TW202212122A - 附相位差層之偏光板及使用其之影像顯示裝置 - Google Patents

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三田聰司
村上夏紀
石川結子
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日商日東電工股份有限公司
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Abstract

本發明提供一種薄型的附相位差層之偏光板,其應用在影像顯示裝置時可抑制金屬構件之腐蝕且已抑制相位差層與鄰接層之剝離。本發明之實施形態之附相位差層之偏光板,係從視辨側起依序具有包含偏光件之偏光板、相位差層及黏著劑層。於偏光件與黏著劑層之間設置有至少1層的碘透過抑制層,該碘透過抑制層為樹脂之有機溶劑溶液之塗布膜的固化物或熱硬化物。與相位差層鄰接之碘透過抑制層包含樹脂與異氰酸酯化合物;樹脂之玻璃轉移溫度為85℃以上,且重量平均分子量Mw為25000以上;異氰酸酯化合物為選自甲苯二異氰酸酯、二苯甲烷二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯及此等之衍生物中之至少一者;樹脂與該異氰酸酯化合物之含有比例(樹脂/異氰酸酯化合物)為95/5~10/90。

Description

附相位差層之偏光板及使用其之影像顯示裝置
本發明係關於附相位差層之偏光板及使用其之影像顯示裝置。
背景技術 近年來,以液晶顯示裝置及電致發光(EL)顯示裝置(例如有機EL顯示裝置、無機EL顯示裝置)為代表的影像顯示裝置急速地普及。於影像顯示裝置中,通常使用偏光板及相位差板。於實用上,雖然廣泛地使用將偏光板與相位差板一體化而成的附相位差層之偏光板(例如專利文獻1),但最近,隨著對影像顯示裝置薄型化的需求變強,對於附相位差層之偏光板的薄型化需求亦變強。為了使附相位差層之偏光板薄型化,進行使對於厚度影響很大的偏光件的保護層薄型化(或省略保護層)以及使相位差薄膜薄型化。然而,若將薄型的附相位差層之偏光板應用於影像顯示裝置,會有影像顯示裝置之金屬構件(例如電極、感測器、配線、金屬層)腐蝕之情形。如此的金屬構件之腐蝕在高溫高溼環境下尤其明顯。 先行技術文獻 專利文獻
專利文獻1:日本特許第3325560號公報
發明概要 發明欲解決之課題 本發明係為解決上述先前課題而完成者,其主要目的在於提供一種薄型的附相位差層之偏光板,其應用在影像顯示裝置時可抑制金屬構件之腐蝕且已抑制相位差層與鄰接層之剝離。 用以解決課題之手段
本發明之附相位差層之偏光板從視辨側起依序具有:包含偏光件之偏光板、相位差層及黏著劑層。於該偏光件與該黏著劑層之間,設置有至少1層的碘透過抑制層,該碘透過抑制層為樹脂之有機溶劑溶液之塗布膜的固化物或熱硬化物。與該相位差層鄰接之碘透過抑制層包含樹脂與異氰酸酯化合物;該樹脂之玻璃轉移溫度為85℃以上,且重量平均分子量Mw為25000以上;該異氰酸酯化合物為選自甲苯二異氰酸酯、二苯甲烷二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯及此等之衍生物中之至少一者;該樹脂與該異氰酸酯化合物之含有比例(樹脂/異氰酸酯化合物)為95/5~10/90。 於一實施形態中,上述碘透過抑制層設置有2層以上。 於一實施形態中,上述2層以上的碘透過抑制層均與上述相位差層鄰接設置。於另一實施形態中,上述2層以上的碘透過抑制層中之1層係與上述偏光件鄰接設置。 於一實施形態中,上述碘透過抑制層之厚度為0.05μm~10μm。 於一實施形態中,構成上述碘透過抑制層的樹脂包含環氧樹脂。 於一實施形態中,構成上述碘透過抑制層的樹脂包含藉由使單體混合物聚合而獲得的共聚物,該單體混合物包含大於50重量份的(甲基)丙烯酸系單體、與大於0重量份且小於50重量份的式(1)所示單體: [化學式1]
Figure 02_image001
(式中,X表示官能基,該官能基包含選自於由乙烯基、(甲基)丙烯醯基、苯乙烯基、(甲基)丙烯醯胺基、乙烯醚基、環氧基、氧雜環丁烷基、羥基、胺基、醛基及羧基所構成群組中之至少1種反應性基;R 1及R 2分別獨立表示氫原子、可具有取代基之脂肪族烴基、可具有取代基之芳基或可具有取代基之雜環基;R 1及R 2可相互連結而形成環)。 於一實施形態中,上述相位差層為具有圓偏光功能或橢圓偏光功能之液晶化合物的定向固化層。 於一實施形態中,上述相位差層為單一層。該相位差層之Re(550)為100nm~190nm,該相位差層之慢軸與前述偏光件之吸收軸所形成的角度為40°~50°。 於另一實施形態中,上述相位差層具有第1液晶化合物之定向固化層與第2液晶化合物之定向固化層的積層構造。該第1液晶化合物之定向固化層之Re(550)為200nm~300nm,其慢軸與上述偏光件之吸收軸所形成的角度為10°~20°;該第2液晶化合物之定向固化層之Re(550)為100nm~190nm,其慢軸與該偏光件之吸收軸所形成的角度為70°~80°。 於一實施形態中,上述附相位差層之偏光板之總厚度為60μm以下。 根據本發明之另一態樣,提供一種影像顯示裝置。該影像顯示裝置具備上述附相位差層之偏光板。 於一實施形態中,上述影像顯示裝置為有機電致發光顯示裝置或無機電致發光顯示裝置。 發明效果
根據本發明之實施形態,藉由於薄型的附相位差層之偏光板的規定位置設置至少1層特定的碘透過抑制層,將該附相位差層之偏光板應用於影像顯示裝置時,可抑制金屬構件之腐蝕。上述至少1層的碘透過抑制層中與相位差層鄰接之碘透過抑制層包含樹脂與異氰酸酯化合物;該樹脂之玻璃轉移溫度為85℃以上,且重量平均分子量Mw為25000以上;異氰酸酯化合物為選自甲苯二異氰酸酯、二苯甲烷二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯及此等之衍生物中之至少一者;樹脂與異氰酸酯化合物之含有比例(樹脂/異氰酸酯化合物)為95/5~10/90。藉由將如此的碘透過抑制層與相位差層鄰接設置,除了上述效果外,亦可明顯地抑制相位差層與鄰接層(實質上為碘透過抑制層)之剝離。
用以實施發明之形態 以下,就本發明之實施形態進行說明,但本發明並不限定於此等實施形態。
(用語及記號之定義) 本說明書中之用語及記號之定義如下。 (1)折射率(nx、ny、nz) 「nx」為面內折射率為最大的方向(即慢軸方向)之折射率、「ny」為面內與慢軸正交的方向(即快軸方向)之折射率、「nz」為厚度方向之折射率。 (2)面內相位差(Re) 「Re(λ)」為23℃下以波長λnm之光測得的面內相位差。例如,「Re(550)」為23℃下以波長550nm之光測得的面內相位差。Re(λ)係將層(薄膜)之厚度設為d(nm)時,以式:Re(λ)=(nx-ny)×d求出。 (3)厚度方向之相位差(Rth) 「Rth(λ)」為23℃下以波長λnm之光測得的厚度方向的相位差。例如,「Rth(550)」為23℃下以波長550nm之光測得的厚度方向的相位差。Rth(λ)係將層(薄膜)之厚度設為d(nm)時,以式:Rth(λ)=(nx-nz)×d求出。 (4)Nz係數 Nz係數由Nz=Rth/Re求出。 (5)角度 於本說明書中提到角度時,該角度包含相對於基準方向順時針方向及反時針方向的角度。因此,例如「45°」表示±45°。
A.附相位差層之偏光板之全體構造 圖1A係本發明之一實施形態之附相位差層之偏光板的概略剖面圖。圖示例之附相位差層之偏光板100從視辨側起依序具有偏光板10、相位差層20及黏著劑層30。偏光板10通常包含偏光件11及配置於偏光件11之視辨側的保護層12。視目的而定,亦可於偏光件11之與視辨側(保護層12)為相反之側設置其他的保護層(未圖示)。相位差層20通常為具有圓偏光功能或橢圓偏光功能之液晶化合物的定向固化層(以下有時簡稱為液晶定向固化層)。黏著劑層30作為最外層設置,附相位差層之偏光板可黏貼於影像顯示裝置(實質上為影像顯示單元)。
於本發明之實施形態中,於偏光件11與黏著劑層30之間設置有至少1層的碘透過抑制層40。碘透過抑制層為樹脂之有機溶劑溶液之塗布膜的固化物或熱硬化物。該樹脂代表上其玻璃轉移溫度為85℃以上,且重量平均分子量Mw為25000以上。藉由將如此的碘透過抑制層設置於附相位差層之偏光板之規定位置,將附相位差層之偏光板應用於影像顯示裝置時,可明顯地抑制偏光件中之碘移轉至影像顯示裝置(實質上為影像顯示單元)。其結果,可明顯地抑制影像顯示裝置之金屬構件(例如電極、感測器、配線、金屬層)之腐蝕(以下,有時將如此的效果稱為金屬腐蝕抑制效果)。如此的金屬腐蝕抑制效果為薄型的附相位差層之偏光板(代表上係相位差層為液晶定向固化層的附相位差層之偏光板)所特有的效果。即,本發明人等發現新的問題,將薄型的附相位差層之偏光板應用於影像顯示裝置時,會有影像顯示裝置之金屬構件腐蝕之情形;因為於腐蝕部分存在碘,故可解釋如此的金屬構件腐蝕可能起因於碘。然後,經過反覆試驗,結果發現:關於防止碘朝影像顯示裝置(實質上為影像顯示單元)轉移的方法,上述的碘透過抑制層(具有特定的Tg及Mw的樹脂之有機溶劑溶液之塗布膜的固化層或熱硬化層)實為有用手段。進而,如後所述,碘透過抑制層可形成為非常薄、且藉由設置碘透過抑制層可省略位在視辨側相反側的保護層,故因為這些的協同效應,亦可有助於附相位差層之偏光板進一步的薄型化。
