TWI629170B - Optical film and method of manufacturing same - Google Patents

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Abstract

本發明為一種光學薄膜，其特徵為具有易接著層，該易接著層係於(甲基)丙烯酸系樹脂薄膜至少一側的表面，包含將多元醇與聚異氰酸酯進行反應所得到之胺基甲酸乙酯樹脂與(甲基)丙烯腈系微粒子。此光學薄膜可作為偏光子保護薄膜使用。

Description

光學薄膜及其製造方法
本發明係關於於(甲基)丙烯酸系樹脂薄膜的表面具有易接著層之光學薄膜、及其製造方法。
包含聚甲基丙烯酸甲酯所代表之(甲基)丙烯酸聚合物之丙烯酸樹脂，已知光線透過率等之光學特性優異的同時，機械性強度及成形加工性的平衡亦優異。因此，丙烯酸樹脂近年來被使用在光學相關用途，正發展對納入如液晶顯示裝置、電漿顯示面板、有機EL顯示裝置般之畫像顯示裝置之光學薄膜的丙烯酸樹脂之應用。
光學薄膜多數以和其他機能性薄膜層合的狀態使用。例如係光學薄膜的一種之偏光子保護薄膜，通常使用在偏光子、與以在該偏光子至少一側的面透過接著層層合之偏光板的狀態使用在畫像顯示裝置。
將丙烯酸樹脂使用在如此之光學薄膜時，考慮和其他機能性薄膜的層合，有時會於該光學薄膜的表面形成易接著層。然而，由設置有易接著層之丙烯酸樹脂所構成之光學薄膜，在捲繞至輥之步驟中，有產生阻塞的問 題。
因此，日本特開2010-55062號公報中，提案有將抑制由丙烯酸樹脂所構成之光學薄膜捲繞成輥時之阻塞作為目的，具有丙烯酸樹脂薄膜、與由包含胺基甲酸乙酯樹脂及膠體二氧化矽微粒子等之微粒子之易接著組成物所形成之易接著層的偏光子保護薄膜。記載有此易接著層的表面上，由於形成微小的凹凸，可減低在丙烯酸樹脂薄膜與易接著層之接觸面的摩擦力。
然而，判斷摻合膠體二氧化矽等之微粒子形成易接著層之丙烯酸樹脂薄膜，藉由因微粒子而於易接著層表面形成凹凸，減低在丙烯酸樹脂薄膜與易接著層的接觸面之摩擦力，雖可抑制薄膜的捲繞時所產生之阻塞，但藉由摻合微粒子，有導致降低易接著層之強度及易接著性的問題。
本發明係鑑於如此之問題而完成者，將提昇從具有摻合微粒子之易接著層之丙烯酸樹脂薄膜所構成之光學薄膜的易接著層的強度及易接著性作為課題，以提供一種一邊抑制於薄膜的捲繞時所產生之阻塞，一邊與其他機能性薄膜的密著性優異之光學薄膜為目的。
根據本發明，係提供(1)一種光學薄膜，其特徵為具有易接著層，該易接著層係於(甲基)丙烯酸系樹脂薄膜至少一側的表面，包含將多元醇與聚異氰酸酯進行反應所得到之胺基甲酸乙酯樹脂與(甲基)丙烯腈系微粒子。
本發明又提供(2)如(1)記載之光學薄膜，其中，前述易接著層相對於前述胺基甲酸乙酯樹脂100重量份，包含0.1~15重量份之前述微粒子、(3)如(1)或(2)記載之光學薄膜，其中，前述胺基甲酸乙酯樹脂係於分子中具有陰離子性官能基、(4)如(1)~(3)中任一項記載之光學薄膜，其中，前述多元醇係選自聚酯多元醇、聚丙烯酸多元醇、聚醚多元醇、及聚碳酸酯多元醇中之1種以上、(5)如(1)~(4)中任一項記載之光學薄膜，其中，前述微粒子的粒徑為50~350nm。
