TWI708968B - 影像顯示裝置之製造方法及藉由該製造方法製得之影像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種在加濕環境下仍可維持優異光學特性且褪色經防止之附基板之偏光板的簡便製造方法。本發明之附基板之偏光板之製造方法包含以下步驟：準備偏光板與尺寸較偏光板更大之基板；以基板伸出偏光板外周之方式，積層基板與偏光板；形成覆蓋偏光板之周圍端面的密封部；及，保留自偏光板之周圍端起算預定長度的伸出部分後裁切基板及密封部，製成預定尺寸。

Description

影像顯示裝置之製造方法及藉由該製造方法製得之影像顯示裝置
本發明涉及影像顯示裝置之製造方法及藉由該製造方法製得之影像顯示裝置。
發明背景 在影像顯示裝置(例如液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、量子點顯示裝置)中，由於其影像形成方式，多數情況下係於顯示單元之至少一側配置偏光板。然而，偏光板卻有可實質上決定偏光板之光學特性的偏光膜之光學特性在加濕環境下降低之耐久性的問題。更具體地說，在加濕環境下，偏光膜之端部的偏光性能會消失，結果影像顯示裝置會有發生所謂褪色之現象的情形。
先前技術文獻 專利文獻 專利文獻1：日本專利特開2000-338329號公報
發明概要 發明欲解決之課題 本發明係為了解決上述課題所為，其主要目的在於提供一種在加濕環境下仍可維持優異光學特性且褪色經防止之影像顯示裝置及其簡便的製造方法。
用以解決課題之手段 本發明之影像顯示裝置之製造方法包含以下步驟：準備偏光板與尺寸較該偏光板更大之基板；以該基板伸出該偏光板外周之方式，積層該基板與該偏光板；形成覆蓋該偏光板之周圍端面的密封部；及，保留自該偏光板之周圍端起算預定長度的伸出部分後裁切該基板及該密封部，製成預定尺寸。 在一實施形態中，上述基板為玻璃板。在另一實施形態中，上述基板為樹脂薄膜。 在一實施形態中，上述製造方法係以上述基板伸出構成上述偏光板外周的全部四邊之方式，積層該基板與該偏光板。 在一實施形態中，上述基板係選自液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置及量子點顯示裝置中之影像顯示裝置的顯示單元基板。 在一實施形態中，上述裁切係藉由照射雷射光進行。 在一實施形態中，上述密封部在上述裁切後之伸出部分的長度為10μm~500μm。 在一實施形態中，上述裁切後之密封部的透濕度為300g/m2 /24hr以下。 根據本發明之另一面向，可提供一種影像顯示裝置。該影像顯示裝置具有：偏光板；基板，其具有自該偏光板之周圍端起算預定長度之伸出部分；密封部，其形成於該伸出部分且覆蓋該偏光板之周圍端面。
發明效果 根據本發明，在影像顯示裝置之製造方法中，在基板之伸出偏光板之部分形成密封部密封偏光板之周圍端面，並將密封部及所對應之基板的伸出部分保留自該偏光板之周圍端起算預定長度後予以裁切，藉此即可簡便地製造出在加濕環境下仍可維持優異光學特性且褪色經防止之影像顯示裝置。
用以實施發明之形態 以下說明本發明之實施形態，惟本發明不受該等實施形態限定。
A.影像顯示裝置之製造方法 本發明之影像顯示裝置之製造方法包含以下步驟：準備偏光板與尺寸較該偏光板更大之基板；以該基板伸出該偏光板外周之方式，積層該基板與該偏光板；形成覆蓋該偏光板之周圍端面的密封部；及，保留自該偏光板之周圍端起算預定長度的伸出部分後裁切該基板及該密封部，製成預定尺寸。
本發明可應用於影像顯示裝置之基板與偏光板的任意積層構造。基板在代表上可為影像顯示裝置之顯示單元基板。影像顯示裝置之代表例可舉如液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、量子點顯示裝置。顯示單元基板可舉例如液晶單元之基板、有機EL單元之基板、量子點顯示單元之基板、液晶顯示裝置上將彩色濾光片從兩面密封之基板。本發明之製造方法在一實施形態中，係將基板與偏光板積層，並於該積層體形成密封部而製作出附基板之偏光板後，將該附基板之偏光板作為顯示單元基板使用，藉此即可獲得影像顯示裝置。本發明之製造方法在另一實施形態中，係製作出顯示單元，並將偏光板積層於該顯示單元之基板，接著形成密封部，藉此即可獲得影像顯示裝置。以下作為代表例，說明將附基板之偏光板作為顯示單元基板使用之實施形態。
A-1.偏光板及基板之準備 首先，如圖1(a)所示準備偏光板10及基板20。以下針對偏光板及基板進行具體說明。
A-1-1.偏光板 偏光板具有偏光膜及配置在偏光膜之至少單側的保護薄膜。在本發明之實施形態中，偏光膜係以含碘之聚乙烯醇系樹脂(以下稱作「PVA系樹脂」)薄膜所構成。當偏光膜含有碘時，設置密封部之效果會變得顯著。偏光膜之厚度代表上為8μm以下。當偏光膜含有碘，並且其厚度如上述般相當薄時，由於偏光膜中之碘密度會變高，且加濕會易使碘之穩定性下降，故設置密封部之效果會變得更為顯著。保護薄膜可配置在偏光膜的單側亦可配置在兩側。保護薄膜配置在偏光膜的單側時，可配置在顯示單元側，亦可配置在與顯示單元相反之側。實際使用上會設置黏著劑層作為偏光板之顯示單元側最外層，並將偏光板藉該黏著劑層貼合至顯示單元上。另，在本說明書中僅稱保護薄膜時，表示用以保護所述偏光膜之薄膜(偏光板之構成要素)，與上述表面保護薄膜(作業時暫時保護偏光板之薄膜)有所不同。
