TWI702992B - 清洗系統 - Google Patents

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TWI702992B TW105130004A TW105130004A TWI702992B TW I702992 B TWI702992 B TW I702992B TW 105130004 A TW105130004 A TW 105130004A TW 105130004 A TW105130004 A TW 105130004A TW I702992 B TWI702992 B TW I702992B
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張丹丹
異 魯
周磊
黃覺偉
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Abstract

本發明揭示一種清洗系統，包括：一第一清洗箱；一研磨膜承載及移動單元，適於將待清洗之研磨膜移動至該第一清洗箱中並保持在該第一清洗箱中；一第一清洗液噴頭，適於向保持在該第一清洗箱中之研磨膜噴射清洗液；及一滾刷單元，適於在向該研磨膜噴射清洗液的同時刷洗該研磨膜。在本發明中，清洗系統實現對研磨膜之自動化清洗，提高了研磨膜之清洗效率，而且提高了研磨膜之清洗效果。

Description

清洗系統
本發明係關於一種清洗系統，尤其係關於一種用於對使用過的研磨膜進行清洗之清洗系統。
光纖連接器大體上包括外殼及安裝在外殼中之光纖插芯。光纖插芯是光纖連接器之最核心的部件。光纖插芯包括插芯(ferrule)及插入該插芯之光纖通孔中之光纖。光纖之前端從插芯之前端面凸出預定距離，並且光纖注入插芯之光纖通孔中之黏著劑固定在插芯的光纖通孔中。在光纖固定在插芯中之後，需要對光纖插芯黏著劑前端面進行處理，整個處理程序大體上包括以下步驟：首先使用研磨膜對光纖插芯黏著劑前端面進行研磨；然後，對經研磨之光纖插芯進行清洗，以去除光纖插芯上的研磨粉末；然後，對經清洗之光纖插芯進行乾燥；最後，對經乾燥之光纖插芯的前端面進行擦拭。 在現有技術中，研磨膜是可以重新使用的，因此，在對光纖插芯的前端面進行研磨之後，還需要對使用過的研磨膜進行清洗，以去除研磨膜上的研磨粉末。清洗乾淨之後的研磨膜可以重新使用。 在現有技術中，對使用過的研磨膜之清洗工作大體上是藉由人工來完成的，用人工方式清洗研磨膜不僅效率低下，而且難以完全去除研磨膜上微小研磨粉末，清洗效果不佳。
本發明之目的旨在解決現有技術中存在的上述問題及缺陷的至少一個態樣。 根據本發明之一個目的，旨在於提供一種清洗系統，其能夠高效地實現對研磨膜之清洗，提高了研磨膜之清洗效率及清洗效果。 根據本發明之一個態樣，提供一種清洗系統，包括：第一清洗箱；研磨膜承載及移動單元，適於將待清洗之研磨膜移動至該第一清洗箱中並保持在該第一清洗箱中；第一清洗液噴頭，適於向保持在該第一清洗箱中之研磨膜噴射清洗液；及滾刷單元，適於在向該研磨膜噴射清洗液的同時刷洗該研磨膜。 根據本發明之一個實例實施例，該研磨膜承載及移動單元包括：承載台，適於在其上裝載該研磨膜；升降機構，適於將該承載台移動至該第一清洗箱的內部；及支撐機架，用於支撐該升降機構及該承載台。 根據本發明之另一個實例實施例，該研磨膜承載及移動單元還包括感測器，該感測器適於檢測該承載台上有無研磨膜以及研磨膜的狀態。 根據本發明之另一個實例實施例，該升降機構安裝在該支撐機架上；該承載台安裝在該升降機構上，以便隨該升降機構一起上升或下降；並且該感測器安裝在該升降機構上。 