CN106540895A - 清洗系统 - Google Patents

清洗系统 Download PDF

Info

Publication number
CN106540895A
CN106540895A CN201510589656.6A CN201510589656A CN106540895A CN 106540895 A CN106540895 A CN 106540895A CN 201510589656 A CN201510589656 A CN 201510589656A CN 106540895 A CN106540895 A CN 106540895A
Authority
CN
China
Prior art keywords
round brush
grinding film
cleaning case
cleaning
purging system
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201510589656.6A
Other languages
English (en)
Other versions
CN106540895B (zh
Inventor
辛立明
刘云
谢逢春
张丹丹
魯异
周磊
黄觉伟
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
ZHUHAI YINGZHI TECHNOLOGY Co Ltd
Tyco Electronics Shanghai Co Ltd
TE Connectivity Corp
Original Assignee
ZHUHAI YINGZHI TECHNOLOGY Co Ltd
Tyco Electronics Shanghai Co Ltd
Tyco Electronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ZHUHAI YINGZHI TECHNOLOGY Co Ltd, Tyco Electronics Shanghai Co Ltd, Tyco Electronics Corp filed Critical ZHUHAI YINGZHI TECHNOLOGY Co Ltd
Priority to CN201510589656.6A priority Critical patent/CN106540895B/zh
Priority to TW105130004A priority patent/TWI702992B/zh
Priority to PCT/IB2016/055543 priority patent/WO2017046763A1/en
Priority to EP16778884.3A priority patent/EP3349920B1/en
Priority to KR1020187010562A priority patent/KR102147328B1/ko
Publication of CN106540895A publication Critical patent/CN106540895A/zh
Priority to US15/980,906 priority patent/US10814356B2/en
Application granted granted Critical
Publication of CN106540895B publication Critical patent/CN106540895B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • B08B1/50—
    • B08B1/12—
    • B08B1/32—
    • B08B1/52—
    • B08B1/54—
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/02—Cleaning by the force of jets or sprays
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B5/00—Cleaning by methods involving the use of air flow or gas flow
    • B08B5/02—Cleaning by the force of jets, e.g. blowing-out cavities
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B53/00—Devices or means for dressing or conditioning abrasive surfaces
    • B24B53/017—Devices or means for dressing, cleaning or otherwise conditioning lapping tools
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B53/00—Devices or means for dressing or conditioning abrasive surfaces
    • B24B53/02—Devices or means for dressing or conditioning abrasive surfaces of plane surfaces on abrasive tools

Abstract

本发明公开一种清洗系统，包括：第一清洗箱；研磨膜承载及移动单元，适于将待清洗的研磨膜移动到所述第一清洗箱中并保持在所述第一清洗箱中；第一清洗液喷头，适于向保持在所述第一清洗箱中的研磨膜喷射清洗液；和滚刷单元，适于在向所述研磨膜喷射清洗液的同时刷洗所述研磨膜。在本发明中，清洗系统实现对研磨膜的自动化清洗，提高了研磨膜的清洗效率，而且提高了研磨膜的清洗效果。

