TWI654083B - 長條複層薄膜及捲繞體 - Google Patents

長條複層薄膜及捲繞體

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TWI654083B
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Abstract

提供一種複層薄膜及其捲繞體，其中此複層薄膜係具備長條光學薄膜、及能夠從前述長條光學薄膜剝離的長條保護膜之長條複層薄膜；前述光學薄膜之與前述保護膜側的面為相反側的面之三維中心線平均粗糙度R1，前述保護膜之與前述光學薄膜側的面為相反側的面之三維中心線平均粗糙度R2，前述光學薄膜的長度方向之拉伸彈性模數M1，及前述保護膜的長度方向之拉伸彈性模數M2為滿足預定關係。

Description

長條複層薄膜及捲繞體
本發明係有關於一種複層薄膜及捲繞體。
先前，已知在液晶顯示裝置等的顯示裝置，設置相位差膜、偏光膜、亮度提升膜等的光學薄膜。從製造效率的觀點，此種光學薄膜係將某種程度的量彙集而製成長條狀，且將此長條薄膜以捲繞體的方式保存。在保存一定期間後，將長條薄膜從捲繞體拉出，依需求使用捲繞式法等而與其他的長條薄膜貼合，隨後施行沖切等的成型之後，被納入液晶顯示裝置等而利用。
在將長條光學薄膜捲繞時，為了保護光學薄膜、提升操作性等，在光學薄膜貼合保護膜之技術為已知(參照專利文獻1)。藉由在光學薄膜貼合保護膜而成為複層薄膜，且將此複層薄膜捲繞而成為捲繞體，能夠得到有利的效果。例如，能夠使捲繞及拉出時的操作性提升、防止光學薄膜之間的貼附等所致之破損、保護光學薄膜避免受到粉塵等的影響等等。在此種用途所使用的保護膜，為了作業上的方便，多半的情況係在與光學薄膜貼合之前，以長條薄膜的方式調製。此種長條薄膜，係通常在捲繞成為捲繞體的狀態下保存，在與光學薄膜貼合之前，從捲繞體被拉出且提供使用。
先前技術文獻 專利文獻
[專利文獻1]日本特開2011-112945號公報
將複層薄膜捲繞而成為捲繞體時，有在捲繞體產生暴筋(gauge bands)(在捲繞體的寬度方向的特定部分產生之帶狀凹部或凸部)、捲取皺紋等的不良之情形。產生此種不良時，光學薄膜的形狀產生變形且在光學上有造成缺陷之可能性。又，在實際的商品交易，縱使性能上沒有損失，亦有以捲取狀態不良作為理由而降低製品價值的評價之情形。因此，在光學薄膜的捲繞體，係被要求一種能夠抑制此種不良而良好地保持捲取狀態之技術。
為了減低此種捲繞體的不良，亦有使用具有特定的性狀者作為構成複層薄膜的保護膜之情形。例如能夠使用一種保護膜，其係在複層薄膜之與光學薄膜貼合的面為相反側的面，具有某種程度以上較高的粗糙度而且彈性模數為較低因而容易變形。藉由使用此種保護膜，在複層薄膜的捲繞時能夠減低捲入的空氣之量，進而能夠抑制暴筋、捲取皺紋等的不良。
但是，使用此種保護膜時，起因於保護膜表面的凹凸形狀(表面的凹下、突起、或其二者)的轉印等現象，而有對光學薄膜表面賦予不需要的凹凸形狀之情形。此種凹凸形狀係在光學上有造成缺陷之可能性。
因而，本發明的目的係提供一種複層薄膜，其能 夠抑制成為捲繞體時所產生的暴筋、捲取皺紋等的不良，而且，能夠抑制在光學薄膜表面產生不需要的凹凸形狀。
本發明的進一步之目的，係提供一種複層薄膜的捲繞體，其中此複層薄膜能夠抑制產生暴筋、捲取皺紋等的不良，而且，能夠抑制在光學薄膜表面產生不需要的凹凸形狀。
為了解決前述課題，本發明者進行研討，其結果，發現藉由將光學薄膜及保護膜的表面粗糙度及彈性模數、以及其比率設定為預定範圍，能夠解決前述課題。特別是藉由使用具有比先前認為適合的範圍更高的拉伸彈性模數者作為保護膜，而且將光學薄膜的拉伸彈性模數、光學薄膜及保護膜的表面粗糙度、及其二者的拉伸彈性模數之比及表面粗糙度之比設為預定範圍，能夠抑制產生暴筋、捲取皺紋等的不良，而且，能夠抑制在光學薄膜表面產生不需要的凹凸形狀，而完成了本發明。亦即，依照本發明，能夠提供以下的[1]~[5]。
[1]一種複層薄膜，係具備長條光學薄膜、及能夠從前述長條光學薄膜剝離的長條保護膜之長條複層薄膜；前述光學薄膜之與前述保護膜側的面為相反側的面之三維中心線平均粗糙度R1，前述保護膜之與前述光學薄膜側的面為相反側的面之三維中心線平均粗糙度R2，前述光學薄膜的長度方向之拉伸彈性模數M1，及前述保護膜的長度方向之拉伸彈性模數M2為滿足下述式(1)~(6)的關係：0.01μm≦R1≦0.05μm (1)；0.01μm≦R2≦0.2μm (2)； 1,500MPa≦M1≦3,000MPa (3)；2,500MPa≦M2≦6,000MPa (4)；1.0≦R2/R1≦5.0 (5)；1.0≦M2/M1≦3.0 (6)。
[2]如[1]所述之複層薄膜，其中前述光學薄膜的厚度為15~50μm。
[3]如[1]或[2]所述之複層薄膜，其中前述光學薄膜係具有b層/a層/b層的層構成之多層薄膜，前述a層係由含有聚苯乙烯系聚合物的樹脂所構成之層，前述b層係由含有聚甲基甲基丙烯酸酯聚合物的樹脂所構成之層。
[4]如[1]至[3]項中任一項所述之複層薄膜，其中前述保護膜係具備：黏著層，其係黏著在前述光學薄膜；及背面層，其係位於在此黏著層之與前述光學薄膜為相反側且與前述光學薄膜為不黏著。
[5]如[4]所述之複層薄膜，其中前述背面層係由含有聚合物的樹脂所構成之層，前述樹脂係含有粒子。
[6]如[5]所述之複層薄膜，其中形成前述背面層之前述樹脂總量中的前述粒子之比率，係0.05重量%以上且1.0重量%以下
[7]如[5]或[6]所述之複層薄膜，其中前述粒子的粒徑為0.01~10μm。
[8]如[4]至[7]項中任一項所述之複層薄膜，其中前述背面層的厚度之與前述黏著層的厚度之比(黏著層/背面層)為1/40 以上且1/1以下。
[9]一種捲繞體，係將[1]至[8]項中任一項所述之複層薄膜捲繞成為捲物狀而成。
因為本發明的複層薄膜，係能夠抑制成為捲繞體時所產生的暴筋、捲取皺紋等的不良，而且，能夠抑制在光學薄膜表面產生不需要的凹凸形狀，所以能夠作為適合以捲繞體的方式保存及搬運之複層薄膜。
因為本發明的捲繞體，係能夠抑制產生暴筋、捲取皺紋等的不良，而且，能夠抑制在光學薄膜表面產生不需要的凹凸形狀，所以能夠作為適合複層薄膜的保存及搬運之捲繞體。
10‧‧‧捲繞體
100‧‧‧複層薄膜
110‧‧‧保護膜
110X‧‧‧保護膜背面側的面
110Y‧‧‧保護膜正面側的面
111‧‧‧背面層
112‧‧‧黏著層
120‧‧‧光學薄膜
120X‧‧‧光學薄膜背面側的面
120Y‧‧‧光學薄膜正面側的面
121b‧‧‧b層
122a‧‧‧a層
123b‧‧‧b層
第1圖係示意性地顯示本發明的一實施形態之將複層薄膜捲繞而成的捲繞體之概略圖。
第2圖係示意性地顯示本發明的一實施形態之複層薄膜的剖面之剖面圖。
用以實施發明之形態
以下，顯示實施形態及例示物而詳細地說明本發明。但是。本發明係不被以下說明的實施形態及例示物限定，在不脫離本發明的申請專利範圍及其均等的範圍之範圍，能夠任意地變更而實施。
在本申請，所謂「長條」薄膜，係指相對於寬度， 具有至少200倍左右以上的長度之薄膜。長條薄膜係相對於寬度，較佳是具有300倍或是其以上的長度，具體而言係具有能夠被捲取成為捲物狀而保管或搬運的程度之長度。長度的上限係沒有特別限定，例如能夠設為寬度的10000倍以下。