根據本發明之另一個實例實施例，該升降機構包括：安裝架，該承載台及該感測器安裝在該安裝架上；及驅動器，安裝在該支撐機架上，適於驅動該安裝架沿豎直方向上下移動。 根據本發明之另一個實例實施例，該滾刷單元包括：滾刷安裝架；滾刷，轉動地安裝該滾刷安裝架上；滾刷驅動器，適於驅動該滾刷繞其軸線旋轉；水平移動機構，適於驅動該滾刷沿水平方向前後移動；豎直移動機構，適於驅動該滾刷沿豎直方向上下移動；及主支撐架，適於支撐該滾刷、該滾刷驅動器、該水平移動機構及該豎直移動機構。 根據本發明之另一個實例實施例，該水平移動機構包括：水平滑軌，安裝在該主支撐架上；水平移動平台，滑動地安裝在該水平滑軌上；及水平移動驅動器，安裝在該主支撐架上，適於驅動該水平移動平台沿該水平滑軌前後移動。 根據本發明之另一個實例實施例，該水平移動驅動器藉由第一傳動帶驅動該水平移動平台沿該水平滑軌前後移動。 根據本發明之另一個實例實施例，該豎直移動機構包括：豎直移動驅動器，安裝在該水平移動平台上，以便隨該水平移動平台一起沿該水平滑軌前後移動；及豎直連接軸，將該滾刷安裝架連接至該豎直移動驅動器。 根據本發明之另一個實例實施例，該滾刷驅動器藉由第二傳動帶驅動該滾刷繞其軸線旋轉。 根據本發明之另一個實例實施例，在該滾刷的前後兩側分別安裝有擋板，用於防止清洗液從該滾刷的前後兩側向外飛濺。 根據本發明之另一個實例實施例，該清洗系統還包括：氣體噴頭，適於向已經清洗乾淨的研磨膜噴射氣體，以便風乾該研磨膜。 根據本發明之另一個實例實施例，該第一清洗液噴頭及該氣體噴頭安裝在該第一清洗箱中。 根據本發明之另一個實例實施例，在該第一清洗箱的底部設置有第一排泄出口，適於將該第一清洗箱中的廢液排出。 根據本發明之另一個實例實施例，該清洗系統還包括：第二清洗箱，該水平移動機構及該豎直移動機構適於將待清洗的滾刷移動至該第二清洗箱中；及第二清洗液噴頭，安裝在該第二清洗箱中，適於向放置在該第二清洗箱中的待清洗的滾刷噴射清洗液，以便對滾刷進行清洗。 根據本發明之另一個實例實施例，在該第二清洗箱的底部設置有第二排泄出口，適於將該第二清洗箱中的廢液排出。 在本發明之前述各個實例實施例中，清洗系統實現對研磨膜的自動化清洗，提高了研磨膜的清洗效率，而且提高了研磨膜的清洗效果。 藉由下文中參照附圖對本發明所作的描述，本發明之其他目的及優點將顯而易見，並可幫助對本發明有全面的理解。
下面藉由實施例，並結合附圖，對本發明之技術方案作進一步具體的說明。在說明書中，相同或相似的附圖標號指示相同或相似的部件。下述參照附圖對本發明實施方式的說明旨在對本發明之總體發明構思進行解釋，而不應當理解為對本發明之一種限制。 根據本發明之一個總體技術構思，提供一種清洗系統，包括：第一清洗箱；研磨膜承載及移動單元，適於將待清洗的研磨膜移動至該第一清洗箱中並保持在該第一清洗箱中；第一清洗液噴頭，適於向保持在該第一清洗箱中的研磨膜噴射清洗液；及滾刷單元，適於在向該研磨膜噴射清洗液的同時刷洗該研磨膜。 圖1展示根據本發明之一個實例實施例的清洗系統的立體示意圖；圖2展示圖1所示的清洗系統的豎直剖面圖，其中，滾刷300移動至第一清洗箱10中對研磨膜400進行清洗。 在本發明之一個實例實施例中，揭示了一種清洗系統，適於對使用過的研磨膜400進行清洗。 如圖1及圖2所示，在圖示之實施例中，該清洗系統主要包括第一清洗箱10、研磨膜承載及移動單元、第一清洗液噴頭11及滾刷單元。研磨膜承載及移動單元適於將待清洗的研磨膜400移動至第一清洗箱10中並保持在第一清洗箱10中。第一清洗液噴頭11適於向保持在第一清洗箱10中的研磨膜400噴射清洗液。滾刷單元適於在向研磨膜400噴射清洗液的同時刷洗研磨膜。 