Description

清洗系统
技术领域
本发明涉及一种清洗系统，尤其涉及一种用于对使用过的研磨膜进行清洗的清洗系统。
背景技术
光纤连接器一般包括外壳和安装在外壳中的光纤插芯。光纤插芯是光纤连接器的最核心的部件。光纤插芯包括插芯(ferrule)和插入该插芯的光纤通孔中的光纤。光纤的前端从插芯的前端面凸出预定距离，并且光纤被注入插芯的光纤通孔中的粘结剂固定在插芯的光纤通孔中。在光纤被固定在插芯中之后，需要对光纤插芯的前端面进行处理，整个处理过程一般包括以下步骤：首先使用研磨膜对光纤插芯的前端面进行研磨；然后，对研磨过的光纤插芯进行清洗，以去除光纤插芯上的研磨粉末；然后，对清洗过的光纤插芯进行干燥；最后，对干燥过的光纤插芯的前端面进行擦拭。
在现有技术中，研磨膜是可以重新使用的，因此，在对光纤插芯的前端面进行研磨之后，还需要对使用过的研磨膜进行清洗，以去除研磨膜上的研磨粉末。清洗干净之后的研磨膜可以重新使用。
在现有技术中，对使用过的研磨膜的清洗工作一般是通过人工来完成的，用人工方式清洗研磨膜不仅效率低下，而且难以完全去除研磨膜上微小研磨粉末，清洗效果不佳。
发明内容
本发明的目的旨在解决现有技术中存在的上述问题和缺陷的至少一个方面。
根据本发明的一个目的，旨在于提供一种清洗系统，其能够高效地实现对研磨膜的清洗，提高了研磨膜的清洗效率和清洗效果。
根据本发明的一个方面，提供一种清洗系统，包括：第一清洗箱；研磨膜承载及移动单元，适于将待清洗的研磨膜移动到所述第一清洗箱中并保持在所述第一清洗箱中；第一清洗液喷头，适于向保持在所述第一清洗箱中的研磨膜喷射清洗液；和滚刷单元，适于在向所述研磨膜喷射清洗液的同时刷洗所述研磨膜。
根据本发明的一个实例性的实施例，所述研磨膜承载及移动单元包括：承载台，适于在其上装载所述研磨膜；升降机构，适于将所述承载台移动到所述第一清洗箱的内部；和支撑机架，用于支撑所述升降机构和所述承载台。
根据本发明的另一个实例性的实施例，所述研磨膜承载及移动单元还包括传感器，所述传感器适于检测所述承载台上有无研磨膜以及研磨膜的状态。
根据本发明的另一个实例性的实施例，所述升降机构安装在所述支撑机架上；所述承载台安装在所述升降机构上，以便随所述升降机构一起上升或下降；并且所述传感器安装在所述升降机构上。
根据本发明的另一个实例性的实施例，所述升降机构包括：安装架，所述承载台和所述传感器安装在所述安装架上；和驱动器，安装在所述支撑机架上，适于驱动所述安装架沿竖直方向上下移动。
根据本发明的另一个实例性的实施例，所述滚刷单元包括：滚刷安装架；滚刷，转动地安装所述滚刷安装架上；滚刷驱动器，适于驱动所述滚刷绕其轴线旋转；水平移动机构，适于驱动所述滚刷沿水平方向前后移动；竖直移动机构，适于驱动所述滚刷沿竖直方向上下移动；和主支撑架，适于支撑所述滚刷、所述滚刷驱动器、所述水平移动机构和所述竖直移动机构。
根据本发明的另一个实例性的实施例，所述水平移动机构包括：水平滑轨，安装在所述主支撑架上；水平移动平台，滑动地安装在所述水平滑轨上；和水平移动驱动器，安装在所述主支撑架上，适于驱动所述水平移动平台沿所述水平滑轨前后移动。
根据本发明的另一个实例性的实施例，所述水平移动驱动器通过第一传动带驱动所述水平移动平台沿所述水平滑轨前后移动。
根据本发明的另一个实例性的实施例，所述竖直移动机构包括：竖直移动驱动器，安装在所述水平移动平台上，以便随所述水平移动平台一起沿所述水平滑轨前后移动；和竖直连接轴，将所述滚刷安装架连接至所述竖直移动驱动器。
根据本发明的另一个实例性的实施例，所述滚刷驱动器通过第二传动带驱动所述滚刷绕其轴线旋转。
根据本发明的另一个实例性的实施例，在所述滚刷的前后两侧分别安装有挡板，用于防止清洗液从所述滚刷的前后两侧向外飞溅。
根据本发明的另一个实例性的实施例，所述清洗系统还包括：气体喷头，适于向已经被清洗干净的研磨膜喷射气体，以便风干所述研磨膜。
根据本发明的另一个实例性的实施例，所述第一清洗液喷头和所述气体喷头安装在所述第一清洗箱中。