碘透過抑制層40可僅設置1層、亦可設置2層以上(例如2層、3層、4層)。如圖1A所示之實施形態中,碘透過抑制層40於偏光件11與相位差層20之間僅設置有1層。碘透過抑制層40亦可如圖1B所示之附相位差層之偏光板101般,於相位差層20與黏著劑層30之間僅設置1層;亦可如圖1C所示之附相位差層之偏光板102般,於偏光件11與相位差層20之間及相位差層20與黏著劑層30之間設置合計2層;亦可如圖1D所示之附相位差層之偏光板103般,於偏光件11與相位差層20之間設置2層及於相位差層20與黏著劑層30之間設置1層之合計3層。將碘透過抑制層設置於偏光件與相位差層之間時(尤其是使碘透過抑制層鄰接於偏光件時),具有可抑制高溫高溼環境下從偏光件轉移碘,使可靠性提高的優點。將碘透過抑制層設置於相位差層與黏著劑層之間時(尤其是使碘透過抑制層鄰接於黏著劑層時),具有還可以同時防止碘以外的被認為會對金屬腐蝕造成影響的成分(例如紫外線硬化接著劑中之殘渣單體成分、光引發劑之分解物)朝黏著劑中轉移,金屬腐蝕抑制效果更高的優點。藉由設置2層以上的碘透過抑制層,可極為顯著地提高金屬腐蝕抑制效果。碘透過抑制層之數量越多,可越提高金屬腐蝕抑制效果。碘透過抑制層之數量可考量成本、製造效率、附相位差層之偏光板之總厚度等而設定。
於本發明之實施形態中,設置於附相位差層之偏光板的碘透過抑制層中,與相位差層鄰接的碘透過抑制層包含樹脂與異氰酸酯化合物;該樹脂之玻璃轉移溫度為85℃以上,且重量平均分子量Mw為25000以上;異氰酸酯化合物為甲苯二異氰酸酯、二苯甲烷二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯及/或此等之衍生物(例如改質物、加成物);該樹脂與該異氰酸酯化合物之含有比例(樹脂/異氰酸酯化合物)為95/5~10/90。藉由使與相位差層鄰接之碘透過抑制層成為如此的構成,可維持上述金屬腐蝕抑制效果這樣的優異效果且可明顯地抑制碘透過抑制層與相位差層之剝離。即,雖然如上所述藉由設置係屬特定樹脂之有機溶劑溶液之塗布膜的固化物或熱硬化物的碘透過抑制層,可實現非常優異的金屬腐蝕抑制效果,但已知將如此的碘透過抑制層與相位差層(液晶定向固化層)鄰接配置時,有於高溼環境下碘透過抑制層與相位差層(液晶定向固化層)剝離之情形。本發明人等就該剝離進行研究,結果發現:藉由於構成碘透過抑制層之樹脂中添加特定量的特定異氰酸酯化合物,可明顯地抑制該剝離,終完成本發明。即,如此的效果可解決先前未知的新課題,為意外的優異效果。
如上所述,相位差層20為液晶定向固化層。相位差層20可為圖1A~圖1D所示的單一層,亦可為圖2A~圖2F所示的第1液晶定向固化層21與第2液晶定向固化層22的積層構造。相位差層20具有積層構造時,碘透過抑制層40可如圖2A所示之附相位差層之偏光板104般,於偏光件11與第1液晶定向固化層21之間僅設置1層;亦可於第2液晶定向固化層22與黏著劑層30之間僅設置1層(未圖示);亦可於第1液晶定向固化層21與第2液晶定向固化層22之間僅設置1層(未圖示);亦可如圖2B所示之附相位差層之偏光板105般,於偏光件11與第1液晶定向固化層21之間及第2液晶定向固化層22與黏著劑層30之間設置合計2層;亦可如圖2C所示之附相位差層之偏光板106般,於偏光件11與第1液晶定向固化層21之間及第1液晶定向固化層21與第2液晶定向固化層22之間設置合計2層;亦可如圖2D所示之附相位差層之偏光板107般,於第1液晶定向固化層21與第2液晶定向固化層22之間及第2液晶定向固化層22與黏著劑層30之間設置合計2層;亦可如圖2E所示之附相位差層之偏光板108般,於偏光件11與第1液晶定向固化層21之間、第1液晶定向固化層21與第2液晶定向固化層22之間、及第2液晶定向固化層22與黏著劑層30之間設置合計3層;亦可如圖2F所示之附相位差層之偏光板109般,於偏光件11與第1液晶定向固化層21之間設置2層、於第1液晶定向固化層21與第2液晶定向固化層22之間設置1層、及第2液晶定向固化層22與黏著劑層30之間設置1層之合計4層。
圖1A~圖1D及圖2A~圖2F為例示,碘透過抑制層40可視目的,以任意適當的數量設置於偏光件11與黏著劑層30之間的任意適當的位置。例如,可適當組合上述實施形態、亦可於上述實施形態中之構成要件加上該業界所明白的改變。又,例如亦可設置5層以上的碘透過抑制層。
於附相位差層之偏光板中,亦可進一步設置另一個相位差層以及/或者導電層或附導電層之各向同性基材(均未圖示)。另一個相位差層通常設置於相位差20與黏著劑層30之間(即相位差層20之外側)。另一個相位差層代表上折射率特性顯示nz>nx=ny之關係。導電層或附導電層之各向同性基材代表上設置於碘透過抑制層40與黏著劑層30之間(即,碘透過抑制層40之外側)。另一個相位差層以及導電層或附導電層之各向同性基材代表上從相位差層20側起依序設置。另一個相位差層以及導電層或附導電層之各向同性基材為視需要而設置之任意層,亦可省略其中任一者或兩者。設置導電層或附導電層之各向同性基材時,附相位差層之偏光板可應用於所謂的內部觸控面板型輸入顯示裝置,其於影像顯示單元(例如有機EL單元)與偏光板之間組裝有觸控感測器。於本發明之實施形態中,藉由將導電層或附導電層之各向同性基材設置於碘透過抑制層40之外側,可顯著地抑制導電層之腐蝕。
附相位差層之偏光板亦可進一步包含其他的相位差層。其他的相位差層的光學特性(例如折射率特性、面內相位差、Nz係數、光彈性係數)、厚度、配置位置等,可根據目的而適當地設定。
實用上,於黏著劑層30之表面宜暫時黏著剝離薄膜,直到附相位差層之偏光板進行使用為止。藉由暫時黏著剝離薄膜,可保護黏著劑層且可形成附相位差層之偏光板之圓筒。
附相位差層之偏光板之總厚度宜為60μm以下、較佳為55μm以下、更佳為50μm以下、尤宜為40μm以下。總厚度之下限例如可為28μm。根據本發明之實施形態,可實現如此極薄的附相位差層之偏光板,進而即使將如此極薄的附相位差層之偏光板應用於影像顯示裝置時,亦可明顯地抑制影像顯示裝置之金屬構件(例如電極、感測器、配線、金屬層)之腐蝕。此外,根據本發明之實施形態,於如此極薄的附相位差層之偏光板中,可明顯地抑制相位差層與鄰接層(實質上為碘透過抑制層)之剝離。又,如此的附相位差層之偏光板可具有極優異的可撓性及彎折耐久性。因此,如此的附相位差層之偏光板尤宜適用於彎曲的影像顯示裝置及/或可彎折或折疊的影像顯示裝置。再者,所謂附相位差層之偏光板之總厚度,係指偏光板、相位差層(存在另一個相位差層時,為相位差層及另一個相位差層)、碘透過抑制層及用以積層此等之接著劑層或黏著劑層之厚度的合計(即,附相位差層之偏光板之總厚度不包含導電層或附導電層之各向同性基材、以及黏著劑層30及可暫時黏著於其表面的剝離薄膜的厚度)。
附相位差層之偏光板可為單片狀,抑或長條狀。於本說明書中所謂「長條狀」指長度比寬度長很多的細長形狀,例如包含長度相對於寬度為10倍以上、較佳為20倍以上的細長形狀。長條狀的附相位差層之偏光板可捲成圓筒狀。
以下,更詳細地說明附相位差層之偏光板之構成要件。再者,關於黏著劑層30因為可採用業界所周知的構成,故省略黏著劑層之詳細構成之記載。
B.偏光板 B-1.偏光件 偏光件代表上由包含二色性物質的聚乙烯醇(PVA)系樹脂薄膜構成。偏光件之厚度宜為1μm~8μm、較佳為1μm~7μm、更佳為2μm~5μm。若偏光件之厚度在如此範圍,可大有助於附相位差層之偏光板之薄型化。進而,於使用如此的偏光件的薄型之附相位差層之偏光板中,本發明效果甚為顯著。
偏光件之硼酸含量宜為10重量%以上、較佳為13重量%~25重量%。若偏光件之硼酸含量在如此範圍,藉由與後述的碘含量之協同效應,可良好地維持貼合時之翹曲調整容易性、且良好地抑制加熱時之翹曲,並改善加熱時之外觀耐久性。硼酸含量可例如由中和法使用下式、以每單位重量的偏光件所含硼酸量來算出。 [數學式1]
Figure 02_image003
(g/mol)
Figure 02_image005
