TW202229942A - 偏光板、附有覆蓋玻璃之偏光板及圖像顯示裝置 - Google Patents

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藤田雅人
森本剛司
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Abstract

本發明提供一種偏光板，其即便於高溫環境下，貫通孔部分中之偏移亦較小，且於圖像顯示裝置中，於貫通孔被用於將覆蓋玻璃積層之黏著劑填充之情形時，貫通孔部分之氣泡可得到顯著抑制。本發明之偏光板具有：偏光元件；保護層，其配置於偏光元件之至少一側；及黏著劑層；且形成有貫通孔，偏光元件之厚度為15 μm以下，｜b 1－b 2｜為45 mm以下。此處，b 1係偏光元件之吸收軸方向上自貫通孔之中心至偏光板之一端之距離，b 2係偏光元件之吸收軸方向上自貫通孔之中心至偏光板之另一端之距離。

Description

偏光板、附有覆蓋玻璃之偏光板及圖像顯示裝置
本發明係關於一種偏光板、附有覆蓋玻璃之偏光板及圖像顯示裝置。更詳細而言，本發明係關於一種具有黏著劑層且形成有貫通孔之偏光板及附有覆蓋玻璃之偏光板、以及包含此種偏光板之圖像顯示裝置。
於行動電話、筆記型個人電腦等圖像顯示裝置中，為了實現圖像顯示，及/或提昇該圖像顯示之性能，廣泛使用有偏光板。近年來，期望偏光板亦用於搭載有相機之圖像顯示裝置、智慧型手錶、汽車之儀錶面板等，且存在於偏光板形成貫通孔之情況。但是，於具有貫通孔之偏光板中，存在於高溫環境下，於貫通孔部分發生偏光板之偏移(實質上為黏著劑層之偏移)之問題。
然而，為了對圖像顯示裝置賦予表面硬度及耐衝擊性，存在於圖像顯示裝置之最外表面積層覆蓋玻璃之情況。於在包含具有貫通孔之偏光板之圖像顯示裝置積層覆蓋玻璃之情形時，貫通孔具代表性的是被用於將覆蓋玻璃積層之黏著劑填充。但是，於貫通孔被黏著劑填充之圖像顯示裝置中，存在由於製造步驟中之加熱處理等而導致於填充部分(貫通孔部分)產生氣泡之情況。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：國際公開第2017/047510號 專利文獻2：日本專利特開2016-094569號公報
[發明所欲解決之問題]
本發明係為解決上述先前之課題而成者，其主要目的在於提供一種偏光板，其即便於高溫環境下，貫通孔部分中之偏移亦較小，且於圖像顯示裝置中，於貫通孔被用於將覆蓋玻璃積層之黏著劑填充之情形時，貫通孔部分之氣泡可得到顯著抑制。 [解決問題之技術手段]
本發明之偏光板具有：偏光元件；保護層，其配置於偏光元件之至少一側；及黏著劑層；且形成有貫通孔，偏光元件之厚度為15 μm以下，｜b 1－b 2｜為45 mm以下。此處，b 1係偏光元件之吸收軸方向上自貫通孔之中心至偏光板之一端之距離，b 2係偏光元件之吸收軸方向上自貫通孔之中心至偏光板之另一端之距離。 於一實施方式中，上述偏光板具有矩形形狀，自視認側觀察時，上述偏光元件之吸收軸方向為自長邊方向沿順時針方向呈135°之方向，上述貫通孔形成於右上角。於另一實施方式中，上述偏光板具有矩形形狀，自視認側觀察時，上述偏光元件之吸收軸方向為自長邊方向沿順時針方向呈45°之方向，上述貫通孔形成於左上角。進而，於又一實施方式中，上述偏光板具有矩形形狀，上述偏光元件之吸收軸方向為短邊方向，於俯視時，上述貫通孔形成於長邊方向之端部且短邊方向之中央部。 於一實施方式中，上述偏光元件之厚度為8 μm以下。 於一實施方式中，上述黏著劑層之蠕變值為140 μm/hr以下。 根據本發明之另一態樣，提供一種圖像顯示裝置。該圖像顯示裝置包含圖像顯示單元及上述偏光板，該偏光板經由上述黏著劑層貼合於該圖像顯示單元。 根據本發明之又一態樣，提供一種附有覆蓋玻璃之偏光板。該附有覆蓋玻璃之偏光板具有：偏光元件；保護層，其配置於該偏光元件之至少一側；黏著劑層；另一黏著劑層，其設置於該偏光元件之與該黏著劑層相反之側；及覆蓋玻璃，其經由該另一黏著劑層貼合；且形成有貫通孔，該貫通孔被構成該另一黏著劑層之黏著劑填充，該偏光元件之厚度為15 μm以下，｜b 1－b 2｜為45 mm以下。 [發明之效果]
根據本發明之實施方式，可實現一種偏光板，其具有貫通孔，並且即便於高溫環境下，貫通孔部分中之偏移亦較小，且於圖像顯示裝置中，於貫通孔被用於將覆蓋玻璃積層之黏著劑填充之情形時，貫通孔部分之氣泡可得到顯著抑制。
以下，參照圖式對本發明之具體之實施方式進行說明，但本發明並不限定於該等實施方式。再者，圖式係模式性地示出，以便於觀察，進而，圖式中之長度、寬度、厚度等之比率、以及角度等與實際不同。
A.偏光板之整體構成 圖1A係說明本發明之一實施方式之偏光板中之貫通孔的形成位置之概略俯視圖；圖1B係說明本發明之另一實施方式之偏光板中之貫通孔的形成位置之概略俯視圖；圖1C係說明本發明之又一實施方式之偏光板中之貫通孔的形成位置之概略俯視圖；圖2係偏光板之貫通孔部分之概略剖視圖。本發明之實施方式之偏光板(圖示例中之偏光板100、101、102)具有：偏光元件11；保護層(以下，有時稱為外側保護層)12，其配置於偏光元件11之一側；保護層(以下，有時稱為內側保護層)13，其配置於偏光元件11之另一側；及黏著劑層20。黏著劑層20用於將偏光板100貼合於圖像顯示單元。根據目的及所需之構成等，外側保護層12或內側保護層13之任一者可省略。
於偏光板形成有貫通孔30。藉由形成貫通孔，例如，於圖像顯示裝置內置相機之情形時，可防止對該相機性能造成不良影響。貫通孔可藉由各種方法形成，例如雷射加工、利用端銑刀進行之切削加工、利用Thomson刀或Pinnacle(註冊商標)刀進行之沖切加工等。偏光板具代表性的是具有矩形形狀。於本說明書中，提及「矩形形狀」時，亦包含包括異形加工部分之形狀，例如如圖1A～圖1C所示之各頂點進行了倒角處理之R形狀。雖未圖示，貫通孔可設有複數個。又，貫通孔之俯視形狀可根據目的採用任意適當之形狀。作為俯視形狀之具體例，可例舉如圖示例中所示之圓形、橢圓形、正方形、矩形、及該等之組合(例如，矩形之端部為圓弧狀者)。進而，可於設置貫通孔之同時設置異形加工部(例如，U型凹口、V型凹口)。本發明者等人發現了如下新的課題：於貫通孔形成於偏光板之情形時，於高溫環境下，於貫通孔部分發生偏光板之偏移(實質上為黏著劑層之偏移：以下，有時稱為糊劑偏移)，結果，有於貫通孔部分發生漏光之虞；藉由採用本發明之實施方式之特定之構成(後述)，該課題得到了解決。即，本發明解決了迄今為止未知之新課題，由此獲得之效果出乎意料地優異。進而，本發明者等人發現藉由採用本發明之實施方式之特定之構成(後述)，亦可顯著地抑制被稱為延遲氣泡之氣泡。延遲氣泡之詳情如下所述。為了對圖像顯示裝置賦予表面硬度及耐衝擊性，存在於圖像顯示裝置之最外表面積層覆蓋玻璃之情況。於在包含具有貫通孔之偏光板之圖像顯示裝置積層覆蓋玻璃之情形時，貫通孔具代表性的是被用於將覆蓋玻璃積層之黏著劑填充。此種填充具代表性的是藉由利用真空層壓將覆蓋玻璃與黏著劑片之積層體貼合於偏光板而進行。多數情況下剛進行真空層壓後，於填充部分不存在可辨識之氣泡，但於其後之圖像顯示裝置之加熱耐久性試驗中，存在產生氣泡之情況。此種氣泡具代表性的是可能由於偏光板之收縮應力施加至填充部而產生。將此種氣泡稱為延遲氣泡。延遲氣泡係占貫通孔之俯視面積之一定比率以上之較大者而非微細者，無論就外觀之觀點而言或就設置於與貫通孔相對應之位置之相機部之相機性能之觀點而言，均不容許存在延遲氣泡。因此，藉由抑制延遲氣泡，可明顯提高圖像顯示裝置之商品價值。
於本發明之實施方式中，偏光元件之厚度為15 μm以下，較佳為10 μm以下，更佳為8 μm以下，進而較佳為7 μm以下，特佳為6 μm以下，尤佳為5 μm以下。偏光元件之厚度例如為1 μm以上，又，例如可為2 μm以上。藉由將偏光元件之厚度設為此種範圍，可抑制偏光元件本身之熱收縮。結果，可抑制追隨於偏光元件之熱收縮而有可能引起之黏著劑層之變形(結果為糊劑偏移)。
