JP2018149179A - 回転照射装置、回転照射方法、及び回転照射治療装置 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は一実施形態に係る回転照射治療装置を示す縦断面図である。図2は図1の複合型超伝導電磁石を示す縦断面図である。
シンクロトロン等の加速器(図示せず)によって炭素イオンや陽子等の荷電粒子ビームが数百MeVの高エネルギーまで加速され、ビームラインを通して回転照射治療装置1に導入される。この荷電粒子ビームは、重粒子線や陽子線等の荷電粒子線からなり、真空状態が維持されたビームパイプ4内を通過し、その軌道が複合型超伝導電磁石5の偏向磁場(2極磁場)により3回曲げられた後、照射部6から出射されて、照射対象である患者の患部(照射点)に対して垂直方向から照射される。
図3は一実施形態に係る回転照射治療装置のシステム構成を示すブロック図である。
図4は図3の制御装置の制御順序を示すフローチャートである。図5は図3の制御順序によるビーム生成部の照射、複合型超伝導電磁石の励磁、及び回転ガントリの回転動作の各タイミングを示すタイミングチャートである。
図7は図3の複合型超伝導電磁石の他の接続形態を示すブロック図である。
図8は一実施形態の制御装置の他の制御順序を示すフローチャートである。図9は図8の制御順序によるビーム生成部の照射、複合型超伝導電磁石の励磁、及び回転ガントリの回転動作の他の各タイミングを示すタイミングチャートである。なお、この制御順序でも、前記実施形態と同様に、治療照射の開始前に治療計画データ記憶部30から制御装置20に対して各種データがあらかじめ出力されている。その他の制御順序でも同様である。
図10は一実施形態の制御装置のさらに他の制御順序を示すフローチャートである。図11は図10の制御順序によるビーム生成部の照射、複合型超伝導電磁石の励磁、及び回転ガントリの回転動作のさらに他の各タイミングを示すタイミングチャートである。
本発明の実施形態を説明したが、この実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。この実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更、組み合わせを行うことができる。この実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。
Claims (8)
- 回転ガントリに設置され、かつ荷電粒子ビームの軌道を偏向する偏向磁場と、前記荷電粒子ビームを収束する収束磁場の少なくとも一方を形成する超伝導電磁石で前記荷電粒子ビームを照射対象に導く回転照射装置であって、
前記超伝導電磁石を励磁してから前記回転ガントリを回転させるように制御する制御装置を備えることを特徴とする回転照射装置。 - 前記制御装置は、前記超伝導電磁石への電磁石電源による励磁タイミングを制御する電磁石電源制御部と、前記荷電粒子ビームの出射のオン、オフを制御する照射制御部と、前記回転ガントリの回転オン、オフ動作を制御する回転ガントリ駆動制御部と、を備えることを特徴とする請求項1に記載の回転照射装置。
- 前記超伝導電磁石、前記電磁石電源、及び前記電磁石電源制御部は、それぞれ信号線を通して接続されていることを特徴とする請求項2に記載の回転照射装置。
- 前記電磁石電源制御部は、前記超伝導電磁石の励磁量を複数段階に切替可能としたことを特徴とする請求項2又は3に記載の回転照射装置。
- 前記電磁石電源制御部は、前記超伝導電磁石の励磁量を次の照射時の励磁量に制御することを特徴とする請求項2ないし4のいずれか一項に記載の回転照射装置。
- 前記荷電粒子ビームの照射タイミング、前記超伝導電磁石の励磁量及び励磁タイミング、前記回転ガントリの回転オン、オフ動作のタイミングの各データが記録されたデータ記憶部をさらに備え、このデータ記憶部は、前記荷電粒子ビームの照射前に前記制御装置に前記データを出力することを特徴とする請求項1に記載の回転照射装置。
- 請求項1ないし6のいずれか一項に記載の回転照射装置を有することを特徴とする回転照射治療装置。
- 回転ガントリに設置され、かつ荷電粒子ビームの軌道を偏向する偏向磁場と、前記荷電粒子ビームを収束する収束磁場の少なくとも一方を形成する超伝導電磁石で前記荷電粒子ビームを照射対象に導く回転照射方法であって、
制御装置が前記超伝導電磁石を励磁してから前記回転ガントリを回転させるように制御する制御工程を含むことを特徴とする回転照射方法。
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