[1.1複層薄膜：概要]
本發明的複層薄膜，係具備長條光學薄膜、及能夠從長條光學薄膜剝離的長條保護膜。通常，本發明的複層薄膜係具備長條光學薄膜及長條保護膜各1層，且具有將這些薄膜貼合而成之構造。第1圖係示意性地顯示本發明的一實施形態之將複層薄膜捲繞而成的捲繞體之概略圖。第2圖係示意性地顯示本發明的一實施形態之複層薄膜的剖面之剖面圖。如第1圖所顯示，捲繞體10係將複層薄膜100捲繞成為捲物狀而成者。又，如第2圖所顯示，複層薄膜100係具備下列之薄膜：長條光學薄膜120；及長條保護膜110，其係被貼合在光學薄膜120且能夠剝離。
[1.2.複層薄膜的性狀]
在本發明的複層薄膜，光學薄膜之與保護膜側的面為相反側的面之三維中心線平均粗糙度R1、保護膜之與光學薄膜側的面為相反側的面之三維中心線平均粗糙度R2、光學薄膜的長度方向之拉伸彈性模數M1、及保護膜的長度方向之拉伸彈性模數M2為滿足下述式(1)~(6)的關係：0.01μm≦R1≦0.05μm (1)；0.01μm≦R2≦0.2μm (2)；1,500MPa≦M1≦3,000MPa (3)； 2,500MPa≦M2≦6,000MPa (4)；1.0≦R2/R1≦5.0 (5)；1.0≦M2/M1≦3.0 (6)。
參照第2圖的例子來說明，R1係光學薄膜120之與保護膜側的面120Y為相反側的面120X之三維中心線平均粗糙度。R2係保護膜110之與光學薄膜側的面110Y為相反側的面110X之三維中心線平均粗糙度。
在以下，係有將光學薄膜的保護膜側的面稱為光學薄膜的正面，將光學薄膜之與保護膜側的面為相反側的面稱為光學薄膜的背面之情形。又，有將保護膜的光學薄膜側的面稱為保護膜的正面，將保護膜的光學薄膜側的面為相反側的面稱為保護膜的背面之情形。
如式(1)所顯示，光學薄膜的背面之三維中心線平均粗糙度R1係0.01μm以上且0.05μm以下。R1係較佳為0.04μm以下。R1小於0.01μm時，在將複層薄膜捲繞而成為捲繞體時捲入的空氣量變少且容易產生暴筋等的不良。R1大於0.05μm時，在將複層薄膜捲繞而成為捲繞體時捲入的空氣量變為太多且容易產生捲取偏移。
如式(2)所顯示，保護膜的背面之三維中心線平均粗糙度R2係0.01μm以上且0.20μm以下。R2係以0.02μm以上為佳，較佳為0.03μm以上，另一方面，以0.18μm以下為佳，較佳為015μm以下。R2小於0.01μm時，在將複層薄膜捲繞而成為捲繞體時捲入的空氣量變少且容易產生暴筋等的不良。R2大於0.20μm時，不需要的凹凸形狀係容易從保護膜 被轉印至光學薄膜。
如式(5)所顯示，R2與R1之比R2/R1係1.0以上且5.0以下。R2/R1係較佳為1.5以上，另一方面，較佳為4.5以下。
在R1及R2為在前述範圍內之情況，若R2/R1之值為前述下限以上，能夠減低在將複層薄膜捲繞而成為捲繞體時捲入的空氣量，進而抑制暴筋、捲取皺紋等的不良。另一方面，藉由R1及R2為在前述範圍內之情況，且R2/R1之值為前述上限以下，能夠抑制保護膜的凹凸形狀轉印至光學薄膜，且能夠抑制在光學薄膜表面產生不需要的凹凸形狀。在光學薄膜與保護膜貼合前後，R1及R2之值係沒有變化時，能夠針對貼合前的光學薄膜及保護膜測定背面之三維中心線平均粗糙度且將其設作R1及R2。三維中心線平均粗糙度，係能夠使用表面粗糙度計(Mitutoyo公司製、製品名「SJ400」)且依據JIS B 0601：1994而測定。
如式(3)所顯示，光學薄膜的長度方向之拉伸彈性模數M1係1,500MPa以上且3,000MPa以下。M1係以1,600MPa以上為佳，較佳為1,800MPa以上，另一方面，係以2,700MPa以下為佳，較佳為2,500MPa以下。前述M1小於1500MPa時，產生捲取皺紋等的外觀不良。M1大於3000MPa時，容易產生源自異物之不需要的壓痕。
如式(4)所顯示，保護膜的長度方向之拉伸彈性模數M2係2,500MPa以上且6,000MPa以下。M2係以3,000MPa以上為佳，較佳為3,500MPa以上，另一方面，以5,500MPa以下為佳，較佳為5,000MPa以下。前述M2小於2500MPa時，產生捲取 皺紋等的外觀不良。M2大於6000MPa時，不需要的凹凸轉印至光學薄膜有變強之可能性。
如式(6)所顯示，M2與M1之比M2/M1係1.0以上且3.0以下，M2/M1之比係較佳為1.5以上，另一方面，較佳為2.5以下。
藉由M1及M2為在前述範圍內之情況，且M2/M1之值為前述下限以上，能夠使複層薄膜的韌性成為適當較高的值，其結果，能夠形成良好外觀的捲繞體。另一方面，藉由M1及M2為在前述範圍內之情況、且M2/M1之值為前述上限以下，能夠抑制保護膜的凹凸形狀轉印至光學薄膜，且能夠抑制在光學薄膜表面產生不需要的凹凸形狀。拉伸彈性模數係能夠依據JIS K 7113且使用拉伸試驗機(INSTRON公司製、5564型數位材料試驗機)來測定。光學薄膜及保護膜的拉伸彈性模數，係能夠在將上述膜貼合而成為複層薄膜之前的時點進行測定。保護膜係具備保護黏著面之脫模薄膜，將此脫模薄膜剝離之後光學薄膜貼合而得到複層薄膜時，係能夠在將此種脫模薄膜剝離後的狀態下測定拉伸彈性模數。
複層薄膜的寬度及長度係沒有特別限定，能夠設為適合保護及保存對象亦即光學薄膜的寬度及長度，而且適合製造捲繞體且在捲繞體的狀態保存之寬度及長度。例如，複層薄膜的寬度係以800mm以上為佳，以1,000mm以上為較佳。通常，將寬度為較寬闊的薄膜捲繞後的捲繞體係容易產生皺紋或暴筋。但是，本發明的複層薄膜係即便具有如此寬闊的寬度時，在捲繞時亦能夠實現良好的捲取狀態。又，複層薄膜的寬 度的上限係通常能夠設為2500mm以下。
[1.3.光學薄膜]
構成複層薄膜之光學薄膜，係能夠設作在光學用途所使用之任意的長條薄膜。作為光學薄膜的例子，可舉出相位差膜、偏光膜、亮度提升膜、光擴散膜、聚光膜、及反射膜。
光學薄膜的材料係通常為樹脂，較佳為熱塑性樹脂。作為樹脂，係能夠使用含有各種聚合物作為主成分者。作為此種聚合物的例子，可舉出聚乙烯、聚丙烯等的烯烴聚合物、聚對酞酸乙二酯、聚對酞酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯等的聚酯聚合物、聚苯硫(polyphenylene sulfide)等的聚芳硫醚(polyarylene sulfide)聚合物、聚乙烯醇聚合物、聚碳酸酯聚合物、聚芳香酯(polyarylate)聚合物、纖維素酯聚合物、聚醚碸聚合物、聚碸聚合物、聚烯丙基碸聚合物、聚氯乙烯聚合物、降莰烯聚合物、棒狀液晶聚合物、包含苯乙烯或苯乙烯衍生物的同元聚合物或與其他單體的共聚物之聚苯乙烯系聚合物、聚丙烯腈聚合物、聚甲基甲基丙烯酸酯聚合物、及上述之多元共聚合聚合物。作為苯乙烯衍生物的例子，可舉出取代基在苯乙烯的苯環或α位置取代而成者。作為此取代基的例子，可舉出甲基等的烷基、氯等的鹵素原子、甲氧基等的烷氧基。作為苯乙烯衍生物的具體例，可舉出甲基苯乙烯、2,4-二甲基苯乙烯等的烷基苯乙烯；氯苯乙烯等的鹵化苯乙烯；氯甲基苯乙烯等的鹵素取代烷基苯乙烯；及甲氧基苯乙烯等的烷基苯乙烯。苯乙烯及苯乙烯衍生物之中，係以不具有取代基的苯乙烯為佳。上述聚合物，可單獨使用1種類，亦可以任意比率組合2種類 以上而使用。
