TW202417902A - 積層體及圖像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種薄且耐久性優異之積層體。 本發明之實施方式之積層體具有包含偏光元件之偏光板、第一黏著劑層、以及配置於上述偏光元件與上述第一黏著劑層之間之樹脂層，上述偏光元件與上述樹脂層相鄰地配置，上述樹脂層包含玻璃轉移溫度為85℃以上、重量平均分子量Mw為25000以上之樹脂，上述第一黏著劑層之厚度為25 μm以下，-25℃下之儲存彈性模數為6.5×10 6Pa以上。

Description

積層體及圖像顯示裝置
本發明係關於一種積層體及圖像顯示裝置。
以液晶顯示裝置及電致發光(EL)顯示裝置(例如有機EL顯示裝置、無機EL顯示裝置)為代表之圖像顯示裝置正在迅速普及。於搭載於圖像顯示裝置之圖像顯示面板中，一般使用偏光板。具有代表性的是，廣泛地使用使相位差層與偏光板一體化而成之積層體(例如專利文獻1)。近年來，對圖像顯示裝置之薄型化之要求更加強烈，亦強烈要求上述積層體之薄型化。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2022-013705號公報
[發明所欲解決之問題]
隨著上述積層體之薄型化，有時不能充分確保積層體之耐久性。例如，於圖像顯示面板之製造過程中，有時在積層體上產生裂紋。
本發明係鑒於上述問題而完成者，其主要目的在於提供一種薄且耐久性優異之積層體。 [解決問題之技術手段]
1.本發明之實施方式之積層體具有：包含偏光元件之偏光板、第一黏著劑層、以及配置於上述偏光元件與上述第一黏著劑層之間之樹脂層，上述偏光元件與上述樹脂層相鄰地配置，上述樹脂層包含玻璃轉移溫度為85℃以上、重量平均分子量Mw為25000以上之樹脂，上述第一黏著劑層之厚度為25 μm以下、-25℃下之儲存彈性模數為6.5×10 6Pa以上。 2.如上述1中記載之積層體，其中上述第一黏著劑層亦可包含抗靜電劑。上述抗靜電劑亦可為熔點為23℃以上之離子性化合物。 3.如上述2中記載之積層體，其中構成上述離子性化合物之陰離子亦可為雙(三氟甲磺醯)亞胺陰離子。 4.如上述2或3中記載之積層體，其中上述離子性化合物亦可為鹼金屬鹽。 5.如上述4中記載之積層體，其中上述鹼金屬鹽亦可為鋰鹽。 6.如上述2至5中任一項記載之積層體，其中上述抗靜電劑之含量亦可相對於上述第一黏著劑層之基礎聚合物100重量份為3重量份以下。 7.如上述2至6中任一項記載之積層體，其中上述第一黏著劑層之表面電阻率亦可為9×10 11Ω/□以下。 8.如上述1至7中任一項記載之積層體亦可具有配置於上述樹脂層與上述第一黏著劑層之間且至少包含第一相位差層之相位差層。從上述偏光板到上述相位差層之積層部分之厚度亦可為120 μm以下。 9.如上述8中記載之積層體，其中上述第一相位差層亦可為樹脂膜之延伸膜。 10.如上述8或9中記載之積層體，其中上述第一相位差層之厚度亦可為10 μm以上。 11.如上述8至10中任一項記載之積層體，其中上述第一相位差層之Re(550)亦可為100 nm～190 nm、Re(450)/Re(550)亦可為0.8以上且未達1。 12.本發明之另一實施方式之圖像顯示裝置具有如上述1至11中任一項記載之積層體。 13.本發明之又一實施方式之有機EL顯示裝置具有如上述1至11中任一項記載之積層體。 14.如上述13中記載之有機EL顯示裝置，其中上述積層體亦可具有異形加工部。 15.本發明之又一實施方式之圖像顯示裝置之製造方法包含：準備如上述1至11中任一項記載之積層體；以及於圖像顯示面板本體上貼合上述積層體。 [發明之效果]
根據本發明之實施方式，可提供一種薄且耐久性優異之積層體。
以下，參照圖式對本發明之實施方式進行說明，但本發明不限定於該等實施方式。為了使說明更明確，與實施方式相比，圖式有時模式性地表示各部分之寬度、厚度、形狀等，但只不過是一個例子，並不限定本發明之解釋。關於圖式，對相同或同等之要素標註相同之符號，有時省略重複之說明。又，於本說明書中，(甲基)丙烯酸係指丙烯酸及/或甲基丙烯酸。
(術語及記號之定義) 本說明書中之術語及記號之定義如下所述。 (1)折射率(nx、ny、nz) 「nx」係面內之折射率最大之方向(即慢軸方向)之折射率，「ny」係在面內與慢軸正交之方向(即快軸方向)之折射率，「nz」係厚度方向之折射率。 (2)面內相位差(Re) 「Re(λ)」係23℃下之由波長λ nm之光測定之面內相位差。例如，「Re(550)」係23℃下之由波長550 nm之光測定之面內相位差。Re(λ)係在將層(膜)之厚度設為d(nm)時，由式：Re(λ)=(nx-ny)×d求出。 (3)厚度方向之相位差(Rth) 「Rth(λ)」係23℃下之由波長λ nm之光測定之厚度方向之相位差。例如，「Rth(550)」係23℃下之由波長550 nm之光測定之厚度方向之相位差。Rth(λ)係在將層(膜)之厚度設為d(nm)時，由式：Rth(λ)=(nx-nz)×d求出。 (4)Nz係數 Nz係數由Nz=Rth/Re求出。 (5)角度 本說明書中提及角度時，該角度相對於基準方向包含順時針及逆時針兩者。因此，例如「45°」係指順時針45°及逆時針45°。
A.積層體 圖1係表示本發明之一實施方式之積層體之概略構成之模式性剖視圖。積層體100從圖1之上側依次具有偏光板10、樹脂層20及第一黏著劑層31。又，積層體100具有配置於樹脂層20與第一黏著劑層31之間之相位差層40，相位差層40經由第二黏著劑層32配置於樹脂層20。再者，有時將積層體100稱為附相位差層之偏光板。
偏光板10包含具有相互對向之第一主面11a及第二主面11b之偏光元件11，進而包含配置於偏光元件11之第一主面11a側之保護層12。於圖示例中，於偏光元件11與樹脂層20之間未配置保護層，樹脂層20與偏光元件11相鄰地配置。藉由如此省略保護層，可有助於積層體之薄型化。樹脂層20例如可降低偏光元件11對其他構件造成之影響。積層體100代表性地被用於圖像顯示裝置，於圖像顯示裝置中以偏光元件11較樹脂層20靠視認側之方式被配置。
相位差層40具有包含第一相位差層41及第二相位差層42之積層結構。與圖示例不同，相位差層40可具有三層以上之積層結構，亦可被設定為單層。
積層體(附相位差層之偏光板)100亦可進而具有未圖示出之其他功能層。積層體可具有之其他功能層之種類、特性、數量、組合、配置等可根據目的而適當設定。例如，附相位差層之偏光板亦可進而具有導電層或附導電層之各向同性基材。具有導電層或附導電層之各向同性基材之附相位差層之偏光板例如應用於在圖像顯示面板內部組裝有觸控感測器之所謂內觸控面板型輸入顯示裝置。進而，作為其他例子，附相位差層之偏光板亦可進而具有其他相位差層。其他相位差層之光學特性(例如折射率特性、面內相位差、Nz係數、光彈性係數)、厚度、配置等可根據目的而適當設定。作為具體例子，亦可在偏光元件之視認側設置改善經由偏光太陽鏡視認之情形時之視認性的其他相位差層(具有代表性的是賦予(橢圓)圓偏光功能之層、賦予超高相位差之層)。藉由設置此種層，即使在經由偏光太陽鏡等偏光透鏡視認顯示畫面之情形時，亦可實現優異之視認性，亦可適合用於在室外可使用之圖像顯示裝置。
構成積層體100之各構件可經由任意適當之接著層而積層。作為接著層之具體例子，可舉出接著劑層、黏著劑層。雖然未圖示，但保護層12例如經由接著劑層(較佳為使用活性能量射線固化型接著劑)貼合於偏光元件11。又，例如，第一相位差層41與第二相位差層42經由接著劑層(較佳為使用活性能量射線固化型接著劑)積層。接著劑層之厚度例如為0.05 μm以上，較佳為0.4 μm～3.0 μm，更佳為0.6 μm～2.2 μm。
從偏光板10到第一黏著劑層31之積層部分之厚度(以下有時稱為總厚度)例如為160 μm以下，較佳為140 μm以下，更佳為120 μm以下。再者，總厚度包含接著層之厚度。
藉由第一黏著劑層31，例如，積層體100能夠貼附於包含於圖像顯示裝置之圖像顯示面板。雖然未圖示出，但在實際應用上，於第一黏著劑層31之表面貼合有剝離襯墊。剝離襯墊可被臨時貼附直至積層體供於使用。藉由使用剝離襯墊，例如，能夠保護第一黏著劑層31，並且能夠形成積層體100之捲筒。
積層體100可為單片狀，亦可為長條狀。於本說明書中，「長條狀」係指長度相對於寬度而言充分長之細長形狀，例如，包含長度相對於寬度為10倍以上、較佳為20倍以上之細長形狀。長條狀之積層體能夠捲繞成卷狀。
