JP5471313B2 - 三フッ化塩素の除害方法 - Google Patents
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Description
応により合成されることが広く知られている(非特許文献1、2)。
フッ化ペルクロリル(ClO3F)が発生する。
い。また、水に不溶で酸やアルカリで分解できない特徴がある。さらに、物性がClO3
Fと類似したガス中にClO3Fが低濃度で含まれる場合には、蒸留による分離や濃縮も
難しいため、除去が困難という問題があった。
を課題とする。
ガス中のフッ素とハロゲンガスX2(X=Cl、Br又はIを示す。)を反応させること
によって、前記混合ガス中のフッ素を低減し、湿式スクラバーで生成するフッ化ペルクロリルの生成を未然に防止することを特徴とする除害方法を提供する。
lO3Fの処理に使用されていた高価な還元剤の使用や煩雑な濃度管理を行う必要がない
簡便な方法を提供することが可能となる。
まれることを妨げない。
う。
[実施例1]
内径30mm、長さ600mmのニッケル製筒型反応器3の外壁温度を350℃に設定し、マスフローコントローラー1を用いて、2.8mol%のフッ素ガスと3.5mol%のClF3の混合ガスを75ml/min、マスフローコントローラー2を用いて、3
.4mol%の塩素ガスを10ml/minの流量で、ニッケル製筒型反応器3に導入し
、30秒反応させたあと、後段に連結された水とKOH濃度が0.1mol/lのアルカ
リ溶液のスクラバー(排ガス処理装置)5、6によって除害処理した後、スクラバー流通の出口ガスをサンプリングし、FT−IR(大塚電子社製 IG−1000)を用いてClO3F濃度を分析したところ、180volppmであった。
[比較例1]
塩素ガスを添加しない以外は、実施例1と同条件で行った。その結果、サンプリングしたガス中のClO3F濃度は6000volppmであった。
[実施例2]
内径12.4mm、長さ1000mmのニッケル製筒型反応器3の外壁温度を350℃に設定し、マスフローコントローラー1を用いて、5.0mol%のフッ素ガスと3.0mol%のClF3の混合ガスを493ml/min、マスフローコントローラー2を用
いて、6.0mol%の塩素ガスを44ml/minの流量で、ニッケル製筒型反応器3
に導入し、30秒反応させたあと、後段に連結された水とKOH濃度が0.1mol/l
のアルカリ溶液のスクラバー(排ガス処理装置)5、6によって除害処理した後、スクラバー流通の出口ガスをサンプリングし、FT−IR(大塚電子社製 IG−1000)を用いてClO3F濃度を分析したところ、4volppmであった。
[比較例2]
塩素ガスを添加しない以外は、実施例2と同条件で行った。その結果、サンプリングしたガス中のClO3F濃度は3500volppmであった。
[実施例3]
内径30mm、長さ600mmのニッケル製筒型反応器3の外壁温度を370℃に設定し、マスフローコントローラー1を用いて、2.8mol%のフッ素ガスと3.5mol%のClF3の混合ガスを75ml/min、マスフローコントローラー2を用いて、3.4mol%の塩素ガスを10ml/minの流量で、ニッケル製筒型反応器3に導入し、30秒反応させたあと、後段に連結された水とKOH濃度が0.1mol/lのアルカリ溶液のスクラバー(排ガス処理装置)5、6によって除害処理した後、スクラバー流通の出口ガスをサンプリングし、FT−IR(大塚電子社製 IG−1000)を用いてClO3F濃度を分析したところ、160volppmであった。
[比較例3]
塩素ガスを添加しない以外は、実施例3と同条件で行った。その結果、サンプリングしたガス中のClO3F濃度は5600volppmであった。
3:反応器
4:ヒーター
5:水スクラバー
6:アルカリスクラバー
7:サンプリング箇所
Claims (3)
- 少なくとも三フッ化塩素及びフッ素から成る混合ガスを、湿式スクラバーによって除害処理する方法であって、
湿式スクラバーによる除害処理の前段階において、前記混合ガスに、ハロゲンガスX2(
X=Cl、Br又はIを示す。)を添加し、前記混合ガス中のフッ素とハロゲンガスX2
(X=Cl、Br又はIを示す。)を反応させることによって、前記混合ガス中のフッ素を低減し、湿式スクラバーで生成するフッ化ペルクロリル(ClO3F)の生成を未然に
防止することを特徴とする除害方法。 - 前記混合ガス中のフッ素ガスに対し1.0当量以上のハロゲンガスX2(X=Cl又はB
r又はIを示す。)を添加することを特徴とする請求項1に記載の方法。 - 前記混合ガス中のフッ素とハロゲンガスX2(X=Cl、Br又はIを示す。)を200
℃〜400℃の温度範囲で反応させることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の方法。
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