進而，於本發明之實施方式中，｜b 1－b 2｜為45 mm以下，較佳為30 mm以下，更佳為20 mm以下，進而較佳為10 mm以下，特佳為5 mm以下。｜b 1－b 2｜越小越好，最佳為0(zero)。若｜b 1－b 2｜處於此種範圍內，則可減小高溫環境下之貫通孔部分中之糊劑偏移，且可抑制延遲氣泡。另一方面，｜a 1－a 2｜實質上對於抑制貫通孔部分中之糊劑偏移或抑制延遲氣泡均無貢獻。即，即便改變｜a 1－a 2｜，糊劑偏移及延遲氣泡亦不會得到抑制。此處，b 1係偏光元件之吸收軸方向上自貫通孔之中心至偏光板之一端之距離，b 2係偏光元件之吸收軸方向上自貫通孔之中心至偏光板之另一端之距離，a 1係與偏光元件之吸收軸方向正交之方向上自貫通孔之中心至偏光板之一端之距離，a 2係與偏光元件之吸收軸方向正交之方向上自貫通孔之中心至偏光板之另一端之距離。即，藉由使偏光元件之吸收軸相對於貫通孔之位置之朝向最佳化，糊劑偏移及延遲氣泡均可得到抑制。
參照圖1A～圖1C對a 1、a 2、b 1及b 2與貫通孔之形成位置之關係進行具體說明。於圖1A中，示出如下形態：偏光板為矩形，自圖像顯示裝置之視認側(黏著劑層之相反側)觀察時，偏光元件之吸收軸方向A相對於長邊方向沿順時針方向呈135°。於該形態中，使｜b 1－b 2｜最佳化時，若貫通孔30形成於自視認側俯視偏光板時自右上角沿與吸收軸方向A正交之方向延伸之直線上(圖1A中，表示距離a 1及a 2之直線上)之任意之位置，則糊劑偏移及延遲氣泡均可得到抑制。另一方面，若調整｜a 1－a 2｜而使對圖像顯示之影響最小化，則可將貫通孔30較佳地形成於右上角。於圖1B中，示出如下形態：偏光板為矩形，自圖像顯示裝置之視認側觀察時，偏光元件之吸收軸方向A相對於長邊方向沿順時針方向呈45°。於該形態中，亦可藉由使｜b 1－b 2｜最佳化而抑制糊劑偏移及延遲氣泡兩者，並可調整｜a 1－a 2｜而使對圖像顯示之影響最小化。結果，於該形態中，可將貫通孔30較佳地形成於左上角。於圖1C中，示出如下形態：偏光板為矩形，偏光元件之吸收軸方向A為短邊方向(與長邊方向正交)。於該形態中，亦可藉由使｜b 1－b 2｜最佳化而抑制糊劑偏移及延遲氣泡兩者，並可調整｜a 1－a 2｜而使對圖像顯示之影響最小化。結果，於該形態中，可將貫通孔30較佳地形成於長邊方向之端部且短邊方向之中央部。由上述可知，根據本發明之實施方式，無論偏光板之平面形狀如何(例如，即便於具有特殊之平面形狀之情形時)，均可藉由使｜b 1－b 2｜最佳化而確定可抑制糊劑偏移及延遲氣泡之貫通孔之位置與吸收軸方向之關係。進而，可藉由調整｜a 1－a 2｜而使貫通孔對圖像顯示之影響最小化。
於一實施方式中，如圖3所示，於經由黏著劑層20將偏光板100貼合於玻璃板(可對應圖像顯示單元之基板)120之狀態下，將偏光板100供於在85℃下進行120小時之加熱試驗後，貫通孔30部分中之偏移量(糊劑偏移量)D較佳為150 μm以下，更佳為120 μm以下，進而較佳為100 μm以下，特佳為80 μm以下，尤佳為50 μm以下。偏移量D越小越好，糊劑偏移量D之下限例如為10 μm，又，例如可為20 μm。再者，糊劑偏移量D係指於剖面處觀察時偏光板遠離貫通孔部分之最大部分。貫通孔部分之基準具代表性的是可為黏著劑層之下端部。即，偏光板主要由於偏光元件11之收縮(於圖示例中，向右側)而偏移時，由於黏著劑層20停留於所黏著之玻璃板120上，因此於貫通孔部分觀察到偏移。再者，如圖3所示，偏光板具代表性的是於貫通孔部分向遠離貫通孔側偏移(圖3中之右側)，並且與其相對向之部分以突出至貫通孔之方式偏移(圖3中之左側)。如上所述，根據本發明之實施方式，可解決於高溫環境下貫通孔部分發生糊劑偏移這一新發現之課題，具體而言，可將特定之加熱試驗後之糊劑偏移量D設為如上所述之範圍。
於一實施方式中，偏光板可於貫通孔30部分形成黏著劑層20之端面以相較於偏光板(實質上為偏光元件11或內側保護層13(於存在之情形))之端面更靠近面方向內側之方式形成之黏著劑空隙部。黏著劑空隙部之大小較佳為300 μm以下，更佳為200 μm以，進而較佳為150 μm以下，特佳為100 μm以下，尤佳為80 μm以下。黏著劑空隙部之大小之下限例如可為10 μm。於本說明書中，「黏著劑空隙部之大小」係指偏光板(實質上為偏光元件11或內側保護層13(於存在之情形))之端面至黏著劑層20之端面之最大長度。
於本發明之實施方式中，偏光板之上述加熱試驗後之尺寸收縮率較佳為1.0%以下，更佳為0.6%以下，進而較佳為0.3%以下。尺寸收縮率越小越好，尺寸收縮率之下限例如可為0.01%。再者，尺寸收縮率係藉由下式而求出。尺寸收縮率係貼附於玻璃板之偏光板整體之尺寸收縮率，於如下所述偏光板進而具有光學功能層(例如相位差層、反射型偏光元件)之情形時，係指包含光學功能層之偏光板整體之尺寸收縮率。再者，下述式中之「尺寸」為偏光板(實質上為偏光元件)之吸收軸方向之尺寸。 尺寸收縮率(%)＝{(加熱試驗前之尺寸－加熱試驗後之尺寸)/加熱試驗前之尺寸}×100
貫通孔30之直徑R較佳為10 mm以下，更佳為8 mm以下，進而較佳為5 mm以下。貫通孔之直徑之下限例如為1.5 mm，又，例如可為2 mm。糊劑偏移量D相對於貫通孔之直徑R之比率D/R較佳為15%以下，更佳為10%以下，進而較佳為6%以下，尤佳為5%以下。另一方面，D/R之下限越小越好。根據本發明之實施方式，由於糊劑偏移量D如上所述非常小，因此即便減小貫通孔之直徑，亦可將D/R設為此種範圍。因此，即便減小貫通孔之直徑，亦可實質上防止對相機性能造成不良影響。結果，本發明之實施方式之偏光板可應用於僅將相機部作為非顯示區域之圖像顯示裝置及/或無邊框之圖像顯示裝置。
本發明之實施方式之偏光板可用作視認側偏光板，亦可用作背面側偏光板。進而，本發明之實施方式之偏光板根據目的亦可進而具有任意適當之光學功能層。作為光學功能層，例如可例舉相位差層、觸控面板用導電層、反射型偏光元件。
於一實施方式中，可於內側保護層13與黏著劑層20之間設置相位差層。相位差層可由單層構成亦可具有積層構造。於相位差層由單層構成之情形時，該相位差層具代表性的是作為λ/4板發揮作用。於此情形時，相位差層之面內相位差Re(550)較佳為100 nm～200 nm，更佳為120 nm～170 nm，進而較佳為130 nm～150 nm。偏光元件之吸收軸與相位差層之遲相軸所形成之角度較佳為40°～50°，更佳為42°～48°，進而較佳為44°～46°。相位差層較佳為表現出相位差值根據測定光之波長而變大之逆波長色散特性。於此情形時，相位差層之Re(450)/Re(550)較佳為0.8以上且未達1，更佳為0.8以上0.95以下。相位差層可為樹脂膜之延伸膜，亦可為液晶化合物之配向固化層。於相位差層由樹脂膜構成之情形時，相位差層可兼作內側保護層。關於由樹脂膜之延伸膜構成之相位差層，例如記載於日本專利特開2017-54093號公報、日本專利特開2018-60014號公報。液晶化合物之具體例及配向固化層之形成方法之詳情例如記載於日本專利特開2006-163343號公報。該等公報之記載作為參考而援引於本說明書中。再者，於本說明書中，「Re(λ)」為於23℃下用波長為λ nm之光所測得之面內相位差。例如，「Re(550)」為於23℃下用波長為550 nm之光所測得之面內相位差。至於Re(λ)，於將層(膜)之厚度設為d(nm)時，藉由式：Re(λ)＝(nx－ny)×d而求出。nx為面內之折射率達到最大之方向(即遲相軸方向)之折射率，ny為於面內與遲相軸正交之方向(即進相軸方向)之折射率。
於相位差層具有積層構造之情形時，相位差層具代表性的是自偏光板側依次具有H層及Q層。H層具代表性的是可作為λ/2板發揮作用，Q層通常可作為λ/4板發揮作用。H層之Re(550)較佳為200 nm～300 nm，更佳為230 nm～290 nm，進而較佳為260 nm～280 nm。偏光元件之吸收軸與H層之遲相軸所形成之角度較佳為10°～20°，更佳為12°～18°，進而較佳為14°～16°。Q層之Re(550)較佳為100 nm～200 nm，更佳為120 nm～170 nm，進而較佳為130 nm～150 nm。偏光元件之吸收軸與Q層之遲相軸所形成之角度較佳為70°～80°，更佳為72°～78°，進而較佳為74°～76°。H層與Q層之配置順序可相反，H層之遲相軸與偏光元件之吸收軸所形成之角度以及Q層之遲相軸與偏光元件之吸收軸所形成之角度亦可相反。H層及Q層分別可為樹脂膜之延伸膜，亦可為液晶化合物之配向固化層。
