TW202318041A - 附相位差層之偏光板 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種可抑制糊劑溢出、糊劑欠缺、糊劑偏移及工序污染,且於低溫環境下可抑制龜裂產生之附相位差層之偏光板。本發明之附相位差層之偏光板依序具備保護層、偏光元件、相位差層及黏著劑層,自該保護層至該相位差層之總厚度為20 μm以上60 μm以下,該黏著劑層之玻璃轉移溫度為-60℃以上-40℃以下,25℃下之蠕變值為10%以上150%以下。
Description
本發明係關於一種附相位差層之偏光板。
近年來,以液晶顯示裝置及有機EL(Electroluminescence,電致發光)顯示裝置為代表之圖像顯示裝置正在迅速普及。就代表性而言,圖像顯示裝置使用偏光板及相位差板。實際應用中,廣泛使用將偏光板及相位差板一體化而成之附相位差層之偏光板(例如,專利文獻1)。近年來,以智慧型手機為代表之摺疊式圖像顯示裝置上市,此種圖像顯示裝置中所使用之附相位差層之偏光板要求耐彎曲性。
但是,於先前之附相位差層之偏光板中,有低溫環境下之耐彎曲性並不充分,於摺疊時產生龜裂等問題。進而,有產生附相位差層之偏光板端部之糊劑偏移,從而成為糊劑溢出、糊劑欠缺或工序污染之原因等問題。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
專利文獻1:日本專利特開2002-372622號公報
專利文獻2:日本專利第3325560號公報
[發明所欲解決之問題]
本發明係為了解決上述先前之課題而成者,其主要目的在於提供一種抑制糊劑溢出、糊劑欠缺、糊劑偏移及工序污染,且於低溫環境下抑制龜裂產生之附相位差層之偏光板。
[解決問題之技術手段]
本發明之附相位差層之偏光板依序具備保護層、偏光元件、相位差層及黏著劑層,自該保護層至該相位差層之總厚度為20 μm以上60 μm以下,該黏著劑層之玻璃轉移溫度為-60℃以上-40℃以下,該黏著劑層之25℃下之蠕變值為10%以上150%以下。
於一實施方式中,自上述保護層至上述相位差層之總厚度為55 μm以下。
於一實施方式中,上述黏著劑層之玻璃轉移溫度為-60℃以上-45℃以下。
於一實施方式中,上述25℃下之蠕變值為10%以上130%以下。
於一實施方式中,上述黏著劑層含有包含丙烯酸系基礎聚合物之丙烯酸系黏著劑,該丙烯酸系基礎聚合物相對於單體成分之合計100重量份,含有1重量份~30重量份之(甲基)丙烯酸C
10-20鏈狀烷基酯。
於一實施方式中,上述丙烯酸系基礎聚合物包含丙烯酸月桂酯作為上述(甲基)丙烯酸C
10-20鏈狀烷基酯。
於一實施方式中,上述丙烯酸系基礎聚合物相對於單體成分之合計100重量份,含有0.1重量份~5重量份之含羥基單體。
於一實施方式中,上述丙烯酸系基礎聚合物相對於單體成分之合計100重量份,含有0.1重量份~1.5重量份之具有含氮原子環之單體。
於一實施方式中,上述保護層之厚度為45 μm以下。
於一實施方式中,上述偏光元件之厚度為10 μm以下。
於一實施方式中,上述相位差層具有第1液晶化合物之配向固化層與第2液晶化合物之配向固化層之積層構造,該第1液晶化合物之配向固化層之Re(550)為200 nm~300 nm,其遲相軸與上述偏光元件之吸收軸所成之角度為10°~20°,該第2液晶化合物之配向固化層之Re(550)為100 nm~190 nm,其遲相軸與上述偏光元件之吸收軸所成之角度為70°~80°。
於一實施方式中,上述相位差層為液晶化合物之配向固化層之單一層,該相位差層之Re(550)為100 nm~180 nm,且滿足Re(450)<Re(550)<Re(650)之關係,其遲相軸與上述偏光元件之吸收軸所成之角度為35°~55°。進而,於一實施方式中,上述附相位差層之偏光板進而具備其他相位差層,該其他相位差層表現出nz>nx=ny之折射率特性。
於一實施方式中,上述黏著劑層之厚度為20 μm以上。
[發明之效果]
根據本發明之實施方式,可實現抑制糊劑溢出、糊劑欠缺、糊劑偏移及工序污染,且於低溫環境下抑制彎曲時之龜裂產生之附相位差層之偏光板。
以下,對本發明之實施方式進行說明,但本發明並不限定於該等實施方式。
(用語及記號之定義)
本說明書中之用語及記號之定義如下述所示。
(1)折射率(nx、ny、nz)
「nx」係面內之折射率最大之方向(即,遲相軸方向)之折射率,「ny」係於面內與遲相軸正交之方向(即,進相軸方向)之折射率,「nz」係厚度方向之折射率。
(2)面內相位差(Re)
「Re(λ)」係以23℃下之波長λnm之光測得之面內相位差。例如,「Re(550)」係以23℃下之波長550 nm之光測得之面內相位差。Re(λ)係於將層(膜)之厚度設為d(nm)時,藉由式:Re(λ)=(nx-ny)×d而求出。
(3)厚度方向之相位差(Rth)
「Rth(λ)」係以23℃下之波長λnm之光測得之厚度方向之相位差。例如,「Rth(550)」係以23℃下之波長550 nm之光測得之厚度方向之相位差。Rth(λ)係於將層(膜)之厚度設為d(nm)時,藉由式:Rth(λ)=(nx-nz)×d而求出。
(4)Nz係數
Nz係數係藉由Nz=Rth/Re而求出。
(5)角度
於本說明書中,於提及角度時,該角度相對於基準方向包含順時針及逆時針之兩者。因此,例如「45°」意指±45°。
A.附相位差層之偏光板之整體構成
本發明之附相位差層之偏光板依序具有保護層、偏光元件、相位差層及黏著劑層。圖1係本發明之一實施方式之附相位差層之偏光板之概略剖視圖。圖1之附相位差層之偏光板100依序具有保護層10、偏光元件20、相位差層30及黏著劑層40。如圖1所示,相位差層30可由第1液晶化合物之配向固化層(以下,有時稱為第1液晶配向固化層)31及第2液晶化合物之配向固化層(以下,有時稱為第2液晶配向固化層)32構成,如圖2所示,相位差層30亦可由液晶配向固化層之單一層構成。於該相位差層30與黏著劑層40之間可設有其他相位差層33(僅圖2中例示)。於本發明之實施方式中,就代表性而言,相位差層30直接設於偏光元件20(即,不介置接著層以外之其他層)。再者,於本說明書中,「液晶配向固化層」指液晶化合物於層內沿著特定方向配向,其配向狀態固定之層。再者,「配向固化層」係包含如下所述使液晶單體硬化而獲得之配向硬化層之概念。
關於附相位差層之偏光板,保護層至相位差層之總厚度為20 μm以上60 μm以下,較佳為25 μm以上55 μm以下。若保護層至相位差層之總厚度為此種範圍內,則可獲得於低溫環境下抑制彎曲時之龜裂產生之附相位差層之偏光板。
於本發明之實施方式中,上述黏著劑層之玻璃轉移溫度為-60℃以上-40℃以下,較佳為-60℃以上-45℃以下,進而較佳為-50℃以上-45℃以下。若黏著劑層之玻璃轉移溫度為此種範圍內,則即便黏著劑層於低溫環境下亦為低彈性,可獲得於低溫環境下抑制彎曲時之龜裂產生之附相位差層之偏光板。
於本發明之實施方式中,上述黏著劑層於25℃下之蠕變值為10%以上150%以下,較佳為10%以上130%以下,進而較佳為30%以上130%以下。若黏著劑層之25℃下之蠕變值為此種範圍,則可獲得抑制糊劑溢出、糊劑欠缺、糊劑偏移及工序污染之附相位差層之偏光板。再者,蠕變係以應變表示物質於一定時間施加一定應力時發生變形之大小者。蠕變值例如可使用黏彈性測定裝置進行測定及計算。於黏彈性測定裝置中,由於將黏著劑積層於平行板而進行測定,因此可測定黏著劑本身之蠕變值而不依賴於厚度。
於先前之附相位差層之偏光板中,存在低溫環境下之耐彎曲性不充分,摺疊時產生龜裂等課題。針對該課題,若使用低溫環境下為低彈性之黏著劑,則發現如下新課題,即,產生附相位差層之偏光板端部之糊劑偏移,從而成為糊劑溢出、糊劑欠缺及工序污染之原因。發明人等針對該課題進行了銳意研究,結果發現藉由在特定範圍內將黏著劑層之玻璃轉移溫度及蠕變值最佳化,可解決該課題。具體而言,本案發明發現,使用玻璃轉移溫度為-60℃以上-40℃以下,且25℃下之蠕變值為10%以上150%以下之黏著劑,可兼顧糊劑溢出、糊劑欠缺、糊劑偏移及工序污染之抑制,及低溫環境下之彎曲時之龜裂之抑制。
附相位差層之偏光板可進而包含其他光學功能層。可設於附相位差層之偏光板之光學功能層之種類、特性、數量、組合、配置位置等可根據目的適當進行設定。例如,附相位差層之偏光板可進而具有導電層或附導電層之各向同性基材(均未圖示)。就代表性而言,導電層或附導電層之各向同性基材設於相位差層30之與偏光元件20相反之側。於設有導電層或附導電層之各向同性基材之情形時,附相位差層之偏光板可應用於在有機EL單元與偏光板之間組裝有觸控感測器之所謂內部觸控面板型輸入顯示裝置。
附相位差層之偏光板可為單片狀,亦可為長條狀。於本說明書中,「長條狀」意指相對於寬度而言長度非常長之細長形狀,例如包含相對於寬度而言長度為10倍以上、較佳為20倍以上之細長形狀。長條狀之附相位差層之偏光板可捲繞為滾筒狀。
較佳為於附相位差層之偏光板供於使用前,於上述黏著劑層之表面暫時黏有剝離襯墊。藉由暫時黏有剝離襯墊,可保護黏著劑層,且形成附相位差層之偏光板之輥。
