TWI630242B - 積層體及具有其的彩色濾光片、其製造方法以及彩色濾光片的應用 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種積層體、彩色濾光片及其製造方法、以及彩色濾光片的應用，上述積層體的著色層的著色劑濃度高，並且即便放置於高溫高濕下，亦不易引起著色層表面的膜面粗糙。本發明的積層體是於使著色硬化性組成物硬化而成的著色層上形成氧阻斷膜而成，上述著色硬化性組成物含有著色劑、熱硬化性化合物及溶劑，並且相對於著色硬化性組成物的總固體成分，著色劑的合計含量為50質量%~90質量%。

Description

積層體及具有其的彩色濾光片、其製造方法以及彩色濾光片的應用

本發明是有關於一種積層體、彩色濾光片、彩色濾光片的製造方法、液晶顯示裝置、有機電致發光元件及固體攝影元件。

彩色濾光片為固體攝影元件或液晶顯示裝置的顯示器中不可缺少的構成零件。為了形成此種彩色濾光片，一直採用著色硬化性組成物(例如日本專利特開2011-248197號公報及日本專利特開2009-251563號公報)。

另一方面，彩色濾光片亦要求薄膜化。

為了製作即便將彩色濾光片加以薄膜化亦具有優異的分光特性的彩色抗蝕劑(color resist)，考慮到提高著色層中的著色劑的濃度。然而，根據本發明者進行研究的結果得知，若提高著色劑的濃度，則於將所形成的著色層放置於高溫高濕下時，容易產生著色層表面的膜面粗糙。若產生膜面粗糙，則會引起元件感度及色彩再現性的降低。

本發明的課題在於解決上述問題，且其目的在於提供一種彩色濾光片，該彩色濾光片的著色層的著色劑濃度高，並且即便放置於高溫高濕下，亦不易引起著色層表面的膜面粗糙。

根據上述狀況，本發明者進行了努力研究，結果發現，藉由在著色層上形成氧阻斷膜，即便著色劑的濃度高亦可於高溫高濕下抑制著色層表面的膜面粗糙，從而完成了本發明。

具體而言，藉由以下的解決手段<1>、較佳為<2>~<13>來解決了上述課題。

<1>一種積層體，其是於使著色硬化性組成物硬化而成的著色層上形成氧阻斷膜而成，上述著色硬化性組成物含有著色劑、熱硬化性化合物及溶劑，並且相對於上述著色硬化性組成物的總固體成分，上述著色劑的合計含量為50質量%~90質量%。

<2>如<1>所記載的積層體，其中上述著色劑含有下述通式(1)所表示的鹵化酞青染料，

通式(1)

(通式(1)中，Z¹~Z¹⁶分別為氫原子或取代基，取代基的至少一個為鹵素原子，取代基的至少另一個為含有芳香族基的基團；M表示2個氫原子、金屬原子、金屬氧化物或金屬鹵化物)。

<3>如<1>或<2>所記載的積層體，其中上述熱硬化性化合物為環氧化合物。

<4>如<1>至<3>中任一項所記載的積層體，其中上述著色劑更含有黃色色素。

<5>如<1>至<4>中任一項所記載的積層體，其中相對於上述著色硬化性組成物的總固體成分，上述著色劑的合計含量為6o質量%~90質量%。

<6>如<1>至<5>中任一項所記載的積層體，其中上述著色層的厚度為0.1μm~1.0μm。

<7>如<1>至<6>中任一項所記載的積層體，其中上述氧阻斷膜與上述著色層鄰接。

<8>如<1>至<7>中任一項所記載的積層體，其中上述氧阻斷膜的厚度為10μm以下。

<9>如<1>至<8>中任一項所記載的積層體，其中上述氧阻斷膜含有無機材料。

<10>一種彩色濾光片，具有如<1>至<9>中任一項所記載的積層體。

<11>一種彩色濾光片的製造方法，包括以下步驟：使著色硬化性組成物硬化而形成著色層的步驟，上述著色硬化性組成物含有著色劑、熱硬化性化合物及溶劑，並且相對於上述著色硬化性組成物的總固體成分，上述著色劑的合計含量為50質量%~90質量%；於上述著色層上形成光阻層的步驟；藉由曝光及顯影將上述光阻層圖案化，獲得抗蝕劑圖案的步驟；將上述抗蝕劑圖案作為蝕刻遮罩來對上述著色層進行乾式蝕刻的步驟；以及於上述乾式蝕刻後的著色層上形成氧阻斷膜的步驟。

<12>如<11>所記載的彩色濾光片的製造方法，其中藉由濺鍍來形成上述氧阻斷膜。

<13>一種液晶顯示裝置、有機電致發光元件或固體攝影元件，具有如<10>所記載的彩色濾光片、或藉由如<11>或<12>所記載的彩色濾光片的製造方法所製作的彩色濾光片。

根據本發明，可提供一種彩色濾光片，該彩色濾光片的著色層的著色劑濃度高，並且即便放置於高溫高濕下，亦不易引 起著色層表面的膜面粗糙。

10‧‧‧固體攝影元件

11‧‧‧第1著色層

12‧‧‧第1著色圖案

13、100‧‧‧彩色濾光片

14‧‧‧平坦化膜

15‧‧‧微透鏡

20B‧‧‧藍色畫素(第3色畫素)

20G‧‧‧綠色畫素(第1色畫素)

20R‧‧‧紅色畫素(第2色畫素)

21‧‧‧第2著色感放射線性層

21A‧‧‧與第1貫通孔部分組群121對應的位置

22‧‧‧第2著色圖案

22R‧‧‧設於第2貫通孔部分組群122的各貫通孔的內部的多個第2著色畫素

31‧‧‧第3著色感放射線性層

31A‧‧‧與第2貫通孔部分組群122對應的位置

32‧‧‧第3著色圖案

41‧‧‧P阱

42‧‧‧受光元件(光二極體)

43‧‧‧雜質擴散層

44‧‧‧電極

45‧‧‧配線層

46‧‧‧BPSG膜

47‧‧‧絕緣膜

48‧‧‧P-SiN膜

49‧‧‧平坦化膜層

51‧‧‧光阻層

51A‧‧‧抗蝕劑貫通孔

52‧‧‧抗蝕劑圖案(經圖案化的光阻層)

60‧‧‧著色層

61‧‧‧氧阻斷膜

120‧‧‧貫通孔組群

121‧‧‧第1貫通孔部分組群

122‧‧‧第2貫通孔部分組群

圖1為表示彩色濾光片及固體攝影元件的構成例的概略剖面圖。

圖2為第1著色層的概略剖面圖。

圖3為表示在第1著色層上形成有光阻層的狀態的概略剖面圖。

圖4為表示在第1著色層上形成有抗蝕劑圖案的狀態的概略剖面圖。

圖5為表示藉由蝕刻而於第1著色層中設有貫通孔組群，由此形成有第1著色圖案的狀態的概略剖面圖。

圖6為表示去除了圖5中的抗蝕劑圖案的狀態的概略剖面圖。

圖7為表示形成有第2著色圖案及第2著色感放射線性層的狀態的概略剖面圖。

圖8為表示去除了圖7中的第2著色感放射線性層、及構成第2著色圖案的第2著色畫素的一部分的狀態的概略剖面圖。

圖9為表示形成有第3著色圖案及第3著色感放射線性層的狀態的概略剖面圖。

圖10為表示去除了圖9中的第3著色感放射線性層的狀態的概略剖面圖。

圖11為表示本發明的彩色濾光片的一例的概略剖面圖。

以下，對本發明的內容加以詳細說明。另外，於本說明書中，「~」是以包含其前後所記載的數值作為下限值及上限值的含意來使用。

另外，本說明書中的基團(原子團)的表述中，未記載經取代及未經取代的表述包含不具有取代基者，並且亦包含具有取代基者。例如所謂「烷基」，不僅包含不具有取代基的烷基(未經取代的烷基)，亦包含具有取代基的烷基(經取代的烷基)。

另外，於本說明書中，“(甲基)丙烯酸酯”表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯，“(甲基)丙烯酸”表示丙烯酸及甲基丙烯酸，“(甲基)丙烯醯基”表示丙烯醯基及甲基丙烯醯基。

本發明中所謂「著色層」，是指彩色濾光片中所用的畫素。

本發明中所謂染料，是指可溶於特定的有機溶劑中的色素化合物。此處，所謂特定的有機溶劑，例如可列舉後述至少溶解染料及熱硬化性化合物的溶劑一欄中例示的有機溶劑。因此，溶解於該些至少一種有機溶劑中的色素化合物相當於本發明中的染料。

以下，對本發明的積層體、彩色濾光片及其製造方法、固體攝影元件、液晶顯示裝置以及有機電致發光元件加以詳述。以下所記載的構成要件的說明有時是根據本發明的具代表性的實施方式來進行，但本發明不限定於此種實施方式。

[積層體]

本發明的積層體是於使著色硬化性組成物硬化而成的著色層上形成氧阻斷膜而成。

<著色硬化性組成物>

本發明中所用的著色硬化性組成物含有著色劑、熱硬化性化合物及溶劑，並且相對於著色硬化性組成物的總固體成分，著色劑的合計含量為50質量%~90質量%。

<著色劑>

著色劑並無特別限制，例如可使用含有染料或顏料的色素，尤佳為必需染料。於本發明中，相對於著色硬化性組成物的總固體成分，著色劑的合計量較佳為60質量%~85質量%，更佳為70質量%~80質量%。

(染料)

染料並無特別限制，可使用先前作為彩色濾光片用而公知的染料。例如可使用：吡唑偶氮系、苯胺基偶氮系、三苯基甲烷系、蒽醌系、蒽吡啶酮系、亞苄基系、氧喏(oxonol)系、吡唑并三唑偶氮系、吡啶酮偶氮系、花青系、吩噻嗪系、吡咯并吡唑偶氮次甲基系、二苯并哌喃(xanthene)系、酞青系、苯并吡喃系、靛藍(indigo)系、吡咯亞甲基(pyrromethene)系、次甲基系等的染料。另外，亦可使用該些染料的多聚物。

另外，於進行水或鹼顯影的情形時，就藉由顯影將光未照射部的黏合劑及/或染料完全去除的觀點而言，有時可較佳地使 用酸性染料及/或其衍生物。

除此以外，亦可有用地使用直接染料、鹼性染料、媒染 染料、酸性媒染染料、冰染染料(azoic dyes)、分散染料、油溶染料、食品染料及/或該些染料的衍生物等。

另外，染料例如可使用以下公報中記載的色素：日本專 利特開2012-181512號公報、日本專利特開昭64-90403號公報、日本專利特開昭64-91102號公報、日本專利特開平1-94301號公報、日本專利特開平6-11614號公報、日本專利第2592207號公報、日本專利特開平5-333207號公報、日本專利特開平6-35183號公報、日本專利特開平6-51115號公報、日本專利特開平6-194828號公報、日本專利特開平8-211599號公報、日本專利特開平4-249549號公報、日本專利特開平10-123316號公報、日本專利特開平11-302283號公報、日本專利特開平7-286107號公報、日本專利特開2001-4823號公報、日本專利特開平8-15522號公報、日本專利特開平8-29771號公報、日本專利特開平8-146215號公報、日本專利特開平11-343437號公報、日本專利特開平8-62416號公報、日本專利特開2002-14220號公報、日本專利特開2002-14221號公報、日本專利特開2002-14222號公報、日本專利特開2002-14223號公報、日本專利特開平8-302224號公報、日本專利特開平8-73758號公報、日本專利特開平8-179120號公報、日本專利特開平8-151531號公報等。

該些染料中，尤佳為具有酞青結構的酞青染料、特別是 鹵化酞青染料。鹵化酞青染料為具有酞青骨架、且含有一個以上的鹵素原子作為其取代基的化合物。於本發明中，較佳為於一分子中具有5個~15個鹵素原子，更佳為於一分子中具有6個~14個鹵素原子。鹵素原子可例示氯原子、氟原子、溴原子、碘原子等，較佳為氯原子、氟原子或溴原子，更佳為氯原子或氟原子，進而佳為氯原子。

本發明中所用的鹵化酞青染料通常為於600nm~800 nm的範圍內具有最大吸收波長、較佳為於630nm~750nm的範圍內具有最大吸收波長的化合物。

本發明中所用的鹵化酞青染料較佳為下述通式(1)所 表示的化合物。

(通式(1)中，Z¹~Z¹⁶分別為氫原子或取代基，取代基的 至少一個為鹵素原子，取代基的至少另一個為含有芳香族基的基團；M表示2個氫原子、金屬原子、金屬氧化物或金屬鹵化物。)

此處，通式(1)中的Z¹、Z⁴、Z⁵、Z⁸、Z⁹、Z¹²、Z¹³及Z¹⁶表示取代於酞青核的8處α位上的取代基，因此將該些取代基亦稱為α位取代基。另外，同樣地，通式(1)中的Z²、Z³、Z⁶、Z⁷、Z¹⁰、Z¹¹、Z¹⁴及Z¹⁵表示取代於酞青核的8處β位上的取代基，因此將該些取代基亦稱為β位取代基。

Z¹~Z¹⁶分別為氫原子或取代基，取代基的至少一個為鹵素原子，取代基的至少另一個為含有芳香族基的基團。較佳為於一分子中具有5個~15個鹵素原子，更佳為於一分子中具有6個~14個鹵素原子。鹵素原子可例示氯原子、氟原子、溴原子、碘原子等，較佳為氯原子、氟原子或溴原子，更佳為氯原子或氟原子，進而佳為氯原子。含有芳香族基的基團(較佳為後述通式(1-2)所表示的基團)中的芳香族基較佳為苯環基或萘環基，更佳為苯環基。含有芳香族基的基團的個數於一分子中較佳為1個~11個，更佳為1個~10個，進而佳為2個~7個。另外，Z¹~Z¹⁶亦較佳為鹵素原子以外的取代基全部為含有芳香族基的基團的態樣。

作為取代基只要酞青化合物不喪失作為染料的功能，則並無特別限定，可例示後述取代基T。

於通式(1)中，較佳為Z¹~Z¹⁶中1個~8個表示由下述通式(1-2)所表示的基團或由通式(1-4)所表示的基團，且至 少一個為由通式(1-2)所表示的基團，更佳為Z¹~Z¹⁶中2個~6個為由通式(1-2)所表示的基團或由通式(1-4)所表示的基團，且至少一個為由通式(1-2)所表示的基團。

通式(1-2)-X-A ¹

(通式(1-2)中，X為氧原子或硫原子，A¹為可具有取代基的苯基或可具有取代基的萘基。)

(通式(1-4)中，R'表示碳數1~3的伸烷基，R"表示碳數1~8的烷基。n1表示0~4的整數。)

通式(1-2)中，X為氧原子或硫原子，較佳為氧原子。若X為氧原子，則可使所得的酞青化合物的最大吸收波長向短波長側偏移。

A¹為可具有取代基的苯基或可具有取代基的萘基，較佳為具有1個~5個取代基的苯基或具有1個~7個取代基的萘基，更佳為具有1個~5個取代基的苯基。

通式(1-2)所表示的基團更佳為下述通式(1-1-2)所表示的基團。

通式(1-1-2)-X ¹ -A ¹¹

(通式(1-1-2)中，X¹為氧原子或硫原子，A¹¹為具有1個~5個取代基R的苯基或具有1個~7個取代基R的萘基，取代基R表示硝基、COOR¹(R¹為通式(1-3)所表示的基團或碳數1~8的烷基)、OR²(R²為碳數1~8的烷基)、鹵素原子、芳基、氰基、碳數1~8的烷基、通式(4)~通式(6)的任一個所表示的基團或者選自通式(X)中的基團。)

(通式(4)中，R⁴表示氫原子、可具有取代基的烷基、可具有取代基的芳基、可具有取代基的二烷基胺基、可具有取代基的二芳基胺基或可具有取代基的烷基芳基胺基。

通式(5)中，d表示0~2的整數，於d為0或1時，R⁵為可具有取代基的烷基或可具有取代基的芳基，於d為2時，R⁵表示可具有取代基的烷基、可具有取代基的芳基、可具有取代基的 二烷基胺基、可具有取代基的二芳基胺基、或可具有取代基烷基芳基胺基。

通式(6)中，R⁶及R⁷分別表示可具有取代基的烷基、可具有取代基的芳基、可具有取代基的烷基羰基、可具有取代基的芳基羰基、可具有取代基的烷基磺醯基、可具有取代基的芳基磺醯基。)

-(CH(R¹¹))_n1-Y¹-R¹² (X)

(通式(X)中，R¹¹表示氫原子或碳數1~8的烷基。n1表示1~3的整數。於n1為2或3的情形時，多個R¹¹可分別相同亦可不同。Y¹表示-O-、-S-、-NR¹³-(R¹³表示氫原子或碳數1~4的烷基)、-SO₂-或-C(=O)-。R¹²表示一價取代基。)

通式(1-1-2)中，X¹為氧原子或硫原子，較佳為氧原子。若X¹為氧原子，則可使所得的酞青化合物的最大吸收波長向短波長側偏移。

A¹¹為具有1個~5個取代基的苯基或具有1個~7個取代基的萘基，更佳為具有1個~5個取代基的苯基。

苯基的取代基數為1~5的整數，就克吸光係數(每克的吸光度)的觀點而言，更佳為表示1~3的整數，於取代基為鹵素原子的情形時，取代基數較佳為1~5的整數的任一個。萘基的取代基數為1~7的整數，就克吸光係數的觀點而言，較佳為1~5的整數，更佳為1~3的整數，進而佳為1或2。

萘基與X¹的鍵結位置並無特別限定，可為下述1位(1-萘基)或2位(2-萘基)的任一個。

同樣地，另外取代基於萘環上的鍵結位置亦無特別限制。例如，於萘基與X¹的鍵結位置為1位(1-萘基)的情形時，取代基於萘環上的鍵結位置可為2位、3位、4位、5位、6位、7位或8位的任一個，若考慮到耐熱性或溶劑溶解性等，則較佳為2位、3位，更佳為2位。另外，於萘基與X¹的鍵結位置為2位(2-萘基)的情形時，取代基於萘環上的鍵結位置可為1位、3位、4位、5位、6位、7位或8位的任一個，較佳為3位、6位，若考慮到耐熱性或溶劑溶解性等，則更佳為3位。

