TWI677371B - 含有氟元素之排氣之處理方法 - Google Patents

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Abstract

本發明的含有氟元素之排氣之處理方法係特徵為具有：使含有氟元素之排氣與水接觸之第一步驟；與，使自第一步驟所排出的氣體成分與含有還原劑的鹼性水溶液接觸之第二步驟。依照本發明的含有氟元素之排氣之處理方法，即使藉由濕式法有效率地處理含有氟元素之排氣，例如處理氟氣的濃度高之排氣時，也能充分減低處理氣體中的氟或二氟化氧等的氧化性氣體、氟化氫等的酸性氣體等有毒的氟系氣體。於本發明中，藉由以特定的2階段進行處理，可大為減低所排出的處理氣體中之氟系氣體，且可大幅減少作為藥液使用之含有還原劑的鹼性水溶液之使用量，為經濟的且有效率的。

Description

含有氟元素之排氣之處理方法
本發明關於處理含有氟元素之排氣，排出已使氟氣(F2)、二氟化氧(OF2)及氟化氫(HF)等的氟系氣體減低之處理氣體的含有氟元素之排氣之處理方法。
於半導體或液晶等之製造中，或作為化學品或高分子材料之原料，或以表面改質等之目的，氟化合物係在各種的領域中被大量使用。
特別地，於半導體或液晶等之製程中，向來作為蝕刻或清洗氣體，利用F2、NF3、SiF4、COF2、SF6、氟碳化物(CF4、C2F6、C4F6等)等之氟系氣體。於利用氟系氣體的程序中，來自所使用的氟系氣體之氣體或因反應而生成的含有氟元素之氣體係作為排氣排出。又，於氟氣或氟化合物之製造中，有非常高濃度的含有氟元素之氣體作為排氣排出之情況。
此等之排氣由於以高濃度含有氟氣等的氧化性氣體或氟化氫等的酸性氣體等之毒性高的氟系氣體，故必須自排氣中充分去除如此有害的氣體。
作為自排氣中去除氟氣或氟化氫等的有害氣體之方法，以往有將碳酸鈣、氫氧化鈣、活性氧化鋁等之固體處理劑填充於固定相中而進行去除之乾式程序，但有運轉成本高之問題點。
作為濕式程序，使用水或氫氧化鈉等的鹼水溶液之濕式洗滌器係優異的便宜處理大量氣體之方法，但已知副生成毒性更高的二氟化氧(OF2)。二氟化氧係ACGIH容許濃度(TLV)為0.05ppm且毒性非常高，一旦生成則以水或鹼水溶液難以去除，有自排氣中排出之問題。
作為解決如此的濕式程序之問題點的方法，專利文獻1中揭示使用亞硫酸鹼及苛性鹼的混合液作為吸收液之方法，專利文獻2中揭示使用含有氫氧化鈉等的鹼性化合物與硫代硫酸鈉等的硫系還原劑之混合物的吸收液之方法，專利文獻3中揭示使用含有鹼金屬氫氧化物等的鹼與硫代硫酸鹽或亞硝酸鹼金屬鹽的液體之方法。
又，專利文獻4中揭示於填充有水難溶性的亞硫酸鹽之填充塔中，藉由濕式處理，不使用含有鈉離子等的化合物，而自排氣中去除氯氣、氟氣等的氧化性氣體者。
藉由此等之方法，雖然具有抑制二氟化氧的排出之效果，但是為了連續地處理以高濃度包含含有氟元素之氣體的排氣，得到充分的效果，必須維持高的鹼或還原劑之濃度。因此，有容易發生堵塞等的困擾，藥液的成 本變高，且排液中的鹼或還原劑及各種反應生成物之廢液處理變成必要之問題點。
又，專利文獻5中揭示使排氣與水蒸氣一起在加熱下反應，而分解成氟化氫與氧之方法。然而，於此方法中，由於在300~400℃之高溫進行反應，高溫的氟化氫氣體等所致的腐蝕之影響大，反應器之材質係有限制，工業上採用者困難。
先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本特開平2-233122號公報
專利文獻2：日本特開2006-231105號公報
專利文獻3：日本特表2013-539717號公報
專利文獻4：日本特開2000-176243號公報