偏光件之碘含量宜為2重量%以上、較佳為2重量%~10重量%。若偏光件之碘含量在如此範圍,藉由與上述的硼酸含量之協同效應,可良好地維持貼合時之翹曲調整容易性、且良好地抑制加熱時之翹曲,並改善加熱時之外觀耐久性。於本說明書中所謂「碘含量」係指偏光件(PVA系樹脂薄膜)中包含的所有碘的量。更具體而言,偏光件中碘以碘離子(I -)、碘分子(I 2)、多碘離子(I 3 -、I 5 -)等形態存在時,本說明書中之碘含量係指這些形態全部包含在內的碘量。碘含量例如可藉由螢光X射線分析之檢量線法算出。再者,多碘離子於偏光件中係以形成PVA-碘錯合物之狀態存在。藉由形成如此的錯合物,於可見光之波長範圍中可表現吸收二色性。具體而言,PVA與三碘化物離子之錯合物(PVA・I 3 -)於470nm附近具有吸光波峰,PVA與五碘化物離子之錯合物(PVA・I 5 -)於600nm附近具有吸光波峰。以結果而言,多碘離子可視其形態以可見光之大範圍吸收光。另一方面,碘離子(I -)於230nm附近具有吸光波峰,實質上與可見光之吸收無關。因此,以與PVA之錯合物之狀態存在的多碘離子可能才是主要與偏光件之吸收性能有關。
偏光件宜於波長380nm~780nm之任何波長下表現出吸收二色性。偏光件之單體透過率Ts宜為40%~48%、較佳為41%~46%。偏光件之偏光度P宜為97.0%以上、較佳為99.0%以上、更佳為99.9%以上。上述單體透過率通常使用紫外可見光譜儀進行測定,為進行視感度修正後的Y值。上述偏光度通常基於使用紫外可見光譜儀測定且進行視感度修正後的平行透過率Tp及垂直透過率Tc,由下式求出。 偏光度(%)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)} 1/2×100
偏光件通常可使用二層以上的積層體製作。關於使用積層體獲得的偏光件的具體例,可舉例:使用樹脂基材與塗布形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體獲得的偏光件。使用樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體獲得的偏光件,例如可藉由如下方法製作:將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材、使之乾燥,而於樹脂基材上形成PVA系樹脂層,獲得樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體;使該積層體延伸及染色後,將PVA系樹脂層作為偏光件。延伸通常包含使積層體浸漬於硼酸水溶液中後使之延伸。進而,延伸視需要可進一步包含於硼酸水溶液中進行延伸之前,將積層體於高溫(例如95℃以上)進行空中延伸。獲得之樹脂基材/偏光件之積層體可直接使用(即可將樹脂基材用作偏光件之保護層),亦可從樹脂基材/偏光件之積層體將樹脂基材剝離,於該剝離面積層視目的而定之任意適當的保護層後使用。如此的偏光件之詳細的製造方法係記載於例如日本特開2012-73580號公報、專利第6470455號。此等公報之所有記載係作為參考引用於本說明書中。
偏光件之製造方法代表上包含以下步驟:於長條狀熱塑性樹脂基材之單側形成包含鹵化物與聚乙烯醇系樹脂之聚乙烯醇系樹脂層而成為積層體;及對上述積層體依序實施空中輔助延伸處理、染色處理、水中延伸處理及乾燥收縮處理,該乾燥收縮處裡係藉由將積層體一面於長度方向上搬送一面加熱而使其於寬度方向上收縮2%以上。藉此,可提供非常薄型、具有優異的光學特性且可抑制光學特性之不均的偏光件。即,藉由導入輔助延伸,即使於熱塑性樹脂上塗布PVA時,亦可提高PVA之結晶性,可達成高光學特性。又,同時藉由提前提高PVA之定向性,可防止在後續的染色步驟或延伸步驟中浸漬於水中時,PVA之定向性降低或溶解等問題,可達成高光學特性。進而,在將PVA系樹脂層浸漬於液體中時,與PVA系樹脂層不包含鹵化物之情形相比,更可抑制聚乙烯醇分子之定向混亂及定向性降低。藉此,能夠使經過染色處理及水中延伸處理等將積層體浸漬於液體的處理步驟而獲得的偏光件的光學特性提高。進而,藉由乾燥收縮處理使積層體於寬度方向上收縮,可使光學特性提高。
B-2.保護層 保護層12可由可用作偏光件之保護層的任意適當的薄膜形成。關於成為該薄膜之主成分的材料的具體例,可列舉:三醋酸纖維素(TAC)等纖維素系樹脂、或聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚降冰片烯系、聚烯烴系、(甲基)丙烯酸系、乙酸酯系等透明樹脂等。又,亦可列舉:(甲基)丙烯酸系、胺基甲酸酯系、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。此外,例如亦可列舉矽氧烷系聚合物等玻璃質系聚合物。又,亦可使用於日本特開2001-343529號公報(WO01/37007)中記載之聚合物薄膜。關於該薄膜之材料,例如可使用含有於側鏈具有取代或未取代之醯亞胺基之熱塑性樹脂、於側鏈具有取代或未取代之苯基以及腈基之熱塑性樹脂的樹脂組成物,可舉例具有由異丁烯與N-甲基馬來醯亞胺構成之交替共聚物、和丙烯腈・苯乙烯共聚物的樹脂組成物。該聚合物薄膜例如可為上述樹脂組成物之擠出成形物。
附相位差層之偏光板如後所述通常配置於影像顯示裝置之視辨側,保護層12通常配置於該視辨側。因此,對於保護層12視需要亦可實施硬塗處理、抗反射處理、防黏處理、防眩處理等表面處理。進而/或者,對於保護層12亦可視需要實施改善經由偏光太陽眼鏡進行視辨時之視辨性的處理(代表性為賦予(橢)圓偏光功能、賦予超高相位差)。藉由實施如此處理,即使經由偏光太陽眼鏡等偏光透鏡視辨顯示畫面時,亦可實現優異的視辨性。因此,附相位差層之偏光板亦可適合應用於可在屋外使用的影像顯示裝置。
保護層之厚度宜為10μm~50μm、較佳為10μm~30μm。再者,實施表面處理時,外側保護層之厚度為包含表面處理層之厚度在內的厚度。
C.相位差層 如上所述,相位差層20通常為液晶定向固化層。藉由使用液晶化合物,與非液晶材料相比,可使獲得之相位差層之nx與ny之差非常大,故可使用以獲得期望的面內相位差的相位差層的厚度非常小。其結果,可實現附相位差層之偏光板之進一步薄型化。於本說明書中所謂「液晶定向固化層」係指液晶化合物於層內朝規定方向定向,固定其定向狀態的層。再者,「定向固化層」如後所述係包含使液晶單體硬化而獲得的定向硬化層的概念。於本實施形態中,代表性者為棒狀液晶化合物以排列於相位差層之慢軸方向之狀態定向(沿面定向)。
關於液晶化合物,可例舉:液晶相為向列相之液晶化合物(向列液晶)。關於如此的液晶化合物,例如可使用液晶聚合物或液晶單體。液晶化合物之液晶性之表現機制可為溶致型、亦可為熱致型。液晶聚合物及液晶單體分別可單獨使用、亦可組合使用。
液晶化合物為液晶單體時,該液晶單體宜為聚合性單體及交聯性單體。其原因為,藉由使液晶單體聚合或交聯(即硬化),可固定液晶單體之定向狀態。使液晶單體定向後,例如若使液晶單體彼此聚合或交聯,藉此可固定上述定向狀態。於此,藉由聚合形成聚合物,藉由交聯形成三維網目結構,但此等為非液晶性。因此,形成的相位差層例如不會因為液晶性化合物所特有的溫度變化而發生朝液晶相、玻璃相、結晶相的轉變。其結果,相位差層成為不會受溫度變化影響的穩定性極優異的相位差層。
液晶單體顯示液晶性的溫度範圍根據其種類而異。具體而言,該溫度範圍宜為40℃~120℃、較佳為50℃~100℃、更佳為60℃~90℃。
關於上述液晶單體,可採用任意適當的液晶單體。例如可使用記載於日本特表2002-533742(WO00/37585)、EP358208(US5211877)、EP66137(US4388453)、WO93/22397、EP0261712、DE19504224、DE4408171及GB2280445等的聚合性液晶原化合物等。關於如此的聚合性液晶原化合物的具體例,例如可列舉:BASF公司之商品名LC242、Merck公司之商品名E7、Wacker-Chem公司之商品名LC-Sillicon-CC3767。關於液晶單體,例如較佳為向列性液晶單體。
液晶定向固化層可藉由對規定基材之表面實施定向處理,於該表面塗布包含液晶化合物之塗層液,使該液晶化合物朝對應於上述定向處理的方向定向,固定該定向狀態而形成。於一實施形態中,基材為任意適當的樹脂薄膜,形成於該基材上的液晶定向固化層可轉印到鄰接層(例如偏光件、碘透過抑制層)之表面。
關於上述定向處理,可採用任意適當的定向處理。具體而言,可列舉:機械性定向處理、物理性定向處理、化學性定向處理。關於機械性定向處理的具體例,可舉例:摩擦處理、延伸處理。關於物理性定向處理之具體例,可舉例:磁場定向處理、電場定向處理。關於化學性定向處理之具體例,可舉例:斜向蒸鍍法、光定向處理。各種定向處理之處理條件可根據目的而採用任意適當的條件。
液晶化合物之定向係根據液晶化合物之種類,以顯示液晶相之溫度進行處理來進行。藉由進行如此的溫度處理,液晶化合物成為液晶狀態,該液晶化合物根據基材表面之定向處理方向進行定向。