作為光學薄膜的材料之樹脂，係能夠含有粒子。粒子係可以是由聚合物所構成者，亦可以是由聚合物以外的成分所構成者。作為由聚合物所構成之粒子的例子，可舉出丙烯酸系橡膠粒子等的橡膠粒子。丙烯酸系橡膠粒子，係以如丙烯酸丁酯和丙烯酸2-乙基己酯之丙烯酸烷酯作為主成分，在多官能單體的存在下聚合而得到之具有橡膠彈性的粒子。樹脂(光學薄膜係具有複數種類的樹脂之層時，係形成背面之樹脂)總量中的粒子之比率，係以5重量%以上為佳，較佳為10重量%以上，另一方面，以50重量%以下為佳，較佳為40重量%以下。又，粒子的粒徑係以數量平均粒徑計，以50~1,000nm為佳。藉由在此範圍內調整粒子的比率及粒徑，能夠對光學薄膜的背面賦予所需要的三維中心線平均粗糙度R1。
作為光學薄膜的材料之樹脂，只要不顯著地損害本發明的效果，亦可含有以上敘述的成分以外之任意成分。作為任意成分的例子，可舉出抗氧化劑、熱安定劑、光安定劑、紫外線吸收劑、抗靜電劑、分散劑、氯捕捉劑、阻燃劑、結晶化核劑、強化劑、防霧劑、脫模劑、顏料、中和劑、滑劑、分解劑、金屬惰性化劑、污染防止劑、抗菌劑等的習知的添加劑等。上述任意成分係可單獨使用1種類，亦可以任意比率組合2種類以上而使用。但是，任意成分之量係在不損害本發明的效果之範圍，相對於聚合物100重量份，通常為50重量份以下，較佳為30重量份以下，下限為零。
作為光學薄膜的材料，藉由適當地選擇以上所舉 出的材料之任一者，能夠得到兼備所需要的光學的特性、及所需要的拉伸彈性模數M1之光學薄膜。
光學薄膜係可以是只由1層所構成之單層薄膜，亦可以是具備2層以上的層之多層薄膜。光學薄膜係具備2層以上的層時，各自的層係能夠設為由以上所敘述的樹脂所構成之層。光學薄膜係具備2層以上的層時，構成這些層之材料係可相同亦可不同。作為特別適合的多層薄膜之例子，可舉出含有1層以上之由聚苯乙烯系聚合物的樹脂所構成之a層；及含有1層以上之由含有聚甲基甲基丙烯酸酯聚合物的樹脂所構成之b層者。作為含有a層及b層之多層薄膜的較佳例子，可舉出具有b層/a層/b層的層構成之多層薄膜、亦即，含有a層、及在其表面及背面接觸而設置的一對b層之多層薄膜。
再次參照第2圖的例子而說明，複層薄膜100的構成要素之光學薄膜120，係含有：作為a層之層122a；及作為b層之層121b及123b，其係接觸層122a的正面側之面及背面側之面而設置。此時，藉由調整比率而添加以上敘述的粒子作為層123b的材料，能夠對光學薄膜120的背面120X賦予所需要的背面三維中心線平均粗糙度R1。又，藉由適當地調整層121b、122a及123b的厚度，能夠得到作為光學薄膜所需要的光學特性。特別是利用聚苯乙烯系聚合物具有負的固有雙折射值，能夠得到作為相位差膜等的光學薄膜所需要的光學特性。而且，藉由適當地選擇層121b、122a及123b的材料，能夠得到所需要的拉伸彈性模數M1。
光學薄膜的厚度，係以15μm以上為佳，較佳為 20μm以上，另一方面，以50μm以下為佳，較佳為45μm以下。本發明係藉由構成複層薄膜，即便具有前述上限以下的厚度之較薄的光學薄膜，亦在能夠抑制產生暴筋、捲取皺紋等的不良之狀態下，而且在能夠抑制產生不需要的凹凸形狀之狀態下以捲繞體的方式保存。
光學薄膜的厚度，係能夠使用聯線(on-line)紅外線膜厚計(KURABO公司製、商品名RX-200)而測定。具體而言，係能夠對搬運中的光學薄膜，從在寬度方向2mm間隔且搬運速度為10m/分鐘，於薄膜寬度方向測定至少10次以上的總測定結果(亦即，在分布寬度方向之10點以上的測定點所測得的總測定結果)之平均值，算出薄膜寬度方向的平均厚度且將此值設作光學薄膜的厚度。
光學薄膜的寬度及長度係沒有特別限定，能夠設為在所需要的用途能夠使用的寬度及長度。具體而言，能夠設為與以上敘述的複層薄膜的寬度及長度同樣的寬度及長度。
光學薄膜係通常具有較高的透明性。具體而言，光學薄膜的總光線透射率，係以85%以上為佳，較佳為90%以上。又，上限係理想上為100%。在此，總光線透射率係能夠依據JIS K7361-1997而測定。
又，雖然亦取決於用途，光學薄膜係通常霧度為較小。具體而言，光學薄膜的霧度，係通常為10%以下，以5%以下為佳，較佳為1%以下。又，下限值係理想上為零，但是通常為0.1%以上。在此，霧度係能夠依據JIS K7361-1997而測定。
光學薄膜係能夠使用任意的製造方法來製造。作 為製造方法的例子，可舉出熔融成形法、及溶液流延法。作為熔融成形法之更具體的例子，可舉出擠製成形法、壓縮成形法、吹塑成形法、射出成形法、吹氣成形法、及延伸成形法。這些方法之中，為了得到具有優異的機械強度、表面精度等之光學薄膜，係以擠製成形法、吹塑成形法或壓縮成形法為佳，尤其是從能夠更確實地抑制相位差的顯現，同時能夠效率良好且簡單地製造光學薄膜的觀點而言，係以擠製成形法為特佳。
又，以多層薄膜的方式製造光學薄膜時，例如能夠利用共擠製T型模具法、共擠製吹塑法、共擠製層疊法等的共擠製成形方法；乾式層疊等的薄膜層疊成形方法；及如對某層塗佈構成其他層的樹脂溶液之塗佈成形方法等習知的方法。尤其是從製造效率良好且不使光學薄膜中殘留溶劑等的揮發性成分的觀點而言，係以共擠製成形方法為佳。共擠製成形法之中，係以共擠製T型模具法為佳。而且共擠製T型模具法可舉出料塊方式、多歧管方式，就能夠使層的厚度偏差較少而言，係以多歧管方式為更佳。
而且，在光學薄膜的製造方法，係能夠依需求而進行將薄膜延伸之延伸步驟。
[1.4.保護膜]
保護膜係被貼合在光學薄膜而構成複層薄膜之長條薄膜，用以保護光學薄膜。通常，保護膜係不透過其他層而直接被貼合在光學薄膜的表面。
作為保護膜，係使用能夠從光學薄膜剝離的薄膜。亦即，保護膜係能夠與光學薄膜貼合而成為複層薄膜，而且在使用光 學薄膜時，能夠從光學薄膜剝離之薄膜。
作為保護膜，係使用其背面側之三維中心線平均粗糙度R2及其長度方向之拉伸彈性模數M2，係滿足前述式(2)、(4)、(5)及(6)者。具有此種拉伸彈性模數M2及背面三維中心線平均粗糙度R2之保護膜，係例如能夠藉由適當地選擇其材料且適當地調整此材料的成分來得到。
以光學薄膜的正面與保護膜的正面為接觸的方式，將這些膜貼合而成為複層薄膜後之光學薄膜與保護膜的剝離容易性程度，係能夠任意地設定。光學薄膜與保護膜的黏著力，係通常為20mN/cm以上，通常為800mN/cm以下，較佳是設為400mN/cm以下。剝離係以越容易為越佳，但是過度容易地剝離時，複層薄膜捲繞時及拉出時有產生剝離之可能性。光學薄膜與保護膜的黏著力，係受到光學薄膜的表面粗糙度之影響，通常光學薄膜的表面粗糙度越粗，黏著力越低。藉由適當地選擇保護膜之光學薄膜側的面之材料，能夠使對某光學薄膜之黏著力成為所需要的範圍。
保護膜的厚度，係能夠適當地設定使其適合光學薄膜的厚度，來達成所需要水準之光學薄膜的保護。從成形性及操作性的觀點而言，保護膜的厚度係較佳為20μm~100μm。保護膜的寬度及長度係沒有特別限定，能夠設為適合保護及保存對象亦即光學薄膜的寬度及長度之寬度及長度。
[1.5.多層保護膜]
