TWI629484B - Conductive contact for inspection and semiconductor inspection device - Google Patents

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TWI629484B
TWI629484B TW106104521A TW106104521A TWI629484B TW I629484 B TWI629484 B TW I629484B TW 106104521 A TW106104521 A TW 106104521A TW 106104521 A TW106104521 A TW 106104521A TW I629484 B TWI629484 B TW I629484B
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日本發條股份有限公司
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Abstract

提供一種包含第一端部及相對於第一端部之第二端部之導電性接觸件。第一端部具有第一線狀脊、第二線狀脊、第三線狀脊、第四線狀脊、第一頂點、第二頂點、第三頂點、第四頂點及第五頂點。第一線狀脊、第二線狀脊、第三線狀脊及第四線狀脊彼此間隔且以形成十字形之方式配置。第一頂點、第二頂點、第三頂點及第四頂點位於第一端部之外周,且分別設置於第一線狀脊與第二線狀脊之間、第二線狀脊與第三件線狀脊之間、第三件狀脊與第四線狀脊之間以及第四線狀脊與第一線狀脊之間。

Description

檢查用導電性接觸件及半導體檢查裝置
本發明關於一種檢查裝置。例如於關於用以檢查半導體積體電路或顯示裝置等、具有使用半導體之電路之電子零件或含有此些電子儀器之導電性接觸件(針狀接觸件)及具備導電性接觸件之半導體檢查裝置。
於幾乎所有的電子零件、電子儀器(以下統稱為電子元件)中皆有使用半導體積體電路,而於半導體基板上形成或加工多層薄膜(絕緣膜、導電膜、半導體膜等)以製作半導體積體電路。液晶顯示裝置、電致發光(Electroluminescence,EL)顯示裝置等所代表之顯示裝置亦為電子元件之一種,雖有於玻璃或塑膠基板上製作之相異點,但亦經過與半導體積體電路同樣多之薄膜形成工程而形成。
雖於高度限制異物混入之環境下進行薄膜形成工程,但因含有數百個以上之工程,故難以完全抑制基板或電路之損傷或發生圖案不良之情形。因此,對於電子零件需要檢查各種特性以防止劣質品混入。
檢查電子元件之電性特性之場合中,一般會使用稱為半導體檢查裝置之檢查裝置進行檢查。於此檢查中,會將稱為導電性接觸件之細針狀電極之尖端接觸於半導體積體電路上所形成之電極或配線,以取得各種電性資訊。電極或配線之尺寸雖與半導體積體電路相關,但於小型場合中亦可為百來微米(μm)見方之區域。因此,為了進行優良精密度之檢查,重點在於導電性接觸件要能確實電性接觸於如此狹窄面積之電極或配線。
再者,電極或配線並非限定於必須水平配置,且形狀亦並非限定於平面。舉例而言,封裝件可內藏有形成半導體積體電路之半導體晶片,且於量測封裝件之場合中,亦可有自封裝件延伸之引線端子為彎曲構造之場合。此外,亦可有將形成於封裝件上之球狀焊料球使用為檢查用電極之場合。因此,為了使導電性接觸件確實電性接觸於電極或配線,已知有具備各種形狀之端部之導電性接觸件。