根据本发明的另一个实例性的实施例，在所述第一清洗箱的底部设置有第一排泄出口，适于将所述第一清洗箱中的废液排出。
根据本发明的另一个实例性的实施例，所述清洗系统还包括：第二清洗箱，所述水平移动机构和所述竖直移动机构适于将待清洗的滚刷移动到所述第二清洗箱中；和第二清洗液喷头，安装在所述第二清洗箱中，适于向放置在所述第二清洗箱中的待清洗的滚刷喷射清洗液，以便对滚刷进行清洗。
根据本发明的另一个实例性的实施例，在所述第二清洗箱的底部设置有第二排泄出口，适于将所述第二清洗箱中的废液排出。
在本发明的前述各个实例性的实施例中，清洗系统实现对研磨膜的自动化清洗，提高了研磨膜的清洗效率，而且提高了研磨膜的清洗效果。
通过下文中参照附图对本发明所作的描述，本发明的其它目的和优点将显而易见，并可帮助对本发明有全面的理解。
附图说明
图1显示根据本发明的一个实例性的实施例的清洗系统的立体示意图；
图2显示图1所示的清洗系统的竖直剖面图，其中，滚刷被移动到第一清洗箱中对研磨膜进行清洗；和
图3显示图1所示的清洗系统的竖直剖面图，其中，滚刷被移动到第二清洗箱中并被清洗。
具体实施方式
下面通过实施例，并结合附图，对本发明的技术方案作进一步具体的说明。在说明书中，相同或相似的附图标号指示相同或相似的部件。下述参照附图对本发明实施方式的说明旨在对本发明的总体发明构思进行解释，而不应当理解为对本发明的一种限制。
根据本发明的一个总体技术构思，提供一种清洗系统，包括：第一清洗箱；研磨膜承载及移动单元，适于将待清洗的研磨膜移动到所述第一清洗箱中并保持在所述第一清洗箱中；第一清洗液喷头，适于向保持在所述第一清洗箱中的研磨膜喷射清洗液；和滚刷单元，适于在向所述研磨膜喷射清洗液的同时刷洗所述研磨膜。
图1显示根据本发明的一个实例性的实施例的清洗系统的立体示意图；图2显示图1所示的清洗系统的竖直剖面图，其中，滚刷300被移动到第一清洗箱10中对研磨膜400进行清洗。
在本发明的一个实例性的实施例中，公开了一种清洗系统，适于对使用过的研磨膜400进行清洗。
如图1和图2所示，在图示的实施例中，该清洗系统主要包括第一清洗箱10、研磨膜承载及移动单元、第一清洗液喷头11和滚刷单元。研磨膜承载及移动单元适于将待清洗的研磨膜400移动到第一清洗箱10中并保持在第一清洗箱10中。第一清洗液喷头11适于向保持在第一清洗箱10中的研磨膜400喷射清洗液。滚刷单元适于在向研磨膜400喷射清洗液的同时刷洗研磨膜。
如图1和图2所示，在本发明的一个实例性的实施例中，研磨膜承载及移动单元主要包括承载台120、升降机构110和支撑机架100。研磨膜400适于被装载在承载台120上。升降机构110适于将承载台120移动到第一清洗箱10的内部。支撑机架100用于支撑升降机构110和承载台120。
如图1和图2所示，在图示的实施例中，研磨膜承载及移动单元还包括传感器130，该传感器130适于检测承载台120上有无研磨膜400以及研磨膜400的状态。研磨膜400的状态可以包括研磨膜400的位置和姿态。
如图1和图2所示，在图示的实施例中，升降机构110安装在支撑机架100上；承载台120安装在升降机构110上，以便随升降机构110一起上升或下降；并且传感器130安装在升降机构110上。
如图1和图2所示，在图示的实施例中，升降机构110主要包括安装架和驱动器。承载台120和传感器130安装在升降机构110的安装架上。升降机构110的驱动器安装在支撑机架100上，适于驱动安装架沿竖直方向上下移动。在本发明的一个实施例中，驱动器可以为汽缸或液压缸。
如图1和图2所示，在本发明的一个实例性的实施例中，滚刷单元主要包括滚刷安装架310、滚刷300、滚刷驱动器320、水平移动机构、竖直移动机构和主支撑架200。滚刷300转动地安装滚刷安装架310上；滚刷驱动器320适于驱动滚刷300绕其轴线旋转；水平移动机构适于驱动滚刷300沿水平方向前后移动；竖直移动机构适于驱动滚刷300沿竖直方向上下移动；主支撑架200适于支撑滚刷300、滚刷驱动器320、水平移动机构和竖直移动机构。
