正己基、2-乙基己基、正庚基、正辛基、正壬基、正癸基、正十一基、正十二烷基、十二烷基、三氟甲基、全氟正丁基、2,2,2-三氟乙基、全氟辛基、全氟己基等。較佳烯基為例如乙烯基、丙烯基、丁烯基、戊烯基、環戊烯基、己烯基、環己烯基、庚烯基、環庚烯基、辛烯基、環辛烯基等。較佳炔基為例如乙炔基、丙炔基、丁炔基、戊炔基、己炔基、辛炔基等。較佳烷氧基為例如甲氧基、乙氧基、2-甲氧基乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、異丁氧基、第二丁氧基、第三丁氧基、2-甲基丁氧基、正戊氧基、正己氧基、正庚氧基、正辛氧基、正壬氧基、正癸氧基、正十一烷氧基、正十二烷氧基等。較佳胺基為例如二甲胺基、甲胺基、甲基苯胺基、苯胺基等。芳基及雜芳基可為單環或多環基團，亦即，其可具有一個環(諸如苯基)或兩個或更多個環，其亦可為稠合的(諸如萘基)或共價連接的(諸如聯二苯)，或含有經稠合環及連接環之組合。雜芳基含有一或多個較佳選自O、N、S及Se之雜原子。尤佳為具有6至25個C原子之單環、雙環或三環芳基及具有2至25個C原子之單環、雙環或三環雜芳基，其視情況含有經稠合環且視情況經取代。此外，較佳為5員、6員或7員芳基及雜芳基，其中另外，一或多個CH基團可以使得O原子及/或S原子不直接地連接至彼此之方式經N、S或O置換。較佳芳基為例如苯基、聯二苯、聯三苯、[1,1':3',1'']聯三苯-2'-基、萘基、蒽、聯萘、菲、芘、二氫芘、

、苝、并四苯、并五苯、苯并芘、茀、茚、茚并茀、螺二茀等。較佳雜芳基為例如：5員環，諸如吡咯、吡唑、咪唑、1,2,3-三唑、1,2,4-三唑、四唑、呋喃、噻吩、硒吩、噁唑、異噁唑、1,2-噻唑、1,3-噻唑、1,2,3-噁二唑、1,2,4-噁二唑、1,2,5-噁二唑、1,3,4-噁二唑、1,2,3-噻二唑、1,2,4-噻二唑、1,2,5-噻二唑、1,3,4-噻二唑；6員環，諸如吡啶、噠嗪、嘧啶、吡嗪、1,3,5-三嗪、1,2,4-三嗪、1,2,3-三嗪、1,2,4,5-四嗪、1,2,3,4-四嗪、1,2,3,5-四嗪；或經縮合基團，諸如吲哚、異吲哚、吲哚嗪、吲唑、苯并咪唑、苯并三唑、嘌呤、萘咪唑、菲咪唑、吡啶咪唑、吡嗪咪唑、喹喏啉咪唑、苯并噁唑、萘并噁唑、蒽并噁唑、菲并噁唑、異噁唑、苯并噻唑、苯并呋喃、異苯并呋喃、二苯并呋喃、喹啉、異喹啉、喋啶、苯并-5,6-喹啉、苯并-6,7-喹啉、苯并-7,8-喹啉、苯并異喹啉、吖啶、啡噻嗪、啡噁嗪、苯并噠嗪、苯并嘧啶、喹喏啉、啡嗪、萘啶、氮雜咔唑、苯并咔啉、啡啶、啡啉、噻吩并[2,3b]噻吩、噻吩并[3,2b]噻吩、二噻吩并噻吩、異苯并噻吩、二苯并噻吩、苯并噻二唑并噻吩或此等基團之組合。雜芳基亦可由烷基、烷氧基、烷硫基、氟、氟烷基或其他芳基或雜芳基取代。 (非芳族)脂環基及雜環基包涵飽和環(亦即，僅含有單鍵之彼等環)以及部分不飽和環(亦即，亦可含有複鍵之彼等環)兩者。雜環含有一或多個較佳選自Si、O、N、S及Se之雜原子。 (非芳族)脂環基及雜環基可為單環基團，亦即，僅含有一個環(諸如環己烷)；或為多環基團，亦即，含有複數個環(諸如十氫萘或二環辛烷)。尤佳為飽和基團。此外，較佳為具有3至25個C原子之單環、雙環或三環基團，其視情況含有經稠合環且視情況經取代。此外，較佳為5員、6員、7員或8員碳環基團，其中另外，一或多個C原子可經Si置換且/或一或多個CH基團可經N置換且/或一或多個不相鄰CH₂ 基團可經-O-及/或-S-置換。較佳脂環基及雜環基為例如：5員基團，諸如環戊烷、四氫呋喃、四氫硫代呋喃、吡咯啶；6員基團，諸如環己烷、環己矽烷、環己烯、四氫哌喃、四氫硫代哌喃、1,3-二噁烷、1,3-二噻烷、哌啶；7員基團，諸如環庚烷；及經稠合基團，諸如四氫萘、十氫萘、茚滿、雙環[1.1.1]戊烷-1,3-二基、雙環[2.2.2]辛烷-1,4-二基、螺[3.3]庚烷-2,6-二基、八氫-4,7-亞甲基茚滿-2,5-二基。芳基、雜芳基、(非芳族)脂環基及雜環基視情況具有一或多個取代基，其較佳選自包含以下之群：矽烷基、磺酸基、磺醯基、甲醯基、胺、亞胺、腈、巰基、硝基、鹵素、C₁ _- ₁₂ 烷基、C₆ _- ₁₂ 芳基、C₁ _- ₁₂ 烷氧基、羥基或此等基團之組合。較佳取代基為例如：促進溶解之基團，諸如烷基或烷氧基；拉電子基團，諸如氟、硝基或腈；或用於提高聚合物之玻璃轉化溫度(Tg)之取代基，特定言之龐大基團，諸如第三丁基或視情況經取代之芳基。下文中亦稱作「L」之較佳取代基為例如F、Cl、Br、I、-OH、-CN、-NO₂ 、-NCO、-NCS、-OCN、-SCN、-C(=O)N(R^x )₂ 、-C(=O)Y^x 、-C(=O)R^x 、-C(=O)OR^x 、-N(R^x )₂ ，其中R^x 具有上述含義，且在上文中，Y^x 表示鹵素，視情況經取代之矽烷基，具有4至40個環原子、較佳4至20個環原子的視情況經取代之芳基或雜芳基，及具有1至25個C原子之直鏈或分支鏈烷基、烯基、炔基、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、烷基羰氧基或烷氧基羰氧基，其中一或多個H原子可視情況經F或Cl置換。「經取代之矽烷基或芳基」較佳意謂經鹵素、-CN、R^y 、-OR^y 、-CO-R^y 、-CO-O-R^y 、-O-CO-R^y 或-O-CO-O-R^y 取代，其中R^y 表示H、具有1至12個C原子之直鏈、分支鏈或環狀烷基鏈。在展示於上文及下文之式中，經取代之伸苯基環

較佳為

，其中L在每次出現時相同或不同地具有上文及下文所給出之含義中之一者，且較佳為F、Cl、CN、NO₂ 、CH₃ 、C₂ H₅ 、C(CH₃ )₃ 、CH(CH₃ )₂ 、CH₂ CH(CH₃ )C₂ H₅ 、OCH₃ 、OC₂ H₅ 、COCH₃ 、COC₂ H₅ 、COOCH₃ 、COOC₂ H₅ 、CF₃ 、OCF₃ 、OCHF₂ 、OC₂ F₅ 或P-Sp-，極佳為F、Cl、CN、CH₃ 、C₂ H₅ 、OCH₃ 、COCH₃ 、OCF₃ 或P-Sp-，最佳為F、Cl、CH₃ 、OCH₃ 、COCH₃ 或OCF₃ 。「鹵素」表示F、Cl、Br或I，較佳F或Cl，更佳F。「可聚合基團」(P)較佳選自含有C=C雙鍵或C≡C參鍵之基團，及適用於用開環聚合之基團，諸如氧雜環丁烷或環氧基團。較佳地，可聚合的基團(P)選自由以下組成之群：CH₂ =CW¹ -COO-、CH₂ =CW¹ -CO-、

、

、CH₂ =CW² -(O)_k3 -、CW¹ =CH-CO-(O)_k3 -、CW¹ =CH-CO-NH-、CH₂ =CW¹ -CO-NH-、CH₃ -CH=CH-O-、(CH₂ =CH)₂ CH-OCO-、(CH₂ =CH-CH₂ )₂ CH-OCO-、(CH₂ =CH)₂ CH-O-、(CH₂ =CH-CH₂ )₂ N-、(CH₂ =CH-CH₂ )₂ N-CO-、CH₂ =CW¹ -CO-NH-、CH₂ =CH-(COO)_k1 -Phe-(O)_k2 -、CH₂ =CH-(CO)_k1 -Phe-(O)_k2 -、Phe-CH=CH-，其中 W¹ 表示H、F、Cl、CN、CF₃ 、具有1至5個C原子之苯基或烷基，尤其H、F、Cl或CH₃ ， W² 表示H或具有1至5個C原子之烷基，尤其H、甲基、乙基或正丙基， W³ 及W⁴ 各自彼此獨立地表示H、Cl或具有1至5個C原子之烷基，Phe表示1,4-伸苯基，其視情況經如上文所定義但不同於P-Sp之一或多個基團L取代，較佳地，較佳取代基L為F、Cl、CN、NO₂ 、CH₃ 、C₂ H₅ 、OCH₃ 、OC₂ H₅ 、COCH₃ 、COC₂ H₅ 、COOCH₃ 、COOC₂ H₅ 、CF₃ 、OCF₃ 、OCHF₂ 、OC₂ F₅ 以及苯基，且 k₁ 、k₂ 及k₃ 各自彼此獨立地表示0或1，k₃ 較佳表示1，且k₄ 為1至10之整數。尤佳可聚合的基團P為CH₂ =CH-COO-、CH₂ =C(CH₃ )-COO-、CH₂ =CF-COO-、CH₂ =CH-、CH₂ =CH-O-、(CH₂ =CH)₂ CH-OCO-、(CH₂ =CH)₂ CH-O-、

及

，其中W² 表示H或具有1至5個C原子之烷基，尤其H、甲基、乙基或正丙基。更佳可聚合的基團(P)為乙烯基氧基、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、氟丙烯酸酯、氯丙烯酸酯、氧雜環丁烷及環氧化物，最佳為丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯，尤其丙烯酸酯。較佳地，所有多反應性可聚合化合物及其子式均含有替代一或多個基團P-Sp-的含有兩個或更多個可聚合基團P (多反應性可聚合基團)之一或多個分支鏈基團。適合之此類型基團及含有該等基團之可聚合化合物描述於例如US 7,060,200 B1或US 2006/0172090 A1中。尤佳係選自下式之多反應性可聚合基團： -X-烷基-CHP^x -CH₂ -CH₂ P^y I*a -X-烷基-C(CH₂ P^x )(CH₂ P^y )-CH₂ P^z I*b -X-烷基-CHP^x CHP^y -CH₂ P^z I*c -X-烷基-C(CH₂ P^x )(CH₂ P^y )-C_aa H_2aa ₊ ₁ I*d -X-烷基-CHP^x -CH₂ P^y I*e -X-烷基-CHP^x P^y I*f -X-烷基-CP^x P^y -C_aa H_2aa ₊ ₁ I*g -X-烷基-C(CH₂ P^v )(CH₂ P^w )-CH₂ OCH₂ -C(CH₂ P^x )(CH₂ Py)CH₂ P^z I*h -X-烷基-CH((CH₂ )_aa P^x )((CH₂ )_bb P^y ) I*i -X-烷基-CHP^x CHP^y -C_aa H_2aa ₊ ₁ I*k 其中烷基表示單鍵或具有1至12個C原子之直鏈或分支鏈伸烷基，其中一或多個不相鄰CH₂ 基團可以使得O及/或S原子不直接地連接至彼此之方式各自彼此獨立地經-C(R^x )=C(R^x )-、-CºC-、-N(R^x )-、-O-、-S-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-O-CO-O-置換，且其中另外，一或多個H原子可經F、Cl或CN置換，其中R^x 具有一個上述含義，_aa 及_bb 各自彼此獨立地表示0、1、2、3、4、5或6， X 具有針對X'所指示之含義中之一者，且 P^v 至P^z 各自彼此獨立地具有上文針對P所指示之含義中之一者。較佳間隔基團Sp選自式Sp'-X'，使得基團「P-Sp-」符合式「P-Sp'-X'-」，其中 Sp' 表示具有1至20個C原子，較佳1至12個C原子之伸烷基，其視情況經F、Cl、Br、I或CN單取代或多取代，且其中另外，一或多個不相鄰CH₂ 基團可以使得O及/或S原子不直接地連接至彼此之方式各自彼此獨立地經-O-、-S-、-NH-、-NR^xx -、-SiR^xx R^yy -、-CO-、-COO-、-OCO-、-OCO-O-、-S-CO-、-CO-S-、-NR^xx -CO-O-、-O-CO-NR^0xx -、-NR^xx -CO-NR^yy -、-CH=CH-或-CºC-置換， X' 表示-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-O-COO-、-CO-NR^xx -、-NR^xx -CO-、-NR^xx -CO-NR^yy -、-OCH₂ -、-CH₂ O-、-SCH₂ -、-CH₂ S-、-CF₂ O-、-OCF₂ -、-CF₂ S-、-SCF₂ -、-CF₂ CH₂ -、-CH₂ CF₂ -、-CF₂ CF₂ -、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-CH=CR^xx -、-CY^xx =CY^xx -、-CºC-、-CH=CH-COO-、-OCO-CH=CH-或單鍵， R^xx 及R^yy 各自彼此獨立地表示H或具有1至12個C原子之烷基，且 Y^xx 及Y^yy 各自彼此獨立地表示H、F、Cl或CN。 X' 較佳為-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-O-COO-、-CO-NR^xx -、-NR^xx -CO-、-NR^xx -CO-NR^yy -或單鍵。典型的間隔基團Sp'為例如-(CH₂ )_p1 -、-(CH₂ CH₂ O)_q1 -CH₂ CH₂ -、-CH₂ CH₂ -S-CH₂ CH₂ -、-CH₂ CH₂ -NH-CH₂ CH₂ -或-(SiR^xx R^yy -O)_p1 -，其中p1為1至12之整數，q1為1至3之整數，且R^xx 及R^yy 具有上述含義。尤佳基團-X'-Sp'-為-(CH₂ )_p1 -、-O-(CH₂ )_p1 -、-OCO-(CH₂ )_p1 -、-OCOO-(CH₂ )_p1 -，其中p1為1至12之整數。在各情況下，尤佳基團Sp'為例如直鏈、亞甲基、伸乙基、伸丙基、伸丁基、伸戊基、伸己基、伸庚基、伸辛基、伸壬基、伸癸基、伸十一烷基、伸十二烷基、伸十八烷基、伸乙基氧基伸乙基、亞甲基氧基伸丁基、伸乙基硫基伸乙基、乙烯-N-甲基亞胺基伸乙基、1-甲基伸烷基、伸乙烯基、伸丙烯基及伸丁烯基。對於本發明，

表示反-1,4-伸環己基，且

表示1,4-伸苯基。對於本發明，基團-COO-或-CO₂ -表示式

酯基，且基團-OCO-、-O₂ C-或-OOC-表示式

酯基。「聚合物網路」為其中所有聚合物鏈互連以藉由許多交聯形成單一肉眼可見之實體的網路。該聚合物網路可按以下類型出現： - 接枝聚合物分子為分支鏈聚合物分子，其中一或多個側鏈在結構上或組態上與主鏈不同。 - 星形聚合物分子為分支鏈聚合物分子，其中單一分支點產生多個線形鏈或臂。若臂相同，則星形聚合物分子據說係規則的。若鄰近的臂由不同重複子單元組成，則星形聚合物分子據說係多樣化的。 - 梳形聚合物分子由具有兩個或更多個三通分支點之主鏈及線形側鏈組成。若臂相同，則梳形聚合物分子據說係規則的。 - 刷狀聚合物分子由主鏈與線形、未分支側鏈組成，且其中分支點中之一或多者具有四通官能性或更大官能性。貫穿本說明書之描述及申請專利範圍，措辭「包含」及「含有」及該等措辭之變化形式(例如，「包含(comprising/comprises)」)意謂「包括但不限於」且不意欲(且不)排除其他組分。另一方面，措辭「包含」亦包涵(但不限於)術語「由……組成」。貫穿本說明書之描述及申請專利範圍，措辭「可獲得的(obtainable)」及「獲得(obtained)」及該措辭之變化形式意謂「包括(但不限於)」，且不意欲(且不)排除其他組分。另一方面，措辭「可獲得的」亦包涵(但不限於)術語「獲得」。所有濃度均以重量百分比引述且與作為整體之各別混合物有關，所有溫度均以攝氏度引述且所有溫度差異均以不同度數引述。式CO-1之較佳咔唑肟酯光引發劑選自由下式化合物組成之群：

其中L¹ 表示H、Br、CN或NO₂ ；L² 、L³ 及n具有如式CO-1中給出的含義中之一者。尤佳為選自下式之咔唑肟酯光引發劑，

其中L² 及L³ 及n具有如上文依據式CO-1所給出之含義中之一者。尤佳為選自下式之咔唑肟酯光引發劑，

其中L² 及L³ 具有如上文依據式CO-1所給出之含義中之一者。更佳為選自下式CO-19至CO-26之咔唑肟酯光引發劑，

其中L³ 具有如上文依據式CO-1所給出之含義中之一者，且較佳表示烷基或1,4-苯基。可以類似於熟習此項技術者已知及描述於有機化學之標準著作(諸如，Houben-Weyl, Methoden der organischen Chemie [Methods of Organic Chemistry], Thieme-Verlag, Stuttgart)中之方法製備式CO-1及其子式之化合物。較佳地，可以類似於揭示於WO2016/076652 A1、WO 2015/108386 A1或EP 2 845 845 A1中之方法製備式CO-1及其子式之化合物。較佳地，作為整體之可聚合的LC材料中之式CO-1之咔唑肟酯光引發劑之最小量大於總混合物之1%，更佳大於2%，甚至更佳大於3%且最佳大於4%。較佳地，式CO-1之咔唑肟酯光引發劑之最大量較佳小於整個可聚合的LC材料之10重量%，極佳小於8重量%，特定言之小於6重量%。較佳地，至少一種雙反應性或多反應性液晶原基化合物選自式DRM P¹ -Sp¹ -MG-Sp² -P² DRM 其中 P¹ 及P² 彼此獨立地表示可聚合的基團， Sp¹ 及Sp² 彼此獨立地為間隔基團或單鍵，且 MG 為條狀液晶原基基團，其較佳選自式MG -(A¹ -Z¹ )_n -A² - MG 其中 A¹ 及A² 在多次出現之情況下彼此獨立地表示芳族或脂環基，其視情況含有一或多個選自N、O及S之雜原子，且視情況經L¹ 單取代或多取代， L¹ 為P-Sp-、F、Cl、Br、I、-CN、-NO₂ 、-NCO、-NCS、-OCN、-SCN、-C(=O)NR⁰⁰ R⁰⁰⁰ 、-C(=O)OR⁰⁰ 、-C(=O)R⁰⁰ 、-NR⁰⁰ R⁰⁰⁰ 、-OH、-SF₅ ；具有1至12個C原子，較佳1至6個C原子之視情況經取代之矽烷基、芳基或雜芳基，及具有1至12個C原子，較佳1至6個C原子之直鏈或分支鏈烷基、烷氧基、烷羰基、烷氧基羰基、烷基羰氧基或烷氧基羰氧基，其中一或多個H原子視情況經F或Cl置換， R⁰⁰ 及R⁰⁰⁰ 彼此獨立地表示H或具有1至12個C原子之烷基， Z¹ 在多次出現之情況下彼此獨立地表示-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-S-CO-、-CO-S-、-O-COO-、-CO-NR⁰⁰ -、-NR⁰⁰ -CO-、-NR⁰⁰ -CO-NR⁰⁰⁰ 、-NR⁰⁰ -CO-O-、-O-CO-NR⁰⁰ -、-OCH₂ -、-CH₂ O-、-SCH₂ -、-CH₂ S-、-CF₂ O-、-OCF₂ -、-CF₂ S-、-SCF₂ -、-CH₂ CH₂ -、-(CH₂ )_n1 、-CF₂ CH₂ -、-CH₂ CF₂ -、-CF₂ CF₂ -、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-CH=CR⁰⁰ -、-CY¹ =CY² -、-C≡C-、-CH=CH-COO-、-OCO-CH=CH-或單鍵， Y¹ 及Y² 彼此獨立地表示H、F、Cl或CN， n 為1、2、3或4，較佳1或2，最佳2， n1 為1至10之整數，較佳1、2、3或4。較佳基團A¹ 及A² 包括(但不限於)呋喃、吡咯、噻吩、噁唑、噻唑、噻二唑、咪唑、伸苯基、伸環己基、伸雙環辛基、伸環己烯基、吡啶、嘧啶、吡嗪、薁、茚滿、茀、萘、四氫化萘、蒽、菲及二噻吩并噻吩，以上所有者均未經取代或經如上所定義之1、2、3或4個基團L取代。特定較佳基團A¹ 及A² 選自1,4-伸苯基、吡啶-2,5-二基、嘧啶-2,5-二基、噻吩-2,5-二基、萘-2,6-二基、1,2,3,4-四氫-萘-2,6-二基、茚滿-2,5-二基、伸雙環辛基或1,4-伸環己基，其中一個或兩個不相鄰CH₂ 基團視情況經O及/或S置換，其中此等基團未經取代或經如上所定義之1、2、3或4個基團L取代。特定較佳基團Z¹ 在每次出現時彼此獨立地較佳選自-COO-、-OCO-、-CH₂ CH₂ -、-CF₂ O-、-OCF₂ -、-CºC-、-CH=CH-、-OCO-CH=CH-、-CH=CH-COO-或單鍵，極佳式DRM之雙反應性液晶原基化合物選自下式：