保護膜亦可以是只由1層所構成之單層構造的薄膜，但是通常係具備2層以上的層之多層保護膜。作為保護膜之適合的 例子，可舉出具備黏著層及背面層，而且依需求而在黏著層與背面層之間具備中間層之多層保護膜。
再次參照第2圖的例子而進行說明，複層薄膜100的構成要素之保護膜110，係具備黏著層112及背面層111之多層保護膜。保護膜110之黏著層112側的面，係構成保護膜110之正面側的面110Y；另一方面，保護膜110之背面層側的面，係構成保護膜110之背面側的面110X。因而，藉由適當地選擇黏著層112的材料，能夠對保護膜110賦予所需要之能夠剝離的黏著性。又，藉由適當地選擇背面層111的材料，能夠使拉伸彈性模數M2及背面三維中心線平均粗糙度R2成為所需要之值。
[1.6.多層保護膜：黏著層]
多層保護膜的黏著層，係能夠藉由將黏著劑的層設置在背面層等其他層的表面上來形成。作為黏著劑，例如，能夠舉出橡膠系黏著劑、丙烯酸系黏著劑、聚乙烯基醚系黏著劑、胺甲酸酯系黏著劑、聚矽氧系黏著劑等。作為黏著劑，可單獨使用1種類，亦可以任意比率組合2種類以上而使用。
作為黏著劑的較佳例子，可舉出含有以通式A-B-A或通式A-B表示的嵌段共聚物(其中，這些式中，A係表示苯乙烯系聚合物嵌段，B係表示選自由丁二烯聚合物嵌段、異戊二烯聚合物嵌段、及將上述聚合物嵌段氫化而得到的烯烴聚合物嵌段所組成群組之聚合物嵌段)之橡膠系黏著劑；及丙烯酸系黏著劑。
在以前述通式A-B-A或通式A-B表示之嵌段共聚 物，苯乙烯系聚合物嵌段A，係以重量平均分子量為12,000~100,000、玻璃轉移溫度為20℃以上者為佳。又，由選自由丁二烯聚合物嵌段、異戊二烯聚合物嵌段、及將上述聚合物嵌段氫化而得到的烯烴聚合物嵌段所組成群組之聚合物嵌段B，係以重量平均分子量為10,000~300,000、玻璃轉移溫度為-20℃以下者為佳。而且，作為上述A成分與B成分之重量比，係以A/B=5/95~50/50為佳，較佳為A/B=10/90~30/70。
作為以上述通式A-B-A表示之嵌段共聚物的例子，能夠舉出苯乙烯-乙烯/丙烯-苯乙烯、苯乙烯-乙烯/丁烯-苯乙烯、及上述物質的氫化物，作為以通式A-B表示之嵌段共聚物的例子，能夠舉出苯乙烯-乙烯/丙烯、及苯乙烯-乙烯/丁烯及上述物質的氫化物。
作為在丙烯酸系黏著劑所含有之丙烯酸聚合物的例子，可舉出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸硬脂酸酯等的(甲基)丙烯酸烷酯類；(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸丁氧基乙酯等的(甲基)丙烯酸烷氧基烷酯類；(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯、乙酸乙烯酯、(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺等的(甲基)丙烯醯胺類、苯乙烯、丙烯腈、乙烯基吡啶、乙烯基吡咯啶酮、乙烯基烷基醚類等的同元聚合物或共聚物。在本申請，所謂(甲基)丙烯酸酯，係意味著丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯或上述之組合，所謂(甲基)丙烯醯基，係意味著 丙烯醯基、甲基丙烯醯基或上述之組合。
作為丙烯酸聚合物的較佳例子，可舉出以上例示者等的單體、與含有具有官能基的丙烯酸系單體之單體組成物之共聚物。作為具有官能基的丙烯酸系單體之例子，能夠舉出順丁烯二酸、反丁烯二酸、(甲基)丙烯酸等的不飽和酸類；(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸己酯、甲基丙烯酸二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯酸環氧丙酯、順丁烯二酸酐等。作為具有官能基之丙烯酸系單體，可單獨使用1種類，亦可以任意比率組合2種類以上而使用。
丙烯酸系黏著劑能夠依需求而含有交聯劑。交聯劑係與共聚物所具有的官能基進行熱交聯反應，最後形成三維網狀構造之化合物。藉由含有交聯劑，能夠使在保護膜之黏著層與其他層(中間層、背面層等)的密著性、保護膜的強韌性、耐溶劑性、耐水性等提升。作為交聯劑的例子，可舉出異氰酸酯系化合物、三聚氰胺系化合物、尿素系化合物、環氧系化合物、胺基系化合物、醯胺系化合物、吖環丙烷化合物、唑啉化合物、矽烷偶合劑、及上述化合物的改性物。作為交聯劑，可單獨使用1種類，亦可以任意比率組合2種類以上而使用。
從黏著層的交聯性及強韌性等的觀點而言，作為交聯劑，係以異氰酸酯系化合物及其改性物為佳。所謂異氰酸酯系化合物，係在1分子中具有2個以上的異氰酸酯基2個以上之化合物，能夠大致區別為芳香族系及脂肪族系的化合物。作為芳香族系的異氰酸酯系化合物之例子，可舉出甲苯二異氰 酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、多亞甲基多苯基異氰酸酯、萘二異氰酸酯、聯甲苯胺二異氰酸酯、及對苯二異氰酸酯。又，作為脂肪族系的異氰酸酯系化合物之例子，可舉出六亞甲基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、二環己基甲烷二異氰酸酯、氫化苯二甲基二異氰酸酯、離胺酸二異氰酸酯、四甲基二甲苯二異氰酸酯、及苯二甲基二異氰酸酯。而且，作為這些異氰酸酯系化合物的改性物之例子，可舉出異氰酸酯系化合物的縮二脲體、異三聚氰酸酯體、及三羥甲基丙烷加成物。
黏著劑係含有交聯劑時，為了促進交聯反應，黏著劑亦可進一步含有月桂酸二丁基錫等的交聯觸媒。
黏著劑係能夠依需求而含有黏著賦予性聚合物。作為黏著賦予性聚合物的例子，可舉出芳香族烴聚合物、脂肪族烴聚合物、萜烯聚合物、萜烯苯酚聚合物、芳香族烴改性萜烯聚合物、二氫苯并哌喃．茚聚合物、苯乙烯系聚合物、松香系聚合物、酚系聚合物、二甲苯聚合物等，尤其是以低密度聚乙烯等的脂肪族烴聚合物為佳。但是，具體的黏著賦予性聚合物之種類，係能夠從與前述的嵌段共聚物之相溶性、樹脂的熔點及黏著層的黏著力方面，適當地選擇。作為黏著賦予性聚合物，可單獨使用1種類，亦可以任意比率組合2種類以上而使用。
黏著賦予性聚合物的量，係例如相對於前述的嵌段共聚物100重量份，以5重量份以上為佳，較佳為200重量份以下，更佳為100重量份以下。黏著賦予性聚合物的量太少時，保護膜在與光學薄膜貼合時有產生浮起和剝落之可能性， 量太多時捲出張力變高，在與光學薄膜貼合時有產生皺紋和傷痕、或產生黏著賦予聚合物滲出且黏著力容易低落之可能性。
黏著劑係能夠依需求而含有軟化劑、抗老化劑、填充劑、著色劑(染料或顏料等)等的添加劑。作為添加劑，可單獨使用1種類，亦可以任意比率組合2種類以上而使用。
作為軟化劑的例子，可舉出操作油劑、液狀橡膠、及可塑劑。
作為填充劑的例子，可舉出硫酸鋇、滑石、碳酸鈣、雲母、氧化矽、及氧化鈦。
黏著層對保護膜之其他層(中間層、背面層等)之黏著力，係以2mN/cm以上為佳，以4mN/cm以上為較佳，以200mN/cm以下為佳，以160mN/cm以下為較佳。黏著力太低時，貼合在光學薄膜時，有產生保護膜浮起和剝落之可能性，黏著力太高時捲出張力變高，在與光學薄膜貼合時有容易產生皺紋和傷痕之可能性。
