TWI663055B - Polarizing plate and manufacturing method of polarizing plate - Google Patents
Polarizing plate and manufacturing method of polarizing plate Download PDFInfo
- Publication number
- TWI663055B TWI663055B TW107106565A TW107106565A TWI663055B TW I663055 B TWI663055 B TW I663055B TW 107106565 A TW107106565 A TW 107106565A TW 107106565 A TW107106565 A TW 107106565A TW I663055 B TWI663055 B TW I663055B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- film
- polarizing film
- polarizing plate
- polarizing
- sealing portion
- Prior art date
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C55/00—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor
- B29C55/02—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets
- B29C55/04—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets uniaxial, e.g. oblique
- B29C55/06—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets uniaxial, e.g. oblique parallel with the direction of feed
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
Abstract
本發明提供一種在加濕環境下仍能維持優良光學特性之偏光板。本發明之偏光板具有:偏光膜,由聚乙烯醇系樹脂薄膜所構成;保護薄膜,配置於偏光膜之至少單側;與密封部,用以覆蓋偏光膜及保護薄膜之周圍端面。在一實施形態中,偏光膜之厚度為8μm以下。在一實施形態中,密封部之透濕度為300g/m2
/24hr以下。在一實施形態中,偏光板在85℃及85%RH環境下保持120小時後之褪色量為100μm以下。
Description
本發明係關於一種偏光板及偏光板之製造方法。
發明背景 在代表性之影像顯示裝置即液晶顯示裝置中,由於其影像形成方式,而於液晶單元的兩側配置有偏光膜。作為偏光膜之製造方法,例如已提出有一種將具有樹脂基材及聚乙烯醇(PVA)系樹脂層之積層體延伸,其次施以染色處理,以在樹脂基材上獲得偏光膜的方法(例如專利文獻1)。藉由這種方法可獲得厚度較薄的偏光膜,所以能對近年之影像顯示裝置的薄型化有所貢獻而備受矚目。然而,偏光膜(最終為偏光板)卻有在加濕環境下光學特性降低之耐久性的問題。更具體地說,在加濕環境下,偏光膜之端部的偏光性能會消失,而有發生所謂褪色之現象的情形。
先前技術文獻 專利文獻 專利文獻1:日本專利特開2000-338329號公報
發明概要 發明欲解決之課題 本發明是為了解決上述課題而成者,其主要目的在於提供一種在加濕環境下仍能維持優良光學特性之偏光板。
用以解決課題之手段 本發明之偏光板具有:偏光膜,由含碘之聚乙烯醇系樹脂薄膜所構成;保護薄膜,配置於該偏光膜之至少單側;與密封部,用以覆蓋該偏光膜及該保護薄膜之周圍端面。 在一實施形態中,上述偏光膜之厚度為8μm以下。 在一實施形態中,上述密封部之透濕度為300g/m2
/24hr以下。 在一實施形態中,上述偏光板在85℃及85%RH環境下保持120小時後之褪色量為100μm以下。 在一實施形態中,上述密封部係由黏接著劑組成物所構成。在一實施形態中,上述密封部係由橡膠系黏著劑所構成。在該等實施形態中,上述密封部之厚度為10μm~100μm。 在一實施形態中,上述密封部係由含金屬化合物所構成。在此一實施形態中,上述密封部之厚度為10nm~200nm。 依據本發明之另一態樣,係提供一種偏光板之製造方法。該製造方法包含以下步驟:於樹脂基材之單側形成聚乙烯醇系樹脂層;將該樹脂基材與該聚乙烯醇系樹脂層之積層體延伸並染色,以將該聚乙烯醇系樹脂層製成偏光膜;將該樹脂基材與該偏光膜之積層體裁切成預定尺寸;及,以覆蓋裁切所得之積層體的外周端面之方式形成密封層;其中,該樹脂基材係作為保護薄膜發揮功能。 在一實施形態中,上述製造方法更包含以下步驟:於上述樹脂基材與上述偏光膜之積層體的該偏光膜表面貼合另一保護薄膜。 本發明之另一種偏光板之製造方法,包含以下步驟:於樹脂基材之單側形成聚乙烯醇系樹脂層;將該樹脂基材與該聚乙烯醇系樹脂層之積層體延伸並染色,以將該聚乙烯醇系樹脂層製成偏光膜;於該積層體之該偏光膜表面貼合保護薄膜;從貼合有該保護薄膜之積層體剝離樹脂基材;將該保護薄膜與該偏光體之積層體裁切成預定尺寸;以及,以覆蓋裁切所得之積層體的外周端面之方式形成密封層。 在一實施形態中,上述製造方法更包含以下步驟:於上述樹脂基材之剝離面貼合另一保護薄膜。
發明效果 根據本發明,藉由在偏光板的外周端面形成具有預定透濕度之密封部,可實現一種在加濕環境下仍能維持優良光學特性之偏光板。此種效果在具有薄型偏光膜之偏光板上尤其顯著。
用以實施發明之形態 以下說明本發明之實施形態,惟本發明不受該等實施形態限定。
A.偏光板之整體構造 圖1A為本發明之一實施形態之偏光板的概略截面圖,圖1B為圖1A之偏光板的概略俯視圖。偏光板100具有:偏光膜10;保護薄膜20,配置於偏光膜10之至少單側;與密封部30,用以覆蓋偏光膜10及保護薄膜20之周圍端面。在本發明之實施形態中,偏光膜係由含碘之聚乙烯醇系樹脂(以下稱之為「PVA系樹脂」)薄膜所構成。當偏光膜含有碘時,設置密封部之效果會變得顯著。偏光膜之厚度代表上為8μm以下。當偏光膜含有碘,並且其厚度如上述般相當薄時,由於偏光膜中碘之密度會提高,且加濕會使碘之穩定性易下降,故設置密封部之效果會變得更為顯著。在圖式例中,保護薄膜係被配置於偏光膜之單側(遠離顯示面板之側),但視目的等,也可將保護薄膜配置於偏光膜之顯示面板側,或者配置於兩側。在應用上,係設置黏著劑層40作為偏光板之顯示面板側最外層,偏光板即透過該黏著劑層貼合於顯示面板(例如液晶面板)300上。密封部30只要有覆蓋住偏光膜10及保護薄膜20之周圍端面即可,至於黏著劑層之周圍端面,可以覆蓋整體或部分覆蓋,也可以不覆蓋。在圖1A所示例中,密封部30係覆蓋住偏光膜10、保護薄膜20及黏著劑層40之周圍端面。另外,密封部30可以如圖1A所示,只覆蓋住偏光膜10及保護薄膜20之周圍端面,也可以如圖2所示,將周圍端面及周圍端面以外的部分一同覆蓋。在圖2所示例中,密封部30係將周圍端面與偏光板(實質上為保護薄膜)之遠離顯示面板之側的面(在圖式中為上表面)一同覆蓋。且該面如圖2所示可覆蓋整體,也可以只覆蓋預定部分。密封部之透濕度以300g/m2
/24hr以下為宜。