於一實施形態中,定向狀態之固定係藉由將如上所述定向後的液晶化合物冷卻來進行。在液晶化合物為聚合性單體或交聯性單體時,定向狀態之固定係藉由對如上所述定向後的液晶化合物實施聚合處理或交聯處理來進行。
液晶化合物之具體例及定向固化層之形成方法之詳細情形係記載於日本特開2006-163343號公報。該公報之記載係作為參考引用於本說明書中。
於一實施形態中,相位差層20如圖1A~圖1D所示為單一層。相位差層20由單一層構成時,其厚度宜為0.5μm~7μm、較佳為1μm~5μm。藉由使用液晶化合物,可以較樹脂薄膜薄很多的厚度,實現與樹脂薄膜同等的面內相位差。
如上所述,相位差層通常具有圓偏光功能或橢圓偏光功能。相位差層通常折射率特性顯示nx>ny=nz之關係。相位差層通常為了對偏光板賦予抗反射特性而設置,相位差層為單一層時可作為λ/4板而起作用。此時,相位差層之面內相位差Re(550)宜為100nm~190nm、較佳為110nm~170nm、更佳為130nm~160nm。再者,於此「ny=nz」不僅包含ny與nz完全相等之情形,亦包含實質上相等之情形。因此,於無損本發明效果之範圍內,可能有ny>nz或ny<nz之情形。
相位差層之Nz係數宜為0.9~1.5、較佳為0.9~1.3。藉由滿足如此關係,將獲得之附相位差層之偏光板用於影像顯示裝置時,可達成非常優異的反射色相。
相位差層可表現出相位差值隨著測定光之波長而變大的逆分散波長特性,可表現出相位差值隨著測定光之波長而變小的正波長分散特性,亦可表現出不管測定光之波長如何,相位差值都幾乎不變的平坦的波長分散特性。於一實施形態中,相位差層表現逆分散波長特性。此時,相位差層之Re(450)/Re(550)宜為0.8以上且小於1、較佳為0.8以上且0.95以下。若為如此構成,可實現非常優異的抗反射特性。
相位差層20之慢軸與偏光件11之吸收軸所形成之角度θ宜為40°~50°、較佳為42°~48°、更佳為約45°。若角度θ在如此範圍,藉由如上所述令相位差層為λ/4板,可獲得具有非常優異的圓偏光特性(以結果而言為非常優異的抗反射特性)的附相位差層之偏光板。
於另一實施形態中,相位差層20可如圖2A~圖2F所示,具有第1液晶定向固化層21與第2液晶定向固化層22的積層構造。此時,第1液晶定向固化層21及第2液晶定向固化層22中之任一者可作為λ/4板而起作用,另一者可作為λ/2板而起作用。因此,第1液晶定向固化層21及第2液晶定向固化層22之厚度可調整為可獲得λ/4板或λ/2板之期望的面內相位差。例如,第1液晶定向固化層21作為λ/2板而起作用、第2液晶定向固化層22作為λ/4板而起作用時,第1液晶定向固化層21之厚度例如為2.0μm~3.0μm,第2液晶定向固化層22之厚度例如為1.0μm~2.0μm。此時,第1液晶定向固化層之面內相位差Re(550)宜為200nm~300nm、較佳為230nm~290nm、更佳為250nm~280nm。第2液晶定向固化層之面內相位差Re(550)如同上述關於單一層所作之說明。第1液晶定向固化層之慢軸與偏光件之吸收軸所形成的角度宜為10°~20°、較佳為12°~18°、更佳為約15°。第2液晶定向固化層之慢軸與偏光件之吸收軸所形成的角度宜為70°~80°、較佳為72°~78°、更佳為約75°。若為如此構成,可獲得接近理想的逆波長分散特性之特性,以結果而言,可實現非常優異的抗反射特性。關於構成第1液晶定向固化層及第2液晶定向固化層之液晶化合物、第1液晶定向固化層及第2液晶定向固化層之形成方法、光學特性等,如同上述關於單一層所作之說明。
D.碘透過抑制層 如上所述,碘透過抑制層為樹脂之有機溶劑溶液之塗布膜的固化物或熱硬化物。若為如此的構成,可使厚度非常薄(例如10μm以下)。碘透過抑制層之厚度宜為0.05μm~10μm、較佳為0.08μm~5μm、更佳為0.1μm~1μm、尤宜為0.2μm~0.7μm。進而,若為如此的構成,可將碘透過抑制層直接(即不經由接著劑層或黏著劑層)形成於鄰接層(例如偏光件、相位差層)。根據本發明之實施形態,如上所述因為偏光件、相位差層及碘透過抑制層非常地薄、且可省略用以積層碘透過抑制層之接著劑層或黏著劑層,故可使附相位差層之偏光板之總厚度極薄。進而,如此的碘透過抑制層因為與水溶液或水分散體這類水系塗布膜的固化物相比,吸溼性及透溼性較小,故具有加溼耐久性優異的優點。其結果,即使於高溫高溼環境下亦能夠維持光學特性,可實現耐久性優異的附相位差層之偏光板。又,如此的碘透過抑制層例如與紫外線硬化性樹脂之硬化物相比,更可抑制照射下對偏光板(偏光件)的不良影響。碘透過抑制層較佳為樹脂之有機溶劑溶液之塗布膜的固化物。固化物因為與硬化物相比,薄膜成形時之收縮較小、且不含殘存單體等,故可抑制薄膜本體之劣化且抑制因殘存單體等所引起之對偏光板(偏光件)的不良影響。
進而,構成碘透過抑制層之樹脂之玻璃轉移溫度(Tg)為85℃以上,且重量平均分子量Mw為25000以上。若該樹脂之Tg及Mw在如此的範圍,儘管非常地薄,藉由與以樹脂之有機溶劑溶液之塗布膜的固化物或熱硬化物構成碘透過抑制層所產生的效果的協同效應,仍可顯著抑制偏光件中之碘朝影像顯示單元。其結果,將附相位差層之偏光板應用於影像顯示裝置時,可明顯地抑制金屬構件之腐蝕。該樹脂之Tg宜為90℃以上、較佳為100℃以上、更佳為110℃以上、尤宜為120℃以上。Tg之上限可為例如200℃。又,該樹脂之Mw宜為30000以上、較佳為35000以上、更佳為40000以上。Mw之上限可為例如150000。
進而,如上所述,設置於附相位差層之偏光板的碘透過抑制層之中,與相位差層鄰接的碘透過抑制層除了上述樹脂外,進而包含異氰酸酯化合物。關於異氰酸酯化合物,可列舉:甲苯二異氰酸酯、二苯甲烷二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯、此等之衍生物(例如改質物、加成物)。異氰酸酯化合物可單獨使用,亦可組合使用。樹脂與異氰酸酯化合物之含有比例(樹脂/異氰酸酯化合物)如上所述為95/5~10/90。含有比例(樹脂/異氰酸酯化合物)例如可為95/5~50/50、且例如為90/10~60/40、且例如為85/15~70/30、且例如為85/15~75/25。含有比例(樹脂/異氰酸酯化合物)亦可例如為40/60~5/95、且例如為30/70~5/95、且例如為20/80~10/90。若為如此的構成,如上所述,可維持金屬腐蝕抑制效果的優異效果且可明顯地抑制碘透過抑制層與相位差層之剝離。
關於構成碘透過抑制層之樹脂,在可形成有機溶劑溶液之塗布膜的固化物或熱硬化物且具有上述的Tg及Mw之範圍內,可使用任意適當的熱塑性樹脂或熱硬化性樹脂。較佳為熱塑性樹脂。關於熱塑性樹脂,例如可列舉:環氧系樹脂、丙烯酸系樹脂。亦可將環氧系樹脂與丙烯酸系樹脂組合使用。以下,說明可用於碘透過抑制層之環氧系樹脂及丙烯酸系樹脂之代表例。
<環氧樹脂> 關於環氧樹脂宜使用具有芳香族環之環氧樹脂。藉由使用具有芳香族環之環氧樹脂作為環氧樹脂,在將碘透過抑制層與偏光件鄰接配置時,可提高與偏光件之密著性。進而,與碘透過抑制層鄰接地配置黏著劑層時,可提高黏著劑層之錨固力。關於具有芳香族環之環氧樹脂,例如可列舉:雙酚A型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂、雙酚S型環氧樹脂等雙酚型環氧樹脂;苯酚酚醛環氧樹脂、甲酚酚醛環氧樹脂、羥基苯甲醛苯酚酚醛環氧樹脂等酚醛型環氧樹脂;四羥基苯甲烷之環氧丙基醚、四羥基二苯甲酮之環氧丙基醚、環氧化聚乙烯酚等多官能型環氧樹脂、萘酚型環氧樹脂、萘型環氧樹脂、聯苯型環氧樹脂等。較佳為使用雙酚A型環氧樹脂、聯苯型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂。環氧樹脂可僅使用1種,亦可組合2種以上使用。
<丙烯酸系樹脂> 丙烯酸系樹脂通常含有源自具有直鏈或支鏈結構的(甲基)丙烯酸酯系單體的重複單元作為主成分。於本說明書中,所謂「(甲基)丙烯酸」係指丙烯酸及/或甲基丙烯酸。丙烯酸系樹脂可含有因應目的之源自任意適當的共聚合單體的重複單元。關於共聚合單體(共聚單體),例如可列舉:含羧基單體、含羥基單體、含醯胺基單體、含芳香環之(甲基)丙烯酸酯、含雜環之乙烯系單體。藉由適當地設定單體單元之種類、數量、組合及共聚合比等,可獲得具有上述規定的Tg及Mw的丙烯酸系樹脂。
<含硼之丙烯酸系樹脂> 於一實施形態中,丙烯酸系樹脂包含藉由使單體混合物聚合而獲得的共聚物(以下,有時稱為含硼之丙烯酸系樹脂),該單體混合物包含大於50重量份的(甲基)丙烯酸系單體、與大於0重量份且小於50重量份的式(1)所示單體(以下,有時稱為共聚合單體): [化學式2]