於一實施方式中，可於內側保護層13(於存在之情形時為相位差層)之與偏光元件相反之側設置觸控面板用導電層。若為此種構成，則偏光板可應用於在圖像顯示單元與偏光板之間組裝有觸控感測器之所謂之內部觸控面板型輸入顯示裝置。該實施方式之偏光板具代表性的是視認側偏光板。
於一實施方式中，可於外側保護層12之與偏光元件相反之側設置反射型偏光元件。反射型偏光元件可兼作外側保護層。該實施方式之偏光板具代表性的是背面側偏光板。關於反射型偏光元件之詳情，例如記載於日本專利特表平9-507308號公報及日本專利特開2013-235259號公報。該等公報之記載作為參考而援引於本說明書中。
本發明之實施方式之偏光板為矩形時，縱橫比較佳為1.3～2.5。於此情形時，偏光板之尺寸例如為長145 mm～155 mm、寬65 mm～75 mm，或者長230 mm～240 mm、寬140 mm～150 mm。即，本發明之實施方式之偏光板適宜用於智慧型手機或平板型PC(Personal Computer，個人電腦)。作為智慧型手機尺寸，例如長度可為120 mm～200 mm，寬度可為30 mm～120 mm。
以下，對構成偏光板之偏光元件、保護層及黏著劑層進行具體說明。
B.偏光板 B-1.偏光元件 偏光元件具代表性的是由包含二色性物質之樹脂膜構成。作為樹脂膜，可採用能夠用作偏光元件之任意適當之樹脂膜。樹脂膜具代表性的是聚乙烯醇系樹脂(以下，稱為「PVA系樹脂」)膜。樹脂膜可為單層之樹脂膜，亦可為二層以上之積層體。
作為由單層之樹脂膜構成之偏光元件之具體例，可例舉對PVA系樹脂膜實施利用碘之染色處理及延伸處理(具代表性的是單軸延伸)而成者。上述利用碘之染色例如藉由將PVA系樹脂膜浸漬於碘水溶液中而進行。上述單軸延伸之延伸倍率較佳為3～7倍。延伸可於染色處理後進行，亦可一面染色一面進行。又，亦可於延伸後進行染色。視需要，對PVA系樹脂膜實施膨潤處理、交聯處理、洗淨處理、乾燥處理等。例如，藉由於染色前將PVA系樹脂膜浸漬於水中進行水洗，不僅可洗淨PVA系樹脂膜表面之污漬或抗結塊劑，亦可使PVA系樹脂膜膨潤而防止染色不均等。
作為藉由使用積層體而獲得之偏光元件之具體例，可例舉藉由使用樹脂基材與積層於該樹脂基材之PVA系樹脂層(PVA系樹脂膜)之積層體、或樹脂基材與塗佈於該樹脂基材而形成之PVA系樹脂層之積層體而獲得之偏光元件。藉由使用樹脂基材與塗佈於該樹脂基材而形成之PVA系樹脂層之積層體而獲得之偏光元件例如可藉由如下步驟製作：將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材並使其乾燥，於樹脂基材上形成PVA系樹脂層，而獲得樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體；藉由將該積層體延伸、染色而將PVA系樹脂層製成偏光元件。於本實施方式中，延伸具代表性的是包括使積層體浸漬於硼酸水溶液中進行延伸。進而，延伸視需要可進而包含：於硼酸水溶液中進行延伸之前，於高溫(例如95℃以上)下對積層體進行空中延伸。所獲得之樹脂基材/偏光元件之積層體可直接使用(即，可將樹脂基材作為偏光元件之保護層)，亦可自樹脂基材/偏光元件之積層體剝離樹脂基材，根據目的於該剝離面將任意適當之保護層積層而使用。此種偏光元件之製造方法之詳情例如記載於日本專利特開2012-73580號公報及日本專利第6470455號。該等專利文獻之記載作為參考而援引於本說明書中。
偏光元件之厚度如上述A項所述。
偏光元件較佳為於波長380 nm～780 nm之任一波長下表現出吸收二色性。偏光元件之單體透過率例如為41.5%～46.0，較佳為43.0%～46.0%，更佳為44.5%～46.0%。偏光元件之偏光度較佳為97.0%以上，更佳為99.0%以上，進而較佳為99.9%以上。
B-2.保護層 保護層由可用作偏光元件之保護層之任意適當之膜形成。作為成為該膜之主要成分之材料之具體例，可例舉：三乙醯纖維素(TAC)等纖維素系樹脂、聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚降𦯉烯系、聚烯烴系、(甲基)丙烯酸系、乙酸酯系等透明樹脂等。又，亦可例舉：(甲基)丙烯酸系、胺基甲酸酯系、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、矽酮系等熱固性樹脂或紫外線硬化型樹脂等。此外，例如亦可例舉矽氧烷系聚合物等玻璃態聚合物。又，亦可使用日本專利特開2001-343529號公報(WO01/37007)中所記載之聚合物膜。作為該膜之材料，例如可使用含有於側鏈具有經取代或未經取代之亞胺基之熱塑性樹脂、及於側鏈具有經取代或未經取代之苯基以及腈基之熱塑性樹脂之樹脂組合物，例如可例舉具有包含異丁烯及N-甲基順丁烯二醯亞胺之交替共聚物及丙烯腈-苯乙烯共聚物之樹脂組合物。該聚合物膜例如可為上述樹脂組合物之擠壓成形物。
視需要，可對外側保護層12(尤其是偏光板為視認側偏光板之情形)實施硬塗處理、防反射處理、抗黏性處理、防眩處理等表面處理。進而/或者，亦可視需要對外側保護層12實施如下處理，即，改善經由偏光太陽眼鏡視認之情形時之視認性之處理(具代表性的是賦予(橢)圓偏光功能、賦予超高相位差)。藉由實施此種處理，即便於經由偏光太陽眼鏡等偏光透鏡視認顯示畫面之情形時，亦可實現優異之視認性。因此，偏光板亦可適宜應用於能夠用於室外之圖像顯示裝置。
內側保護層較佳為具有光學各向同性。於本說明書中，所謂「光學各向同性」係指面內相位差Re(550)為0 nm～10 nm，厚度方向之相位差Rth(550)為-10 nm～+10 nm。此處，「Rth(λ)」為於23℃下用波長為λ nm之光所測得之厚度方向之相位差。例如，「Rth(550)」為於23℃下用波長為550 nm之光所測得之厚度方向之相位差。至於Rth(λ)，於將層(膜)之厚度設為d(nm)時，藉由式：Rth(λ)＝(nx－nz)×d而求出。nz為厚度方向之折射率。
保護層之厚度可採用任意適當之厚度。保護層之厚度例如為10 μm～50 μm，較佳為20 μm～40 μm。再者，於實施了表面處理之情形時，保護層之厚度為包含表面處理層之厚度之厚度。
C.黏著劑層 黏著劑層20如上所述用於將偏光板貼合於圖像顯示單元。黏著劑層具代表性的是可由丙烯酸系黏著劑(丙烯酸系黏著劑組合物)構成。丙烯酸系黏著劑組合物具代表性的是包含(甲基)丙烯酸系聚合物作為主要成分。於黏著劑組合物之固形物成分中，(甲基)丙烯酸系聚合物例如可以50重量%以上、較佳為70重量%以上、更佳為90重量%以上之比率包含於黏著劑組合物中。(甲基)丙烯酸系聚合物含有作為單體單元之(甲基)丙烯酸烷基酯作為主要成分。再者，(甲基)丙烯酸酯係指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯。(甲基)丙烯酸烷基酯較佳為可以80重量%以上、更佳為90重量%以上之比率包含於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分中。作為(甲基)丙烯酸烷基酯之烷基，例如可例舉具有1～18個碳原子之直鏈狀或支鏈狀烷基。該烷基之平均碳數較佳為3～9個，更佳為3～6個。較佳之(甲基)丙烯酸烷基酯為丙烯酸丁酯。作為構成(甲基)丙烯酸系聚合物之單體(共聚單體)，除(甲基)丙烯酸烷基酯以外，可例舉：含有羧基之單體、含有羥基之單體、含有醯胺基之單體、含有芳香環之(甲基)丙烯酸酯、含有雜環之乙烯系單體等。作為共聚單體之代表例，可例舉：丙烯酸、丙烯酸4-羥基丁酯、丙烯酸苯氧基乙酯、N-乙烯基-2-吡咯啶酮。丙烯酸系黏著劑組合物較佳為可含有矽烷偶合劑及/或交聯劑。作為矽烷偶合劑，例如可例舉含有環氧基之矽烷偶合劑。作為交聯劑，例如可例舉異氰酸酯系交聯劑、過氧化物系交聯劑。進而，丙烯酸系黏著劑組合物亦可含有抗氧化劑及/或導電劑。黏著劑層之厚度例如為50 μm以下，進而如上所述，較佳為22 μm以下，更佳為10 μm～22 μm。黏著劑層或丙烯酸系黏著劑組合物之詳情例如記載於日本專利特開2006-183022號公報、日本專利特開2015-199942號公報、日本專利特開2018-053114號公報、日本專利特開2016-190996號公報、及國際公開第2018/008712號，該等公報之記載作為參考而援引於本說明書中。
