TWI668522B - Illumination optical system, exposure device, and article manufacturing method - Google Patents

Abstract

本發明涉及照明光學系統、曝光裝置以及物品製造方法。提供在CD均勻性這點上有利的曝光波長的控制技術。提供對被照明面進行照明的照明光學系統。照明光學系統具有：遮光板，形成開口部，該開口部界定被照明面中的照明區域的形狀；調整部，進行遮光板的調整，以變更被照明面中的照明區域；以及波長選擇部，選擇對前述被照明面進行照明的光的波長，調整部根據由波長選擇部選擇的波長，使用遮光板來變更照明區域。

Description

照明光學系統、曝光裝置及物品製造方法

[0001] 本發明涉及照明光學系統、曝光裝置以及物品製造方法。

[0002] 曝光裝置是在作為半導體裝置、液晶顯示裝置等的製造程序的光刻程序中，將底版（光罩、遮罩）的圖案經由投影光學系統轉印到感光性的基板（在表面形成有抗蝕層的晶圓、玻璃板等）的裝置。關於曝光裝置的解析性能，已知有被稱為瑞利公式的公式。 　　[0003]其中，RP表示解析度，λ表示曝光波長，NA表示投影光學系統的數值孔徑，k₁ 表示示出解析的難易度的無因次量。解析度RP的值越小，越能夠進行細微的曝光。從式（1）可知，作為減小RP的手法之一，只要縮短曝光波長λ即可。 　　[0004] 另一方面，按照下式表示曝光裝置的焦點深度DOF。 　　[0005]k₂ 也與k₁ 同樣地是無因次量，根據抗蝕層材料的種類、對底版進行照明的照明條件等而發生變化。從式（2）可知，作為增大焦點深度DOF的手法之一，只要加長曝光波長λ即可。 　　[0006] 如以上般，曝光波長λ影響到解析度RP、焦點深度DOF，通過變更曝光波長λ，能夠調整曝光性能。 　　[0007] 以下，舉出具體的例子。例如，假設作為曝光裝置的光源使用超高壓水銀燈。從光源輸出的光的波長多種多樣，而在用於製造FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）等的曝光裝置中，一般抽出波長250nm~500nm的光來使用的情形較多。 　　[0008] 例如，在裝置的解析度不足的情況下，可以將把長波長側截止的波長濾波器插入到曝光裝置的照明光學系統內。由此，能夠縮短用於曝光的光的平均波長，能夠提高解析度。 　　[0009] 另一方面，假設解析度足夠，為了進行顯影處理而想要減小曝光程序所容許的散焦。在該情況下，與上述相反地，將把來自光源的光中的短波長側截止的波長濾波器插入到曝光裝置的照明光學系統內即可。通過這樣做，能夠增大焦點深度。 　　[0010] 但是，通過改變曝光波長，當照明光學系統內的透鏡存在色差的情況下，被照明面的照度分布發生變化，在曝光區域內產生照度分布的不均（以下稱為“照度不均”。）。在將底版的圖案燒刻到基板時，曝光區域內的照度不均成為使CD均勻性（Critical Dimension Uniformity：臨界尺寸均勻性）不良化的主要原因之一。CD均勻性是指曝光區域內的圖案的大小、長度的偏差度，偏差越小，曝光性能越優良。 　　[0011] 在日本專利特開昭62-193125號公報中示出對照度不均的產生所致的CD均勻性變差進行校正的技術。在專利文獻1中，通過使狹縫寬度變化來調節曝光量，進行CD的校正。通過用壓電元件等推拉決定狹縫寬度的板，能夠針對狹縫的每個部位改變狹縫寬度。 　　[0012] 但是，在日本專利特開昭62-193125號公報的手法中，能夠適應由於照明光學系統內的各光學元件的組裝誤差、投影光學系統的透射率偏差等製造偏差產生的微小校正，但難以進行大幅的校正。如果在反復進行了大幅的校正的情況下，板隨經時變化而變形，不僅校正精度變差，校正機構本身也有可能無法使用。即使假設增強了板的剛性，能夠校正的量也被限制，結果難以進行起因於曝光波長變化的大的校正。