單片狀之積層體100之俯視形狀沒有特別限定。單片狀之積層體之俯視形狀具有代表性的是矩形。單片狀之積層體之俯視形狀亦可為矩形以外之形狀。於此，矩形以外之形狀不僅包含外周為矩形以外之情況，例如亦包含在面內具有貫通孔之情況。作為外周為矩形以外之情況之具體例子，可舉出外周被局部切除之形狀、角部被倒角之形狀。於處理具有貫通孔、切口部、倒角部等異形加工部之單片狀之積層體之情形時，容易引起彎折或局部應力集中，具有更容易產生裂紋之傾向。再者，異形加工部之形成例如可在使積層體100與後述之圖像顯示面板本體(例如有機EL面板本體)一體化之前進行，亦可在使積層體100與圖像顯示面板本體一體化後之狀態下進行。
B.偏光板 偏光板10包含具有相互對向之第一主面11a及第二主面11b之偏光元件11，亦可進而包含配置於第一主面11a側之保護層12。
B-1.偏光元件 偏光元件11代表性地為包含二色性物質(例如碘)之樹脂膜。作為樹脂膜，例如可舉出聚乙烯醇(PVA)系膜、部分甲縮醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜。
偏光元件之厚度例如為18 μm以下，較佳為15 μm以下，更佳為12 μm以下，進而較佳為8 μm以下。根據此種厚度，例如，可大大地有助於積層體之薄型化。偏光元件較薄者出現裂紋之風險可能會變高。又，從改善偏光元件之脫色(例如端部脫色)之觀點出發，提高配向性(例如進一步提高硼酸交聯)可能有利，但可能與裂紋為折衷之關係。偏光元件之厚度較佳為1 μm以上。
偏光元件較佳為在波長380 nm～780 nm之任意波長下顯示吸收二色性。偏光元件之單體透射率例如為40.0%～46.0%，較佳為41.0%～45.0%，更佳為41.5%～44.5%。偏光元件之偏光度較佳為97.0%以上，更佳為99.0%以上，進而較佳為99.9%以上。
偏光元件可以任意適當之方法製作。具體而言，偏光元件可由單層之樹脂膜製作，亦可使用包含基材之積層體來製作。
由上述單層之樹脂膜製作偏光元件之方法代表性地包含對樹脂膜實施由碘、二色性染料等二色性物質進行之染色處理及延伸處理。作為樹脂膜，例如使用聚乙烯醇(PVA)系膜、部分甲縮醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜。該方法亦可進而包含不溶化處理、膨潤處理、交聯處理等。此種製造方法係在本領域中公知慣用之方法，故省略詳細說明。
使用包含上述基材之積層體而得到之偏光元件例如可使用樹脂基材與樹脂膜或樹脂層(具有代表性的是PVA系樹脂層)之積層體來製作。具體而言，可藉由如下之方式製作：將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材，使其乾燥而在樹脂基材上形成PVA系樹脂層，從而得到樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體；對該積層體進行延伸及染色，將PVA系樹脂層作為偏光元件。於本實施方式中，較佳為於樹脂基材之單側形成包含鹵化物及PVA系樹脂之PVA系樹脂層。延伸代表性地包含將積層體浸漬於硼酸水溶液中進行延伸。進而，根據需要，延伸亦可進而包含在硼酸水溶液中之延伸之前將積層體在高溫(例如95℃以上)下進行空中延伸。此外，於本實施方式中，較佳為將積層體供於乾燥收縮處理，該乾燥收縮處理係藉由一面在長度方向上輸送一面加熱，使其在寬度方向上收縮2%以上。具有代表性的是，本實施方式之製造方法包含對積層體依次實施空中輔助延伸處理、染色處理、水中延伸處理及乾燥收縮處理。藉由導入輔助延伸，即使在熱塑性樹脂上塗佈PVA之情形時，亦能夠提高PVA之結晶性，可實現高光學特性。又，藉由同時事先提高PVA之配向性，於之後之染色步驟、延伸步驟中浸漬於水中時，能夠防止PVA之配向性之降低、溶解等問題，可實現高光學特性。進而，於將PVA系樹脂層浸漬於液體中之情形時，與PVA系樹脂層不含鹵化物之情況相比，可抑制PVA分子之配向之混亂及配向性之降低，可實現高光學特性。進而，藉由利用乾燥收縮處理使積層體在寬度方向上收縮，可實現高光學特性。可在從得到之樹脂基材/偏光元件之積層體剝離樹脂基材之剝離面、或在與剝離面相反側之面上積層保護層而得到偏光板。此種偏光元件之製造方法之詳細情況例如記載於日本專利特開2012-73580號公報、日本專利第6470455號。該等公報之整體之記載作為參考引用至本說明書中。
B-2.保護層 保護層12例如可由能夠作為偏光元件之保護層使用之任意適當之樹脂膜形成。作為成為該樹脂膜之主成分之樹脂之具體例子，可舉出三乙醯纖維素(TAC)等纖維素系樹脂、聚酯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碸系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚降𦯉烯等環烯烴系樹脂、聚烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、乙酸酯系樹脂等。
積層體100代表性地配置在圖像顯示裝置之視認側，保護層12配置在視認側。因此，根據需要，亦可對保護層12實施硬塗(HC)處理、防反射處理、防黏連處理、防眩處理等表面處理。
保護層之厚度例如為5 μm～80 μm，較佳為10 μm～50 μm，進而較佳為15 μm～35 μm。再者，於實施了上述表面處理之情形時，保護層之厚度係包含表面處理層之厚度在內之厚度。
C.樹脂層 樹脂層20可具有阻擋功能。樹脂層20能夠抑制可能包含於偏光元件之碘之移動，能夠抑制偏光元件之脫色(例如外周端部之脫色、在積層體具有貫通孔之情形時包圍貫通孔之區域中之脫色)。又，樹脂層20可抑制可能包含於偏光元件之碘之移動，可降低偏光元件對其他構件造成之影響。例如，於將積層體搭載於圖像顯示裝置(例如有機EL顯示裝置)之情形時，可抑制圖像顯示裝置之金屬構件之腐蝕。
樹脂層具有代表性的是樹脂之有機溶劑溶液之塗佈膜之固化物或硬化物。根據此種構成，與偏光元件之密接性會優異。具體而言，可不經由接著層而與偏光元件相鄰地配置。又，能夠使樹脂層之厚度非常薄。樹脂層之厚度例如為10 μm以下，較佳為5 μm以下，更佳為1 μm以下，進而較佳為0.7 μm以下。樹脂層之厚度較佳為0.05 μm以上，更佳為0.08 μm以上，進而較佳為0.1 μm以上，特別較佳為0.2 μm以上。
在一實施方式中，構成樹脂層之樹脂之玻璃轉移溫度(Tg)為85℃以上，並且重量平均分子量(Mw)為25000以上。構成樹脂層之樹脂之Tg較佳為90℃以上，更佳為100℃以上，進而較佳為110℃以上，特別較佳為120℃以上。Tg例如可為200℃以下。又，構成樹脂層之樹脂之Mw較佳為30000以上，更佳為35000以上，進而較佳為40000以上。藉由使構成樹脂層之樹脂之Tg及Mw在此種範圍內，儘管厚度非常薄，亦能夠實現優異之阻擋功能。
另一方面，此種樹脂層硬，存在容易產生裂紋之傾向。具體而言，於偏光元件11之第二主面11b側未配置保護層之情形時，若從偏光元件11之第一主面11a側向積層體100施加衝擊(以下有時稱為外部衝擊)，則有時在樹脂層20產生裂紋。例如在以單片狀處理積層體時、將積層體貼合於圖像顯示面板本體時、貼合後之檢查時、在積層體上貼合其他構件時、在向圖像顯示面板本體貼合之前將複數張積層體重疊保管、輸送時等，可能產生外部衝擊。又，樹脂層20之裂紋有時亦會對相鄰構件(例如偏光元件11)造成影響。例如，認為：在與偏光元件11之第二主面11b相鄰而均勻地存在接著層之情形時，可能因外部衝擊而產生之延伸應力可由接著層分散，但在存在斷裂之樹脂層20之情形時，延伸應力局部地施加於偏光元件11而可能產生裂紋。偏光元件11之裂紋有時會因加熱等可能產生之偏光元件11之尺寸變化而擴大。於此情形時，例如，於得到之圖像顯示裝置中，有可能產生光洩漏等顯示不良。根據本發明之實施方式，藉由組合後述之第一黏著劑層，可在抑制偏光元件之脫色之同時抑制裂紋之產生。
作為構成樹脂層之樹脂，可使用能夠形成有機溶劑溶液之塗佈膜之固化物或硬化物(例如熱硬化物)之任意適當之樹脂。作為構成樹脂層之樹脂，較佳為使用具有如上所述之Tg及Mw之熱塑性樹脂或熱硬化性樹脂，更較佳為使用熱塑性樹脂。樹脂可僅使用一種，亦可組合使用兩種以上。
作為上述熱塑性樹脂，例如可舉出丙烯酸系樹脂、環氧系樹脂。亦可組合使用丙烯酸系樹脂及環氧系樹脂。