黏著層的厚度，係通常為1.0μm以上，較佳為2.0μm以上，通常為50μm以下，較佳為30μm以下。黏著層太薄時，黏著力變低且保護膜有產生浮起和剝落之可能性。又，黏著層太厚時，黏著力過度地變高而捲出張力變高，在與光學薄膜貼合時有容易產生皺紋和傷痕之可能性。又，保護膜的韌性變強而操作性有變差之可能性。
[1.7.多層保護膜：背面層]
多層保護膜的背面層係位於保護膜的背面，且與光學薄膜為不黏著之層。通常，背面層係能夠設為由含有聚合物的樹脂 所構成之層。在形成背面層之樹脂所含有的聚合物係可為同元聚合物，亦可為共聚物。作為聚合物之適合的例子，可舉出聚酯系聚合物、及聚烯烴系聚合物。
作為聚酯系聚合物的例子，可舉出聚對酞酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯。
作為聚烯烴系聚合物的例子，可舉出聚乙烯、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物、丙烯-α-烯烴共聚物、乙烯-α-烯烴共聚物、乙烯-(甲基)丙烯酸乙酯共聚物、乙烯-(甲基)丙烯酸甲酯共聚物、乙烯-(甲基)丙烯酸正丁酯共聚物、及乙烯-乙酸乙烯酯共聚物。在此，作為聚乙烯的例子，可舉出低密度聚乙烯、中密度聚乙烯、高密度聚乙烯、及直鏈狀低密度聚乙烯。又，作為乙烯-丙烯共聚物的例子，可舉出無規共聚物、嵌段共聚物等。而且，作為α-烯烴，例如可舉出丁烯-1、己烯-1、4-甲基戊烯-1、辛烯-1、戊烯-1、及庚烯-1。
上述的聚烯烴系聚合物之中，從容易得到所需要的M2等之值等的觀點而言，係以聚對酞酸乙二酯及聚丙烯為特佳。
形成背面層之樹脂，係能夠含有粒子。粒子係可以是由聚合物所構成者，亦可以是由聚合物以外的成分所構成者。作為背面層用的粒子之例子，可舉出碳酸鈣粒子、氧化矽粒子等的無機粒子。形成背面層之樹脂總量中的粒子之比率，係以0.05重量%以上為佳，較佳為0.1重量%以上，另一方面，以1.0重量%以下為佳，較佳為0.8重量%以下。又，粒子的粒徑係以數量平均粒徑計，以0.01~10μm為佳。藉由在此範圍 內調整粒子的比率及粒徑，能夠對保護膜的背面賦予所需要的三維中心線平均粗糙度R2。
形成背面層之樹脂，係只要不顯著地損害本發明的效果，亦可含有以上敘述的成分以外的任意成分。作為任意成分的例子，可舉出滑石、硬脂醯胺、硬脂酸鈣等的填充劑、滑劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、顏料、抗靜電劑、核劑等的添加劑。作為任意成分，係可單獨使用1種類，亦可以任意比率組合2種類以上而使用。
背面層的厚度，係與黏著層的厚度之比(黏著層/背面層)，通常為1/40以上，較佳為1/20以上，通常為1/1以下，較佳為1/2以下。相較於黏著層，背面層的厚度太薄時，成膜性變差且有產生許多魚眼之可能性，太厚時，捲出張力變高，在將保護膜與光學薄膜貼合時，有容易產生皺紋和傷痕之可能性。
[1.8.多層保護膜：中間層]
在黏著層與背面層之間，亦可依需求而設置中間層。中間層係通常由樹脂而形成，尤其是以由含有聚烯烴系聚合物的樹脂而形成為佳。
作為在中間層所含有的聚烯烴系聚合物，例如可舉出低密度聚乙烯、中密度聚乙烯、高密度聚乙烯、直鏈狀低密度聚乙烯、乙烯-α-烯烴共聚物、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物(無規共聚物及/或嵌段共聚物)、α-烯烴-丙烯共聚物、乙烯-(甲基)丙烯酸乙酯共聚物、乙烯-(甲基)丙烯酸甲酯共聚物、乙烯-(甲基)丙烯酸正丁酯共聚物、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物等。作 為聚烯烴系聚合物，可單獨使用1種類，亦可以任意比率組合2種類以上而使用。但是，在中間層所含有的聚烯烴系聚合物，係以與在前述黏著層及背面層所含有的聚合物為不同種類的聚烯烴系聚合物為佳。
中間層係依需求亦能夠含有形成黏著層之材料、及形成背面層之材料。通常，使用共擠製成形法而製成保護膜時，端部之厚度不均勻的部分係藉由切條步驟等進行切條且被除去，藉由將如此進行而被除去的部分使用作為中間層的原料，能夠減低使用原料之量。
只要不顯著地損害本發明的效果，中間層係能夠含有例如滑石、硬脂醯胺、硬脂酸鈣等的填充劑、滑劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、顏料、抗靜電劑、造核劑等的添加劑。作為添加劑，可單獨使用1種類，亦可以任意比率組合2種類以上而使用。
中間層的厚度，係通常為13μm~70μm。
[1.9.保護膜的製造方法]
保護膜的製造方法係沒有限制，能夠採用任意的方法。作為保護膜的製造方法之例子，可舉出下述的製造方法(i)~(iii)。
(i)將黏著層的材料及背面層的材料、以及依需求之中間層的材料進行共擠製之方法。
(ii)準備背面層的薄膜(或是將背面層及中間層層積而成之薄膜)且在其表面塗佈黏著劑而形成黏著層之方法。
(iii)個別地準備黏著層及背面層、以及依需求之中間層，將所準備的各層貼合而一體化之方法。
製造方法(i)~(iii)之中，就黏著層與背面層或中間層係能夠達成堅固的密著而言、就不容易在光學薄膜產生殘糊而言、而且就因為製造步驟能夠簡單化使得成本廉價等方面而言，係以製造方法(i)為較佳。在此所謂「殘糊」，係指黏著劑在保護膜剝離後殘留光學薄膜之現象。
另一方面，就能夠簡便地得到均勻厚度的黏著層及背面層等之層等方面而言，係以製造方法(iii)為佳。製造方法(iii)係更具體地，能夠藉由在脫模薄膜等任意的薄膜上塗佈當作黏著層的材料之黏著劑而形成黏著層，且將其轉印至背面層或中間層的表面上來進行。具體而言，係製造具有脫模薄膜/黏著層的層構成之多層薄膜，將其與背面層(或具有中間層/背面層的層構成之多層薄膜)貼合而能夠調製具有脫模薄膜/黏著層/背面層(或脫模薄膜/黏著層/中間層/背面層)的層構成之保護膜。而且在將其與光學薄膜貼合之前，將脫模薄膜剝離而能夠作為保護膜(在本申請，針對保護膜，含有脫模薄膜之多層薄膜、及將脫模薄膜剝離之後的多層薄膜，在文理上清楚的情況下係不區別，任一者均有稱為「保護膜」之情形)使用。
在保護膜的製造，係能夠依需求而進行使背面層的表面變形之操作。藉此，能夠將保護膜之背面側的三維中心線平均粗糙度R2調整成為所需要的範圍。使背面層的表面變形之操作，可舉出使用具有凹凸構造的成形輥按壓在上述表面之方法；將具有凹凸構造的脫模薄膜重疊加壓上述表面，而轉印脫模薄膜的凹凸構造之方法；將微粒子噴射在保護膜的背面而切削保護膜的背面之方法等。又，使背面層的表面變形之步 驟，係可以在將背面層與黏著層貼合之前，亦可以在貼合之後。
在保護膜的背面，亦能夠依需求而施行表面改質處理。作為表面改質處理，例如可舉出能量線照射處理、藥品處理等。又，在保護膜的背面，亦可依需求而進行印刷。
[1.10.複層薄膜的製造：貼合]
本發明的複層薄膜，係通常能夠藉由使用以上敘述的方法等的方法個別地製造光學薄膜及保護膜，且將上述膜貼合來製造。在貼合時，通常為了使光學薄膜及保護膜的皺紋及鬆弛消失，係對光學薄膜及保護膜進行邊施加預定大小的張力邊貼合之操作。具體而言，貼合係能夠藉由將光學薄膜及保護膜，在使其長度方向一致的狀態下，以光學薄膜之正面側的面與保護膜之正面側的面接觸之方式疊合，且從光學薄膜的背面及保護膜的背面加壓來進行。加壓係用夾輥等的輥筒而連續地進行。
