JP3374993B2 - 投影露光方法及び装置、露光装置、並びに素子製造方法 - Google Patents
投影露光方法及び装置、露光装置、並びに素子製造方法Info
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70066—Size and form of the illuminated area in the mask plane, e.g. reticle masking blades or blinds
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70075—Homogenization of illumination intensity in the mask plane by using an integrator, e.g. fly's eye lens, facet mirror or glass rod, by using a diffusing optical element or by beam deflection
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/702—Reflective illumination, i.e. reflective optical elements other than folding mirrors, e.g. extreme ultraviolet [EUV] illumination systems
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体素子又は
液晶表示素子等をフォトリソグラフィ工程で製造する際
に使用される、所謂スリットスキャン露光方式の投影露
光方法及び装置に関する。
液晶表示素子等をフォトリソグラフィ工程で製造する際
に使用される、所謂スリットスキャン露光方式の投影露
光方法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、半導体素子、液晶表示素子又
は薄膜磁気ヘッド等をフォトリソグラフィー技術を用い
て製造する際に、フォトマスク又はレチクル（以下、
「レチクル」と総称する）のパターンを投影光学系を介
して、フォトレジスト等が塗布されたウエハ（又はガラ
スプレート等）上に露光する投影露光装置が使用されて
いる。最近は、半導体素子等の１個のチップパターンが
大型化する傾向にあり、投影露光装置においては、レチ
クル上のより大きな面積のパターンをウエハ上に露光す
るための大面積化が求められている。
は薄膜磁気ヘッド等をフォトリソグラフィー技術を用い
て製造する際に、フォトマスク又はレチクル（以下、
「レチクル」と総称する）のパターンを投影光学系を介
して、フォトレジスト等が塗布されたウエハ（又はガラ
スプレート等）上に露光する投影露光装置が使用されて
いる。最近は、半導体素子等の１個のチップパターンが
大型化する傾向にあり、投影露光装置においては、レチ
クル上のより大きな面積のパターンをウエハ上に露光す
るための大面積化が求められている。
【０００３】また、半導体素子等のパターンが微細化す
るのに応じて、投影光学系の解像度を向上することも求
められているが、投影光学系の解像度を向上し、且つ投
影光学系の露光フィールドを大きくすることは設計上及
び製造上困難であるという問題がある。特に、投影光学
系として、反射屈折系を使用するような場合には、無収
差の露光フィールドの形状が円弧状の領域となることも
ある。
るのに応じて、投影光学系の解像度を向上することも求
められているが、投影光学系の解像度を向上し、且つ投
影光学系の露光フィールドを大きくすることは設計上及
び製造上困難であるという問題がある。特に、投影光学
系として、反射屈折系を使用するような場合には、無収
差の露光フィールドの形状が円弧状の領域となることも
ある。
【０００４】斯かる転写対象パターンの大面積化及び投
影光学系の露光フィールドの制限に応えるために、例え
ば細長い矩形、円弧状又は６角形等の照明領域（これを
「スリット状の照明領域」という）に対してレチクルを
走査し、その照明領域と共役な露光領域に対してレチク
ルに同期してウエハを走査することにより、レチクル上
のパターンの像を逐次ウエハ上に露光する所謂スリット
スキャン露光方式の投影露光装置が注目されている。
影光学系の露光フィールドの制限に応えるために、例え
ば細長い矩形、円弧状又は６角形等の照明領域（これを
「スリット状の照明領域」という）に対してレチクルを
走査し、その照明領域と共役な露光領域に対してレチク
ルに同期してウエハを走査することにより、レチクル上
のパターンの像を逐次ウエハ上に露光する所謂スリット
スキャン露光方式の投影露光装置が注目されている。
【０００５】この種の投影露光装置でも、従来の一括露
光方式の露光装置と同様に、視野絞りによりレチクル上
にスリット状の照明領域を設定する必要がある。ところ
が、スリットスキャン露光方式の場合には、走査の開始
時及び終了時にその照明領域がレチクル上のパターン領
域の走査方向のエッジ部近傍を走査するため、何等かの
工夫をしないと、パターン領域の外部の白抜きパターン
等がウエハ上に投影されてしまう。また、パターン領域
以外の部分の転写を防ぐために、そのパターン領域の周
囲に設けられている遮光帯（禁止帯）の幅を広くするこ
とも考えられるが、これでは１枚のレチクル全体の中で
パターン領域の面積が狭くなり、転写パターンの大面積
化に反することになる。
光方式の露光装置と同様に、視野絞りによりレチクル上
にスリット状の照明領域を設定する必要がある。ところ
が、スリットスキャン露光方式の場合には、走査の開始
時及び終了時にその照明領域がレチクル上のパターン領
域の走査方向のエッジ部近傍を走査するため、何等かの
工夫をしないと、パターン領域の外部の白抜きパターン
等がウエハ上に投影されてしまう。また、パターン領域
以外の部分の転写を防ぐために、そのパターン領域の周
囲に設けられている遮光帯（禁止帯）の幅を広くするこ
とも考えられるが、これでは１枚のレチクル全体の中で
パターン領域の面積が狭くなり、転写パターンの大面積
化に反することになる。
【０００６】そこで、例えば特開平４−１９６５１３号
公報では、視野絞りを可動にして、走査の開始時及び終
了時にその視野絞りのエッジ部を走査に同期して移動さ
せることにより、スリット状の照明領域のエッジ部を移
動させるようにした投影露光装置が提案されている。
公報では、視野絞りを可動にして、走査の開始時及び終
了時にその視野絞りのエッジ部を走査に同期して移動さ
せることにより、スリット状の照明領域のエッジ部を移
動させるようにした投影露光装置が提案されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上記の如き従来の技術
に於いては、投影光学系の倍率をβとすると、レチクル
が速度Ｖで走査されるのに同期して、レチクルの走査方
向と共役な方向にウエハが速度β・Ｖで走査される。そ
して、露光光の光量及び走査速度が一定とすると、スリ
ット状の照明領域の走査方向の幅により、ウエハ上の積
算露光量が決定される。このため、従来のようにレチク
ル上にスリット状の照明領域を設定するための可動の視
野絞りをレチクルと共役な面に配置し、走査の開始時及
び終了時にその視野絞りのエッジ部を移動させて、且つ
レチクルのパターン領域の内部では照明領域の形状を正
確に目標とする形状に設定してウエハ上への積算露光量
を目標とする積算露光量に設定するためには、可動の視
野絞りの駆動機構として高精度の位置決め機構が必要と
なり、可動の視野絞りの構造が複雑である不都合があっ
た。
に於いては、投影光学系の倍率をβとすると、レチクル
が速度Ｖで走査されるのに同期して、レチクルの走査方
向と共役な方向にウエハが速度β・Ｖで走査される。そ
して、露光光の光量及び走査速度が一定とすると、スリ
ット状の照明領域の走査方向の幅により、ウエハ上の積
算露光量が決定される。このため、従来のようにレチク
ル上にスリット状の照明領域を設定するための可動の視
野絞りをレチクルと共役な面に配置し、走査の開始時及
び終了時にその視野絞りのエッジ部を移動させて、且つ
レチクルのパターン領域の内部では照明領域の形状を正
確に目標とする形状に設定してウエハ上への積算露光量
を目標とする積算露光量に設定するためには、可動の視
野絞りの駆動機構として高精度の位置決め機構が必要と
なり、可動の視野絞りの構造が複雑である不都合があっ
た。
【０００８】更に、レチクル上のパターン領域を囲む遮
光帯の走査に追従して可動の視野絞りのエッジ部を追従
させて動かすためには、その可動の視野絞りを高速追従
型にする必要があり、制御が複雑であるという不都合が
あった。また、視野絞りを可動にするためには、視野絞
りのエッジ部を機械的なナイフエッジの様なもので形成
するのが便利であるが、機械的なナイフエッジでは形状
誤差が大きく、露光後のウエハ上の積算露光量が位置に
より異なるという照度むらが発生する可能性があった。
また、視野絞りは照明光学系内に配置されていたので、
レチクルと共役状態であっても、ディストーション誤差
等が大きく、走査方向に垂直な非走査方向の照度むらの
除去が困難であるという不都合があった。
光帯の走査に追従して可動の視野絞りのエッジ部を追従
させて動かすためには、その可動の視野絞りを高速追従
型にする必要があり、制御が複雑であるという不都合が
あった。また、視野絞りを可動にするためには、視野絞
りのエッジ部を機械的なナイフエッジの様なもので形成
するのが便利であるが、機械的なナイフエッジでは形状
誤差が大きく、露光後のウエハ上の積算露光量が位置に
より異なるという照度むらが発生する可能性があった。
また、視野絞りは照明光学系内に配置されていたので、
レチクルと共役状態であっても、ディストーション誤差
等が大きく、走査方向に垂直な非走査方向の照度むらの
除去が困難であるという不都合があった。
【０００９】本発明は斯かる点に鑑み、スリットスキャ
ン露光方式の投影露光方法及び装置において、レチクル
上にスリット状の照明領域を設定すると共に、転写対象
とするパターン以外を遮光するための絞りの構造及び制
御系を簡略化すると共に、ウエハ上での走査方向に垂直
