TW202334678A - 偏光板及有機電致發光顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種耐久性極其優異之偏光板。本發明之實施方式之偏光板具有：偏光元件，其具有相互對向之第一主面及第二主面；積層膜，其配置於上述偏光元件之上述第一主面側，且自上述偏光元件側依序包含基材及硬塗層；以及相位差層，其配置於上述偏光元件之上述第二主面側；上述積層膜之透濕度為600 g/m 2･24 h以下，將上述積層膜於65℃、95%RH之環境下放置48小時所得的上述積層膜之透濕度之變化率為1.5以下，上述相位差層之透濕度為200 g/m 2･24 h以下。

Description

偏光板及有機電致發光顯示裝置
本發明係關於一種偏光板及有機電致發光(EL)顯示裝置。
近年來，隨著薄型顯示器之普及，提出一種搭載了有機EL面板之顯示器(有機EL顯示裝置)。有機EL面板由於具有反射性較高之金屬層，故容易產生外界光反射或背景映入等問題。因此，已知藉由於有機EL面板本體之視認側設置組合有偏光板與相位差板之附相位差層之偏光板，來防止該等問題(例如專利文獻1及專利文獻2)。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2002-372622號公報 專利文獻2：日本專利第3325560號公報
[發明所欲解決之問題]
隨著薄型顯示器之普及，有時對有機EL顯示裝置要求極高之耐濕性，且有時亦對偏光板要求極高之耐濕性。而且，設置於有機EL顯示裝置之偏光板容易脫色，有於高濕環境下促進脫色之傾向。
本發明係為了解決上述問題而完成者，其主要目的在於提供一種耐久性極其優異之偏光板。 [解決問題之技術手段]
本發明之實施方式之偏光板具有：偏光元件，其具有相互對向之第一主面及第二主面；積層膜，其配置於上述偏光元件之上述第一主面側，且自上述偏光元件側依序包含基材及硬塗層；以及相位差層，其配置於上述偏光元件之上述第二主面側；上述積層膜之透濕度為600 g/m 2･24 h以下，將上述積層膜於65℃、95%RH之環境下放置48小時所得的上述積層膜之透濕度之變化率為1.5以下，上述相位差層之透濕度為200 g/m 2･24 h以下。 於1個實施方式中，上述變化率為1.1以上。 於1個實施方式中，上述硬塗層之厚度為1 μm以上。 於1個實施方式中，上述硬塗層之厚度為7 μm以下。 於1個實施方式中，上述積層膜於上述基材與上述硬塗層之間包含中間層，該中間層包含源自上述基材之成分及源自上述硬塗層之成分。 於1個實施方式中，上述相位差層與上述偏光元件相鄰而配置。 於1個實施方式中，上述相位差層之Re(450)/Re(550)為0.8以上且未達1。 於1個實施方式中，上述偏光元件之單體透過率為43.0%以上。 於1個實施方式中，上述偏光元件之厚度為10 μm以下。 根據本發明之另一態樣，提供一種有機電致發光顯示裝置。該有機電致發光顯示裝置具有上述偏光板。 [發明之效果]
根據本發明之實施方式，可提供一種耐久性極其優異之偏光板。
以下，對本發明之實施方式進行說明，但本發明並不限定於該等實施方式。又，於圖式中，為了使說明更明確，與實施方式相比，有時模式性地示出各部之寬度、厚度、形狀等，但僅為一例，並不對本發明之解釋進行限定。
(用語及符號之定義) 本說明書中之用語及符號之定義如下所述。 (1)折射率(nx、ny、nz) 「nx」為面內之折射率最大之方向(即慢軸方向)之折射率，「ny」為於面內與慢軸正交之方向(即快軸方向)之折射率，「nz」為厚度方向之折射率。 (2)面內相位差(Re) 「Re(λ)」為以23℃下之波長λnm之光測得之面內相位差。例如，「Re(550)」為以23℃下之波長550 nm之光測得之面內相位差。將層(膜)之厚度設為d(nm)時，藉由式：Re(λ)＝(nx－ny)×d而求出Re(λ)。 (3)厚度方向之相位差(Rth) 「Rth(λ)」為以23℃下之波長λ nm之光測得之厚度方向之相位差。例如，「Rth(550)」為以23℃下之波長550 nm之光測得之厚度方向之相位差。將層(膜)之厚度設為d(nm)時，藉由式：Rth(λ)＝(nx－nz)×d而求出Rth(λ)。 (4)Nz係數 Nz係數係藉由Nz＝Rth/Re而求出。 (5)角度 於本說明書中提及角度時，該角度包括相對於基準方向之順時針方向及逆時針方向兩者。因此，例如「45°」意指±45°。
A.偏光板 圖1係表示本發明之1個實施方式之偏光板之概略構成的模式性剖視圖，圖2係表示圖1所示之偏光板之積層膜之概略構成之一例的剖視圖。偏光板(附相位差層之偏光板)100具有：偏光元件10，其具有相互對向之第一主面10a及第二主面10b；積層膜20，其配置於偏光元件10之第一主面10a側；以及相位差層30及黏著劑層40，其等配置於偏光元件10之第二主面10b側。積層膜20自偏光元件10側依序包含基材21及硬塗層22，基材21可作為偏光元件10之保護層發揮功能。偏光板100代表性地於有機EL顯示裝置中，以較偏光元件10而積層膜20成為視認側之方式配置。