苯基或萘基的取代基R為硝基、COOR¹(R¹為通式(1-3)所表示的基團或碳數1~8的烷基)、OR²(R²為碳數1~8的烷基)、鹵素原子、芳基、氰基、碳數1~8的烷基、通式(4)~通式(6)的任一個所表示的基團或者選自通式(X)中的基團。

於苯基或萘基上存在多個取代基R的情形時，多個R可相同亦可不同。

於苯基或萘基的取代基R為COOR¹的情形時，COOR¹ 中的R¹表示可經取代的碳數1~8的烷基或下述通式(1-3)所表示的基團。

(通式(1-3)中，R³表示碳數1~3的伸烷基，R⁴表示碳數1~8的烷基，n表示1~4的整數)

於R¹為碳數1~8的烷基的情形時，就溶劑溶解性的方面而言，碳數1~8的烷基較佳為碳數1~3的烷基。碳數1~8的烷基可列舉：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基、正己基、環己基、正庚基、正辛基、2-乙基己基等直鏈、分支或環狀的烷基。視情形而存在於碳數1~8的烷基中的取代基可例示碳數1~8的烷氧基、鹵素原子或芳基。

視情形而存在的作為烷基的取代基的碳數1~8的烷氧基可列舉：甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、異丁氧基、第二丁氧基、第三丁氧基、正戊氧基、正己氧基、環己氧基、正庚氧基、正辛氧基、2-乙基己氧基等直鏈、分支或環狀的烷氧基。該些基團中，較佳為碳數1~4的烷氧基。視情形而存在的作為烷基的取代基的鹵素原子可列舉：氟原子、氯原子、 溴原子及碘原子。該些鹵素原子中，較佳為氟原子或氯原子。視情形而存在的作為烷基的取代基的芳基可列舉：苯基、對甲氧基苯基、對-第三丁基苯基、對氯苯基等。該些基團中，較佳為苯基。該些取代基亦可存在多個，於存在多個的情形時，為相同種類或不同種類均可，於為相同種類的情形時，可相同亦可不同。烷基的取代基的個數並無特別限定，較佳為1個~3個，更佳為1個或2個。

於苯基或萘基的取代基R為COOR¹、且R¹為通式(1-3)所表示的基團的情形時，就對醚溶劑溶解性的效果的方面而言，通式(1-3)所表示的基團中的R³為碳數1~3的伸烷基。

碳數1~3的伸烷基可列舉：亞甲基、伸乙基、伸正丙基、伸異丙基。較佳為伸乙基、伸丙基。

另外，就分子量的觀點而言，通式(1-3)所表示的基團中的R⁴為1~8的烷基，更佳為1~4的烷基。碳數1~8的烷基可列舉上述R¹的欄中記載者。就分子量的觀點而言，通式(1-3)所表示的基團中的n為1~4的整數，較佳為1~3的整數。

於苯基或萘基的取代基R為OR²的情形時，OR²中的R²表示碳數1~8的烷基，就色素的結晶性、操作性良好的方面而言，較佳為表示碳數1~3的烷基。

R²所表示的碳數1~8的烷基可列舉與作為上述取代基R的一例的COOR¹的R¹中記載者相同的取代基，較佳範圍亦相同。

於苯基或萘基的取代基R為鹵素原子的情形時，鹵素原 子可列舉氟原子、氯原子、溴原子及碘原子，較佳為氟原子、氯原子或碘原子。其中，較佳為氯原子、氟原子，其原因在於色素的分子量變小，克吸光係數變高。

於苯基或萘基的取代基R為芳基的情形時，芳基可列舉：苯基、對甲氧基苯基、對-第三丁基苯基、對氯苯基等芳基。其中，較佳為苯基，其原因在於色素的分子量變小，克吸光係數變高。

於苯基或萘基的取代基R為烷基的情形時，碳數1~8的烷基可列舉與作為上述取代基R的一例的COOR¹的R¹中記載者相同的取代基，較佳範圍亦相同。

就色素的結晶性、操作性良好的方面而言，較佳為碳數1~3的烷基。

視情形而存在的烷基的取代基可例示鹵素原子，較佳為氟原子、氯原子、溴原子及碘原子，更佳為氟原子或氯原子。作為烷基的取代基的鹵素原子可存在多個，於存在多個的情形時可相同亦可不同。烷基的取代基的個數並無特別限定，較佳為1個~3個。

對苯基或萘基的取代基R為選自下述通式(4)~通式(6)中的基團的情形加以說明。

通式(4)中的R⁴表示氫原子、可具有取代基的烷基、可具有取代基的芳基、可具有取代基的二烷基胺基、可具有取代基的二芳基胺基或可具有取代基的烷基芳基胺基，較佳為氫原 子、總碳數1~20的烷基、總碳數6~20的芳基、總碳數2~20的二烷基胺基、總碳數12~20的二芳基胺基或總碳數7~20的烷基芳基胺基，進而佳為總碳數1~20的烷基、總碳數2~20的二烷基胺基、總碳數12~20的二芳基胺基或總碳數7~20的烷基芳基胺基，尤佳為總碳數12~20的二芳基胺基或總碳數2~20的二烷基胺基。

上述烷基部位及芳基部位亦可更具有取代基，取代基較 佳為烷氧基、芳基、芳氧基、烷氧基羰基、烷硫基、芳硫基或鹵素原子等，更佳為烷氧基，進而佳為甲氧基或乙氧基。另外，不具有取代基的態樣亦較佳。

通式(5)中，d表示0~2的整數，於d為0或1時， R⁵為可具有取代基的烷基或可具有取代基的芳基，於d為2時，R⁵表示可具有取代基的烷基、可具有取代基的芳基、可具有取代基的二烷基胺基、可具有取代基的二芳基胺基或可具有取代基的烷基芳基胺基。於d為2時，R⁵較佳為碳數2~20的二烷基胺基、碳數12~20的二芳基胺基、碳數7~20的烷基芳基胺基。

上述烷基部位及芳基部位亦可更具有取代基，該取代基 可例示後述取代基T，較佳為烷氧基、芳基、芳氧基、烷氧基羰基、烷硫基、芳硫基或鹵素原子等，更佳為烷氧基，進而佳為甲氧基或乙氧基。另外，不具有取代基的態樣亦較佳。

通式(6)中，R⁶及R⁷分別表示可具有取代基的烷基、 可具有取代基的芳基、可具有取代基的烷基羰基、可具有取代基 的芳基羰基、可具有取代基的烷基磺醯基、可具有取代基的芳基磺醯基，較佳為碳數1~20的烷基、碳數6~20的芳基、碳數2~20的烷基羰基、碳數7~20的芳基羰基、碳數1~20的烷基磺醯基、碳數6~20的芳基磺醯基，更佳為碳數2~20的烷基羰基、碳數7~20的芳基羰基、碳數1~20的烷基磺醯基、碳數6~20的芳基磺醯基。

上述烷基部位及芳基部位亦可更具有取代基，該取代基 可例示後述取代基T，較佳為烷氧基、芳基、芳氧基、烷氧基羰基、烷硫基、芳硫基或鹵素原子等，更佳為烷氧基，進而佳為甲氧基或乙氧基。另外，不具有取代基的態樣亦較佳。可具有取代基的烷基等的例子將於後述。

示出上述通式中的可具有取代基的烷基的較佳例。可具 有取代基的烷基可列舉：甲基、乙基、丙基、異丙基、第三丁基、戊基、己基、庚基、辛基、2-乙基己基、十二烷基、十六烷基、環丙基、環戊基、環己基、1-降冰片基、1-金剛烷基、苯氧基乙基、苄基、苯基乙基、N-丁基胺基磺醯基丙基、N-丁基胺基羰基甲基、N,N-二丁基胺基磺醯基丙基、乙氧基乙氧基乙基、2-氯乙基，進而佳可列舉：甲基、乙基、丙基、異丙基、第三丁基、苯氧基乙基、苄基、苯基乙基、N-丁基胺基磺醯基丙基、N-丁基胺基羰基甲基、N,N-二丁基胺基磺醯基丙基、乙氧基乙氧基乙基，尤佳可列舉：甲基、乙基、丙基、第三丁基、苯氧基乙基、苄基、苯基乙基、N-丁基胺基磺醯基丙基、N-丁基胺基羰基甲基、N,N-二丁 基胺基磺醯基丙基、乙氧基乙氧基乙基。

示出上述通式(4)~通式(6)中的可具有取代基的芳 基的較佳例。此種芳基可列舉：苯基、2-氯苯基、2-甲氧基苯基、4-丁氧基羰基苯基、4-N,N-二丁基胺基羰基苯基、4-N-丁基胺基磺醯基苯基、4-N,N-二丁基胺基磺醯基苯基，進而佳可列舉：苯基、4-丁氧基羰基苯基、4-N,N-二丁基胺基羰基苯基、4-N-丁基胺基磺醯基苯基、4-N,N-二丁基胺基磺醯基苯基，尤佳可列舉：苯基、4-丁氧基羰基苯基、4-N,N-二丁基胺基羰基苯基、4-N,N-二丁基胺基磺醯基苯基。

示出上述通式(4)~通式(6)中的可具有取代基的二 烷基胺基的較佳例。此種二烷基胺基可列舉：N,N-二甲基胺基、N,N-二丁基胺基、N,N-二(2-乙基己基)胺基、N-甲基-N-苄基胺基、N,N-二(2-乙氧基乙基)胺基、N,N-二(2-羥基乙基)胺基。

示出上述通式(4)~通式(6)中的可具有取代基的二 芳基胺基的較佳例。此種二芳基胺基可列舉：N,N-二苯基胺基、N,N-二(4-甲氧基苯基)胺基、N,N-二(4-醯基苯基)胺基。

示出上述通式(4)~通式(6)中的可具有取代基的烷 基芳基胺基的較佳例。此種烷基芳基胺基可列舉：N-甲基-N-苯基胺基、N-苄基-N-苯基胺基、N-甲基-N-(4-甲氧基苯基)胺基。

示出上述通式(4)~通式(6)中的可具有取代基的烷 基羰基的較佳例。此種烷基羰基可列舉：乙醯基、丙基羰基、庚基-3-羰基、2-乙基己氧基甲基羰基、苯氧基甲基羰基、2-乙基己 氧基羰基甲基羰基。

示出上述通式(4)~通式(6)中的可具有取代基的芳 基羰基的較佳例。此種芳基羰基可列舉：苯甲醯基、4-甲氧基苯甲醯基、4-乙氧基羰基苯甲醯基。

示出上述通式(4)~通式(6)中的可具有取代基的烷 基磺醯基的較佳例。此種烷基磺醯基可列舉：甲磺醯基、辛磺醯基、十二烷基磺醯基、苄基磺醯基、苯氧基丙基磺醯基。

示出上述通式(4)~通式(6)中的可具有取代基的芳 基磺醯基的較佳例。此種芳基磺醯基可列舉：苯基磺醯基、2-甲氧基苯基磺醯基、4-乙氧基羰基苯基磺醯基。

示出上述通式(4)~通式(6)中的可具有取代基的烷 基磺醯胺基的較佳例。此種烷基磺醯胺基可列舉：甲基磺醯胺基、丁基磺醯胺基、羥基丙基磺醯胺基、2-乙基己基磺醯胺基、正辛基磺醯胺基、苯氧基乙基磺醯胺基、烯丙基磺醯胺基。

上述通式(4)~通式(6)中的可具有取代基的乙烯基 磺醯胺基可列舉：乙烯基磺醯胺基、1-甲基乙烯基磺醯胺基。

上述通式(4)~通式(6)中的可具有取代基的芳基磺 醯胺基可列舉：苯基磺醯胺基、對甲氧基苯基磺醯胺基、對乙氧基羰基磺醯胺基等。

上述通式(4)~通式(6)中的可具有取代基的烷基羰 基胺基可列舉：甲基羰基胺基、2-乙基己醯胺基、正庚基羰基胺基、乙氧基乙氧基甲基羰基胺基等。

上述通式(4)~通式(6)中的可具有取代基的芳基羰 基胺基可列舉：苯甲醯胺基、2-甲氧基苯甲醯胺基、4-乙烯基苯甲醯胺基等。

以下示出取代基T的例子。

示出烷基(較佳為碳數1~24的直鏈、分支鏈或環狀的 烷基，例如甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、第三丁基、戊基、己基、庚基、辛基、2-乙基己基、十二烷基、十六烷基、環丙基、環戊基、環己基、1-降冰片基、1-金剛烷基)、烯基(較佳為碳數2~18的烯基，例如乙烯基、烯丙基、3-丁烯-1-基)、芳基(較佳為碳數6~24的芳基，例如苯基、萘基)、雜環基(較佳為碳數1~18的雜環基，例如2-噻吩基、4-吡啶基、2-呋喃基、2-嘧啶基、1-吡啶基、2-苯并噻唑基、1-咪唑基、1-吡唑基、苯并三唑-1-基)、矽烷基(較佳為碳數3~18的矽烷基，例如三甲基矽烷基、三乙基矽烷基、三丁基矽烷基、第三丁基二甲基矽烷基、第三己基二甲基矽烷基)、羥基、氰基、硝基、烷氧基(較佳為碳數1~24的烷氧基，例如甲氧基、乙氧基、1-丁氧基、2-丁氧基、異丙氧基、第三丁氧基、十二烷氧基，另外，若為環烷氧基，則例如為環戊氧基、環己氧基)、芳氧基(較佳為碳數6~24的芳氧基，例如苯氧基、1-萘氧基)、雜環氧基(較佳為碳數1~18的雜環氧基，例如1-苯基四唑-5-氧基、2-四氫吡喃氧基)、矽烷氧基(較佳為碳數1~18的矽烷氧基，例如三甲基矽烷氧基、第三丁基二甲基矽烷氧基、二苯基甲基矽烷氧基)、醯氧基(較佳為碳數2~24的醯氧基， 例如乙醯氧基、三甲基乙醯氧基(pivaloyloxy)、苯甲醯氧基、十二烷醯氧基)、烷氧基羰氧基(較佳為碳數2~24的烷氧基羰氧基，例如乙氧基羰氧基、第三丁氧基羰氧基，另外，若為環烷氧基羰氧基，則例如為環己氧基羰氧基)、芳氧基羰氧基(較佳為碳數7~24的芳氧基羰氧基，例如苯氧基羰氧基)、胺甲醯氧基(此較佳為碳數1~24的胺甲醯氧基，例如N,N-二甲基胺甲醯氧基、N-丁基胺甲醯氧基、N-苯基胺甲醯氧基、N-乙基-N-苯基胺甲醯氧基)、胺磺醯氧基(較佳為碳數1~24的胺磺醯氧基，例如N,N-二乙基胺磺醯氧基、N-丙基胺磺醯氧基)、烷基磺醯氧基(較佳為碳數1~24的烷基磺醯氧基，例如甲基磺醯氧基、十六烷基磺醯氧基、環己基磺醯氧基)、芳基磺醯氧基(較佳為碳數6~24的芳基磺醯氧基，例如苯基磺醯氧基)、醯基(較佳為碳數1~24的醯基，例如甲醯基、乙醯基、三甲基乙醯基(pivaloyl)、苯甲醯基、十四烷醯基、環己醯基)、烷氧基羰基(較佳為碳數2~24的烷氧基羰基，例如甲氧基羰基、乙氧基羰基、十八烷氧基羰基、環己氧基羰基、2,6-二-第三丁基-4-甲基環己氧基羰基)、芳氧基羰基(較佳為碳數7~24的芳氧基羰基，例如苯氧基羰基)、胺甲醯基(較佳為碳數1~24的胺甲醯基，例如胺甲醯基、N,N-二乙基胺甲醯基、N-乙基-N-辛基胺甲醯基、N,N-二丁基胺甲醯基、N-丙基胺甲醯基、N-苯基胺甲醯基、N-甲基N-苯基胺甲醯基、N,N-二環己基胺甲醯基)、胺基(較佳為碳數24以下的胺基，例如胺基、甲基胺基、N,N-二丁基胺基、十四烷基胺基、2-乙基己基胺基、環己基 胺基)、苯胺基(較佳為6~24的苯胺基，例如苯胺基、N-甲基苯胺基)、雜環胺基(較佳為1~18的雜環胺基，例如4-吡啶胺基)、碳醯胺基(較佳為2~24的碳醯胺基，例如乙醯胺基、苯甲醯胺基、十四烷醯胺基、三甲基乙醯胺基、環己醯胺基)、脲基(較佳為碳數1~24的脲基，例如脲基、N,N-二甲基脲基、N-苯基脲基)、醯亞胺基(較佳為碳數24以下的醯亞胺基，例如N-琥珀醯亞胺基、N-鄰苯二甲醯亞胺基)、烷氧基羰基胺基(較佳為碳數2~24的烷氧基羰基胺基，例如甲氧基羰基胺基、乙氧基羰基胺基、第三丁氧基羰基胺基、十八烷氧基羰基胺基、環己氧基羰基胺基)、芳氧基羰基胺基(較佳為碳數7~24的芳氧基羰基胺基，例如苯氧基羰基胺基)、磺醯胺基(較佳為碳數1~24的磺醯胺基，例如甲磺醯胺基、丁磺醯胺基、苯磺醯胺基、十六烷磺醯胺基、環己磺醯胺基)、胺磺醯胺基(較佳為碳數1~24的胺磺醯胺基，例如N,N-二丙基胺磺醯胺基、N-乙基-N-十二烷基胺磺醯胺基)、偶氮基(較佳為碳數1~24的偶氮基，例如苯基偶氮基、3-吡唑基偶氮基)、烷硫基(較佳為碳數1~24的烷硫基，例如甲硫基、乙硫基、辛硫基、環己硫基)、芳硫基(較佳為碳數6~24的芳硫基，例如苯硫基)、雜環硫基(較佳為碳數1~18的雜環硫基，例如2-苯并噻唑硫基、2-吡啶硫基、1-苯基四唑硫基)、烷基亞磺醯基(較佳為碳數1~24的烷基亞磺醯基，例如十二烷亞磺醯基)、芳基亞磺醯基(較佳為碳數6~24的芳基亞磺醯基，例如苯基亞磺醯基)、烷基磺醯基(較佳為碳數1~24的烷基磺醯基，例如甲基磺醯基、 乙基磺醯基、丙基磺醯基、丁基磺醯基、異丙基磺醯基、2-乙基己基磺醯基、十六烷基磺醯基、辛基磺醯基、環己基磺醯基)、芳基磺醯基(較佳為碳數6~24的芳基磺醯基，例如苯基磺醯基、1-萘基磺醯基)、胺磺醯基(較佳為碳數24以下的胺磺醯基，例如胺磺醯基、N,N-二丙基胺磺醯基、N-乙基-N-十二烷基胺磺醯基、N-乙基-N-苯基胺磺醯基、N-環己基胺磺醯基)、磺基、膦醯基(較佳為碳數1~24的膦醯基，例如苯氧基膦醯基、辛氧基膦醯基、苯基膦醯基)、磷醯(phosphinoyl)胺基(較佳為碳數1~24的磷醯胺基，例如二乙氧基磷醯胺基、二辛氧基磷醯胺基)。