[0013] 根據本發明的一個方面，提供一種照明光學系統，對被照明面進行照明，前述照明光學系統的特徵在於，具有：遮光板，形成開口部，該開口部界定前述被照明面中的照明區域的形狀；調整部，進行前述遮光板的調整，以變更前述被照明面中的前述照明區域；以及波長選擇部，選擇對前述被照明面進行照明的光的波長，前述調整部根據由前述波長選擇部選擇的波長，使用前述遮光板來變更前述照明區域。 　　本發明進一步的特徵將在參照附圖下由下述的實施方式而變清楚。

[0015] 以下，參照附圖，詳細說明本發明的實施方式。 　　[0016] ＜第1實施方式＞ 　　圖1是示出本實施方式的照明光學系統的結構的概略圖。照明光學系統100例如能夠搭載於曝光裝置，利用來自光源部的光，對作為被照明面的形成有圖案的遮罩（底版）進行照明。 　　[0017] 光源部120包括光源101、橢圓鏡102、複數個波長濾波器104a及104b、第1光學系統105。作為光源101例如使用高壓水銀燈。除了使用高壓水銀燈之外，還可以使用氙燈、準分子雷射等。橢圓鏡102是用於對從光源101發出的光進行聚光的聚光光學系統。光源101配置於橢圓的兩個焦點位置中的一個焦點位置。從光源101發出並由橢圓鏡102反射的光在橢圓的另一個焦點位置被聚光，並通過配置在其附近的波長濾波器104a。 　　[0018] 波長濾波器104b位於波長濾波器104a的附近。複數個波長濾波器104a及104b是使波長互不相同的光透射的複數個波長濾波器，被構成為能夠切換要使用的波長濾波器。由此能夠選擇曝光波長。此外，波長濾波器104a及104b例如能夠包括介電體多層膜。波長選擇部51將從複數個波長濾波器104a和波長濾波器104b之中選擇出的波長濾波器配置於光源部與被照明面之間的光路徑。波長選擇部51與控制部50連接，能夠由控制部50指定（選擇）所使用的波長濾波器。 　　[0019] 通過波長濾波器104a的光由第1光學系統105引導至偏向鏡107，到達合成部108。第1光學系統105被配置成使合成部108成為波長濾波器104a或者104b的射出面的實質上的傅立葉轉換位置。 　　[0020] 此外，在圖1的例子中，光源部120為兩個，對各個光源部配置有偏向鏡107。偏向鏡的配置因光源部的數量不同而不同，光源部的數量既可為1個，也可為3個以上。 　　[0021] 從合成部108發出的光由第2光學系統140引導到複眼光學系統109，該複眼光學系統109構成用於對被照明面均勻地進行照明的光學積分器。在此，第2光學系統140被配置成使複眼光學系統109的入射面成為合成部108的實質上的傅立葉轉換位置。 　　[0022] 圖2是示出複眼光學系統109的結構例的圖。如圖2所示，複眼光學系統109具有使複數個平凸透鏡以平面狀粘在一起而成的兩個透鏡群131、132。透鏡群131、132以使成對的平凸透鏡位於各個平凸透鏡的焦點位置的方式使曲率面相對置地配置。通過使用這樣的複眼光學系統109，在複眼光學系統109的射出面位置形成與光源101等效的複數個二次光源影像。 　　[0023] 在複眼光學系統109的正下方配置有孔徑光闌110（σ光闌）。通過孔徑光闌110的光束被第3光學系統150引導到狹縫機構181。此時第3光學系統150被配置成使狹縫機構181成為複眼光學系統109的射出面的實質上的傅立葉轉換平面。 　　[0024] 圖3示出了狹縫機構181的結構例。狹縫機構181具有：第1遮光板171，形成有開口部172，該開口部172界定被照明面中的照明區域的形狀；以及調整部90，調整第1遮光板171，以變更被照明面中的照明區域。開口部172例如是供光通過的圓弧形狀的狹縫。調整部90可以包括：第1調整部52，調整第1遮光板171在Y方向（第1方向）上的位置；以及第2調整部173，調整Y方向上的開口部172的形狀。