於圖示例中，相位差層30為單層，但亦可與圖示例不同，具有兩層以上之積層構造。具體而言，相位差層30可包含光學特性(例如，折射率特性、面內相位差、Nz係數、光彈性模數)不同之兩個以上之層。又，於圖示例中，於偏光元件10與相位差層30之間未配置保護層，相位差層30與偏光元件10相鄰而配置，可作為偏光元件10之保護層發揮功能，但偏光板100亦可具有配置於偏光元件10與相位差層30之間之保護層。再者，相鄰不僅包括直接相鄰，亦包括隔著下述接著層而相鄰。
構成偏光板之各構件可隔著任意適當之接著層(未圖示)而積層。作為接著層之具體例，可例舉接著劑層、黏著劑層。例如，積層膜20隔著接著劑層(較佳為使用活性能量線硬化型接著劑)而貼合於偏光元件10。例如，相位差層30隔著接著劑層(較佳為使用活性能量線硬化型接著劑)，或隔著黏著劑層(例如丙烯酸系黏著劑)而貼合於偏光元件10或未圖示之保護層。於相位差層30具有兩層以上之積層構造之情形時，各相位差層例如隔著接著劑層(較佳為使用活性能量線硬化型接著劑)而貼合。接著劑層之厚度較佳為0.4 μm以上，更佳為0.4 μm～3.0 μm，進而較佳為0.6 μm～1.5 μm。黏著劑層之厚度較佳為1 μm～10 μm。
藉由配置於偏光元件10之第二主面10b側之黏著劑層40，例如，偏光板100可貼附於有機EL面板本體。雖然未圖示，但實際上，於黏著劑層40之表面貼合有剝離襯墊。剝離襯墊可暫時黏著直至偏光板供於使用。藉由使用剝離襯墊，例如可保護黏著劑層，且滾壓形成偏光板。
偏光板可為長條狀，亦可為單片狀。此處，「長條狀」係指長度相對於寬度充分長之細長形狀，例如，係指長度相對於寬度為10倍以上、較佳為20倍以上之細長形狀。長條狀偏光板可捲繞成滾筒狀。
A-1.偏光元件 上述偏光元件代表性地為包含二色性物質(代表性地為碘)之膜。
例如就薄型化之觀點而言，偏光元件之厚度較佳為15 μm以下，更佳為12 μm以下，進而較佳為10 μm以下，特佳為8 μm以下。另一方面，偏光元件之厚度較佳為1 μm以上，更佳為2 μm以上，進而較佳為3 μm以上。
偏光元件較佳為於波長380 nm～780 nm中之任一波長下表現出吸收二色性。偏光元件之單體透過率例如為40.0%以上，較佳為41.5%以上，更佳為43.0%以上，進而較佳為44.5%以上。於具有較高之單體透過率之偏光元件中，上述脫色之問題可能更加顯著。另一方面，單體透過率例如為48.0%以下，可為46.0%以下，亦可為45.0%以下。偏光元件之偏光度較佳為97.0%以上，更佳為99.0%以上，進而較佳為99.9%以上。
上述單體透過率代表性地為使用紫外可見分光光度計而測定，並進行了視感度補正之Y值。上述偏光度代表性地基於使用紫外可見分光光度計而測定並進行了視感度補正之平行透過率Tp及正交透過率Tc，藉由下述式而求出。 偏光度(%)＝{(Tp－Tc)/(Tp＋Tc)} 1/2×100
偏光元件可藉由任意適當之方法製作。具體而言，偏光元件可由單層之樹脂膜製作，亦可使用兩層以上之積層體而製作。
由上述單層之樹脂膜製造偏光元件之方法代表性地包括對樹脂膜實施利用碘或二色性染料等二色性物質之染色處理及延伸處理。作為樹脂膜，例如可使用聚乙烯醇(PVA)系膜、部分縮甲醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜。該方法亦可進而包括不溶化處理、膨潤處理、交聯處理等。此種製造方法為業界周知且慣用者，故省略詳細之說明。
使用上述積層體而得到之偏光元件例如可使用樹脂基材與樹脂膜或樹脂層(代表性地為PVA系樹脂層)之積層體而製作。具體而言，可藉由如下方式製作：將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材，使其乾燥而於樹脂基材上形成PVA系樹脂層，得到樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體；將該積層體進行延伸及染色，以PVA系樹脂層為偏光元件。於本實施方式中，較佳為於樹脂基材之單側形成包含鹵化物及PVA系樹脂之PVA系樹脂層。延伸代表性地包括將積層體浸漬於硼酸水溶液中並延伸。進而，延伸可視需要進而包括於硼酸水溶液中進行延伸之前將積層體以高溫(例如95℃以上)進行空中延伸。此外，於本實施方式中，較佳為積層體供於乾燥收縮處理，該乾燥收縮處理係藉由於長度方向上一面進行搬送一面進行加熱，而使其於寬度方向上收縮2%以上。代表性地，本實施方式之製造方法包括對積層體依序實施空中輔助延伸處理、染色處理、水中延伸處理及乾燥收縮處理。藉由導入輔助延伸，即使於在熱塑性樹脂上塗佈PVA之情形時，亦可提高PVA之結晶性，可達成較高之光學特性。又，藉由同時事先提高PVA之配向性，可防止於後續染色步驟或延伸步驟中浸漬於水中時PVA之配向性降低或溶解等問題，可達成較高之光學特性。進而，於將PVA系樹脂層浸漬於液體中之情形時，與PVA系樹脂層不包含鹵化物之情形相比，可抑制PVA分子之配向混亂及配向性降低，可達成較高之光學特性。進而，藉由利用乾燥收縮處理使積層體於寬度方向上收縮，可達成較高之光學特性。可於自所得到之樹脂基材/偏光元件之積層體剝離了樹脂基材之剝離面，或於與剝離面相反側之面積層保護層而得到偏光板。此種偏光元件之製造方法之詳細情況例如記載於日本專利特開2012-73580號公報、日本專利第6470455號。關於該等公報，其全部記載係作為參考而引用至本說明書中。