A-1-1-1.偏光膜 偏光膜如上述係由含碘之PVA系樹脂薄膜構成。偏光膜可由單層之樹脂薄膜形成，亦可由二層以上之積層體形成。
由單層樹脂薄膜形成之偏光膜的具體例，可舉如利用碘或二色性染料等二色性物質對聚乙烯醇(PVA)系薄膜、部分縮甲醛化PVA系薄膜、乙烯・乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜施予染色處理及延伸處理者，以及PVA之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等多烯系配向薄膜等。若從光學特性優異的觀點來看，宜使用以碘將PVA系薄膜染色並進行單軸延伸所得的偏光膜。上述利用碘之染色譬如可將PVA系薄膜浸漬於碘水溶液中來進行。上述單軸延伸之延伸倍率宜為3~7倍。延伸可在染色處理後進行，亦可在染色的同時進行。又，亦可延伸後再染色。可因應需求對PVA系薄膜施行膨潤處理、交聯處理、洗淨處理、乾燥處理等。譬如，在染色前將PVA系薄膜浸漬於水進行水洗，不僅可洗淨PVA系薄膜表面的污垢或抗黏結劑，還可使PVA系薄膜膨潤，從而防止染色不均等。
使用積層體而獲得之偏光膜的具體例，可舉出樹脂基材與積層在該樹脂基材之PVA系樹脂層(PVA系樹脂薄膜)的積層體，或者是使用樹脂基材及塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層的積層體而獲得之偏光膜。使用樹脂基材及塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層的積層體而獲得之偏光膜，例如可以藉由以下來製作：將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材，並使其乾燥而於樹脂基材上形成PVA系樹脂層，以獲得樹脂基材與PVA系樹脂層的積層體；以及將該積層體延伸及染色而將PVA系樹脂層製成偏光膜。本實施形態中，延伸代表上包含使積層體浸漬於硼酸水溶液中而進行延伸。並且，視需要，延伸可更進一步包含在硼酸水溶液中進行延伸前在高溫(例如95℃以上)下將積層體進行空中延伸。可以直接使用所得樹脂基材/偏光膜之積層體(即，可將樹脂基材作為偏光膜之保護薄膜)，亦可從樹脂基材/偏光件之積層體剝離樹脂基材並於該剝離面視目的積層任意且適當的保護薄膜後來使用。所述偏光膜之製造方法的詳細內容，例如記載於日本專利特開2012-73580號公報。本說明書中援用該公報之其整體的記載作為參考。
用以形成上述PVA系樹脂薄膜之PVA系樹脂可採用任意且適當之樹脂。可舉例如聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇共聚物。聚乙烯醇可藉由將聚乙酸乙烯酯皂化而得。乙烯-乙烯醇共聚物可藉由將乙烯-乙酸乙烯酯共聚物皂化而得。PVA系樹脂之皂化度通常為85莫耳%~100莫耳%，宜為95.0莫耳%~99.9莫耳%，更宜為99.0莫耳%~99.5莫耳%。皂化度係依JIS K 6726-1994而求得。藉由使用所述皂化度的PVA系樹脂，可獲得耐久性優異的偏光膜。皂化度太高時，會有膠化之虞。
PVA系樹脂的平均聚合度可按目的適當選擇。平均聚合度通常為1000~10000，宜為1200~5000，更宜為1500~4500。另，平均聚合度可按JIS K 6726-1994而求得。
如上所述，偏光膜含有碘。偏光膜實質上係一碘經吸附配向之PVA系樹脂薄膜。PVA系樹脂薄膜中之碘濃度，舉例而言為5.0重量%~12.0重量%。又，PVA系樹脂薄膜中之硼酸濃度，舉例而言為12重量%~25重量%。
偏光膜之厚度如上述代表上為8μm以下，且宜為7μm以下，較宜為6μm以下。另一方面，PVA系樹脂薄膜之厚度宜為1.0μm以上，且較宜為2.0μm以上。
上述偏光膜宜於380nm~780nm之任意波長下展現吸收二色性。偏光膜之單體透射率宜為40.0%~46.0%，更宜為41.0%~45.0%。偏光膜之偏光度以99.9%以上為宜，以99.95%以上為佳，以99.98%以上更佳。將偏光板應用於反射型液晶顯示裝置或有機EL顯示裝置時，偏光膜之偏光度以90%以上為宜，以93%以上為佳，以95%以上為更佳。如後述，藉由設置覆蓋含有偏光膜之影像顯示面板四周端面的密封部，可兼具所述的優異光學特性(單體透射率及偏光度之平衡佳)及優異的耐久性(即使在加濕環境下仍可維持所述的優異光學特性)。
A-1-1-2.保護薄膜 保護薄膜係以可作為偏光膜之保護薄膜使用的任意且適當的薄膜構成。作為該薄膜之主成分的材料之具體例，可舉出三乙醯纖維素(TAC)等之纖維素樹脂、聚脂系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚降莰烯系、聚烯烴系、(甲基)丙烯酸系及乙酸酯系等之透明樹脂等。又，亦可舉出(甲基)丙烯酸系、胺甲酸酯系、(甲基)丙烯酸胺甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。其他亦可舉出例如矽氧烷系聚合物等之玻璃質系聚合物。並且，亦可使用日本專利特開2001-343529號公報(WO01/37007)所記載之聚合物薄膜。作為該薄膜之材料，例如可以使用含有在側鏈具有取代或非取代之醯亞胺基的熱可塑性樹脂與在側鏈具有取代或非取代之苯基及腈基的熱可塑性樹脂之樹脂組成物，且例如可舉出具有由異丁烯與N-甲基馬來醯亞胺構成之交替共聚物及丙烯腈-苯乙烯共聚物之樹脂組成物。該聚合物薄膜例如可為上述樹脂組成物之擠製成形物。