第1調整部52包括致動器。第1調整部52與控制部50連接，能夠由控制部50控制第1調整部52的動作。第1遮光板171是用於對照明區域中的Y方向的上游側以及下游側的邊界的位置進行變更的構材。利用第1調整部52來變更第1遮光板171（開口部172）在Y方向上的位置，從而變更照明區域中的Y方向的上游側以及下游側的邊界的位置。在開口部172的呈圓弧狀的一端部形成有第2遮光板170。第2遮光板170是用於變更照明區域中的Y方向的下游側的邊界的形狀的構材。第2遮光板170設置有第2調整部173（推拉部），該第2調整部173在Y方向推拉X方向（第2方向）上的第2遮光板170的各位置。第2調整部173可以是複數個致動器。這些複數個致動器分別經由佈線174而與控制部50連接。由此，複數個致動器分別由控制部50的控制來驅動。通過驅動第2調整部173的致動器而變更第2遮光板170的端部形狀，從而變更照明區域中的Y方向的下游側的邊界的形狀。此外，第2遮光板170也可以配置成變更照明區域中的Y方向的上游側的邊界的形狀。圖14示出作為狹縫機構181的變形例的狹縫機構182的結構例。在圖14的例子中，圖3的第1遮光板171被分割為兩個遮光構材175、176。遮光構材175是界定開口部172的Y方向的上游側的邊界的位置的構材。遮光構材176是界定開口部172的X方向的兩端的邊界的構材。調整部91具有位置調整部53，該位置調整部53調整遮光構材175在Y方向上的位置。位置調整部53包括致動器。通過利用位置調整部53來變更遮光板175在Y方向上的位置，從而變更照明區域中的Y方向的上游側的邊界的位置。 　　[0025] 通過了開口部172的圓弧形狀的光束利用第3光學系統160被照明到遮罩M。遮罩M一邊在Y方向（第1方向）被移動一邊被照明。此外，在圖3以及圖14的例子中，開口部172使用了圓弧形狀的開口部，但也可以是其它形狀如矩形形狀。 　　[0026] （設計例） 　　以下，說明第1實施方式中的設計例。 　　波長濾波器104a例如設為僅使從光源發出的光中的i射線（365nm）附近的光通過的波長濾波器。圖4（A1）是從光的行進方向觀察狹縫機構181的開口部172的圖。從複眼光學系統109的射出面發出的光利用第3光學系統150被大致均勻地照射到狹縫機構181，但由於第3光學系統150的像差而產生如圖4（A1）的圓形的等高線所示的照度不均。在此，當在與X方向垂直的掃描方向（Y方向）對光的能量進行累計時，隨著圖4（A1）的照度不均而成為如圖4（A2）。期望無照度不均，即期望累計能量I在X方向不產生偏差。 　　[0027] 接下來，控制部50控制波長選擇部51，將配置在光路徑內的波長濾波器從波長濾波器104a切換成波長濾波器104b。波長濾波器104b設為僅使從光源發出的光中的g射線（435nm）附近的光通過的波長濾波器。此時，由於第3光學系統150具有的色差的影響而產生如圖4（B1）的圓形的等高線所示的照度不均。圖4（B2）示出在掃描方向（Y方向）對光的能量進行累計而得到的累計能量I。 　　[0028] 圖4（B1）示出了由於通過切換成波長濾波器104b而進入到第3光學系統150的光的波長發生變化致使照度不均變大之情況。其結果，如圖4（B2）所示，光的累計能量I依X方向的位置而差異變大。 　　[0029] 因此，控制部50控制第1調整部52來驅動遮光板171，使開口部172的位置偏移掃描方向（Y方向）。圖4（C1）表示使開口部172偏移之後的情形。與圖4（B1）相比，可知開口部172跨越照度分布的等高線的數量減少。由此，如圖4（C2）所示，能夠減小累計能量I由於X方向的位置所致的差異。 　　[0030] 如此，調整部90根據使用何波長濾波器來進行遮光板171的調整。