如上所述之偏光板在85℃及85%RH環境下保持120小時後之褪色量,以100μm以下為宜,以50μm以下為佳,以30μm以下更佳,以25μm以下特佳。褪色量之下限以0為佳,在一實施形態中為5μm。褪色量可如下算出:從偏光板(或偏光膜)裁切出預定尺寸之試驗片,且該試驗片形成分別與垂直於延伸方向之方向及延伸方向相對向之兩邊。另外,延伸方向在代表上係對應於偏光膜之吸收軸方向。延伸方向可對應於例如偏光板之長邊方向(輸送方向(MD方向))。接著,以黏著劑將試驗片貼合於玻璃板上,且將之放置於85℃及85%RH之烘箱內120小時並進行加濕。將加濕後的試驗片與標準偏光板配置成正交偏光之狀態後,以顯微鏡觀察加濕後的試驗片之端部的褪色狀態。具體而言,係測定從試驗片(偏光板或偏光膜)端部算起之褪色的大小(褪色量:μm)。如圖3所示,由從延伸方向的端部算起之褪色量a及從垂直於延伸方向之方向的端部算起之褪色量b之中,以數值較大者為褪色量。另外,褪色後的區域之偏光特性明顯較低,而實質上無法發揮偏光板之功能。因此,褪色量愈小愈佳。
本發明實施形態之偏光板可配置於顯示面板之視辨側、或與視辨側為相反之側、也可以將一對本發明實施形態之偏光板配置於兩側。
B.偏光膜 偏光膜10如上所述,係由含碘之PVA系樹脂薄膜所構成。
用以形成上述PVA系樹脂薄膜之PVA系樹脂可採用任意且適當之樹脂。可舉例如聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇共聚物。聚乙烯醇可藉由將聚乙酸乙烯酯皂化而得。乙烯-乙烯醇共聚物可藉由將乙烯-乙酸乙烯酯共聚物皂化而得。PVA系樹脂之皂化度通常為85莫耳%~100莫耳%,宜為95.0莫耳%~99.95莫耳%,更宜為99.0莫耳%~99.93莫耳%。皂化度係依JIS K 6726-1994而求得。藉由使用所述皂化度的PVA系樹脂,可獲得耐久性優異的偏光膜。皂化度太高時,會有膠化之虞。
PVA系樹脂的平均聚合度可按目的適當選擇。平均聚合度通常為1000~10000,宜為1200~5000,更宜為1500~4500。另,平均聚合度可按JIS K 6726-1994而求得。
如上所述,偏光膜含有碘。偏光膜實質上係一碘經吸附配向之PVA系樹脂薄膜。PVA系樹脂薄膜中之碘濃度,舉例而言為5.0重量%~12.0重量%。又,PVA系樹脂薄膜中之硼酸濃度,舉例而言為12重量%~25重量%。
PVA系樹脂薄膜(偏光膜)之厚度如上所述為8μm以下,宜為7μm以下,更宜為6μm以下。另一方面,PVA系樹脂薄膜之厚度,宜為1.0μm以上,更宜為2.0μm以上。
上述偏光膜宜於380nm~780nm之任意波長下展現吸收二色性。偏光膜之單體透射率宜為40.0%~46.0%,更宜為41.0%~45.0%。偏光膜之偏光度以99.9%以上為宜,以99.95%以上為佳,以99.98%以上更佳。將偏光板應用於反射型液晶顯示裝置或有機EL顯示裝置時,偏光膜之偏光度以90%以上為宜,以93%以上為佳,以95%以上為更佳。如上所述,藉由設置用以覆蓋偏光膜及保護薄膜之周圍端面的密封部,可同時兼顧所述優異光學特性(單體透射率及偏光度的平衡佳)以及優異耐久性(即便在加濕環境下仍能維持所述優異光學特性)。
C.保護薄膜 保護薄膜20係由可作為偏光膜之保護薄膜使用的任意且適當之薄膜構成。作為該薄膜之主成分的材料之具體例,可舉出三乙醯纖維素(TAC)等之纖維素樹脂、聚脂系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚降莰烯系、聚烯烴系、(甲基)丙烯酸系及乙酸酯系等之透明樹脂等。又,亦可舉出(甲基)丙烯酸系、胺甲酸酯系、(甲基)丙烯酸胺甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。其他亦可舉出例如矽氧烷系聚合物等之玻璃質系聚合物。並且,亦可使用日本專利特開2001-343529號公報(WO01/37007)所記載之聚合物薄膜。作為該薄膜之材料,例如可以使用含有在側鏈具有取代或非取代之醯亞胺基的熱可塑性樹脂與在側鏈具有取代或非取代之苯基及腈基的熱可塑性樹脂之樹脂組成物,且例如可舉出具有由異丁烯與N-甲基馬來醯亞胺構成之交互共聚物及丙烯腈-苯乙烯共聚物之樹脂組成物。該聚合物薄膜例如可為上述樹脂組成物之擠製成形物。
在本發明之實施形態中,用於偏光板之製造(後述於F項)的樹脂基材可直接作為保護薄膜使用。
如圖式例所示,將偏光板配置於顯示面板之視辨側,並且將保護薄膜配置於偏光膜之視辨側時,可因應需要對保護薄膜施行硬塗佈處理、抗反射處理、抗黏著處理、防眩處理等表面處理。
只要可獲得本發明之效果,保護薄膜之厚度即可採用任意且適當之厚度。保護薄膜之厚度,舉例而言為20μm~40μm,宜為25μm~35μm。另外,在施行有表面處理時,保護薄膜之厚度係包含表面處理層之厚度。
在偏光膜10與黏著劑層40之間配置另一保護薄膜(內側保護薄膜)時,該內側保護薄膜宜在光學上為各向同性。本說明書中「在光學上為各向同性」意指面內相位差Re(550)為0nm~10nm,且厚度方向之相位差Rth(550)為-10nm~+10nm。內側保護薄膜之Re(550)以0nm~8nm為宜,以0nm~6nm為佳,以0nm~3nm為更佳。內側保護薄膜之Rth(550)以-8nm~+8nm為宜,以-6nm~+6nm為佳,以-3nm~+3nm為更佳。另外,「Re(550)」係於23℃下以波長550nm之光測得之面內相位差。Re(550)可令層(薄膜)之厚度為d(nm)時,藉由式:Re(550)=(nx-ny)×d求得。又,「Rth(550)」係於23℃下以波長550nm之光測得之厚度方向的相位差。Rth(550)可令層(薄膜)之厚度為d(nm)時,藉由式:Rth(550)=(nx-nz)×d求得。
D.密封部 密封部30如上所述,係藉由覆蓋偏光膜及保護薄膜之周圍端面,使偏光板於加濕環境下仍能維持其光學特性,從而提升偏光板之耐久性。因此,密封部宜具有障蔽功能。本說明書中「具有障蔽功能」意指可控制進入偏光膜之氧及/或水蒸氣之透過量,以實質上使偏光膜與其等隔絕。
密封部如上所述具有障蔽性,代表上係具有對水分及氣體(例如氧)之障蔽性。密封部於40℃、90%RH條件下之水蒸氣透過率(透濕度),以300g/m2
/24hr以下為宜,以100g/m2
/24hr以下為佳,以50g/m2
/24hr以下為更佳,以25g/m2
/24hr以下為特佳。透濕度之下限舉例而言為0.01g/m2
/24hr,以未達檢測極限為宜。只要密封部之透濕度於如上所述之範圍內,即可良好地保護偏光膜免於與空氣中之水分及氧接觸。另外,透濕度可按JIS Z0208測定而得。
只要可滿足如上述特性,密封部可以任意且適當之材料構成。構成材料可舉例如黏接著劑組成物、含金屬化合物。本說明書中「黏接著劑組成物」以包含黏著劑(黏著劑組成物)及接著劑組成物兩者為宗旨。
黏著劑組成物可舉例如以橡膠系聚合物作為基礎聚合物之橡膠系黏著劑組成物。
橡膠系聚合物可舉例如:1種共軛二烯化合物聚合而得之共軛二烯系聚合物、2種以上之共軛二烯化合物聚合而得之共軛二烯系共聚物、共軛二烯化合物與芳香族乙烯基化合物共聚而得之共軛二烯系共聚物、以及其等之氫化物。
共軛二烯化合物只要是具有可進行聚合之共軛二烯的單體即無特別限定。共軛二烯化合物之具體例可舉如:1,3-丁二烯、異戊二烯、2,3-二甲基-1,3-丁二烯、1,3-戊二烯、3-甲基-1,3-戊二烯、1,3-庚二烯、1,3-己二烯。該等之中,由工業上取得之容易度之觀點視之,又以1,3-丁二烯、異戊二烯為佳。共軛二烯化合物可單獨使用,也可組合使用。