在本發明之實施形態中，如上述亦可將製造偏光板時使用之樹脂基材直接當作保護薄膜使用。
在配置在視辨側之偏光板中，保護薄膜被配置在偏光膜之視辨側時，亦可視需求對保護薄膜施行硬塗處理、抗反射處理、抗黏附處理、防眩處理等表面處理。
只要可獲得本發明之效果，保護薄膜之厚度即可採用任意且適當之厚度。保護薄膜之厚度譬如為10μm~40μm，且宜為10μm~30μm。此外，當有施行表面處理時，保護薄膜之厚度是包含表面處理層之厚度的厚度。
於偏光膜之顯示單元側配置保護薄膜(內側保護薄膜)時，在一實施形態中，該內側保護薄膜於光學上宜為各向同性。本說明書中「在光學上為各向同性」意指面內相位差Re(550)為0nm~10nm，且厚度方向之相位差Rth(550)為-10nm~+10nm。內側保護薄膜之Re(550)以0nm~8nm為宜，以0nm~6nm為佳，以0nm~3nm為更佳。內側保護薄膜之Rth(550)以-8nm~+8nm為宜，以-6nm~+6nm為佳，以-3nm~+3nm為更佳。另外，「Re(550)」係於23℃下以波長550nm之光測得之面內相位差。Re(550)可於令層(薄膜)之厚度為d(nm)時，藉由式：Re=(nx-ny)×d求得。又，「Rth(550)」係於23℃下以波長550nm之光測得之厚度方向的相位差。Rth(λ)可於令層(薄膜)厚度為d(nm)時，藉由式：Rth=(nx-nz)×d求得。
在其他實施形態中，內側保護薄膜亦可具有可作為所謂的λ/4板發揮功用的Re(550)。所述實施形態譬如可應用在偏光板作為圓偏光板發揮功用，作為反射型液晶顯示裝置或有機EL顯示裝置之抗反射薄膜使用的情況。此時，Re(550)宜為120nm~160nm，且較宜為約140nm。這時候，內側保護薄膜可配置成其慢軸相對於偏光膜之吸收軸宜構成40°~50°且較宜構成約45°之角度。
A-1-2.基板 基板可採用任意且適當之構成。舉例而言，基板可為玻璃板，亦可為樹脂薄膜。基板之尺寸較偏光板更大。當基板與偏光板積層時，基板宜具有伸出偏光板外周預定長度之尺寸，更宜具有伸出構成偏光板外周之全部四邊預定長度之尺寸。
玻璃板可採用任意且適當之玻璃板。構成玻璃板之玻璃依據組成物來分類，可舉例如鈉鈣玻璃、硼酸玻璃、鋁矽酸鹽玻璃、石英玻璃。又，根據鹼性成分來分類可舉如無鹼玻璃、低鹼玻璃。玻璃之鹼金屬成分(例如Na2 O、K2 O、Li2 O)的含量宜為15重量%以下，更宜為10重量%以下。
玻璃板在波長550nm下之光透射率宜為85%以上。玻璃板在波長550nm下之折射率宜為1.4~1.65。玻璃板之密度宜為2.3g/cm3 ~3.0g/cm3 ，更宜為2.3g/cm3 ~2.7g/cm3 。
玻璃板之厚度宜為0.1mm~1.0mm，較宜為0.2mm~0.6mm。
玻璃板可直接使用市售之玻璃板，亦可將市售之玻璃板研磨成所期望之厚度後使用。市售之玻璃板可舉例如康寧公司製「7059」、「1737」或「EAGLE2000」、AGC公司製「AN100」、NH Techno Glass公司製「NA-35」、Nippon Electric Glass公司製「OA-10」、SCHOTT公司製「D263」或「AF45」。
樹脂薄膜可採用任意且適當之樹脂薄膜。樹脂薄膜在代表上為透明樹脂薄膜。構成樹脂薄膜之材料可舉例如聚醯亞胺、聚醯胺醯亞胺。該等可單獨使用，也可組合使用。
樹脂薄膜之厚度宜為10μm~200μm，更宜為20μm~100μm。
A-2.偏光板與基板之積層 接著，如圖1(a)所示積層偏光板10與基板20。偏光板10與基板20在代表上可透過任意且適當之黏著劑層(未示於圖式中)來積層。積層係如圖1(a)所示，以基板伸出偏光板外周之方式來進行，宜以基板伸出構成偏光板外周之全部四邊之方式來進行。
因應需要，亦可在偏光板10之與基板20相反之側的表面暫時附著有表面保護薄膜(未示於圖式中)。藉此，在後述的密封部之形成以及該密封部及基板之裁切時，偏光板可受到適當保護。表面保護薄膜在最後使用附基板之偏光板(實質上為影像顯示裝置)時會被剝離去除。表面保護薄膜之剝離去除可在密封部之形成以及密封部及基板之裁切後於任意且適當之時機進行。
A-3.密封部之形成 接著，如圖1(b)所示形成覆蓋偏光板10之周圍端面的密封部30。以密封部覆蓋偏光板之周圍端面，即可在加濕環境下仍維持偏光板(偏光膜)之光學特性，結果可提升影像顯示裝置之耐久性。因此，密封部宜具有障蔽功能。本說明書中「具有障蔽功能」意指可控制進入偏光膜之氧及/或水蒸氣之透過量，以實質上使偏光膜與其等隔絕。
密封部在代表上係透過將黏著劑組成物配置成覆蓋偏光板之周圍端面來形成。在一實施形態中，可將黏著劑組成物配置(例如塗佈、配置片狀黏著劑)於基板之伸出部分來形成密封部。密封部係覆蓋偏光板之周圍端面且只要有密封該周圍端面即可，並無密著於該周圍端面之必要。又，密封部只要有覆蓋偏光板之周圍端面即可，因此亦可在覆蓋周圍端面的同時亦覆蓋周圍端面以外之部分。舉例而言，密封部亦可在覆蓋周圍端面的同時亦覆蓋偏光板之遠離基板之側的面(在圖式中為上表面)。此時，該面可整體被覆蓋，也可只預定部分被覆蓋。