此外，也能以由第2調整部173調整開口部172的Y方向上的端部形狀來代替由第1調整部52驅動遮光板171。或者，也可以進行第1調整部52以及第2調整部173雙方的調整。 　　[0031] 另外，還可考慮具備開口部的形狀互不相同的複數個遮光板，根據所使用的波長濾波器來適當地對所使用的遮光板進行切換的結構。例如，調整部90調整複數個遮光板的位置，以使複數個遮光板中的與所使用的波長濾波器相應的遮光板被配置於波長濾波器與被照明面之間的光路徑。在以下的第2實施方式中說明該具體的方案。 　　[0032] ＜第2實施方式＞ 　　圖5是示出第2實施方式的照明光學系統200的結構的圖。對與第1實施方式的圖1相同的結構要素標注相同的參照符號，省略其等之說明。 　　[0033] 光源部121包括光源210、橢圓鏡102、第1光學系統105。在本實施方式中，光源210能夠與位於其附近的光源211進行切換。光源210和光源211構成為射出波長互不相同的光。光源選擇部61（波長選擇部）進行切換驅動，以將從複數個光源（光源210和光源211）之中選擇出的光源配置於界定的光源位置。光源選擇部61與控制部60連接，能夠由控制部60指定（選擇）所使用的光源。在圖5的例子中，也與圖1同樣地示出了兩個光源部，但光源部的數量既可為1個，也可為3個以上。 　　[0034] 從合成部108發出的光由第2光學系統140引導到複眼光學系統109，該複眼光學系統109是用於對被照明面均勻地進行照明的光學積分器。在複眼光學系統109的入射側附近，將波長濾波器220配置於光路徑。在此，第2光學系統140被配置成使複眼光學系統109的入射面成為合成部108的實質上的傅立葉轉換位置。在複眼光學系統109的附近配置有複眼光學系統111，構成為能夠與複眼光學系統109進行切換。積分器選擇部62將從複數個光學積分器（複眼光學系統109和複眼光學系統111）之中選擇出的光學積分器配置於光路徑。積分器選擇部62與控制部60連接，能夠由控制部60指定（選擇）所使用的光學積分器。 　　[0035] 圖6是示出複眼光學系統111的結構例的圖。複眼光學系統111具有透鏡群133、134。透鏡群133、134以使成對的平凸透鏡位於各個平凸透鏡的焦點位置的方式使曲率面相對置地配置。構成透鏡群133、134的各平凸透鏡由曲率與構成圖2的透鏡群131、132的各個平凸透鏡不同的透鏡構成。因此，從複眼光學系統109、111射出的光的角度（射出角）互不相同。 　　[0036] 從複眼光學系統109的射出面射出的光束利用第3光學系統150引導到遮光板242（第3遮光板）的狹縫。此時，第3光學系統150被配置成使遮光板242成為複眼光學系統109的射出面的實質上的傅立葉轉換平面。 　　[0037] 另外，在複眼光學系統109的射出面附近配置有孔徑光闌231。另外，在孔徑光闌231的附近配置有孔徑光闌232，能夠與孔徑光闌231進行切換。由此，能夠改變照明模式。孔徑光闌選擇部63將從複數個孔徑光闌（孔徑光闌231和孔徑光闌232）之中選擇出的孔徑光闌配置於光路徑。孔徑光闌選擇部63與控制部60連接，能夠由控制部60指定（選擇）所使用的孔徑光闌。 　　[0038] 在遮光板242的附近分別配置有形成有形狀不同的開口部（狹縫）的遮光板241以及遮光板243，能夠在複數個遮光板241、242、243之間對所使用的遮光板進行切換。各遮光板241、242、243的開口部是考慮了曝光波長、複眼光學系統的射出角、照明模式等條件的形狀。遮光板選擇部64進行與第1實施方式中的調整部90對應的動作。遮光板選擇部64將從複數個遮光板241、242、243之中選擇出的遮光板配置於光路徑。遮光板選擇部64與控制部60連接，能夠由控制部60指定（選擇）所使用的遮光板。 　　[0039] （設計例） 　　以下，說明第2實施方式中的設計例。 　　