JP2019532167A - 重合性液晶材料および重合された液晶膜 - Google Patents

重合性液晶材料および重合された液晶膜 Download PDF

Info

Publication number
JP2019532167A
JP2019532167A JP2019537871A JP2019537871A JP2019532167A JP 2019532167 A JP2019532167 A JP 2019532167A JP 2019537871 A JP2019537871 A JP 2019537871A JP 2019537871 A JP2019537871 A JP 2019537871A JP 2019532167 A JP2019532167 A JP 2019532167A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polymerizable
group
formula
film
alkyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2019537871A
Other languages
English (en)
Other versions
JP7179735B2 (ja
Inventor
ソン，ドンミ
チョイ，ヨンヒョン
カン，ジェヒョン
ユン，ヨンクク
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Merck Patent GmbH
Original Assignee
Merck Patent GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Merck Patent GmbH filed Critical Merck Patent GmbH
Publication of JP2019532167A publication Critical patent/JP2019532167A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7179735B2 publication Critical patent/JP7179735B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/52—Liquid crystal materials characterised by components which are not liquid crystals, e.g. additives with special physical aspect: solvents, solid particles
    • C09K19/54—Additives having no specific mesophase characterised by their chemical composition
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F222/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
    • C08F222/10—Esters
    • C08F222/26—Esters of unsaturated alcohols
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
    • C09K19/08—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings
    • C09K19/10—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings containing at least two benzene rings
    • C09K19/20—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings containing at least two benzene rings linked by a chain containing carbon and oxygen atoms as chain links, e.g. esters or ethers
    • C09K19/2007—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings containing at least two benzene rings linked by a chain containing carbon and oxygen atoms as chain links, e.g. esters or ethers the chain containing -COO- or -OCO- groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
    • C09K19/08—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings
    • C09K19/30—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings containing saturated or unsaturated non-aromatic rings, e.g. cyclohexane rings
    • C09K19/3001—Cyclohexane rings
    • C09K19/3066—Cyclohexane rings in which the rings are linked by a chain containing carbon and oxygen atoms, e.g. esters or ethers
    • C09K19/3068—Cyclohexane rings in which the rings are linked by a chain containing carbon and oxygen atoms, e.g. esters or ethers chain containing -COO- or -OCO- groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/38—Polymers
    • C09K19/3833—Polymers with mesogenic groups in the side chain
    • C09K19/3842—Polyvinyl derivatives
    • C09K19/3852—Poly(meth)acrylate derivatives
    • C09K19/3857—Poly(meth)acrylate derivatives containing at least one asymmetric carbon atom
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2800/00—Copolymer characterised by the proportions of the comonomers expressed
    • C08F2800/20—Copolymer characterised by the proportions of the comonomers expressed as weight or mass percentages
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K2019/0444—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit characterized by a linking chain between rings or ring systems, a bridging chain between extensive mesogenic moieties or an end chain group
    • C09K2019/0448—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit characterized by a linking chain between rings or ring systems, a bridging chain between extensive mesogenic moieties or an end chain group the end chain group being a polymerizable end group, e.g. -Sp-P or acrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/52—Liquid crystal materials characterised by components which are not liquid crystals, e.g. additives with special physical aspect: solvents, solid particles
    • C09K2019/523—Organic solid particles
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/13363—Birefringent elements, e.g. for optical compensation
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G02F1/133711—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by organic films, e.g. polymeric films
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G02F1/133742—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers for homeotropic alignment

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Liquid Crystal Substances (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Abstract

本発明は、少なくとも１種の二反応性または多反応性のメソゲン化合物、および少なくとも１種の式ＣＯ−１（式中Ｒ１、Ｒ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、およびｎは、請求項１に与えられるとおりの意味の１つを有する）で表される化合物を含む重合性ＬＣ材料に関する。さらにまた、本発明はまた、その調製のための方法にも、対応する重合性ＬＣ材料から得られる改善された熱耐久性をもつポリマー膜にも、かかるポリマー膜の調製の方法にも、および光学デバイス、電気光学デバイス、装飾デバイスまたは保安デバイスのためのかかるポリマー膜および該重合性ＬＣ材料の使用にも関する。