な方向の照度むら（積算露光量のばらつき）を低減する
ことを目的とする。
ン露光方式の投影露光方法及び装置において、レチクル
上にスリット状の照明領域を設定すると共に、転写対象
とするパターン以外を遮光するための絞りの構造及び制
御系を簡略化すると共に、ウエハ上での走査方向に垂直
な方向の照度むら（積算露光量のばらつき）を低減する
ことを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明による投影露光装
置は、例えば図１及び図２に示すように、照明光を発生
する光源（３１）と、その照明光でマスク（１２）上の
照明領域を照明する照明光学系（３６，３７Ａ，３７
Ｂ，４５）と、その照明領域内のマスク（１２）のパタ
ーンの像を感光性の基板（５）上に投影する投影光学系
（８）とを有し、その照明領域に対してマスク（１２）
を所定方向に走査し、その照明領域と共役な露光領域に
対して基板（５）を所定方向に走査することにより、マ
スク（１２）のパターンの像を逐次基板（５）上に露光
する投影露光装置において、マスク（１２）上の照明領
域を所定の固定された形状（４６）に設定する固定の視
野絞り（４２）と、視野絞り（４２）でマスク（１２）
上に設定された照明領域（４６）のマスク（１２）の走
査方向の範囲を露光中に制限する可変遮光手段（３８
ｙ，３９ｙ）とを、その照明光学系中のマスク（１２）
と共役な面若しくはその近傍に配置したものである。
置は、例えば図１及び図２に示すように、照明光を発生
する光源（３１）と、その照明光でマスク（１２）上の
照明領域を照明する照明光学系（３６，３７Ａ，３７
Ｂ，４５）と、その照明領域内のマスク（１２）のパタ
ーンの像を感光性の基板（５）上に投影する投影光学系
（８）とを有し、その照明領域に対してマスク（１２）
を所定方向に走査し、その照明領域と共役な露光領域に
対して基板（５）を所定方向に走査することにより、マ
スク（１２）のパターンの像を逐次基板（５）上に露光
する投影露光装置において、マスク（１２）上の照明領
域を所定の固定された形状（４６）に設定する固定の視
野絞り（４２）と、視野絞り（４２）でマスク（１２）
上に設定された照明領域（４６）のマスク（１２）の走
査方向の範囲を露光中に制限する可変遮光手段（３８
ｙ，３９ｙ）とを、その照明光学系中のマスク（１２）
と共役な面若しくはその近傍に配置したものである。
【００１１】この場合、その視野絞り（４２）によりマ
スク（１２）上に設定する照明領域（４６）の形状を、
基板（５）上の走査方向に垂直な方向の積算露光量分布
に応じた形状に設定することが望ましい。また、その視
野絞り（４２）を、光透過性の基板（４３）上の所定範
囲に遮光膜（４４）を被着することにより形成し、遮光
膜（４４）が被着された面をマスク（１２）と共役な面
から所定量だけデフォーカスした位置に設置することが
望ましい。次に、本発明による別の投影露光装置は、マ
スクのパターンの像を基板上に投影するとともに、その
基板を移動することによって、その基板を走査露光する
投影露光装置において、そのマスクに形成されたパター
ンの像をその基板上に投影する投影光学系と、そのマス
クに照射される照明光を射出する光源と、その基板の露
光中にそのマスクを移動する移動手段と、その走査露光
のためのその基板の移動中に固定され、その照明光の照
明領域を規定するとともに、その照明領域を規定する面
がそのマスクのパターン面との共役面から所定量だけず
れて配置された固定部材と、その走査露光のためのその
基板の移動中に、そのマスクの移動に同期して移動する
とともに、その照明光の照明領域を規定する可動部材と
を備えたものである。また、本発明による更に別の投影
露光装置は、マスクのパターンの像を基板上に投影する
ことによって、その基板を露光する投影露光装置におい
て、そのマスクに形成されたパターンの像をその基板上
に投影する投影光学系と、そのマスクに照射される照明
光を射出する光源と、光透過性のガラス基材に蒸着を施
して形成された遮光部を有し、その遮光部でその照明光
の通過を規制する固定部材と、その照明光の照明領域を
規定する可動部材とを備えたものである。また、本発明
による露光装置は、マスクのパターンの像を基板上に投
影することによって、その基板を露光する露光装置にお
いて、露光光を発生する光源と、ガラス基材に蒸着を施
すことによって形成され、その露光光の一部の通過を制
限するとともに、その基板上における露光光の光量分布
のエッジにスロープ部を形成する光学部材とを備えたも
のである。次に、本発明による投影露光方法は、マスク
のパターンの像を基板上に投影するとともに、その基板
を露光ビームに対して所定の走査方向へ移動することに
よりその基板を走査露光する投影露光方法において、そ
の基板の走査露光に先立って、その走査方向と直交する
非走査方向の積算露光量の分布を実測し、該実測された
積算露光量の分布情報に基づいて、そのマスクのパター
ン面と共役な面から離れて配置された光学部材により、
その露光ビームが照射される照射領域の形状を調整する
ものである。また、本発明による素子製造方法は、本発
明の投影露光装置、露光装置、又は投影露光方法を用い
るものである。
スク（１２）上に設定する照明領域（４６）の形状を、
基板（５）上の走査方向に垂直な方向の積算露光量分布
に応じた形状に設定することが望ましい。また、その視
野絞り（４２）を、光透過性の基板（４３）上の所定範
囲に遮光膜（４４）を被着することにより形成し、遮光
膜（４４）が被着された面をマスク（１２）と共役な面
から所定量だけデフォーカスした位置に設置することが
望ましい。次に、本発明による別の投影露光装置は、マ
スクのパターンの像を基板上に投影するとともに、その
基板を移動することによって、その基板を走査露光する
投影露光装置において、そのマスクに形成されたパター
ンの像をその基板上に投影する投影光学系と、そのマス
クに照射される照明光を射出する光源と、その基板の露
光中にそのマスクを移動する移動手段と、その走査露光
のためのその基板の移動中に固定され、その照明光の照
明領域を規定するとともに、その照明領域を規定する面
がそのマスクのパターン面との共役面から所定量だけず
れて配置された固定部材と、その走査露光のためのその
基板の移動中に、そのマスクの移動に同期して移動する
とともに、その照明光の照明領域を規定する可動部材と
を備えたものである。また、本発明による更に別の投影
露光装置は、マスクのパターンの像を基板上に投影する
ことによって、その基板を露光する投影露光装置におい
て、そのマスクに形成されたパターンの像をその基板上
に投影する投影光学系と、そのマスクに照射される照明
光を射出する光源と、光透過性のガラス基材に蒸着を施
して形成された遮光部を有し、その遮光部でその照明光
の通過を規制する固定部材と、その照明光の照明領域を
規定する可動部材とを備えたものである。また、本発明
による露光装置は、マスクのパターンの像を基板上に投
影することによって、その基板を露光する露光装置にお
いて、露光光を発生する光源と、ガラス基材に蒸着を施
すことによって形成され、その露光光の一部の通過を制
限するとともに、その基板上における露光光の光量分布
のエッジにスロープ部を形成する光学部材とを備えたも
のである。次に、本発明による投影露光方法は、マスク
のパターンの像を基板上に投影するとともに、その基板
を露光ビームに対して所定の走査方向へ移動することに
よりその基板を走査露光する投影露光方法において、そ
の基板の走査露光に先立って、その走査方向と直交する
非走査方向の積算露光量の分布を実測し、該実測された
積算露光量の分布情報に基づいて、そのマスクのパター
ン面と共役な面から離れて配置された光学部材により、
その露光ビームが照射される照射領域の形状を調整する
ものである。また、本発明による素子製造方法は、本発
明の投影露光装置、露光装置、又は投影露光方法を用い
るものである。
【００１２】
【作用】斯かる本発明によれば、マスク（１２）及び基
板（５）の走査が開始された後には、例えば図４に示す
ように、固定の視野絞り（４２）でマスク（１２）上に
設定される照明領域（４６）は、マスク（１２）のパタ
ーン領域（ＰＡ）を囲む遮光帯（４８）の外にはみ出し
ている。そこで、可変遮光手段（３８ｙ，３９ｙ）のエ
ッジ部をマスク（１２）の走査に同期して移動すること
により、その可変遮光手段（３８ｙ，３９ｙ）のマスク
（１２）上への投影像（４９）のエッジ部（４９ａ）を
マスク（１２）の遮光帯（４８）中に設定する。これに
より遮光帯（４８）の外の白抜きパターンが基板（５）
上に露光されることが防止される。
板（５）の走査が開始された後には、例えば図４に示す
ように、固定の視野絞り（４２）でマスク（１２）上に
設定される照明領域（４６）は、マスク（１２）のパタ
ーン領域（ＰＡ）を囲む遮光帯（４８）の外にはみ出し
ている。そこで、可変遮光手段（３８ｙ，３９ｙ）のエ
ッジ部をマスク（１２）の走査に同期して移動すること
により、その可変遮光手段（３８ｙ，３９ｙ）のマスク
（１２）上への投影像（４９）のエッジ部（４９ａ）を
マスク（１２）の遮光帯（４８）中に設定する。これに
より遮光帯（４８）の外の白抜きパターンが基板（５）
上に露光されることが防止される。
【００１３】また、マスク（１２）のパターン領域（Ｐ
Ａ）内では照明領域（４６）は走査方向には固定の視野
絞り（４２）で設定されているため、可変遮光手段（３
８ｙ，３９ｙ）の位置制御精度は、マスク（１２）上の
遮光帯（４８）の幅程度で良い。即ち、基板（５）上へ
の積算露光量を決定する固定の視野絞り（４２）と、マ
スク（１２）上の露光すべきパターンに対応する照明視
野を決定する可変遮光手段（３８ｙ，３９ｙ）とが分か
れているため、可変遮光手段（３８ｙ，３９ｙ）の位置
決め精度は従来の追従式のものよりも粗くてよく、且つ
固定の視野絞り（４２）で設定する照明領域の形状精度
を高精度にできる。
Ａ）内では照明領域（４６）は走査方向には固定の視野
絞り（４２）で設定されているため、可変遮光手段（３
８ｙ，３９ｙ）の位置制御精度は、マスク（１２）上の
遮光帯（４８）の幅程度で良い。即ち、基板（５）上へ
の積算露光量を決定する固定の視野絞り（４２）と、マ