光源210以及光源211例如為超高壓水銀燈。其中，光源211是350nm以下的短波長側的光強度比光源210強的光源（例如DUV燈）。 　　[0040] 波長濾波器220是從光源輸出的光中的強度中心波長為300nm的波長濾波器。此外，強度中心波長是指通過將波長作為變數並進行光強度的重心計算而計算出的波長。另一方面，波長濾波器221是從光源輸出的光中的強度中心波長為405nm的波長濾波器。 　　[0041] 孔徑光闌231和孔徑光闌232的開口的形狀互不相同。孔徑光闌231是如圖7（A）所示的以環形使光通過的孔徑光闌。另一方面，孔徑光闌232是如圖7（B）所示的以普通的圓形狀使光通過的孔徑光闌。 　　[0042] 圖8是示出各遮光板241、242、243的狹縫（開口部）的結構例的圖。遮光板241具有圓弧形狀的狹縫。外側的圓弧241-O與內側的圓弧241-I的曲率分別相等。遮光板242也具有圓弧形狀的狹縫。但是，外側的圓弧242-O與內側的圓弧242-I的曲率例如相差1%左右。遮光板243也具有圓弧形狀的狹縫。外側的圓弧243-O與內側的圓弧243-I的曲率相同，但與241-O以及241-I的曲率不同。此外，雖然在圖8中未示出，但遮光板241、242、243也可以分別附加如圖3的狹縫機構181般調整開口部的開口寬度的機構。 　　[0043] 按照如下表1所示的圖案1~8般的曝光波長、積分器、孔徑光闌、狹縫的組合使用遮光板241~243。在表1中，分別用圖5~8中的參照符號表示積分器、孔徑光闌、遮光板（狹縫）。 　　[0044][0045] 例如，圖案1、3由於曝光波長的短波長化以及作為孔徑光闌使用了環形狀（圖7（A）），所以產生如從狹縫中心起在X方向越靠狹縫的外部則照度越下降般的照度不均。因此，在該情況下，使用遮光板242，該遮光板242具有如在X方向越靠外側則寬度越寬般的開口。由此，Y方向的光的能量累計值不易產生由於X方向的位置所致的差異。 　　[0046] 另外，例如在圖案6、8的情況下，由於曝光波長的長波長化以及作為孔徑光闌使用了小圓形狀（圖7（B）），所以產生如從狹縫中心起在X方向越靠狹縫的外部則照度越上升般的照度不均。因此，在該情況下，使用遮光板243。 　　[0047] 如圖8所示，遮光板241與遮光板243的狹縫具有的圓弧形狀的曲率半徑不同。遮光板243被設計成曲率半徑比遮光板241小。通過這樣做，Y方向的光的能量累計值不易產生由於X方向的位置所致的差異。 　　[0048] 例如，在圖8中，在遮光板241的開口部的X方向的位置241L、241C、241R之間，Y方向的位置差異小，所以能量累計值容易產生由於X位置所致的差異。另一方面，在遮光板243的開口部的X方向的位置243L、243C、243R之間，Y方向的位置差異大，所以能量累計值不易產生由於X位置所致的差異。 　　[0049] 此外，在本實施方式中，說明了將開口部的形狀設為圓弧形狀的情況，但也可以不設為圓弧形狀，而例如設為矩形形狀。在將開口部的形狀設為矩形的情況下，通過按照矩形的傾斜度替換前述圓弧曲率，能夠得到與圓弧開口的情況同樣的效果。 　　[0050] ＜曝光裝置的實施方式＞ 　　以下，說明具有第1實施方式的照明光學系統100的曝光裝置的實施方式。能夠對具有第2實施方式的照明光學系統200來代替照明光學系統100的曝光裝置也進行同樣的說明，所以在以下代表性地說明具有照明光學系統100的曝光裝置。 　　[0051] 圖9是示出實施方式的曝光裝置400的結構的圖。曝光裝置400包括照明光學系統100，利用來自照明光學系統100的狹縫光對基板進行掃描曝光。照明光學系統100具備前述的能夠調整開口部的形狀的狹縫機構181。 　　[0052] 曝光裝置400具有：遮罩載台300，保持遮罩M；投影光學系統301，將遮罩M的圖案投影到基板之上；以及基板載台302，保持基板。