於上述取代基為可經取代的基團的情形時，亦可經上述 各基團的任一個進一步取代。再者，於具有2個以上的取代基的情形時，該些取代基可相同亦可不同。

對苯基或萘基的取代基R為通式(X)所表示的基團的 情形加以說明。

R¹¹表示氫原子或碳數1~8的烷基，較佳為氫原子或甲 基，進而佳為氫原子。

n1表示1~3的整數，更佳為1或2。於n1為2或3的 情形時，多個R¹¹可相同亦可不同。

Y¹表示-O-、-S-、-NR¹³-、-SO₂-或-C(=O)-，較佳為-O-、 -SO₂-或-C(=O)-，更佳為-O-或-C(=O)-。

R¹²表示一價取代基，取代基可例示上述取代基T，該 些取代基T亦可進一步經取代基T所取代。R¹²較佳為可具有取代 基的烷基、可具有取代基的醯基、可具有取代基的磺醯基、可具有取代基的烷氧基或可具有取代基的烷基胺基，更佳為可具有取代基的碳數1~12的烷基、可具有取代基的碳數1~12的烷氧基、可具有取代基的碳數1~12的烷基胺基。

每一分子的R¹²的部分的質量較佳為200~2500，更佳 為250~1500。

R¹³分別表示氫原子或碳數1~4的烷基。

於上述一價基為可進一步經取代的基團的情形時，亦可 經上述各基團的任一個進一步取代。再者，於具有2個以上的取代基的情形時，該些取代基可相同亦可不同。

繼而，對通式(1-4)加以說明。

於通式(1-4)中，就對醚溶解性的效果及分子量的方 面而言，R'為碳數1~3的伸烷基。碳數1~3的伸烷基可列舉：亞甲基、伸乙基、伸正丙基、伸異丙基。較佳為伸乙基、伸丙基。

就對醚溶解性的效果及分子量的方面而言，R"為碳數1 ~8的烷基，較佳為1~2的烷基。1~8的烷基與通式(1-3)中的R³為相同含意，較佳範圍亦相同。

就對醚溶解性的效果及分子量的觀點而言，n1為0~4 的整數，更佳為1~2的整數。

繼而，對作為通式(1)的中心部分的M加以描述。於 通式(1)中，M表示2個氫原子、金屬原子、金屬氧化物或金屬鹵化物。另外，金屬原子可列舉鐵、鎂、鎳、鈷、銅、鈀、鋅、 釩、鈦、銦、錫等。金屬氧化物可列舉氧化鈦、氧化釩等。金屬鹵化物可列舉：氯化鋁、氯化銦、氯化鍺、氯化錫(II)、氯化錫(IV)、氯化矽等。較佳為金屬原子、金屬氧化物或金屬鹵化物，具體而言為銅、鋅、鈷、鎳、鐵、氧化釩、氧化鈦、氯化銦、氯化錫(II)，更佳為銅、氧化釩及鋅，進而佳為鋅、銅，最佳為鋅。 若中心金屬為鋅、銅，則耐熱性高，故較佳。另外，若中心金屬為鋅，則與銅的情形相比較，作為綠色的波長的520nm~545nm附近的透射率更高，於製成彩色濾光片時可提高亮度，故尤佳。 另外，對丙酮、甲醇、甲基溶纖劑等通用性溶劑的溶劑溶解性高，另外對樹脂的溶解性高而對比度變高，故尤佳。

通式(1)所表示的化合物更佳為由下述通式(1-1)所 表示。

(通式(1-1)中，Z¹~Z¹⁶分別表示氫原子、鹵素原子、上述通式(1-1-2)所表示的基團、上述通式(1-3)所表示的基團或上述通式(1-4)所表示的基團，Z¹~Z¹⁶中，1個~8個表示上述通式(1-1-2)所表示的基團或上述通式(1-4)所表示的基團，至少一個為鹵素原子，且至少一個為上述通式(1-1-2)所表示的基團。M表示2個氫原子、金屬原子、金屬氧化物或金屬鹵化物)通式(1-1)中的通式(1-1-2)、通式(1-3)、通式(1-4)與上述通式(1)中說明的通式(1-1-2)、通式(1-3)、通式(1-4)為相同含意，較佳範圍亦相同。因此，通式(1-1)中的Z¹~Z¹⁶分別更佳為與一般式(1)的Z¹~Z¹⁶為相同範圍。

通式(1-1)的M與上述通式(1)中的M為相同含意，較佳範圍亦相同。

以下列舉本發明中所用的通式(1)及通式(1-1)中的Z¹~Z¹⁶的例子，但本發明不限定於該些例子。

以下列舉本發明中所用的酞青化合物的例子，但本發明當然不限定於該些例子。

下述表中表示下述通式中所示的取代基及其個數。

下述表中的Ar表示下述結構。

上述式中，Ph為苯基。

．[ZnPc-{α-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_x,{β-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_3.8-xH_0.8Cl_11.4]

．[ZnPc-{α-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_x,{α-(2,6-Cl₂)C₆H₃S}_y,{β-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_2.88-x{β-(2,6-Cl₂)C₆H₃S}_0.72-y,H_1.6Cl_10.8]

．[ZnPc-{α-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_x,{β-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_3.8-x,(β-NO₂)_0.2H_0.6Cl_11.4]

．[Zn(C₃₂N_8.2)-{α-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_x,{β-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_3.8-xH_0.6Cl_11.4]

．[Zn(C_32.8N₈)-{α-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_x,{β-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_3.8-xH_1.2Cl_11.4]

．[Zn(C_32.8N₈)-{α-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_x,{β-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_3.8-xH_0.8Cl_11.4Br_0.4]

．[ZnPc-{α-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_x,{β-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_3.8-x,(β-NH₂)_0.2H_0.6Cl_11.4]

．[ZnPc-{α-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_x,{β-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_3.8-x,(β-OH)_0.2H_0.6Cl_11.4]

．[ZnPc-{α-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_x,{β-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_3.8-x,(β-C(CH₃)₃)_0.2H_0.6Cl_11.4]

．[ZnPc-{α-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_x,{β-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_3.8-xH_0.4Cl_11.8]

．[Zn(C₃₂N_8.08)-{α-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_x,{β-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_3.96-xH_0.08Cl_11.88]

．[ZnPc-{α-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_x,{β-(4-COOC₂H₄OCH₃)C ₆H₄O}_3.8-xH_0.8F_11.4]

．[ZnPc-α-{(CH₃CH(OCH₃)C₂H₄OOC)C₂H₄S}_0.2,{α-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_x,{β-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_3.8-xH_0.6Cl_11.4]

．[ZnPc-{α-(4-SO₃C₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_x,{β-(4-SO₃C₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_3.8-xH_0.8Cl_11.4]

．[ZnPc-{α-(4-COOCH₃)C₆H₄O}_x,{β-(4-COOCH₃)C₆H₄O}_5.7-xH_0.8Cl_9.5]

．[ZnPc-{α-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_x,{β-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_2.28-xH_0.8Cl_12.92]

．[ZnPc-{α-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_x,{β-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_1.14-xH_0.8Cl_14.06]

．[ZnPc-{α-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_x,{α-(2-OCH₃-4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₃O}_y,{β-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_2.72-x,{β-(2-OCH₃-4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₃O}_0.68-yH_2.4Cl_10.2]

．[ZnPc-{α-(2-COOC₂H₄OCH₃)C₁₀H₈-6-O}_x,{β-(2-COOC₂H₄OCH₃)C₁₀H₈-6-O}_3.8-xH_0.8Cl_11.4]

．[ZnPc-{α-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_x,{α-(4-CN)C₆H₄O}_0.96,{β-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_3.04-xH_2.88Cl_9.12]

．[ZnPc-{α-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_x,{α-(2-C₆H₅)C₆H₄O}_y,{β-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_3.42-x,{β-(2-C₆H₅)C₆H₄O}_0.38-yH_0.8Cl_11.4]

．[ZnPc-{α-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_x,{α-(2-COOCH₃)C₆H₄S}_y,{β-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_3.04-x,{β-(2-COOCH₃)C₆H₄S}_0.76-yH_0.8Cl_11.4]

．[ZnPc-{α-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_x,{α-(4-OCH₃)C₆H₄O}_y,{ β-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_3.42-x,{β-(4-OCH₃)C₆H₄O}_0.38-yH_0.8Cl_11.4]

．[ZnPc-{α-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_x,{α-(2-C(CH₃)₃)C₆H₄O}_y,{β-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_3.42-x,{β-(2-C(CH₃)₃)C₆H₄O}_0.38-yH_0.8Cl_11.4]

．[ZnPc-{α-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_x,{α-(3-COOC₂H₅)C₆H₄O}_y,{β-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_2.66-x,{β-(3-COOC₂H₅)C₆H₄O}_1.14-yH_0.8Cl_11.4]

．[ZnPc-{α-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_x,{α-C₆H₅O}_y,{β-(4-COOC₂H₄OCH₃)C₆H₄O}_1.9-x{β-C₆H₅O}_0.76-yH_0.8Br_1.22Cl_11.32]

上述中，Pc表示酞青核，Zn表示中心金屬，緊隨Pc之後表示取代於α位上的取代基，於該取代於α位上的取代基之後表示取代於β位上的取代基，於該取代於β位上的取代基之後表示不依賴於取代位置的取代基。x、y為取代基數成為0以上的整數的正數。

酞青化合物由於成為取代位置或取代數不同的混合物，故難以作為結構式而唯一地記述。另外，隨後的表中所示的取代數為混合物中的取代基個數的平均值的近似值，少數亦可取得。

鹵化酞青化合物的製造方法

本發明中所用的酞青化合物的製造方法並無特別限制， 可利用先前公知的方法。較佳為於熔融狀態或有機溶劑中使鄰苯二甲腈化合物與金屬鹽進行環化反應的方法尤佳。以下，記載酞青化合物的製造方法的較佳實施形態。然而，本發明不限制於下述較佳實施形態。

即，可藉由以下方式來製造酞青化合物：使下述式(I) 所表示的鄰苯二甲腈化合物(1)、下述式(II)所表示的鄰苯二甲腈化合物(2)、下述式(III)所表示的鄰苯二甲腈化合物(3)及下述式(IV)所表示的鄰苯二甲腈化合物(4)，與選自由金屬原子、金屬氧化物、金屬羰基、金屬鹵化物及有機酸金屬(本說明書中，亦一併稱為「金屬化合物」)所組成的組群中的一種進行環化反應。

再者，上述式(I)~式(IV)中，Z¹~Z¹⁶是根據所需的酞青化合物(1)的結構來規定。具體而言，上述式(I)~式(IV)中，Z¹~Z¹⁶分別與上述式(1)中的Z¹~Z¹⁶的定義相同，故此處省略說明。

環化反應可藉由日本專利特開昭64-45474號公報中記載的方法等先前公知方法來合成。

於上述態樣中，環化反應較佳為使式(I)~式(IV)的鄰苯二甲腈化合物與選自由金屬、金屬氧化物、金屬羰基、金屬鹵化物及有機酸金屬所組成的組群中的一種於熔融狀態或有機溶劑中反應。此時可使用的金屬、金屬氧化物、金屬羰基、金屬鹵化物及有機酸金屬只要為可獲得相當於反應後所得的酞青化合物 的中心部分(通式(1)的M)者，則並無特別限制。因此可列舉：上述通式(1)中的M的項中列舉的鐵、銅、鋅、釩、鈦、銦及錫等金屬，該金屬的氯化物、溴化物、碘化物等金屬鹵素化合物，氧化釩、氧化鈦及氧化銅等金屬氧化物，乙酸鹽等有機酸金屬，以及乙醯丙酮酸鹽等錯合物化合物及羰基鐵等金屬羰基等。具體可列舉：鐵、銅、鋅、釩、鈦、銦、鎂及錫等金屬；該金屬的氯化物、溴化物、碘化物等金屬鹵素化合物，例如氯化釩、氯化鈦、氯化銅、氯化鋅、氯化鈷、氯化鎳、氯化鐵、氯化銦、氯化鋁、氯化錫、氯化鎵、氯化鍺、氯化鎂、碘化銅、碘化鋅、碘化鈷、碘化銦、碘化鋁、碘化鎵、溴化銅、溴化鋅、溴化鈷、溴化鋁、溴化鎵；一氧化釩、三氧化釩、四氧化釩、五氧化釩、二氧化鈦、一氧化鐵、三氧化二鐵、四氧化三鐵、氧化錳、一氧化鎳、一氧化鈷、三氧化二鈷、二氧化鈷、氧化亞銅、氧化銅、三氧化二銅、氧化鈀、氧化鋅、一氧化鍺及二氧化鍺等金屬氧化物；乙酸銅、乙酸鋅、乙酸鈷、苯甲酸銅、苯甲酸鋅等有機酸金屬；以及乙醯丙酮酸鹽等錯合物化合物及鈷羰基、鐵羰基、鎳羰基等金屬羰基等。該等中，較佳為金屬、金屬氧化物及金屬鹵化物，更佳為金屬鹵化物，進而佳為碘化釩、碘化銅及碘化鋅，尤佳為碘化銅及碘化鋅，最佳為碘化鋅。於使用碘化鋅的情形時，中心金屬成為鋅。金屬鹵化物中，較佳為使用碘化物的原因在於：對溶劑或樹脂的溶解性優異，所得的酞青化合物的光譜狹窄，容易控制於作為所需波長的640nm~750nm內。於環化反應時使用碘化物的情 形時光譜變狹窄的詳細機制雖不明確，但推測於使用碘化物的情形時，反應後殘存於酞青化合物中的碘與酞青化合物發生某些相互作用，於酞青化合物的層間存在碘。然而，並不限定於上述機制。為了獲得與環化反應中使用金屬碘化物的情形相同的效果，亦可利用碘對所得的酞青化合物進行處理。

另外，上述態樣中，另外環化反應於無溶劑中亦可進行，但較佳為使用有機溶劑來進行。有機溶劑只要為與作為起始原料的鄰苯二甲腈化合物的反應性低、較佳為不顯示出反應性的非活性的溶劑，則可為任意溶劑，例如可列舉：苯、甲苯、二甲苯、硝基苯、單氯苯、鄰氯甲苯、二氯苯、三氯苯、1-氯萘、1-甲基萘、乙二醇及苄腈等非活性溶劑；甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、1-丁醇、1-己醇、1-戊醇、1-辛醇等醇；以及吡啶、N,N-二甲基甲醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、N-甲基-2-吡咯烷酮、N,N-二甲基苯乙酮、三乙胺、三正丁胺、二甲基亞碸、環丁碸等非質子性極性溶劑等。

該些溶劑中，較佳為使用1-氯萘、1-甲基萘、1-辛醇、二氯苯及苄腈，更佳為使用1-辛醇、二氯苯及苄腈。該些溶劑可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。

上述態樣中的式(I)~式(IV)的鄰苯二甲腈化合物與金屬化合物的反應條件只要為進行該反應的條件，則並無特別限制，例如相對於有機溶劑100質量份，以1質量份~500質量份、較佳為10質量份~350質量份的範圍的合計量來添加上述式(I)~式(IV)的鄰苯二甲腈化合物，且以相對於該鄰苯二甲腈化合 物4莫耳而較佳為0.8莫耳~2.0莫耳、更佳為0.8莫耳~1.5莫耳的範圍來添加金屬化合物。環化時，並無特別限定，較佳為於反應溫度30℃~250℃、更佳為80℃~200℃的範圍內進行反應。反應時間並無特別限定，較佳為3小時~20小時。再者，反應後，可依照先前公知的酞青化合物的合成方法來進行過濾、清洗、乾燥，藉此高效地而且以高純度獲得可用於後續步驟中的酞青化合物。

上述態樣中，作為起始原料的式(I)~式(IV)的鄰苯二甲腈化合物可藉由先前已知的方法來合成，另外亦可使用市售品。

本發明中所用的組成物中的上述染料的調配量較佳為本發明中所用的組成物中所含的著色劑的1質量%~100質量%，進而佳為50質量%~100質量%，尤佳為80質量%~100質量%。

另外，本發明中所用的組成物所含的著色劑中，酞青染料(較佳為鹵化酞青染料)的調配量較佳為55質量%~80質量%，更佳為60質量%~75質量%。

(顏料)

著色劑中所用的顏料可列舉先前公知的各種無機顏料或有機顏料。另外，可為無機顏料亦可為有機顏料，若考慮到較佳為高透射率，則較佳為使用平均粒徑盡可能小的顏料。若亦考慮到操作性，則顏料的平均粒徑較佳為0.01μm~0.1μm，更佳為0.01μm~0.05μm。