以下為專利文獻。專利文獻1:日本專利公開案第2000-329789號公報。專利文獻2:日本專利公開案第2008-157904號公報。專利文獻3:國際專利公開案第2013/018809號公報。專利文獻4:日本專利案第5783715號公報。專利文獻5:日本專利公開案第2009-198238號公報。
本發明之一課題在於提供一種導電性接觸件,其能夠確實達到電性接觸於做為檢查對象之半導體積體電路或含此之電子元件之電極或配線。本發明之一課題在於提供一種導電性接觸件,其能夠具有優良耐久性,此耐久性例如為與電極或配線接觸之端部耐久性。本發明之一課題在於提供一種導電性接觸件,於將導電性接觸件設置於導電性接觸件單元時,能夠降低考量電極或配線之形狀之必要性。本發明之一課題在於提供一種具備一個或二個以上之上述導電性接觸件之導電性接觸件單元或具備其之半導體檢查裝置。
本發明之一實施型態可為導電性接觸件,其包含第一端部及相對於第一端部之第二端部。第一端部具有第一線狀脊(ridge)、第二線狀脊、第三線狀脊、第四線狀脊、第一頂點、第二頂點、第三頂點、第四頂點及第五頂點。第一線狀脊、第二線狀脊、第三線狀脊及第四線狀脊彼此間隔且以形成十字形之方式配置。第一頂點、第二頂點、第三頂點及第四頂點位於第一端部之外周,且分別設置於第一線狀脊與第二線狀脊之間、第二線狀脊與第三件線狀脊之間、第三件狀脊與第四線狀脊之間以及第四線狀脊與第一線狀脊之間。
第一線狀脊、第二線狀脊、第三線狀脊及第四線狀脊亦可平行於導電性接觸件之半徑方向。而且,第一線狀脊、第二線狀脊、第三線狀脊及第四線狀脊與第五頂點亦可存在於同一平面上。
第五頂點亦可位於十字形之交點。或者,第五頂點亦可存在於與第一頂點、第二頂點、第三頂點及第四頂點所形成之面之同一平面上,亦可存在於相異之平面上。
沿平行於導電性接觸件之軸之方向上,第五頂點至第二端部之距離亦可小於第一線狀脊、第二線狀脊、第三線狀脊及第四線狀脊分別至第二端部之距離。
沿平行於導電性接觸件之軸之方向上,第一頂點、第二頂點、第三頂點及第四頂點分別至第二端部之距離亦可小於第一線狀脊、第二線狀脊、第三線狀脊及第四線狀脊分別至第二端部之距離。
第一線狀脊、第二線狀脊、第三線狀脊及第四線狀脊亦可分別短於導電性接觸件之半徑。
第一頂點、第二頂點、第三頂點及第四頂點亦可存在於導電性接觸件之外周面。
第一線狀脊、第二線狀脊、第三線狀脊及第四線狀脊亦可分別到達導電性接觸件之外周面。
第一線狀脊、第二線狀脊、第三線狀脊及第四線狀脊與第一頂點、第二頂點、第三頂點及第四頂點亦可存在於同一平面上,此平面亦可平行於半徑方向。
本申請之一實施型態可為具有導電性接觸件之導電性接觸件單元。
本發明之一實施型態可為具有導電性接觸件單元之半導體檢查裝置。
以下,將參照圖式說明關於本申請所揭示之發明的各個實施型態。然而,本發明能夠於不脫離其要旨之範圍中以多種型態實施,而並非解釋成限定於以下所例示之實施型態之記載內容。
而且,為了使說明更為明確,圖式與實際之態樣相比,針對各個部分之幅寬、厚度、形狀等雖為以示意方式表示之場合,但此僅為一範例,而並非限定本發明之解釋。此外,於本說明書及各個圖式中,關於已出現之圖而已說明之元件以及具有與其相同功能之元件將標記相同符號,且將適當省略重覆的說明。
於本說明書及申請專利範圍中,多個直線或點存在於同一平面上之描述,意味著此些直線或點亦可存在於接近的二個平面間,不僅含有存在於完全相同之平面內之場合,亦可含有存在於約略或實質上相同之平面內之場合。此外,於多個直線之向量(vector)相對於平面相交3度以內之角度之場合中,亦可定義為此些直線存在於同一平面上。
以下將說明第一實施型態。
<1.半導體檢查裝置之結構>