丙烯酸系樹脂代表性地含有來自具有直鏈或支鏈結構之(甲基)丙烯酸酯系單體之重複單元作為主成分。丙烯酸系樹脂可含有來自與目的對應之任意適當之共聚單體之重複單元。作為共聚單體(共聚單體)，例如可舉出含羧基單體、含羥基單體、含醯胺基單體、含芳香環(甲基)丙烯酸酯、含雜環乙烯基系單體。藉由適當設定單體單元之種類、數量、組合及共聚比等，可得到具有上述規定之Mw之丙烯酸系樹脂。作為丙烯酸系樹脂之具體例子，可舉出日本專利特開2021-117484號公報之[0034]～[0056]中記載之含硼之丙烯酸系樹脂、含內酯環等之丙烯酸系樹脂。
作為環氧樹脂，較佳為使用具有芳香族環之環氧樹脂。藉由使用具有芳香族環之環氧樹脂作為環氧樹脂，可提高保護層與偏光元件之密接性。進而，於與保護層相鄰地配置黏著劑層之情形時，可提高黏著劑層之錨固力。作為具有芳香族環之環氧樹脂，例如可舉出雙酚A型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂、雙酚S型環氧樹脂等雙酚型環氧樹脂；苯酚酚醛清漆環氧樹脂、甲酚酚醛清漆環氧樹脂、羥基苯甲醛苯酚酚醛清漆環氧樹脂等酚醛清漆型環氧樹脂；四羥基苯基甲烷之縮水甘油醚、四羥基二苯甲酮之縮水甘油醚、環氧化聚乙烯基苯酚等多官能型環氧樹脂、萘酚型環氧樹脂、萘型環氧樹脂、聯苯型環氧樹脂等。較佳為使用雙酚A型環氧樹脂、聯苯型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂。環氧樹脂可僅使用一種，亦可組合使用兩種以上。
樹脂層代表性地可藉由如下之方式形成：塗佈上述樹脂之有機溶劑溶液而形成塗佈膜，使得到之塗佈膜固化或熱硬化。作為有機溶劑，可使用能夠溶解或均勻地分散上述樹脂之任意適當之有機溶劑。作為有機溶劑之具體例子，可舉出乙酸乙酯、甲苯、甲基乙基酮(MEK)、甲基異丁基酮(MIBK)、環戊酮、環己酮。溶液之樹脂濃度相對於溶劑100重量份較佳為3重量份～20重量份。若為此種樹脂濃度，則能夠形成均勻之塗佈膜。
溶液可塗佈於另外準備之基材，但較佳為塗佈於偏光板(偏光元件)。於將溶液塗佈於基材之情形時，將形成在基材上之塗佈膜之固化或硬化物(樹脂層)轉印至偏光板(偏光元件)上。轉印代表性地經由接著層進行，因此藉由將溶液塗佈於偏光板(偏光元件)而直接形成樹脂層，能夠省略接著層。作為溶液之塗佈方法，可採用任意適當之方法。作為具體例子，可舉出輥塗法、旋塗法、線棒塗佈法、浸塗法、模嘴塗佈法、淋幕式塗佈法、噴塗法、刮刀塗佈法(缺角輪塗佈法等)。
上述塗佈膜之固化或熱硬化之加熱溫度較佳為100℃以下，更佳為50℃～70℃。若加熱溫度在此種範圍，則能夠防止對偏光元件產生不良影響。加熱時間例如可為1分鐘～10分鐘。
樹脂層(實質上為上述樹脂之有機溶劑溶液)亦可根據目的包含任意適當之添加劑。作為添加劑之具體例子，可舉出：紫外線吸收劑；調平劑；受阻酚系、磷系、硫系等抗氧化劑；耐光穩定劑、耐候穩定劑、熱穩定劑等穩定劑；玻璃纖維、碳纖維等增強材料；近紅外線吸收劑；磷酸三(二溴丙基)酯、磷酸三烯丙酯、氧化銻等阻燃劑；陰離子系、陽離子系、非離子系之界面活性劑等抗靜電劑；無機顏料、有機顏料、染料等著色劑；有機填料或無機填料；樹脂改性劑；有機填充劑或無機填充劑；塑化劑；潤滑劑；阻燃劑等。添加劑之種類、數量、組合、添加量等可根據目的適當設定。
D.相位差層 相位差層40可具有兩層以上之積層結構，亦可為單層。相位差層可由任意適當之材料構成。具體而言，相位差層可為液晶化合物之配向固化層，亦可為樹脂膜(具有代表性的是延伸膜)，還可為其等之組合。相位差層之厚度例如為1 μm以上且80 μm以下。再者，於相位差層具有積層結構之情形時，「相位差層之厚度」係指各相位差層之厚度之合計。具體而言，「相位差層之厚度」不包含接著層之厚度。
D-1.第一相位差層 第一相位差層41可根據目的而具有任意適當之光學特性及/或機械特性。第一相位差層代表性地具有慢軸。於一實施方式中，第一相位差層41之慢軸與偏光元件11之吸收軸所成之角度θ例如為40°～50°，較佳為42°～48°，更佳為約45°。若角度θ在此種範圍內，則藉由將第一相位差層作為λ/4板，可得到具有非常優異之圓偏光特性(結果為，具有非常優異之防反射特性)之附相位差層之偏光板。
第一相位差層較佳為折射率特性顯示出nx＞ny≧nz之關係。於一實施方式中，第一相位差層可作為λ/4板發揮功能。於此情形時，第一相位差層之面內相位差Re(550)例如為100 nm～190 nm，較佳為110 nm～170 nm，更佳為130 nm～160 nm。再者，於此，「ny=nz」不僅包含ny與nz完全相等之情況，還包含實質上相等之情況。因此，於不損害本發明之效果之範圍內，可存在ny＜nz之情況。
第一相位差層之Nz係數較佳為0.9～3，更佳為0.9～2.5，進而較佳為0.9～1.5，特別較佳為0.9～1.3。藉由滿足此種關係，於將得到之附相位差層之偏光板用於圖像顯示裝置之情形時，可實現非常優異之反射色相。
第一相位差層可顯示出相位差值根據測定光之波長而變大之逆波長分散特性，亦可顯示出相位差值根據測定光之波長而變小之正波長分散特性，還可顯示出相位差值幾乎不因測定光之波長而變化之平坦之波長分散特性。於一實施方式中，第一相位差層顯示出逆波長分散特性。於此情形時，相位差層之Re(450)/Re(550)例如為0.8以上且未達1，較佳為0.8以上且0.95以下。若為此種構成，則能夠實現非常優異之防反射特性。
第一相位差層包含光彈性係數之絕對值較佳為2×10 -11m 2/N以下、更佳為2.0×10 -13m 2/N～1.5×10 -11m 2/N、進而較佳為1.0×10 -12m 2/N～1.2×10 -11m 2/N之樹脂。若光彈性係數之絕對值在此種範圍內，則在產生了加熱時之收縮應力之情形時不易產生相位差變化。其結果，可良好地防止得到之圖像顯示裝置之熱不均。
第一相位差層代表性地由樹脂膜之延伸膜構成。第一相位差層之厚度例如為70 μm以下，較佳為60 μm以下，更佳為50 μm以下，進而較佳為45 μm以下。若第一相位差層之厚度在此種範圍內，則例如能夠確保良好之彎曲性，能夠適用於柔性用途。另一方面，第一相位差層之厚度較佳為10 μm以上，更佳為20 μm以上。
第一相位差層可由能夠滿足上述特性之任意適當之樹脂膜構成。作為此種樹脂之代表例子，可舉出聚碳酸酯系樹脂、聚酯碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、聚乙烯醇縮醛系樹脂、聚芳酯系樹脂、環狀烯烴系樹脂、纖維素系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚醚系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、丙烯酸系樹脂。該等樹脂可單獨使用，亦可組合(例如摻混、共聚)使用。於第一相位差層由顯示出逆波長分散特性之樹脂膜構成之情形時，可適當使用聚碳酸酯系樹脂或聚酯碳酸酯系樹脂(以下有時簡稱為聚碳酸酯系樹脂)。
作為上述聚碳酸酯系樹脂，只要能夠得到本發明之效果，則能夠使用任意適當之聚碳酸酯系樹脂。例如，聚碳酸酯系樹脂包含來自茀系二羥基化合物之結構單元、來自異山梨醇系二羥基化合物之結構單元、來自選自由脂環式二醇、脂環式二甲醇、二、三或聚乙二醇以及伸烷基二醇或螺二醇所組成之群中之至少一個二羥基化合物之結構單元。較佳為聚碳酸酯系樹脂包含來自茀系二羥基化合物之結構單元、來自異山梨醇系二羥基化合物之結構單元、來自脂環式二甲醇之結構單元及/或來自二、三或聚乙二醇之結構單元；進而較佳為包含來自茀系二羥基化合物之結構單元、來自異山梨醇系二羥基化合物之結構單元、及來自二、三或聚乙二醇之結構單元。聚碳酸酯系樹脂根據需要亦可包含來自其他二羥基化合物之結構單元。再者，可適合用於第一相位差層之聚碳酸酯系樹脂及第一相位差層之形成方法之詳細情況例如記載於日本專利特開2014-10291號公報、日本專利特開2014-26266號公報、日本專利特開2015-212816號公報、日本專利特開2015-212817號公報、日本專利特開2015-212818號公報，該等公報之記載作為參考引用至本說明書中。
D-2.第二相位差層 第二相位差層42代表性地可為折射率特性顯示出nz＞nx=ny之關係之所謂正C板。藉由使用正C板作為第二相位差層，能夠良好地防止傾斜方向之反射，能夠實現防反射功能之寬視角化。
第二相位差層之厚度方向之相位差Rth(550)較佳為-50 nm～-300 nm，更佳為-70 nm～-250 nm，進而較佳為-90 nm～-200 nm，特別較佳為-100 nm～-180 nm。於此，「nx=ny」不僅包含nx與ny嚴格相等之情況，還包含nx與ny實質上相等之情況。即，第二相位差層之面內相位差Re(550)可未達10 nm。