スク（１２）上の露光すべきパターンに対応する照明視
野を決定する可変遮光手段（３８ｙ，３９ｙ）とが分か
れているため、可変遮光手段（３８ｙ，３９ｙ）の位置
決め精度は従来の追従式のものよりも粗くてよく、且つ
固定の視野絞り（４２）で設定する照明領域の形状精度
を高精度にできる。
【００１４】また、例えば図５（ａ）に示すように、視
野絞り（４２）内の開口（４４ａ）の形状が矩形の場合
に、スリットスキャン露光方式で基板（５）をＹ方向に
走査して露光を行うと、照明光学系の特性により図５
（ｃ）で示すように、走査方向に垂直なＸ方向の基板
（５）上の積算露光量Ｅ（Ｘ）の分布は一様でない場合
がある。そこで、図５（ｃ）の積算露光量Ｅ（Ｘ）に応
じて、例えば図６（ａ）に示すように、視野絞り（４
２）内の開口（４４ｂ）の形状を変形する。これによ
り、基板（５）上の非走査方向の積算露光量Ｅ（Ｘ）の
分布は図６（ｃ）に示すように一様になる。
野絞り（４２）内の開口（４４ａ）の形状が矩形の場合
に、スリットスキャン露光方式で基板（５）をＹ方向に
走査して露光を行うと、照明光学系の特性により図５
（ｃ）で示すように、走査方向に垂直なＸ方向の基板
（５）上の積算露光量Ｅ（Ｘ）の分布は一様でない場合
がある。そこで、図５（ｃ）の積算露光量Ｅ（Ｘ）に応
じて、例えば図６（ａ）に示すように、視野絞り（４
２）内の開口（４４ｂ）の形状を変形する。これによ
り、基板（５）上の非走査方向の積算露光量Ｅ（Ｘ）の
分布は図６（ｃ）に示すように一様になる。
【００１５】更に、その視野絞り（４２）を、光透過性
の基板（４３）上の所定範囲に遮光膜（４４）を被着す
ることにより形成した場合には、例えば図６（ａ）のよ
うな開口（４４ｂ）を高精度に形成でき、積算露光量の
むらが小さくなる。また、その遮光膜（４４）が被着さ
れた面をマスク（１２）と共役な面から所定量だけデフ
ォーカスした位置に設置した場合には、その光透過性の
基板（４３）上に付着した小さな異物（ゴミ等）の像が
基板（５）上にぼけて投影されるため、その異物は基板
（５）上の積算露光量のむらに影響を与えない。
の基板（４３）上の所定範囲に遮光膜（４４）を被着す
ることにより形成した場合には、例えば図６（ａ）のよ
うな開口（４４ｂ）を高精度に形成でき、積算露光量の
むらが小さくなる。また、その遮光膜（４４）が被着さ
れた面をマスク（１２）と共役な面から所定量だけデフ
ォーカスした位置に設置した場合には、その光透過性の
基板（４３）上に付着した小さな異物（ゴミ等）の像が
基板（５）上にぼけて投影されるため、その異物は基板
（５）上の積算露光量のむらに影響を与えない。
【００１６】
【実施例】以下、本発明の一実施例につき図面を参照し
て説明する。本実施例は、スリットスキャン露光方式の
投影露光装置でレチクルのパターンを逐次ウエハ上に露
光する場合に、本発明を適用したものである。図１は本
実施例の投影露光装置を示し、この図１において、図示
省略された照明光学系からの露光光ＥＬによる矩形の照
明領域（以下、「スリット状の照明領域」という）によ
りレチクル１２上のパターンが照明され、そのパターン
の像が投影光学系８を介してフォトレジストが塗布され
たウエハ５上に投影露光される。スリットスキャン露光
方式で露光を行う際には、露光光ＥＬのスリット状の照
明領域に対して、レチクル１２が図１の紙面に対して前
方向に一定速度Ｖで走査されるのに同期して、ウエハ５
は図１の紙面に対して後方向に一定速度Ｖ／Ｍ（１／Ｍ
は投影光学系８の縮小倍率）で走査される。
て説明する。本実施例は、スリットスキャン露光方式の
投影露光装置でレチクルのパターンを逐次ウエハ上に露
光する場合に、本発明を適用したものである。図１は本
実施例の投影露光装置を示し、この図１において、図示
省略された照明光学系からの露光光ＥＬによる矩形の照
明領域（以下、「スリット状の照明領域」という）によ
りレチクル１２上のパターンが照明され、そのパターン
の像が投影光学系８を介してフォトレジストが塗布され
たウエハ５上に投影露光される。スリットスキャン露光
方式で露光を行う際には、露光光ＥＬのスリット状の照
明領域に対して、レチクル１２が図１の紙面に対して前
方向に一定速度Ｖで走査されるのに同期して、ウエハ５
は図１の紙面に対して後方向に一定速度Ｖ／Ｍ（１／Ｍ
は投影光学系８の縮小倍率）で走査される。
【００１７】レチクル１２及びウエハ５の駆動系につい
て説明するに、レチクル支持台９上にＹ軸方向（図１の
紙面に垂直な方向）に駆動されるレチクルＹ駆動ステー
ジ１０が載置され、このレチクルＹ駆動ステージ１０上
にレチクル微小駆動ステージ１１が載置され、レチクル
微小駆動ステージ１１上にレチクル１２が真空チャック
等により保持されている。レチクル微小駆動ステージ１
１は、投影光学系８の光軸に垂直な面内で図１の紙面に
平行なＸ方向、Ｙ方向及び回転方向（θ方向）にそれぞ
れ微小量だけ且つ高精度にレチクル１２の位置制御を行
う。レチクル微小駆動ステージ１１上には移動鏡２１が
配置され、レチクル支持台９上に配置された干渉計１４
によって、常時レチクル微小駆動ステージ１１のＸ方
向、Ｙ方向及びθ方向の位置がモニターされている。干
渉計１４により得られた位置情報Ｓ１が主制御系２２Ａ
に供給されている。
て説明するに、レチクル支持台９上にＹ軸方向（図１の
紙面に垂直な方向）に駆動されるレチクルＹ駆動ステー
ジ１０が載置され、このレチクルＹ駆動ステージ１０上
にレチクル微小駆動ステージ１１が載置され、レチクル
微小駆動ステージ１１上にレチクル１２が真空チャック
等により保持されている。レチクル微小駆動ステージ１
１は、投影光学系８の光軸に垂直な面内で図１の紙面に
平行なＸ方向、Ｙ方向及び回転方向（θ方向）にそれぞ
れ微小量だけ且つ高精度にレチクル１２の位置制御を行
う。レチクル微小駆動ステージ１１上には移動鏡２１が
配置され、レチクル支持台９上に配置された干渉計１４
によって、常時レチクル微小駆動ステージ１１のＸ方
向、Ｙ方向及びθ方向の位置がモニターされている。干
渉計１４により得られた位置情報Ｓ１が主制御系２２Ａ
に供給されている。
【００１８】一方、ウエハ支持台１上には、Ｙ軸方向に
駆動されるウエハＹ軸駆動ステージ２が載置され、その
上にＸ軸方向に駆動されるウエハＸ軸駆動ステージ３が
載置され、その上にＺθ軸駆動ステージ４が設けられ、
このＺθ軸駆動ステージ４上にウエハ５が真空吸着によ
って保持されている。Ｚθ軸駆動ステージ４上にも移動
鏡７が固定され、外部に配置された干渉計１３により、
Ｚθ軸駆動ステージ４のＸ方向、Ｙ方向及びθ方向の位
置がモニターされ、干渉計１３により得られた位置情報
も主制御系２２Ａに供給されている。主制御系２２Ａ
は、ウエハ駆動装置２２Ｂ等を介してウエハＹ軸駆動ス
テージ２〜Ｚθ軸駆動ステージ４の位置決め動作を制御
すると共に、装置全体の動作を制御する。
駆動されるウエハＹ軸駆動ステージ２が載置され、その
上にＸ軸方向に駆動されるウエハＸ軸駆動ステージ３が
載置され、その上にＺθ軸駆動ステージ４が設けられ、
このＺθ軸駆動ステージ４上にウエハ５が真空吸着によ
って保持されている。Ｚθ軸駆動ステージ４上にも移動
鏡７が固定され、外部に配置された干渉計１３により、
Ｚθ軸駆動ステージ４のＸ方向、Ｙ方向及びθ方向の位
置がモニターされ、干渉計１３により得られた位置情報
も主制御系２２Ａに供給されている。主制御系２２Ａ
は、ウエハ駆動装置２２Ｂ等を介してウエハＹ軸駆動ス
テージ２〜Ｚθ軸駆動ステージ４の位置決め動作を制御
すると共に、装置全体の動作を制御する。
【００１９】また、後述するが、ウエハ側の干渉計１３
によって計測される座標により規定されるウエハ座標系
と、レチクル側の干渉計１４によって計測される座標に
より規定されるレチクル座標系の対応をとるために、Ｚ
θ軸駆動ステージ４上のウエハ５の近傍に基準マーク板
６が固定されている。この基準マーク板６上には各種基
準マークが形成されている。これらの基準マークの中に
はＺθ軸駆動ステージ４側に導かれた照明光により裏側
から照明されている基準マーク、即ち発光性の基準マー
クがある。
によって計測される座標により規定されるウエハ座標系
と、レチクル側の干渉計１４によって計測される座標に
より規定されるレチクル座標系の対応をとるために、Ｚ
θ軸駆動ステージ４上のウエハ５の近傍に基準マーク板
６が固定されている。この基準マーク板６上には各種基
準マークが形成されている。これらの基準マークの中に
はＺθ軸駆動ステージ４側に導かれた照明光により裏側
から照明されている基準マーク、即ち発光性の基準マー
クがある。
【００２０】本例のレチクル１２の上方には、基準マー
ク板６上の基準マークとレチクル１２上のマークとを同
時に観察するためのレチクルアライメント顕微鏡１９及
び２０が装備されている。この場合、レチクル１２から
の検出光をそれぞれレチクルアライメント顕微鏡１９及
び２０に導くための偏向ミラー１５及び１６が移動自在
に配置され、露光シーケンスが開始されると、主制御系
２２Ａからの指令のもとで、ミラー駆動装置１７及び１
８によりそれぞれ偏向ミラー１５及び１６は待避され
る。更に、投影光学系８のＹ方向の側面部に、ウエハ５
上のアライメントマーク（ウエハマーク）を観察するた
めのオフ・アクシスのアライメント装置３４が配置され
ている。
ク板６上の基準マークとレチクル１２上のマークとを同
時に観察するためのレチクルアライメント顕微鏡１９及
び２０が装備されている。この場合、レチクル１２から
の検出光をそれぞれレチクルアライメント顕微鏡１９及
び２０に導くための偏向ミラー１５及び１６が移動自在
に配置され、露光シーケンスが開始されると、主制御系
２２Ａからの指令のもとで、ミラー駆動装置１７及び１
８によりそれぞれ偏向ミラー１５及び１６は待避され
る。更に、投影光学系８のＹ方向の側面部に、ウエハ５
上のアライメントマーク（ウエハマーク）を観察するた
めのオフ・アクシスのアライメント装置３４が配置され
ている。
【００２１】図２は本例の照明光学系を示し、この図２
において、水銀ランプ３１から射出された露光光（例え
ば波長３６５ｎｍのｉ線）は、楕円鏡３２によって集光
された後、インプットレンズ３３によりほぼ平行光束に
変換されてフライアイレンズ３６に入射する。楕円鏡３
２の第２焦点付近にシャッター３４を配置し、主制御系