以下,對附相位差層之偏光板之構成要素更詳細地進行說明。
B.偏光板
以下,對偏光板之構成要素更詳細地進行說明。
B-1.偏光元件
作為偏光元件,可採用任意適當之偏光元件。例如,形成偏光元件之樹脂膜可為單層樹脂膜,亦可為兩層以上之積層體。
作為由單層樹脂膜構成之偏光元件之具體例,可例舉對聚乙烯醇(PVA)系膜、部分縮甲醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜實施利用碘、二色性染料等二色性物質之染色處理及延伸處理而得者、PVA之脫水處理物、聚氯乙烯之脫氯化氫處理物等多烯系配向膜等。就光學特性優異而言,較佳為使用將PVA系膜用碘進行染色並單軸延伸所獲得之偏光元件。
上述利用碘之染色例如係藉由將PVA系膜浸漬於碘水溶液中進行。上述單軸延伸之延伸倍率較佳為3倍~7倍。延伸可於染色處理後進行,亦可一面染色一面進行。又,亦可於延伸後進行染色。視需要,對PVA系膜實施膨潤處理、交聯處理、洗淨處理、乾燥處理等。例如,藉由在染色前將PVA系膜浸漬於水中進行水洗,不僅可洗淨PVA系膜表面之污垢、抗結塊劑,亦可使PVA系膜膨潤而防止染色不均等。
作為使用積層體所獲得之偏光元件之具體例,可例舉使用樹脂基材與積層於該樹脂基材之PVA系樹脂層(PVA系樹脂膜)之積層體、或者樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體所獲得之偏光元件。使用樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體所獲得之偏光元件例如可藉由如下步驟製作:將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材,使其乾燥而於樹脂基材上形成PVA系樹脂層,獲得樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體;將該積層體進行延伸及染色而將PVA系樹脂層製成偏光元件。於本實施方式中,較佳為於樹脂基材之單側形成包含鹵化物及聚乙烯醇系樹脂之聚乙烯醇系樹脂層。就代表性而言,延伸包含將積層體浸漬於硼酸水溶液中而延伸。進而,延伸視需要可進而包含在硼酸水溶液中之延伸前將積層體於高溫(例如,95℃以上)下進行空中延伸。除此以外,於本實施方式中,較佳為積層體供於藉由一面沿長度方向搬送一面進行加熱而沿寬度方向收縮2%以上之乾燥收縮處理。就代表性而言,本實施方式之製造方法包含對積層體依序實施空中輔助延伸處理、染色處理、水中延伸處理及乾燥收縮處理。藉由引入輔助延伸,即便於在熱塑性樹脂上塗佈PVA之情形時,亦可提高PVA之結晶性,可達成較高之光學特性。又,同時藉由預先提高PVA之配向性,而於後續之染色工序或延伸工序中浸漬於水時,可防止PVA之配向性之降低或溶解等問題,可達成較高之光學特性。進而,於將PVA系樹脂層浸漬於液體之情形時,與PVA系樹脂層不包含鹵化物之情形相比,可抑制聚乙烯醇分子之配向之混亂、及配向性之降低。藉此,可提高經由染色處理及水中延伸處理等將積層體浸漬於液體中而進行之處理工序所獲得之偏光元件之光學特性。進而,藉由利用乾燥收縮處理使積層體沿寬度方向收縮,可提高光學特性。所獲得之樹脂基材/偏光元件之積層體可直接使用(即,可將樹脂基材作為偏光元件之保護層),亦可自樹脂基材/偏光元件之積層體剝離樹脂基材,於該剝離面積層與目的相應之任意適當之保護層而使用。此種偏光元件之製造方法之詳細內容記載於例如日本專利特開2012-73580號公報(日本專利第5414738號)、日本專利第6470455號中。該等公報之全部記載作為參考而引用於本說明書中。
偏光元件之厚度例如為12 μm以下,較佳為10 μm以下,更佳為8 μm以下,進而較佳為6 μm以下。偏光元件之厚度之下限例如可為1 μm。若偏光元件之厚度為此種範圍,則可良好地抑制加熱時之捲縮,及可獲得良好之加熱時之外觀耐久性。進而,若偏光元件之厚度為此種範圍,則可實現上述所需之總厚度。
偏光元件較佳為於波長380 nm~780 nm之任一波長下表現出吸收二色性。偏光元件之單體透過率例如為41.5%~46.0%,較佳為43.0%~46.0%,較佳為44.5%~46.0%。偏光元件之偏光度較佳為97.0%以上,更佳為99.0%以上,進而較佳為99.9%以上。
B-2.保護層
上述保護層可由任意適當之膜形成。作為成為該膜之主成分之材料之具體例,可例舉:三乙醯纖維素(TAC)等纖維素系樹脂、聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚降𦯉烯系、聚烯烴系、(甲基)丙烯酸系、乙酸酯系等透明樹脂等。又,亦可例舉(甲基)丙烯酸系、胺基甲酸酯系、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、矽酮系等熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。除此以外,例如亦可例舉矽氧烷系聚合物等玻璃質系聚合物。又,亦可使用日本專利特開2001-343529號公報(WO01/37007)中所記載之聚合物膜。作為該膜之材料,例如可使用含有側鏈具有經取代或未經取代之亞胺基之熱塑性樹脂、及側鏈具有經取代或未經取代之苯基以及腈基之熱塑性樹脂的樹脂組合物,例如可例舉具有包含異丁烯及N-甲基順丁烯二醯亞胺之交替共聚物、及丙烯腈-苯乙烯共聚物的樹脂組合物。該聚合物膜例如可為上述樹脂組合物之擠出成形物。
就代表性而言,本發明之實施方式之附相位差層之偏光板配置於有機EL顯示裝置之視認側,上述保護層配置於其視認側。因此,視需要可對保護層實施硬塗處理、抗反射處理、防黏處理、防眩處理等表面處理。
上述保護層之厚度較佳為45 μm以下,更佳為40 μm,進而較佳為35 μm以下。保護層之厚度之下限例如可為10 μm。再者,於實施表面處理之情形時,保護層之厚度為包含表面處理層之厚度在內之厚度。
C.相位差層
於一實施方式中,如C-1.所述,相位差層30具有第1液晶配向固化層31與第2液晶配向固化層32之積層構造。於另一實施方式中,如C-2.所示,相位差層30為液晶配向固化層之單一層。進而,於一實施方式中,如C-3.所示,於相位差層30與黏著劑層40之間進而具備其他相位差層33。
C-1.具有第1液晶配向固化層與第2液晶配向固化層之積層構造之相位差層
C-1-1.第1液晶配向固化層
第1液晶配向固化層31可作為所謂之λ/2板發揮功能。藉由將第1液晶配向固化層設為所謂之λ/2板,將下述第2液晶配向固化層設為所謂之λ/4板,將該等之遲相軸相對於偏光元件之吸收軸設定於特定方向上,可獲得具有於寬頻帶下優異之圓偏振光特性之光學積層體。第1液晶配向固化層之面內相位差Re(550)較佳為200 nm~300 nm,更佳為220 nm~290 nm,進而較佳為250 nm~280 nm。
第1液晶配向固化層之折射率橢球代表性地表現出nx>ny=nz之關係。第1液晶配向固化層31之遲相軸與偏光元件20之吸收軸所成之角度如上述所示,較佳為10°~20°,更佳為13°~17°,進而較佳為約15°。若第1液晶配向固化層之遲相軸與偏光元件之吸收軸所成之角度為此種範圍,則藉由將第1液晶配向固化層及第2液晶配向固化層之面內相位差分別設定為特定之範圍,將第2液晶配向固化層之遲相軸相對於偏光元件之吸收軸以如下所述之特定角度配置,可獲得具有於寬頻帶下非常優異之圓偏振光特性(結果為非常優異之抗反射特性)之光學積層體。
第1液晶配向固化層之厚度較佳為1 μm~7 μm,更佳為1.5 μm~2.5 μm。如上述所示,藉由使用液晶化合物,可使所獲得之光學補償層之nx與ny之差相比於非液晶材料顯著增大,因此可將用於獲得所需之面內相位差之層厚度顯著減小。因此,可以顯著薄於樹脂膜之厚度實現與樹脂膜同等之面內相位差。
就代表性而言,第1液晶配向固化層以棒狀之液晶化合物沿著特定方向排列之狀態配向(水平配向)。可於液晶化合物之配向方向上表現遲相軸。作為液晶化合物,例如可例舉液晶相為向列相之液晶化合物(向列型液晶)。作為此種液晶化合物,例如可使用液晶聚合物、液晶單體。液晶化合物之液晶性之表現機制可為向液性或向熱性之任一者。液晶聚合物及液晶單體可分別單獨使用,亦可組合使用。
於液晶化合物為液晶單體之情形時,該液晶單體較佳為聚合性單體及交聯性單體。原因在於藉由使液晶單體聚合或交聯(即硬化),可將液晶單體之配向狀態固定。使液晶單體配向後,例如若使液晶單體彼此聚合或交聯,則藉此可將上述配向狀態固定。此處,藉由聚合而形成聚合物,藉由交聯而形成立體網狀結構,但該等為非液晶性。因此,所形成之第1液晶配向固化層例如不會因液晶性化合物特有之溫度變化而向液晶相、玻璃相、結晶相轉移。其結果為第1液晶配向固化層成為不受溫度變化影響、穩定性非常優異之層。
液晶單體表現出液晶性之溫度範圍根據其種類而不同。具體而言,該溫度範圍較佳為40℃~120℃,進而較佳為50℃~100℃,最佳為60℃~90℃。