A-2.積層膜 於1個實施方式中，如圖2所示，積層膜20具有基材(保護層)21及硬塗層22，進而，可於基材21與硬塗層22之間形成中間層23。本發明之實施方式之偏光板代表性地配置於有機EL顯示裝置之視認側，硬塗層22較基材21配置得更靠視認側。硬塗層22例如亦可作為抗反射層、防黏層、防眩層等其他功能層發揮功能。
積層膜之厚度例如為15 μm以上70 μm以下，較佳為20 μm以上50 μm以下。
積層膜於40℃及92%RH下之透濕度為600 g/m 2･24 h以下，較佳為550 g/m 2･24 h以下，更佳為500 g/m 2･24 h以下，進而較佳為450 g/m 2･24 h以下。另一方面，積層膜於40℃及92%RH下之透濕度較佳為300 g/m 2･24 h以上，較佳為320 g/m 2･24 h以上，更佳為340 g/m 2･24 h以上。
實施了加濕處理之積層膜於40℃及92%RH下之透濕度較佳為800 g/m 2･24 h以下，更佳為700 g/m 2･24 h以下，進而較佳為600 g/m 2･24 h以下。加濕處理引致之透濕度之變化率(加濕處理後之透濕度/加濕處理前之透濕度)為1.5以下，較佳為1.4以下。藉由使用此種積層膜，可達成極高之耐濕性。再者，加濕處理例如藉由於65℃、95%RH之環境下將積層膜放置48小時而進行。
實施了加濕處理之積層膜於40℃及92%RH下之透濕度較佳為400 g/m 2･24 h以上，更佳為450 g/m 2･24 h以上，進而較佳為500 g/m 2･24 h以上。加濕處理引致之透濕度之變化率(加濕處理後之透濕度/加濕處理前之透濕度)較佳為1.1以上，更佳為1.2以上。藉由使用此種積層膜，可抑制脫色。本發明人等發現，於將偏光板用於有機EL顯示裝置之情形時，偏光板容易脫色之問題之主要原因在於源自構成有機EL面板之構件且於高濕環境下容易產生之氨(實質上為銨離子)，藉由將滲入至偏光板(偏光元件)之銨離子排出，可抑制脫色。而且，藉由將具有較高之透濕度之構件配置於偏光元件之單側(代表性地為視認側)，可抑制脫色。具體而言，可抑制偏光元件所含之二色性物質(代表性地為碘錯合物)之分解。
上述基材可包含可用作偏光元件之保護層之任意適當之膜。作為構成此種基材(膜)之材料，例如可例舉：三乙醯纖維素(TAC)等纖維素系樹脂；聚降𦯉烯等環烯烴系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；(甲基)丙烯酸系樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)等聚酯系樹脂；聚乙烯等聚烯烴系樹脂。作為構成基材之材料，較佳為使用三乙醯纖維素(TAC)等纖維素系樹脂。
基材之厚度例如為10 μm以上65 μm以下，較佳為15 μm以上45 μm以下。
上述硬塗層代表性地藉由於上述基材塗佈硬塗層形成材料，使塗佈層硬化而形成。硬塗層形成材料代表性地包含作為層形成成分之硬化性化合物。作為硬化性化合物之硬化機制，例如可例舉熱硬化型、光硬化型。作為硬化性化合物，例如可例舉：單體、低聚物、預聚物。較佳為使用多官能單體或低聚物作為硬化性化合物。作為多官能單體或低聚物，例如可例舉：具有2個以上(甲基)丙烯醯基之單體或低聚物、胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯或胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯之低聚物、環氧系單體或低聚物、矽酮系單體或低聚物。
上述硬塗層形成材料亦可包含任意適當之添加劑。作為添加劑，例如可例舉：聚合起始劑、調平劑、抗黏連劑、分散穩定劑、觸變劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、消泡劑、增黏劑、分散劑、界面活性劑、觸媒、填料、潤滑劑、抗靜電劑等。添加劑之種類、組合、含量等可根據目的或所需特性而適當設定。
於硬化性化合物為熱硬化型之情形時，加熱溫度例如為60℃～140℃，較佳為60℃～100℃。於硬化性化合物為光硬化型之情形時，硬化處理代表性地藉由紫外線照射而進行。紫外線照射之累計光量例如為100 mJ/cm 2～300 mJ/cm 2。亦可組合紫外線照射與加熱。
硬塗層之厚度較佳為1 μm以上，更佳為1.5 μm以上，進而較佳為2 μm以上。根據此種厚度，可防止積層膜之透濕度過高。又，可確保所得到之偏光板之耐擦傷性。另一方面，硬塗層之厚度較佳為7 μm以下，更佳為6 μm以下，進而較佳為5 μm以下。根據此種厚度，可良好地滿足上述透濕度，例如可抑制脫色。再者，耐擦傷性例如可藉由如下方式進行評價：於硬塗層表面，將於底面安裝有鋼絲絨＃0000之圓柱以負載1.0 kg以每秒約100 mm之速度往復1000次進行摩擦後，以目視確認於硬塗層表面產生之損傷之程度。