２２Ａが駆動装置３５を介してシャッター３４を開閉す
ることにより、露光時間等を制御する。
において、水銀ランプ３１から射出された露光光（例え
ば波長３６５ｎｍのｉ線）は、楕円鏡３２によって集光
された後、インプットレンズ３３によりほぼ平行光束に
変換されてフライアイレンズ３６に入射する。楕円鏡３
２の第２焦点付近にシャッター３４を配置し、主制御系
２２Ａが駆動装置３５を介してシャッター３４を開閉す
ることにより、露光時間等を制御する。
【００２２】フライアイレンズ３６の射出側の焦点面
（照明光学系の瞳面とほぼ一致）には多数の２次光源が
形成され、これら多数の２次光源からの露光光ＥＬは、
第１リレーレンズ３７Ａを経て均一な照度分布で１対の
可動レチクル遮光板３８及び３９上に照射される。可動
レチクル遮光板３８及び３９で囲まれた開口部を通過し
た光は、可動レチクル遮光板３８及び３９から少し離れ
た位置に配置してある固定レチクルブラインド４２に達
する。固定レチクルブラインド４２は、ガラス基板４３
の可動レチクル遮光板３８，３９側の表面に矩形の開口
を有するクロム膜４４を蒸着したものであり、そのクロ
ム膜４４内の開口４４ａ（図３参照）によって、レチク
ル１２上のスリット状の照明領域の形状及び大きさ（面
積）を決定している。また、可動レチクル遮光板３８及
び３９はそれぞれ駆動装置４０Ａ及び４０Ｂに接続さ
れ、露光時に主制御系２２Ａが駆動装置４０Ａ及び４０
Ｂを介してそれぞれ可動レチクル遮光板３８及び３９の
位置制御を行う。
（照明光学系の瞳面とほぼ一致）には多数の２次光源が
形成され、これら多数の２次光源からの露光光ＥＬは、
第１リレーレンズ３７Ａを経て均一な照度分布で１対の
可動レチクル遮光板３８及び３９上に照射される。可動
レチクル遮光板３８及び３９で囲まれた開口部を通過し
た光は、可動レチクル遮光板３８及び３９から少し離れ
た位置に配置してある固定レチクルブラインド４２に達
する。固定レチクルブラインド４２は、ガラス基板４３
の可動レチクル遮光板３８，３９側の表面に矩形の開口
を有するクロム膜４４を蒸着したものであり、そのクロ
ム膜４４内の開口４４ａ（図３参照）によって、レチク
ル１２上のスリット状の照明領域の形状及び大きさ（面
積）を決定している。また、可動レチクル遮光板３８及
び３９はそれぞれ駆動装置４０Ａ及び４０Ｂに接続さ
れ、露光時に主制御系２２Ａが駆動装置４０Ａ及び４０
Ｂを介してそれぞれ可動レチクル遮光板３８及び３９の
位置制御を行う。
【００２３】図３は可動レチクル遮光板３８，３９及び
固定レチクルブラインド４２の照明光学系の光軸ＡＸに
沿った配置を示し、この図３において、図２のレチクル
１２の走査方向（Ｙ方向）に共役な方向をＹ１方向、非
走査方向（Ｘ方向）に共役な方向をＸ１方向とする。そ
して、一方の可動レチクル遮光板３８は、Ｙ１方向に垂
直なエッジを有する羽根３８ｙ、及びＸ１方向に垂直な
エッジを有する羽根３８ｘを一体化して形成され、他方
の可動レチクル遮光板３９は、Ｙ１方向に垂直なエッジ
を有する羽根３９ｙ、及びＸ１方向に垂直なエッジを有
する羽根３９ｘを一体化して形成されている。Ｙ１方向
に垂直なエッジを有する羽根３８ｙ，３９ｙと、Ｘ１方
向に垂直なエッジを有する羽根３８ｘ，３９ｘとは、互
いに干渉しないように、光軸ＡＸ方向に段差をつけてあ
る。
固定レチクルブラインド４２の照明光学系の光軸ＡＸに
沿った配置を示し、この図３において、図２のレチクル
１２の走査方向（Ｙ方向）に共役な方向をＹ１方向、非
走査方向（Ｘ方向）に共役な方向をＸ１方向とする。そ
して、一方の可動レチクル遮光板３８は、Ｙ１方向に垂
直なエッジを有する羽根３８ｙ、及びＸ１方向に垂直な
エッジを有する羽根３８ｘを一体化して形成され、他方
の可動レチクル遮光板３９は、Ｙ１方向に垂直なエッジ
を有する羽根３９ｙ、及びＸ１方向に垂直なエッジを有
する羽根３９ｘを一体化して形成されている。Ｙ１方向
に垂直なエッジを有する羽根３８ｙ，３９ｙと、Ｘ１方
向に垂直なエッジを有する羽根３８ｘ，３９ｘとは、互
いに干渉しないように、光軸ＡＸ方向に段差をつけてあ
る。
【００２４】また、可動レチクル遮光板３８及び３９は
それぞれＸ１方向及びＹ１方向に沿って移動できるよう
に支持され、羽根３８ｙ及び３９ｙで囲まれた開口によ
り、図２のレチクル１２上の照明領域がＹ方向に制限さ
れ、羽根３８ｘ及び３９ｘで囲まれた開口により、図２
のレチクル１２上の照明領域がＸ方向に制限される。そ
れら羽根３８ｙ，３９ｙ及び３８ｘ，３９ｘにより囲ま
れた開口を通過した光の内で、固定レチクルブラインド
４２のクロム膜４４中に形成された開口４４ａを通過し
た光がレチクル１２を照明する。
それぞれＸ１方向及びＹ１方向に沿って移動できるよう
に支持され、羽根３８ｙ及び３９ｙで囲まれた開口によ
り、図２のレチクル１２上の照明領域がＹ方向に制限さ
れ、羽根３８ｘ及び３９ｘで囲まれた開口により、図２
のレチクル１２上の照明領域がＸ方向に制限される。そ
れら羽根３８ｙ，３９ｙ及び３８ｘ，３９ｘにより囲ま
れた開口を通過した光の内で、固定レチクルブラインド
４２のクロム膜４４中に形成された開口４４ａを通過し
た光がレチクル１２を照明する。
【００２５】図２に戻り、固定レチクルブラインド４２
の開口を通過した露光光ＥＬは、第２リレーレンズ３７
Ｂ、ミラー４１及びメインコンデンサーレンズ４５を経
て、レチクル１２上のスリット状の照明領域４６を均一
な照度で照明する。厳密には、照明領域４６は固定レチ
クルブラインド４２の開口により設定される領域であ
り、その照明領域４６と、可動レチクル遮光板３８，３
９で囲まれる開口部により設定される照明視野とが重な
った領域にのみ露光光ＥＬが照射される。スリットスキ
ャン露光方式で露光を行う際には、照明領域４６に対し
てＹ方向（図２の紙面に平行な方向）にレチクル１２が
所定速度で走査される。
の開口を通過した露光光ＥＬは、第２リレーレンズ３７
Ｂ、ミラー４１及びメインコンデンサーレンズ４５を経
て、レチクル１２上のスリット状の照明領域４６を均一
な照度で照明する。厳密には、照明領域４６は固定レチ
クルブラインド４２の開口により設定される領域であ
り、その照明領域４６と、可動レチクル遮光板３８，３
９で囲まれる開口部により設定される照明視野とが重な
った領域にのみ露光光ＥＬが照射される。スリットスキ
ャン露光方式で露光を行う際には、照明領域４６に対し
てＹ方向（図２の紙面に平行な方向）にレチクル１２が
所定速度で走査される。
【００２６】また、可動レチクル遮光板３８及び３９の
中で、レチクル１２上の走査方向の照明視野を設定する
羽根３８ｙ及び３９ｙが、レチクル１２のパターン形成
面との共役面に配置され、レチクル１２上の非走査方向
の照明視野を設定する羽根３８ｘ及び３９ｘ（図２では
現れていない）は、その共役面から第１リレーレンズ３
７Ａ側に僅かにデフォーカスした面に配置されている。
また、固定レチクルブラインド４２（クロム膜の蒸着に
よって開口４４ａが形成された面）は、レチクル１２の
パターン形成面との共役面から第２リレーレンズ３７Ｂ
側に所定間隔だけデフォーカスした面に配置されてい
る。
中で、レチクル１２上の走査方向の照明視野を設定する
羽根３８ｙ及び３９ｙが、レチクル１２のパターン形成
面との共役面に配置され、レチクル１２上の非走査方向
の照明視野を設定する羽根３８ｘ及び３９ｘ（図２では
現れていない）は、その共役面から第１リレーレンズ３
７Ａ側に僅かにデフォーカスした面に配置されている。
また、固定レチクルブラインド４２（クロム膜の蒸着に
よって開口４４ａが形成された面）は、レチクル１２の
パターン形成面との共役面から第２リレーレンズ３７Ｂ
側に所定間隔だけデフォーカスした面に配置されてい
る。
【００２７】また、露光時にはレチクル微小駆動ステー
ジ１１上のＹ方向用の移動鏡２１ｙで反射されたレーザ
ビームにより、Ｙ方向用の干渉計１４ｙがレチクル１２
のＹ方向の位置を常時検出されている。この検出結果が
主制御系２２Ａに供給され、主制御系２２Ａは、レチク
ル１２のＹ方向の位置及び図１のウエハ５のＹ方向の位
置に応じて、レチクルステージ駆動部４７を介してレチ
クルＹ駆動ステージ１０（更にはレチクル微小駆動ステ
ージ１１）による走査速度を制御する。
ジ１１上のＹ方向用の移動鏡２１ｙで反射されたレーザ
ビームにより、Ｙ方向用の干渉計１４ｙがレチクル１２
のＹ方向の位置を常時検出されている。この検出結果が
主制御系２２Ａに供給され、主制御系２２Ａは、レチク
ル１２のＹ方向の位置及び図１のウエハ５のＹ方向の位
置に応じて、レチクルステージ駆動部４７を介してレチ
クルＹ駆動ステージ１０（更にはレチクル微小駆動ステ
ージ１１）による走査速度を制御する。
【００２８】次に、本例でスリットスキャン露光方式で
露光を行う際の動作の一例につき図４を参照して説明す
る。図４は本例のレチクル１２の平面図であり、レチク
ル１２の内部のパターン形成領域ＰＡ内のパターンの像
が図１のウエハ５上に露光される。また、パターン領域
ＰＡは所定の幅の遮光帯（禁止帯）４８により囲まれて
いる。そのレチクル１２上に図２の固定レチクルブライ
ンド４２により設定されるスリット状の照明領域４６
と、図２の可動レチクル遮光板３８，３９により設定さ
れる照明視野４９とが重なった領域に露光光ＥＬが照射
される。そこで、レチクル１２のＹ方向への走査を開始
する際には、レチクル１２のＹ方向への走査と同期して
図３の可動レチクル遮光板３８の羽根３８ｙをＹ１方向
へ移動させることにより、照明視野４９の走査方向側の
エッジ部４９ａを遮光帯４８内に入れておく。そして、
更にレチクル１２がＹ方向に進んで、照明領域４６の走
査方向側のエッジ部４６ａが遮光帯４８にかかったとき
に、羽根３８ｙを大きくＹ１方向に移動させて、照明視
野４９のエッジ部４９ａを遮光帯４８の外側に移動させ
る。
露光を行う際の動作の一例につき図４を参照して説明す
る。図４は本例のレチクル１２の平面図であり、レチク
ル１２の内部のパターン形成領域ＰＡ内のパターンの像
が図１のウエハ５上に露光される。また、パターン領域
ＰＡは所定の幅の遮光帯（禁止帯）４８により囲まれて
いる。そのレチクル１２上に図２の固定レチクルブライ
ンド４２により設定されるスリット状の照明領域４６