具有nz＞nx=ny之折射率特性之第二相位差層可由任意適當之材料形成。第二相位差層較佳為由包含固定為垂直配向之液晶材料之膜形成。能夠垂直配向之液晶材料(液晶化合物)可為液晶單體，亦可為液晶聚合物。作為該液晶化合物及該相位差層之形成方法之具體例子，可舉出日本專利特開2002-333642號公報之[0020]～[0028]中記載之液晶化合物及該相位差層之形成方法。於此情形時，第二相位差層之厚度較佳為0.5 μm～10 μm，更佳為0.5 μm～8 μm，進而較佳為0.5 μm～5 μm。
E-1.第一黏著劑層 第一黏著劑層31在-25℃下之儲存彈性模數為6.5×10 6Pa以上，較佳為7.0×10 6Pa以上，更佳為7.5×10 6Pa以上。藉由設置具有此種儲存彈性模數之第一黏著劑層，能夠得到耐久性優異之積層體。具體而言，藉由組合具有此種儲存彈性模數之第一黏著劑層及上述樹脂層，可在抑制偏光元件之脫色之同時抑制裂紋之產生。具體而言，可減小由外部衝擊引起之第一黏著劑層31之變形程度並抑制裂紋之產生。第一黏著劑層31之-25℃下之儲存彈性模數例如為5.0×10 8Pa以下。
第一黏著劑層31之厚度為25 μm以下，可為22 μm以下，亦可為19 μm以下，還可為16 μm以下。根據此種厚度，可使耐久性極其優異。具體而言，可減小由外部衝擊引起之第一黏著劑層31之變形程度並抑制裂紋之產生。另一方面，第一黏著劑層31之厚度例如從黏著劑層之形成之容易度、與相鄰之層之密接性之觀點出發，例如為10 μm以上，較佳為12 μm以上，更佳為14 μm以上。
構成黏著劑層之黏著劑具有代表性的是，作為基礎聚合物，含有(甲基)丙烯酸系聚合物、聚胺酯系聚合物、矽酮系聚合物或橡膠系聚合物，較佳為含有(甲基)丙烯酸系聚合物。於使用(甲基)丙烯酸系聚合物作為基礎聚合物之情形時，黏著劑層例如由含有(甲基)丙烯酸系聚合物之黏著劑形成。
(甲基)丙烯酸系聚合物較佳為具有來自在側鏈具有碳數1～30之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯之結構單元。烷基可為直鏈狀，亦可具有支鏈。作為(甲基)丙烯酸烷基酯，例如可舉出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸異己酯、(甲基)丙烯酸異庚酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸正十二烷基酯((甲基)丙烯酸月桂酯)、(甲基)丙烯酸正十三烷基酯及(甲基)丙烯酸正十四烷基酯。又，亦可使用(甲基)丙烯酸正十二烷基酯((甲基)丙烯酸月桂酯)等在側鏈具有長鏈烷基(例如碳數6～30之烷基)之(甲基)丙烯酸烷基酯。(甲基)丙烯酸烷基酯亦可使用一種或兩種以上。
構成(甲基)丙烯酸系聚合物之全部單體中之(甲基)丙烯酸烷基酯之含有比率例如為50重量%以上，較佳為60重量%以上，更佳為70重量%以上，進而較佳為80重量%以上。該含有比率之上限例如可為99.9重量%以下。
(甲基)丙烯酸系聚合物亦可具有來自(甲基)丙烯酸烷基酯之結構單元以外之結構單元。該結構單元來自能夠與(甲基)丙烯酸烷基酯共聚之單體(共聚單體)。(甲基)丙烯酸系聚合物亦可具有一種或兩種以上之來自共聚單體之結構單元。
作為共聚單體，例如可舉出含羧基單體。作為含羧基單體之具體例子，可舉出(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧乙酯、(甲基)丙烯酸羧戊酯、衣康酸、馬來酸、富馬酸及巴豆酸。於一實施方式中，(甲基)丙烯酸系聚合物可包含丙烯酸作為單體成分。構成(甲基)丙烯酸系聚合物之全部單體中之丙烯酸之含有比率例如為0.01重量%以上且5重量%以下，較佳為0.05重量%～2重量%。
作為共聚單體之其他例子，可舉出含羥基單體。含羥基單體可為含羥基(甲基)丙烯酸系單體。作為含羥基單體之具體例子，可舉出(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸8-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥基癸酯及(甲基)丙烯酸12-羥基月桂酯等(甲基)丙烯酸羥烷基酯以及丙烯酸(4-羥甲基環己基)甲酯。構成(甲基)丙烯酸系聚合物之全部單體中之含羥基單體之含有比率例如為0.01重量%～10重量%，較佳為0.05重量%～3重量%。
作為共聚單體之另一個例子，可舉出含醯胺基單體。作為含醯胺基單體之具體例子，可舉出(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基丙烯醯胺、N-甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺、N-己基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基-N-丙烷(甲基)丙烯醯胺、胺基甲基(甲基)丙烯醯胺、胺基乙基(甲基)丙烯醯胺、巰基甲基(甲基)丙烯醯胺及巰基乙基(甲基)丙烯醯胺等丙烯醯胺系單體；N-甲基丙烯醯嗎啉、N-(甲基)丙烯醯哌啶及N-(甲基)丙烯醯吡咯啶等N-丙烯醯雜環單體；以及N-乙烯基吡咯啶酮及N-乙烯基-ε-己內醯胺等含N-乙烯基之內醯胺系單體。構成(甲基)丙烯酸系聚合物之全部單體中之含醯胺基單體之含有比率例如為0.01重量%～10重量%，較佳為0.05重量%～3重量%。
作為共聚單體之另一個例子，可舉出含胺基單體。作為含胺基單體之具體例子，可舉出(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基丙酯。
作為共聚單體之另一個例子，可舉出含芳香環單體。含芳香環單體亦可為含芳香環之(甲基)丙烯酸系單體。作為含芳香環單體之具體例子，可舉出(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸苄酯、苯氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性壬基苯酚(甲基)丙烯酸酯、羥乙基化β-萘酚(甲基)丙烯酸酯及(甲基)丙烯酸聯苯酯。
作為共聚單體之另一個例子，可舉出以下之化學式(1)所示之(甲基)丙烯酸酯。式(1)之R 1係烷基。烷基可為直鏈狀，亦可具有支鏈。R 1較佳為直鏈狀之烷基。R 1之例子係甲基及乙基。式(1)之n係1～15之整數。 [化1]
作為式(1)所示之(甲基)丙烯酸酯之具體例子，可舉出(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯及甲氧基三乙二醇(甲基)丙烯酸酯。藉由使用式(1)之(甲基)丙烯酸酯，於黏著劑層中調配抗靜電劑之情形時，可以較少之調配量得到表面電阻值較小之黏著劑層。
作為共聚單體，亦可使用多官能性單體。作為多官能性單體，係：己二醇二(甲基)丙烯酸酯(1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯)、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、(聚)乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、(聚)丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四羥甲基甲烷三(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸乙烯酯、環氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯及聚胺酯丙烯酸酯等多官能丙烯酸酯；以及二乙烯基苯。多官能丙烯酸酯較佳為舉出1,6-己二醇二丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯。
作為其他共聚單體，可舉出(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸甲基縮水甘油酯等含環氧基單體；乙烯基磺酸鈉等含磺酸基單體；含磷酸基單體；(甲基)丙烯酸環戊酯、(甲基)丙烯酸環己酯及(甲基)丙烯酸異𦯉酯等具有脂環式烴基之(甲基)丙烯酸酯；乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等乙烯酯類；苯乙烯、乙烯基甲苯等芳香族乙烯基化合物；乙烯、丙烯、丁二烯、異戊二烯及異丁烯等烯烴類或二烯類；乙烯基烷基醚等乙烯基醚類；以及氯乙烯。