Figure 02_image007
(式中,X表示官能基,該官能基包含選自於由乙烯基、(甲基)丙烯醯基、苯乙烯基、(甲基)丙烯醯胺基、乙烯醚基、環氧基、氧雜環丁烷基、羥基、胺基、醛基及羧基所構成群組中之至少1種反應性基;R 1及R 2分別獨立表示氫原子、可具有取代基之脂肪族烴基、可具有取代基之芳基或可具有取代基之雜環基;R 1及R 2可相互連結而形成環)。
含硼之丙烯酸系樹脂代表上具有以下式表示的重複單元。藉由使包含式(1)所示共聚合單體與(甲基)丙烯酸系單體的單體混合物聚合,含硼之丙烯酸系樹脂會於側鏈具有包含硼之取代基(例如下式中k之重複單元)。藉此,將碘透過抑制層與偏光件鄰接配置時,可提高與偏光件之密著性。該包含硼之取代基可連續(即嵌段狀)或無規地包含於含硼之丙烯酸系樹脂中。 [化學式3]
Figure 02_image009
(式中,R 6表示任意的官能基、j及k表示1以上的整數)。
<(甲基)丙烯酸系單體> 關於(甲基)丙烯酸系單體,可使用任意適當的(甲基)丙烯酸系單體。例如可列舉:具有直鏈或支鏈結構的(甲基)丙烯酸酯系單體、及具有環狀結構的(甲基)丙烯酸酯系單體。
關於具有直鏈或支鏈結構的(甲基)丙烯酸酯系單體,例如可列舉:(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸甲基2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸2-羥乙酯等。宜使用(甲基)丙烯酸甲酯。(甲基)丙烯酸酯系單體可僅使用1種,亦可組合2種以上使用。
關於具有環狀結構的(甲基)丙烯酸酯系單體,例如可列舉:(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯、(甲基)丙烯酸1-金剛烷酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯基氧基乙酯、(甲基)丙烯酸二環戊烷酯、聯苯(甲基)丙烯酸酯、鄰聯苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、鄰聯苯氧基乙氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、間聯苯氧基乙基丙烯酸酯、對聯苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、鄰聯苯氧基-2-羥丙基(甲基)丙烯酸酯、對聯苯氧基-2-羥丙基(甲基)丙烯酸酯、間聯苯氧基-2-羥丙基(甲基)丙烯酸酯、N-(甲基)丙烯醯氧基乙基-鄰聯苯=胺基甲酸酯、N-(甲基)丙烯醯氧基乙基-對聯苯=胺基甲酸酯、N-(甲基)丙烯醯氧基乙基-間聯苯=胺基甲酸酯、鄰苯基酚環氧丙基醚丙烯酸酯等含聯苯基單體、聯三苯(甲基)丙烯酸酯、鄰聯三苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯等。較佳為使用(甲基)丙烯酸1-金剛烷酯、(甲基)丙烯酸二環戊烷酯。藉由使用此等單體,可獲得玻璃轉移溫度較高的聚合物。此等單體可僅使用1種,亦可組合2種以上使用。
又,亦可取代上述(甲基)丙烯酸酯系單體,使用具有(甲基)丙烯醯基的倍半矽氧烷化合物。藉由使用倍半矽氧烷化合物,可獲得玻璃轉移溫度較高的丙烯酸系聚合物。倍半矽氧烷化合物已知有各種骨架結構、例如具有籠型結構、梯型結構、無規結構等骨架者。倍半矽氧烷化合物可僅具有1種上述結構,亦可具有2種以上上述結構。倍半矽氧烷化合物可僅使用1種,亦可組合2種以上使用。
關於具有(甲基)丙烯醯基的倍半矽氧烷化合物,例如可使用東亞合成股份有限公司SQ系列之MAC等級、及AC等級。MAC等級為含有甲基丙烯醯基的倍半矽氧烷化合物,具體而言例如可列舉:MAC-SQ TM-100、MAC-SQ SI-20、MAC-SQ HDM等。AC等級為含有丙烯醯基的倍半矽氧烷化合物,具體而言例如可列舉:AC-SQ TA-100、AC-SQ SI-20等。
(甲基)丙烯酸系單體之使用上係相對於單體混合物100重量份大於50重量份。
<共聚合單體> 關於共聚合單體係使用上述式(1)所示之單體。藉由使用如此的共聚合單體,而於獲得之聚合物之側鏈導入包含硼之取代基。共聚合單體可僅使用1種,亦可組合2種以上使用。
關於上述式(1)中之脂肪族烴基,可列舉:可具有取代基之碳數1~20之直鏈或支鏈烷基、可具有取代基之碳數3~20之環狀烷基、碳數2~20之烯基。關於上述芳基,可列舉:可具有取代基之碳數6~20之苯基、可具有取代基之碳數10~20之萘基等。關於雜環基,可列舉:可具有取代基之包含至少一個雜原子的5員環基或6員環基。再者,R 1及R 2可相互連結而形成環。R 1及R 2宜為氫原子、或者碳數1~3之直鏈或支鏈烷基,較佳為氫原子。
以X表示之官能基所包含的反應性基為選自於由乙烯基、(甲基)丙烯醯基、苯乙烯基、(甲基)丙烯醯胺基、乙烯醚基、環氧基、氧雜環丁烷基、羥基、胺基、醛基及羧基所構成群組中之至少1種。較佳的反應性基為(甲基)丙烯醯基及/或(甲基)丙烯醯胺基。藉由具有此等的反應性基,將碘透過抑制層與偏光件鄰接配置時,可進一步提高與偏光件之密著性。
於一實施形態中,以X表示之官能基宜為以Z-Y-表示之官能基。其中,Z表示包含選自於由乙烯基、(甲基)丙烯醯基、苯乙烯基、(甲基)丙烯醯胺基、乙烯醚基、環氧基、氧雜環丁烷基、羥基、胺基、醛基及羧基所構成群組中之至少1種反應性基的官能基,Y表示伸苯基或伸烷基。
關於共聚合單體,具體而言可使用以下的化合物。 [化學式4]
Figure 02_image011
[化學式5]
Figure 02_image013
共聚合單體係以相對於單體混合物100重量份為大於0重量份且小於50重量份的含量來使用。宜為0.01重量份以上且小於50重量份、較佳為0.05重量份~20重量份、更佳為0.1重量份~10重量份、尤宜為0.5重量份~5重量份。
<含內酯環等之丙烯酸系樹脂> 丙烯酸系樹脂於另一實施形態中,具有包含環結構之重複單元,該包含環結構之重複單元係選自內酯環單元、戊二酸酐單元、戊二醯亞胺單元、順丁烯二酸酐單元及馬來醯亞胺(N-取代馬來醯亞胺)單元。包含環結構之重複單元可於丙烯酸系樹脂之重複單元中僅包含1種、亦可包含2種以上。
內酯環單元宜以下述通式(2)表示:
[化學式6]
Figure 02_image015
於通式(2)中,R 2、R 3及R 4分別獨立表示氫原子或碳數1~20之有機殘基。又,有機殘基可包含氧原子。於丙烯酸系樹脂中可僅包含單一之內酯環單元,亦可包含上述通式(2)中之R 2、R 3及R 4各異的複數個內酯環單元。具有內酯環單元之丙烯酸系樹脂例如記載於日本特開2008-181078號公報,該公報之記載作為參考引用於本說明書中。
戊二醯亞胺單元宜以下述通式(3)表示:
[化學式7]
Figure 02_image017
於通式(3)中,R 11及R 12分別獨立表示氫或碳數1~8之烷基,R 13表示碳數1~18之烷基、碳數3~12之環烷基或碳數6~10之芳基。於通式(3)中,R 11及R 12宜分別獨立為氫或甲基,R 13為氫、甲基、丁基或環己基。較佳的是R 11為甲基、R 12為氫、R 13為甲基。於丙烯酸系樹脂中可僅包含單一之戊二醯亞胺單元、亦可包含上述通式(3)中之R 11、R 12及R 13各異的複數個戊二醯亞胺單元。具有戊二醯亞胺單元之丙烯酸系樹脂,例如記載於日本特開2006-309033號公報、日本特開2006-317560號公報、日本特開2006-328334號公報、日本特開2006-337491號公報、日本特開2006-337492號公報、日本特開2006-337493號公報、日本特開2006-337569號公報,該公報之記載可作為參考引用於本說明書中。再者,關於戊二酸酐單元,除了於上述通式(3)中之R 13中取代的氮原子成為氧原子以外,可應用與戊二醯亞胺單元相關的上述說明。
關於順丁烯二酸酐單元及馬來醯亞胺(N-取代馬來醯亞胺)單元,因為從名稱可特定出結構,故省略具體的說明。
丙烯酸系樹脂中之包含環結構的重複單元的含有比率,宜為1莫耳%~50莫耳%、較佳為10莫耳%~40莫耳%、更佳為20莫耳%~30莫耳%。再者,丙烯酸系樹脂係包含源自上述(甲基)丙烯酸系單體的重複單元作為主要的重複單元。
碘透過抑制層可藉由塗布上述樹脂之有機溶劑溶液而形成塗布膜,使該塗布膜固化或熱硬化而形成。關於有機溶劑,可使用能夠溶解或均勻地分散丙烯酸系樹脂的任意適當的有機溶劑。關於有機溶劑之具體例,可列舉:乙酸乙酯、甲苯、甲基乙基酮(MEK)、甲基異丁基酮(MIBK)、環戊酮、環己酮。溶液之樹脂濃度相對於溶劑100重量份宜為3重量份~20重量份。若為如此的樹脂濃度,可形成均勻的塗布膜。