[2.捲繞體]
本發明的捲繞體，係將前述的長條複層薄膜捲繞成為捲物狀而成者。在將長條複層薄膜捲繞成為捲物狀時，係以複層薄膜之光學薄膜側的面為內側且保護膜側的面為外側之方式進行捲繞為佳。在本發明的捲繞體，複層薄膜的一面、與在其上被捲繞之複層薄膜的另外一面係成為接觸的狀態。亦即，在本發明的捲繞體，保護膜的背面、與光學薄膜的背面係成為接觸的狀態。在此，藉由光學薄膜的背面三維中心線平均粗糙度R1、保護膜的背面三維中心線平均粗糙度R2、光學薄膜的長度方向之拉伸彈性模數M1、及保護膜的長度方向之拉伸彈性模數M2係滿足前述式(1)~(6)的關係，能夠抑制在捲繞體產生 暴筋、捲取皺紋等的不良，而且，能夠抑制在光學薄膜表面產生不需要的凹凸形狀。
在捲繞體的捲繞次數係沒有限制，通常為40次以上，較佳為60次以上，通常為27000次以下，較佳為13000次以下。
又，捲繞體的外徑係沒有限制，通常為160mm以上，較佳為190mm以上，通常為2300mm以下，較佳為1200mm以下。
本發明的捲繞體，係能夠藉由將複層薄膜捲繞成為捲物狀來製造。在捲繞時係能夠依需求而使用適當的捲芯，藉由將複層薄膜捲繞在此捲芯來進行。
複層薄膜10的捲繞速度，係通常為5m/分鐘以上，較佳為10m/分鐘以上，通常為50m/分鐘以下，以45m/分鐘以下為佳、較佳為40m/分鐘以下。藉由將捲繞速度設為前述範圍的下限值以上，能夠提高製造效率，藉由設為上限值以下，能夠抑制空氣的捲入量。
[實施例]
以下，顯示實施例而具體地說明本發明。但是，本發明係不被以下顯示的實施例限定，在不脫離本發明的申請專利範圍及其均等的範圍之範圍，亦可任意地變更而實施。
在以下的說明，表示量之「%」及「份」，係只要未預先告知，就是重量基準。
[評價方法]
(1)薄膜的厚度之測定方法
光學薄膜的膜厚，係使用聯線紅外線膜厚計(KURABO公司製、商品名RX-200)，對搬運中的光學薄膜，從在寬度方向2mm間隔且搬運速度為10m/分鐘，於薄膜寬度方向測定至少10次以上的總測定結果(亦即，在分布寬度方向之10點以上的測定點所測得的總測定結果)之平均值來算出。
(2)薄膜的拉伸彈性模數的測定方法
薄膜的拉伸彈性模數(M1及M2)，係依據JIS K 7113且使用拉伸試驗機(INSTRON公司製、5564型數位材料試驗機)而測定。測定條件係設為拉伸速度5m/分鐘、試驗次數5次，室溫23℃、濕度50%RH。
從薄膜切取試片。試片的形狀係設作具有與薄膜的長度方向平行的長邊之矩形(寬度10mm×長邊長度250mm)。測定使此試片在長邊方向拉伸而變形時的應力。測定係依據JIS K 7113且使用附有恆溫恆溫槽的拉伸試驗機(INSTRON Japan公司製的5564型數位材料試驗機)而進行。測定條件係設為溫度23℃、濕度60±5%RH、夾頭間距離115mm、拉伸速度100mm/min。進行此種測定3次。然後，從所測定的應力及對應此應力之應變的測定數據，在試片的應變為0.6%~1.2%之範圍，每0.2%選擇4點的測定數據(亦即，應變為0.6%、0.8%、1.0%及1.2%時的測定數據)。從3次測定之4點的測定數據(合計12點)使用最小二次方法而計算薄膜的拉伸彈性模數。
(3)三維中心線平均粗糙度的測定方法
光學薄膜及保護膜之背面的三維中心線平均粗糙度Ra(R1及R2)，係使用表面粗糙度計(Mitutoyo公司製、製品名「SJ400」) 且依據JIS B 0601 1994進行測定。
(4)外觀的評價
藉由目視及觸診觀察捲起後的捲繞體之外觀，來進行評價有無捲取皺紋、暴筋等的不良。將未發現不良者評定為「良好」，且針對發現不良者，記錄發現了何種不良。
(5)凹凸形狀的評價
從複層薄膜的捲繞體，將複層薄膜拉出且將保護膜剝離之後，藉由將螢光燈的光線接觸光學薄膜而觀察反射光，且檢查光學薄膜的面上有無凹凸形狀。觀察範圍係設為全寬×1m。將未觀察到凹凸形狀時評定為無凹凸形狀轉印，將能夠觀察到1個以上的凹凸形狀時評為有轉印。
[製造例1]
在已加熱至200℃之酯化反應器，添加對酞酸86.4份及乙二醇64.6份，邊攪拌邊供給作為觸媒之三氧化銻0.017份、乙酸鎂4水合物0.064份、三乙胺0.16份。隨後，進行加壓升溫且在錶壓0.34MPa、240℃的條件下進行加壓酯化反應。隨後，使酯化反應器返回常壓，添加磷酸三甲酯0.014份。而且，以15分鐘升溫至260℃，添加磷酸三甲酯0.012份。其次，在15分鐘後，使用高壓分散機進行分散處理，進而以粒子含量作為基準而添加0.03份之數量平均粒徑2.50μm的氧化矽粒子的乙二醇漿料。此氧化矽粒子係預先調製相對於氧化矽粒子100份、鈉原子換算為0.1份之含有三聚磷酸鈉水溶液之氧化矽的乙二醇漿料，將其離心分離處理而截除35%的粗粒部，隨後，使用孔眼開度5μm的金屬過濾器進行過濾處理而得到之粒 子。在15分鐘後，將所得到的酯化反應生成物移送至聚縮合反應罐，在280℃且減壓下進行聚縮合反應，得到聚對酞酸乙二酯樹脂。
[實施例1]
(1-1.背面層薄膜)
在製造例1所得到的聚對酞酸乙二酯樹脂，添加0.05重量%之數量平均粒徑5.0μm的氧化矽粒子來調製薄膜原料。將薄膜原料供給至擠製機而進行熔融且從噴嘴擠製，且鑄塑在冷卻轉筒上而製成未延伸膜。將所得到的未延伸膜，進行使用輥延伸機在延伸溫度120℃於MD方向(薄膜的長度方向)延伸3.5倍，隨後使用擴幅式延伸機於TD方向(薄膜的寬度方向)延伸3.6倍之逐次雙軸延伸，來得到厚度30μm的背面層薄膜1。
(1-2.黏著層)
相對於使丙烯酸正丁酯97重量份與丙烯酸2-羥基乙酯3重量份共聚合而成之共聚物100重量份，添加1重量份的聚異氰酸酯作為交聯劑，且添加作為溶劑之甲苯200重量份來調製黏著劑組成物。使用刮刀式塗佈機將上述所得到的黏著劑組成物，以乾燥厚度成為20μm之方式塗佈在厚度38μm的脫模薄膜(商品名「SP-PET」、三井化學Tohcello公司製)之脫模處理面，將黏著劑組成物之層在90℃加熱乾燥1分鐘而形成黏著層，來得到具有脫模薄膜/黏著層的層構成之複層物。
(1-3.保護膜)
在(1-1)所得到的背面層薄膜之一面，將(1-2)所得到的複層物，以黏著層側的面係與背面層薄膜接觸之方式貼合，而製成 具有脫模薄膜/黏著層/背面層薄膜的層構成之保護膜(附有脫模薄膜)。針對所得到的保護膜，測定背面層薄膜側的面之三維中心線平均粗糙度R2。又，將脫模薄膜從所得到的保護膜剝離且測定長度方向的拉伸彈性模數M2。
(1-4.光學薄膜)
作為樹脂A，係準備固有雙折射值為負的樹脂之苯乙烯-順丁烯二酸酐共聚物樹脂(NOVA Chemicals Japan公司製、品名Dylark D332)。又，作為樹脂B，係準備含有橡膠粒子之甲基丙烯酸樹脂組成物(SUMIPEX HT50Y：住友化學公司製)。