芳香族乙烯基化合物只要是具有可與共軛二烯化合物共聚之芳香族乙烯基結構之單體即無特別限定。芳香族乙烯基化合物之具體例可舉如:苯乙烯、對甲基苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基乙基苯、乙烯基二甲苯、乙烯基萘、二苯基乙烯等。該等之中,由工業上取得之容易度之觀點視之,又以苯乙烯為佳。芳香族乙烯基化合物可單獨使用,也可組合使用。
二烯系共聚物可以是無規共聚物,也可以是嵌段共聚物。又,也可使共軛二烯化合物、芳香族乙烯基化合物以外之化合物共聚來取得二烯系共聚物。
共軛二烯化合物與芳香族乙烯基化合物共聚而得之共軛二烯系共聚物,其共軛二烯化合物與芳香族乙烯基化合物之莫耳比宜為共軛二烯化合物/芳香族乙烯基化合物=10/90~90/10(莫耳%)。
此種共軛二烯系(共)聚合物之具體例可舉如:丁二烯橡膠(BR)、異戊二烯橡膠(IR)、苯乙烯-丁二烯共聚物(SBR)、丁二烯-異戊二烯-苯乙烯無規共聚物、異戊二烯-苯乙烯無規共聚物、苯乙烯-異戊二烯嵌段共聚物(SIS)、丁二烯-苯乙烯共聚物、苯乙烯-乙烯-丁二烯嵌段共聚物(SEBS)、丙烯腈-丁二烯橡膠(NBR)。該等可單獨使用,也可組合使用。該等中又以異戊二烯-苯乙烯共聚物為佳。又,也可適用該等之氫化物。
橡膠系聚合物除了共軛二烯系(共)聚合物之外,亦可使用異丁烯(IB)、苯乙烯-異丁烯-苯乙烯嵌段共聚物(SIBS)、苯乙烯-乙烯丙烯共聚物-苯乙烯嵌段共聚物等。橡膠系聚合物可單獨使用,也可組合使用。
本發明中可使用之橡膠系聚合物,宜在橡膠系聚合物整體中含有50重量%以上之上述共軛二烯系(共)聚合物,且以含70重量%以上為佳,80重量%以上更佳,90重量%以上特佳。共軛二烯系(共)聚合物之含量上限並無特別限制,也可為100重量%(亦即僅由共軛二烯系(共)聚合物構成之橡膠系聚合物)。
如上所述,黏著劑組成物係含有橡膠系聚合物作為基礎聚合物。黏著劑組成物中橡膠系聚合物之含量以40重量%以上為宜、以50重量%以上為佳、以60重量%以上更佳。橡膠系聚合物之含量上限並無特別限定,舉例而言為90重量%以下。
黏著劑組成物除了橡膠系聚合物之外,也可更含有任意且適當之添加劑。添加劑之具體例可舉如:交聯劑(例如聚異氰酸酯、環氧化合物、烷基醚化三聚氰胺化合物等)、增黏劑(例如松香衍生物樹脂、多萜樹脂、石油樹脂、脂溶性酚樹脂、乙烯基甲苯樹脂等)、可塑劑、填充劑(例如層狀矽酸鹽、黏土材料等)、抗氧化劑。添加於黏著劑組成物中之添加劑種類、組合、添加量等,可按目的作適當設定。黏著劑組成物中之添加劑含量(總量)以60重量%以下為宜、以50重量%以下為佳、以40重量%以下為更佳。
接著劑組成物代表上可舉如活性能量射線硬化型接著劑組成物及熱硬化型接著劑組成物。活性能量射線硬化型接著劑組成物可舉例如光(例如紫外線)硬化型接著劑組成物、電子射線硬化型接著劑組成物。活性能量射線硬化型接著劑組成物可視需要選擇自由基硬化型、陽離子硬化型、陰離子硬化型等,也可適當組合譬如自由基硬化型與陽離子硬化型之混合型等來使用。
在一實施形態中,接著劑組成物係紫外線硬化型接著劑組成物。紫外線硬化型接著劑組成物,舉例而言可適用日本專利特開2013-227419號公報中所記載之接著劑組成物。本說明書中係援用該公報之記載作為參考。
密封部由黏接著劑組成物所構成時,其厚度舉例而言為10μm~100μm左右,以15μm~70μm為宜,以20μm~55μm為佳,以25μm~50μm更佳。另外,本說明書中「密封部之厚度」意指從偏光膜及保護薄膜之周圍端面沿外側延伸之方向的厚度,係對應於如圖1B所示俯視時之寬度。
含金屬化合物可舉例如金屬元素、合金以及該等之氧化物。金屬元素可舉例如鋁、金、銀、銅、鐵、錫、銦、鋅、鎳、銻、鉬、鉻、鎢及鉛。合金係含有2種以上之該等金屬元素。金屬氧化物可舉例如氧化銀、氧化銦、氧化錫、氧化鋅、銦錫複合氧化物、錫銻複合氧化物、鋅鋁複合氧化物、銦鋅複合氧化物。以銦錫複合氧化物為佳。
當密封部由含金屬化合物所構成時,其厚度舉例而言可為10nm~200nm左右。
E.黏著劑層 黏著劑層40係由任意且適當之黏著劑所構成。黏著劑之代表例可舉如丙烯酸系黏著劑。黏著劑層之厚度,舉例而言為20μm~100μm。
F.偏光板之製造方法 F-1.偏光膜之製造 本發明之一實施形態之偏光板之製造方法,代表上包含以下步驟:於樹脂基材之單側形成PVA系樹脂層;及,將該樹脂基材與該PVA系樹脂層之積層體延伸並染色,以將該PVA系樹脂層製成偏光膜。在另一實施形態中,也可製作樹脂基材與PVA系樹脂薄膜之積層體,並將該積層體染色,以將該PVA系樹脂薄膜製成偏光膜。又在另一實施形態中,也可將單一PVA系樹脂薄膜延伸並染色,以將該PVA系樹脂薄膜製成偏光膜。以下作為代表例,針對包含於樹脂基材之單側形成PVA系樹脂層之步驟之製造方法進行說明。
F-1-1.PVA系樹脂層之形成 PVA系樹脂層之形成方法可採用任意且適當之方法。較佳的是於樹脂基材上塗佈包含PVA系樹脂之塗佈液並使其乾燥來形成PVA系樹脂層。
上述樹脂基材之形成材料可採用任意且適當的熱可塑性樹脂。熱可塑性樹脂可舉例如聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂等酯系樹脂、降莰烯系樹脂等環烯烴系樹脂、聚丙烯等烯烴系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、其等之共聚物樹脂等。這些當中,較理想的是降莰烯系樹脂、非晶質之聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂。
在一實施形態中,宜使用非晶質之(未結晶化之)聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂。其中,尤宜使用非晶性之(難以結晶化之)聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂。非晶性之聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂之具體例可舉更包含異酞酸作為二羧酸之共聚物、或更含有環己烷二甲醇作為甘醇之共聚物。
在後述之延伸中採用水中延伸方式時,上述樹脂基材會吸收水,而水可發揮可塑劑之功能進行可塑化。結果可大幅降低延伸應力,而可高倍率延伸,從而可獲得比空中延伸時更優異之延伸性。結果可製作出具有優異光學特性之偏光膜。在一實施形態中,樹脂基材之吸水率宜為0.2%以上,更宜為0.3%以上。另一方面,樹脂基材之吸水率宜為3.0%以下,更宜為1.0%以下。藉由使用此種樹脂基材,可防止製造時因尺寸穩定性顯著降低而造成所製得之偏光膜的外觀惡化等不良情況。並可防止基材於水中延伸時斷裂、或PVA系樹脂層從樹脂基材剝離之情況。另外,樹脂基材之吸水率,舉例而言可藉由將改質基導入形成材料中來調整。吸水率係按JIS K 7209所求得之值。
樹脂基材之玻璃轉移溫度(Tg)宜為170℃以下。藉由使用此種樹脂基材,可抑制PVA系樹脂層之結晶化,同時充分確保積層體之延伸性。另外,考慮到利用水使樹脂基材可塑化、以及可良好進行水中延伸,更宜為120℃以下。在一實施形態中,樹脂基材之玻璃轉移溫度宜為60℃以上。藉由使用此種樹脂基材,可防止在塗佈、乾燥包含上述PVA系樹脂之塗佈液時,發生樹脂基材變形(發生例如凹凸、塌凹或起皺等)等不良情況,從而良好地製作出積層體。又,PVA系樹脂層的延伸可在適當的溫度(例如60℃左右)下良好地進行。在另一實施形態中,在塗佈、乾燥包含PVA系樹脂之塗佈液時,只要樹脂基材不變形,玻璃轉移溫度也可低於60℃。另外,樹脂基材之玻璃轉移溫度,舉例而言可藉由使用可將改質基導入形成材料之結晶化材料進行加熱來調整。玻璃轉移溫度(Tg)是依據JIS K 7121求出之值。