(甲基)丙烯酸系聚合物能夠藉由公知之方法將上述之一種或兩種以上之單體聚合而形成。亦可將單體與單體之部分聚合物(低聚物)聚合。
(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量(Mw)例如為100萬～280萬，從黏著劑層之耐久性及耐熱性之觀點出發，較佳為120萬以上，更佳為140萬以上。重量平均分子量(Mw)作為基於GPC(凝膠滲透層析)測定之值(聚苯乙烯換算)而求出。
黏著劑中之(甲基)丙烯酸系聚合物之含有比率以固形物成分比計例如為50重量%以上，較佳為60重量%以上，更佳為70重量%以上，進而較佳為80重量%以上。含有比率之上限例如可為99.9重量%以下，較佳為99.8重量%以下。
黏著劑亦可進而含有添加劑。作為添加劑之具體例子，可舉出矽烷偶合劑、交聯劑、抗氧化劑、著色劑、顏料等粉體、染料、界面活性劑、塑化劑、黏著性賦予劑、表面潤滑劑、調平劑、軟化劑、抗老化劑、光穩定劑、紫外線吸收劑、聚合抑制劑、無機或有機之填充劑、金屬粉、顆粒狀、箔狀物。又，於能夠控制之範圍內，亦可採用添加有還原劑之氧化還原系。添加劑之種類、數量、組合、含量等可根據目的設定為任意適當之值。
作為交聯劑，可舉出有機系交聯劑及多官能性金屬螯合物。有機系交聯劑之例子係異氰酸酯系交聯劑、過氧化物系交聯劑、環氧系交聯劑及亞胺系交聯劑。交聯劑較佳為過氧化物系交聯劑、異氰酸酯系交聯劑。交聯劑可僅使用一種，亦可組合使用兩種以上。例如，可並用過氧化物系交聯劑與異氰酸酯系交聯劑。
黏著劑中之交聯劑之調配量相對於(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份例如為0.01重量份～10重量份，較佳為0.1重量份～5重量份，更佳為0.1重量份～3重量份。
作為矽烷偶合劑，代表性地可舉出含官能團之矽烷偶合劑。作為官能團，例如可舉出環氧基、巰基、胺基、異氰酸酯基、異氰脲酸酯基、乙烯基、苯乙烯基、乙醯乙醯基、脲基、硫脲基、(甲基)丙烯醯基、雜環基、酸酐基及其等之組合。矽烷偶合劑可僅使用一種，亦可組合使用兩種以上。
黏著劑中之矽烷偶合劑之調配量相對於(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份例如為0.01重量份～5重量份，較佳為0.01重量份～3重量份，更佳為0.01重量份～1重量份。
第一黏著劑層31較佳為具有抗靜電功能(具有代表性的是導電性)。藉由積層體100具備具有抗靜電功能之層，可防止由帶電引起之圖像顯示面板之不良情況。例如，可防止有機EL面板之誤發光(例如由綠像素之誤發光引起之綠面板之問題)、搭載於液晶面板之液晶單元中之液晶之配向不均。第一黏著劑層31可貼附於圖像顯示面板之面板本體，因此可有效地防止上述不良情況。
第一黏著劑層31之表面電阻率較佳為9×10 11Ω/□以下，更佳為7×10 11Ω/□以下，進而較佳為5×10 11Ω/□以下。第一黏著劑層31之表面電阻率例如為1×10 10Ω/□以上，較佳為2×10 10Ω/□以上。
抗靜電功能可藉由使第一黏著劑層31含有抗靜電劑而被賦予。作為抗靜電劑，代表性地可使用離子性化合物。
作為構成離子性化合物之陽離子，可舉出金屬離子及鎓離子。作為金屬離子，可舉出鹼金屬離子及鹼土金屬離子。作為鹼金屬離子，例如可舉出鋰離子、鈉離子及鉀離子。作為鹼土金屬離子，例如可舉出鎂離子及鈣離子。
作為鎓離子，可舉出選自氮原子、磷原子及硫原子中之至少一個原子帶正電(+)而成之離子。鎓離子亦可為有機離子，於此情形時，可為環狀有機化合物之離子，亦可為鏈狀有機化合物之離子。環狀有機化合物可為芳香族，亦可為脂肪族等非芳香族。作為鎓離子之具體例子，可舉出N-乙基-N,N-二甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨離子、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨離子、N-乙基-N,N-二甲基-N-丙基銨離子、N-甲基-N,N,N-三辛基銨離子、N,N,N-三甲基-N-丙基銨離子、四丁基銨離子、四甲基銨離子、四己基銨離子及N-甲基-N,N,N-三丁基銨離子等四級銨離子；經碳數4～16之烷基取代之N-烷基吡啶鎓等吡啶鎓離子；經碳數2～10之烷基(例如乙基)取代之1,3-烷基甲基咪唑鎓離子、經碳數2～10之烷基取代之1,2-二甲基-3-烷基咪唑鎓等咪唑鎓離子；鏻離子、吡咯啶鎓離子、嗒𠯤鎓離子、嘧啶鎓離子、吡𠯤鎓離子、吡唑鎓離子、噻唑鎓離子、噁唑鎓離子、三唑鎓離子以及哌啶鎓離子。
作為構成離子性化合物之陰離子之具體例子，可舉出氟化物、氯化物、溴化物、碘化物、過氯酸鹽(ClO 4 -)、氫氧化物(OH -)、碳酸鹽(CO 3 2-)、硝酸鹽(NO 3 -)、磺酸鹽(SO 4 -)、甲基苯磺酸鹽(CH 3(C 6H 4)SO 3 -)、對甲苯磺酸鹽(CH 3C 6H 4SO 3 -)、羧基苯磺酸鹽(COOH(C 6H 4)SO 3 -)、三氟甲磺酸鹽(CF 3SO 2 -)、苯甲酸鹽(C 6H 5COO -)、乙酸鹽(CH 3COO -)、三氟乙酸鹽(CF 3COO -)、四氟硼酸鹽(BF 4 -)、四苄基硼酸鹽(B(C 6H 5) 4 -)、六氟磷酸鹽(PF 6 -)、三五氟乙基三氟磷酸鹽(P(C 2F 5) 3F 3 -)、雙氟磺醯基醯亞胺(N(SO 2F) 2 -)、雙三氟甲磺醯亞胺(N(SO 2CF 3) 2 -)、雙五氟乙磺醯亞胺(N(SOC 2F 5) 2 -)、雙五氟乙烷羰基醯亞胺(N(COC 2F 5) 2 -)、雙全氟丁磺醯亞胺(N(SO 2C 4F 9) 2 -)、雙全氟丁烷羰基醯亞胺(N(COC 4F 9) 2 -)、三(三氟甲磺醯)甲基化物(C(SO 2CF 3) 3 -)及三(三氟甲烷羰基)甲基化物(C(SO 2CF 3) 3 -)。
離子性化合物亦可包含含有硫原子之陰離子。作為含有硫原子之陰離子之具體例子，可舉出雙氟磺醯亞胺(N(SO 2F) 2 -)及雙三氟甲磺醯亞胺(N(SO 2CF 3) 2 -)。
離子性化合物亦可為有機鹽。又，離子性化合物亦可為鋰鹽，作為陽離子及陰離子，亦可為分別包含鋰離子及有機離子之鋰有機鹽。
作為離子性化合物之具體例子，可列舉1-乙基-3-甲基咪唑鎓雙氟磺醯亞胺(EMI-FSI)、雙(三氟甲磺醯)亞胺鋰(LiTFSI)、乙基甲基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺(EMPTFSI)及三丁基甲基銨雙(三氟甲磺醯)亞胺(TBMA-TFSI)。
離子性化合物亦可不包含磷原子。包含磷原子之離子性化合物傾向於容易腐蝕圖像顯示裝置之觸控感測器(更具體而言觸控感測器之導電層)。
作為用作抗靜電劑之離子性化合物，較佳為使用鹼金屬鹽，更佳為使用鋰金屬鹽。用作抗靜電劑之離子性化合物之熔點較佳為23℃以上，更佳為30℃以上。藉由使用此種離子性化合物(例如藉由使用LiTFSI)，能夠得到良好地達成上述儲存彈性模數及上述表面電阻率之黏著劑層，可使耐久性優異。又，亦不會使偏光元件之脫色惡化。
抗靜電劑之含量相對於第一黏著劑層之基礎聚合物100重量份較佳為3重量份以下，可為2重量份以下，亦可為1重量份以下。根據此種含有比率，可抑制第一黏著劑層之塑化，並且可良好地抑制裂紋之產生。又，根據此種含有比率，於將積層體搭載於圖像顯示裝置之情形時，可抑制觸控感測器之腐蝕。例如，有時在有機EL面板之觸控感測器上形成由Al、Ti等金屬、丙烯酸酯、聚胺酯等樹脂構成之保護膜。但是，可包含於抗靜電劑之硫原子亦如上述磷原子般，有可能浸透保護膜而腐蝕觸控感測器。於容易引起腐蝕之有機EL顯示裝置中，第一黏著劑層之抗靜電劑及其含有比率之控制可能變得重要。另一方面，抗靜電劑之含量相對於第一黏著劑層之基礎聚合物100重量份較佳為0.01重量份以上，更佳為0.05重量份以上。如上所述，從耐久性(例如抑制裂紋)之觀點出發，第一黏著劑層之厚度可變薄，但即使在厚度薄之情形時，根據此種含有比率，亦可滿足上述表面電阻值，能夠得到抑制綠面板之效果。
E-2.第二黏著劑層 相位差層40經由第二黏著劑層32貼合於樹脂層20。作為構成第二黏著劑層32之黏著劑，可採用任意適當之黏著劑。例如，可應用與構成第一黏著劑層之黏著劑相同之說明。第二黏著劑層32之厚度例如為1 μm～50 μm，較佳為3 μm～40 μm，更佳為5 μm～20 μm，進而較佳為5 μm～10 μm。