黏著劑組成物可舉例如以橡膠系聚合物作為基底聚合物之橡膠系黏著劑組成物。
橡膠系聚合物可舉例如：1種共軛二烯化合物聚合而得之共軛二烯系聚合物、2種以上共軛二烯化合物聚合而得之共軛二烯系共聚物、共軛二烯化合物與芳香族乙烯基化合物共聚而得之共軛二烯系共聚物、以及其等之氫化物。
共軛二烯化合物只要是具有可進行聚合之共軛二烯的單體即無特別限定。共軛二烯化合物之具體例可舉如：1,3-丁二烯、異戊二烯、2,3-二甲基-1,3-丁二烯、1,3-戊二烯、3-甲基-1,3-戊二烯、1,3-庚二烯、1,3-己二烯。該等之中，由工業上取得之容易度之觀點視之，又以1,3-丁二烯、異戊二烯為佳。共軛二烯化合物可單獨使用，也可組合使用。
芳香族乙烯基化合物只要是具有可與共軛二烯化合物共聚之芳香族乙烯基結構之單體即無特別限定。芳香族乙烯基化合物之具體例可舉如：苯乙烯、對甲基苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基乙基苯、乙烯基二甲苯、乙烯基萘、二苯基乙烯等。該等之中，由工業上取得之容易度之觀點視之，又以苯乙烯為佳。芳香族乙烯基化合物可單獨使用，也可組合使用。
二烯系共聚物可以是無規共聚物，也可以是嵌段共聚物。又，也可使共軛二烯化合物、芳香族乙烯基化合物以外之化合物共聚來取得二烯系共聚物。
共軛二烯化合物與芳香族乙烯基化合物共聚而得之共軛二烯系共聚物，其共軛二烯化合物與芳香族乙烯基化合物之莫耳比宜為共軛二烯化合物/芳香族乙烯基化合＝10/90~90/10(莫耳%)。
此種共軛二烯系(共)聚合物之具體例可舉如：丁二烯橡膠(BR)、異戊二烯橡膠(IR)、苯乙烯-丁二烯共聚物(SBR)、丁二烯-異戊二烯-苯乙烯無規共聚物、異戊二烯-苯乙烯無規共聚物、苯乙烯-異戊二烯嵌段共聚物(SIS)、丁二烯-苯乙烯共聚物、苯乙烯-乙烯-丁二烯嵌段共聚物(SEBS)、丙烯腈-丁二烯橡膠(NBR)。該等可單獨使用，也可組合使用。該等中又以異戊二烯-苯乙烯共聚物為佳。又，也可適用該等之氫化物。
橡膠系聚合物除了共軛二烯系(共)聚合物之外，亦可使用異丁烯(IB)、苯乙烯-異丁烯-苯乙烯嵌段共聚物(SIBS)、苯乙烯-乙烯丙烯共聚物-苯乙烯嵌段共聚物等。橡膠系聚合物可單獨使用，也可組合使用。
本發明中可使用之橡膠系聚合物，宜在橡膠系聚合物整體中含有50重量%以上之上述共軛二烯系(共)聚合物，且以含70重量%以上為佳，80重量%以上更佳，90重量%以上特佳。共軛二烯系(共)聚合物之含量上限並無特別限制，也可為100重量%(亦即僅由共軛二烯系(共)聚合物構成之橡膠系聚合物)。
如上所述，黏著劑組成物係含有橡膠系聚合物作為基底聚合物。黏著劑組成物中橡膠系聚合物之含量以40重量%以上為宜、以50重量%以上為佳、以60重量%以上更佳。橡膠系聚合物之含量上限並無特別限定，舉例而言為90重量%以下。
黏著劑組成物除了橡膠系聚合物之外，也可更含有任意且適當之添加劑。添加劑之具體例可舉如：交聯劑(例如聚異氰酸酯、環氧化合物、烷基醚化三聚氰胺化合物等)、增黏劑(例如松香衍生物樹脂、多萜樹脂、石油樹脂、脂溶性酚樹脂、乙烯基甲苯樹脂等)、可塑劑、填充劑(例如層狀矽酸鹽、黏土材料等)、抗氧化劑。添加於黏著劑組成物中之添加劑種類、組合、添加量等，可按目的作適當設定。黏著劑組成物中之添加劑含量(總量)以60重量%以下為宜、以50重量%以下為佳、以40重量%以下為更佳。
以所述方式形成之密封部30的厚度宜為30μm~1000μm，較宜為50μm~500μm。在本說明書中「密封部的厚度」之意義只要無明確記載，即指自偏光板之周圍端面向外側延伸之方向的厚度(亦即，密封部的厚度係對應於基板的伸出部分之長度)。
A-4.密封部及基板之裁切 接著，如圖1(c)所示，保留自偏光板之周圍端起算預定長度的伸出部分後裁切密封部30及基板20。結果，如圖1(d)所示，形成具有預定厚度之密封部40。密封部40在裁切後之厚度宜為10μm~500μm，且較宜為20μm~300μm。
裁切可以機械式進行，亦可藉由照射雷射光進行。
機械式裁切可列舉研磨加工、端銑刀加工。
雷射光宜含有波長至少1500nm以下之光。雷射光較宜含有波長100pm~1000nm之光，更宜含有波長400nm~900nm之光，尤宜含有波長420nm~680nm之光。在一實施形態中，雷射光在上述之範圍內具有峰值波長(peak wavelength)。藉由含有所述波長之雷射光，可遍及密封部的上下厚度方向進行良好裁切。
雷射可舉如YAG雷射、YLF雷射、YVO4雷射、鈦藍寶石雷射等固體雷射、包含氬離子雷射、氪離子雷射之氣體雷射、光纖雷射、半導體雷射、染料雷射。且宜使用固體雷射。
上述雷射宜使用短脈衝雷射(照射具有1奈秒以下脈寬之光的雷射，譬如皮秒雷射或飛秒雷射等)。為了抑制對密封部的熱損，又以500皮秒以下(譬如10皮秒~50皮秒)之脈寬尤佳。藉由抑制熱損，可獲得平整、均勻且平滑的裁切面。