上述中間層可包含源自上述基材之成分及源自上述硬塗層之成分。具體而言，形成基材之成分與形成硬塗層之成分可相容(混合存在)而形成。例如，於基材包含TAC之情形時，作為源自基材之成分，可例舉：TAC、乙酸及纖維素。於積層膜中，中間層與基材之界面及中間層與硬塗層之界面可藉由穿透式電子顯微鏡(TEM)觀察而確認。
中間層之厚度例如為1 μm以上30 μm以下，較佳為1 μm以上20 μm以下，更佳為1 μm以上10 μm以下。
硬塗層之厚度相對於中間層之厚度的比(硬塗層之厚度/中間層之厚度)較佳為0.5以上，更佳為0.6以上。根據此種厚度比，例如可抑制因加濕而引起之積層膜之透濕度之變化。另一方面，硬塗層之厚度相對於中間層之厚度的比(硬塗層之厚度/中間層之厚度)較佳為1.0以下，更佳為0.9以下。根據此種厚度比，可良好地滿足上述透濕度，例如可抑制脫色。
中間層例如可藉由於上述硬塗層形成材料可含有之溶劑中含有可溶解基材之良溶劑而形成。具體而言，可硬塗層形成材料所含之一部分成分(代表性地為溶劑)與基材混合及/或滲透至基材中，形成基材之成分與形成硬塗層之成分相容(混合存在)，形成中間層。
作為上述硬塗層形成材料可含有之溶劑，例如可例舉：甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、TBA(tert-butyl alcohol，第三丁醇)、2-甲氧基乙醇等醇類；丙酮、MEK(methyl ethyl ketone，甲基乙基酮)、MIBK(methyl isobutyl ketone，甲基異丁基酮)、環戊酮等酮類；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、PMA(Propyleneglycol monomethylether acetate，丙二醇單甲醚乙酸酯)等酯類；二異丙醚、丙二醇單甲醚等醚類；乙二醇、丙二醇等二醇類；乙基溶纖劑、丁基溶纖劑等溶纖劑類；己烷、庚烷、辛烷等脂肪族烴類；苯、甲苯、二甲苯等芳香族烴類。該等可單獨使用1種，亦可併用2種以上。溶劑之含量係以上述硬塗層形成材料之固形物成分濃度例如成為20重量%以上50重量%以下之方式進行設定，較佳為30重量%以上45重量%以下。
作為上述可溶解基材之良溶劑，例如使用基材(溶質)之溶解量相對於溶劑100重量份為30重量份以上之溶劑。作為具體例，於基材包含TAC之情形時，作為可溶解基材之良溶劑，例如較佳為使用環戊酮(例如TAC之溶解量相對於環戊酮100重量份為40重量份)、MEK(例如TAC之溶解量相對於MEK 100重量份為60重量份)、環己酮、乙酸甲酯、乙酸乙酯。
於1個實施方式中，硬塗層形成材料包含可溶解基材之良溶劑及實質上不溶解基材之不良溶劑。作為實質上不溶解基材之不良溶劑，例如使用基材(溶質)之溶解量相對於溶劑100重量份未達30重量份之溶劑，較佳為使用基材(溶質)之溶解量相對於溶劑100重量份為10重量份以下之溶劑。於基材包含TAC之情形時，作為實質上不溶解基材之不良溶劑，例如較佳為使用乙醇、異丙醇、己烷。硬塗層形成材料中之可溶解基材之良溶劑之含量相對於實質上不溶解基材之不良溶劑之含量的比(良溶劑之含量/不良溶劑之含量，重量比)例如為1.5以下，較佳為0.3以上1.2以下，更佳為0.4以上1.1以下。
A-3.相位差層 如上所述，相位差層可如圖所示為單層，亦可具有兩層以上之積層構造。於相位差層為單層之情形時，相位差層代表性地可作為λ/4板發揮功能。相位差層代表性地為了對有機EL顯示裝置賦予抗反射特性而設置。關於相位差層，代表性地折射率特性表現出nx＞ny＝nz之關係。相位差層之面內相位差Re(550)較佳為100 nm～190 nm，更佳為110 nm～170 nm，進而較佳為120 nm～160 nm。再者，此處，「ny＝nz」不僅包括ny與nz完全相等之情形，亦包括實質上相等之情形。具體而言，可有時ny＞nz或ny＜nz。相位差層之Nz係數較佳為0.9～1.5，更佳為0.9～1.3。藉由滿足此種關係，可得到具有非常優異之反射色相之有機EL顯示裝置。
於相位差層為單層之情形時，相位差層較佳為表現出相位差值根據測定光之波長而變大之逆波長色散特性。於該情形時，相位差層之Re(450)/Re(550)較佳為0.8以上且未達1，更佳為0.8以上0.95以下。若為此種構成，則可實現非常優異之抗反射特性。
相位差層之慢軸與偏光元件之吸收軸所成之角度較佳為40°～50°，更佳為42°～48°，進而較佳為約45°。若角度為此種範圍，則藉由如上所述將相位差層作為λ/4板，可得到具有非常優異之抗反射特性之有機EL顯示裝置。