如圖1及圖2所示，在本發明之一個實例實施例中，研磨膜承載及移動單元主要包括承載台120、升降機構110及支撐機架100。研磨膜400適於裝載在承載台120上。升降機構110適於將承載台120移動至第一清洗箱10的內部。支撐機架100用於支撐升降機構110及承載台120。 如圖1及圖2所示，在圖示之實施例中，研磨膜承載及移動單元還包括感測器130，該感測器130適於檢測承載台120上有無研磨膜400以及研磨膜400的狀態。研磨膜400的狀態可以包括研磨膜400的位置及姿態。 如圖1及圖2所示，在圖示之實施例中，升降機構110安裝在支撐機架100上；承載台120安裝在升降機構110上，以便隨升降機構110一起上升或下降；並且感測器130安裝在升降機構110上。 如圖1及圖2所示，在圖示之實施例中，升降機構110主要包括安裝架及驅動器。承載台120及感測器130安裝在升降機構110的安裝架上。升降機構110的驅動器安裝在支撐機架100上，適於驅動安裝架沿豎直方向上下移動。在本發明之一個實施例中，驅動器可以為汽缸或液壓缸。 如圖1及圖2所示，在本發明之一個實例實施例中，滾刷單元主要包括滾刷安裝架310、滾刷300、滾刷驅動器320、水平移動機構、豎直移動機構及主支撐架200。滾刷300轉動地安裝滾刷安裝架310上；滾刷驅動器320適於驅動滾刷300繞其軸線旋轉；水平移動機構適於驅動滾刷300沿水平方向前後移動；豎直移動機構適於驅動滾刷300沿豎直方向上下移動；主支撐架200適於支撐滾刷300、滾刷驅動器320、水平移動機構及豎直移動機構。 如圖1及圖2所示，在圖示之實施例中，水平移動機構主要包括水平滑軌210、水平移動平台220及水平移動驅動器240。水平滑軌210安裝在主支撐架200上；水平移動平台220滑動地安裝在水平滑軌210上；水平移動驅動器240安裝在主支撐架200上，適於驅動水平移動平台220沿水平滑軌210前後移動。 如圖1及圖2所示，在圖示之實施例中，水平移動驅動器240藉由第一傳動帶241驅動水平移動平台220沿水平滑軌210前後移動。 如圖1及圖2所示，在圖示之實施例中，豎直移動機構主要包括豎直移動驅動器230及豎直連接軸231。豎直移動驅動器230安裝在水平移動平台220上，以便隨水平移動平台220一起沿水平滑軌210前後移動。豎直連接軸231將滾刷安裝架310連接至豎直移動驅動器230。在本發明之一個實施例中，豎直移動驅動器230可以為汽缸或液壓缸。 如圖1及圖2所示，在圖示之實施例中，滾刷驅動器320藉由第二傳動帶330驅動滾刷300繞其軸線旋轉。在本發明之一個實施例中，滾刷驅動器320可以為電機。 如圖1及圖2所示，在圖示之實施例中，在滾刷300的前後兩側分別安裝有擋板340，用於防止清洗液從滾刷300的前後兩側向外飛濺。 如圖1及圖2所示，在圖示之實施例中，清洗系統還包括氣體噴頭12，該氣體噴頭12適於向已經清洗乾淨的研磨膜400噴射氣體，以便風乾研磨膜400。 如圖1及圖2所示，在圖示之實施例中，第一清洗液噴頭11及氣體噴頭12安裝在第一清洗箱10中。 如圖1及圖2所示，在圖示之實施例中，在第一清洗箱10的底部設置有第一排泄出口13，適於將第一清洗箱10中的廢液排出。 圖3展示圖1所示的清洗系統的豎直剖面圖，其中，滾刷300移動至第二清洗箱20中並清洗。 如圖3所示，在本發明之一個實例實施例中，清洗系統還包括第二清洗箱20及第二清洗液噴頭21。待清洗的(已經對研磨膜進行過刷洗的)滾刷300可以藉由前述水平移動機構及豎直移動機構移動至第二清洗箱20中。第二清洗液噴頭21安裝在第二清洗箱20中，適於向放置在第二清洗箱20中的待清洗的滾刷300噴射清洗液，以便對滾刷300進行單獨清洗。 