TWI673080B - 旋轉照射裝置、旋轉照射方法、及旋轉照射治療裝置 - Google Patents

旋轉照射裝置、旋轉照射方法、及旋轉照射治療裝置 Download PDF

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Abstract

實施形態的旋轉照射裝置，具備：旋轉支架(3)；設置於旋轉支架(3)且形成將帶電粒子束的軌道偏向的偏向磁場、與將帶電粒子束收束的收束磁場的至少一者，將帶電粒子束導至照射對象的超導電磁體(5)；將旋轉支架(3)旋轉驅動的旋轉支架驅動部(24)；在超導電磁體(5)被激磁的期間，以使旋轉支架(3)旋轉並停止的方式控制旋轉支架驅動部(24)的控制裝置(20)。

Description

旋轉照射裝置、旋轉照射方法、及旋轉照射治療裝置
本發明的實施形態係有關於對照射對象從周方向的任意角度照射帶電粒子束的旋轉照射裝置、旋轉照射方法、及旋轉照射治療裝置。
一般，旋轉照射治療裝置為藉由繞患者的周圍旋轉，以同步加速器(synchrotron)等的加速器將加速到高能量(energy)的帶電粒子束(beam)對患者從周方向的任意角度照射的裝置。因此，旋轉照射治療裝置具備能繞患者的周圍旋轉的旋轉框(frame)(以下，記為旋轉支架(gantry))。
以上述同步加速器等的加速器加速到高能量的帶電粒子束，被導向該旋轉支架的旋轉中心方向。被導向該旋轉中心方向的帶電粒子束，藉由設有超導電磁體的束輸送裝置，向旋轉支架的外周方向暫時曲折後，再向該內周方向曲折並導至治療室。被導至治療室的帶電粒子束，從照射部被照射至照射對象即患者的患部。
又，旋轉照射治療裝置為了對患者改變帶電粒子束的照射角，而改變旋轉支架的旋轉角度。從前，改變照射角而照射帶電粒子束時，將超導電磁體以無激磁狀態使旋轉支架旋轉而在所期望的角度停止。之後，將超導電磁體激磁，照射帶電粒子束。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1] 特開平11-47287號公報 　　[專利文獻2] 特開平9-192244號公報
[發明所欲解決的問題]
不過，上述的從前旋轉照射治療裝置的運用方法，因為將超導電磁體以無激磁狀態使旋轉支架旋轉，受到旋轉支架旋轉時增加的重力方向的力，使得超導電磁體內的構成構件會有微妙的偏差。藉此，超導電磁體會有在旋轉停止後的激磁時，會有對機械(mechanical)造成淬火(quench)的問題發生。其結果，成為妨礙作為旋轉照射治療裝置平穩治療的要因。以下，具體說明造成淬火(quench)的理由。
亦即，超導電磁體，主要藉由產生磁場的線圈(coil)、及維持電磁力的電磁力維持構件來構成。通常，使旋轉支架旋轉時，因為帶電粒子束未通過超導電磁體，以無激磁狀態進行旋轉。在這種無激磁狀態下，因為在線圈不產生電磁力，會呈在電磁力維持構件與線圈之間未產生摩擦力、或摩擦力低的狀態。
在該狀態下伴隨著於旋轉支架的旋轉的加速度及振動若增加的話，在超導電磁體內線圈與電磁力維持構件之間會產生些微的偏差、變形。該偏差、變形在將超導電磁體再激磁時，因解消偏差、變形所致的機械擾亂而發熱，成為誘使淬熄發生的原因。
超導電磁體淬火後，因為發熱而停止旋轉照射治療裝置的運轉，有等到超導電磁體的再冷卻後再啟動的必要。藉此，不得不停止旋轉照射治療裝置的治療，會有治療時間變長的問題。
本實施形態所欲解決的課題為提供一種旋轉照射裝置、旋轉照射方法、及旋轉照射治療裝置，能防止伴隨於旋轉支架的旋轉的超導電磁體內的構成構件的偏差、變形。 [解決問題的手段]