相位差層於40℃及92%RH下之透濕度為200 g/m 2･24 h以下，較佳為150 g/m 2･24 h以下，更佳為100 g/m 2･24 h以下。此種相位差層可作為阻斷氨(銨離子)向偏光元件滲入之阻擋層發揮功能，可有助於抑制脫色。具體而言，若上述積層膜之透濕度過高，則有時難以確保極高之耐濕性，故藉由組合此種阻擋層，可確保極高之耐濕性，且顯著地抑制脫色。另一方面，相位差層於40℃及92%RH下之透濕度例如為50 g/m 2･24 h以上。再者，於相位差層具有兩層以上之積層構造之情形時，相位差層之透濕度係指可包含接著層之積層構造之透濕度。
相位差層可包含任意適當之材料，只要可滿足如上所述之特性即可。具體而言，相位差層可為樹脂膜(經延伸之樹脂膜)，亦可為液晶化合物之配向固化層(液晶配向固化層)。較佳為相位差層包含樹脂膜(經延伸之樹脂膜)。於該情形時，相位差層之厚度較佳為10 μm以上70 μm以下，更佳為20 μm以上60 μm以下。
作為構成樹脂膜之樹脂之代表例，可例舉聚碳酸酯系樹脂或聚酯碳酸酯系樹脂(以下，有時簡稱為聚碳酸酯系樹脂)。作為聚碳酸酯系樹脂，可使用任意適當之聚碳酸酯系樹脂，只要能得到所需透濕度即可。例如，聚碳酸酯系樹脂包含源自茀系二羥基化合物之結構單元；源自異山梨酯系二羥基化合物之結構單元；及源自選自由脂環式二醇、脂環式二甲醇、二、三或聚乙二醇、以及伸烷基二醇或螺二醇所組成之群中之至少1種二羥基化合物的結構單元。聚碳酸酯系樹脂較佳為包含源自茀系二羥基化合物之結構單元、源自異山梨酯系二羥基化合物之結構單元、以及源自脂環式二甲醇之結構單元及/或源自二、三或聚乙二醇之結構單元；進而較佳為包含源自茀系二羥基化合物之結構單元、源自異山梨酯系二羥基化合物之結構單元、及源自二、三或聚乙二醇之結構單元。聚碳酸酯系樹脂亦可視需要包含源自其他二羥基化合物之結構單元。相位差層可藉由將包含如上所述之聚碳酸酯系樹脂之膜於任意適當之延伸條件下進行延伸而形成。再者，聚碳酸酯系樹脂及相位差層之形成方法之詳細情況例如記載於日本專利特開2014-10291號公報、日本專利特開2014-26266號公報、日本專利特開2015-212816號公報、日本專利特開2015-212817號公報、日本專利特開2015-212818號公報、日本專利特開2017-54093號公報、日本專利特開2018-60014號公報。該等公報之記載係作為參考而引用至本說明書中。
A-4.其他 黏著劑層40之厚度較佳為10 μm～20 μm。黏著劑層可包含任意適當之黏著劑。作為具體例，可例舉：丙烯酸系黏著劑、橡膠系黏著劑、矽酮系黏著劑、聚酯系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑、環氧系黏著劑、及聚醚系黏著劑。藉由調整形成黏著劑之基質樹脂之單體之種類、數量、組合及調配比、以及交聯劑之調配量、反應溫度、反應時間等，可製備具有與目的對應之所需特性之黏著劑。黏著劑之基質樹脂可單獨使用，亦可組合兩種以上使用。基質樹脂較佳為丙烯酸系樹脂(具體而言，黏著劑層較佳為包含丙烯酸系黏著劑)。
B.有機EL顯示裝置 上述偏光板可用於有機EL顯示裝置。因此，本發明之實施方式之有機EL顯示裝置具有上述偏光板。
圖3係表示於本發明之1個實施方式之有機EL顯示裝置中偏光板配置於有機EL面板之狀態之概略的模式性剖視圖。偏光板(附相位差層之偏光板)100係以於有機EL面板200中，偏光元件10較積層膜20更靠有機EL面板本體70側之方式配置。具體而言，偏光板100係藉由黏著劑層40而貼附於有機EL面板本體70。
有機EL面板本體70具有基板71及上部構造層72，該上部構造層72含有：包含薄膜電晶體(TFT)等之電路層、有機發光二極體(OLED)、密封OLED之密封膜等。例如，於使用可撓性基板(例如樹脂基板)作為基板71之情形時，所得到之有機EL顯示裝置可實現彎曲、屈曲、彎折、捲取等。上部構造層72例如包含含氮層(例如氮化矽、氮氧化矽等氮化物層)，可自上部構造層72產生氨(銨離子)。根據上述偏光板，於有機EL顯示裝置中，可抑制脫色。又，可不對有機EL面板本體之構成進行設計變更而解決脫色之問題。 [實施例]
以下，藉由實施例對本發明具體地進行說明，但本發明並不受該等實施例限定。厚度及透濕度之測定方法如下所述。再者，只要無特別明確記載，則實施例及比較例中之「份」及「%」係以重量為基準。 1.厚度 10 μm以下之厚度係使用干涉膜厚計(大塚電子公司製造，製品名「MCPD-3000」)而測定。超過10 μm之厚度係使用數位式測微計(安利知公司製造，製品名「KC-351C」)而測定。 2.透濕度 藉由杯式法(JIS Z 0208)而求出透濕度。