其中 P⁰ 在多次出現之情況下彼此獨立地為可聚合基團，較佳為丙烯基，甲基丙烯基，氧雜環丁烷，環氧基，乙烯基，乙烯基氧基，丙烯基醚或苯乙烯基。 L 在每次出現時相同或不同地具有針對式DRM中之L¹ 給出的含義中之一者，且在多次出現之情況下彼此獨立地較佳選自F、Cl、CN或具有1至5個C原子之視情況經鹵化之烷基、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、烷基羰氧基或烷氧基羰氧基， r 為0、1、2、3或4， x及y 彼此獨立地為0或1至12之相同或不同整數， z 各自且獨立地為0或1，其中若相鄰x或y為0，則z為0。尤佳為式DRMa1、DRMa2及DRMa3之化合物，特定言之式DRMa1之化合物。較佳地，可聚合的LC材料另外包含至少一種單反應性液晶原基化合物，其較佳選自式MRM， P¹ -Sp¹ -MG-R MRM 其中P¹ 、Sp¹ 及MG具有式DRM中給出之含義， R F、Cl、Br、I、-CN、-NO₂ 、-NCO、-NCS、-OCN、-SCN、-C(=O)NR^x R^y 、-C(=O)X、-C(=O)OR^x 、-C(=O)R^y 、-NR^x R^y 、-OH、-SF₅ ；具有1至12個C原子，較佳1至6個C原子之視情況經取代之矽烷基、直鏈或分支鏈烷基、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、烷基羰氧基或烷氧基羰氧基，其中一或多個H原子視情況經F或Cl置換， X 為鹵素，較佳F或Cl，且 R^x 及R^y 彼此獨立地為H或具有1至12個C原子之烷基。較佳地，式MRM單反應性液晶原基化合物選自下式：

其中P⁰ 、L、r、x、y及z如式DRMa-1至式DRMe中所定義， R⁰ 為具有1個或更多個C原子，較佳1至15個C原子之烷基、烷氧基、硫烷基、烷基羰基、烷氧基羰基、烷基羰氧基或烷氧基羰氧基，或表示Y⁰ ， Y⁰ 為F、Cl、CN、NO₂ 、OCH₃ 、OCN、SCN、SF₅ 或具有1至4個C原子之單氟化、寡氟化或多氟化烷基或烷氧基， Z⁰ 為-COO-、-OCO-、-CH₂ CH₂ -、-CF₂ O-、-OCF₂ -、-CH=CH-、-OCO-CH=CH-、-CH=CH-COO-或單鍵， A⁰ 在多次出現之情況下彼此獨立地為未經取代或經1、2、3或4個基團L取代之1,4-伸苯基，或反-1,4-伸環己基， u及v 彼此獨立地為0、1或2， w 為0或1，且其中苯環及萘環可另外經一或多個相同或不同的基團L取代。更佳為式MRM1、MRM2、MRM3、MRM4、MRM5、MRM6、MRM7、MRM9及MRM10之化合物，尤其為式MRM1、MRM4、MRM6及MRM7之化合物，且特定言之為式MRM1及MRM7之彼等化合物。可以類似於熟習此項技術者已知及描述於有機化學之標準著作(諸如，Houben-Weyl, Methoden der organischen Chemie [Methods of Organic Chemistry], Thieme-Verlag, Stuttgart)中之方法製備式DRM、MRM及其子式之化合物。作為整體的根據本發明之可聚合的液晶材料中之單反應性、雙反應性或多反應性液晶化合物之比例較佳在30至99.9重量%範圍內，更佳在40至99.9重量%範圍內，且甚至更佳在50至99.9重量%範圍內。在一較佳實施例中，作為整體的根據本發明之可聚合的液晶材料中之雙反應性或多反應性可聚合的液晶原基化合物之比例較佳在5至99重量%範圍內，更佳在10至97重量%範圍內，且甚至更佳在15至95重量%範圍內。在另一較佳實施例中，作為整體的根據本發明之可聚合的液晶材料中之單反應性可聚合的液晶原基化合物之比例(若存在)較佳在5至80重量%範圍內，更佳在10至75重量%範圍內，且甚至更佳在15至70重量%範圍內。在另一較佳實施例中，作為整體的根據本發明之可聚合的液晶材料中之多反應性可聚合的液晶原基化合物之比例(若存在)較佳在1至30重量%範圍內，更佳在2至20重量%範圍內，且甚至更佳在3至10重量%範圍內。在另一較佳實施例中，可聚合的LC材料不含有具有多於兩個可聚合基團之可聚合的液晶原基化合物。在另一較佳實施例中，可聚合的LC材料不含有具有少於兩個可聚合基團之可聚合的液晶原基化合物。在另一較佳實施例中，可聚合的LC材料為非對掌性材料，亦即其不含有任何對掌性可聚合液晶原基化合物或其他對掌性化合物。在另一較佳實施例中，可聚合的LC材料包含至少一種較佳選自式MRM-1之單反應性液晶原基化合物、至少一種較佳選自式DRMa-1之雙反應性液晶原基化合物及至少一種式CO-1化合物。在另一較佳實施例中，可聚合的LC材料包含至少一種較佳選自式MRM-7之單反應性液晶原基化合物、至少一種較佳選自式DRMa-1之雙反應性液晶原基化合物及至少一種式CO-1化合物。在另一較佳實施例中，可聚合的LC材料包含至少兩種較佳選自式MRM-1及/或MRM-7化合物之單反應性液晶原基化合物、至少一種較佳選自式DRMa-1之雙反應性液晶原基化合物及至少一種式CO-1化合物。在另一較佳實施例中，可聚合的LC材料包含至少兩種較佳選自式MRM-1及/或MRM-7化合物之單反應性液晶原基化合物、至少兩種較佳選自式DRMa-1化合物之雙反應性液晶原基化合物及至少一種式CO-1化合物。在另一較佳實施例中，可聚合的LC材料包含至少兩種較佳選自式DRMa-1化合物之雙反應性液晶原基化合物及至少一種式CO-1化合物。在另一較佳實施例中，尤其對於負光學色散應用，如上文所描述之可聚合的LC材料另外包含一或多種式ND化合物，<img wi="273" he="133" file="IMG-2/Draw/02_image052.jpg" img-format="jpg"> 其中 U¹ ^、 ² 彼此獨立地選自：<img wi="529" he="101" file="IMG-2/Draw/02_image054.jpg" img-format="jpg"> 包括其鏡像，其中環U¹ 及環U² 經由軸向鍵各自鍵結至基團-(B)_q -，且此等環中之一個或兩個不相鄰CH₂ 基團視情況經O及/或S置換，且環U¹ 及U² 視情況經一或多個基團L取代， Q¹ ^、 ² 彼此獨立地為CH或SiH， Q³ 為C或Si， B 在每次出現時彼此獨立地為-CºC-、-CY¹ =CY² -或視情況經取代之芳族或雜芳族基團， Y¹ ^、 ² 彼此獨立地為H、F、Cl、CN或R⁰ ， q 為1至10之整數，較佳為1、2、3、4、5、6或7， A¹ ^- ⁴ 彼此獨立地選自非芳族、芳族或雜芳族碳環或雜環基，其視情況經一或多個基團R⁵ 取代，且其中-(A¹ -Z¹ )_m -U¹ -(Z² -A² )_n -及-(A³ -Z³ )_o -U² -(Z⁴ -A⁴ )_p -中之每一者不含有比非芳族基更多之芳族基且較佳不含有多於一個芳族基， Z¹ ^- ⁴ 彼此獨立地為-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-O-COO-、-CO-NR⁰ -、-NR⁰ -CO-、-NR⁰ -CO-NR⁰⁰ -、-OCH₂ -、-CH₂ O-、-SCH₂ -、-CH₂ S-、-CF₂ O-、-OCF₂ -、-CF₂ S-、-SCF₂ -_、 -CH₂ CH₂ -、-(CH₂ ⁾ ₃ -、-(CH₂ )₄ -、-CF₂ CH₂ -、-CH₂ CF₂ -、-CF₂ CF₂ -、-CH=CH-、-CY¹ =CY² -、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-CH=CR⁰ -、-CºC-、-CH=CH-COO-、-OCO-CH=CH-、CR⁰ R⁰⁰ 或單鍵， R⁰ 及R⁰⁰ 彼此獨立地為H或具有1至12個C原子之烷基， m及n 彼此獨立地為0、1、2、3或4， o及p 彼此獨立地為0、1、2、3或4， R¹ ^- ⁵ 彼此獨立地為選自以下之相同或不同基團：H、鹵素、-CN、-NC、-NCO、-NCS、-OCN、-SCN、-C(=O)NR⁰ R⁰⁰ 、-C(=O)X⁰ 、-C(=O)R⁰ 、-NH₂ 、-NR⁰ R⁰⁰ 、-SH、-SR⁰ 、-SO₃ H、-SO₂ R⁰ 、-OH、-NO₂ 、-CF₃ 、-SF₅ 、P-Sp-、視情況經取代之矽烷基，或視情況經取代且視情況包含一或多個雜原子之具有1至40個C原子的碳基或烴基，或表示P或P-Sp-，或經P或P-Sp-取代，其中化合物包含至少一個表示P或P-Sp-或經P或P-Sp-取代之基團R¹ ^- ⁵ ， P 為可聚合基團， Sp 為間隔基團或單鍵。較佳地，形成式ND中之橋聯基團B之亞基較佳選自具有120°或大於120°，較佳在180°範圍內的鍵結角度之基團。極佳為連接至其對位中之相鄰基團的-CºC-基團或二價芳族基，如1,4-伸苯基、萘-2,6-二基、茚滿-2,6-二基或噻吩并[3,2-b]噻吩-2,5-二基。另外可能的亞基包括-CH=CH-、-CY¹ =CY² -、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-及-CH=CR⁰ -，其中Y¹ 、Y² 、R⁰ 具有上文所給出之含義。較佳地，橋聯基團或式ND中之-(B)_q -包含一或多個選自由-CºC-組成之群，視情況經1,4-伸苯基取代且視情況經9H-茀-2,7-二基取代之基團。亞基或式ND中之B較佳選自由-CºC-組成之群，視情況經1,4-伸苯基取代且視情況經9H-茀-2,7-二基取代之基團，其中在茀基中，9位中之H原子視情況經碳基或烴基置換。極佳地，橋聯基團或式ND中之-(B)_q -選自-CºC-、-CºC-CºC-、-CºC-CºC-CºC-、-CºC-CºC-CºC-CºC-，

或

其中r為0、1、2、3或4，且L具有如下文所描述之含義。較佳地，其中連接橋聯基團之液晶原基基團的非芳族環(如式ND中之U¹ 及U² )較佳選自

，其中R⁵ 如式ND中所定義。較佳地，式ND中之芳族基A¹ ^- ⁴ 可為單核基團，亦即僅具有一個芳族環(如苯基或伸苯基)，或為多核基團，亦即具有兩個或更多個經稠合環(如萘基或伸萘基)。尤佳為亦可包含經稠合環且視情況經取代之具有至多25個C原子之單環、雙環或三環芳族或雜芳族基團。較佳地，式ND化合物中之非芳族碳環及雜環A¹ ^- ⁴ 包括：為飽和(亦稱作「完全飽和」)的彼等環，亦即其確實僅含有由單鍵連接之C原子或雜原子；及為不飽和(亦稱作「部分飽和」)的彼等環，亦即其亦包含由雙鍵連接之C原子或雜原子。非芳族環亦可包含一或多個較佳選自Si、O、N及S之雜原子。非芳族環及芳族環或式ND中之A¹ ^- ⁴ 較佳選自視情況經一或多個基團L取代之反-1,4-伸環己基及1,4-伸苯基。極佳為式ND化合物，其中m及p為1且n及o為1或2。更佳為式ND化合物，其中m及p為1或2且n及o為0。更佳為其中m、n、o及p為2之化合物。在式ND之化合物中，液晶原基基團中之連接芳族環及非芳族環基團之鍵聯基團或Z¹ ^- ⁴ 較佳選自-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-O-COO-、-CO-NR⁰ -、-NR⁰ -CO-、-NR⁰ -CO-NR⁰ -、-OCH₂ -、-CH₂ O-、-SCH₂ -、-CH₂ S-、-CF₂ O-、-OCF₂ -、-CF₂ S-、-SCF₂ -、-CH₂ CH₂ -、-(CH₂ )₃ -、-(CH₂ )₄ -、-CF₂ CH₂ -、-CH₂ CF₂ -、-CF₂ CF₂ -、-CH=CH-、-CY¹ =CY² -、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-CH=CR⁰ -、-CºC-、-CH=CH-COO-、-OCO-CH=CH-、CR⁰ R⁰⁰ 或單鍵，極佳選自-COO-、-OCO-及單鍵。較佳地，在式ND之化合物中，環上之取代基(諸如L)較佳選自P-Sp-、F、Cl、Br、I、-CN、-NO₂ 、-NCO、-NCS、-OCN、-SCN、-C(=O)NR⁰ R⁰⁰ 、-C(=O)X、-C(=O)OR⁰ 、-C(=O)R⁰ 、-NR⁰ R⁰⁰ 、-OH、-SF₅ ；具有1至12個C原子，較佳1至6個C原子之視情況經取代之矽烷基、芳基或雜芳基；及具有1至12個C原子，較佳1至6個C原子之直鏈或分支鏈烷基、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、烷基羰氧基或烷氧基羰氧基，其中一或多個H原子視情況經F或Cl置換，其中R⁰ 及R⁰⁰ 如式ND中所定義且X為鹵素。較佳地，式ND之化合物包含經兩個或更多個可聚合基團P或P-Sp- (多官能性可聚合基團)取代之一或多個端基(如R¹ ^- ⁴ )或取代基(如R⁵ )。適合之此類型多官能性可聚合基團係揭示於例如US 7,060,200 B1或US 2006/0172090 A1中。極佳式ND之化合物為以下子式之化合物：

其中R¹ ^- ⁵ 、A¹ ^- ⁴ 、Z¹ ^- ⁴ 、B、m、n、o、p及q具有上文所給出之含義中之一者。尤佳為以下子式之化合物：

其中Z具有上文所給出之Z¹ 之含義中之一者，R具有不同於P-Sp-的如上文所給出之R¹ 之含義中之一者，且P、Sp、L及r如上文所定義，且液晶原基基團中之苯環視情況經如上文所定義之一或多個基團L取代。此外，較佳為可聚合液晶介質，其中式ND化合物選自由式ND 25或ND 26化合物組成之群，特定言之，其中Z表示-COO-，r在每次出現時為0，且P、Sp如上文所定義。此等較佳化合物中之P-Sp-較佳為P-Sp'-X'，其中X'較佳為-O-、-COO-或-OCOO-。式ND化合物、其子式及用於其之合成的適合方法係揭示於WO 2008/119427 A1中。可聚合的LC材料中之式ND化合物的量較佳為0至50%，極佳為0至40%。在另一較佳實施例中，可聚合的LC材料視情況包含一或多種選自由以下組成之群的添加劑：另外的聚合引發劑、抗氧化劑、界面活性劑、穩定劑、催化劑、敏化劑、抑制劑、鏈轉移劑、共反應單體、反應性減黏劑、表面活性化合物、潤滑劑、潤濕劑、分散劑、疏水劑、黏著劑、流動改良劑、除氣劑或消泡劑、脫氣劑、稀釋劑、反應性稀釋劑、助劑、著色劑、染料、顏料及奈米粒子。在另一較佳實施例中，可聚合的LC材料視情況包含一或多種選自可聚合非液晶原基化合物之添加劑(反應性減黏劑)。可聚合的LC材料中之此等添加劑的量較佳為0至30%，極佳為0至25%。所使用之反應性減黏劑不僅為在實際意義上稱為反應性減黏劑之物質，而且為含有一或多個可經由其與液晶化合物之可聚合的單元發生反應之互補反應性單元或可聚合的基團P (例如羥基、硫醇基或胺基)之上文已提及之輔助化合物。通常能夠光聚合之物質包括例如含有至少一個烯烴雙鍵的單官能、雙官能及多官能化合物。該等化合物之實例為：羧酸之乙烯酯，例如十二酸、十四酸、十六酸及十八酸之乙烯酯；及二羧酸之乙烯酯，例如丁二酸、己二酸之乙烯酯；單官能醇(例如十二醇、十四醇、十六醇及十八醇)之烯丙醚及乙烯醚以及甲基丙烯酸酯及丙烯酸酯；及雙官能醇(例如，乙二醇及1,4-丁二醇)之二烯丙醚及二乙烯醚。同樣適合的為例如多官能醇之甲基丙烯酸酯及丙烯酸酯，尤其除羥基以外的不含其他官能基或至多含有醚基的彼等酯。此等醇之實例為雙官能醇，諸如乙二醇、丙二醇及其進一步高度縮合之代表(例如，二乙二醇、三乙二醇、二丙二醇、三丙二醇等)、丁二醇、戊二醇、己二醇、新戊二醇、烷氧基化酚類化合物(諸如乙氧基化雙酚及丙氧基化雙酚)、環己烷二甲醇；三官能醇及多官能醇，諸如丙三醇、三羥甲基丙烷、丁三醇、三羥甲基乙烷、季戊四醇、二(三羥甲基丙烷)、二季戊四醇、山梨醇、甘露醇及對應烷氧基化醇，尤其乙氧基化醇及丙氧基化醇。其他適合之反應性減黏劑為聚酯(甲基)丙烯酸酯，其為聚酯醇之(甲基)丙烯酸酯。適合聚酯醇之實例為可藉由使用多元醇(較佳二醇)酯化聚羧酸(較佳二羧酸)而製備之彼等聚酯醇。用於此等含羥基聚酯之起始材料為熟習此項技術者所已知。可採用之二羧酸為丁二酸、戊二酸、己二酸、癸二酸、鄰苯二甲酸及異構體及其氫化產物，及該等酸之酯化及可轉酯化衍生物，例如酸酐及二烷基酯。適合多元醇為上述醇，較佳為乙二醇、1,2-丙二醇及1,3-丙二醇、1,4-丁二醇、1,6-己二醇、新戊二醇、乙二醇及丙二醇類型之環己烷二甲醇及聚乙二醇。此外，適合之反應性減黏劑為1,4-二乙烯苯、三聚氰酸三烯丙酯、下式之三環癸稀基醇之丙烯酸酯：