黏著劑層之蠕變值較佳為140 μm/hr以下，更佳為100 μm/hr以下，進而較佳為75 μm/hr以下，特佳為50 μm/hr以下。蠕變值之下限例如可為20 μm/hr。於本說明書中，所謂「蠕變值」係指85℃下之蠕變值。蠕變值例如可藉由以下順序測定：將構成黏著劑層之黏著劑貼合於支持板；將貼附有黏著劑之支持板固定，並於該狀態下，於鉛直方向向下施加500 g之負載。測定施加負載1小時後黏著劑自支持板偏移之偏移量，並將該偏移量作為蠕變值(μm/hr)。
黏著劑層之-40℃下之儲存模數G 2'較佳為1.0×10 5(Pa)以上，更佳為1.0×10 6(Pa)以上，進而較佳為1.0×10 7(Pa)以上，特佳為1.0×10 8(Pa)以上。儲存模數G 2'例如可為1.0×10 9(Pa)以下。黏著劑層之85℃下之儲存模數G 3'較佳為1.0×10 5(Pa)以上，更佳為3.0×10 5(Pa)以上，進而較佳為5.0×10 5(Pa)以上。儲存模數G 3'例如可為1.0×10 6(Pa)以下。
D.圖像顯示裝置 本發明之實施方式之偏光板可應用於圖像顯示裝置。因此，圖像顯示裝置亦包含於本發明之實施方式中。圖像顯示裝置包含圖像顯示單元及偏光板。偏光板係上述A項～C項中所記載之本發明之實施方式之偏光板。偏光板經由黏著劑層貼合於圖像顯示單元。作為圖像顯示裝置，例如可例舉液晶顯示裝置、有機電致發光(EL)顯示裝置、量子點顯示裝置。
E.附有覆蓋玻璃之偏光板 於本發明之實施方式之偏光板應用於圖像顯示裝置之視認側之情形時，覆蓋玻璃可經由另一黏著劑層(以下，有時稱為第2黏著劑層)貼合於偏光板。因此，本發明之實施方式包含附有覆蓋玻璃層之偏光板。又，本發明之實施方式之偏光板亦可以暫時黏有隔離件代替覆蓋玻璃之形態提供。於此情形時，於製作圖像顯示裝置時，隔離件被剝離去除，覆蓋玻璃經由露出之第2黏著劑層貼合。無論為何種情形，貫通孔具代表性的是可被構成第2黏著劑層之黏著劑填充。以下，對構成第2黏著劑層之黏著劑進行說明。
關於構成第2黏著劑層之黏著劑，於將第2黏著劑層積層於偏光板時，60℃下之儲存模數具代表性的是1.0×10 4Pa～1.0×10 5Pa。構成第2黏著劑層之黏著劑可使用任意適當之黏著劑，只要於積層時具有此種儲存模數即可。具體而言，黏著劑可為光硬化性黏著劑，亦可為非硬化性黏著劑。再者，於本說明書中，所謂「光硬化性黏著劑」係指交聯反應藉由光照射進行之黏著劑。因此，光硬化性黏著劑於積層時較為柔軟且變形性優異，於積層後可藉由光照射賦予黏著劑層所需之特性(例如儲存模數)。藉此，光硬化性黏著劑之異形加工部之填充性極其優異，可使第2黏著劑層(結果為圖像顯示裝置)之厚度變薄。進而，例如即便於覆蓋玻璃形成有較厚之邊框印刷層之情形時，亦能夠確保良好之接著性。所謂「非硬化性黏著劑」係指交聯反應實質上已結束，於積層後交聯反應實質上不進行之黏著劑。換言之，非硬化性黏著劑可為所謂之普通之黏著劑。非硬化性黏著劑由於不需要光照射(光硬化)，因此生產性優異，進而可防止出現凹痕、黏著劑自沖切加工品之端部溢出、及操作不良等。
光硬化性黏著劑之硬化前之60℃下之儲存模數實質上可與上述積層時的儲存模數相對應。硬化前之儲存模數如上所述，為1.0×10 5Pa以下，較佳為1.0×10 3Pa～1.0×10 5Pa。光硬化性黏著劑之硬化後之60℃下之儲存模數較佳為5.0×10 3Pa～5.0×10 5Pa。光硬化性黏著劑之硬化前之凝膠分率為0%～60%，硬化後之凝膠分率為50%～95%。於第2黏著劑層由光硬化性黏著劑構成之情形時，第2黏著劑層之厚度較佳為50 μm～500 μm，更佳為75 μm～475 μm，進而較佳為100 μm～450 μm。
將非硬化性黏著劑積層時之60℃下之儲存模數較佳為1.0×10 3Pa～8.0×10 4Pa，更佳為5.0×10 3Pa～6.0×10 4Pa。於第2黏著劑層由非硬化性黏著劑構成之情形時，第2黏著劑層之厚度較佳為50 μm～1000 μm，更佳為75 μm～900 μm，進而較佳為100 μm～800 μm。
以下，對第2黏著劑層之特性及構成第2黏著劑層之光硬化性黏著劑進行說明，繼而，對非硬化性黏著劑進行簡單說明。
E-1.第2黏著劑層之特性 第2黏著劑層之玻璃轉移溫度較佳為-3℃以下，更佳為-5℃以下，進而較佳為-6℃以下。另一方面，玻璃轉移溫度較佳為-20℃以上，更佳為-15℃以上，進而較佳為-13℃以上。若玻璃轉移溫度處於此種範圍內，則可實現具有優異之耐衝擊性之第2黏著劑層。
第2黏著劑層之損耗正切tanδ之峰頂值(即玻璃轉移溫度下之tanδ)較佳為1.5以上，更佳為1.6以上，進而較佳為1.7以上，特佳為1.75以上。另一方面，tanδ之峰頂值之上限較佳為3.0以下，更佳為2.5以下，進而較佳為2.3以下。若tanδ之峰頂值處於此種範圍內，則第2黏著劑層表現出適當之變形行為(黏彈性行為)，因此於異形加工部不易形成間隙，延遲氣泡可得到抑制。
第2黏著劑層之全光線透過率較佳為85%以上，更佳為90%以上。第2黏著劑層之霧度值較佳為1.5%以下，更佳為1.0%以下。
E-2.光硬化性黏著劑 E-2-1.光硬化性黏著劑之特性 光硬化性黏著劑之硬化前之60℃下之儲存模數如上所述，為1.0×10 5Pa以下，較佳為1.0×10 3Pa～1.0×10 5Pa，更佳為5.0×10 3Pa～8.0×10 4Pa，進而較佳為7.5×10 3Pa～6.0×10 4Pa。若光硬化性黏著劑之硬化前之儲存模數處於此種範圍內，則光硬化性黏著劑表現出適當之變形行為(黏彈性行為)，可良好地流入至異形加工部之各個角落。結果，於異形加工部不易形成間隙，延遲氣泡可得到抑制。光硬化性黏著劑之硬化後之60℃下之儲存模數較佳為5.0×10 3Pa～5.0×10 5Pa，更佳為7.5×10 3Pa～4.0×10 5Pa，進而較佳為8.0×10 3Pa～3.0×10 5Pa。若光硬化性黏著劑之硬化後之儲存模數處於此種範圍內，則第2黏著劑之凝膠彈性下降，殘留應力變小。結果，延遲氣泡可得到抑制。
光硬化性黏著劑之硬化前之凝膠分率較佳為0%～60%，更佳為0%～55%，進而較佳為0%～50%。若光硬化性黏著劑之硬化前之凝膠分率處於此種範圍內，則容易實現上述所需之儲存模數。因此，光硬化性黏著劑表現出適當之變形行為(黏彈性行為)，可良好地流入至異形加工部之各個角落。結果，於異形加工部不易形成間隙，延遲氣泡可得到抑制。光硬化性黏著劑之硬化後之凝膠分率較佳為50%～95%，更佳為55%～93%，進而較佳為60%～90%。若光硬化性黏著劑之硬化後之凝膠分率處於此種範圍內，則可將覆蓋玻璃、第1偏光板及圖像顯示單元牢固地固定。結果，延遲氣泡可得到抑制。凝膠分率可按對於乙酸乙酯等溶劑之不溶分來求出。具體而言，凝膠分率係按將構成黏著劑層之黏著劑在23℃下浸漬於乙酸乙酯中7天後之不溶成分相對於浸漬前之試樣之重量分率(單位：重量%)來求出。凝膠分率可藉由適當地設定構成黏著劑之基礎聚合物之單體成分之種類、組合及調配量、以及交聯劑之種類及調配量等來調整。
E-2-2.光硬化性黏著劑之構成材料 作為光硬化性黏著劑，可使用任意適當之光硬化性黏著劑(本項中，有時僅稱為黏著劑組合物)，只要具有如上所述之特性即可。作為黏著劑組合物之基礎聚合物，例如可例舉(甲基)丙烯酸系聚合物、矽酮系聚合物、聚酯、聚胺基甲酸酯、聚醯胺、聚乙烯醚、乙酸乙烯酯/氯乙烯聚合物、改性聚烯烴、環氧系聚合物、氟系聚合物、天然橡膠、合成橡膠等橡膠系聚合物。較佳為包含(甲基)丙烯酸系聚合物作為基礎聚合物之(甲基)丙烯酸系黏著劑組合物。其原因在於，光學透明性優異，且表現出適度之濡濕性、凝聚性及接著性等黏著特性，耐候性及耐熱性等亦優異。再者，於本說明書中，所謂「(甲基)丙烯酸」係指丙烯酸及/或甲基丙烯酸。