樹脂基材延伸前之厚度宜為20μm~300μm,更宜為50μm~200μm。若低於20μm,恐難以形成PVA系樹脂層。若超過300μm,譬如在水中延伸時樹脂基材恐需要較長時間來吸水而對延伸造成過大的負荷。
上述塗佈液代表上係已使上述PVA系樹脂溶解於溶劑中之溶液。作為溶劑,可舉例如水、二甲基亞碸、二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯啶酮、各種甘醇類、三羥甲丙烷等多元醇類、伸乙二胺、二伸乙三胺等胺類。該等可單獨使用或可將二種以上組合使用。該等中又以水為佳。相對於溶劑100重量份,溶液之PVA系樹脂濃度宜為3重量份~20重量份。只要為所述樹脂濃度,便可形成密著於樹脂基材且均勻的塗佈膜。
塗佈液中亦可摻混添加劑。添加劑可舉如可塑劑、界面活性劑等。可塑劑可舉例如乙二醇或丙三醇等多元醇。界面活性劑可舉例如非離子性界面活性劑。該等可為了進一步提升所得PVA系樹脂層的均勻性或染色性、延伸性而使用。又,添加劑可舉如易接著成分。藉由使用易接著成分,可提升樹脂基材與PVA系樹脂層之密著性。結果可抑制譬如PVA系樹脂層從基材剝離等不良情況,從而良好地進行後述之染色、水中延伸。易接著成分,舉例而言可使用乙醯乙醯基改質PVA等之改質PVA。
塗佈液之塗佈方法可採用任意且適當的方法。例如可舉出輥塗法、旋塗法、線棒塗佈法、浸塗法、模塗法、淋幕式塗佈法、噴塗法、刮刀式塗佈法(逗號塗佈法等)等。
上述塗佈液之塗佈、乾燥溫度宜為50℃以上。
在形成PVA系樹脂層之前,可對樹脂基材施行表面處理(例如電暈處理等),也可於樹脂基材上形成易接著層。藉由進行所述處理,可提升樹脂基材與PVA系樹脂層之密著性。
上述PVA系樹脂層(延伸前)之厚度宜為3μm~20μm。
F-1-2.延伸 積層體之延伸方法可採用任意且適當之方法。具體而言,可為固定端延伸,亦可為自由端延伸(例如使積層體通過周速相異之輥間進行單軸延伸的方法)。以自由端延伸為宜。
積層體之延伸方向可適宜設定。在一實施形態中,係沿著長條狀積層體的長邊方向延伸。此時,在代表上採用使積層體通過周速相異之輥間進行延伸之方法。在另一實施形態係沿著長條狀積層體的寬度方向延伸。此時,在代表上採用以拉幅延伸機進行延伸之方法。
延伸方式並無特別限定,可採用空中延伸方式,也可採用水中延伸方式。以水中延伸方式為宜。藉由水中延伸方式,可在低於上述樹脂基材或PVA系樹脂層之玻璃轉移溫度(代表上係80℃左右)的溫度下進行延伸,從而可在抑制PVA系樹脂層之結晶化的同時,以高倍率進行延伸。結果可製作出具有優異光學特性之偏光膜。
積層體之延伸可在一階段中進行亦可分多階段進行。分多階段進行時,舉例而言可組合上述自由端延伸與固定端延伸,也可組合上述水中延伸方式與空中延伸方式。分多階段進行時,後述積層體之延伸倍率(最大延伸倍率)為各階段之延伸倍率之積。
積層體之延伸溫度可視樹脂基材之形成材料、延伸方式等,設定為任意且適當之值。採用空中延伸方式時,延伸溫度以樹脂基材之玻璃轉移溫度(Tg)以上為宜,以樹脂基材之玻璃轉移溫度(Tg)+10℃以上為佳,以Tg+15℃以上為特佳。另一方面,積層體之延伸溫度宜為170℃以下。藉由在所述溫度下延伸可抑制PVA系樹脂之結晶化快速進展,從而可抑制該結晶化所造成的不良情況(譬如,因延伸而妨礙PVA系樹脂層之配向)。
採用水中延伸方式時,延伸浴之液溫為60℃以上,宜為65℃~85℃,更宜為65℃~75℃。只要在所述溫度內,便可抑制PVA系樹脂層溶解,同時又可高倍率延伸。具體而言如上所述,由與PVA系樹脂層之形成之關係,樹脂基材之玻璃轉移溫度(Tg)宜為60℃以上。此時,延伸溫度若低於60℃,即使考慮利用水使樹脂基材可塑化,也恐無法良好延伸。另一方面,延伸浴之溫度愈高溫,PVA系樹脂層之溶解性就愈高,而恐無法獲得優異的光學特性。積層體浸漬於延伸浴的浸漬時間宜為15秒~5分鐘。
採用水中延伸方式時,以將積層體浸漬於硼酸水溶液中進行延伸之方式為宜(硼酸水中延伸)。藉由使用硼酸水溶液作為延伸浴,可對PVA系樹脂層賦予得以承受延伸時所受張力的剛性及不溶解於水的耐水性。具體上,硼酸在水溶液中會生成四羥基硼酸陰離子而可藉由氫鍵與PVA系樹脂交聯。結果可賦予PVA系樹脂層剛性及耐水性,進行良好地延伸,從而製作出具有優異光學特性之偏光膜。
上述硼酸水溶液宜使硼酸及/或硼酸鹽溶解於溶劑亦即水而獲得。在本發明中,硼酸濃度為4.5重量%以下,宜為2.0重量%~4.5重量%,更宜為2.5重量%~4.0重量%。此外,除硼酸或硼酸鹽外,亦可使用將硼砂等之硼化合物、乙二醛、戊二醛等溶解於溶劑而得之水溶液。
若已預先藉由後述之染色使二色性物質(以碘為代表)吸附於PVA系樹脂層上時,宜於上述延伸浴(硼酸水溶液)中摻混碘化物。藉由摻混碘化物,可抑制已吸附於PVA系樹脂層之碘的溶出。碘化合物可舉出例如:碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫、碘化鈦等。該等之中又以碘化鉀為佳。相對於水100重量份,碘化物之濃度宜為0.05重量份~15重量份,更宜為0.5重量份~8重量份。
積層體之延伸倍率(最大延伸倍率)相對於積層體原長宜為5.0倍以上。所述高延伸倍率,舉例而言可藉由採用水中延伸方式(硼酸水中延伸)來達成。另,本說明書中「最大延伸倍率」意指積層體將要斷裂前的延伸倍率,係另外確認積層體斷裂的延伸倍率後得以比其值低0.2之值。
在一實施形態中,係將上述積層體於高溫(例如95℃以上)下進行空中延伸之後,再進行上述硼酸水中延伸及後述之染色。由於此種空中延伸可定義為相對於硼酸水中延伸為預備性或輔助性之延伸,故以下稱之為「空中輔助延伸」。
藉由組合空中輔助延伸,有時可以更高倍率延伸積層體。結果可製作出具有更優異光學特性(例如偏光度)之偏光膜。舉例而言,使用聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂作為上述樹脂基材時,相較於只以硼酸水中延伸進行延伸而言,組合空中輔助延伸及硼酸水中延伸進行延伸更可在抑制樹脂基材之配向的同時進行延伸。該樹脂基材隨著提升其配向性的同時,其延伸張力也會增加,從而難以達成穩定之延伸,或發生斷裂。因此,在抑制樹脂基材之配向的同時進行延伸,可以更高倍率延伸積層體。
又,藉由組合空中輔助延伸可提升PVA系樹脂之配向性,藉此可在進行硼酸水中延伸後仍能使PVA系樹脂之配向性提升。具體而言,吾等推測藉由以空中輔助延伸預先提升PVA系樹脂之配向性,可使PVA系樹脂在硼酸水中延伸時變得易於與硼酸交聯,在硼酸成為鏈聯點之狀態下進行延伸,而可在硼酸水中延伸後仍能提升PVA系樹脂之配向性。結果可製作出具有優異光學特性(例如偏光度)之偏光膜。
空中輔助延伸之延伸倍率宜為3.5倍以下。空中輔助延伸之延伸溫度宜為PVA系樹脂之玻璃轉移溫度以上。延伸溫度宜為95℃~150℃。另外,組合空中輔助延伸與上述硼酸水中延伸時之最大延伸倍率,相對於積層體原長以5.0倍以上為宜,以5.5倍以上為佳,以6.0倍以上為更佳。
F-1-3.染色 PVA系樹脂層之染色,代表上係藉由使碘吸附於PVA系樹脂層來進行。該吸附方法可舉如:使PVA系樹脂層(積層體)浸漬於含碘之染色液中的方法、將該染色液塗敷於PVA系樹脂層上的方法、及將該染色液噴霧至PVA系樹脂層上的方法等。宜採用使PVA系樹脂層(積層體)浸漬於染色液中的方法。其是因為可良好吸附碘之故。