F.剝離襯墊 作為剝離襯墊，例如可舉出具有可撓性之塑膠膜。作為該塑膠膜，例如可舉出聚對苯二甲酸乙二酯膜、聚乙烯膜、聚丙烯膜及聚酯膜。剝離襯墊之厚度例如為3 μm以上，且例如為200 μm以下。剝離襯墊之表面用剝離劑塗佈。作為剝離劑之具體例子，可舉出矽酮系剝離劑、氟系剝離劑、丙烯酸長鏈烷基酯系剝離劑。
G.圖像顯示裝置 上述積層體可應用於圖像顯示裝置。因此，本發明之實施方式之圖像顯示裝置具備上述積層體。作為圖像顯示裝置之代表例子，可舉出液晶顯示裝置、電致發光(EL)顯示裝置(例如有機EL顯示裝置、無機EL顯示裝置)。
圖2係以有機EL顯示裝置為例而模式性地示出本發明之一實施方式之圖像顯示裝置中包含之圖像顯示面板之概略構成之剖視圖。圖像顯示面板(有機EL面板)200具有圖像顯示面板本體(有機EL面板本體)70及配置於其視認側之積層體100。積層體100被配置成樹脂層20比偏光元件11靠有機EL面板本體70側，於有機EL面板本體70上藉由第一黏著劑層31貼合有積層體100。於圖像顯示面板本體上貼合積層體時、在向圖像顯示面板本體之貼合之前將複數張積層體重疊保管或輸送時等，若對積層體施加外部衝擊，則存在容易產生上述裂紋之傾向。根據本發明之實施方式之積層體，可良好地抑制此種操作裂紋。
有機EL面板本體70具有基板71及上部結構層72，該上部結構層72包含含有薄膜電晶體(TFT)等之電路層、有機發光二極體(OLED)、密封OLED之密封膜等。上部結構層72可包含金屬構件(例如電極、感測器、配線、金屬層)。例如，於使用撓性基板(例如樹脂基板)作為基板71之情形時，得到之有機EL顯示裝置可實現彎曲、屈曲、彎折、捲繞等。本發明之實施方式之積層體薄，亦可適合用於此種圖像顯示裝置。又，具有可具有抗靜電功能之第一黏著劑層之積層體可適當地防止有機EL面板中之帶電所引起之誤發光。 [實施例]
以下，藉由實施例對本發明進行具體說明，但本發明不受該等實施例限定。再者，各種測定方法如下所述。又，只要沒有特別說明，實施例及比較例中之「份」及「%」係以重量為基準。
1.厚度 1 μm以下之厚度使用掃描型電子顯微鏡(日本電子公司製、產品名「JSM-7100F」)測定。超過1 μm之厚度使用數位式測微計(安立(Anritsu)公司製、產品名「KC-351C」)測定。 2.形成樹脂層之樹脂之玻璃轉移溫度(Tg) 取約5 mg之試樣(聚合物)，於以下條件下進行DSC測定，藉由根據得到之測定結果來計算中間點玻璃轉移溫度而求出。 ·測定裝置：TA Instruments公司製、產品名：Q-2000 ·溫控程式：以0℃→150℃→0℃→150℃之方式變化 ·氛圍氣體：N 2(50 mL/分鐘) ·測定速度：10℃/分鐘 3.重量平均分子量(Mw) 藉由凝膠滲透層析法(GPC)進行測定，作為標準聚苯乙烯換算之值求出。考慮測定對象之基礎聚合物濃度，製備0.2重量%之THF溶液，於室溫下放置20小時，然後，用0.45 μm膜濾器過濾溶液，將濾液供於測定。測定條件如下所述。 ·分析裝置：Waters製、Alliance ·柱：東曹公司製、G7000H XL+GMH XL+GMH XL·柱溫度：40℃ ·流速：0.8 ml/min ·注入量：100 μl ·溶析液：四氫呋喃(THF) ·檢測器：示差折射計(RI) ·標準試樣：聚苯乙烯(PS) 4.面內相位差Re(λ) 使用米勒矩陣偏光儀(Axometrics公司製、產品名「Axoscan」)，測定23℃下之各波長下之面內相位差。 5.抗靜電劑之熔點 熔點藉由毛細管法測定。將細粉碎後之測定對象加入至內徑約1 mm、壁厚0.1～0.2 mm之玻璃毛細管之填充水準2～3 mm，將其插入至具備高精度溫度計之加熱台中進行加熱，確認測定對象熔解之溫度。 6.黏著劑層之儲存彈性模數 使用積層複數個黏著劑層而形成厚度約1.5 mm之積層物作為測定用樣品。作為測定裝置，使用Rheometric Scientific公司製之「Advanced Rheometric Expansion System(ARES)」，藉由以下條件進行動態黏彈性測定，從測定結果讀取23℃或110℃下之儲存彈性模數。 (測定條件) ·變形模式：扭轉 ·頻率：1 Hz ·壓接負荷：100 g ·升溫速度：5℃/分鐘 ·溫度範圍：-50℃～150℃ ·形狀：平行板、8.0 mmφ 7.黏著劑層之表面電阻率 將形成在剝離襯墊上之黏著劑層於該狀態下在室內(溫度：25±5℃，相對濕度：50±10%)放置1分鐘後，使用高電阻電阻率計(三菱化學Analytech公司製、「Hiresta MCP-HT450」)測定黏著劑層之表面電阻率。再者，表面電阻率之測定上限為1×10 14Ω/□。
[實施例1] (偏光元件之製作) 作為熱塑性樹脂基材，使用長條狀、Tg為約75℃之非晶質之間苯二甲酸共聚聚對苯二甲酸乙二酯膜(厚度100 μm)，對樹脂基材之單面實施電暈處理。 於將聚乙烯醇(聚合度4200、皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改性PVA(三菱化學公司製、商品名「Gohsenx Z410」)以9：1混合而成之PVA系樹脂100重量份中添加碘化鉀13重量份，將所得之物質溶解於水中，製備PVA水溶液(塗佈液)。 藉由在樹脂基材之電暈處理面上塗佈上述PVA水溶液並在60℃下進行乾燥，形成厚度13 μm之PVA系樹脂層，製作積層體。 將得到之積層體在130℃之烘箱內在縱向(長度方向)上單軸延伸至2.4倍(空中輔助延伸處理)。 繼而，將積層體在液溫40℃之不溶化浴(相對於水100重量份調配硼酸4重量份而得到之硼酸水溶液)中浸漬30秒(不溶化處理)。 繼而，於液溫30℃之染色浴(相對於水100重量份以1：7之重量比調配碘及碘化鉀而得到之碘水溶液)中，以使最終得到之偏光元件之單體透射率(Ts)成為所希望之值之方式一面調整濃度一面浸漬60秒(染色處理)。 繼而，於液溫40℃之交聯浴(相對於水100重量份調配碘化鉀3重量份、硼酸5重量份而得到之硼酸水溶液)中浸漬30秒(交聯處理)。 然後，一面將積層體浸漬於液溫70℃之硼酸水溶液(硼酸濃度4重量%、碘化鉀濃度5重量%)中、一面在圓周速度不同之輥間以在縱向(長度方向)上總延伸倍率成為5.5倍之方式進行單軸延伸(水中延伸處理)。 然後，將積層體浸漬於液溫20℃之清洗浴(相對於水100重量份調配碘化鉀4重量份而得到之水溶液)中(清洗處理)。 然後，一面在保持為約90℃之烘箱中進行乾燥、一面使其與表面溫度保持為約75℃之SUS製之加熱輥接觸(乾燥收縮處理)。 如此，於樹脂基材上形成厚度5 μm之偏光元件。
(偏光板之製作) 於得到之偏光元件之表面(與樹脂基材相反側之面)經由紫外線固化型接著劑貼合HC-TAC膜作為保護層，得到偏光板。具體而言，以固化型接著劑之厚度成為1.0 μm之方式進行塗覆，使用輥壓機進行貼合。然後，從保護層側照射UV光線，使接著劑固化。再者，HC-TAC膜係在三乙醯纖維素(TAC)膜(厚度25 μm)上形成硬塗(HC)層(厚度7 μm)而成之膜，以TAC膜成為偏光元件側之方式進行貼合。
(樹脂層之形成) 將甲基丙烯酸甲酯(MMA、富士膠片和光純藥公司製、商品名「甲基丙烯酸甲酯單體」)97.0份、由下述式(1e)表示之共聚單體3.0份、聚合起始劑(富士膠片和光純藥公司製、商品名「2,2'-偶氮二(異丁腈)」)0.2份溶解於甲苯200份中。繼而，於氮氣氛圍下一面加熱至70℃、一面進行5.5小時聚合反應，得到含硼丙烯酸系樹脂溶液(固形物成分濃度：33%)。得到之含硼丙烯酸系聚合物(樹脂)之Tg為110℃，Mw為80000。 將得到之含硼丙烯酸系樹脂20份溶解於甲基乙基酮80份中，得到樹脂溶液(20%)。從上述偏光元件剝離樹脂基材，於剝離面使用線棒塗佈樹脂溶液之後，將塗佈膜在60℃下乾燥5分鐘，形成作為樹脂之有機溶劑溶液之塗佈膜之固化物而構成之樹脂層(厚度400 nm)。如此，得到具有保護層/接著劑層/偏光元件/樹脂層之構成之積層物1。 [化2]