[實施例1] (偏光元件之製作) 作為熱塑性樹脂基材，使用長條狀，吸水率為0.75%，Tg為約75℃之非晶質間苯二甲酸共聚聚對苯二甲酸乙二酯膜(厚度：100 μm)。對樹脂基材之單面實施電暈處理。 於以9：1之重量比混合聚乙烯醇(聚合度4200，皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改性PVA(日本合成化學工業公司製造，商品名「GOHSEFIMER Z410」)而成之PVA系樹脂100重量份中添加碘化鉀13重量份，將所得到者溶於水中，製備PVA水溶液(塗佈液)。 藉由於樹脂基材之電暈處理面塗佈上述PVA水溶液並以60℃進行乾燥，而形成厚度13 μm之PVA系樹脂層，製作積層體。 將所得到之積層體於130℃之烘箱內於周速不同之輥間沿縱向(長度方向)自由端單軸延伸至2.4倍(空中輔助延伸處理)。 繼而，將積層體浸漬於液溫40℃之不溶化浴(相對於水100重量份，調配硼酸4重量份而得到之硼酸水溶液)中30秒(不溶化處理)。 繼而，於液溫30℃之染色浴(相對於水100重量份，以1：7之重量比調配碘及碘化鉀而得到之碘水溶液)中，以最終所得到之偏光元件之單體透過率(Ts)成為43.0%之方式調整濃度並浸漬60秒(染色處理)。 繼而，浸漬於液溫40℃之交聯浴(相對於水100重量份，調配碘化鉀3重量份，並調配硼酸5重量份而得到之硼酸水溶液)中30秒(交聯處理)。 其後，一面將積層體浸漬於液溫70℃之硼酸水溶液(硼酸濃度4.0重量%、碘化鉀5.0重量%)中，一面於周速不同之輥間沿縱向(長度方向)以總延伸倍率成為5.5倍之方式進行單軸延伸(水中延伸處理)。 其後，將積層體浸漬於液溫20℃之清洗浴(相對於水100重量份，調配碘化鉀4重量份而得到之水溶液)中(清洗處理)。 其後，於保持90℃之烘箱中進行乾燥，且與表面溫度保持75℃之SUS製加熱輥接觸約2秒(乾燥收縮處理)。藉由乾燥收縮處理所得到之積層體之寬度方向之收縮率為5.2%。 如此，於樹脂基材上形成厚度5 μm之偏光元件。
(硬塗層形成材料之製備) 準備紫外線硬化型丙烯酸酯樹脂(DIC(股)製造，商品名「LUXYDIR 17-806」，固形物成分80%)50重量份。相對於該樹脂之樹脂固形物成分每100重量份，混合光聚合起始劑(IGM Resins公司製造，商品名「OMNIRAD907」)3重量份、調平劑(DIC(股)製造，商品名「GRANDIC PC4100」，固形物成分10%)0.05重量份，得到混合物。利用以重量比65：35之混合比混合異丙醇(IPA)及環戊酮(CPN)而成之混合溶劑將所得到之混合物進行稀釋，使固形物成分濃度成為36%，從而製備硬塗層形成材料。
(積層膜之製作) 使用棒式塗佈機將所得到之硬塗層形成材料(塗佈液)塗佈於厚度25 μm之TAC膜(柯尼卡美能達(股)製造，商品名「KC2UA」)上。藉由將該形成有塗佈層之TAC膜以80℃加熱1分鐘而使塗佈層乾燥後，用高壓水銀燈照射累計光量300 mJ/cm 2之紫外線而使塗佈層硬化，從而得到厚度為32 μm且40℃及92%RH下之透濕度為440 g/m 2･24 h之積層膜。
(構成相位差層之膜之製作1) 使用分批聚合裝置進行聚合，該分批聚合裝置包含具備攪拌葉及控制在100℃之回流冷卻器之2台立式反應器。添加雙[9-(2-苯氧基羰基乙基)茀-9-基]甲烷29.60質量份(0.046 mol)、異山梨酯(ISB)29.21質量份(0.200 mol)、螺二醇(SPG)42.28質量份(0.139 mol)、碳酸二苯酯(DPC)63.77質量份(0.298 mol)及作為觸媒之乙酸鈣一水合物1.19×10 -2質量份(6.78×10 -5mol)。將反應器內進行減壓氮氣置換後，藉由熱媒進行加溫，於內溫變成100℃之時間點開始攪拌。於升溫開始40分鐘後，使內溫達到220℃，以保持該溫度之方式進行控制，同時開始減壓，於達到220℃後歷時90分鐘使其為13.3 kPa。將與聚合反應一同副產之酚蒸氣導入至100℃之回流冷卻器，使酚蒸氣中包含之若干單體成分返回至反應器，將不冷凝之酚蒸氣導入至45℃之冷凝器並回收。向第1反應器導入氮氣，暫時複壓至大氣壓後，將第1反應器內之經低聚物化之反應液轉移至第2反應器。繼而，開始進行第2反應器內之升溫及減壓，歷時50分鐘使內溫為240℃，壓力為0.2 kPa。其後，進行聚合直至達到規定之攪拌動力。於達到規定動力之時間點向反應器導入氮氣而進行複壓，將生成之聚酯碳酸酯系樹脂擠出至水中，切割線料而得到顆粒。
將所得到之聚酯碳酸酯系樹脂(顆粒)以80℃真空乾燥5小時後，使用具備單軸擠出機(東芝機械公司製造，汽缸設定溫度：250℃)、T型模頭(寬度200 mm，設定溫度：250℃)、冷卻輥(設定溫度：120～130℃)及捲取機之膜製膜裝置，製作厚度135 μm之長條狀樹脂膜。將所得到之長條狀樹脂膜於寬度方向上以延伸溫度143℃、延伸倍率2.8倍進行延伸，得到厚度為47 μm且40℃及92%RH下之透濕度為75 g/m 2･24 h之延伸膜。所得到之延伸膜之Re(550)為147 nm，Re(450)/Re(550)為0.86，Nz係數為1.12。
(偏光板之製作) 於以上所得到之樹脂基材/偏光元件之積層體之偏光元件表面，經由紫外線硬化型接著劑(硬化後之厚度：1.0 μm)貼合以上所得到之積層膜。繼而，將樹脂基材自偏光元件剝離，於該剝離面，隔著厚度5 μm之丙烯酸系黏著劑層而貼合以上所得到之相位差層(延伸膜)。此時，以偏光元件之吸收軸與相位差層之慢軸成45°之角度的方式進行貼合。繼而，於相位差層之表面藉由丙烯酸系黏著劑形成厚度15 μm之黏著劑層，得到偏光板。
[實施例2] 於硬塗層形成材料之製備中，除了使用以重量比50：50之混合比混合IPA及CPN而成之混合溶劑以外，以與實施例1相同之方式得到偏光板。再者，所得到之積層膜之厚度為33 μm，40℃及92%RH下之透濕度為380 g/m 2･24 h。