上述染色液宜為碘水溶液。相對於水100重量份,碘之摻混量宜為0.1重量份~0.5重量份。為了提高碘對水的溶解度,宜於碘水溶液中摻混碘化物。碘化物之具體例係如上述。相對於水100重量份,碘化物之摻混量宜為0.02重量份~20重量份,較宜為0.1重量份~10重量份。為了抑制PVA系樹脂溶解,染色液於染色時的液溫宜為20℃~50℃。使PVA系樹脂層浸漬於染色液時,為了確保PVA系樹脂層之透射率,浸漬時間宜為5秒~5分鐘。又,染色條件(濃度、液溫、浸漬時間)可以使最終所得偏光膜之偏光度或單體透射率成為預定範圍內的方式進行設定。在一實施形態中係以使所得偏光膜之偏光度成為99.98%以上的方式來設定浸漬時間。在另一實施形態中則以使所得偏光膜之單體透射率成為40.0%~42.5%的方式來設定浸漬時間。
染色處理可於任意且適當之時機進行。進行上述水中延伸時,則宜於水中延伸前進行。
F-1-4.其他處理 上述PVA系樹脂層(積層體)除了延伸及染色之外,也可適當施行用以將其製成偏光膜的處理。用以製成偏光膜的處理可舉如不溶解處理、交聯處理、洗淨處理、乾燥處理等。又,該等處理之次數、順序等無特別限定。
上述不溶解處理,代表上係藉由將PVA系樹脂層(積層體)浸漬於硼酸水溶液中來進行。藉由施行不溶解處理,可賦予PVA系樹脂層耐水性。相對於水100重量份,該硼酸水溶液之濃度宜為1重量份~4重量份。不溶解浴(硼酸水溶液)之液溫宜為20℃~50℃。不溶解處理宜於上述水中延伸或上述染色處理前進行。
上述交聯處理,代表上係藉由將PVA系樹脂層(積層體)浸漬於硼酸水溶液中來進行。藉由施行交聯處理,可賦予PVA系樹脂層耐水性。相對於水100重量份,該硼酸水溶液之濃度宜為1重量份~5重量份。又,於上述染色處理後進行交聯處理時,宜進一步摻混碘化物。藉由摻混碘化物,可抑制已吸附於PVA系樹脂層之碘的溶出。而相對於水100重量份,碘化物之摻混量宜為1重量份~5重量份。碘化物之具體例係如上述。交聯浴(硼酸水溶液)之液溫宜為20℃~60℃。交聯處理宜於上述水中延伸前進行。較理想的實施形態係依序進行空中延伸、染色處理及交聯處理。
上述洗淨處理,代表上係藉由將PVA系樹脂層(積層體)浸漬於碘化鉀水溶液中來進行。上述乾燥處理之乾燥溫度宜為30℃~100℃。
經由以上程序而於樹脂基材上形成偏光膜。
F-2.關於樹脂基材及保護薄膜 在一實施形態中,上述F-1項中所獲得之樹脂基材與偏光膜之積層體係供後述密封部之形成使用。此時,於所獲得之偏光板中,於偏光膜之單側的樹脂基材可發揮保護薄膜之功能。在另一實施形態中,係於樹脂基材(保護薄膜)與偏光膜之積層體的偏光膜表面貼合保護薄膜(為方便起見,將此保護薄膜稱為另一保護薄膜)。所獲得之樹脂基材(保護薄膜)/偏光膜/另一保護薄膜之積層體係供後述密封部之形成使用。此時,於所獲得之偏光板中,係於偏光膜之兩側配置保護薄膜。又在另一實施形態中,係於樹脂基材與偏光膜之積層體的偏光膜表面貼合保護薄膜後,接著將樹脂基材剝離去除。所獲得之偏光膜/保護薄膜之積層體係供後述密封部之形成使用。又在另一實施形態中,係於上述偏光膜/保護薄膜之積層體的偏光膜表面(樹脂基材剝離面)貼合另一保護薄膜,而保護薄膜/偏光膜/另一保護薄膜之積層體係供後述密封部之形成使用。
F-3.密封部之形成 於上述F-2項中所獲得之積層體上形成密封部。代表上,密封部係於將積層體裁切成預定尺寸後形成。更具體地說,係形成黏著劑層作為積層體之顯示面板側最外層。視需要,可至實際使用該黏著劑層之前暫時使分隔件附著於該黏著劑層表面保護之。接著,將積層體裁切成預定尺寸。裁切可以任意且適當之手段或方法進行。
於經上述所獲得之預定尺寸的積層體上形成密封部。密封部係以可覆蓋積層體(偏光膜及保護薄膜)之外周端面之方式形成。密封部可在將積層體載置於基材上之狀態下形成,也可在將積層體貼合於顯示面板上之狀態下形成。以下分別說明以黏接著劑組成物形成密封部時之情形,以及以含金屬化合物形成密封部時之情形。
以黏接著劑組成物形成密封部時,代表上密封部係藉由將黏接著劑組成物配置成可覆蓋積層體之外周端面之方式來形成。密封部可藉由將液態(硬化前)之接著劑組成物塗佈於預定之位置並使之硬化來形成,也可藉由將片狀之黏著劑組成物配置(代表上為貼合)於預定之位置來形成。如上所述,密封部可在將積層體載置於基材上之狀態下形成,也可在將積層體貼合於顯示面板上之狀態下形成。在將積層體載置於基材上之狀態下形成密封部時,該基材可採用任意且適當之基材。具體例可舉如樹脂薄膜、薄玻璃。代表上,基材具有比積層體更大之尺寸,並且規範有一自積層體外周延伸而出的延出部。延出部即為黏接著劑組成物之配置區域。也可將上述分隔件作為基材使用。此時,在裁切附有分隔件之積層體時,係裁切成使周緣部只留分隔件(以結果論,亦即使延出部形成)即可。經由以上程序,即可使本發明之實施形態之偏光板形成於基材上。所獲得之偏光板係透過黏著劑層貼合於顯示面板上。結果即為如圖1A及圖2所示之構造。視需要,可將基材剝離去除。
在將積層體貼合於顯示面板上之狀態下形成密封部時,以透過黏著劑層將積層體貼合於顯示面板上,覆蓋其外周端面之方式來形成密封部即可。形成方法係如上述。藉此,即可使本發明之實施形態之偏光板形成於顯示面板上。結果即為如圖1A及圖2所示之構造。
黏接著劑組成物可配置成只覆蓋積層體之外周端面(最終為如圖1A所示之構造),也可配置成一併覆蓋外周端面與遠離顯示面板之側的面。在將黏接著劑組成物配置成連積層體之該面都覆蓋時,可配置成覆蓋該面整體(最終為如圖2所示之構造),也可配置成只覆蓋該面之預定部分。
以含金屬化合物形成密封部時,代表上密封部可藉由蒸鍍法或塗佈法形成。以可製得密著性高且均勻之薄膜來看宜為蒸鍍法。蒸鍍法之代表例可舉如真空蒸鍍、離子鍍、濺鍍等PVD(物理氣相蒸鍍法)、以及CVD(化學氣相蒸鍍法)。宜為濺鍍。以含金屬化合物形成密封部時,亦與以黏接著劑組成物形成時相同,密封部可在將積層體載置於基材上之狀態下形成,也可在將積層體貼合於顯示面板上之狀態下形成。 實施例
以下,以實施例來具體說明本發明,惟本發明不受該等實施例限定。又,各特性之測定方法如以下所述。
(1)厚度 使用了含金屬化合物之密封部厚度係使用大塚電子製MCPD2000,以干涉膜厚測定法測定進行測定。使用了黏著劑之密封部以及作為偏光板之構成要素的各種薄膜之厚度,係使用數位測微器(Anritsu公司製KC-351C)測定。 (2)透濕度 使用於實施例及比較例調製而得之黏著劑組成物,依循實施例所記載之方法,而形成厚度50μm之黏著片。接著,剝除黏著片之其中一剝離襯材使黏著面露出後,透過該黏著面,將黏著片貼合於三乙醯纖維素薄膜(TAC薄膜,厚度:25μm,Konica Minolta(股)製)上,並裁切成10cmΦ之圓狀。最後,將另一剝離襯材剝除,即獲得測定用樣本。並對所獲得之測定用樣本以透濕度試驗方法(透濕杯法(cup method),以JIS Z 0208為準)測定透濕度(水蒸氣透過率)。另外,測定條件如下所述。又,測定時使用了恆溫恆濕槽。 測定溫度:40℃ 相對濕度:92% 測定時間:24小時 (3)褪色量 從實施例及比較例所獲得之偏光板裁切出試驗片(50mm×50mm),且該試驗片形成分別與垂直於延伸方向之方向及延伸方向相對向之兩邊。以黏著劑將試驗片貼合於玻璃板上,並將之放置於85℃及85%RH之烘箱內120小時進行加濕,接著將其與標準偏光板配置成正交偏光之狀態後,以顯微鏡觀察加濕後的偏光膜端部之褪色狀態。具體而言,係測定了從偏光膜端部算起之褪色的大小(褪色量:μm)。顯微鏡係使用Olympus公司製之MX61L,並從以10倍之倍率下所拍攝之影像測定了褪色量。如圖3所示,由從延伸方向的端部算起之褪色量a及從垂直於延伸方向之方向的端部算起之褪色量b之中,以數值較大者為褪色量。