專利文獻5：日本特開2006-289238號公報
本發明之課題在於提供一種含有氟元素之排氣之處理方法，其係藉由濕式法有效率地處理含有氟元素之排氣，形成已充分減低氟氣、二氟化氧等的氧化性氣體、氟化氫等的酸性氣體等之有毒的氟系氣體之處理氣體。
本發明關於以下[1]~[7]之事項。
[1]一種含有氟元素之排氣之處理方法，其特徵為具有：使含有氟元素之排氣與水接觸之第一步驟；與，使自第一步驟所排出的氣體成分與含有還原劑的鹼性水溶液接觸之第二步驟。
[2]如前述[1]記載的含有氟元素之排氣之處理方法，其中前述含有氟元素之排氣含有氟氣(F2)及/或氟化氫(HF)。
[3]如前述[1]或[2]記載的含有氟元素之排氣之處理方法，其中前述還原劑係硫系還原劑。
[4]如前述[3]記載的含有氟元素之排氣之處理方法，其中前述硫系還原劑係亞硫酸鹽及/或硫代硫酸鹽。
[5]如前述[1]~[4]中任一項記載的含有氟元素之排氣之處理方法，其中於前述第一步驟中，與水接觸時的排氣中之氟氣濃度為40體積%以下。
[6]如前述[1]~[5]中任一項記載的含有氟元素之排氣之處理方法，其中自前述第一步驟所排出的氣體成分中之二氟化氧(OF2)濃度為5體積%以下。
[7]如前述[1]~[6]中任一項記載的含有氟元素之排氣之處理方法，其中自前述第二步驟所排出的氣體成分中之二氟化氧濃度(OF2)為1體積ppm以下。
依照本發明的含有氟元素之排氣之處理方法，可藉由濕式法有效率地處理含有氟元素之排氣，即使處理以高濃度含有氟氣等的氟系氣體之排氣時，也能充分減低所得之處理氣體中之氟氣或二氟化氧等的氧化性氣體、氟化氫等的酸性氣體等有毒的氟系氣體。於本發明中，藉由以特定的2階段進行含有氟元素之排氣之處理，可大為減低所排出的處理氣體中之氟系氣體，且可大幅減少作為藥液使用之含有還原劑的鹼性水溶液之使用量，為經濟的且有效率的。又，於本發明中，即使於含有氟元素之排氣中高濃度含有氟化氫時，也可將藥液使用量抑制在少量。
再者於本發明中，當將第一步驟中與水接觸時的排氣中之氟氣(F2)濃度設為40體積%以下時，可抑制自第一步驟所排出的氣體成分中之二氟化氧(OF2)濃度，可進一步減輕第二步驟中的處理之負荷，有效率地進行排氣之處理。
1‧‧‧排氣導入管1
2‧‧‧第1吸收塔
3‧‧‧填充層1
4‧‧‧供水管
5‧‧‧HF水溶液排出管
6‧‧‧循環液槽1
7‧‧‧循環泵1
8‧‧‧噴淋噴嘴1
9‧‧‧排氣導入管2
10‧‧‧第2吸收塔
11‧‧‧填充層2
12‧‧‧循環液槽2
13‧‧‧循環泵2
14‧‧‧噴淋噴嘴2
15‧‧‧處理氣體排出管
圖1係顯示實施本發明的含有氟元素之排氣之處理方法的裝置之一例的概略圖。
實施發明的形態
以下，具體地說明本發明。
本發明的含有氟元素之排氣之處理方法具有：使含有氟元素之排氣與水接觸之第一步驟；與，使自第一步驟所排出的氣體成分與含有還原劑的鹼性水溶液接觸之第二步驟。
<第一步驟>
於第一步驟中，使含有氟元素之排氣與水接觸。
作為含有氟元素之排氣，可舉出含有F2、NF3、SiF4、COF2、SF6、氟碳化物(CF4、C2F6、C4F6等)等的氟系氣體之氣體。於本發明中，可無特別限制地處理利用氟系氣體之程序或伴隨氟系氣體之發生的程序中所生成的工業排氣等之含有氟元素之排氣。本發明所處理之排氣亦可包含二氟化氧(OF2)等的氧化性氣體及/或氟化氫(HF)等的酸性氣體。
例如，當排氣包含氟氣時，排氣中的氟氣與水係迅速地反應，如反應式(1)生成氟化氫及氧。
F2+H2O → HF+1/2O2…(1)
於氟氣與水之接觸中，由於氟氣之反應性高，已知除了前述反應式(1)之主反應，還有取決於條件而發生生成臭氧(O3)或二氟化氧(OF2)的副反應。然而，本發明者發現將與水接觸時的排氣中之氟氣濃度設為40體積%以下時，可抑制副反應，幾乎不生成臭氧(O3)，亦抑 低氟化氧(OF2)之生成。