(第一相位差層之製作) 在由具備攪拌葉片及控制為100℃之回流冷凝器之兩個立式反應器構成之分批聚合裝置中，加入了雙[9-(2-苯氧基羰基乙基)茀-9-基]甲烷29.60重量份(0.046 mol)、異山梨醇(ISB)29.21重量份(0.200 mol)、螺二醇(SPG)42.28重量份(0.139 mol)、碳酸二苯酯(DPC)63.77重量份(0.298 mol)及作為觸媒之乙酸鈣一水合物1.19×10 -2重量份(6.78×10 -5mol)。於反應器內進行了減壓氮氣置換後，用熱介質進行加熱，於內溫成為100℃之時刻開始攪拌。升溫開始40分鐘後使內溫到達220℃，於以保持該溫度之方式進行控制之同時開始減壓，於到達220℃後90分鐘內成為13.3 kPa。將隨著聚合反應副產之苯酚蒸汽導入至100℃之回流冷凝器中，將苯酚蒸汽中含有之若干量之單體成分返回至反應器中，未凝結之苯酚蒸汽導入至45℃之凝結器中進行回收。於向第一反應器中導入氮氣並暫時恢復至大氣壓之後，將第一反應器內之低聚物化之反應液轉移至第二反應器。繼而，開始第二反應器內之升溫及減壓，於50分鐘內成為內溫240℃、壓力0.2 kPa。然後，進行聚合直至成為規定之攪拌動力。於到達規定動力之時刻向反應器導入氮氣並進行壓力恢復，於相對於所生成之聚酯碳酸酯系樹脂100重量份熔融混練0.7質量份之PMMA之後，擠出至水中，將線料進行切割而得到粒料。 於將得到之聚酯碳酸酯系樹脂(粒料)在80℃下真空乾燥5小時後，使用具備單螺桿擠出機(東芝機械公司製、料筒設定溫度：250℃)、T模(寬度200 mm、設定溫度：250℃)、冷卻輥(設定溫度：120～130℃)及捲繞機之膜製膜裝置，製作厚度105 μm之長條狀之樹脂膜。一面調整得到之長條狀之樹脂膜以得到規定之相位差、一面於138℃下在寬度方向上延伸2.8倍，得到厚度38 μm之延伸膜。得到之延伸膜之Re(550)為144 nm、Re(450)/Re(550)為0.86。
(第二相位差層之製作) 將由下述化學式(3)(式中之數字65及35表示單體單元之莫耳%，為了方便，以嵌段聚合物表示：重量平均分子量5000)表示之側鏈型液晶聚合物20重量份、顯示向列液晶相之聚合性液晶(BASF公司製：商品名Paliocolor LC242)80重量份及光聚合起始劑(汽巴特種化學品公司製：商品名Irgacure 907)5重量份溶解於環戊酮200重量份中，製備液晶塗覆液。然後，於實施了垂直配向處理之PET基材上利用棒塗機塗覆了該塗覆液之後，於80℃下乾燥加熱4分鐘，藉此使液晶配向。對該液晶層照射紫外線，使液晶層固化，藉此在基材上形成顯示出nz＞nx=ny之折射率特性之液晶配向固化層(厚度3 μm)。 [化3]
於上述第一相位差層(延伸膜)上藉由紫外線固化型接著劑(固化後之厚度1 μm)貼合上述第二相位差層(液晶配向固化層)，得到具有第一相位差層/接著劑層/第二相位差層之構成之積層物2。
(第二黏著劑層之製作) 於具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管及冷凝器之四口燒瓶中，加入含有丙烯酸丁酯91.5份、丙烯酸3份、丙烯酸4-羥基丁酯0.5份及丙烯醯基嗎啉5份之單體混合物。進而，相對於該單體混合物100份，與乙酸乙酯100份一起加入作為聚合起始劑之2,2'-偶氮二異丁腈0.1份，一面緩慢地攪拌一面導入氮氣，於燒瓶內進行氮氣置換之後，將燒瓶內之液溫保持為55℃附近，進行8小時聚合反應。繼而，於得到之反應液中添加乙酸乙酯並調整為固形物成分濃度12重量%，製備重量平均分子量(Mw)250萬之丙烯酸系聚合物之溶液。 相對於得到之丙烯酸系聚合物溶液之固形物成分100份，調配過氧化物系交聯劑過氧化苯甲醯(商品名：Nyper BMT、日本油脂公司製)0.3份、三羥甲基丙烷/甲苯二異氰酸酯加成物(商品名：Coronate L、東曹公司製)0.2份、矽烷偶合劑(商品名：KBM403、信越化學工業公司製)0.2份，製備丙烯酸系黏著劑。 將得到之丙烯酸系黏著劑塗佈於對剝離面實施了矽酮處理之剝離襯墊即厚度38 μm之PET膜(三菱化學聚酯膜公司製、MRF38)之剝離面並使其乾燥，形成厚度5 μm之第二黏著劑層。
(第一黏著劑層之製作) 於具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管及冷凝器之四口燒瓶中，加入含有丙烯酸丁酯89.8份、丙烯酸0.2份、丙烯酸4-羥基丁酯0.5份、N-乙烯基吡咯啶酮1.5份及甲基丙烯酸甲酯8份之單體混合物。進而，相對於該單體混合物100份，與乙酸乙酯100份一起加入作為聚合起始劑之2,2'-偶氮二異丁腈0.1份，一面緩慢地攪拌一面導入氮氣，於燒瓶內進行氮氣置換之後，將燒瓶內之液溫保持為55℃附近，進行8小時聚合反應。繼而，於得到之反應液中添加乙酸乙酯並調整為固形物成分濃度12重量%，製備重量平均分子量(Mw)160萬之丙烯酸系聚合物之溶液。 相對於得到之丙烯酸系聚合物溶液之固形物成分100份，調配過氧化物系交聯劑之過氧化苯甲醯(商品名：Nyper BMT、日本油脂公司製)0.3份、三羥甲基丙烷六亞甲基二異氰酸酯(商品名：Takenate D-160N、三井化學公司製)0.2份、矽烷偶合劑(商品名：KBM403、信越化學工業公司製)0.2份、以及作為抗靜電劑之熔點為232℃之LiTFSi 0.3份，製備丙烯酸系黏著劑。 將得到之丙烯酸系黏著劑塗佈於對剝離面實施了矽酮處理之剝離襯墊即厚度38 μm之PET膜(三菱化學聚酯膜公司製、MRF38)之剝離面並使其乾燥，形成厚度為15 μm、-25℃下之儲存彈性模數為7.5×10 6Pa、表面電阻率為2×10 11Ω/□之第一黏著劑層。
將上述第二黏著劑層從剝離襯墊轉印至上述積層物1之樹脂層上，並且經由第二黏著劑層貼合上述積層物2。於此，以積層物2之第一相位差層位於樹脂層側之方式，進而以第一相位差層之慢軸相對於積層物1之偏光元件之吸收軸呈45°之角度之方式進行貼合。 繼而，將上述第一黏著劑層從剝離襯墊轉印至上述積層物2之第二相位差層上，得到如下之附相位差層之偏光板：具有保護層/接著劑層/偏光元件/樹脂層/第二黏著劑層/第一相位差層/接著劑層/第二相位差層/第一黏著劑層之構成，並且從保護層到第一黏著劑層之積層部分之厚度為100 μm。
[實施例2] 除了將第一黏著劑層之厚度變更為20 μm以外，與實施例1同樣地進行操作而得到從保護層到第一黏著劑層之積層部分之厚度為105 μm之附相位差層之偏光板。再者，第一黏著劑層之表面電阻率為2×10 11Ω/□。
[實施例3] 除了將第一黏著劑層之厚度變更為10 μm以外，與實施例1同樣地進行操作而得到從保護層到第一黏著劑層之積層部分之厚度為95 μm之附相位差層之偏光板。再者，第一黏著劑層之表面電阻率為5×10 11Ω/□。
[實施例4] 除了使用以如下順序製作之黏著劑層作為第一黏著劑層以外，與實施例1同樣地進行操作而得到從保護層到第一黏著劑層之積層部分之厚度為100 μm之附相位差層之偏光板。 (第一黏著劑層之製作) 於具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管及冷凝器之四口燒瓶中，加入含有丙烯酸丁酯89.82份、丙烯酸0.2份、丙烯酸4-羥基丁酯0.48份、N-乙烯基吡咯啶酮1.5份及甲基丙烯酸甲酯8份之單體混合物。進而，相對於該單體混合物100份，與乙酸乙酯100份一起加入作為聚合起始劑之2,2'-偶氮二異丁腈0.1份，一面緩慢地攪拌一面導入氮氣，於燒瓶內進行氮氣置換之後，將燒瓶內之液溫保持為55℃附近，進行8小時聚合反應。繼而，於得到之反應液中添加乙酸乙酯並調整為固形物成分濃度12重量%，製備重量平均分子量(Mw)110萬之丙烯酸系聚合物之溶液。 相對於得到之丙烯酸系聚合物溶液之固形物成分100份，調配過氧化物系交聯劑之過氧化苯甲醯(商品名：Nyper BMT、日本油脂公司製)0.25份、三羥甲基丙烷六亞甲基二異氰酸酯(商品名：Takenate D-160N、三井化學公司製)0.25份、作為矽烷偶合劑之有機矽烷(商品名：A100、綜研化學公司製)0.2份及含硫醇基矽烷偶合劑(商品名：X41-1810、信越化學工業公司製)0.2份、再加工改善劑(商品名：Silyl SAT10、鐘化公司製)0.1份、抗氧化劑(商品名：Irganox 1010、BASF公司製)0.3份、以及作為抗靜電劑之熔點為232℃之LiTFSi 2.5份，製備丙烯酸系黏著劑。 將得到之丙烯酸系黏著劑塗佈於對剝離面實施了矽酮處理之剝離襯墊即厚度38 μm之PET膜(三菱化學聚酯膜公司製、MRF38)之剝離面並使其乾燥，形成厚度為15 μm、-25℃下之儲存彈性模數為15×10 6Pa、表面電阻率為2×10 10Ω/□之第一黏著劑層。
[比較例1] 除了將第一黏著劑層之厚度變更為30 μm以外，與實施例1同樣地進行操作而得到從保護層到第一黏著劑層之積層部分之厚度為115 μm之附相位差層之偏光板。再者，第一黏著劑層之表面電阻率為1×10 11Ω/□。