溶液可塗布於任意適當的基材,亦可塗布於鄰接層(例如偏光件、相位差層)。當將溶液塗布於基材時,基材上所形成之塗布膜的固化物(碘透過抑制層)被轉印至鄰接層。當將溶液塗布於鄰接層時,藉由使塗布膜乾燥(固化),可於鄰接層上直接形成保護層。較佳為溶液塗布於鄰接層,於鄰接層上直接形成保護層。若為如此的構成,因為可省略轉印所需的接著劑層或黏著劑層,故可進一步減薄附相位差層之偏光板。關於塗布液之塗布方法,可採用任意適當的方法。關於具體例可列舉:輥塗法、旋塗法、線棒塗法、浸塗法、模塗法、淋幕塗法、噴塗法、刀塗法(逗點塗布法等)等。
藉由使溶液之塗布膜固化或熱硬化,可形成碘透過抑制層。固化或熱硬化之加熱溫度宜為100℃以下、較佳為50℃~70℃。若加熱溫度在如此的範圍,可防止對偏光件之不良影響。加熱時間可根據加熱溫度而改變。加熱時間例如可為1分鐘~10分鐘。
碘透過抑制層(實質上為上述樹脂之有機溶劑溶液)可根據目的而包含任意適當的添加劑。關於添加劑之具體例,可列舉:紫外線吸收劑;調平劑;受阻酚系、磷系、硫系等抗氧化劑;耐光穩定劑、耐候穩定劑、熱穩定劑等穩定劑;玻璃纖維、碳纖維等補強材;近紅外線吸收劑;三(二溴丙基)磷酸鹽、三烯丙基磷酸鹽、氧化銻等阻燃劑;陰離子系、陽離子系、非離子系界面活性劑等之抗靜電劑;無機顏料、有機顏料、染料等著色劑;有機填料或無機填料;樹脂改質劑;有機填充劑或無機填充劑;塑化劑;潤滑劑;抗靜電劑;阻燃劑等。添加劑之種類、數量、組合、添加量等可根據目的而適當地設定。
E.另一個相位差層 另一個相位差層如上所述,可為折射率特性顯示nz>nx=ny之關係的所謂的正C板。藉由使用正C板作為另一個相位差層,可良好地防止傾斜方向之反射,可使抗反射功能廣視角化。此時,另一個相位差層之厚度方向之相位差Rth(550)宜為-50nm~-300nm、較佳為-70nm~-250nm、更佳為-90nm~-200nm、尤宜為-100nm~-180nm。於此,「nx=ny」不僅包含nx與ny完全相等之情形,亦包含nx與ny實質上相等之情形。即,另一個相位差層之面內相位差Re(550)可為小於10nm。
具有nz>nx=ny之折射率特性的另一個相位差層可以任意適當的材料形成。另一個相位差層宜由包含固定在垂直定向的液晶材料的薄膜構成。可垂直定向的液晶材料(液晶化合物)可為液晶單體,亦可為液晶聚合物。關於該液晶化合物及該相位差層之形成方法之具體例,可舉例記載於日本特開2002-333642號公報之[0020]~[0028]的液晶化合物及該相位差層之形成方法。此時,另一個相位差層之厚度宜為0.5μm~10μm、較佳為0.5μm~8μm、更佳為0.5μm~5μm。
F.導電層或附導電層之各向同性基材 導電層可藉由任意適當的成膜方法(例如真空蒸鍍法、濺鍍法、CVD法、離子鍍覆法、噴塗法等),於任意適當的基材上成膜金屬氧化物膜而形成。關於金屬氧化物,例如可列舉:氧化銦、氧化錫、氧化鋅、銦-錫複合氧化物、錫-銻複合氧化物、鋅-鋁複合氧化物、銦-鋅複合氧化物。其中,較佳為銦-錫複合氧化物(ITO)。
導電層包含金屬氧化物時,該導電層之厚度宜為50nm以下、較佳為35nm以下。導電層之厚度之下限宜為10nm。
導電層可從上述基材轉印到相位差層(或者碘透過抑制層或如果存在時為另一個相位差層),以單獨的導電層形成附相位差層之偏光板之構成層,亦可作為與基材之積層體(附導電層之基材)積層於相位差層(或者碘透過抑制層或如果存在時為另一個相位差層)。較好的是,上述基材為光學各向同性,因此,導電層可以附導電層之各向同性基材之形式用於附相位差層之偏光板。
關於光學各向同性之基材(各向同性基材),可採用任意適當的各向同性基材。關於構成各向同性基材之材料,例如可列舉:將降冰片烯系樹脂或烯烴系樹脂等不具有共軛系之樹脂作為主骨架的材料、於丙烯酸系樹脂之主鏈中具有內酯環或戊二醯亞胺環等環狀結構的材料等。若使用如此的材料,在形成各向同性基材時可將伴隨分子鏈之定向所導致的相位差抑制得較小。各向同性基材之厚度宜為50μm以下、較佳為35μm以下。各向同性基材之厚度之下限,例如為20μm。
上述導電層及/或上述附導電層之各向同性基材之導電層可視需要而圖案化。藉由圖案化可形成導通部與絕緣部。結果可形成電極。電極可作為感知對觸控面板的接觸的觸控感測器電極而起作用。關於圖案化方法,可採用任意適當的方法。關於圖案化方法之具體例,可例舉:溼式蝕刻法、網版印刷法。
G.影像顯示裝置 上述A項至F項中記載的附相位差層之偏光板可應用於影像顯示裝置。因此,本發明之實施形態包含使用如此的附相位差層之偏光板的影像顯示裝置。關於影像顯示裝置之代表例,可列舉:液晶顯示裝置、電致發光(EL)顯示裝置(例如有機EL顯示裝置、無機EL顯示裝置)。本發明之實施形態之影像顯示裝置係於其視辨側具備上述A項至F項所記載之附相位差層之偏光板。附相位差層之偏光板係以使相位差層在影像顯示單元(例如液晶單元、有機EL單元、無機EL單元)側之方式(使偏光件在視辨側之方式)進行積層。如此的影像顯示裝置雖然非常薄型,但可明顯地抑制金屬構件之腐蝕。於一實施形態中,影像顯示裝置可具有彎曲的形狀(實質上為彎曲的顯示畫面)及/或可彎折或折疊。 實施例
以下,藉由實施例具體地說明本發明,但本發明並不限定於此等實施例。各特性之測定方法如下所述。又,若無特別說明,實施例及比較例中之「份」及「%」為重量基準。
(1)厚度 10μm以下之厚度係使用干涉膜厚計(大塚電子公司製、製品名「MCPD-3000」)進行測定。大於10μm之厚度係使用數位測微器(ANRITSU公司製、製品名「KC-351C」)進行測定。
(2)金屬腐蝕性1 於50μm之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜之單面,利用線棒以溼膜厚成為15μm之方式塗布銀奈米線液(MERCK公司製、奈米線尺寸:直徑115nm、長度20μm~50μm、固體成分0.5%之異丙醇(IPA)溶液),於100℃烘箱中乾燥5分鐘,形成銀奈米線塗膜。接著,使用線棒以溼膜厚成為10μm之方式於銀奈米線塗膜之表面塗布覆蓋保護液(固體成分濃度:約1%),該覆蓋保護液包含甲基異丁酮(MIBK)99份、新戊四醇四丙烯酸酯(PETA)1份及光聚合引發劑(BASF公司製、製品名「IRGACURE 907」)0.03份;然後於100℃烘箱中乾燥5分鐘。接著,照射活性能量線,使覆蓋保護塗膜硬化,製作出具有PET薄膜/銀奈米線層/覆蓋層(厚度100nm)之構造的金屬薄膜。將該金屬薄膜使用黏著劑(15μm)貼合於厚度0.5mm之玻璃板,獲得金屬薄膜/黏著劑/玻璃板之積層體。利用非接觸式電阻測定器(Napson公司製、製品名「EC-80」)測定獲得的積層體的電阻值,結果為50Ω/□。
將於實施例及比較例獲得之附相位差層之偏光板貼合於積層體之金屬薄膜之覆蓋保護層表面,以作為試驗樣品。利用非接觸式電阻測定器測定該試驗樣品之電阻值,以作為初始電阻值。進而,將試驗樣品進行可靠性試驗(於85℃、85%RH之環境下放置48小時後,於23℃、55%RH之環境下放置2小時)後,以與上述相同方法測定電阻值。藉由下式算出電阻值上升率。再者,當測定值(電阻值)超過非接觸式電阻測定器之測量極限(1000Ω/□)時,假定測定值為1500Ω/□。 電阻值上升率(%)={(可靠性試驗後之電阻值-初始電阻值)/初始電阻值}×100 進而,按以下基準進行評價。 ○:電阻值上升率小於200% ×:電阻值上升率為200%以上
(3)金屬腐蝕性2 以與「(2)金屬腐蝕性1」相同方法,將於實施例及比較例獲得之附相位差層之偏光板貼合於積層體之金屬薄膜之覆蓋保護層表面,以作為試驗樣品。利用非接觸式電阻測定器測定該試驗樣品之電阻值,以作為初始電阻值。將試驗樣品進行可靠性試驗(於85℃、85%RH之環境下放置200小時後,於23℃、55%RH之環境下放置2小時)。以下程序與「(2)金屬腐蝕性1」相同,算出電阻值上升率,並按以下基準進行評價。 ○:電阻值上升率小於200% △:電阻值上升率為200%以上且小於2000% ×:電阻值上升率為2000%以上
(4)剝離試驗 將實施例及比較例獲得的附相位差層之偏光板切出50mm×50mm,貼合於較切出尺寸大的玻璃板,作為試驗樣品。將該試驗樣品投入調整為20℃・98%RH之恆溫槽240小時。將試驗樣品從恆溫槽取出後,使用十字起子從附相位差層之偏光板距離角部3mm處給予損害,將黏著膠帶(NICHIBAN公司製、寬度18mm)貼合於損害部,將附相位差層之偏光板從玻璃高速剝離。對一個角部實施二次黏貼、剝離黏著膠帶的作業,確認附相位差層之偏光板之層間剝離。將於4個角部皆未發生剝離者評價為「○」、1個角部以上發生剝離者評價為「×」。