Description

発明の分野
本発明は、少なくとも１種の二反応性または多反応性のメソゲン化合物、および式ＣＯ−１
で表される少なくとも１種の化合物を含む重合性ＬＣ材料に関し、
式中
Ｒ１およびＲ２は、Ｈ、アルキル、アルコキシあるいはモノ−、オリゴ−もしくはポリフッ素化アルキルまたはアルコキシ、好ましくはアルキルを示し、
Ｌ１は、Ｈ、アルキル、アルコキシ、チオアルキル、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシまたはアルコキシカルボニルオキシ；ハロゲン、ＣＮ、ＮＯ２、ＯＣＮ、ＳＣＮ、あるいはモノ−、オリゴ−もしくはポリフッ素化アルキルまたはアルコキシ原子；または−（Ｓｐ３１−Ａ３１）、好ましくはＨ、ハロゲン、ＣＮ，またはＮＯ２を示し、
Ｌ２〜Ｌ３は、Ｈ、アルキル、モノ−、オリゴ−もしくはポリフッ素化アルキル、または−（Ｓｐ３１−Ａ３１）、好ましくはＨ、アルキル、または−（Ｓｐ３１−Ａ３１）を示し、
Ｓｐ３１は、スペーサー基または単結合、好ましくは単結合またはＣ１〜１２アルキレンラジカル、より好ましくは単結合またはＣ１〜６アルキレンラジカル、最も好ましくは単結合またはＣ１〜２アルキレンラジカルを示し、および
Ａ３１は、アリール基、ヘテロアリール基、（非芳香族）脂環式基およびヘテロ環式基を示すが、これらは任意に、シリル、スルホ、スルホニル、ホルミル、アミン、イミン、ニトリル、メルカプト、ニトロ、ハロゲン、Ｃ１〜１２アルキル、Ｃ６〜１２アリール、Ｃ１〜１２アルコキシ、ヒドロキシル、またはこれらの基の組み合わせを含む群から選択される１以上の置換基を有していてもよく、好ましくはフェニル、シクロヘキシル、またはシクロペンチルを示し、
ｎは、０または１、好ましくは１を示す。
さらにまた、本発明はまた、その調製のための方法、対応する重合性ＬＣ材料から得られる改善された熱耐久性をもつポリマー膜にも、かかるポリマー膜の調製の方法にも、および光学デバイス、電気光学デバイス、装飾デバイスまたは保安デバイスのためのかかるポリマー膜および該重合性ＬＣ材料の使用にも、関する。
背景および先行技術
重合性液晶材料は、均一配向をもつ異方性ポリマー膜の調製のための先行技術において知られている。これらの膜は通常、重合性液晶混合物の薄い層を基体上へコーティングすること、混合物を配列させて均一配向にすること、および混合物を重合させることによって調製される。膜の配向は、プラナー（すなわち、ここで液晶分子は、層に対して実質的に平行に配列されている）、ホメオトロピック（層に対して直角または垂直である）、またはティルトであり得る。
かかる光学膜は、例えば、EP 0 940 707 B1、EP 0 888 565 B1およびGB 2 329 393 B1において記載される。
重合性液晶（ＬＣ）材料は、室温で安定であるが、温度の上昇(increased temperatures)に供されると分解し得る。例えば、ある期間(for a period of time)加熱されると、分散または位相差(retardance)などの光学特性は減少し、これによって、光学膜の性能は時間とともに低下する。これは、とりわけ、低重合度および対応するポリマー中の残留フリーラジカルの高含量、ポリマー収縮、および／または熱酸化分解を由縁とし得る。
高度な重合は、中でも、利用される光開始剤の選択によって影響され得る。この点に関し、Nieらは、J. Appl. Polym. Sci. 2012, 123, 725-731において；好適なオキシムエステル光開始剤の合成および光重合の反応速度論(kinetics)を記載している。
JP 5054456 B2は、１種以上の二反応性のメソゲン化合物、および市販の光開始剤Oxe02（Cibaから入手可能）およびN-1919 (T)（Adekaから入手可能）を含む重合性液晶（ＬＣ）材料を記載する。
とりわけ、位相差膜(an optical retardation film)の所望の特性、例として、メソゲン化合物の均一配列、膜構造、膜接着、温度安定性および光学性能等は、とくに単反応性および二反応性のメソゲン化合物の比率および選択に関し、重合性液晶剤路油の組成に高度に依存している。
例えば、ポリマー収縮は、光学膜の厚さの減少であるが、通過する光の位相差を、Ｒ＝ｄΔｎ（式中Ｒは、位相差であり、ｄは、複屈折膜の厚さであり、Δｎは、複屈折である）に従い低減させる。ポリマー収縮は、例として、１つより多くの重合性基を有する重合性化合物（例として、二反応性または多反応性の化合物）を利用することによって低減され得、したがって、より多く架橋されかつより硬いポリマーを形成することができる。
しかしながら、この場合もやはり(again)、位相差膜の所望の特性は、重合性液晶材料の組成に高度に依存する。この点に関し、膜平面に対して垂直方向に配列プロファイルを調整する１つの可能なやり方は、単反応性のメソゲン化合物（すなわち、１つの重合性基をもつ化合物）と二反応性のメソゲン化合物（すなわち、２つの重合性基をもつ化合物）との比率を適切に選択することである。加えて、低ジアクリラート含量ＲＭ膜は、ＲＭ膜の基体への良好な接着が重要な用途(applications)に高度に好適である。しかしながら、上に述べられたとおり、低ジアクリラート含量ＲＭ膜は、しばしば、とくにポリマー収縮に起因して、位相差が顕著に落ちる。
熱酸化分解は、高温度での酸化によって触媒されるポリマーネットワークの断絶である。一般的に知られているとおり、抗酸化添加剤、または短時間の(short)抗酸化剤は、温度の上昇に供されたときのポリマーの熱酸化分解を低減させるために使用され得る。これは、光学膜が、高温度に起因するインセル用途(an in-cell application)に利用されるとき、とくに重要である。とりわけ、光学膜は、ＬＣセル中のポリイミド層をアニールするときに持ちこたえなければならないこの点に関し、WO 2009/86911 A1およびJP 5354238 B1の書類は、市販の抗酸化剤Irganox（登録商標）1076を含む重合性液晶（ＬＣ）材料を記載している。
上記材料のすべてが、利用されるＬＣ材料に起因して、その結果得られるポリマー膜の熱耐久性が依然として十分には高くないままであること、ＶＩＳ光に対するそれらの透明性が限定されていること、それらがさらなる添加剤の利用を要求すること、またはそれらの適用幅(application bandwidth)が限定されていること、などの明白な不利益を有する。
したがって、新しくおよび好ましく改善された、重合性液晶材料または混合物に対するニーズが依然としてあり、これらは、先行技術の材料の短所を呈さず、呈する場合、前記短所を少しの度合でしか呈しない。
有利には、かかる重合性ＬＣ材料は、好ましくは、ポリマー膜またはポリマーネットワークＬＣ用途などの、均一に配列された種々のポリマー膜の調製に適用可能であるはずであり、とりわけ同時に、
− 基体に対して好ましい接着性を示すはずであり、
− ＶＩＳ光に対して高度に透明であるはずであり、
− 時間とともに黄色く着色すること（黄変）の低減を呈すはずであり、
− 好ましい高温安定性または耐久性を示すはずであり、加えて、
− 均一に配列されたポリマー膜は、大量生産のための一般的に知られている適合性のある方法によって生産されるはずである。
本発明の他の目的は、以下の詳細な記載から、当業者には直ちに自明である。
驚くべきことに、本発明の発明者らは、上の要求の目的の１以上、好ましくはすべてが、請求項１に記載の重合性ＬＣ材料を使用することによって、好ましくは同時に、達成され得ることを見出した。
本発明の概要
よって、本発明は、少なくとも１種の二反応性または多反応性のメソゲン化合物、および式ＣＯ−１で表される少なくとも１種の化合物を含む重合性ＬＣ材料に関する。
さらに、本発明はまた、対応する、重合性ＬＣ材料の生産方法にも関する。
本発明はさらに、以上以下に記載のとおり、重合性ＬＣ材料から得られる、好ましくは得られたポリマーネットワークまたはポリマー膜に、および以上以下に記載のとおり、ポリマー膜の生産方法に関する。
本発明はさらに、以上以下に記載のとおり、重合性ＬＣ材料から得られる、好ましくは得られたポリマー膜の耐久性を、重合前に式ＣＯ−１で表される化合物をＬＣ材料へ加えることによって、増大する方法に関する。
本発明はさらに、光学用途、電気光学用途、情報保管用途、装飾用途および保安用途、たとえば、液晶ディスプレイ、プロジェクションシステム、偏光子、補償板、配向層、円偏光子、カラーフィルター、装飾画像、液晶色素、空間的に変動する反射色をもつ反射膜、多色画像、偽造不可能な文書、たとえば、身分証明書(identity)またはクレジットカードまたは紙幣における、以上以下に記載のとおりの、ポリマーネットワークもしくはポリマー膜または重合性ＬＣ材料の使用に関する。
本発明はさらに、以上以下に記載のとおりの、少なくとも１種のポリマーネットワークもしくはポリマー膜または重合性ＬＣ材料を含む、光学部品(a optical component)またはデバイス、偏光子、パターン化位相差板(patterned retarder)、補償板、配向層、円偏光子、カラーフィルター、装飾画像、液晶レンズ、液晶色素、空間的に変動する反射色をもつ反射膜、装飾用のまたは情報保管用の多色画像に関する。
本発明はさらに、以上以下に記載のとおり、少なくとも１種のポリマーネットワークもしくはポリマー膜または重合性ＬＣ材料、または光学部品を含む、液晶ディスプレイに関する。
本発明はさらに、以上以下に記載のとおりの、少なくとも１種のポリマーネットワークもしくはポリマー膜または重合性ＬＣ材料、または光学部品を含む、認証、照合または安全保障マーク(security marking)、保安使用(security use)のための有色または多色画像、偽造不可能な物体または有価文書（たとえば、身分証明書またはクレジットカードまたは紙幣）に関する。
用語および定義
本明細書に使用されるとき、用語「ポリマー」は、１以上の違うタイプの繰り返し単位（分子の最小構成単位）の主鎖を網羅する分子を意味するものと理解されるであろう。前記用語は、一般的に知られている用語「オリゴマー」、「コポリマー」、「ホモポリマー」等を包含する。さらに、用語ポリマーは、ポリマー自体に加えて、開始剤からの残留物、触媒、およびかかるポリマーの合成に関与する他の要素も包含するものと理解されるであろう。前記ポリマーにおいて、かかる残留物は、それへと共有結合的に組み込まれないないものとして理解される。さらに、かかる残留物および他の要素は、重合後の精製プロセスの間中に通常取り除かれるものの、それらが一般に、容器間または溶媒間または分散媒体間で移されるときポリマーとともに残存するように、典型的にはポリマーとともに混合されているか、または共に混ざり合わされている。
本発明において使用されるときの用語「（メタ）アクリルポリマー」は、アクリルモノマーから得られたポリマー、メタクリルモノマーから得られ得るポリマー、およびかかるモノマーの混合物から得られる対応するコポリマーを包含する。
用語「重合」は、複数の重合性基またはかかる重合性基を含有するポリマー前駆体（重合性化合物）をともに結合させることによって、ポリマーを形成する化学プロセスを意味する。
用語「膜」および「層」は、機械的安定性をもつ、剛直なまたはフレキシブルな、自立した(self-supporting)または独立した(freestanding)膜、ならびに支持基体上のまたは２基体間のコーティングまたは層を包含する。
用語「液晶」または「ＬＣ」は、ある温度範囲において（サーモトロピックＬＣ）または溶液中のある濃度範囲において（リオトロピック液晶）、液晶メソ相を有する材料に関する。それらは、メソゲン化合物を必須として含有する。
用語「メソゲン化合物」および「液晶化合物」は、１以上のカラミティック（棒状、または幅広／薄い板状(lath-shaped)）またはディスコティック（円盤状）メソゲン基を含む化合物を意味する。用語「メソゲン基」は、液晶相（またはメソ相）挙動を誘導する能力をもつ基を意味する。メソゲン基を含む化合物は必ずしも、液晶メソ相それ自体を呈する必要はない。それらは、他の化合物との混合物中でしか、あるいはメソゲン化合物または材料、またはそれらの混合物が重合されたときでしか、液晶メソ相を示さないこともまた、あり得る。これは、低分子量非反応性液晶化合物、反応性または重合性液晶化合物、および液晶ポリマーを包含する。
カラミティックメソゲン基は通常、１種以上の芳香族環基または非芳香族環基（互いに直接接続されているか、連結基を介して接続されている）を含んでおり、任意にメソゲン性コアの末端(the ends)に付着された末端基(terminal groups)を含んでおり、および任意にメソゲン性コアの長手側に付着された１種以上の側方基(lateral groups)を含んでおり、ここでこれらの末端基および側方基は通常、例として、カルビル基またはヒドロカルビル基、ハロゲン、ニトロ、ヒドロキシ等々の極性基、または重合性基から選択される。
用語「反応性メソゲン」は、重合性のメソゲン化合物または液晶化合物、好ましくはモノマー化合物を意味する。これらの化合物は、純粋な化合物として、または反応性メソゲンと、光開始剤、阻害剤、界面活性剤、安定剤、連鎖移動剤、非重合性化合物等々として機能する他の化合物との混合物として、使用され得る。
１つの重合性基をもつ重合性化合物はまた、「単反応性」化合物とも称され、２つの重合性基をもつ化合物はまた、「二反応性」化合物とも称され、２つより多い重合性基をもつ化合物はまた、「多反応性」化合物とも称される。重合性基のない化合物はまた、「非反応性または非重合性」化合物とも称される。
用語「非メソゲン化合物または材料」は、上に定義されるとおりのメソゲン基は含有しない化合物または材料を意味する。
可視光は、約４００ｎｍから約７４０ｎｍまでの範囲の波長を有する電磁照射線である。紫外（ＵＶ）光は、約２００ｎｍから約４５０ｎｍまでの範囲の波長をもつ電磁照射線である。
放射照度（Ｅｅ）または照射力は、電磁照射線（ｄθ）の、単位面積（ｄＡ）あたりの、表面上への入射の力：
Ｅｅ＝ｄθ／ｄＡ
放射露光または放射線量（Ｈｅ）は、時間（ｔ）あたりの照射または照射力（Ｅｅ）：
Ｈｅ＝Ｅｅ・ｔ
である。
すべての温度、例えば、液晶の融点Ｔ（Ｃ，Ｎ）またはＴ（Ｃ，Ｓ）、スメクティック（Ｓ）からネマティック（Ｎ）相への転移Ｔ（Ｓ，Ｎ）および透明点Ｔ（Ｎ，Ｉ）などは、セルシウス度で引用される。すべての温度差は、差分度で引用される。
用語「透明点」は、最も高い温度範囲をもつメソ相と、等方相との間の転移が生じる温度を意味する。
用語「ディレクタ」は、先行技術において知られており、液晶分子またはＲＭ分子の長分子軸（カラミティック化合物のケースにおいて）または短分子軸（ディスコティック化合物のケースにおいて）の優先配向方向を意味する。かかる異方性分子の一軸性秩序のケースにおいて、ディレクタは、異方性の軸である。
用語「配列(alignment)」または「配向(orientation)」は、小分子または大分子の断片などの材料の異方性単位の、「配列方向」と名付けられる共通方向における配列（配向性秩序）に関する。液晶材料またはＲＭ材料の配列された層において、液晶ディレクタは、配列方向が材料の異方性軸の方向に対応するように、配列方向に一致する。
例えば材料の層における、液晶材料またはＲＭ材料の用語「均一配向」または「均一配列」は、液晶分子またはＲＭ分子の長分子軸（カラミティック化合物のケースにおいて）または短分子軸（ディスコティック化合物のケースにおいて）が、実質的に同じ方向に配列されることを意味する。換言すると、液晶ディレクタの線列(lines)が、平行である。
用語「ホメオトロピック構造」または「ホメオトロピック配向」は、光学軸が、膜面に対して実質的に垂直であるところの膜を指す。
用語「プラナー構造」または「プラナー配向」は、光学軸が、膜面に対して実質的に平行であるところの膜を指す。
用語「負の（光学的）分散」は、逆複屈折分散を表示する複屈折材料または層または液晶材料または層を指すが、前記材料または層において、複屈折（Δｎ）の強度は、増大する波長（λ）とともに増大する。すなわち、｜Δｎ（４５０）｜＜｜Δｎ（５５０）｜、またはΔｎ（４５０）／Δｎ（５５０）＜１であり、式中Δｎ（４５０）およびΔｎ（５５０）は夫々、４５０ｎｍおよび５５０ｎｍの波長にて測定される材料の複屈折である。対照的に、「正の（光学的）分散」は、｜Δｎ（４５０）｜＞｜Δｎ（５５０）｜、またはΔｎ（４５０）／Δｎ（５５０）＞１を有する材料または層を意味する。また、例えば、Uchiyama, T. Yatabe “Control of Wavelangth dispersion of Birefringence for Oriented Copolycarbonate Films Containing Positive and Negative Birefringent Units”. J. Appl. Phys. Vol. 42 pp 6941-6945 (2003)も参照。
所定の波長での位相差は、上に記載されるとおり［Ｒ（λ）＝Δｎ（λ）ｄ］、複屈折と層の厚さとの積として定義されるため、光学分散は、比率Δｎ（４５０）／Δｎ（５５０）による「複屈折分散」、または比率Ｒ（４５０）／Ｒ（５５０）による「位相差分散(retardation dispersion)」のいずれかとして表現され得るが、ここでＲ（４５０）およびＲ（５５０）は夫々、４５０ｎｍおよび５５０ｎｍの波長にて測定される材料の位相差である。層の厚さｄは、波長とともには変化しないため、Ｒ（４５０）／Ｒ（５５０）は、Δｎ（４５０）／Δｎ（５５０）に等しい。よって、負の分散または逆分散をもつ材料または層は、Ｒ（４５０）／Ｒ（５５０）＜１、または｜Ｒ（４５０）｜＜｜Ｒ（５５０）｜を有し、および正の分散または常分散をもつ材料または層は、Ｒ（４５０）／Ｒ（５５０）＞１、または｜Ｒ（４５０）｜＞｜Ｒ（５５０）｜を有する。
本発明において、別段の言及がなされない限り、「光学分散」は、位相差分散、すなわち比率Ｒ（４５０）／Ｒ（５５０）を意味する。
用語「高い分散」は、分散の絶対値が、１からの大きな逸脱を示すことを意味する一方、用語「低い分散」は、分散の絶対値が、１からの小さな逸脱を示すことを意味する。それゆえ、「高い負の分散」は、分散値が、１より著しく小さいことを意味し、および「低い負の分散」は、分散値が、１よりほんのわずかに小さいことを意味する。
材料の位相差（Ｒ（λ））は、分光エリプソメーター、例えばJ. A. Woollam Co.によって製造されるM2000分光エリプソメーターを使用して測定され得る。この機器は、複屈折の試料、例として波長、典型的には３７０ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲にわたるQuartzの、ナノメートルにおける位相差(optical retardance)を測定することができる。このデータから、材料の分散（Ｒ（４５０）／Ｒ（５５０）またはΔｎ（４５０）／Δｎ（５５０））を計算することが可能である。
これらの測定を実行するための方法は、National Physics Laboratory（London, UK）にてN. Singhによって2006年10月に提示され、および「Spectroscopic Ellipsometry, Part1-Theory and Fundamentals, Part 2 - Practical Examples and Part 3 - measurements」と題された。J. A. Woollam Co. Inc（Lincoln, NE, USA）によって公開されたRetardation Measurement (RetMeas) Manual (2002) and Guide to WVASE (2002)（Woollam Variable Angle Spectroscopic Ellipsometer）に記載された測定手順に従う。別段の言及がなされない限り、この方法は、本発明において記載される材料、膜、およびデバイスの位相差を決定するために使用される。
用語「Ａプレート」は、一軸性複屈折材料の層を利用する光学的リターダーを指すが、その異常軸(extraordinary axis)は、層の平面に対して平行に配向する。
用語「Ｃプレート」は、一軸性複屈折材料の層を利用する光学的リターダーを指すが、その異常軸は、層の平面に対して垂直に配向する。
均一配向をもつ光学的に一軸性複屈折の液晶材料を含むＡ／Ｃプレートにおいて、膜の光学軸は、異常軸の方向によって与えられる。正の複屈折をもつ光学的に一軸性複屈折の液晶材料を含むＡ（またはＣ）プレートはまた、「正のＡ（またはＣ）プレート」または「＋Ａ（または＋Ｃ）プレート」とも称される。
ディスコティック異方性材料などの、負の複屈折をもつ光学的に一軸性複屈折の材料を含むＡ（またはＣ）プレートはまた、ディスコティック材料の配向に依存して、「負のＡ（またはＣ）プレート」または「−Ａ（またはＣ）プレート」とも称される。スペクトルのＵＶ部分において反射バンドをもつコレステリックカラミティック材料から作られる膜もまた、負のＣプレートの光学性を有する。
複屈折Δｎは、以下
Δｎ＝ｎｅ−ｎｏ
のとおりに定義され、式中ｎｅは、異常光屈折率であり、およびｎｏは、常光屈折率であり、および平均屈折率ｎａｖ．は、以下の式：
ｎａｖ．＝（（２ｎｏ ２＋ｎｅ ２）／３）１／２
によって与えられる。
平均屈折率ｎａｖ．および常光屈折率ｎｏは、Abbe屈折計を使用して測定され得る。Δｎは次いで、上の等式から計算され得る。
文脈が明確にそうではないと指し示さない限り、本明細書に使用されるとき、本明細書における用語の複数形は、単数形を包含するものと解釈されるべきであり、その逆もまたしかりである。
すべての物理的特性は、“Merck Liquid Crystals, Physical Properties of Liquid Crystals”, Status Nov. 1997, Merck KgaA, Germanyに従って決定されてきた、および決定されており、別段の明示的な言及がない限り、２０℃の温度に対して与えられる。光学的異方性（Δｎ）は、５８９．３ｎｍの波長にて決定される。
疑いのある場合、C. Tschierske, G. Pelzl and S. Diele, Angew. Chem. 2004, 116, 6340-6368において与えられるとおりの定義が適用されるであろう。
所定の一般式において別段の明示的な言及がなされない限り、以下の用語は、以下の意味を有する：
「カルビル基」は、少なくとも１個の炭素原子を含有する一価または多価の有機基を示し、前記基は、さらなる原子（例えば、−Ｃ≡Ｃ−等）を含有しないか、または１個以上のさらなる原子（例えば、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｐ、Ｓｉ、Ｓｅ、Ａｓ、ＴｅまたはＧｅ等）を任意に含有する（例えば、カルボニル等）かのいずれかである。「ヒドロカルビル基」は、１以上のＨ原子、および任意に１以上のヘテロ原子（例えばＮ、Ｏ、Ｓ、Ｐ、Ｓｉ、Ｓｅ、Ａｓ、ＴｅまたはＧｅ等）を加えて含有する、カルビル基を示す。
カルビル基またはヒドロカルビル基は、飽和または不飽和の基であり得る。不飽和の基は、例えば、アリール基、アルケニル基、またはアルキニル基である。３個よりも多いＣ原子を有するカルビル基またはヒドロカルビル基は、直鎖、分枝および／または環状であり得、スピロ連結または縮合環を含有していてもよい。
好ましいカルビル基およびヒドロカルビル基は、１〜４０個の、好ましくは１〜２５個の、とくに好ましくは１〜１８個のＣ原子を有する任意に置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシおよびアルコキシカルボニルオキシ、６〜４０個の、好ましくは６〜２５個のＣ原子を有する任意に置換されていてもよいアリールまたはアリールオキシ、または６〜４０個の、好ましくは６〜２５個のＣ原子を有する任意に置換されていてもよいアルキルアリール、アリールアルキル、アルキルアリールオキシ、アリールアルキルオキシ、アリールカルボニル、アリールオキシカルボニル、アリールカルボニルオキシおよびアリールオキシカルボニルオキシである。
さらに好ましいカルビル基およびヒドロカルビル基は、Ｃ１〜Ｃ４０アルキル、Ｃ２〜Ｃ４０アルケニル、Ｃ２〜Ｃ４０アルキニル、Ｃ３〜Ｃ４０アリール、Ｃ４〜Ｃ４０アルキルジエニル、Ｃ４〜Ｃ４０ポリエニル、Ｃ６〜Ｃ４０アリール、Ｃ６〜Ｃ４０アルキルアリール、Ｃ６〜Ｃ４０アリールアルキル、Ｃ６〜Ｃ４０アルキルアリールオキシ、Ｃ６〜Ｃ４０アリールアルキルオキシ、Ｃ２〜Ｃ４０ヘテロアリール、Ｃ４〜Ｃ４０シクロアルキル、Ｃ４〜Ｃ４０シクロアルケニル等々である。具体的に好ましいのは、Ｃ１〜Ｃ２２アルキル、Ｃ２〜Ｃ２２アルケニル、Ｃ２〜Ｃ２２アルキニル、Ｃ３〜Ｃ２２アリール、Ｃ４〜Ｃ２２アルキルジエニル、Ｃ６〜Ｃ１２アリール、Ｃ６〜Ｃ２０アリールアルキル、およびＣ２〜Ｃ２０ヘテロアリールである。
さらに好ましいカルビル基およびヒドロカルビル基は、１〜４０個の、好ましくは１〜２５個のＣ原子を、より好ましくは１〜１２個のＣ原子を有する直鎖のまたは分枝のまたは環状のアルキルラジカルであって、これらは、非置換であるか、またはＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＩまたはＣＮにより単置換または多置換されており、およびこれらにおいて、１以上の非隣接のＣＨ２基が各々、相互に独立して、−Ｃ（Ｒｘ）＝Ｃ（Ｒｘ）−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｎ（Ｒｘ）−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−によって、Ｏ原子および／またはＳ原子が相互に直接的に連結されないように、置き換えられていてもよい。
上で、Ｒｘは、好ましくは、Ｈ、ハロゲン、１〜２５個のＣ原子を有する、直鎖の、分枝のまたは環状のアルキル鎖であるが、加えて、前記アルキル鎖において、１個以上の非隣接のＣ原子は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−によって置き換えられていてもよく、およびこれらにおいて、１以上のＨ原子は、フッ素、６〜４０個のＣ原子を有する任意に置換されていてもよいアリール基またはアリールオキシ基、または２〜４０個のＣ原子を有する任意に置換されていてもよいヘテロアリール基またはヘテロアリールオキシ基によって置き換えられていてもよい。
好ましいアルキル基は、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、２−メチルブチル、ｎ−ペンチル、ｓ−ペンチル、シクロペンチル、ｎ−ヘキシル、シクロヘキシル、２−エチルヘキシル、ｎ−ヘプチル、シクロヘプチル、ｎ−オクチル、シクロオクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル、ｎ−ウンデシル、ｎ−ドデシル、ドデカニル、トリフルオロメチル、パーフルオロ−ｎ−ブチル、２，２，２−トリフルオロエチル、パーフルオロオクチル、パーフルオロヘキシル等々である。
好ましいアルケニル基は、例えば、エテニル、プロペニル、ブテニル、ペンテニル、シクロペンテニル、ヘキセニル、シクロヘキセニル、ヘプテニル、シクロヘプテニル、オクテニル、シクロオクテニル等々である。
好ましいアルキニル基は、例えば、エチニル、プロピニル、ブチニル、ペンチニル、シクロペンチニル、ヘキシニル、シクロヘキシニル、ヘプチニル、シクロヘプチニル、オクチニル、シクロオクチニル等々である。
好ましいアルコキシ基は、例えば、メトキシ、エトキシ、２−メトキシエトキシ、ｎ−プロポキシ、ｉ−プロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｉ−ブトキシ、ｓ−ブトキシ、ｔ−ブトキシ、２−メチルブトキシ、ｎ−ペントキシ、ｎ−ヘキソキシ、ｎ−へプチルオキシ、ｎ−オクチルオキシ、ｎ−ノニルオキシ、ｎ−デシルオキシ、ｎ−ウンデシルオキシ、ｎ−ドデシルオキシ等々である。
好ましいアミノ基は、例えば、ジメチルアミノ、メチルアミノ、メチルフェニルアミノ、フェニルアミノ等々である。
アリール基およびヘテロアリール基は、単環式または多環式であり得る、すなわち、それらは、１つの環（例えば、フェニルなど）または２つ以上の環を有し得、これらはまた、縮合されていても（例えば、ナフチルなど）または共有結合的に連結されていても（例えば、ビフェニルなど）、または縮合および連結された環の組み合わせを含有していてもよい。ヘテロアリール基は、好ましくはＯ、Ｎ、Ｓ、およびＳｅから選択される、１個以上のヘテロ原子を含有する。
具体的に好ましいのは、６〜２５個のＣ原子を有する単環式、二環式または三環式のアリール基、および２〜２５個のＣ原子を有する単環式、二環式または三環式のヘテロアリール基であって、これらは、縮合環を任意に含有していてもよく、およびこれらは、任意に置換されていてもよい。さらにまた、好ましいのは、５員、６員または７員のアリール基およびヘテロアリール基であって、前記基において、加えて、１以上のＣＨ基は、Ｎ、Ｓ、またはＯ原子によって、Ｏ原子および／またはＳ原子が相互に直接的に連結されないように、置き換えられていてもよい。
好ましいアリール基は、例えば、フェニル、ビフェニル、ターフェニル、［１，１’：３’１’’］ターフェニル−２’−イル、ナフチル、アントラセン、ビナフチル、フェナントレン、ピレン、ジヒドロピレン、クリセン、ペリレン、テトラセン、ペンタセン、ベンゾピレン、フルオレン、インデン、インデノフルオレン、スピロビフルオレン等々である。
好ましいヘテロアリール基は、例えば、ピロール、ピラゾール、イミダゾール、１，２，３−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール、テトラゾール、フラン、チオフェン、セレノフェン、オキサゾール、イソオキサゾール、１，２−チアゾール、１，３−チアゾール、１，２，３−オキサジアゾール、１，２，４−オキサジアゾール、１，２，５−オキサジアゾール、１，３，４−オキサジアゾール、１，２，３−チアジアゾール、１，２，４−チアジアゾール、１，２，５−チアジアゾール、１，３，４−チアジアゾールなどの５員環、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、１，３，５−トリアジン、１，２，４−トリアジン、１，２，３−トリアジン、１，２，４，５−テトラジン、１，２，３，４−テトラジン、１，２，３，５−テトラジンなどの６員環、またはインドール、イソインドール、インドリジン、インダゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、プリン、ナフトイミダゾール、フェナントロイミダゾール、ピリドイミダゾール、ピラジンイミダゾール、キノキサリンイミダゾール、ベンゾオキサゾール、ナフトオキサゾール、アントロオキサゾール、フェナントロオキサゾール、イソオキサゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾフラン、イソベンゾフラン、ジベンゾフラン、キノリン、イソキノリン、プテリジン、ベンゾ−５，６−キノリン、ベンゾ−６，７−キノリン、ベンゾ−７，８−キノリン、ベンゾイソキノリン、アクリジン、フェノチアジン、フェノキサジン、ベンゾピリダジン、ベンゾピリミジン、キノキサリン、フェナジン、ナフチリジン、アザカルバゾール、ベンゾカルボリン、フェナントリジン、フェナントロリン、チエノ［２，３ｂ］チオフェン、チエノ［３，２ｂ］チオフェン、ジチエノチオフェン、イソベンゾチオフェン、ジベンゾチオフェン、ベンゾチアジアゾチオフェンなどの縮合基、またはこれらの基の組み合わせである。ヘテロアリール基はまた、アルキル、アルコキシ、チオアルキル、フッ素、フルオロアルキル、またはさらなるアリールまたはヘテロアリールの基によっても置換されていてもよい。
（非芳香族）脂環式およびヘテロ環式の基は、飽和の環、すなわち、専ら単結合を含有するものと、部分的に不飽和の環、すなわち、多重結合もまた含有していてもよいものとの両者を網羅する。ヘテロ環式の環は、１個以上のヘテロ原子、好ましくはＳｉ、Ｏ、Ｎ、Ｓ、およびＳｅから選択される前記ヘテロ原子を含有する。
（非芳香族）脂環式およびヘテロ環式の基は、単環式、すなわち、１つの環しか含有し得ないか（例えば、シクロヘキサンなど）、または多環式、すなわち、多数の環を含有し得る（例えば、デカヒドロナフタレンまたはビシクロオクタンなど）。具体的に好ましいのは、飽和の基である。好ましいのは、さらにまた、３〜２５個のＣ原子を有する単−、二−、または三環式の基であるが、これらは任意に、縮合環を含有し、およびこれらは任意に置換されていてもよい。好ましいのは、さらにまた、５員、６員、７員または８員の炭素環基であるが、これらにおいて、加えて、１個以上のＣ原子が、Ｓｉによって置き換えられていてもよく、および／または１個以上のＣＨ基が、Ｎによって置き換えられていてもよく、および／または１個以上の非隣接のＣＨ２基が、−Ｏ−および／または−Ｓ−によって置き換えられていてもよい。
好ましい脂環式基およびヘテロ環式基は、例えば、シクロペンタン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロチオフラン、ピロリジンなどの５員の基、シクロヘキサン、シリナン、シクロヘキセン、テトラヒドロピラン、テトラヒドロチオピラン、１，３−ジオキサン、１，３−ジチアン、ピペリジンなどの６員の基、シクロヘプタンなどの７員の基、およびテトラヒドロナフタレン、デカヒドロナフタレン、インダン、ビシクロ［１．１．１］ペンタン−１，３−ジイル、ビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイル、スピロ［３．３］ヘプタン−２，６−ジイル、オクタヒドロ−４，７−メタノインダン−２，５−ジイルなどの縮合した基である。
アリール基、ヘテロアリール基、（非芳香族）脂環式基およびヘテロ環基は、任意に、１以上の置換基を有していてもよいが、前記置換基は好ましくは、シリル、スルホ、スルホニル、ホルミル、アミン、イミン、ニトリル、メルカプト、ニトロ、ハロゲン、Ｃ１〜１２アルキル、Ｃ６〜１２アリール、Ｃ１〜１２アルコキシ、ヒドロキシルを含む群から選択されるか、またはこれらの基の組み合わせである。
好ましい置換基は、例えば、アルキルまたはアルコキシなどの可溶性促進(solubility-promoting)基、フッ素、ニトロまたはニトリルなどの電子吸引基、またはポリマーにおけるガラス転移温度（Ｔｇ）を増大させるための置換基、とりわけ、例えばｔ−ブチルまたは任意に置換されていてもよいアリール基などの嵩高い基、である。
好ましい置換基は、また下の「Ｌ」とも称されるが、例えば、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、−ＯＨ、−ＣＮ、−ＮＯ２、−ＮＣＯ、−ＮＣＳ、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｘ）２、−Ｃ（＝Ｏ）ＹＸ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒｘ、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲｘ、−Ｎ（Ｒｘ）２であり、式中Ｒｘは、上述の意味を有し、およびＹＸは、ハロゲン、任意に置換されていてもよいシリル、４〜４０個の、好ましくは４〜２０個の環原子を有する任意に置換されていてもよいアリールまたはヘテロアリール、および１〜２５個のＣ原子を有する直鎖または分枝のアルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシまたはアルコキシカルボニルオキシ（これらにおいて、１個以上のＨ原子は任意に、ＦまたはＣｌによって置き換えられていてもよい）を示す。
「置換（されている／された）シリルまたはアリール」は好ましくは、ハロゲン、−ＣＮ、Ｒｙ、−ＯＲｙ、−ＣＯ−Ｒｙ、−ＣＯ−Ｏ−Ｒｙ、−Ｏ−ＣＯ−Ｒｙまたは−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−Ｒｙ（式中Ｒｙは、Ｈ、１〜１２個のＣ原子を有する直鎖の、分枝のまたは環状のアルキルを表す）によって置換されていることを意味する。
上におよび下に示される式において、置換フェニレン環
は、好ましくは
である。
式中Ｌは、どの出現においても同一であるかまたは異なっており、以上以下において与えられる意味の１つを有し、好ましくはＦ、Ｃｌ、ＣＮ、ＮＯ２、ＣＨ３、Ｃ２Ｈ５、Ｃ（ＣＨ３）３、ＣＨ（ＣＨ３）２、ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｃ２Ｈ５、ＯＣＨ３、ＯＣ２Ｈ５、ＣＯＣＨ３、ＣＯＣ２Ｈ５、ＣＯＯＣＨ３、ＣＯＯＣ２Ｈ５、ＣＦ３、ＯＣＦ３、ＯＣＨＦ２、ＯＣ２Ｆ５またはＰ−Ｓｐ−、極めて好ましくはＦ、Ｃｌ、ＣＮ、ＣＨ３、Ｃ２Ｈ５、ＯＣＨ３、ＣＯＣＨ３、ＯＣＦ３またはＰ−Ｓｐ−、最も好ましくはＦ、Ｃｌ、ＣＨ３、ＯＣＨ３、ＣＯＣＨ３またはＯＣＦ３である。
「ハロゲン」は、Ｆ、Ｃｌ、ＢｒまたはＩを、好ましくはＦまたはＣｌを、より好ましくはＦを示す。
「重合性基」（Ｐ）は好ましくは、Ｃ＝Ｃ二重結合またはＣ≡Ｃ三重結合、および開環を伴う重合に好適な基（例えば、オキセタン基またはエポキシド基など）を含有する群から選択される。
好ましくは、重合性基（Ｐ）は、ＣＨ２＝ＣＷ１−ＣＯＯ−、ＣＨ２＝ＣＷ１−ＣＯ−、
ＣＨ２＝ＣＷ２−（Ｏ）ｋ３−、ＣＷ１＝ＣＨ−ＣＯ−（Ｏ）ｋ３−、ＣＷ１＝ＣＨ−ＣＯ−ＮＨ−、ＣＨ２＝ＣＷ１−ＣＯ−ＮＨ−、ＣＨ３−ＣＨ＝ＣＨ−Ｏ−、（ＣＨ２＝ＣＨ）２ＣＨ−ＯＣＯ−、（ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２）２ＣＨ−ＯＣＯ−、（ＣＨ２＝ＣＨ）２ＣＨ−Ｏ−、（ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２）２Ｎ−、（ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２）２Ｎ−ＣＯ−、ＣＨ２＝ＣＷ１−ＣＯ−ＮＨ−、ＣＨ２＝ＣＨ−（ＣＯＯ）ｋ１−Ｐｈｅ−（Ｏ）ｋ２−、ＣＨ２＝ＣＨ−（ＣＯ）ｋ１−Ｐｈｅ−（Ｏ）ｋ２−、Ｐｈｅ−ＣＨ＝ＣＨ−からなる群から選択され、式中
Ｗ１は、Ｈ、Ｆ、Ｃｌ、ＣＮ、ＣＦ３、フェニルまたは１〜５個のＣ原子を有するアルキルを、とりわけＨ、Ｆ、ＣｌまたはＣＨ３を示し、
Ｗ２は、Ｈ、または１〜５個のＣ原子を有するアルキルを、とりわけＨ、メチル、エチルまたはｎ−プロピルを示し、
Ｗ３およびＷ４は各々、相互に独立して、Ｈ、Ｃｌ、または１〜５個のＣ原子を有するアルキルを示し、Ｐｈｅは、上に定義されるとおりであるがＰ−Ｓｐとは異なる１以上のラジカルＬによって任意に置換さていてもよい、１，４−フェニレンを示し、好ましくは、好ましい置換基Ｌは、Ｆ、Ｃｌ、ＣＮ、ＮＯ２、ＣＨ３、Ｃ２Ｈ５、ＯＣＨ３、ＯＣ２Ｈ５、ＣＯＣＨ３、ＣＯＣ２Ｈ５、ＣＯＯＣＨ３、ＣＯＯＣ２Ｈ５、ＣＦ３、ＯＣＦ３、ＯＣＨＦ２、ＯＣ２Ｆ５、さらにまたフェニルであり、ならびに
ｋ１、ｋ２およびｋ３は各々、相互に独立して、０または１を示し、ｋ３は、好ましくは１を示し、およびｋ４は１から１０までの整数である。
具体的に好ましい重合性基Ｐは、ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＯＯ−、ＣＨ２＝ＣＦ−ＣＯＯ−、ＣＨ２＝ＣＨ−、ＣＨ２＝ＣＨ−Ｏ−、（ＣＨ２＝ＣＨ）２ＣＨ−ＯＣＯ−、（ＣＨ２＝ＣＨ）２ＣＨ−Ｏ−、
であり、式中Ｗ２は、Ｈ、または１〜５個のＣ原子を有するアルキル、とりわけＨ、メチル、エチルまたはｎ−プロピルを示す。
さらに好ましい重合性基（Ｐ）は、ビニルオキシ、アクリラート、メタクリラート、フルオロアクリラート、クロロアクリラート、オキセタンおよびエポキシド、極めて好ましくはアクリラートまたはメタクリラート、とりわけアクリラートである。
好ましくは、すべての多反応性の重合性化合物およびそれらの従属式は、１以上のラジカルＰ−Ｓｐ−の代わりに、２以上の重合性基Ｐを含有する１以上の分枝のラジカルを含有する（多反応性重合性ラジカル）。
このタイプの好適なラジカル、およびこれらを含有する重合性化合物は、例えばUS 7,060,200 B1またはUS 2006/0172090 A1に記載されている。
具体的に好ましいのは、以下の式から選択される多反応性重合性ラジカルである：
−Ｘ−アルキル−ＣＨＰｘ−ＣＨ２−ＣＨ２Ｐｙ Ｉ＊ａ
−Ｘ−アルキル−Ｃ（ＣＨ２Ｐｘ）（ＣＨ２Ｐｙ）−ＣＨ２Ｐｚ Ｉ＊ｂ
−Ｘ−アルキル−ＣＨＰｘＣＨＰｙ−ＣＨ２Ｐｚ Ｉ＊ｃ
−Ｘ−アルキル−Ｃ（ＣＨ２Ｐｘ）（ＣＨ２Ｐｙ）−ＣａａＨ２ａａ＋１ Ｉ＊ｄ
−Ｘ−アルキル−ＣＨＰｘ−ＣＨ２Ｐｙ Ｉ＊ｅ
−Ｘ−アルキル−ＣＨＰｘＰｙ Ｉ＊ｆ
−Ｘ−アルキル−ＣＰｘＰｙ−ＣａａＨ２ａａ＋１ Ｉ＊ｇ