と、図２の可動レチクル遮光板３８，３９により設定さ
れる照明視野４９とが重なった領域に露光光ＥＬが照射
される。そこで、レチクル１２のＹ方向への走査を開始
する際には、レチクル１２のＹ方向への走査と同期して
図３の可動レチクル遮光板３８の羽根３８ｙをＹ１方向
へ移動させることにより、照明視野４９の走査方向側の
エッジ部４９ａを遮光帯４８内に入れておく。そして、
更にレチクル１２がＹ方向に進んで、照明領域４６の走
査方向側のエッジ部４６ａが遮光帯４８にかかったとき
に、羽根３８ｙを大きくＹ１方向に移動させて、照明視
野４９のエッジ部４９ａを遮光帯４８の外側に移動させ
る。
【００２９】この際に、照明視野４９のＹ方向の両側
（Ｘ方向に延びた２組）のエッジ部は照明領域４６の外
側に設定され、照明視野４９の非走査方向（Ｘ方向）の
両側（Ｙ方向に延びた２組）のエッジ部は遮光帯４８、
特にＹ方向に延びた遮光帯中に設定され、照明領域４６
のＸ方向（Ｙ方向に延びた２組）のエッジは遮光帯４８
の外側に設定されている。従って、照明領域４６が走査
方向でパターン領域ＰＡ内にある時間には、走査方向で
は照明領域４６に設定され、非走査方向では遮光帯４８
で区切られる範囲のパターンの像がウエハ５上に投影さ
れる。その後、レチクル１２が更にＹ方向に進んで、照
明視野４９の走査方向に対して後側のエッジ部４９ｂが
遮光帯４８にかかった時点から露光が終了するまで、レ
チクル１２の走査と同期して図２の可動レチクル遮光板
３９の羽根３９ｙをＹ１方向に走査することにより、そ
のエッジ部４９ｂを遮光帯４８中に入れておく。これに
より遮光帯４８の外側を通過した露光光がウエハ５上に
照射されることがなくなる。このように可動レチクル遮
光板３８，３９で決定される照明視野４９は、常にレチ
クル上の遮光帯４８と照明領域４６の視野より外側に位
置する様に制御され、レチクル上の遮光帯４８の外に照
明光が漏れるのを防いでいる。
（Ｘ方向に延びた２組）のエッジ部は照明領域４６の外
側に設定され、照明視野４９の非走査方向（Ｘ方向）の
両側（Ｙ方向に延びた２組）のエッジ部は遮光帯４８、
特にＹ方向に延びた遮光帯中に設定され、照明領域４６
のＸ方向（Ｙ方向に延びた２組）のエッジは遮光帯４８
の外側に設定されている。従って、照明領域４６が走査
方向でパターン領域ＰＡ内にある時間には、走査方向で
は照明領域４６に設定され、非走査方向では遮光帯４８
で区切られる範囲のパターンの像がウエハ５上に投影さ
れる。その後、レチクル１２が更にＹ方向に進んで、照
明視野４９の走査方向に対して後側のエッジ部４９ｂが
遮光帯４８にかかった時点から露光が終了するまで、レ
チクル１２の走査と同期して図２の可動レチクル遮光板
３９の羽根３９ｙをＹ１方向に走査することにより、そ
のエッジ部４９ｂを遮光帯４８中に入れておく。これに
より遮光帯４８の外側を通過した露光光がウエハ５上に
照射されることがなくなる。このように可動レチクル遮
光板３８，３９で決定される照明視野４９は、常にレチ
クル上の遮光帯４８と照明領域４６の視野より外側に位
置する様に制御され、レチクル上の遮光帯４８の外に照
明光が漏れるのを防いでいる。
【００３０】このように本実施例では、レチクル１２上
のパターン領域ＰＡ以外の領域を遮光するための可動レ
チクル遮光板３８及び３９の位置決め精度は、レチクル
１２上の遮光帯４８の幅程度で良く、駆動機構及び制御
機構が簡略である。次に、本例では、露光光ＥＬの光強
度が一定で、且つレチクル１２及びウエハ５の走査速度
がそれぞれ一定であるとすると、固定レチクルブライン
ド４２によって定まるレチクル１２上の照明領域４６の
走査方向の幅によってウエハ５上での積算露光量が決定
される。この際に、照明光学系の特性等により、ウエハ
５上で走査方向と垂直なＸ方向の照度分布は所定のばら
つきを有すると考えられる。例えば図５（ａ）に示すよ
うに、固定レチクルブラインド４２上のクロム膜に形成
する開口４４ａが矩形であるとすると、ウエハ５のショ
ット領域ＳＡは、図５（ｂ）に示すようにその開口４４
ａと共役な矩形の露光領域４６Ａに対してＹ方向に走査
される。従って、そのショット領域ＳＡ上の或るＸ方向
（非走査方向）に沿った直線上での積算露光量Ｅ（Ｘ）
の分布は、図５（ｃ）の分布曲線５０に示すように、目
標露光量Ｅ0 に対して所定幅でばらつくことがある。
のパターン領域ＰＡ以外の領域を遮光するための可動レ
チクル遮光板３８及び３９の位置決め精度は、レチクル
１２上の遮光帯４８の幅程度で良く、駆動機構及び制御
機構が簡略である。次に、本例では、露光光ＥＬの光強
度が一定で、且つレチクル１２及びウエハ５の走査速度
がそれぞれ一定であるとすると、固定レチクルブライン
ド４２によって定まるレチクル１２上の照明領域４６の
走査方向の幅によってウエハ５上での積算露光量が決定
される。この際に、照明光学系の特性等により、ウエハ
５上で走査方向と垂直なＸ方向の照度分布は所定のばら
つきを有すると考えられる。例えば図５（ａ）に示すよ
うに、固定レチクルブラインド４２上のクロム膜に形成
する開口４４ａが矩形であるとすると、ウエハ５のショ
ット領域ＳＡは、図５（ｂ）に示すようにその開口４４
ａと共役な矩形の露光領域４６Ａに対してＹ方向に走査
される。従って、そのショット領域ＳＡ上の或るＸ方向
（非走査方向）に沿った直線上での積算露光量Ｅ（Ｘ）
の分布は、図５（ｃ）の分布曲線５０に示すように、目
標露光量Ｅ0 に対して所定幅でばらつくことがある。
【００３１】この場合には、投影露光装置毎に実測によ
りその分布曲線５０の形を求め、図６（ａ）に示すよう
に、固定レチクルブラインド４２のクロム膜中に形成す
る開口４４ｂの形状（走査方向と共役な方向の幅の分
布）を、その分布曲線５０の高さにほぼ反比例するよう
に決定する。即ち、分布曲線５０の値が大きい部分では
開口４４ｂの幅を狭くし、逆に分布曲線５０の値が小さ
い部分では開口４４ｂの幅を広くする。この場合、ウエ
ハ５のショット領域ＳＡは、図６（ｂ）に示すようにそ
の開口４４ｂと共役な形状の露光領域４６Ｂに対してＹ
方向に走査される。従って、そのショット領域ＳＡ上の
或るＸ方向（非走査方向）に沿った直線上での積算露光
量Ｅ（Ｘ）の分布は、図６（ｃ）の分布曲線５１に示す
ように、全範囲でほぼ目標露光量Ｅ0 に合致するように
なる。
りその分布曲線５０の形を求め、図６（ａ）に示すよう
に、固定レチクルブラインド４２のクロム膜中に形成す
る開口４４ｂの形状（走査方向と共役な方向の幅の分
布）を、その分布曲線５０の高さにほぼ反比例するよう
に決定する。即ち、分布曲線５０の値が大きい部分では
開口４４ｂの幅を狭くし、逆に分布曲線５０の値が小さ
い部分では開口４４ｂの幅を広くする。この場合、ウエ
ハ５のショット領域ＳＡは、図６（ｂ）に示すようにそ
の開口４４ｂと共役な形状の露光領域４６Ｂに対してＹ
方向に走査される。従って、そのショット領域ＳＡ上の
或るＸ方向（非走査方向）に沿った直線上での積算露光
量Ｅ（Ｘ）の分布は、図６（ｃ）の分布曲線５１に示す
ように、全範囲でほぼ目標露光量Ｅ0 に合致するように
なる。
【００３２】このように本例によれば、固定レチクルブ
ラインド４２のクロム膜中に非走査方向の積算露光量分
布に応じて定めた形状の開口を形成し、その固定レチク
ルブラインド４２の開口を投影した照明領域４６に対し
てレチクル１２を走査して露光を行っているため、ウエ
ハ５上での非走査方向の積算露光量の分布が一様化され
ている。また、固定レチクルブラインド４２において、
ガラス基板４３上に被着したクロム膜４４内の開口の形
状は高精度に所望の形状に設定できるため、積算露光量
の非走査方向に対する分布を高い精度で均一化できる。
また、固定レチクルブラインド４２のガラス基板４３の
両面は、レチクル１２のパターン形成面に共役な面から
デフォーカスしているため、そのガラス基板４３に付着
した異物（ゴミ等）の像がウエハ５上に転写されること
がなく、積算露光量の分布が乱されることは無い。
ラインド４２のクロム膜中に非走査方向の積算露光量分
布に応じて定めた形状の開口を形成し、その固定レチク
ルブラインド４２の開口を投影した照明領域４６に対し
てレチクル１２を走査して露光を行っているため、ウエ
ハ５上での非走査方向の積算露光量の分布が一様化され
ている。また、固定レチクルブラインド４２において、
ガラス基板４３上に被着したクロム膜４４内の開口の形
状は高精度に所望の形状に設定できるため、積算露光量
の非走査方向に対する分布を高い精度で均一化できる。
また、固定レチクルブラインド４２のガラス基板４３の
両面は、レチクル１２のパターン形成面に共役な面から
デフォーカスしているため、そのガラス基板４３に付着
した異物（ゴミ等）の像がウエハ５上に転写されること
がなく、積算露光量の分布が乱されることは無い。
【００３３】なお、上述実施例では、固定レチクルブラ
インド４２の開口の形状精度を向上させるために、ガラ
ス基板４３上のクロムパターンを使用している。しかし
ながら、将来的に機械的な製造精度が向上し、非走査方
向の積算露光量のむら（照度むら）に合わせて、ナイフ
エッジの形状を形成できるようになれば、その固定レチ
クルブラインド４２として、機械式のナイフエッジで開
口を設定するブラインドを使用できることは明かであ
る。
インド４２の開口の形状精度を向上させるために、ガラ
ス基板４３上のクロムパターンを使用している。しかし
ながら、将来的に機械的な製造精度が向上し、非走査方
向の積算露光量のむら（照度むら）に合わせて、ナイフ
エッジの形状を形成できるようになれば、その固定レチ
クルブラインド４２として、機械式のナイフエッジで開
口を設定するブラインドを使用できることは明かであ
る。
【００３４】また、上記実施例では予め所望の形状にブ
ラインドの開口を設計しているが、実質的には計測によ
り分かる照度むらに応じて、ガラス基板４３上のパター
ン部を黒塗りしたり、又はガラス基板４３上のクロム部
（遮光部）を削ることによっても同様の効果が得られ
る。また、上述実施例では、固定レチクルブラインド４
２と遮光板３８，３９とを所定距離だけ離して配置して
いたが、例えば照明光学系中にリレーレンズ系を設けて
レチクルのパターン形成面と共役な面を作り、固定レチ
クルブラインド４２と遮光板３８，３９とをリレーレン
ズ系に関して共役に配置しても良い。即ち、両者を同一
