TWI645098B - Sanitary cleaning device - Google Patents

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古藤義博
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Abstract

本發明提供一種衛生清洗裝置，即使在水從調壓閥流出的情況下，也可降低對其他零件的影響。具體而言，衛生清洗裝置具備：噴嘴，從吐水口朝向人體的局部吐出水；電磁閥，設置於供水源和前述噴嘴之間的水路上，對前述水路進行開閉；及調壓閥，設置於前述電磁閥和前述噴嘴之間的前述水路上，用來調整在前述水路中流動的水的壓力，且前述調壓閥的至少一部分被配置在將前述電磁閥從上方朝向下方投影的範圍內。

Description

衛生清洗裝置
本發明的形態通常是關於衛生清洗裝置。
有一種從自來水管等供水源接受水的供給，從噴嘴朝向人體局部進行吐水的衛生清洗裝置。在該衛生清洗裝置中，例如如專利文獻1所公開的那樣，為了調整從供水源至噴嘴為止的水路的水壓而設置有調壓閥。
專利文獻1：日本特開2001-98622號公報
以往，調壓閥被配置在電磁閥的上方。電磁閥被設計及製造為，在一般的使用中不會損壞。另一方面，因伴隨使用的劣化等，調壓閥在一般的使用中也存在有損壞的可能性。當調壓閥損壞時，水就會流出到調壓閥之外。在現有的配置中，存在有下述可能性，即，從調壓閥流出的水與下方的電磁閥相碰而飛濺，並附著在衛生清洗裝置內的其他零件上，從而給零件的工作帶來影響。
本發明是基於對這樣的課題的認識而完成的，其目的在於提供一種衛生清洗裝置，即使在調壓閥損壞以致水流出的情況下，也能夠降低流出的水對其他零件的影響。
第1發明為一種衛生清洗裝置，其具備：噴嘴，朝向人體的局部吐出水；電磁閥，設置於供水源和前述噴嘴之間的水路上，對前述水路進行開閉；及調壓閥，設置於前述電磁閥和前述噴嘴之間的前述水路上，用來調整在前述水路中流動的水的壓力，且前述調壓閥的至少一部分被配置在將前述電磁閥從上方朝向下方投影的範圍內。
因此，根據該衛生清洗裝置，即使在調壓閥損壞以致水從調壓閥流出的情況下，水也不容易濺到電磁閥。因此，即使在調壓閥損壞的情況下，也能夠抑制水向衛生清洗裝置內的其他零件飛濺。
第2發明的衛生清洗裝置是在第1發明中，還具備可載放前述噴嘴、前述電磁閥、前述調壓閥的主體底板，在前述主體底板的上面，從載放前述調壓閥的部分朝向前述馬桶形成有排水路徑。
根據該衛生清洗裝置，從調壓閥流出的水被有效地排出到主體底板之外，因而能夠抑制水積存在主體底板上。
第3發明的衛生清洗裝置是在第1或第2發明 中，前述調壓閥的閥體在水平方向可動。
根據該衛生清洗裝置，由於能夠抑制將調壓閥設置於電磁閥下方時的電磁閥及調壓閥的高度的增加，因此能夠抑制衛生清洗裝置的高度的增加。此外，在對電磁閥及調壓閥進行單元化時，可以使該單元小型化。
第4發明的衛生清洗裝置是在第3發明中，前述調壓閥具備根據在前述調壓閥中流動的水的壓力而進行位移的隔片，在前述調壓閥上，在前述隔片的大氣側形成有排水孔，且前述排水孔朝向下方。
根據該衛生清洗裝置，在調壓閥損壞以致水從調壓閥的排水孔流出到調壓閥之外時，水更進一步不容易濺到電磁閥。因而，能夠更進一步抑制水向衛生清洗裝置內的其他零件飛濺。