為了解決上述課題，本實施形態的旋轉照射裝置，具備：旋轉支架；設置於前述旋轉支架，且形成將帶電粒子束的軌道偏向的偏向磁場、與將前述帶電粒子束收束的收束磁場的至少一者，將前述帶電粒子束導至照射對象的超導電磁體；將前述旋轉支架旋轉驅動的旋轉支架驅動部；在前述超導電磁體被激磁的期間，以使前述旋轉支架旋轉並停止的方式控制前述旋轉支架驅動部的控制裝置。
本實施形態的旋轉照射治療裝置，具有：上述實施形態的旋轉照射裝置。
本實施形態的旋轉照射方法，為藉由設置於旋轉支架，且形成將帶電粒子束的軌道偏向的偏向磁場、與將前述帶電粒子束收束的收束磁場的至少一者的超導電磁體，將前述帶電粒子束導至照射對象的旋轉照射方法，具備：由控制裝置以將前述超導電磁體激磁的方式控制的工程；在前述超導電磁體被激磁的狀態下，由前述控制裝置以使前述旋轉支架旋轉並停止的方式控制旋轉支架驅動部的工程。 [發明的效果]
根據本實施形態，能防止伴隨於旋轉支架的旋轉的超導電磁體內的構成構件的偏差、變形。
以下，參照圖式說明有關本實施形態的旋轉照射治療裝置。此外，在以下的實施形態中，說明有關將旋轉照射裝置適用於旋轉照射治療裝置之例。
(旋轉照射治療裝置的全體構成) 　　圖1為一實施形態的旋轉照射治療裝置的縱剖面圖。圖2為圖1的複合型超導電磁體的橫剖面圖。
首先，根據圖1，說明有關本實施形態的旋轉照射治療裝置1的全體構成。
圖1所示的旋轉照射治療裝置1設置於建屋2內。旋轉照射治療裝置1將同步加速器等加速器(圖未示)、旋轉支架3、束管(beam pipe)(真空導管(duct))4、及複合型超導電磁體5作為主要的構成要素。
旋轉支架3保持成為束輸送路的終端且成為帶電粒子束的出口的照射部6，同時進行旋轉。旋轉支架3為繞旋轉軸3a的周圍而能以任意角度旋轉的構造。藉此，在治療時對著位於照射部6的作為照射對象的患者的患部，能從任意的方向照射。
束管4，其內部維持真空，是將以上述加速器加速的帶電粒子束導至患者的患部的束輸送路。
複合型超導電磁體5，如圖2所示在束管4的外周側，以同心圓狀配置有：使帶電粒子束偏光的束偏向用2極線圈12、及使帶電粒子束收束的束收束用4極線圈13。亦即，複合型超導電磁體5，作為控制帶電粒子束的束軌道的磁場，將偏向磁場(2極磁場)與收束磁場(4極磁場)的2個磁場作為重疊的合成磁場同時形成。
與偏向磁場一同形成的收束磁場，強制地抑制從通過束管4的帶電粒子束的軌道中心(束行進方向)遠離的發散成分，從帶電粒子束入射至旋轉支架3而到從照射部6出射為止，以使帶電粒子束指向性變高的方式進行調節。這種偏向磁場的調節，也藉由複合型超導電磁體5的配置來進行。
本實施形態的複合型超導電磁體5，在旋轉支架3的內部以預先設定的間隔設置3體。複合型超導電磁體5，在2極線圈12與4極線圈13的外側側隔著間隙物(spacer)14將兼為鐵軛部(yoke)的電磁力維持構件15以同心圓狀配置。再來，在該電磁力維持構件15的外周側，將真空容器16以同心圓狀配置。
複合型超導電磁體5具有主動屏蔽線圈(active shield coil)，成為減少洩漏磁場的構成。複合型超導電磁體5，不會對旋轉支架3的構造物、及圖未示的監視器(monitor)等的測定機器造成磁場的影響，且減少對照射部6的洩漏磁場。複合型超導電磁體5為不會對患者及用以治療的裝置造成磁場的影響的構造。
(旋轉照射治療裝置的作用) 　　藉由同步加速器等的加速器(圖未示)，將碳離子(ion)及質子等帶電粒子束加速至數百MeV的高能量，通過束線(beam line)導入至旋轉照射治療裝置1。該帶電粒子束由重粒子線及質子線等的帶電粒子線形成，通過維持在真空狀態的束管4內，該軌道被複合型超導電磁體5的偏向磁場(2極磁場)進行3次曲折後，從照射部6出射，對照射對象即患者的患部(照射點)從垂直方向進行照射。