本發明中可較佳地使用的顏料例如可列舉日本專利特開2012-181512號公報的段落編號0026中記載者，將其內容併入至本說明書中。

另外，本發明中可較佳地使用的顏料可列舉以下者。然而，本發明不限定於該些顏料。

顏色索引(Color Index，C.I.)顏料黃(Pigment Yellow)1、C.I.顏料黃2、C.I.顏料黃3、C.I.顏料黃4、C.I.顏料黃5、C.I.顏料黃6、C.I.顏料黃10、C.I.顏料黃11、C.I.顏料黃12、C.I.顏料黃13、C.I.顏料黃14、C.I.顏料黃15、C.I.顏料黃16、C.I.顏料黃17、C.I.顏料黃18、C.I.顏料黃20、C.I.顏料黃24、C.I.顏料黃31、C.I.顏料黃32、C.I.顏料黃34、C.I.顏料黃35、C.I.顏料黃35：1、C.I.顏料黃36、C.I.顏料黃36：1、C.I.顏料黃37、C.I.顏料黃37：1、C.I.顏料黃40、C.I.顏料黃42、C.I.顏料黃43、C.I.顏料黃53、C.I.顏料黃55、C.I.顏料黃60、C.I.顏料黃61、C.I.顏料黃62、C.I.顏料黃63、C.I.顏料黃65、C.I.顏料黃73、C.I.顏料黃74、C.I.顏料黃77、C.I.顏料黃81、C.I.顏料黃83、C.I.顏料黃86、C.I.顏料黃93、C.I.顏料黃94、C.I.顏料黃95、C.I.顏料黃97、C.I.顏料黃98、C.I.顏料黃100、C.I.顏料黃101、C.I.顏料黃104、C.I.顏料黃106、C.I.顏料黃108、C.I.顏料黃109、C.I.顏料黃110、C.I.顏料黃113、C.I.顏料黃114、C.I.顏料黃115、C.I.顏料黃116、C.I.顏料黃117、C.I.顏料黃118、C.I.顏料黃119、C.I.顏料黃120、C.I.顏料黃123、C.I.顏料黃125、C.I.顏料黃126、C.I.顏料黃127、C.I.顏料黃128、 C.I.顏料黃129、C.I.顏料黃137、C.I.顏料黃138、C.I.顏料黃139、C.I.顏料黃147、C.I.顏料黃148、C.I.顏料黃150、C.I.顏料黃151、C.I.顏料黃152、C.I.顏料黃153、C.I.顏料黃154、C.I.顏料黃155、C.I.顏料黃156、C.I.顏料黃161、C.I.顏料黃162、C.I.顏料黃164、C.I.顏料黃166、C.I.顏料黃167、C.I.顏料黃168、C.I.顏料黃169、C.I.顏料黃170、C.I.顏料黃171、C.I.顏料黃172、C.I.顏料黃173、C.I.顏料黃174、C.I.顏料黃175、C.I.顏料黃176、C.I.顏料黃177、C.I.顏料黃179、C.I.顏料黃180、C.I.顏料黃181、C.I.顏料黃182、C.I.顏料黃185、C.I.顏料黃187、C.I.顏料黃188、C.I.顏料黃193、C.I.顏料黃194、C.I.顏料黃199、C.I.顏料黃213、C.I.顏料黃214該些有機顏料可單獨使用或為了提高色純度而組合使用多種。

關於本發明中所用的組成物中的上述顏料的調配量，於 含有於著色硬化性組成物中的情形時，可設定為著色劑的1質量%~100質量%。藉由減少顏料的調配量，可進一步提高著色硬化性組成物中的著色劑的調配量，有更有效地發揮本發明的效果的傾向。

(顏料分散物)

於調整構成本發明的積層體的組成物使用顏料的情形 時，亦可製成顏料分散物。就提高顏料的分散性的觀點而言，亦可更添加顏料分散劑。

本發明中可使用的顏料分散劑可列舉：高分子分散劑[例 如聚醯胺-胺及其鹽、聚羧酸及其鹽、高分子量不飽和酸酯、改質聚胺基甲酸酯、改質聚酯、改質聚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸系共聚物、萘磺酸福馬林縮合物]及聚氧伸乙基烷基磷酸酯、聚氧伸乙基烷基胺、烷醇胺、顏料衍生物等。

高分子分散劑可根據其結構而進一步分類為直鏈狀高分子、末端改質型高分子、接枝型高分子、嵌段型高分子。

高分子分散劑以吸附於顏料的表面而防止再凝聚的方式發揮作用。因此，可列舉具有對顏料表面的固定(anchor)部位的末端改質型高分子、接枝型高分子、嵌段型高分子作為較佳結構。另一方面，顏料衍生物具有以下效果：藉由對顏料表面進行改質，而促進高分子分散劑的吸附。

本發明中可使用的顏料分散劑亦可作為市售品而獲取，此種具體例亦可使用日本專利特開2012-173635號公報的段落編號0050中記載者、或日本專利特開2012-93396號公報的段落編號0206中記載者，將該些內容併入至本說明書中。另外，亦可較佳地使用日本專利特開2011-070156號公報的段落編號0028~段落編號0124中記載的分散劑或日本專利特開2007-277514號公報中記載的分散劑，將該些內容併入至本說明書中。

該些顏料分散劑可單獨使用，亦可組合使用兩種以上。於本發明中，尤佳為將顏料衍生物與高分子分散劑組合使用。

相對於作為著色劑的顏料100質量份，本發明的組成物中的顏料分散劑的含量較佳為1質量份~80質量份，更佳為5質 量份~70質量份。

具體而言，若為使用高分子分散劑的情形，則相對於顏 料100質量份，其使用量較佳為以質量換算計而為5質量份~100質量份的範圍。

另外，於併用顏料衍生物的情形時，相對於顏料100質 量份，顏料衍生物的使用量較佳為以質量換算計而在1質量份~30質量份的範圍內，更佳為在3質量份~20質量份的範圍內。

(顏料衍生物)

於含有顏料作為著色劑的情形時，為了提高分散樹脂對 顏料的吸附性，較佳為更含有顏料衍生物。所謂顏料衍生物，是指具有以酸性基、鹼性基或鄰苯二甲醯亞胺甲基將有機顏料的一部分取代而成的結構的化合物。就分散性及分散穩定性的觀點而言，顏料衍生物較佳為含有具有酸性基或鹼性基的顏料衍生物。

顏料衍生物例如可使用日本專利特開2011-137125號公 報的段落編號0100~段落編號0119中記載者，將其內容併入至本說明書中。

相對於顏料的總質量，本發明的組成物中的顏料衍生物 的含量較佳為1質量%~90質量%，進而佳為3質量%~80質量%。顏料衍生物可僅使用一種，亦可併用兩種以上。

(溶劑)

顏料分散物中的溶劑只要為通常的顏料分散性組成物中所用的有機溶劑，則並無特別限定。例如可列舉：1-甲氧基-2-丙 基乙酸酯、1-甲氧基-2-丙醇、乙二醇單甲醚、二乙二醇單甲醚、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯、丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮、正丙醇、2-丙醇、正丁醇、環己醇、乙二醇、二乙二醇、甲苯、二甲苯等溶劑，為了調整熔點或黏度、顏料的分散性，亦可併用該些溶劑中的多種。

顏料分散物中的溶劑的含量是根據顏料分散物的用途等而適當選擇。

於將顏料分散物用於製備後述著色硬化性組成物的情形時，就操作性的觀點而言，能以如下方式而含有：相對於顏料分散物的除了溶劑以外的總質量，顏料與顏料分散劑的總和成為5質量%~50質量%。

(黃色色素)

作為本發明的實施形態的一例，可例示在酞青染料中調配黃色色素而使用。

黃色色素可為染料亦可為顏料，亦可為染料與顏料的混合系，就可於不使用分散劑的情況下獲得均勻地溶解的狀態的組成物的觀點而言，較佳為染料。例如，較佳為偶氮系(例如C.I.溶劑黃(solvent yellow)162)、次甲基系(C.I.溶劑黃(solvent yellow)93)染料等。

次甲基系染料較佳為單次甲基染料，更佳為下述通式(5)所表示的單次甲基染料。若將鹵化酞青染料與次甲基系染料組合，則有更有效地發揮本發明的效果的傾向。

(通式(5)中，R¹¹分別表示烷基或乙烯基，R¹²分別表示具有取代基的芳香族環基)

R¹¹較佳為碳數1~12的烷基，更佳為碳數1~6的烷基。

R¹²較佳為苯基、萘基，取代基較佳為烷基磺醯胺基、乙烯基磺醯胺基、芳基磺醯胺基、烷基羰基胺基、乙烯基羰基胺基、芳基羰基胺基，尤佳為烷基磺醯胺基。碳數1~12的烷基亦可具有不飽和鍵，此種取代基可列舉烯丙基磺醯胺基。

另外，著色劑有時可較佳地使用酸性染料及/或其衍生物。除此以外，亦可有用地使用直接染料、鹼性染料、媒染染料、酸性媒染染料、冰染染料、分散染料、油溶染料、食品染料及/或該些染料的衍生物等。

以下列舉酸性染料的具體例，但不限定於該些具體例。例如可列舉：酸性黃(acid yellow)1、酸性黃3、酸性黃7、酸性黃9、酸性黃11、酸性黃17、酸性黃23、酸性黃25、酸性黃29、酸性黃34、酸性黃36、酸性黃38、酸性黃40、酸性黃42、酸性 黃54、酸性黃65、酸性黃72、酸性黃73、酸性黃76、酸性黃79、酸性黃98、酸性黃99、酸性黃111、酸性黃112、酸性黃113、酸性黃114、酸性黃116、酸性黃119、酸性黃123、酸性黃128、酸性黃134、酸性黃135、酸性黃138、酸性黃139、酸性黃140、酸性黃144、酸性黃150、155、酸性黃157、酸性黃160、酸性黃161、酸性黃163、酸性黃168、酸性黃169、酸性黃172、酸性黃177、酸性黃178、酸性黃179、酸性黃184、酸性黃190、酸性黃193、酸性黃196、酸性黃197、酸性黃199、酸性黃202、酸性黃203、酸性黃204、酸性黃205、酸性黃207、酸性黃212、酸性黃214、酸性黃220、酸性黃221、酸性黃228、酸性黃230、酸性黃232、酸性黃235、酸性黃238、酸性黃240、酸性黃242、酸性黃243、酸性黃251；直接黃(Direct Yellow)2、直接黃33、直接黃34、直接黃35、直接黃38、直接黃39、直接黃43、直接黃47、直接黃50、直接黃54、直接黃58、直接黃68、直接黃69、直接黃70、直接黃71、直接黃86、直接黃93、直接黃94、直接黃95、直接黃98、直接黃102、直接黃108、直接黃109、直接黃129、直接黃136、直接黃138、直接黃141；食品黃(Food Yellow)3；媒染黃(Mordant Yellow)5、媒染黃8、媒染黃10、媒染黃16、媒染黃20、媒染黃26、媒染黃30、媒染黃31、媒染黃33、媒染黃42、媒染黃43、媒染黃45、媒染黃56、媒染黃50、媒染黃61、媒染黃62、媒染黃65；及該些染料的衍生物。

另外，顏料可使用上述顏料。

相對於酞青染料100質量%，本發明中所用的組成物中的上述黃色色素的調配量較佳為以10質量%~120質量%為宜，進而佳為25質量%~100質量%，尤佳為50質量%~90質量%。

[熱硬化性化合物]

構成本發明的積層體的著色硬化性組成物含有至少一種 熱硬化性化合物。此處，所謂熱硬化性化合物，是指可藉由加熱來進行膜硬化者，通常是指藉由180℃以上的加熱而硬化的化合物。

本發明中所用的熱硬化性化合物例如可使用具有熱硬化 性官能基的化合物。熱硬化性官能基例如較佳為具有選自環氧基、羥甲基、烷氧基甲基、醯氧基甲基、異氰酸酯基、乙烯醚基及巰基中的至少一個基團者。熱硬化性化合物更佳為於一分子內具有2個以上的熱硬化性官能基者，進而佳為於一分子內具有2個以上的環氧基的化合物。

另外，本發明中所用的熱硬化性化合物可列舉環氧化合 物、三聚氰胺化合物(例如烷氧基甲基化三聚氰胺化合物、醯氧基甲基化三聚氰胺化合物)、脲化合物(例如烷氧基甲基化脲化合物、醯氧基甲基化脲化合物)、酚化合物(例如羥基甲基化酚化合物或者烷氧基甲基化酚化合物或樹脂、及烷氧基甲基醚化酚化合物)等作為較佳例，更佳為環氧化合物、三聚氰胺化合物，進而佳為環氧化合物。

本發明中所用的熱硬化性化合物為低分子化合物(例如分子量小於2000，進而分子量小於1000)或為高分子化合物(例如分子量為1000以上，聚合物的情況下重量平均分子量為1000以上)均可。本發明中，較佳為分子量1000以上者，更佳為分子量2000~100000者。於本發明中，尤佳為於一分子中具有2個以上的環氧基、且分子量為1000以上的化合物。

<環氧化合物>

於環氧化合物為低分子化合物的情形時，可列舉下述通式(EP1)所表示的化合物。

式(EP1)中，R^EP1~R^EP3分別表示氫原子、鹵素原子、烷基，該烷基亦可具有環狀結構，另外，亦可具有取代基。另外，R^EP1與R^EP2、R^EP2與R^EP3亦可相互鍵結而形成環結構。烷基可具有的取代基例如可列舉：羥基、氰基、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、烷基羰氧基、烷硫基、烷基磺酸基、烷基磺醯基、烷基胺基、烷基醯胺基等。

Q^EP表示單鍵或n^EP價的有機基。R^EP1~R^EP3亦可與Q^EP鍵結而形成環結構。

n^EP表示2以上的整數，較佳為2~10，進而佳為2~6。 其中，於Q^EP為單鍵的情形時，n^EP為2。

於Q^EP為n^EP價的有機基的情形時，較佳為鏈狀或環狀的n^EP價的飽和烴基(較佳為碳數2~20)、n^EP價的芳香環基(較佳為碳數6~30)、或具有以下結構的n^EP價的有機基等，上述結構為於鏈狀或環狀的飽和烴或芳香族烴上，連結有醚基、酯基、醯胺基、磺醯胺基、伸烷基(較佳為碳數1~4，更佳為亞甲基)等2價連結基、-N(-)₂等3價連結基或該些基團的組合而成的結構。

以下例示具有環氧結構的化合物的具體例，但本發明不限定於該些具體例。

本發明中所用的環氧化合物亦較佳為於側鏈上具有環氧 基的低聚物或聚合物。此種化合物可列舉：雙酚A型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂、苯酚酚醛清漆型環氧樹脂、甲酚酚醛清漆型環氧樹脂、脂肪族環氧樹脂等。

該些化合物可使用市售品，亦可藉由對聚合物的側鏈導 入環氧基而獲得。

關於市售品，例如雙酚A型環氧樹脂為JER827、JER828、 JER834、JER1001、JER1002、JER1003、JER1055、JER1007、JER1009、JER1010(以上為日本環氧樹脂(股)製造)，艾比克隆(EPICLON)860、艾比克隆(EPICLON)1050、艾比克隆(EPICLON)1051、艾比克隆(EPICLON)1055(以上為迪愛生(DIC)(股)製造)等；雙酚F型環氧樹脂為JER806、JER807、JER4004、JER4005、JER4007、JER4010(以上為日本環氧樹脂(股)製造)，艾比克隆(EPICLON)830、艾比克隆(EPICLON)835(以上為迪愛生(DIC)(股)製造)，LCE-21、RE-602S(以上為日本化藥(股)製造)等；苯酚酚醛清漆型環氧樹脂為JER152、JER154、JER157S70、JER157S65(以上為日本環氧樹脂(股)製造)，艾比克隆(EPICLON)N-740、艾比克隆(EPICLON)N-770、艾比克隆(EPICLON)N-775(以上為迪愛生(DIC)(股)製造)等；甲酚酚醛清漆型環氧樹脂為艾比克隆(EPICLON)N-660、艾比克隆(EPICLON)N-665、艾比克隆(EPICLON)N-670、艾比克隆(EPICLON)N-673、艾比克隆(EPICLON)N-680、艾比克隆(EPICLON)N-690、艾比克隆(EPICLON)N-695(以上為迪愛生(DIC)(股)製造)，EOCN-1020(以上為日本化藥(股)製造)等；脂肪族環氧樹脂為艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4080S、艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4085S、艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4088S(以上為艾迪科(ADEKA)(股)製造)，塞羅西德(Celloxide)2021P、塞羅西德(Celloxide)2081、塞羅西德(Celloxide)2083、塞羅西德(Celloxide)2085、 EHPE3150、艾伯利德(EPOLEAD)PB 3600、艾伯利德(EPOLEAD)PB 4700(以上為大賽璐化學工業(股)製造)，代拿考爾(Denacol)EX-212L、代拿考爾(Denacol)EX-214L、代拿考爾(Denacol)EX-216L、代拿考爾(Denacol)EX-321L、代拿考爾(Denacol)EX-850L(以上為長瀨化成(Nagase Chemtex)(股)製造)等。 除此以外，亦可列舉：艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4000S、艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4003S、艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4010S、艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4011S(以上為艾迪科(ADEKA)(股)製造)，NC-2000、NC-3000、NC-7300、XD-1000、EPPN-501、EPPN-502(以上為艾迪科(ADEKA)(股)製造)，JER1031S(日本環氧樹脂(股)製造)等。

於向聚合物側鏈上導入來進行合成的情形時，導入反應例如可藉由以下反應來進行：將三乙胺、苄基甲基胺等三級胺、氯化十二烷基三甲基銨、氯化四甲基銨、氯化四乙基銨等四級銨鹽、吡啶、三苯基膦等作為觸媒，於有機溶劑中於反應溫度50℃~150℃下進行幾小時~幾十時間反應。脂環式環氧不飽和化合物的導入量較佳為以成為所得的聚合物的酸值滿足5KOH．mg/g~200KOH．mg/g的範圍的方式控制。另外，分子量以重量平均分子量計而較佳為500~5000000，進而佳為1000~500000的範圍。

環氧不飽和化合物亦可使用(甲基)丙烯酸縮水甘油酯或烯丙基縮水甘油醚等具有縮水甘油基作為環氧基者，較佳為具有脂環式環氧基的不飽和化合物。此種化合物例如可例示以下的化 合物。

<三聚氰胺化合物、脲化合物、其他熱硬化性化合物>

本發明中所用的熱硬化性化合物亦較佳為以下的具有N- 羥基甲基、N-烷氧基甲基或N-醯氧基甲基的化合物。此種化合物通常是作為三聚氰胺化合物、脲化合物而提供。

具有N-羥基甲基、N-烷氧基甲基或N-醯氧基甲基的化合 物較佳為具有2個以上(更佳為2個~8個)的下述通式(CLNM-1)所表示的部分結構的化合物。

於通式(CLNM-1)中，R^NM1表示氫原子、烷基、環烷基或側氧基烷基。

通式(CLNM-1)中的R^NM1的烷基較佳為碳數1~6的直鏈或分支的烷基。R^NM1的環烷基較佳為碳數5~6的環烷基。R^NM1的氧雜烷基較佳為碳數3~6的氧雜烷基，例如可列舉：β-側氧基丙基、β-側氧基丁基、β-側氧基戊基、β-側氧基己基等。