雷射光之照射條件可設定為任意且適當的條件。譬如，使用固體雷射(YVO4雷射)時，脈衝能宜為10μJ~150μJ，且較宜為25μJ~71μJ。掃描速度宜為10mm/秒~10000mm/秒，較宜為100mm/秒~1000mm/秒。反覆頻率譬如為100Hz~12480Hz。掃描間隔宜為10μm~50μm。雷射光照射位置的波束形狀可因應目的適當設定。該波束形狀譬如可為圓形亦可為線狀。將波束形狀設為預定形狀之機構可採用任意且適當的機構。譬如，可隔著具有預定開口部的遮罩行雷射照射，亦可使用繞射光學元件等行波束形成(beam forming)。譬如，波束形狀為圓形時，焦點徑長(打點徑長)宜為50μm~60μm。此外，脈衝雷射之輸入能宜為20000μJ/mm2 ~100000μJ/mm2 ，較宜為25000μJ/mm2 ~75000μJ/mm2 。另，輸入能E(μJ/mm2 )可由下述式求得。 E=(e×M)/(V×p) 　　e：脈衝能(J) 　　M：反覆頻率(Hz) 　　V：掃描速度(mm/秒) 　　p：掃描間隔(mm)
雷射光之照射形態(掃描樣式)可因應目的適當設定。雷射光譬如可以直線狀掃描、可以S字形掃描、可以漩渦狀掃描，亦可以將該等組合。
以上述方式形成之密封部40具有障壁性，代表上對水分及氣體(譬如氧)具有障壁性。密封部40於40℃、90%RH條件下之水蒸氣透過率(透濕度)，以300g/m2 /24hr以下為宜，以100g/m2 /24hr以下為佳，以50g/m2 /24hr以下更佳，以25g/m2 /24hr以下特佳。透濕度之下限舉例而言為0.01g/m2 /24hr，以未達檢測極限為宜。只要密封部40之透濕度於如上所述之範圍內，即可良好地保護影像顯示面板免於與空氣中之水分及氧接觸。另，透濕度可準照JIS Z0208進行測定。
經由以上程序，如圖1(d)所示，可製作出具有預定尺寸之附基板之偏光板100。
A-5.影像顯示裝置之製作 在本實施形態中，將經上述程序所獲得之附基板之偏光板作為顯示單元基板使用，即可獲得影像顯示裝置。若要製作液晶顯示裝置，則作為一例可採用如以下程序：(1)準備一對附基板之偏光板；(2)於其中一附基板之偏光板的基板表面設置切換元件(例如TFT)，並於另一附基板之偏光板的基板表面設置彩色濾光片；(3)分別於各基板表面形成配向膜並對該配向膜施行配向處理；(4)使各基板呈相對向(將偏光板配置於外側)並隔著間隔物貼合附基板之偏光板；及(5)將液晶填入基板之間。經由以上程序可製得影像顯示裝置。
A-6.其他實施形態 至此已針對將附基板之偏光板作為顯示單元基板使用之實施形態進行了說明，但如上所述，本發明之製造方法可透過製作顯示單元並將偏光板積層於該顯示單元之基板上，接著形成密封部來獲得影像顯示裝置。在本實施形態中，作為一例可採用如以下程序： (a-1)準備一對基板；(a-2)於其中一基板表面設置切換元件(例如TFT)，並於另一基板表面設置彩色濾光片；(a-3)分別於各基板表面形成配向膜並對該配向膜施行配向處理；(a-4)隔著間隔物貼合基板；及(a-5)將液晶填入基板間而製作出顯示單元； (b)以顯示單元伸出偏光板外周之方式(較佳係以顯示單元伸出構成偏光板外周之全部四邊之方式)，將偏光板分別積層於各顯示單元之基板的外側； (c)形成覆蓋偏光板之周圍端面的密封部；及 (d)保留自偏光板之周圍端起算預定長度的伸出部分後裁切密封部及顯示單元周緣部。 經由以上程序可製得影像顯示裝置。另，步驟(b)~(d)之詳細內容係如同上述A-2項~A-4項所記載。又，顯示單元周緣部係已確保有裁切用之留白，以不受裁切帶來之不良影響。
除上述說明之實施形態以外，本發明亦可應用於影像顯示裝置之基板與偏光板的任意積層構造，而此點對熟知此項技藝之人士而言不辯自明。只要閱讀本說明書，熟知此項技藝之人士即可將基板與偏光板之積層、密封部之形成以及密封部及基板之裁切應用於影像顯示裝置之基板與偏光板的任意積層構造。
B.影像顯示裝置 本發明之影像顯示裝置可透過上述A項所記載之製造方法來製得。因此，影像顯示裝置在代表上含有如圖1(d)所示之構造。具體而言，影像顯示裝置具有：偏光板；基板，其具有自該偏光板之周圍端起算預定長度之伸出部分；密封部，其形成於該伸出部分且覆蓋該偏光板之周圍端面。
影像顯示裝置保持在85℃及85%RH環境下120小時後之褪色量宜為100μm以下，較宜為50μm以下，更宜為30μm以下，尤宜為25μm以下。褪色量之下限以0為佳，在一實施形態中為5μm。褪色量係將影像顯示裝置代替品(實質上為附基板之偏光板)放置於85℃及85%RH之烘箱內120小時進行加濕之後，將其與標準偏光板配置成正交偏光之狀態後，以顯微鏡觀察端部之褪色狀態。具體而言，係測定從偏光板或從偏光膜端部算起之褪色的大小(褪色量：μm)。如圖2所示，係以延伸方向之從端部起算的褪色量a及與延伸方向為正交方向之從端部起算的褪色量b中，數值大者為褪色量。另，褪色區域的偏光特性明顯很低，無法實質上實踐作為偏光板的機能。因此，褪色量愈小愈佳。 實施例
以下，以實施例來具體說明本發明，惟本發明不受該等實施例限定。又，各特性之測定方法如以下所述。
(1)厚度 使用數位測微器(Anritsu公司製KC-351C)進行測定。 (2)透濕度 使用實施例及比較例中所調製之黏著劑組成物，形成具有剝離襯墊/黏著劑層(具有實施例或比較例之厚度)/剝離襯墊之構成的黏著片。接著，剝除黏著片之其中一剝離襯材使黏著面露出後，透過該黏著面，將黏著片貼合於三乙醯纖維素薄膜(TAC薄膜，厚度：25μm，Konica Minolta(股)製)上，並裁切成10cmΦ之圓狀。最後，將另一剝離襯材剝除，即獲得測定用樣本。並對所獲得之測定用樣本以透濕度試驗方法(透濕杯法(cup method)，依循JIS Z 0208)測定透濕度(水蒸氣透過率)。另外，測定條件如下所述。又，測定時使用了恆溫恆濕槽。 測定溫度：40℃ 相對濕度：92% 測定時間：24小時 (3)褪色量 將實施例及比較例中製得之附基板之偏光板作為影像顯示裝置代替品放置於85℃及85%RH之烘箱內120小時進行加濕之後，將其與標準偏光板配置成正交偏光之狀態後，以顯微鏡觀察了偏光膜端部之褪色狀態。具體而言，係測定了從偏光膜端部起算之褪色的大小(褪色量：μm)。顯微鏡係使用Olympus公司製之MX61L，並從以10倍之倍率下所拍攝之影像測定了褪色量。如圖2所示，係以延伸方向之從端部起算的褪色量a及與延伸方向為正交方向之從端部起算的褪色量b中，數值大者為褪色量。