[實施例1] 樹脂基材使用了長條狀、吸水率0.60%、Tg80℃、彈性係數2.5GPa之非晶質聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(厚度:100μm)。 對樹脂基材之單側施行電暈處理(處理條件:55W・min/m2
),並在常溫下於此電暈處理面塗佈含有90重量份之聚乙烯醇(聚合度4200,皂化度99.2莫耳%)、10重量份之乙醯乙醯基改質PVA(聚合度1200、乙醯乙醯基改質度約5%、皂化度99.0莫耳%以上,日本合成化學工業公司製,商品名「GOHSEFIMER Z200」)、以及13重量份之碘化鉀的水溶液,置於60℃環境下乾燥,形成厚度13μm之PVA系樹脂層,而製作出了積層體。
在140℃之烘箱內,使所獲得之積層體在周速相異的輥間沿縱方向(長邊方向)進行自由端單軸延伸2.4倍(空中輔助延伸)。 接著,將積層體浸漬於液溫30℃的不溶解浴(相對於水100重量份,摻混4重量份之硼酸而得的硼酸水溶液)中30秒(不溶解處理)。 接著,使其浸漬於液溫30℃之染色浴(相對於水100重量份,摻混0.4重量份之碘,並摻混3.0重量份之碘化鉀而獲得之碘水溶液)中60秒(染色處理)。 接著,使其浸漬於液溫30℃的交聯浴(相對於水100重量份,摻混3重量份的碘化鉀並摻混3重量份的硼酸而獲得之硼酸水溶液)中30秒(交聯處理)。 然後,一邊使積層體浸漬於液溫70℃的硼酸水溶液(硼酸濃度3.0重量%)中,一邊在周速相異的輥間沿縱方向(長邊方向)進行單軸延伸以使總延伸倍率達5.5倍(水中延伸)。 之後,將積層體浸漬於液溫30℃的洗淨浴(相對於水100重量份摻混4重量份的碘化鉀而獲得之水溶液)中(洗淨處理)。 經由以上程序,於樹脂基材上形成了厚度5μm之偏光膜。
於樹脂基材與偏光膜之積層體的偏光膜表面形成丙烯酸系黏著劑層(厚度:25μm)之後,將其裁切成50mm×50mm,並透過黏著劑層貼合於70mm×70mm之玻璃板上。 並配置具有24g/m2
/24hr之透濕度的片狀黏著劑(厚度25μm),使其覆蓋玻璃板上之積層體的外周端面,而製成密封部。該黏著劑係相對於100重量份之苯乙烯-乙烯丙烯共聚物-苯乙烯之嵌段共聚物 (Kuraray公司製,商品名「SEPTON 2063」,苯乙烯含量:13重量%) ,摻混10重量份之聚丁烯(JX日礦日石能源公司製,「商品名「日石Polybutene HV-300」」、40重量份之萜酚增黏劑(YASUHARA CHEMICAL公司製,商品名「YS Polyster TH130」)、以及芳香族增黏劑(Eastman Chemical公司製,商品名「Piccolastic A5」)製作而得。經由以上程序,於玻璃板上製作出具有密封部之偏光板。將所獲得之偏光板供於評估上述褪色量。結果列於表1。另外,將褪色之狀態顯示於圖4。
[實施例2] 使用透濕度為12g/m2
/24hr之黏著劑(厚度50μm)來形成密封部,除此之外依與實施例1相同方式,而於玻璃板上製作出具有密封部之偏光板。將所獲得之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。結果列於表1。
[實施例3] 積層片狀黏著劑(厚度25μm)使其覆蓋玻璃板上之積層體上表面整面及外周端面,除此之外依與實施例1相同方式,而於玻璃板上製作出具有密封部之偏光板。並於黏著劑上積層厚度1mm之蓋玻璃,而獲得附有蓋玻璃之偏光板。將所獲得之偏光板供於評估上述褪色量。結果列於表1。
[實施例4] 在使PVA系樹脂薄膜(Kuraray公司製,商品名「PE-6000」,厚度:60μm、平均聚合度:2,400、皂化度99.9莫耳%)浸漬於30℃水浴中1分鐘並沿輸送方向延伸1.2倍之後,浸漬於碘濃度0.04重量%、鉀濃度0.3重量%之30℃水溶液中進行染色,並以完全未延伸之薄膜(原長)為基準將其延伸2倍。然後,將該延伸薄膜浸漬於硼酸濃度3重量%、碘化鉀濃度3重量%之30℃的水溶液中,並以原長為基準進一步延伸至3倍,接著浸漬於硼酸濃度4重量%、碘化鉀濃度5重量%之60℃的水溶液中,並以原長為基準進一步延伸至6倍,再以70℃乾燥2分鐘,藉此而獲得厚度23μm之偏光膜。接著,於偏光膜兩面塗佈PVA系樹脂水溶液(日本合成化學工業公司製,商品名「GOHSEFIMER(註冊商標)Z-200」,樹脂濃度:3重量%),並分別貼合環烯烴系薄膜(日本Zeon公司製,Zeonor ZF14,厚度:13μm)及三乙醯纖維素薄膜(Konica Minolta公司製,KC4UY),再以經維持於60℃之烘箱加熱5分鐘而獲得偏光板。後續依與實施例2相同方式,而獲得具有密封部之偏光板。將所獲得之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。結果列於表1。
[比較例1] 除了不形成密封部外,依與實施例1相同方式,而於玻璃板上製作出偏光板。將所獲得之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。結果列於表1。另外,將褪色之狀態顯示於圖5。
[比較例2] 使用用以形成黏著劑層之丙烯酸系黏著劑(透濕度:4500g/m2
/24hr形成密封部,除此之外依與實施例1相同方式,而於玻璃板上製作出具有密封部之偏光板。將所獲得之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。結果列於表1。
[比較例3] 以只覆蓋玻璃板上之積層體上表面(具體而言,係使尺寸與積層體相同之黏著劑片與積層體之外周端一致)之方式進行積層,除此之外依與實施例3相同方式,而製得附有蓋玻璃之偏光板。將所獲得之偏光板供於評估上述褪色量。結果列於表1。
[比較例4] 除了不形成密封部之外,依與實施例3相同方式,而於玻璃板上製作出偏光板。將所獲得之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。結果列於表1。
[表1]
由表1可明顯得知,藉由於偏光板之外周端面上形成具有預定透濕度之密封部,可獲得在加濕環境下仍能維持優良光學特性之偏光板。
產業上之可利用性 本發明之偏光板可適用於液晶電視、液晶顯示器、行動電話、數位相機、數位攝影機、手持式遊戲機、汽車導航、影印機、印表機、傳真機、時鐘、微波爐等之液晶面板上。
10‧‧‧偏光膜
20‧‧‧保護薄膜
30‧‧‧密封部
40‧‧‧黏著劑層
100‧‧‧偏光板
300‧‧‧顯示面板
圖1A為本發明之一實施形態之偏光板的概略截面圖。 圖1B為圖1A之偏光板的概略俯視圖。 圖2為本發明之另一實施形態之偏光板之概略截面圖。 圖3為用以說明算出褪色量的示意圖。 圖4為顯示實施例1之偏光板在加濕試驗後之褪色量的影像。 圖5為顯示比較例1之偏光板在加濕試驗後之褪色量的影像。
Claims (10)
- 一種偏光板,具有:偏光膜,由含碘之聚乙烯醇系樹脂薄膜構成;保護薄膜,配置於該偏光膜之至少單側;與密封部,用以覆蓋該偏光膜及該保護薄膜之周圍端面;該密封部於40℃、90%RH條件下之透濕度為300g/m2/24hr以下,該密封部係由黏著劑組成物所構成。
- 如請求項1之偏光板,其中前述偏光膜之厚度為8μm以下。
- 如請求項1之偏光板,其於85℃及85%RH環境下保持120小時後之褪色量為100μm以下。
- 如請求項1之偏光板,其中前述密封部係由橡膠系黏著劑組成物所構成。