圖1A繪示關於第一實施型態之本發明之半導體檢查裝置之結構之示意圖。半導體檢查裝置100包含導電性接觸件單元120及其所具備之導電性接觸件110。導電性接觸件110可為一個以上,通常可設置多個(例如數十個至數千個)導電性接觸件110。導電性接觸件110與電路基板140之間彼此傳送與接收電性訊號。而且於圖1A中,電路基板140接觸於測試器150。測試器150含有量測電源152或LCR量測器154、脈衝產生器156等之單元。
圖1B為圖1A所示之導電性接觸件110及導電性接觸件單元120之剖面示意圖。如圖1B所示,導電性接觸件單元120收納導電性接觸件110,且露出末端部(第一端部230)。此第一端部230可接觸於檢查對象170之電極或配線,以量測電性特性。檢查對象170可例如為形成於半導體基板上之積體電路或封裝有積體電路之IC封裝件等。其中,第二端部240相對於第一端部230。
導電性接觸件單元120可使用樹脂或陶瓷等之絕緣物質形成。多個導電性接觸件110以高度對齊之方式配置。此外,亦可依據檢查對象170之電極或配線圖案而決定其配置。導電性接觸件110可含有導電性材料,例如可含有金、銅、鎳、鈀、鎢等之金屬,或可含有上述金屬之合金。或者亦可含有導電性材料,且於表面使用金等材料進行鍍覆加工。
導電性接觸件110可包含第一柱塞(plunger)200及第二柱塞210。第一柱塞200之端部亦即第一端部230,可與檢查對象170之電極或配線進行電性接觸。第一柱塞200及第二柱塞210可具有圓柱形狀,本實施型態中亦以圓柱狀之形狀進行說明。
導電性接觸件單元120更包含螺旋彈簧220,於導電性接觸件110之第一端部230接觸於檢查對象170之電極或配線時,能夠藉由螺旋彈簧220沿軸方向伸縮而緩和對於檢查對象170之衝擊。
<2. 導電性接觸件尖端部之結構>
圖2繪示導電性接觸件110之第一端部230之立體圖。如圖2所示之第一端部230包含圖中以粗線表示之四條線狀脊(第一線狀脊、第二線狀脊、第三線狀脊、第四線狀脊)R1、R2、R3、R4及五個頂點(第一頂點、第二頂點、第三頂點、第四頂點、第五頂點)T1、T2、T3、T4、T5。
圖3A及圖3B為分別沿圖2所示之虛線A1-A2及B1-B2剖面之剖面示意圖。如圖2及圖3A所示,第一線狀脊R1、第二線狀脊R2、第三線狀脊R3、第四線狀脊R4彼此存在於同一平面上,且彼此間隔。而且,其方向平行於導電性接觸件110之半徑方向(圖中x軸方向)。亦即,導電性接觸件110之中心軸平行於圖中y軸所示之方向,且第一線狀脊R1、第二線狀脊R2、第三線狀脊R3、第四線狀脊R4以朝向導電性接觸件110之中心軸之放射狀延伸。於本實施型態中,第一線狀脊R1、第二線狀脊R2、第三線狀脊R3、第四線狀脊R4以形成十字形之方式設置。亦即,第一線狀脊R1及第三線狀脊R3存在於同一直線(第一直線)上,第二線狀脊R2及第四線狀脊R4存在於同一直線(第二直線)上,且第一直線與第二直線彼此垂直。其中,第一直線及第二直線之夾角並非限定於直角,亦能夠設定為任意角度。
如圖2及圖3B所示,第一頂點T1、第二頂點T2、第三頂點T3、第四頂點T4彼此存在於同一平面上。而且,此平面平行於導電性接觸件110之半徑方向。於本實施型態中,第五頂點T5亦存在於前述平面上。亦即,第一頂點T1、第二頂點T2、第三頂點T3、第四頂點T4、第五頂點T5皆存在於同一平面上。此外,第五頂點T5存在於通過第一線狀脊R1及第三線狀脊R3之直線(第一直線)與通過第二線狀脊R2及第四線狀脊R4之直線(第二直線)之交點。