將樹脂A及樹脂B供給至3種3層(使用3種類樹脂來形成由3層所構成的薄膜之型式者)之共擠製成形用的薄膜成形裝置，且從多歧管模具同時擠出成為薄膜狀。將如此共擠製成為薄膜狀後的熔融樹脂鑄塑在表面為鏡面的冷卻輥(表面的Ra=0.01μm)，其次，通過2支冷卻輥之間，而得到依照b層/a層/b層的順序具有由樹脂A所構成的a層、及由樹脂B所構成的b層之未延伸層積體c。藉由控制共擠製條件，b層/a層/b層的厚度係各自成為33μm/16μm/33μm。
將得到的未延伸層積體，在延伸溫度135℃同時雙軸延伸MD方向的延伸倍率1.8倍及TD方向的延伸倍率1.3倍，來得到厚度為35μm的光學薄膜1。
針對得到的光學薄膜1，測定背面的三維中心線平均粗糙度R1。測定所得到的光學薄膜的長度方向之拉伸彈性模數M1。
(1-5.複層薄膜及捲繞體)
又，將脫模薄膜從(1-3)所得到的保護膜(附有脫模薄膜)剝 離，將黏著層側的面與(1-4)所得到的光學薄膜之一面貼合，來得到具有保護膜及光學薄膜之複層薄膜。在貼合時，保護膜的捲出張力係設為250N，光學薄膜搬運時的張力係設為150N。貼合係使保護膜與光學薄膜的長度方向一致而進行，所得到的複層薄膜係直接捲取成為捲繞體。在所得到的捲繞體之複層薄膜係長度2000m、寬度1490mm。捲繞體的捲繞數為2089次，複層薄膜捲取時的捲取張力係為120N~140N，捲取速度係設為10m/分鐘。進行評價所得到的捲繞體之外觀、及在捲繞體中的複層薄膜之凹凸形狀。
[實施例2]
(2-1.背面層薄膜)
除了下述變更以外，係與實施例1的(1-1)同樣地操作而得到背面層薄膜2。
．使用聚丙烯樹脂(F113G：Prime polymer公司製)來代替聚對酞酸乙二酯樹脂。
．使用數量平均粒徑1.5μm的氧化矽粒子來代替數量平均粒徑5.0μm的氧化矽粒子。
．將所得到的未延伸膜，使用拉幅延伸機在延伸溫度160℃進行逐次雙軸延伸，在MD方向延伸5倍且在TD方向延伸10倍，來得到厚度30μm的背面層薄膜2。
(2-2.光學薄膜)
除了下述的變更以外，係與實施例1的(1-4)同樣地進行操作而得到光學薄膜2，且測定R1及M1。
．使用含有另外的橡膠粒子之甲基丙烯酸樹脂組成物 (SUMIPEX HT55X：住友化學公司製)來代替含有橡膠粒子之甲基丙烯酸樹脂組成物(SUMIPEX HT50Y：住友化學公司製)。
(2-3.複層薄膜及捲繞體等)
除了使用(2-1)所得到的背面層薄膜2來代替背面層薄膜1、及使用(2-2)所得到的光學薄膜2來代替光學薄膜1以外，係與實施例1的(1-2)、(1-3)及(1-5)同樣地進行操作而得到保護膜、複層薄膜、及複層薄膜的捲繞體，且進行測定及評價。
[實施例3]
(3-1.背面層薄膜)
除了下述變更以外，係與實施例1的(1-1)同樣地操作而得到背面層薄膜3。
．使用數量平均粒徑1.5μm的氧化矽粒子來代替數量平均粒徑5.0μm的氧化矽粒子。
．將逐次雙軸延伸的延伸倍率設為MD方向為3.7倍，TD方向為3.8倍。
(3-2.複層薄膜及捲繞體等)
除了使用(3-1)所得到的背面層薄膜3來代替背面層薄膜1以外，係與實施例1的(1-2)~(1-5)同樣地進行操作而得到保護膜、光學薄膜、複層薄膜、及複層薄膜的捲繞體，且進行測定及評價。
[實施例4]
(4-1．背面層薄膜)
除了下述的變更以外，係與實施例2的(2-1)同樣地進行操作來得到背面層薄膜4。
．使用數量平均粒徑10.0μm的氧化矽粒子來代替數量平均粒徑5.0μm的氧化矽粒子。
(4-2.複層薄膜及捲繞體等)
除了使用(4-1)所得到的背面層薄膜4來代替背面層薄膜1，及使用實施例2所得到的光學薄膜2來代替光學薄膜1以外，係與實施例1的(1-2)、(1-3)及(1-5)同樣地進行操作而得到保護膜、複層薄膜、及複層薄膜的捲繞體，且進行測定及評價。
[實施例5]
(5-1.背面層薄膜)
除了下述的變更以外，係與實施例1的(1-1)同樣地進行操作來得到背面層薄膜5。
．使用數量平均粒徑10.0μm的氧化矽粒子來代替數量平均粒徑5.0μm的氧化矽粒子。
(5-2.複層薄膜及捲繞體等)
除了使用(5-1)所得到的背面層薄膜5來代替背面層薄膜1以外，係與實施例1的(1-2)~(1-5)同樣地進行操作而得到保護膜、光學薄膜、複層薄膜、及複層薄膜的捲繞體，且進行測定及評價。
[實施例6]
(6-1.背面層薄膜)
除了下述的變更以外，係與實施例1的(1-1)同樣地進行操作來得到背面層薄膜12。
．使用數量平均粒徑16.0μm的氧化矽粒子來代替數量平 均粒徑5.0μm的氧化矽粒子。
(6-2.光學薄膜)
除了下述的變更以外，係與實施例1的(1-4)同樣地進行操作而得到光學薄膜5，且測定R1及M1。
．作為將共擠製成為薄膜狀之熔融樹脂鑄塑之冷卻輥，係使用表面形成有凹凸形狀之冷卻輥(表面的Ra=0.3μm)來代替表面鏡面冷卻輥。
(6-3.複層薄膜及捲繞體等)
除了使用(6-1)所得到的背面層薄膜12來代替背面層薄膜1，及使用(6-2)所得到的光學薄膜5來代替光學薄膜1以外，係與實施例1的(1-2)、(1-3)及(1-5)同樣地進行操作而得到保護膜、複層薄膜、及複層薄膜的捲繞體，且進行測定及評價。
[比較例]
(C1-1.光學薄膜)
除了下述的變更以外，係與實施例2的(2-2)同樣地進行操作而得到光學薄膜3，且測定R1及M1。
．作為將共擠製成為薄膜狀之熔融樹脂鑄塑之冷卻輥，係使用表面形成有凹凸形狀之冷卻輥(表面的Ra=0.3μm)來代替表面鏡面冷卻輥。
(C1-2.複層薄膜及捲繞體等)
除了使用實施例2所得到的背面層薄膜2來代替背面層薄膜1，及使用(C1-1)所得到的光學薄膜3來代替光學薄膜1以外，係與實施例1的(1-2)、(1-3)及(1-5)同樣地進行操作而得到保護膜、複層薄膜、及複層薄膜的捲繞體，且進行測定及評 價。
[比較例2]
(C2-1.背面層薄膜)
除了下述變更以外，係與實施例2的(2-1)同樣地操作而得到背面層薄膜6。
．將逐次雙軸延伸的延伸倍率設為MD方向為3倍，TD方向為4倍。
(C2-2.複層薄膜及捲繞體等)
除了使用(C2-1)所得到的背面層薄膜6來代替背面層薄膜1，及使用實施例2所得到的光學薄膜2來代替光學薄膜1以外，係與實施例1的(1-2)、(1-3)及(1-5)同樣地進行操作而得到保護膜、複層薄膜、及複層薄膜的捲繞體，且進行測定及評價。
[比較例3]
(C3-1.背面層薄膜)
除了下述的變更以外，係與實施例2的(2-1)同樣地進行操作來得到背面層薄膜7。
．使用數量平均粒徑16.0μm的氧化矽粒子來代替數量平均粒徑1.5μm的氧化矽粒子。
(C3-2.複層薄膜及捲繞體等)
除了使用(C3-1)所得到的背面層薄膜7來代替背面層薄膜1，及使用實施例2所得到的光學薄膜2來代替光學薄膜1以外，係與實施例1的(1-2)、(1-3)及(1-5)同樣地進行操作而得到保護膜、複層薄膜、及複層薄膜的捲繞體，且進行測定及評 價。
[比較例4]
(C4-1.背面層薄膜)
除了下述的變更以外，係與比較例2的(2-1)同樣地進行操作來得到背面層薄膜8。
．使用數量平均粒徑10.0μm的氧化矽粒子來代替數量平均粒徑1.5μm的氧化矽粒子。
(C4-2.複層薄膜及捲繞體等)
除了使用(C4-1)所得到的背面層薄膜8來代替背面層薄膜1，及使用實施例2所得到的光學薄膜2來代替光學薄膜1以外，係與實施例1的(1-2)、(1-3)及(1-5)同樣地進行操作而得到保護膜、複層薄膜、及複層薄膜的捲繞體，且進行測定及評價。