第5發明的衛生清洗裝置是在第3或第4發明中，水沿著鉛垂方向流入前述調壓閥，且水沿著水平方向從前述調壓閥流出。
根據該衛生清洗裝置，由於能夠抑制電磁閥、調壓閥的高度的增加，因此能夠抑制衛生清洗裝置的高度的增加。此外，在對電磁閥及調壓閥進行單元化時，可以使該單元更加小型化。
第6發明的衛生清洗裝置是在第1~第5任一項的發明中，還具備設置於前述調壓閥和前述噴嘴之間的前述水路上，在施加有規定以上的水壓時使水壓向外部釋放的安全閥，且前述安全閥的至少一部分被配置在將前述電 磁閥從上方朝向下方投影的範圍內。
根據該衛生清洗裝置，由於能夠抑制電磁閥、調壓閥、及安全閥的高度的增加，因此能夠抑制衛生清洗裝置的高度的增加。此外，在對電磁閥、調壓閥、及安全閥進行單元化時，可以使該單元小型化。
根據本發明的形態，可提供一種衛生清洗裝置，即使在水從調壓閥流出的情況下，也能夠降低對其他零件的影響。
1‧‧‧衛生清洗裝置
2‧‧‧便座
3‧‧‧便蓋
4‧‧‧殼
4a‧‧‧主體底板
4b‧‧‧罩
5‧‧‧操作部
6‧‧‧馬桶
6a‧‧‧盆
10‧‧‧配管
11‧‧‧電磁閥
12‧‧‧調壓閥
13‧‧‧安全閥
14‧‧‧換熱單元
15‧‧‧電解槽單元
16‧‧‧真空斷路器
17‧‧‧流量調整部
18‧‧‧噴嘴
18a‧‧‧吐水口
41‧‧‧彎曲部
42‧‧‧彎曲部
43‧‧‧突出部
44‧‧‧彎曲部
45‧‧‧彎曲部
121‧‧‧閥體
122‧‧‧閥座
123‧‧‧螺旋彈簧
124‧‧‧隔片
125‧‧‧密封構件
126‧‧‧排水孔
131‧‧‧流出口
132‧‧‧流出口
133‧‧‧凸緣
VU‧‧‧閥單元
WS‧‧‧供水源
第1圖是表示具備實施形態的衛生清洗裝置的沖水馬桶裝置的立體圖。
第2圖是例示出實施形態的衛生清洗裝置中的水路的方塊圖。
第3圖是表示實施形態的衛生清洗裝置的閥單元的立體圖。
第4圖是表示實施形態的衛生清洗裝置的閥單元及主體底板的俯視圖。
第5圖是第4圖的A-A’線的剖視圖。
以下，參照附圖對本發明的實施形態進行說明。另外，對各附圖中相同的構成要素標註相同的符號並適當省略詳細的說明。
第1圖是表示具備實施形態的衛生清洗裝置的沖水馬桶裝置的立體圖。
如第1圖所示，沖水馬桶裝置具備洋式坐式馬桶(以下為了便於說明，只稱為“馬桶”)6、設置於其上的衛生清洗裝置1。衛生清洗裝置1具有便座2、便蓋3、殼4。便座2和便蓋3分別被開閉自如地軸支撐於殼4。
雖然在以下的實施形態的說明中，使用有“上方”、“下方”、“前方”、“後方”、“右側方”及“左側方”，但如第1圖所示，這些方向是從坐在便座2上的使用者所觀察的方向。
殼4由載放於馬桶後方的上面的主體底板4a、覆蓋主體底板4a的罩4b構成。另外，在第1圖所示的例子中，由於主體底板4a被罩4b覆蓋而隱藏，因此用虛線來表示主體底板4a。
在殼4內部，內置有對坐在便座2上的使用者的“臀部”等進行清洗的噴嘴18。此外，在殼4上，例如設置有用來檢測使用者進入廁所的入室檢測感測器、檢測處於便座2前方的使用者的人體檢測感測器、檢測使用者就座於便座2的就座檢測感測器等。
使用者透過操作遙控器等操作部5，能夠使噴嘴18進入到馬桶6的盆6a內，或是從盆6a內後退。另外， 在第1圖所表示的衛生清洗裝置1中，表示有噴嘴18進入到盆6a內的狀態。在噴嘴18的頂端部上設置有吐水口18a。噴嘴18從吐水口18a噴射水或溫水，從而能夠對坐在便座2上的使用者的“臀部”等進行清洗。