作為上述液晶單體,可採用任意適當之液晶單體。例如,可使用日本專利特表2002-533742(WO00/37585)、EP358208(US5211877)、EP66137(US4388453)、WO93/22397、EP0261712、DE19504224、DE4408171、及GB2280445等中所記載之聚合性液晶原基化合物等。作為此種聚合性液晶原基化合物之具體例,例如可例舉BASF公司之商品名LC242、Merck公司之商品名E7、Wacker-Chem公司之商品名LC-Sillicon-CC3767。作為液晶單體,較佳為例如向列性液晶單體。
第1液晶配向固化層可藉由對特定基材之表面實施配向處理,於該表面塗佈包含液晶化合物之塗佈液而使該液晶化合物於對應於上述配向處理之方向上配向,並將該配向狀態固定而形成。藉由使用此種配向處理,可相對於長條狀基材之長條方向於特定方向上使液晶化合物配向,結果可於所形成之液晶配向固化層之特定方向上表現遲相軸。例如,可於長條狀基材上相對於長條方向於15°之方向上形成具有遲相軸之液晶配向固化層。此種液晶配向固化層即便於需要在斜方向具有遲相軸之情形時,亦可使用卷對卷式進行積層,因此可顯著提高光學積層體之生產性。於一實施方式中,基材為任意適當之樹脂膜,形成於該基材上之配向固化層可轉印於偏光元件之表面。
作為上述配向處理,可採用任意適當之配向處理。具體而言,可例舉機械配向處理、物理配向處理、化學配向處理。作為機械配向處理之具體例,可例舉磨擦處理、延伸處理。作為物理配向處理之具體例,可例舉磁場配向處理、電場配向處理。作為化學配向處理之具體例,可例舉斜向蒸鍍法、光配向處理。各種配向處理之處理條件可根據目的而採用任意適當之條件。
液晶化合物之配向係藉由在根據液晶化合物之種類而呈現液晶相之溫度下處理而進行。藉由進行此種溫度處理,液晶化合物呈液晶狀態,該液晶化合物根據基材表面之配向處理方向而配向。
於一實施方式中,配向狀態之固定係藉由將以上述方式配向之液晶化合物冷卻而進行。於液晶化合物為聚合性單體或交聯性單體之情形時,配向狀態之固定係藉由對以上述方式配向之液晶化合物實施聚合處理或交聯處理而進行。
液晶化合物之具體例及配向固化層之形成方法之詳細內容記載於日本專利特開2006-163343號公報中。該公報之記載作為參考引用於本說明書中。
C-1-2.第2液晶配向固化層
第2液晶配向固化層32可作為所謂之λ/4板發揮功能。藉由將第2液晶配向固化層設為所謂之λ/4板,將第1液晶配向固化層如上述所示地設為所謂之λ/2板,將該等之遲相軸設定於相對於偏光元件之吸收軸之特定方向上,可獲得具有於寬頻帶下優異之圓偏振光特性之光學積層體。如上述所示,第2液晶配向固化層之面內相位差Re(550)較佳為100 nm~190 nm,更佳為110 nm~170 nm,進而較佳為130 nm~150 nm。
第2液晶配向固化層之折射率橢球代表性地表現出nx>ny=nz之關係。如上述所示,第2液晶配向固化層32之遲相軸與偏光元件20之吸收軸所成之角度較佳為70°~80°,更佳為72°~78°,進而較佳為約75°。若第2液晶配向固化層之遲相軸與偏光元件之吸收軸所成之角度為此種範圍,則藉由將第1液晶配向固化層及第2液晶配向固化層之面內相位差分別設定為特定之範圍,將第1液晶配向固化層之遲相軸相對於偏光元件之吸收軸以如上所述之特定角度配置,可獲得具有於寬頻帶下非常優異之圓偏振光特性(結果為非常優異之抗反射特性)之光學積層體。
第2液晶配向固化層之厚度較佳為0.5 μm~2 μm,更佳為1 μm~1.5 μm。
第2液晶配向固化層之構成材料、特性、製造方法等如關於第1液晶配向固化層而在上述C-1-1項中說明所示。
對第1液晶配向固化層31之遲相軸與偏光元件20之吸收軸所成之角度為約15°,第2液晶配向固化層32之遲相軸與偏光元件20之吸收軸所成之角度為約75°的實施方式進行了說明,結果該軸角度之關係亦可相反。具體而言,第1液晶配向固化層31之遲相軸與偏光元件20之吸收軸所成之角度可較佳為70°~80°,更佳為72°~78°,進而較佳為約75°;於該情形時,第2液晶配向固化層32之遲相軸與偏光元件20之吸收軸所成之角度可較佳為10°~20°,更佳為13°~17°,進而較佳為約15°。又,亦可第1液晶配向固化層31為λ/4板,第2液晶配向固化層32為λ/2板。
C-2.液晶配向固化層之單一層
於另一實施方式中,相位差層30為液晶化合物之配向固化層之單一層。該相位差層代表性地可作為λ/4板發揮功能。相位差層代表性地表現出折射率特性為nx>ny=nz之關係。相位差層之面內相位差Re(550)較佳為100 nm~180 nm,更佳為110 nm~160 nm,進而較佳為120 nm~140 nm。再者,此處「ny=nz」不僅包含ny與nz完全相等之情形,還包含實質上相等之情形。因此,於不損及本發明之效果之範圍內,有時可ny>nz或ny<nz。
相位差層之Nz係數較佳為0.9~1.5,更佳為0.9~1.3。
相位差層較佳為表現出相位差值根據測定光之波長而變大之逆波長色散特性。於該情形時,相位差層滿足Re(450)<Re(550)<Re(650)之關係,相位差層之Re(450)/Re(550)較佳為0.8以上且未達1,更佳為0.8以上0.95以下。若為此種構成,則可實現非常優異之抗反射特性。
相位差層之遲相軸與偏光元件之吸收軸所成之角度較佳為35°~55°,更佳為40°~50°,進而較佳為42°~48°,尤佳為約45°。若角度為此種範圍,則藉由如上述所示將相位差層設為λ/4板,則可獲得具有非常優異之抗反射特性之有機EL顯示裝置。
於相位差層30由單一層構成之情形時,其厚度較佳為0.5 μm~7 μm,更佳為1 μm~5 μm。藉由使用液晶化合物,可以顯著薄於樹脂膜之厚度實現與樹脂膜同等之面內相位差。
如上述所示,相位差層30較佳為液晶化合物之配向固化層。藉由使用液晶化合物,可使所獲得之相位差層之nx與ny之差相比於非液晶材料顯著增大,因此可顯著減小用於獲得所需之面內相位差之相位差層之厚度。其結果可實現附相位差層之偏光板之進一步薄型化。
作為液晶化合物之配向固化層之相位差層可使用包含聚合性液晶化合物之組合物而形成。於本說明書中,組合物中所包含之聚合性液晶化合物指具有聚合性基,且具有液晶性之化合物。聚合性基意指參與聚合反應之基,較佳為光聚合性基。此處,光聚合性基指可藉由自光聚合起始劑產生之活性自由基或酸等參與聚合反應之基。
液晶性之表現可為向熱性,亦可為向液性。又,作為液晶相之構成,可為向列型液晶,亦可為層列型液晶。就製造之容易性之觀點而言,液晶性較佳為向熱性之向列型液晶。
於一實施方式中,作為單一層之相位差層係使用包含下述式(1)所表示之液晶化合物之組合物而形成。
L
1-SP
1-A
1-D
3-G
1-D
1-Ar-D
2-G
2-D
4-A
2-SP
2-L
2(1)
L
1及L
2分別獨立地表示一價有機基,L
1及L
2之至少一者表示聚合性基。作為一價有機基,包含任意適當之基。作為L
1及L
2之至少一者所表示之聚合性基,可例舉自由基聚合性基(可自由基聚合之基)。作為自由基聚合性基,可使用任意適當之自由基聚合性基。較佳為丙烯醯基或甲基丙烯醯基。就聚合速度較快,生產性提高之觀點而言,較佳為丙烯醯基。甲基丙烯醯基亦可同樣地用作高雙折射性液晶之聚合性基。
SP
1及SP
2分別獨立地表示單鍵、直鏈狀或支鏈狀之伸烷基、或構成碳數1~14之直鏈狀或支鏈狀伸烷基之-CH
2-之1個以上被取代為-O-之二價連結基。作為碳數1~14之直鏈狀或支鏈狀之伸烷基,較佳為可例舉亞甲基、伸乙基、伸丙基、伸丁基、伸戊基及伸己基。
A
1及A
2分別獨立地表示脂環式烴基或芳香族環取代基。A
1及A
2較佳為碳數6以上之芳香族環取代基或碳數6以上之伸環烷基環。
D
1、D
2、D
3及D
4分別獨立地表示單鍵或二價連結基。具體而言,D
1、D
2、D
3及D
4表示單鍵、-O-CO-、-C(=S)O-、-CR
1R
2-、-CR
1R
2-CR
3R
4-、-O-CR
1R
2-、-CR
1R
2-O-CR
3R
4-、-CO-O-CR
1R
2-、-O-CO-CR
1R
2-、-CR
1R
2-O-CO-CR
3R
4-、-CR
1R
2-CO-O-CR
3R
4-、-NR
1-CR
2R
3-、或-CO-NR
1-。但是,D
1、D
2、D
3及D
4之至少一者表示-O-CO-。其中,較佳為D
3為-O-CO-,更佳為D
3及D
4為-O-CO-。D
1及D
2較佳為單鍵。R
1、R
2、R
3及R
4分別獨立地表示氫原子、氟原子、或碳數1~4之烷基。
G
1及G
2分別獨立地表示單鍵或脂環式烴基。具體而言,G
1及G
2可表示未經取代或經取代之碳數5~8之二價脂環式烴基。又,構成脂環式烴基之-CH
2-之1個以上可被取代為-O-、-S-或-NH-。G
1及G
2較佳為表示單鍵。
Ar表示芳香族烴環或芳香族雜環。Ar例如表示選自由下述式(Ar-1)~(Ar-6)所表示之基所組成之群中之芳香族環。再者,下述式(Ar-1)~(Ar-6)中,*1表示與D
1之鍵結位置,*2表示與D
2之鍵結位置。
[化1]
式(Ar-1)中,Q
1表示N或CH,Q