具有2個以上的通式(CLNM-1)所表示的部分結構的化合物的更佳態樣可列舉：下述通式(CLNM-2)所表示的脲化合物、下述通式(CLNM-3)所表示的伸烷基脲化合物、下述通式(CLNM-4)所表示的甘脲(glycoluril)化合物、下述通式(CLNM-5)所表示的三聚氰胺化合物。

於通式(CLNM-2)中，R^NM1分別與通式(CLNM-1)中的R^NM1相同。R^NM2分別表示氫原子、烷基(較佳為碳數1~6)、 或環烷基(較佳為碳數5~6)。

通式(CLNM-2)所表示的脲化合物的具體例例如可列舉：N,N-二(甲氧基甲基)脲、N,N-二(乙氧基甲基)脲、N,N-二(丙氧基甲基)脲、N,N-二(異丙氧基甲基)脲、N,N-二(丁氧基甲基)脲、N,N-二(第三丁氧基甲基)脲、N,N-二(環己氧基甲基)脲、N,N-二(環戊氧基甲基)脲、N,N-二(金剛烷氧基甲基)脲、N,N-二(降冰片氧基甲基)脲等。

於通式(CLNM-3)中，R^NM1分別與通式(CLNM-1)中的R^NM1相同。R^NM3分別表示氫原子、羥基、直鏈或分支的烷基(較佳為碳數1~6)、環烷基(較佳為碳數5~6)、側氧基烷基(較佳為碳數1~6)、烷氧基(較佳為碳數1~6)或側氧基烷氧基(較佳為碳數1~6)。

G表示單鍵、氧原子、硫原子、伸烷基(較佳為碳數1 ~3)或羰基。更具體可列舉：亞甲基、伸乙基、伸丙基、1-甲基伸乙基、羥基亞甲基、氰基亞甲基等。

通式(CLNM-3)所表示的伸烷基脲化合物的具體例例如可列舉：N,N-二(甲氧基甲基)-4,5-二(甲氧基甲基)伸乙基脲、N,N- 二(乙氧基甲基)-4,5-二(乙氧基甲基)伸乙基脲、N,N-二(丙氧基甲基)-4,5-二(丙氧基甲基)伸乙基脲、N,N-二(異丙氧基甲基)-4,5-二(異丙氧基甲基)伸乙基脲、N,N-二(丁氧基甲基)-4,5-二(丁氧基甲基)伸乙基脲、N,N-二(第三丁氧基甲基)-4,5-二(第三丁氧基甲基)伸乙基脲、N,N-二(環己氧基甲基)-4,5-二(環己氧基甲基)伸乙基脲、N,N-二(環戊氧基甲基)-4,5-二(環戊氧基甲基)伸乙基脲、N,N-二(金剛烷氧基甲基)-4,5-二(金剛烷氧基甲基)伸乙基脲、N,N-二(降冰片氧基甲基)-4,5-二(降冰片氧基甲基)伸乙基脲等。

於通式(CLNM-4)中，

R^NM1分別與通式(CLNM-1)中的R^NM1相同。

R^NM4分別表示氫原子、羥基、烷基、環烷基或烷氧基。

R^NM4的烷基(較佳為碳數1~6)、環烷基(較佳為碳數5~6)、烷氧基(較佳為碳數1~6)更具體可列舉：甲基、乙基、丁基、環戊基、環己基、甲氧基、乙氧基、丁氧基等。

通式(CLNM-4)所表示的甘脲化合物的具體例例如可列舉：N,N,N,N-四(甲氧基甲基)甘脲、N,N,N,N-四(乙氧基甲基)甘 脲、N,N,N,N-四(丙氧基甲基)甘脲、N,N,N,N-四(異丙氧基甲基)甘脲、N,N,N,N-四(丁氧基甲基)甘脲、N,N,N,N-四(第三丁氧基甲基)甘脲、N,N,N,N-四(環己氧基甲基)甘脲、N,N,N,N-四(環戊氧基甲基)甘脲、N,N,N,N-四(金剛烷氧基甲基)甘脲、N,N,N,N-四(降冰片氧基甲基)甘脲等。

於通式(CLNM-5)中，R^NM1分別與通式(CLNM-1)中的R^NM1相同。R^NM5分別表示氫原子、烷基、環烷基、芳基或下述通式(CLNM-5')所表示的原子團。R^NM6表示氫原子、烷基、環烷基、芳基或下述通式(CLNM-5")所表示的原子團。

於通式(CLNM-5')中，R^NM1與通式(CLNM-1)中的R^NM1相同。於通式(CLNM-5")中，R^NM1與通式(CLNM-1)中的R^NM1相同，R^NM5與通式(CLNM-5)中的R^NM5相同。

R^NM5及R^NM6的烷基(較佳為碳數1~6)、環烷基(較佳 為碳數5~6)、芳基(較佳為碳數6~10)更具體可列舉：甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、第三丁基、戊基、環戊基、己基、環己基、苯基、萘基等。

通式(CLNM-5)所表示的三聚氰胺化合物例如可列舉：N,N,N,N,N,N-六(甲氧基甲基)三聚氰胺、N,N,N,N,N,N-六(乙氧基甲基)三聚氰胺、N,N,N,N,N,N-六(丙氧基甲基)三聚氰胺、N,N,N,N,N,N-六(異丙氧基甲基)三聚氰胺、N,N,N,N,N,N-六(丁氧基甲基)三聚氰胺、N,N,N,N,N,N-六(第三丁氧基甲基)三聚氰胺、N,N,N,N,N,N-六(環己氧基甲基)三聚氰胺、N,N,N,N,N,N-六(環戊氧基甲基)三聚氰胺、N,N,N,N,N,N-六(金剛烷氧基甲基)三聚氰胺、N,N,N,N,N,N-六(降冰片氧基甲基)三聚氰胺、N,N,N,N,N,N-六(甲氧基甲基)乙醯胍胺、N,N,N,N,N,N-六(乙氧基甲基)乙醯胍胺、N,N,N,N,N,N-六(丙氧基甲基)乙醯胍胺、N,N,N,N,N,N-六(異丙氧基甲基)乙醯胍胺、N,N,N,N,N,N-六(丁氧基甲基)乙醯胍胺、N,N,N,N,N,N-六(第三丁氧基甲基)乙醯胍胺、N,N,N,N,N,N-六(甲氧基甲基)苯胍胺(benzoguanamine)、N,N,N,N,N,N-六(乙氧基甲基)苯胍胺、N,N,N,N,N,N-六(丙氧基甲基)苯胍胺、N,N,N,N,N,N-六(異丙氧基甲基)苯胍胺、N,N,N,N,N,N-六(丁氧基甲基)苯胍胺、N,N,N,N,N,N-六(第三丁氧基甲基)苯胍胺等。

通式(CLNM-1)~通式(CLNM-5)中的R^NM1~R^NM6所表示的基團亦可更具有取代基。R^NM1~R^NM6可具有的取代基例如可列舉：鹵素原子、羥基、硝基、氰基、羧基、環烷基(較佳 為碳數3~20)、芳基(較佳為碳數6~14)、烷氧基(較佳為碳數1~20)、環烷氧基(較佳為碳數3~20)、醯基(較佳為碳數2~20)、醯氧基(較佳為碳數2~20)等。

以下，例示具有2個以上的上述通式(CLNM-1)所表示的部分結構的化合物的具體例，但本發明不限定於該些具體例。除了下述所示的化合物以外，亦可較佳地使用下述並未例示的三和化學公司製造的尼卡拉克(Nikalac)系列的化合物。

<酚化合物>

酚化合物可列舉：於分子內含有3個~5個苯環，進而具有合計2個以上的羥基甲基或烷氧基甲基，使該羥基甲基、烷氧基甲基集中鍵結於至少任一個苯環上，或分開鍵結於不同苯環上而成的酚化合物。鍵結於苯環上的烷氧基甲基較佳為碳數6個以下。具體而言，較佳為甲氧基甲基、乙氧基甲基、正丙氧基甲基、異丙氧基甲基、正丁氧基甲基、異丁氧基甲基、第二丁氧基甲基、第三丁氧基甲基。進而，亦較佳為如2-甲氧基乙氧基及2-甲氧基 -1-丙氧基般經烷氧基取代的烷氧基。

熱硬化性化合物更佳為於分子內具有2個以上的苯環的酚化合物，另外，較佳為不含氮原子的酚化合物。

熱硬化性化合物較佳為於每一分子中具有2個~8個熱硬化性官能基的酚化合物，更佳為具有3個~6個熱硬化性官能基。

該些酚化合物中，以下列舉尤佳的化合物。式中，L¹~L⁸表示烷氧基甲基等熱硬化性官能基，可相同亦可不同，熱硬化性官能基較佳為表示羥基甲基、甲氧基甲基或乙氧基甲基。

熱硬化性化合物亦可使用市售品，另外亦可利用公知的方法來合成。例如具有羥基甲基的酚化合物可藉由以下方式而獲得：使對應的不具有羥基甲基的酚化合物(上述式中，L¹~L⁸為氫原子的化合物)與甲醛於鹼觸媒下反應。此時，為了防止樹脂化或凝膠化，較佳為使反應溫度為60℃以下來進行反應。具體而言，可利用日本專利特開平6-282067號、日本專利特開平7-64285號公報等中記載的方法來進行合成。

具有烷氧基甲基的酚化合物可藉由以下方式而獲得：使對應的具有羥基甲基的酚化合物與醇於酸觸媒下反應。此時，為了防止樹脂化或凝膠化，較佳為使反應溫度為100℃以下來進行反應。具體而言，可利用EP632003A1等中記載的方法來進行合成。如此而合成的具有羥基甲基或烷氧基甲基的酚化合物於保存時的穩定性的方面而言較佳，具有烷氧基甲基的酚化合物就保存時的穩定性的觀點而言尤佳。具有合計2個以上的羥基甲基或烷氧基甲基、且使該些基團集中鍵結於任一苯環上或分開鍵結於不同苯環上的此種酚化合物可單獨使用，另外亦可組合使用兩種以上。

於本發明中，熱硬化性化合物可單獨使用，亦可組合使用兩種以上。

構成本發明的積層體的著色硬化性組成物中的熱硬化性化合物的總含量視原材料而不同，相對於著色硬化性組成物的總固體成分(質量)，較佳為5質量%~40質量%，更佳為7質量%~35質量%，尤佳為10質量%~30質量%。於本發明中，藉由設定為此種熱硬化性化合物的調配量，可獲得以下效果：可獲得耐化學品性優異的硬化膜。

[溶劑]

構成本發明的積層體的著色硬化性組成物含有至少溶解染料及熱硬化性化合物的溶劑(通常為有機溶劑)。

有機溶劑可較佳地列舉：作為酯類的例如乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸異丁酯、甲酸戊酯、乙酸異戊酯、乙酸異丁酯、丙酸丁酯、丁酸異丙酯、丁酸乙酯、丁酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、氧基乙酸烷基酯(例如氧基乙酸甲酯、氧基乙酸乙酯、氧基乙酸丁酯(例如甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯等))、3-氧基丙酸烷基酯類(例如3-氧基丙酸甲酯、3-氧基丙酸乙酯等(例如3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯等))、2-氧基丙酸烷基酯類(例如2-氧基丙酸甲酯、2-氧基丙酸乙酯、2-氧基丙酸丙酯等(例如2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯))、2-氧基-2-甲基丙酸甲酯及2-氧基-2-甲基丙酸乙酯(例如2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯等)、丙酮酸 甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸丙酯、乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯、2-氧雜丁酸甲酯、2-氧雜丁酸乙酯等；以及作為醚類的例如二乙二醇二甲醚、四氫呋喃、乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、甲基溶纖劑乙酸酯、乙基溶纖劑乙酸酯、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單丁醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、丙二醇單丙醚乙酸酯等；以及作為酮類的例如甲基乙基酮、環己酮、2-庚酮、3-庚酮等；以及作為芳香族烴類的例如甲苯、二甲苯等。

就塗佈面狀的改良等觀點而言，該些溶劑亦較佳為混合兩種以上的形態。於該情形時，尤佳為由選自以下溶劑中的兩種以上所構成的混合溶液：上述3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙基溶纖劑乙酸酯、乳酸乙酯、二乙二醇二甲醚、乙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、2-庚酮、環己酮、乙基卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯、丙二醇甲醚及丙二醇甲醚乙酸酯。

就塗佈性的觀點而言，著色硬化性組成物中的溶劑的含量較佳為設定為著色硬化性組成物的總固體成分濃度成為5質量%~30質量%的量，進而佳為7質量%~25質量%，尤佳為10質量%~20質量%。

<各種添加物>

構成本發明的積層體的著色硬化性組成物可於不損及本發明效果的範圍內，視需要而調配各種添加物，例如界面活性劑、酸酐、硬化劑、硬化觸媒、填充劑、密接促進劑、抗氧化劑、紫 外線吸收劑、抗凝聚劑等。

<界面活性劑>

就進一步提高塗佈性的觀點而言，構成本發明的積層體的著色硬化性組成物亦可添加各種界面活性劑。界面活性劑可使用：氟系界面活性劑、非離子系界面活性劑、陽離子系界面活性劑、陰離子系界面活性劑、矽酮系界面活性劑等各種界面活性劑。

尤其構成本發明的積層體的著色硬化性組成物藉由含有氟系界面活性劑，製備成塗佈液時的溶液特性(特別是流動性)進一步提高，故可進一步改善塗佈厚度的均勻性或省液性。

即，於使用應用含有氟系界面活性劑的著色硬化性組成物的塗佈液來進行膜形成的情形時，藉由使被塗佈面與塗佈液的界面張力降低，對被塗佈面的濡濕性得到改善，對被塗佈面的塗佈性提高。因此，於以下方面有效：即便於以少量的液量來形成幾微米(μm)左右的薄膜的情形時，亦可更佳地進行厚度不均小的均勻厚度的膜形成。

氟系界面活性劑中的氟含有率較佳為3質量%~40質量%，更佳為5質量%~30質量%，尤佳為7質量%~25質量%。氟含有率在該範圍內的氟系界面活性劑於塗佈膜的厚度的均勻性或省液性的方面有效，於著色硬化性組成物中的溶解性亦良好。

氟系界面活性劑例如可列舉美佳法(Megafac)F781(以上為迪愛生(DIC)(股)製造)等。

界面活性劑可僅使用一種，亦可組合使用兩種以上。

著色硬化性組成物可含有界面活性劑亦可不含界面活性劑，於含有界面活性劑的情形時，相對於著色硬化性組成物的總質量，界面活性劑的添加量較佳為0.001質量%~2.0質量%，更佳為0.005質量%~1.0質量%。

再者，於界面活性劑為高分子化合物(即樹脂)的情形時，該高分子化合物的固體成分酸值是設定為80mgKOH/g以下。

<酸酐>

構成本發明的積層體的著色硬化性組成物亦可含有酸酐。藉由含有酸酐，可提高由熱硬化性化合物、特別是環氧化合物的熱硬化所得的交聯性。

酸酐例如可列舉：鄰苯二甲酸酐、耐地酸酐、馬來酸酐、琥珀酸酐等。其中，就對顏料分散的影響少的方面而言，酸酐較佳為鄰苯二甲酸酐。胺系化合物亦通常作為環氧硬化劑，但有適用期(pot life)相對較長等優點。

相對於熱硬化性化合物(特別是環氧化合物)的含量，酸酐於著色硬化性組成物中的含量較佳為10質量%~40質量%的範圍，更佳為15質量%~30質量%的範圍。若酸酐的含量為10質量%以上，則熱硬化性化合物、特別是環氧化物的交聯密度提高，可提高機械強度，若酸酐的含量為30質量%以下，則抑制塗膜中的熱硬化成分，有利於提高有色材料的濃度。

<硬化劑>

於使用環氧樹脂作為熱硬化性化合物的情形時，較佳為 添加硬化劑。環氧樹脂的硬化劑的種類非常多，性質、樹脂與硬化劑的混合物的可使用時間、黏度、硬化溫度、硬化時間、發熱等視所使用的硬化劑的種類而大不相同，因此必須根據硬化劑的使用目的、使用條件、作業條件等來選擇適當的硬化劑。關於硬化劑，於垣內弘編著的「環氧樹脂(升晃堂)」第5章中有詳細解說。以下示出硬化劑的例子。

以觸媒方式發揮作用的硬化劑有三級胺類、三氟化硼-胺錯合物，以化學計量與環氧樹脂的官能基反應的硬化劑有多胺、酸酐等；另外，常溫硬化的硬化劑有二乙三胺、聚醯胺樹脂，中溫硬化的硬化劑的例子有二乙基胺基丙基胺、三(二甲基胺基甲基)苯酚；高溫硬化的例子有鄰苯二甲酸酐、間苯二胺等。另外，若以化學結構分類來看，則可列舉：胺類中作為脂肪族多胺的二乙三胺、作為芳香族多胺的間苯二胺、作為三級胺的三(二甲基胺基甲基)苯酚；作為酸酐的鄰苯二甲酸酐；聚醯胺樹脂；聚硫醚樹脂；三氟化硼-單乙基胺錯合物；作為合成樹脂初期縮合物的酚樹脂；此外可列舉二氰二醯胺(dicyandiamide)等。

該些硬化劑藉由加熱而與環氧基反應，發生聚合，由此 交聯密度提高而硬化。為了實現薄膜化，較佳為黏合劑、硬化劑均儘量為少量，特別是關於硬化劑，較佳為相對於熱硬化性化合物而設定為35質量%以下、較佳為30質量%以下、進而佳為25質量%以下。

<硬化觸媒>

為了實現著色劑濃度高的組成，除了由與硬化劑的反應所致的硬化以外，有效的是主要由環氧基彼此的反應所致的硬化。因此，亦可不使用硬化劑而使用硬化觸媒。關於硬化觸媒的添加量，相對於環氧當量為150~200左右的環氧樹脂，以質量基準計而能以1/10~1/1000左右、較佳為1/20~1/500左右、進而佳為1/30~1/250左右的稍許量來硬化。

<著色硬化性組成物的製備方法>

對構成本發明的積層體的著色硬化性組成物的較佳製備方法加以說明。然而，本發明不限定於此。

於著色劑為染料的情形時，使其與熱硬化性化合物一併溶解於溶劑中。於含有顏料作為著色劑的情形時，通常如上述般以顏料分散物的形式調整後調配。

尤其於熱硬化性化合物為環氧化合物的情形時，較佳為於如此所得的顏料的分散物或染料的溶液中添加熱硬化性化合物與硬化觸媒或硬化劑，或者於黏合劑已為熱硬化性化合物的情形時添加硬化觸媒或硬化劑，賦予熱硬化功能，視需要添加溶劑，由此製備本發明的著色硬化性組成物。