- 如請求項4之偏光板,其中前述橡膠系黏著劑含有60重量%以上的橡膠系聚合物,且該橡膠系聚合物含有50重量%以上的共軛二烯系聚合物及/或共軛二烯系共聚合物。
- 如請求項4之偏光板,其中前述密封部之厚度為10μm~100μm。
- 一種偏光板之製造方法,包含以下步驟:於樹脂基材之單側形成聚乙烯醇系樹脂層;將該樹脂基材與該聚乙烯醇系樹脂層之積層體延伸並染色,以將該聚乙烯醇系樹脂層製成偏光膜;將該樹脂基材與該偏光膜之積層體裁切成預定尺寸;及以覆蓋裁切所得之積層體的外周端面之方式形成密封層;該密封部係由黏著劑組成物所構成,該密封部於40℃、90%RH條件下之透濕度為300g/m2/24hr以下;且該樹脂基材係作為保護薄膜發揮功能。
- 如請求項7之偏光膜之製造方法,其更包含以下步驟:於前述樹脂基材與前述偏光膜之積層體的該偏光膜表面貼合另一保護薄膜。
- 一種偏光板之製造方法,包含以下步驟:於樹脂基材之單側形成聚乙烯醇系樹脂層;將該樹脂基材與該聚乙烯醇系樹脂層之積層體延伸並染色,以將該聚乙烯醇系樹脂層製成偏光膜;於該積層體之該偏光膜表面貼合保護薄膜;從貼合有該保護薄膜之積層體剝離樹脂基材;將該保護薄膜與該偏光膜之積層體裁切成預定尺寸;及以覆蓋裁切所得之積層體的外周端面之方式形成密封層;該密封部係由黏著劑組成物所構成,該密封部於40℃、90%RH條件下之透濕度為300g/m2/24hr以下。
- 如請求項9之偏光膜之製造方法,其更包含以下步驟:於前述樹脂基材之剝離面貼合另一保護薄膜。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017037340 | 2017-02-28 | ||
JP2017-037340 | 2017-02-28 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201840433A TW201840433A (zh) | 2018-11-16 |
TWI663055B true TWI663055B (zh) | 2019-06-21 |
Family
ID=63370770
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW107106565A TWI663055B (zh) | 2017-02-28 | 2018-02-27 | Polarizing plate and manufacturing method of polarizing plate |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7137554B2 (zh) |
KR (1) | KR102593490B1 (zh) |
CN (1) | CN110337601A (zh) |
TW (1) | TWI663055B (zh) |
WO (1) | WO2018159376A1 (zh) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7355036B2 (ja) * | 2018-12-10 | 2023-10-03 | 日本ゼオン株式会社 | 積層体及びその製造方法、円偏光板、表示装置並びにタッチパネル |
CN111562642A (zh) * | 2019-02-14 | 2020-08-21 | 住友化学株式会社 | 带有粘合剂层的光学层叠膜及其制造方法 |
JP7421276B2 (ja) * | 2019-06-25 | 2024-01-24 | 日東電工株式会社 | 偏光膜、偏光板、および該偏光膜の製造方法 |
JP2021043370A (ja) * | 2019-09-12 | 2021-03-18 | 住友化学株式会社 | 偏光子 |
JP2021056505A (ja) * | 2019-09-30 | 2021-04-08 | 日東電工株式会社 | 表面保護フィルム付き封止調光素子 |
CN110928006A (zh) * | 2019-11-07 | 2020-03-27 | 惠州市华星光电技术有限公司 | 一种基板、基板的制程方法以及显示面板 |
US20230017351A1 (en) * | 2021-07-19 | 2023-01-19 | Sharp Kabushiki Kaisha | Method for fabricating polarizing layer including a protective layer |
JP2024082643A (ja) * | 2022-12-08 | 2024-06-20 | 日東電工株式会社 | 画像表示パネル用セット、及び画像表示パネル |
JP2024082642A (ja) * | 2022-12-08 | 2024-06-20 | 日東電工株式会社 | 画像表示パネル用セット、画像表示パネル及び画像表示装置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000338329A (ja) * | 1999-06-01 | 2000-12-08 | Sanritsutsu:Kk | 偏光板及びその製造方法 |
JP2006292834A (ja) * | 2005-04-06 | 2006-10-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 偏光板用保護フィルム、偏光板および液晶表示装置 |
JP2011022202A (ja) * | 2009-07-13 | 2011-02-03 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 偏光板およびそれを用いた画像表示装置 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100710172B1 (ko) * | 2004-12-29 | 2007-04-20 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정 표시 장치 |
JP2007197517A (ja) * | 2006-01-24 | 2007-08-09 | Three M Innovative Properties Co | 接着性封止組成物、封止フィルム及び有機el素子 |
JP5038224B2 (ja) * | 2007-05-08 | 2012-10-03 | 日東電工株式会社 | 粘着型光学フィルムおよび画像表示装置 |
TWI345084B (en) * | 2007-05-16 | 2011-07-11 | Chimei Innolux Corp | Anti-moisture-deformation polarizer and manufacturing method thereof and lcd |
JP5288966B2 (ja) * | 2008-09-22 | 2013-09-11 | ユー・ディー・シー アイルランド リミテッド | 発光素子及びその製造方法、並びに該発光素子を備えるディスプレイ |
JP2010197448A (ja) * | 2009-02-23 | 2010-09-09 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 偏光板の製造方法 |
JP5701127B2 (ja) * | 2010-04-05 | 2015-04-15 | リンテック株式会社 | 粘着性組成物および該組成物から得られる粘着性シート |