如图1和图2所示，在图示的实施例中，水平移动机构主要包括水平滑轨210、水平移动平台220和水平移动驱动器240。水平滑轨210安装在主支撑架200上；水平移动平台220滑动地安装在水平滑轨210上；水平移动驱动器240安装在主支撑架200上，适于驱动水平移动平台220沿水平滑轨210前后移动。
如图1和图2所示，在图示的实施例中，水平移动驱动器240通过第一传动带241驱动水平移动平台220沿水平滑轨210前后移动。
如图1和图2所示，在图示的实施例中，竖直移动机构主要包括竖直移动驱动器230和竖直连接轴231。竖直移动驱动器230安装在水平移动平台220上，以便随水平移动平台220一起沿水平滑轨210前后移动。竖直连接轴231将滚刷安装架310连接至竖直移动驱动器230。在本发明的一个实施例中，竖直移动驱动器230可以为汽缸或液压缸。
如图1和图2所示，在图示的实施例中，滚刷驱动器320通过第二传动带330驱动滚刷300绕其轴线旋转。在本发明的一个实施例中，滚刷驱动器320可以为电机。
如图1和图2所示，在图示的实施例中，在滚刷300的前后两侧分别安装有挡板340，用于防止清洗液从滚刷300的前后两侧向外飞溅。
如图1和图2所示，在图示的实施例中，清洗系统还包括气体喷头12，该气体喷头12适于向已经被清洗干净的研磨膜400喷射气体，以便风干研磨膜400。
如图1和图2所示，在图示的实施例中，第一清洗液喷头11和气体喷头12安装在第一清洗箱10中。
如图1和图2所示，在图示的实施例中，在第一清洗箱10的底部设置有第一排泄出口13，适于将第一清洗箱10中的废液排出。
图3显示图1所示的清洗系统的竖直剖面图，其中，滚刷300被移动到第二清洗箱20中并被清洗。
如图3所示，在本发明的一个实例性的实施例中，清洗系统还包括第二清洗箱20和第二清洗液喷头21。待清洗的(已经对研磨膜进行过刷洗的)滚刷300可以通过前述水平移动机构和竖直移动机构被移动到第二清洗箱20中。第二清洗液喷头21安装在第二清洗箱20中，适于向放置在第二清洗箱20中的待清洗的滚刷300喷射清洗液，以便对滚刷300进行单独清洗。
如图3所示，在图示的实施例中，在第二清洗箱20的底部设置有第二排泄出口23，适于将第二清洗箱20中的废液排出。
下面将参照图1至图3来详细说明根据本发明的一个实例性的实施例的清洗系统的工作过程。
首先，将待清洗的研磨膜400保持在承载台120上；
然后，升降机构110向下移动，从而将承载台120以及其上的研磨膜400移动到第一清洗箱10中；
然后，利用水平移动机构和竖直移动机构将滚刷300移动到第一清洗箱10中，并使滚刷300与承载台120上的研磨膜400接触；
然后，打开第一清洗液喷头11并启动滚刷驱动器320和水平移动驱动器240，这样，在第一清洗液喷头11向研磨膜400喷射清洗液的同时，滚刷300绕其轴线自转并沿研磨膜400的水平表面前后移动，从而实现对研磨膜400的整个表面进行刷洗；
然后，在研磨膜400已经被清洗干净之后，打开气体喷头12，向已经被清洗干净的研磨膜400喷射气体，以便风干研磨膜400；
然后，在研磨膜400被风干之后，利用水平移动机构和竖直移动机构将滚刷300移动到第二清洗箱20中；
然后，升降机构110向上移动，从而将承载台120以及其上的已经被清洗并已经被风干的研磨膜400移动到第一清洗箱10的外部；
最后，打开第二清洗液喷头21，向第二清洗箱20中的待清洗的滚刷300喷射清洗液，从而对已经使用过的滚刷300进行单独清洗。
虽然结合附图对本发明进行了说明，但是附图中公开的实施例旨在对本发明优选实施方式进行示例性说明，而不能理解为对本发明的一种限制。
虽然本总体发明构思的一些实施例已被显示和说明，本领域普通技术人员将理解，在不背离本总体发明构思的原则和精神的情况下，可对这些实施例做出改变，本发明的范围以权利要求和它们的等同物限定。
应注意，措词“包括”不排除其它元件或步骤，措词“一”或“一个”不排除多个。另外，权利要求的任何元件标号不应理解为限制本发明的范围。