，其亦稱為丙烯酸二氫二環戊二烯酯，以及丙烯酸、甲基丙烯酸及氰基丙烯酸之烯丙酯。關於藉助於實例提及之反應性減黏劑，尤其且鑒於上述較佳組合物使用含有光可聚合基團之反應性減黏劑。此基團包括例如二元醇及多元醇，例如乙二醇、丙二醇及其進一步高度縮合之代表(例如，二乙二醇、三乙二醇、二丙二醇、三丙二醇等)、丁二醇、戊二醇、己二醇、新戊二醇、環己烷二甲醇、丙三醇、三羥甲基丙烷、丁三醇、三羥甲基乙烷、季戊四醇、二(三羥甲基丙烷)、二季戊四醇、山梨醇、甘露醇及對應烷氧基化醇，尤其乙氧基化醇及丙氧基化醇。該基團另外亦包括例如烷氧基化酚類化合物，例如乙氧基化雙酚及丙氧基化雙酚。此等反應性減黏劑可另外為例如環氧化物或胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯。環氧化物(甲基)丙烯酸酯為例如如可藉由為熟習此項技術者已知的使環氧化烯烴或聚縮水甘油醚或二縮水甘油醚(諸如雙酚A二縮水甘油醚)與(甲基)丙烯酸反應而獲得之彼等環氧化物(甲基)丙烯酸酯。胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯特定言之為同樣為熟習此項技術者已知之使羥基烷酯(甲基)丙烯酸與聚異氰酸酯或二異氰酸酯反應之產物。該等環氧化物及胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯包括在上文作為「混合形式」列出之化合物中。若使用反應性減黏劑，則必須以以下方式使其量及特性與各別條件匹配：一方面，達成令人滿意的所需效應，例如根據本發明之組合物的所需色彩；但另一方面，不過度損害液晶組合物之相行為。可例如使用對應反應性減黏劑來製備低交聯(高交聯)液晶組合物，該等反應性減黏劑每分子具有相對低(高)數目之反應性單元。稀釋劑之群包括例如： C1-C4醇，例如甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、丁醇、異丁醇、第二丁醇；及特定言之C5-C12醇，正戊醇、正己醇、正庚醇、正辛醇、正壬醇、正癸醇、正十一醇及正十二醇及其異構體；二醇，例如1,2-乙二醇、1,2-丙二醇及1,3-丙二醇、1,2-丁二醇、2,3-丁二醇及1,4-丁二醇、二乙二醇及三乙二醇以及二丙二醇及三丙二醇；醚，例如甲基第三丁基醚、1,2-乙二醇單甲醚及1,2-乙二醇二甲醚、1,2-乙二醇單乙醚及1,2-乙二醇二乙醚、3-甲氧基丙醇、3-異丙氧基丙醇、四氫呋喃及二噁烷；酮，例如丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮及二丙酮醇(4-羥基-4-甲基-2-戊酮)；C1-C5烷酯，例如乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯及乙酸戊酯；脂族烴及芳族烴，例如戊烷、己烷、庚烷、辛烷、異辛烷、石油醚、甲苯、二甲苯、乙苯、萘滿、十氫萘、二甲基萘、石油溶劑；Shellsol®及Solvesso®礦物油，例如汽油、煤油、柴油及燃料油；以及天然油，例如橄欖油、大豆油、菜籽油、亞麻籽油及葵花油。當然亦有可能在根據本發明之組合物中使用此等稀釋劑之混合物。只要存在至少部分互混性，此等稀釋劑亦可與水混合。此處適合稀釋劑之實例為：C1-C4醇，例如甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、丁醇、異丁醇及第二丁醇；二醇，例如1,2-乙二醇、1,2-丙二醇及1,3-丙二醇、1,2-丁二醇、2,3-丁二醇及1,4-丁二醇、二乙二醇及三乙二醇以及二丙二醇及三丙二醇；醚，例如四氫呋喃及二噁烷；酮，例如丙酮、甲基乙基酮及二丙酮醇(4-羥基-4-甲基-2-戊酮)；及C1-C4烷基酯，例如乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯及乙酸丁酯。視情況以按可聚合的LC材料之總重量計約0至10.0重量%、較佳約0至5.0重量%之比例採用稀釋劑。消泡劑及脫氣劑(c1))、潤滑劑及流動助劑(c2))、熱固化助劑或輻射固化助劑(c3))、基板潤濕助劑(c4))、潤濕助劑及分散助劑(c5))、疏水劑(c6))、黏著促進劑(c7))及用於促進抗刮擦性之助劑(c8))不能嚴格地限定在其作用範圍內。舉例而言，潤滑劑及流動助劑通常亦充當消泡劑及/或脫氣劑及/或充當用於改良抗刮擦性之助劑。輻射固化助劑亦可充當潤滑劑及流動助劑及/或脫氣劑及/或充當基板潤濕助劑。在個別情況下，此等助劑中之一些亦可滿足黏著促進劑(c8))之功能。對應於上述情況，因此可將某種添加劑分類到下文所描述之多個群組c1)至c8)中。群組c1)中之消泡劑包括無矽聚合物及含矽聚合物。含矽聚合物為例如未經改質或經改質之聚二烷基矽氧烷；或包含聚二烷基矽氧烷及聚醚單元之分支鏈共聚物、梳形或嵌段共聚物，後者可獲自環氧乙烷或環氧丙烷。群組c1)中之脫氣劑包括例如有機聚合物，例如聚醚及聚丙烯酸酯、二烷基聚矽氧烷(尤其二甲基聚矽氧烷)；經有機改質之聚矽氧烷，例如經芳基烷基改質之聚矽氧烷及氟聚矽氧。消泡劑之作用基本上係基於防止泡沫形成或破壞已形成之泡沫。消泡劑基本上藉由促進精細劃分氣體或氣泡之聚結以在待脫氣介質(例如，根據本發明之組合物)中產生較大氣泡且因此加速氣體(空氣)之逸出而起作用。由於消泡劑亦可頻繁用作脫氣劑，且反之亦然，所以此等添加劑已一同包括於群組c1)下。此等助劑例如可購自Tego，如TEGO® Foamex 800、TEGO® Foamex 805、TEGO® Foamex 810、TEGO® Foamex 815、TEGO® Foamex 825、TEGO® Foamex 835、TEGO® Foamex 840、TEGO® Foamex 842、TEGO® Foamex 1435、TEGO® Foamex 1488、TEGO® Foamex 1495、TEGO® Foamex 3062、TEGO® Foamex 7447、TEGO® Foamex 8020、Tego® Foamex N、TEGO® Foamex K 3、TEGO® Antifoam 2-18、TEGO® Antifoam 2-57、TEGO® Antifoam 2-80、TEGO® Antifoam 2-82、TEGO® Antifoam 2-89、TEGO® Antifoam 2-92、TEGO® Antifoam 14、TEGO® Antifoam 28、TEGO® Antifoam 81、TEGO® Antifoam D 90、TEGO® Antifoam 93、TEGO® Antifoam 200、TEGO® Antifoam 201、TEGO® Antifoam 202、TEGO® Antifoam 793、TEGO® Antifoam 1488、TEGO® Antifoam 3062、TEGOPREN® 5803、TEGOPREN® 5852、TEGOPREN® 5863、TEGOPREN® 7008、TEGO® Antifoam 1-60、TEGO® Antifoam 1-62、TEGO® Antifoam 1-85、TEGO® Antifoam 2-67、TEGO® Antifoam WM 20、TEGO® Antifoam 50、TEGO® Antifoam 105、TEGO® Antifoam 730、TEGO® Antifoam MR 1015、TEGO® Antifoam MR 1016、TEGO® Antifoam 1435、TEGO® Antifoam N、TEGO® Antifoam KS 6、TEGO® Antifoam KS 10、TEGO® Antifoam KS 53、TEGO® Antifoam KS 95、TEGO® Antifoam KS 100、TEGO® Antifoam KE 600、TEGO® Antifoam KS 911、TEGO® Antifoam MR 1000、TEGO® Antifoam KS 1100、Tego® Airex 900、Tego® Airex 910、Tego® Airex 931、Tego® Airex 935、Tego® Airex 936、Tego® Airex 960、Tego® Airex 970、Tego® Airex 980及Tego® Airex 985；且可購自BYK，如BYK®-011、BYK®-019、BYK®-020、BYK®-021、BYK®-022、BYK®-023、BYK®-024、BYK®-025、BYK®-027、BYK®-031、BYK®-032、BYK®-033、BYK®-034、BYK®-035、BYK®-036、BYK®-037、BYK®-045、BYK®-051、BYK®-052、BYK®-053、BYK®-055、BYK®-057、BYK®-065、BYK®-066、BYK®-070、BYK®-080、BYK®-088、BYK®-141及BYK®-A 530。視情況以按可聚合的LC材料之總重量計約0至3.0重量%、較佳約0至2.0重量%之比例採用群組c1)中之助劑。在群組c2)中，潤滑劑及流動助劑通常包括無矽聚合物，以及含矽聚合物，例如聚丙烯酸酯或改質劑、低分子量聚二烷基矽氧烷。改質在於一些烷基經廣泛多種有機基團置換。此等有機基團為例如聚醚、聚酯或甚至長鏈(氟化)烷基，最頻繁地使用前者。相應地經改質之聚矽氧烷中的聚醚基團通常由環氧乙烷及/或環氧丙烷單元構建。大體而言，經改質之聚矽氧烷中之此等環氧烷單元的比例愈高，所得產物親水性愈大。此等助劑例如可購自TEGO，如TEGO® Glide 100、TEGO® Glide ZG 400、TEGO® Glide 406、EGO® Glide 410、TEGO® Glide 411、TEGO® Glide 415、TEGO® Glide 420、TEGO® Glide 435、TEGO® Glide 440、TEGO® Glide 450、TEGO® Glide A 115、TEGO® Glide B 1484 (亦可用作消泡劑及脫氣劑)、TEGO® Flow ATF、TEGO® Flow 300、TEGO® Flow 460、TEGO® Flow 425及TEGO® Flow ZFS 460。適合之可輻射固化潤滑劑及流動助劑(其亦可用於改良抗刮擦性)為產品TEGO® Rad 2100、TEGO® Rad 2200、TEGO® Rad 2500、TEGO® Rad 2600及TEGO® Rad 2700，其同樣可獲自TEGO。此等助劑亦可例如購自BYK，如BYK®-300、BYK®-306、BYK®-307、BYK®-310、BYK®-320、BYK®-333、BYK®-341、Byk® 354、Byk®361、Byk®361N、BYK®388。此等助劑亦可例如購自3M，如FC4430®。此等助劑亦可例如購自Cytonix，如FluorN®561或FluorN®562。此等助劑亦可例如購自Merck KGaA，如Tivida®FL 2300及Tivida®FL 2500。視情況以按可聚合的LC材料之總重量計約0至3.0重量%、較佳約0至2.0重量%之比例採用群組c2)中之助劑。在群組c3)中，輻射固化助劑尤其包括具有末端雙鍵之聚矽氧烷，該等末端雙鍵為例如丙烯酸酯基之成分。此等助劑可藉由光化或例如電子輻射交聯。此等助劑通常將多個特性組合在一起。在未交聯狀態中，其可充當消泡劑、脫氣劑、潤滑劑及流動助劑及/或基板潤濕助劑，而在交聯狀態中，其尤其提高例如可使用根據本發明之組合物產生之塗層或薄膜的抗刮擦性。例如彼等塗層或薄膜之光澤特性的精確改良被認為基本上歸因於如消泡劑、脫氣劑及/或潤滑劑及流動助劑(呈未交聯狀態)之此等助劑的作用。適合之輻射固化助劑之實例為可購自TEGO之產品TEGO® Rad 2100、TEGO® Rad 2200、TEGO® Rad 2500、TEGO® Rad 2600及TEGO® Rad 2700，及可購自BYK之產品BYK®-371。群組c3)中之熱固化助劑含有例如能夠與例如黏合劑之異氰酸酯基團反應之一級OH基團。可使用之熱固化助劑之實例為可購自BYK之產品BYK®-370、BYK®-373及BYK®-375。視情況以按可聚合的LC材料之總重量計約0至5.0重量%、較佳約0至3.0重量%之比例採用群組c3)中之助劑。群組c4)中之基板潤濕助劑尤其用於例如藉由印刷油墨或塗層組合物(例如，根據本發明之組合物)提高待印刷或塗佈之基板的潤濕性。此等印刷油墨或塗層組合物之潤滑劑及流動行為的通常伴隨的改良對成品(例如，已交聯)印刷物或塗層之外觀具有影響。廣泛多種此等助劑可例如購自Tego，如TEGO® Wet KL 245、TEGO® Wet 250、TEGO® Wet 260及TEGO® Wet ZFS 453，且可購自BYK，如BYK®-306、BYK®-307、BYK®-310、BYK®-333、BYK®-344、BYK®-345、BYK®-346及Byk®-348。視情況以按液晶組合物之總重量計約0至3.0重量%、較佳約0至1.5重量%之比例採用群組c4)中之助劑。群組c5)中之潤濕助劑及分散助劑尤其用於防止顏料之溢流及浮動以及沈降，且因此視需要，尤其適用於經著色之組合物。此等助劑基本上經由含有此等添加劑之顏料粒子之靜電排斥力及/或位阻來穩定顏料分散劑，其中，在後一種情況中，助劑與環境介質(例如，黏合劑)之相互作用起主要作用。由於例如在印刷油墨及塗料之技術領域中使用此等潤濕助劑及分散助劑係慣例，因此若使用該等助劑，則選擇此類型的適合助劑通常不會給熟習此項技術者帶來任何困難。此等潤濕助劑及分散助劑可例如購自Tego，如TEGO® Dispers 610、TEGO® Dispers 610 S、TEGO® Dispers 630、TEGO® Dispers 700、TEGO® Dispers 705、TEGO® Dispers 710、TEGO® Dispers 720 W、TEGO® Dispers 725 W、TEGO® Dispers 730 W、TEGO® Dispers 735 W及TEGO® Dispers 740 W，且可購自BYK，如Disperbyk®、Disperbyk®-107、Disperbyk®-108、Disperbyk®-110、Disperbyk®-111、Disperbyk®-115、Disperbyk®-130、Disperbyk®-160、Disperbyk®-161、Disperbyk®-162、Disperbyk®-163、Disperbyk®-164、Disperbyk®-165、Disperbyk®-166、Disperbyk®-167、Disperbyk®-170、Disperbyk®-174、Disperbyk®-180、Disperbyk®-181、Disperbyk®-182、Disperbyk®-183、Disperbyk®-184、Disperbyk®-185、Disperbyk®-190、Anti-Terra®-U、Anti-Terra®-U 80、Anti-Terra®-P、Anti-Terra®-203、Anti-Terra®-204、Anti-Terra®-206、BYK®-151、BYK®-154、BYK®-155、BYK®-P 104 S、BYK®-P 105，Lactimon®、Lactimon®-WS及Bykumen®。所使用之群組c5)中之助劑的量為助劑之平均分子量。在任何情況下，初步實驗因此係合理的，但此可僅由熟習此項技術者完成。群組c6)中之疏水劑可用以為例如使用根據本發明之組合物產生之印刷物或塗層提供防水特性。此防止或至少極大地抑制歸因於水吸收之泡脹，且因此防止例如此等印刷物或塗層之光學特性之改變。另外，當將組合物例如用作平版印刷中之印刷油墨時，可由此防止或至少極大地減少水吸收。此等疏水劑可例如購自Tego，如Tego® Phobe WF、Tego® Phobe 1000、Tego® Phobe 1000 S、Tego® Phobe 1010、Tego® Phobe 1030、Tego® Phobe 1010、Tego® Phobe 1010、Tego® Phobe 1030、Tego® Phobe 1040、Tego® Phobe 1050、Tego® Phobe 1200、Tego® Phobe 1300、Tego® Phobe 1310及Tego® Phobe 1400。視情況以按可聚合的LC材料之總重量計約0至5.0重量%、較佳約0至3.0重量%之比例採用群組c6)中之助劑。來自群組c7)之另外的黏著促進劑用於改良接觸之兩個界面的黏著力。由此直接顯而易見的是，基本上有效的黏著促進劑的僅一部分為位於一個界面或另一界面或兩個界面處之黏著促進劑。若例如需要將液體或糊狀印刷油墨、塗層組合物或塗料塗覆至固體基板，則此通常意謂必須將黏著促進劑直接地添加至固體基板，或必須用黏著促進劑(亦稱為上底塗劑)預處理該基板，亦即為此基板具有經改質化學及/或物理表面特性。若已用底塗劑預先對基板上底塗劑，則此意謂接觸之界面一方面為底塗劑之界面，且另一方面為印刷油墨或塗層組合物或塗料之界面。在此情況下，不僅基板與底塗劑之間而且基板與印刷油墨或塗層組合物或塗料之間的黏著性在基板上之整個多層結構之黏著中起作用。可提及之在更廣意義上的黏著促進劑亦為已列於群組c4)下之基板潤濕助劑，但其通常不具有相同黏著促進能力。鑒於基板及預期例如用於該等基板之印刷或塗佈之印刷油墨、塗層組合物及塗料的廣泛變化之物理及化學性質，黏著促進劑系統之多樣性並不出人意料。基於矽烷之黏著促進劑為例如3-胺基丙基三甲氧基矽烷、3-胺基丙基三乙氧基矽烷、3-胺基丙基甲基二乙氧基矽烷、N-胺基乙基-3-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-胺基乙基-3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、N-甲基-3-胺基丙基三甲氧基矽烷、3-脲基丙基三乙氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油基氧基丙基三甲氧基矽烷、3-巰基丙基三甲氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷及乙烯基三甲氧基矽烷。此等及其他矽烷可購自例如在商品名DYNASILAN®下之Hüls。通常應使用來自此等添加劑之製造商的對應技術資訊，或熟習此項技術者可經由對應初步實驗以簡單方式獲得此資訊。然而，若將此等添加劑作為來自群組c7)之助劑添加至根據本發明之可聚合的LC材料，則其之比例按可聚合的LC材料之總重量計視情況對應於約0至5.0重量%。此等濃度資料僅充當引導，此係因為添加劑之量及標識在每一個別情況中係藉由基板及印刷/塗層組合物之性質來測定。針對此情況，對應技術資訊通常可購自此等添加劑之製造商，或可由熟習此項技術者經由對應初步實驗以簡單方式測定。用於改良群組c8)中之抗刮擦性的助劑包括例如上述產品TEGO® Rad 2100、TEGO® Rad 2200、TEGO® Rad 2500、TEGO® Rad 2600及TEGO® Rad 2700，其可購自Tego。對於此等助劑，群組c3)所給出之量資料同樣適合，亦即視情況以按液晶組合物之總重量計約0至5.0重量%、較佳約0至3.0重量%之比例採用此等添加劑。