−Ｘ−アルキル−C(CH2Pv)(CH2Pw)−CH2OCH2−C(CH2Px)(CH2Py)CH2Pz Ｉ＊ｈ
−Ｘ−アルキル−ＣＨ（（ＣＨ２）ａａＰｘ）（（ＣＨ２）ｂｂＰｙ） Ｉ＊ｉ
−Ｘ−アルキル−ＣＨＰｘＣＨＰｙ−ＣａａＨ２ａａ＋１ Ｉ＊ｋ
式中
アルキルは、単結合、または１〜１２個のＣ原子を有する直鎖または分枝アルキレンを示し、前記アルキレン中１以上の非隣接のＣＨ２基は各々、互いに独立して、−Ｃ（Ｒｘ）＝Ｃ（Ｒｘ）−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｎ（Ｒｘ）−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−によって、Ｏ原子および／またはＳ原子が相互に直接連結されないように、置き換えられていてもよく、および前記アルキレン中、加えて、１個以上のＨ原子は、Ｆ、ＣｌまたはＣＮによって置き換えられていてもよく、ここでＲｘは、上述の意味を有し、
ａａおよびｂｂは各々、相互に独立して、０、１、２、３、４、５または６を示し、
Ｘは、Ｘ’について示される意味の１つを有し、および
Ｐｖ〜Ｐｚは各々、相互に独立して、Ｐについて上に示される意味の１つを有する。
好ましいスペーサー基Ｓｐは、ラジカル「Ｐ−Ｓｐ−」が式「Ｐ−Ｓｐ’−Ｘ’−」に適合するように、式Ｓｐ’−Ｘ’から選択されるが、ここで
Ｓｐ’は、１〜２０個の、好ましくは１〜１２個のＣ原子を有するアルキレン、これはＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＩまたはＣＮにより任意に単置換または多置換されていてもよく、およびここにおいて、加えて、１つまたは２つ以上の非隣接のＣＨ２基は夫々、互いに独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＮＲｘｘ−、−ＳｉＲｘｘＲｙｙ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−ＮＲｘｘ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲｘｘ−、−ＮＲｘｘ−ＣＯ−ＮＲｙｙ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−により、Ｏおよび／またはＳ原子が互いにへと直接的に連結しないように置き換えられていてもよい、を示し、
Ｘ’は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、−ＣＯ−ＮＲｘｘ−、−ＮＲｘｘ−ＣＯ−、−ＮＲｘｘ−ＣＯ−ＮＲｙｙ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝ＣＲｘｘ−、−ＣＹｘｘ＝ＣＹｘｘ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、または単結合を示し、
ＲｘｘおよびＲｙｙは、各々相互に独立して、Ｈ、または１〜１２個のＣ原子を有するアルキルを示し、および
ＹｘｘおよびＹｙｙは、各々相互に独立して、Ｈ、Ｆ、Ｃｌ、またはＣＮを示し、
Ｘ’は、好ましくは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、−ＣＯ−ＮＲｘｘ−、−ＮＲｘｘ−ＣＯ−、−ＮＲｘｘ−ＣＯ−ＮＲｙｙ−または単結合である。
典型的なスペーサー基Ｓｐ’は、例えば、−（ＣＨ２）ｐ１−、−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｑ１−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＮＨ−ＣＨ２ＣＨ２−、または−（ＳｉＲｘｘＲｙｙ−Ｏ）ｐ１−であり、ここでｐ１は、１から１２までの整数であり、ｑ１は、１から３までの整数であり、およびＲｘｘおよびＲｙｙは、上述の意味を有する。
具体的に好ましい基−Ｘ’−Ｓｐ’−は、−（ＣＨ２）ｐ１−、−Ｏ−（ＣＨ２）ｐ１−、−ＯＣＯ−（ＣＨ２）ｐ１−、−ＯＣＯＯ−（ＣＨ２）ｐ１−であり、ここでｐ１は、１から１２までの整数である。
具体的に好ましい基Ｓｐ’は、例えば、各場合直鎖において、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン、ヘプチレン、オクチレン、ノニレン、デシレン、ウンデシレン、ドデシレン、オクタデシレン、エチレンオキシエチレン、メチレンオキシブチレン、エチレンチオエチレン、エチレン−Ｎ−メチルイミノエチレン、１−メチルアルキレン、エテニレン、プロペニレンおよびブテニレンである。
本発明において、
は、トランス−１，４−シクロヘキシレンを示し、ならびに
は、１，４−フェニレンを示す。
本発明にとって、基−ＣＯＯ−または−ＣＯ２−は、式
で表されるエステル基を示し、および基−ＯＣＯ−、−Ｏ２Ｃ−、または−ＯＯＣ−は、式
で表されるエステル基を示す。
「ポリマーネットワーク」は、すべてのポリマー鎖が相互接続されることで、多くの交差架橋による単一の巨視的な実体が形成されているところのネットワークである。
ポリマーネットワークは、以下のタイプにおいて起こり得る：
− グラフトポリマー分子は、１以上の側鎖が、構造的にまたは配置的に、主鎖とは異なる分枝のポリマーである。
− スターポリマー分子は、単一の分枝点が、複数の線状の鎖またはアームを生じさせる、分枝のポリマー分子である。アームが同一である場合、スターポリマー分子は、規則性であると言われる。隣接するアームが、異なる繰り返しサブユニットから構成される場合、スターポリマー分子は、混合鎖であると言われる。
− 櫛型ポリマー分子は、２以上の３方向の分枝点および線状側鎖をもつ主鎖からなる。アームが同一である場合、櫛型ポリマー分子は、規則性であると言われる。
− ブラシ状ポリマー分子は、線状の、非分枝の側鎖をもつ主鎖からなり、前記側鎖において、分枝点の１以上が、４方向またはより大きい官能性を有する。
本明細書の記載およびクレームの全体を通して、単語「含む(comprise)」および「含有する」およびその単語の変形、例えば「含むこと(comprising)」および「含む(comprises)」は、「包含するが、これらには限定されない(including but not limited to)」を意味し、他の構成要素を除外することを意図しない（およびそれらを除外しない）。他方、単語「含む(comprise)」はまた、用語「からなる(consisting of)」も包含するが、それには限定されない。
本明細書の記載およびクレームの全体を通して、単語「得られる(obtainable)」および「得られた(obtained)」およびそれらの単語の変形は、「包含するが、これらには限定されない」を意味し、他の構成要素を除外することを意図しない（およびそれらを除外しない）。他方、単語「得られ得る」はまた、用語「得られる」をも網羅するが、それには限定されない。
すべての濃度は、重量パーセントで引用され、かつ夫々の混合物全体に関し、すべての温度は、セルシウス度で引用され、すべての温度差は、示差度で(in differential degrees)引用される。
詳細な記載
式ＣＯ−１で表される好ましいカルバゾールオキシムエステル光開始剤は、以下の式
で表される化合物の群から選択されるが、式中Ｌ１は、Ｈ、Ｂｒ、ＣＮ、またはＮＯ２を示す；Ｌ２、Ｌ３およびｎは、式ＣＯ−１に与えられるとおりの意味の１つを有する。
とくに好ましいのは、以下の式、
から選択されるカルバゾールオキシムエステル光開始剤であるが、式中Ｌ２およびＬ３およびｎは、式ＣＯ−１の下、上に与えられるとおりの意味の１つを有する。
とりわけ好ましいのは、以下の式、
から選択されるカルバゾールオキシムエステル光開始剤であるが、式中Ｌ２およびＬ３は、式ＣＯ−１の下、上に与えられるとおりの意味の１つを有する。
さらに好ましいのは、以下の式ＣＯ−１９〜ＣＯ−２６、
から選択されるカルバゾールオキシムエステル光開始剤であるが、式中Ｌ３は、式ＣＯ−１の下、上に与えられるとおりの意味の１つを有し、好ましくはアルキルまたは１，４−フェニルを示す。
式ＣＯ−１およびそれらの下位式で表される化合物は、当業者に知られているプロセスに類似して調製され得、および例えば、Houben-Weyl, Methoden der organischen Chemie [Methods of Organic Chemistry], Thieme-Verlag, Stuttgartにおいてなど、有機化学の標準的な著作物に記載され得る。好ましくは、式ＣＯ−１およびそれらの下位式で表される化合物は、WO2016/076652 A1、WO 2015/108386 A1またはEP 2 845 845 A1に開示のプロセスに類似して調製され得る。
好ましくは、全体としての重合性ＬＣ材料中の式ＣＯ−１で表されるカルバゾールオキシムエステル光開始剤の最少量は、総混合物の１％より多い、より好ましくは２％より多い、なおもより好ましくは３％より多い、最も好ましくは４％より多い。
好ましくは、式ＣＯ−１で表されるカルバゾールオキシムエステル光開始剤の最大量は、重合性ＬＣ材料全体の、好ましくは１０重量％未満、極めて好ましくは８重量％未満、とりわけ６重量％未満である。
好ましくは、少なくとも１種の二反応性または多反応性のメソゲン化合物は、式ＤＲＭ
Ｐ１−Ｓｐ１−ＭＧ−Ｓｐ２−Ｐ２ ＤＲＭ
から選択され、
式中
Ｐ１およびＰ２は、互いに独立して、重合性基を示し、
Ｓｐ１およびＳｐ２は、互いに独立して、スペーサー基または単結合であり、および
ＭＧは、棒状のメソゲン基であるが、これは好ましくは、式ＭＧ
−（Ａ１−Ｚ１）ｎ−Ａ２− ＭＧ
から選択され、
式中
Ａ１およびＡ２は、複数存在する場合、相互に独立して、芳香族基または脂環式基を示すが、これらは、Ｎ、ＯおよびＳから選択される１個以上のヘテロ原子を任意に含有していてもよく、およびＬ１によって任意に単置換または多置換されていてよく、
Ｌ１は、Ｐ−Ｓｐ−、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、−ＣＮ、−ＮＯ２、−ＮＣＯ、−ＮＣＳ、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ００Ｒ０００、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ００、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ００、−ＮＲ００Ｒ０００、−ＯＨ、−ＳＦ５、１〜１２個の、好ましくは１〜６個のＣ原子をもつ任意に置換されていてもよいシリル、アリール、またはヘテロアリール、および１〜１２個の、好ましくは１〜６個のＣ原子をもつ直鎖または分枝のアルキル、アルコキシ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシまたはアルコキシカルボニルオキシであり、ここで１個以上のＨ原子は、ＦまたはＣｌによって任意に置き換えられていてもよく、
Ｒ００およびＲ０００は、互いに独立して、Ｈ、または１〜１２個のＣ原子をもつアルキルを示し、
Ｚ１は、複数存在する場合、相互に独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、−ＣＯ−ＮＲ００−、−ＮＲ００−ＣＯ−、−ＮＲ００−ＣＯ−ＮＲ０００、−ＮＲ００−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ００−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）ｎ１、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝ＣＲ００−、−ＣＹ１＝ＣＹ２−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−または単結合を示し、
Ｙ１およびＹ２は、互いに独立して、Ｈ、Ｆ、ＣｌまたはＣＮを示し、
ｎは、１、２、３または４、好ましくは１または２、最も好ましくは２であり、
ｎ１は、１から１０までの整数、好ましくは１、２、３または４である。
好ましい基Ａ１およびＡ２は、限定せずに、フラン、ピロール、チオフェン、オキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イミダゾール、フェニレン、シクロヘキシレン、ビシクロオクチレン、シクロヘキセニレン、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、アズレン、インダン、フルオレン、ナフタレン、テトラヒドロナフタレン、アントラセン、フェナントレンおよびジチエノチオフェンを包含し、これらのすべては、非置換であるか、または上に定義されるとおりの１、２、３、または４個の基Ｌによって置換されている。
具体的に好ましい基Ａ１およびＡ２は、１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、チオフェン−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン２，６−ジイル、インダン−２，５−ジイル、ビシクロオクチレンまたは１，４−シクロヘキシレンから選択され、ここで１個または２個の非隣接のＣＨ２は、Ｏおよび／またはＳによって任意に置き換えられていてもよく、ここでこれらの基は、非置換であるか、または上に定義したとおりの１、２、３、または４個の基Ｌによって置換されている。
具体的に好ましい基Ｚ１は、各存在において、互いに独立して、好ましくは−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−または単結合から選択される。
式ＤＲＭで表される極めて好ましい二反応性メソゲン化合物は、以下の式：
から選択され、式中
Ｐ０は、複数存在する場合、相互に独立して、重合性基、好ましくはアクリル基、メタアクリル基、オキセタン基、エポキシ基、ビニル基、ヘプタジエン基、ビニルオキシ基、プロペニルエーテル基またはスチレン基であり、
Ｌは、各々が同一の存在であるかまたは異なって存在するとき、式ＤＲＭにおいてＬ１に与えられる意味の１つを有し、および好ましくは、複数存在する場合、相互に独立して、Ｆ、Ｃｌ、ＣＮまたは１〜５個のＣ原子をもつ任意にハロゲン化されていてもよいアルキル、アルコキシ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシまたはアルコキシカルボニルオキシから選択され、
ｒは、０、１、２、３または４であり、
ｘおよびｙは、互いに独立して、０であるか、または同一のまたは異なる１から１２までの整数であり、
ｚは各々、および独立して、０または１であるが、隣接するｘまたはｙが０のとき、ｚは０である。
とくに好ましいのは、式ＤＲＭａ１、ＤＲＭａ２およびＤＲＭａ３で表される化合物、とりわけ式ＤＲＭａ１で表される化合物である。
好ましくは、重合性ＬＣ材料は加えて、少なくとも１種の単反応性メソゲン化合物を含み、前記化合物は、好ましくは、式ＭＲＭ
Ｐ１−Ｓｐ１−ＭＧ−Ｒ ＭＲＭ
から選択され、
式中Ｐ１、Ｓｐ１およびＭＧは、式ＤＲＭに与えられる意味を有し、
Ｒは、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、−ＣＮ、−ＮＯ２、−ＮＣＯ、−ＮＣＳ、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲｘＲｙ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲｘ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒｙ、−ＮＲｘＲｙ、−ＯＨ、−ＳＦ５、任意に置換されていてもよいシリル、１〜１２個の、好ましくは１〜６個のＣ原子をもつ直鎖または分枝のアルキル、アルコキシ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシまたはアルコキシカルボニルオキシであり、ここで１個以上のＨ原子は、ＦまたはＣｌによって任意に置き換えられていてもよく、
Ｘは、ハロゲン、好ましくはＦまたはＣｌであり、および
ＲｘおよびＲｙは、互いに独立して、Ｈ、または１〜１２個のＣ原子をもつアルキルである。
好ましくは、式ＭＲＭで表される単反応性メソゲン化合物は、以下の式、
から選択されるが、式中Ｐ０、Ｌ、ｒ、ｘ、ｙおよびｚは、式ＤＲＭａ−１〜式ＤＲＭｅにおいて定義されるとおりであり、
Ｒ０は、１個以上の、好ましくは１〜１５個のＣ原子をもつアルキル、アルコキシ、チオアルキル、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシまたはアルコキシカルボニルオキシであるか、またはＹ０を示し、
Ｙ０は、Ｆ、Ｃｌ、ＣＮ、ＮＯ２、ＯＣＨ３、ＯＣＮ、ＳＣＮ、ＳＦ５、または１〜４個のＣ原子をもつモノ−、オリゴ−またはポリフッ素化アルキルまたはアルコキシであり、
Ｚ０は、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、または単結合であり、
Ａ０は、複数存在する場合、相互に独立して、非置換であるか、または１、２、３または４個の基Ｌで置換された１，４−フェニレン、またはトランス−１，４−シクロヘキシレンであり、
ｕおよびｖは、互いに独立して、０、１または２であり、
ｗは、０または１であり、
およびここで、ベンゼン環およびナフタレン環は、加えて、１個以上の同一であるかまたは異なっている基Ｌで置換され得る。
さらに好ましくは、式ＭＲＭ１、ＭＲＭ２、ＭＲＭ３、ＭＲＭ４、ＭＲＭ５、ＭＲＭ６、ＭＲＭ７、ＭＲＭ９およびＭＲＭ１０で表される化合物、とくに式ＭＲＭ１、ＭＲＭ４、ＭＲＭ６、およびＭＲＭ７で表される化合物、とりわけ式ＭＲＭ１およびＭＲＭ７で表される化合物である。
式ＲＭ、ＤＲＭ、ＭＲＭ、およびその下位式で表される化合物は、当業者に知られているプロセスに類似して調製され得、および例えば、Houben-Weyl, Methoden der organischen Chemie [Methods of Organic Chemistry], Thieme-Verlag, Stuttgartにおいてなど、有機化学の標準的な著作物に記載され得る。
本発明に従う重合性液晶材料全体における、該単反応性、二反応性または多反応性液晶化合物の割合は、好ましくは３０から９９．９重量％までの範囲にある、より好ましくは４０から９９．９重量％までの範囲にある、なおより好ましくは５０から９９．９重量％までの範囲にある。
好ましい態様において、本発明に従う重合性液晶材料全体における、二反応性または多反応性の重合性メソゲン化合物の割合は、５から９９重量％までの範囲にある、より好ましくは１０から９７重量％までの範囲にある、およびなおより好ましくは１５から９５重量％までの範囲にある。
別の好ましい態様において、本発明に従う重合性液晶材料全体における、単反応性重合性メソゲン化合物の割合は、存在する場合、好ましくは５から８０重量％までの範囲にある、より好ましくは１０から７５重量％までの範囲にある、なおより好ましくは１５から７０重量％までの範囲にある。
別の好ましい態様において、本発明に従う重合性液晶材料全体における、多反応性の重合性メソゲン化合物の割合は、存在する場合、好ましくは１から３０重量％までの範囲、より好ましくは２から２０重量％までの範囲、およびなおより好ましくは３から１０重量％までの範囲である。
別の好ましい態様において、重合性ＬＣ材料は、２個より多い重合性基を有する重合性メソゲン化合物を含有しない。
別の好ましい態様において、重合性ＬＣ材料は、２個より少ない重合性基を有する重合性メソゲン化合物を含有しない。
別の好ましい態様において、重合性ＬＣ材料はアキラル材料である、すなわち、いずれのキラル重合性メソゲン化合物も、他のキラル化合物も含有しない。
さらに好ましい態様において、重合性ＬＣ材料は、少なくとも１種の単反応性メソゲン化合物（好ましくは、式ＭＲＭ−１から選択される）、少なくとも１種の二反応性メソゲン化合物（好ましくは、式ＤＲＭａ−１から選択される）、および少なくとも１種の式ＣＯ−１で表される化合物を含む。
さらに好ましい態様において、重合性ＬＣ材料は、少なくとも１種の単反応性メソゲン化合物（好ましくは、式ＭＲＭ−７から選択される）、少なくとも１種の二反応性メソゲン化合物（好ましくは、式ＤＲＭａ−１から選択される）、および少なくとも１種の式ＣＯ−１で表される化合物を含む。
さらに好ましい態様において、重合性ＬＣ材料は、少なくとも２種の単反応性メソゲン化合物（好ましくは、式ＭＲＭ−１および／または式ＭＲＭ−７から選択される）、少なくとも１種の二反応性メソゲン化合物（好ましくは、式ＤＲＭａ−１から選択される）、および少なくとも１種の式ＣＯ−１で表される化合物を含む。
さらに好ましい態様において、重合性ＬＣ材料は、少なくとも２種の単反応性メソゲン化合物（好ましくは、式ＭＲＭ−１および／または式ＭＲＭ−７から選択される）、少なくとも２種の二反応性メソゲン化合物（好ましくは、式ＤＲＭａ−１から選択される）、および少なくとも１種の式ＣＯ−１で表される化合物を含む。
さらに好ましい態様において、重合性ＬＣ材料は、少なくとも２種の二反応性メソゲン化合物（好ましくは、式ＤＲＭａ−１から選択される）、および少なくとも１種の式ＣＯ−１で表される化合物を含む。
さらに好ましい態様において、とくに負の光学的分散適用のため、上に記載のとおりの重合性ＬＣ材料は加えて、式ＮＤ、
で表される１以上の化合物を含むが、
式中
Ｕ１、２は、互いに独立して、
（これらの鏡像も包含する）から選択され、式中環Ｕ１およびＵ２は各々、軸結合(the axial bond)を介して基−（Ｂ）ｑ−へ結合されており、およびこれらの環中１個または２個の非隣接ＣＨ２基は任意に、Ｏおよび／またはＳによって置き換えられていてもよく、および環Ｕ１およびＵ２は任意に、１個以上の基Ｌによって置換されていてもよく、
Ｑ１，２は、互いに独立して、ＣＨまたはＳｉＨであり、
Ｑ３は、ＣまたはＳｉであり、
Ｂは、各存在において、相互に独立して、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＹ１＝ＣＹ２−または任意に置換されていてもよい芳香族基もしくはヘテロ芳香族基であり、
Ｙ１、２は、互いに独立して、Ｈ、Ｆ、Ｃｌ、ＣＮまたはＲ０であり、
ｑは、１から１０までの整数、好ましくは１、２、３、４、５、６または７であり、
Ａ１〜４は、互いに独立して、非芳香族、芳香族もしくはヘテロ芳香族の炭素環式基またはヘテロ環式基から選択されるが、これらは任意に、１以上の基Ｒ５によって置換されていてもよく、および式中−（Ａ１−Ｚ１）ｍ−Ｕ１−（Ｚ２−Ａ２）ｎ−および−（Ａ３−Ｚ３）ｏ−Ｕ２−（Ｚ４−Ａ４）ｐ−の各々は、非芳香族基より多く芳香族基を含有せず、および好ましくは、１より多くの芳香族基を含有せず、
Ｚ１〜４は、互いに独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、−ＣＯ−ＮＲ０−、−ＮＲ０−ＣＯ−、−ＮＲ０−ＣＯ−ＮＲ００−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２ ） ３−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＹ１＝ＣＹ２−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝ＣＲ０−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＲ０Ｒ００または単結合であり、
Ｒ０およびＲ００は、互いに独立して、Ｈ、または１〜１２個のＣ原子をもつアルキルであり、
ｍおよびｎは、互いに独立して、０、１、２、３または４であり、
ｏおよびｐは、互いに独立して、０、１、２、３または４であり、
Ｒ１〜５は、互いに独立して、Ｈ、ハロゲン、−ＣＮ、−ＮＣ、−ＮＣＯ、−ＮＣＳ、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ０Ｒ００、−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ０、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ０、−ＮＨ２、−ＮＲ０Ｒ００、−ＳＨ、−ＳＲ０、−ＳＯ３Ｈ、−ＳＯ２Ｒ０、−ＯＨ、−ＮＯ２、−ＣＦ３、−ＳＦ５、Ｐ−Ｓｐ−、任意に置換されていてもよいシリル、または１〜４０個のＣ原子をもつカルビルもしくはヒドロカルビル（任意に置換されていてもよく、および任意に、１個以上のヘテロ原子を含んでいてもよい）から選択される同一のまたは異なる基であるか、あるいはＰまたはＰ−Ｓｐ−を示すか、あるいはＰまたはＰ−Ｓｐ−によって置換されており、ここで化合物は、ＰもしくはＰ−Ｓｐ−を示すかまたはＰもしくはＰ−Ｓｐ−によって置換されている少なくとも１個の基Ｒ１〜５を含み、
Ｐは、重合性基であり、
Ｓｐは、スペーサー基または単結合である。
好ましくは、式ＮＤ中の架橋基Ｂを形成する部分基(the subgroups)は、好ましくは、１２０°以上の、好ましくは１８０°の範囲にある結合角を有する基から選択される。極めて好ましいのは、これらの隣接基にパラ位で接続された−Ｃ≡Ｃ−基または二価芳香族基、例として、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、インダン−２，６−ジイルまたはチエノ［３，２−ｂ］チオフェン−２，５−ジイル等である。
さらに可能な部分基は、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＹ１＝ＣＹ２−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−および−ＣＨ＝ＣＲ０−（式中Ｙ１、Ｙ２、Ｒ０は、上に与えられる意味を有する）を包含する。
好ましくは、架橋基、つまり式ＮＤ中の−（Ｂ）ｑ−は、−Ｃ≡Ｃ−、任意に置換されていてもよい１，４−フェニレン、および任意に置換されていてもよい９Ｈ−フルオレン−２，７−ジイルからなる群から選択される１以上の基を含む。部分基、つまり式ＮＤ中のＢは、好ましくは、−Ｃ≡Ｃ−、任意に置換されていてもよい１，４−フェニレン、および任意に置換されていてもよい９Ｈ−フルオレン−２，７−ジイルからなる群から選択されるが、ここでフルオレン基中、９位におけるＨ原子は任意に、カルビル基またはヒドロカルビル基によって置き換えられていてもよい。
極めて好ましくは、架橋基、つまり式ＮＤの−（Ｂ）ｑ−は、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｃ−、−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｃ−、−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｃ−、
または
から選択され、式中ｒは、０、１、２、３または４であり、およびＬは、下に記載されるとおりの意味を有する。
好ましくは、式ＮＤ中のＵ１およびＵ２等の、メソゲン基の非芳香族環（ここに架橋基が付着されている）は、好ましくは、
から選択され、式中Ｒ５は、式ＮＤにおいて定義されているとおりである。
好ましくは、式ＮＤ中の芳香族基Ａ１〜４は、単核性(mononuclear)、すなわちたった１つの芳香族環（例えばフェニルまたはフェニレン等）を有していても、または多核性(polynuclear)、すなわち２つ以上の縮合環（例えばナフチルまたはナフチレン等）を有していてもよい。とくに好ましいのは、最大２５個のＣ原子をもつ単−、二−または三環式の芳香族基またはヘテロ芳香族基であって、これらはまた、縮合環をも含んでいてもよく、およびこれらは任意に、置換されていてもよい。
好ましくは、式ＮＤで表される化合物中の非芳香族の炭素環式およびヘテロ環式の環Ａ１〜４は、飽和の（また「完全に飽和の」とも言及される）もの（すなわちこれらは、単結合によって接続されたＣ原子またはヘテロ原子しか含有していない）、および不飽和の（また「部分的に飽和の」とも言及される）もの（すなわちこれらはまた、二重結合によって接続されたＣ原子またはヘテロ原子をも含む）を包含する。非芳香族環はまた、１個以上のヘテロ原子（好ましくはＳｉ、Ｏ、ＮおよびＳから選択される）をも含んでいてもよい。
好ましくは、非芳香族および芳香族の環、つまり式ＮＤ中のＡ１〜４は、トランス−１，４−シクロヘキシレンおよび１，４−フェニレンから選択されるが、これらは任意に、１以上の基Ｌで置換されていてもよい。
極めて好ましいのは、式ＮＤで表される化合物であって、式中ｍおよびｐは、１であり、およびｎおよびｏは、１または２である。さらに好ましいのは、式ＮＤで表される化合物であって、式中ｍおよびｐは、１または２であり、およびｎおよびｏは、０である。さらに好ましいのは、ｍ、ｎ、ｏおよびｐが２である化合物である。
式ＮＤで表される化合物において、メソゲン基中芳香族および非芳香族の環式基に接続する連結基、つまりＺ１〜４は、好ましくは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、−ＣＯ−ＮＲ０−、−ＮＲ０−ＣＯ−、−ＮＲ０−ＣＯ−ＮＲ０−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２ ） ３−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＹ１＝ＣＹ２−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝ＣＲ０−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＲ０Ｒ００または単結合から、極めて好ましくは−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−および単結合から、選択される。
好ましくは、式ＮＤで表される化合物において、Ｌなどの環上の置換基は、好ましくは、Ｐ−Ｓｐ−、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、−ＣＮ、−ＮＯ２、−ＮＣＯ、−ＮＣＳ、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ０Ｒ００、−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ０、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ０、−ＮＲ０Ｒ００、−ＯＨ、−ＳＦ５、任意に置換されていてもよいシリル、アリールまたはヘテロアリール（１〜１２個の、好ましくは１〜６個のＣ原子をもつ）、および直鎖または分枝のアルキル、アルコキシ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシまたはアルコキシカルボニルオキシ（１〜１２個の、好ましくは１〜６個のＣ原子をもつ）から選択され、式中１個以上のＨ原子は任意に、ＦまたはＣｌによって置き換えられていてもよく、式中Ｒ０およびＲ００は、式ＮＤにおいて定義されたとおりであり、およびＸはハロゲンである。
好ましくは、式ＮＤで表される化合物は、２以上の重合性基ＰまたはＰ−Ｓｐ−（多機能の重合性基）によって置換されている、１以上の末端基（Ｒ１〜４等の）、または置換基（Ｒ５等の）を含む。このタイプの好適な多機能の重合性基は、例えばUS 7,060,200 B1またはUS 2006/0172090 A1に開示されている。
式ＮＤで表される極めて好ましい化合物は、以下の下位式で表されるものである：
式中Ｒ１〜５、Ａ１〜４、Ｚ１〜４、Ｂ、ｍ、ｎ、ｏ、ｐおよびｑは、上に与えられる意味の１つを有する。
とくに好ましいのは、以下の下位式で表される化合物である：
式中Ｚは、上に与えられたＺ１の意味の１つを有し、Ｒは、Ｐ−Ｓｐ−とは異なり上に与えられたとおりのＲ１の意味の１つを有し、およびＰ、Ｓｐ、Ｌおよびｒは、上に定義されたとおりであり、およびメソゲン基中のベンゼン環は任意に、上に定義されたとおりの１以上の基Ｌによって置換されていてもよい。
好ましいのは、さらにまた、重合性液晶媒体であるが、ここで式ＮＤで表される化合物は、式ＮＤ２５またはＮＤ２６で表される化合物の群から選択され、とりわけ式中Ｚは、−ＣＯＯ−を示し、ｒは、各存在において０であり、およびＰ、Ｓｐは、上に定義されたとおりである。
これらの好ましい化合物中のＰ−Ｓｐ−は、好ましくはＰ−Ｓｐ’−Ｘ’であり、このＸ’は、好ましくは−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯＯ−である。
式ＮＤ、その下位式で表される化合物およびこれらの合成のための好適な方法は、WO 2008/119427 A1に開示されている。
中の式ＮＤで表される化合物の量は、好ましくは、０から５０％までであり、極めて好ましくは０から４０％までである。
さらに好ましい態様において、重合性ＬＣ材料は任意に、さらなる重合開始剤、抗酸化剤、界面活性剤、安定剤、触媒、増感剤、阻害剤、連鎖移動剤、共反応性モノマー、反応性シンナー、表面活性化合物、潤滑剤、湿潤剤、分散剤、疎水化剤、接着剤、流動性改善剤、脱泡剤または消泡剤(degassing or defoaming agents)、脱気剤(deaerators)、希釈剤、反応性希釈剤、助剤、着色料、染料、色素およびナノ粒子からなる群から選択される１種以上の添加剤を含む。
別の好ましい態様において、重合性ＬＣ材料は、重合性非メソゲン化合物（反応性シンナー）から選択される１種以上の添加剤を任意に含む。重合性ＬＣ材料中のこれらの添加剤の量は、好ましくは０から３０％まで、極めて好ましくは０から２５％までである。
使用される反応性シンナーは、反応性シンナーとしての実際の意味において参照される物質のみならず、１種以上の補足的な(complementary)反応性単位または重合性基Ｐ、例えばヒドロキシル基、チオール基、またはアミノ基を含有する、上で既に述べた助剤化合物もまたある。前記基を介して、液晶化合物の重合性単位との反応が起こり得る。
通常光重合することができる物質は、例えば、少なくとも１個のオレフィン性二重結合を含有する単官能性の、二官能性の、および多官能性の化合物を包含する。それらの例は、カルボン酸の、例えばラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸およびステアリン酸のビニルエステル、およびジカルボン酸の、例えばスクシン酸、アジピン酸、アリルエーテルおよびビニルエーテルのビニルエステル、および単官能性アルコールの、例えばラウリルアルコール、ミリスチルアルコール、パルミチルアルコール、およびステアリルアルコールのメタアクリル酸エステルおよびアクリル酸エステル、および二官能性アルコール、例えばエチレングリコールおよび１、４−ブタンジオールのジアリルエーテルおよびジビニルエーテルである。
例えば、多官能性アルコールのメタクリル酸エステルおよびアクリル酸エステル、とりわけヒドロキシル基の他に、さらなる官能基を含有しないか、またはせいぜいエーテル基しか含有しないものもまた好適である。かかるアルコールの例は、エチレングリコール、プロピレングリコールおよびそれらのより高度に縮合された代表物（例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等）、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、エトキシル化およびプロポキシル化ビスフェノールなどのアルコキシル化フェノール性化合物、シクロヘキサンジメタノールなどの二官能性アルコール、グリセロール、トリメチロールプロパン、ブタントリオール、トリメチロールエタン、ペンタエリトリトール、ジトリメチロプロパン、ジペンタンエリトリトール、ソルビトール、マンニトール、および対応するアルコキシル化アルコール、とりわけエトキシル化およびプロポキシル化アルコールなどの三官能性および多官能性アルコールである。
他の好適な反応性シンナーは、ポリエステロールの（メタ）アクリル酸エステルである、ポリエステル（メタ）アクリラートである。
好適なポリエステルの例は、ポリオール、好ましくはジオールを使用して、ポリカルボン酸、好ましくはジカルボン酸のエステル化によって調製され得るポリエステルである。ヒドロキシルを含有する、かかるポリエステルのための出発材料は、当業者に知られている。採用され得るジカルボン酸は、スクシン酸、グルタル酸、アジピン酸、セバシン酸、ｏ−フタル酸、およびそれらの異性体および水素化生成物、および該酸のエステル化可能な(esterifiable)およびエステル交換可能な(transesterifiable)誘導体、例えば無水物およびジアルキルエステルである。好適なポリオールは、上述のアルコール、好ましくは、エチレングリコール、１，２−および、１，３−プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、シクロヘキサンジメタノール、およびエチレングリコールおよびプロピレングリコールタイプのポリグリコールである。
好適な反応性シンナーは、さらにまた、１，４−ジビニルベンゼン、トリアリルシアヌレート、以下の式
で表されるトリシクロデセニルアルコールのアクリル酸エステル（これはまた、ジヒドロジシクロペンタンジエニルアクリラートという名称でも知られている）、およびアクリル酸、メタアクリル酸およびシアノアクリル酸のアリルエステルである。
例として述べられた反応性シンナーのうち、光重合性基を含有するものが、とりわけ、および上述の好ましい組成物の観点から、使用される。
この群は、例えば、二価および多価(dihydric and polyhydric)アルコール、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコールおよびそれらのより高度に縮合した代表物（例えばジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等）、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、シクロヘキサンジメタノール、グリセロール、トリメチロールプロパン、ブタントリオール、トリメチロールエタン、ペンタエリトリトール、ジトリメチロプロパン、ジペンタンエリトリトール、ソルビトール、マンニトール、および対応するアルコキシル化されたアルコール、とりわけエトキシル化およびプロポキシル化されたアルコールを包含する。
さらにまた、その群はまた、例えば、アルコキシル化されたフェノール性化合物、例えば、エトキシル化およびプロポキシル化されたビスフェノールも包含する。
これらの反応性シンナーはさらにまた、例えば、エポキシドまたはウレタン（メタ）アクリラートであってもよい。
エポキシド（メタ）アクリラートは、例えば、エポキシ化オレフィンまたはポリ−またはジグリシジルエーテル（ビスフェノールＡジグリシジルエーテルなど）と、（メタ）アクリル酸との、当業者に知られている反応によって得られ得るとおりのものである。
ウレタン（メタ）アクリラートはとりわけ、ヒドロキシルアルキル（メタ）アクリラートと、ポリ−またはジイソシアナートとの、当業者に知られている同様の反応の生成物である。
かかるエポキシドおよびウレタン（メタ）アクリラートは、「混合形態」として上に列挙される化合物の中に包含されている。
反応性シンナーが使用される場合、それらの量および特性は、一方で、満足する所望の効果、例えば本発明に従う組成物の所望の色は達成されるが、しかし他方で、液晶組成物の相挙動は過剰に損なわない仕方で、夫々の条件に合致されなければならない。小さい(low-)交差架橋の（大きい(high-)交差架橋の）液晶組成物は、例えば、１分子あたりの反応性単位数が相対的に小さい(low)（大きい(high)）対応する反応性シンナーを使用して、調製され得る。
希釈剤の群は、例えば：
