TW202404803A - 光學積層體 - Google Patents

光學積層體 Download PDF

Info

Publication number
TW202404803A
TW202404803A TW112112815A TW112112815A TW202404803A TW 202404803 A TW202404803 A TW 202404803A TW 112112815 A TW112112815 A TW 112112815A TW 112112815 A TW112112815 A TW 112112815A TW 202404803 A TW202404803 A TW 202404803A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
layer
thickness
adhesive layer
meth
adhesive
Prior art date
Application number
TW112112815A
Other languages
English (en)
Inventor
米澤一晃
永田拓也
天野光
Original Assignee
日商日東電工股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商日東電工股份有限公司 filed Critical 日商日東電工股份有限公司
Publication of TW202404803A publication Critical patent/TW202404803A/zh

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
    • B32B7/023—Optical properties
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20—Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • C09J7/29—Laminated material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04—Interconnection of layers
    • B32B7/12—Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3033—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3083—Birefringent or phase retarding elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133528—Polarisers
    • G—PHYSICS
    • G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09F—DISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
    • G09F9/00—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
    • G09F9/30—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements
    • G09F9/301—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements flexible foldable or roll-able electronic displays, e.g. thin LCD, OLED
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
    • B32B2307/42—Polarizing, birefringent, filtering

Abstract

本發明提供一種光學積層體，其依序具有偏光元件、相位差層及黏著劑層，且耐彎曲性優異。 本發明之光學積層體具有：偏光元件、配置於該偏光元件之第一主面側之保護層、及依序配置於該偏光元件之第二主面側之相位差層及黏著劑層，基於下述之黏著力並藉由外插法求出之拉伸速度為0時之該黏著劑層對聚醯亞胺被黏著體之黏著力F為1 N/10 mm以上，上述黏著力為：於25℃及拉伸速度為300 mm/分鐘之條件下之第一180°剝離試驗中之黏著力、於25℃及拉伸速度為100 mm/分鐘之條件下之第二180°剝離試驗中之黏著力、及於25℃及拉伸速度為10 mm/分鐘之條件下之第三180°剝離試驗中之黏著力，於25℃及拉伸速度為300 mm/分鐘之條件下之拉伸試驗中之200%伸長時之應變應力S200為15 N/cm 2以下，自該保護層至該相位差層之厚度相對於該黏著劑層之厚度之比為0.3～3.0。