(甲基)丙烯酸系基礎聚合物(以下，有時僅稱為基礎聚合物)較佳為具有交聯結構。
E-2-2-1.(甲基)丙烯酸系基礎聚合物 (甲基)丙烯酸系基礎聚合物含有(甲基)丙烯酸烷基酯作為主要之單體成分。作為(甲基)丙烯酸烷基酯，適宜使用烷基之碳數為1～20之(甲基)丙烯酸烷基酯。(甲基)丙烯酸烷基酯之烷基可具有分支，亦可具有環狀烷基。相對於構成(甲基)丙烯酸系基礎聚合物之單體成分總量，(甲基)丙烯酸烷基酯之量較佳為40重量%以上，更佳為50重量%以上，進而較佳為60重量%以上。就將聚合物鏈之玻璃轉移溫度(Tg)設為適當之範圍之觀點而言，相對於構成(甲基)丙烯酸系基礎聚合物之單體成分總量，具有碳數為4～10之鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯之量較佳為30重量%以上，更佳為40重量%以上，進而較佳為45重量%以上。
(甲基)丙烯酸系基礎聚合物較佳為包含具有可交聯之官能基之單體成分。若為此種構成，則能夠將黏著劑之凝膠分率調整至所需之範圍內。作為具有可交聯之官能基之單體成分，例如可例舉含有羥基之單體、含有羧基之單體。於交聯結構藉由異氰酸酯交聯劑導入之情形時，羥基成為與異氰酸基反應之反應點，於交聯結構藉由環氧系交聯劑導入之情形時，羧基成為與環氧基反應之反應點。較佳為使用含有羥基之單體作為具有可交聯之官能基之單體成分，從而可藉由異氰酸酯系交聯劑導入交聯結構。若為此種構成，則可提昇基礎聚合物之交聯性，並且能夠獲得透明性較高之第2黏著劑層。進而，若為此種構成，則可實現所謂之無酸黏著劑。
相對於構成(甲基)丙烯酸系基礎聚合物之單體成分總量，含有羥基之單體之量較佳為5重量%～30重量%，更佳為8重量%～25重量%，進而較佳為10重量%～20重量%。若含有羥基之單體之量處於此種範圍內，則可用較少之交聯劑量提高交聯度(凝膠分率)，結果，可提昇硬化前之光硬化性黏著劑之異形加工部填充性及操作性。進而，由於交聯後未反應之羥基可形成分子間氫鍵，因此即便凝膠分率較小亦可實現所需之儲存模數。
於第2黏著劑層例如可能與觸控面板感測器接觸之情形時，為了防止酸成分對電極造成腐蝕，較佳為第2黏著劑層之酸之含量較小。於此情形時，相對於構成(甲基)丙烯酸系基礎聚合物之單體成分總量，含有羧基之單體之量較佳為0.5重量%以下，更佳為0.1重量%以下，進而較佳為0.05重量%以下，理想為0(zero)。若為此種構成，則光硬化性黏著劑中之酸之含量較佳可設為100 ppm以下，更佳可設為70 ppm以下，進而較佳可設為50 ppm以下。
(甲基)丙烯酸系基礎聚合物亦可包含含氮單體作為單體成分。藉由(甲基)丙烯酸系基礎聚合物適當地包含含有羥基之單體、含有羧基之單體及含氮單體等高極性單體作為單體成分，可形成儲存模數、接著保持性及耐衝擊性之平衡優異之第2黏著劑層。相對於構成(甲基)丙烯酸系基礎聚合物之單體成分總量，高極性單體量(含有羥基之單體、含有羧基之單體及含氮單體之合計)較佳為10重量%～45重量%，更佳為15重量%～40重量%，進而較佳為18重量%～35重量%。尤佳為含有羥基之單體與含氮單體之合計處於上述範圍內。相對於構成(甲基)丙烯酸系基礎聚合物之單體成分總量，含氮單體之量較佳為3重量%～25重量%，更佳為5重量%～20重量%，進而較佳為7重量%～15重量%。
(甲基)丙烯酸系聚合物亦可根據目的進而包含任意適當之單體成分。作為此種單體成分之具體例，可例舉：含有酸酐基之單體、(甲基)丙烯酸之己內酯加成物、含有磺酸基之單體、含有磷酸基之單體、乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、苯乙烯、α-甲基苯乙烯等乙烯系單體；丙烯腈、甲基丙烯腈等含有氰基之丙烯酸系單體；(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等含有環氧基之單體；聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯等二醇系丙烯酸酯單體；(甲基)丙烯酸四氫糠酯、氟(甲基)丙烯酸酯、矽酮(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯等丙烯酸酯系單體。
(甲基)丙烯酸系基礎聚合物較佳為包含最多之(甲基)丙烯酸烷基酯作為單體成分，更佳為包含最多之具有碳數為6以下之鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯。若為此種構成，則tanδ之峰頂值變大，可提昇耐衝擊性。相對於構成(甲基)丙烯酸系基礎聚合物之單體成分總量，具有碳數為6以下之鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯之量較佳為30重量%～80重量%，更佳為35重量%～75重量%，進而較佳為40重量%～70重量%。尤佳為作為單體成分之丙烯酸丁酯之含量處於上述範圍內。
(甲基)丙烯酸系基礎聚合物之玻璃轉移溫度(Tg)較佳為-50℃以上。另一方面，(甲基)丙烯酸系基礎聚合物之Tg較佳為-5℃以下，更佳為-10℃以下，進而較佳為-15℃以下。
E-2-2-2.交聯結構 (甲基)丙烯酸系基礎聚合物中導入有交聯結構之聚合物例如可藉由如下方法而獲得：(1)使具有可與交聯劑反應之官能基之(甲基)丙烯酸系聚合物聚合後，添加交聯劑，使(甲基)丙烯酸系聚合物與交聯劑反應之方法；及(2)藉由於聚合物之聚合成分中包含多官能化合物而將分支結構(交聯結構)導入至聚合物鏈中之方法等。亦可將其等併用。
作為上述(1)之使基礎聚合物與交聯劑反應之方法中之交聯劑的具體例，可例舉異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑、㗁唑啉系交聯劑、氮丙啶系交聯劑、碳二醯亞胺系交聯劑、金屬螯合物系交聯劑等。其中，就與基礎聚合物之羥基或羧基之反應性較高，容易導入交聯結構之方面考慮，較佳為異氰酸酯系交聯劑及環氧系交聯劑。該等交聯劑與導入至基礎聚合物中之羥基或羧基等官能基反應而形成交聯結構。如上所述，於採用基礎聚合物不包含羧基之無酸黏著劑之情形時，較佳為藉由基礎聚合物中之羥基與異氰酸酯系交聯劑導入交聯結構。
交聯劑可以相對於基礎聚合物100重量份較佳為0.03重量份～0.5重量份，更佳為0.05重量份～0.3重量份，進而較佳為0.06重量份～0.25重量份，特佳為0.07重量份～0.2重量份之比率使用。藉由將交聯劑之使用量設為此種範圍，可使凝膠分率處於上述所需之範圍內。
E-2-2-3.多官能化合物 於上述(2)之基礎聚合物之聚合成分中包含多官能化合物之方法中，可使構成(甲基)丙烯酸系基礎聚合物之單體成分與用於導入交聯結構之多官能化合物之全部量一次反應，亦可以多階段進行聚合。作為以多階段進行聚合之方法，較佳為如下方法：使構成(甲基)丙烯酸系基礎聚合物之單官能單體聚合(預聚合)而製備部分聚合物(預聚物組合物)，向預聚物組合物中添加多官能(甲基)丙烯酸酯等多官能化合物而使預聚物組合物與多官能單體聚合(正式聚合)。預聚物組合物係包含低聚合度之聚合物與未反應之單體之部分聚合物。
藉由進行(甲基)丙烯酸系基礎聚合物之構成成分之預聚合，能夠將多官能化合物之分支點(交聯點)均勻地導入至(甲基)丙烯酸系基礎聚合物中。又，亦可將低分子量之聚合物或部分聚合物與未聚合之單體成分之混合物(黏著劑組合物)塗佈於基材上，之後於基材上進行正式聚合而形成黏著劑層。由於預聚物組合物等低聚合組合物為黏度低且塗佈性優異，因此，根據將預聚物組合物與多官能化合物之混合物即黏著劑組合物塗佈後於基材上進行正式聚合之方法，能夠提昇黏著劑層之生產性，並且可使黏著劑層之厚度變得均勻。
作為用於導入交聯結構之多官能化合物，可例舉於1個分子中含有2個以上之具有不飽和雙鍵之聚合性官能基(乙烯性不飽和基)之化合物。多官能化合物具代表性的是光聚合性多官能化合物。作為多官能化合物，就容易與(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分共聚之方面考慮，較佳為多官能(甲基)丙烯酸酯。於藉由活性能量線聚合(光聚合)導入分支(交聯)結構之情形時，較佳為多官能(甲基)丙烯酸酯。