Ｃ１〜Ｃ４−アルコール、例えばメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、ｓｅｃ−ブタノールおよび、とりわけ、Ｃ５〜Ｃ１２−アルコールのｎ−ペンタノール、ｎ−ヘキサノール、ｎ−ヘプタノール、ｎ−オクタノール、ｎ−ノナノール、ｎ−デカノール、ｎ−ウンデカノールおよびｎ−ドデカノール、およびそれらの異性体、グリコール、例えば１，２−エチレングリコール、１，２−および１，３−プロピレングリコール、１，２−、２，３−および１，４−ブチレングリコール、ジ−およびトリエチレングリコールおよびジ−およびトリプロピレングリコール、エーテル、例えばメチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、１，２−エチレングリコールモノ−およびジメチルエーテル、１，２−エチレングリコールモノ−およびジエチルエーテル、３−メトキシプロパノール、３−イソプロポキシプロパノール、テトラヒドロフランおよびジオキサン、ケトン、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンおよびジアセトンアルコール（４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン）、Ｃ１〜Ｃ５のアルキルエステル、例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチルおよび酢酸アミル、脂肪族炭化水素および芳香族炭化水素、例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、イソオクタン、石油エーテル、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、テトラリン、デカリン、ジメチルナフタレン、揮発油、Shellsol（登録商標）およびSolvesso（登録商標）鉱油、例えばガソリン、ケロシン、ディーゼル油および加熱油のみならず、天然油、例えばオリーブ油、大豆油、菜種油、亜麻仁油およびひまわり油のもまた包含する。
本発明に従う組成物においてこれらの希釈剤の混合物を使用することもまた、当然あり得ることである。
少なくとも部分的に混和性がある限り、これらの希釈剤はまた、水とも混合され得る。ここで好適な希釈剤の例は、Ｃ１〜Ｃ４−アルコール、例えばメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノールおよびｓｅｃ−ブタノールの、グリコール、例えば１，２−エチレングリコール、１，２−および１，３−プロピレングリコール、１，２−、２，３−および１，４−ブチレングリコール、ジ−およびトリエチレングリコール、およびジ−およびトリプロピレングリコール、エーテル、例えばテトラヒドロフランおよびジオキサン、ケトン、例えばアセトン、メチルエチルケトンおよびジアセトンアルコール（４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン）、およびＣ１〜Ｃ４−アルキルエステル、例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルおよび酢酸ブチルである。
希釈剤は、重合性ＬＣ材料の総重量に基づいて、約０から１０．０重量％まで、好ましくは約０から５．０重量％までの割合で任意に採用される。
泡止めおよび脱気剤(antifoams and deaerators)（ｃ１））、潤滑および流動助剤(lubricants and flow auxiliaries)（ｃ２））、熱硬化または放射線硬化助剤（ｃ３））、基体湿潤助剤（ｃ４））、湿潤および分散助剤（ｃ５））、疎水化剤（ｃ６））、接着促進剤（ｃ７））および傷耐性を促進するための助剤（ｃ８））は、それらの作用の点で厳密には相互に区切られ得るものではない。
例えば、潤滑および流動助剤はまた、しばしば、泡止めおよび／または脱気剤としても、および／または傷耐性を改善するための助剤としても作用する。放射線硬化助剤はまた、潤滑および流動助剤および／または脱気剤としても、および／または基体湿潤助剤としても作用し得る。個々のケースにおいて、これらの助剤のいくつかもまた、接着促進剤（ｃ８））の機能を果たし得る。
上で言われているものに対応して、ある添加剤はしたがって、下に記載の群ｃ１）〜ｃ８）の多数に分類され得る。
群ｃ１）における泡止めは、シリコンなしのおよびシリコン含有のポリマーを包含する。シリコン含有のポリマーは、例えば、改変されていないかまたは改変されているポリジアルキルシロキサンまたは分枝のコポリマー、ポリジアルキルシロキサン単位およびポリエーテル単位を含む櫛型またはブロックコポリマーであり、後者は、エチレンオキシドまたはプロピレンオキシドから得られる。
群ｃ１）における脱気剤は、例えば有機ポリマー、例えばポリエーテルおよびポリアクリラート、ジアルキルポリシロキサン、とりわけジメチルポリシロキサン、有機修飾ポリシロキサン、例えばアリールアルキル修飾ポリシロキサン、およびフルオロシリコーンを包含する。
泡止めの作用は、泡の形成を妨げること、またはすでに形成された泡を破壊することに本質的に基づく。泡止めは、脱気されるはずの媒体、例えば本発明に従う組成物において、より大きいバブルを与えるために細かく分割された気体または空気バブルの癒着を促進することによって、本質的に働くものであって、それゆえ気体の（空気の）漏れ出しを加速させる。泡止めはまた、度々脱気剤としても採用され得るから（逆の場合も同じ）、これらの添加剤は、群ｃ１）の下でともに包含されている。
かかる助剤は、例えば、TEGO（登録商標）Foamex 800、TEGO（登録商標）Foamex 805、TEGO（登録商標）Foamex 810、TEGO（登録商標）Foamex 815、TEGO（登録商標）Foamex 825、TEGO（登録商標）Foamex 835、TEGO（登録商標）Foamex 840、TEGO（登録商標）Foamex 842、TEGO（登録商標）Foamex 1435、TEGO（登録商標）Foamex 1488、TEGO（登録商標）Foamex 1495、TEGO（登録商標）Foamex 3062、TEGO（登録商標）Foamex 7447、TEGO（登録商標）Foamex 8020、Tego（登録商標）Foamex N、TEGO（登録商標）Foamex K 3、TEGO（登録商標）Antiform 2-18,TEGO（登録商標）Antiform 2-18、TEGO（登録商標）Antiform 2-57、TEGO（登録商標）Antiform 2-80、TEGO（登録商標）Antiform 2-82、TEGO（登録商標）Antiform 2-89、TEGO（登録商標）Antiform 2-92、TEGO（登録商標）Antiform 14、TEGO（登録商標）Antiform 28、TEGO（登録商標）Antiform 81、TEGO（登録商標）Antiform D 90、TEGO（登録商標）Antiform 93、TEGO（登録商標）Antiform 200、TEGO（登録商標）Antiform 201、TEGO（登録商標）Antiform 202、TEGO（登録商標）Antiform 793、TEGO（登録商標）Antiform 1488、TEGO（登録商標）Antiform 3062、TEGOPREN（登録商標）5803、TEGOPREN（登録商標）5852、TEGOPREN（登録商標）5863、TEGOPREN（登録商標）7008、TEGO（登録商標）Antiform 1-60、TEGO（登録商標）Antiform 1-62、TEGO（登録商標）Antiform 1-85、TEGO（登録商標）Antiform 2-67、TEGO（登録商標）Antiform WM 20、TEGO（登録商標）Antiform 50、TEGO（登録商標）Antiform 105、TEGO（登録商標）Antiform 730、TEGO（登録商標）Antiform MR 1015、TEGO（登録商標）Antiform MR 1016、TEGO（登録商標）Antiform 1435、TEGO（登録商標）Antiform N、TEGO（登録商標）Antiform KS 6、TEGO（登録商標）Antiform KS 10、TEGO（登録商標）Antiform KS 53、TEGO（登録商標）Antiform KS 95、TEGO（登録商標）Antiform KS 100、TEGO（登録商標）Antiform KE 600、TEGO（登録商標）Antiform KS 911、TEGO（登録商標）Antiform MR 1000、TEGO（登録商標）Antiform KS 1100、Tego（登録商標）Airex 900、Tego（登録商標）Airex 910、Tego（登録商標） Airex 931、Tego（登録商標）Airex 935、Tego（登録商標）Airex 936、Tego（登録商標）Airex 960、Tego（登録商標）Airex 970、Tego（登録商標）Airex 980およびTego（登録商標）Airex 985としてTegoから、およびBYK（登録商標）-011、BYK（登録商標）-019、BYK（登録商標）-020、BYK（登録商標）-021、BYK（登録商標）-022、BYK（登録商標）-023、BYK（登録商標）-024、BYK（登録商標）-025、BYK（登録商標）-027、BYK（登録商標）-031、BYK（登録商標）-032、BYK（登録商標）-033、BYK（登録商標）-034、BYK（登録商標）-035、BYK（登録商標）-036、BYK（登録商標）-037、BYK（登録商標）-045、BYK（登録商標）-051、BYK（登録商標）-052、BYK（登録商標）-053、BYK（登録商標）-055、BYK（登録商標）-057、BYK（登録商標）-065、BYK（登録商標）-066、BYK（登録商標）-070、BYK（登録商標）-080、BYK（登録商標）-088、BYK（登録商標）-141およびBYK（登録商標）-A 530としてBYKから市販されている。
群ｃ１）における助剤は、重合性ＬＣ材料の総重量に基づいて、約０から３．０重量％まで、好ましくは約０から２．０％まで、の割合で任意に採用される。
群ｃ２）において、潤滑および流動助剤は典型的には、シリコンなしのポリマーのみならずシリコン含有のポリマー、例えばポリアクリラートまたは改変体、低分子重量ポリジアルキルシロキサンもまた包含する。改変は、幅広い様々な有機ラジカルによって置き換えられたアルキル基のいくつかに存在する。これらの有機ラジカルは、例えば、ポリエーテルラジカル、ポリエステルラジカル、または長鎖（フッ素化）アルキルラジカルでもあり、前者は最も頻繁に使用される。
ポリエーテルラジカルは、対応して修飾されたポリシロキサンにおいて、通常、エチレンオキシド単位および／またはプロピレンオキシド単位から構成される。一般に、修飾ポリシロキサン中これらのアルキレンオキシド単位の割合が高ければ高いほど、その結果生じる生成物はより親水性である。
かかる助剤は、例えば、TEGO（登録商標）Glide 100、TEGO（登録商標）Glide ZG 400、TEGO（登録商標）Glide 406、TEGO（登録商標）Glide 410、TEGO（登録商標）Glide 411、TEGO（登録商標）Glide 415、TEGO（登録商標）Glide 420、TEGO（登録商標）Glide 435、TEGO（登録商標）Glide 440、TEGO（登録商標）Glide 450、TEGO（登録商標）Glide A 115、TEGO（登録商標）Glide B 1484（泡止めおよび脱気剤としても使用され得る）、TEGO（登録商標）Flow ATF、TEGO（登録商標）Flow 300、TEGO（登録商標）Flow 460、TEGO（登録商標）Flow 425およびTEGO（登録商標）Flow ZFS 460としてTEGOから市販されている。好適な放射線硬化性の潤滑および流動助剤は、これらはまた傷耐性を改善させるためにも使用され得るが、TEGO（登録商標）Rad 2100、TEGO（登録商標）Rad 2200、TEGO（登録商標）Rad 2500、TEGO（登録商標）Rad 2600およびTEGO（登録商標）Rad 2700という製品である。これらは同様にTEGOから得られる。
かかる助剤はまた、例えば、BYK（登録商標）-300 BYK（登録商標）-306、BYK（登録商標）-307、BYK（登録商標）-310、BYK（登録商標）-320、BYK（登録商標）-333、BYK（登録商標）-341、Byk（登録商標）354、Byk（登録商標）361、Byk（登録商標）361N、BYK（登録商標）388として、BYKからも入手可能である。
かかる助剤はまた、例えば、FC4430（登録商標）として3Mからも入手可能である。
かかる助剤はまた、例えば、FluorN(登録商標)561またはFluorN(登録商標)562としてCytonixからも入手可能である。
かかる助剤はまた、例えば、Tivida(登録商標)FL2300およびTivida(登録商標)FL2500としてCytonixからも入手可能である。
群ｃ２）における助剤は、重合性ＬＣ材料の総重量に基づいて、約０から３．０重量％まで、好ましくは約０から２．０％まで、の割合で任意に採用される。
群ｃ３）における放射線硬化助剤はとりわけ、例えばアクリラート基の構成要素である末端二重結合を有するポリシロキサンを包含する。かかる助剤は、化学線または例えば電子放射線によって交差架橋され得る。これらの助剤は一般に、多数の特性とともに組み合わせられる。交差架橋されていない状態において、それらは、泡止め、脱気剤、潤滑および流動助剤および／または基体湿潤助剤として作用し得る一方、交差架橋されている状態において、それらは、とりわけ、傷耐性を、例えば本発明に従う組成物を使用して生産され得るコーティングまたは膜の傷耐性を、増大させる。光学特性の改善、例えば詳細にはそれらのコーティングまたは膜の前記改善は、本質的には、泡止め、脱気剤および／または潤滑および流動助剤としてのこれら助剤の作用の結果として見なされる（交差架橋していない状態において）。
好適な放射線硬化助剤の例は、TEGOから入手可能なTEGO（登録商標）Rad 2100、TEGO（登録商標）Rad 2200、TEGO（登録商標）Rad 2500、TEGO（登録商標）Rad 2600およびTEGO（登録商標）Rad 2700という製品、およびBYKから入手可能なBYK（登録商標）-371という製品である。
群ｃ３）における熱硬化助剤は、例えば、一級ＯＨ基を含有するが、これらは、例えばバインダーの、イソシナナート基と反応することができる。
使用され得る熱硬化助剤の例は、BYKから入手可能なBYK（登録商標）-370、BYK（登録商標）-373およびBYK（登録商標）-375という製品である。
群ｃ３）における助剤は、重合性ＬＣ材料の総重量に基づいて、約０から５．０重量％まで、好ましくは約０から３．０重量％までの割合で任意に採用される。
群ｃ４）における基体湿潤助剤はとりわけ、プリントまたはコーティングされるはずの基体の湿潤度を、例えば、プリントインクまたはコーティング組成物、例えば本発明に従う組成物によって、増大させるのに役立つ。かかるプリントインクまたはコーティング組成物の潤滑および流動挙動にける、一般に付随する改善は、完成された（例えば交差架橋された）プリントまたはコーティングの外観に対してある効果を有する。
幅広いかかる助剤は、例えば、TEGO（登録商標）Wet KL 245、TEGO（登録商標）Wet 250、TEGO（登録商標）Wet 260およびTEGO（登録商標）Wet ZFS 453としてTEGOから、およびBYK（登録商標）-306、BYK（登録商標）-307、BYK（登録商標）-310、BYK（登録商標）-333、BYK（登録商標）-344、BYK（登録商標）-345、BYK（登録商標）-346およびByk（登録商標）-348としてBYKから、市販されている。
群ｃ４）における助剤は、液晶組成物の総重量に基づいて、約０から３．０重量％まで、好ましくは約０から１．５重量％までの割合で任意に採用される。
群ｃ５）における湿潤および分散の助剤はとりわけ、色素の充満および浮遊および沈降を妨げるのに役立ち、したがって、必要ならば、有色素(pigmented)組成物においてとりわけ好適である。
これらの助剤は、これらの添加剤を含有する色素粒子の静電反発および／または立体障害を本質的に通して、色素分散を安定化させ、ここで後者のケースにおいて、助剤とその周囲の媒体（例えばバインダー）との相互作用が、主要な役割を果たす。
かかる湿潤および分散の助剤を使用することは、例えばプリントインクまたはペイントの技術領域において、一般的に実践されることであるから、それらが使用される場合、このタイプの好適な助剤を選択することは、一般に、何の困難性もなく当業者に提起される。
かかる湿潤および分散の助剤は、TEGO（登録商標）Dispers 610、TEGO（登録商標）Dispers 610 S、TEGO（登録商標）Dispers 630、TEGO（登録商標）Dispers 700、TEGO（登録商標）Dispers 705、TEGO（登録商標）Dispers 710、TEGO（登録商標）Dispers 720 W、TEGO（登録商標）Dispers 725 W、TEGO（登録商標）Dispers 730 W、TEGO（登録商標）Dispers 735 WおよびTEGO（登録商標）Dispers 740 WとしてTEGOから、およびDisperbyk（登録商標）、Disperbyk（登録商標）-107、Disperbyk（登録商標）-108、Disperbyk（登録商標）-110、Disperbyk（登録商標）-111、Disperbyk（登録商標）-115、Disperbyk（登録商標）-130、Disperbyk（登録商標）-160、Disperbyk（登録商標）-161、Disperbyk（登録商標）-162、Disperbyk（登録商標）-163、Disperbyk（登録商標）-164、Disperbyk（登録商標）-165、Disperbyk（登録商標）-166、Disperbyk（登録商標）-167、Disperbyk（登録商標）-170、Disperbyk（登録商標）-174、Disperbyk（登録商標）-180、Disperbyk（登録商標）-181、Disperbyk（登録商標）-182、Disperbyk（登録商標）-183、Disperbyk（登録商標）-184、Disperbyk（登録商標）-185、Disperbyk（登録商標）-190、Anti-Terra（登録商標）-U、Anti-Terra（登録商標）-U 80、Anti-Terra（登録商標）-P、Anti-Terra（登録商標）-203、Anti-Terra（登録商標）-204、Anti-Terra（登録商標）-206、BYK（登録商標）-151、BYK（登録商標）-154、BYK（登録商標）-155、BYK（登録商標）-P 104 S、BYK（登録商標）-P 105、Lactimon（登録商標）、Lactimon（登録商標）-WSおよびBykumen（登録商標）としてBYKから、市販されている。
群ｃ５）における助剤の量は、助剤の平均分子量に基づき使用され得る。したがって、いずれのケースにおいても、予備実験は得策ではあるが、これは当業者によってたやすく成し遂げられ得る。
群ｃ６）における疎水化剤は、例えば本発明に従う組成物を使用して、生産されるプリントまたはコーティングに対し撥水特性を与えるために使用され得る。これは、水の吸収による膨張、ひいては、例えばかかるプリントまたはコーティングの光学特性における変化を妨げるか、または少なくとも大きく抑圧する。加えて、組成物が、例えば、オフセットプリンティングにおけるプリントインクとして使用されるとき、水の吸収は、それによって妨げられ得るか、または少なくとも大きく低減され得る。
かかる疎水化剤は、例えば、Tego（登録商標）Phobe WF、Tego（登録商標） Phobe 1000、Tego（登録商標）Phobe 1000 S、Tego（登録商標）Phobe 1010、Tego（登録商標）Phobe 1030、Tego（登録商標）Phobe 1010、Tego（登録商標）Phobe 1010、Tego（登録商標）Phobe 1030、Tego（登録商標）Phobe 1040、Tego（登録商標）Phobe 1050、Tego（登録商標）Phobe 1200、Tego（登録商標）Phobe 1300、Tego（登録商標）Phobe 1310およびTego（登録商標）Phobe 1400としてTegoから市販されている。
群ｃ６）における助剤は、重合性ＬＣ材料の総重量に基づいて、約０から５．０重量％まで、好ましくは約０から３．０重量％までの割合で任意に採用される。
さらに、群ｃ７）における接着促進剤は、接触における２つの境界面の接着を改善させるのに役立つ。これから直接的に明白であるのは、本質的に、効果的であるわずかな接着促進剤しか、一方のまたは他方のまたは両方の境界面に位置していないことである。例えば、液状またはペースト状のプリントインク、コーティング組成物またはペイントを固体基体へ適用すること望ましい場合、このことは一般に、接着促進剤が、後者へ直接加えらなければならないか、または基体が、接着促進剤で予め処置されなければないこと（またプライミングとしても知られている）を意味する、すなわち、この基体は、改変された化学的および／または物理的表面特性が与えられる。
基体が先に、プライマーでプライム処理され(primed)ている場合、これは、接触における境界面が、一方はプライマーのそれで、他方はプリントインクまたはコーティング組成物またはペイントのそれであることを意味する。このケースにおいて、基体とプライマーとの間の接着特性のみならず、基体とプリントインクまたはコーティング組成物またはペイントとの間の接着特性もまた、基体上の多層構造全体の接着において一役を担っている。
述べられ得るより広範な意味における接着促進剤はまた、群ｃ４）の下ですでに列挙される基体湿潤助剤でもあるが、これらは一般に、同じ接着促進容量を有さない。
基体の、および例えばそれらのプリントまたはコーティングのために意図される、プリントインク、コーティング組成物およびペイントの、幅広く変動する物理的および化学的性質の観点から、接着促進システムの多様性は、驚くべきことではない。
シランをベースとした接着促進剤は、例えば、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ−アミノエチル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−アミノエチル−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−メチル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、３−メタアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシジロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、およびビニルトリメトキシシランである。これらのおよび他のシランは、Huelsから、例えばDYNASILAN（登録商標）の商品名で市販されている。
かかる添加剤の製造者からの対応する技術情報は、一般に使用されるべきであり、または当業者は、対応する予備実験を通して、たやすいやり方でこの情報を得られ得る。
しかしながら、これらの添加剤が、群ｃ７）からの助剤として、本発明に従う重合性ＬＣ材料へ加えられることになっている場合、それらの割合は、重合性ＬＣ材料の総重量に基づいて、約０から５．０重量％までに対応する。添加剤の量およびアイデンティティー(the amount and identity)が、各々独立したケースにおいて、基体のおよびプリント／コーティング組成物の性質によって決定されるので、これらの濃度データは、単に手引きとしても役立つ。対応する技術情報は通常、このケースのためのかかる添加剤の製造者から入手可能であるか、または対応する予備実験を通した当業者によるたやすいやり方で決定され得る。
群ｃ８）における傷耐性を改善させるための助剤は、例えば、上述の生成物TEGO（登録商標）Rad 2100、TEGO（登録商標）Rad 2200、TEGO（登録商標）Rad 2500、TEGO（登録商標）Rad 2600およびTEGO（登録商標）Rad 2700を包含し、これらはTegoから入手可能である。
これらの助剤について、群ｃ３）に与えられる量データは、同様に好適である、すなわち、これらの添加剤は、液晶組成物の総重量に基づいて、約０から５．０重量％まで、好ましくは約０から３．０重量％までの割合で任意に採用される。
光、熱および／またはさらに酸化に対する安定剤の、述べられ得る例は、以下：
２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２−ｔｅｒｔ−ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル４−メチルフェノール、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシメチルフェノール、線状または分枝の側鎖を有するノニルフェノール（例えば２，６−ジノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルウンデク−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルヘプタデク−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルトリデク−１’−イル）フェノールのノニフェノールおよびこれら化合物の混合物）などのアルキル化物フェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノールおよび２，６−ジドデシルチオメチル−４−ノニルフェノールなどのアルキルチオメチルフェノール、
２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアラートおよびビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジパートなどの、ヒドロキノンおよびアルキル化ヒドロキノン、
α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロールおよびこれら化合物の混合物などのトコフェロール、およびトコフェリルアセタート、スクシナート、ニコチナートおよびポリオキシエチレンスクシナート（「トコフェルソラート」）などのトコフェロール誘導体、
２，２’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（３，６−ジ−ｓｅｃ−アミルフェノール）および４，４’−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィドなどの、ヒドロキシル化ジフェニルチオエーテル、
２，２’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノール］、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、２，２’−メチレンビス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシル−メルカプトブタン、エチレングリコール−ビス［３，３−ビス（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）ブチラート］−ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン−ビス［２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルベンジル）−６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル］テレフタラート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシル−メルカプトブタンおよび１，１，５，５−テトラキス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタンなどの、アルキリデンビスフェノール、
３，５，３’，５’−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセタート、トリデシル４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジルメルカプトアセタート−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタラート−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィドおよびイソオクチル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセタートなどの、Ｏ−、Ｎ−およびＳ−ベンジル化合物、
１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼンおよび２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノールなどの、芳香族ヒドロキシベンジル化合物、
２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌラート、１，３，５−トリス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌラート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌラートおよび１，３，５−トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌラートなどの、トリアジン化合物、
ジメチル２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホナート、ジエチル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホナート、ジオクタデシル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホナートおよびジオクタデシル５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホナートなどの、ベンジルホスホナート、
４−ヒドロキシラウロイルアニリド、４−ヒドロキシステアロイルアニリドおよびオクチルＮ−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバマートなどの、アシルアミノフェロール、
例えば、メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール−トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌラート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサラミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパンおよび４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］−オクタンなどの、モノヒドロまたはポリヒドロアルコールのプロピオン酸および酢酸エステル、
Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミンおよびＮ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジンなどの、アミン誘導体に基づくプロピオンアミド、
アスコルビルパルミタート、ラウラートおよびステアラート、およびアスコルビルスルファートおよびホスファートなどの、アスコルビン酸（ビタミンＣ）およびアスコルビン酸誘導体、
Ｎ，Ｎ’−ジイソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルファモイル）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−（４−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、ｐ，ｐ’−ジ−ｔｅｒｔ−オクチルジフェニルアミンなどのオクチル置換ジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノール、４−オクタデカノイルアミノフェノール−ビス［４−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル４，４’−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ビス（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド−ビス［４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェニル］アミン、ｔｅｒｔ−オクチル−置換Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、モノ−およびジアルキル化ｔｅｒｔ−ブチル／ｔｅｒｔ−オクチルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノ−およびジアルキル化ｔｅｒｔ−ブチル／ｔｅｒｔ−オクチルフェノチアジンの混合物、モノ−およびジアルキル化ｔｅｒｔ−オクチルフェノチアジンの混合物、Ｎ−アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−１，４−ジアミノブタ−２−エン、Ｎ，Ｎ−ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−4−イル）ヘキサメチレンジアミンビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバカート、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オンおよび２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オールなどの、アミン化合物に基づくた抗酸化剤、
Ｎ，Ｎ’−ジイソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルファモイル）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−（４−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、ｐ，ｐ’−ジ−ｔｅｒｔ−オクチルジフェニルアミンなどのオクチル置換ジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノール、４−オクタデカノイルアミノフェノール−ビス［４−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル４，４’−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ビス（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド−ビス［４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェニル］アミン、ｔｅｒｔ−オクチル−置換Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、モノ−およびジアルキル化ｔｅｒｔ−ブチル／ｔｅｒｔ−オクチルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノ−およびジアルキル化ｔｅｒｔ−ブチル／ｔｅｒｔ−オクチルフェノチアジンの混合物、モノ−およびジアルキル化ｔｅｒｔ−オクチルフェノチアジンの混合物、Ｎ−アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−１，４−ジアミノブタ−２−エン、Ｎ，Ｎ−ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−4−イル）ヘキサメチレンジアミンビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバカート、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オンおよび２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オールなどの、アミン化合物に基づくた抗酸化剤、
２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ｓｅｃ−ブチル−５’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３，５’−ビス−（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾールと、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾールと、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾールと、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾールと、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾールと、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾールと、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾールとの混合物、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］；ポリエチレングリコール３００をもつ２−［３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールの完全エステル化の生成物、などの２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール；
３，３’−チオジプロピオン酸のエステル、例えば、ラウリルエステル、ステアリルエステル、ミリスチルエステルおよびトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾールおよび２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチル亜鉛ジチオカルバマート、ジオクタデシルジスルフィドおよびペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオナートなどの、硫黄含有ペルオキシドスキャベンジャーおよび硫黄含有抗酸化剤、
２−ヒドロキシベンゾフェノン、たとえば、４−ヒドロキシ誘導体、４−メトキシ誘導体、４−オクチルオキシ誘導体、４−デシクロキシ誘導体、４−ドデシルオキシ誘導体、４−ベンジルオキシ誘導体、４，２’，４’−トリヒドロキシ誘導体および２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体など、
４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルサリチラート、フェニルサリチラート、オクチルフェニルサリチラート、ジベンゾイルレゾルシノール−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾアート、ヘキサデシル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾアート、オクタデシル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾアートおよび２−メチル−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾアートなどの、非置換および置換の安息香酸のエステル、
エチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリラート、イソオクチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリラート、メチルα−メトキシカルボニルシンナマート、メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナマート、ブチル−α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナマートおよびメチル−α−メトキシカルボニル−ｐ−メトキシシンナマートなどの、アクリラート、
ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバカート、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）スクシナート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）セバカート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバカート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−4−イル）−ｎ−ブチル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロナート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル４−ヒドロキシピペリジンとスクシン酸との縮合生成物、
Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）ヘキサメチレンジアミンと４−ｔｅｒｔ−オクチルアミノ−２，６−ジクロロ１，３，５−トリアジン−トリス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）ニトリロトリアセタートとの縮合生成物、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシラート、１，１’−（１，２−エチレン）ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル）マロナート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン−ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバカート−ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）スクシナート、
Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）ヘキサメチレンジアミンと４−モルフォリノ−２，６−ジクロロ１，３，５−トリアジンとの縮合生成物、２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合生成物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合生成物、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル１，３，８−トリアザスピロ［４．５］−デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）ピロリジン−２，５−ジオン、
４−ヘキサデシルオキシ−および４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの混合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）ヘキサメチレンジアミンと４−シクロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ１，３，５−トリアジンとの縮合生成物、１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンと２，４，６−トリクロロ１，３，５−トリアジンとの縮合生成物、４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４．５］−デカン、７，７，９，９−テトラメチル２−シクロウンデシル１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ−［４．５］デカンおよびエピクロロヒドリン、４−アミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンとテトラメチロールアセチレンジウレアとの縮合生成物、およびポリ（メトキシプロピル−３−オキシ）−［４（２，２，６，６−テトラメチル）ピペリジンイル］−シロキサンなどの、立体的に嵩高いアミン、
４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキサニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキサニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサラミド、２−エトキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−エトキサニリドおよびこれと２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキサニリドとの混合物、およびオルト、パラメトキシ−二置換オキサニリドの混合物、およびオルトおよびパラエトキシ−二置換オキサニリドなどの、オキサニリド、ならびに
２，４，６−トリス−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）−４，６−ジフェニル１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジンおよび２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジンなどの、２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、である。
別の好ましい態様において、重合性ＬＣ材料は、１種以上の特定の抗酸化剤添加剤を含み、これは好ましくは、Ciba、SwitzerlandからのIrganox（登録商標）シリーズ、例として市販の抗酸化剤Irganox（登録商標）1076およびIrganox（登録商標）1010から選択される。
別の好ましい態様において、重合性ＬＣ材料は、１種以上の、より好ましくは２種以上の光開始剤の組み合わせを含む。典型的には、式ＣＯ−１で表される１以上の化合物と一緒に利用され得る追加のラジカル光開始剤は、例えば、市販のIrgacure（登録商標）またはDarocure（登録商標）(Ciba AG)のシリーズ、とりわけIrgacure 127、Irgacure 184、Irgacure 369、Irgacure 651、Irgacure 817、Irgacure 907、Irgacure 1300、Irgacure、Irgacure 2022、Irgacure 2100、Irgacure 2959、Darcure TPOから選択される。
重合性ＬＣ材料における重合開始剤（単数または複数）全体の濃度は、好ましくは１から１０％まで、極めて好ましくは２から８％まで、より好ましくは３から６％までである。
別の好ましい態様において、とりわけ例えばＰＮ−ＬＣまたはＰＤＬＣ適用などの光学膜以外の目的において、重合性ＬＣ材料は、非重合性ネマティック成分(component)もまた含む。
好ましくは、非重合性ネマティック成分は、下に指し示される化合物から選択される１以上のＬＣ化合物を含む：
− 液晶成分は、好ましくは、式Ｉ−１、Ｉ−２、Ｉ−３およびＩ−４、
で表される化合物の群から選択される１以上の化合物を含み、
式中、
Ｒ２Ａは、Ｈ、１〜１５個のＣ原子を有するアルキルラジカルまたはアルコキシラジカルを示すが、ここで加えて、これらのラジカル中１以上のＣＨ２基は各々、相互に独立して、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、
−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−または−Ｏ−ＣＯ−によって、Ｏ原子が相互に直接連結されないように置き換えられていてもよく、および式中、加えて、１以上のＨ原子は、ハロゲンによって置き換えられていてもよく、
Ｌ１およびＬ２は各々、相互に独立して、Ｆ、Ｃｌ、ＣＦ３またはＣＨＦ２を示し、好ましくは各々、Ｆを示し、
Ｚ２およびＺ２’は各々、相互に独立して、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ２Ｆ４−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−ＣＨ＝ＣＨＣＨ２Ｏ−を示し、
ｐは、０、１または２を示し、
ｑは、０または１を示し、
（Ｏ）ＣｖＨ２ｖ＋１は、ＯＣｖＨ２ｖ＋１またはＣｖＨ２ｖ＋１を示し、および
ｖは、１〜６を示す。
式Ｉ−１〜Ｉ−４で表される具体的に好ましい化合物は、下に示される：
式中、
アルキルおよびアルキル＊は各々、相互に独立して、１〜９個のＣ原子、好ましくは２〜６個のＣ原子を有する直鎖アルキルラジカルを示し、ならびにアルケニルおよびアルケニル＊は各々、相互に独立して、２〜６個のＣ原子を有する直鎖アルケニルラジカルを示し、およびｐは、０、１または２を示す。
該化合物のうち、具体的に好ましいのは、式Ｉ−１ａ、Ｉ−１ｃ、Ｉ−１ｅ、Ｉ−１ｇ、Ｉ−１ｊ、Ｉ−１ｒ、Ｉ−１ｔ、Ｉ−２ｂ、Ｉ−２ｈ、Ｉ−２ｊおよびＩ−３ａで表される化合物である。
− 媒体は、式ＩＩおよび／またはＩＩＩ、
で表される１以上の天然の化合物を含み、
式中、
Ａは、１，４−フェニレンまたはトランス−１，４−シクロヘキシレンを示し、
ａは、０または１を示し、
Ｒ３は、２〜９個のＣ原子を有するアルケニルを示し、および
Ｒ４は、１〜１５個のＣ原子を有するアルキルラジカルまたはアルコキシラジカルを示すが、ここで加えて、これらのラジカル中１以上のＣＨ２基は各々、相互に独立して、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、
−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−によって、Ｏ原子が相互に直接連結されないように置き換えられていてもよく、およびここで、加えて、１以上のＨ原子は、ハロゲン、好ましくは１〜１２個のＣ原子を有するアルキルまたは２〜９個のＣ原子を有するアルケニルによって置き換えられていてもよい。
− 式ＩＩで表される化合物は、好ましくは以下の式：
から選択され、
式中Ｒ３ａおよびＲ４ａは各々、相互に独立して、Ｈ、ＣＨ３、Ｃ２Ｈ５またはＣ３Ｈ７を示し、および「アルキル」は、１〜８個のＣ原子を有する直鎖アルキル基を示す。具体的に好ましいのは、式ＩＩａおよびＩＩｆで表される化合物、とりわけ式中Ｒ３ａがＨまたはＣＨ３を示すもの、ならびに式ＩＩｃで表される化合物、とりわけ式中Ｒ３ａおよびＲ４ａがＨ、ＣＨ３またはＣ２Ｈ５を示すものである。
好ましいのは、さらにまた、アルケニル側鎖中に非末端二重結合を有する式ＩＩで表される化合物：
である。
式ＩＩで表される極めて具体的に好ましい化合物は、式
で表される化合物である。
式ＩＩａ−１〜ＩＩａ−１９で表される化合物のうち、具体的に好ましいのは、とりわけ、ＩＩａ−１、ＩＩａ−２、ＩＩａ−３およびＩＩａ−５で表される化合物である。
− 式ＩＩＩで表される化合物は、好ましくは、以下の式：
から選択され、式中「アルキル」およびＲ３ａは、上に指し示された意味を有し、およびＲ３ａは、好ましくはＨまたはＣＨ３を示す。具体的に好ましいのは、式ＩＩＩｂで表される化合物である；
極めて具体的に好ましいのは、式IIIｂ−１、
で表される化合物であり、式中「アルキル」は、上に指し示された意味を有し、好ましくはＣＨ３を、さらにまた、Ｃ２Ｈ５またはｎ−Ｃ３Ｈ７を示す。
好ましい混合物は、群Ｓ−１、Ｓ−２、Ｓ−３およびＳ−４、
から少なくとも１種の化合物を含むのは、これらの化合物は、なかでも、混合物のスメクティック相を抑制するのに役立つからである。
液晶成分は、好ましくは、一般式Ｎ、
で表される１種以上の化合物を含み、式中
ＲＮ１およびＲＮ２は各々、相互に独立して、１〜１５個のＣ原子を有するアルキルラジカルまたはアルコキシラジカルを示すが、ここで加えて、これらのラジカル中１以上のＣＨ２基は各々、相互に独立して、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＦ２Ｏ−、
−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−によって、Ｏ原子が相互に直接連結されないように置き換えられていてもよく、および式中、加えて、１以上のＨ原子は、ハロゲンによって置き換えられていてもよく、
環ＡＮ１、ＡＮ２およびＡＮ３は各々、相互に独立して、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、３−フルオロ−１，４−フェニレン、トランス−１，４−シクロヘキシレンを示すが、ここで加えて、１つまたは２つのＣＨ２基は、−Ｏ−、または１，４−シクロヘキセニレンによって置き換えられていてもよく、
ＺＮ１およびＺＮ２は各々、相互に独立して、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−または−ＣＨ＝ＣＨ−を示し、
ｎは、０、１または２を示す。
式Ｎで表される好ましい化合物は、下に示される：
式中、
アルキルおよびアルキル＊は各々、相互に独立して、１〜９個のＣ原子、好ましくは２〜６個のＣ原子を有する直鎖アルキルラジカルを示し、ならびにアルケニルおよびアルケニル＊は各々、相互に独立して、２〜６個のＣ原子を有する直鎖アルケニルラジカルを示す。
式Ｎで表される化合物のうち、具体的に好ましいのは、式Ｎ−１、Ｎ−２、Ｎ−３、Ｎ−４、Ｎ−８、Ｎ−９、Ｎ−１４、Ｎ−１５、Ｎ−１７、Ｎ−１８、Ｎ−１９、Ｎ−２０、Ｎ−２１、Ｎ−２２、Ｎ−２３、Ｎ−２４、Ｎ−２５、Ｎ−３０、Ｎ−３２、Ｎ−３４およびＮ−３７で表される化合物である。
式Ｉ〜ＩＩＩ、およびＮまたはそれらの下位式で表される化合物は、当業者に知られているプロセスに類似して調製され得、および例えば、Houben-Weyl, Methoden der organischen Chemie [Methods of Organic Chemistry], Thieme-Verlag, Stuttgartにおいてなど、有機化学の標準的な著作物に記載され得る。
本発明に従い液晶媒体に採用され得る好ましい化合物は、下に指し示される：
− 媒体は、好ましくは、式Ｉ−１で表される、好ましくは式Ｉ−１ｃで表される１種以上の化合物であって、式ＣＹ−３−Ｏ２、ＣＹ−３−Ｏ４、ＣＹ−５−Ｏ２およびＣＹ−５−Ｏ４で表される化合物の群から選択されるものを含み、
− 媒体は、好ましくは、式Ｉ−１で表される１種以上の化合物であって、好ましくは式Ｉ−１ｅおよびＩ−１ｄで表される化合物の群から選択され、好ましくは式ＣＣＹ−ｎ−Ｏｍで表され、好ましくは式ＣＣＹ−３−Ｏ２、ＣＣＹ−２−Ｏ２、ＣＣＹ−３−Ｏ１、ＣＣＹ−３−Ｏ３、ＣＣＹ−４−Ｏ２、ＣＣＹ−３−Ｏ２およびＣＣＹ−５−Ｏ２で表される化合物の群から選択されるものを含み、
− 媒体は、好ましくは、式Ｉ−２で表される１種以上の化合物であって、好ましくは式Ｉ−２ｂで表され、好ましくは式ＣＰＹ−２−Ｏ２、ＣＰＹ−３−Ｏ２、ＣＰＹ−４−Ｏ２およびＣＰＹ−５−Ｏ２で表される化合物の群から選択されるものを含み、
− 媒体は、好ましくは、式Ｉ−２ｈで表される１種以上の化合物であって、好ましくは式ＰＹ−３−Ｏ２、ＰＹ−１−Ｏ４およびＰＹ−４−Ｏ２で表される化合物の群から選択されるものを含み、
− 媒体は、好ましくは、式Ｉ−３で表される１種以上の化合物であって、好ましくは式ＰＹＰ−２−３およびＰＹＰ−２−４で表される化合物の群から選択されるものを含み、
− 媒体は、好ましくは、任意に、式Ｉ−４で表される１種以上の化合物であって、好ましくは式ＣＬＹ−ｎ−Ｏｍで表され、好ましくは式ＣＬＹ−２−Ｏ４、ＣＬＹ−３−Ｏ２およびＣＬＹ−３−Ｏ３で表される化合物の群から選択されるものを含み、
媒体は、好ましくは、式ＩＩで表される１種以上の化合物であって、好ましくは式ＣＣ−ｎ−ＶおよびＣＣ−ｎ−Ｖｍ（好ましくはＣＣ−３−Ｖ、ＣＣ−３−Ｖ１、ＣＣ−４−ＶおよびＣＣ−５−Ｖ）で表される化合物の群から選択され、具体的に好ましくは化合物ＣＣ−３−Ｖ、ＣＣ−３−Ｖ１およびＣＣ−４−Ｖの群から選択され、極めて具体的に好ましくは化合物ＣＣ−３−Ｖを含み、および任意に加えて、化合物ＣＣ−４−Ｖおよび／またはＣＣ−３−Ｖ１を含み、
− 媒体は、好ましくは、化合物ＰＰ−１−２Ｖ１を含み、
− 媒体は、好ましくは、式Ｉ−１〜Ｉ−４で表される化合物の群を、全体としての混合物中、２０〜９９重量％の量で含み、
− 媒体は、好ましくは、式ＩＩおよび／またはＩＩＩで表される化合物を、１重量％以上〜６０重量％以下、好ましくは３重量％以上〜５０重量％以下、具体的に好ましくは５重量％以上〜４５重量％以下で含み、
− 媒体は、好ましくは、式Ｉ−１〜Ｉ−４で表される化合物を、４５重量％以上〜８０重量％以下で含み、
− 媒体は、好ましくは、式Ｉ−１で表される化合物を、１０重量％以上〜４０重量％以下で含み、
− 媒体は、好ましくは、式Ｉ−２で表される化合物を、１０重量％以上〜４０重量％以下で含み、
− 媒体は、好ましくは、式Ｉ−３で表される化合物を、１０重量％以上〜４０重量％以下で含み、
− 媒体は、好ましくは、式Ｉ−４で表される化合物を、０重量％以上〜４０重量％以下で含む。
別の好ましい態様において、とりわけPN-LCまたはPDLC適用の観点から、重合性ＬＣ材料は、非重合性ネマティック成分に加えて、１種以上の二色性染料を含んでいてもよく、これは好ましくは、当業者に知られているペリレン染料、アントラキノン染料、および/またはアゾ染料の群から選択される。
より好ましくは、二色性染料は、式Ｄ、
で表される化合物の群から選択され、式中、
は、各存在にて、同一または異なっており、
から選択され、
および、ｉが２以上であるケースにおいて、基の末端のもの
はまた、
でもあってもよく、
および、ｊが２以上のケースにおいて、基の末端のもの
はまた、
でもあってもよく、
Ｚ１１およびＺ１２は、互いに独立して、−Ｎ＝Ｎ−、−ＯＣＯ−または−ＣＯＯ−であり、
Ｒ１１およびＲ１２は、互いに独立して、アルキル、アルコキシ、フッ素化アルキルまたはフッ素化アルコキシ、アルケニル、アルケニルオキシ、アルコキシアルキルまたはフッ素化アルケニル、アルキルアミニル、ジアルキルアミニル、アルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルオキシカルボニルオキシまたはアルキルシクロヘキシルアルキルであり、および
ｉおよびｊは、互いに独立して、１、２、３または４である。
本発明の好ましい態様において、液晶媒体は、１種以上の二色性染料であって、好ましくは式Ｄ−１〜Ｄ−７、
で表される化合物の群から選択されるものを含み、式中パラメータは、上の式Ｄの下で与えられた夫々の意味を有する。
本発明の好ましい態様において、液晶媒体は、１種以上の二色性染料であって、好ましくは式Ｄ’−１〜Ｄ’−７、
で表される化合物の群から選択されるものを含み、式中パラメータは、上の式Ｄの下で与えられた夫々の意味を有する。
式Ｄで表されるさらに好ましい化合物は、以下の式
で表される。
好ましくは、媒体中の二色性染料の濃度は、０．１％から５％まで、より好ましくは０．２％から４％まで、なおより好ましくは０．３％から３％まで、最も好ましくは０．５％から２％までの範囲にあり、とりわけ約１％である。
式Ｄまたはその下位式で表される化合物は、当業者に知られているプロセスに類似して調製され得、および例えば、Houben-Weyl, Methoden der organischen Chemie [Methods of Organic Chemistry], Thieme-Verlag, Stuttgartにおいてなど、有機化学の標準的な著作物に記載され得る。
好ましい態様において、媒体は、２種以上の、好ましくは３種以上の二色性染料の混合物を含む。最も好ましくは、目下、３種の二色性染料である。好ましくは、二色性染料は互いに、双方で補完する吸収スペクトル、すなわち補完的吸収色を有し、および好ましくは、互いと比べて、混合物の組み合わされた吸収の無彩色、すなわち黒い外観をもたらす比率で混合される。これは、吸収が、可視スペクトル範囲にわたってほぼ一定であることを意味する。
例えば、３種の化合物Ｄ’−１ａ、Ｄ’−４ａおよびＤ’−５ａの好ましい組み合わせの分光特性は、以下の表中に与えられる：
＊）：光学密度：ＯＤ≡ｌｏｇ１０（Ｉｉ／Ｉｔ）、
Ｉｉ＝入射光の強度、
Ｉｔ＝透過光の強度、
§）：Merck KGaA（Germany）から入手可能な、ＺＬＩ混合物
＊＊）：ホストＬＣ中の染料の二色性比率、および
＊＊＊）：ホストＬＣ中の染料の秩序パラメータ。
好ましくは、重合性ＬＣ材料は、式ＣＯ−１で表される１種以上の化合物の他に、
ａ） １種以上の二反応性または多反応性の重合性メソゲン化合物、
ｂ） 任意に１種以上の単反応性重合性メソゲン化合物、
ｃ） 任意に１種以上の抗酸化剤添加剤、
ｄ） 任意に１種以上の接着促進剤、
ｅ） 任意に１種以上の界面活性剤、
ｆ） 任意に１種以上の安定剤、
ｇ） 任意に１種以上の単反応性、二反応性または多反応性の重合性非メソゲン化合物、
ｈ） 光重合を開始させるために使用される波長で最大吸収を示す１種以上の染料、
ｉ） 任意に１種以上の連鎖移動剤、
ｊ） 任意に１種以上の安定剤、
ｋ） 任意に１種以上の潤滑および流動助剤、および
ｌ） 任意に１種以上の希釈剤
ｍ） 任意に非重合性ネマティック成分
を含む。
より好ましくは、重合性ＬＣ材料は、
ａ） 式ＣＯ−１で表される１種以上の光開始剤（好ましくは、式ＣＯ−１９〜ＣＯ−２２で表される化合物から選択され、より好ましくは式ＣＯ−１９で表される化合物）を、好ましくは１〜１０重量％の量で、極めて好ましくは２〜８重量％の量で、
ｂ） １種以上の、好ましくは２種以上の二反応性の重合性メソゲン化合物（好ましくは式ＤＲＭａ−１で表される化合物から選択される）を、仮に存在する場合、好ましくは１０〜９０重量％、極めて好ましくは１５〜７５重量％の量で、
ｃ） 任意に１種以上の、好ましくは２種以上の単反応性の重合性メソゲン化合物（好ましくは式ＭＲＭ−１および／またはＭＲＭ−７で表される化合物から選択される）を、好ましくは１０〜９５重量％、極めて好ましくは２５〜８５重量％の量で、
ｄ）任意に１種以上の式ＮＤで表される化合物を、好ましくは０〜５０％、極めて好ましくは０から４０％の量で、含む。
ｅ） 任意に１種以上の抗酸化性の添加剤（好ましくは非置換および置換の安息香酸のエステル、とりわけIrganox（登録商標）1076から選択される）を、存在する場合、好ましくは０．０１〜２重量％、極めて好ましくは０．０５〜１重量％の量で、
ｆ） 任意に１種以上の潤滑および流動助剤（好ましくはBYK（登録商標）388、FC 4430および／またはFluor N 562から選択される）を、存在する場合、好ましくは０．１〜５重量％、極めて好ましくは、０．２〜３重量％の量で、
ｇ） 任意に１種以上の希釈剤（好ましくはｎ−ドデカノールから選択される）を、存在する場合、好ましくは０．１〜５重量％、極めて好ましくは、０．２〜３重量％の量で、ならびに
ｈ）任意に非重合性ネマティック成分（好ましくは式Ｉ〜ＩＩＩ、およびＮで表される化合物を含む）を、存在する場合、好ましくは２０〜９９重量％、極めて好ましくは、５０〜９０量％の量で、含む。
本発明はさらに、
− 基体上に、以上以下に記載されるとおりの重合性ＬＣ材料の層を提供すること、
− 重合性ＬＣ材料の重合性成分を光重合によって重合すること、および
− 任意に、重合されたＬＣ材料を基体から取り除くこと、および／または任意に、別の基体上にそれを提供すること
によって、ポリマー膜を調製する方法に関する。
重合性ＬＣ材料を好適な溶媒に溶解することもまた、可能である。
別の好ましい態様において、重合性ＬＣ材料は、１種以上の溶媒を含み、これらは好ましくは、有機溶媒から選択される。溶媒は、好ましくは、アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルイソブチルケトンまたはシクロヘキサノンなどのケトン；メチル、エチルまたはブチルアセタートまたはメチルアセトアセタートなどのアセタート；メタノール、エタノールまたはイソプロピルアルコールなどのアルコール；トルエンまたはキシレンなどの芳香族溶媒；シクロペンタンまたはシクロヘキサンなどの脂環式炭化水素；ジ−またはトリクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素；ＰＧＭＥＡ（プロピルグリコールモノメチルエーテルアセタート）などのグリコールまたはそれらのエステル、γ−ブチロラクトンから選択される。上の溶媒の二成分、三成分、またはより高度な混合物を使用することもまた可能である。
重合性ＬＣ材料が、１種以上の溶媒を含有するケースにおいて、溶媒（単数または複数）中の、ＲＭを包含するすべての固体の総濃度は、好ましくは１０から６０％までである。
次いで、この溶液は、基体上に、例えばスピンコーティング、プリンティング、または他の知られている技術によって、コーティングまたはプリントされ、および溶媒は、重合前に溶媒中は留去される。ほとんどのケースにおいて、溶媒の蒸発を容易にするために、混合物を加熱することが好適である。
重合性ＬＣ材料は、スピンコーティング、バーコーティングまたはブレードコーティングなどの従来のコーティング技術によって、基体上に適用され得る。これはまた、専門家に知られている従来の印刷技術、例えばスクリーン印刷、オフセット印刷、リールトゥリール印刷、レタープレス印刷、グラビア印刷、ロトグラビア印刷、フレキソグラフィック印刷、凹版印刷、パッド印刷、ヒートシール印刷、インクジェット印刷、またはスタンプまたはプリント版を用いる印刷などによってもまた、基体上に適用され得る。
好適な基体材料および基体は、専門家に知られており、および例えばガラスまたはプラスチックなどの光学膜産業で使用されている従来の基体に関する文献に記載されている。重合に特に好適かつ好ましい基体は、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）またはポリエチレンナフタラート（ＰＥＮ）などのポリエステル、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリカーボナート（ＰＣ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）またはシクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）であるか、または一般に知られているカラー(color)フィルター材料、とりわけ、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＰ）であるか、または一般に知られているカラー(colour)フィルター材料である。
重合性ＬＣ材料は、好ましくは、全層のいたる所で均一配列を呈する。好ましくは、重合性ＬＣ材料は、均一プラナー配列または均一ホメオトロピック配列を呈する。
Friedel-Creagh-Kmetz rule則が、混合物が、ＲＭ層と基体との表面エネルギーを比較することによって、プラナー配列またはホメオトロピック配列を採るであろうかどうかを予測するために使用され得る。
γＲＭ＞γｓである場合、反応性メソゲン化合物は、ホメオトロピック配列を呈するであろう。γＲＭ＜γｓである場合、反応性メソゲン化合物は、ホメオトロピック配列を呈するであろう。
基体の表面エネルギーが、相対的に低いとき、反応性メソゲン間の分子間力は、ＲＭ−基体界面にわたる力より強い。したがって、反応性メソゲンは、分子間力を最大にするため、基体に対して垂直に配列する（ホメオトロピック配列）。
ホメオトロピック配列はまた、両親媒性材料を使用することによっても、達成され得る；それらは、重合性ＬＣ材料へ直接加えられるか、または基体が、これらの材料をホメオトロピック配列層の形態で処置され得る。両親媒性材料の極性頭部は、基体へ化学的に結合しており、炭化水素尾部は、基体に対して垂直に向いている。両親媒性材料とＲＭとの間の分子間相互作用は、ホメオトロピック配列を促進する。一般的に使用される両親媒性界面活性剤は、上に記載される。
ホメオトロピック配列を促進するために使用される別の方法は、プラスチック基体へコロナ放電処置を適用し、基体表面上にアルコールまたはケトン官能基を生じさせることである。これらの極性基は、ＲＭまたは界面活性剤に存在する極性基と相互作用することで、ホメオトロピック配列を促進し得る。
基体の表面張力が、ＲＭの表面張力より大きいとき、界面にわたる力が支配する。表面エネルギーは、反応性メソゲンが基体と平行に配列する場合、最小化されて、ＲＭの長軸が基体と相互作用し得るようになる。プラナー配列が促進され得る１つの仕方は、基体をポリイミド層でコーティングし、次いで配列層をビロードの布で擦ることによる。
他の好適なプラナー配列層は、当該技術分野において知られており、例えば、US 5,602,661、US 5,389,698またはUS 6,717,644に記載のとおりの光配列によって調製される、擦られたポリイミドまたは配列層等である。
一般に、配列技術の総括は、例えば、I. Sageによって（「サーモトロピック液晶」（G. W. Gray編集、John Wiley & Sons、1987年、75〜77年）において）；およびT. UchidaおよびH. Sekiによって（「液晶−適用および使用 3巻」（B. Bahadur編集、World Scientific Publishing、Singapore 1992年、1〜63頁）において）与えられる。配列材料および技術のさらなる総括は、J. CognardのMol. Cryst. Liq. Cryst.（78、Supplement 1（1981年）、1〜77頁）によって与えられる。
本発明に従うポリマー膜の生産のために、重合性ＬＣ材料における重合性化合物は、in-situ光重合によって重合されるかまたは交差架橋される（１種の化合物が２種以上の重合性基を含有する場合）。
光重合は、１ステップで行われ得る。最初のステップで反応しなかった化合物を、２つ目のステップで光重合または交差架橋させることもまた、可能である（「最終硬化」）。
好ましい調製方法において、重合性ＬＣ材料は、基体上にコーティングされ、続いて、例えばWO 01/20394、GB 2,315,072またはWO 98/04651に記載されるとおり、例えば熱または化学線への曝露によって光重合される。
ＬＣ材料の光重合は、好ましくは、これを化学線に曝露することによって達成される。化学線は、ＵＶ光、ＩＲ光または可視光などの光での照射、Ｘ線またはガンマ線での照射、またはイオンまたは電子などの高エネルギー粒子での照射を意味する。好ましくは、重合は、光照射、とりわけＵＶ光での光照射によって行われる。化学線照射の供給源として、例えば、単一のＵＶランプまたはＵＶランプ一式が使用され得る。高ランプ力を使用するとき、硬化時間が低減され得る。光照射のための他の可能な供給源は、レーザー、例としてＵＶレーザー、ＩＲレーザー、または可視光レーザーなどである。
硬化時間は、中でも、重合性ＬＣ材料の反応性、コーティングされる層の厚さ、重合開始剤のタイプおよびＵＶランプのパワーに依存する。硬化時間は、好ましくは≦５分、極めて好ましくは≦３分、最も好ましくは≦１分である。大量生産のためには、≦３０秒の短い硬化時間が好ましい。
好適なＵＶ照射力は、好ましくは５から２００ｍＷｃｍ−２までの範囲にあり、より好ましくは５０から１７５ｍＷｃｍ−２までの範囲にあり、最も好ましくは１００から１５０ｍＷｃｍ−２までの範囲にある。
印加ＵＶ照射に関連して、および時間の関数として、好適なＵＶ量は、好ましくは２５から７２００ｍＪｃｍ−２までの範囲にあり、より好ましくは５００から７２００ｍＪｃｍ−２までの範囲にあり、最も好ましくは３０００から７２００ｍＪｃｍ−２までの範囲にある。
光重合は、好ましくは、不活性ガス雰囲気下で、好ましくは加熱窒素雰囲気下で実行されるが、空気中での重合もまた可能である。
光重合は、好ましくは１から７０℃までの、より好ましくは５〜５０℃の、なおより好ましくは１５〜３０℃の温度にて実行される。
本発明に従い重合されたＬＣ膜は、プラスチック基体へ、とりわけＴＡＣ、ＣＯＰ、およびカラーフィルターへの良好な接着を有する。その結果、それは、もしそうでなければ良好には基体へ接着しかったであろう後続のＬＣ層のための接着剤またはベースコーティングとして使用され得る。
本発明に従う重合されたＬＣ膜の好ましい厚さは、膜または最終製品から所望される光学特性によって決定される。例えば、重合されたＬＣ膜が、光学的な層としては主に作用しないが、しかし例として、接着、配向または保護の層としては作用する場合、その厚さは、好ましくは１μｍ以下、とりわけ０．５μｍ以下、極めて好ましくは０．２μｍ以下である。
例えば、均一にホメオトロピックまたはプラナー配列された本発明のポリマー膜は、例えばＬＣＤ中、リターデーションまたは補償膜として使用されることで、コントラストおよび明るさがより大きい視野角度で改善され得、および色度が低減され得る。それらは、ＬＣＤ中、または基体間で、通常ガラス基体間で、切り替え可能な液晶セルの外側で使用され得ることで、切り替え可能な液晶セルが形成され、および切り替え可能な液晶媒体（インセル適用）が含有される。
ポリマー膜の光学的適用のために、それは、好ましくは０．５から１０μｍまで、極めて好ましくは０．５から５μｍまで、とりわけ０．５から３μｍまでの厚さを有する。
入射ビームの波長（λ）の関数としての、ポリマー膜の位相差（δ（λ））は、以下の式（７）：
δ（λ）＝（２πΔｎ・ｄ）／λ （７）
により与えられ、式中（Δｎ）は、膜の複屈折であり、（ｄ）は、膜の厚さであり、およびλは、入射ビームの波長である。
スネルの法則(Snellius law)に従うと、入射ビームの方向の関数としての複屈折は、以下
Δｎ＝ｓｉｎΘ／ｓｉｎΨ （８）
のとおりに定義され、式中ｓｉｎΘは、膜における入射角または光学軸のティルト角であり、ｓｉｎΨは、対応する反射角である。
これらの法則に基づき、複屈折および結果的に光学リターデーションは、膜の厚さおよび膜における光学軸のティルト角に依存する（cf. Berekの補償板）。したがって、熟達した専門家は、異なる光学リターデーションまたは異なる複屈折が、ポリマー膜中の液晶分子の配向を調節することによって誘導され得ることに気付く。
本発明に従うポリマー膜の複屈折（Δｎ）は、好ましくは０．０１から０．３０までの範囲にあり、より好ましくは０．０１から０．２５までの範囲にあり、なおより好ましくは０．０１から０．１６までの範囲にある。
本発明に従うポリマー膜の厚さの関数としての位相差は、２００ｎｍ未満、好ましくは１８０ｎｍ未満、なおより好ましくは１５０ｎｍ未満である。
とくにインセル適用に関し、本発明に従うポリマー膜は、高温安定性を呈する。よって、ポリマー膜は、最大３００℃まで、好ましくは最大２５０℃まで、より好ましくは最大２３０℃までの温度安定性を呈する。
本発明のポリマー膜はまた、他の液晶またはＲＭ材料のための配列膜としても使用され得る。例えば、それらは、ＬＣＤ中で使用されることで、切り替え可能な液晶媒体の配列が誘導または改善され得るか、またはその上にコーティングされる重合性ＬＣ材料の後続の層が配列され得る。このようにして、重合されたＬＣ膜のスタックが、調製され得る。
総括すると、本発明に従う重合されたＬＣ膜および重合性ＬＣ材料は、液晶またはエフェクト色素(effect pigments)の調製のための、液晶ディスプレイまたはプロジェクションシステムにおける偏光子、補償板、配向層、円偏光子またはカラーフィルター、装飾的画像などの光学素子において、とくに、空間的に変動する反射色をもつ反射膜において、例として、偽造不可能な文書、たとえば身分証明書またはクレジットカード、紙幣等々の、装飾のための多色画像、情報保管用途または保安用途として、有用である。
本発明に従う重合されたＬＣ膜は、透過型または反射型のディスプレイにおいて使用され得る。それらは、従来のＯＬＥＤディスプレイまたはＬＣＤ、とりわけＤＡＰ（配列相変形）方式またはＶＡ（垂直配列）方式のＬＣＤ、例として、ＥＣＢ（電気制御複屈折）ディスプレイ、ＣＳＨ（カラースーパーホメオトロピック）ディスプレイ、ＶＡＮまたはＶＡＣ（垂直配列ネマティックまたはコレステリック）ディスプレイ、ＭＶＡ（マルチドメイン垂直配列）ディスプレイまたはＰＶＡ（パターン化垂直配列）ディスプレイにおいてなどにおいて、ベンド方式ディスプレイまたはハイブリッド型ディスプレイ、例として、ＯＣＢ（光学補償ベンドセルまたは光学的補償複屈折）ディスプレイ、Ｒ−ＯＣＢ（反射ＯＣＢ）ディスプレイ、ＨＡＮ（ハイブリッド配列ネマティック）ディスプレイまたはパイセル（πセル）ディスプレイなどにおいて、さらにまた、ＴＮ（ねじれネマティック）、ＨＴＮ（高度ねじれネマティック）またはＳＴＮ（スーパーねじれネマティック）方式のディスプレイにおいて、またはＡＭＤ−ＴＮ（アクティブマトリクス駆動ＴＮ）ディスプレイにおいて、またはＩＰＳ（平面内切り替え）方式のディスプレイ（これはまた、「スーパーＴＦＴ」ディスプレイとしても知られている）において、使用され得る。とくに好ましいのは、ＶＡ、ＭＶＡ、ＰＶＡ、ＯＣＢ、およびパイセルディスプレイである。
本発明に従う重合性ＬＣ材料およびポリマー膜は、EP 0 829 744、EP 0 887 666 A2、EP 0 887 692、US 6,046,849、US 6,437,915において、および「Proceedings o the SID 20th International Display Research Conference, 2000」、280頁に記載されるとおり、とくに３Ｄディスプレイに有用である。本発明に従うポリマー膜を含む、このタイプの３Ｄディスプレイは、本発明の別の目的である。
本発明は、以上以下において、好ましい態様を具体的に参照して記載される。様々な変更および改変が、本発明の精神および範囲から逸脱することなく、ここでなされてもよいものと理解されるべきである。
以上以下に述べられる化合物またはそれらの混合物の多くは、市販されている。これらの化合物のすべては、知られているるか、または文献（例えば、Houben-Weyl, Methoden der Organischen Chemie [Methods of Organic Chemistry], Georg-Thieme-Verlag, Stuttgartなどの標準的な著作物）に記載されるとおり、それ自体知られている方法によって、正確には、知られておりかつ該反応に好適な反応条件下で、調製され得るかのいずれかである。ここで、それ自体知られているが、ここには述べられていない変形の使用もまた、なされてもよい。
本発明の前述の態様に対する変形がなされ得る一方で、なおも本発明の範囲内にあることが、解されるであろう。同じ、均等の、または類似の目的に役立つ代替の特徴は、別段の言及がなされない限り、本明細書に開示される各特徴と置き換えてもよい。よって、別段の言及がなされない限り、開示される各特徴は、包括的な一連の、均等な、または類似する特徴の一例にすぎない。
本明細書に開示される特徴のすべては、かかる特徴および／またはステップの少なくともいくつかが、互いに排他的である組み合わせを除き、いずれの組み合わせでも組み合わされてもよい。とりわけ、本発明の好ましい特徴は、本発明のすべての側面に適用可能であり、いずれの組み合わせでも使用されてもよい。同様にして、非必須的な組み合わせで記載される特徴は、別々に（組み合わせではなく）使用されてもよい。
上に記載される特徴の多く、具体的には好ましい態様の多くは、それら自体で独創的であって、本発明のある態様の一部だけに対するものではないことが解されるであろう。目下クレームされるいずれの発明に加えて、またはその代わりに、これらの特徴に対して、独立した保護が求められ得る。
本出願において、とくに以下の例において、液晶化合物の構造は、「頭字語」ともまた呼ばれる略語によって表される。略語を変形させて対応する構造にするには、以下の３つの表Ａ〜Ｃに従うと分かりやすい。表Ａは、環要素について使用された記号を挙げ、表Ｂは、連結基についての記号を挙げ、表Ｃは、その分子の右手および左手の末端基(end groups)についての記号を挙げる。
すべての基ＣｎＨ２ｎ＋１、ＣｍＨ２ｍ＋１、およびＣＩＨ２Ｉ＋１は夫々、好ましくは、ｎ個、ｍ個およびｌ個のＣ原子をもつ直鎖アルキル基であり、すべての基ＣｎＨ２ｎ、ＣｍＨ２ｍおよびＣＩＨ２Ｉは夫々、好ましくは、（ＣＨ２）ｎ、（ＣＨ２）ｍおよび（ＣＨ２）Ｉであり、および−ＣＨ＝ＣＨ−は夫々、好ましくは、トランス−ビニレンまたは（Ｅ）−ビニレンである。
表Ａ：環要素
表Ｂ：連結基
表Ｃ：末端基
式中ｎおよびｍは各々、整数であり、および３つの点「．．．」は、この表の他の記号のためのスペースを指し示す。
例
これから、本発明が、以下の実施例を参照してより詳細に記載されるであろうが、これらは、説明のためにしか用いられず、本発明の範囲を限定するものではない。
利用される光開始剤
利用される混合物