[實施例3及4] 除了藉由以下所示之方法製作構成相位差層之膜以外，以與實施例1及2相同之方式得到偏光板。再者，所得到之延伸膜之厚度為37 μm，40℃及92%RH下之透濕度為105 g/m 2･24 h，Re(550)為144 nm，Re(450)/Re(550)為0.86，Nz係數為1.09。
(構成相位差層之膜之製作2) 除了將丙烯酸系樹脂(PMMA)0.7質量份進行熔融混練以外，以與實施例1相同之方式得到聚酯碳酸酯系樹脂(顆粒)，將其以80℃真空乾燥5小時後，使用具備單軸擠出機(東芝機械公司製造，汽缸設定溫度：250℃)、T型模頭(寬度200 mm，設定溫度：250℃)、冷卻輥(設定溫度：120～130℃)及捲取機之膜製膜裝置，製作厚度105 μm之長條狀樹脂膜。將所得到之長條狀樹脂膜於寬度方向上以延伸溫度138℃、延伸倍率2.8倍進行延伸，得到延伸膜。
[比較例1] 於硬塗層形成材料之製備中，除了使用以重量比30：70之混合比混合IPA及CPN而成之混合溶劑以外，以與實施例1相同之方式得到偏光板。再者，所得到之積層膜之厚度為33 μm，40℃及92%RH下之透濕度為380 g/m 2･24 h。
[比較例2] 於硬塗層形成材料之製備中，除了使用以重量比20：80之混合比混合IPA及CPN而成之混合溶劑以外，以與實施例1相同之方式得到偏光板。再者，所得到之積層膜之厚度為33 μm，40℃及92%RH下之透濕度為380 g/m 2･24 h。
[比較例3] 於硬塗層形成材料之製備中，除了使用以重量比10：90之混合比混合IPA及CPN而成之混合溶劑以外，以與實施例1相同之方式得到偏光板。再者，所得到之積層膜之厚度為33 μm，40℃及92%RH下之透濕度為380 g/m 2･24 h。
[比較例4] 於硬塗層形成材料之製備中，除了使用以重量比30：70之混合比混合IPA及CPN而成之混合溶劑以外，以與實施例3相同之方式得到偏光板。再者，所得到之積層膜之厚度為33 μm，40℃及92%RH下之透濕度為380 g/m 2･24 h。
[比較例5] 於硬塗層形成材料之製備中，除了使用以重量比20：80之混合比混合IPA及CPN而成之混合溶劑以外，以與實施例3相同之方式得到偏光板。再者，所得到之積層膜之厚度為33 μm，40℃及92%RH下之透濕度為380 g/m 2･24 h。
[比較例6] 於硬塗層形成材料之製備中，除了使用以重量比10：90之混合比混合IPA及CPN而成之混合溶劑以外，以與實施例3相同之方式得到偏光板。再者，所得到之積層膜之厚度為33 μm，40℃及92%RH下之透濕度為380 g/m 2･24 h。
[比較例7及8] 除了將以下所示之液晶配向固化層用作相位差層以外，以與實施例1及2相同之方式得到偏光板。
(構成相位差層之液晶配向固化層之製作) 將式(I)所表示之化合物55份、式(II)所表示之化合物25份、式(III)所表示之化合物20份加入環戊酮(CPN)400份後，加溫至60℃，攪拌而使其溶解，確認到溶解後，恢復至室溫，加入Irgacure 907(BASF Japan股份有限公司製造)3份、MEGAFAC F-554(DIC股份有限公司製造)0.2份、對甲氧基苯酚(MEHQ)0.1份，進而進行攪拌，得到溶液。溶液透明且均勻。藉由0.20 μm之膜濾器過濾所得到之溶液，而得到聚合性組合物。另一方面，使用旋轉塗佈法將配向膜用聚醯亞胺溶液塗佈於厚度0.7 mm之玻璃基材，以100℃乾燥10分鐘，以200℃焙燒60分鐘，藉此得到塗膜。對所得到之塗膜進行摩擦處理，形成配向膜。摩擦處理係使用市售之摩擦裝置而進行。藉由旋轉塗佈法將以上所得到之聚合性組合物塗佈於基材(實質上為配向膜)，以100℃乾燥2分鐘。將所得到之塗佈膜冷卻至室溫後，使用高壓水銀燈，以30 mW/cm 2之強度照射紫外線30秒而得到液晶配向固化層。所得到之液晶配向固化層之厚度為3 μm，40℃及92%RH下之透濕度為815 g/m 2･24 h，面內相位差Re(550)為130 nm，Re(450)/Re(550)為0.851。
[化1] [化2]
[比較例9、10及11] 除了將上述液晶配向固化層用作相位差層以外，以與比較例1、2及3相同之方式得到偏光板。
對實施例及比較例進行下述評價。將評價結果總結於表1。 ＜評價＞ 1.積層膜之構成 藉由穿透式電子顯微鏡(TEM)對所得到之積層膜之剖面進行觀察(倍率：10000倍)，確認積層構造，測定TAC膜(基材)上之層之厚度。 2.積層膜之透濕度變化 將所得到之積層膜於65℃、95%RH之環境下放置48小時(加濕處理)。測定加濕處理後之積層膜於40℃及92%RH下之透濕度。 3.透過率變化1(氨脫色) 將所得到之偏光板貼合於表面成膜有厚度500 nm之氮氧化矽膜之無鹼玻璃板後，將其於65℃、95%RH之環境下放置48小時(加濕試驗)。使用紫外可見分光光度計(大塚電子公司製造之「LPF-2000」)測定加濕試驗前後之偏光板之透過率Ts，算出透過率變化ΔTs(ΔTs＝加濕試驗後之Ts－加濕試驗前之Ts)。再者，藉由將成膜有氮氧化矽膜之無鹼玻璃板供於加濕試驗，確認到氨之產生。 4.透過率變化2(耐濕性) 將所得到之偏光板貼合於無鹼玻璃板後，將其於65℃、95%RH之環境下放置336小時(加濕試驗)。使用紫外可見分光光度計(大塚電子公司製造之「LPF-2000」)測定加濕試驗前後之偏光板之透過率Ts，算出透過率變化ΔTs(ΔTs＝加濕試驗後之Ts－加濕試驗前之Ts)。