因此，於本發明之第一步驟中，與水接觸時的排氣係氟氣(F2)濃度較佳為40體積%以下，更佳為30體積%以下。將前述排氣中的氟氣(F2)濃度設為前述範圍時，可在第一步驟中充分去除排氣中的氟氣(F2)，同時可適宜地抑制臭氧(O3)或二氟化氧(OF2)之生成，可減輕後述的第二步驟之負荷而達成充分的排氣處理。
當前述排氣含有高濃度的氟氣(F2)時，於與水接觸之前，較佳為藉由空氣等的惰性氣體進行稀釋等之方法，將排氣中的氟氣(F2)濃度調整至40體積%以下。本發明中所謂的惰性氣體，就是意指與排氣中的成分、水以及後述之第二步驟中使用之含有還原劑的鹼性水溶液在處理條件下實質上不反應，不阻礙反應之氣體，例如可舉出空氣、氮、稀有氣體等。
於第一步驟中，作為使排氣與水接觸之方法，可無特別限制地採用使氣液接觸之習知的方法，較佳可採用使用通氣攪拌槽等之液中分散型的裝置，或使氣液接觸而將氣體成分的至少一部分吸收於液體成分中之吸收塔等的裝置之方法。具體而言，較佳可採用使用具備噴霧塔、層板塔、填充塔、噴射洗滌器等裝置之眾所周知的吸收塔之方法，從構造單純且吸收效率良好來看，特佳為使用填充塔之方法。使用如此的裝置之方法係在後述的第二步驟中亦可同樣地採用。
於本發明之第一步驟中，藉由使含有氟元素之排氣與水接觸，而例如排氣中所含有的氟氣(F2)係與水反應，轉換成氟化氫(HF)或二氟化氧(OF2)。又，排氣中所含有的氟化氫(HF)或氟氣(F2)與水之反應所生成的氟化氫(HF)係容易被水吸收。於本發明中，即使所處理的排氣含有高濃度的氟化氫(HF)時，也可藉由在第一步驟中去除其大部分，而可抑制第二步驟中所用之含有還原劑的鹼性水溶液之使用量。因此於本發明中，作為含有氟元素之排氣，可適宜使用含有氟氣及/或氟化氫的氣體。
如此地於第一步驟中，減低前述排氣中的氟氣(F2)及氟化氫(HF)等，排出含有所生成的二氟化氧(OF2)等之氣體成分。第一步驟所排出的氣體成分係送到第二步驟。
於此，前述排氣中之氟氣濃度若為40體積%以下，則於第一步驟之反應中難以發生產生二氟化氧(OF2)的副反應，可抑制送到第二步驟的氣體成分中之二氟化氧(OF2)量，可以減少第二步驟的負荷而較宜。
於第一步驟中，與排氣接觸的水係可循環使用，但由於隨著處理排氣而所吸收的氟化氫(HF)之濃度上升，當大量或連續地處理排氣時，較佳為進行吸收液的水之交換。吸收液的水之交換方法係可為分批亦可為連續，為了使第二步驟之條件安定化，較佳為將吸收液中的氟化氫(HF)之濃度保持固定，更佳為連續進行水之交 換者。
如此地，自第一步驟所排出的氣體係充分減低氟氣(F2)濃度，同時適宜地抑制二氟化氧(OF2)濃度之上升。自第一步驟所排出的氣體成分中之二氟化氧(OF2)濃度較佳為5體積%以下，更佳為1體積%以下。
<第二步驟>
於第二步驟中，使自第一步驟所排出的氣體成分與含有還原劑的鹼性水溶液接觸。
於供第二步驟之自第一步驟所排出的氣體成分中，通常包含排氣中所含有的或在第一步驟中生成的二氟化氧(OF2)及偕同的氟化氫(HF)等。於自第一步驟所排出的氣體成分中，亦可包含第一步驟中未反應的或偕同的氟氣(F2)。導入至第二步驟的氣體成分中之氟氣濃度較佳為5體積%以下，更佳為1體積%以下。
導入至第二步驟的氣體成分中之二氟化氧(OF2)的濃度係沒有特別的限定，但較佳為5體積%以下，更佳為1體積%以下。於第一步驟中，當與水接觸時的排氣中之氟氣(F2)濃度為40體積%以下時，可使自第一步驟所排出的氣體成分中之OF2濃度成為充分低，當最初的排氣中不含二氟化氧(OF2)時，通常可成為5體積%以下。當自第一步驟所排出的氣體成分中之二氟化氧(OF2)濃度高時，亦可在藉由惰性氣體適宜地稀釋後，導入至第二步驟。