2表示-S-、-O-、或-N(R
5)-。R
5表示氫原子或碳數1~6之烷基。
式(Ar-1)~(Ar-6)中,Z
1、Z
2及Z
3分別獨立地表示氫原子、碳數1~20之一價脂肪族烴基、碳數3~20之一價脂環式烴基、碳數6~20之一價芳香族烴基、鹵素原子、氰基、硝基、-NR
6R
7、或-SR
8。R
6~R
8分別獨立地表示氫原子或碳數1~6之烷基,Z
1及Z
2可互相鍵結而形成環。環可為脂環式、雜環、及芳香族環之任一者,較佳為芳香族環。所形成之環中,取代基可被取代。
式(Ar-2)及(Ar-3)中,A
3及A
4分別獨立地表示由-O-、-N(R
9)-、-S-、及-CO-所組成之群中之基,R
9表示氫原子或取代基。作為R
9所表示之取代基,可例舉與上述式(Ar-1)中之Y
1可具有之取代基相同者。
式(Ar-2)中,X表示氫原子或者未經取代或具有取代基之第14~16族之非金屬原子。作為X所表示之第14族~第16族之非金屬原子,例如可例舉:氧原子、硫原子、未經取代或具有取代基之氮原子、未經取代或具有取代基之碳原子。作為取代基,可例舉與上述式(Ar-1)中之Y
1可具有之取代基相同者。
式(Ar-3)中,D
5及D
6分別獨立地表示單鍵、-O-CO-、-C(=S)O-、-CR
1R
2-、-CR
1R
2-CR
3R
4-、-O-CR
1R
2-、-CR
1R
2-O-CR
3R
4-、-CO-O-CR
1R
2-、-O-CO-CR
1R
2-、-CR
1R
2-O-CO-CR
3R
4-、-CR
1R
2-CO-O-CR
3R
4-、-NR
1-CR
2R
3-、或-CO-NR
1-。R
1、R
2、R
3及R
4如上述所示。
式(Ar-3)中,SP
3及SP
4分別獨立地表示單鍵、碳數1~12之直鏈狀或支鏈狀之伸烷基、或者構成碳數1~12之直鏈狀或支鏈狀之伸烷基之-CH
2-之1個以上被取代為-O-、-S-、-NH-、-N(Q)-、或-CO-之二價連結基,Q表示聚合性基。
式(Ar-3)中,L
3及L
4分別獨立地表示一價有機基,L
3及L
4以及上述式(1)中之L
1及L
2之至少1者表示聚合性基。
式(Ar-4)~(Ar-6)中,Ax表示具有選自由芳香族烴環及芳香族雜環所組成之群中之至少1個芳香族環之碳數2~30之有機基。式(Ar-4)~(Ar-6)中,Ax較佳為具有芳香族雜環,更佳為具有苯并噻唑環。式(Ar-4)~(Ar-6)中,Ay表示氫原子、未經取代或可具有取代基之碳數1~6之烷基、或具有選自由芳香族烴環及芳香族雜環所組成之群中之至少1個芳香族環之碳數2~30之有機基。式(Ar-4)~(Ar-6)中,Ay較佳為表示氫原子。
式(Ar-4)~(Ar-6)中,Q
3表示氫原子、或者未經取代或可具有取代基之碳數1~6之烷基。式(Ar-4)~(Ar-6)中,Q
3較佳為表示氫原子。
此種Ar之中,較佳為可例舉上述式(Ar-4)或上述式(Ar-6)所表示之基(原子團)。
上述式(1)所表示之液晶化合物之具體例揭示於國際公開第2018/123551號公報中。該公報之記載作為參考引用於本說明書中。該等化合物可僅使用1種,亦可組合2種以上使用。
C-3.其他相位差層
本發明之另一實施方式中之附相位差層之偏光板可於相位差層30與黏著劑層40之間進而具備其他相位差層33。其他相位差層可較佳為表現出nz>nx=ny之折射率特性之所謂正C板。若使用正C板作為其他相位差層,則可良好地防止斜方向之反射,可實現抗反射功能之廣視角化。於該情形時,其他相位差層之厚度方向之相位差Rth(550)較佳為-50 nm~-300 nm,更佳為-70 nm~-250 nm,進而較佳為-90 nm~-200 nm,尤佳為-100 nm~-180 nm。此處,「nx=ny」不僅包含nx與ny嚴格相等之情形,亦包含nx與ny實質上相等之情形。即,其他相位差層之面內相位差Re(550)可未達10 nm。
具有nz>nx=ny之折射率特性之其他相位差層可由任意適當之材料形成。其他相位差層較佳為由包含固定於垂直配向之液晶材料之膜構成。可垂直配向之液晶材料(液晶化合物)可為液晶單體,亦可為液晶聚合物。作為該液晶化合物及該液晶配向固化層之形成方法之具體例,可例舉日本專利特開2002-333642號公報(日本專利第4174192號)之[0020]~[0028]中所記載之液晶化合物及該液晶配向固化層之形成方法。於該情形時,其他相位差層之厚度較佳為0.5 μm~10 μm,更佳為0.5 μm~8 μm,進而較佳為0.5 μm~5 μm。
D.黏著劑層
於本案發明之實施方式之附相位差層之偏光板中,其黏著劑層之玻璃轉移溫度為-60℃以上-40℃以下,較佳為-60℃以上-45℃以下,進而較佳為-50℃以上-45℃以下。若黏著劑層之玻璃轉移溫度為此種範圍內,則可獲得抑制於低溫環境下彎曲時之龜裂產生之附相位差層之偏光板。
黏著劑層之厚度較佳為10 μm以上,進而較佳為20 μm以上。黏著劑層之厚度之上限例如可為100 μm。
形成上述黏著劑層之黏著劑代表性地包含基礎聚合物。基礎聚合物係於黏著劑層中表現黏著性之黏著成分。作為基礎聚合物,例如可例舉:丙烯酸聚合物、矽酮聚合物、聚酯聚合物、聚胺基甲酸酯聚合物、聚醯胺聚合物、聚乙烯醚聚合物、乙酸乙烯酯/氯乙烯共聚物、改性聚烯烴聚合物、環氧聚合物、氟聚合物、及橡膠聚合物。基礎聚合物可單獨使用,亦可併用兩種以上。就確保黏著劑層之良好之透明性及黏著性之觀點而言,作為基礎聚合物,較佳為使用丙烯酸聚合物。
丙烯酸聚合物係以50重量%以上之比率包含(甲基)丙烯酸烷基酯之單體成分之共聚物。「(甲基)丙烯酸」意指丙烯酸及/或甲基丙烯酸。
作為(甲基)丙烯酸烷基酯,較佳為適宜地使用烷基之碳數為1~20之(甲基)丙烯酸烷基酯,更佳為適宜地使用烷基之碳數為10~20之(甲基)丙烯酸烷基酯。(甲基)丙烯酸烷基酯可具有直鏈狀或支鏈狀之烷基,亦可具有脂環式烷基等環狀烷基。
作為具有直鏈狀或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯,例如可例舉:(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸新戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷基酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯(即丙烯酸月桂酯)、(甲基)丙烯酸異十三烷基酯、(甲基)丙烯酸十四烷基酯、(甲基)丙烯酸異十四烷基酯、(甲基)丙烯酸十五烷基酯、(甲基)丙烯酸十六烷基酯、(甲基)丙烯酸十七烷基酯、(甲基)丙烯酸十八烷基酯、(甲基)丙烯酸異十八烷基酯、及(甲基)丙烯酸十九烷基酯。
於本發明之實施方式中,可適宜地使用具有支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯。作為具有支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯,較佳為使用具有碳數6~10之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯,更佳為使用具有碳數7~9之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯。較佳為可使用(甲基)丙烯酸2-乙基己酯。
作為具有脂環式烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯,例如可例舉:(甲基)丙烯酸環烷基酯、具有二環式脂肪族烴環之(甲基)丙烯酸酯、及具有三環以上脂肪族烴環之(甲基)丙烯酸酯。作為(甲基)丙烯酸環烷基酯,例如可例舉:(甲基)丙烯酸環戊酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸環庚酯、及(甲基)丙烯酸環辛酯。作為具有二環式脂肪族烴環之(甲基)丙烯酸酯,例如可例舉(甲基)丙烯酸異𦯉基酯。作為具有三環以上脂肪族烴環之(甲基)丙烯酸酯,例如可例舉:(甲基)丙烯酸二環戊酯、(甲基)丙烯酸二環戊氧基乙酯、(甲基)丙烯酸三環戊酯、(甲基)丙烯酸1-金剛烷基酯、(甲基)丙烯酸2-甲基-2-金剛烷基酯、及(甲基)丙烯酸2-乙基-2-金剛烷基酯。
作為(甲基)丙烯酸烷基酯,較佳為使用具有碳數3~15之烷基之丙烯酸烷基酯,更佳為使用選自由丙烯酸正丁酯、丙烯酸2-乙基己酯、及丙烯酸十二烷基酯(即丙烯酸月桂酯)所組成之群中之至少一者。
相對於丙烯酸系基礎聚合物之單體成分之合計100重量份,就於黏著劑層中適當表現黏著性等基本特性之觀點而言,(甲基)丙烯酸烷基酯之量較佳為50重量份以上,更佳為60重量份以上,進而較佳為70重量份以上。該比率例如為99重量份以下。
相對於丙烯酸系基礎聚合物之單體成分之合計100重量份,(甲基)丙烯酸C
3-5鏈狀烷基酯之量較佳為10重量份~30重量份,更佳為15重量份~25重量份。尤佳為丙烯酸正丁酯之量為上述範圍。
相對於丙烯酸系基礎聚合物之單體成分之合計100重量份,(甲基)丙烯酸C