其中，複合型超導電磁體5的4極磁場，如同上述能夠防止帶電粒子束的擴散，而對照射部6供應高精度的帶電粒子束。
(系統的構成) 　　圖3表示一實施形態的旋轉照射治療裝置的系統構成的區塊圖。
如圖3所示，控制裝置20，例如由微電腦(micro computer)等電腦資源構成，將記憶於圖未示的ROM(Read Only Memory)、或硬碟裝置等記錄媒體中的處理程式(program)及各種資料(data)等由CPU(Central Processing Unit)讀出，並展開至主記憶體(main memory)，由CPU依序執行該展開的處理程式。藉由該程式的執行，執行對應程式的方法。此外，構成控制裝置20的微電腦之數可以是1個也可以是複數個。
控制裝置20，作為藉由CPU執行處理程式而實現的機能的構成，具備：旋轉支架驅動控制部21、電磁體電源控制部22、照射控制部23。此外，構成控制裝置20的實現該等要素的方法不限於軟體(software)，將其一部分或全部的要素，利用組合邏輯電路與類比電路等的硬體(hardware)來實現也可以。
旋轉支架驅動控制部21連接至驅動旋轉支架3的旋轉支架驅動部24。旋轉支架驅動控制部21藉由控制旋轉支架驅動部24，來控制旋轉支架3的開啟(on)、關閉(off)動作的各時點等。藉此，控制對照射對象即患者的患部的照射部6的位置及方向。
電磁體電源控制部22與電磁體電源25通過信號線連接。該電磁體電源25與複合型超導電磁體5通過信號線連接。電磁體電源控制部22藉由控制電磁體電源25，控制複合型超導電磁體5的開啟、關閉，同時控制激磁量(激磁電流)及該激磁量造成的激磁時點。
此外，在本實施形態中，雖電磁體電源控制部22、電磁體電源25、及複合型超導電磁體5分別獨立構成，但不限於此，將其全部一體構成也可以，又將電磁體電源控制部22及電磁體電源25一體構成、或將電磁體電源25及複合型超導電磁體5一體構成也可以。
照射控制部23連接至束生成部26。束生成部26生成碳離子及質子等粒子，並且藉由同步加速器等加速器將該等粒子加速至能到達患部深處的能量而生成帶電粒子束。
照射控制部23進行由束生成部26生成的帶電粒子束的出射的開啟、關閉控制。具體來說，控制裝置20得到來自例如圖未示的線量監視器的線量滿了的信號，輸出束出射許可信號。該線量監視器為監視照射患部的線量者。照射控制部23基於該束出射許可信號，控制帶電粒子束的出射的開啟、關閉。
治療計劃資料記憶部(資料記憶部)30例如由硬碟裝置等記錄媒體構成。在治療計劃資料記憶部30中，在帶電粒子束的照射時點、複合型超導電磁體5的激磁量及激磁時點、旋轉支架3的旋轉開啟、關閉動作的時點等成為必要的各種元表依處理順序被記憶於例如稱為圖案檔案(pattern file)的資料檔案中，在治療照射的開始前向控制裝置20輸出。
控制裝置20，基於輸入的資料來控制旋轉支架驅動控制部21、電磁體電源控制部22、照射控制部23。
(系統的作用) 　　圖4為圖3的控制裝置的控制順序的流程圖。圖5為圖3的控制順序所致的束生成部的照射、複合型超導電磁體的激磁、及旋轉支架的旋轉動作的各時點的時序流程。
在這裡，在治療照射的開始前對控制裝置20，從治療計劃資料記憶部30預先輸出帶電粒子束的照射時點、複合型超導電磁體5的激磁量及激磁時點、旋轉支架3的旋轉開啟、關閉動作的時點等各種資料。
首先，如圖4及圖5所示，電磁體電源控制部22控制電磁體電源25以激磁量n將複合型超導電磁體5激磁(步驟(step)S1)。接著，不將複合型超導電磁體5消磁，旋轉支架驅動控制部21控制旋轉支架驅動部24的開啟、關閉動作的各時點使旋轉支架3旋轉驅動至別的照射位置即m+1照射位置(步驟S2)。