於第二步驟中，所導入的氣體成分中之二氟化氧(OF2)係與還原劑反應而形成氟化氫(HF)，所導入的氣體成分中之HF及自二氟化氧(OF2)所生成之氟化氫(HF)係與鹼反應而被去除。
第二步驟所用之含有還原劑的鹼性水溶液係還原劑與鹼溶解在水中之水溶液，作為吸收液使用。
作為還原劑，可無特別限制地使用能將二氟化氧(OF2)還原之還原劑，例如可選自於硫代硫酸鈉、硫代硫酸銨、硫代硫酸鉀等之硫代硫酸鹽；亞硫酸鈉、亞硫酸鉀、亞硫酸銨等之亞硫酸鹽；氯化鉀、氯化鈉等之氯化物；溴化鉀等之溴化物；碘化鉀等之碘化物；亞硝酸鈉、亞硝酸鉀等之亞硝酸鹽；甲酸、甲酸鈉、甲酸鉀等之甲酸鹽；草酸、聯氨等。於本發明中，作為還原劑，從高效率地去除二氟化氧(OF2)之觀點來看，較宜使用硫系還原劑，更宜使用硫代硫酸鹽、亞硫酸鹽。
還原劑之濃度亦取決於所接觸的氣體成分中之二氟化氧(OF2)濃度等之條件，但於含有還原劑的鹼性水溶液中，較佳為1~20質量%，更佳為1~10質量%。
作為鹼，可無特別限制地使用能去除氟化氫(HF)的鹼，但較宜使用金屬氫氧化物，更宜使用氫氧化鈉或氫氧化鉀。
鹼之濃度亦取決所接觸的氣體成分中之氟化氫(HF)濃度等之條件，但較佳為將含有還原劑的鹼性 水溶液之液性維持在鹼性者，較佳為pH8以上，更佳為pH9以上。
於第二步驟中，作為使自第一步驟所排出的氣體成分與含有還原劑的鹼性水溶液接觸之方法，與第一步驟同樣地，可無特別限制地採用使氣液接觸的習知方法，較佳可採用使氣液接觸而將氣體成分的至少一部分吸收於液體成分中之吸收塔等的裝置之方法。具體而言，較佳可採用使用具備噴霧塔、層板塔、填充塔、噴射洗滌器等裝置的眾所周知之吸收塔，從構造單純且吸收效率良好來看，特佳為使用填充塔之方法。第一步驟與第二步驟係可採用使用同樣的裝置之方法，也可採用使用不同的裝置之方法。
於第二步驟中，作為吸收液使用之含有還原劑的鹼性水溶液通常可在吸收塔內循環使用。含有還原劑的鹼性水溶液由於係隨著所導入的氣體成分之處理進行，而水溶液中的還原劑及鹼之濃度減少，所吸收的反應生成物濃度上升，故當處理量多時，亦可進行交換。含有還原劑的鹼性水溶液之交換係可分批進行，也可連續進行，但由於導入至第二步驟的氣體中所含有的氟系有害氣體之濃度本來為低濃度，含有還原劑的鹼性水溶液中的還原劑濃度或鹼濃度之變化小，故通常分批的交換為經濟的。
自本發明之第二步驟所排出的氣體成分(處理氣體)係可已充分去除氟氣(F2)、二氟化氧(OF2)、氟化氫(HF)等之氟系有害氣體，成為實質上 不含氟系氣體者。具體而言，自本發明之第二步驟所排出的氣體成分中之二氟化氧(OF2)濃度較佳為1體積ppm以下，更佳為0.5體積ppm以下。自本發明之第二步驟所排出的氣體成分中之氟氣(F2)濃度較佳為1體積ppm以下，更佳為0.5體積ppm以下。又，自本發明之第二步驟所排出的氣體成分中之氟化氫(HF)濃度較佳為3體積ppm以下，更佳為1.5體積ppm以下。
實施例
以下，以實施例為基礎，更具體地說明本發明，惟本發明不受此等的實施例所限定。
<氟系氣體濃度之測定>
於以下的實施例及比較例中，各氟系氣體成分之濃度係如以下地測定、定量。
氣體中的氟氣(F2)及二氟化氧(OF2)之合計濃度，係藉由使碘化鉀水溶液吸收規定量的氣體，以硫代硫酸鈉滴定之方法(碘滴定法)分析而求得。定量下限值係可藉由增加所吸收的氣體量而調整，作為氟及二氟化氧之合計濃度，測定0.05體積ppm以上。