Description

光學積層體
本發明係關於一種依序具有偏光板、相位差層及黏著劑層之光學積層體。
以液晶顯示裝置及電致發光(EL)顯示裝置(例如有機EL顯示裝置、無機EL顯示裝置)為代表之圖像顯示裝置正在急速地普及。於圖像顯示裝置中，代表性地使用有偏光板及相位差板。實用上，廣泛地使用有使偏光板與相位差板一體化之附相位差層之偏光板，於附相位差層之偏光板中進而設置用於與相鄰之構件貼合之黏著劑層(例如專利文獻1)。
另一方面，為了用於智慧型手機及平板終端，正在進行可反覆彎折(可摺疊)之圖像顯示裝置之開發。對於此種圖像顯示裝置，要求耐彎曲性之進一步提高，對於附相位差層之偏光板，亦要求具有優異之耐彎曲性。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利第3325560號公報
[發明所欲解決之問題]
本發明之目的在於提供一種光學積層體，其依序具有偏光板、相位差層及黏著劑層，且耐彎曲性優異。 [解決問題之技術手段]
本發明提供以下記載之光學積層體。 [1]一種光學積層體，其具有：偏光元件、配置於該偏光元件之第一主面側之保護層、及依序配置於該偏光元件之第二主面側之相位差層及黏著劑層， 基於下述之黏著力並藉由外插法求出之拉伸速度為0時之該黏著劑層對聚醯亞胺被黏著體之黏著力F為1 N/10 mm以上，上述黏著力為： 於25℃及拉伸速度為300 mm/分鐘之條件下之第一180°剝離試驗中之黏著力、 於25℃及拉伸速度為100 mm/分鐘之條件下之第二180°剝離試驗中之黏著力、及 於25℃及拉伸速度為10 mm/分鐘之條件下之第三180°剝離試驗中之黏著力， 於25℃及拉伸速度為300 mm/分鐘之條件下之拉伸試驗中之200%伸長時之應變應力S200為15 N/cm 2以下， 自該保護層至該相位差層之厚度相對於該黏著劑層之厚度之比為0.3～3.0。 [2]如[1]所記載之光學積層體，其中自上述保護層至上述相位差層之厚度為20 μm～60 μm。 [3]如[1]或[2]所記載之光學積層體，其中自上述保護層至上述黏著劑層之厚度為110 μm以下。 [4]如[1]至[3]中任一項所記載之光學積層體，其中上述偏光元件之厚度為10 μm以下。 [5]如[1]至[4]中任一項所記載之光學積層體，其中上述保護層之厚度為45 μm以下。 [6]如[1]至[5]中任一項所記載之光學積層體，其中上述相位差層包含自上述偏光元件之上述第二主面側依序配置之作為λ/2板之液晶化合物之配向固化層及作為λ/4板之液晶化合物之配向固化層。 [7]如[1]至[5]中任一項所記載之光學積層體，其中上述相位差層包含顯示逆分散波長特性之液晶化合物之配向固化層。 [發明之效果]
根據本發明之實施方式，藉由使用具有規定之特性之黏著劑層，並且使附相位差層之偏光板與黏著劑層之厚度之比為規定之範圍內，從而提供一種光學積層體，其依序具有偏光板、相位差層及黏著劑層，且耐彎曲性優異。
以下參照附圖對本發明之實施方式進行說明，但本發明並不限定於該等實施方式。又，為了使說明更明確，附圖與實施方式相比，對於各部之寬度、厚度、形狀等，有時模式性地表示，但終究為一例，並不限定本發明之解釋。又，於本說明書中，表示數值範圍之「～」包含其上限及下限之數值。又，於本說明書中，有時將具有[偏光元件/保護層]或[保護層/偏光元件/保護層]之構成之積層體稱為偏光板，又，有時將偏光板與相位差層之積層體稱為附相位差層之偏光板。
(用語及符號之定義) 本說明書中之用語及符號之定義如下所述。 (1)折射率(nx、ny、nz) 「nx」為面內之折射率最大之方向(即，慢軸方向)之折射率，「ny」為於面內與慢軸正交之方向(即，快軸方向)之折射率，「nz」為厚度方向之折射率。 (2)面內相位差(Re) 「Re(λ)」為23℃下之用波長λnm之光測定之面內相位差。例如，「Re(550)」為23℃下之用波長550 nm之光測定之面內相位差。Re(λ)係於將層(膜)之厚度設為d(nm)時，根據式：Re(λ)＝(nx－ny)×d求出。 (3)厚度方向之相位差(Rth) 「Rth(λ)」為23℃下之用波長λnm之光測定之厚度方向之相位差。例如，「Rth(550)」為23℃下之用波長550 nm之光測定之厚度方向之相位差。Rth(λ)係於將層(膜)之厚度設為d(nm)時，根據式：Rth(λ)＝(nx－nz)×d求出。 (4)Nz係數 Nz係數根據Nz＝Rth/Re求出。 (5)角度 本說明書中提及角度時，該角度包含相對於基準方向之順時針方向及逆時針方向之兩者。
A.光學積層體 本發明之實施方式之光學積層體具有：偏光元件、配置於該偏光元件之第一主面側之保護層、及依序配置於該偏光元件之第二主面側之相位差層及黏著劑層；基於下述之黏著力並藉由外插法求出之拉伸速度為0時之該黏著劑層對聚醯亞胺被黏著體之黏著力F為1 N/10 mm以上，上述黏著力為：於25℃及拉伸速度為300 mm/分鐘之條件下之第一180°剝離試驗中之黏著力、於25℃及拉伸速度為100 mm/分鐘之條件下之第二180°剝離試驗中之黏著力、及於25℃及拉伸速度為10 mm/分鐘之條件下之第三180°剝離試驗中之黏著力，於25℃及拉伸速度為300 mm/分鐘之條件下之拉伸試驗中之200%伸長時之應變應力S200為15 N/cm 2以下；自該保護層至該相位差層之厚度相對於該黏著劑層之厚度之比為0.3～3.0。
圖1(a)～(c)分別為本發明之一個實施方式之光學積層體之概略剖視圖。圖1(a)所示之光學積層體100a具有：偏光元件10、配置於偏光元件10之第一主面10a側之第一保護層20a、於偏光元件10之第二主面10b側自第二主面10b側依序配置之第二保護層20b、相位差層30及黏著劑層40，於黏著劑層40表面暫時黏著有剝離襯墊50。剝離襯墊50直至將光學積層體100a供於使用為止可保護黏著劑層40。實用上，光學積層體100a可利用黏著劑層40來貼附於液晶面板、有機EL面板等圖像顯示面板主體。
本發明之實施方式之光學積層體並不限定於圖1(a)所示之構成。具體而言，根據目的，可省略第二保護層20b。又，相位差層可為2層以上之積層結構。
例如，圖1(b)所示之光學積層體100b具有：偏光元件10、配置於偏光元件10之第一主面10a側之第一保護層20a、於偏光元件10之第二主面10b側自第二主面10b側依序配置之相位差層30、黏著劑層40及剝離襯墊50。又，例如，圖1(c)所示之光學積層體100c具有：偏光元件10、配置於偏光元件10之第一主面10a側之第一保護層20a、於偏光元件10之第二主面10b側自第二主面10b側依序配置之相位差層30、黏著劑層40及剝離襯墊50，相位差層30具有包含第一相位差層30a及第二相位差層30b之積層結構。
構成光學積層體之各構件可經由任意適當之接著層(一部分未圖示出)而積層。作為接著層之具體例，可例舉接著劑層、黏著劑層。光學積層體可為長條狀，亦可為單片狀。此處，所謂「長條狀」，係指相對於寬度而言長度足夠長之細長形狀，例如係指相對於寬度而言長度為10倍以上、較佳為20倍以上之細長形狀。長條狀之光學積層體可捲繞成卷狀。
光學積層體之厚度(自第一保護層至黏著劑層之厚度)T1例如為110 μm以下，較佳為105 μm以下，更佳為40 μm～100 μm。若光學積層體之厚度為該範圍內，則可適宜地抑制彎曲時之裂紋之產生。
光學積層體之自第一保護層至相位差層之厚度(附相位差層之偏光板之厚度)T2例如為20 μm～60 μm，較佳為20 μm～55 μm，更佳為25 μm～40 μm。若附相位差層之偏光板之厚度為該範圍內，則使附相位差層之偏光板彎曲所需之力(截面二次矩)降低，能夠使對構成光學積層體之各構件施加之應力減小。其結果為，可適宜地抑制裂紋之產生。
自第一保護層至相位差層之厚度相對於黏著劑層之厚度之比(T2/(T1－T2))代表性地為0.3～3.0。比(T2/(T1－T2))較佳為0.4以上，更佳為0.5以上，進而較佳為0.6以上，又，較佳為2.8以下，更佳為2.5以下，進而較佳為2.2以下。若比(T2/(T1－T2))為該範圍內，則黏著劑層能夠作為應力緩和層適宜地將由於彎曲而對偏光元件施加之應力分散，能夠抑制裂紋等之產生，從而提高耐彎曲性。
B.偏光元件 偏光元件10代表性地為包含二色性物質(例如碘)之樹脂膜。作為樹脂膜，例如可例舉聚乙烯醇(PVA)系膜、部分縮甲醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜。
偏光元件之厚度較佳為12 μm以下，更佳為10 μm以下，進而較佳為8 μm以下。另一方面，偏光元件之厚度較佳為1 μm以上。
偏光元件較佳為於波長380 nm～780 nm之任一波長下顯示吸收二色性。偏光元件之單體透過率例如為41.5%～48.0%，較佳為42.0%～46.0%。偏光元件之偏光度例如為90.0%以上，較佳為99.0%以上，進而較佳為99.9%以上。
偏光元件可利用任意適當之方法製作。具體而言，偏光元件可由單層之樹脂膜製作，亦可使用二層以上之積層體製作。
由上述單層之樹脂膜製作偏光元件之方法代表性地包含對樹脂膜實施利用碘或二色性染料等二色性物質進行之染色處理及延伸處理。作為樹脂膜，例如使用聚乙烯醇(PVA)系膜、部分縮甲醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜。該方法可進而包含不溶化處理、膨潤處理、交聯處理等。此種製造方法於本領域中為公知慣用，因此省略詳細之說明。
使用上述積層體獲得之偏光元件例如可使用樹脂基材與樹脂膜或樹脂層(代表性地為PVA系樹脂層)之積層體製作。具體而言，可藉由下述之步驟來製作：將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材，使其乾燥而於樹脂基材上形成PVA系樹脂層，從而獲得樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體；將該積層體延伸及染色而使PVA系樹脂層成為偏光元件。於本實施方式中，較佳為於樹脂基材之單側形成包含鹵化物及PVA系樹脂之PVA系樹脂層。延伸代表性地包含使積層體於硼酸水溶液中浸漬而進行延伸。進而，延伸根據需要可進而包含於硼酸水溶液中之延伸之前將積層體於高溫(例如95℃以上)下進行空中延伸。此外，於本實施方式中，較佳為將積層體供於藉由一面沿長度方向搬送一面加熱從而於寬度方向上使其收縮2%以上之乾燥收縮處理。代表性地，本實施方式之製造方法包括依序對積層體實施空中輔助延伸處理、染色處理、水中延伸處理及乾燥收縮處理。藉由導入輔助延伸，即使於熱塑性樹脂上塗佈PVA之情形時，亦能夠提高PVA之結晶性，可實現較高之光學特性。又，藉由同時事先提高PVA之配向性，從而於後續之染色步驟或延伸步驟中浸漬於水中時能夠防止PVA之配向性之降低或溶解等問題，可實現較高之光學特性。進而，於將PVA系樹脂層浸漬於液體之情形時，與PVA系樹脂層不含鹵化物之情形相比，可抑制PVA分子之配向之紊亂及配向性之降低，可實現較高之光學特性。進而，藉由利用乾燥收縮處理使積層體於寬度方向上收縮，從而可實現較高之光學特性。於自獲得之樹脂基材/偏光元件之積層體將樹脂基材剝離所得之剝離面或者於與剝離面相反側之面積層保護層，從而可獲得偏光板。此種偏光元件之製造方法之詳細情況例如記載於日本專利特開2012-73580號公報、日本專利第6470455號。該等公報之全部記載以參考之方式援用於本說明書。
C.保護層 第一保護層20a及第二保護層20b可由能夠作為偏光元件之保護層使用之任意適當之膜形成。作為成為該膜之主成分之材料之具體例，可例舉三乙醯纖維素(TAC)等纖維素系樹脂、聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚降𦯉烯系、聚烯烴系、(甲基)丙烯酸系、乙酸酯系等透明樹脂。又，亦可例舉(甲基)丙烯酸系、胺基甲酸酯系、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、矽酮系等熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。此外，例如亦可例舉矽氧烷系聚合物等玻璃質系聚合物。又，亦可使用日本專利特開2001-343529號公報(WO01/37007)中記載之聚合物膜。
於第一保護層為位於圖像顯示裝置之最表面之保護層之情形時，對於該保護層，根據需要，可實施硬塗處理、防反射處理、防黏連處理、防眩光處理等表面處理。
保護層之厚度較佳為45 μm以下，更佳為35 μm以下，進而較佳為30 μm以下，進而更佳為25 μm以下。另一方面，保護層之厚度較佳為12 μm以上，更佳為14 μm以上。再者，於實施了表面處理之情形時，保護層之厚度為包含表面處理層之厚度在內之厚度。
D.相位差層 如上所述，相位差層30可為單一層，亦可具有二層以上之積層結構(例如第一相位差層30a與第二相位差層30b之二層結構)。相位差層可由任意適當之材料構成。具體而言，相位差層可為液晶化合物之配向固化層，亦可為樹脂膜之延伸膜，還可為該等之組合。相位差層之厚度例如為1 μm以上且50 μm以下。於一個實施方式中，相位差層之厚度較佳為10 μm以下，更佳為8 μm以下，進而較佳為6 μm以下。再者，於相位差層具有積層結構之情形時，「相位差層之厚度」係指各相位差層之厚度之合計。具體而言，「相位差層之厚度」不含接著層之厚度。
作為上述相位差層，例如使用液晶化合物之配向固化層(液晶配向固化層)。藉由使用液晶化合物，例如，與非液晶材料相比，能夠使獲得之相位差層之nx與ny之差顯著增大，因此可使用於獲得所期望之面內相位差之相位差層之厚度顯著變小。因此，能夠實現光學積層體之顯著之薄型化。本說明書中所謂「配向固化層」，係指液晶化合物於層內於規定之方向上配向，且其配向狀態固定之層。再者，「配向固化層」係包含如後所述使液晶單體硬化而獲得之配向硬化層之概念。於相位差層中，代表性地，於棒狀之液晶化合物於相位差層之慢軸方向上排列之狀態下配向(水平配向)。
上述液晶配向固化層可藉由下述之步驟來形成：對規定之基材之表面實施配向處理，於該表面塗佈包含液晶化合物之塗佈液，使該液晶化合物於與上述配向處理對應之方向上配向，將該配向狀態固定。作為配向處理，可採用任意適當之配向處理。具體而言，可例舉機械之配向處理、物理之配向處理、化學之配向處理。作為機械之配向處理之具體例，可例舉摩擦處理、延伸處理。作為物理之配向處理之具體例，可例舉磁場配向處理、電場配向處理。作為化學之配向處理之具體例，可例舉斜向蒸鍍法、光配向處理。就各種配向處理之處理條件而言，可根據目的，採用任意適當之條件。
液晶化合物之配向藉由根據液晶化合物之種類於顯示液晶相之溫度下進行處理而進行。藉由進行此種溫度處理，從而液晶化合物呈液晶狀態，根據基材表面之配向處理方向，該液晶化合物配向。
於一個實施方式中，配向狀態之固定藉由將如上所述地配向之液晶化合物冷卻而進行。於液晶化合物為聚合性單體或交聯性單體之情形時，配向狀態之固定藉由對如上所述地配向之液晶化合物實施聚合處理或交聯處理而進行。
液晶化合物之具體例及配向固化層之形成方法之詳細情況記載於日本專利特開2006-163343號公報。該公報之記載以參考之方式援用於本說明書。