多官能化合物之分子量較佳為1500以下，更佳為1000以下。分子量之下限例如可為500。多官能化合物之官能基當量(g/eq)較佳為50～500，更佳為70～300，進而較佳為80～200。若為此種構成，則可適當地調整光硬化性黏著劑之黏彈性。
多官能化合物可以相對於基礎聚合物100重量份較佳為1重量份～6重量份，更佳為2重量份～5重量份，進而較佳為2.5重量份～4重量份之比率使用。若使用量過少，則存在光硬化性黏著劑(結果為第2黏著劑層)之接著保持性不足之情況。若使用量過多，則存在所形成之第2黏著劑層過硬，耐衝擊性不足之情況。進而，存在光硬化性黏著劑之加工性及/或加工尺寸穩定性不足之情況。
於一實施方式中，多官能化合物較佳可為於1個分子中含有3個以上之光聚合性官能基之化合物，更佳可為於1個分子中含有3個以上之光聚合性官能基之(甲基)丙烯酸酯。藉由使用3官能以上之光聚合性化合物，可進一步提昇光硬化性黏著劑(結果為第2黏著劑層)之接著保持性。亦可將2官能之光聚合性化合物與3官能以上之光聚合性化合物併用。3官能以上之光聚合性化合物可以相對於基礎聚合物100重量份較佳為0.5重量份～5重量份，更佳為1重量份～4.5重量份，進而較佳為2重量份～4重量份之比率使用。
E-2-2-4.黏著劑組合物 黏著劑組合物(光硬化性黏著劑)除了包含上述基礎聚合物、交聯劑及多官能化合物以外，亦可包含光聚合起始劑、低聚物、矽烷偶合劑，並根據目的可包含任意適當之添加劑。
作為光聚合起始劑，例如可例舉：安息香醚系光聚合起始劑、苯乙酮系光聚合起始劑、α-酮醇系光聚合起始劑、芳香族磺醯氯系光聚合起始劑、光活性肟系光聚合起始劑、安息香系光聚合起始劑、苯偶醯系光聚合起始劑、二苯甲酮系光聚合起始劑、縮酮系光聚合起始劑、9-氧硫
Figure 110135297-1
Figure 110135297-2
系光聚合起始劑、醯基氧化膦系光聚合起始劑。光聚合起始劑可單獨使用亦可將2種以上併用。黏著劑組合物中之光聚合起始劑之含量相對於基礎聚合物100重量份，較佳為0.01重量份～5重量份，更佳為0.05重量份～3重量份。
作為低聚物，可使用任意適當之低聚物。藉由使用低聚物，可調整光硬化性黏著劑之黏彈性(因此，為異形加工部填充性、作業性)及接著力。低聚物較佳為(甲基)丙烯酸系低聚物。(甲基)丙烯酸系低聚物可與基礎聚合物有優異之相容性。
低聚物之重量平均分子量較佳為約1000～30000，更佳為1500～10000，進而較佳為2000～8000。若低聚物之重量平均分子量處於此種範圍內，則可實現優異之接著力及接著保持性。
低聚物之Tg較佳為20℃以上，更佳為50℃以上，進而較佳為80℃以上，特佳為100℃以上。另一方面，低聚物之Tg較佳為200℃以下，更佳為180℃以下，進而較佳為160℃以下。若低聚物之Tg處於此種範圍內，則可形成具有優異之接著力之第2黏著劑層。
黏著劑組合物中之低聚物之含量相對於基礎聚合物100重量份，較佳為0.1重量份～10重量份，更佳為0.2重量份～5重量份。若低聚物之含量處於此種範圍內，則可良好地維持光硬化性黏著劑之加工性及加工尺寸穩定性，且可形成具有優異之接著力之第2黏著劑層。
作為矽烷偶合劑，可使用任意適當之矽烷偶合劑。藉由使用矽烷偶合劑，可調整光硬化性黏著劑之接著力。黏著劑組合物中之矽烷偶合劑之含量相對於基礎聚合物100重量份，較佳為0.01重量份～5重量份，更佳為0.03重量份～2重量份。
關於添加劑，可根據目的使用任意適當之添加劑。
於一實施方式中，黏著劑組合物(光硬化性黏著劑)可作為具有與第2黏著劑層之厚度相對應之厚度，且於兩面暫時黏有離型膜之黏著劑片而提供。
黏著劑組合物(光硬化性黏著劑)之更詳細之事項記載於本申請人所申請之日本專利特願2018-218422號中。該申請之記載作為參考而援引於本說明書中。
E-3.非硬化性黏著劑 作為非硬化性黏著劑，可使用任意適當之非硬化性黏著劑，只要具有如上所述之特性即可。藉由適當地調整單體成分之種類、組合及調配量等、以及交聯劑、矽烷偶合劑及添加劑之種類、數量、組合、調配量等，可獲得具有上述所需之儲存模數之非硬化性黏著劑(結果為第2黏著劑層)。作為非硬化性黏著劑，例如可例舉：關於第1及第2黏著劑層記載於上述C項中之黏著劑、本申請人所申請之日本專利特願2019-196942中所記載之黏著劑、日本專利特開2016-94569號公報中所記載之黏著劑。該申請及公報之記載作為參考而援引於本說明書中。
E-4.光學構件之組件 如上所述，構成第2黏著劑層之黏著劑(黏著劑組合物)可作為黏著劑片而提供。於圖像顯示裝置之製作中，該黏著劑片可與本發明之實施方式之偏光板一起作為光學構件之組件而提供。因此，此種光學構件之組件亦包含於本發明之實施方式中。於一實施方式中，光學構件之組件亦可進而包含其他偏光板(背面側偏光板)。即，於圖像顯示裝置之製作中，黏著劑片、本發明之實施方式之偏光板(視認側偏光板)及第2偏光板(背面側偏光板)可作為光學構件之組件而提供。 [實施例]
以下，藉由實施例對本發明進行具體說明，但本發明並不限定於該等實施例。實施例中之評估項目如下所述。又，只要無特別說明，則實施例中之「份」及「%」為重量基準。
(1)黏著劑空隙部之大小 用光學顯微鏡觀察實施例及比較例中所使用之偏光板之貫通孔中的黏著劑層之剖面之狀態，測定自外緣至面方向內側之黏著劑層之缺損成為最大之部分的長度，設為黏著劑空隙部之大小L(μm)。 (2)糊劑偏移量 將實施例及比較例中所使用之偏光板與玻璃貼合，經高壓釜處理(50℃/0.5 MPa/15 min)後，進行加熱試驗(85℃，120 h)。用光學顯微鏡觀察試驗後之樣品之貫通孔，測量貫通孔之位於偏光板端部之黏著劑之變形部分，作為貫通孔之位移量。變形部分係用OLYMPUS公司製造之光學顯微鏡(MX61L)來測定。再者，對3個試驗樣品進行測定，將3個測定值中之最大值作為偏移量。 (3)氣泡評估 對實施例及比較例中所獲得之圖像顯示裝置對應品進行真空層壓後，進行高壓釜處理(50℃/0.5 MPa/15 min)，並進行UV(Ultraviolet，紫外線)固化(照度150 mW/cm 2，3000 mJ之照射量)。然後，對樣品進行加熱試驗(85℃，24 h)，於取出時藉由目視或光學顯微鏡觀察氣泡之狀態。測定係於n＝6之條件下實施，並根據以下基準進行評估。 4：所有樣品均未見氣泡 3：未達半數之樣品可見少許氣泡，但於使用方面無問題 2：半數以上之樣品可見少許氣泡，但於使用方面無問題 1：所有樣品均有氣泡
＜製造例1：黏著劑層(1)之製作＞ 向具備攪拌翼、溫度計、氮氣導入管、及冷卻器之四口燒瓶中添加含有丙烯酸丁酯(BA)99份及丙烯酸4-羥基丁酯1份之單體混合物。進而，相對於單體混合物(固形物成分)100份，添加作為聚合起始劑之2,2'-偶氮二異丁腈0.1份及乙酸乙酯100重量份，一面緩慢攪拌一面導入氮氣進行氮氣置換後，將燒瓶內之液溫保持在55℃左右，進行8小時之聚合反應而製備丙烯酸系聚合物之溶液。相對於所獲得之丙烯酸系聚合物之溶液之固形物成分100份，調配作為交聯劑之過氧化苯甲醯(商品名：Nyper BMT 40SV，日本油脂(股)製造)0.3份、異氰酸酯系交聯劑(商品名：Takenate D110N，三井化學(股)製造)0.1份、及矽烷偶合劑(商品名：KBM-403，信越化學工業(股)製造)0.2份，獲得黏著劑組合物。 繼而，以乾燥後之黏著劑層之厚度成為20 μm之方式將上述丙烯酸系黏著劑組合物之溶液塗佈於經矽酮系剝離劑處理之聚對苯二甲酸乙二酯膜(隔離膜：三菱化學聚酯膜(股)製造，MRF38)之單面，於155℃下乾燥1分鐘，於隔離膜之表面形成黏著劑層(1)。黏著劑層(1)之蠕變值為120 μm/hr。