此外,於本實施型態中,可如圖1B或圖3A、圖3B所示,隨著朝向尖端方向而逐漸縮小第一端部230之直徑,且於此尖端設置線狀脊R1、R2、R3、R4及頂點T1、T2、T3、T4、T5。亦即,線狀脊R1、R2、R3、R4之端部及頂點T1、T2、T3、T4之任一者皆形成於第一端部230之最大直徑部分之剖面內側。
於本實施型態中,雖記載第一頂點T1至第五頂點T5皆存在於同一平面之範例,但本發明之實施型態並非限定於此。舉例而言,第五頂點T5亦可存在於其他頂點T1、T2、T3、T4所形成之平面以外。而且,於本實施型態中,第一頂點T1至第五頂點T5雖皆存在於與第一線狀脊R1至第四線狀脊R4所形成之面相同之面,但本發明之實施型態並非限定於此。舉例而言,亦可僅第五頂點T5存在於與第一線狀脊R1至第四線狀脊R4所形成之面相同之面,而其他頂點亦可存在於前述之面以外。再者,於本實施型態中,雖可隨著朝向尖端方向而逐漸縮小第一端部230之直徑,且於此尖端設置線狀脊R1、R2、R3、R4及頂點T1、T2、T3、T4、T5,但本發明之實施型態並非限定於此。亦可設置線狀脊R1、R2、R3、R4及頂點T1、T2、T3、T4、T5,且將第一端部230至其尖端皆維持為圓柱狀之形狀。上述之實施型態將於後描述。
舉例而言,能夠於車床加工時使用旋轉式切削工具等對圓柱狀之第一柱塞200進行加工而形成具有如此形狀之第一端部230。此場合中,第一線狀脊R1至第四線狀脊R4彼此間隔,且其長度短於導電性接觸件110之半徑。更具體而言,第一線狀脊R1至第四線狀脊R4之各個長度亦小於包含有第一端部230之第一柱塞200之最大半徑。而且,此長度可為10 μm以上,且為第一端部230之尖端部之直徑之15 %以下。再者,第一線狀脊R1至第四線狀脊R4可分別到達導電性接觸件110之外周。換言之,第一線狀脊R1至第四線狀脊R4可自包含有第一端部230之第一柱塞200之側面朝向中心軸方向延伸。
另一方面,第一頂點T1至第四頂點T4可存在於導電性接觸件110之側面。換言之,第一頂點T1至第四頂點T4可位於包含有第一端部230之第一柱塞200之外周。
具有如此端部形狀之導電性接觸件110能夠以多個線做為接觸部位而接觸於檢查對象170之電極或配線。舉例而言,自垂直方向對平面狀之電極或配線進行接觸之場合中,第一線狀脊R1至第四線狀脊R4皆能夠對於電性接觸有所貢獻。第五頂點T5存在於與含有第一線狀脊R1至第四線狀脊R4之平面相同之平面上之場合中,除了第一線狀脊R1至第四線狀脊R4以外,第五頂點T5亦可對於電性接觸有所貢獻。相對於此,例如於專利文獻1、4或5中,雖揭示導電性接觸件具有多個圓錐狀或角錐狀之接觸部,此場合中亦僅以多個點接觸於電極或配線。因此,藉由採用本實施型態之端部形狀,不僅能夠更為確實地電性接觸,還能夠防止或減輕導電性接觸件110之端部之磨耗或缺損。
此外,即使為自傾斜方向對檢查對象170之電極或配線進行接觸之場合中,亦能夠有至少二個線狀脊對於電性接觸有所貢獻。另一方面,專利文獻2中雖揭示導電性接觸件於端部具有單一個線狀脊,此場合中嘗試自傾斜方向對電極或配線進行接觸時,僅有單一個點可進行接觸。因此,藉由採用本實施型態之末端形狀,能夠更為確實地電性接觸於檢查對象170。
再者,於端部具有單一個線狀脊之場合中,由於導電性接觸件僅持有二次旋轉軸(C2軸:藉由旋轉180而賦予相同狀態之旋轉軸),故只要沿中心軸旋轉,線狀脊接觸於電極或配線之方向便會有大幅變化。因此,必須以禁止沿中心軸轉之方式設置於導電性接觸件單元,故設置於導電性接觸件單元用以收納導電性接觸件之開口部之形狀必須例如為橢圓形或多邊形。相對於此,由於本實施型態之導電性接觸件110具有四次旋轉軸(C4軸:藉由旋轉90而賦予相同狀態之旋轉軸),故沿導電性接觸件110之中心軸旋轉之影響較小,而於設置至導電性接觸件單元120時並無顧慮是否會沿中心軸旋轉之必要性。因此,開口部之形狀能夠為圓形,進而能夠提升導電性接觸件單元120之加工性。