6-10支鏈狀烷基酯之量較佳為50重量份~90重量份,更佳為60重量份~80重量份。尤佳為(甲基)丙烯酸2-乙基己酯之量為上述範圍。
相對於丙烯酸系基礎聚合物之單體成分之合計100重量份,(甲基)丙烯酸C
10-20鏈狀烷基酯之量較佳為1重量份~30重量份,更佳為5重量份~20重量份,進而較佳為6重量份~10重量份。尤佳為丙烯酸十二烷基酯(即丙烯酸月桂酯)之量為上述範圍。
單體成分可包含可與(甲基)丙烯酸烷基酯共聚之共聚性單體。作為共聚性單體,例如可例舉具有極性基之單體。作為含極性基單體,例如可例舉具有含氮原子環之單體、含羥基單體、及含羧基單體。含極性基單體有助於對丙烯酸聚合物之交聯點之導入、丙烯酸聚合物之凝集力之確保等丙烯酸聚合物之改質。
作為具有含氮原子環之單體,例如可例舉:N-乙烯基-2-吡咯啶酮、N-甲基乙烯基吡咯啶酮、N-乙烯基吡啶、N-乙烯基哌啶酮、N-乙烯基嘧啶、N-乙烯基哌𠯤、N-乙烯基吡𠯤、N-乙烯基吡咯、N-乙烯基咪唑、N-乙烯基㗁唑、N-(甲基)丙烯醯基-2-吡咯啶酮、N-(甲基)丙烯醯基哌啶、N-(甲基)丙烯醯基吡咯啶、N-乙烯基𠰌啉、N-乙烯基-3-𠰌啉酮、N-乙烯基-2-己內醯胺、N-乙烯基-1,3-㗁𠯤-2-酮、N-乙烯基-3,5-𠰌啉二酮、N-乙烯基吡唑、N-乙烯基異㗁唑、N-乙烯基噻唑、及N-乙烯基異噻唑。作為具有含氮原子環之單體,較佳為使用N-乙烯基-2-吡咯啶酮。
相對於丙烯酸系基礎聚合物之單體成分之合計100重量份,就確保黏著劑層之凝集力、及確保黏著劑層之對被黏著體密接力之觀點而言,具有含氮原子環之單體之量較佳為0.1重量份以上,更佳為0.3重量份以上,進而較佳為0.55重量份以上。該比率就丙烯酸聚合物之玻璃轉移溫度之調整、及丙烯酸聚合物之極性(和黏著劑層中之各種添加劑成分與丙烯酸聚合物之相容性有關)之調整之觀點而言,較佳為1.5重量份以下,更佳為1.0重量份以下。
作為含羥基單體,例如可例舉:(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸8-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥基月桂酯、及(甲基)丙烯酸(4-羥甲基環己基)甲酯。作為含羥基單體,較佳為使用(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯,更佳為使用丙烯酸4-羥基丁酯。
相對於丙烯酸系基礎聚合物之單體成分之合計100重量份,就對丙烯酸聚合物之交聯結構之導入、及黏著劑層之凝集力之確保之觀點而言,含羥基單體之量較佳為0.1重量份以上,更佳為0.5重量份以上,進而較佳為0.8重量份以上。就丙烯酸聚合物之極性(和黏著劑層中之各種添加劑成分與丙烯酸聚合物之相容性有關)之調整之觀點而言,該比率較佳為5重量份以下,更佳為3重量份以下。
作為含羧基單體,例如可例舉:丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸羧基乙酯、丙烯酸羧基戊酯、伊康酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、丁烯酸、及異丁烯酸。
相對於丙烯酸系基礎聚合物之單體成分之合計100重量份,就對丙烯酸聚合物之交聯結構之導入、黏著劑層之凝集力之確保、及黏著劑層之對被黏著體密接力之確保之觀點而言,含羧基單體之量較佳為0.1重量份以上,更佳為0.5重量份以上,進而較佳為0.8重量份以上。就丙烯酸聚合物之玻璃轉移溫度之調整、及避免由酸引起之被黏著體之腐蝕風險之觀點而言,該比率較佳為30重量份以下,更佳為20重量份以下。
相對於丙烯酸系基礎聚合物之單體成分之合計100重量份,含極性基單體之量較佳為1重量份以上,可為1.5重量份以上。另一方面,隨著極性單體之含量變大,基礎聚合物之偶極矩變大,相對介電常數變高。又,若極性單體之含量過大,則有聚合物之玻璃轉移溫度變高,低溫下之接著力降低之傾向。因此,相對於丙烯酸系基礎聚合物之單體成分之合計100重量份,含極性基單體之量較佳為30重量份以下,可為25重量份以下。
單體成分亦可包含其他共聚性單體。作為其他共聚性單體,例如可例舉:酸酐單體、含磺酸基單體、含磷酸基單體、含環氧基單體、含氰基單體、含烷氧基單體、及芳香族乙烯系化合物。該等其他共聚性單體可單獨使用,亦可併用兩種以上。
丙烯酸聚合物可藉由使單體成分聚合而形成。作為聚合方法,例如可例舉:溶液聚合、活性能量線聚合(例如UV(ultraviolet,紫外線)聚合)、塊狀聚合、及乳化聚合。就黏著劑層之透明性、耐水性、及成本之觀點而言,較佳為溶液聚合。作為溶液聚合之溶劑,例如使用乙酸乙酯及甲苯。又,作為聚合之起始劑,例如使用熱聚合起始劑及光聚合起始劑。聚合起始劑之使用量相對於單體成分100重量份,例如為0.05重量份以上,又,例如為1重量份以下。
就確保黏著劑層之凝集力之觀點而言,丙烯酸聚合物之重量平均分子量較佳為10萬以上,更佳為30萬以上,進而較佳為50萬以上。該重量平均分子量較佳為500萬以下,更佳為300萬以下,進而較佳為200萬以下。丙烯酸聚合物之重量平均分子量係藉由凝膠滲透層析儀(GPC)進行測定並利用聚苯乙烯換算而算出。
基礎聚合物之玻璃轉移溫度(Tg)較佳為0℃以下,更佳為-10℃以下,進而較佳為-20℃以下。該玻璃轉移溫度例如為-80℃以上。
黏著劑組合物除基礎聚合物以外,亦可包含一種或兩種以上之低聚物。於使用丙烯酸聚合物作為基礎聚合物之情形時,較佳為使用丙烯酸低聚物作為低聚物。丙烯酸低聚物係以50重量%以上之比率包含(甲基)丙烯酸烷基酯之單體成分之共聚物,重量平均分子量例如為1000以上30000以下。
黏著劑組合物可含有交聯劑。作為交聯劑,例如可例舉與基礎聚合物中所含之官能基(羥基及羧基等)進行反應之化合物。作為此種交聯劑,例如可例舉:異氰酸酯交聯劑、過氧化物交聯劑、環氧交聯劑、㗁唑啉交聯劑、氮丙啶交聯劑、碳二醯亞胺交聯劑、及金屬螯合物交聯劑。交聯劑可單獨使用,亦可併用兩種以上。作為交聯劑,就與基礎聚合物中之羥基及羧基之反應性較高且容易導入交聯結構之方面而言,較佳為異氰酸酯交聯劑、過氧化物交聯劑、及環氧交聯劑。
作為異氰酸酯交聯劑,例如可例舉:甲苯二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯、氫化苯二甲基二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、氫化二苯基甲烷二異氰酸酯、四甲基苯二甲基二異氰酸酯、萘二異氰酸酯、三苯基甲烷三異氰酸酯、及多亞甲基多苯基異氰酸酯。又,作為異氰酸酯交聯劑,亦可例舉該等異氰酸酯之衍生物。作為該異氰酸酯衍生物,例如可例舉異氰尿酸酯改性體及多元醇改性體。作為異氰酸酯交聯劑之市售品,例如可例舉:Coronate L(甲苯二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物,東曹製造)、Coronate HL(六亞甲基二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物,東曹製造)、Coronate HX(六亞甲基二異氰酸酯之異氰尿酸酯體,東曹製造)、及Takenate D110N(苯二甲基二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物,三井化學製造)。
作為過氧化物交聯劑,可例舉:過氧化二苯甲醯、過氧化二碳酸二(2-乙基己基)酯、過氧化二碳酸二(4-第三丁基環己基)酯、過氧化二碳酸二-第二丁酯、過氧化新癸酸第三丁酯、過氧化特戊酸第三己酯、及過氧化特戊酸第三丁酯。
作為環氧交聯劑,可例舉:雙酚A、表氯醇型之環氧樹脂、伸乙基縮水甘油醚、聚乙二醇二縮水甘油醚、甘油二縮水甘油醚、甘油三縮水甘油醚、1,6-己二醇縮水甘油醚、三羥甲基丙烷三縮水甘油醚、二縮水甘油基苯胺、二胺縮水甘油胺、N,N,N',N'-四縮水甘油基間苯二甲胺、及1,3-雙(N,N-二縮水甘油基胺甲基)環己烷。
黏著劑組合物可含有矽烷偶合劑。黏著劑組合物中之矽烷偶合劑之含量相對於基礎聚合物100重量份,較佳為0.1重量份以上,更佳為0.2重量份以上。該含量較佳為5重量份以下,更佳為3重量份以下。
黏著劑組合物可視需要含有其他成分。作為其他成分,例如可例舉:黏著賦予劑、塑化劑、軟化劑、抗劣化劑、填充劑、著色劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、界面活性劑、及抗靜電劑。
[實施例]
以下,藉由實施例對本發明具體地進行說明,但本發明並不限定於該等實施例。各特性之測定方法如下所示。再者,只要無特殊說明,則實施例及比較例中之「份」及「%」為重量基準。
(1)厚度
10 μm以下之厚度係使用干涉膜厚計(大塚電子公司製造,製品名「MCPD-3000」)進行測定。超過10 μm之厚度係使用數位式測微計(安立公司製造,製品名「KC-351C」)進行測定。