[實施例1] 準備了厚度100μm、Tg75℃之具有7莫耳%異酞酸單元的非晶質聚對苯二甲酸乙二酯(IPA共聚PET)薄膜作為樹脂基材。並對該薄膜表面施行了電暈處理(55W/m2 /min)。 準備以1：9之比例含有乙醯乙醯基改質PVA(日本合成化學工業公司製，商品名：GOHSEFIMER(註冊商標)Z200)與PVA(平均聚合度：4200，皂化度：99.2莫耳%)之PVA系樹脂，並相對於100重量份之該PVA系樹脂，添加13重量份之碘化鉀，而調製出了PVA系樹脂水溶液(PVA系樹脂濃度：5.5重量%)。對樹脂基材的電暈處理面以乾燥後的膜厚成為13μm的方式塗佈該水溶液，並在60℃的氣體環境下利用熱風乾燥乾燥10分鐘，而在樹脂基材上形成厚度9μm之PVA系樹脂層。經由以上程序製做出積層體。 將所製得之積層體於空氣中在120℃下延伸2.4倍(空中輔助延伸)。 接著，將積層體浸漬於液溫40℃的硼酸水溶液中30秒，使PVA系樹脂層不溶解。本步驟的硼酸水溶液是令硼酸含量相對於100重量份的水為4重量份。 接著，以使所獲得之偏光膜的單體透射率成為42~45%左右，將積層體浸漬於液溫30℃之含碘及碘化鉀的染色液中任意時間並染色。染色液是以水為溶劑，並令碘濃度在0.1~0.4重量%的範圍內，令碘化鉀濃度在0.7~2.8重量%的範圍內，且令碘與碘化鉀之濃度比為1:7。 接下來，將積層體浸漬於40℃的硼酸水溶液中60秒，對吸附有碘之PVA樹脂層施行交聯處理。本步驟的硼酸水溶液是令硼酸含量相對於100重量份的水為5重量份，且令碘化鉀含量相對於100重量份的水為3重量份。 並且，於硼酸水溶液中以70℃之延伸溫度將積層體沿與先前之空中輔助延伸相同之方向延伸2.3倍(最後延伸倍率5.50倍)。本步驟的硼酸水溶液是令硼酸含量相對於100重量份的水為3.5重量份，且令碘化鉀含量相對於100重量份的水為5重量份。 接著，以相對於水100重量份令碘化鉀含量為4重量份之水溶液洗淨積層體，並以60℃之溫風使其乾燥，而於樹脂基材上製得厚度5μm之偏光膜。
透過UV硬化型接著劑將環烯烴系薄膜(日本Zeon公司製，ZF-12，23μm)貼合於所獲得之偏光膜表面(與樹脂基材相反之側的面)。具體而言，係分別於偏光膜及環烯烴系薄膜上將UV硬化型接著劑塗佈成總厚度為1.0μm，並使用輥軋機貼合。其後，從環烯烴系薄膜側照射紫外線使硬化型接著劑硬化。接著剝離樹脂基材，並於該剝離面藉硬化型接著劑貼合環烯烴系薄膜之λ/4板(日本ZEON公司製、ZD-12、厚度23μm、Re(550)=140nm)，而製得具有環烯烴系薄膜ZD-12(保護薄膜)/偏光膜/環烯烴系薄膜ZF-12(保護薄膜)之構成的偏光板。此外，ZD-12薄膜係以其慢軸相對於偏光膜之吸收軸構成45°角的方式予以貼合。該偏光板舉例而言可作為反射型液晶顯示裝置或有機EL顯示裝置之視辨側偏光板(抗反射薄膜)來使用。
將上述所製得之偏光板裁切成90mm×40mm之尺寸並使偏光膜之吸收軸方向成為長邊方向。另一方面，將市售之玻璃板(Matsunami Glass公司製，厚度0.4mm)裁切成110mm×60mm之尺寸，以作為基板。將裁切出之偏光板與裁切出之基板透過丙烯酸系黏著劑來積層。此處之偏光板與基板係將偏光板之ZD-12薄膜(λ/4板)配置於基板側而積層。又，偏光板與基板係以基板伸出構成偏光板外周之全部四邊之方式積層。基板之四個伸出部分之長度各為10mm。
於上述伸出部分配置黏著劑，而密封了偏光板的周圍端面。如此便形成了覆蓋液晶面板四周端面的密封部。另外，構成密封部之黏著劑，係相對於100重量份之苯乙烯-乙烯丙烯共聚物-苯乙烯之嵌段共聚物(Kuraray公司製，商品名「SEPTON 2063」，苯乙烯含量：13重量%)，摻混10重量份之聚丁烯(JX日礦日石能源公司製，「商品名「日石Polybutene HV-300」」、40重量份之萜酚增黏劑(YASUHARA CHEMICAL公司製，商品名「YS Polyster TH130」)、以及芳香族增黏劑(Eastman Chemical公司製，商品名「Piccolastic A5」)製作而得。
接著，以雷射光照射該黏著劑及基板，並保留從偏光板之周圍端起算100μm後裁切該黏著劑，而形成了最後之密封部。所製得密封部之透濕度為12g/m2 /24hr。雷射光之照射係採用GCC公司製「LaserPro Spirit」進行。
經由以上程序，製作出了附基板之偏光板。將所製得之附基板之偏光板供於進行上述(3)所記載之褪色評估。結果列於表1。此外，於圖3顯示褪色狀態。