接著，照射控制部23控制帶電粒子束的出射的開啟、關閉，從束生成部26以電磁體電源25的激磁量n開始帶電粒子束的出射(步驟S3)。以維持該激磁狀態的狀態，旋轉支架驅動控制部21控制旋轉支架驅動部24的開啟、關閉動作的各時點使旋轉支架3旋轉驅動至又另一個照射位置即m+2照射位置(步驟S4)。
再來，控制電磁體電源25以比步驟S1的激磁量還高的次個激磁量即激磁量n+1將複合型超導電磁體5激磁(步驟S5)。照射控制部23控制帶電粒子束的出射的開啟、關閉，從束生成部26以電磁體電源25的激磁量n+1出射帶電粒子束(步驟S6)。
圖6為將作用於圖2的複合型超導電磁體中的線圈的電磁力以橫剖面表示的說明圖。
在本實施形態中，如圖4及圖5所示，以將複合型超導電磁體5激磁後使旋轉支架3旋轉的方式控制。因此，如圖6所示，磁力線17對2極線圈12及4極線圈13作為電磁力作用。其結果，在對2極線圈12及4極線圈13，作用有如箭頭所示的線圈電磁力。
該線圈電磁力，通過間隙物14傳達至電磁力維持構件15，在2極線圈12及4極線圈13與電磁力維持構件15之間生成摩擦力。因此，即便以該狀態使旋轉支架3旋轉，2極線圈12及4極線圈13、與電磁力維持構件15也因摩擦力而被固定，不會有相互偏差、或變形，變得不會產生淬火。
因此，在本實施形態中，藉由在旋轉支架3的旋轉前將複合型超導電磁體5激磁，因為產生的電磁力，拘束了複合型超導電磁體5內部的構成構件，故能防止複合型超導電磁體5內的構成構件的偏差，防止伴隨於旋轉支架3的旋轉而對機械造成淬火的問題。
此外，在本實施形態中，2極線圈12與4極線圈13藉由黏接而一體化，該配置態樣為何者配置於內周側、外周側都可以。
又，在本實施形態中，複合型超導電磁體5的激磁量為在2極線圈12及4極線圈13、與電磁力維持構件15之間產生摩擦力而固定的激磁量也可以。
因此，根據本實施形態，因為以將複合型超導電磁體5激磁後使旋轉支架3旋轉的方式控制，能夠防止伴隨於旋轉支架3的旋轉的複合型超導電磁體5內的構成構件的偏差、變形的發生。其結果，能預先防止伴隨於旋轉支架3的旋轉而複合型超導電磁體5對機械造成淬火。藉此，不會使旋轉照射治療裝置1的治療停止，能使治療時間縮短化。
又，在本實施形態中，藉由使複合型超導電磁體5的激磁量能2階段切換，能夠對照射對象即患者的患部將適當的線量的帶電粒子束以短時間照射。又，在本實施形態中，雖複合型超導電磁體5的激磁量能以2階段切換，但能切換其以上的階段數也可以。藉此，能夠將適當的線量的帶電粒子束以一段及短時間照射。
再來，在本實施形態中，在旋轉支架3旋轉時藉由將複合型超導電磁體5的激磁量控制成下個照射時的激磁量，能夠省下照射時設定激磁量的勞力和時間。
(複合型超導電磁體的其他連接形態) 　　圖7為表示圖3的複合型超導電磁體的其他連接形態的區塊圖。
在圖3所示的實施形態中，雖說明有關對電磁體電源控制部22連接1組電磁體電源25及複合型超導電磁體5的例子，但在圖7中，對電磁體電源控制部22連接2組電磁體電源25及複合型超導電磁體5。
藉此，與圖3所示的實施形態相比，能刪減電磁體電源控制部22之數，使得構成簡單化。
又，在圖7中，雖說明有關連接2組電磁體電源25及複合型超導電磁體5之例，但不限於此，對電磁體電源控制部22連接3組以上電磁體電源25及複合型超導電磁體5也可以。
又，在圖7中，雖說明有關電磁體電源25及複合型超導電磁體5為獨立構成之例，但不限於此，如前述實施形態為一體構成也可以。
(控制裝置的其他控制順序) 　　圖8為表示一實施形態的控制裝置的其他控制順序的流程圖。圖9為圖8的控制順序所致的束生成部的照射、複合型超導電磁體的激磁、及旋轉支架的旋轉動作的其他各時點的時序流程。此外，該控制順序也與前述實施形態一樣，在治療照射的開始前從治療計劃資料記憶部30對控制裝置20預先輸出各種資料。其他控制順序也一樣。