Claims (16)

1.一种清洗系统，其特征在于，包括：
第一清洗箱(10)；
研磨膜承载及移动单元，适于将待清洗的研磨膜(400)移动到所述第一清洗箱(10)中并保持在所述第一清洗箱(10)中；
第一清洗液喷头(11)，适于向保持在所述第一清洗箱(10)中的研磨膜(400)喷射清洗液；和
滚刷单元，适于在向所述研磨膜(400)喷射清洗液的同时刷洗所述研磨膜。
2.根据权利要求1所述的清洗系统，其特征在于，所述研磨膜承载及移动单元包括：
承载台(120)，适于在其上装载所述研磨膜(400)；
升降机构(110)，适于将所述承载台(120)移动到所述第一清洗箱(10)的内部；和
支撑机架(100)，用于支撑所述升降机构(110)和所述承载台(120)。
3.根据权利要求2所述的清洗系统，其特征在于：
所述研磨膜承载及移动单元还包括传感器(130)，所述传感器(130)适于检测所述承载台(120)上有无研磨膜(400)以及研磨膜(400)的状态。
4.根据权利要求3所述的清洗系统，其特征在于：
所述升降机构(110)安装在所述支撑机架(100)上；
所述承载台(120)安装在所述升降机构(110)上，以便随所述升降机构(110)一起上升或下降；并且
所述传感器(130)安装在所述升降机构(110)上。
5.根据权利要求4所述的清洗系统，其特征在于，所述升降机构(110)包括：
安装架，所述承载台(120)和所述传感器(130)安装在所述安装架上；和
驱动器，安装在所述支撑机架(100)上，适于驱动所述安装架沿竖直方向上下移动。
6.根据权利要求1所述的清洗系统，其特征在于，所述滚刷单元包括：
滚刷安装架(310)；
滚刷(300)，转动地安装所述滚刷安装架(310)上；
滚刷驱动器(320)，适于驱动所述滚刷(300)绕其轴线旋转；
水平移动机构，适于驱动所述滚刷(300)沿水平方向前后移动；
竖直移动机构，适于驱动所述滚刷(300)沿竖直方向上下移动；和
主支撑架(200)，适于支撑所述滚刷(300)、所述滚刷驱动器(320)、所述水平移动机构和所述竖直移动机构。
7.根据权利要求6所述的清洗系统，其特征在于，所述水平移动机构包括：
水平滑轨(210)，安装在所述主支撑架(200)上；
水平移动平台(220)，滑动地安装在所述水平滑轨(210)上；和
水平移动驱动器(240)，安装在所述主支撑架(200)上，适于驱动所述水平移动平台(220)沿所述水平滑轨(210)前后移动。
8.根据权利要求7所述的清洗系统，其特征在于：
所述水平移动驱动器(240)通过第一传动带(241)驱动所述水平移动平台(220)沿所述水平滑轨(210)前后移动。
9.根据权利要求8所述的清洗系统，其特征在于，所述竖直移动机构包括：
竖直移动驱动器(230)，安装在所述水平移动平台(220)上，以便随所述水平移动平台(220)一起沿所述水平滑轨(210)前后移动；和
竖直连接轴(231)，将所述滚刷安装架(310)连接至所述竖直移动驱动器(230)。
10.根据权利要求9所述的清洗系统，其特征在于：
所述滚刷驱动器(320)通过第二传动带(330)驱动所述滚刷(300)绕其轴线旋转。
11.根据权利要求10所述的清洗系统，其特征在于：
在所述滚刷(300)的前后两侧分别安装有挡板(340)，用于防止清洗液从所述滚刷(300)的前后两侧向外飞溅。
12.根据权利要求1所述的清洗系统，其特征在于，还包括：
气体喷头(12)，适于向已经被清洗干净的研磨膜(400)喷射气体，以便风干所述研磨膜(400)。
13.根据权利要求12所述的清洗系统，其特征在于：
所述第一清洗液喷头(11)和所述气体喷头(12)安装在所述第一清洗箱(10)中。
14.根据权利要求1所述的清洗系统，其特征在于：
在所述第一清洗箱(10)的底部设置有第一排泄出口(13)，适于将所述第一清洗箱(10)中的废液排出。
15.根据权利要求6-12中的任一项所述的清洗系统，其特征在于，还包括：
第二清洗箱(20)，所述水平移动机构和所述竖直移动机构适于将待清洗的滚刷(300)移动到所述第二清洗箱(20)中；和
第二清洗液喷头(21)，安装在所述第二清洗箱(20)中，适于向放置在所述第二清洗箱(20)中的待清洗的滚刷(300)喷射清洗液，以便对滚刷(300)进行清洗。
16.根据权利要求15所述的清洗系统，其特征在于：
在所述第二清洗箱(20)的底部设置有第二排泄出口(23)，适于将所述第二清洗箱(20)中的废液排出。
CN201510589656.6A 2015-09-16 2015-09-16 清洗系统 Active CN106540895B (zh)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201510589656.6A CN106540895B (zh) 2015-09-16 2015-09-16 清洗系统
TW105130004A TWI702992B (zh) 2015-09-16 2016-09-14 清洗系統
PCT/IB2016/055543 WO2017046763A1 (en) 2015-09-16 2016-09-16 Cleaning system
EP16778884.3A EP3349920B1 (en) 2015-09-16 2016-09-16 Cleaning system
KR1020187010562A KR102147328B1 (ko) 2015-09-16 2016-09-16 세정 시스템
US15/980,906 US10814356B2 (en) 2015-09-16 2018-05-16 Cleaning system for a polishing film