本發明進而，提供(6)一種光學薄膜的製造方法，其係如(1)~(5)中任一項記載之光學薄膜的製造方法，其特徵為於(甲基)丙烯酸系樹脂薄膜至少一側的表面，塗佈包含胺基甲酸乙酯樹脂與(甲基)丙烯腈系微粒子之易接著組成物而形成塗膜，並乾燥前述塗膜而形成易接著層。
本發明之光學薄膜係藉由具有包含胺基甲酸乙酯樹脂與(甲基)丙烯腈系微粒子之易接著層，有效果地抑制捲繞時所產生之阻塞，並提昇易接著層的強度及易接著性，與其他機能性薄膜的密著性優異。尚，本說明書中，「(甲基)丙烯酸」之用語係作為甲基丙烯酸、丙烯酸或此等之混合物的總稱使用。又，「(甲基)丙烯腈」之用語亦相同，作為甲基丙烯腈、丙烯腈或此等之混合物的總稱使用。
1‧‧‧光學薄膜
2‧‧‧MAR薄膜
3‧‧‧易接著層
4‧‧‧偏光子保護薄膜
5‧‧‧接著劑
6‧‧‧偏光子
10‧‧‧偏光板
[圖1]示意性表示本發明之光學薄膜之一例的剖面圖。
[圖2]示意性表示本發明之偏光板之一例的剖面圖。
[(甲基)丙烯酸系樹脂薄膜]
本發明之光學薄膜所使用之(甲基)丙烯酸系樹脂薄膜係包含(甲基)丙烯酸系樹脂(以下有時簡稱為MAR)。MAR薄膜，例如可擠出含有包含將MAR作為主成分之樹脂成分的成形材料而在成形進行成形所獲得。
上述MAR之玻璃轉移溫度(Tg)較佳為115℃以上，更佳為120℃以上，再更佳為125℃以上，特佳為 130℃以上。上述MAR薄膜係藉由將包含玻璃轉移溫度(Tg)為115℃以上之MAR作為主成分，可成為耐久性優異者。又，上述MAR之玻璃轉移溫度(Tg)的上限值雖並未特別限制，但從成形性等之觀點來看，較佳為170℃以下。
作為上述MAR，可採用自以往所慣用任意之適當的MAR，例如可列舉聚甲基丙烯酸甲酯等之聚(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物(MS樹脂等)、具有脂環族烴基之聚合物、(例如甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸環己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降莰酯共聚物等)。上述當中，較佳為聚(甲基)丙烯酸甲酯等之聚(甲基)丙烯酸C1-6烷基，更佳為將甲基丙烯酸甲酯作為主成分(50~100重量%，較佳為70~100重量%)之甲基丙烯酸甲酯系樹脂。
作為上述MAR之具體例，例如可列舉三菱麗陽公司製之Acrypet VH或Acrypet VRL20A、藉由分子內交聯或分子內環化反應所得之高Tg MAR。
又，上述MAR從耐熱性、透明性、機械性強度的點優異來看，可為於主鏈具有環構造之MAR。作為於主鏈具有環構造之MAR，可列舉具有戊二酸酐構造或者戊二醯亞胺構造之MAR(WO2007/26659號公報、WO2005/108438號公報)、具有馬來酸酐構造或者N-取代 馬來醯亞胺構造之MAR(日本特開昭57-153008號公報、日本特開2007-31537號公報)、具有內酯環構造之MAR(日本特開2006-96960號公報、日本特開2006-171464號公報、日本特開2007-63541號公報、日本特開2008-191426號公報)等。
MAR薄膜中之上述MAR之含量較佳為50~100重量%，更佳為50~99重量%，再更佳為60~98重量%，特佳為70~97重量%。MAR薄膜中之上述MAR之含量未達50重量%時，恐有MAR無法充分反映其原本所具有之高耐熱性、高透明性之虞。