首先，如圖8及圖9所示，電磁體電源控制部22控制電磁體電源25以激磁量n+1將複合型超導電磁體5激磁(步驟S11)。接著，不將複合型超導電磁體5消磁，旋轉支架驅動控制部21控制旋轉支架驅動部24的開啟、關閉動作的各時點使旋轉支架3旋轉驅動至別的照射位置即m+1照射位置(步驟S12)。
接著，照射控制部23控制帶電粒子束的出射的開啟、關閉，從束生成部26以電磁體電源25的激磁量n+1出射帶電粒子束(步驟S13)。以維持該激磁狀態的狀態，旋轉支架驅動控制部21控制旋轉支架驅動部24的開啟、關閉動作的各時點使旋轉支架3旋轉驅動至又另一個照射位置即m+2照射位置(步驟S14)。
再來，控制電磁體電源25以比步驟S11的激磁量還低的次個激磁量即激磁量n將複合型超導電磁體5激磁(步驟S15)。接著，照射控制部23控制帶電粒子束的出射的開啟、關閉，從束生成部26以電磁體電源25的激磁量n出射帶電粒子束(步驟S16)。
如圖8及圖9所示，控制帶電粒子束的照射時點、複合型超導電磁體5的激磁量及激磁時點、旋轉支架3的旋轉開啟、關閉動作的時點，也能得到與前述實施形態一樣的效果。
(控制裝置的又一個控制順序) 　　圖10為表示一實施形態的控制裝置的又一個控制順序的流程圖。圖11為表示圖10的控制順序所致的束生成部的照射、複合型超導電磁體的激磁、及旋轉支架的旋轉動作的各時點的時序流程。
首先，如圖10及圖11所示，電磁體電源控制部22控制電磁體電源25以激磁量n將複合型超導電磁體5激磁(步驟S31)。接著，不將複合型超導電磁體5消磁，旋轉支架驅動控制部21控制旋轉支架驅動部24的開啟、關閉動作的各時點使旋轉支架3旋轉驅動至別的照射位置即m+1照射位置(步驟S32)。
接著，照射控制部23控制帶電粒子束的出射的開啟、關閉，從束生成部26以電磁體電源25的激磁量n出射帶電粒子束(步驟S33)。以維持該激磁狀態的狀態，旋轉支架驅動控制部21控制旋轉支架驅動部24的開啟、關閉動作的各時點使旋轉支架3旋轉驅動至又另一個照射位置即m+2照射位置(步驟S34)。
再來，以維持上述電磁體電源25的激磁量n的狀態，照射控制部23控制帶電粒子束的出射的開啟、關閉，從束生成部26以電磁體電源25的激磁量n出射帶電粒子束(步驟S35)。
如圖10及圖11所示，在將複合型超導電磁體5的激磁量控制成一定的情形，也能得到與前述實施形態一樣的效果。
因此在本實施形態中，以將複合型超導電磁體5激磁後使旋轉支架3旋轉的方式控制
〈其他的實施形態〉 　　雖已說明了本發明的實施形態，但該實施形態僅為作為例子而提示者，並沒有要限定本發明的範圍之意圖。該實施形態，也可以利用於其他各種形態來實施，在不脫離發明要旨的範圍內，可以進行各種省略、置換、變更、組合。該等實施形態及其變形，與包含於發明的範圍及要旨中同樣，也包含於申請專利範圍中所記載的發明與其均等的範圍內。
此外，在上述實施形態中，雖說明有關適用於旋轉照射治療裝置1的例子，但不限於此，若是對照射對象從周方向的任意角度照射帶電粒子束的旋轉照射裝置，也適用於例如如物理學實驗等的各種用途。
又，在上述實施形態中，雖說明關於設置2極線圈12、4極線圈13雙方之例，但不限於此，以2極線圈12或4極線圈13的任一者單獨構成的超導電磁體時也能得到同樣的效果。又，關於2極線圈12、4極線圈13以6極以上的多極來構成的情形也一樣。
1‧‧‧旋轉照射治療裝置(旋轉照射裝置)
2‧‧‧建屋
3‧‧‧旋轉支架
3a‧‧‧旋轉軸
4‧‧‧束管(真空導管)
5‧‧‧複合型超導電磁體(超導電磁體)
6‧‧‧照射部
12‧‧‧2極線圈
13‧‧‧4極線圈