可提及之光穩定劑、熱穩定劑及/或氧化穩定劑之實例為如下：烷基化單酚，諸如2,6-二第三丁基-4-甲基苯酚、2-第三丁基-4,6-二甲基苯酚、2,6-二第三丁基-4-乙基苯酚、2,6-二第三丁基-4-正丁基苯酚、2,6-二第三丁基-4-異丁基苯酚、2,6-二環戊基-4-甲基苯酚、2-(α-甲基環己基)-4,6-二甲基苯酚、2,6-二(十八烷基)-4-甲基苯酚、2,4,6-三環己基苯酚、2,6-二第三丁基-4-甲氧基甲基苯酚；具有直鏈或分支鏈側鏈之壬基苯酚，例如2,6-二壬基-4-甲基苯酚、2,4-二甲基-6-(1'-甲基十一碳-1'-基)苯酚、2,4-二甲基-6-(1'-甲基十七碳-1'-基)苯酚、2,4-二甲基-6-(1'-甲基十三碳-1'-基)苯酚及此等化合物之混合物；烷基硫基甲基苯酚，諸如2,4-二辛基硫基甲基-6-第三丁基苯酚、2,4-二辛基硫基甲基-6-甲基苯酚、2,4-二辛基硫基甲基-6-乙基苯酚及2,6-二(十二烷基)硫基甲基-4-壬基苯酚，對苯二酚及烷基化對苯二酚，諸如2,6-二第三丁基-4-甲氧基苯酚、2,5-二第三丁基對苯二酚、2,5-二第三戊基對苯二酚、2,6-二苯基-4-十八烷氧基苯酚、2,6-二第三丁基對苯二酚、2,5-二第三丁基-4-羥基甲氧苯、3,5-二第三丁基-4-羥基甲氧苯、硬脂酸3,5-二第三丁基-4-羥基苯酯及雙(3,5-二第三丁基-4-羥基苯基)己二酸酯，生育酚，諸如α-生育酚、β-生育酚、γ-生育酚、δ-生育酚及此等化合物之混合物；及生育酚衍生物，諸如生育酚乙酸酯、丁二酸酯、菸鹼酸酯及聚氧乙烯丁二酯(「生育酚丁二酸酯」)，羥基化二苯基硫醚，諸如2,2'-硫基雙(6-第三丁基-4-甲基苯酚)、2,2'-硫基雙(4-辛基苯酚)、4,4′-硫基雙(6-第三丁基-3-甲基苯酚)、4,4′-硫基雙(6-第三丁基-2-甲基苯酚)、4,4′-硫基雙(3,6-二第二戊基苯酚)及二硫化4,4′-雙(2,6-二甲基-4-羥基苯基)，亞烷基雙酚，諸如2,2′-亞甲基雙(6-第三丁基-4-甲基苯酚)、2,2′-亞甲基雙(6-第三丁基-4-乙基苯酚)、2,2′-亞甲基雙[4-甲基-6-(α-甲基環己基)苯酚]、2,2′-亞甲基雙(4-甲基-6-環己基苯酚)、2,2′-亞甲基雙(6-壬基-4-甲基苯酚)、2,2′-亞甲基雙(4,6-二第三丁基苯酚)、2,2-亞乙基雙(4,6-二第三丁基苯酚)、2,2′-亞乙基雙(6-第三丁基-4-異丁基苯酚)、2,2′-亞甲基雙[6-(α-甲基苯甲基)-4-壬基苯酚]、2,2′-亞甲基雙[6-(α,α-二甲基苯甲基)-4-壬基苯酚]、4,4′-亞甲基雙(2,6-二第三丁基苯酚)、4,4′-亞甲基雙(6-第三丁基-2-甲基苯酚)、1,1-雙(5-第三丁基-4-羥基-2-甲基苯基)丁烷、2,6-雙(3-第三丁基-5-甲基-2-羥基苯甲基)-4-甲基苯酚、1,1,3-參(5-第三丁基-4-羥基-2-甲基苯基)丁烷、1,1-雙(5-第三丁基-4-羥基-2-甲基苯基)-3-正十二烷基-巰基丁烷、乙二醇雙[3,3-雙(3′-第三丁基-4′-羥基苯基)丁酸酯]、雙(3-第三丁基-4-羥基-5-甲基苯基)二環戊二烯、雙[2-(3′-第三丁基-2′-羥基-5′-甲基苯甲基)-6-第三丁基-4-甲基苯基]對苯二甲酸酯、1,1-雙(3,5-二甲基-2-羥基苯基)丁烷、2,2-雙(3,5-二第三丁基-4-羥基苯基)丙烷、2,2-雙(5-第三丁基-4-羥基-2-甲基苯基)-4-正十二烷基-巰基丁烷及1,1,5,5-肆(5-第三丁基-4-羥基-2-甲基苯基)戊烷， O-、N-及S-苯甲基化合物，諸如3,5,3′,5′-四第三丁基-4,4′-二羥基二苯甲基醚、4-羥基-3,5-二甲基苯甲基巰基乙酸十八酯、4-羥基-3,5-二第三丁基苯甲基巰基乙酸十三酯、參(3,5-二第三丁基-4-羥基苯甲基)胺、雙(4-第三丁基-3-羥基-2,6-二甲基苯甲基)二硫對苯二甲酸酯、硫化雙(3,5-二第三丁基-4-羥基苯甲基)及異辛基-3,5-二第三丁基-4-羥基苯甲基巰基乙酸酯，芳族羥基苯甲基化合物，諸如1,3,5-參(3,5-二第三丁基-4-羥基苯甲基)-2,4,6-三甲基-苯、1,4-雙(3,5-二第三丁基-4-羥基苯甲基)-2,3,5,6-四甲基-苯及2,4,6-參(3,5-二第三丁基-4-羥基苯甲基)苯酚，三嗪化合物，諸如2,4-雙(辛基巰基)-6-(3,5-二第三丁基-4-羥基苯胺基)-1,3,5-三嗪、2-辛基巰基-4,6-雙(3,5-二第三丁基-4-羥基苯胺基)-1,3,5-三嗪、2-辛基巰基-4,6-雙(3,5-二第三丁基-4-羥基苯氧基)-1,3,5-三嗪、2,4,6-參(3,5-二第三丁基-4-羥基苯氧基)-1,2,3-三嗪、1,3,5-參(3,5-二第三丁基-4-羥基苯甲基)異氰尿酸酯、1,3,5-參(4-第三丁基-3-羥基-2,6-二甲基苯甲基)異氰尿酸酯、2,4,6-參(3,5-二第三丁基-4-羥基苯乙基)-1,3,5-三嗪、1,3,5-參-(3,5-二第三丁基-4-羥基苯丙醯基)六氫-1,3,5-三嗪、1,3,5-參(3,5-二環己基-4-羥基苯甲基)異氰尿酸酯及1,3,5-參(2-羥基乙基)異氰尿酸酯，苯甲基膦酸酯，諸如2,5-二第三丁基-4-羥基苯甲基膦酸二甲酯、3,5-二第三丁基-4-羥基苯甲基膦酸二乙酯、3,5-二第三丁基-4-羥基苯甲基膦酸二(十八烷)酯及5-第三丁基-4-羥基-3-甲基苯甲基膦酸二(十八烷)酯，醯胺基苯酚，諸如4-羥基月桂醯苯胺、4-羥基硬脂醯苯胺及N-(3,5-二第三丁基-4-羥基苯基)胺甲酸辛酯，丙酸酯及乙酸酯，例如一元醇或多元醇之丙酸酯及乙酸酯，諸如甲醇、乙醇、正辛醇、異辛醇、十八醇、1,6-己二醇、1,9-壬二醇、乙二醇、1,2-丙二醇、新戊二醇、硫代二乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、季戊四醇、參(羥基乙基)異氰尿酸酯、N,N′-雙(羥基乙基)草醯胺、3-硫雜十一醇、3-硫雜十五醇、三甲基己二醇、三羥甲基丙烷及4-羥基甲基-1-磷雜-2,6,7-三氧雜雙環[2.2.2]-辛烷，基於胺衍生物之丙醯胺，諸如N,N'-雙(3,5-二第三丁基-4-羥基苯丙醯基)己二胺、N,N'-雙(3,5-二第三丁基-4-羥基苯丙醯基)三亞甲基二胺及N,N'-雙(3,5-二第三丁基-4-羥基苯丙醯基)肼，抗壞血酸(維生素C)及抗壞血酸衍生物，諸如抗壞血酸棕櫚酸酯、月桂酸酯及硬脂酸酯，以及抗壞血酸硫酸酯及磷酸酯，基於胺化合物之抗氧化劑，諸如N,N′-二異丙基-對苯二胺、N,N′-二第二丁基-對苯二胺、N,N′-雙(1,4-二甲基戊基)-對苯二胺、N,N′-雙(1-乙基-3-甲基戊基)-對苯二胺、N,N′-雙(1-甲基庚基)-對苯二胺、N,N′-二環己基-對苯二胺、N,N′-二苯基-對苯二胺、N,N′-雙(2-萘基)-對苯二胺、N-異丙基-N′-苯基-對苯二胺、N-(1,3-二甲基丁基)-N′-苯基-對苯二胺、N-(1-甲基庚基)-N′-苯基-對苯二胺、N-環己基-N′-苯基-對苯二胺、4-(對甲苯胺磺醯基)二苯胺、N,N′-二甲基-N,N′-二第二丁基-對苯二胺、二苯胺、N-烯丙基二苯胺、4-異丙氧基二苯胺、N-苯基-1-萘胺、N-(4-第三辛基苯基)-1-萘胺、N-苯基-2-萘胺、經辛基取代之二苯胺(諸如p,p′-二第三辛基二苯胺)、4-正丁基胺基苯酚、4-丁醯基胺苯酚、4-壬醯基胺苯酚、4-十二醯基胺苯酚、4-十八醯基胺苯酚、雙[4-甲氧基苯基)胺、2,6-二第三丁基-4-二甲基胺甲基苯酚、2,4-二胺基二苯基甲烷、4,4′-二胺基二苯基甲烷、N,N,N′,N′-四甲基-4,4′-二胺基二苯基甲烷、1,2-雙[(2-甲基苯基)胺基]乙烷、1,2-雙(苯胺基)丙烷、(鄰甲苯基)二胍、雙[4-(1',3'-二甲基丁基)苯基]胺、經第三辛基取代之N-苯基-1-萘胺、單烷基化與二烷基化第三丁基/第三辛基二苯胺之混合物、單烷基化與二烷基化壬基二苯胺之混合物、單烷基化與二烷基化十二烷基苯胺之混合物、單烷基化與二烷基化異丙基/異己基二苯胺之混合物、單烷基化與二烷基化第三丁基二苯胺之混合物、2,3-二氫-3,3-二甲基-4H-1,4-苯并噻嗪、啡噻嗪、單烷基化與二烷基化第三丁基/第三辛基啡噻嗪之混合物、單烷基化與二烷基化第三辛基啡噻嗪之混合物、N-烯丙基啡噻嗪、N,N,N′,N′-四苯基-1,4-二胺基丁-2-烯、N,N-雙(2,2,6,6-四甲基哌啶-4-基)己二胺、雙(2,2,6,6-四甲基哌啶-4-基)癸二酸酯、2,2,6,6-四甲基哌啶-4-酮及2,2,6,6-四甲基哌啶-4-醇，膦、亞磷酸酯及亞膦酸二酯，諸如三苯基膦亞磷酸三苯酯、亞磷酸二苯酯烷酯、亞磷酸苯酯二烷酯、參(壬基苯基)亞磷酸酯、亞磷酸三(十二)酯、亞磷酸三(十八)酯、二硬脂醯基季戊四醇二亞磷酸酯、參(2,4-二第三丁基苯基)亞磷酸酯、二異癸基季戊四醇二亞磷酸酯、雙(2,4-二第三丁基苯基)季戊四醇二亞磷酸酯、雙(2,6-二第三丁基-4-甲基苯基)季戊四醇二亞磷酸酯、二異癸氧基季戊四醇二亞磷酸酯、雙(2,4-二第三丁基-6-甲基苯基)季戊四醇二亞磷酸酯、雙(2,4,6-參(第三丁基苯基))季戊四醇二亞磷酸酯、三硬脂醯基山梨醇三亞磷酸酯、肆(2,4-二第三丁基苯基)4,4′-聯伸二苯二亞磷酸酯、6-異辛氧基-2,4,8,10-四第三丁基-12H-二苯并[d,g]-1,3,2-二氧雜膦、6-氟基-2,4,8,10-四第三丁基-12-甲基-二苯并[d,g]-1,3,2-二氧雜膦、亞磷酸雙(2,4-二第三丁基-6-甲基苯基)甲酯及亞磷酸雙(2,4-二第三丁基-6-甲基苯基)乙酯， 2-(2'-羥基苯基)苯并三唑，諸如2-(2'-羥基-5'-甲基苯基)苯并三唑、2-(3',5'-二第三丁基-2'-羥基苯基)苯并三唑、2-(5'-第三丁基-2'-羥基苯基)苯并三唑、2-(2'-羥基-5'-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯基)苯并三唑、2-(3',5'-二第三丁基-2'-羥基苯基)-5-氯苯并三唑、2-(3'-第三丁基-2'-羥基-5'-甲基苯基)-5-氯苯并三唑、2-(3'-第二丁基-5'-第三丁基-2'-羥基苯基)苯并三唑、2-(2'-羥基-4′-辛氧基苯基)苯并三唑、2-(3',5'-二第三戊基-2'-羥基苯基)苯并三唑、2-(3,5'-雙-(α,α-二甲基苯甲基)-2'-羥基苯基)苯并三唑，2-(3'-第三丁基-2'-羥基-5'-(2-辛氧羰基乙基)苯基)-5-氯苯并三唑、2-(3'-第三丁基-5'-[2-(2-乙基己氧基)羰基乙基]-2'-羥基苯基)-5-氯苯并三唑、2-(3'-第三丁基-2'-羥基-5'-(2-甲氧基羰基乙基)苯基)-5-氯苯并三唑、2-(3'-第三丁基-2'-羥基-5'-(2-甲氧基羰基乙基)苯基)苯并三唑、2-(3'-第三丁基-2'-羥基-5'-(2-辛氧羰基乙基)苯基)苯并三唑、2-(3'-第三丁基-5'-[2-(2-乙基己氧基)羰基乙基]-2'-羥基苯基)苯并三唑、2-(3'-十二烷基-2'-羥基-5'-甲基苯基)苯并三唑以及2-(3'-第三丁基-2'-羥基-5'-(2-異辛氧基羰乙基)苯基苯并三唑之混合物，2,2'-亞甲基雙[4-(1,1,3,3-四甲基丁基)-6-苯并三唑-2-基苯酚]；用聚乙二醇300使2-[3'-第三丁基-5'-(2-甲氧基羰基乙基)-2'-羥基苯基]-2H-苯并三唑完全酯化之產物；含硫過氧化物清除劑及含硫抗氧化劑，諸如3,3'-硫二丙酸之酯，例如月桂酯、硬脂醯酯、肉豆蔻酯及十三烷酯、巰基苯并咪唑及2-巰基苯并咪唑之鋅鹽、二丁基鋅二硫胺甲酸、二硫化二(十八烷基)及季戊四醇四(β-十二烷基巰基)丙酸酯， 2-羥基二苯甲酮，諸如4-羥基、4-甲氧基、4-辛氧基、4-癸氧基、4-十二烷氧基、4-苯甲氧基、4,2′,4′-三羥基及2′-羥基-4,4′-二甲氧基衍生物，未經取代及經取代的苯甲酸之酯，諸如水楊酸4-第三丁基苯酯、水楊酸苯酯、水楊酸辛基苯酯、二苯甲醯基間苯二酚、雙(4-第三丁基苯甲醯基)間苯二酚、苯甲醯基間苯二酚、3,5-二第三丁基-4-羥基苯甲酸2,4-二第三丁基苯酯、十六基-3,5-二第三丁基-4-羥基苯甲酸酯、十八基-3,5-二第三丁基-4-羥基苯甲酸酯及2-甲基-4,6-二第三丁基苯基-3,5-二第三丁基-4-羥基苯甲酸酯，丙烯酸酯，諸如α-氰基-β,β-二苯基丙烯酸乙酯、α-氰基-β,β-二苯基丙烯酸異辛酯、α-甲氧基羰基肉桂酸甲酯、α-氰基-β-甲基-對甲氧基肉桂酸甲酯、丁基-α-氰基-β-甲基-對甲氧基肉桂酸酯及甲基-α-甲氧基羰基-對甲氧基肉桂酸酯；位阻胺，諸如雙(2,2,6,6-四甲基哌啶-4-基)癸二酸酯、雙(2,2,6,6-四甲基哌啶-4-基)丁二酸酯、雙(1,2,2,6,6-五甲基哌啶-4-基)癸二酸酯、雙(1-辛氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶-4-基)癸二酸酯、雙(1,2,2,6,6-五甲基哌啶-4-基)-正丁基-3,5-二第三丁基-4-羥基苯甲基丙二酸酯、1-(2-羥基乙基)-2,2,6,6-四甲基-4-羥基哌啶與丁二酸之縮合產物、N,N′-雙(2,2,6,6-四甲基哌啶-4-基)己二胺與4-第三辛基胺基-2,6-二氯-1,3,5-三嗪之縮合產物、參(2,2,6,6-四甲基哌啶-4-基)氮基三乙酸酯、肆(2,2,6,6-四甲基哌啶-4-基)1,2,3,4-丁烷四甲酸酯、1,1′-(1,2-伸乙基)雙(3,3,5,5-四甲基哌嗪酮)、4-苯甲醯基-2,2,6,6-四甲基哌啶、4-十八醯氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶、雙(1,2,2,6,6-五甲基哌啶-4-基)2-正丁基-2-(2-羥基-3,5-二第三丁基苯甲基)丙二酸酯、3-正辛基-7,7,9,9-四甲基-1,3,8-三氮螺[4.5]癸烷-2,4-二酮、雙(1-辛氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶-4-基)癸二酸酯、雙(1-辛氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶-4-基)丁二酸酯、N,N′-雙(2,2,6,6-四甲基哌啶-4-基)己二胺與4-嗎啉基-2,6-二氯-1,3,5-三嗪之縮合產物、2-氯-4,6-雙(4-正丁基胺基-2,2,6,6-四甲基哌啶-4-基)-1,3,5-三嗪與1,2-雙(3-胺基丙胺基)乙烷之縮合產物、2-氯-4,6-二(4-正丁基胺基-1,2,2,6,6-五甲基哌啶-4-基)-1,3,5-三嗪與1,2-雙(3-胺基丙胺基)乙烷之縮合產物、8-乙醯基-3-十二烷基-7,7,9,9-四甲基-1,3,8-三氮螺[4.5]-癸烷-2,4-二酮、3-十二烷基-1-(2,2,6,6-四甲基哌啶-4-基)吡咯啶-2,5-二酮、3-十二烷基-1-(1,2,2,6,6-五甲基哌啶-4-基)吡咯啶-2,5-二酮、4-十六烷氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶與4-十八醯氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶之混合物、N,N′-雙(2,2,6,6-四甲基哌啶-4-基)己二胺與4-環己胺基-2,6-二氯-1,3,5-三嗪之縮合產物、1,2-雙(3-胺基丙胺基)乙烷與2,4,6-三氯-1,3,5-三嗪之縮合產物、4-丁胺基-2,2,6,6-四甲基哌啶、N-(2,2,6,6-四甲基哌啶-4-基)-正十二烷基丁二醯亞胺、N-(1,2,2,6,6-五甲基哌啶-4-基)-正十二烷基丁二醯亞胺、2-十一基-7,7,9,9-四甲基-1-氧雜-3,8-二氮-4-氧代-螺[4.5]-癸烷、7,7,9,9-四甲基-2-環十一烷基-1-氧雜-3,8-二氮-4-氧代螺-[4.5]癸烷與環氧氯丙烷之縮合產物、4-胺基-2,2,6,6-四甲基哌啶與四羥甲基乙炔二脲之縮合產物及聚(甲氧基丙基-3-氧基)-[4(2,2,6,6-四甲基)哌啶基]-矽氧烷，草醯胺，諸如4,4′-二辛氧基草醯替苯胺、2,2'-二乙氧基草醯替苯胺、2,2'-二辛氧基-5,5'-二第三丁草醯替苯胺、2,2'-二十二烷氧基-5,5'-二第三丁草醯替苯胺、2-乙氧基-2'-乙基草醯替苯胺、N,N′-雙(3-二甲胺基丙基)草醯胺、2-乙氧基-5-第三丁基-2'-乙草醯替苯胺及其與2-乙氧基-2'-乙基-5,4′-二第三丁草醯替苯胺之混合物，及經鄰甲氧基二取代之草醯替苯胺、經對甲氧基二取代之草醯替苯胺的混合物以及經鄰乙氧基二取代之草醯替苯胺與經對乙氧基二取代之草醯替苯胺的混合物，及 2-(2-羥基苯基)-1,3,5-三嗪，諸如2,4,6-參-(2-羥基-4-辛氧基苯基)-1,3,5-三嗪、2-(2-羥基-4-辛氧基苯基)-4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪、2-(2,4-二羥基苯基)-4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪、2,4-雙(2-羥基-4-丙氧基苯基)-6-(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪、2-(2-羥基-4-辛氧基苯基)-4,6-雙(4-甲基苯基)-1,3,5-三嗪、2-(2-羥基-4-十二烷氧基苯基)-4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪、2-(2-羥基-4-十三烷氧基苯基)-4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪、2-[2-羥基-4-(2-羥基-3-丁氧基丙氧基)苯基]-4,6-雙(2,4-二甲基)-1,3,5-三嗪、2-[2-羥基-4-(2-羥基-3-辛氧基丙氧基)苯基]-4,6-雙(2,4-二甲基)-1,3,5-三嗪、2-[4-(十二烷氧基/十三烷氧基-2-羥基丙氧基)-2-羥基苯基]-4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪、2-[2-羥基-4-(2-羥基-3-十二烷氧基丙氧基)苯基]-4,6-雙-(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪、2-(2-羥基-4-己氧基苯基)-4,6-二苯基-1,3,5-三嗪、2-(2-羥基-4-甲氧基苯基)-4,6-二苯基-1,3,5-三嗪、2,4,6-參[2-羥基-4-(3-丁氧基-2-羥基丙氧基)苯基]-1,3,5-三嗪及2-(2-羥基苯基)-4-(4-甲氧基苯基)-6-苯基-1,3,5-三嗪。在另一較佳實施例中，可聚合的LC材料包含較佳選自Irganox®系列之一或多種特定抗氧化添加劑，例如可購自Ciba, Switzerland之抗氧化劑Irganox®1076及Irganox®1010。在另一較佳實施例中，可聚合的LC材料包含一或多種光引發劑，更佳兩種或更多種光引發劑之組合。通常，可與一或多種式CO-1化合物一起使用之額外自由基光引發劑例如選自市售Irgacure®或Darocure® (Ciba AG)系列，尤其Irgacure 127、Irgacure 184、Irgacure 369、Irgacure 651、Irgacure 817、Irgacure 907、Irgacure 1300、Irgacure、Irgacure 2022、Irgacure 2100、Irgacure 2959或Darcure TPO。可聚合的LC材料中之作為整體之聚合引發劑的濃度較佳為1%至10%，極佳為2%至8%，更佳為3%至6%。在另一較佳實施例中，尤其出於除光學薄膜外之目的(諸如PN-LC或PDLC應用)，可聚合的LC材料亦包含不可聚合的向列型組分。不可聚合的向列型組分較佳包含選自如下所指示之化合物的一或多種LC化合物： - 液晶組分較佳包含選自式I-1、I-2、I-3及I-4之化合物之群組的一或多種化合物，