<過濾器過濾>

構成本發明的積層體的著色硬化性組成物為了去除異物或減少缺陷等，較佳為利用過濾器進行過濾。

過濾器過濾時所用的過濾器只要為先前以來於過濾用途等中所用的過濾器，則可無特別限定地使用。

上述過濾器的材質的例子可列舉：聚四氟乙烯 (Polytetrafluoroethylene，PTFE)等氟樹脂；尼龍-6、尼龍-6,6等聚醯胺系樹脂；聚乙烯、聚丙烯(Polypropylene，PP)等聚烯烴樹脂(包含高密度、超高分子量)等。該些原材料中，較佳為聚丙烯(包含高密度聚丙烯)。

上述過濾器的孔徑並無特別限定，例如為0.01μm~20.0 μm左右，較佳為0.01μm~5μm左右，進而佳為0.01μm~2.0μm左右。

藉由將過濾器的孔徑設定為上述範圍，可有效地去除微 細的粒子，從而可進一步降低濁度。

此處，過濾器的孔徑可參照過濾器廠商(filter maker)的 標稱值。市售的過濾器例如可自日本頗爾(pall)股份有限公司、愛德萬東洋(Advantec Toyo)股份有限公司、日本英特格(Entegris)股份有限公司(原日本麥克麗思(Microris)股份有限公司)或北澤微濾器(KITZ Micro Filter)股份有限公司等所提供的各種過濾器中選擇。

上述過濾器過濾中，亦可組合使用兩種以上的過濾器。

例如，可首先使用第1過濾器進行過濾，繼而使用孔徑 與第1過濾器不同的第2過濾器來進行過濾。

此時，利用第1過濾器的過濾及利用第2過濾器的過濾 可分別進行僅一次，亦可進行兩次以上。

第2過濾器可使用由與上述第1過濾器相同的材料等所 形成者。

[著色層]

藉由使上述著色硬化性組成物硬化，可製成構成本發明的積層體的著色層。關於著色層的形成方法，將於後述。該著色層可較佳地用作彩色濾光片的著色層。尤其可較佳地用作乾式蝕刻用著色硬化性組成物。

於本發明中，著色層的厚度較佳為0.1μm~1.0μm，更佳為0.3μm~0.8μm。於本發明中，由於可提高著色層中的著色劑的濃度，故可實現此種薄膜化。

[氧阻斷膜]

本發明的積層體於上述著色層上具有氧阻斷膜。該氧阻斷膜是使用氧阻斷性化合物而形成，表現出高的氧阻斷能力、高透明性及低光散射性。

此處，所謂膜面粗糙，是指以下狀態：於著色層的表面上產生多個凝聚物，由此於著色層的表面上形成有多個凹凸的狀態。關於在著色層表面上產生膜面粗糙的因素，可認為是由於以下情況而產生：單重態氧將著色層中的聚合物成分(熱硬化性化合物的硬化物)分解，著色劑與聚合物成分發生相分離，著色劑彼此形成凝聚物。而且可認為，著色劑的濃度越高，著色層中的聚合物成分的量越變少，故著色劑彼此更容易形成凝聚物，容易產生著色層表面的膜面粗糙。尤其本申請案發明者進行了研究，結果發現，於著色硬化性組成物中的著色劑的固體成分濃度超過 50質量%的情形時，進而於超過60質量%的情形時，明顯產生膜面粗糙。尤其亦得知該傾向於高溫高濕下容易明顯產生。

氧阻斷膜所含有的氧阻斷性化合物可為無機材料及有機材料的任一種，較佳為無機材料。具體可使用：金屬氧化物、含金屬烷氧基的化合物、有機聚合物等。再者，就氧阻斷能力更優異的方面而言，氧阻斷膜較佳為實質上僅由上述氧阻斷性化合物所構成。所謂實質上僅氧阻斷性化合物，例如是指氧阻斷膜中的氧阻斷性化合物的含量為99質量%以上。

金屬氧化物可列舉：SiO₂、SiN、Al₂O₃、CaO、Fe₂O₃、MgO、Ga₂O、ZrO₂、TiO₂、CaF₂等。該些金屬氧化物中，就氧阻斷性及透明性優異的觀點而言，較佳為SiO₂、SiN，尤佳為SiO₂。

含金屬烷氧基的化合物可列舉：四乙氧基矽烷、原鈦酸四乙酯、四甲氧基矽烷、乙基三乙氧基矽烷、甲基三甲氧基矽烷等。

有機聚合物可列舉：聚乙烯醇(Polyvinylalcohol，PVA)、聚乙烯基吡咯啶酮、聚丙烯醯胺類、水溶性聚醯胺、聚丙烯酸的水溶性鹽、聚乙烯醚與馬來酸酐的聚合物、環氧乙烷聚合物，乙基纖維素、羥乙基纖維素、羧乙基纖維素的水溶性鹽等纖維素類，阿拉伯膠(Arabic Gum)、含烷氧基矽烷基的聚合物等或該些物質的兩種以上的混合物，該些物質中，就氧阻斷性優異的觀點而言，較佳為聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯啶酮或聚乙烯醇與聚乙烯基吡咯啶酮的混合物，尤佳為聚乙烯醇。

聚乙烯醇較佳為重量平均分子量為300~2400，另外，較佳為71莫耳%~100莫耳%經水解者。具體可列舉：PVA-101、PVA-105、PVA-110、PVA-117、PVA-117H、PVA-120、PVA-124、(以上全部為商品名，可樂麗(Kuraray)股份有限公司製造，皂化率為97%~98%)、PVA-203、PVA-204、PVA-205、PVA-210、PVA-220、PBA-224、PVA-217E(以上全部為商品名，可樂麗(Kuraray)股份有限公司製造，皂化率為87%~88%)、PVA-405、PVA-420(以上全部為商品名，可樂麗(Kuraray)股份有限公司製造，皂化率為78%~82%)、PVA-613(以上為商品名，可樂麗(Kuraray)股份有限公司製造，皂化率為92%~95%)。再者，PVA之後的3位編號中的後2位×100分別表示聚合度。

聚乙烯醇與聚乙烯基吡咯啶酮的混合物中的PVA的含量較佳為25質量%~99質量%，更佳為50質量%~90質量%，尤佳為50質量%~80質量%。該聚合物的添加量為層總體的1質量%~40質量%，更佳為10質量%~35質量%。聚乙烯基吡咯啶酮的含量較佳為設定為氧阻斷膜的總固體成分的1質量%~75質量%，更佳為1質量%~50質量%，進而佳為10質量%~40質量%。藉由將聚乙烯基吡咯啶酮的添加量設定為氧阻斷膜的總固體成分的1質量%~75質量%，可使氧阻斷性更良好。

於本發明中，氧阻斷膜的膜厚較佳為10μm以下。氧阻斷膜於膜厚在上述範圍內時，所形成的彩色畫素的感度或平坦性等優異，作為彩色濾光片的氧阻斷膜而較佳地發揮功能。於氧阻 斷膜的膜厚超過10μm的情形時，雖可抑制氧阻斷膜的氧透過性，但有導致通過彩色濾光片層的光的強度降低之虞。氧阻斷膜的膜厚更佳為5μm以下，進而佳為1μm以下。氧阻斷膜的膜厚的下限值並無特別限定，為0.05μm以上。

氧阻斷層較佳為氧透過率為200ml/m²．day．atm以下，更佳為100ml/m²．day．atm以下，尤佳為50ml/m²．day．atm以下。氧透過率的下限並無特別限定，較佳為0ml/m²．day．atm。於氧透過率為上述範圍的情形時，於著色膜的膜面粗糙的觀點而言氧阻斷層較佳地發揮功能。

關於測定氧阻斷層的氧透過率的方法，例如可如以下般測定。氧電極是使用日本奧貝斯菲實驗室股份有限公司(Orbisphere Laboratories Japan Inc)製造的模型(model)3600。 電極隔膜是使用響應速度及感度優異的聚氟烷氧基(PFA)2956A。於電極隔膜上薄薄地(例如1.0μm)塗佈矽酮油脂(silicone grease)(SH111，東麗道康寧(股)製造)，於其上貼附要測定的薄膜材料，測定氧濃度值。再者，確認矽酮油脂的塗佈膜對氧透過速度並無影響。繼而，換算出相對於氧濃度值的氧透過速度(ml/m2．day．atm)。

關於形成氧阻斷膜的方法，於氧阻斷性化合物包含無機材料的情形時，可使用：蒸鍍、濺鍍等物理製膜法，化學氣相沈積(Chemical Vapor Deposition，CVD)等化學製膜法，化學液相沈積(Chemical Liquid Deposition，CLD)、噴霧法等濕式製膜法 等各種製膜法。於氧阻斷性化合物包含含金屬烷氧基的化合物、有機聚合物的情形時，可使用輥塗機、氣刀塗佈機、刮刀塗佈機、桿式塗佈機(rod coater)、棒塗機、旋塗機、噴霧塗佈機等各種塗佈機。

以下，列舉本發明的積層體的較佳實施形態，但本發明不限定於該些實施形態。

(第1實施形態)

於使著色硬化性組成物硬化而成的著色層上形成有氧阻斷膜的態樣，上述著色硬化性組成物含有著色劑、熱硬化性化合物及溶劑，並且相對於著色硬化性組成物的總固體成分，著色劑的合計含量為50質量%~90質量%。

(第2實施形態)

著色劑含有上述通式(1)所表示的鹵化酞青染料的態樣。

(第3實施形態)

著色劑更含有黃色色素的態樣。

(第4實施形態)

熱硬化性化合物為環氧化合物的態樣。

(第5實施形態)

氧阻斷膜含有無機材料的態樣。

(第6實施形態)

相對於著色硬化性組成物的總固體成分，著色劑的合計 含量為60質量%~90質量%的態樣。

(第7實施形態)

著色層的厚度為0.1μm~1.0μm的態樣。

(第8實施形態)

氧阻斷膜與上述著色層鄰接的態樣。

(第9實施形態)

氧阻斷膜的厚度為10μm以下的態樣。

(第10實施形態)

包含第1實施形態~第9實施形態的兩個以上的組合的形態。

[彩色濾光片及其製造方法]

本發明的彩色濾光片的製造方法的一例包括以下步驟：使用上述著色硬化性組成物來形成著色層的步驟；於著色層上形成光阻層的步驟；藉由曝光及顯影將光阻層圖案化而獲得抗蝕劑圖案的步驟；將抗蝕劑圖案作為蝕刻遮罩來對著色層進行乾式蝕刻的步驟；以及於乾式蝕刻後的著色層上形成氧阻斷膜的步驟。

本發明的彩色濾光片的製造方法使用上述著色硬化性組成物(亦稱為第1著色硬化性組成物)來形成第1著色層。此處，如上所述，第1著色層的耐溶劑性及耐鹼性顯影液性優異。藉此，可抑制以下可能性：於下文將詳細描述的於第1著色層上形成抗蝕劑圖案(經圖案化的光阻層)作為蝕刻用的遮罩時所使用的顯影液中，或於第1著色層上藉由第2著色感放射線性組成物來形 成第2著色感放射線性層的步驟、及於第1著色層上藉由第3著色感放射線性組成物來形成第3著色感放射線性層的步驟中，第1著色層溶解於第2著色感放射線性組成物或第3著色感放射線性組成物中的有機溶劑、或對藉由第2著色感放射線性組成物或第3著色感放射線性組成物所形成的第2著色感放射線性層或第3著色感放射線性層進行曝光、顯影時所使用的顯影液中，第1著色層中的色彩成分溶出至上述溶劑或顯影液中的可能性；或第2著色感放射線性組成物或第3著色感放射線性組成物中的色彩成分混入至第1著色層中的可能性等。結果，可抑制第1著色層中的色彩成分的脫色的產生或多種顏色彼此重疊的重疊(overlap)區域的產生，故可提高最終獲得的彩色濾光片的性能。

尤其對於製作例如需求厚度成為0.1μm~1.0μm及/或畫素圖案尺寸(正方圖案的一邊)成為2μm以下(例如0.5μm~2.0μm)般的微小尺寸的固體攝影元件用的彩色濾光片而言有效。

另外，根據本發明的彩色濾光片的製造方法，可提供一種彩色濾光片，該彩色濾光片的著色層的著色劑濃度高，且即便放置於高溫高濕下亦不易引起著色層表面的膜面粗糙。

此處，對於固體攝影元件，參照圖1對一例加以簡略說明。

如圖1所示，固體攝影元件10包含設置於矽基板上的受光元件(光二極體)42、彩色濾光片13、平坦化膜14及微透鏡15等。於本發明中，平坦化膜14未必一定要設置。再者，於圖1 中，為了明確各部分，將相互的厚度或寬度的比率忽視而局部誇張地表示。

支撐體除了矽基板以外，只要為彩色濾光片中所用者則並無特別限制，例如可列舉：液晶顯示元件等中所用的鈉玻璃(soda glass)、硼矽酸玻璃、石英玻璃及於該些玻璃上附著有透明導電膜者，或固體攝影元件等中所用的光電轉換元件基板，例如氧化膜、氮化矽等。另外，只要不損及本發明，則於該些支撐體與彩色濾光片13之間亦可設置中間層等。

於矽基板上具有P阱41，於該P阱的表面的一部分上具有光二極體42。光二極體42是藉由以下方式形成：於P阱的表面的一部分上離子注入P或As等N型雜質後，進行熱處理。另外，於矽基板的P阱41的表面且與上述一部分不同的區域中，具有其中N型雜質濃度高於光二極體42的雜質擴散層43。該雜質擴散層43是藉由離子注入P或As等N型雜質後進行熱處理而形成，發揮浮游擴散層的功能，上述浮游擴散層將藉由光二極體42接受入射光所產生的電荷轉移。除了將晶圓41設定為P型雜質層、將光二極體42及雜質擴散層43設定為N型雜質層以外，亦可將晶圓41設定為N型雜質層、將光二極體42及雜質擴散層43設定為P型雜質層來實施。

於P阱41、光二極體42及雜質擴散層43上，具有SiO₂或SiO₂/SiN/SiO₂等的絕緣膜47，於該絕緣膜47上設有包含多晶矽、鎢、矽化鎢、Al、Cu等的電極44。電極44可發揮閘極金屬 氧化物半導體(Metal Oxide Semiconductor，MOS)電晶體的閘極的功能，發揮作為用以將光二極體42中產生的電荷轉移至雜質擴散層43的轉移閘極的功能。進而，於電極44的上方，形成有配線層45。於配線層45的更上方，具有BPSG膜46、P-SiN膜48。 硼磷矽玻璃(Borophosphosilicate Glass，BPSG)膜46與P-SiN膜48的界面是以成為於光二極體42的上方向下彎曲的形狀的方式而形成，發揮用以將入射光高效地導入至光二極體42內的層內透鏡的功能。於BPSG膜46上，為了使P-SiN膜48表面或畫素區域以外的凹凸部平坦化而形成有平坦化膜層49。

於該平坦化膜層49上形成有彩色濾光片13。再者，於以下的說明中，將未劃分區域而形成於矽基板上的著色膜(所謂整體膜)稱為「著色(著色感放射線性)層」，將以圖案狀劃分區域而形成的著色膜(例如以條紋狀經圖案化的膜等)稱為「著色圖案」。另外，著色圖案中，將成為構成彩色濾光片13的要素的著色圖案(例如以正方形或長方形的形式經圖案化的著色圖案等)稱為「著色(紅色、綠色、藍色)畫素」。

彩色濾光片13包含經二維排列的多個綠色畫素(第1色畫素)20G、紅色畫素(第2色畫素)20R及藍色畫素(第3色畫素)20B。各著色畫素20R、著色畫素20G、著色畫素20B分別是形成於受光元件42的上方位置。將綠色畫素20G形成為棋盤紋樣，並且將藍色畫素20B及紅色畫素20R形成於各綠色畫素20G之間。再者，圖1中，為了對彩色濾光片13包含三色畫素的情況 加以說明，將各著色畫素20R、著色畫素20G、著色畫素20B排成一行來表示。

平坦化膜14是以覆蓋彩色濾光片13的上表面的方式形成，使彩色濾光片表面平坦化。

微透鏡15為使凸面朝上而配置的聚光透鏡，是設置於平坦化膜14(不具有平坦化膜的情形時為彩色濾光片)的上方且受光元件42的上方。各微透鏡15將來自被攝體的光高效地導向各受光元件42。

繼而，對本發明的實施形態的彩色濾光片的製造方法加以說明。

於本發明的實施形態的彩色濾光片的製造方法中，首先，如圖2的概略剖面圖所示，藉由第1著色硬化性組成物來形成第1著色層11(步驟(A))。此處，第1著色硬化性組成物為上述著色硬化性組成物。

關於第1著色層11的形成，可藉由以下方式來形成：藉由旋轉塗佈、狹縫塗佈、噴霧塗佈等塗佈方法將著色硬化性組成物塗佈於支撐體上，並加以乾燥而形成著色層。

第1著色層11的厚度較佳為0.3μm~1.0μm的範圍，更佳為0.35μm~0.8μm的範圍，進而佳為0.35μm~0.7μm的範圍。

於第1著色硬化性組成物含有熱硬化性化合物的情形時，較佳為藉由熱板、烘箱等加熱裝置對第1著色層11進行加熱而使其硬化。加熱溫度較佳為120℃~250℃，更佳為160℃~ 230℃。加熱時間視加熱機構而不同，於在熱板上進行加熱的情形時，通常為3分鐘~30分鐘左右，於在烘箱中進行加熱的情形時，通常為30分鐘~90分鐘左右。

繼而，於第1著色層11中以形成貫通孔組群的方式藉由乾式蝕刻進行圖案化(步驟(B))。藉此形成第1著色圖案。根據該方法，與藉由著色感放射線性組成物來形成第1著色層，並藉由對該第1著色層進行曝光、顯影而設置貫通孔組群的情形相比較，能更可靠地設置所需形狀的貫通孔組群。其原因在於：於相對於著色硬化性組成物的總固體成分而將著色劑的含量設定為50質量%以上的著色感放射線性組成物中，於組成物中可添加有助於顯影能力的成分的餘地有限，故難以實現可靠的圖案化。