此外，在殼4上，也可以適當設置對便座2進行加熱的“便座加熱器”、朝向坐在便座2上的使用者的“臀部”等吹出暖風來使其乾燥的“暖風乾燥功能”、“除臭單元”、“室內供暖單元”等。
接下來，參照第2圖對衛生清洗裝置1中的水的流動進行說明。
第2圖是例示出實施形態的衛生清洗裝置的水路的方塊圖。
衛生清洗裝置1的水路與自來水管、貯水箱等供水源WS連接。如第2圖所示，在供水源WS和噴嘴18之間的水路上，從供水源WS側朝向噴嘴18設置有：具備電磁閥11、調壓閥12及安全閥13的閥單元VU；換熱單元14；電解槽單元15；真空斷路器16；及流量調整部17。
電磁閥11透過對水路進行開閉來切換朝向下游側供水的狀態、以及停止供水的狀態。調壓閥12以從上游側供給的水的壓力在下游側成為規定的壓力的方式進行調整。當流動的水的壓力變得比規定值更高時，安全閥13將設置於內部的閥體打開。由此，水被排出到安全閥13之外，從而使水壓向外部釋放。換熱單元14具有加熱器，對供給到換熱單元14的水進行加熱來生成溫水。
電解槽單元15例如透過對在內部流動的自來水進行電解，從自來水生成包含次氯酸的液體(功能水)。當真空斷路器16中的水的流動停止時，真空斷路器16則開放進氣口以便將空氣放入水路內，促進比真空斷路器16更靠下游側的排水。流量調整部17進行水勢(流量)的調整。由此，調整從噴嘴18吐出的水的水勢。
另外，第2圖所示的水路為一個例子。對於設置於閥單元VU和噴嘴18之間的構成要素，根據衛生清洗裝置1所具備的功能等可適當進行變更。
接下來，參照第3圖~第5圖對具備電磁閥11、調壓閥12、及安全閥13的閥單元VU進行具體的說明。
第3圖是表示實施形態的衛生清洗裝置的閥單元的立體圖。
第4圖是表示實施形態的衛生清洗裝置的閥單元及主體底板的俯視圖。
第5圖是第4圖的A-A’線的剖視圖。
首先，對閥單元VU中的水的流動進行說明。
在閥單元VU和供水源WS之間，連接有具備濾網、止回閥等的配管10。如第3圖箭頭A1所示，從供水源WS供給的水流動到配管10內。在配管10內流動的水經過閥單元VU的電磁閥11，如第5圖的箭頭A2所示，流動到調壓閥12。其後，如箭頭A3所示，調壓後的水流動到安全閥13。如第3圖箭頭A4所示，流動到安全閥13的水從流出口131流 出，並朝向換熱單元14流動。當安全閥13上施加有規定以上的壓力，而安全閥13閥體被開放時，則如箭頭A5所示，水從流出口132流出。例如，在流出口132上連接有未圖示的管等，將從流出口132流出的水引導並丟棄到馬桶6的盆6a。
接下來，對閥單元VU的結構進行說明。
如第4圖所示，閥單元VU被載放在主體底板4a上。此外，如第5圖所示，調壓閥12具備閥體121、閥座122、螺旋彈簧123、隔片124、及密封構件125。
閥體121構成為在水平方向(例如前後方向)可動。閥座122構成為，在閥體121朝水平方向移動時得以與閥體121的外周部抵接。隔片124具有可撓性，並與閥體121連結。隔片124的內面面向水路，外面則面向大氣空間。隔片124藉由螺旋彈簧123從外面側朝向內面側被施力。根據流入側的水壓，隔片124進行位移，透過改變閥體121和閥座122的間隙來調整流出側的水壓。