於相位差層為單一層之情形時之一個實施方式中，相位差層可作為λ/4板發揮功能。具體而言，相位差層之Re(550)較佳為100 nm～180 nm，更佳為110 nm～170 nm，進而較佳為110 nm～160 nm。可調整相位差層之厚度以獲得λ/4板之所期望之面內相位差。於相位差層為上述之液晶配向固化層之情形時，其厚度例如為1.0 μm～2.5 μm。於本實施方式中，相位差層之慢軸與偏光元件之吸收軸所成之角度較佳為40°～50°，更佳為42°～48°，進而較佳為44°～46°。又，相位差層較佳為顯示相位差值根據測定光之波長而變大之逆分散波長特性。該情形時，第一相位差層之Re(450)/Re(550)較佳為0.8以上且未達1，更佳為0.8以上且0.95以下。
於相位差層為單一層之情形時之另一實施方式中，相位差層可作為λ/2板發揮功能。具體而言，相位差層之Re(550)較佳為200 nm～300 nm，更佳為230 nm～290 nm，進而較佳為230 nm～280 nm。可調整相位差層之厚度以獲得λ/2板之所期望之面內相位差。於相位差層為上述之液晶配向固化層之情形時，其厚度例如為2.0 μm～4.0 μm。於本實施方式中，相位差層之慢軸與偏光元件之吸收軸所成之角度較佳為10°～20°，更佳為12°～18°，進而較佳為12°～16°。
於相位差層具有積層結構之情形時之一個實施方式中，相位差層具有自偏光元件側依序配置有第一相位差層(H層)及第二相位差層(Q層)之二層之積層結構。H層代表性地可作為λ/2板發揮功能，Q層代表性地可作為λ/4板發揮功能。具體而言，H層之Re(550)較佳為200 nm～300 nm，更佳為220 nm～290 nm，進而較佳為230 nm～280 nm；Q層之Re(550)較佳為100 nm～180 nm，更佳為110 nm～170 nm，進而較佳為110 nm～150 nm。可調整H層之厚度以獲得λ/2板之所期望之面內相位差。於H層為上述之液晶配向固化層之情形時，其厚度例如為2.0 μm～4.0 μm。可調整Q層之厚度以獲得λ/4板之所期望之面內相位差。於Q層為上述之液晶配向固化層之情形時，其厚度例如為1.0 μm～2.5 μm。於本實施方式中，H層之慢軸與偏光元件之吸收軸所成之角度較佳為10°～20°，更佳為12°～18°，進而較佳為12°～16°；Q層之慢軸與偏光元件之吸收軸所成之角度較佳為70°～80°，更佳為72°～78°，進而較佳為72°～76°。再者，H層及Q層之配置順序可顛倒，H層之慢軸與偏光元件之吸收軸所成之角度及Q層之慢軸與偏光元件之吸收軸所成之角度可顛倒。又，各個層(例如H層及Q層)可顯示出相位差值根據測定光之波長而變大之逆分散波長特性，亦可顯示出相位差值根據測定光之波長而變小之正之波長分散特性，亦可顯示出相位差值根據測定光之波長幾乎不變化之平坦之波長分散特性。
相位差層(於具有積層結構之情形時為至少一個層)代表性地顯示出折射率特性為nx＞ny＝nz之關係。此外，「ny＝nz」不僅包含ny與nz完全相等之情形，亦包含實質上相等之情形。因此，於不損害本發明之效果之範圍內，可有成為ny＞nz或ny＜nz之情形。相位差層之Nz係數較佳為0.9～1.5，更佳為0.9～1.3。
如上所述，相位差層較佳為液晶配向固化層。作為上述液晶化合物，例如可例舉液晶相為向列相之液晶化合物(向列型液晶)。作為此種液晶化合物，例如可使用液晶聚合物或液晶單體。液晶化合物之液晶性之表現機制可為溶致型，亦可為熱致型，哪一種均可。液晶聚合物及液晶單體可各自單獨地使用，亦可組合使用。
於液晶化合物為液晶單體之情形時，該液晶單體較佳為聚合性單體及交聯性單體。其原因在於，藉由使液晶單體聚合或交聯(即，硬化)，從而能夠將液晶單體之配向狀態固定。於使液晶單體配向後，例如，若使液晶單體彼此聚合或交聯，則藉此能夠將上述配向狀態固定。此處，藉由聚合形成聚合物，藉由交聯形成三維網狀結構，但該等為非液晶性。因此，所形成之相位差層例如不會發生液晶性化合物所特有之由溫度變化引起之向液晶相、玻璃相、結晶相之轉變。其結果為，相位差層成為不受溫度變化影響之穩定性極其優異之相位差層。
液晶單體顯示液晶性之溫度範圍根據其種類而異。具體而言，該溫度範圍較佳為40℃～120℃，進而較佳為50℃～100℃，最佳為60℃～90℃。
作為上述液晶單體，可採用任意適當之液晶單體。例如，可使用日本專利特表2002-533742(WO00/37585)、EP358208(US5211877)、EP66137(US4388453)、WO93/22397、EP0261712、DE19504224、DE4408171及GB2280445等中記載之聚合性液晶原基化合物等。作為此種聚合性液晶原基化合物之具體例，例如可例舉BASF公司之商品名LC242、Merck公司之商品名E7、Wacker-Chem公司之商品名LC-Sillicon-CC3767。作為液晶單體，較佳為向列性液晶單體。
於相位差層具有積層結構之情形時之另一實施方式中，相位差層自偏光元件側起具有可作為λ/4板發揮功能之第一相位差層及折射率特性顯示nz＞nx＝ny之關係之第二相位差層(所謂之正C板)之積層結構。對於λ/4板之詳細情況，如上所述。於本實施方式中，第一相位差層之慢軸與偏光元件之吸收軸所成之角度較佳為40°～50°，更佳為42°～48°，進而較佳為44°～46°。又，第一相位差層較佳為顯示相位差值根據測定光之波長而增大之逆分散波長特性。該情形時，第一相位差層之Re(450)/Re(550)較佳為0.8以上且未達1，更佳為0.8以上且0.95以下。
上述正C板之厚度方向之相位差Rth(550)較佳為-50 nm～-300 nm，更佳為-70 nm～-250 nm，進而較佳為-90 nm～-200 nm，尤佳為-100 nm～-180 nm。此處，「nx＝ny」不僅包含nx與ny嚴格地相等之情形，而且亦包含nx與ny實質上相等之情形。正C板之面內相位差Re(550)例如為未達10 nm。
具有nz＞nx＝ny之折射率特性之第二相位差層可由任意適當之材料形成，較佳為包含含有被固定為垂直配向之液晶材料之膜。能夠垂直配向之液晶材料(液晶化合物)可為液晶單體，亦可為液晶聚合物。作為該液晶化合物及該相位差層之形成方法之具體例，可例舉日本專利特開2002-333642號公報之[0020]～[0028]中記載之液晶化合物及該相位差層之形成方法。該情形時，第二相位差層之厚度較佳為0.5 μm～5 μm。
E.黏著劑層 作為黏著劑層40，使用基於對聚醯亞胺被黏著體之黏著力f1、f2、f3並藉由外插法求出之拉伸速度為0時之黏著力F為1 N/10 mm以上之黏著劑層。黏著力f1係將黏著劑層貼合於聚醯亞胺被黏著體後自該聚醯亞胺被黏著體於25℃、剝離角度為180°及拉伸速度為300 mm/分鐘之條件下將黏著劑層剝離之剝離試驗(第一180°剝離試驗)中測定之黏著力。黏著力f2係將黏著劑層貼合於聚醯亞胺被黏著體後自該聚醯亞胺被黏著體於25℃、剝離角度為180°及拉伸速度為100 mm/分鐘之條件下將黏著劑層剝離之剝離試驗(第二180°剝離試驗)中測定之黏著力。黏著力f3係將黏著劑層貼合於聚醯亞胺被黏著體後自該聚醯亞胺被黏著體於25℃、剝離角度為180°及拉伸速度為10 mm/分鐘之條件下將黏著劑層剝離之剝離試驗(第三180°剝離試驗)中測定之黏著力。黏著力F係黏著劑層不相對位移地持續貼附至被黏著體之狀態下作用於該被黏著體之黏著力，係表示黏著特性之指標之一。黏著力f1、f2、f3之測定方法及黏著力F之導出方法具體地如後文關於實施例所述。
黏著劑層之25℃及拉伸速度為300 mm/分鐘之條件下之拉伸試驗中之200%伸長時之應變應力S200為15 N/cm 2以下。應變應力S200之測定方法具體地如後文關於實施例所述，後述之應變應力S300、S500之測定方法亦相同。
就黏著劑層而言，如上所述，基於第一～第三180°剝離試驗中之黏著力f1、f2、f3並藉由外插法求出之拉伸速度為0時之黏著力F為1 N/10 mm以上。相對於此，就黏著劑層而言，拉伸試驗(25℃、拉伸速度為300 mm/分鐘)中之200%伸長時之應變應力S200為15 N/cm 2以下。藉由黏著力F大至1 N/10 mm以上之程度，並且200%伸長時之應變應力S200小至15 N/cm 2以下之程度，從而於光學積層體之變形時，能夠抗著於黏著劑層產生之拉伸應力等內部應力，使黏著劑層持續貼附於被黏著體，結果為，能夠抑制黏著劑層自被黏著體(附相位差層之偏光板或其相鄰構件)之剝離。
自確保黏著劑層之強黏著性以抑制上述剝離之觀點出發，黏著力F較佳為1.5 N/10 mm以上，更佳為1.8 N/10 mm以上，進而較佳為2 N/10 mm以上，進而更佳為2.2 N/10 mm以上，進而更佳為2.4 N/10 mm以上，進而更佳為2.6 N/10 mm以上。黏著力F例如為10 N/10 mm以下。作為黏著力F之調整方法，例如可例舉黏著劑層中之基礎聚合物之種類之選擇、分子量之調整及調配量之調整。於基礎聚合物之種類之選擇中包含形成基礎聚合物之單體之組成之調整。作為黏著力F之調整方法，亦可例舉黏著劑層中之基礎聚合物以外之成分之種類之選擇及該成分之調配量之調整。作為該成分，可例舉交聯劑、矽烷偶合劑及低聚物。如以上之黏著力調整方法就黏著力f1、f2、f3而言亦相同。
自抑制黏著劑層中之變形時之產生應力以抑制上述剝離之觀點出發，200%伸長時之應變應力S200較佳為14 N/cm 2以下，更佳為12 N/cm 2以下，進而較佳為10 N/cm 2以下，進而更佳為6 N/cm 2以下。應變應力S200例如為1 N/cm 2以上。作為應變應力S200之調整方法，例如可例舉黏著劑層中之基礎聚合物之單體組成之調整、分子量之調整、調配量之調整及交聯度之調整。此種應變應力調整方法對於後述之應變應力S300、S500而言亦相同。
自確保黏著劑層之強黏著性以抑制上述剝離之觀點出發，黏著力f1較佳為2.5 N/10 mm以上，更佳為3 N/10 mm以上，進而較佳為3.5 N/10 mm以上，進而更佳為4 N/10 mm以上，尤佳為4.5 N/10 mm以上。黏著力f1例如為20 N/10 mm以下。
自確保黏著劑層之強黏著性以抑制上述剝離之觀點出發，黏著力f2較佳為2 N/10 mm以上，更佳為2.5 N/10 mm以上，進而較佳為3 N/10 mm以上，進而更佳為3.5 N/10 mm以上，進而更佳為3.7 N/10 mm以上。黏著力f2例如為15 N/10 mm以下。
自確保黏著劑層之強黏著性以抑制上述剝離之觀點出發，黏著力f3較佳為1 N/10 mm以上，更佳為1.5 N/10 mm以上，進而較佳為2 N/10 mm以上，進而更佳為2.5 N/10 mm以上，進而更佳為2.6 N/10 mm以上。黏著力f3例如為12 N/10 mm以下。
自抑制黏著劑層中之變形時之產生應力以抑制上述剝離之觀點出發，上述拉伸試驗中之300%伸長時之應變應力S300較佳為20 N/cm 2以下，更佳為17 N/cm 2以下，進而較佳為14 N/cm 2以下，進而更佳為12 N/cm 2以下，進而更佳為10 N/cm 2以下，尤佳為8 N/cm 2以下。應變應力S300例如為1 N/cm 2以上。
自抑制由黏著劑層之變形之程度引起之產生應力之不同之觀點出發，應變應力S300相對於應變應力S200之比率(S300/S200)較佳為1.4以下，更佳為1.3以下，進而較佳為1.2以下，尤佳為1.15以下。比率(S300/S200)例如為1以上。
自抑制黏著劑層中之變形時之產生應力以抑制上述剝離之觀點出發，上述拉伸試驗中之500%伸長時之應變應力S500較佳為30 N/cm 2以下，更佳為25 N/cm 2以下，進而較佳為20 N/cm 2以下，進而更佳為15 N/cm 2以下，進而更佳為12 N/cm 2以下，進而更佳為11 N/cm 2以下。應變應力S500例如為1 N/cm 2以上。
自抑制由黏著劑層之變形之程度引起之產生應力之不同之觀點出發，應變應力S500相對於應變應力S200之比率(S500/S200)較佳為2.5以下，更佳為2以下，進而較佳為1.8以下，尤佳為1.5以下。比率(S500/S200)例如為1以上。
黏著劑層為由黏著劑組合物形成之片狀之感壓黏著劑。黏著劑層(黏著劑組合物)至少包含基礎聚合物。
基礎聚合物係於黏著劑層中表現黏著性之黏著成分。作為基礎聚合物，例如可例舉丙烯酸聚合物、矽酮聚合物、聚酯聚合物、聚胺基甲酸酯聚合物、聚醯胺聚合物、聚乙烯醚聚合物、乙酸乙烯酯/氯乙烯共聚物、改性聚烯烴聚合物、環氧聚合物、氟聚合物及橡膠聚合物。基礎聚合物可單獨地使用，亦可將兩種以上併用。自確保黏著劑層中之良好之透明性及黏著性之觀點出發，作為基礎聚合物，較佳為使用丙烯酸聚合物。
丙烯酸聚合物為以50重量%以上之比率包含(甲基)丙烯酸酯之單體成分之共聚物。「(甲基)丙烯酸」係指丙烯酸及/或甲基丙烯酸。
作為(甲基)丙烯酸酯，較佳為使用(甲基)丙烯酸烷基酯，更佳為使用烷基之碳數為1～20之(甲基)丙烯酸烷基酯。(甲基)丙烯酸烷基酯可具有直鏈狀或支鏈狀之烷基，亦可具有脂環式烷基等環狀之烷基。
作為具有直鏈狀或支鏈狀之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯，例如可例舉(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸新戊酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷基酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯(即，丙烯酸月桂酯)、(甲基)丙烯酸異十三烷基酯、(甲基)丙烯酸十四烷基酯、(甲基)丙烯酸異十四烷基酯、(甲基)丙烯酸十五烷基酯、(甲基)丙烯酸鯨蠟酯、(甲基)丙烯酸十七烷基酯、(甲基)丙烯酸十八烷基酯、(甲基)丙烯酸異十八烷基酯及(甲基)丙烯酸十九烷基酯。
作為具有脂環式烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯，例如可例舉(甲基)丙烯酸環烷基酯、具有二環式之脂肪族烴環之(甲基)丙烯酸酯及具有三環以上之脂肪族烴環之(甲基)丙烯酸酯。作為(甲基)丙烯酸環烷基酯，例如可例舉(甲基)丙烯酸環戊酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸環庚酯及(甲基)丙烯酸環辛酯。作為具有二環式之脂肪族烴環之(甲基)丙烯酸酯，例如可例舉(甲基)丙烯酸異𦯉基酯。作為具有三環以上之脂肪族烴環之(甲基)丙烯酸酯，例如可例舉(甲基)丙烯酸二環戊酯、(甲基)丙烯酸二環戊氧基乙酯、(甲基)丙烯酸三環戊酯、(甲基)丙烯酸1-金剛烷基酯、(甲基)丙烯酸2-甲基-2-金剛烷基酯及(甲基)丙烯酸2-乙基-2-金剛烷基酯。
作為(甲基)丙烯酸烷基酯，自於黏著劑層中獲得用於確保耐彎曲性之軟質性及黏著力之平衡之觀點出發，較佳為使用選自具有碳數為3～12之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯中之至少一個，更佳為將選自具有碳數為3～12之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯中的烷基之碳數相對較大之第一(甲基)丙烯酸烷基酯及烷基之碳數相對較小之第二(甲基)丙烯酸烷基酯併用，進而較佳為將具有碳數為6～8之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯與具有碳數為5以下之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯併用，進而更佳為將具有碳數為6～8之直鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯與具有碳數為5以下之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯併用。