(2)玻璃轉移溫度
使用黏彈性測定裝置(TA Instruments Japan股份有限公司製造,製品名「DHR」),固定於平行板之治具後進行動態黏彈性測定。於本測定中,將測定模式設為剪切模式,將測定溫度範圍設為-50℃~150℃,將升溫速度設為5℃/分鐘,將頻率設為1 Hz。自測定結果讀取損耗正切tanδ(=損失彈性模數G"/儲存彈性模數G'),將損耗正切tanδ成為極大之溫度作為黏著片之玻璃轉移溫度。
(3)耐彎曲性
自實施例及比較例中所獲得之附相位差層之偏光板切割100 mm×30 mm之樣品作為測定樣品,使用彎曲試驗機(Yuasa System機器(股)公司製造,製品名「CL09 Type D01」)進行測定。測定溫度設為-40℃。彎曲直徑ϕ=3 mm,彎曲次數設為100,000次、300,000次及500,000次,彎曲方向設為向內彎曲,進行測定,按下述基準進行評價。
良:於彎曲試驗後未產生龜裂,亦無折痕
可:於彎曲試驗後未產生龜裂,但有折痕
不良:於彎曲試驗後產生龜裂
(4)蠕變值
將實施例及比較例中使用之黏著劑形成於平行板上使厚度為1 mm,打穿為直徑8 mm之圓形作為測定樣品。關於所獲得之測定樣品,供於黏彈性測定裝置(TA Instruments Japan股份有限公司製造,製品名「DHR」),將施加10 kPa之壓力達10分鐘,其後10分鐘不施加壓力而釋放後之最大應變作為蠕變值(%)。
(5)糊劑偏移量
自實施例及比較例中所獲得之附相位差層之偏光板切割5 cm×5 cm之樣品作為測定樣品。關於所獲得之測定樣品,使用微分干涉顯微鏡(Olympus公司製造之FPD檢查顯微鏡 MX63L)對使用輥貼合於玻璃板(無鹼玻璃)時之糊劑偏移量進行測定,按下述基準進行評價。再者,輥重量設為1 kg,貼合側後設為5 cm/sec。
良:糊劑偏移量未達300 μm
不良:糊劑偏移量為300 μm以上
[製造例1]黏著劑層A之製作
1.丙烯酸基礎聚合物之製備
於具備攪拌機、溫度計、回流冷卻器、及氮氣導入管之反應容器內,將包含丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)70重量份、丙烯酸正丁酯(BA)20重量份、丙烯酸月桂酯(LA)8重量份、丙烯酸4-羥基丁酯(4HBA)1重量份、N-乙烯基-2-吡咯啶酮(NVP)0.6重量份、作為熱聚合起始劑之2,2'-偶氮二異丁腈(AIBN)0.1重量份、及作為溶劑之乙酸乙酯的混合物(固形物成分濃度47重量%)於56℃下、於氮氣氛圍下攪拌6小時(聚合反應)。藉此,獲得含有丙烯酸基礎聚合物之聚合物溶液。該聚合物溶液中之丙烯酸基礎聚合物之重量平均分子量為約200萬。
2.黏著劑組合物之製備
於聚合物溶液中,該聚合物溶液之固形物成分每100重量份添加第1丙烯酸低聚物1.5重量份、第1交聯劑(商品名「Nyper BMT-40SV」,過氧化二苯甲醯,日本油脂公司製造)0.26重量份、第2交聯劑(商品名「Coronate L」,三羥甲基丙烷/甲苯二異氰酸酯三聚物加成物,東曹製造)0.02重量份、及矽烷偶合劑(商品名「KBM403」,信越化學工業公司製造)0.3重量份進行混合,製備黏著劑組合物。
3.黏著劑層A之形成
於單面經矽酮剝離處理之第1剝離襯墊之剝離處理面上塗佈黏著劑組合物A形成塗膜。第1剝離襯墊係單面經矽酮剝離處理之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜(商品名「DIAFOIL MRF#75」,厚度75 μm,三菱化學公司製造)。其次,於第1剝離襯墊上之塗膜貼合單面經矽酮剝離處理之第2剝離襯墊之剝離處理面。第2剝離襯墊係單面經矽酮剝離處理之PET膜(商品名「DIAFOIL MRF#75」,厚度75 μm,三菱化學公司製造)。其次,將第1剝離襯墊上之塗膜藉由在100℃下加熱1分鐘及其後在150℃下加熱3分鐘而乾燥,形成厚度25 μm之透明黏著劑層A。將所獲得之黏著劑層A供於上述(2)及(4)之評價。將結果示於表1。
[製造例2]黏著劑層B之製作
1.丙烯酸基礎聚合物之製備
對包含丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)56重量份、丙烯酸月桂酯(LA)34重量份、丙烯酸4-羥基丁酯(4HBA)7重量份、N-乙烯基-2-吡咯啶酮(NVP)2重量份、及光聚合起始劑(商品名「Omnirad 184」IGM Resins公司製造)0.015重量份之混合物照射紫外線(聚合反應),獲得預聚物組合物(聚合率為約10%)(預聚物組合物含有未經過聚合反應之單體成分)。
2.黏著劑組合物之製備
其次,將預聚物組合物100重量份、1,6-己二醇二丙烯酸酯(HDDA)0.08重量份、第2丙烯酸低聚物1重量份、及矽烷偶合劑(商品名「KBM403」,信越化學工業公司製造)0.3重量份進行混合,製備光硬化性之黏著劑組合物。
3.黏著劑層B之形成
於單面經矽酮剝離處理之第1剝離襯墊之剝離處理面上塗佈黏著劑組合物B形成塗膜。第1剝離襯墊係單面經矽酮剝離處理之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜(商品名「DIAFOIL MRF#75」,厚度75 μm,三菱化學公司製造)。其次,於第1剝離襯墊上之塗膜貼合單面經矽酮剝離處理之第2剝離襯墊之剝離處理面。第2剝離襯墊係單面經矽酮剝離處理之PET膜(商品名「DIAFOIL MRF#75」,厚度75 μm,三菱化學公司製造)。其次,隔著第2剝離襯墊對塗膜照射紫外線,使塗膜紫外線硬化。紫外線照射使用黑光燈。紫外線之照射強度設為5 mW/cm
2。所獲得之黏著劑層B之厚度為25 μm。將所獲得之黏著劑層B供於上述(2)及(4)之評價。將結果示於表1。
[製造例3]黏著劑層C之製作
1.丙烯酸基礎聚合物之製備
對包含丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)44重量份、丙烯酸月桂酯(LA)43重量份、丙烯酸4-羥基丁酯(4HBA)6重量份、N-乙烯基-2-吡咯啶酮(NVP)7重量份、及光聚合起始劑(商品名「Omnirad 184」IGM Resins公司製造)0.015重量份之混合物照射紫外線(聚合反應),獲得預聚物組合物(聚合率為約10%)(預聚物組合物含有未經過聚合反應之單體成分)。
2.黏著劑組合物之製備
其次,將預聚物組合物100重量份、1,6-己二醇二丙烯酸酯(HDDA)0.08重量份、第2丙烯酸低聚物1重量份、及矽烷偶合劑(商品名「KBM403」,信越化學工業公司製造)0.3重量份進行混合,製備光硬化性之黏著劑組合物。
3.黏著劑層C之形成
於單面經矽酮剝離處理之第1剝離襯墊之剝離處理面上塗佈黏著劑組合物C形成塗膜。第1剝離襯墊係單面經矽酮剝離處理之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜(商品名「DIAFOIL MRF#75」,厚度75 μm,三菱化學公司製造)。其次,於第1剝離襯墊上之塗膜貼合單面經矽酮剝離處理之第2剝離襯墊之剝離處理面。第2剝離襯墊係單面經矽酮剝離處理之PET膜(商品名「DIAFOIL MRF#75」,厚度75 μm,三菱化學公司製造)。其次,隔著第2剝離襯墊對塗膜照射紫外線,使塗膜紫外線硬化。紫外線照射使用黑光燈。紫外線之照射強度設為5 mW/cm
2。所獲得之黏著劑層C之厚度為25 μm。將所獲得之黏著劑層C供於上述(2)及(4)之評價。將結果示於表1。
[製造例4]黏著劑層D之製作
1.丙烯酸系聚合物之製備
於具備攪拌翼、溫度計、氮氣導入管、冷卻器之四口燒瓶中,添加含有丙烯酸丁酯(BA)94.9重量份、丙烯酸2-羥基乙酯(HEA)0.1重量份及丙烯酸(AA)5重量份之單體混合物。進而,相對於上述單體混合物(固形物成分)100重量份,將作為聚合起始劑之2,2'-偶氮二異丁腈0.2重量份與乙酸乙酯一起加入,一面緩慢攪拌一面導入氮氣進行氮氣置換後,將燒瓶內之液溫保持於55℃附近而進行7小時聚合反應。其後,於所獲得之反應液中添加乙酸乙酯,製備調整為固形物成分濃度30%之重量平均分子量220萬之丙烯酸系聚合物溶液。
2.黏著劑組合物之製備
相對於所獲得之丙烯酸系聚合物溶液之固形物成分100重量份,添加作為交聯劑之三羥甲基丙烷/甲苯二異氰酸酯三聚物加成物(日本聚胺基甲酸酯工業公司製造,商品名「Coronate L」)0.6重量份、矽烷偶合劑(商品名:KBM403,信越化學工業(股)製)0.2重量份並進行攪拌,藉此獲得黏著劑組合物。
3.黏著劑層D之形成
將上述丙烯酸系黏著劑組合物用噴注式塗佈機均勻地塗佈於包含由矽酮系剝離劑處理後之厚度38 μm之聚對苯二甲酸乙二酯膜(PET膜,透明基材)之離型膜之表面,於155℃之空氣循環式恆溫烘箱中乾燥2分鐘,形成厚度15 μm之黏著劑層D。將所獲得之黏著劑層D供於上述(2)及(4)之評價。將結果示於表1。
[製造例5]黏著劑層E之製作
1.丙烯酸系聚合物之製備