分離氣體中的氟氣與二氟化氧，進行定量分析時，使用FT-IR(傅立葉轉換紅外吸光光度)法來定量二氟化氧，自氟氣及二氟化氧之合計濃度扣除二氟化氧濃度而求得氟氣濃度。作為FT-IR之氣體槽(gas cell)， 使用具有10m光路徑長度之長光路徑氣體槽時，二氟化氧濃度之定量下限值為0.5體積ppm。
氟化氫濃度係使用FT-IR法定量。氟化氫濃度之定量下限值係使用15cm的氣體槽，為0.5體積ppm。
[實施例1]
使用具備有於填充層1(3)中以填充高度4m填充有階梯環(Cascade Mini-Ring)作為填充物之直徑500mm的第1吸收塔(2)與於填充層2(11)中以填充高度4m填充有階梯環作為填充物之直徑500mm的第2吸收塔(10)之裝置，進行排氣之處理。圖1中顯示概略圖。
於第1吸收塔(2)側進行的第一步驟中，將水導入至循環液槽1(6)，以4m3/hr使循環。以循環液槽1(6)內的HF濃度成為3質量%之方式，調整水的導入量及循環液的排液量。
於第2吸收塔(10)側進行的第二步驟中，在循環液槽2(12)中加入濃度2質量%的KOH作為鹼、濃度12質量%的亞硫酸鉀(K2SO3)作為還原劑所調製之含有還原劑的鹼性水溶液(加入時pH：13.5)，以4m3/hr使循環。
所處理的排氣係包含25體積%的F2、10體積%的HF但不含OF2之氣體，剩餘部分為氮氣。將此以30m3/hr經由排氣導入管(1)導入至進行第一步驟的第1 吸收塔(2)。導入至第1吸收塔(2)的排氣係在具有填充層1(3)的第1吸收塔(2)內與自噴淋噴嘴1(8)所放出的水充分地接觸，與水接觸後的氣體成分係自第1吸收塔(2)之塔頂排出，此排出的氣體成分係通過排氣導入管9而導入至進行第二步驟的第2吸收塔(10)。自第1吸收塔(2)排出而導入至第2吸收塔(10)之氣體成分係包含2,000體積ppm的F2、1,300體積ppm的HF、4,100體積ppm的OF2之氣體。
導入至第2吸收塔(10)的氣體成分係在具有填充層2(11)的第2吸收塔(10)內與自噴淋噴嘴2(14)所放出之含有還原劑的鹼性水溶液充分地接觸。與含有還原劑的鹼性水溶液接觸後之氣體成分係自第2吸收塔(10)之塔頂，作為處理氣體通過處理氣體排出管(15)排出。
表1中顯示自處理氣體排出管(15)所排出的處理氣體中之各氟系氣體成分的濃度及在第2吸收塔(10)側進行的第二步驟之藥液(含有還原劑的鹼性水溶液)之使用量。自處理氣體中，未檢測出F2、OF2及HF。又，在第2吸收塔(10)所消耗的藥液量係鹼的KOH為0.7kg/hr，還原劑的K2SO3為1.9kg/hr。
[實施例2]
除了於實施例1中，將所處理的排氣中之F2濃度設為40體積%以外，與實施例1同樣地進行。自第1吸收 塔(2)所排出而導入至第2吸收塔(10)的氣體成分係包含20,000體積ppm的F2、1,300體積ppm的HF、42,000體積ppm的OF2之氣體。
表1中顯示自處理氣體排出管(15)所排出的處理氣體中之各氟系氣體成分的濃度及第二步驟之藥液(含有還原劑的鹼性水溶液)的使用量。自處理氣體中，未檢測出F2及HF，OF2係檢測出1體積ppm。又，在第2吸收塔(10)所消耗的藥液量係鹼的KOH為6.7kg/hr，還原劑的K2SO3為18kg/hr。
[實施例3]
除了於實施例1中，將第二步驟所用之藥液(含有還原劑的鹼性水溶液)中的還原劑從亞硫酸鉀(K2SO3)換成硫代硫酸鈉(Na2S2O3)，將其濃度設為3質量%以外，與實施例1同樣地進行排氣之處理。
表1中顯示自處理氣體排出管(15)所排出的處理氣體中之各氟系氣體成分的濃度及第二步驟之藥液(含有還原劑的鹼性水溶液)的使用量。自處理氣體中，未檢測出F2、HF及OF2。又，在第2吸收塔(10)所消耗的藥液量係鹼的KOH為0.7kd/hr，還原劑的Na2S2O3為1.9kg/hr。