混合物Ｍ１
混合物Ｍ２
混合物Ｍ３
実験１．１
ベース混合物Ｍ１を１％ SPI-02（Samyang, Koreaから市販）と混合して、トルエン中２０％固体に溶解する。
溶液を、擦られたＰＩでコーティングされた未加工ガラス基体(a raw glass substrate)上２０００ｒｐｍにてスピンコーティングする。膜を６０℃にて６０秒間アニールして、静的融合ＵＶ系（８００ｍＷ、〜７００ｍＪ）を使用しＮ２雰囲気下で硬化させる。
膜の総スタックが、ガラス／ポリマー膜／感圧接着剤であるように、膜を感圧接着剤に対し積層するが、表面は開放したままにする。膜を耐久性実験に供する。
硬化膜の位相差（Ｒｔｈ）を測定するため、Axoscanエリプソメーターを使用する。Ｒｔｈを、５５０ｎｍの波長をもつ光源を使用して分析する。次いで膜を、２ｈの総時間の間８０℃にてオーブン中に置く。２ｈ後、膜をオーブンから取り出し、位相差プロファイルを再度記録する前に室温まで冷却する。耐久性を、オーブン試験の前後にＲｔｈの差異によって定量化して、開始Ｒｔｈ値の８３．０６％をもたらす。
実験１．２
ベース混合物Ｍ１を１％ SPI-03（Samyang, Koreaから市販）と混合して、トルエン中２０％固体に溶解する。
溶液を、擦られたＰＩでコーティングされた未加工ガラス基体上２０００ｒｐｍにてスピンコーティングする。膜を６０℃にて６０秒間アニールして、静的融合ＵＶ系（８００ｍＷ、〜７００ｍＪ）を使用しＮ２雰囲気下で硬化させる。
膜の総スタックが、ガラス／ポリマー膜／感圧接着剤であるように、膜を感圧接着剤に対し積層するが、表面は開放したままにする。膜を耐久性実験に供する。
硬化膜の位相差（Ｒｔｈ）を測定するため、Axoscanエリプソメーターを使用する。Ｒｔｈを、５５０ｎｍの波長をもつ光源を使用して分析する。次いで膜を、２ｈの総時間の間８０℃にてオーブン中に置く。２ｈ後、膜をオーブンから取り出し、位相差プロファイルを再度記録する前に室温まで冷却する。耐久性を、オーブン試験の前後にＲｔｈの差異によって定量化して、開始Ｒｔｈ値の８８．９４％をもたらす。
実験１．３
ベース混合物Ｍ１を１％ SPI-04（Samyang, Koreaから市販）と混合して、トルエン中２０％固体に溶解する。
溶液を、擦られたＰＩでコーティングされた未加工ガラス基体上２０００ｒｐｍにてスピンコーティングする。膜を６０℃にて６０秒間アニールして、静的融合ＵＶ系（８００ｍＷ、〜７００ｍＪ）を使用しＮ２雰囲気下で硬化させる。
膜の総スタックが、ガラス／ポリマー膜／感圧接着剤であるように、膜を感圧接着剤に対し積層するが、表面は開放したままにする。膜を耐久性実験に供する。
硬化膜の位相差（Ｒｔｈ）を測定するため、Axoscanエリプソメーターを使用する。Ｒｔｈを、５５０ｎｍの波長をもつ光源を使用して分析する。次いで膜を、２ｈの総時間の間８０℃にてオーブン中に置く。２ｈ後、膜をオーブンから取り出し、位相差プロファイルを再度記録する前に室温まで冷却する。耐久性を、オーブン試験の前後にＲｔｈの差異によって定量化して、開始Ｒｔｈ値の８７．５９％をもたらす。
概要
実験２．１
ベース混合物Ｍ１を２．５％ SPI-02（Samyang, Koreaから市販）と混合して、トルエン中２０％固体に溶解する。
溶液を、擦られたＰＩでコーティングされた未加工ガラス基体上２０００ｒｐｍにてスピンコーティングする。膜を６０℃にて６０秒間アニールして、静的融合ＵＶ系（８００ｍＷ、〜７００ｍＪ）を使用しＮ２雰囲気下で硬化させる。
膜の総スタックが、ガラス／ポリマー膜／感圧接着剤であるように、膜を感圧接着剤に対し積層するが、表面は開放したままにする。膜を耐久性実験に供する。
硬化膜の位相差（Ｒｔｈ）を測定するため、Axoscanエリプソメーターを使用する。Ｒｔｈを、５５０ｎｍの波長をもつ光源を使用して分析する。次いで膜を、２ｈの総時間の間８０℃にてオーブン中に置く。２ｈ後、膜をオーブンから取り出し、位相差プロファイルを再度記録する前に室温まで冷却する。耐久性を、オーブン試験の前後にＲｔｈの差異によって定量化して、開始Ｒｔｈ値の８２．７２％をもたらす。
実験２．２
ベース混合物Ｍ１を２．５％ SPI-03（Samyang, Koreaから市販）と混合して、トルエン中２０％固体に溶解する。
溶液を、擦られたＰＩでコーティングされた未加工ガラス基体上２０００ｒｐｍにてスピンコーティングする。膜を６０℃にて６０秒間アニールして、静的融合ＵＶ系（８００ｍＷ、〜７００ｍＪ）を使用しＮ２雰囲気下で硬化させる。
膜の総スタックが、ガラス／ポリマー膜／感圧接着剤であるように、膜を感圧接着剤に対し積層するが、表面は開放したままにする。膜を耐久性実験に供する。
硬化膜の位相差（Ｒｔｈ）を測定するため、Axoscanエリプソメーターを使用する。Ｒｔｈを、５５０ｎｍの波長をもつ光源を使用して分析する。次いで膜を、２ｈの総時間の間８０℃にてオーブン中に置く。２ｈ後、膜をオーブンから取り出し、位相差プロファイルを再度記録する前に室温まで冷却する。耐久性を、オーブン試験の前後にＲｔｈの差異によって定量化して、開始Ｒｔｈ値の９０．１８％をもたらす。
実験２．３
ベース混合物Ｍ１を２．５％ SPI-04（Samyang, Koreaから市販）と混合して、トルエン中２０％固体に溶解する。
溶液を、擦られたＰＩでコーティングされた未加工ガラス基体上２０００ｒｐｍにてスピンコーティングする。膜を６０℃にて６０秒間アニールして、静的融合ＵＶ系（８００ｍＷ、〜７００ｍＪ）を使用しＮ２雰囲気下で硬化させる。
膜の総スタックが、ガラス／ポリマー膜／感圧接着剤であるように、膜を感圧接着剤に対し積層するが、表面は開放したままにする。膜を耐久性実験に供する。
硬化膜の位相差（Ｒｔｈ）を測定するため、Axoscanエリプソメーターを使用する。Ｒｔｈを、５５０ｎｍの波長をもつ光源を使用して分析する。次いで膜を、２ｈの総時間の間８０℃にてオーブン中に置く。２ｈ後、膜をオーブンから取り出し、位相差プロファイルを再度記録する前に室温まで冷却する。耐久性を、オーブン試験の前後にＲｔｈの差異によって定量化して、開始Ｒｔｈ値の７９．４５％をもたらす。
比較実験２．４
ベース混合物Ｍ１を２．５％N-1919 T（Adeka, Japanから市販）と混合して、トルエン中２０％固体に溶解する。
溶液を、擦られたＰＩでコーティングされた未加工ガラス基体上２０００ｒｐｍにてスピンコーティングする。膜を６０℃にて６０秒間アニールして、静的融合ＵＶ系（８００ｍＷ、〜７００ｍＪ）を使用しＮ２雰囲気下で硬化させる。
膜の総スタックが、ガラス／ポリマー膜／感圧接着剤であるように、膜を感圧接着剤に対し積層するが、表面は開放したままにする。膜を耐久性実験に供する。
硬化膜の位相差（Ｒｔｈ）を測定するため、Axoscanエリプソメーターを使用する。Ｒｔｈを、５５０ｎｍの波長をもつ光源を使用して分析する。次いで膜を、２ｈの総時間の間８０℃にてオーブン中に置く。２ｈ後、膜をオーブンから取り出し、位相差プロファイルを再度記録する前に室温まで冷却する。耐久性を、オーブン試験の前後にＲｔｈの差異によって定量化して、開始Ｒｔｈ値の８８．２９％をもたらす。
概要
＊比較実験
実験３．１
ベース混合物Ｍ１を４．５％ SPI-02（Samyang, Koreaから市販）と混合して、トルエン中２０％固体に溶解する。
溶液を、擦られたＰＩでコーティングされた未加工ガラス基体上２０００ｒｐｍにてスピンコーティングする。膜を６０℃にて６０秒間アニールして、静的融合ＵＶ系（８００ｍＷ、〜７００ｍＪ）を使用しＮ２雰囲気下で硬化させる。
膜の総スタックが、ガラス／ポリマー膜／感圧接着剤であるように、膜を感圧接着剤に対し積層するが、表面は開放したままにする。膜を耐久性実験に供する。
硬化膜の位相差（Ｒｔｈ）を測定するため、Axoscanエリプソメーターを使用する。Ｒｔｈを、５５０ｎｍの波長をもつ光源を使用して分析する。次いで膜を、２ｈの総時間の間８０℃にてオーブン中に置く。２ｈ後、膜をオーブンから取り出し、位相差プロファイルを再度記録する前に室温まで冷却する。耐久性を、オーブン試験の前後にＲｔｈの差異によって定量化して、開始Ｒｔｈ値の８２．３０％をもたらす。
実験３．２
ベース混合物Ｍ１を４．５％ SPI-03（Samyang, Koreaから市販）と混合して、トルエン中２０％固体に溶解する。
溶液を、擦られたＰＩでコーティングされた未加工ガラス基体上２０００ｒｐｍにてスピンコーティングする。膜を６０℃にて６０秒間アニールして、静的融合ＵＶ系（８００ｍＷ、〜７００ｍＪ）を使用しＮ２雰囲気下で硬化させる。
膜の総スタックが、ガラス／ポリマー膜／感圧接着剤であるように、膜を感圧接着剤に対し積層するが、表面は開放したままにする。膜を耐久性実験に供する。
硬化膜の位相差（Ｒｔｈ）を測定するため、Axoscanエリプソメーターを使用する。Ｒｔｈを、５５０ｎｍの波長をもつ光源を使用して分析する。次いで膜を、２ｈの総時間の間８０℃にてオーブン中に置く。２ｈ後、膜をオーブンから取り出し、位相差プロファイルを再度記録する前に室温まで冷却する。耐久性を、オーブン試験の前後にＲｔｈの差異によって定量化して、開始Ｒｔｈ値の９１．２５％をもたらす。
実験３．３
ベース混合物Ｍ１を４．５％ SPI-04（Samyang, Koreaから市販）と混合して、トルエン中２０％固体に溶解する。
溶液を、擦られたＰＩでコーティングされた未加工ガラス基体上２０００ｒｐｍにてスピンコーティングする。膜を６０℃にて６０秒間アニールして、静的融合ＵＶ系（８００ｍＷ、〜７００ｍＪ）を使用しＮ２雰囲気下で硬化させる。
膜の総スタックが、ガラス／ポリマー膜／感圧接着剤であるように、膜を感圧接着剤に対し積層するが、表面は開放したままにする。膜を耐久性実験に供する。
硬化膜の位相差（Ｒｔｈ）を測定するため、Axoscanエリプソメーターを使用する。Ｒｔｈを、５５０ｎｍの波長をもつ光源を使用して分析する。次いで膜を、２ｈの総時間の間８０℃にてオーブン中に置く。２ｈ後、膜をオーブンから取り出し、位相差プロファイルを再度記録する前に室温まで冷却する。耐久性を、オーブン試験の前後にＲｔｈの差異によって定量化して、開始Ｒｔｈ値の９１．４０％をもたらす。
比較実験３．４
ベース混合物Ｍ１を５％ Irgacure（登録商標）907（CIBA, Switzerlandから市販）と混合して、トルエン中２０％固体に溶解する。
溶液を、擦られたＰＩでコーティングされた未加工ガラス基体上２０００ｒｐｍにてスピンコーティングする。膜を６０℃にて６０秒間アニールして、静的融合ＵＶ系（８００ｍＷ、〜７００ｍＪ）を使用しＮ２雰囲気下で硬化させる。
膜の総スタックが、ガラス／ポリマー膜／感圧接着剤であるように、膜を感圧接着剤に対し積層するが、表面は開放したままにする。膜を耐久性実験に供する。
硬化膜の位相差（Ｒｔｈ）を測定するため、Axoscanエリプソメーターを使用する。Ｒｔｈを、５５０ｎｍの波長をもつ光源を使用して分析する。次いで膜を、２ｈの総時間の間８０℃にてオーブン中に置く。２ｈ後、膜をオーブンから取り出し、位相差プロファイルを再度記録する前に室温まで冷却する。耐久性を、オーブン試験の前後にＲｔｈの差異によって定量化して、開始Ｒｔｈ値の８７．８９％をもたらす。
概要
＊比較実験
実験４．１
ベース混合物Ｍ１を４．５％ SPI-02（Samyang, Koreaから市販）と混合して、トルエン中２０％固体に溶解する。
溶液を、擦られたＰＩでコーティングされた未加工ガラス基体上２０００ｒｐｍにてスピンコーティングする。膜を６０℃にて６０秒間アニールして、静的融合ＵＶ系（８００ｍＷ、〜７００ｍＪ）を使用し大気中で硬化させる。
ベース混合物Ｍ１を４．５％ SPI-02（Samyang, Koreaから市販）と混合して、トルエン中２０％固体に溶解する。
溶液を、擦られたＰＩでコーティングされた未加工ガラス基体上２０００ｒｐｍにてスピンコーティングする。膜を６０℃にて６０秒間アニールして、静的融合ＵＶ系（８００ｍＷ、〜７００ｍＪ）を使用しＮ２雰囲気下で硬化させる。
硬化膜の位相差（Ｒｔｈ）を測定するため、Axoscanエリプソメーターを使用する。Ｒｔｈを、５５０ｎｍの波長をもつ光源を使用して分析する。次いで膜を、２ｈの総時間の間８０℃にてオーブン中に置く。２ｈ後、膜をオーブンから取り出し、位相差プロファイルを再度記録する前に室温まで冷却する。耐久性を、オーブン試験の前後にＲｔｈの差異によって定量化して、開始Ｒｔｈ値の８０．９８％をもたらす。
実験４．２
ベース混合物Ｍ１を４．５％ SPI-03（Samyang, Koreaから市販）と混合して、トルエン中２０％固体に溶解する。
溶液を、擦られたＰＩでコーティングされた未加工ガラス基体上２０００ｒｐｍにてスピンコーティングする。膜を６０℃にて６０秒間アニールして、静的融合ＵＶ系（８００ｍＷ、〜７００ｍＪ）を使用し大気中で硬化させる。
膜の総スタックが、ガラス／ポリマー膜／感圧接着剤であるように、膜を感圧接着剤に対し積層するが、表面は開放したままにする。膜を耐久性実験に供する。
硬化膜の位相差（Ｒｔｈ）を測定するため、Axoscanエリプソメーターを使用する。Ｒｔｈを、５５０ｎｍの波長をもつ光源を使用して分析する。次いで膜を、２ｈの総時間の間８０℃にてオーブン中に置く。２ｈ後、膜をオーブンから取り出し、位相差プロファイルを再度記録する前に室温まで冷却する。耐久性を、オーブン試験の前後にＲｔｈの差異によって定量化して、開始Ｒｔｈ値の９０．１７％をもたらす。
実験４．３
ベース混合物Ｍ１を４．５％ SPI-04（Samyang, Koreaから市販）と混合して、トルエン中２０％固体に溶解する。
溶液を、擦られたＰＩでコーティングされた未加工ガラス基体上２０００ｒｐｍにてスピンコーティングする。膜を６０℃にて６０秒間アニールして、静的融合ＵＶ系（８００ｍＷ、〜７００ｍＪ）を使用し大気中で硬化させる。
膜の総スタックが、ガラス／ポリマー膜／感圧接着剤であるように、膜を感圧接着剤に対し積層するが、表面は開放したままにする。膜を耐久性実験に供する。
硬化膜の位相差（Ｒｔｈ）を測定するため、Axoscanエリプソメーターを使用する。Ｒｔｈを、５５０ｎｍの波長をもつ光源を使用して分析する。次いで膜を、２ｈの総時間の間８０℃にてオーブン中に置く。２ｈ後、膜をオーブンから取り出し、位相差プロファイルを再度記録する前に室温まで冷却する。耐久性を、オーブン試験の前後にＲｔｈの差異によって定量化して、開始Ｒｔｈ値の９１．４５％をもたらす。
比較実験４．４
ベース混合物Ｍ１を５％ Irgacure（登録商標）907（CIBA, Switzerlandから市販）と混合して、トルエン中２０％固体に溶解する。
溶液を、擦られたＰＩでコーティングされた未加工ガラス基体上２０００ｒｐｍにてスピンコーティングする。膜を６０℃にて６０秒間アニールして、静的融合ＵＶ系（８００ｍＷ、〜７００ｍＪ）を使用し大気中で硬化させる。
膜の総スタックが、ガラス／ポリマー膜／感圧接着剤であるように、膜を感圧接着剤に対し積層するが、表面は開放したままにする。膜を耐久性実験に供する。
硬化膜の位相差（Ｒｔｈ）を測定するため、Axoscanエリプソメーターを使用する。Ｒｔｈを、５５０ｎｍの波長をもつ光源を使用して分析する。次いで膜を、２ｈの総時間の間８０℃にてオーブン中に置く。２ｈ後、膜をオーブンから取り出し、位相差プロファイルを再度記録する前に室温まで冷却する。耐久性を、オーブン試験の前後にＲｔｈの差異によって定量化して、開始Ｒｔｈ値の８５．８５％をもたらす。
概要
＊比較実験
実験５．１
ベース混合物Ｍ２を１％ SPI-02（Samyang, Koreaから市販）と混合して、トルエン中２０％固体に溶解する。
溶液を、擦られたＰＩでコーティングされた未加工ガラス基体上２０００ｒｐｍにてスピンコーティングする。膜を６０℃にて６０秒間アニールして、静的融合ＵＶ系（８００ｍＷ、〜７００ｍＪ）を使用しＮ２雰囲気下で硬化させる。
膜の総スタックが、ガラス／ポリマー膜／感圧接着剤であるように、膜を感圧接着剤に対し積層するが、表面は開放したままにする。膜を耐久性実験に供する。
硬化膜の位相差（Ｒｔｈ）を測定するため、Axoscanエリプソメーターを使用する。Ｒｔｈを、５５０ｎｍの波長をもつ光源を使用して分析する。次いで膜を、２ｈの総時間の間８０℃にてオーブン中に置く。２ｈ後、膜をオーブンから取り出し、位相差プロファイルを再度記録する前に室温まで冷却する。耐久性を、オーブン試験の前後にＲｔｈの差異によって定量化して、開始Ｒｔｈ値の７９．８６％をもたらす。
実験５．２
ベース混合物Ｍ２を１％ SPI-03（Samyang, Koreaから市販）と混合して、トルエン中２０％固体に溶解する。
溶液を、擦られたＰＩでコーティングされた未加工ガラス基体上２０００ｒｐｍにてスピンコーティングする。膜を６０℃にて６０秒間アニールして、静的融合ＵＶ系（８００ｍＷ、〜７００ｍＪ）を使用しＮ２雰囲気下で硬化させる。
膜の総スタックが、ガラス／ポリマー膜／感圧接着剤であるように、膜を感圧接着剤に対し積層するが、表面は開放したままにする。膜を耐久性実験に供する。
硬化膜の位相差（Ｒｔｈ）を測定するため、Axoscanエリプソメーターを使用する。Ｒｔｈを、５５０ｎｍの波長をもつ光源を使用して分析する。次いで膜を、２ｈの総時間の間８０℃にてオーブン中に置く。２ｈ後、膜をオーブンから取り出し、位相差プロファイルを再度記録する前に室温まで冷却する。耐久性を、オーブン試験の前後にＲｔｈの差異によって定量化して、開始Ｒｔｈ値の８７．３５％をもたらす。
実験５．３
ベース混合物Ｍ２を１％ SPI-04（Samyang, Koreaから市販）と混合して、トルエン中２０％固体に溶解する。
溶液を、擦られたＰＩでコーティングされた未加工ガラス基体上２０００ｒｐｍにてスピンコーティングする。膜を６０℃にて６０秒間アニールして、静的融合ＵＶ系（８００ｍＷ、〜７００ｍＪ）を使用しＮ２雰囲気下で硬化させる。
膜の総スタックが、ガラス／ポリマー膜／感圧接着剤であるように、膜を感圧接着剤に対し積層するが、表面は開放したままにする。膜を耐久性実験に供する。
硬化膜の位相差（Ｒｔｈ）を測定するため、Axoscanエリプソメーターを使用する。Ｒｔｈを、５５０ｎｍの波長をもつ光源を使用して分析する。次いで膜を、２ｈの総時間の間８０℃にてオーブン中に置く。２ｈ後、膜をオーブンから取り出し、位相差プロファイルを再度記録する前に室温まで冷却する。耐久性を、オーブン試験の前後にＲｔｈの差異によって定量化して、開始Ｒｔｈ値の８６．２４％をもたらす。
概要
実験６．１
ベース混合物Ｍ２を２．５％ SPI-02（Samyang, Koreaから市販）と混合して、トルエン中２０％固体に溶解する。
溶液を、擦られたＰＩでコーティングされた未加工ガラス基体上２０００ｒｐｍにてスピンコーティングする。膜を６０℃にて６０秒間アニールして、静的融合ＵＶ系（８００ｍＷ、〜７００ｍＪ）を使用しＮ２雰囲気下で硬化させる。
膜の総スタックが、ガラス／ポリマー膜／感圧接着剤であるように、膜を感圧接着剤に対し積層するが、表面は開放したままにする。膜を耐久性実験に供する。
硬化膜の位相差（Ｒｔｈ）を測定するため、Axoscanエリプソメーターを使用する。Ｒｔｈを、５５０ｎｍの波長をもつ光源を使用して分析する。次いで膜を、２ｈの総時間の間８０℃にてオーブン中に置く。２ｈ後、膜をオーブンから取り出し、位相差プロファイルを再度記録する前に室温まで冷却する。耐久性を、オーブン試験の前後にＲｔｈの差異によって定量化して、開始Ｒｔｈ値の９１．２９％をもたらす。
実験６．２
ベース混合物Ｍ２を２．５％ SPI-03（Samyang, Koreaから市販）と混合して、トルエン中２０％固体に溶解する。
溶液を、擦られたＰＩでコーティングされた未加工ガラス基体上２０００ｒｐｍにてスピンコーティングする。膜を６０℃にて６０秒間アニールして、静的融合ＵＶ系（８００ｍＷ、〜７００ｍＪ）を使用しＮ２雰囲気下で硬化させる。
膜の総スタックが、ガラス／ポリマー膜／感圧接着剤であるように、膜を感圧接着剤に対し積層するが、表面は開放したままにする。膜を耐久性実験に供する。
硬化膜の位相差（Ｒｔｈ）を測定するため、Axoscanエリプソメーターを使用する。Ｒｔｈを、５５０ｎｍの波長をもつ光源を使用して分析する。次いで膜を、２ｈの総時間の間８０℃にてオーブン中に置く。２ｈ後、膜をオーブンから取り出し、位相差プロファイルを再度記録する前に室温まで冷却する。耐久性を、オーブン試験の前後にＲｔｈの差異によって定量化して、開始Ｒｔｈ値の９１．００％をもたらす。
実験６．３
ベース混合物Ｍ２を２．５％ SPI-04（Samyang, Koreaから市販）と混合して、トルエン中２０％固体に溶解する。
溶液を、擦られたＰＩでコーティングされた未加工ガラス基体上２０００ｒｐｍにてスピンコーティングする。膜を６０℃にて６０秒間アニールして、静的融合ＵＶ系（８００ｍＷ、〜７００ｍＪ）を使用しＮ２雰囲気下で硬化させる。
膜の総スタックが、ガラス／ポリマー膜／感圧接着剤であるように、膜を感圧接着剤に対し積層するが、表面は開放したままにする。膜を耐久性実験に供する。
硬化膜の位相差（Ｒｔｈ）を測定するため、Axoscanエリプソメーターを使用する。Ｒｔｈを、５５０ｎｍの波長をもつ光源を使用して分析する。次いで膜を、２ｈの総時間の間８０℃にてオーブン中に置く。２ｈ後、膜をオーブンから取り出し、位相差プロファイルを再度記録する前に室温まで冷却する。耐久性を、オーブン試験の前後にＲｔｈの差異によって定量化して、開始Ｒｔｈ値の９０．０４％をもたらす。
比較実験６．４
ベース混合物Ｍ２を２．５％ N-1919 T（Adeka, Japanから市販）と混合して、トルエン中２０％固体に溶解する。
溶液を、擦られたＰＩでコーティングされた未加工ガラス基体上２０００ｒｐｍにてスピンコーティングする。膜を６０℃にて６０秒間アニールして、静的融合ＵＶ系（８００ｍＷ、〜７００ｍＪ）を使用しＮ２雰囲気下で硬化させる。
膜の総スタックが、ガラス／ポリマー膜／感圧接着剤であるように、膜を感圧接着剤に対し積層するが、表面は開放したままにする。膜を耐久性実験に供する。
硬化膜の位相差（Ｒｔｈ）を測定するため、Axoscanエリプソメーターを使用する。Ｒｔｈを、５５０ｎｍの波長をもつ光源を使用して分析する。次いで膜を、２ｈの総時間の間８０℃にてオーブン中に置く。２ｈ後、膜をオーブンから取り出し、位相差プロファイルを再度記録する前に室温まで冷却する。耐久性を、オーブン試験の前後にＲｔｈの差異によって定量化して、開始Ｒｔｈ値の８３．８６％をもたらす。
概要
＊比較実験
実験７．１
ベース混合物Ｍ２を４．５％ SPI-02（Samyang, Koreaから市販）と混合して、トルエン中２０％固体に溶解する。
溶液を、擦られたＰＩでコーティングされた未加工ガラス基体上２０００ｒｐｍにてスピンコーティングする。膜を６０℃にて６０秒間アニールして、静的融合ＵＶ系（８００ｍＷ、〜７００ｍＪ）を使用しＮ２雰囲気下で硬化させる。
膜の総スタックが、ガラス／ポリマー膜／感圧接着剤であるように、膜を感圧接着剤に対し積層するが、表面は開放したままにする。膜を耐久性実験に供する。
硬化膜の位相差（Ｒｔｈ）を測定するため、Axoscanエリプソメーターを使用する。Ｒｔｈを、５５０ｎｍの波長をもつ光源を使用して分析する。次いで膜を、２ｈの総時間の間８０℃にてオーブン中に置く。２ｈ後、膜をオーブンから取り出し、位相差プロファイルを再度記録する前に室温まで冷却する。耐久性を、オーブン試験の前後にＲｔｈの差異によって定量化して、開始Ｒｔｈ値の９１．２７％をもたらす。
実験７．２
ベース混合物Ｍ２を４．５％ SPI-03（Samyang, Koreaから市販）と混合して、トルエン中２０％固体に溶解する。
溶液を、擦られたＰＩでコーティングされた未加工ガラス基体上２０００ｒｐｍにてスピンコーティングする。膜を６０℃にて６０秒間アニールして、静的融合ＵＶ系（８００ｍＷ、〜７００ｍＪ）を使用しＮ２雰囲気下で硬化させる。
膜の総スタックが、ガラス／ポリマー膜／感圧接着剤であるように、膜を感圧接着剤に対し積層するが、表面は開放したままにする。膜を耐久性実験に供する。
硬化膜の位相差（Ｒｔｈ）を測定するため、Axoscanエリプソメーターを使用する。Ｒｔｈを、５５０ｎｍの波長をもつ光源を使用して分析する。次いで膜を、２ｈの総時間の間８０℃にてオーブン中に置く。２ｈ後、膜をオーブンから取り出し、位相差プロファイルを再度記録する前に室温まで冷却する。耐久性を、オーブン試験の前後にＲｔｈの差異によって定量化して、開始Ｒｔｈ値の９０．４５％をもたらす。
実験７．３
ベース混合物Ｍ２を４．５％ SPI-04（Samyang, Koreaから市販）と混合して、トルエン中２０％固体に溶解する。
溶液を、擦られたＰＩでコーティングされた未加工ガラス基体上２０００ｒｐｍにてスピンコーティングする。膜を６０℃にて６０秒間アニールして、静的融合ＵＶ系（８００ｍＷ、〜７００ｍＪ）を使用しＮ２雰囲気下で硬化させる。
膜の総スタックが、ガラス／ポリマー膜／感圧接着剤であるように、膜を感圧接着剤に対し積層するが、表面は開放したままにする。膜を耐久性実験に供する。
硬化膜の位相差（Ｒｔｈ）を測定するため、Axoscanエリプソメーターを使用する。Ｒｔｈを、５５０ｎｍの波長をもつ光源を使用して分析する。次いで膜を、２ｈの総時間の間８０℃にてオーブン中に置く。２ｈ後、膜をオーブンから取り出し、位相差プロファイルを再度記録する前に室温まで冷却する。耐久性を、オーブン試験の前後にＲｔｈの差異によって定量化して、開始Ｒｔｈ値の９０．４８％をもたらす。
比較実験７．４
ベース混合物Ｍ２を５％ Irgacure（登録商標）907（CIBA, Switzerlandから市販）と混合して、トルエン中２０％固体に溶解する。
溶液を、擦られたＰＩでコーティングされた未加工ガラス基体上２０００ｒｐｍにてスピンコーティングする。膜を６０℃にて６０秒間アニールして、静的融合ＵＶ系（８００ｍＷ、〜７００ｍＪ）を使用しＮ２雰囲気下で硬化させる。
膜の総スタックが、ガラス／ポリマー膜／感圧接着剤であるように、膜を感圧接着剤に対し積層するが、表面は開放したままにする。膜を耐久性実験に供する。
硬化膜の位相差（Ｒｔｈ）を測定するため、Axoscanエリプソメーターを使用する。Ｒｔｈを、５５０ｎｍの波長をもつ光源を使用して分析する。次いで膜を、２ｈの総時間の間８０℃にてオーブン中に置く。２ｈ後、膜をオーブンから取り出し、位相差プロファイルを再度記録する前に室温まで冷却する。耐久性を、オーブン試験の前後にＲｔｈの差異によって定量化して、開始Ｒｔｈ値の８６．９６％をもたらす。
概要
＊比較実験
実験８．１
ベース混合物Ｍ２を４．５％ SPI-02（Samyang, Koreaから市販）と混合して、トルエン中２０％固体に溶解する。
溶液を、擦られたＰＩでコーティングされた未加工ガラス基体上２０００ｒｐｍにてスピンコーティングする。膜を６０℃にて６０秒間アニールして、静的融合ＵＶ系（８００ｍＷ、〜７００ｍＪ）を使用し大気中で硬化させる。
膜の総スタックが、ガラス／ポリマー膜／感圧接着剤であるように、膜を感圧接着剤に対し積層するが、表面は開放したままにする。膜を耐久性実験に供する。
硬化膜の位相差（Ｒｔｈ）を測定するため、Axoscanエリプソメーターを使用する。Ｒｔｈを、５５０ｎｍの波長をもつ光源を使用して分析する。次いで膜を、２ｈの総時間の間８０℃にてオーブン中に置く。２ｈ後、膜をオーブンから取り出し、位相差プロファイルを再度記録する前に室温まで冷却する。耐久性を、オーブン試験の前後にＲｔｈの差異によって定量化して、開始Ｒｔｈ値の９１．５４％をもたらす。
実験８．２
ベース混合物Ｍ２を４．５％ SPI-03（Samyang, Koreaから市販）と混合して、トルエン中２０％固体に溶解する。
溶液を、擦られたＰＩでコーティングされた未加工ガラス基体上２０００ｒｐｍにてスピンコーティングする。膜を６０℃にて６０秒間アニールして、静的融合ＵＶ系（８００ｍＷ、〜７００ｍＪ）を使用し大気中で硬化させる。
膜の総スタックが、ガラス／ポリマー膜／感圧接着剤であるように、膜を感圧接着剤に対し積層するが、表面は開放したままにする。膜を耐久性実験に供する。
硬化膜の位相差（Ｒｔｈ）を測定するため、Axoscanエリプソメーターを使用する。Ｒｔｈを、５５０ｎｍの波長をもつ光源を使用して分析する。次いで膜を、２ｈの総時間の間８０℃にてオーブン中に置く。２ｈ後、膜をオーブンから取り出し、位相差プロファイルを再度記録する前に室温まで冷却する。耐久性を、オーブン試験の前後にＲｔｈの差異によって定量化して、開始Ｒｔｈ値の９１．１２％をもたらす。
実験８．３
ベース混合物Ｍ２を４．５％ SPI-04（Samyang, Koreaから市販）と混合して、トルエン中２０％固体に溶解する。
溶液を、擦られたＰＩでコーティングされた未加工ガラス基体上２０００ｒｐｍにてスピンコーティングする。膜を６０℃にて６０秒間アニールして、静的融合ＵＶ系（８００ｍＷ、〜７００ｍＪ）を使用し大気中で硬化させる。
膜の総スタックが、ガラス／ポリマー膜／感圧接着剤であるように、膜を感圧接着剤に対し積層するが、表面は開放したままにする。膜を耐久性実験に供する。
硬化膜の位相差（Ｒｔｈ）を測定するため、Axoscanエリプソメーターを使用する。Ｒｔｈを、５５０ｎｍの波長をもつ光源を使用して分析する。次いで膜を、２ｈの総時間の間８０℃にてオーブン中に置く。２ｈ後、膜をオーブンから取り出し、位相差プロファイルを再度記録する前に室温まで冷却する。耐久性を、オーブン試験の前後にＲｔｈの差異によって定量化して、開始Ｒｔｈ値の９１．９６％をもたらす。
比較実験８．４
ベース混合物Ｍ２を５％ Irgacure（登録商標）907（CIBA, Switzerlandから市販）と混合して、トルエン中２０％固体に溶解する。
溶液を、擦られたＰＩでコーティングされた未加工ガラス基体上２０００ｒｐｍにてスピンコーティングする。膜を６０℃にて６０秒間アニールして、静的融合ＵＶ系（８００ｍＷ、〜７００ｍＪ）を使用し大気中で硬化させる。
膜の総スタックが、ガラス／ポリマー膜／感圧接着剤であるように、膜を感圧接着剤に対し積層するが、表面は開放したままにする。膜を耐久性実験に供する。
硬化膜の位相差（Ｒｔｈ）を測定するため、Axoscanエリプソメーターを使用する。Ｒｔｈを、５５０ｎｍの波長をもつ光源を使用して分析する。次いで膜を、２ｈの総時間の間８０℃にてオーブン中に置く。２ｈ後、膜をオーブンから取り出し、位相差プロファイルを再度記録する前に室温まで冷却する。耐久性を、オーブン試験の前後にＲｔｈの差異によって定量化して、開始Ｒｔｈ値の８２．０７％をもたらす。
概要
＊比較実験
実験９．１
ベース混合物Ｍ３を１％ SPI-02（Samyang, Koreaから市販）と混合して、トルエン／シクロヘキサノン（７／３）中３３％固体に溶解する。
溶液を、擦られたＰＩでコーティングされた未加工ガラス基体上２０００ｒｐｍにて３０秒間スピンコーティングする。膜を６６℃にて６０秒間アニールして、融合Ｈ電球（５０％電力、１０ｍ／ｍｉｎ）を使用しＮ２雰囲気下で硬化させる。
膜の総スタックが、ガラス／ポリマー膜／感圧接着剤であるように、膜を感圧接着剤に対し積層するが、表面は開放したままにする。膜を耐久性実験に供する。
各硬化膜の位相差（Ｒｉｎ）を測定するため、Axoscanエリプソメーターを使用する。Ｒｉｎを、５５０ｎｍの波長をもつ光源を使用して分析する。位相差分散Ｒｉｎ−４５０／Ｒｉｎ−５５０を決定するため、材料の位相差を４５０ｎｍおよび５５０ｎｍの波長にて測定する。次いで各膜を、１ｈの総時間の間１００℃にてオーブン中に置く。１ｈ後、膜をオーブンから取り出し、位相差プロファイルを再度記録する前に室温まで冷却する。耐久性を、オーブン試験の前後にＲｉｎおよびＲｉｎ−４５０／Ｒｉｎ−５５０の差異によって定量化して、開始Ｒｉｎ値の８４．００％を、開始Ｒｉｎ−４５０／Ｒｉｎ−５５０値の９０．３％をもたらす。
実験９．２
ベース混合物Ｍ３を１％ SPI-03（Samyang, Koreaから市販）と混合して、トルエン／シクロヘキサノン（７／３）中３３％固体に溶解する。
溶液を、擦られたＰＩでコーティングされた未加工ガラス基体上２０００ｒｐｍにて３０秒間スピンコーティングする。膜を６６℃にて６０秒間アニールして、融合Ｈ電球（５０％電力、１０ｍ／ｍｉｎ）を使用しＮ２雰囲気下で硬化させる。
膜の総スタックが、ガラス／ポリマー膜／感圧接着剤であるように、膜を感圧接着剤に対し積層するが、表面は開放したままにする。膜を耐久性実験に供する。
各硬化膜の位相差（Ｒｉｎ）を測定するため、Axoscanエリプソメーターを使用する。Ｒｉｎを、５５０ｎｍの波長をもつ光源を使用して分析する。位相差分散Ｒｉｎ−４５０／Ｒｉｎ−５５０を決定するため、材料の位相差を４５０ｎｍおよび５５０ｎｍの波長にて測定する。次いで各膜を、１ｈの総時間の間１００℃にてオーブン中に置く。１ｈ後、膜をオーブンから取り出し、位相差プロファイルを再度記録する前に室温まで冷却する。耐久性を、オーブン試験の前後にＲｉｎおよびＲｉｎ−４５０／Ｒｉｎ−５５０の差異によって定量化して、開始Ｒ４０値の９６．７０％を、開始Ｒｉｎ−４５０／Ｒｉｎ−５５０値の９７．３０％をもたらす。
実験９．３
ベース混合物Ｍ３を１％ SPI-03（Samyang, Koreaから市販）と混合して、トルエン／シクロヘキサノン（７／３）中３３％固体に溶解する。
溶液を、擦られたＰＩでコーティングされた未加工ガラス基体上２０００ｒｐｍにて３０秒間スピンコーティングする。膜を６６℃にて６０秒間アニールして、融合Ｈ電球（５０％電力、１０ｍ／ｍｉｎ）を使用しＮ２雰囲気下で硬化させる。
膜の総スタックが、ガラス／ポリマー膜／感圧接着剤であるように、膜を感圧接着剤に対し積層するが、表面は開放したままにする。膜を耐久性実験に供する。
各硬化膜の位相差（Ｒｉｎ）を測定するため、Axoscanエリプソメーターを使用する。Ｒｉｎを、５５０ｎｍの波長をもつ光源を使用して分析する。位相差分散Ｒｉｎ−４５０／Ｒｉｎ−５５０を決定するため、材料の位相差を４５０ｎｍおよび５５０ｎｍの波長にて測定する。次いで各膜を、１ｈの総時間の間１００℃にてオーブン中に置く。１ｈ後、膜をオーブンから取り出し、位相差プロファイルを再度記録する前に室温まで冷却する。耐久性を、オーブン試験の前後にＲｉｎおよびＲｉｎ−４５０／Ｒｉｎ−５５０の差異によって定量化して、開始Ｒｉｎ値の９６．４０％を、開始Ｒｉｎ−４５０／Ｒｉｎ−５５０値の９７．３０％をもたらす。
比較実験９．４
ベース混合物Ｍ３を１％ Darocure TPO（CIBA, Switzerlandから市販）と混合して、トルエン／シクロヘキサノン（７／３）中３３％固体に溶解する。
溶液を、擦られたＰＩでコーティングされた未加工ガラス基体上２０００ｒｐｍにて３０秒間スピンコーティングする。膜を６６℃にて６０秒間アニールして、融合Ｈ電球（５０％電力、１０ｍ／ｍｉｎ）を使用しＮ２雰囲気下で硬化させる。
膜の総スタックが、ガラス／ポリマー膜／感圧接着剤であるように、膜を感圧接着剤に対し積層するが、表面は開放したままにする。膜を耐久性実験に供する。
各硬化膜の位相差（Ｒｉｎ）を測定するため、Axoscanエリプソメーターを使用する。Ｒｉｎを、５５０ｎｍの波長をもつ光源を使用して分析する。位相差分散Ｒｉｎ−４５０／Ｒｉｎ−５５０を決定するため、材料の位相差を４５０ｎｍおよび５５０ｎｍの波長にて測定する。次いで各膜を、１ｈの総時間の間１００℃にてオーブン中に置く。１ｈ後、膜をオーブンから取り出し、位相差プロファイルを再度記録する前に室温まで冷却する。耐久性を、オーブン試験の前後にＲｉｎおよびＲｉｎ−４５０／Ｒｉｎ−５５０の差異によって定量化して、開始Ｒｉｎ値の８３．９０％を、開始Ｒｉｎ−４５０／Ｒｉｎ−５５０値の９０．２０％をもたらす。
概要
＊比較実験