其中 R^2A 表示H、具有1至15個C原子之烷基或烷氧基，其中另外，此等基團中之一或多個CH₂ 基團可以使得O原子不直接地連接至彼此之方式各自彼此獨立地經-C≡C-、-CF₂ O-、-CH=CH-、

、

、-O-、-CO-O-、-O-CO-置換，且其中另外，一或多個H原子可經鹵素置換， L¹ 及L² 各自彼此獨立地表示F、Cl、CF₃ 或CHF₂ ，較佳各自表示F， Z² 及Z² ^’ 各自彼此獨立地表示單鍵、-CH₂ CH₂ -、-CH=CH-、-CF₂ O-、-OCF₂ -、-CH₂ O-、-OCH₂ -、-COO-、-OCO-、-C₂ F₄ -、-CF=CF-或-CH=CHCH₂ O-， p 表示0、1或2， q 表示0或1， (O)C_v H_2v ₊ ₁ 表示OC_v H_2v ₊ ₁ 或C_v H_2v ₊ ₁ ，且 v 表示1至6。以下展示式I-1至I-4之尤佳化合物：

其中烷基及烷基*各自彼此獨立地表示具有1至9個C原子，較佳2至6個C原子之直鏈烷基，且烯基及烯基*各自彼此獨立地表示具有2至6個C原子之直鏈烯基，且p表示0、1或2。關於該等化合物，尤佳為式I-1a、I-1c、I-1e、I-1g、I-1j、I-1r、I-1t、I-2b、I-2h、I-2j及I-3a之化合物。 - 介質包含一或多種式II及/或III之中性化合物，

其中 A 表示1,4-伸苯基或反-1,4-伸環己基， a 為0或1， R³ 表示具有2至9個C原子之烯基，且 R⁴ 表示具有1至15個C原子之烷基或烷氧基，其中另外，此等基團中之一或多個CH₂ 基團可以使得O原子不直接地連接至彼此之方式各自彼此獨立地經-C≡C-、-CF₂ O-、-CH=CH-、

、

、-O-、-CO-O-、-O-CO-置換，且其中另外，一或多個H原子可經鹵素、較佳具有1至12個C原子之烷基或具有2至9個C原子之烯基置換。 - 式II化合物較佳選自下式：

其中R^3a 及R^4a 各自彼此獨立地表示H、CH₃ 、C₂ H₅ 或C₃ H₇ ，且「烷基」表示具有1至8個C原子之直鏈烷基。尤佳為：式IIa及IIf化合物，特定言之其中R^3a 表示H或CH₃ ；及式IIc化合物，特定言之其中R^3a 及R^4a 表示H、CH₃ 或C₂ H₅ 。此外，較佳為在烯基側鏈中具有非末端雙鍵之式II化合物：

. 極其尤佳式II化合物為下式之化合物：

. 關於式IIa-1至IIa-19之化合物，特定言之，尤佳為式IIa-1、IIa-2、IIa-3及IIa-5之化合物。 - 式III之化合物較佳選自下式：

其中「烷基」及R^3a 具有上文所指示之含義，且R^3a 較佳表示H或CH₃ 。尤佳為式IIIb化合物；極其尤佳為式IIIb-1化合物，

其中「烷基」具有上文所指示之含義，且較佳表示CH₃ ，另外C₂ H₅ 或正C₃ H₇ 。較佳混合物包含至少一種來自基團S-1、S-2、S-3及S-4之化合物，

此係因為此等化合物尤其有助於抑制混合物之近晶相。液晶組分較佳包含一或多種通式N之化合物，

其中 R^N1 及R^N2 各自彼此獨立地表示具有1至15個C原子之烷基或烷氧基，其中另外，此等基團中之一或多個CH₂ 基團可以使得O原子不直接地連接至彼此之方式各自彼此獨立地經-C≡C-、-CF₂ O-、

、

、-O-、-CO-O-、-O-CO-置換，且其中另外，一或多個H原子可經鹵素置換，環A^N1 、A^N2 及A^N3 各自彼此獨立地表示1,4-伸苯基、2-氟基-1,4-伸苯基、3-氟-1,4-伸苯基、反-1,4-伸環己基，其中另外，一個或兩個CH₂ 基團可經-O-或1,4-伸環己烯基置換， Z^N1 及Z^N2 各自彼此獨立地表示單鍵、-CH₂ CH₂ -、-COO-、-OCO-、-C≡C-、-CH₂ O-、-OCH₂ -、-CF₂ O-、-OCF₂ -或-CH=CH-， n 表示0、1或2。以下展示較佳式N化合物：

其中烷基及烷基*各自彼此獨立地表示具有1至9個C原子、較佳2至6個C原子之直鏈烷基，且烯基及烯基*各自彼此獨立地表示具有2至6個C原子之直鏈烯基。在式N化合物中，尤佳為式N-1、N-2、N-3、N-4、N-8、N-9、N-14、N-15、N-17、N-18、N-19、N-20、N-21、N-22、N-23、N-24、N-25、N-30、N-32、N-34及N-37之化合物。可以類似於熟習此項技術者已知及描述於有機化學之標準著作(諸如，Houben-Weyl, Methoden der organischen Chemie [Methods of Organic Chemistry], Thieme-Verlag, Stuttgart)中之方法製備式I至III及N或其子式之化合物。可用於根據本發明之液晶介質中之較佳化合物如下所示： - 介質較佳包含一或多種式I-1化合物，較佳式I-1c化合物，該等化合物選自式CY-3-O2、CY-3-O4、CY-5-O2及CY-5-O4之化合物之群組， - 介質較佳包含：一或多種式I-1化合物，該等化合物較佳選自式I-1e及I-1d之群組；較佳式CCY-n-Om化合物，該等化合物較佳選自式CCY-3-O2、CCY-2-O2、CCY-3-O1、CCY-3-O3、CCY-4-O2、CCY-3-O2及CCY-5-O2之化合物之群組， - 介質較佳包含一或多種式I-2化合物，較佳式I-2b化合物，該等化合物較佳選自式CPY-2-O2、CPY-3-O2、CPY-4-O2及CPY-5-O2之化合物之群組， - 介質較佳包含一或多種式I-2h化合物，該等化合物較佳選自式PY-3-O2、PY-1-O4及PY-4-O2之化合物之群組， - 介質較佳包含一或多種式I-3化合物，該等化合物較佳選自式PYP-2-3及PYP-2-4之化合物之群組。 - 介質視情況較佳包含一或多種式I-4化合物，較佳式CLY-n-Om化合物，該等化合物較佳選自式CLY-2-O4、CLY-3-O2及CLY-3-O3之化合物之群組， - 介質較佳包含一或多種式II化合物，該等化合物較佳選自式CC-n-V及CC-n-Vm (較佳CC-3-V、CC-3-V1、CC-4-V及CC-5-V)之化合物之群組，尤佳選自CC-3-V、CC-3-V1及CC-4-V之化合物之群組，極其較佳CC-3-V之化合物，及另外視情況CC-4-V及/或CC-3-V1之化合物， - 介質較佳包含化合物PP-1-2V1， - 介質較佳在作為整體之混合物中包含呈20至99重量%之量的式I-1至I-4之化合物， - 介質較佳包含式II及/或III之化合物之1重量%或更多至60重量%或更少，較佳3重量%或更多至50重量%或更少，尤佳5重量%或更多至45重量%或更少， - 介質較佳包含式I-1至I-4化合物之45重量%或更多至80重量%或更少， - 介質較佳包含式I-1化合物之10重量%或更多至40重量%或更少， - 介質較佳包含式I-2化合物之10重量%或更多至40重量%或更少， - 介質較佳包含式I-3化合物之10重量%或更多至40重量%或更少， - 介質較佳包含式I-4化合物之0重量%或更多至40重量%或更少。在另一較佳實施例中，尤其鑒於PN-LC或PDLC應用，除不可聚合的向列型組分外，可聚合的LC材料亦可包含一或多種二色性染料，其較佳選自為熟習此項技術者已知之苝染料、蒽醌染料及/或偶氮染料之群組。更佳地，二色性染料選自由式D化合物組成之群，

其中，<img wi="112" he="53" file="IMG-2/Draw/02_image151.jpg" img-format="jpg"><img wi="103" he="49" file="IMG-2/Draw/02_image153.jpg" img-format="jpg"><img wi="396" he="307" file="IMG-2/Draw/02_image155.jpg" img-format="jpg"><img wi="114" he="102" file="IMG-2/Draw/02_image157.jpg" img-format="jpg"><img wi="112" he="52" file="IMG-2/Draw/02_image159.jpg" img-format="jpg"><img wi="390" he="150" file="IMG-2/Draw/02_image161.jpg" img-format="jpg"><img wi="283" he="153" file="IMG-2/Draw/02_image163.jpg" img-format="jpg"><img wi="112" he="52" file="IMG-2/Draw/02_image165.jpg" img-format="jpg"><img wi="390" he="236" file="IMG-2/Draw/02_image167.jpg" img-format="jpg"><img wi="303" he="112" file="IMG-2/Draw/02_image169.jpg" img-format="jpg"> Z¹¹ 及Z¹² 彼此獨立地為N=N-、-OCO-或-COO-， R¹¹ 及R¹² 彼此獨立地為烷基、烷氧基、氟化烷基或氟化烷氧基、烯基、烯基氧基、烷氧基烷基或氟化烯基、烷基胺基、二烷基胺基、烷基羰基、烷氧基羰基、烷基羰氧基、烷氧基羰氧基或烷胺基環己基烷基，且 i及j 彼此獨立地為1、2、3或4。在本發明之一較佳實施例中，液晶介質包含一或多種較佳選自式D-1至D-7之化合物之群組的二色性染料，

其中參數具有上文依據式D所給出之各別含義。在本發明之一較佳實施例中，液晶介質包含一或多種較佳選自式D'-1至D'-7之化合物之群組的二色性染料，

其中參數具有上文依據式D所給出之各別含義。更佳式D化合物係由下式表示：

較佳地，介質中之二色性染料之濃度在0.1%至5%，更佳0.2%至4%，甚至更佳0.3%至3%，最佳0.5%至2%範圍內，且特定言之約1%。可以類似於熟習此項技術者已知及描述於有機化學之標準著作(諸如，Houben-Weyl, Methoden der organischen Chemie [Methods of Organic Chemistry], Thieme-Verlag, Stuttgart)中之方法製備式D或其子式之化合物。在一較佳實施例中，介質包含兩種或更多種、較佳三種或更多種二色性染料之混合物。最佳存在三種二色性染料。較佳地，二色性染料具有彼此互補之吸收光譜，亦即互補的吸收色，且較佳以相對於彼此的比率混合，其產生混合物之組合吸收之中性色(亦即，呈黑色外觀)。此意謂吸收在可見光譜範圍內幾乎為恆定的。舉例而言，在下表中給出三種化合物D'-1a、D'-4a及D'-5a之較佳組合之光譜特性：