MAR薄膜除了上述MAR之外，亦可含有其他熱可塑性樹脂。作為其他熱可塑性樹脂，例如可列舉聚乙烯、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物、聚(4-甲基-1-戊烯)等之烯烴系聚合物；氯乙烯、偏二氯乙烯、氯化乙烯樹脂等之鹵化乙烯系聚合物；聚甲基丙烯酸甲酯等之丙烯酸系聚合物；聚苯乙烯、苯乙烯-甲基丙烯酸甲酯共聚物、苯乙烯-丙烯腈共聚物、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物等之苯乙烯系聚合物；聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯等之聚酯；尼龍6、尼龍66、尼龍610等之聚醯胺；聚縮醛；聚碳酸酯；聚苯醚；聚苯硫醚；聚醚醚酮；聚碸；聚醚碸；聚氧苯甲酯(Polyoxybenzylene)；聚醯胺醯亞胺；摻合聚丁二烯系樹膠、丙烯酸系樹膠之ABS樹脂或ASA樹脂等之樹膠質聚合物等。
在MAR薄膜之其他熱可塑性樹脂的含有比例較佳為0~50重量%，更佳為0~40重量%，再更佳為0~30重量%，特佳為0~20重量%。
MAR薄膜可含有添加劑。作為添加劑，例如可列舉受阻酚系、磷系、硫系等之抗氧化劑；耐光安定劑、耐候安定劑、熱安定劑等之安定劑；玻璃纖維、碳纖維等之補強材；水楊酸苯酯、(2,2’-羥基-5-甲基苯基)苯并三唑、2-羥基二苯甲酮等之紫外線吸收劑；近紅外線吸收劑；參(二溴丙基)磷酸酯、三烯丙基磷酸酯、氧化銻等之難燃劑；陰離子系、陽離子系、非離子系之界面活性劑等之抗靜電劑；無機顏料、有機顏料、染料等之著色劑；有機填料或無機填料；樹脂改質劑；有機填充劑或無機填充劑；可塑劑；潤滑劑；抗靜電劑；難燃劑；相位差低減劑等。
在MAR薄膜之添加劑的含有比例較佳為0~5重量%，更佳為0~2重量%，再更佳為0~0.5重量%。
作為MAR薄膜的製造方法，雖並未特別限定，但例如可將MAR、與其他之聚合物或添加劑等，以任意適當之混合方法充分混合，作為預先熱可塑性樹脂組成物後，可將此進行薄膜成形。或者，可將MAR、與其他之聚合物或添加劑等分別成為個別之溶液後進行混合而成為均勻之混合液後，可進行薄膜成形。
製造上述熱可塑性樹脂組成物中，例如以全方位攪拌機等、任意之適當混合機將上述之薄膜原料進行 預混合後，擠出混練所得之混合物。此情況下，擠出混練所使用之混練機並未特別限定，例如可使用單軸擠出機、二軸擠出機等之擠出機或加壓捏揉機等任意之適當混合機。
作為上述薄膜成形的方法，例如可列舉溶液澆鑄法(溶液流延法)、熔融擠出法、濾鍋法、壓縮成形法等、任意之適當薄膜成形法。此等之薄膜成形法當中，較佳為溶液澆鑄法(溶液流延法)、熔融擠出法。
作為用以進行上述溶液澆鑄法(溶液流延法)之裝置，例如可列舉滾筒式鑄造機(Drum-type casting machine)、帶式鑄造機、旋轉塗佈機等。
作為上述熔融擠出法，例如可列舉T模法、膨脹法等。成形溫度較佳為150~350℃，更佳為200~300℃。
以上述T模法進行薄膜成形時，於周知之單軸擠出機或二軸擠出機之先端部固定T模，藉由該T模來製膜薄膜後，藉由捲繞薄膜可得到輥狀之薄膜。
MAR薄膜可為未延伸薄膜或延伸薄膜的任一個。為延伸薄膜時，可為1軸延伸薄膜或2軸延伸薄膜的任一個。為2軸延伸薄膜時，可同時為2軸延伸薄膜或逐次2軸延伸薄膜的任一個。進行2軸延伸時，提昇機械性強度，並提昇薄膜性能。