[表1]
   HC層形成用溶劑 積層膜 相位差層 加濕試驗
厚度μm 厚度比 透濕度g/m 2•24 h 變化率 厚度 μm 透濕度 g/m 2•24 h ∆Ts1 % ∆Ts2 %
IPA CPN HC層 中間層 加濕前 加濕後
實施例1 65 35 2.7 4 0.68 440 550 1.25 47 75 1.1 1.6
實施例2 50 50 4.0 5 0.80 380 520 1.37 47 75 0.7 2.2
實施例3 65 35 2.7 4 0.68 440 550 1.25 37 105 1.2 1.5
實施例4 50 50 4.0 5 0.80 380 520 1.37 37 105 0.9 2.3
比較例1 30 70 3.6 7.5 0.48 380 600 1.58 47 75 0.3 3.5
比較例2 20 80 2.5 10 0.25 380 690 1.82 47 75 0.2 5.1
比較例3 10 90 2.2 15 0.15 380 770 2.03 47 75 0.2 8.8
比較例4 30 70 3.6 7.5 0.48 380 600 1.58 37 105 0.5 3.4
比較例5 20 80 2.5 10 0.25 380 690 1.82 37 105 0.5 4.9
比較例6 10 90 2.2 15 0.15 380 770 2.03 37 105 0.4 9.5
比較例7 65 35 2.7 4 0.68 440 550 1.25 3 815 3.1 1.4
比較例8 50 50 4.0 5 0.80 380 520 1.37 3 815 3.2 1.4
比較例9 30 70 3.6 7.5 0.48 380 600 1.58 3 815 1.8 3.9
比較例10 20 80 2.5 10 0.25 380 690 1.82 3 815 1.3 4.7
比較例11 10 90 2.2 15 0.15 380 770 2.03 3 815 2.2 7.8
於各實施例、比較例中，藉由TEM觀察，確認到中間層之形成。於各實施例中，確認到透過率變化ΔTs處於±3%之範圍內。 [產業上之可利用性]
本發明之實施方式之偏光板例如適宜用於有機EL顯示裝置。
10:偏光元件 10a:第一主面 10b:第二主面 20:積層膜 21:基材 22:硬塗層 23:中間層 30:相位差層 40:黏著劑層 70:有機EL面板本體 71:基板 72:上部構造層 100:偏光板 200:有機EL面板
圖1係表示本發明之1個實施方式之偏光板之概略構成的模式性剖視圖。 圖2係表示圖1所示之偏光板之積層膜之概略構成之一例的剖視圖。 圖3係表示於本發明之1個實施方式之有機EL顯示裝置中偏光板配置於有機EL面板之狀態之概略的模式性剖視圖。
10:偏光元件
10a:第一主面
10b:第二主面
20:積層膜
30:相位差層
40:黏著劑層
100:偏光板

Claims (10)

  1. 一種偏光板，其具有： 偏光元件，其具有相互對向之第一主面及第二主面； 積層膜，其配置於上述偏光元件之上述第一主面側，且自上述偏光元件側依序包含基材及硬塗層；以及 相位差層，其配置於上述偏光元件之上述第二主面側； 上述積層膜之透濕度為600 g/m 2･24 h以下， 將上述積層膜於65℃、95%RH之環境下放置48小時所得的上述積層膜之透濕度之變化率為1.5以下， 上述相位差層之透濕度為200 g/m 2･24 h以下。
  2. 如請求項1之偏光板，其中上述變化率為1.1以上。
  3. 如請求項1或2之偏光板，其中上述硬塗層之厚度為1 μm以上。
  4. 如請求項1至3中任一項之偏光板，其中上述硬塗層之厚度為7 μm以下。
  5. 如請求項1至4中任一項之偏光板，其中上述積層膜於上述基材與上述硬塗層之間包含中間層，該中間層包含源自上述基材之成分及源自上述硬塗層之成分。
  6. 如請求項1至5中任一項之偏光板，其中上述相位差層與上述偏光元件相鄰而配置。
  7. 如請求項1至6中任一項之偏光板，其中上述相位差層之Re(450)/Re(550)為0.8以上且未達1。
  8. 如請求項1至7中任一項之偏光板，其中上述偏光元件之單體透過率為43.0%以上。
  9. 如請求項1至8中任一項之偏光板，其中上述偏光元件之厚度為10 μm以下。
  10. 一種有機電致發光顯示裝置，其具有如請求項1至9中任一項之偏光板。
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