自於黏著劑層中使黏著性等基本特性適當地表現之觀點出發，單體成分中之(甲基)丙烯酸烷基酯之比率較佳為50重量%以上，更佳為70重量%以上，進而較佳為90重量%以上，進而更佳為92重量%以上。該比率例如為99重量%以下。於將第一及第二(甲基)丙烯酸烷基酯併用之情形時，自黏著劑層之軟質性及黏著力之平衡之觀點出發，單體成分中之第一(甲基)丙烯酸烷基酯之比率較佳為40重量%以上，更佳為50重量%以上，進而較佳為55重量%以上，進而更佳為58重量%以上，又，較佳為80重量%以下，更佳為70重量%以下，進而較佳為65重量%以下，進而更佳為62重量%以下。自黏著劑層之軟質性及黏著力之平衡之觀點出發，單體成分中之第二(甲基)丙烯酸烷基酯之比率較佳為20重量%以上，更佳為25重量%以上，進而較佳為28重量%以上，又，較佳為40重量%以下，更佳為35重量%以下，進而較佳為32重量%以下。
單體成分可包含可與(甲基)丙烯酸烷基酯共聚之共聚性單體。作為共聚性單體，例如可例舉具有極性基之單體。作為含極性基之單體，例如可例舉含羥基之單體、含羧基之單體及具有含氮原子之環之單體。含極性基之單體有助於向丙烯酸聚合物中導入交聯點、確保丙烯酸聚合物之凝集力等丙烯酸聚合物之改質。
作為含羥基之單體，例如可例舉(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸8-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥基月桂酯及(甲基)丙烯酸(4-羥基甲基環己基)甲酯。
自向丙烯酸聚合物中導入交聯結構及確保黏著劑層中之凝集力之觀點出發，單體成分中之含羥基之單體之比率較佳為1重量%以上，更佳為3重量%以上，進而較佳為5重量%以上，進而更佳為7重量%以上。自丙烯酸聚合物之極性(與黏著劑層中之各種添加劑成分與丙烯酸聚合物之相容性有關)之調整之觀點出發，上述比率較佳為30重量%以下，更佳為20重量%以下。
作為含羧基之單體，例如可例舉丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸羧基乙酯、丙烯酸羧基戊酯、伊康酸、馬來酸、富馬酸、巴豆酸及異巴豆酸。
自向丙烯酸聚合物中導入交聯結構、確保黏著劑層中之凝集力及確保黏著劑層之對被黏著體密接力之觀點出發，單體成分中之含羧基之單體之比率較佳為0.1重量%以上，更佳為0.5重量%以上，進而較佳為0.8重量%以上。自丙烯酸聚合物之玻璃轉移溫度之調整及由酸引起之被黏著體之腐蝕風險之避免之觀點出發，上述比率較佳為10重量%以下，更佳為5重量%以下。
作為具有含氮原子之環之單體，例如可例舉N-乙烯基-2-吡咯啶酮、N-甲基乙烯基吡咯啶酮、N-乙烯基吡啶、N-乙烯基哌啶酮、N-乙烯基嘧啶、N-乙烯基哌𠯤、N-乙烯基吡𠯤、N-乙烯基吡咯、N-乙烯基咪唑、N-乙烯基㗁唑、N-(甲基)丙烯醯基-2-吡咯啶酮、N-(甲基)丙烯醯基哌啶、N-(甲基)丙烯醯基吡咯啶、N-乙烯基𠰌啉、N-乙烯基-3-𠰌啉酮、N-乙烯基-2-己內醯胺、N-乙烯基-1,3-㗁𠯤-2-酮、N-乙烯基-3,5-𠰌啉二酮、N-乙烯基吡唑、N-乙烯基異㗁唑、N-乙烯基噻唑及N-乙烯基異噻唑。
自確保黏著劑層中之凝集力及確保黏著劑層之對被黏著體密接力之觀點出發，單體成分中之具有含氮原子之環之單體之比率較佳為0.5重量%以上，更佳為1重量%以上，進而較佳為1.5重量%以上。自丙烯酸聚合物之玻璃轉移溫度之調整及丙烯酸聚合物之極性之調整之觀點出發，該比率較佳為20重量%以下，更佳為10重量%以下。
單體成分可包含其他共聚性單體。作為其他共聚性單體，例如可例舉酸酐單體、含磺酸基之單體、含磷酸基之單體、含環氧基之單體、含氰基之單體、含烷氧基之單體及芳香族乙烯基化合物。該等其他共聚性單體可單獨使用，亦可將兩種以上併用。
自黏著劑層中之黏著力之確保及變形時之產生應力之抑制之兼顧之觀點出發，單體成分較佳為包含第一(甲基)丙烯酸烷基酯(烷基之碳數相對較大)、第二(甲基)丙烯酸烷基酯(烷基之碳數相對較小)、含羥基之單體及具有含氮原子之環之單體。第一(甲基)丙烯酸烷基酯更佳為具有碳數為6～8之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯，進而較佳為具有碳數為6～8之直鏈狀之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯，進而較佳為選自由丙烯酸正辛酯(NOAA)及丙烯酸正己酯(HxA)所組成之群中之至少一個。第二(甲基)丙烯酸烷基酯更佳為具有碳數為5以下之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯，進而較佳為丙烯酸丁酯(BA)。含羥基之單體更佳為選自由丙烯酸4-羥基丁酯(4HBA)及丙烯酸2-羥基乙酯(2HEA)所組成之群中之至少一個。自將黏著劑層中之自室溫至高溫之彈性模數設計得相對較高之觀點出發，具有含氮原子之環之單體更佳為N-乙烯基-2-吡咯啶酮(NVP)。
基礎聚合物較佳為具有交聯結構。作為向基礎聚合物中導入交聯結構之方法，可例舉：於黏著劑組合物中調配具有可與交聯劑反應之官能基之基礎聚合物及交聯劑，於黏著劑層中使基礎聚合物與交聯劑反應之方法(第一方法)；及於形成基礎聚合物之單體成分中包含多官能單體，藉由該單體成分之聚合來形成於聚合物鏈中導入了分支結構(交聯結構)而成之基礎聚合物之方法(第二方法)。可將該等方法併用。
作為上述第一方法中使用之交聯劑，例如可例舉與基礎聚合物中所含之官能基(羥基及羧基等)反應之化合物。作為此種交聯劑，例如可例舉異氰酸酯交聯劑、過氧化物交聯劑、環氧交聯劑、㗁唑啉交聯劑、氮丙啶交聯劑、碳二醯亞胺交聯劑及金屬螯合物交聯劑。交聯劑可單獨地使用，亦可將兩種以上併用。作為交聯劑，由於與基礎聚合物中之羥基及羧基之反應性較高而容易導入交聯結構，因此較佳為使用異氰酸酯交聯劑、過氧化物交聯劑及環氧交聯劑。
作為異氰酸酯交聯劑，例如可例舉甲苯二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯、氫化苯二甲基二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、氫化二苯基甲烷二異氰酸酯、四甲基苯二甲基二異氰酸酯、萘二異氰酸酯、三苯基甲烷三異氰酸酯及聚亞甲基聚苯基異氰酸酯。又，作為異氰酸酯交聯劑，亦可例舉該等異氰酸酯之衍生物。作為該異氰酸酯衍生物，例如可例舉異氰尿酸酯改性體及多元醇改性體。作為異氰酸酯交聯劑之市售品，例如可例舉Coronate L(甲苯二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成體，東曹製造)、Coronate HL(六亞甲基二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成體，東曹製造)、Coronate HX(六亞甲基二異氰酸酯之異氰尿酸酯體，東曹製造)、Takenate D110N(苯二甲基二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成體，三井化學製造)及Takenate 600(1,3-雙(異氰酸甲酯基)環己烷，三井化學製造)。
作為過氧化物交聯劑，可例舉過氧化二苯甲醯、過氧化二碳酸二(2-乙基己基)酯、過氧化二碳酸二(4-第三丁基環己基)酯、過氧化二碳酸二第二丁酯、過氧化新癸酸第三丁酯、過氧化新戊酸第三己酯及過氧化新戊酸第三丁酯。
作為環氧交聯劑，可例舉雙酚A、表氯醇型之環氧樹脂、伸乙基縮水甘油醚、聚乙二醇二縮水甘油醚、甘油二縮水甘油醚、甘油三縮水甘油醚、1,6-己二醇縮水甘油醚、三羥甲基丙烷三縮水甘油醚、二縮水甘油基苯胺、二胺縮水甘油胺、N,N,N',N'-四縮水甘油基間苯二甲胺及1,3-雙(N,N-二縮水甘油基胺基甲基)環己烷。
自確保黏著劑層之柔軟性之觀點出發，較佳為異氰酸酯交聯劑(尤其是二官能之異氰酸酯交聯劑)及過氧化物交聯劑。自確保黏著劑層之耐久性之觀點出發，較佳為異氰酸酯交聯劑(尤其是三官能之異氰酸酯交聯劑)。於基礎聚合物中，二官能異氰酸酯交聯劑及過氧化物交聯劑形成更柔軟之二維交聯，相對於此，三官能異氰酸酯交聯劑形成更牢固之三維交聯。自兼顧黏著劑層之耐久性及柔軟性之觀點出發，較佳為將三官能異氰酸酯交聯劑與過氧化物交聯劑及/或二官能異氰酸酯交聯劑併用。
自確保黏著劑層之凝集力之觀點出發，交聯劑之調配量相對於基礎聚合物100重量份，例如為0.01重量份以上，較佳為0.05重量份以上，更佳為0.07重量份以上。自於黏著劑層中確保良好之黏性之觀點出發，相對於基礎聚合物100重量份之交聯劑之調配量例如為10重量份以下，較佳為5重量份以下，更佳為3重量份以下。
於上述第二方法中，可使單體成分(包含用於導入交聯結構之多官能單體及其他單體)一次性聚合，亦可多階段地使其聚合。於多階段聚合之方法中，首先，使用於形成基礎聚合物之單官能單體聚合(預聚合)，藉此製備含有部分聚合物(低聚合度之聚合物及未反應之單體之混合物)之預聚物組合物。繼而，於預聚物組合物中添加了作為交聯劑之多官能單體後，使部分聚合物與多官能單體聚合(正式聚合)。
作為多官能單體，例如可例舉於1分子中含有2個以上乙烯系不飽和雙鍵之多官能(甲基)丙烯酸酯。作為多官能單體，自可藉由活性能量線聚合(光聚合)導入交聯結構之觀點出發，較佳為多官能丙烯酸酯。
作為多官能(甲基)丙烯酸酯，可例舉二官能(甲基)丙烯酸酯、三官能(甲基)丙烯酸酯及四官能以上之多官能(甲基)丙烯酸酯。
作為二官能(甲基)丙烯酸酯，例如可例舉乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、甘油二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、硬脂酸改性季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸二環戊烯酯、二(甲基)丙烯醯基異氰尿酸酯及環氧烷改性雙酚二(甲基)丙烯酸酯。
作為三官能(甲基)丙烯酸酯，例如可例舉三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯及異氰尿酸三(丙烯醯氧基乙基)酯。
作為四官能以上之多官能(甲基)丙烯酸酯，例如可例舉二(三羥甲基丙烷)四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇單羥基五(甲基)丙烯酸酯、烷基改性二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯及二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯。
作為多官能(甲基)丙烯酸酯，較佳為使用四官能以上之多官能(甲基)丙烯酸酯，更佳為使用二季戊四醇六丙烯酸酯。
自確保黏著劑層之凝集力之觀點出發，單體成分中之作為交聯劑之多官能單體之調配量相對於單官能單體100重量份，例如為0.01重量份以上，較佳為0.05重量份以上，更佳為0.07重量份以上。自於黏著劑層中確保良好之黏性之觀點出發，相對於單官能單體100重量份之多官能單體之調配量例如為10重量份以下，較佳為5重量份以下，更佳為3重量份以下。
丙烯酸聚合物能夠藉由使上述之單體成分聚合而形成。作為聚合方法，例如可例舉溶液聚合、無溶劑下之光聚合(例如UV聚合)、塊狀聚合及乳化聚合。作為溶液聚合之溶劑，例如使用乙酸乙酯及甲苯。又，作為聚合之起始劑，例如使用熱聚合起始劑及光聚合起始劑。聚合起始劑之使用量相對於單體成分100重量份，例如為0.05重量份以上，較佳為0.08重量份以上，又，例如為1重量份以下，較佳為0.5重量份以下。
作為熱聚合起始劑，例如可例舉偶氮聚合起始劑及過氧化物聚合起始劑。作為偶氮聚合起始劑，例如可例舉2,2'-偶氮雙異丁腈、2,2'-偶氮雙-2-甲基丁腈、2,2'-偶氮雙(2-甲基丙酸)二甲酯、4,4'-偶氮雙-4-氰基戊酸、偶氮雙異戊腈、2,2'-偶氮雙(2-脒基丙烷)二鹽酸鹽、2,2'-偶氮雙[2-(5-甲基-2-咪唑啉-2-基)丙烷]二鹽酸鹽、2,2'-偶氮雙(2-甲基丙脒)二硫酸鹽及2,2'-偶氮雙(N,N'-二亞甲基異丁基脒)二鹽酸鹽。作為過氧化物聚合起始劑，例如可例舉過氧化二苯甲醯、過馬來酸第三丁酯及過氧化月桂醯。
作為光聚合起始劑，例如可例舉安息香醚光聚合起始劑、苯乙酮系光聚合起始劑、α-縮酮系光聚合起始劑、芳香族磺醯氯系光聚合起始劑、光活性肟系光聚合起始劑、安息香系光聚合起始劑、苯偶醯系光聚合起始劑、二苯甲酮系光聚合起始劑、縮酮系光聚合起始劑、9-氧硫𠮿系光聚合起始劑及醯基氧化膦系光聚合起始劑。
自確保黏著劑層中之凝集力之觀點出發，基礎聚合物之重量平均分子量較佳為10萬以上，更佳為30萬以上，進而較佳為50萬以上。基礎聚合物之重量平均分子量係利用凝膠滲透層析(GPC)測定，藉由聚苯乙烯換算而計算出。
基礎聚合物之玻璃轉移溫度(Tg)較佳為0℃以下，更佳為-10℃以下，進而較佳為-20℃以下。該玻璃轉移溫度例如為-80℃以上。
關於基礎聚合物之玻璃轉移溫度(Tg)，可使用基於下述之Fox式求出之玻璃轉移溫度(理論值)。Fox式為聚合物之玻璃轉移溫度Tg與構成該聚合物之單體之均聚物之玻璃轉移溫度Tgi之關係式。於下述之Fox式中，Tg表示聚合物之玻璃轉移溫度(℃)，Wi表示構成該聚合物之單體i之重量分率，Tgi表示由單體i形成之均聚物之玻璃轉移溫度(℃)。關於均聚物之玻璃轉移溫度，可使用文獻值。例如於《Polymer Handbook》(第4版，John Wiley & Sons, Inc.，1999年)及《新高分子文庫7 塗料用合成樹脂入門》(北岡協三著，高分子出版會，1995年)中例舉了各種均聚物之玻璃轉移溫度。另一方面，關於單體之均聚物之玻璃轉移溫度，亦能夠利用日本專利特開2007-51271號公報中具體記載之方法求出。
Fox式   1/(273+Tg)＝Σ[Wi/(273+Tgi)]
黏著劑組合物可含有矽烷偶合劑。黏著劑組合物中之矽烷偶合劑之含量相對於基礎聚合物100重量份較佳為0.1重量份以上，更佳為0.2重量份以上。該含量較佳為5重量份以下，更佳為3重量份以下。
黏著劑組合物根據需要可含有其他成分。作為其他成分，例如可例舉溶劑、黏著賦予劑、塑化劑、軟化劑、抗氧化劑、填充劑、著色劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、界面活性劑及抗靜電劑。作為溶劑，例如可例舉於丙烯酸聚合物之聚合時根據需要使用之聚合溶劑及聚合後添加於聚合反應溶液中之溶劑。作為該溶劑，例如使用乙酸乙酯及甲苯。
黏著劑層例如可藉由將上述黏著劑組合物塗佈於剝離襯墊上，根據需要進行乾燥及/或預聚物之聚合而製造。乾燥及/或預聚物之聚合可於在塗佈層表面積層有另一剝離襯墊之狀態下進行。