延伸溫度較佳為薄膜原料之熱可塑性樹脂組成物之玻璃轉移溫度附近，具體而言，較佳為(玻璃轉移 溫度-30℃)~(玻璃轉移溫度+100℃)，更佳為(玻璃轉移溫度-20℃)~(玻璃轉移溫度+80℃)的範圍內。延伸溫度未達(玻璃轉移溫度-30℃)時，恐有得不到充分之延伸倍率之虞。相反，延伸溫度超過(玻璃轉移溫度+100℃)時，引起樹脂組成物的流動(flow)，恐有無法進行安定之延伸之虞。
以面積比定義之延伸倍率較佳為1.1~25倍，更佳為1.3~10倍。延伸倍率未達1.1倍時，恐有伴隨延伸無法導致韌性提昇之虞。延伸倍率超過25倍時，恐有無法認定僅提昇延伸倍率的效果(韌性提昇)之虞。
延伸速度係以一方向，較佳為10~20,000%/min，更佳為100~10,000%/min。延伸速度未達10%/min時，為了得到充分之延伸倍率耗費時間，恐有提高製造成本之虞。延伸速度超過20,000%/min時，恐有引起延伸薄膜的破斷等之虞。
MAR薄膜為了安定化其光學的各向同性或機械性特性，於延伸處理後可進行熱處理(退火)等。熱處理的條件可採用任意之適當條件。
MAR薄膜的厚度較佳為5~200μm，更佳為10~100μm。厚度未達5μm時，恐有變無法得到作為光學薄膜之充分的強度之虞。厚度超過200μm時，降低透明性，恐有變成無法適合作為光學薄膜之使用之虞。
MAR薄膜的表面之潤濕張力較佳為40mN/m以上，更佳為50mN/m以上，再更佳為55mN/m以上。藉 由表面之潤濕張力至少成為40mN/m以上，可進一步提昇MAR薄膜與易接著層的接著強度。為了調整表面之潤濕張力，可實施任意之適當表面處理。作為表面處理，例如可列舉電暈放電處理、電漿處理、臭氧吹氣、紫外線照射、火炎處理、化學藥品處理。此等當中，較佳為電暈放電處理、電漿處理。
[易接著層]
上述易接著層，其特徵為包含將多元醇與聚異氰酸酯進行反應所得到之胺基甲酸乙酯樹脂與(甲基)丙烯腈系微粒子。上述微粒子由於透明性優異，不產生霧度，亦無著色，例如作為偏光子保護薄膜使用時，具有給予偏光子之光學特性的影響小之優點。
一般而言，易接著層的強度及易接著性係藉由摻合微粒子來降低。然而，本發明之易接著層藉由包含胺基甲酸乙酯樹脂與(甲基)丙烯腈系微粒子，可提昇易接著層的強度及易接著性。此理由雖未清楚，但認為係本發明者們進行推察，於(甲基)丙烯腈之電子吸引性的官能基之腈基與胺基甲酸乙酯樹脂中之羰基或者羧基之間藉由靜電力進行作用，提昇易接著層的強度，進而，即使在與該腈基與易接著層隣接的層之間，靜電力進行作用，提昇易接著性。
上述胺基甲酸乙酯樹脂係藉由使多元醇與聚異氰酸酯進行反應而獲得。作為多元醇，若為於分子中具 有2個以上羥基者並未特別限定，可採用任意之適當多元醇。例如可列舉聚丙烯酸多元醇、聚酯多元醇、聚醚多元醇、聚碳酸酯多元醇等。此等可單獨、或者組合2種以上使用。
上述胺基甲酸乙酯樹脂較佳為選自聚丙烯酸多元醇、聚酯多元醇、聚碳酸酯多元醇中之1種、或者2種以上之多元醇與聚異氰酸酯進行反應所得到者。上述之將多元醇與聚異氰酸酯進行反應所得到之胺基甲酸乙酯樹脂，因為具有極性大、於分子中多數具有羰基，可更有效果地提昇易接著層的強度及易接著性。又，此等當中，聚酯將多元醇與聚異氰酸酯進行反應所得到之胺基甲酸乙酯樹脂尤其是因為極性大故較佳。