の共役面、又はその近傍に配置しなくても良い。また、
遮光板３８，３９はレチクルのパターン形成面と共役な
面から所定量だけ光軸方向にずらしても良い。
ラインドの開口を設計しているが、実質的には計測によ
り分かる照度むらに応じて、ガラス基板４３上のパター
ン部を黒塗りしたり、又はガラス基板４３上のクロム部
（遮光部）を削ることによっても同様の効果が得られ
る。また、上述実施例では、固定レチクルブラインド４
２と遮光板３８，３９とを所定距離だけ離して配置して
いたが、例えば照明光学系中にリレーレンズ系を設けて
レチクルのパターン形成面と共役な面を作り、固定レチ
クルブラインド４２と遮光板３８，３９とをリレーレン
ズ系に関して共役に配置しても良い。即ち、両者を同一
の共役面、又はその近傍に配置しなくても良い。また、
遮光板３８，３９はレチクルのパターン形成面と共役な
面から所定量だけ光軸方向にずらしても良い。
【００３５】次に、本発明の他の実施例につき図７〜図
９を参照して説明する。本実施例は図２の実施例の照明
光学系を種々のタイプの系に切り換えられるようにした
ものであり、図７において図２に対応する部分には同一
符号を付してその詳細説明を省略する。また、露光光の
可干渉性の程度を表すコヒーレンスファクター（σ値）
は、照明光学系のレチクル側の開口数と投影光学系のレ
チクル側の開口数との比により定義されるが、本実施例
で切り換える照明光学系には、通常の光学系、σ値を小
さくした光学系、所謂変形光源法（変形照明法）用の光
学系、及び輪帯照明法用の光学系がある。これらの内、
変形光源法（特開平４−４０８０９６号公報参照）は、
照明光学系中で２次光源を光軸の回りに複数個（例えば
４個）配することにより、特にライン・アンド・スペー
スパターンを投影する際に、投影像の解像度を向上する
と共に、焦点深度を広くする手法である。また、輪帯照
明法（特開昭６１−９１６６２号公報参照）も所定のパ
ターンを投影する際に、解像度及び焦点深度の向上をも
たらす手法である。
９を参照して説明する。本実施例は図２の実施例の照明
光学系を種々のタイプの系に切り換えられるようにした
ものであり、図７において図２に対応する部分には同一
符号を付してその詳細説明を省略する。また、露光光の
可干渉性の程度を表すコヒーレンスファクター（σ値）
は、照明光学系のレチクル側の開口数と投影光学系のレ
チクル側の開口数との比により定義されるが、本実施例
で切り換える照明光学系には、通常の光学系、σ値を小
さくした光学系、所謂変形光源法（変形照明法）用の光
学系、及び輪帯照明法用の光学系がある。これらの内、
変形光源法（特開平４−４０８０９６号公報参照）は、
照明光学系中で２次光源を光軸の回りに複数個（例えば
４個）配することにより、特にライン・アンド・スペー
スパターンを投影する際に、投影像の解像度を向上する
と共に、焦点深度を広くする手法である。また、輪帯照
明法（特開昭６１−９１６６２号公報参照）も所定のパ
ターンを投影する際に、解像度及び焦点深度の向上をも
たらす手法である。
【００３６】本実施例においても、投影光学系８を含む
本体部の構成は図１と同様であるが、更に図１の投影光
学系８の瞳面（フーリエ変換面）に、投影光学系８の開
口数を変更するための可変開口絞り（図示省略）を設け
る。主制御系２２Ａが、投影するレチクル１２のパター
ン等に応じてその可変開口絞りを介して、投影光学系８
の開口数を所定の値に設定すると共に、照明光学系の切
り換えを行う。
本体部の構成は図１と同様であるが、更に図１の投影光
学系８の瞳面（フーリエ変換面）に、投影光学系８の開
口数を変更するための可変開口絞り（図示省略）を設け
る。主制御系２２Ａが、投影するレチクル１２のパター
ン等に応じてその可変開口絞りを介して、投影光学系８
の開口数を所定の値に設定すると共に、照明光学系の切
り換えを行う。
【００３７】図７は本例の照明光学系を示し、この図７
において、フライアイレンズ３６の射出面（レチクル側
の面）側の投影光学系（図１参照）８の瞳面と共役な面
上に、照明光学系用の可変開口絞り（以下、「可変瞳フ
ィルター板」という）５６を回転軸５７ａを中心として
回転自在に配置し、回転軸５７ａに回転装置５７を取り
付ける。回転装置５７は図１の主制御系２２Ａからの指
令に応じて、可変瞳フィルター板５６を指令された回転
角だけ回転させるものである。
において、フライアイレンズ３６の射出面（レチクル側
の面）側の投影光学系（図１参照）８の瞳面と共役な面
上に、照明光学系用の可変開口絞り（以下、「可変瞳フ
ィルター板」という）５６を回転軸５７ａを中心として
回転自在に配置し、回転軸５７ａに回転装置５７を取り
付ける。回転装置５７は図１の主制御系２２Ａからの指
令に応じて、可変瞳フィルター板５６を指令された回転
角だけ回転させるものである。
【００３８】図９は可変瞳フィルター板５６に形成され
ている４種類の開口を示し、この図９において、遮光性
の円板よりなる可変瞳フィルター板５６には回転軸５７
ａを中心として９０°間隔で、通常の円形の開口５８、
通常より小さい円形の開口５９、輪帯状の開口６０、及
び４個の小さい開口６１ａ〜６１ｄよりなる変形光源用
の開口６１が形成されている。図７において、回転装置
５７が可変瞳フィルター板５６を回転することにより、
フライアイレンズ３６の射出面に図９の４種類の開口５
８〜６１の何れかが設定される。そして、円形の開口５
８が選択された場合には、通常の照明法での露光が行わ
れ、小さい円形の開口５９が選択された場合には、σ値
を絞った状態での露光が行われ、輪帯状の開口６０が選
択された場合には輪帯照明法での露光が行われ、変形光
源用の開口６１が選択された場合には変形光源法での露
光が行われる。また、選択される照明法に応じて、図１
の投影光学系８内の可変開口絞りの径も対応する値に設
定される。
ている４種類の開口を示し、この図９において、遮光性
の円板よりなる可変瞳フィルター板５６には回転軸５７
ａを中心として９０°間隔で、通常の円形の開口５８、
通常より小さい円形の開口５９、輪帯状の開口６０、及
び４個の小さい開口６１ａ〜６１ｄよりなる変形光源用
の開口６１が形成されている。図７において、回転装置
５７が可変瞳フィルター板５６を回転することにより、
フライアイレンズ３６の射出面に図９の４種類の開口５
８〜６１の何れかが設定される。そして、円形の開口５
８が選択された場合には、通常の照明法での露光が行わ
れ、小さい円形の開口５９が選択された場合には、σ値
を絞った状態での露光が行われ、輪帯状の開口６０が選
択された場合には輪帯照明法での露光が行われ、変形光
源用の開口６１が選択された場合には変形光源法での露
光が行われる。また、選択される照明法に応じて、図１
の投影光学系８内の可変開口絞りの径も対応する値に設
定される。
【００３９】このように本例では照明法を切り換えるこ
とができるが、照明法を切り換えると、照明光学系中及
び投影光学系８中における露光光の光路も変化するた
め、図１のウエハ５の露光面で異なった傾向の照度むら
が発生する虞がある。即ち、仮に通常の照明法で照度む
らが発生しないようにしても、照明法を他の照明法に切
り換えた場合に照度むらが発生する虞がある。これを回
避するための１つの手法は、露光光の光路が変化しても
照度むらが生じないように、照明光学系及び投影光学系
８の設計、製造を行うことであるが、これは困難である
と共に、光学系の製造コストが高くなる。
とができるが、照明法を切り換えると、照明光学系中及
び投影光学系８中における露光光の光路も変化するた
め、図１のウエハ５の露光面で異なった傾向の照度むら
が発生する虞がある。即ち、仮に通常の照明法で照度む
らが発生しないようにしても、照明法を他の照明法に切
り換えた場合に照度むらが発生する虞がある。これを回
避するための１つの手法は、露光光の光路が変化しても
照度むらが生じないように、照明光学系及び投影光学系
８の設計、製造を行うことであるが、これは困難である
と共に、光学系の製造コストが高くなる。
【００４０】そこで、本実施例では、可動レチクル遮光
板３８，３９と第２リレーレンズ３７Ｂとの間に配され
る固定レチクルブラインドの開口の形状を照明法に応じ
て切り換えられるようにして、照度むらの発生を防止す
る。即ち、図７において、可動レチクル遮光板３８及び
３９からレチクル１２側に所定間隔だけ離れた位置に、
可動型固定レチクルブラインド５２を配し、この可動型
固定レチクルブラインド５２をスライド機構５５によ
り、レチクル１２の走査方向（Ｙ方向）と共役なＹ１方
向に移動できるように支持する。可動型固定レチクルブ
ラインド５２も、ガラス基板５３上に遮光膜としてのク
ロム膜５４を被着し、クロム膜５４の中に４個の開口を
形成したものであり、クロム膜５４の被着面は、レチク
ル１２のパターン形成面との共役面から第２リレーレン
ズ３７Ｂ側に所定間隔だけデフォーカスした面に配置さ
れている。
板３８，３９と第２リレーレンズ３７Ｂとの間に配され
る固定レチクルブラインドの開口の形状を照明法に応じ
て切り換えられるようにして、照度むらの発生を防止す
る。即ち、図７において、可動レチクル遮光板３８及び
３９からレチクル１２側に所定間隔だけ離れた位置に、
可動型固定レチクルブラインド５２を配し、この可動型
固定レチクルブラインド５２をスライド機構５５によ
り、レチクル１２の走査方向（Ｙ方向）と共役なＹ１方
向に移動できるように支持する。可動型固定レチクルブ
ラインド５２も、ガラス基板５３上に遮光膜としてのク
ロム膜５４を被着し、クロム膜５４の中に４個の開口を
形成したものであり、クロム膜５４の被着面は、レチク
ル１２のパターン形成面との共役面から第２リレーレン
ズ３７Ｂ側に所定間隔だけデフォーカスした面に配置さ
れている。
【００４１】図８は、可動型固定レチクルブラインド５
２のクロム膜５４中に形成されている開口パターンを示
し、この図８において、クロム膜５４中にはＹ１方向に
４個の開口５４ａ，５４ｂ，５４ｃ，及び５４ｄが形成
されている。各開口５４ａ〜５４ｄはそれぞれレチクル
１２の非走査方向に共役なＸ１方向、即ちＹ１方向に垂
直な方向に細長い矩形状であり、各開口５４ａ〜５４ｄ
によりレチクル１２上のスリット状の照明領域４６の形
状が決定される。その他の構成は図２の実施例と同様で