[製造例1:含硼之丙烯酸系樹脂之製作] 將甲基丙烯酸甲酯(MMA、富士薄膜和光純藥製、商品名:甲基丙烯酸甲酯單體)99.0重量份、通式(1e)之單體1.0重量份、聚合引發劑(富士薄膜和光純藥公司製、商品名:2,2´-偶氮雙(異丁腈))0.2重量份溶解於甲苯100重量份。接著,一面於氮氣氛圍下加熱到70℃,一面進行5小時聚合反應,得到共聚物1(固體成分濃度:50重量%)。共聚物1之Tg為110℃、重量平均分子量為80,000。
[製造例2:偏光板之製作] 1.偏光件之製作 使用長條狀、吸水率0.75%、Tg為約75℃的非晶質的間苯二甲酸共聚合聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(厚度:100μm)作為熱塑性樹脂基材。於樹脂基材之單面實施電暈處理。 將以9:1混合聚乙烯醇(聚合度4200、皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改質PVA(日本合成化學工業公司製、商品名「GOHSEFIMER Z410」)而成之PVA系樹脂100重量份中添加碘化鉀13重量份而成者溶解於水中,製備PVA水溶液(塗布液)。 於樹脂基材之電暈處理面塗布上述PVA水溶液,於60℃進行乾燥,藉此形成厚度13μm之PVA系樹脂層,製作積層體。 將獲得之積層體於130℃烘箱內於周速不同的輥間於縱向(長度方向)自由端單軸延伸至2.4倍(空中輔助延伸處理)。 接著,將積層體浸漬於液溫40℃之不溶化浴(相對於水100重量份調配硼酸4重量份而獲得之硼酸水溶液)30秒(不溶化處理)。 接著,以最後獲得之偏光件之單體透過率(Ts)成為43.0%以上之方式,一面調整濃度一面於液溫30℃之染色浴(相對於水100重量份以1:7重量比調配碘與碘化鉀而獲得之碘水溶液)中浸漬60秒(染色處理)。 接著,浸漬於液溫40℃之交聯浴(相對於水100重量份調配3重量份碘化鉀、5重量份硼酸而得之硼酸水溶液)30秒(交聯處理)。 然後,將積層體一面浸漬於液溫70℃之硼酸水溶液(硼酸濃度4.0重量%、碘化鉀濃度5重量%)、一面於周速不同之滾筒之間於縱向(長度方向)以總延伸倍率成為5.5倍之方式進行單軸延伸(水中延伸處理)。 接著,將積層體浸漬於液溫20℃之洗淨浴(相對於水100重量份調配4重量份碘化鉀而得之水溶液)(洗淨處理)。 之後,一面於保持於90℃之烘箱中一面乾燥、一面使之接觸表面溫度保持於75℃之SUS製加熱輥約2秒(乾燥收縮處理)。利用乾燥收縮處理所致的積層體之寬度方向之收縮率為5.2%。 藉此,於樹脂基材上形成厚度5μm之偏光件。
2.偏光板之製作 於上述獲得之偏光件之表面(與樹脂基材為相反側之面)經由紫外線硬化型接著劑貼合作為保護層之HC-COP薄膜。具體而言,以硬化型接著劑之總厚度成為1.0μm之方式塗布,並使用輥壓機進行貼合。之後,從保護層側照射UV光線,使接著劑硬化。再者,HC-COP薄膜係於環烯烴(COP)薄膜(日本ZEON公司製、製品名「ZF12」、厚度25μm)上形成有硬塗(HC)層(厚度2μm)之薄膜,其係以使COP薄膜在偏光件側之方式進行貼合。接著,將樹脂基材剝離,獲得具有保護層(HC層/COP薄膜)/接著劑層/偏光件之構造的偏光板。
[製造例3:構成相位差層之第1定向固化層及第2定向固化層之製作] 將表現向列液晶相之聚合性液晶(BASF公司製:商品名「Paliocolor LC242」、以下式表示)10g、與針對該聚合性液晶化合物之光聚合引發劑(BASF公司製:商品名「IRGACURE 907」)3g溶解於甲苯40g,製備液晶組成物(塗層液)。 [化學式8]
Figure 02_image019
使用摩擦布摩擦聚對苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜(厚度38μm)表面,實施定向處理。定向處理之方向係在貼合於偏光板時,從視辨側來看,相對於偏光件之吸收軸之方向為15°方向。利用棒塗佈機於該定向處理表面上塗佈上述液晶塗層液,於90℃加熱乾燥2分鐘,藉此使液晶化合物定向。使用金屬鹵素燈對如此形成的液晶層照射1mJ/cm 2的光,使該液晶層硬化,藉此於PET薄膜上形成液晶定向固化層A。液晶定向固化層A之厚度為2.5μm,面內相位差Re(550)為270nm。進而,液晶定向固化層A具有nx>ny=nz之折射率分布。 除了變更塗層厚度、及從視辨側來看使定向處理方向相對於偏光件之吸收軸之方向為75°方向以外,與上述相同方法,於PET薄膜上形成液晶定向固化層B。液晶定向固化層B之厚度為1.5μm,面內相位差Re(550)為140nm。進而,液晶定向固化層B具有nx>ny=nz之折射率分布。
[實施例1] 於製造例2獲得的偏光板的偏光件表面依序轉印製造例3獲得的液晶定向固化層A及液晶定向固化層B。此時,以使偏光件之吸收軸與液晶定向固化層A之慢軸所形成的角度為15°、使偏光件之吸收軸與液晶定向固化層B之慢軸所形成的角度為75°之方式進行轉印(貼合)。再者,各轉印(貼合)係經由製造例2使用的紫外線硬化型接著劑(厚度1.0μm)進行。藉此,製作出具有保護層(HC層/COP薄膜)/接著劑層/偏光件/接著劑層/相位差層(第1液晶定向固化層/接著劑層/第2液晶定向固化層)之構造的積層體。
對於製造例1獲得之共聚物1(含硼之丙烯酸系樹脂)15份(換算成固體成分)及熱塑性環氧樹脂(三菱化學股份有限公司製、商品名「jER(註冊商標)YX6954BH30」)85份(換算成固體成分)之摻合物95份,添加異氰酸酯化合物(東曹公司製、「CORONATE L」:甲苯二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物)5份。樹脂摻合物之Tg為125℃,重量平均分子量為46,000。將該混合物溶解於乙酸乙酯/環戊酮(70/30)之混合溶劑80份中,得到樹脂溶液(20%)。將該樹脂溶液使用線棒塗布於上述獲得之積層體之第2液晶定向固化層表面,將塗布膜於60℃下乾燥5分鐘,形成以樹脂之有機溶劑溶液之塗布膜的固化物構成的碘透過抑制層(厚度0.5μm)。接著,於碘透過抑制層表面設置黏著劑層(厚度15μm),獲得具有保護層(HC層/COP薄膜)/接著劑層/偏光件/接著劑層/相位差層(第1液晶定向固化層/接著劑層/第2液晶定向固化層)/碘透過抑制層/黏著劑層之構造的附相位差層之偏光板。獲得之附相位差層之偏光板之總厚度為39.5μm。將獲得之附相位差層之偏光板進行上述(2)~(4)之評價。將結果顯示於表1。
[實施例2] 除了使用對於樹脂摻合物10份添加異氰酸酯化合物90份的混合物來形成碘透過抑制層以外,以與實施例1相同方法製作出附相位差層之偏光板。將獲得之附相位差層之偏光板進行與實施例1相同評價。將結果顯示於表1。
[實施例3] 除了使用對於樹脂摻合物80份添加異氰酸酯化合物20份的混合物來形成碘透過抑制層、及將該碘透過抑制層形成於偏光件與第1液晶定向固化層之間以外,以與實施例1相同方法製作出具有保護層(HC層/COP薄膜)/接著劑層/偏光件/接著劑層/碘透過抑制層/相位差層(第1液晶定向固化層/接著劑層/第2液晶定向固化層)/黏著劑層之構造的附相位差層之偏光板。將獲得之附相位差層之偏光板進行與實施例1相同評價。將結果顯示於表1。
[實施例4] 除了使用對於共聚物1(含硼之丙烯酸系樹脂)80份添加異氰酸酯化合物20份的混合物來形成碘透過抑制層以外,以與實施例1相同方法製作出附相位差層之偏光板。將獲得之附相位差層之偏光板進行與實施例1相同評價。將結果顯示於表1。
[實施例5] 除了使用對於熱塑性環氧樹脂(三菱化學股份有限公司製、商品名「jER(註冊商標)YX6954BH30」)80份添加異氰酸酯化合物20份的混合物來形成碘透過抑制層以外,以與實施例1相同方法製作出附相位差層之偏光板。該環氧樹脂之Tg為130℃,重量平均分子量為38,000。將獲得之附相位差層之偏光板進行與實施例1相同評價。將結果顯示於表1。
[實施例6] 除了取代「YX6954BH30」,改為使用三菱化學股份有限公司製、商品名「jER(註冊商標)YX7200B35」)作為熱塑性環氧樹脂來形成碘透過抑制層以外,以與實施例5相同方法製作出附相位差層之偏光板。該環氧樹脂之Tg為150℃,重量平均分子量為30,000。將獲得之附相位差層之偏光板進行與實施例1相同評價。將結果顯示於表1。
[實施例7] 除了使用對於樹脂摻合物80份添加異氰酸酯化合物(東曹公司製、「CORONATE 2067」:二苯甲烷二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物)20份的混合物來形成碘透過抑制層以外,以與實施例1相同方法製作出附相位差層之偏光板。將獲得之附相位差層之偏光板進行與實施例1相同評價。將結果顯示於表1。