投影光學系統301例如是在從物面至像面的光路徑中依次排列有第一凹反射面71、凸反射面72、第二凹反射面73的投影光學系統。 　　[0053] 曝光裝置400還具備計測部304，該計測部304通過對到達了基板載台302的光的照度分布進行計測而就基板上的曝光區域的照度不均進行計測。另外，狹縫303位於基板載台302與計測部304之間。狹縫303能夠在控制部80的控制之下被驅動部303a在沿著基板載台302的載置基板的面的方向（X方向）掃描驅動。 　　[0054] 如圖9所示，計測部304包括感測器305以及用於將通過了狹縫303的光引導到感測器305的光學系統306。計測部304的動作大致如下。 　　[0055] 如圖10所示，對於在基板載台302成像的光的區域401，使狹縫303在X方向掃描。此時，僅有成像在區域401的光中的成像在狹縫303的開口部307的光入射到計測部304內。入射到計測部304內的光經由光學系統306被引導到感測器305。通過一邊使狹縫303在X方向掃描，一邊讀取到達感測器305的光的能量，從而對區域401內的每個位置的照度進行計測。由此，能夠計算照度不均。 　　[0056] 如上所述，通過調節照明光學系統100具有的狹縫機構181的開口寬度，能夠降低照度不均。例如，設為利用計測部304就如圖11（A）所示的照度不均進行計測。在該情況下，通過使照度下降的部分的狹縫機構181的寬度局部地變寬，使照度上升的部分的狹縫機構181的寬度局部地變窄，能夠如圖11（B）般使照度分布變均勻。 　　[0057] （照度不均校正的例子） 　　以下，說明本實施方式的照度不均的校正。 　　圖12是本實施方式中的照度不均的校正方法的流程圖。作為步驟S1，預先針對曝光波長、積分器、孔徑光闌的每個設定進行照度不均的模擬。接下來，根據步驟S1的模擬結果，決定每個設定的、成為狹縫機構181的基準的開口形狀（步驟S2）。成為狹縫機構181的基準的開口形狀最好為如使照度不均降低般的開口形狀。例如，設為通過步驟S1中的模擬來預測出如圖13（A）般的照度不均。此時，通過適當地設定成為基準的圓弧形狀的圓弧曲率半徑，能夠校正成如圖13（B）般的照度分布。 　　[0058] 接下來，在曝光裝置400中，控制部80針對具有在S2中決定的開口形狀的每個狹縫，使用計測部304來進行照度不均計測（步驟S3）。此時計測的照度不均期待成為如圖13（B）般的分布。 　　[0059] 但是，在實際的照度分布中，裝置製作上的組裝誤差累積，可能成為如圖13（C）所示的局部地具有不均的分布。因此，作為步驟S4，控制部80通過使用複數個致動器173對狹縫機構181的開口部172的開口寬度局部地進行驅動，從而校正該局部的照度不均。由此，能夠如圖13（D）般，減小X方向的照度不均，進而能夠提高曝光裝置的CD均勻性。 　　[0060] ＜物品製造方法的實施方式＞ 　　本發明的實施方式的物品製造方法例如適於製造半導體裝置等微型裝置或具有微細構造的元件等物品。本實施方式的物品製造方法包括對塗敷於基板的感光劑使用上述曝光裝置而形成潛像圖案的程序（對基板進行曝光的程序）、以及對在上述程序中形成有潛像圖案的基板進行顯影的程序。進而，這樣的製造方法包括其它公知的程序（氧化、成膜、蒸鍍、摻雜、平坦化、蝕刻、抗蝕層剝離、切割、接合、封裝等）。本實施方式的物品製造方法相比於以往的方法，在物品的性能、品質、生產率、生產成本中的至少一個方面是有利的。 　　雖透過各實施方式說明本發明，惟本發明並不限於所述實施方式。以下申請專利範圍應賦予最寬的解釋，以使其涵蓋所有該等之變更、等效結構、功能。 　　本案依2016年9月9日於日本申請之特願2016-177138及2017年7月24日於日本申請之特願2017-142842主張優先權利益。