第1著色圖案可為於支撐體上作為第1色而設置的著色圖案，視情形不同，亦可為於具有已設的圖案的支撐體上作為例如第2色或第3色以後的圖案而設置的著色圖案。

乾式蝕刻可將經圖案化的光阻層作為遮罩使用蝕刻氣體來對第1著色層11進行。例如，如圖3的概略剖面圖所示，首先於第1著色層11上形成光阻層51。

具體而言，於著色層上應用(較佳為塗佈)正型或負型的感放射線性組成物，並使其乾燥，由此形成光阻層。關於光阻層51的形成，較佳為進一步實施預烘烤處理。尤其，光阻的形成製程理想的是實施曝光後的加熱處理(曝光後烘烤(Post Exposure Bake，PEB))、顯影後的加熱處理(後烘烤處理)的形態。

光阻例如可使用正型的感放射線性組成物。該正型的感放射線性組成物可使用：適於感應紫外線(g射線、h射線、i射線)、包含準分子雷射等的遠紫外線、電子束、離子束及X射線等放射線的正型光阻用的正型抗蝕劑組成物。放射線中，較佳為g射線、h射線、i射線，其中較佳為i射線。

具體而言，正型的感放射線性組成物較佳為含有醌二疊氮化合物及鹼可溶性樹脂的組成物。含有醌二疊氮化合物及鹼可溶性樹脂的正型的感放射線性組成物利用以下情況：藉由500nm以下的波長的光照射而醌二疊氮基發生分解產生羧基，結果由鹼不溶狀態變化為鹼可溶性。該正型光阻的解析力明顯優異，故被用於製作積體電路(Integrated Circuit，IC)或大規模積體電路(Large Scale Integration，LSI)等積體電路。醌二疊氮化合物可列舉萘醌二疊氮化合物。

光阻層51的厚度較佳為0.1μm~3μm，更佳為0.2μm~2.5μm，進而佳為0.3μm~2μm。再者，光阻層51的塗佈可使用上文已述的第1著色層11的塗佈方法來較佳地進行。

繼而，如圖4的概略剖面圖所示，對該光阻層51進行曝光、顯影，由此形成設有抗蝕劑貫通孔組群51A的抗蝕劑圖案(經圖案化的光阻層)52。

抗蝕劑圖案52的形成並無特別限制，可將先前公知的光微影的技術適當地最適化來進行。藉由曝光、顯影而於光阻層51中設有抗蝕劑貫通孔組群51A，藉此將作為後續蝕刻中所用的蝕 刻遮罩的抗蝕劑圖案52設置於第1著色層11上。

光阻層51的曝光可藉由以下方式來進行：經由既定的遮罩圖案，藉由g射線、h射線、i射線等，較佳為i射線對正型或負型的感放射線性組成物實施曝光。曝光後，利用顯影液進行顯影處理，由此與欲形成著色圖案的區域一致而去除光阻。

上述顯影液只要不對含有著色劑的第1著色層造成影響、且溶解正型抗蝕劑的曝光部及負型抗蝕劑的未硬化部，則均可使用，例如可使用各種有機溶劑的組合或鹼性的水溶液。鹼性的水溶液較佳為將鹼性化合物以濃度成為0.001質量%~10質量%、較佳為0.01質量%~5質量%的方式溶解而製備的鹼性水溶液。鹼性化合物例如可列舉：氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、矽酸鈉、偏矽酸鈉、氨水、乙胺、二乙胺、二甲基乙醇胺、氫氧化四甲基銨、氫氧化四乙基銨、膽鹼、吡咯、哌啶、1,8-二氮雜雙環[5.4.0]-7-十一烯等。另外，於使用鹼性水溶液作為顯影液的情形時，通常於顯影後利用水實施清洗處理。

繼而，如圖5的概略剖面圖所示，將抗蝕劑圖案52作為蝕刻遮罩，於第1著色層11中以形成貫通孔組群120的方式藉由乾式蝕刻進行圖案化。藉此，形成第1著色圖案12。此處，貫通孔組群120具有第1貫通孔部分組群121及第2貫通孔部分組群122。

貫通孔組群120是以棋盤狀而設置於第1著色層11中。因此，於第1著色層11中設有貫通孔組群120而成的第1著色圖 案12以棋盤狀而具有多個四角形狀的第1著色畫素。

具體而言，乾式蝕刻時，將抗蝕劑圖案52作為蝕刻遮罩來對第1著色層11進行乾式蝕刻。乾式蝕刻的具代表性的例子有日本專利特開昭59-126506號、日本專利特開昭59-46628號、日本專利特開昭58-9108號、日本專利特開昭58-2809號、日本專利特開昭57-148706號、日本專利特開昭61-41102號等公報中記載的方法。

就將圖案剖面形成得更接近矩形的觀點或進一步減少對支撐體的損傷的觀點而言，乾式蝕刻較佳為按以下形態來進行。

較佳為包含第1階段的蝕刻、第2階段的蝕刻及過蝕刻的形態，上述第1階段的蝕刻使用氟系氣體與氧氣(O₂)的混合氣體，進行蝕刻直至支撐體不露出的區域(深度)為止，上述第2階段的蝕刻是於上述第1階段的蝕刻之後，使用氮氣(N₂)與氧氣(O₂)的混合氣體，進行蝕刻直至較佳為支撐體露出的區域(深度)附近為止，上述過蝕刻是於支撐體露出後進行。以下，對乾式蝕刻的具體方法以及第1階段的蝕刻、第2階段的蝕刻及過蝕刻加以說明。

乾式蝕刻是藉由下述方法預先求出蝕刻條件後進行。

(1)分別算出第1階段的蝕刻的蝕刻速率(nm/min)、及第2階段的蝕刻的蝕刻速率(nm/min)。

(2)分別算出於第1階段的蝕刻中蝕刻所需厚度的時間、及於第2階段的蝕刻中蝕刻所需厚度的時間。

(3)依照上述(2)中算出的蝕刻時間來實施第1階段的蝕刻。

(4)依照上述(2)中算出的蝕刻時間來實施第2階段的蝕刻。或者，亦可藉由終點(end point)檢測來決定蝕刻時間，並依照所決定的蝕刻時間來實施第2階段的蝕刻。

(5)相對於上述(3)、(4)的合計時間來算出過蝕刻時間，實施過蝕刻。

就將作為被蝕刻膜的有機材料加工成矩形的觀點而言，上述第1階段的蝕刻步驟中所用的混合氣體較佳為含有氟系氣體及氧氣(O₂)。另外，第1階段的蝕刻步驟藉由設定為蝕刻至支撐體不露出的區域為止的形態，可避免支撐體的損傷。

另外，就避免支撐體的損傷的觀點而言，上述第2階段的蝕刻步驟及上述過蝕刻步驟較佳為於第1階段的蝕刻步驟中藉由氟系氣體及氧氣的混合氣體實施蝕刻直至支撐體不露出的區域為止後，使用氮氣及氧氣的混合氣體來進行蝕刻處理。

重要的是以不損及第1階段的蝕刻步驟中的蝕刻處理的矩形性的方式來決定第1階段的蝕刻步驟中的蝕刻量與第2階段的蝕刻步驟中的蝕刻量之比率。再者，總蝕刻量(第1階段的蝕刻步驟中的蝕刻量與第2階段的蝕刻步驟中的蝕刻量的總和)中的後者的比率較佳為大於0%且為50%以下的範圍，更佳為10%~20%。所謂蝕刻量，是指被蝕刻膜的殘存膜厚。

另外，蝕刻較佳為包含過蝕刻處理。過蝕刻處理較佳為 設定過蝕刻比率來進行。另外，過蝕刻比率較佳為根據先進行的蝕刻處理時間來算出。過蝕刻比率可任意設定，就光阻的耐蝕刻性及被蝕刻圖案的矩形性維持的方面而言，較佳為蝕刻步驟中的蝕刻處理時間的30%以下，更佳為5%~25%，尤佳為10%~15%。

然後，如圖6的概略剖面圖所示，將蝕刻後殘存的抗蝕 劑圖案(即蝕刻遮罩)52去除。抗蝕劑圖案52的去除較佳為包括以下步驟：於抗蝕劑圖案52上賦予剝離液或溶劑，調整為可去除抗蝕劑圖案52的狀態的步驟；以及使用清洗水將抗蝕劑圖案52去除的步驟。

於抗蝕劑圖案52上賦予剝離液或溶劑而調整為可去除抗 蝕劑圖案52的狀態的步驟例如可列舉：將剝離液或溶劑至少賦予至抗蝕劑圖案52上，使其停滯既定時間而進行浸置顯影的步驟。 使剝離液或溶劑停滯的時間並無特別限制，較佳為幾十秒至幾分鐘。

另外，使用清洗水將抗蝕劑圖案52去除的步驟例如可列 舉：自噴霧式或噴淋式的噴射噴嘴對抗蝕劑圖案52噴射清洗水，將抗蝕劑圖案52去除的步驟。清洗水可較佳地使用純水。另外，噴射噴嘴可列舉：於其噴射範圍內包含支撐體總體的噴射噴嘴、或為可動式的噴射噴嘴且其可動範圍包含支撐體總體的噴射噴嘴。於噴射噴嘴為可動式的情形時，藉由在去除抗蝕劑圖案52的步驟中自支撐體中心部起至支撐體端部為止移動2次以上來噴射清洗水，可更有效地去除抗蝕劑圖案52。

剝離液通常含有有機溶劑，亦可更含有無機溶劑。有機溶劑例如可列舉：1)烴系化合物、2)鹵化烴系化合物、3)醇系化合物、4)醚或縮醛系化合物、5)酮或醛系化合物、6)酯系化合物、7)多元醇系化合物、8)羧酸或其酸酐系化合物、9)酚系化合物、10)含氮化合物、11)含硫化合物、12)含氟化合物。 剝離液較佳為含有含氮化合物，更佳為含有非環狀含氮化合物及環狀含氮化合物。

非環狀含氮化合物較佳為具有羥基的非環狀含氮化合物。具體而言，例如可列舉：單異丙醇胺、二異丙醇胺、三異丙醇胺、N-乙基乙醇胺、N,N-二丁基乙醇胺、N-丁基乙醇胺、單乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺等，較佳為單乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺，更佳為單乙醇胺(H₂NCH₂CH₂OH)。另外，環狀含氮化合物可列舉：異喹啉、咪唑、N-乙基嗎啉、ε-己內醯胺、喹啉、1,3-二甲基-2-咪唑啉酮、α-甲基吡啶、β-甲基吡啶、γ-甲基吡啶、2-甲基哌啶、3-甲基哌啶、4-甲基哌啶、哌嗪、哌啶、吡嗪、吡啶、吡咯啶、N-甲基-2-吡咯啶酮、N-苯基嗎啉、2,4-二甲基吡啶、2,6-二甲基吡啶等，較佳為N-甲基-2-吡咯啶酮、N-乙基嗎啉，更佳為N-甲基-2-吡咯啶酮(NMP)。

剝離液較佳為含有非環狀含氮化合物及環狀含氮化合物，其中，更佳為含有作為非環狀含氮化合物的選自單乙醇胺、二乙醇胺及三乙醇胺中的至少一種與作為環狀含氮化合物的選自N-甲基-2-吡咯啶酮及N-乙基嗎啉中的至少一種，進而佳為含有單 乙醇胺與N-甲基-2-吡咯啶酮。

於利用剝離液來進行去除時，只要將形成於第1著色圖 案12上的抗蝕劑圖案52去除即可，於第1著色圖案12的側壁上附著有作為蝕刻產物的堆積物的情形時，亦可不將該堆積物完全去除。所謂堆積物，是指蝕刻產物附著於著色層的側壁上堆積而成者。

剝離液理想的是以下溶液：相對於剝離液100質量份， 非環狀含氮化合物的含量為9質量份以上、11質量份以下，並且相對於剝離液100質量份，環狀含氮化合物的含量為65質量份以上、70質量份以下。另外，剝離液較佳為利用純水將非環狀含氮化合物與環狀含氮化合物的混合物稀釋而成者。

然後，如圖7的概略剖面圖所示，以使第2著色感放射 線性組成物埋設於第1貫通孔部分組群121及第2貫通孔部分組群122的各貫通孔的內部、形成多個第2著色畫素的方式，於第1著色層(即，於第1著色層11中形成貫通孔組群120而成的第1著色圖案12)上藉由第2著色感放射線性組成物來積層第2著色感放射線性層21(步驟(C))。藉此，於第1著色層11的貫通孔組群120中形成具有多個第2著色畫素的第2著色圖案22。此處，第2著色畫素成為四角形狀的畫素。第2著色感放射線性層21的形成可與形成上述第1著色層11的方法同樣地進行。

此處的第2著色感放射線性層21的厚度較佳為0.3μm~ 1μm的範圍，更佳為0.35μm~0.8μm的範圍，進而佳為0.35μm ~0.7μm的範圍。

繼而，對第2著色感放射線性層21的與第1著色層11中設置的第1貫通孔部分組群121對應的位置21A進行曝光、顯影，藉此將第2著色感放射線性層21、及設置於第2貫通孔部分組群122的各貫通孔的內部的多個第2著色畫素22R去除(步驟(D))(參照圖8的概略剖面圖)。

然後，如圖9的概略剖面圖所示，以使第3著色感放射線性組成物埋設於第2貫通孔部分組群122的各貫通孔的內部、形成多個第3著色畫素的方式，於第1著色層(即，於第1貫通孔部分組群121中形成第2著色圖案22而成的第1著色圖案12)上藉由第3著色感放射線性組成物來形成第3著色感放射線性層31(步驟(E))。藉此，於第1著色層11的第2貫通孔部分組群122中形成具有多個第3著色畫素的第3著色圖案32。此處，第3著色畫素成為四角形狀的畫素。第3著色感放射線性層31的形成可與形成上述第1著色層11的方法同樣地進行。

此處的第3著色感放射線性層31的厚度較佳為0.3μm~1μm的範圍，更佳為0.35μm~0.8μm的範圍，進而佳為0.35μm~0.7μm的範圍。

繼而，對第3著色感放射線性層31的與設於第1著色層11中的第2貫通孔部分組群122相對應的位置31A進行曝光、顯影，藉此去除第3著色感放射線性層31，由此如圖10的概略剖面圖所示，製造具有第1著色圖案12、第2著色圖案22及第3著色 圖案32的著色層60(步驟(F))。

本發明的彩色濾光片的製造方法中，如圖11所示，藉由 在著色層60形成上述氧阻斷膜61，可製造在著色層60上形成有氧阻斷膜61的彩色濾光片100。

上述第2著色感放射線性組成物及第3著色感放射線性 組成物分別含有著色劑。著色劑可同樣地列舉上述著色硬化性組成物的著色劑，較佳為第2著色畫素及第3著色畫素的一者為紅色透射部，另一者為藍色透射部。

用以形成紅色透射部的著色硬化性組成物中含有的著色 劑較佳為選自以下著色劑中的一種以上：C.I.顏料橙(Pigment Orange)2、C.I.顏料橙5、C.I.顏料橙13、C.I.顏料橙16、C.I.顏料橙17：1、C.I.顏料橙31、C.I.顏料橙34、C.I.顏料橙36、C.I.顏料橙38、C.I.顏料橙43、C.I.顏料橙46、C.I.顏料橙48、C.I.顏料橙49、C.I.顏料橙51、C.I.顏料橙52、C.I.顏料橙55、C.I.顏料橙59、C.I.顏料橙60、C.I.顏料橙61、C.I.顏料橙62、C.I.顏料橙64、C.I.顏料橙71、C.I.顏料橙73及C.I.顏料紅(Pigment Red)1、C.I.顏料紅2、C.I.顏料紅3、C.I.顏料紅4、C.I.顏料紅5、C.I.顏料紅6、C.I.顏料紅7、C.I.顏料紅9、C.I.顏料紅10、C.I.顏料紅14、C.I.顏料紅17、C.I.顏料紅22、C.I.顏料紅23、C.I.顏料紅31、C.I.顏料紅38、C.I.顏料紅41、C.I.顏料紅48：1、C.I.顏料紅48：2、C.I.顏料紅48：3、C.I.顏料紅48：4、C.I.顏料紅49、C.I.顏料紅49：1、C.I.顏料紅49：2、C.I.顏料紅52：1、C.I.顏料紅52：2、C.I.顏料紅 53：1、C.I.顏料紅57：1、C.I.顏料紅60：1、C.I.顏料紅63：1、C.I.顏料紅66、C.I.顏料紅67、C.I.顏料紅81：1、C.I.顏料紅81：2、C.I.顏料紅81：3、C.I.顏料紅83、C.I.顏料紅88、C.I.顏料紅90、C.I.顏料紅105、C.I.顏料紅112、C.I.顏料紅119、C.I.顏料紅122、C.I.顏料紅123、C.I.顏料紅144、C.I.顏料紅146、C.I.顏料紅149、C.I.顏料紅150、C.I.顏料紅155、C.I.顏料紅166、C.I.顏料紅168、C.I.顏料紅169、C.I.顏料紅170、C.I.顏料紅171、C.I.顏料紅172、C.I.顏料紅175、C.I.顏料紅176、C.I.顏料紅177、C.I.顏料紅178、C.I.顏料紅179、C.I.顏料紅184、C.I.顏料紅185、C.I.顏料紅187、C.I.顏料紅188、C.I.顏料紅190、C.I.顏料紅200、C.I.顏料紅202、C.I.顏料紅206、C.I.顏料紅207、C.I.顏料紅208、C.I.顏料紅209、C.I.顏料紅210、C.I.顏料紅216、C.I.顏料紅220、C.I.顏料紅224、C.I.顏料紅226、C.I.顏料紅242、C.I.顏料紅246、C.I.顏料紅254、C.I.顏料紅255、C.I.顏料紅264、C.I.顏料紅270、C.I.顏料紅272、C.I.顏料紅279。

用以形成藍色透射部的著色硬化性組成物所含有的著色劑較佳為選自以下著色劑中的一種以上：C.I.顏料紫(Pigment Violet)1、C.I.顏料紫19、C.I.顏料紫23、C.I.顏料紫27、C.I.顏料紫32、C.I.顏料紫37、C.I.顏料紫42及C.I.顏料藍(Pigment Blue)1、C.I.顏料藍2、C.I.顏料藍15、C.I.顏料藍15：1、C.I.顏料藍15：2、C.I.顏料藍15：3、C.I.顏料藍15：4、C.I.顏料藍15：6、C.I.顏料藍16、C.I.顏料藍22、C.I.顏料藍60、C.I.顏料藍64、C.I.顏料藍66、C.I. 顏料藍79、C.I.顏料藍80。