作為剝離襯墊，例如可例舉具有可撓性之塑膠膜。作為該塑膠膜，例如可例舉聚對苯二甲酸乙二酯膜、聚乙烯膜、聚丙烯膜及聚酯膜。剝離襯墊之厚度例如為3 μm以上，又，例如為200 μm以下。將剝離襯墊之表面用剝離劑塗佈。作為剝離劑之具體例，可例舉矽酮系剝離劑、氟系剝離劑、長鏈烷基丙烯酸酯系剝離劑。
作為黏著劑組合物之塗佈方法，例如可例舉輥式塗佈、接觸輥式塗佈、凹版塗佈、反向塗佈、輥式刷塗、噴霧塗佈、浸漬輥塗佈、棒式塗佈、刮刀塗佈、氣刀塗佈、淋幕式塗佈、模唇塗佈及模嘴塗佈。塗膜之乾燥溫度例如為50℃～200℃。乾燥時間例如為5秒～20分鐘。
自確保對於被黏著體之充分之黏著性之觀點及使彎曲時對偏光元件等施加之應力充分分散之觀點出發，黏著劑層之厚度較佳為10 μm～90 μm，更佳為15 μm～80 μm，進而較佳為20 μm～60 μm。
黏著劑層之霧度較佳為3%以下，更佳為2%以下，進而較佳為1%以下。黏著劑層之霧度可依據JIS K7136(2000年)，使用測霧計來進行測定。作為測霧計，例如可例舉日本電色工業公司製造之「NDH2000」及村上色彩技術研究所公司製造之「HM-150型」。
黏著劑層之全光線透過率較佳為60%以上，更佳為80%以上，進而較佳為85%以上。黏著劑層之全光線透過率例如為100%以下。黏著劑層之全光線透過率可依據JIS K 7375(2008年)測定。
F.剝離襯墊 作為剝離襯墊50，可應用與E項中記載之剝離襯墊同樣之說明。
G.光學積層體之製作方法 本發明之實施方式之光學積層體可藉由將作為構成要素之各層積層而獲得。各層之積層例如一面進行輥搬送(利用所謂之卷對卷)一面使用接著劑或黏著劑而進行。黏著劑層之積層例如可藉由將形成於剝離襯墊上之黏著劑層與剝離襯墊一起貼合於相位差層表面而進行。
H.光學積層體之使用方法 上述光學積層體可應用於液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、無機EL顯示裝置等圖像顯示裝置。例如，藉由將上述光學積層體經由黏著劑層貼合於有機EL面板之視認側，從而可適宜地抑制有機EL顯示裝置中之外界光反射。於一個實施方式中，於將光學積層體經由黏著劑層與相鄰構件(例如有機EL面板、液晶面板等)貼合後，使黏著劑層老化。藉由老化，黏著劑層與被黏著體(相位差層及相鄰構件)之間之接合力提高，例如對於作為聚醯亞胺膜之被黏著體，可適宜地獲得1 N/10 mm以上之黏著力F。老化溫度例如為20℃～160℃。老化時間例如為1分鐘至21天。作為老化，於進行高壓釜處理(加熱加壓處理)之情形時，溫度為例如30℃～80℃，壓力為例如0.1～0.8 MPa，處理時間為例如15分鐘以上且例如為1小時以下。 [實施例]
以下利用實施例對本發明具體地說明，但本發明並不受該等實施例限定。
(1)厚度 10 μm以下之厚度係使用干涉膜厚計(大塚電子公司製造，製品名「MCPD-3000」)測定。超過10 μm之厚度係使用數位式測微計(Anritsu公司製造，製品名「KC-351C」)測定。
[製造例1-1] ＜預聚物組合物之製備＞ 於燒杯內，於含有丙烯酸正辛酯(NOAA)60重量份、丙烯酸丁酯(BA)30重量份、丙烯酸4-羥基丁酯(4HBA)8重量份及N-乙烯基-2-吡咯啶酮(NVP)2重量份之單體混合物中，加入作為第一光聚合起始劑之2,2-二甲氧基-1,2-二苯基-1-酮(品名「Omnirad651」，IGM Resins公司製造)0.05重量份及作為第二光聚合起始劑之1-羥基環己基苯基酮(品名「Omnirad184」，IGM Resins公司製造)0.05重量份後，藉由對該混合物於氮氣氛圍下照射紫外線，從而使混合物中之單體成分之一部分聚合，獲得了聚合率為約10%之第一預聚物組合物。
＜黏著劑組合物之製備＞ 將第一預聚物組合物100重量份、作為交聯劑之二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)0.08重量份、作為光聚合起始劑之2,2-二甲氧基-1,2-二苯基-1-酮(品名「Omnirad651」，IGM Resins公司製造)0.05重量份及矽烷偶合劑(品名「KBM-403」，信越化學工業製造)0.3重量份混合，獲得了第一黏著劑組合物。
＜黏著劑層之形成＞ 於單面具有剝離處理面之第一剝離襯墊(品名「DIAFOIL MRF＃38」，厚度為38 μm，三菱化學公司製造)之剝離處理面上，塗佈第一黏著劑組合物而形成塗膜。繼而，於第一剝離襯墊上之塗膜上，貼合於單面具有剝離處理面之第二剝離襯墊(品名「DIAFOIL MRN#38」，厚度為38 μm，三菱化學公司製造)之剝離處理面。繼而，對剝離襯墊間之塗膜照射紫外線，使該塗膜光硬化而製作黏著劑層1(厚度為25 μm或50 μm)。紫外線照射中，使用黑光作為照射光源，使照射強度為5 mW/cm 2。
[製造例1-2] 於黏著劑組合物之製備中，除了使光聚合起始劑之調配量為0.1重量份而代替0.05重量份以外，與製造例1-1同樣地操作而製作黏著劑層2(厚度為25 μm或50 μm)。
[製造例1-3] 於黏著劑組合物之製備中，除了不調配光聚合起始劑以外，與製造例1-1同樣地操作而製作黏著劑層3(厚度為25 μm或50 μm)。
[製造例1-4] 除了以下事項以外，與製造例1-1同樣地操作而製作黏著劑層4(厚度為25 μm或50 μm)。於預聚物組合物之製備中，使第一光聚合起始劑(品名「Omnirad651」)之調配量為0.035重量份而代替0.05重量份，並且使第二光聚合起始劑(品名「Omnirad184」)之調配量為0.035重量份而代替0.05重量份。於黏著劑組合物之製備中，使交聯劑之調配量為0.02重量份而代替0.08重量份，並且不添加光聚合起始劑。
[製造例1-5] 除了以下事項以外，與製造例1-1同樣地操作而製作黏著劑層5(厚度為25 μm或50 μm)。於預聚物組合物之製備中，使第一光聚合起始劑(品名「Omnirad651」)之調配量為0.07重量份而代替0.05重量份，並且使第二光聚合起始劑(品名「Omnirad184」)之調配量為0.07重量份而代替0.05重量份。於黏著劑組合物之製備中，使交聯劑之調配量為0.04重量份而代替0.08重量份，並且不添加光聚合起始劑。
[製造例1-6] ＜預聚物組合物之製備＞ 於燒杯內，於含有丙烯酸正己酯(HxA)80重量份、丙烯酸丁酯(BA)10重量份、丙烯酸4-羥基丁酯(4HBA)8重量份及N-乙烯基-2-吡咯啶酮(NVP)2重量份之單體混合物中，加入作為第一光聚合起始劑之2,2-二甲氧基-1,2-二苯基-1-酮(品名「Omnirad651」，IGM Resins公司製造)0.05重量份及作為第二光聚合起始劑之1-羥基-環己基-苯基-酮(品名「Omnirad184」，IGM Resins公司製造)0.05重量份後，藉由對該混合物於氮氣氛圍下照射紫外線，從而使混合物中之單體成分之一部分聚合，獲得聚合率為約10%之第二預聚物組合物。
＜黏著劑組合物之製備＞ 將第二預聚物組合物100重量份、作為交聯劑之二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)0.08重量份、作為光聚合起始劑之2,2-二甲氧基-1,2-二苯基-1-酮(品名「Omnirad651」，IGM Resins公司製造)0.1重量份及矽烷偶合劑(品名「KBM-403」，信越化學工業製造)0.3重量份混合，獲得第二黏著劑組合物。
＜黏著劑層之形成＞ 除了使用第二黏著劑組合物而代替第一黏著劑組合物以外，與製造例1-1同樣地操作而製作黏著劑層6(厚度為25 μm或50 μm)。
[製造例1-7] 於黏著劑組合物之製備中，除了使光聚合起始劑之調配量為0.05重量份而代替0.1重量份以外，與製造例1-6同樣地操作而製作黏著劑層7(厚度為25 μm或50 μm)。
[製造例1-8] 於黏著劑組合物之製備中，除了不添加光聚合起始劑以外，與製造例1-6同樣地操作而製作黏著劑層8(厚度為25 μm或50 μm)。
[製造例1-9] ＜預聚物組合物之製備＞ 於燒杯內，於含有丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)78重量份、N-乙烯基-2-吡咯啶酮(NVP)18重量份及丙烯酸2-羥基乙酯(2HEA)4重量份之單體混合物中，加入第一光聚合起始劑(品名「Omnirad651」，IGM Resins公司製造)0.035重量份及第二光聚合起始劑(品名「Omnirad184」，IGM Resins公司製造)0.035重量份後，藉由對該混合物於氮氣氛圍下照射紫外線，從而使混合物中之單體成分之一部分聚合，獲得聚合率為約10%之第三預聚物組合物。
＜黏著劑組合物之製備＞ 將第三預聚物組合物100重量份、作為交聯劑之DPHA 0.29重量份及矽烷偶合劑(品名「KBM-403」，信越化學工業製造)0.353重量份混合，獲得第三黏著劑組合物。
＜黏著劑層之形成＞ 除了使用第三黏著劑組合物而代替第一黏著劑組合物以外，與製造例1-1同樣地操作而製作黏著劑層9(厚度為25 μm)。
≪180°剝離試驗≫ 對於製造例1-1～1-9中獲得之黏著劑層1～9，利用180°剝離試驗，調查對聚醯亞胺被黏著體之黏著力。
＜測定用試樣＞ 自黏著劑層將第一剝離襯墊剝離，將藉此露出之露出面貼合於對表面進行了電漿處理之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜(品名「Lumirror S10」，厚度為25 μm，東麗製造)，獲得積層體。於電漿處理中，使用電漿照射裝置(品名「AP-TO5」，積水工業公司製造)，使電壓為160 V，使頻率為10 kHz，使處理速度為5000 mm/分鐘(後述之電漿處理中亦相同)。繼而，自積層體(PET膜/黏著劑層/第二剝離襯墊)切出試驗片(寬10 mm×長100 mm)。繼而，自該試驗片中之黏著劑層將第二剝離襯墊剝離，將藉此露出之露出面貼合於對表面進行了電漿處理之聚醯亞胺(PI)膜(品名「GV200」，厚度為80 μm，KOLON公司製造)。繼而，對於附黏著劑層(試驗片)之PI膜，於溫度為50℃、壓力為0.5 MPa及15分鐘之條件下進行了加溫加壓處理。藉此，使試驗片向PI膜壓接。如上所述地操作而製作測定用試樣。
＜第一180°剝離試驗＞ 將測定用試樣於室溫下靜置30分鐘後，於下述條件下實施自測定用試樣中之PI膜將試驗片剝離之180°剝離試驗，測定剝離所需之力(剝離強度)。將測定之剝離強度之平均值(N＝3)作為拉伸速度為300 mm/分鐘時之黏著力f1(N/10 mm)。 ·拉伸試驗機：Tensilon型拉伸試驗機(品名「Autograph AG-50NX plus」，島津製作所製造) ·測定溫度：25℃ ·相對濕度：55% ·剝離角度：180° ·拉伸速度：300 mm/分鐘 ·剝離長度：50 mm
＜第二180°剝離試驗＞ 除了將拉伸速度變為100 mm/分鐘以外，於與第一180°剝離試驗相同之條件下實施180°剝離試驗。將測定之剝離強度之平均值(N＝3)作為拉伸速度為100 mm/分鐘時之黏著力f2(N/10 mm)。
＜第三180°剝離試驗＞ 除了將拉伸速度變為10 mm/分鐘以外，於與第一180°剝離試驗相同之條件下實施180°剝離試驗。將測定之剝離強度之平均值(N＝3)作為拉伸速度為10 mm/分鐘時之黏著力f3(N/10 mm)。
＜黏著力F＞ 利用基於黏著力f1、f2、f3之外插法，求出拉伸速度為0時之黏著力F(N/10 mm)。具體而言，將黏著力f1、f2、f3標繪於將180°剝離試驗中之拉伸速度(mm/分鐘)作為X軸、將黏著力(N/10 mm)作為Y軸之座標圖中，由該3個座標點之x座標及y座標，利用最小平方法求出回歸線(直線)，利用使用該直線之外插法，求出拉伸速度為0時之黏著力F。
≪拉伸試驗≫ 對於製造例1-1～1-9之各黏著層，調查拉伸試驗中產生之應變應力。
＜測定用試樣＞ 將黏著劑層於在兩面積層有剝離襯墊之狀態下切出寬30 mm×長100 mm之尺寸而獲得片材段。自獲得之片材段將一剝離襯墊剝離後，於另一剝離襯墊上，將黏著劑層片以不產生氣泡之方式沿長度方向捲繞而成為圓柱形狀(圓柱高度為30 mm)。如此操作而獲得作為測定用試樣之圓柱形狀黏著劑層片。
＜拉伸試驗＞ 對於上述測定用試樣，藉由於下述條件下沿圓柱形狀之高度方向拉伸而進行拉伸試驗，測定於拉伸過程中產生之拉伸應力。基於測定結果，製作應力-應變曲線(負載-伸長率曲線)，求出200%伸長時之應變應力S200(N/cm 2)。 ·拉伸試驗機：Tensilon型拉伸試驗機(品名「Autograph AG-50NX plus」，島津製作所製造) ·測定溫度：25℃ ·相對濕度：50% ·初期夾頭間距離：10 mm ·拉伸速度：300 mm/分鐘
[製造例2-1] 作為熱塑性樹脂基材，使用長條狀、Tg為約75℃之非晶質之間苯二甲酸共聚聚對苯二甲酸乙二酯膜(厚度：100 μm)，對樹脂基材之單面實施電暈處理。 於將聚乙烯醇(聚合度為4200、皂化度為99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改性PVA(日本合成化學工業公司製造，商品名「GOHSEFIMER」)以9：1混合之PVA系樹脂100重量份中添加碘化鉀13重量份，將獲得之產物溶於水中，製備PVA水溶液(塗佈液)。 藉由於樹脂基材之電暈處理面塗佈上述PVA水溶液，並於60℃下進行乾燥，從而形成厚度為13 μm之PVA系樹脂層，製作積層體。 將獲得之積層體於130℃之烘箱內沿縱向(長度方向)單軸延伸至2.4倍(空中輔助延伸處理)。 繼而，將積層體於液溫為40℃之不溶化浴(相對於水100重量份，調配4重量份之硼酸而獲得之硼酸水溶液)中浸漬30秒(不溶化處理)。 繼而，於液溫為30℃之染色浴(相對於水100重量份，將碘及碘化鉀以1：7之重量比調配而獲得之碘水溶液)中，以最終獲得之偏光元件之單體透過率(Ts)成為規定之值之方式一面調整濃度一面浸漬60秒(染色處理)。 繼而，於液溫為40℃之交聯浴(相對於水100重量份，調配3重量份之碘化鉀、5重量份之硼酸而獲得之硼酸水溶液)中浸漬30秒(交聯處理)。 然後，一面使積層體浸漬於液溫為70℃之硼酸水溶液(硼酸濃度為4重量%、碘化鉀濃度為5重量%)中，一面於周速不同之輥間沿縱向(長度方向)以使總延伸倍率成為5.5倍之方式進行單軸延伸(水中延伸處理)。 然後，使積層體浸漬於液溫為20℃之洗淨浴(相對於水100重量份，調配4重量份之碘化鉀而獲得之水溶液)(洗淨處理)。 然後，一面於保持於約90℃之烘箱中乾燥，一面與表面溫度保持於約75℃之SUS製之加熱輥接觸(乾燥收縮處理)。 如此操作而於樹脂基材上形成厚度為約5 μm之偏光元件。 於獲得之偏光元件之表面(與樹脂基材相反側之面)經由紫外線硬化型接著劑貼合作為第一保護層之丙烯酸系樹脂膜(厚度：20 μm)。具體而言，以硬化型接著劑之厚度成為約1 μm之方式進行塗佈，使用滾壓機進行貼合。然後，自丙烯酸系樹脂膜側照射UV光線而使接著劑硬化。繼而，將樹脂基材剝離，獲得具有[丙烯酸系樹脂膜(第一保護層)/接著劑層/偏光元件]之構成之偏光板1。
[製造例2-2] 除了作為第一保護層使用附硬塗(HC)層之三乙醯纖維素(TAC)膜(HC層及TAC膜之合計厚度：32 μm)以外，與製造例2-1同樣地操作而獲得具有[附HC之TAC膜(第一保護層)/接著劑層/偏光元件]之構成之偏光板2。