Claims (16)

  1. 本発明は、少なくとも１種の二反応性または多反応性のメソゲン化合物および式ＣＯ−１
    式中
    Ｒ１およびＲ２は、Ｈ、アルキル、アルコキシまたはモノ−、オリゴ−またはポリフッ素化アルキルまたはアルコキシを示し、
    Ｌ１は、Ｈ、アルキル、アルコキシ、チオアルキル、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシまたはアルコキシカルボニルオキシ；ハロゲン、ＣＮ、ＮＯ２、ＯＣＮ、ＳＣＮ，またはモノ−、オリゴ−またはポリフッ素化アルキルまたはアルコキシ原子；または-（Ｓｐ３１−Ａ３１）を示し、
    Ｌ２〜Ｌ３は、Ｈ、アルキル、モノ−、オリゴ−またはポリフッ素化アルキル，または−（Ｓｐ３１−Ａ３１）を示し、
    Ｓｐ３１は、スペーサー基または単結合を示し、
    Ａ３１は、アリール基、ヘテロアリール基、（非芳香族）脂環式基およびまたはヘテロ環式基を示すが、各々は任意に、シリル、スルホ、スルホニル、ホルミル、アミン、イミン、ニトリル、メルカプト、ニトロ、ハロゲン、Ｃ１〜１２アルキル、Ｃ６〜１２アリール、Ｃ１〜１２アルコキシ、ヒドロキシル、またはこれらの基の組み合わせを含む群から選択される１以上の置換基を有していてもよく、
    ｎは、０または１を示す、
    で表される少なくとも１種の化合物を含む、重合性ＬＣ材料に関する。
  2. 少なくとも１種の二反応性または多反応性のメソゲン化合物が、式ＤＲＭ
    Ｐ１−Ｓｐ１−ＭＧ−Ｓｐ２−Ｐ２ ＤＲＭ
    から選択され、式中
    Ｐ１およびＰ２は、互いに独立して、重合性基を示し、
    Ｓｐ１およびＳｐ２は、互いに独立して、スペーサー基または単結合であり、および
    ＭＧは、棒状のメソゲン基であるが、前記基は、好ましくは、式ＭＧ
    −（Ａ１−Ｚ１）ｎ−Ａ２− ＭＧ
    から選択され、式中
    Ａ１およびＡ２は、複数存在する場合、相互に独立して、芳香族基または脂環式基を示すが、前記基は、Ｎ、ＯおよびＳから選択される１個以上のヘテロ原子を任意に含有していてもよく、およびＬ１によって任意に単置換または多置換されていてもよく、
    Ｌ１は、Ｐ−Ｓｐ−、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、−ＣＮ、−ＮＯ２、−ＮＣＯ、−ＮＣＳ、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ００Ｒ０００、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ００、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ００、−ＮＲ００Ｒ０００、−ＯＨ、−ＳＦ５、任意に置換されていてもよいシリル、１〜１２個のＣ原子をもつアリールまたはヘテロアリール、１〜１２個のＣ原子をもつ直鎖または分枝のアルキル、アルコキシ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシまたはアルコキシカルボニルオキシであり、ここで１個以上のＨ原子が、ＦまたはＣｌによって任意に置き換えられていてもよく、
    Ｒ００およびＲ０００は、互いに独立して、Ｈ、または１〜１２個のＣ原子をもつアルキルを示し、
    Ｚ１は、複数存在する場合、相互に独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、−ＣＯ−ＮＲ００−、−ＮＲ００−ＣＯ−、−ＮＲ００−ＣＯ−ＮＲ０００−、−ＮＲ００−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ００−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）ｎ１、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝ＣＲ００−、−ＣＹ１＝ＣＹ２−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−または単結合を示し、
    Ｙ１およびＹ２は、互いに独立して、Ｈ、Ｆ、ＣｌまたはＣＮを示し、
    ｎは、１、２、３または４であり、および
    ｎ１は、１から１０までの整数である、
    請求項１に記載の重合性ＬＣ材料。
  3. 少なくとも１種の二反応性のメソゲン化合物が、以下の式、
    から選択され、式中
    Ｐ０は、複数存在する場合、相互に独立して、アクリル基、メタクリル基、オキセタン基、エポキシ基、ビニル基、ヘプタジエン基、ビニルオキシ基、プロペニルエーテル基、またはスチレン基であり、
    Ｌは、各々が同一の存在であるかまたは異なって存在するとき、式ＤＲＭにおいてＬ１に与えられる意味の１つを有し、
    ｒは０、１、２、３または４であり、
    ｘおよびｙは、互いに独立して、０であるか、または１から１２までの同一のまたは異なる整数であり、
    ｚは、各々および独立して、０または１であるが、ただし隣接するｘまたはｙが０である場合、ｚは０である、
    請求項１または２に記載の重合性ＬＣ材料。
  4. 式ＭＲＭ、
    Ｐ１−Ｓｐ１−ＭＧ−Ｒ ＭＲＭ
    式中Ｐ１、Ｓｐ１およびＭＧは、式ＤＲＭにおいて与えられるとおりの意味を有し、
    Ｒは、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、−ＣＮ、−ＮＯ２、−ＮＣＯ、−ＮＣＳ、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲｘＲｙ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲｘ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒｙ、−ＮＲｘＲｙ、−ＯＨ、ＳＦ５、任意に置換されていてもよいシリル、１〜１２個のＣ原子をもつ直鎖または分枝のアルキル、アルコキシ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、またはアルコキシカルボニルオキシであり、ここで１個以上のＨ原子が、ＦまたはＣｌによって任意に置き換えられていてもよく、
    Ｘは、ハロゲン、好ましくはＦまたはＣｌであり、および
    ＲｘおよびＲｙは、互いに独立して、Ｈ、または１〜１２個のＣ原子をもつアルキルである、
    から選択される、少なくとも１種の単反応性のメソゲン化合物を含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の重合性ＬＣ材料。
  5. 少なくとも１種の単反応性のメソゲン化合物が、以下の式、
    から選択され、式中Ｐ０、Ｌ、ｒ、ｘ、ｙおよびｚは、請求項３において与えられるとおりに定義され、
    Ｒ０は、１個以上の、好ましくは１〜１５個のＣ原子をもつアルキル、アルコキシ、チオアルキル、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、またはアルコキシカルボニルオキシであるか、またはＹ０を示し、
    Ｙ０は、Ｆ、Ｃｌ、ＣＮ、ＮＯ２、ＯＣＨ３、ＯＣＮ、ＳＣＮ、ＳＦ５、または１〜４個のＣ原子をもつモノ−、オリゴ−、またはポリフッ素化アルキルまたはアルコキシであり、
    Ｚ０は、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、または単結合であり、
    Ａ０は、複数存在する場合、相互に独立して、非置換であるかまたは１、２、３または４個の基Ｌで置換された１，４−フェニレンであるか、あるいはトランス−１，４−シクロヘキシレンであり、
    ｕおよびｖは、互いに独立して、０、１または２であり、
    ｗは、０または１であり、および
    ここでベンゼン環およびナフタレン環は加えて、１以上の同一のまたは異なる基Ｌで置換され得る、請求項１〜４のいずれか一項に記載の重合性ＬＣ材料。
  6. 二反応性または多反応性の重合性メソゲン化合物の割合が、５から９０重量％までの範囲にある、請求項１〜５のいずれか一項に記載の重合性ＬＣ材料。
  7. 単反応性の重合性メソゲン化合物の割合が、５から８０重量％までの範囲にある、請求項１〜６のいずれか一項に記載の重合性ＬＣ材料。
  8. １種以上の抗酸化剤を含む、請求項１〜７のいずれか一項に記載の重合性ＬＣ材料。
  9. 界面活性剤、さらなる安定剤、触媒、増感剤、阻害剤、連鎖移動剤、共反応モノマー、反応性シンナー、表面活性化合物、潤滑剤、湿潤剤、分散剤、疎水化剤、接着剤、流動性改善剤、脱泡剤または消泡剤、脱気剤、希釈剤、反応性希釈剤、助剤、着色料、染料、色素およびナノ粒子からなる群から選択される１種以上の添加剤を任意に含む、請求項１〜８のいずれか一項に記載の重合可能なＬＣ材料。
  10. 式ＣＯ−１で表される１種以上の化合物を、少なくとも１種の二反応性または多反応性のメソゲン化合物と混合するステップを含む、請求項１〜９のいずれか一項に記載の重合性ＬＣ材料の調製のためのプロセス。
  11. − 請求項１〜９のいずれか一項に記載の重合性ＬＣ材料の層を基体上へ提供すること、
    − 重合性ＬＣ材料を光重合すること、および
    − 任意に、重合されたＬＣ材料を基体から取り除くこと、および／または任意に、それを別の基体上へ提供すること
    による、ポリマー膜の調製のためのプロセス。
  12. − 重合性ＬＣ材料の層を基体上へ提供すること、
    − ＬＣ材料を光重合すること、および
    − 任意に、重合されたＬＣ材料を基体から取り除くこと、および／または任意に、それを別の基体上へ提供すること
    というステップを含むプロセスによる、請求項１〜９のいずれか一項に記載の重合性ＬＣ材料から得られる、ポリマー膜。
  13. ＬＣ材料が、均一に配向されていることを特徴とする、請求項１２に記載のポリマー膜。
  14. 式ＣＯ−１で表される少なくとも１種の化合物を重合前に加えることによって、少なくとも１種の二反応性または多反応性のメソゲン化合物を含む重合性ＬＣ材料から得られたポリマー膜の耐久性を増大させる方法。
  15. 光学用途、電気光学用途、情報保管用途、装飾用途および保安用途、たとえば、液晶ディスプレイ、３Ｄディスプレイ、プロジェクションシステム、偏光子、補償板、配向層、円偏光子、カラーフィルター、装飾画像、液晶色素、空間的に変動する反射色をもつ反射膜、多色画像、偽造不可能な文書、たとえば、身分証明書もしくはクレジットカードまたは紙幣における、請求項１２または１３に記載のポリマー膜あるいは請求項１〜９のいずれか一項に記載の重合性ＬＣ材料の使用。
  16. 請求項１２または１３に記載の少なくとも１種のポリマー膜あるいは請求項１〜９のいずれか一項に記載の重合性ＬＣ材料を含む、光学部品または光学デバイス、偏光子、パターン化位相差板、補償板、配向層、円偏光子、カラーフィルター、装飾画像、液晶レンズ、液晶色素、空間的に変動する反射色をもつ反射膜、装飾用または情報保管用の多色画像。
JP2019537871A 2016-09-28 2017-09-25 重合性液晶材料および重合された液晶膜 Active JP7179735B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP16191146.6 2016-09-28
EP16191146 2016-09-28
PCT/EP2017/074164 WO2018060110A1 (en) 2016-09-28 2017-09-25 Polymerisable liquid crystal material and polymerised liquid crystal film