第2著色感放射線性組成物及第3著色感放射線性組成 物各自中，著色劑相對於組成物的總固體成分的含量較佳為30質量%以上，更佳為35質量%以上，進而佳為40質量%以上。另外，著色劑相對於組成物的總固體成分的含量通常為90質量%以下，較佳為80質量%以下。

另外，第2著色感放射線性組成物及第3著色感放射線 性組成物分別較佳為使用負型的感放射線性組成物。該負型的感放射線性組成物可使用感應紫外線(g射線、h射線、i射線)、包含準分子雷射等的遠紫外線、電子束、離子束及X射線等放射線的負型感放射線性組成物。放射線中，較佳為g射線、h射線、i射線，其中較佳為i射線。

具體而言，負型的感放射線性組成物較佳為含有光聚合 起始劑、聚合成分(聚合性化合物)及黏合樹脂(鹼可溶性樹脂等)等的組成物，例如可列舉日本專利特開2005-326453號公報的段落編號[0017]~段落編號[0064]中記載者。此種負型的感放射線性組成物利用以下情況：藉由放射線的照射，光聚合起始劑引發聚合性化合物的聚合反應，結果由鹼可溶狀態變化為鹼不溶性。

對第2著色感放射線性層21及第3著色感放射線性層31 的曝光可藉由以下方式進行：利用g射線、h射線、i射線等，較佳為利用i射線來實施曝光。

另外，曝光後實施的顯影通常是藉由利用顯影液進行顯 影處理來進行。

顯影液可列舉：與對光阻層51的曝光、顯影中已述的顯影液相同者。

另外，於使用鹼性水溶液作為顯影液的情形時，通常於顯影後利用水來實施清洗處理。

就圖像解析度的觀點而言，第1著色畫素、第2著色畫素及第3著色畫素的一邊的長度(於畫素為長方形的情形時是指短邊的長度，於畫素為正方形的情形時是指一邊的長度)較佳為0.5μm~1.7μm，更佳為0.6μm~1.5μm。

根據以上所說明的本發明的彩色濾光片的製造方法，可提供一種彩色濾光片，該彩色濾光片的著色層的著色劑濃度高，並且即便放置於高溫高濕下，亦不易引起著色層表面的膜面粗糙。

另外，根據本發明的彩色濾光片的製造方法，第1著色層、特別是第1著色畫素是由本發明的著色劑的濃度高的著色硬化性組成物所形成，故可使第1著色畫素的厚度極薄(例如0.7μm以下)。藉此，可製造串擾(crosstalk，光的混色)得到抑制的彩色濾光片。

另外，藉由上述著色硬化性組成物所形成的第1著色畫素的耐溶劑性及耐鹼性顯影液性變優異。因此，可減少與其他著色層及其他著色圖案的顏色重疊的重疊區域的產生，結果可製造高性能的彩色濾光片。

本發明的彩色濾光片可較佳地用作液晶顯示裝置(Liquid Crystal Display，LCD)或固體攝影元件(例如電荷耦合元件(Charge-coupled Device，CCD)、互補金屬氧化物半導體(Complementary Metal Oxide Semiconductor，CMOS)等)用。 另外，亦可較佳地用於電子紙或有機電致發光等的圖像顯示元件中。尤其本發明的彩色濾光片可較佳地用作CCD及CMOS等的固體攝影元件用。

另外，本發明的彩色濾光片亦適合作為液晶顯示裝置用的彩色濾光片。具備此種彩色濾光片的液晶顯示裝置可顯示以下圖像，即，顯示圖像的色調良好且顯示特性優異的高畫質圖像。

關於顯示裝置的定義或各顯示裝置的詳細情況，例如是記載於「電子顯示元件(佐佐木昭夫著，工業調查會(股)，1990年發行)」、「顯示元件(伊吹順章著，產業圖書(股)，1989年發行)」等中。另外，關於液晶顯示裝置，例如是記載於「下一代液晶顯示技術(內田龍男編著，工業調查會(股)，1994年發行)」中。本發明可應用的液晶顯示裝置並無特別限制，例如可應用於上述「下一代液晶顯示技術」中記載的各種方式的液晶顯示裝置中。

本發明的彩色濾光片對於彩色薄膜電晶體(Thin Film Transistor，TFT)方式的液晶顯示裝置而言有用。關於彩色TFT方式的液晶顯示裝置，例如是記載於「彩色TFT液晶顯示器(共立出版(股)1996年發行)」中。進而，本發明亦可應用於共面切換(In-Plane Switching，IPS)等橫向電場驅動方式、MVA等畫素 分割方式等視角經擴大的液晶顯示裝置或超扭轉向列(Super Twisted Nematic，STN)、扭轉向列(Twisted Nematic，TN)、垂直配向(Vertical Alignment，VA)、光學補償傾斜(Optically Compensated Splay，OCS)、邊緣場切換(Fringe Field Switching，FFS)及反射式光學補償彎曲(Reflective Optically Compensated Bend，R-OCB)等中。

另外，本發明的彩色濾光片亦可供於明亮且高精細的陣列上彩色濾光片(Color-filter On Array，COA)方式。

於藉由COA方式所形成的著色層中，為了使配置於著色層上的氧化銦錫(Indium Tin Oxide，ITO)電極與著色層下方的驅動用基板的端子導通，必須形成一邊的長度為1μm~15μm左右的矩形的通孔(through hole)或“U”字型的凹陷部等導通路，尤佳為將導通路的尺寸(即，一邊的長度)設定為5μm以下，而藉由使用本發明，亦可形成5μm以下的導通路。關於該些圖像顯示方式，例如是記載於「電致發光(Electroluminescence，EL)、電漿顯示面板(Plasma Display Panel，PDP)、LCD顯示器-技術與市場的最新動向-(東麗研究中心調查研究部門，2001年發行)」的43頁等中。

本發明的液晶顯示裝置除了本發明的彩色濾光片以外，包含電極基板、偏光膜、相位差膜、背光、間隔件(spacer)、視角保障膜等各種構件。本發明的彩色濾光片可應用於由該些公知的構件構成的液晶顯示元件中。關於該些構件，例如是記載於「'94 液晶顯示器周邊材料、化學的市場(島健太郎，CMC(股)，1994年發行)」、「2003液晶相關市場的現狀與將來展望(下卷)(表良吉，富士凱美萊總研(Fuji Chimera Research Institute)(股)，2003年發行)」中。

關於背光，是記載於「信息顯示學會會議摘要(SID meeting Digest)1380(2005)(A.Konno等人)」或「月刊顯示器2005年12月號的18頁~24頁(島康裕)」、「月刊顯示器2005年12月號的25頁~30頁(八木隆明)」等中。

若將本發明的彩色濾光片用於液晶顯示裝置中，則與先 前公知的冷陰極管的三波長管組合時可實現高對比度，進而藉由將紅色、綠色、藍色的發光二極體(Light Emitting Diode，LED)光源(RGB-LED)作為背光，可提供亮度高、另外色純度高的色彩再現性良好的液晶顯示裝置。

實施例

以下列舉實施例對本發明加以更具體說明。以下的實施例中所示的材料、使用量、比例、處理內容、處理順序等只要不偏離本發明的主旨，則可適當變更。因此，本發明的範圍不限定於以下所示的具體例。再者，只要無特別說明，則「份」、「%」為質量基準。

<合成例1-染料A的合成>

(中間體A的合成)

於燒瓶中投入四氯鄰苯二甲腈(15.0g、56.4mmol)、 HO-C₆H₄-COOC₂H₄OCH₃(12.65g、56.4mmol)、乙腈75.0g，使用磁力攪拌器(magnetic stirrer)攪拌30分鐘直至內溫穩定為40℃為止後，投入碳酸鉀(8.58g、62.1mmol)反應約3小時。將冷卻後進行抽吸過濾所得的溶液於40℃下減壓濃縮1小時，將溶劑蒸餾去除。進而，於110℃下真空乾燥一夜，獲得約23.0g(89.9%)的中間體A。

(染料A的合成)

於燒瓶中投入中間體A(2.13g、4.7mmol)、苄腈2.35 mL，於氮氣流下(10mL/min)使用磁力攪拌器攪拌約1小時直至內溫穩定為150℃為止後，投入碘化鋅0.43g(1.3mmol)反應約35小時。冷卻後添加甲醇30mL，使用磁力攪拌器於室溫下攪拌，由此製成晶析溶液。將晶析溶液傾析，藉由矽膠管柱層析法(氯仿/甲醇)將剩餘的殘渣純化。於所得的純化物中添加甲醇20mL，使用磁力攪拌器於60℃下加熱攪拌1小時。冷卻後，進行抽吸過濾，於所得的結晶中添加甲醇20mL，使用磁力攪拌器於60℃下加熱攪拌1小時。冷卻後進行抽吸過濾，將所得的結晶於40℃下送風乾燥一夜，獲得約1.95g(88.2%)的染料A。

<合成例2-其他染料的合成>

依照上述合成例1來合成染料B~染料E。

<顏料分散液的製備>

使用直徑為0.3mm的氧化鋯珠，利用珠磨機(帶有減壓 機構的高壓分散機NANO-3000-10(日本BEE(股)製造))將調 配下述化合物而成的混合液混合、分散3小時，製備顏料分散液。顏料的種類是設定為下述表中記載者，另外，關於各成分的調配量，以最終獲得的著色硬化性組成物中的組成比成為下述表中記載的比例的方式調配。

．顏料(下述表所示的顏料)

．衍生物

．分散劑

．溶劑：丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)

依照上述合成例1來合成其他酞青染料。

<著色硬化性組成物的製備>

以成為下述表中記載的組成的方式將各成分混合，進行攪拌而製備著色硬化性組成物。

．染料(著色劑)

．黃色色素(著色劑)

．熱硬化性化合物

．溶劑…最終固體成分濃度成為15質量%的量

鹵化酞青染料A：

鹵化酞青染料B：

鹵化酞青染料C：

鹵化酞青染料D：

非鹵化酞青染料E：

<其他著色劑>

黃色色素A(偶氮系色素(顏料))：P.Y150

黃色色素B(次甲基系色素(偶氮次甲基色素)(染料))：(合成例將於後述)

<衍生物>

<分散劑>

上述中，a為2.0，b為4.0，酸值為10mgKOH/g，Mw為20000。

另外，分散劑A中的a及b分別表示括弧內所表示的部分結構的個數，滿足a+b=6。

<熱硬化性化合物>

熱硬化性化合物A：環氧化合物：EHPE3150(大賽璐化學工業(股)製造，分子量=2234)

熱硬化性化合物B：三聚氰胺化合物：尼卡拉克(Nikalac)MW-30M(三和化學(股)製造)

<界面活性劑>

界面活性劑：F-781(迪愛生(DIC)(股)製造，氟系界面活性劑)

<次甲基系色素B的合成>

次甲基系色素B是按以下流程來合成。

(中間體A的合成)

將上述化合物(A)(利用EP0571959A2公報中記載的方法合成)100重量份、吡啶390ml的混合溶液冷卻至5℃為止，於反應溫度25℃以下滴加辛磺醯氯87重量份。將反應液於室溫下攪拌2小時後，添加4N鹽酸水溶液2L，於室溫下攪拌後進行濾取。利用甲醇500ml將所濾取的結晶清洗後，加以乾燥，藉此獲得中間體A 153g(產率為91%)。

¹H-NMR CDCl₃ δ 0.8(t,3H)1.0-1.4(m,19),1.6(m,2H)3.2(t,2H)5.6(s,1H)7.3(d,2H)7.9(d,2H)10.2(s,1H)12.9(s,1H)

(次甲基系色素B的合成)

於中間體A 110g、乙酸650ml的懸濁溶液中於室溫下添加原甲酸乙酯68g，將反應液於80℃下攪拌3小時。於反應液中添加甲醇1.1L，冷卻後進行濾取、甲醇清洗，藉此獲得次甲基系 色素B 96g(產率為88%)。

¹H-NMR CDCl₃ δ 0.8(t,6H)1.2-2.0(m,41H)3.3(t,4H)7.3(d,4H),7.6(br,2H)7.8(d,4H)8.4(s,1H)對所得的組成物進行以下評價。

<膜面粗糙評價基板的製作>

利用旋塗機將上述組成物以成為膜厚為0.5μm的塗佈膜的方式塗佈於7.5cm×7.5cm的玻璃基板上後，使用熱板於100℃下加熱乾燥2分鐘，繼而於200℃下進行5分鐘加熱，進行塗佈膜的硬化而形成著色層。

<氧阻斷膜的形成>

於實施例1~實施例3及比較例2中，使用濺鍍裝置(神港精機公司製造的SRV-4300)對所製作的玻璃基板濺鍍SiO₂或SiN，於著色層上形成膜厚為0.1μm的氧阻斷膜。另外，於實施例4及實施例5中，使用旋塗機(三笠公司製造的1H-D7)，對所製作的玻璃基板分別塗佈聚乙烯醇(重量平均分子量：2000)水溶液或聚乙烯基吡咯啶酮(重量平均分子量：1800)水溶液，於著色層上形成膜厚為1.0μm的氧阻斷膜。將結果示於表1中。再者，於表1中，無機材料A表示SiO₂，無機材料B表示SiN，有機材料A表示聚乙烯醇，有機材料B表示聚乙烯基吡咯啶酮，於比較例1中，未形成任一種氧阻斷膜。

<高溫高濕試驗>

使用高加速度壽命試驗裝置(愛斯佩克(Espec)公司製 造的EHS-221)，對形成有氧阻斷膜的玻璃基板於溫度85℃、濕度85%的條件下實施168小時的高溫高濕試驗。

<膜面粗糙評價>

使用光學顯微鏡(奧林巴斯(Olympus)公司製造的MX-50)，對高溫高濕試驗後的形成有氧阻斷膜的玻璃基板於反射200倍的條件下目測評價凝聚異物。將結果示於以下的表中。依照下述基準將3~5評價為實用上無問題的水準。

-評價基準-

5：完全未產生凝聚異物。

4：產生了極少數的凝聚異物(於5視場區域中為5個以上、小於25個)。

3：產生了少數凝聚異物(於5視場區域中為25個以上、小於100個)。

2：產生了多個凝聚異物(於5視場區域中為100個以上、小於500個)。

1：明顯產生了凝聚異物(於5視場區域中為500個以上)。

由上述表明確得知，對於使用含有著色劑、熱硬化性化 合物及溶劑且相對於著色硬化性組成物的總固體成分而著色劑的合計含量為50質量%~90質量%的著色硬化性組成物所形成的著色層而言，於著色層上形成有氧阻斷膜的積層體(實施例1~實施例10)可抑制膜面粗糙。

另外得知，實施例1~實施例10中，具有優異的分光特 性，且具有良好的耐光性。

相對於此，得知未形成氧阻斷膜的積層體(比較例1)的 膜面粗糙的結果欠佳。另外，於形成有氧阻斷膜但相對於著色硬化性組成物的總固體成分而著色劑的合計含量小於50%的情形(比較例2)時，雖然膜面粗糙得到抑制，但由於著色劑的濃度低，故無法實現薄膜化。

Claims (17)

1. 一種積層體，是於使著色硬化性組成物硬化而成的著色層上形成了氧阻斷膜的積層體，上述著色硬化性組成物含有著色劑、熱硬化性化合物及溶劑，並且相對於上述著色硬化性組成物的總固體成分，上述著色劑的合計含量為50質量%~90質量%，上述熱硬化性化合物為環氧化合物。
2. 如申請專利範圍第1項所述的積層體，其中上述著色劑含有下述通式(1)所表示的鹵化酞青染料， (通式(1)中，Z¹~Z¹⁶分別為氫原子或取代基，取代基的至少一個為鹵素原子，取代基的至少另一個為含有芳香族基的基團；M表示2個氫原子、金屬原子、金屬氧化物或金屬鹵化物)。
3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的積層體，其中上述 著色劑更含有黃色色素。
4. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的積層體，其中相對於上述著色硬化性組成物的總固體成分，上述著色劑的合計含量為60質量%~90質量%。
5. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的積層體，其中上述著色層的厚度為0.1μm~1.0μm。
6. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的積層體，其中上述氧阻斷膜與上述著色層鄰接。
7. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的積層體，其中上述氧阻斷膜的厚度為10μm以下。
8. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的積層體，其中上述氧阻斷膜含有無機材料。
9. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的積層體，其中上述熱硬化性化合物為環氧化合物，上述著色劑更含有黃色色素。
10. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的積層體，其中上述著色劑更含有黃色色素，並且相對於上述著色硬化性組成物的總固體成分，上述著色劑的合計含量為60質量%~90質量%。
11. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的積層體，其中上述氧阻斷膜的厚度為10μm以下，上述著色層的厚度為0.1μm~1.0μm。
12. 一種彩色濾光片，包括如申請專利範圍第1項所述的積層體。
13. 一種彩色濾光片的製造方法，包括：使著色硬化性組成物硬化而形成著色層的步驟，上述著色硬化性組成物含有著色劑、熱硬化性化合物及溶劑，並且相對於上述著色硬化性組成物的總固體成分，上述著色劑的合計含量為50質量%~90質量%；於上述著色層上形成光阻層的步驟；藉由曝光及顯影將上述光阻層圖案化而獲得抗蝕劑圖案的步驟；將上述抗蝕劑圖案作為蝕刻遮罩來對上述著色層進行乾式蝕刻的步驟；以及於上述乾式蝕刻後的著色層上形成氧阻斷膜的步驟。
14. 如申請專利範圍第13項所述的彩色濾光片的製造方法，其中藉由濺鍍來形成上述氧阻斷膜。
15. 一種液晶顯示裝置，包括如申請專利範圍第12項所述的彩色濾光片、或者藉由如申請專利範圍第13項或第14項所述的彩色濾光片的製造方法所製作的彩色濾光片。
16. 一種有機電致發光元件，包括如申請專利範圍第12項所述的彩色濾光片、或者藉由如申請專利範圍第13項或第14項所述的彩色濾光片的製造方法所製作的彩色濾光片。
17. 一種固體攝影元件，包括如申請專利範圍第12項所述的彩色濾光片、或者藉由如申請專利範圍第13項或第14項所述的彩色濾光片的製造方法所製作的彩色濾光片。