*)：光學密度：OD º log₁₀ (I_i /I_t )， Ii = 入射光強度， It = 透射光強度，^§ )：購自Merck KGaA,Germany之ZLI-混合物， **)：主體LC中之染料之二色性比率，且 ***)：主體LC中之染料之級數參數。較佳地，除一或多種式CO-1化合物以外，可聚合的LC材料包含： a) 一或多種雙反應性或多反應性可聚合的液晶原基化合物， b) 視情況一或多種單反應性可聚合的液晶原基化合物， c) 視情況一或多種抗氧化添加劑， d) 視情況一或多種黏著促進劑， e) 視情況一或多種界面活性劑， f) 視情況一或多種穩定劑， g) 視情況一或多種單反應性、雙反應性或多反應性可聚合的非液晶原基化合物， h) 視情況一或多種展示用於起始光聚合作用之波長處之最大吸收的染料， i) 視情況一或多種鏈轉移劑， j) 視情況一或多種穩定劑， k) 視情況一或多種潤滑劑及流動助劑，及 l) 視情況一或多種稀釋劑， m) 視情況不可聚合的向列型組分。更佳地，可聚合的LC材料包含： a) 一或多種式CO-1光引發劑，較佳選自式CO-19至CO-22化合物、更佳式CO-19化合物，較佳呈1至10重量%、極佳2至8重量%之量， b) 一或多種、較佳兩種或更多種雙反應性可聚合的液晶原基化合物，若存在，較佳呈10至90重量%、極佳15至75重量%之量，較佳選自式DRMa-1化合物， c) 視情況一或多種、較佳兩種或更多種單反應性可聚合的液晶原化合物，較佳呈10至95重量%、極佳25至85%之量，較佳選自式MRM-1及/或MRM-7化合物， d) 視情況一或多種式ND化合物，較佳呈0至50%、極佳0至40%之量， e) 視情況一或多種抗氧化添加劑，較佳選自未經取代及經取代之苯甲酸之酯，特定言之Irganox®1076，且若存在，較佳呈0.01至2重量%、極佳0.05至1重量%之量， f) 視情況一或多種潤滑劑及流動助劑，較佳選自BYK®388、FC 4430及/或Fluor N 562，且若存在，較佳呈0.1至5重量%、極佳0.2至3重量%之量，及 g) 視情況一或多種稀釋劑，較佳選自正十二醇，若存在，較佳呈0.1至5重量%、極佳0.2至3重量%之量，及 h) 視情況不可聚合的向列型組分，較佳包含式I至III及N之化合物，若存在，較佳呈20至99重量%、極佳50至90重量%之量。本發明進一步係關於藉由以下製備聚合物薄膜之方法 - 在基板上提供如上文及下文所描述之可聚合的LC材料之層提供， - 藉由光聚合作用來聚合可聚合的LC材料之可聚合的組分，以及 - 視情況自基板移除經聚合的LC材料，及/或視情況將該經聚合的LC材料提供至另一基板上。亦有可能在適合的溶劑中溶解可聚合的LC材料。在另一較佳實施例中，可聚合的LC材料包含一或多種溶劑，其較佳選自有機溶劑。溶劑較佳選自：酮，諸如丙酮、甲基乙基酮、甲基丙基酮、甲基異丁基酮或環己酮；乙酸酯，諸如乙酸甲酯、乙酸乙酯或乙酸丁酯或乙醯乙酸甲酯；醇，諸如甲醇、乙醇或異丙醇；芳族溶劑，諸如甲苯或二甲苯；脂環烴，諸如環戊烷或環己烷；鹵化烴，諸如二氯甲烷或三氯甲烷；二醇或其酯，諸如PGMEA (丙基二醇單甲醚乙酸酯)、γ-丁內酯。亦有可能使用以上溶劑之二元、三元或更高混合物。在可聚合的LC材料含有一或多種溶劑之情況下，溶劑中之所有固體(包括RM)之總濃度較佳為10%至60%。隨後將此溶液塗佈或印刷至基板上，例如藉由旋塗、印刷或其他已知技術，且在聚合作用之前使溶劑蒸發。在大多數情況下，加熱混合物係適合的以便便於使溶劑蒸發。藉由如旋塗、棒塗或刮塗之習知塗佈技術，可將可聚合的LC材料塗覆於基板上。藉由為專家已知之習知印刷技術，如例如網板印刷、平版印刷、卷軸至卷軸印刷、印字機印刷、凹版印刷、輪轉式凹版印刷、彈性凸版印刷、凹紋印刷、移印、熱封印刷、噴墨印刷或藉助於印模或印刷板之印刷，其亦可塗覆於基板上。適合之基板材料及基板為專家已知且描述於文獻中，例如用於光學薄膜行業之習知基板，諸如玻璃或塑膠。用於聚合作用之尤其適合且尤佳的基板為聚酯，諸如聚對苯二甲酸伸乙酯(PET)或聚萘二甲酸伸乙酯(PEN)、聚乙烯醇(PVA)、聚碳酸酯(PC)、三乙醯纖維素(TAC)或環烯烴聚合物(COP)，或通常已知之濾色器材料，尤其為三乙醯纖維素(TAC)、環烯烴聚合物(COP)或通常已知之濾色器材料。可聚合的LC材料較佳呈現遍及整個層之均一配向。較佳地，可聚合的LC材料呈現均一平面配向或均一垂直配向。 Friedel-Creagh-Kmetz定律可用於藉由將RM層與基板之表面能進行比較來預測混合物是否將採用平面配向或垂直配向：若γ_RM ＞ γ_s ，則反應性液晶原基化合物將呈現垂直配向，若γ_RM ＜ γ_s ，則反應性液晶原基化合物將呈現垂直配向。當基板之表面能相對低時，反應性液晶原基之間的分子間力比整個RM基板界面中的力更強。因此，反應性液晶原基垂直於基板配向(垂直配向)，以便最大化使分子間力。亦可藉由使用兩親媒性材料實現垂直配向；可將其直接地添加至可聚合的LC材料，或可用呈垂直配向層之形式的此等材料處理基板。將兩親媒性材料之極性頭化學地鍵結至基板，且烴尾點垂直於基板。兩親媒性材料與RM之間的分子間相互作用促進垂直配向。常用兩親媒性界面活性劑係上文所描述。用於促進垂直配向之另一方法係將電暈放電處理應用至塑膠基板，從而在基板表面上產生醇官能基或酮官能基。此等極性基團可與存在於RM或界面活性劑中之極性基團相互作用以促進垂直配向。當基板之表面張力大於RM之表面張力時，整個界面中的力佔優勢。界面能量在反應性液晶原基平行於基板配向之情況下降至最低，因此RM之長軸可與基板相互作用。可藉由用聚醯亞胺層塗佈基板且隨後用天鵝絨布料摩擦配向層來促進單向平面配向。其他適合之平面配向層為此項技術中已知的，例如如US 5,602,661、US 5,389,698或US 6,717,644中所描述藉由光配向製備之經摩擦聚醯亞胺層或配向層。大體而言，例如由I. Sage在「Thermotropic Liquid Crystals」 (G. W. Gray編, John Wiley & Sons, 1987, 第75-77頁)中及由T. Uchida及H. Seki在「Liquid Crystals - Applications and Uses Vol. 3」 (B. Bahadur編, World Scientific Publishing, Singapore 1992, 第1-63頁)中給出配向技術之評述。由J. Cognard, Mol. Cryst. Liq. Cryst. 78, Supplement 1 (1981), 第1-77頁給出配向材料及技術之另外的評述。對於根據本發明之聚合物薄膜的產生，藉由原位光聚合使可聚合的LC材料中之可聚合化合物聚合或交聯(在一種化合物含有兩個或更多個可聚合基團之情況下)。光聚合可在一個步驟中實行。亦有可能在第二步驟中使未在第一步驟中反應(「結束固化」)之化合物光聚合或交聯。在一較佳製備方法中，將可聚合的LC材料塗佈至基板上，且隨後例如如例如WO 01/20394、GB 2,315,072或WO 98/04651中所描述藉由暴露於光化輻射而光聚合。 LC材料之光聚合較佳藉由將其暴露於光化輻射來實現。光化輻射意謂用如UV光、IR光或可見光之光照射，用X-射線或γ射線照射，或用諸如離子或電子之高能粒子照射。較佳地，聚合藉由光照射進行，尤其用UV光。例如可使用單個UV燈或一組UV燈作為光化輻射之光源。當使用高功率燈時，可減少固化時間。用於光輻射之另一可能來源為雷射，例如UV雷射、IR雷射或可見光雷射。固化時間尤其取決於可聚合的LC材料之反應性、塗佈層之厚度、聚合引發劑之類型及UV燈之功率。固化時間較佳£ 5分鐘，極佳£ 3分鐘，最佳£ 1分鐘。對於大批量生產，£ 30秒之短固化時間為較佳。適合之UV輻射功率較佳在5至200 mWcm^-2 範圍內，更佳在50至175 mWcm^-2 範圍內，且最佳在100至150 mWcm^-2 範圍內。與應用之UV輻射有關且作為時間函數，適合的UV劑量較佳在25至7200 mJcm^-2 範圍內，更佳在500至7200 mJcm^-2 範圍內，且最佳在3000至7200 mJcm^-2 範圍內。光聚合較佳在惰性氣體氛圍下進行，較佳在熱氮氣氛圍中進行，且亦可能在空氣中聚合。光聚合較佳在1至70℃、更佳5至50℃、甚至更佳15至30℃之溫度下進行。根據本發明之經聚合的LC薄膜對塑膠基板，尤其對TAC、COP及濾色器具有良好黏著性。因此，其可用作對於後續LC層之黏著劑或基底塗層，否則其將不會良好地黏著至基板上。根據本發明之經聚合的LC薄膜之較佳厚度由來自薄膜或最終產物之所需光學特性決定。舉例而言，若經聚合的LC薄膜並不主要地充當光學層，而是例如充當黏著層、配向層或保護層，則其厚度較佳不大於1 μm，尤其不大於0.5 μm，極佳不大於0.2 μm。舉例而言，本發明之經均一垂直或平面配向之聚合物薄膜可用作例如LCD中之延遲薄膜或補償薄膜，以在較大視角下改良對比度及亮度且減小色度。其可在LCD中之可切換液晶單元外部，或基板(通常玻璃基板)之間使用，形成可切換液晶單元且含有該可切換液晶介質(在單元應用中)。對於聚合物薄膜之光學應用，其厚度較佳為0.5至10 μm，極佳0.5至5 μm，尤其0.5至3 μm。隨入射光束之波長變化的聚合物薄膜之光學延遲(δ(λ))由以下方程式(7)給出：

(7) 其中(Δn)為薄膜之雙折射率，(d)為薄膜之厚度且λ為入射光束之波長。根據Snellius定律，隨入射光束之方向變化的雙折射率定義為

(8) 其中sinΘ為光軸在薄膜中之入射角度或傾斜角度，且sinΨ為對應的反射角度。基於此等定律，雙折射率及相應地光學延遲視薄膜之厚度及光軸在薄膜中之傾斜角而定(參見Berek's補償器)。因此，熟習專家瞭解不同光學遲延或不同雙折射率可由調節液晶分子在聚合物薄膜中之定向誘發。根據本發明之聚合物薄膜的雙折射率(Δn)較佳在0.01至0.30範圍內，更佳在0.01至0.25範圍內，且甚至更佳在0.01至0.16範圍內。隨根據本發明之聚合物薄膜的厚度變化之光學延遲小於200 nm，較佳小於180 nm且甚至更佳小於150 nm。特定言之，就內嵌應用而言，根據本發明之聚合物薄膜呈現高溫穩定性。因此，聚合物薄膜呈現高達300℃，較佳高達250℃，更佳高達230℃之溫度穩定性。本發明之聚合物薄膜亦可用作用於其他液晶或RM材料之配向薄膜。舉例而言，其可用於LCD中以誘發或改良可切換液晶介質之配向，或配向塗佈於其上之可聚合的LC材料之連續層。以此方式，可製備經聚合的LC薄膜之堆疊。概言之，根據本發明之經聚合的LC薄膜及可聚合的LC材料適用於光學元件中，如偏光器、補償器、配向層、液晶顯示器或投影系統中之圓形偏光器或濾色器、裝飾影像，以供製備液晶或效應顏料，且尤其適用於具有在空間上變化之反射色彩之反射薄膜，例如作為用於裝飾、資訊儲存或安全用途(諸如，如身分證或信用卡、鈔票等不可偽造的文件)之多色影像。根據本發明之經聚合的LC薄膜可用於透射型或反射型顯示器。其可用於習知的OLED顯示器或LCD中(特定而言，DAP (配向相之變形)或VA (垂直配向型)模式之LCD，如例如ECB (電控雙折射率)、CSH (彩色超垂直)、VAN或VAC (垂直配向型向列型或膽固醇型)顯示器，MVA (多域垂直配向型)或PVA (圖案化垂直配向型)顯示器)，用於彎曲模式顯示器或混合類型顯示器(如例如OCB (光學補償彎曲型單元或光學補償雙折射率)、R-OCB (反射OCB)、HAN (混合配向向列)或pi單元(π單元)顯示器)中，此外用於TN (扭轉向列)、HTN (高度扭轉向列)或STN (超扭轉向列)模式之顯示器中，用於AMD-TN (主動矩陣驅動TN)顯示器，或用於IPS (呈共平面切換)模式之顯示器(其亦稱為「超TFT」顯示器)中。尤佳為VA、MVA、PVA、OCB及pi單元顯示器。根據本發明之可聚合的材料及聚合物薄膜尤其適用於3D顯示器，如EP 0 829 744、EP 0 887 666 A2、EP 0 887 692、US 6,046,849、US 6,437,915中及「Proceedings of the SID 20^th International Display Research Conference, 2000」第280頁中所描述。包含根據本發明之聚合物薄膜的此類型之3D顯示器為本發明之另一對象。藉由特定參考較佳實施例在上文及下文中描述本發明。應理解，在不背離本發明之精神及範疇之情況下，可於其中作出各種變化及修改。上文及下文所提及之許多化合物或其混合物為市售的。如文獻(例如在諸如Houben-Weyl,Methoden der Organischen Chemie[Methods of Organic Chemistry],Georg-Thieme-Verlag,Stuttgart中之標準著作)中所描述，所有此等化合物為已知的或可藉由本身已知方法製備，確切言之在已知及適用於該反應之反應條件下製備。亦可於此利用本身已知但未在本文中提及之方法的變化形式。應瞭解，可對本發明之前述實施例作出變化，但該等變化仍在本發明之範疇內。除非另外說明，否則用於相同、等效或類似目的之替代性特徵可替換本說明書中所揭示之特徵。因此，除非另外說明，否則所揭示之各特徵僅為一系列通用等效或類似特徵之一實例。本說明書中所揭示之全部特徵可以任何組合形式組合，但至少一些此類特徵及/或步驟會互斥之組合除外。詳言之，本發明之較佳特徵適用於本發明之全部態樣且可以任何組合形式使用。同樣，以非必需組合描述之特徵可單獨(不以組合形式)使用。應瞭解，上述特徵、尤其較佳實施例中有許多本身具有發明性，而非僅僅作為本發明實施例之一部分。除了目前主張之任何發明以外或替代目前主張之任何發明，可為此等特徵尋求獨立保護。在本申請案中且尤其在以下實例中，液晶化合物之結構由縮寫(其亦稱作「字首語」)表示。根據以下三個表A至C，可直接將縮寫轉換成相應結構。表A列出用於環元素之符號，表B列出用於鍵聯基團之符號，且表C列出用於分子之左側及右側端基之符號。所有基團C_n H_2n ₊ ₁ 、C_m H_2m ₊ ₁ 及C_l H_2l ₊ ₁ 較佳分別為具有n、m及l個C原子之直鏈烷基，所有基團C_n H_2n 、C_m H_2m 及C_l H_2l 較佳分別為(CH₂ )_n 、(CH₂ )_m 及(CH₂ )_l ，且-CH=CH-較佳為反式，分別為E 伸乙烯基。表 A ： 環元素

表 B ：鍵聯基團

表 C ：端基

其中n及m各自為整數，且三個點「...」指示用於此表之其他符號之空間。實例參考以下實施例，現將更詳細地描述本發明，該等實施例僅為說明性的且不限制本發明之範疇。所利用之光引發劑 <img wi="321" he="188" file="IMG-2/Draw/02_image187.jpg" img-format="jpg"><img wi="321" he="189" file="IMG-2/Draw/02_image189.jpg" img-format="jpg"><img wi="326" he="221" file="IMG-2/Draw/02_image191.jpg" img-format="jpg"><img wi="506" he="244" file="IMG-2/Draw/02_image193.jpg" img-format="jpg"> 所利用之混合物 混合物M1<img wi="370" he="46" file="IMG-2/Draw/02_image195.jpg" img-format="jpg"><img wi="552" he="68" file="IMG-2/Draw/02_image197.jpg" img-format="jpg"><img wi="551" he="66" file="IMG-2/Draw/02_image199.jpg" img-format="jpg"><img wi="468" he="50" file="IMG-2/Draw/02_image201.jpg" img-format="jpg"> 混合物M2<img wi="348" he="44" file="IMG-2/Draw/02_image203.jpg" img-format="jpg"><img wi="552" he="68" file="IMG-2/Draw/02_image205.jpg" img-format="jpg"><img wi="555" he="70" file="IMG-2/Draw/02_image207.jpg" img-format="jpg"><img wi="416" he="45" file="IMG-2/Draw/02_image209.jpg" img-format="jpg"> 混合物M3<img wi="529" he="60" file="IMG-2/Draw/02_image211.jpg" img-format="jpg"><img wi="432" he="46" file="IMG-2/Draw/02_image213.jpg" img-format="jpg"><img wi="528" he="46" file="IMG-2/Draw/02_image215.jpg" img-format="jpg"><img wi="517" he="391" file="IMG-2/Draw/02_image217.jpg" img-format="jpg"> 實驗 1 . 1 將基劑混合物M1與1% SPI-02 (可購自Samyang, Korea)混合並將其溶解於含20%固體之甲苯中。在塗佈有經摩擦PI之粗製玻璃基板上以2000 rpm旋塗溶液。使薄膜在60℃下退火60秒且在N₂ 氛圍下使用靜態融合UV系統(800 mW，~700 mJ)固化。將薄膜層壓至壓敏黏著劑並保留開放表面，因此整體薄膜堆疊為玻璃/聚合物薄膜/壓敏黏著劑且使薄膜經受耐久性實驗。為了量測固化薄膜之延遲(R_th )，使用Axoscan橢偏儀。使用波長為550 nm之光源分析R_th 。接著將薄膜置放於80℃下之烘箱中總共2 h的時間。2 h後，在再次記錄延遲概況之前，自烘箱中取出薄膜並冷卻至室溫。藉由在烘箱測試之前及之後R_th 的差來定量耐久性，且產生初始R_th 值之83.06%。實驗 1 . 2 將基劑混合物M1與1% SPI-03 (可購自Samyang, Korea)混合並將其溶解於含20%固體之甲苯中。在塗佈有經摩擦PI之粗製玻璃基板上以2000 rpm旋塗溶液。使薄膜在60℃下退火60秒且在N₂ 氛圍下使用靜態融合UV系統(800 mW，~700 mJ)固化。將薄膜層壓至壓敏黏著劑並保留開放表面，因此整體薄膜堆疊為玻璃/聚合物薄膜/壓敏黏著劑且使薄膜經受耐久性實驗。為了量測固化薄膜之延遲(R_th )，使用Axoscan橢偏儀。使用波長為550 nm之光源分析R_th 。接著將薄膜置放於80℃下之烘箱中總共2 h的時間。2 h後，在再次記錄延遲概況之前，自烘箱中取出薄膜並冷卻至室溫。藉由在烘箱測試之前及之後R_th 的差來定量耐久性，且產生初始R_th 值之88.94%。實驗 1 . 3 將基劑混合物M1與1% SPI-04 (可購自Samyang, Korea)混合並將其溶解於含20%固體之甲苯中。在塗佈有經摩擦PI之粗製玻璃基板上以2000 rpm旋塗溶液。使薄膜在60℃下退火60秒且在N₂ 氛圍下使用靜態融合UV系統(800 mW，~700 mJ)固化。將薄膜層壓至壓敏黏著劑並保留開放表面，因此整體薄膜堆疊為玻璃/聚合物薄膜/壓敏黏著劑且使薄膜經受耐久性實驗。為了量測固化薄膜之延遲(R_th )，使用Axoscan橢偏儀。使用波長為550 nm之光源分析R_th 。接著將薄膜置放於80℃下之烘箱中總共2 h的時間。2 h後，在再次記錄延遲概況之前，自烘箱中取出薄膜並冷卻至室溫。藉由在烘箱測試之前及之後R_th 的差來定量耐久性，且產生初始R_th 值之87.59%。總結

實驗 2 . 1 將基劑混合物M1與2.5% SPI-02 (可購自Samyang, Korea)混合並將其溶解於含20%固體之甲苯中。在塗佈有經摩擦PI之粗製玻璃基板上以2000 rpm旋塗溶液。使薄膜在60℃下退火60秒且在N₂ 氛圍下使用靜態融合UV系統(800 mW，~700 mJ)固化。將薄膜層壓至壓敏黏著劑並保留開放表面，因此整體薄膜堆疊為玻璃/聚合物薄膜/壓敏黏著劑且使薄膜經受耐久性實驗。為了量測固化薄膜之延遲(R_th )，使用Axoscan橢偏儀。使用波長為550 nm之光源分析R_th 。接著將薄膜置放於80℃下之烘箱中總共2 h的時間。2 h後，在再次記錄延遲概況之前，自烘箱中取出薄膜並冷卻至室溫。藉由在烘箱測試之前及之後R_th 的差來定量耐久性，且產生初始R_th 值之82.72%。實驗 2 . 2 將基劑混合物M1與2.5% SPI-03 (可購自Samyang, Korea)混合並將其溶解於含20%固體之甲苯中。在塗佈有經摩擦PI之粗製玻璃基板上以2000 rpm旋塗溶液。使薄膜在60℃下退火60秒且在N₂ 氛圍下使用靜態融合UV系統(800 mW，~700 mJ)固化。將薄膜層壓至壓敏黏著劑並保留開放表面，因此整體薄膜堆疊為玻璃/聚合物薄膜/壓敏黏著劑且使薄膜經受耐久性實驗。為了量測固化薄膜之延遲(R_th )，使用Axoscan橢偏儀。使用波長為550 nm之光源分析R_th 。接著將薄膜置放於80℃下之烘箱中總共2 h的時間。2 h後，在再次記錄延遲概況之前，自烘箱中取出薄膜並冷卻至室溫。藉由在烘箱測試之前及之後R_th 的差來定量耐久性，且產生初始R_th 值之90.18%。實驗 2 . 3 將基劑混合物M1與2.5% SPI-04 (可購自Samyang, Korea)混合並將其溶解於含20%固體之甲苯中。在塗佈有經摩擦PI之粗製玻璃基板上以2000 rpm旋塗溶液。使薄膜在60℃下退火60秒且在N₂ 氛圍下使用靜態融合UV系統(800 mW，~700 mJ)固化。將薄膜層壓至壓敏黏著劑並保留開放表面，因此整體薄膜堆疊為玻璃/聚合物薄膜/壓敏黏著劑且使薄膜經受耐久性實驗。為了量測固化薄膜之延遲(R_th )，使用Axoscan橢偏儀。使用波長為550 nm之光源分析R_th 。接著將薄膜置放於80℃下之烘箱中總共2 h的時間。2 h後，在再次記錄延遲概況之前，自烘箱中取出薄膜並冷卻至室溫。藉由在烘箱測試之前及之後R_th 的差來定量耐久性，且產生初始R_th 值之79.45%。比較實驗 2 . 4 將基劑混合物M1與2.5% N-1919 T (可購自Adeka, Japan)混合並將其溶解於含20%固體之甲苯中。在塗佈有經摩擦PI之粗製玻璃基板上以2000 rpm旋塗溶液。使薄膜在60℃下退火60秒且在N₂ 氛圍下使用靜態融合UV系統(800 mW，~700 mJ)固化。將薄膜層壓至壓敏黏著劑並保留開放表面，因此整體薄膜堆疊為玻璃/聚合物薄膜/壓敏黏著劑且使薄膜經受耐久性實驗。為了量測固化薄膜之延遲(R_th )，使用Axoscan橢偏儀。使用波長為550 nm之光源分析R_th 。接著將薄膜置放於80℃下之烘箱中總共2 h的時間。2 h後，在再次記錄延遲概況之前，自烘箱中取出薄膜並冷卻至室溫。藉由在烘箱測試之前及之後R_th 的差來定量耐久性，且產生初始R_th 值之88.29%。總結