以下將說明第二實施型態。
於本實施型態中,將使用圖4、圖5A、圖5B說明關於具有與第一實施型態相異之末端形狀之導電性接觸件110。圖4繪示導電性接觸件110之第一端部230之立體圖。圖5A及圖5B為分別沿圖4所示之虛線A1-A2及B1-B2剖面之剖面示意圖。
導電性接觸件110之第一端部230與第一實施型態同樣包含四條線狀脊(第一線狀脊、第二線狀脊、第三線狀脊、第四線狀脊)R1、R2、R3、R4及五個頂點(第一頂點、第二頂點、第三頂點、第四頂點、第五頂點)T1、T2、T3、T4、T5。與第一實施型態相異之要點在於,第五頂點T5雖存在於與第一線狀脊R1至第四線狀脊R4相同之面上,但第一頂點T1至第四頂點T4存在於與上述之平面相異之平面上。更具體而言,第五頂點T5雖存在於通過第一線狀脊R1及第三線狀脊R3之直線(第一直線)與通過第二線狀脊R2及第四線狀脊R4之直線(第二直線)之交點,但第一頂點T1至第四頂點T4存在於較接近第二端部240之位置。換言之,第一頂點T1至第四頂點T4存在於沿圖中之y軸更低之位置。除上述結構以外,其餘皆與第一實施型態相同,故省略其詳細描述內容。
與第一實施型態同樣地,具有如此端部形狀之導電性接觸件110亦可藉由第一線狀脊R1至第四線狀脊R4之多個線及第五頂點T5,而能夠以四個直線及一個點做為接觸部位進而接觸於檢查對象170之電極或配線。因此,不僅能夠更為確實地電性接觸,還能夠防止或減輕導電性接觸件110之端部之磨耗或缺損。而且,由於本實施型態之末端形狀亦具有C4軸,故於設置至導電性接觸件單元120時能夠減輕顧慮是否會沿中心軸旋轉之必要性,進而能夠提升導電性接觸件單元120之加工性。
此外,使用球狀之焊料球做為檢查用電極之場合中,雖與其尺寸相關,但亦能夠以多種接觸樣式進行電性接觸。舉例而言,能夠使用第一線狀脊R1中之一點、第一頂點T1及第五頂點T5進行電性接觸。因此,能夠更為確實地電性接觸於檢查對象170之電極或配線。
以下將說明第三實施型態。
於本實施型態中,將使用圖6、圖7A、圖7B說明關於具有與第一及第二實施型態相異之末端形狀之導電性接觸件110。圖6繪示導電性接觸件110之第一端部230之立體圖。圖7A及圖7B為分別沿圖6所示之虛線A1-A2及B1-B2剖面之剖面示意圖。
導電性接觸件110之第一端部230與第一及第二實施型態同樣包含四條線狀脊(第一線狀脊、第二線狀脊、第三線狀脊、第四線狀脊)R1、R2、R3、R4及五個頂點(第一頂點、第二頂點、第三頂點、第四頂點、第五頂點)T1、T2、T3、T4、T5。與第一及第二實施型態相異之要點在於,第一頂點T1至第五頂點T5雖彼此存在於同一平面上,但位於與含有第一線狀脊R1至第四線狀脊R4之平面相異之平面上,且存在於較接近第二端部240之位置。亦即於y軸方向上,第一頂點T1至第五頂點T5存在於比第一線狀脊R1至第四線狀脊R4更低之位置。除上述結構以外,其餘皆與第一實施型態相同,故省略其詳細描述內容。
與第一及第二實施型態同樣地,具有如此端部形狀之導電性接觸件110亦可藉由第一線狀脊R1至第四線狀脊R4之多個線,而能夠以四個直線做為接觸部位進而接觸於檢查對象170之電極或配線。因此,不僅能夠更為確實地電性接觸,還能夠防止或減輕導電性接觸件110之端部之磨耗或缺損。而且,由於本實施型態之末端形狀亦具有C4軸,故於設置至導電性接觸件單元120時能夠減輕顧慮是否會沿中心軸旋轉之必要性,進而能夠提升導電性接觸件單元120之加工性。