[比較例5]
(C5-1.背面層薄膜)
除了下述變更以外，係與實施例3的(3-1)同樣地操作而得到背面層薄膜9。
．將逐次雙軸延伸的延伸倍率設為MD方向為4.5倍，TD方向為4.2倍。
(C5-2.複層薄膜及捲繞體等)
除了使用(C5-1)所得到的背面層薄膜9來代替背面層薄膜1以外，係與實施例1的(1-2)~(1-5)同樣地進行操作而得到保護膜、光學薄膜、複層薄膜、及複層薄膜的捲繞體，且進行測定及評價。
[比較例6]
(C6-1.背面層薄膜)
除了下述的變更以外，係與實施例5的(5-1)同樣地進行操作來得到背面層薄膜10。
．使用數量平均粒徑1.5μm的氧化矽粒子來代替數量平均粒徑10.0μm的氧化矽粒子。
(C6-2.光學薄膜)
除了下述的變更以外，係與實施例1的(1-4)同樣地進行操作而得到光學薄膜4，且測定R1及M1。
．作為將共擠製成為薄膜狀之熔融樹脂鑄塑之冷卻輥，係使用表面形成有凹凸形狀之冷卻輥(表面的Ra=0.3μm)來代替表面鏡面冷卻輥。
(C6-3.複層薄膜及捲繞體等)
除了使用(C6-1)所得到的背面層薄膜10來代替背面層薄膜1，及使用(C6-2)所得到的光學薄膜4來代替光學薄膜1以外，係與實施例1的(1-2)、(1-3)及(1-5)同樣地進行操作而得到保護膜、複層薄膜、及複層薄膜的捲繞體，且進行測定及評價。
[比較例7]
(C7-1.背面層薄膜)
除了下述的變更以外，係與比較例5的(5-1)同樣地進行操作來得到背面層薄膜11。
．使用數量平均粒徑16.0μm的氧化矽粒子來代替數量平均粒徑1.5μm的氧化矽粒子。
(C7-2.複層薄膜及捲繞體等)
除了使用(C7-1)所得到的背面層薄膜11來代替背面層薄膜1以外，係與實施例1的(1-2)~(1-5)同樣地進行操作而得到保護膜、光學薄膜、複層薄膜、及複層薄膜的捲繞體，且進行測定及評價。
[比較例8]
(C8-1.光學薄膜)
除了下述的變更以外，係與實施例1的(1-4)同樣地進行操作而得到光學薄膜6，且測定R1及M1。
．作為將共擠製成為薄膜狀之熔融樹脂鑄塑之冷卻輥，係使用表面的平坦性更高的鏡面冷卻輥(表面Ra0.005μm)來代替表面Ra0.01μm的鏡面冷卻輥。
(C8-2.複層薄膜及捲繞體等)
除了使用(C8-1)所得到的光學薄膜6來代替光學薄膜1，及使用實施例3的(3-1)所得到的背面層薄膜3來代替背面層薄膜1以外，係與實施例1的(1-2)、(1-3)及(1-5)同樣地進行操作而得到保護膜、光學薄膜、複層薄膜、及複層薄膜的捲繞體，且進行測定及評價。
[比較例9]
(C9-1.光學薄膜)
除了下述的變更以外，係與實施例1的(1-4)同樣地進行操作而得到光學薄膜7，且測定R1及M1。
．作為將共擠製成為薄膜狀之熔融樹脂鑄塑之冷卻輥，係使用在表面形成有凹凸形狀之冷卻輥(表面的Ra=0.5μm)來代 替表面為鏡面的冷卻輥。
(C9-2.背面層薄膜)
除了下述的變更以外，係與實施例1的(1-1)同樣地進行操作來得到背面層薄膜13。
．使用數量平均粒徑30.0μm的氧化矽粒子來代替數量平均粒徑5.0μm的氧化矽粒子。
(C9-3.複層薄膜及捲繞體等)
除了使用(C9-1)所得到的光學薄膜7來代替光學薄膜1，及使用(C9-2)所得到的背面層薄膜13來代替背面層薄膜1以外，係與實施例1的(1-2)、(1-3)及(1-5)同樣地進行操作而得到保護膜、光學薄膜、複層薄膜、及複層薄膜的捲繞體，且進行測定及評價。
將實施例及比較例的測定及評價之結果顯示在表1~表2。
從表1及表2的結果可以清楚明白，R1、R2、M1及M2之值係滿足在本發明所規定的關係之複層薄膜，在成為捲繞體時之外觀無法觀察到不良，而且，無法觀察到凹凸形狀轉印至光學薄膜的面上。
相對於此，保護膜背面的三維中心線平均粗糙度R2對光學薄膜背面的三維中心線平均粗糙度R1之比例係比本發明所規定的範圍更大時(比較例3及7)，保護膜的長度方向之拉伸彈性模數M2對光學薄膜的長度方向之拉伸彈性模數M1之比例係比本發明所規定的範圍更大時(比較例5及7)，以及保護膜背面的三維中心線平均粗糙度R2之比例係在本發明規定的範圍外時)(比較例9)，係能夠觀察到凹凸形狀轉印至光學薄膜的面上。保護膜背面的三維中心線平均粗糙度R2對光學薄膜背面的三維中心線平均粗糙度R1之比例係比比本發明所規定 的範圍更小時(比較例1及6)，及光學薄膜背面的三維中心線平均粗糙度R1係在本發明規定的範圍外時(比較例8)，係產生暴筋而捲繞體外觀變差。而且，保護膜的長度方向之拉伸彈性模數M2對光學薄膜的長度方向之拉伸彈性模數M1之比例係比本發明所規定的範圍更小時(比較例2及4)，係產生捲取皺紋而捲繞體外觀變差。

Claims (9)

  1. 一種長條複層薄膜，係具備長條光學薄膜、及能夠從前述長條光學薄膜剝離的長條保護膜之長條複層薄膜，前述光學薄膜之與前述保護膜側的面為相反側的面之三維中心線平均粗糙度R1、前述保護膜之與前述光學薄膜側的面為相反側的面之三維中心線平均粗糙度R2、前述光學薄膜的長度方向之拉伸彈性模數M1、及前述保護膜的長度方向之拉伸彈性模數M2為滿足下述式(1)~(6)的關係：0.01μm≦R1≦0.05μm (1)；0.01μm≦R2≦0.2μm (2)；1,500MPa≦M1≦3,000MPa (3)；2,500MPa≦M2≦6,000MPa (4)；1.0≦R2/R1≦5.0 (5)；1.0≦M2/M1≦3.0 (6)。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之長條複層薄膜，其中前述光學薄膜的厚度為15~50μm。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之長條複層薄膜，其中前述光學薄膜係具有b層/a層/b層的層構成之多層薄膜，前述a層係由含有聚苯乙烯系聚合物的樹脂所構成之層，前述b層係由含有聚甲基甲基丙烯酸酯聚合物的樹脂所構成之層。
  4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之長條複層薄膜，其中前述保護膜係具備：黏著層，其係黏著在前述光學薄膜；及背面層，其係位於在該黏著層之與前述光學薄膜為相反側且與前述光學薄膜為不黏著。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之長條複層薄膜，其中前述背面層係由含有聚合物的樹脂所構成之層，前述樹脂係含有粒子。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之長條複層薄膜，其中形成前述背面層之前述樹脂總量中的前述粒子之比率，係0.05重量%以上且1.0重量%以下。
  7. 如申請專利範圍第5項所述之長條複層薄膜，其中前述粒子的粒徑為0.01~10μm。
  8. 如申請專利範圍第4項所述之長條複層薄膜，其中前述背面層的厚度之與前述黏著層的厚度之比(黏著層/背面層)為1/40以上且1/1以下。
  9. 一種捲繞體，係將如申請專利範圍第1項所述之長條複層薄膜捲繞成為捲物狀而成。
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