於具備攪拌翼、溫度計、氮氣導入管、冷卻器之四口燒瓶中,添加含有丙烯酸丁酯(BA)99重量份、丙烯酸4-羥基丁酯(HBA)1重量份之單體混合物。進而,相對於單體混合物100重量份,將作為聚合起始劑之2,2'-偶氮二異丁腈(AIBN)0.1重量份與乙酸乙酯一起加入,一面緩慢攪拌一面導入氮氣進行氮氣置換後,將燒瓶內之液溫保持於55℃附近進行7小時聚合反應。其後,於所獲得之反應液中添加乙酸乙酯,製備調整為固形物成分濃度30%之重量平均分子量180萬之丙烯酸系聚合物溶液。
2.黏著劑組合物之製備
相對於所獲得之丙烯酸系聚合物溶液之固形物成分100份,依序調配0.1份之三羥甲基丙烷/苯二甲基二異氰酸酯加成物(東曹公司製造,商品名「Takenate D110N」)及0.3份之過氧化物交聯劑(日本油脂公司製造,商品名「Nyper BMT」),獲得黏著劑組合物。
3.黏著劑層E之形成
將上述丙烯酸系黏著劑組合物用噴注式塗佈機均勻地塗佈於包含由矽酮系剝離劑處理後之厚度38 μm之聚對苯二甲酸乙二酯膜(PET膜,透明基材)之離型膜之表面,於155℃之空氣循環式恆溫烘箱中乾燥2分鐘,形成厚度15 μm之黏著劑層E。將所獲得之黏著劑層E供於上述(2)及(4)之評價。將結果示於表1。
[實施例1]
1.偏光元件之製作
使用長條狀、吸水率0.75%、Tg約75℃之非晶質之間苯二甲酸共聚聚對苯二甲酸乙二酯膜(厚度:100 μm)作為熱塑性樹脂基材。於樹脂基材之單面實施電暈處理。
於聚乙烯醇(聚合度4200,皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改性PVA(日本合成化學工業公司製造、商品名「GOHSEFIMER Z410」)以9:1混合之PVA系樹脂100重量份中,添加碘化鉀13重量份,將所得者溶於水中,製備PVA水溶液(塗佈液)。
藉由在樹脂基材之電暈處理面塗佈上述PVA水溶液並於60℃下進行乾燥,形成厚度13 μm之PVA系樹脂層,製作積層體。
將所獲得之積層體於130℃之烘箱內於周速不同之輥間沿縱向(長度方向)自由端單軸延伸為2.4倍(空中輔助延伸處理)。
繼而,使積層體於液溫40℃之不溶化浴(相對於水100重量份,調配4重量份之硼酸所獲得之硼酸水溶液)中浸漬30秒(不溶化處理)。
繼而,於液溫30℃之染色浴(相對於水100重量份,將碘與碘化鉀以1:7之重量比調配所獲得之碘水溶液)中,以最終獲得之偏光元件之單體透過率(Ts)成為43.0%以上之方式調整濃度並且浸漬60秒(染色處理)。
繼而,於液溫40℃之交聯浴(相對於水100重量份,調配3重量份之碘化鉀,並調配5重量份之硼酸所獲得之硼酸水溶液)中浸漬30秒(交聯處理)。
其後,將積層體浸漬於液溫70℃之硼酸水溶液(硼酸濃度4.0重量%、碘化鉀濃度5重量%)中,並且於周速不同之輥間沿縱向(長度方向)進行單軸延伸使總延伸倍率成為5.5倍(水中延伸處理)。
其後,將積層體浸漬於液溫20℃之洗淨浴(相對於水100重量份,調配4重量份之碘化鉀所獲得之水溶液)中(洗淨處理)。
其後,於保持為90℃之烘箱中進行乾燥,並且與表面溫度保持為75℃之SUS(Steel Use Stainless,日本不鏽鋼標準)製之加熱輥接觸約2秒(乾燥收縮處理)。乾燥收縮處理所造成之積層體之寬度方向之收縮率為5.2%。
如此,於樹脂基材上形成厚度5 μm之偏光元件。
2.偏光板之製作
於上述所獲得之偏光元件表面經由PVA系接著劑貼合丙烯酸系樹脂膜(厚度20 μm)。如此,獲得具有丙烯酸系樹脂膜/接著劑/偏光元件之構成之偏光板。
3.第1液晶配向固化層及第2液晶配向固化層之製作
將表現出向列型液晶相之聚合性液晶(BASF公司製造:商品名「Paliocolor LC242」,由下述式表示)10 g、及相對於該聚合性液晶化合物之光聚合起始劑(BASF公司製造:商品名「Irgacure 907」)3 g溶解於40 g之甲苯中,製備液晶組合物(塗佈液)。
[化2]
使用磨擦布磨擦聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜(厚度38 μm)表面,實施配向處理。配向處理之方向係於貼合於偏光板時相對於偏光元件之吸收軸之方向,自視認側觀察為15°方向。藉由在該配向處理表面利用棒式塗佈機塗佈上述液晶塗佈液,於90℃下加熱乾燥2分鐘,而使液晶化合物配向。藉由使用金屬鹵素燈對以此方式形成之液晶層照射1 mJ/cm
2之光,使該液晶層硬化,而於PET膜上形成第1液晶配向固化層。第1液晶配向固化層之厚度為2.5 μm,面內相位差Re(550)為270 nm。進而,第1液晶配向固化層具有nx>ny=nz之折射率分佈。
除變更塗佈厚度、及使配向處理方向相對於偏光元件之吸收軸之方向自視認側觀察成75°方向以外,以與上述相同之方式於PET膜上形成第2液晶配向固化層。第2液晶配向固化層之厚度為1.5 μm,面內相位差Re(550)為140 nm。進而,第2液晶配向固化層具有nx>ny=nz之折射率分佈。又,第1液晶配向固化層及B之Re(450)/Re(550)為1.11。
4.附相位差層之偏光板之製作
於上述2.中所獲得之偏光板之偏光元件表面依序轉印上述3.中所獲得之第1液晶配向固化層及第2液晶配向固化層。此時,以偏光元件之吸收軸與第1液晶配向固化層之遲相軸所成之角度為15°,偏光元件之吸收軸與第2液晶配向固化層之遲相軸所成之角度為75°之方式進行轉印(貼合)。再者,各者之轉印(貼合)係經由紫外線硬化型接著劑(厚度1.0 μm)而進行。繼而,於第2液晶配向固化層之表面配置製造例1中所獲得之黏著劑層A(厚度25 μm)。如此,獲得具有丙烯酸系樹脂膜/接著劑/偏光元件/第1液晶配向固化層/第2液晶配向固化層/黏著劑層A之構成之附相位差層之偏光板。將所獲得之附相位差層之偏光板供於上述(3)及(5)之評價。將結果示於表1。
[實施例2]
將黏著劑層之厚度設為50 μm,除此以外,以與實施例1相同之方式獲得附相位差層之偏光板。將所獲得之附相位差層之偏光板供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1。
[實施例3]
按照下述步驟1.製作偏光板,以及按下述步驟2.及步驟3.製作液晶配向固化層之單一層及其他相位差層代替實施例1中之第1液晶配向固化層及第2液晶配向固化層,除此以外,以與實施例1相同之方式獲得附相位差層之偏光板。將所獲得之附相位差層之偏光板供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1。
1.偏光板之製作
於在實施例1之步驟1.中所獲得之偏光元件表面經由紫外線硬化型接著劑貼合HC-TAC膜。具體而言,以硬化型接著劑之厚度成為1.0 μm之方式進行塗佈,使用滾壓機貼合。其後,自HC-TAC膜側照射UV光線使接著劑硬化。再者,HC-TAC膜係於三乙醯纖維素(TAC)膜(厚度25 μm)形成有硬塗(HC)層(厚度7 μm)之膜。如此,獲得具有HC-TAC膜/偏光元件之構成之偏光板。
2.液晶配向固化層之單一層之製作
將式(I)所表示之化合物55份、式(II)所表示之化合物25份、式(III)所表示之化合物20份添加於環戊酮(CPN)400份後,加溫至60℃進行攪拌使其溶解,確認溶解後,恢復至室溫,添加Irgacure 907(BASF日本股份有限公司製造)3份、MEGAFAC F-554(DIC股份有限公司製造)0.2份、對甲氧基苯酚(MEHQ)0.1份,進而進行攪拌,獲得溶液。溶液透明且均勻。將所獲得之溶液用0.20 μm之膜濾器進行過濾,獲得聚合性組合物。另一方面,藉由使用旋轉塗佈法將配向膜用聚醯亞胺溶液塗佈於厚度0.7 mm之玻璃基材,於100℃下乾燥10分鐘後,於200℃下焙燒60分鐘而獲得塗膜。將所獲得之塗膜進行磨擦處理,形成配向膜。磨擦處理係使用市售之磨擦裝置進行。藉由旋轉塗佈法將上述所獲得之聚合性組合物塗佈於基材(實質上為配向膜),於100℃下乾燥2分鐘。將所獲得之塗佈膜冷卻至室溫後,使用高壓水銀燈,以30 mW/cm
2之強度照射30秒紫外線而獲得第1液晶配向固化層。第1液晶配向固化層之面內相位差Re(550)為130 nm。又,液晶配向固化層之Re(450)/Re(550)為0.851,表現出逆波長色散特性。
3.其他相位差層之製作
將下述化學式(I)(式中之數字65及35表示單體單元之莫耳%,為了便於說明而以嵌段聚合物表示:重量平均分子量5000)所表示之側鏈型液晶聚合物20重量份、表現出向列型液晶相之聚合性液晶(BASF公司製造:商品名PaliocolorLC242)80重量份及光聚合起始劑(Ciba Specialty Chemicals公司製造:商品名Irgacure 907)5重量份溶解於環戊酮200重量份而製備液晶塗佈液。而且,將該塗佈液用棒式塗佈機塗佈於基材膜(降𦯉烯系樹脂膜:日本瑞翁(股)製造,商品名「ZEONEX」)後,於80℃下加熱乾燥4分鐘,藉此使液晶配向。藉由對該液晶層照射紫外線,使液晶層硬化,而於基材上形成第2液晶配向固化層(厚度:0.58 μm)。該層之Re(550)為0 nm,Rth(550)為-80 nm,表現出nz>nx=ny之折射率特性。