此外,使用球狀之焊料球做為檢查用電極之場合中,雖與其尺寸相關,但亦能夠使用第一線狀脊R1至第四線狀脊之各自之一點共計四點進行電性接觸,進而能夠更為確實地電性接觸於檢查對象170之電極或配線。
以下將說明第四實施型態。
於本實施型態中,將使用圖8、圖9A、圖9B說明關於具有與第一至第三實施型態相異之末端形狀之導電性接觸件110。圖8繪示導電性接觸件110之第一端部230之立體圖。圖9A及圖9B為分別沿圖8所示之虛線A1-A2及B1-B2剖面之剖面示意圖,其中,將省略關於與第一至第三實施型態相同之結構。
導電性接觸件110之第一端部230與第一至第三實施型態同樣包含四條線狀脊(第一線狀脊、第二線狀脊、第三線狀脊、第四線狀脊)R1、R2、R3、R4及五個頂點(第一頂點、第二頂點、第三頂點、第四頂點、第五頂點)T1、T2、T3、T4、T5。第一線狀脊R1至第四線狀脊R4及第一頂點T1至第五頂點T5存在於同一平面上。
關於本實施型態之導電性接觸件110與關於第一實施型態之導電性接觸件110相異之處,在於後者隨著朝向尖端方向而逐漸縮小第一端部230之直徑,且於此尖端設置線狀脊R1、R2、R3、R4及頂點T1、T2、T3、T4、T5。相對於此,本實施型態之導電性接觸件110維持第一端度230之直徑,且於此尖端部設置線狀脊R1、R2、R3、R4及頂點T1、T2、T3、T4、T5。
與第一實施型態同樣地,具有如此端部形狀之導電性接觸件110亦可藉由第一線狀脊R1至第四線狀脊R4之多個線及第一頂點T1至第五頂點T5,而能夠以四個直線及五個點做為接觸部位進而接觸於檢查對象170之電極或配線。因此,不僅能夠更為確實地電性接觸,還能夠防止或減輕導電性接觸件110之端部之磨耗或缺損。而且,由於本實施型態之末端形狀亦具有C4軸,故於設置至導電性接觸件單元120時能夠減輕顧慮是否會沿中心軸旋轉之必要性,進而能夠提升導電性接觸件單元120之加工性。
此外,使用球狀之焊料球做為檢查用電極之場合中,雖與其尺寸相關,但亦能夠以多種接觸樣式進行電性接觸。舉例而言,能夠使用第一線狀脊R1中之一點、第一頂點T1及第五頂點T5進行電性接觸。因此,能夠更為確實地電性接觸於檢查對象170之電極或配線。
以下將說明實施例。
於本實施例中,將描述本第二實施型態所示之導電性接觸件110之耐久性試驗及其結果。進行耐久性試驗時,將圖4所示之導電性接觸件110設置於導電性接觸件單元120,且自上部將鍍覆有焊料之金屬板推壓於導電性接觸件110。反覆此操作,藉由掃描型電子顯微鏡(SEM)觀察導電性接觸件110之第一端部230之形狀,並量測尖端部之磨耗量(樣品1)。將圖10所示之雖於尖端部具有四個頂點但未持有線狀脊之導電性接觸件(樣品2)做為比較樣品,且對此進行同樣之試驗。
耐久性測試之結果如圖11所示,可知樣品1之尖端部之磨耗量較小。例如於金屬板推壓次數為十的六次方時,具有圖10所示之尖端構造之樣品2之磨耗量超過25 μm,反觀關於本發明之導電性接觸件110之樣品1之磨耗量則約為15 μm。如此可確認到關於本發明之導電性接觸件110對於物理性之衝擊具有高度耐久性,且能夠防止端部之磨耗或缺損。
雖以上述之各個實施型態做為本發明之實施型態,但只要不會彼此矛盾,亦能夠適當組合後再實施。而且,根據各個實施型態,相關業者適當追加或刪除構成要素或者進行設計變更,只要具備本發明之要旨,便落入本發明之範圍內。
此外,即使為與根據上述各個實施型態所帶來之作用效果相異之其他作用效果,若可自本說明書之記載得知或相關業者易於預測,則當然理解為屬於藉由本發明所帶來之作用效果。
100‧‧‧半導體檢查裝置
110‧‧‧導電性接觸件