14‧‧‧間隙物
15‧‧‧電磁力維持構件
16‧‧‧真空容器
17‧‧‧磁力線
20‧‧‧控制裝置
21‧‧‧旋轉支架驅動控制部
22‧‧‧電磁體電源控制部
23‧‧‧照射控制部
24‧‧‧旋轉支架驅動部
25‧‧‧電磁體電源
26‧‧‧束生成部
30‧‧‧治療計劃資料記憶部(資料記憶部)
[圖1]表示一實施形態的旋轉照射治療裝置的縱剖面圖。 　　[圖2]表示圖1的複合型超導電磁體的橫剖面圖。 　　[圖3]表示一實施形態的旋轉照射治療裝置的系統(system)構成的區塊圖(block diagram)。 　　[圖4]表示圖3的控制裝置的控制順序的流程圖(flow chart)。 　　[圖5]表示圖3的控制順序所致的束生成部的照射、複合型超導電磁體的激磁、及旋轉支架的旋轉動作的各時點(timing)的時序流程(timing chart)。 　　[圖6]將作用於圖2的複合型超導電磁體中的線圈的電磁力以橫剖面表示的說明圖。 　　[圖7]表示圖3的複合型超導電磁體的其他連接形態的區塊圖。 　　[圖8]表示一實施形態的控制裝置的其他控制順序的流程圖。 　　[圖9]表示圖8的控制順序所致的束生成部的照射、複合型超導電磁體的激磁、及旋轉支架的旋轉動作的各時點的時序流程。 　　[圖10]表示一實施形態的控制裝置的又一個控制順序的流程圖。 　　[圖11]表示圖10的控制順序所致的束生成部的照射、複合型超導電磁體的激磁、及旋轉支架的旋轉動作的各時點的時序流程。

Claims (8)

  1. 一種旋轉照射裝置，具備：旋轉支架；設置於前述旋轉支架，且包含以同心圓狀配置的電磁力維持構件、產生將帶電粒子束的軌道偏向的偏向磁場的2極線圈、與產生將前述帶電粒子束收束的收束磁場的4極線圈，將前述帶電粒子束導至照射對象的超導電磁體；將前述旋轉支架旋轉驅動的旋轉支架驅動部；在前述超導電磁體被激磁的期間，以使前述旋轉支架旋轉並停止的方式控制前述旋轉支架驅動部的控制裝置。
  2. 如請求項1所記載的旋轉照射裝置，其中，前述控制裝置，具備：控制向前述超導電磁體的電磁體電源所致的激磁時點的電磁體電源控制部；控制前述帶電粒子束的出射的開啟、關閉的照射控制部；以使前述旋轉支架的旋轉及停止的動作進行的方式控制前述旋轉支架驅動部的旋轉支架驅動控制部。
  3. 如請求項2所記載的旋轉照射裝置，更具備：將前述超導電磁體、前述電磁體電源、及前述電磁體電源控制部相互連接的信號線。
  4. 如請求項2或3所記載的旋轉照射裝置，其中，前述電磁體電源控制部，能將前述超導電磁體的激磁量作複數階段的切換。
  5. 如請求項2或3所記載的旋轉照射裝置，其中，前述電磁體電源控制部，將前述超導電磁體的激磁量控制成下個照射時的激磁量。
  6. 如請求項1所記載的旋轉照射裝置，更具備：記錄前述帶電粒子束的照射時點、前述超導電磁體的激磁量及激磁時點、前述旋轉支架的旋轉開啟、關閉動作的時點的各資料的資料記憶部，該資料記憶部，在前述帶電粒子束的照射前輸出前述資料至前述控制裝置。
  7. 一種旋轉照射治療裝置，具有：如請求項1至3中任一項所記載的旋轉照射裝置。
  8. 一種旋轉照射方法，為藉由設置於旋轉支架，且包含以同心圓狀配置的電磁力維持構件、產生將帶電粒子束的軌道偏向的偏向磁場的2極線圈、與產生將前述帶電粒子束收束的收束磁場的4極線圈的超導電磁體，將前述帶電粒子束導至照射對象的旋轉照射方法，具備：控制裝置以將前述超導電磁體激磁的方式進行控制的工程； 在前述超導電磁體被激磁的狀態下，前述控制裝置以使前述旋轉支架旋轉並停止的方式控制旋轉支架驅動部的工程。
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