[0061]

50‧‧‧控制部

51‧‧‧波長選擇部

52‧‧‧第1調整部

53‧‧‧位置調整部

60‧‧‧控制部

61‧‧‧光源選擇部

62‧‧‧積分器選擇部

63‧‧‧孔徑光闌選擇部

64‧‧‧遮光板選擇部

71‧‧‧第一凹反射面

72‧‧‧凸反射面

73‧‧‧第二凹反射面

80‧‧‧控制部

90‧‧‧調整部

91‧‧‧調整部

100‧‧‧照明光學系統

101‧‧‧光源

102‧‧‧橢圓鏡

104a‧‧‧波長濾波器

104b‧‧‧波長濾波器

105‧‧‧第1光學系統

107‧‧‧偏向鏡

108‧‧‧合成部

109‧‧‧複眼光學系統

110‧‧‧孔徑光闌

111‧‧‧複眼光學系統

120‧‧‧光源部

121‧‧‧光源部

131‧‧‧透鏡群

132‧‧‧透鏡群

133‧‧‧透鏡群

134‧‧‧透鏡群

140‧‧‧第2光學系統

150‧‧‧第3光學系統

160‧‧‧第3光學系統

170‧‧‧第2遮光板

171‧‧‧第1遮光板

172‧‧‧開口部

173‧‧‧第2調整部

174‧‧‧佈線

175‧‧‧遮光構材

176‧‧‧遮光構材

181‧‧‧狹縫機構

182‧‧‧狹縫機構

200‧‧‧照明光學系統

210‧‧‧光源

211‧‧‧光源

220‧‧‧波長濾波器

221‧‧‧波長濾波器

231‧‧‧孔徑光闌

232‧‧‧孔徑光闌

241‧‧‧遮光板

241-C‧‧‧位置

241-I‧‧‧圓弧

241-L‧‧‧位置

241-O‧‧‧圓弧

241-R‧‧‧位置

242‧‧‧遮光板

242-I‧‧‧圓弧

242-O‧‧‧圓弧

243‧‧‧遮光板

243-I‧‧‧圓弧

243-L‧‧‧圓弧

300‧‧‧遮罩台

301‧‧‧投影光學系統

302‧‧‧基板載台

303‧‧‧狹縫

303a‧‧‧驅動部

304‧‧‧計測部

305‧‧‧感測器

306‧‧‧光學系統

400‧‧‧曝光裝置

401‧‧‧區域

M‧‧‧遮罩

[0014] 　　圖1是示出實施方式中的照明光學系統的結構的圖。 　　圖2是示出實施方式中的複眼光學系統的結構的圖。 　　圖3是示出實施方式中的狹縫機構的結構的圖。 　　圖4是說明實施方式中的狹縫機構的控制的圖。 　　圖5是示出實施方式中的照明光學系統的結構的圖。 　　圖6是示出實施方式中的複眼光學系統的結構的圖。 　　圖7是示出實施方式中的孔徑光闌的結構的圖。 　　圖8是示出實施方式中的狹縫的結構的圖。 　　圖9是示出實施方式中的曝光裝置的結構的圖。 　　圖10是說明照度不均的計測動作的圖。 　　圖11是說明照度不均的校正的圖。 　　圖12是照度不均的校正方法的流程圖。 　　圖13是說明照度不均的校正的圖。 　　圖14是示出狹縫機構的變形例的圖。