JP4901978B2 (ja) * | 2010-05-31 | 2012-03-21 | 住友化学株式会社 | 延伸フィルム、偏光性延伸フィルムおよび偏光板の製造方法 |
JP5502023B2 (ja) * | 2010-09-03 | 2014-05-28 | 日東電工株式会社 | 偏光膜を有する光学フィルム積層体ロールの製造方法 |
JP5997171B2 (ja) * | 2010-11-05 | 2016-09-28 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 抗滑り特性を有するシリコーン変性接着剤 |
WO2013002288A1 (ja) | 2011-06-28 | 2013-01-03 | リンテック株式会社 | 粘着性組成物及び粘着性シート |
CN103857760B (zh) * | 2011-08-03 | 2016-09-21 | 琳得科株式会社 | 阻气性粘合片材、其制造方法、以及电子构件及光学构件 |
KR101706438B1 (ko) * | 2011-08-26 | 2017-02-13 | 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 | 접착성 밀봉 필름, 접착성 밀봉 필름의 제조 방법 및 접착성 밀봉 필름용 도포액 |
EP2927298A4 (en) * | 2012-11-30 | 2016-05-25 | Lintec Corp | ADHESIVE AGENT COMPOSITION, ADHESIVE SHEET, AND ELECTRONIC DEVICE |
KR102102351B1 (ko) * | 2013-04-25 | 2020-04-21 | 삼성디스플레이 주식회사 | 기능성 편광 필름 및 이를 채용하는 유기발광표시장치. |
JP6150428B2 (ja) * | 2013-08-12 | 2017-06-21 | 日東電工株式会社 | 偏光膜、偏光膜を含む光学機能フィルム積層体、及び、偏光膜を含む光学フィルム積層体の製造方法、並びに偏光膜を有する有機el表示装置 |
CN105830533B (zh) * | 2013-12-26 | 2018-06-01 | 日本瑞翁株式会社 | 密封膜、有机场致发光显示装置及有机半导体器件 |
JP6363344B2 (ja) * | 2014-01-07 | 2018-07-25 | 日東電工株式会社 | 粘着剤層付き片保護偏光フィルムの製造方法 |
KR102282214B1 (ko) * | 2014-08-01 | 2021-07-26 | 삼성전자주식회사 | 가스 배리어성 점착 시트의 점착층용 조성물, 상기 조성물로부터 제조되는 가스 배리어성 점착 시트, 상기 가스 배리어성 점착 시트가 구비된 광학시트 |
CN105062379B (zh) * | 2015-09-23 | 2018-04-27 | 上海康达化工新材料股份有限公司 | 一种用于双玻光伏组件的密封胶带及其制备方法 |
-
2018
- 2018-02-20 CN CN201880014306.9A patent/CN110337601A/zh active Pending
- 2018-02-20 KR KR1020197024363A patent/KR102593490B1/ko active IP Right Grant
- 2018-02-20 WO PCT/JP2018/005902 patent/WO2018159376A1/ja active Application Filing
- 2018-02-20 JP JP2019502894A patent/JP7137554B2/ja active Active
- 2018-02-27 TW TW107106565A patent/TWI663055B/zh active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000338329A (ja) * | 1999-06-01 | 2000-12-08 | Sanritsutsu:Kk | 偏光板及びその製造方法 |
JP2006292834A (ja) * | 2005-04-06 | 2006-10-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 偏光板用保護フィルム、偏光板および液晶表示装置 |
JP2011022202A (ja) * | 2009-07-13 | 2011-02-03 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 偏光板およびそれを用いた画像表示装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20190133150A (ko) | 2019-12-02 |
KR102593490B1 (ko) | 2023-10-25 |
WO2018159376A1 (ja) | 2018-09-07 |
CN110337601A (zh) | 2019-10-15 |
TW201840433A (zh) | 2018-11-16 |
JP7137554B2 (ja) | 2022-09-14 |
JPWO2018159376A1 (ja) | 2019-11-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI663055B (zh) | Polarizing plate and manufacturing method of polarizing plate | |
TWI736758B (zh) | 偏光板、影像顯示裝置及該影像顯示裝置之製造方法 | |
TWI708968B (zh) | 影像顯示裝置之製造方法及藉由該製造方法製得之影像顯示裝置 | |
TWI691577B (zh) | 附有黏著劑層之光學薄膜 | |
TWI708967B (zh) | 影像顯示裝置之製造方法及影像顯示裝置 | |
TWI690760B (zh) | 影像顯示裝置及該影像顯示裝置之製造方法 | |
TWI792083B (zh) | 偏光板疊層以及其製造方法 | |
TWI829870B (zh) | 偏光板之組合及包含該組合之影像顯示裝置 | |
JP2020091316A (ja) | 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置 | |
WO2023063128A1 (ja) | 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置 | |
TW202212122A (zh) | 附相位差層之偏光板及使用其之影像顯示裝置 | |
TW202216866A (zh) | 附有相位差層之偏光板之製造方法 | |
TW202035124A (zh) | 圖像顯示裝置及其製造方法 | |
JP2023058350A (ja) | 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置 | |
TW202243891A (zh) | 積層體及圖像顯示面板之製造方法 |