120‧‧‧導電性接觸件單元
140‧‧‧電路基板
150‧‧‧測試器
152‧‧‧量測電源
154‧‧‧LCR量測器
156‧‧‧脈衝產生器
170‧‧‧檢查對象
200‧‧‧第一柱塞
210‧‧‧第二柱塞
220‧‧‧螺旋彈簧
230‧‧‧第一端部
240‧‧‧第二端部
R1、R2、R3、R4‧‧‧線狀脊
T1、T2、T3、T4、T5‧‧‧頂點
圖1A為本發明之一實施型態之半導體檢查裝置之立體圖。 圖1B為本發明之一實施型態之導電性接觸件之剖面圖。 圖2為本發明之一實施型態之導電性接觸件之立體圖。 圖3A及圖3B為本發明之一實施型態之導電性接觸件之剖面圖。 圖4為本發明之一實施型態之導電性接觸件之立體圖。 圖5A及圖5B為本發明之一實施型態之導電性接觸件之剖面圖。 圖6為本發明之一實施型態之導電性接觸件之立體圖。 圖7A及圖7B為本發明之一實施型態之導電性接觸件之剖面圖。 圖8為本發明之一實施型態之導電性接觸件之立體圖。 圖9A及圖9B為本發明之一實施型態之導電性接觸件之剖面圖。 圖10為實施例之樣品2之導電性接觸件之立體圖。 圖11為實施例中導電性接觸件之耐久性測試之結果圖。

Claims (12)

  1. 一種導電性接觸件,包括:一第一端部;以及一第二端部,相對於該第一端部;其中,該第一端部具有一第一線狀脊、一第二線狀脊、一第三線狀脊、一第四線狀脊、一第一頂點、一第二頂點、一第三頂點、一第四頂點及一第五頂點,該第一線狀脊、該第二線狀脊、該第三線狀脊及該第四線狀脊彼此間隔且以形成一十字形之方式配置,該第一頂點、該第二頂點、該第三頂點及該第四頂點位於該第一端部之外周,且分別設置於該第一線狀脊與該第二線狀脊之間、該第二線狀脊與該第三件線狀脊之間、該第三件狀脊與該第四線狀脊之間以及該第四線狀脊與該第一線狀脊之間。
  2. 如請求項1所述之導電性接觸件,其中該第一線狀脊、該第二線狀脊、該第三線狀脊及該第四線狀脊平行於該導電性接觸件之半徑方向。
  3. 如請求項1所述之導電性接觸件,其中該第一線狀脊、該第二線狀脊、該第三線狀脊及該第四線狀脊與該第五頂點存在於同一平面上。
  4. 如請求項1所述之導電性接觸件,其中該第五頂點位於該十字形之交點。
  5. 如請求項1所述之導電性接觸件,其中該第五頂點存在於與該第一頂點、該第二頂點、該第三頂點及該第四頂點所形成之面相異之平面上。
  6. 如請求項1所述之導電性接觸件,其中沿平行於該導電性接觸件之軸之方向上,該第一頂點、該第二頂點、該第三頂點及該第四頂點分別至該第二端部之距離小於該第一線狀脊、該第二線狀脊、該第三線狀脊及該第四線狀脊分別至該第二端部之距離。
  7. 如請求項1所述之導電性接觸件,其中該第一線狀脊、該第二線狀脊、該第三線狀脊及該第四線狀脊分別短於該導電性接觸件之半徑。
  8. 如請求項1所述之導電性接觸件,其中該第一線狀脊、該第二線狀脊、該第三線狀脊及該第四線狀脊分別到達該導電性接觸件之外周。
  9. 如請求項1所述之導電性接觸件,其中該第一線狀脊、該第二線狀脊、該第三線狀脊及該第四線狀脊與該第一頂點、該第二頂點、該第三頂點及該第四頂點存在於同一平面上,該平面平行於該導電性接觸件之半徑方向。
  10. 如請求項1所述之導電性接觸件,其中該第五頂點存在於該第一頂點、該第二頂點、該第三頂點及該第四頂點所形成之面上。
  11. 一種導電性接觸件單元,包括如請求項1所述之導電性接觸件。
  12. 一種半導體檢查裝置,包括如請求項11所述之導電性接觸件單元。
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