如圖3所示，在圖示之實施例中，在第二清洗箱20的底部設置有第二排泄出口23，適於將第二清洗箱20中的廢液排出。 下面將參照圖1至圖3來詳細說明根據本發明之一個實例實施例的清洗系統的工作程序。 首先，將待清洗的研磨膜400保持在承載台120上； 然後，升降機構110向下移動，從而將承載台120以及其上的研磨膜400移動至第一清洗箱10中； 然後，利用水平移動機構及豎直移動機構將滾刷300移動至第一清洗箱10中，並使滾刷300與承載台120上的研磨膜400接觸； 然後，打開第一清洗液噴頭11並啟動滾刷驅動器320及水平移動驅動器240，這樣，在第一清洗液噴頭11向研磨膜400噴射清洗液的同時，滾刷300繞其軸線自轉並沿研磨膜400的水平表面前後移動，從而實現對研磨膜400的整個表面進行刷洗； 然後，在研磨膜400已經清洗乾淨之後，打開氣體噴頭12，向已經清洗乾淨的研磨膜400噴射氣體，以便風乾研磨膜400； 然後，在研磨膜400風乾之後，利用水平移動機構及豎直移動機構將滾刷300移動至第二清洗箱20中； 然後，升降機構110向上移動，從而將承載台120以及其上的已經清洗並已經風乾的研磨膜400移動至第一清洗箱10的外部； 最後，打開第二清洗液噴頭21，向第二清洗箱20中的待清洗的滾刷300噴射清洗液，從而對已經使用過的滾刷300進行單獨清洗。 雖然結合附圖對本發明進行了說明，但是附圖中揭示的實施例旨在對本發明優選實施方式進行示例性說明，而不能理解為對本發明之一種限制。 雖然本總體發明構思的一些實施例已經展示及說明，一般熟習此項技術者將理解，在不背離本總體發明構思的原理及精神的情況下，可對該等實施例做出改變，本發明之範疇以請求項及其等效物限定。 應注意，片語「包括」不排除其他元件或步驟，片語「一」或「一個」不排除多個。另外，請求項的任何元件標號不應理解為限制本發明之範疇。
10‧‧‧第一清洗箱11‧‧‧第一清洗液噴頭12‧‧‧氣體噴頭13‧‧‧第一排泄出口20‧‧‧第二清洗箱21‧‧‧第二清洗液噴頭23‧‧‧第二排泄出口100‧‧‧支撐機架110‧‧‧升降機構120‧‧‧承載台130‧‧‧感測器200‧‧‧主支撐架210‧‧‧水平滑軌220‧‧‧水平移動平台230‧‧‧豎直移動驅動器231‧‧‧豎直連接軸240‧‧‧水平移動驅動器241‧‧‧第一傳動帶300‧‧‧滾刷310‧‧‧滾刷安裝架320‧‧‧滾刷驅動器330‧‧‧第二傳動帶340‧‧‧擋板400‧‧‧研磨膜
圖1展示根據本發明之一個實例實施例的清洗系統的立體示意圖； 圖2展示圖1所示的清洗系統的豎直剖面圖，其中，滾刷移動至第一清洗箱中對研磨膜進行清洗；及 圖3展示圖1所示的清洗系統的豎直剖面圖，其中，滾刷移動至第二清洗箱中並清洗。
10‧‧‧第一清洗箱
20‧‧‧第二清洗箱
100‧‧‧支撐機架
110‧‧‧升降機構
200‧‧‧主支撐架
210‧‧‧水平滑軌
220‧‧‧水平移動平台
230‧‧‧豎直移動驅動器
241‧‧‧第一傳動帶
400‧‧‧研磨膜

Claims (15)

  1. 一種清洗系統，其包括：一第一清洗箱(10)；一研磨膜承載及移動單元，適於將待清洗的研磨膜(400)移動至該第一清洗箱(10)中並保持在該第一清洗箱(10)中；一第一清洗液噴頭(11)，適於向保持在該第一清洗箱(10)中的研磨膜(400)噴射清洗液；及一滾刷單元，適於在向該研磨膜(400)噴射清洗液的同時刷洗該研磨膜，該滾刷單元包括：一滾刷安裝架(310)；一滾刷(300)，轉動地安裝該滾刷安裝架(310)上；一滾刷驅動器(320)，適於驅動該滾刷(300)繞其軸線旋轉；一水平移動機構，適於驅動該滾刷(300)沿水平方向前後移動；一豎直移動機構，適於驅動該滾刷(300)沿豎直方向上下移動；及一主支撐架(200)，適於支撐該滾刷(300)、該滾刷驅動器(320)、該水平移動機構及該豎直移動機構。