[實施例4]
將黏著劑層之厚度設為50 μm,除此以外,以與實施例3相同之方式獲得附相位差層之偏光板。將所獲得之附相位差層之偏光板供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1。
[比較例1]
使用製造例2中所獲得之黏著劑層B,除此以外,以與實施例1相同之方式獲得附相位差層之偏光板。將所獲得之附相位差層之偏光板供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1。
[比較例2]
將黏著劑層之厚度設為50 μm,除此以外,以與比較例1相同之方式獲得附相位差層之偏光板。將所獲得之附相位差層之偏光板供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1。
[比較例3]
使用製造例3中所獲得之黏著劑層C,除此以外,以與實施例1相同之方式獲得附相位差層之偏光板。將所獲得之附相位差層之偏光板供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1。
[比較例4]
將黏著劑層之厚度設為50 μm,除此以外,以與比較例3相同之方式獲得附相位差層之偏光板。將所獲得之附相位差層之偏光板供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1。
[比較例5]
使用製造例5中所獲得之黏著劑層E,除此以外,以與實施例1相同之方式獲得附相位差層之偏光板。將所獲得之附相位差層之偏光板供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1。
[比較例6]
將黏著劑層之厚度設為25 μm,除此以外,以與比較例5相同之方式獲得附相位差層之偏光板。將所獲得之附相位差層之偏光板供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1。
[比較例7]
使用製造例4中所獲得之黏著劑層D,除此以外,以與實施例1相同之方式獲得附相位差層之偏光板。將所獲得之附相位差層之偏光板供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1。
[比較例8]
將黏著劑層之厚度設為25 μm,除此以外,以與比較例7相同之方式獲得附相位差層之偏光板。將所獲得之附相位差層之偏光板供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1。
[比較例9]
偏光元件使用由PVA系樹脂膜形成之偏光元件(厚度12 μm),及於該偏光元件之HC-TAC膜之相反側設置內側保護層(TAC膜,厚度25 μm),除此以外,以與實施例3相同之方式獲得附相位差層之偏光板。將所獲得之附相位差層之偏光板供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1。
[比較例10]
將黏著劑層之厚度設為50 μm,除此以外,以與比較例9相同之方式獲得附相位差層之偏光板。將所獲得之附相位差層之偏光板供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1。
[表1]
除黏著劑層以外之厚度(μm) | 黏著劑層之厚度(μm) | 黏著劑組合物 | Tg(℃) | DHR蠕變值(%) | 糊劑偏移 | 彎曲性 | |||
100k(次) | 300k(次) | 500k(次) | |||||||
實施例1 | 31 | 25 | A | -46 | 122 | 良 | 良 | 良 | 可 |
實施例2 | 31 | 50 | A | -46 | 122 | 良 | 良 | 良 | 良 |
實施例3 | 51 | 25 | A | -46 | 122 | 良 | 良 | 良 | 可 |
實施例4 | 51 | 50 | A | -46 | 122 | 良 | 良 | 良 | 良 |
比較例1 | 31 | 25 | B | -43 | 294 | 不良 | 良 | 良 | 可 |
比較例2 | 31 | 50 | B | -43 | 294 | 不良 | 良 | 良 | 良 |
比較例3 | 31 | 25 | C | -33 | 196 | 不良 | 良 | 良 | 不可 |
比較例4 | 31 | 50 | C | -33 | 196 | 不良 | 良 | 良 | 不可 |
比較例5 | 31 | 15 | E | -38 | 42 | 良 | 良 | 可 | 不可 |
比較例6 | 31 | 25 | E | -38 | 42 | 良 | 良 | 良 | 不可 |
比較例7 | 31 | 15 | D | -28 | 19 | 良 | 良 | 可 | 不可 |
比較例8 | 31 | 25 | D | -28 | 19 | 良 | 良 | 良 | 不可 |
比較例9 | 81 | 25 | A | -46 | 122 | 良 | 不可 | 不可 | 不可 |
比較例10 | 81 | 50 | A | -46 | 122 | 良 | 不可 | 不可 | 不可 |
[評價]
由表1可知,根據本發明之實施例,可獲得於低溫環境下之彎曲性試驗中抑制龜裂產生,且抑制糊劑偏移之附相位差層之偏光板。另一方面,於比較例1~4之附相位差層之偏光板中,25℃下之蠕變值超過150%,產生糊劑偏移。進而,於比較例5~10之附相位差層之偏光板中,由於黏著劑之Tg超過-40℃,因此於低溫環境下之彎曲性試驗中產生龜裂。
[產業上之可利用性]
本發明之附相位差層之偏光板適宜用於有機EL顯示裝置。
10:保護層
20:偏光元件
30:相位差層
31:第1液晶配向固化層
32:第2液晶配向固化層
33:其他相位差層
40:黏著劑層
100:附相位差層之偏光板
101:附相位差層之偏光板
圖1係本發明之一實施方式之附相位差層之偏光板之概略剖視圖。
圖2係本發明之另一實施方式之附相位差層之偏光板之概略剖視圖。
10:保護層
20:偏光元件
30:相位差層
31:第1液晶配向固化層
32:第2液晶配向固化層
40:黏著劑層
100:附相位差層之偏光板
Claims (14)
- 一種附相位差層之偏光板,其 依序具備保護層、偏光元件、相位差層及黏著劑層, 自該保護層至該相位差層之總厚度為20 μm以上60 μm以下, 該黏著劑層之玻璃轉移溫度為-60℃以上-40℃以下,25℃下之蠕變值為10%以上150%以下。
- 如請求項1之附相位差層之偏光板,其中自上述保護層至上述相位差層之總厚度為55 μm以下。
- 如請求項1或2之附相位差層之偏光板,其中上述黏著劑層之玻璃轉移溫度為-60℃以上-45℃以下。
- 如請求項1至3中任一項之附相位差層之偏光板,其中上述25℃下之蠕變值為10%以上130%以下。
- 如請求項1至4中任一項之附相位差層之偏光板,其中上述黏著劑層含有包含丙烯酸系基礎聚合物之丙烯酸系黏著劑,該丙烯酸系基礎聚合物相對於單體成分之合計100重量份,含有1重量份~30重量份之(甲基)丙烯酸C 10-20鏈狀烷基酯。
- 如請求項5之附相位差層之偏光板,其中上述丙烯酸系基礎聚合物包含丙烯酸月桂酯作為上述(甲基)丙烯酸C 10-20鏈狀烷基酯。
- 如請求項5或6之附相位差層之偏光板,其中上述丙烯酸系基礎聚合物相對於單體成分之合計100重量份,含有0.1重量份~5重量份之含羥基單體。
- 如請求項5至7中任一項之附相位差層之偏光板,其中上述丙烯酸系基礎聚合物相對於單體成分之合計100重量份,含有0.1重量份~1.5重量份之具有含氮原子環之單體。
- 如請求項1至8中任一項之附相位差層之偏光板,其中上述保護層之厚度為45 μm以下。
- 如請求項1至9中任一項之附相位差層之偏光板,其中上述偏光元件之厚度為10 μm以下。
- 如請求項1至10中任一項之附相位差層之偏光板,其中上述相位差層具有第1液晶化合物之配向固化層與第2液晶化合物之配向固化層之積層構造,該第1液晶化合物之配向固化層之Re(550)為200 nm~300 nm,其遲相軸與上述偏光元件之吸收軸所成之角度為10°~20°,該第2液晶化合物之配向固化層之Re(550)為100 nm~190 nm,其遲相軸與上述偏光元件之吸收軸所成之角度為70°~80°。
- 如請求項1至10中任一項之附相位差層之偏光板,其中上述相位差層為液晶化合物之配向固化層之單一層,該相位差層之Re(550)為100 nm~180 nm,且滿足Re(450)<Re(550)<Re(650)之關係,其遲相軸與上述偏光元件之吸收軸所成之角度為35°~55°。
- 如請求項12之附相位差層之偏光板,其進而具備其他相位差層,該其他相位差層表現出nz>nx=ny之折射率特性。
- 如請求項1至13中任一項之附相位差層之偏光板,其中上述黏著劑層之厚度為20 μm以上。
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