[比較例2] 於製作第一黏著劑層時，除了使用熔點為-12.9℃之EMI-FSi來代替使用LiTFSi作為抗靜電劑以外，與實施例2同樣地進行操作而得到從保護層到第一黏著劑層之積層部分之厚度為105 μm之附相位差層之偏光板。再者，第一黏著劑層之-25℃下之儲存彈性模數為6.0×10 6Pa，表面電阻率為2×10 11Ω/□。
[比較例3] 於製作第一黏著劑層時，除了使用熔點為-12.9℃之EMI-FSi來代替使用LiTFSi作為抗靜電劑、以及將抗靜電劑之調配量設定為1份以外，與實施例2同樣地進行操作而得到從保護層到第一黏著劑層之積層部分之厚度為105 μm之附相位差層之偏光板。再者，第一黏著劑層之-25℃下之儲存彈性模數為5.5×10 6Pa，表面電阻率為2×10 10Ω/□。
[比較例4] 於製作第一黏著劑層時，除了使用熔點為27℃之TBMA-TFSi來代替使用LiTFSi作為抗靜電劑、以及將抗靜電劑之調配量設定為1份以外，與實施例2同樣地進行操作而得到從保護層到第一黏著劑層之積層部分之厚度為105 μm之附相位差層之偏光板。再者，第一黏著劑層之-25℃下之儲存彈性模數為5.5×10 6Pa，表面電阻率為2×10 10Ω/□。
[比較例5] 除了在偏光元件上未形成樹脂層以外，與實施例2同樣地進行操作而得到如下之附相位差層之偏光板：具有保護層/接著劑層/偏光元件/第二黏著劑層/第一相位差層/接著劑層/第二相位差層/第一黏著劑層之構成，並且從保護層到第一黏著劑層之積層部分之厚度為105 μm。
[參考例1] 除了在偏光元件上經由紫外線固化型接著劑貼合厚度20 μmTAC膜來代替未形成樹脂層以外，與實施例1同樣地進行操作而得到如下之附相位差層之偏光板：具有保護層/接著劑層/偏光元件/接著劑層/保護層/第二黏著劑層/第一相位差層/接著劑層/第二相位差層/第一黏著劑層之構成，並且從保護層到第一黏著劑層之積層部分之厚度為147 μm。
對實施例及比較例進行了下述評價。將評價結果與各種值一起彙總於表1。 ＜評價＞ 1.端部脫色 從得到之附相位差層之偏光板切出寬度40 cm×長度40 cm(偏光元件之吸收軸方向為寬度方向)之尺寸之試驗片。將試驗片貼合於玻璃板，以該狀態在溫度65℃及相對濕度95%之烘箱內靜置336小時後，確認是否從偏光元件之端部發生了脫色。確認係藉由在交叉透射(使在偏光元件之吸收軸方向上偏光之入射光透射之條件)下利用顯微鏡對偏光元件之吸收軸方向之端邊進行觀察來進行。具體而言，從試驗片之端部目視判斷與試驗片中央部相同色調之位置，利用顯微鏡之長度測量程式，對從試驗片之端部到與試驗片中央部相同色調之位置之距離(端部脫色寬度)進行長度測量。 2.吉他撥片試驗(耐久性) 從得到之附相位差層之偏光板切出寬度50 cm×長度150 cm(偏光元件之吸收軸方向為寬度方向)之尺寸之試驗片。如圖3所示，將試驗片S貼合於玻璃板G，於試驗片S之寬度方向中央部按壓吉他撥片P(HISTORY公司製、型號「HP2H(HARD)」)，於對吉他撥片P施加荷重200 g之狀態下，使吉他撥片P在試驗片S之長度方向上往返50次10 cm之距離，以7.5 m/分鐘之速度滑動。然後，於將試驗片S在溫度80℃之環境下放置1小時後，藉由顯微鏡觀察，對樣品S之光洩漏之裂紋之數量進行計數。 3.剝離 從得到之附相位差層之偏光板切出寬度70 cm×長度150 cm之尺寸之試驗片，使其長度方向成為偏光元件之吸收軸方向。將試驗片貼合於無鹼玻璃板，以該狀態在溫度60℃及相對濕度95%之氛圍下靜置500小時，藉此供於濕熱試驗。於濕熱試驗後，目視或用放大鏡觀察試驗片，確認試驗片是否發生了剝離。再者，評價基準如下所述。 (評價基準) 良好：未確認到剝離 不良：確認到剝離
[表1]
   第一黏著劑層 抗靜電劑 附相位差層之偏光板
厚度 儲存彈性模數 表面電阻率 熔點 調配量 脫色寬度 裂紋 剝離
μm Pa Ω/□ ℃ phr μm 個
實施例1 15 7.5×10 6 2×10 11 232 0.3 600 40 良好
實施例2 20 7.5×10 6 2×10 11 232 0.3 600 500 良好
實施例3 10 7.5×10 6 5×10 11 232 0.3 600 10 不良
實施例4 15 15×10 6 2×10 10 232 2.5 600 10 良好
比較例1 30 7.5×10 6 1×10 11 232 0.3 600 2000 良好
比較例2 20 6.0×10 6 2×10 11 -12.9 0.3 800 1000 良好
比較例3 20 5.5×10 6 2×10 10 -12.9 1 800 1200 良好
比較例4 20 5.5×10 6 2×10 10 27 1 800 1200 良好
比較例5 20 7.5×10 6 2×10 11 232 0.3 1300 40 良好
參考例1 15 7.5×10 6 2×10 11 232 0.3 300 10 良好
如表1所示，實施例之附相位差層之偏光板之脫色寬度小且耐久性亦優異。於吉他撥片試驗中產生之裂紋如圖4之截面SEM觀察照片所示，以樹脂層為起點亦波及到偏光元件。再者，於實施例3中，藉由濕熱試驗，於被黏著體之無鹼玻璃板與第一黏著劑層之界面確認到剝離。 [產業上之可利用性]
本發明之實施方式之積層體例如可用於圖像顯示裝置。作為圖像顯示裝置，可代表性地舉出液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、無機EL顯示裝置。
10:偏光板 11:偏光元件 11a:第一主面 11b:第二主面 12:保護層 20:樹脂層 31:第一黏著劑層 32:第二黏著劑層 40:相位差層 41:第一相位差層 42:第二相位差層 70:有機EL面板本體 71:基板 72:上部結構層 100:積層體 200:圖像顯示面板(有機EL面板) G:玻璃板 P:吉他撥片 S:試驗片
圖1係表示本發明之一實施方式中之積層體之概略構成之模式性剖視圖。 圖2係表示本發明之一實施方式之圖像顯示面板之概略構成之模式性剖視圖。 圖3係用於說明吉他撥片試驗之順序之圖。 圖4係表示產生了裂紋之狀態之截面SEM觀察照片。
10:偏光板
11:偏光元件
11a:第一主面
11b:第二主面
12:保護層
20:樹脂層
31:第一黏著劑層
32:第二黏著劑層
40:相位差層
41:第一相位差層
42:第二相位差層
100:積層體

Claims (15)

  1. 一種積層體，其具有： 包含偏光元件之偏光板、第一黏著劑層、以及配置於上述偏光元件與上述第一黏著劑層之間之樹脂層， 上述偏光元件與上述樹脂層相鄰地配置， 上述樹脂層包含玻璃轉移溫度為85℃以上、重量平均分子量Mw為25000以上之樹脂， 上述第一黏著劑層之厚度為25 μm以下、-25℃下之儲存彈性模數為6.5×10 6Pa以上。
  2. 如請求項1之積層體，其中上述第一黏著劑層包含抗靜電劑，上述抗靜電劑係熔點為23℃以上之離子性化合物。
  3. 如請求項2之積層體，其中構成上述離子性化合物之陰離子係雙(三氟甲磺醯)亞胺陰離子。
  4. 如請求項2之積層體，其中上述離子性化合物係鹼金屬鹽。
  5. 如請求項4之積層體，其中上述鹼金屬鹽係鋰鹽。
  6. 如請求項2之積層體，其中上述抗靜電劑之含量相對於上述第一黏著劑層之基礎聚合物100重量份為3重量份以下。
  7. 如請求項2之積層體，其中上述第一黏著劑層之表面電阻率為9×10 11Ω/□以下。
  8. 如請求項1之積層體，其具有相位差層，該相位差層配置於上述樹脂層與上述第一黏著劑層之間且至少包含第一相位差層， 從上述偏光板到上述相位差層之積層部分之厚度為120 μm以下。
  9. 如請求項8之積層體，其中上述第一相位差層係樹脂膜之延伸膜。
  10. 如請求項8之積層體，其中上述第一相位差層之厚度為10 μm以上。
  11. 如請求項8之積層體，其中上述第一相位差層之Re(550)為100 nm～190 nm、Re(450)/Re(550)為0.8以上且未達1。
  12. 一種圖像顯示裝置，其具有如請求項1至11中任一項之積層體。
  13. 一種有機EL顯示裝置，其具有如請求項1至11中任一項之積層體。
  14. 如請求項13之有機EL顯示裝置，其中上述積層體具有異形加工部。
  15. 一種圖像顯示裝置之製造方法，其包含： 準備如請求項1至11中任一項之積層體；以及 於圖像顯示面板本體上貼合上述積層體。
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