[實施例8] 除了使用對於樹脂摻合物80份添加異氰酸酯化合物(三井化學公司製、「TAKENATE D110N」:間二甲苯二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物)20部的混合物來形成碘透過抑制層以外,以與實施例1相同方法製作出附相位差層之偏光板。將獲得之附相位差層之偏光板進行與實施例1相同評價。將結果顯示於表1。
[實施例9] 除了於偏光件與第1液晶定向固化層之間進一步形成有僅使用共聚物1(即不含異氰酸酯化合物)的碘透過抑制層以外,以與實施例3相同方法製作出具有保護層(HC層/COP薄膜)/接著劑層/偏光件/碘透過抑制層/接著劑層/相位差層(第1液晶定向固化層/接著劑層/第2液晶定向固化層)/碘透過抑制層/黏著劑層之構造的附相位差層之偏光板。將獲得之附相位差層之偏光板進行與實施例1相同評價。將結果顯示於表1。
[實施例10] 除了於偏光件與第1液晶定向固化層之間進一步形成有與實施例3相同的碘透過抑制層以外,以與實施例3相同方法製作出具有保護層(HC層/COP薄膜)/接著劑層/偏光件/接著劑層/碘透過抑制層/相位差層(第1液晶定向固化層/接著劑層/第2液晶定向固化層)/碘透過抑制層/黏著劑層之構造的附相位差層之偏光板。將獲得之附相位差層之偏光板進行與實施例1相同評價。將結果顯示於表1。
[實施例11] 除了於偏光件與第1液晶定向固化層之間,從偏光件側起依序進一步形成有僅使用共聚物1(即不含異氰酸酯化合物)的碘透過抑制層以及與實施例3相同的碘透過抑制層以外,以與實施例3相同方法製作出具有保護層(HC層/COP薄膜)/接著劑層/偏光件/碘透過抑制層/接著劑層/碘透過抑制層/相位差層(第1液晶定向固化層/接著劑層/第2液晶定向固化層)/碘透過抑制層/黏著劑層之構造的附相位差層之偏光板。將獲得之附相位差層之偏光板進行與實施例1相同評價。將結果顯示於表1。
[比較例1] 除了未形成碘透過抑制層以外,以與實施例1相同方法製作出具有保護層(HC層/COP薄膜)/接著劑層/偏光件/接著劑層/相位差層(第1液晶定向固化層/接著劑層/第2液晶定向固化層)/黏著劑層之構造的附相位差層之偏光板。將獲得之附相位差層之偏光板進行與實施例1相同評價。將結果顯示於表1。
[比較例2] 除了形成僅使用丙烯酸系樹脂(楠本化成公司製「B-723」、Tg:54℃、Mw:200,000)(即,不含異氰酸酯化合物)的碘透過抑制層以外,以與實施例1相同方法製作出附相位差層之偏光板。將獲得之附相位差層之偏光板進行與實施例1相同評價。將結果顯示於表1。
[比較例3] 除了形成僅使用樹脂摻合物(即不含異氰酸酯化合物)的碘透過抑制層以外,以與實施例1相同方法製作出附相位差層之偏光板。將獲得之附相位差層之偏光板進行與實施例1相同評價。將結果顯示於表1。
[比較例4] 除了使用對於樹脂摻合物80份添加異氰酸酯化合物(三井化學公司製、「TAKENATE D160N」:六亞甲基二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物)20部的混合物來形成碘透過抑制層以外,以與實施例1相同方法製作出附相位差層之偏光板。將獲得之附相位差層之偏光板進行與實施例1相同評價。將結果顯示於表1。
[表1]
Figure 02_image021
再者,於表1中,構成樹脂之欄之「環氧/丙烯酸」表示環氧系樹脂與丙烯酸系樹脂之摻合物;形成位置之欄之數字表示圖式符號。因此,例如「11」表示偏光件。
[評價] 由表1可明白,本發明之實施例之附相位差層之偏光板可明顯地抑制高溫高溼環境下之金屬腐蝕性。因此,可知本發明之實施例之附相位差層之偏光板應用於影像顯示裝置時,可抑制金屬構件之腐蝕。進而,若比較實施例1~8與實施例9~11可明白,藉由設置2層以上的碘透過抑制層,可明顯地抑制金屬腐蝕性。此外,本發明之實施例之附相位差層之偏光板可抑制碘透過抑制層與相位差層之剝離。 產業上之可利用性
本發明之附相位差層之偏光板可適合用作液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置及無機EL顯示裝置用的圓偏光板。
10:偏光板 11:偏光件 12:保護層 20:相位差層 21:第1液晶定向固化層 22:第2液晶定向固化層 30:黏著劑層 40:碘透過抑制層 100:附相位差層之偏光板 101:附相位差層之偏光板 102:附相位差層之偏光板 103:附相位差層之偏光板 104:附相位差層之偏光板 105:附相位差層之偏光板 106:附相位差層之偏光板 107:附相位差層之偏光板 108:附相位差層之偏光板 109:附相位差層之偏光板
圖1A係本發明之一實施形態之附相位差層之偏光板的概略剖面圖。 圖1B係本發明之另一實施形態之附相位差層之偏光板的概略剖面圖。 圖1C係本發明之又一實施形態之附相位差層之偏光板的概略剖面圖。 圖1D係本發明之又一實施形態之附相位差層之偏光板的概略剖面圖。 圖2A係本發明之又一實施形態之附相位差層之偏光板的概略剖面圖。 圖2B係本發明之又一實施形態之附相位差層之偏光板的概略剖面圖。 圖2C係本發明之又一實施形態之附相位差層之偏光板的概略剖面圖。 圖2D係本發明之又一實施形態之附相位差層之偏光板的概略剖面圖。 圖2E係本發明之又一實施形態之附相位差層之偏光板的概略剖面圖。 圖2F係本發明之又一實施形態之附相位差層之偏光板的概略剖面圖。
10:偏光板
11:偏光件
12:保護層
20:相位差層
30:黏著劑層
40:碘透過抑制層
100:附相位差層之偏光板

Claims (13)

  1. 一種附相位差層之偏光板,係從視辨側起依序具有包含偏光件之偏光板、相位差層及黏著劑層; 於該偏光件與該黏著劑層之間設置有至少1層的碘透過抑制層,該碘透過抑制層為樹脂之有機溶劑溶液之塗布膜的固化物或熱硬化物; 與該相位差層鄰接之碘透過抑制層包含樹脂與異氰酸酯化合物; 該樹脂之玻璃轉移溫度為85℃以上,且重量平均分子量Mw為25000以上; 該異氰酸酯化合物為選自甲苯二異氰酸酯、二苯甲烷二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯及此等之衍生物中之至少一者; 該樹脂與該異氰酸酯化合物之含有比例(樹脂/異氰酸酯化合物)為95/5~10/90。
  2. 如請求項1之附相位差層之偏光板,其中前述碘透過抑制層設置有2層以上。
  3. 如請求項2之附相位差層之偏光板,其中前述2層以上的碘透過抑制層係與前述相位差層鄰接設置。
  4. 如請求項2之附相位差層之偏光板,其中前述2層以上的碘透過抑制層中之1層係與前述偏光件鄰接設置。
  5. 如請求項1至4中任一項之附相位差層之偏光板,其中前述碘透過抑制層之厚度為0.05μm~10μm。
  6. 如請求項1至5中任一項之附相位差層之偏光板,其中構成前述碘透過抑制層之樹脂包含環氧樹脂。
  7. 如請求項1至6中任一項之附相位差層之偏光板,其中構成前述碘透過抑制層的樹脂包含藉由使單體混合物聚合而獲得的共聚物,該單體混合物包含大於50重量份的(甲基)丙烯酸系單體、與大於0重量份且小於50重量份的式(1)所示單體: [化學式1]
    Figure 03_image023
    (式中,X表示官能基,且該官能基包含選自於由乙烯基、(甲基)丙烯醯基、苯乙烯基、(甲基)丙烯醯胺基、乙烯醚基、環氧基、氧雜環丁烷基、羥基、胺基、醛基及羧基所構成群組中之至少1種反應性基;R 1及R 2分別獨立表示氫原子、可具有取代基之脂肪族烴基、可具有取代基之芳基或可具有取代基之雜環基;R 1及R 2可相互連結而形成環)。
  8. 如請求項1至7中任一項之附相位差層之偏光板,其中前述相位差層為具有圓偏光功能或橢圓偏光功能之液晶化合物的定向固化層。
  9. 如請求項1至8中任一項之附相位差層之偏光板,其中前述相位差層為單一層, 該相位差層之Re(550)為100nm~190nm, 該相位差層之慢軸與前述偏光件之吸收軸所形成的角度為40°~50°。
  10. 如請求項1至8中任一項之附相位差層之偏光板,其中前述相位差層具有第1液晶化合物之定向固化層與第2液晶化合物之定向固化層的積層構造; 該第1液晶化合物之定向固化層之Re(550)為200nm~300nm,其慢軸與前述偏光件之吸收軸所形成的角度為10°~20°; 該第2液晶化合物之定向固化層之Re(550)為100nm~190nm,其慢軸與該偏光件之吸收軸所形成的角度為70°~80°。
  11. 如請求項1至10中任一項之附相位差層之偏光板,其總厚度為60μm以下。
  12. 一種影像顯示裝置,係具備如請求項1至11中任一項之附相位差層之偏光板。
  13. 如請求項12之影像顯示裝置,其係有機電致發光顯示裝置或無機電致發光顯示裝置。
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