*比較實驗實驗 3 . 1 將基劑混合物M1與4.5% SPI-02 (可購自Samyang, Korea)混合並將其溶解於含20%固體之甲苯中。在塗佈有經摩擦PI之粗製玻璃基板上以2000 rpm旋塗溶液。使薄膜在60℃下退火60秒且在N₂ 氛圍下使用靜態融合UV系統(800 mW，~700 mJ)固化。將薄膜層壓至壓敏黏著劑並保留開放表面，因此整體薄膜堆疊為玻璃/聚合物薄膜/壓敏黏著劑且使薄膜經受耐久性實驗。為了量測固化薄膜之延遲(R_th )，使用Axoscan橢偏儀。使用波長為550 nm之光源分析R_th 。接著將薄膜置放於80℃下之烘箱中總共2 h的時間。2 h後，在再次記錄延遲概況之前，自烘箱中取出薄膜並冷卻至室溫。藉由在烘箱測試之前及之後R_th 的差來定量耐久性，且產生初始R_th 值之82.30%。實驗 3 . 2 將基劑混合物M1與4.5% SPI-03 (可購自Samyang, Korea)混合並將其溶解於含20%固體之甲苯中。在塗佈有經摩擦PI之粗製玻璃基板上以2000 rpm旋塗溶液。使薄膜在60℃下退火60秒且在N₂ 氛圍下使用靜態融合UV系統(800 mW，~700 mJ)固化。將薄膜層壓至壓敏黏著劑並保留開放表面，因此整體薄膜堆疊為玻璃/聚合物薄膜/壓敏黏著劑且使薄膜經受耐久性實驗。為了量測固化薄膜之延遲(R_th )，使用Axoscan橢偏儀。使用波長為550 nm之光源分析R_th 。接著將薄膜置放於80℃下之烘箱中總共2 h的時間。2 h後，在再次記錄延遲概況之前，自烘箱中取出薄膜並冷卻至室溫。藉由在烘箱測試之前及之後R_th 的差來定量耐久性，且產生初始R_th 值之91.25%。實驗 3 . 3 將基劑混合物M1與4.5% SPI-04 (可購自Samyang, Korea)混合並將其溶解於含20%固體之甲苯中。在塗佈有經摩擦PI之粗製玻璃基板上以2000 rpm旋塗溶液。使薄膜在60℃下退火60秒且在N₂ 氛圍下使用靜態融合UV系統(800 mW，~700 mJ)固化。將薄膜層壓至壓敏黏著劑並保留開放表面，因此整體薄膜堆疊為玻璃/聚合物薄膜/壓敏黏著劑且使薄膜經受耐久性實驗。為了量測固化薄膜之延遲(R_th )，使用Axoscan橢偏儀。使用波長為550 nm之光源分析R_th 。接著將薄膜置放於80℃下之烘箱中總共2 h的時間。2 h後，在再次記錄延遲概況之前，自烘箱中取出薄膜並冷卻至室溫。藉由在烘箱測試之前及之後R_th 的差來定量耐久性，且產生初始R_th 值之91.40%。比較實驗 3 . 4 將基劑混合物M1與5% Irgacure® 907 (可購自CIBA, Switzerland)混合並將其溶解於含20%固體之甲苯中。在塗佈有經摩擦PI之粗製玻璃基板上以2000 rpm旋塗溶液。使薄膜在60℃下退火60秒且在N₂ 氛圍下使用靜態融合UV系統(800 mW，~700 mJ)固化。將薄膜層壓至壓敏黏著劑並保留開放表面，因此整體薄膜堆疊為玻璃/聚合物薄膜/壓敏黏著劑且使薄膜經受耐久性實驗。為了量測固化薄膜之延遲(R_th )，使用Axoscan橢偏儀。使用波長為550 nm之光源分析R_th 。接著將薄膜置放於80℃下之烘箱中總共2 h的時間。2 h後，在再次記錄延遲概況之前，自烘箱中取出薄膜並冷卻至室溫。藉由在烘箱測試之前及之後R_th 的差來定量耐久性，且產生初始R_th 值之87.89%。總結

*比較實驗實驗 4 . 1 將基劑混合物M1與4.5% SPI-02 (可購自Samyang, Korea)混合並將其溶解於含20%固體之甲苯中。在塗佈有經摩擦PI之粗製玻璃基板上以2000 rpm旋塗溶液。使薄膜在60℃下退火60秒且在空氣中使用靜態融合UV系統(800 mW，~700 mJ)固化。將薄膜層壓至壓敏黏著劑並保留開放表面，因此整體薄膜堆疊為玻璃/聚合物薄膜/壓敏黏著劑且使薄膜經受耐久性實驗。為了量測固化薄膜之延遲(R_th )，使用Axoscan橢偏儀。使用波長為550 nm之光源分析R_th 。接著將薄膜置放於80℃下之烘箱中總共2 h的時間。2 h後，在再次記錄延遲概況之前，自烘箱中取出薄膜並冷卻至室溫。藉由在烘箱測試之前及之後R_th 的差來定量耐久性，且產生初始R_th 值之80.98%。實驗 4 . 2 將基劑混合物M1與4.5% SPI-03 (可購自Samyang, Korea)混合並將其溶解於含20%固體之甲苯中。在塗佈有經摩擦PI之粗製玻璃基板上以2000 rpm旋塗溶液。使薄膜在60℃下退火60秒且在空氣中使用靜態融合UV系統(800 mW，~700 mJ)固化。將薄膜層壓至壓敏黏著劑並保留開放表面，因此整體薄膜堆疊為玻璃/聚合物薄膜/壓敏黏著劑且使薄膜經受耐久性實驗。為了量測固化薄膜之延遲(R_th )，使用Axoscan橢偏儀。使用波長為550 nm之光源分析R_th 。接著將薄膜置放於80℃下之烘箱中總共2 h的時間。2 h後，在再次記錄延遲概況之前，自烘箱中取出薄膜並冷卻至室溫。藉由在烘箱測試之前及之後R_th 的差來定量耐久性，且產生初始R_th 值之90.17%。實驗 4 . 3 將基劑混合物M1與4.5% SPI-04 (可購自Samyang, Korea)混合並將其溶解於含20%固體之甲苯中。在塗佈有經摩擦PI之粗製玻璃基板上以2000 rpm旋塗溶液。使薄膜在60℃下退火60秒且在空氣中使用靜態融合UV系統(800 mW，~700 mJ)固化。將薄膜層壓至壓敏黏著劑並保留開放表面，因此整體薄膜堆疊為玻璃/聚合物薄膜/壓敏黏著劑且使薄膜經受耐久性實驗。為了量測固化薄膜之延遲(R_th )，使用Axoscan橢偏儀。使用波長為550 nm之光源分析R_th 。接著將薄膜置放於80℃下之烘箱中總共2 h的時間。2 h後，在再次記錄延遲概況之前，自烘箱中取出薄膜並冷卻至室溫。藉由在烘箱測試之前及之後R_th 的差來定量耐久性，且產生初始R_th 值之91.45%。比較實驗 4 . 4 將基劑混合物M1與5% Irgacure® 907 (可購自CIBA, Switzerland)混合並將其溶解於含20%固體之甲苯中。在塗佈有經摩擦PI之粗製玻璃基板上以2000 rpm旋塗溶液。使薄膜在60℃下退火60秒且在空氣中使用靜態融合UV系統(800 mW，~700 mJ)固化。將薄膜層壓至壓敏黏著劑並保留開放表面，因此整體薄膜堆疊為玻璃/聚合物薄膜/壓敏黏著劑且使薄膜經受耐久性實驗。為了量測固化薄膜之延遲(R_th )，使用Axoscan橢偏儀。使用波長為550 nm之光源分析R_th 。接著將薄膜置放於80℃下之烘箱中總共2 h的時間。2 h後，在再次記錄延遲概況之前，自烘箱中取出薄膜並冷卻至室溫。藉由在烘箱測試之前及之後R_th 的差來定量耐久性，且產生初始R_th 值之85.85%。總結

*比較實驗實驗 5 . 1 將基劑混合物M2與1% SPI-02 (可購自Samyang, Korea)混合並將其溶解於含20%固體之甲苯中。在塗佈有經摩擦PI之粗製玻璃基板上以2000 rpm旋塗溶液。使薄膜在60℃下退火60秒且在N₂ 氛圍下使用靜態融合UV系統(800 mW，~700 mJ)固化。將薄膜層壓至壓敏黏著劑並保留開放表面，因此整體薄膜堆疊為玻璃/聚合物薄膜/壓敏黏著劑且使薄膜經受耐久性實驗。為了量測固化薄膜之延遲(R_th )，使用Axoscan橢偏儀。使用波長為550 nm之光源分析R_th 。接著將薄膜置放於80℃下之烘箱中總共2 h的時間。2 h後，在再次記錄延遲概況之前，自烘箱中取出薄膜並冷卻至室溫。藉由在烘箱測試之前及之後R_th 的差來定量耐久性，且產生初始R_th 值之79.86%。實驗 5 . 2 將基劑混合物M2與1% SPI-03 (可購自Samyang, Korea)混合並將其溶解於含20%固體之甲苯中。在塗佈有經摩擦PI之粗製玻璃基板上以2000 rpm旋塗溶液。使薄膜在60℃下退火60秒且在N₂ 氛圍下使用靜態融合UV系統(800 mW，~700 mJ)固化。將薄膜層壓至壓敏黏著劑並保留開放表面，因此整體薄膜堆疊為玻璃/聚合物薄膜/壓敏黏著劑且使薄膜經受耐久性實驗。為了量測固化薄膜之延遲(R_th )，使用Axoscan橢偏儀。使用波長為550 nm之光源分析R_th 。接著將薄膜置放於80℃下之烘箱中總共2 h的時間。2 h後，在再次記錄延遲概況之前，自烘箱中取出薄膜並冷卻至室溫。藉由在烘箱測試之前及之後R_th 的差來定量耐久性，且產生初始R_th 值之87.35%。實驗 5 . 3 將基劑混合物M2與1% SPI-04 (可購自Samyang, Korea)混合並將其溶解於含20%固體之甲苯中。在塗佈有經摩擦PI之粗製玻璃基板上以2000 rpm旋塗溶液。使薄膜在60℃下退火60秒且在N₂ 氛圍下使用靜態融合UV系統(800 mW，~700 mJ)固化。將薄膜層壓至壓敏黏著劑並保留開放表面，因此整體薄膜堆疊為玻璃/聚合物薄膜/壓敏黏著劑且使薄膜經受耐久性實驗。為了量測固化薄膜之延遲(R_th )，使用Axoscan橢偏儀。使用波長為550 nm之光源分析R_th 。接著將薄膜置放於80℃下之烘箱中總共2 h的時間。2 h後，在再次記錄延遲概況之前，自烘箱中取出薄膜並冷卻至室溫。藉由在烘箱測試之前及之後R_th 的差來定量耐久性，且產生初始R_th 值之86.24%。總結

實驗 6 . 1 將基劑混合物M2與2.5% SPI-02 (可購自Samyang, Korea)混合並將其溶解於含20%固體之甲苯中。在塗佈有經摩擦PI之粗製玻璃基板上以2000 rpm旋塗溶液。使薄膜在60℃下退火60秒且在N₂ 氛圍下使用靜態融合UV系統(800 mW，~700 mJ)固化。將薄膜層壓至壓敏黏著劑並保留開放表面，因此整體薄膜堆疊為玻璃/聚合物薄膜/壓敏黏著劑且使薄膜經受耐久性實驗。為了量測固化薄膜之延遲(R_th )，使用Axoscan橢偏儀。使用波長為550 nm之光源分析R_th 。接著將薄膜置放於80℃下之烘箱中總共2 h的時間。2 h後，在再次記錄延遲概況之前，自烘箱中取出薄膜並冷卻至室溫。藉由在烘箱測試之前及之後R_th 的差來定量耐久性，且產生初始R_th 值之91.29%。實驗 6 . 2 將基劑混合物M2與2.5% SPI-03 (可購自Samyang, Korea)混合並將其溶解於含20%固體之甲苯中。在塗佈有經摩擦PI之粗製玻璃基板上以2000 rpm旋塗溶液。使薄膜在60℃下退火60秒且在N₂ 氛圍下使用靜態融合UV系統(800 mW，~700 mJ)固化。將薄膜層壓至壓敏黏著劑並保留開放表面，因此整體薄膜堆疊為玻璃/聚合物薄膜/壓敏黏著劑且使薄膜經受耐久性實驗。為了量測固化薄膜之延遲(R_th )，使用Axoscan橢偏儀。使用波長為550 nm之光源分析R_th 。接著將薄膜置放於80℃下之烘箱中總共2 h的時間。2 h後，在再次記錄延遲概況之前，自烘箱中取出薄膜並冷卻至室溫。藉由在烘箱測試之前及之後R_th 的差來定量耐久性，且產生初始R_th 值之91.00%。實驗 6 . 3 將基劑混合物M2與2.5% SPI-04 (可購自Samyang, Korea)混合並將其溶解於含20%固體之甲苯中。在塗佈有經摩擦PI之粗製玻璃基板上以2000 rpm旋塗溶液。使薄膜在60℃下退火60秒且在N₂ 氛圍下使用靜態融合UV系統(800 mW，~700 mJ)固化。將薄膜層壓至壓敏黏著劑並保留開放表面，因此整體薄膜堆疊為玻璃/聚合物薄膜/壓敏黏著劑且使薄膜經受耐久性實驗。為了量測固化薄膜之延遲(R_th )，使用Axoscan橢偏儀。使用波長為550 nm之光源分析R_th 。接著將薄膜置放於80℃下之烘箱中總共2 h的時間。2 h後，在再次記錄延遲概況之前，自烘箱中取出薄膜並冷卻至室溫。藉由在烘箱測試之前及之後R_th 的差來定量耐久性，且產生初始R_th 值之90.04%。比較實驗 6 . 4 將基劑混合物M1與2.5% N-1919 T (可購自Adeka, Japan)混合並將其溶解於含20%固體之甲苯中。在塗佈有經摩擦PI之粗製玻璃基板上以2000 rpm旋塗溶液。使薄膜在60℃下退火60秒且在N₂ 氛圍下使用靜態融合UV系統(800 mW，~700 mJ)固化。將薄膜層壓至壓敏黏著劑並保留開放表面，因此整體薄膜堆疊為玻璃/聚合物薄膜/壓敏黏著劑且使薄膜經受耐久性實驗。為了量測固化薄膜之延遲(R_th )，使用Axoscan橢偏儀。使用波長為550 nm之光源分析R_th 。接著將薄膜置放於80℃下之烘箱中總共2 h的時間。2 h後，在再次記錄延遲概況之前，自烘箱中取出薄膜並冷卻至室溫。藉由在烘箱測試之前及之後R_th 的差來定量耐久性，且產生初始R_th 值之83.86%。總結

*比較實驗實驗 7 . 1 將基劑混合物M2與4.5% SPI-02 (可購自Samyang, Korea)混合並將其溶解於含20%固體之甲苯中。在塗佈有經摩擦PI之粗製玻璃基板上以2000 rpm旋塗溶液。使薄膜在60℃下退火60秒且在N₂ 氛圍下使用靜態融合UV系統(800 mW，~700 mJ)固化。將薄膜層壓至壓敏黏著劑並保留開放表面，因此整體薄膜堆疊為玻璃/聚合物薄膜/壓敏黏著劑且使薄膜經受耐久性實驗。為了量測固化薄膜之延遲(R_th )，使用Axoscan橢偏儀。使用波長為550 nm之光源分析R_th 。接著將薄膜置放於80℃下之烘箱中總共2 h的時間。2 h後，在再次記錄延遲概況之前，自烘箱中取出薄膜並冷卻至室溫。藉由在烘箱測試之前及之後R_th 的差來定量耐久性，且產生初始R_th 值之91.27%。實驗 7 . 2 將基劑混合物M2與4.5% SPI-03 (可購自Samyang, Korea)混合並將其溶解於含20%固體之甲苯中。在塗佈有經摩擦PI之粗製玻璃基板上以2000 rpm旋塗溶液。使薄膜在60℃下退火60秒且在N₂ 氛圍下使用靜態融合UV系統(800 mW，~700 mJ)固化。將薄膜層壓至壓敏黏著劑並保留開放表面，因此整體薄膜堆疊為玻璃/聚合物薄膜/壓敏黏著劑且使薄膜經受耐久性實驗。為了量測固化薄膜之延遲(R_th )，使用Axoscan橢偏儀。使用波長為550 nm之光源分析R_th 。接著將薄膜置放於80℃下之烘箱中總共2 h的時間。2 h後，在再次記錄延遲概況之前，自烘箱中取出薄膜並冷卻至室溫。藉由在烘箱測試之前及之後R_th 的差來定量耐久性，且產生初始R_th 值之90.45%。實驗 7 . 3 將基劑混合物M2與4.5% SPI-04 (可購自Samyang, Korea)混合並將其溶解於含20%固體之甲苯中。在塗佈有經摩擦PI之粗製玻璃基板上以2000 rpm旋塗溶液。使薄膜在60℃下退火60秒且在N₂ 氛圍下使用靜態融合UV系統(800 mW，~700 mJ)固化。將薄膜層壓至壓敏黏著劑並保留開放表面，因此整體薄膜堆疊為玻璃/聚合物薄膜/壓敏黏著劑且使薄膜經受耐久性實驗。為了量測固化薄膜之延遲(R_th )，使用Axoscan橢偏儀。使用波長為550 nm之光源分析R_th 。接著將薄膜置放於80℃下之烘箱中總共2 h的時間。2 h後，在再次記錄延遲概況之前，自烘箱中取出薄膜並冷卻至室溫。藉由在烘箱測試之前及之後R_th 的差來定量耐久性，且產生初始R_th 值之90.48%。比較實驗 7 . 4 將基劑混合物M2與5% Irgacure® 907 (可購自CIBA, Switzerland)混合並將其溶解於含20%固體之甲苯中。在塗佈有經摩擦PI之粗製玻璃基板上以2000 rpm旋塗溶液。使薄膜在60℃下退火60秒且在N₂ 氛圍下使用靜態融合UV系統(800 mW，~700 mJ)固化。將薄膜層壓至壓敏黏著劑並保留開放表面，因此整體薄膜堆疊為玻璃/聚合物薄膜/壓敏黏著劑且使薄膜經受耐久性實驗。為了量測固化薄膜之延遲(R_th )，使用Axoscan橢偏儀。使用波長為550 nm之光源分析R_th 。接著將薄膜置放於80℃下之烘箱中總共2 h的時間。2 h後，在再次記錄延遲概況之前，自烘箱中取出薄膜並冷卻至室溫。藉由在烘箱測試之前及之後R_th 的差來定量耐久性，且產生初始R_th 值之86.96%。總結