[製造例2-3] 將厚度為30 μm之聚乙烯醇(PVA)系樹脂膜(可樂麗公司製造，製品名「PE3000」)之長條卷利用輥延伸機以於長度方向上成為5.9倍之方式沿長度方向進行單軸延伸，同時實施膨潤、染色、交聯、洗淨處理，最後實施乾燥處理，藉此製作厚度為12 μm之偏光元件。 具體而言，膨潤處理係一面於20℃之純水中處理一面延伸至2.2倍。繼而，染色處理係於以獲得之偏光元件之單體透過率成為規定之值之方式調整了碘濃度之碘與碘化鉀之重量比為1：7之30℃之水溶液中一面處理一面延伸至1.4倍。進而，交聯處理係採用兩階段之交聯處理，第一階段之交聯處理係一面於40℃之溶解有硼酸及碘化鉀之水溶液中處理一面延伸至1.2倍。第一階段之交聯處理之水溶液之硼酸含量為5.0重量%，碘化鉀含量為3.0重量%。第二階段之交聯處理係一面於65℃之溶解有硼酸及碘化鉀之水溶液中處理一面延伸至1.6倍。第二階段之交聯處理之水溶液之硼酸含量為4.3重量%，碘化鉀含量為5.0重量%。又，洗淨處理係用20℃之碘化鉀水溶液處理。洗淨處理之水溶液之碘化鉀含量為2.6重量%。最後，乾燥處理係於70℃下乾燥5分鐘，獲得偏光元件。 於獲得之偏光元件之表面，經由紫外線硬化型接著劑貼合作為第一保護層之附硬塗層之三乙醯纖維素(TAC)膜(HC層及TAC膜之合計厚度：32 μm)。具體而言，以硬化型接著劑之厚度成為約1 μm之方式塗佈，使用滾壓機進行貼合。然後，自附HC之TAC膜側照射UV光線，使接著劑硬化。繼而，於偏光元件中之與第一保護層相反側之表面，與上述同樣地操作而貼合作為第二保護層之TAC膜(厚度為25 μm)。 藉此，獲得具有[附HC之TAC膜(第一保護層)/接著劑層/偏光元件/接著劑層/TAC膜(第二保護層)]之構成之偏光板3。
[製造例3-1] 將顯示向列型液晶相之聚合性液晶(BASF公司製造：商品名「Paliocolor LC242」，由下述式表示)10 g及對於該聚合性液晶化合物之光聚合起始劑(BASF公司製造：商品名「Irgacure 907」)3 g溶解於甲苯40 g，製備液晶組合物(塗佈液)。 [化1]
對於聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜(厚度為38 μm)表面，使用摩擦布進行摩擦，實施配向處理。配向處理之方向係設為於貼合於偏光板時使得相對於偏光元件之吸收軸之方向自視認側看成為15°方向。於該配向處理表面，利用棒式塗佈機塗佈上述液晶塗佈液，藉由於90℃下進行2分鐘加熱乾燥，從而使液晶化合物配向。對如此操作而形成之液晶層，使用金屬鹵化物燈照射1 mJ/cm 2之光，使該液晶層硬化，藉此於PET膜上形成液晶配向固化層1(H層)。液晶配向固化層1之厚度為2.5 μm，面內相位差Re(550)為270 nm。進而，液晶配向固化層1顯示nx＞ny＝nz之折射率特性。
[製造例3-2] 除了變更塗佈厚度以及使配向處理方向相對於偏光元件之吸收軸之方向自視認側看成為75°方向以外，與製造例3-1同樣地操作而於PET膜上形成液晶配向固化層2(Q層)。液晶配向固化層2之厚度為1.5 μm，面內相位差Re(550)為140 nm。進而，液晶配向固化層2顯示nx＞ny＝nz之折射率特性。
[製造例3-3] 將由式(I)表示之化合物55份、由式(II)表示之化合物25份、由式(III)表示之化合物20份加入環戊酮(CPN)400份中後，加熱至60℃，攪拌使其溶解，確認了溶解後，恢復至室溫，加入Irgacure 907(BASF日本股份有限公司製造)3份、Megafac F-554(DIC股份有限公司製造)0.2份、對甲氧基苯酚(MEHQ)0.1份，進而進行攪拌，獲得溶液。溶液透明、均勻。將獲得之溶液用0.20 μm之膜濾器過濾，獲得聚合性組合物。另一方面，使用旋塗法將配向膜用聚醯亞胺溶液塗佈於TAC基材，於100℃下乾燥10分鐘後，於200℃下燒成60分鐘，藉此獲得塗膜。對獲得之塗膜進行摩擦處理，形成配向膜。摩擦處理係使用市售之摩擦裝置進行。利用旋塗法於配向膜表面塗佈上述獲得之聚合性組合物，於100℃下乾燥2分鐘。將獲得之塗佈膜冷卻至室溫後，使用高壓水銀燈，以30 mW/cm 2之強度照射30秒紫外線，獲得液晶配向固化層3(厚度為4 μm)。液晶配向固化層之面內相位差Re(550)為130 nm。又，液晶配向固化層3之Re(450)/Re(550)為0.851，顯示出逆分散波長特性。
[化2] [化3]
[製造例3-4] 將由下述化學式(1)(式中之數字65及35表示單體單元之莫耳%，方便起見用嵌段聚合物表示：重量平均分子量為5000)表示之側鏈型液晶聚合物20重量份、顯示向列型液晶相之聚合性液晶(BASF公司製造：商品名Paliocolor LC242)80重量份及光聚合起始劑(Ciba Specialty Chemicals公司製造：商品名Irgacure 907)5重量份溶解於環戊酮200重量份，製備液晶塗佈液。然後，於實施了垂直配向處理之PET基材，利用棒式塗佈機塗佈該塗佈液後，於80℃下加熱乾燥4分鐘，藉此使液晶配向。對該液晶層照射紫外線，使液晶層硬化，藉此於基材上形成顯示nz＞nx＝ny之折射率特性之液晶配向固化層4(厚度為3 μm)。 [化4]
[製造例4-1] 於製造例2-1中獲得之偏光板1之偏光元件側依序轉印液晶配向固化層1(H層)及液晶配向固化層2(Q層)。此時，以偏光元件之吸收軸與液晶配向固化層1之慢軸所成之角度成為15°、偏光元件之吸收軸與液晶配向固化層2之慢軸所成之角度成為75°之方式進行轉印(貼合)。一面進行輥搬送，一面經由紫外線硬化型接著劑(硬化後之厚度為約1 μm)而進行了各個轉印。藉此，獲得具有[第一保護層/接著劑層/偏光元件/接著劑層/液晶配向固化層1(H層)/接著劑層/液晶配向固化層2(Q層)]之構成之附相位差層之偏光板1(厚度為31 μm)。
[製造例4-2] 將於製造例3-3及3-4中分別形成於TAC基材或PET上之液晶配向固化層3及4經由紫外線硬化型接著劑(硬化後之厚度為約1 μm)貼合，形成中間積層體。將該中間積層體供於100℃、10分鐘之退火處理。自經退火處理之中間積層體將TAC基材剝離，於露出之液晶配向固化層3表面配置丙烯酸系黏著劑(厚度為5 μm)，經由該丙烯酸系黏著劑與製造例2-2中獲得之偏光板2之偏光元件側貼合。此時，以液晶配向固化層3之慢軸相對於偏光元件之吸收軸成45°之角度之方式調整。繼而，將PET基材剝離，藉此獲得具有[第一保護層/接著劑層/偏光元件/黏著劑層/液晶配向固化層3/接著劑層/液晶配向固化層4]之構成之附相位差層之偏光板2(厚度為51 μm)。
[製造例4-3] 除了使用製造例2-3中獲得之偏光板3而代替製造例2-2中獲得之偏光板2，將中間積層體之液晶配向固化層3表面與偏光板3之TAC膜側貼合以外，與製造例4-2同樣地操作而獲得具有[第一保護層/接著劑層/偏光元件/接著劑層/第二保護層/黏著劑層/液晶配向固化層3/接著劑層/液晶配向固化層4]之構成之附相位差層之偏光板3(厚度為83 μm)。
以下示出製造例4-1～4-3中獲得之附相位差層之偏光板1～3之構成。 [表1]
製造例4-1 附相位差層之偏光板1 製造例4-2 附相位差層之偏光板2 製造例4-3 附相位差層之偏光板3
第一保護層(厚度為20 μm) 厚度為31 μm 第一保護層(厚度為32 μm) 厚度為51 μm 第一保護層(厚度為32 μm) 厚度為83 μm
接著劑層(厚度為0.5 μm～1 μm) 接著劑層(厚度為0.5 μm～1 μm) 接著劑層(厚度為0.5 μm～1 μm)
偏光元件(厚度為5 μm) 偏光元件(厚度為5 μm) 偏光元件(厚度為12 μm)
- - 接著劑層(厚度為0.5 μm～1 μm)
- - 第二保護層(厚度為25 μm)
接著劑層(厚度為0.5 μm～1 μm) 黏著劑層(厚度為5 μm) 黏著劑層(厚度為5 μm)
液晶配向固化層1(厚度為2.5 μm) 液晶配向固化層3(厚度為4 μm) 液晶配向固化層3(厚度為4 μm)
接著劑層(厚度為0.5 μm～1 μm) 接著劑層(厚度為0.5 μm～1 μm) 接著劑層(厚度為0.5 μm～1 μm)
液晶配向固化層2(厚度為1.5 μm) 液晶配向固化層4(厚度為3 μm) 液晶配向固化層4(厚度為3 μm)
[實施例1～32及比較例1～5] 將製造例1-1～1-9中獲得之黏著劑層1～9(厚度為25 μm或50 μm)貼合於製造例4-1～4-3中獲得之附相位差層之偏光板1～3之相位差層側表面。 具體而言，藉由將單側之剝離襯墊剝離而使於剝離襯墊間形成之黏著劑層1～9(厚度為25 μm或50 μm)露出，對露出面進行電漿處理。電漿處理係使用電漿照射裝置(品名「AP-TO5」，積水工業公司製造)，於電壓為160 V、頻率為10 kHz、處理速度為5000 mm/分鐘之條件下而進行。又，對附相位差層之偏光板1～3之相位差層側表面同樣地進行了電漿處理。繼而，將黏著劑層之露出面與附相位差層之偏光板之相位差層側表面貼合，於23℃之環境下使2 kg之輥往返1次而進行壓接。藉此，獲得具有[附相位差層之偏光板/黏著劑層/剝離襯墊]之構成之光學積層體。
≪彎曲保持試驗≫ 關於獲得之光學積層體，使用面狀體無負荷U字伸縮試驗機(YUASA SYSTEM機器製造)進行彎曲保持試驗。 具體而言，自光學積層體將剝離襯墊剝離，於藉此露出之黏著劑層面貼合經電漿處理之透明聚醯亞胺膜之電漿處理面，獲得積層膜。電漿處理係使用電漿照射裝置(品名「AP-TO5」，積水工業公司製造)於電壓為160 V、頻率為10 kHz、處理速度為5000 mm/分鐘之條件下進行。以偏光元件之吸收軸方向與長邊方向成45°之角度之方式將獲得之積層膜切出為35 mm×100 mm之矩形，於35℃及0.50 MPa之條件下進行15分鐘高壓釜處理而製得試驗片。 繼而，對於試驗片之長邊方向之兩端部之各者，於與端緣相距20 mm之範圍分別安裝彎曲治具，將試驗片固定於試驗機(試驗片之長邊方向之中央60 mm之區域處於未被固定之狀態)。於溫度為60℃及相對濕度為95%之條件之恆溫恆濕槽內，使試驗片於附相位差層之偏光板單側之面成為內側之彎曲形態與非彎曲形態之間，以彎曲速度60 rpm反覆變形(彎曲)20萬次。此處，所謂彎曲形態，係作用於試驗片之彎曲力矩之軸方向與偏光元件之吸收軸方向正交之形態。於該彎曲形態下，試驗片之彎曲半徑設定為1.3 mm，彎曲角度設定為180°。 於上述彎曲保持試驗後，將於黏著劑層與其被黏著體之間(黏著劑層與附相位差層之偏光板或聚醯亞胺膜之間)未產生剝離之情形評價為密接性「良」，將產生了剝離之情形評價為密接性「不良」。又，於目視光學積層體時，將未視認到裂紋之情形評價為彎曲性「良」，將視認到裂紋之情形評價為彎曲性「不良」。將結果與光學積層體之構成、黏著劑層之特性評價結果一起示於表2。
[表2]
   實施例1 實施例2 實施例3 實施例4 實施例5 實施例6 實施例7 實施例8 實施例9 實施例10 實施例11 實施例12 實施例13 實施例14 實施例15 實施例16
附相位差層之偏光板 製造例 4-1 4-2 4-1 4-2 4-1 4-2 4-1 4-2 4-1 4-2 4-1 4-2 4-1 4-2 4-1 4-2
厚度(μm) 31 51 31 51 31 51 31 51 31 51 31 51 31 51 31 51
黏著劑層 製造例 1-1 1-2 1-3 1-4
厚度(μm) 50 25 50 25 50 25 50 25
附相位差層之偏光板厚度/黏著劑層厚度 0.62 1.02 1.24 2.04 0.62 1.02 1.24 2.04 0.62 1.02 1.24 2.04 0.62 1.02 1.24 2.04
黏著力F(N/10 mm) 2.3 2.3 2.3 2.3 2.6 2.6 2.6 2.6 3 3 3 3 4.5 4.5 4.5 4.5
200%伸長時之應變應力S 200(N/cm 2) 3.5 3.5 3.5 3.5 3.5 3.5 3.5 3.5 3.7 3.7 3.7 3.7 5.9 5.9 5.9 5.9
彎曲保持試驗 密接性 良 良 良 良 良 良 良 良 良 良 良 良 良 良 良 良
彎曲性 良 良 良 良 良 良 良 良 良 良 良 良 良 良 良 良
   實施例17 實施例18 實施例19 實施例20 實施例21 實施例22 實施例23 實施例24 實施例25 實施例26 實施例27 實施例28 實施例29 實施例30 實施例31 實施例32
附相位差層之偏光板 製造例 4-1 4-2 4-1 4-2 4-1 4-2 4-1 4-2 4-1 4-2 4-1 4-2 4-1 4-2 4-1 4-2
厚度(μm) 31 51 31 51 31 51 31 51 31 51 31 51 31 51 31 51
黏著劑層 製造例 1-5 1-6 1-7 1-8
厚度(μm) 50 25 50 25 50 25 50 25
附相位差層之偏光板厚度/黏著劑層厚度 0.62 1.02 1.24 2.04 0.62 1.02 1.24 2.04 0.62 1.02 1.24 2.04 0.62 1.02 1.24 2.04
黏著力F(N/10 mm) 3.6 3.6 3.6 3.6 2.6 2.6 2.6 2.6 3 3 3 3 3.2 3.2 3.2 3.2
200%伸長時之應變應力S 200(N/cm 2) 4.5 4.5 4.5 4.5 3.4 3.4 3.4 3.4 4.9 4.9 4.9 4.9 7 7 7 7
彎曲保持試驗 密接性 良 良 良 良 良 良 良 良 良 良 良 良 良 良 良 良
彎曲性 良 良 良 良 良 良 良 良 良 良 良 良 良 良 良 良
   比較例1 比較例2 比較例3 比較例4 比較例5   
附相位差層之偏光板 製造例 4-1 4-2 4-1 4-2 4-3
厚度(μm) 31 51 31 51 83
黏著劑層 製造例 1-9 1-1
厚度(μm) 50 25 25
附相位差層之偏光板厚度/黏著劑層厚度 0.62 1.02 1.24 2.04 3.24
黏著力F(N/10 mm) 3.7 3.7 3.7 3.7 2.3
200%伸長時之應變應力S 200(N/cm 2) 25.3 25.3 25.3 25.3 3.5
彎曲保持試驗 密接性 不良 不良 不良 不良 良
彎曲性 良 良 良 良 不良
如表2所示，可知具備具有規定之特性之黏著劑層且附相位差層之偏光板與黏著劑層之厚度之比為規定之範圍之實施例之光學積層體之耐彎曲性優異。 [產業上之可利用性]
根據本發明之實施方式之光學積層體可應用於液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、無機EL顯示裝置等圖像顯示裝置。
10:偏光元件 10a:第一主面 10b:第二主面 20a:第一保護層 20b:第二保護層 30:相位差層 30a:第一相位差層 30b:第二相位差層 40:黏著劑層 50:剝離襯墊 100:光學積層體 100a:光學積層體 100b:光學積層體 100c:光學積層體 T1:厚度 T2:厚度
圖1(a)～(c)分別為本發明之一個實施方式之光學積層體之概略剖視圖。
10:偏光元件
10a:第一主面
10b:第二主面
20a:第一保護層
20b:第二保護層
30:相位差層
30a:第一相位差層
30b:第二相位差層
40:黏著劑層
50:剝離襯墊
100:光學積層體
100a:光學積層體
100b:光學積層體
100c:光學積層體
T1:厚度
T2:厚度