＜製造例2：黏著劑層(2)之製作＞ 向具備攪拌翼、溫度計、氮氣導入管、及冷卻器之四口燒瓶中添加含有丙烯酸丁酯(BA)94.9份、丙烯酸5份、及丙烯酸4-羥基丁酯0.1份之單體混合物。進而，相對於單體混合物(固形物成分)100份，添加作為聚合起始劑之2,2'-偶氮二異丁腈0.1份及乙酸乙酯100重量份，一面緩慢攪拌一面導入氮氣進行氮氣置換後，將燒瓶內之液溫保持在55℃左右，進行8小時之聚合反應而製備丙烯酸系聚合物之溶液。相對於所獲得之丙烯酸系聚合物之溶液之固形物成分100份，調配作為交聯劑之過氧化苯甲醯(商品名：Nyper BMT 40SV，日本油脂(股)製造)0.1份、異氰酸酯系交聯劑(商品名：Coronate L，東曹(股)製造)8份、及矽烷偶合劑(商品名：KBM-403，信越化學工業(股)製造)0.2份，獲得黏著劑組合物。 繼而，以乾燥後之黏著劑層之厚度成為20 μm之方式將上述丙烯酸系黏著劑組合物之溶液塗佈於經矽酮系剝離劑處理之聚對苯二甲酸乙二酯膜(隔離膜：三菱化學聚酯膜(股)製造，MRF38)之單面，於155℃下乾燥1分鐘，於隔離膜之表面形成黏著劑層(2)。黏著劑層(2)之蠕變值為35 μm/hr。
＜製造例3：構成第2黏著劑層之光硬化性黏著劑之製備＞ 添加含有丙烯酸丁酯(BA)65份、丙烯酸環己酯(CHA)5份、N-乙烯基-2-吡咯啶酮(NVP)10份、丙烯酸4-羥基丁酯(4HBA)15份及丙烯酸異硬脂酯(ISTA)5份之單體混合物。進而，相對於單體混合物(固形物成分)100份，添加作為聚合起始劑之2,2'-偶氮二異丁腈0.2份、作為鏈轉移劑之α-硫甘油(TGR)0.065份、及乙酸乙酯233重量份，於23℃之氮氣氛圍下攪拌1小時，進行氮氣置換。然後，於56℃下反應5小時，繼而於70℃下反應3小時而製備丙烯酸系基礎聚合物之溶液。於上述所獲得之丙烯酸系基礎聚合物之溶液中，相對於基礎聚合物100份，添加下述後添加成分，均勻地混合，而製備光硬化性黏著劑b。光硬化性黏著劑b之硬化前之60℃下之儲存模數為4.7×10 4Pa，硬化後之60℃下之儲存模數為1.0×10 5Pa。又，硬化前之凝膠分率為40%，硬化後之凝膠分率為80%。 (後添加成分) 作為多官能化合物(光硬化劑)之二季戊四醇六丙烯酸酯：2份 作為多官能化合物(光硬化劑)之聚丙二醇二丙烯酸酯(商品名：APG400，新中村化學工業公司製造，聚丙二醇#400(n＝7)二丙烯酸酯，官能基當量268 g/eq)：3份 光聚合起始劑(商品名：「Irgacure184」，BASF公司製造)：0.2份 (黏著劑片之製作) 將光硬化性黏著劑b塗佈於表面設有矽酮系離型層之厚度為75 μm之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜(三菱化學公司製造之「DIAFOIL MRF75」)，於100℃下加熱3分鐘而去除溶劑後，將與上述相同之離型PET膜貼合於表面。將以此方式而獲得之積層體於25℃下老化3天，而獲得於兩面暫時黏有離型膜之黏著劑片I。
＜製造例4：偏光板之製作＞ 將厚度為30 μm之聚乙烯醇膜於速度比不同之輥間，於30℃下，在0.3%濃度之碘溶液中歷時1分鐘一面染色，一面延伸至3倍。然後，於60℃下於包含4%濃度之硼酸及10%濃度之碘化鉀之水溶液中浸漬0.5分鐘之同時進行延伸直至綜合延伸倍率成為6倍。繼而，藉由於30℃下浸漬於包含1.5%濃度之碘化鉀之水溶液中10秒而進行洗淨後，於50℃下乾燥4分鐘，而獲得厚度為12 μm之偏光元件。將作為外側保護層之附有硬塗層之三乙醯纖維素(TAC)膜(硬塗層厚度為2 μm，TAC厚度為25 μm)及作為內側保護層之TAC膜(厚度為25 μm)分別貼合於該偏光元件之兩側。將液晶配向固化層H及液晶配向固化層Q依次轉印至該偏光板之內側保護層側。如此，製作偏光板(1)。再者，液晶配向固化層H及液晶配向固化層Q係以如下方式製作。
將表現出向列型液晶相之聚合性液晶(BASF公司製造：商品名「PaliocolorLC242」，由下述式表示)10 g及相對於該聚合性液晶化合物之光聚合起始劑(BASF公司製造：商品名「Irgacure 907」)3 g溶解於甲苯40 g中，而製備液晶組合物(塗佈液)。 [化1]
Figure 02_image001
使用磨擦布對聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜(厚度38 μm)表面進行摩擦而實施配向處理。配向處理之方向係設為於貼合於偏光板時自視認側觀察時相對於偏光元件之吸收軸之方向呈15°之方向。藉由棒式塗佈機將上述液晶塗佈液塗佈於該配向處理表面，於90℃下加熱乾燥2分鐘，藉此使液晶化合物配向。使用金屬鹵化物燈向以此方式而形成之液晶層照射1 mJ/cm 2之光，使該液晶層硬化，藉此於PET膜上形成液晶配向固化層H。液晶配向固化層H之厚度為2.5 μm，面內相位差Re(550)為270 nm。進而，液晶配向固化層H具有nx＞ny＝nz之折射率分佈。除了變更塗佈厚度，以及將配向處理方向設為自視認側觀察時相對於偏光元件之吸收軸之方向呈75°之方向以外，以與上述相同之方式於PET膜上形成液晶配向固化層Q。液晶配向固化層Q之厚度為1.5 μm，面內相位差Re(550)為140 nm。進而，液晶配向固化層Q具有nx＞ny＝nz之折射率分佈。
＜製造例5：偏光板之製作＞ 將厚度為30 μm之聚乙烯醇膜於速度比不同之輥間，於30℃下，在0.3%濃度之碘溶液中歷時1分鐘一面染色，一面延伸至3倍。然後，於60℃下於包含4%濃度之硼酸及10%濃度之碘化鉀之水溶液中浸漬0.5分鐘之同時進行延伸直至綜合延伸倍率成為6倍。繼而，藉由於30℃下浸漬於包含1.5%濃度之碘化鉀之水溶液中10秒而進行洗淨後，於50℃下乾燥4分鐘，而獲得厚度為12 μm之偏光元件。將作為外側保護層之附有硬塗層之三乙醯纖維素(TAC)膜(硬塗層厚度為2 μm，TAC厚度為25 μm)及作為內側保護層之丙烯酸樹脂膜(厚度為20 μm)分別貼合於該偏光元件之兩側，藉此製作偏光板(2)。
＜製造例6：偏光板之製作＞ 1.偏光元件之製作 作為熱塑性樹脂基材，使用形狀為長條狀，吸水率為0.75%，Tg約為75℃之非晶質之間苯二甲酸共聚聚對苯二甲酸乙二酯膜(厚度：100 μm)。對樹脂基材之單面實施電暈處理。 向將聚乙烯醇(聚合度4200、皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改性PVA(日本合成化學工業公司製造，商品名「GOHSEFIMER Z410」)以9：1混合而成之PVA系樹脂100重量份中添加碘化鉀13重量份，將其溶解於水中，製備PVA水溶液(塗佈液)。 將上述PVA水溶液塗佈於樹脂基材之電暈處理面，於60℃下進行乾燥，藉此形成厚度為13 μm之PVA系樹脂層，製作積層體。 於130℃之烘箱內，在周速不同之輥間，於縱向(長度方向)上對所獲得之積層體進行自由端單軸延伸處理直至延伸至2.4倍(空中輔助延伸處理)。 繼而，使積層體浸漬於液溫為40℃之不溶化浴(相對於水100重量份，調配硼酸4重量份而獲得之硼酸水溶液)中30秒(不溶化處理)。 繼而，於液溫為30℃之染色浴(相對於水100重量份，以1：7之重量比調配碘與碘化鉀而獲得之碘水溶液)中一面調整濃度一面浸漬60秒以使最終所獲得之偏光膜之單體透過率(Ts)成為特定之值(染色處理)。 繼而，使其浸漬於液溫為40℃之交聯浴(相對於水100重量份，調配碘化鉀3重量份、硼酸5重量份而獲得之硼酸水溶液)中30秒(交聯處理)。 然後，一面使積層體浸漬於液溫為70℃之硼酸水溶液(硼酸濃度4.0重量%，碘化鉀5.0重量%)中，一面於周速不同之輥間，於縱向(長度方向)上以總延伸倍率成為5.5倍之方式進行單軸延伸(水中延伸處理)。 然後，使積層體浸漬於液溫為20℃之洗淨浴(相對於水100重量份，調配碘化鉀4重量份而獲得之水溶液)(洗淨處理)。 然後，於溫度保持於90℃之烘箱中一面進行乾燥，一面使其與表面溫度保持於75℃之由SUS(Steel Use Stainless，日本不鏽鋼標準)製造之加熱輥接觸約2秒鐘(乾燥收縮處理)。經過乾燥收縮處理之積層體之寬度方向之收縮率為5.2%。 如此，於樹脂基材上形成厚度為5 μm之偏光元件。
2.偏光板之製作 將HC-TAC膜經由紫外線硬化型接著劑貼合於上述所獲得之樹脂基材/偏光元件之積層體之偏光元件表面。具體而言，以硬化型接著劑之厚度成為1.0 μm之方式進行塗佈，使用滾壓機進行貼合。然後，自HC-TAC膜側照射UV光線，使接著劑硬化。再者，HC-TAC膜係於三乙醯纖維素(TAC)膜(厚度25 μm)上形成有硬塗(HC)層(厚度7 μm)之膜，並以TAC膜位於偏光元件側之方式貼合。繼而，剝離樹脂基材，以與上述相同之方式將TAC膜(厚度20 μm)貼合於該剝離面。如此，製作偏光板(3)。