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201510589656.6A CN106540895B (zh) 2015-09-16 2015-09-16 清洗系统

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN106540895A true CN106540895A (zh) 2017-03-29
CN106540895B CN106540895B (zh) 2019-06-04

Family

ID=57121457

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201510589656.6A Active CN106540895B (zh) 2015-09-16 2015-09-16 清洗系统

Country Status (6)

Country Link
US (1) US10814356B2 (zh)
EP (1) EP3349920B1 (zh)
KR (1) KR102147328B1 (zh)
CN (1) CN106540895B (zh)
TW (1) TWI702992B (zh)
WO (1) WO2017046763A1 (zh)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108212845A (zh) * 2018-01-10 2018-06-29 侯如升 一种便于维修的化纤尼龙生产用清洗装置
CN109092746A (zh) * 2018-08-17 2018-12-28 天马（安徽）国药科技股份有限公司 一种中药材粉碎机全方位清洗装置
CN111796362A (zh) * 2018-08-08 2020-10-20 杭州富通通信技术股份有限公司 用于预制尾纤的研磨设备
CN112157103A (zh) * 2020-09-22 2021-01-01 张芸 一种智能机器人加工用零部件清洗装置
CN112452928A (zh) * 2020-11-02 2021-03-09 王宝根 一种硅片自动除尘装置