Claims (7)

  1. 一種光學積層體，其具有：偏光元件、配置於該偏光元件之第一主面側之保護層、及依序配置於該偏光元件之第二主面側之相位差層及黏著劑層， 基於下述之黏著力並藉由外插法求出之拉伸速度為0時之該黏著劑層對聚醯亞胺被黏著體之黏著力F為1 N/10 mm以上，上述黏著力為： 於25℃及拉伸速度為300 mm/分鐘之條件下之第一180°剝離試驗中之黏著力、 於25℃及拉伸速度為100 mm/分鐘之條件下之第二180°剝離試驗中之黏著力、及 於25℃及拉伸速度為10 mm/分鐘之條件下之第三180°剝離試驗中之黏著力， 於25℃及拉伸速度為300 mm/分鐘之條件下之拉伸試驗中之200%伸長時之應變應力S200為15 N/cm 2以下， 自該保護層至該相位差層之厚度相對於該黏著劑層之厚度之比為0.3～3.0。
  2. 如請求項1之光學積層體，其中自上述保護層至上述相位差層之厚度為20 μm～60 μm。
  3. 如請求項1之光學積層體，其中自上述保護層至上述黏著劑層之厚度為110 μm以下。
  4. 如請求項1之光學積層體，其中上述偏光元件之厚度為10 μm以下。
  5. 如請求項1之光學積層體，其中上述保護層之厚度為45 μm以下。
  6. 如請求項1之光學積層體，其中上述相位差層包含自上述偏光元件之上述第二主面側依序配置之作為λ/2板之液晶化合物之配向固化層及作為λ/4板之液晶化合物之配向固化層。
  7. 如請求項1之光學積層體，其中上述相位差層包含顯示逆分散波長特性之液晶化合物之配向固化層。
TW112112815A 2022-04-18 2023-04-06 光學積層體 TW202404803A (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022-068451 2022-04-18
JP2022068451A JP2023158540A (ja) 2022-04-18 2022-04-18 光学積層体