Claims (12)

1. 一種照明光學系統，其係對被照明面進行照明者，具有：遮光板，其形成有開口部，該開口部界定前述被照明面中的照明區域的形狀，且被依第1曲線與第2曲線界定；調整部，其進行前述遮光板的調整，以變更前述被照明面中的前述照明區域；以及波長選擇部，其選擇對前述被照明面進行照明的光的波長；前述調整部根據由前述波長選擇部選擇的波長，變更在前述遮光板的前述第1曲線的形狀或前述第2曲線的形狀，使前述第1曲線的形狀與前述第2曲線的形狀不同，從而變更前述照明區域。
2. 如申請專利範圍第1項的照明光學系統，其中，前述照明光學系統一邊使遮罩在第1方向移動，一邊對前述遮罩的被照明面進行照明，前述調整部根據由前述波長選擇部選擇的波長，使用前述遮光板來變更前述照明區域中的前述第1方向的前或者後的邊界的位置。
3. 如申請專利範圍第2項的照明光學系統，其中，前述遮光板具有：第1遮光板，用於對前述照明區域 中的前述第1方向的上游側或者下游側的邊界的位置進行變更；以及第2遮光板，用於對前述照明區域中的前述第1方向的上游側或者下游側的邊界的形狀進行變更，前述調整部根據由前述波長選擇部選擇的波長，使用前述第1遮光板來變更前述照明區域中的前述第1方向的上游側或者下游側的邊界的位置。
4. 如申請專利範圍第3項的照明光學系統，其中，前述調整部包括：第1調整部，調整前述第1遮光板在前述第1方向上的位置；以及第2調整部，調整前述第2遮光板的形狀。
5. 如申請專利範圍第1項的照明光學系統，其進一步具有積分器選擇部，該積分器選擇部將從用於對前述被照明面進行照明的射出角互不相同的複數個光學積分器之中選擇出的光學積分器配置於光路徑，前述調整部根據配置於前述光路徑的光學積分器，使用前述遮光板來變更前述照明區域。
6. 如申請專利範圍第1項的照明光學系統，其進一步具有孔徑光闌選擇部，該孔徑光闌選擇部將從開口的形狀互不相同的複數個孔徑光闌之中選擇出的孔徑光闌配置於光路徑，根據配置於前述光路徑的孔徑光闌，使用前述遮光板 來變更前述照明區域。
7. 如申請專利範圍第1項的照明光學系統，其中，前述波長選擇部具有使互不相同的波長的光透射的複數個波長濾波器，將從前述複數個波長濾波器之中選擇出的波長濾波器配置於光路徑。
8. 如申請專利範圍第1項的照明光學系統，其中，前述波長選擇部具有複數個光源部，該複數個光源部射出互不相同的波長的光。
9. 如申請專利範圍第1項的照明光學系統，其中，前述開口部為由第1圓弧與第2圓弧界定的開口部，前述調整部根據由前述波長選擇部選擇的波長，變更在前述遮光板的前述第1圓弧的曲率或前述第2圓弧的曲率，使前述第1圓弧的曲率與前述第2圓弧的曲率不同，從而變更前述照明區域。
10. 一種曝光裝置，其具有：如申請專利範圍第1至9項中任一項的照明光學系統，其對遮罩進行照明；以及投影光學系統，其將前述遮罩的圖案的影像投影到基板。
11. 如申請專利範圍第10項的曝光裝置，其進一步具有計測部，該計測部對前述基板上的曝光區域中的照度分布的不均進行計測，前述調整部根據由前述計測部所計測的前述照度分布的不均，使用前述遮光板來變更前述照明區域。
12. 一種物品製造方法，包含以下程序：使用如申請專利範圍第11項的曝光裝置來對基板進行曝光；以及對在前述程序中被曝光的前述基板進行顯影；其中，利用被顯影的前述基板製造物品。