  2. 如請求項1之清洗系統，其中，該研磨膜承載及移動單元包括：一承載台(120)，適於在其上裝載該研磨膜(400)；一升降機構(110)，適於將該承載台(120)移動至該第一清洗箱(10)的內部；及一支撐機架(100)，用於支撐該升降機構(110)及該承載台(120)。
  3. 如請求項2之清洗系統，其中：該研磨膜承載及移動單元還包括一感測器(130)，該感測器(130)適於檢測該承載台(120)上有無研磨膜(400)以及研磨膜(400)的狀態。
  4. 如請求項3之清洗系統，其中：該升降機構(110)安裝在該支撐機架(100)上；該承載台(120)安裝在該升降機構(110)上，以便隨該升降機構(110)一起上升或下降；並且該感測器(130)安裝在該升降機構(110)上。
  5. 如請求項4之清洗系統，其中，該升降機構(110)包括：一安裝架，該承載台(120)及該感測器(130)安裝在該安裝架上；及一驅動器，安裝在該支撐機架(100)上，適於驅動該安裝架沿豎直方向上下移動。
  6. 如請求項1之清洗系統，其中，該水平移動機構包括：一水平滑軌(210)，安裝在該主支撐架(200)上；一水平移動平台(220)，滑動地安裝在該水平滑軌(210)上；及一水平移動驅動器(240)，安裝在該主支撐架(200)上，適於驅動該水平移動平台(220)沿該水平滑軌(210)前後移動。
  7. 如請求項6之清洗系統，其中： 該水平移動驅動器(240)藉由一第一傳動帶(241)驅動該水平移動平台(220)沿該水平滑軌(210)前後移動。
  8. 如請求項7之清洗系統，其中，該豎直移動機構包括：一豎直移動驅動器(230)，安裝在該水平移動平台(220)上，以便隨該水平移動平台(220)一起沿該水平滑軌(210)前後移動；及一豎直連接軸(231)，將該滾刷安裝架(310)連接至該豎直移動驅動器(230)。
  9. 如請求項8之清洗系統，其中：該滾刷驅動器(320)藉由第二傳動帶(330)驅動該滾刷(300)繞其軸線旋轉。
  10. 如請求項9之清洗系統，其中：在該滾刷(300)的前後兩側分別安裝有擋板(340)，用於防止清洗液從該滾刷(300)的前後兩側向外飛濺。
  11. 如請求項1之清洗系統，其進一步包括：一氣體噴頭(12)，適於向已經清洗乾淨的研磨膜(400)噴射氣體，以便風乾該研磨膜(400)。
  12. 如請求項11之清洗系統，其中：該第一清洗液噴頭(11)及該氣體噴頭(12)安裝在該第一清洗箱(10) 中。
  13. 如請求項1之清洗系統，其中：在該第一清洗箱(10)的底部設置有第一排泄出口(13)，適於將該第一清洗箱(10)中的廢液排出。
  14. 如請求項1、及6至11中任一項之清洗系統，其進一步包括：一第二清洗箱(20)，該水平移動機構及該豎直移動機構適於將待清洗的滾刷(300)移動至該第二清洗箱(20)中；及一第二清洗液噴頭(21)，安裝在該第二清洗箱(20)中，適於向放置在該第二清洗箱(20)中的待清洗的滾刷(300)噴射清洗液，以便對滾刷(300)進行清洗。
  15. 如請求項14之清洗系統，其中：在該第二清洗箱(20)的底部設置有第二排泄出口(23)，適於將該第二清洗箱(20)中的廢液排出。
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