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW202404803A true TW202404803A (zh) 2024-02-01

Family

ID=88353780

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW112112815A TW202404803A (zh) 2022-04-18 2023-04-06 光學積層體

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP2023158540A (zh)
KR (1) KR20230148781A (zh)
CN (1) CN116908954A (zh)
TW (1) TW202404803A (zh)

Also Published As

Publication number Publication date
JP2023158540A (ja) 2023-10-30
KR20230148781A (ko) 2023-10-25
CN116908954A (zh) 2023-10-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101037571B1 (ko) 광학용 점착제, 점착제 부착 광학 필름 및 화상 표시 장치
TWI484012B (zh) 偏光板及含有該偏光板之液晶顯示器
KR20160034215A (ko) 점착제층 부착 편광판
JP2020160461A (ja) フレキシブル偏光膜、その製造方法および画像表示装置
CN111512197B (zh) 偏振板
JP2020160462A (ja) フレキシブル偏光膜、その製造方法および画像表示装置
JP2020160460A (ja) フレキシブル偏光膜、その製造方法および画像表示装置
KR20160115765A (ko) 점착제층 부착 광학 필름
WO2021084874A1 (ja) 画像表示装置および光学部材のセット
TW202023809A (zh) 影像顯示面板及影像顯示裝置
TW201943818A (zh) 附相位差層之偏光板及有機el顯示裝置
KR20170107980A (ko) 점착성 조성물, 점착제 및 점착 시트
TW202404803A (zh) 光學積層體
WO2023074037A1 (ja) 位相差層付偏光板
TW201944108A (zh) 附相位差層之偏光板及有機el顯示裝置
WO2022224494A1 (ja) 位相差層付偏光板
TW202404802A (zh) 被覆蓋之附相位差層之偏光膜
TW202309230A (zh) 光學黏著劑層
CN116583894A (zh) 带粘合剂层的光学膜以及具备该带粘合剂层的光学膜的图像显示装置
TW202340413A (zh) 光學黏著片材
TW202340414A (zh) 光學黏著片材
JP2023154343A (ja) 光学粘着剤層
TW202340415A (zh) 光學黏著片材
TW202335329A (zh) 光學積層體
KR20240011751A (ko) 점착 시트, 광학 적층체, 화상 표시 장치 및 점착 시트의 제조 방법