＜實施例1＞ 1.貫通孔之形成 於製造例4中所獲得之偏光板(1)之液晶配向固化層Q之表面形成製造例1中所獲得之黏著劑層(1)，作為附有黏著劑層之偏光板。將該附有黏著劑層之偏光板沖裁為長145 mm及寬68 mm之尺寸。此時，以偏光元件之吸收軸方向相對於長邊方向沿順時針方向呈135°之方式進行沖裁。進而，於經過沖裁之附有黏著劑層之偏光板之右上角，藉由端銑刀加工形成直徑為3.9 mm之貫通孔。如此，製作如圖1A所示之偏光板(附有黏著劑層之偏光板)。所獲得之偏光板之｜b 1－b 2｜為0 mm。又，黏著劑空隙部之大小L為90 μm。將該偏光板供於上述(2)之評估。將結果示於表1。
2.圖像顯示裝置對應品之製作 將上述1.中所獲得之附有黏著劑層之偏光板經由黏著劑層貼合於玻璃板(與圖像顯示單元對應)之一面。繼而，剝離製造例3中所獲得之黏著劑片I之一離型膜，藉由滾筒貼合機貼合於覆蓋玻璃(松浪硝子公司製造，厚度0.8 mm)。繼而，剝離黏著劑片I之另一離型膜，使用真空貼合機使其與附有黏著劑層之偏光板之表面密接並且利用黏著劑片填充貫通孔。真空層壓之條件如下所述：於0.2 MPa、60℃(待機時間90秒)下進行加溫壓接，繼而於100 Pa下進行10秒鐘之真空層壓。進而，自覆蓋玻璃側使用金屬鹵化物燈(300 mW/cm 2)照射累計光量為3000 mJ/cm 2之紫外線，使光硬化性黏著劑硬化。然後，進行高壓釜處理(50℃/0.5 MPa/15 min)。如此，製作圖像顯示裝置對應品。將所獲得之圖像顯示裝置對應品供於上述(3)之氣泡評估。將結果示於表1。
＜實施例2＞ 除了將貫通孔形成於長邊方向之端部且短邊方向之中央部以外，以與實施例1相同之方式製作偏光板(附有黏著劑層之偏光板)及圖像顯示裝置對應品。所獲得之偏光板之｜b 1－b 2｜為41 mm。又，黏著劑空隙部之大小L為90 μm。將所獲得之偏光板及圖像顯示裝置對應品分別供於與實施例1相同之評估。將結果示於表1。再者，於表1中，將長邊方向之端部且短邊方向之中央部簡稱為「中央」。
＜實施例3～7及比較例1～4＞ 除了偏光板之種類及尺寸、黏著劑層之種類、以及貫通孔之形成位置如表1所示以外，以與實施例1相同之方式製作偏光板(附有黏著劑層之偏光板)及圖像顯示裝置對應品。再者，黏著劑空隙部之大小L係於形成貫通孔之端銑刀加工過程中，藉由改變鑽孔器之進給速度或轉速、切削量來調整。此處，實施例4及6與圖1A所示之形態相對應，實施例7與圖1B所示之形態相對應，實施例3及5與圖1C所示之形態相對應。將所獲得之偏光板及圖像顯示裝置對應品分別供於與實施例1相同之評估。將結果示於表1。
[表1]
   偏光板 偏光元件厚度 [μm] 黏著劑 軸角度 [°] 貫通孔位置 貫通孔徑[mm] 長邊 [mm] 短邊 [mm] |b 1－b 2| [mm] 黏著劑空隙部之大小L [μm] 糊劑偏移量 [μm] 氣泡評估
實施例1 偏光板(1) 12 黏著劑(1) 135 右上角 3.9 145 68 0 90 95 2
實施例2 偏光板(1) 12 黏著劑(1) 135 中央 3.9 145 68 41 90 129 2
實施例3 偏光板(2) 12 黏著劑(1) 90 中央 3.9 148 70 0 90 71 3
實施例4 偏光板(1) 12 黏著劑(2) 135 右上角 3.9 145 68 0 30 38 4
實施例5 偏光板(3) 5 黏著劑(1) 90 中央 3.9 148 70 0 90 30 4
實施例6 偏光板(1) 12 黏著劑(1) 135 右上角 3.9 145 68 0 45 90 3
實施例7 偏光板(1) 12 黏著劑(1) 45 左上角 3.9 145 68 0 45 90 3
比較例1 偏光板(1) 12 黏著劑(1) 45 右上角 3.9 145 68 82 90 250 1
比較例2 偏光板(2) 12 黏著劑(1) 0 右上角 3.9 148 70 138 90 231 1
比較例3 偏光板(2) 12 黏著劑(1) 90 右上角 3.9 148 70 60 90 199 1
比較例4 偏光板(2) 12 黏著劑(1) 0 中央 3.9 148 70 138 90 239 1
由表1可知，本發明之實施例之偏光板之加熱試驗後的貫通孔部分中之糊劑偏移量明顯小於比較例，且延遲氣泡得到抑制。 [產業上之可利用性]
本發明之偏光板適宜用於圖像顯示裝置，尤其是可適宜用於以智慧型手機、平板型PC或智慧型手錶為代表之具有相機部之圖像顯示裝置。
11:偏光元件 12:外側保護層 13:內側保護層 20:黏著劑層 30:貫通孔 100:偏光板 101:偏光板 102:偏光板 120:玻璃板 a 1:與偏光元件之吸收軸方向正交之方向上自貫通孔之中心至偏光板之一端之距離 a 2:與偏光元件之吸收軸方向正交之方向上自貫通孔之中心至偏光板之另一端之距離 b 1:偏光元件之吸收軸方向上自貫通孔之中心至偏光板之一端之距離 b 2:偏光元件之吸收軸方向上自貫通孔之中心至偏光板之另一端之距離 A:吸收軸方向 D:偏移量 R:直徑
圖1A係說明本發明之一實施方式之偏光板中之貫通孔的形成位置之概略俯視圖。 圖1B係說明本發明之另一實施方式之偏光板中之貫通孔的形成位置之概略俯視圖。 圖1C係說明本發明之又一實施方式之偏光板中之貫通孔的形成位置之概略俯視圖。 圖2係本發明之實施方式之偏光板之貫通孔部分的概略剖視圖。 圖3係說明本發明之實施方式之偏光板中之貫通孔部分中的偏移之主要部分放大之剖視圖。
30:貫通孔
100:偏光板
a1:與偏光元件之吸收軸方向正交之方向上自貫通孔之中心至偏光板之一端之距離
a2:與偏光元件之吸收軸方向正交之方向上自貫通孔之中心至偏光板之另一端之距離
b1:偏光元件之吸收軸方向上自貫通孔之中心至偏光板之一端之距離
b2:偏光元件之吸收軸方向上自貫通孔之中心至偏光板之另一端之距離
A:吸收軸方向

Claims (8)

  1. 一種偏光板，其具有：偏光元件；保護層，其配置於該偏光元件之至少一側；及黏著劑層；且 形成有貫通孔， 該偏光元件之厚度為15 μm以下， ｜b 1－b 2｜為45 mm以下， 此處，b 1係偏光元件之吸收軸方向上自貫通孔之中心至偏光板之一端之距離，b 2係偏光元件之吸收軸方向上自貫通孔之中心至偏光板之另一端之距離。
  2. 如請求項1之偏光板，其具有矩形形狀，自視認側觀察時，上述偏光元件之吸收軸方向為自長邊方向沿順時針方向呈135°之方向，上述貫通孔形成於右上角。
  3. 如請求項1之偏光板，其具有矩形形狀，自視認側觀察時，上述偏光元件之吸收軸方向為自長邊方向沿順時針方向呈45°之方向，上述貫通孔形成於左上角。
  4. 如請求項1之偏光板，其具有矩形形狀，上述偏光元件之吸收軸方向為短邊方向，於俯視時，上述貫通孔形成於長邊方向之端部且短邊方向之中央部。
  5. 如請求項1至4中任一項之偏光板，其中上述偏光元件之厚度為8 μm以下。
  6. 如請求項1至5中任一項之偏光板，其中上述黏著劑層之蠕變值為140 μm/hr以下。
  7. 一種圖像顯示裝置，其包含：圖像顯示單元及如請求項1至6中任一項之偏光板；且 該偏光板經由上述黏著劑層貼合於該圖像顯示單元。
  8. 一種附有覆蓋玻璃之偏光板，其具有：偏光元件；保護層，其配置於該偏光元件之至少一側；黏著劑層；另一黏著劑層，其設置於該偏光元件之與該黏著劑層相反之側；及覆蓋玻璃，其經由該另一黏著劑層貼合；且 形成有貫通孔，該貫通孔被構成該另一黏著劑層之黏著劑填充， 該偏光元件之厚度為15 μm以下， ｜b 1－b 2｜為45 mm以下， 此處，b 1係偏光元件之吸收軸方向上自貫通孔之中心至偏光板之一端之距離，b 2係偏光元件之吸收軸方向上自貫通孔之中心至偏光板之另一端之距離。
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