[實施例2] 於以與實施例1同樣方式製得之樹脂基材/偏光膜之積層體的偏光膜表面，以與實施例1同樣方式貼合環烯烴系薄膜(日本ZEON公司製、ZF-12、13μm)。接著，剝離樹脂基材，並於該剝離面藉黏著劑(12μm)貼合反射型偏光件(3M公司製、APF-V3)，而製得具有環烯烴系薄膜ZF-12(保護薄膜)/偏光膜/反射型偏光件之構成的偏光板。另，反射型偏光件係以其透射軸與偏光膜之透射軸構成0°角之方式而貼合。該偏光板舉例而言可作為背面側偏光板使用。
以下依與實施例1相同程序製作出了附基板之偏光板。另，偏光板與基板係將偏光板之ZF-12薄膜(保護薄膜)配置於基板側而積層。將所製得之附基板之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。結果列於表1。
[實施例3] 於以與實施例1同樣方式製得之樹脂基材/偏光膜之積層體的偏光膜表面，以與實施例1同樣方式貼合環烯烴系薄膜(日本ZEON公司製、ZF-12、13μm)。接著，剝離樹脂基材，而獲得具有環烯烴系薄膜ZF-12(保護薄膜)/偏光膜之構成的偏光板。以下依與實施例1相同程序製作出了附基板之偏光板。另，偏光板與基板係將偏光膜配置於基板側而積層。將所製得之附基板之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。結果列於表1。
[實施例4] 形成透濕度為24g/m2 /24hr之密封部(厚度50μm)，除此之外依與實施例1相同方式製作出了附基板之偏光板。將所製得之附基板之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。結果列於表1。
[實施例5] 形成透濕度為24g/m2 /24hr之密封部(厚度50μm)，除此之外依與實施例2相同方式製作出了附基板之偏光板。將所製得之附基板之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。結果列於表1。
[實施例6] 形成透濕度為24g/m2 /24hr之密封部(厚度50μm)，除此之外依與實施例3相同方式製作出了附基板之偏光板。將所製得之附基板之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。結果列於表1。
[比較例1] 除了不形成密封部外，依與實施例1相同方式製作出了附基板之偏光板。將所製得之附基板之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。結果列於表1。另外，將褪色之狀態顯示於圖4。
[比較例2] 除了使用了一般之丙烯酸系黏著劑外，依與實施例1相同方式形成了密封部(透濕度：大於1000g/m2 /24hr，厚度：25μm)，而製作出了附基板之偏光板。將所製得之附基板之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。結果列於表1。
[表1]
Figure 02_image001
由表1可明顯得知，藉由於偏光板之外周端面上形成具有預定透濕度之密封部，可獲得在加濕環境下仍可維持優良光學特性之附基板之偏光板(最後為影像顯示裝置)。
產業上之可利用性 利用本發明之製造方法製得之影像顯示裝置適合應用在電視機、顯示器、行動電話、行動資訊終端、數位相機、視訊攝影機、可攜式遊戲機、汽車導航系統、影印機、列印機、傳真機、鐘錶、微波爐等。
10‧‧‧偏光板20‧‧‧基板30‧‧‧密封部40‧‧‧密封部(最後)100‧‧‧附基板之偏光板
圖式簡單說明 圖1係用以說明本發明中一實施形態之影像顯示裝置之製造方法的概略圖。 圖2係用以說明算出褪色量之示意圖 圖3係展示作為實施例1之影像顯示裝置代替品的附基板之偏光板在加濕試驗後之褪色量的影像。 圖4係展示作為比較例1之影像顯示裝置代替品的附基板之偏光板在加濕試驗後之褪色量的影像。
10‧‧‧偏光板
20‧‧‧基板
30‧‧‧密封部
40‧‧‧密封部(最後)
100‧‧‧附基板之偏光板

Claims (8)

  1. 一種影像顯示裝置之製造方法，包含以下步驟：準備偏光板與尺寸較該偏光板更大之基板；以該基板伸出該偏光板外周之方式，積層該基板與該偏光板；形成覆蓋該偏光板之周圍端面的密封部；及保留自該偏光板之周圍端起算預定長度的伸出部分後裁切該基板及該密封部，製成預定尺寸；且前述基板為顯示單元之基板。
  2. 如請求項1之製造方法，其中前述基板為玻璃板。
  3. 如請求項1之製造方法，其中前述基板為樹脂薄膜。
  4. 如請求項1之製造方法，其以前述基板伸出構成前述偏光板外周之全部四邊之方式，積層該基板與該偏光板。
  5. 如請求項1之製造方法，其中前述顯示單元之基板為選自液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置及量子點顯示裝置中之影像顯示裝置的顯示單元之基板。
  6. 如請求項1之製造方法，其中前述裁切係透過照射雷射光進行。
  7. 如請求項1之製造方法，其中前述密封部在前述裁切後的伸出部分之長度為10μm~500μm。
  8. 如請求項1之製造方法，其中前述裁切後之密封部的透濕度為300g/m2/24hr以下。
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US12117634B2 (en) * 2019-04-16 2024-10-15 Sharp Kabushiki Kaisha Flexible display device, method for manufacturing flexible display device, and foldable display device