*比較實驗實驗 8 . 1 將基劑混合物M2與4.5% SPI-02 (可購自Samyang, Korea)混合並將其溶解於含20%固體之甲苯中。在塗佈有經摩擦PI之粗製玻璃基板上以2000 rpm旋塗溶液。使薄膜在60℃下退火60秒且在空氣中使用靜態融合UV系統(800 mW，~700 mJ)固化。將薄膜層壓至壓敏黏著劑並保留開放表面，因此整體薄膜堆疊為玻璃/聚合物薄膜/壓敏黏著劑且使薄膜經受耐久性實驗。為了量測固化薄膜之延遲(R_th )，使用Axoscan橢偏儀。使用波長為550 nm之光源分析R_th 。接著將薄膜置放於80℃下之烘箱中總共2 h的時間。2 h後，在再次記錄延遲概況之前，自烘箱中取出薄膜並冷卻至室溫。藉由在烘箱測試之前及之後R_th 的差來定量耐久性，且產生初始R_th 值之91.54%。實驗 8 . 2 將基劑混合物M2與4.5% SPI-03 (可購自Samyang, Korea)混合並將其溶解於含20%固體之甲苯中。在塗佈有經摩擦PI之粗製玻璃基板上以2000 rpm旋塗溶液。使薄膜在60℃下退火60秒且在空氣中使用靜態融合UV系統(800 mW，~700 mJ)固化。將薄膜層壓至壓敏黏著劑並保留開放表面，因此整體薄膜堆疊為玻璃/聚合物薄膜/壓敏黏著劑且使薄膜經受耐久性實驗。為了量測固化薄膜之延遲(R_th )，使用Axoscan橢偏儀。使用波長為550 nm之光源分析R_th 。接著將薄膜置放於80℃下之烘箱中總共2 h的時間。2 h後，在再次記錄延遲概況之前，自烘箱中取出薄膜並冷卻至室溫。藉由在烘箱測試之前及之後R_th 的差來定量耐久性，且產生初始R_th 值之91.12%。實驗 8 . 3 將基劑混合物M2與4.5% SPI-04 (可購自Samyang, Korea)混合並將其溶解於含20%固體之甲苯中。在塗佈有經摩擦PI之粗製玻璃基板上以2000 rpm旋塗溶液。使薄膜在60℃下退火60秒且在空氣中使用靜態融合UV系統(800 mW，~700 mJ)固化。將薄膜層壓至壓敏黏著劑並保留開放表面，因此整體薄膜堆疊為玻璃/聚合物薄膜/壓敏黏著劑且使薄膜經受耐久性實驗。為了量測固化薄膜之延遲(R_th )，使用Axoscan橢偏儀。使用波長為550 nm之光源分析R_th 。接著將薄膜置放於80℃下之烘箱中總共2 h的時間。2 h後，在再次記錄延遲概況之前，自烘箱中取出薄膜並冷卻至室溫。藉由在烘箱測試之前及之後R_th 的差來定量耐久性，且產生初始R_th 值之91.96%。比較實驗 8 . 4 將基劑混合物M2與5% Irgacure® 907 (可購自CIBA, Switzerland)混合並將其溶解於含20%固體之甲苯中。在塗佈有經摩擦PI之粗製玻璃基板上以2000 rpm旋塗溶液。使薄膜在60℃下退火60秒且在空氣中使用靜態融合UV系統(800 mW，~700 mJ)固化。將薄膜層壓至壓敏黏著劑並保留開放表面，因此整體薄膜堆疊為玻璃/聚合物薄膜/壓敏黏著劑且使薄膜經受耐久性實驗。為了量測固化薄膜之延遲(R_th )，使用Axoscan橢偏儀。使用波長為550 nm之光源分析R_th 。接著將薄膜置放於80℃下之烘箱中總共2 h的時間。2 h後，在再次記錄延遲概況之前，自烘箱中取出薄膜並冷卻至室溫。藉由在烘箱測試之前及之後R_th 的差來定量耐久性，且產生初始R_th 值之82.07%。總結

*比較實驗實驗 9 . 1 將基劑混合物M3與1% SPI-02 (可購自Samyang, Korea)混合並將其溶解於含33%固體之甲苯/環己酮(7/3)中。在塗佈有經摩擦PI之粗製玻璃基板上以2000 rpm旋塗溶液30秒。使薄膜在66℃下退火60秒且在N₂ 氛圍下使用融合H燈(50%功率，10 m/min)固化。將薄膜層壓至壓敏黏著劑並保留開放表面，因此整體薄膜堆疊為玻璃/聚合物薄膜/壓敏黏著劑且使薄膜經受耐久性實驗。為了量測固化薄膜之延遲(R_in )，使用Axoscan橢偏儀。使用波長為550 nm之光源分析R_in 。為了測定延遲色散R_in _- ₄₅₀ /R_in _- ₅₅₀ ，在450 nm及550 nm波長處量測材料之延遲。接著將各薄膜置放於100℃下之烘箱中總共1 h的時間。1 h後，在再次記錄延遲概況之前，自烘箱中取出薄膜並冷卻至室溫。藉由在烘箱測試之前及之後R_in 及R_in _- ₄₅₀ /R_in _- ₅₅₀ 的差來定量耐久性，且產生初始R_in 值之84.00%及初始R_in _- ₄₅₀ /R_in _- ₅₅₀ 值之90.3%。實驗 9 . 2 將基劑混合物M3與1% SPI-03 (可購自Samyang, Korea)混合並將其溶解於含33%固體之甲苯/環己酮(7/3)中。在塗佈有經摩擦PI之粗製玻璃基板上以2000 rpm旋塗溶液30秒。使薄膜在66℃下退火60秒且在N₂ 氛圍下使用融合H燈(50%功率，10 m/min)固化。將薄膜層壓至壓敏黏著劑並保留開放表面，因此整體薄膜堆疊為玻璃/聚合物薄膜/壓敏黏著劑且使薄膜經受耐久性實驗。為了量測固化薄膜之延遲(R_in )，使用Axoscan橢偏儀。使用波長為550 nm之光源分析R_in 。為了測定延遲色散R_in _- ₄₅₀ /R_in _- ₅₅₀ ，在450 nm及550 nm波長處量測材料之延遲。接著將各薄膜置放於100℃下之烘箱中總共1 h的時間。1 h後，在再次記錄延遲概況之前，自烘箱中取出薄膜並冷卻至室溫。藉由在烘箱測試之前及之後R_in 及R_in _- ₄₅₀ /R_in _- ₅₅₀ 的差來定量耐久性，且產生初始R₄₀ 值之96.70%及初始R_in _- ₄₅₀ /R_in _- ₅₅₀ 值之97.30%。實驗 9 . 3 將基劑混合物M3與1% SPI-03 (可購自Samyang, Korea)混合並將其溶解於含33%固體之甲苯/環己酮(7/3)中。在塗佈有經摩擦PI之粗製玻璃基板上以2000 rpm旋塗溶液30秒。使薄膜在66℃下退火60秒且在N₂ 氛圍下使用靜態融合H燈(50%功率，10 m/min)固化。將薄膜層壓至壓敏黏著劑並保留開放表面，因此整體薄膜堆疊為玻璃/聚合物薄膜/壓敏黏著劑且使薄膜經受耐久性實驗。為了量測固化薄膜之延遲(R_in )，使用Axoscan橢偏儀。使用波長為550 nm之光源分析R_in 。為了測定延遲色散R_in _- ₄₅₀ /R_in _- ₅₅₀ ，在450 nm及550 nm波長處量測材料之延遲。接著將各薄膜置放於100℃下之烘箱中總共1 h的時間。1 h後，在再次記錄延遲概況之前，自烘箱中取出薄膜並冷卻至室溫。藉由在烘箱測試之前及之後R_in 及R_in _- ₄₅₀ /R_in _- ₅₅₀ 的差來定量耐久性，且產生初始R_in 值之96.40%及初始R_in _- ₄₅₀ /R_in _- ₅₅₀ 值之97.30%。比較實驗 9 . 4 將基劑混合物M3與1% Darocure TPO (可購自CIBA, Switzerland)混合並將其溶解於含33%固體之甲苯/環己酮(7/3)中。在塗佈有經摩擦PI之粗製玻璃基板上以2000 rpm旋塗溶液30秒。使薄膜在66℃下退火60秒且在N₂ 氛圍下使用融合H燈(50%功率，10 m/min)固化。將薄膜層壓至壓敏黏著劑並保留開放表面，因此整體薄膜堆疊為玻璃/聚合物薄膜/壓敏黏著劑且使薄膜經受耐久性實驗。為了量測固化薄膜之延遲(R_in )，使用Axoscan橢偏儀。使用波長為550 nm之光源分析R_in 。為了測定延遲色散R_in _- ₄₅₀ /R_in _- ₅₅₀ ，在450 nm及550 nm波長處量測材料之延遲。接著將各薄膜置放於100℃下之烘箱中總共1 h的時間。1 h後，在再次記錄延遲概況之前，自烘箱中取出薄膜並冷卻至室溫。藉由在烘箱測試之前及之後R_in 及R_in _- ₄₅₀ /R_in _- ₅₅₀ 的差來定量耐久性，且產生初始R_in 值之83.90%及初始R_in _- ₄₅₀ /R_in _- ₅₅₀ 值之90.20%。總結

*比較實驗

Claims

一種可聚合的LC材料，其包含至少一種雙反應性或多反應性液晶原基化合物及至少一種式CO-1化合物，
其中R¹及R² 表示H、烷基、烷氧基或單氟化或多氟化烷基或烷氧基，L¹ 表示H、烷基、烷氧基、硫烷基、烷基羰基、烷氧基羰基、烷基羰氧基或烷氧基羰氧基；鹵素、CN、NO₂、OCN、SCN，或單氟化或多氟化烷基或烷氧基；或-(Sp³¹-A³¹)，L²至L³ 表示H、烷基，單氟化或多氟化烷基，或-(Sp³¹-A³¹)，Sp³¹ 表示間隔基團或單鍵，A³¹ 表示芳基、雜芳基、(非芳族)脂環及/或雜環基，其視情況各自具有一或多個取代基，該一或多個取代基選自包含以下之群：矽烷基、磺酸基、磺醯基、甲醯基、胺、亞胺、腈、巰基、硝基、鹵素、C_1-12烷基、C_6-12芳基、C_1-12烷氧基、羥基或此等基團之組合，n 表示0或1，其中至少一種雙反應性或多反應性液晶原基化合物選自式DRM P¹-Sp¹-MG-Sp²-P² DRM其中 P¹及P² 彼此獨立地表示可聚合的基團，Sp¹及Sp²彼此獨立地為間隔基團或單鍵，且MG 為條狀液晶原基基團，其係式MG -(A¹-Z¹)_n-A²- MG其中A¹及A² 在多次出現之情況下彼此獨立地表示芳族或脂環基，其視情況含有一或多個選自N、O及S之雜原子，且視情況經L¹單取代或多取代，L¹ 為P-Sp-、F、Cl、Br、I、-CN、-NO₂、-NCO、-NCS、-OCN、-SCN、-C(=O)NR⁰⁰R⁰⁰⁰、-C(=O)OR⁰⁰、-C(=O)R⁰⁰、-NR⁰⁰R⁰⁰⁰、-OH、-SF₅；具有1至12個C原子之視情況經取代之矽烷基、芳基或雜芳基、具有1至12個C原子之直鏈或分支鏈烷基、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、烷基羰氧基或烷氧基羰氧基，其中一或多個H原子視情況經F或Cl置換，R⁰⁰及R⁰⁰⁰ 彼此獨立地表示H或具有1至12個C原子之烷基，Z¹ 在多次出現之情況下彼此獨立地表示-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-S-CO-、-CO-S-、-O-COO-、-CO-NR⁰⁰-、-NR⁰⁰-CO-、-NR⁰⁰-CO-NR⁰⁰⁰、-NR⁰⁰-CO-O-、-O-CO-NR⁰⁰-、-OCH₂-、-CH₂O-、-SCH₂-、-CH₂S-、-CF₂O-、-OCF₂-、-CF₂S-、-SCF₂-、-(CH₂)_n1、-CF₂CH₂-、-CH₂CF₂-、-CF₂CF₂-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-CH=CR⁰⁰-、-CY¹=CY²-、-C≡C-、-CH=CH-COO-、-OCO-CH=CH-或單鍵，Y¹及Y² 彼此獨立地表示H、F、Cl或CN，其中Y¹及Y²不同時為 H，n 為1、2、3或4，且n1 為1至10之整數。
如請求項1之可聚合的LC材料，其中至少一種雙反應性液晶原基化合物選自下式：

其中P⁰ 在多次出現之情況下彼此獨立地為丙烯基、甲基丙烯基、氧雜環丁烷、環氧基、乙烯基、庚二烯、乙烯基氧基、丙烯基醚或苯乙烯基，L 在每次出現時相同或不同地具有針對式DRM中之L¹給出的含義中之一者，r 為0、1、2、3或4，x及y 彼此獨立地為0或1至12之相同或不同的整數，z 各自且獨立地為0或1，其中若相鄰x或y為0，則z為0。
如請求項1之可聚合的LC材料，其包含至少一種選自式MRM之單反應性液晶原基化合物，P¹-Sp¹-MG-R MRM其中，P¹ 彼此獨立地表示可聚合的基團，Sp¹ 為間隔基團或單鍵，MG 為條狀液晶原基基團，其係式MG -(A¹-Z¹)_n-A²- MG其中A¹及A² 在多次出現之情況下彼此獨立地表示芳族或脂環基，其視情況含有一或多個選自N、O及S之雜原子，且視情況經L¹單取代或多取代，L¹ 為P-Sp-、F、Cl、Br、I、-CN、-NO₂、-NCO、-NCS、-OCN、-SCN、-C(=O)NR⁰⁰R⁰⁰⁰、-C(=O)OR⁰⁰、-C(=O)R⁰⁰、-NR⁰⁰R⁰⁰⁰、-OH、-SF₅；具有1至12個C原子之視情況經取代之矽烷基、芳基或雜芳基、具有1至12個C原子之直鏈或分支鏈烷基、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、烷基羰氧基或烷氧基羰氧基，其中一或多個H原子視情況經F或Cl置換，R⁰⁰及R⁰⁰⁰ 彼此獨立地表示H或具有1至12個C原子之烷基，Z¹ 在多次出現之情況下彼此獨立地表示-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-S-CO-、-CO-S-、-O-COO-、-CO-NR⁰⁰-、-NR⁰⁰-CO-、-NR⁰⁰-CO-NR⁰⁰⁰、-NR⁰⁰-CO-O-、-O-CO-NR⁰⁰-、-OCH₂-、-CH₂O-、- SCH₂-、-CH₂S-、-CF₂O-、-OCF₂-、-CF₂S-、-SCF₂-、-(CH₂)_n1、-CF₂CH₂-、-CH₂CF₂-、-CF₂CF₂-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-CH=CR⁰⁰-、-CY¹=CY²-、-C≡C-、-CH=CH-COO-、-OCO-CH=CH-或單鍵，Y¹及Y² 彼此獨立地表示H、F、Cl或CN，其中Y¹及Y²不同時為H，n 為1、2、3或4，n1 為1至10之整數，R 為F、Cl、Br、I、-CN、-NO₂、-NCO、-NCS、-OCN、-SCN、-C(=O)NR^xR^y、-C(=O)X、-C(=O)OR^x、-C(=O)R^y、-NR^xR^y、-OH、-SF₅；具有1至12個C原子之視情況經取代之矽烷基、直鏈或分支鏈烷基、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、烷基羰氧基或烷氧基羰氧基，其中一或多個H原子視情況經F或Cl置換，X 為鹵素，且R^x及R^y 彼此獨立地為H或具有1至12個C原子之烷基。
如請求項3之可聚合的LC材料，其中至少一種單反應性液晶原基化合物選自下式：

其中，P⁰ 在多次出現之情況下彼此獨立地為丙烯基、甲基丙烯基、氧雜環丁烷、環氧基、乙烯基、庚二烯、乙烯基氧基、丙烯基醚或苯乙烯基，L 在每次出現時相同或不同地具有針對式DRM中之L¹給出的含義中之一者，r 為0、1、2、3或4，x及y 彼此獨立地為0或1至12之相同或不同的整數， z 各自且獨立地為0或1，其中若相鄰x或y為0，則z為0，R⁰ 為具有1個或更多個C原子之烷基、烷氧基、硫烷基、烷基羰基、烷氧基羰基、烷基羰氧基或烷氧基羰氧基，或表示Y⁰，Y⁰ 為F、Cl、CN、NO₂、OCH₃、OCN、SCN、SF₅或具有1至4個C原子之單氟化或多氟化烷基或烷氧基，Z⁰ 為-COO-、-OCO-、-CH₂CH₂-、-CF₂O-、-OCF₂-、-CH=CH-、-OCO-CH=CH-、-CH=CH-COO-或單鍵，A⁰ 在多次出現之情況下彼此獨立地為未經取代或經1、2、3或4個基團L取代之1,4-伸苯基，或反-1,4-伸環己基，u及v 彼此獨立地為0、1或2，w 為0或1，且其中苯環及萘環可另外經一或多個相同或不同基團L取代。
如請求項1至4中任一項之可聚合的LC材料，其中雙反應性或多反應性可聚合的液晶原基化合物之比例係在5至99重量%範圍內。
如請求項3或4之可聚合的LC材料，其中單反應性可聚合的液晶原基化合物之比例係在5至80重量%範圍內。
如請求項1至4中任一項之可聚合的LC材料，其包含一或多種抗氧化劑。
如請求項1至4中任一項之可聚合的LC材料，其視情況包含一或多種選自由以下組成之群的添加劑：界面活性劑、另外的穩定劑、催化劑、敏化劑、抑制劑、鏈轉移劑、共反應單體、反應性減黏劑、表面活性化合物、潤滑劑、潤濕劑、分散劑、疏水劑、黏著劑、流動改良劑、除氣劑或消泡劑、脫氣劑、稀釋劑、反應性稀釋劑、助劑、著色劑、染料、顏料及奈米粒子。
一種用於製備如請求項1至8中任一項之可聚合的LC材料之方法，其包含使一或多種式CO-1化合物與至少一種雙反應性或多反應性液晶原基化合物混合之步驟。
一種藉由以下步驟製備聚合物薄膜之方法在基板上提供如請求項1至8中任一項之可聚合的LC材料之層，使該可聚合的LC材料光聚合，且視情況自該基板移除該經聚合的LC材料，及/或視情況將該經聚合的LC材料提供至另一基板上。
一種聚合物薄膜，其可藉由包含以下步驟之方法獲自如請求項1至8中任一項之可聚合的LC材料將該可聚合LC材料之層提供至基板上，使該LC材料光聚合，且視情況自該基板移除該經聚合的LC材料，及/或視情況將其提供至另一基板上。
如請求項11之聚合物薄膜，其中該LC材料係均一配向的。
一種提高獲自包含至少一種雙反應性或多反應性液晶原基化合物之可聚合的LC材料之聚合物薄膜之耐久性的方法，該方法係藉由在聚合之前添加至少一種式CO-1化合物。
一種如請求項11或12之聚合物薄膜或如請求項1至8中任一項之可聚合的LC材料之用途，其係用於光學、電光學、資訊儲存、裝飾及安全應用。
一種光學組件，其包含至少一種如請求項11或12之聚合物薄膜或如請求項1至8中任一項之可聚合的LC材料。