ある。
２のクロム膜５４中に形成されている開口パターンを示
し、この図８において、クロム膜５４中にはＹ１方向に
４個の開口５４ａ，５４ｂ，５４ｃ，及び５４ｄが形成
されている。各開口５４ａ〜５４ｄはそれぞれレチクル
１２の非走査方向に共役なＸ１方向、即ちＹ１方向に垂
直な方向に細長い矩形状であり、各開口５４ａ〜５４ｄ
によりレチクル１２上のスリット状の照明領域４６の形
状が決定される。その他の構成は図２の実施例と同様で
ある。
【００４２】そして、図７において、可変瞳フィルター
板５６の回転角を変えることによりフライアイレンズ３
６の射出面側に、図９の通常の円形の開口５８、通常よ
り小さい円形の開口５９、輪帯状の開口６０、又は変形
光源用の開口６１を設定するのに対応して、可動型固定
レチクルブラインド５２をスライドすることにより、そ
れぞれ可動レチクル遮光板３８，３９の射出面側に図８
の開口５４ａ，５４ｂ，５４ｃ，又は５４ｄを設定す
る。この場合、予め可変瞳フィルター板５６の４種類の
開口をフライアイレンズ３６の射出面側に順次設定した
状態で、それぞれスリットスキャン露光方式で露光を行
って図１のウエハ５上の非走査方向（Ｘ方向）での積算
露光量分布を、例えばステージ上の光量センサーを用い
て計測しておく。そして、その積算露光量分布が一定に
なるように図８に示すように、可動型固定レチクルブラ
インド５２に形成された開口５４ａ〜５４ｄのそれぞれ
のＹ１方向（走査方向に共役な方向）のエッジ部５４ｙ
ａ〜５４ｙｄの形状を、必要に応じて直線から変形させ
ておく。
板５６の回転角を変えることによりフライアイレンズ３
６の射出面側に、図９の通常の円形の開口５８、通常よ
り小さい円形の開口５９、輪帯状の開口６０、又は変形
光源用の開口６１を設定するのに対応して、可動型固定
レチクルブラインド５２をスライドすることにより、そ
れぞれ可動レチクル遮光板３８，３９の射出面側に図８
の開口５４ａ，５４ｂ，５４ｃ，又は５４ｄを設定す
る。この場合、予め可変瞳フィルター板５６の４種類の
開口をフライアイレンズ３６の射出面側に順次設定した
状態で、それぞれスリットスキャン露光方式で露光を行
って図１のウエハ５上の非走査方向（Ｘ方向）での積算
露光量分布を、例えばステージ上の光量センサーを用い
て計測しておく。そして、その積算露光量分布が一定に
なるように図８に示すように、可動型固定レチクルブラ
インド５２に形成された開口５４ａ〜５４ｄのそれぞれ
のＹ１方向（走査方向に共役な方向）のエッジ部５４ｙ
ａ〜５４ｙｄの形状を、必要に応じて直線から変形させ
ておく。
【００４３】このように、本実施例によれば、通常の照
明法、σ値の小さな照明法、変形光源法、及び輪帯照明
法の内の何れの照明法を使用した場合でも、各照明法で
使用される可動型固定レチクルブラインド５２の開口５
４ａ〜５４ｄのエッジ部の形状が調整してあるため、ス
リットスキャン露光方式でレチクル１２のパターン像を
ウエハ５上に露光した後のウエハ５上での照度均一性が
良好である。
明法、σ値の小さな照明法、変形光源法、及び輪帯照明
法の内の何れの照明法を使用した場合でも、各照明法で
使用される可動型固定レチクルブラインド５２の開口５
４ａ〜５４ｄのエッジ部の形状が調整してあるため、ス
リットスキャン露光方式でレチクル１２のパターン像を
ウエハ５上に露光した後のウエハ５上での照度均一性が
良好である。
【００４４】なお、使用する照明法により、ウエハ５上
での照度（ひいては積算露光量）が異なる場合も考えら
れる。例えば、図９において通常の円形の開口５８を使
用する場合に比べて、変形光源用の開口６１を使用する
場合には、ウエハ５上での照度が低下することも有り得
る。このような場合、変形光源法で露光を行う際には、
通常の照明法で露光を行うときよりレチクル１２及びウ
エハ５の走査速度を低くする方法も考えられる。しかし
ながら、これではスループットが低下する。そこで、ス
ループットの大きな低下を避けるためには、図８の可動
型固定レチクルブラインド５２において、通常の照明法
用の開口５４ａのＹ１方向の幅の平均値に対して、変形
光源法用の開口５４ｄのＹ１方向の幅の平均値を広くし
ておけば良い。これにより、変形光源法を使用した場合
でも、スループットを殆ど低下させることなく、ウエハ
５上で通常の照明法を使用した場合と同等の積算露光量
を得ることができると共に、照度むらも生ずることがな
い。
での照度（ひいては積算露光量）が異なる場合も考えら
れる。例えば、図９において通常の円形の開口５８を使
用する場合に比べて、変形光源用の開口６１を使用する
場合には、ウエハ５上での照度が低下することも有り得
る。このような場合、変形光源法で露光を行う際には、
通常の照明法で露光を行うときよりレチクル１２及びウ
エハ５の走査速度を低くする方法も考えられる。しかし
ながら、これではスループットが低下する。そこで、ス
ループットの大きな低下を避けるためには、図８の可動
型固定レチクルブラインド５２において、通常の照明法
用の開口５４ａのＹ１方向の幅の平均値に対して、変形
光源法用の開口５４ｄのＹ１方向の幅の平均値を広くし
ておけば良い。これにより、変形光源法を使用した場合
でも、スループットを殆ど低下させることなく、ウエハ
５上で通常の照明法を使用した場合と同等の積算露光量
を得ることができると共に、照度むらも生ずることがな
い。
【００４５】なお、図７〜図９に示した実施例では、図
９の可変瞳フィルター板５６上に形成されている開口５
８〜６１の形状は個別には固定されているが、各開口５
８〜６１の開口径等を調整できる機構を設けても良い。
この場合には、図８の可動型固定レチクルブラインド５
２の各開口５４ａ〜５４ｄについても、それぞれＹ１方
向の幅及びＹ１方向のエッジ部の形状を変更できる機構
を設けることが望ましい。具体的に、例えば開口５４ａ
の形状等を変更するには、開口を２枚のＹ１方向に移動
できるナイフエッジで挟んで形成する、又は多数の予め
用意された開口から要求される形状に最も近い形状の開
口を選択する等の方法がある。
９の可変瞳フィルター板５６上に形成されている開口５
８〜６１の形状は個別には固定されているが、各開口５
８〜６１の開口径等を調整できる機構を設けても良い。
この場合には、図８の可動型固定レチクルブラインド５
２の各開口５４ａ〜５４ｄについても、それぞれＹ１方
向の幅及びＹ１方向のエッジ部の形状を変更できる機構
を設けることが望ましい。具体的に、例えば開口５４ａ
の形状等を変更するには、開口を２枚のＹ１方向に移動
できるナイフエッジで挟んで形成する、又は多数の予め
用意された開口から要求される形状に最も近い形状の開
口を選択する等の方法がある。
【００４６】また、上述実施例では露光光として水銀ラ
ンプの光が使用されているが、露光光として、エキシマ
レーザ光、アルゴンレーザ光、又はＹＡＧレーザの高調
波等を使用するような場合にも本発明はそのまま適用す
ることができる。このように、本発明は上述実施例に限
定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成
を取り得る。以上のように、上述実施例によれば、マス
ク上の照明視野を制限するための可変遮光手段と、基板
上への積算露光量を決定するための固定の視野絞りとを
分離して配置したため、マスク上にスリット状の照明領
域を設定すると共に、転写対象とするパターン以外の部
分を遮光するための絞りの構造及び制御系を全体として
簡略化できる利点がある。また、その視野絞りの開口の
形状を基板上での非走査方向の積算露光量の分布に応じ
て形成した場合には、基板上での走査方向に垂直な方向
の照度むらを低減できる利点がある。更に、その視野絞
りを、光透過性の基板上の所定範囲に遮光膜を被着する
ことにより形成し、この遮光膜が被着された面をマスク
と共役な面から所定量だけデフォーカスさせた場合に
は、基板上での積算露光量の分布の一様性を高めること
ができると共に、光透過性の基板上に付着した異物の像
が基板上に転写されることが防止される。
ンプの光が使用されているが、露光光として、エキシマ
レーザ光、アルゴンレーザ光、又はＹＡＧレーザの高調
波等を使用するような場合にも本発明はそのまま適用す
ることができる。このように、本発明は上述実施例に限
定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成
を取り得る。以上のように、上述実施例によれば、マス
ク上の照明視野を制限するための可変遮光手段と、基板
上への積算露光量を決定するための固定の視野絞りとを
分離して配置したため、マスク上にスリット状の照明領
域を設定すると共に、転写対象とするパターン以外の部
分を遮光するための絞りの構造及び制御系を全体として
簡略化できる利点がある。また、その視野絞りの開口の
形状を基板上での非走査方向の積算露光量の分布に応じ
て形成した場合には、基板上での走査方向に垂直な方向
の照度むらを低減できる利点がある。更に、その視野絞
りを、光透過性の基板上の所定範囲に遮光膜を被着する
ことにより形成し、この遮光膜が被着された面をマスク
と共役な面から所定量だけデフォーカスさせた場合に
は、基板上での積算露光量の分布の一様性を高めること
ができると共に、光透過性の基板上に付着した異物の像
が基板上に転写されることが防止される。
【００４７】
【発明の効果】本発明によれば、マスク上にスリット状
の照明領域を設定すると共に、転写対象とするパターン
以外の部分を遮光するための絞りの構造及び制御系を全
体として簡略化できる利点がある。
の照明領域を設定すると共に、転写対象とするパターン
以外の部分を遮光するための絞りの構造及び制御系を全
体として簡略化できる利点がある。
【００４８】また、基板上での走査方向に垂直な方向の
照度むらを低減できる利点がある。更に、基板上での積
算露光量の分布の一様性を高めることができる。
照度むらを低減できる利点がある。更に、基板上での積
算露光量の分布の一様性を高めることができる。
【図１】本発明の一実施例の投影露光装置のレチクル及
びウエハのステージ系を主に示す構成図である。
びウエハのステージ系を主に示す構成図である。
【図２】図１の投影露光装置の照明光学系を示す一部断
面図を含む構成図である。
面図を含む構成図である。