CN110208892B (zh) * 2019-05-29 2021-06-15 苏州清越光电科技股份有限公司 偏光片及其制备方法、显示面板
KR20220093644A (ko) * 2020-12-28 2022-07-05 동우 화인켐 주식회사 원도우 적층체 및 그 제조 방법
KR20220135120A (ko) * 2021-03-29 2022-10-06 삼성에스디아이 주식회사 편광판 및 이를 포함하는 광학표시장치

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10206633A (ja) * 1997-01-22 1998-08-07 Casio Comput Co Ltd 偏光板およびその製造方法
JP2010243863A (ja) * 2009-04-08 2010-10-28 Sony Corp 偏光板及び光装置
TW201632921A (zh) * 2014-11-04 2016-09-16 住友化學股份有限公司 附保護膜之光學膜的製造方法

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55138715A (en) * 1979-04-18 1980-10-29 Hitachi Ltd Liquid crystal display element
JPS58133128U (ja) * 1983-01-13 1983-09-08 セイコーエプソン株式会社 液晶表示体
JP4279944B2 (ja) 1999-06-01 2009-06-17 株式会社サンリッツ 偏光板の製造方法
JP4218941B2 (ja) * 2003-02-25 2009-02-04 日東電工株式会社 光学部材、その製造方法、粘着型光学部材および画像表示装置
CN101051137A (zh) * 2006-04-07 2007-10-10 奇美电子股份有限公司 液晶显示器之制造方法
JP4918701B2 (ja) * 2006-12-18 2012-04-18 株式会社トプコン 偏光板の防湿コーティング方法及びその方法により製造された偏光板
JP4494446B2 (ja) * 2007-09-12 2010-06-30 株式会社 日立ディスプレイズ 表示装置
JP2009139738A (ja) * 2007-12-07 2009-06-25 Sharp Corp 液晶表示パネルの製造方法及び液晶表示パネル
US9334406B2 (en) * 2009-02-25 2016-05-10 Lg Chem, Ltd. Composition for primer coating, optical film comprising the same, and polarizing plate comprising the same
JP2011022202A (ja) * 2009-07-13 2011-02-03 Sumitomo Chemical Co Ltd 偏光板およびそれを用いた画像表示装置
JP2013228439A (ja) * 2012-04-24 2013-11-07 Japan Display Inc 液晶表示装置及びその製造方法
JP6166587B2 (ja) * 2013-05-20 2017-07-19 三星ダイヤモンド工業株式会社 ガラス基板に貼り付けた樹脂板の切断方法
KR20150069705A (ko) * 2013-12-16 2015-06-24 동우 화인켐 주식회사 액정패널 및 그의 제조방법
JP6803131B2 (ja) * 2014-02-18 2020-12-23 日東電工株式会社 積層体および画像表示装置
JP6689103B2 (ja) * 2015-03-12 2020-04-28 日東電工株式会社 偏光フィルムおよびその製造方法、光学フィルムならびに画像表示装置
WO2017006405A1 (ja) * 2015-07-03 2017-01-12 堺ディスプレイプロダクト株式会社 表示部材の分断方法、及び液晶表示装置の製造方法
JP6638239B2 (ja) * 2015-07-30 2020-01-29 住友化学株式会社 光学積層体及び液晶表示装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10206633A (ja) * 1997-01-22 1998-08-07 Casio Comput Co Ltd 偏光板およびその製造方法
JP2010243863A (ja) * 2009-04-08 2010-10-28 Sony Corp 偏光板及び光装置
TW201632921A (zh) * 2014-11-04 2016-09-16 住友化學股份有限公司 附保護膜之光學膜的製造方法

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