在隔片124的空氣側，例如形成有由孔126a及孔126b構成的排水孔126。孔126a沿著水平方向形成。孔126b沿著垂直方向形成，並連通孔126a和調壓閥12的外側的空間。在安全閥13的凸緣133和調壓閥12的主體之間，設置有密封構件125，以免流入側的水直接流動到安全閥13。
接下來，對閥單元VU中的各構成要素的位置關係進行說明。
如第3圖及第5圖所示，電磁閥11被配置在配管10的一部分之上。而且，調壓閥12的至少一部分及安全閥13的至少一部分被配置在電磁閥11正下方。即，調壓閥12的至少一部分及安全閥13的至少一部分被配置在將電磁閥11從上方朝向下方投影的範圍內。調壓閥12和安全閥13在水平方向(例如前後方向)上並列配置。
雖然如上所述，隔片124是根據流入側的水壓來進行位移的構件，但存在有因經時劣化或瞬間施加較大的水壓等而導致損壞的可能性。在隔片124損壞時，漏出到大氣側的水經過孔126a及孔126b流出到調壓閥12之外。
在本實施形態的衛生清洗裝置1的閥單元VU中，調壓閥12的至少一部分被配置在將電磁閥11從上方朝向下方投影的範圍內。因此，即使在隔片124損壞以致水從調壓閥12流出的情況下，水也不會濺到電磁閥11而流動到主體底板4a上。因此，即使在調壓閥12損壞的情況下，也能夠抑制水向衛生清洗裝置1內的其他構件飛濺，因而降低了因水的附著而發生其他構件的故障等的可能性。
此外，透過將安全閥13的至少一部分配置在將電磁閥11從上方朝向下方投影的範圍內，可抑制電磁閥11、調壓閥12及安全閥13的高度的增加，其結果能夠抑制衛生清洗裝置1的高度的增加。此外，可減小將電磁閥11、調壓閥12及安全閥13單元化後的閥單元VU在主體底板4a上所占的面積，因而可以使閥單元VU小型化。
較佳為如第5圖所示，排水孔126朝向下方。 即，較佳為連接調壓閥12的內側空間(隔片124的空氣側)和外側空間的孔，其面向外側空間的開口朝向下方。根據這樣的構成，在調壓閥12損壞以致水流出到調壓閥12之外時，水變得更進一步不容易濺到電磁閥11。因而，能夠更加抑制水向衛生清洗裝置1內的其他構件飛濺。
此外，如第5圖所示，在主體底板4a上形成有在排水孔126的後方朝向上方彎曲的彎曲部41、在排水孔126的前方朝向下方彎曲的彎曲部42。因此，從排水孔126流出到調壓閥12之外的水在主體底板4a的上面朝向彎曲部42流動。在彎曲部42前方，還形成有突出部43，從彎曲部42流下來的水被突出部43截住。
而且，彎曲部42與第4圖所示的彎曲部44及彎曲部45連接而設置。此外，在主體底板4a的上面形成有坡度，以便水從後方朝向前方，且從左側方及右側方朝向中央流動。因此，如第4圖箭頭A6所示，流動到彎曲部42和突出部43之間的水在突出部43與彎曲部44及彎曲部45之間流動，並且被排出到殼4之外並丟棄到盆6a。
即，在主體底板4a的上面，形成有用於將從調壓閥12的排水孔126流出的水引導到馬桶6的排水路徑。根據這樣的結構，從排水孔126流出的水被有效地排出到主體底板4a之外，從而能夠抑制水積存在主體底板4a上。
另外，雖然在第3圖及第4圖中，表示有由突出部43、彎曲部42、44及45形成排水路徑的例子，但只要能夠將水從載放調壓閥12的地方引導到殼4之外，則排水 路徑的形態不局限於此。例如也可以在主體底板4a的上面形成凹槽，以便將水從載放調壓閥12的地方引導到殼4之外。