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106541329B (zh) * 2015-09-16 2019-01-01 泰科电子(上海)有限公司 集成设备
CN107983683A (zh) * 2017-12-01 2018-05-04 朱康余 一种眼科医院用视力检测镜片清洗装置
CN109625854A (zh) * 2018-12-11 2019-04-16 科捷智能装备有限公司 输送线自动清扫装置及其方法
CN113663956B (zh) * 2020-05-14 2023-04-18 奥佳华智能健康科技集团股份有限公司 手机清洁装置
CN111957632A (zh) * 2020-08-14 2020-11-20 成都奥捷通信技术有限公司 一种适配器端面清洗装置及其清洗方法
CN113145564A (zh) * 2021-04-06 2021-07-23 温州职业技术学院 一种金属半成品除油除锈清洗设备
CN114087478A (zh) * 2021-11-19 2022-02-25 江苏首擎软件科技有限公司 一种能够短距离且双向投影的长焦投影仪
GB2618595A (en) * 2022-05-12 2023-11-15 Meech Static Eliminators Ltd Apparatus and method for web cleaning
CN115318695A (zh) * 2022-09-23 2022-11-11 成都金大立科技有限公司 一种pcb加工光纤自动清洁设备及清洁方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4476601A (en) * 1982-04-17 1984-10-16 Dainippon Screen Manufacturing Co., Ltd. Washing apparatus
JPH0786218A (ja) * 1993-09-17 1995-03-31 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板洗浄装置
EP0718871A2 (en) * 1994-12-21 1996-06-26 Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. Washing of wafers and wafer washing and drying apparatus
US5690544A (en) * 1995-03-31 1997-11-25 Nec Corporation Wafer polishing apparatus having physical cleaning means to remove particles from polishing pad
WO2002043923A1 (de) * 2000-11-29 2002-06-06 Infineon Technologies Ag Reinigungsvorrichtung zum reinigen von für das polieren von halbleiterwafern verwendeten poliertüchern
CN203470368U (zh) * 2013-07-31 2014-03-12 合肥京东方光电科技有限公司 一种清洁装置

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0422411Y2 (zh) * 1984-10-26 1992-05-22
JPH1190359A (ja) * 1997-09-19 1999-04-06 Speedfam Clean System Kk オーバーフロー式スクラブ洗浄方法及び装置
JP3615931B2 (ja) * 1998-03-26 2005-02-02 株式会社荏原製作所 ポリッシング装置および該ポリッシング装置におけるコンディショニング方法
US6244944B1 (en) * 1999-08-31 2001-06-12 Micron Technology, Inc. Method and apparatus for supporting and cleaning a polishing pad for chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates
JP2001138233A (ja) * 1999-11-19 2001-05-22 Sony Corp 研磨装置、研磨方法および研磨工具の洗浄方法
JP2001246331A (ja) * 2000-03-08 2001-09-11 Sharp Corp 洗浄装置
US6722964B2 (en) * 2000-04-04 2004-04-20 Ebara Corporation Polishing apparatus and method
US6561880B1 (en) * 2002-01-29 2003-05-13 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Apparatus and method for cleaning the polishing pad of a linear polisher
US7846007B2 (en) * 2006-06-30 2010-12-07 Memc Electronic Materials, Inc. System and method for dressing a wafer polishing pad
KR100849986B1 (ko) * 2006-09-28 2008-08-01 김해용 호스의 세척건조장치 및 그 방법
KR101105357B1 (ko) 2011-04-25 2012-01-16 박태영 이송벨트의 이물질 제거장치
JP2013089797A (ja) * 2011-10-19 2013-05-13 Ebara Corp 基板洗浄方法及び基板洗浄装置
TWI636518B (zh) * 2013-04-23 2018-09-21 荏原製作所股份有限公司 基板處理裝置及處理基板之製造方法
CN104416462B (zh) * 2013-08-20 2017-02-15 上海华虹宏力半导体制造有限公司 抛光垫修整盘的清洗装置
CN203711383U (zh) * 2013-12-26 2014-07-16 中铝西南铝板带有限公司 刷辊在线清洗装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4476601A (en) * 1982-04-17 1984-10-16 Dainippon Screen Manufacturing Co., Ltd. Washing apparatus
JPH0786218A (ja) * 1993-09-17 1995-03-31 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板洗浄装置
EP0718871A2 (en) * 1994-12-21 1996-06-26 Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. Washing of wafers and wafer washing and drying apparatus
US5690544A (en) * 1995-03-31 1997-11-25 Nec Corporation Wafer polishing apparatus having physical cleaning means to remove particles from polishing pad
WO2002043923A1 (de) * 2000-11-29 2002-06-06 Infineon Technologies Ag Reinigungsvorrichtung zum reinigen von für das polieren von halbleiterwafern verwendeten poliertüchern
CN203470368U (zh) * 2013-07-31 2014-03-12 合肥京东方光电科技有限公司 一种清洁装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108212845A (zh) * 2018-01-10 2018-06-29 侯如升 一种便于维修的化纤尼龙生产用清洗装置
CN111796362A (zh) * 2018-08-08 2020-10-20 杭州富通通信技术股份有限公司 用于预制尾纤的研磨设备
CN109092746A (zh) * 2018-08-17 2018-12-28 天马（安徽）国药科技股份有限公司 一种中药材粉碎机全方位清洗装置
CN112157103A (zh) * 2020-09-22 2021-01-01 张芸 一种智能机器人加工用零部件清洗装置
CN112452928A (zh) * 2020-11-02 2021-03-09 王宝根 一种硅片自动除尘装置