[實施例4]
除了於實施例1中，將第二步驟所用之藥液(含有還 原劑的鹼性水溶液)中的還原劑從亞硫酸鉀(K2SO3)換成碘化鉀(KI)，將其濃度設為3質量%以外，與實施例1同樣地進行排氣之處理。
表1中顯示自處理氣體排出管(15)所排出的處理氣體中之各氟系氣體成分的濃度及第二步驟之藥液(含有還原劑的鹼性水溶液)的使用量。自處理氣體中，未檢測出F2、HF及OF2。又，在第2吸收塔(10)所消耗的藥液量係鹼的KOH為0.7kd/hr，還原劑的KI為2.0kg/hr。
[實施例5]
除了於實施例1中，將第二步驟所用之藥液(含有還原劑的鹼性水溶液)中的還原劑從亞硫酸鉀(K2SO3)換成氯化鉀(KCl)，將其濃度設為10質量%以外，與實施例1同樣地進行排氣之處理。
表1中顯示自處理氣體排出管(15)所排出的處理氣體中之各氟系氣體成分的濃度及第二步驟之藥液(含有還原劑的鹼性水溶液)的使用量。自處理氣體中，未檢測出F2及HF，OF2係檢測出0.3體積ppm。又，在第2吸收塔(10)所消耗的藥液量係鹼的KOH為0.7kd/hr，還原劑的KCl為1.8kg/hr。
[比較例1]
使用具備有第1吸收塔(2)及循環液槽1(6)之與 實施例1的第一步驟所用的裝置同樣之裝置，與實施例1同樣地使水循環，以循環液槽1(6)內的HF濃度成為1質量%之方式調整水的導入量及循環液的排液量。將與實施例1同樣之排氣經由排氣導入管1(1)導入及處理，將自第1吸收塔(2)之塔頂所排出的氣體成分當作處理氣體。處理氣體中的各氟系氣體成分之濃度係如表1中所示，F2為980體積ppm，HF為670體積ppm，OF2為4,050體積ppm。
[比較例2]
於實施例1中，繞過第一步驟，將所處理的排氣從排氣導入管2(9)導入至第2吸收塔(10)，與實施例1之第二步驟同樣地進行排氣之處理。
表1中顯示自處理氣體排出管(15)所排出的處理氣體中之各氟系氣體成分的濃度及藥液(含有還原劑的鹼性水溶液)的使用量。自處理氣體中，未檢測出F2、HF及OF2，但在第2吸收塔(10)所消耗的藥液量係鹼的KOH為53kg/hr，還原劑的K2SO3為127kg/hr，與實施例1比較下藥液使用量為大量。
產業上的利用可能性
本發明的排氣之處理方法係適合作為將使用氟系氣體作為蝕刻或清洗氣體的程序或製造氟系氣體的程序等中所發生之含有氟元素之排氣予以處理，得到實質上不含氟系氣體的處理氣體之方法。

Claims (8)

  1. 一種含有氟元素之排氣之處理方法，其特徵為具有：使含有氟元素之排氣與水接觸之第一步驟，與使自第一步驟所排出的氣體成分與含有還原劑的鹼性水溶液接觸之第二步驟；且前述含有氟元素之排氣含有氟氣及/或氟化氫。
  2. 如請求項1之含有氟元素之排氣之處理方法，其中前述還原劑係硫系還原劑。
  3. 如請求項2之含有氟元素之排氣之處理方法，其中前述硫系還原劑係亞硫酸鹽及/或硫代硫酸鹽。
  4. 如請求項1或2之含有氟元素之排氣之處理方法，其中於前述第一步驟中，與水接觸時的排氣中之氟氣濃度為40體積%以下。
  5. 如請求項1或2之含有氟元素之排氣之處理方法，其中自前述第一步驟所排出的氣體成分中之二氟化氧濃度為5體積%以下。
  6. 如請求項1或2之含有氟元素之排氣之處理方法，其中自前述第二步驟所排出的氣體成分中之二氟化氧濃度為1體積ppm以下。
  7. 如請求項1或2之含有氟元素之排氣之處理方法，其中前述含有氟元素之排氣係含有氟氣。
  8. 如請求項1或2之含有氟元素之排氣之處理方法，其中前述含有氟元素之排氣係含有氟氣及氟化氫。
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