較佳為調壓閥12的閥體在水平方向(例如前後方向)上可動。在閥體的可動方向上，除閥體121可動所需的空間以外，還需要用於使隔片124位移的空間。因此，通常，調壓閥12其閥體121的可動方向上的尺寸比垂直於閥體121的可動方向的方向上的尺寸更長。透過使調壓閥12的閥體121的可動方向成為水平方向，即使在將電磁閥11設置於調壓閥12正上方的情況下，也能夠更進一步抑制電磁閥11及調壓閥12的高度的增加，其結果能夠抑制衛生清洗裝置1的高度的增加。此外，可抑制閥單元VU的高度的增加，從而使閥單元VU更加小型化。
此外，較佳為在調壓閥12中，水沿著垂直於閥體121的可動方向的鉛垂方向流入，且水沿著水平方向流出。這是由於以下的原因。
在本實施形態的衛生清洗裝置1中，調壓閥12的至少一部分被設置在電磁閥11的正下方。因此，在使水沿著水平方向流入調壓閥12時，與水從電磁閥11朝向調壓閥12而向正下方(鉛垂方向)流入的情況相比，用於使水從電磁閥11流向調壓閥12的配管、軟管等的長度變得更長。
此外，安全閥13與調壓閥12在水平方向(例如前後方向)上並列。因此，在使水沿著鉛垂方向從調壓閥12流出時，與使水從調壓閥12朝向安全閥13而朝水平方向(前 方)流出的情況相比，用於使水從調壓閥12流向安全閥13的配管、軟管等的長度變得更長。
即，透過使水沿著鉛垂方向流入調壓閥12，並使水沿著水平方向從調壓閥12流出，可更進一步抑制電磁閥11及調壓閥12的高度的增加，其結果能夠抑制衛生清洗裝置1的高度的增加。此外，可以使閥單元VU更加小型化。
以上，對本發明的實施形態進行了說明。然而，本發明並不局限於這些記述。對於前述的實施形態，只要具備本發明的特徵，則本領域技術人員加以適當設計變更的產物也都包含在本發明的範圍內。例如，電磁閥11、調壓閥12、安全閥13等所具備的各要素的形狀、尺寸、材質、配置、設置形態等並不局限於所例示的內容，而可以適當進行變更。
另外，只要在技術上可行，可以對前述的各實施形態所具備的各要素進行組合，但只要包含本發明的特徵，則這些要素組合後的產物也都包含在本發明的範圍內。

Claims (5)

  1. 一種衛生清洗裝置，具備：噴嘴，朝向人體的局部吐出水；電磁閥，設置於供水源和前述噴嘴之間的水路上，對前述水路進行開閉；及調壓閥，設置於前述電磁閥和前述噴嘴之間的前述水路上，用來調整在前述水路中流動的水的壓力，前述調壓閥的至少一部分被配置在將前述電磁閥從上方朝向下方投影的範圍內，前述調壓閥具備根據在前述調壓閥中流動的水的壓力而進行位移的隔片，在前述調壓閥上，在前述隔片的大氣側形成有排水孔，前述排水孔朝向下方。
  2. 如申請專利範圍第1項的衛生清洗裝置，其中，還具備可載放前述噴嘴、前述電磁閥、前述調壓閥的主體底板，在前述主體底板的上面，從載放前述調壓閥的部分朝向前述馬桶形成有排水路徑。
  3. 如申請專利範圍第1或2項的衛生清洗裝置，其中，前述調壓閥的閥體在水平方向可動。
  4. 如申請專利範圍第3項的衛生清洗裝置，其中，水沿著鉛垂方向流入前述調壓閥，且水沿著水平方向從前述調壓閥流出。
  5. 如申請專利範圍第1或2項的衛生清洗裝置，其中，還具備設置於前述調壓閥和前述噴嘴之間的前述水路上，在施加有規定以上的水壓時使水壓向外部釋放的安全閥，且前述安全閥的至少一部分被配置在將前述電磁閥從上方朝向下方投影的範圍內。
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