Also Published As

Publication number Publication date
US10814356B2 (en) 2020-10-27
EP3349920A1 (en) 2018-07-25
US20180257112A1 (en) 2018-09-13
EP3349920B1 (en) 2023-12-20
KR102147328B1 (ko) 2020-08-24
WO2017046763A1 (en) 2017-03-23
KR20180104282A (ko) 2018-09-20
TWI702992B (zh) 2020-09-01
CN106540895B (zh) 2019-06-04
TW201722571A (zh) 2017-07-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106540895A (zh) 清洗系统
JP4986490B2 (ja) 予備吐出装置
CN104148344A (zh) 一种实验室用试管清洗装置
JP6966420B2 (ja) 洗浄装置及び洗浄方法
CN103962319A (zh) 擦拭机构及具有擦拭机构的自动清洗装置
CN106541329A (zh) 集成设备
CN105832243A (zh) 一种可拆卸式自动擦窗机
CN103949426B (zh) 一种机体清洗机
CN206810816U (zh) 一种分子生物学用玻璃器皿的清洗装置
CN207330100U (zh) 一种便于移动的电梯扶手清洁装置
CN106546088A (zh) 风干系统
WO2017042922A1 (ja) ラインインクジェットヘッドの洗浄装置、洗浄方法および洗浄プログラム
JP6833568B2 (ja) 清掃装置
CN104707829A (zh) 一种桶装水水桶碱洗冲洗工艺
CN106540917A (zh) 超声波清洗系统
CN104623938B (zh) 一种压滤机滤布清洗装置
CN112077099A (zh) 一种适用于不同口径大小的基因工程用的试管清洗装置
KR101328721B1 (ko) 슬릿코터
CN209174522U (zh) 一种纸筒管用清洁装置
CN208004385U (zh) 一种机械零件的清洗装置
US20210344300A1 (en) Solar cell field cleaning apparatus
CN208928474U (zh) 一种机械组装用零件自动上油装置
CN213336647U (zh) 一种具有清洗功能的潜水式阀门测试装置
CN207275906U (zh) 自动顶出式卷带机
CN207290438U (zh) 一种混凝土构件生产系统中用的底模清扫装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
CB02 Change of applicant information
CB02 Change of applicant information

Address after: 200131 Shanghai City, Pudong New Area China England Road (Shanghai) Free Trade Zone No. 999 building 15 layer F, G site

Applicant after: Tyco Electronics (Shanghai) Co., Ltd.

Applicant after: Tailian Corporation

Applicant after: Zhuhai Yingzhi Technology Co., Ltd.

Address before: 200131 Shanghai City, Pudong New Area China England Road (Shanghai) Free Trade Zone No. 999 building 15 layer F, G site

Applicant before: Tyco Electronics (Shanghai) Co., Ltd.

Applicant before: Tyco Electronics Corp.

Applicant before: Zhuhai Yingzhi Technology Co., Ltd.

GR01 Patent grant
GR01 Patent grant