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2019532167A true JP2019532167A (ja) 2019-11-07
JP7179735B2 JP7179735B2 (ja) 2022-11-29

Family

ID=57018092

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019537871A Active JP7179735B2 (ja) 2016-09-28 2017-09-25 重合性液晶材料および重合された液晶膜

Country Status (7)

Country Link
US (1) US11820932B2 (ja)
EP (1) EP3519533B1 (ja)
JP (1) JP7179735B2 (ja)
KR (1) KR102458810B1 (ja)
CN (1) CN109790468B (ja)
TW (1) TWI751200B (ja)
WO (1) WO2018060110A1 (ja)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7143297B2 (ja) * 2016-12-01 2022-09-28 メルク・パテント・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング 重合性液晶材料および重合液晶フィルム
UY37806A (es) 2017-07-11 2020-01-31 Vertex Pharma Carboxamidas como moduladores de los canales de sodio
JP7430631B2 (ja) * 2017-08-15 2024-02-13 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 重合性液晶材料および重合した液晶フィルム
TW202003591A (zh) * 2018-04-27 2020-01-16 德商馬克專利公司 可聚合的液晶材料及經聚合的液晶膜
EP3837334B1 (en) * 2018-08-13 2024-04-03 Merck Patent GmbH Polymerizable liquid crystal material and polymerized liquid crystal film
CN112534023A (zh) * 2018-08-13 2021-03-19 默克专利股份有限公司 可聚合液晶材料和聚合的液晶膜
US20200115389A1 (en) 2018-09-18 2020-04-16 Nikang Therapeutics, Inc. Fused tricyclic ring derivatives as src homology-2 phosphatase inhibitors
CN114127637A (zh) * 2019-07-12 2022-03-01 株式会社三养社 光敏性树脂组合物
KR20210058453A (ko) 2019-11-14 2021-05-24 삼성전자주식회사 고열전도성 에폭시 화합물, 및 이를 포함하는 조성물, 반도체 패키징용 소재, 성형물, 전기전자 소자 및 반도체 패키지
CR20220316A (es) 2019-12-06 2022-10-07 Vertex Pharma Tetrahidrofuranos sustituidos como moduladores de canales de sodio
CN111240058A (zh) * 2020-03-18 2020-06-05 扬州晶彩智能玻璃科技有限公司 一种显示防窥膜及其制备方法
CN112980225A (zh) * 2021-02-25 2021-06-18 张家港莱拓新材料科技有限公司 一种新型可聚合介晶混合物涂料及其应用
CN117794920A (zh) 2021-06-04 2024-03-29 沃泰克斯药物股份有限公司 N-(羟烷基(杂)芳基)四氢呋喃甲酰胺作为钠通道调节剂

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008266550A (ja) * 2006-06-29 2008-11-06 Chisso Corp 重合性液晶組成物
WO2010095680A1 (ja) * 2009-02-20 2010-08-26 Dic株式会社 重合性液晶組成物
KR20140144809A (ko) * 2013-06-11 2014-12-22 애경화학 주식회사 플루오렌 구조를 갖는 신규한 광개시제 및 이를 포함하는 반응성 액정 조성물 및 감광성 조성물
WO2016010036A1 (ja) * 2014-07-15 2016-01-21 東京応化工業株式会社 感光性組成物及び化合物

Family Cites Families (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3992796A (en) 1974-11-29 1976-11-23 Roger Dorgnon System for introducing and placing caseless pellets in a firing apparatus
SG50596A1 (en) 1991-07-26 2001-01-16 Rolic Ag Photo-oriented polymer networks and method of their manufacture
US6160597A (en) 1993-02-17 2000-12-12 Rolic Ag Optical component and method of manufacture
SG50569A1 (en) 1993-02-17 2001-02-20 Rolic Ag Optical component
AU1793897A (en) 1996-03-19 1997-10-10 Merck Patent Gmbh Liquid crystal display device
TW373100B (en) 1996-07-01 1999-11-01 Merck Patent Gmbh Compensation film and liquid crystal display device containing the same
GB2315072B (en) 1996-07-04 2000-09-13 Merck Patent Gmbh Circular UV polariser
TW373123B (en) 1996-07-26 1999-11-01 Merck Patent Gmbh Combination of optical elements, means to produce substantially linear polarized light, optical retardation film and liquid crystal display device
EP0829744B1 (en) 1996-09-12 2005-03-23 Sharp Kabushiki Kaisha Parallax barrier and display
US6055103A (en) 1997-06-28 2000-04-25 Sharp Kabushiki Kaisha Passive polarisation modulating optical element and method of making such an element
GB9806313D0 (en) 1997-06-28 1998-05-20 Sharp Kk Method of making a spatial light modulator method of making a cell wall for a spatial light modulator spatial light modulator and cell wall for such aspatial
EP0940707B1 (en) 1998-03-05 2006-07-12 MERCK PATENT GmbH Optical retardation film
US7060200B1 (en) 1999-09-03 2006-06-13 Merck Patent Gmbh Multireactive polymerizable mesogenic compounds
JP2003509725A (ja) 1999-09-16 2003-03-11 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング 光学的補償板および液晶ディスプレイｉ
US7527746B2 (en) 2005-01-28 2009-05-05 Chisso Corporation Liquid crystal polyfunctional acrylate derivative and polymer thereof
JP5354238B2 (ja) 2006-05-31 2013-11-27 Ｄｉｃ株式会社 重合性液晶組成物
USRE46426E1 (en) 2007-03-30 2017-06-06 Merck Patent Gmbh Birefringent polymer film with negative optical dispersion
JP5054456B2 (ja) 2007-07-26 2012-10-24 株式会社Ａｄｅｋａ 重合性液晶化合物及びラジカル光重合開始剤を含有する重合性組成物
US8455563B2 (en) 2008-01-11 2013-06-04 Merck Patent Gmbh Reactive mesogenic compounds and mixtures
JP2009286976A (ja) * 2008-05-30 2009-12-10 Fujifilm Corp 重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学部材、及び液晶表示素子
JP5826759B2 (ja) * 2009-10-30 2015-12-02 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングＭｅｒｃｋ Ｐａｔｅｎｔ Ｇｅｓｅｌｌｓｃｈａｆｔ ｍｉｔ ｂｅｓｃｈｒａｅｎｋｔｅｒ Ｈａｆｔｕｎｇ 重合性ｌｃ材料および負の光学的分散を有するポリマーフィルム
JP6127130B2 (ja) 2012-05-03 2017-05-10 コリア リサーチ インスティテュート オブ ケミカル テクノロジー 新規のオキシムエステルフルオレン化合物、およびこれを含む光重合開始剤、並びにフォトレジスト組成物
JP6065596B2 (ja) * 2013-01-16 2017-01-25 Jsr株式会社 感放射線性着色組成物、着色硬化膜及び表示素子
JP2015011095A (ja) * 2013-06-27 2015-01-19 凸版印刷株式会社 フォトスペーサー形成用感光性樹脂組成物及びカラーフィルタ
JP6252039B2 (ja) * 2013-08-27 2017-12-27 凸版印刷株式会社 カラーフィルタ及び液晶表示装置
JP2015127793A (ja) * 2013-11-26 2015-07-09 Jnc株式会社 光学異方体および液晶ディスプレイ
KR101435652B1 (ko) * 2014-01-17 2014-08-28 주식회사 삼양사 신규한 β-옥심에스테르 플루오렌 화합물, 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물
WO2016076652A1 (ko) 2014-11-12 2016-05-19 주식회사 삼양사 액정디스플레이 패널용 블랙매트릭스 포토레지스트 조성물
KR101963931B1 (ko) * 2014-12-02 2019-04-01 동우 화인켐 주식회사 흑색 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙매트릭스 및 이를 구비한 화상 표시 장치
WO2016143824A1 (ja) * 2015-03-10 2016-09-15 富士フイルム株式会社 組成物キット、積層体およびその製造方法、バンドパスフィルター
JP6641468B2 (ja) 2015-10-08 2020-02-05 常州強力電子新材料股▲分▼有限公司ＣＨＡＮＧＺＨＯＵ ＴＲＯＮＬＹ ＮＥＷ ＥＬＥＣＴＲＯＮＩＣ ＭＡＴＥＲＩＡＬＳ Ｃｏ．， Ｌｔｄ． フルオレン含有オキシムエステル類光開始剤、その合成、それを含有する感光性樹脂組成物及びその使用

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008266550A (ja) * 2006-06-29 2008-11-06 Chisso Corp 重合性液晶組成物
WO2010095680A1 (ja) * 2009-02-20 2010-08-26 Dic株式会社 重合性液晶組成物
KR20140144809A (ko) * 2013-06-11 2014-12-22 애경화학 주식회사 플루오렌 구조를 갖는 신규한 광개시제 및 이를 포함하는 반응성 액정 조성물 및 감광성 조성물
WO2016010036A1 (ja) * 2014-07-15 2016-01-21 東京応化工業株式会社 感光性組成物及び化合物

Also Published As

Publication number Publication date
US20190218459A1 (en) 2019-07-18
TW201827574A (zh) 2018-08-01
US11820932B2 (en) 2023-11-21
EP3519533B1 (en) 2020-12-16
EP3519533A1 (en) 2019-08-07
KR102458810B1 (ko) 2022-10-26
TWI751200B (zh) 2022-01-01
CN109790468B (zh) 2023-06-13
CN109790468A (zh) 2019-05-21
JP7179735B2 (ja) 2022-11-29
KR20190058587A (ko) 2019-05-29
WO2018060110A1 (en) 2018-04-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7179735B2 (ja) 重合性液晶材料および重合された液晶膜
US10358600B2 (en) Polymerisable liquid crystal material and polymerised liquid crystal film
JP7179732B2 (ja) 重合性液晶材料および重合された液晶膜
EP3784753B1 (en) Polymerisable liquid crystal material and polymerised liquid crystal film
US20200291299A1 (en) Polymerisable liquid crystal material and polymerised liquid crystal film
KR20210114498A (ko) 액정 중합체 필름의 제조 방법
EP3837333B1 (en) Polymerisable liquid crystal material and polymerised liquid crystal film
US20220145180A1 (en) Polymerisable liquid crystal material and polymerised liquid crystal film
WO2021259825A1 (en) Polymerisable liquid crystal material and polymerised liquid crystal film
EP3837334B1 (en) Polymerizable liquid crystal material and polymerized liquid crystal film
JP7430631B2 (ja) 重合性液晶材料および重合した液晶フィルム
EP3548585B1 (en) Polymerisable liquid crystal material and polymerised liquid crystal film
JP7284581B2 (ja) 重合性液晶材料および重合された液晶膜
EP3891251B1 (en) Polymerisable liquid crystal material and polymerised liquid crystal film
EP4008759A1 (en) Polymerisable liquid crystal material and polymerised liquid crystal film
WO2021219765A1 (en) Polymerizable liquid crystal material and polymerized liquid crystal film
US20230265344A1 (en) Polymerisable liquid crystal material and polymerised liquid crystal film

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20200925

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20210927

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20211005

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20220104

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20220531

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20220830

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20221102

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20221116

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7179735

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150