【図３】図２中の可動レチクル遮光板３８，３９及び固
定レチクルブラインド４２の構成を示す斜視図である。
定レチクルブラインド４２の構成を示す斜視図である。
【図４】実施例のレチクル上の照明領域４６及び照明視
野４９を示す平面図である。
野４９を示す平面図である。
【図５】（ａ）は固定レチクルブラインド４２中の開口
の一例を示す図、（ｂ）は図５（ａ）の開口を用いた場
合のウエハ上の露光領域を示す図、（ｃ）は図５（ａ）
の開口を用いた場合のウエハ上の非走査方向の積算露光
量分布を示す図である。
の一例を示す図、（ｂ）は図５（ａ）の開口を用いた場
合のウエハ上の露光領域を示す図、（ｃ）は図５（ａ）
の開口を用いた場合のウエハ上の非走査方向の積算露光
量分布を示す図である。
【図６】（ａ）は固定レチクルブラインド４２中の開口
の変形例を示す図、（ｂ）は図６（ａ）の開口を用いた
場合のウエハ上の露光領域を示す図、（ｃ）は図６
（ａ）の開口を用いた場合のウエハ上の非走査方向の積
算露光量分布を示す図である。
の変形例を示す図、（ｂ）は図６（ａ）の開口を用いた
場合のウエハ上の露光領域を示す図、（ｃ）は図６
（ａ）の開口を用いた場合のウエハ上の非走査方向の積
算露光量分布を示す図である。
【図７】本発明の他の実施例の照明光学系を示す一部断
面図を含む構成図である。
面図を含む構成図である。
【図８】図７中の可動型固定レチクルブラインド５２の
開口パターンを示す拡大図である。
開口パターンを示す拡大図である。
【図９】図７中の可変瞳フィルター板５６の開口の形状
を示す拡大図である。
を示す拡大図である。
５ ウエハ
８ 投影光学系
１２ レチクル
２２Ａ 主制御系
３１ 水銀ランプ
３６ フライアイレンズ
３８，３９ 可動レチクル遮光板
４２ 固定レチクルブラインド
４３ ガラス基板
４５ コンデンサーレンズ
４６ 照明領域
４９ 照明視野
５２ 可動型固定レチクルブラインド
５５ スライド機構
５６ 可変瞳フィルター板
５７ 回転装置
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平１−298719（ＪＰ，Ａ)
特開 平７−135132（ＪＰ，Ａ)
特開 平６−132191（ＪＰ，Ａ)
特開 平４−196513（ＪＰ，Ａ)
特開 平６−291016（ＪＰ，Ａ)
特開 平７−37774（ＪＰ，Ａ)
特開 平６−132195（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
H01L 21/027
G03F 7/20
Claims (20)
- 【請求項１】 照明光を発生する光源と、前記照明光で
マスク上の照明領域を照明する照明光学系と、前記照明
領域内の前記マスクのパターンの像を感光性の基板上に
投影する投影光学系とを有し、前記照明領域に対して前
記マスクを所定方向に走査し、前記照明領域と共役な露
光領域に対して前記基板を所定方向に走査することによ
り、前記マスクのパターンの像を逐次前記基板上に露光
する投影露光装置において、 前記マスク上の照明領域を所定の固定された形状に設定
する固定の視野絞りと、該視野絞りで前記マスク上に設
定された照明領域の前記マスクの走査方向の範囲を露光
中に制限する可変遮光手段とを、前記照明光学系中の前
記マスクと共役な面若しくはその近傍に配置したことを
特徴とする投影露光装置。 - 【請求項２】 前記視野絞りにより前記マスク上に設定
する照明領域の形状を、前記基板上の走査方向と垂直な
方向の積算露光量の分布に応じた形状に設定することを
特徴とする請求項１に記載の装置。 - 【請求項３】 前記視野絞りを、光透過性の基板上の所
定範囲に遮光膜を被着することにより形成し、該遮光膜
が被着された面を前記マスクと共役な面から所定量だけ
デフォーカスした位置に設置したことを特徴とする請求
項１又は２に記載の装置。 - 【請求項４】 マスクのパターンの像を基板上に投影す
るとともに、前記基板を移動することによって、前記基
板を走査露光する投影露光装置において、 前記マスクに形成されたパターンの像を前記基板上に投
影する投影光学系と、 前記マスクに照射される照明光を射出する光源と、 前記基板の露光中に前記マスクを移動する移動手段と、 前記走査露光のための前記基板の移動中に固定され、前
記照明光の照明領域を規定するとともに、その照明領域
を規定する面が前記マスクのパターン面との共役面から
所定量だけずれて配置された固定部材と、 前記走査露光のための前記基板の移動中に、前記マスク
の移動に同期して移動するとともに、前記照明光の照明
領域を規定する可動部材と、 を備えたことを特徴とする投影露光装置。 - 【請求項５】 前記固定部材は、光透過性のガラス基板
に遮光部を蒸着して形成されていることを特徴とする請
求項４に記載の装置。 - 【請求項６】 前記可動部材は、前記マスクの移動に同
期して、前記移動手段による前記マスクの移動方向にお
ける前記照明領域の幅を制限することを特徴とする請求
項４又は５に記載の装置。 - 【請求項７】 前記可動部材は、前記光源からの照明光
が前記マスクの遮光帯の外を通過するのを防止すること
を特徴とする請求項４、５、又は６に記載の装置。 - 【請求項８】 前記可動部材の前記照明領域を規定する
面は、前記マスクのパターン面との共役面に配置される
ことを特徴とする請求項４〜７のいずれか一項に記載の
装置。 - 【請求項９】 前記固定部材と前記可動部材とは、前記
マスクのパターン形成面と共役な同一の面、又はその近
傍に配置されていることを特徴とする請求項４〜８のい
ずれか一項に記載の装置。 - 【請求項１０】 マスクのパターンの像を基板上に投影
することによって、前記基板を露光する投影露光装置に
おいて、 前記マスクに形成されたパターンの像を前記基板上に投
影する投影光学系と、 前記マスクに照射される照明光を射出する光源と、 光透過性のガラス基材に蒸着を施して形成された遮光部
を有し、その遮光部で前記照明光の通過を規制する固定
部材と、 前記照明光の照明領域を規定する可動部材と、 を備えたことを特徴とする投影露光装置。 - 【請求項１１】 前記固定部材の前記蒸着が施された面
は、前記マスクのパターン面との共役面から所定量だけ
ずれた面内に配置されることを特徴とする請求項１０に
記載の装置。 - 【請求項１２】 前記固定部材に付着した異物の像が前
記基板上に投影されないように、前記固定部材の前記蒸
着が施された面が、前記マスクのパターン面との共役面
から所定量だけずれた面内に配置されることを特徴とす
る請求項１１に記載の装置。 - 【請求項１３】 前記可動部材の前記照明領域を規定す
る面は前記マスクのパターン面との共役面内に配置され
ることを特徴とする請求項１０、１１、又は１２に記載
の装置。 - 【請求項１４】 マスクのパターンの像を基板上に投影
することによって、前記基板を露光する露光装置におい
て、 露光光を発生する光源と、 ガラス基材に蒸着を施すことによって形成され、前記露
光光の一部の通過を制限するとともに、前記基板上にお
ける露光光の光量分布のエッジにスロープ部を形成する
光学部材と、 を備えたことを特徴とする露光装置。 - 【請求項１５】 前記光学部材の蒸着面を、前記マスク
のパターン面から所定距離だけ離れて配置することによ
って、前記光量分布のスロープ部を形成することを特徴
とする請求項１４に記載の装置。 - 【請求項１６】 マスクのパターンの像を基板上に投影
するとともに、前記基板を移動することによって、前記
基板を走査露光する投影露光装置において、 前記マスクに形成されたパターンの像を前記基板上に投
影する投影光学系と、 前記マスクに照射される照明光を射出する光源と、 前記基板の露光中に前記マスクを移動する移動手段と、 前記走査露光のための前記基板の移動中に、前記マスク
の移動に同期して移動する可動部材を有し、前記マスク
上における前記照明光の照明領域を規定する第１光学手
段と、 前記走査露光のための前記基板の移動中に固定され、前
記照明光の通過を制限する遮光部が被着された光透過性
のガラス基材を有し、該ガラス基材の前記遮光部が形成
された面を前記マスクのパターン面との共役面から所定
量だけずらして配置した第２光学手段と、 を備えたことを特徴とする投影露光装置。 - 【請求項１７】 前記基板の移動方向に垂直な非スキャ
ン方向に関する積算露光量の分布を均一にするために前
記第２光学手段のガラス基材を動かす移動機構をさらに
備えたことを特徴とする請求項１６記載の投影露光装
置。 - 【請求項１８】 請求項１〜１７のいずれか一項に記載
の装置を用いる素子製造方法。 - 【請求項１９】 マスクのパターンの像を基板上に投影
するとともに、前記基板を露光ビームに対して所定の走
査方向へ移動することにより前記基板を走査露光する投
影露光方法において、 前記基板の走査露光に先立って、前記走査方向と直交す
る非走査方向の積算露光量の分布を実測し、 該実測された積算露光量の分布情報に基づいて、前記マ
スクのパターン面と共役な面から離れて配置された光学
部材により、前記露光ビームが照射される照射領域の形
状を調整することを特徴とする投影露光方法。 - 【請求項２０】 請求項１９に記載の方法を用いる素子
製造方法。
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|---|---|---|---|
| JP21656993A JP3374993B2 (ja) | 1993-06-11 | 1993-08-31 | 投影露光方法及び装置、露光装置、並びに素子製造方法 |
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| EP94304199A EP0633506B1 (en) | 1993-06-11 | 1994-06-10 | Scanning exposure apparatus |
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Family Applications (1)
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-
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