上述胺基甲酸乙酯樹脂較佳為於分子中具有陰離子性官能基。作為陰離子性官能基，可列舉羧基、磺酸基、磷酸基、酚系羥基等。具有陰離子性官能基之胺基甲酸乙酯樹脂，例如除了上述多元醇與上述異氰酸酯，可藉由使具有陰離子性官能基之二醇等作為鏈延伸劑進行反應而獲得。
上述胺基甲酸乙酯樹脂特佳為於分子中具有羧基作為陰離子性官能基。藉由具有羧基，可提供與其他機能性薄膜的密著性(尤其是在高溫．高濕下)優異之光學薄膜。具有羧基之胺基甲酸乙酯樹脂，例如除了上述多元醇與上述聚異氰酸酯，藉由使具有遊離羧基之鏈延伸劑進行反應而獲得。具有遊離羧基之鏈延伸劑，例如可列舉二 羥基羧酸、二羥基丁二酸等。二羥基羧酸，例如可列舉二羥甲基烷酸(例如二羥甲基乙酸、二羥甲基丁酸、二羥甲基丙酸、二羥甲基酪酸、二羥甲基戊酸)等之二羥烷基烷酸。此等可單獨、或者組合2種以上使用。
上述胺基甲酸乙酯樹脂之數平均分子量較佳為5.000~600000，再更佳為10000~400000。上述胺基甲酸乙酯樹脂的酸價較佳為10以上，再更佳為10~50，特佳為20~45。藉由酸價為如此之範圍內，與其他機能性薄膜的密著性優異。
上述胺基甲酸乙酯樹脂的製造方法，可採用任意之適當方法。具體而言，可列舉將上述各成分使其一度反應之單擊法、階段性使其反應之多段法。胺基甲酸乙酯樹脂具有羧基時，較佳為使用多段法。藉由使用多段法，可輕易導入羧基。尚，上述胺基甲酸乙酯樹脂的製造時，可使用任意之適當胺基甲酸乙酯反應觸媒。
上述(甲基)丙烯腈系微粒子係聚合單體之(甲基)丙烯腈或共聚合(甲基)丙烯腈與其他單體而獲得。作為其他單體，只要可共聚合，可採用任意之適當單體。具體而言，可列舉(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸等之不飽和單羧酸；馬來酸等之不飽和二羧酸以及其酐及單或二酯類；(甲基)丙烯酸醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯酸醯胺等之不飽和醯胺類；乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等之乙烯基酯類；甲基乙烯基醚等之乙烯基醚類；乙烯、丙烯等之α-烯烴類；氯乙烯、偏二氯乙烯等之鹵素化α,β-不飽和脂肪族 單體；苯乙烯、α-甲基苯乙烯等之α,β-不飽和芳香族單體等。此等可單獨、或者組合2種以上使用。上述(甲基)丙烯腈系微粒子為(甲基)丙烯腈與其他單體的共聚合時，較佳為將(甲基)丙烯腈作為主成分。
上述微粒子的平均粒徑較佳為50~350nm，更佳為75~300nm，再更佳為100~250nm。藉由使用如此粒徑之微粒子，於易接著層表面形成適當之凹凸，可有效率地減低在MAR薄膜與易接著層及/或易接著層彼此的接觸面之摩擦力，可抑制阻塞。
於MAR薄膜的表面形成易接著層之方法並未特別限定，可使用周知的方法。例如較佳為易接著層係將包含胺基甲酸乙酯樹脂與(甲基)丙烯腈系微粒子之易接著組成物塗佈於丙烯酸樹脂薄膜的表面，形成該組成物之塗佈膜後，使所形成之塗佈膜乾燥予以形成。
上述易接著組成物較佳為水系之組成物，水系之組成物與有機系溶劑相比較，形成易接著層時所產生對環境的負荷小、且作業性優異。水系之組成物，例如為胺基甲酸乙酯樹脂之分散體。胺基甲酸乙酯樹脂之分散體通常情況下為胺基甲酸乙酯樹脂之乳膠。胺基甲酸乙酯樹脂之乳膠係藉由乾燥成為樹脂層。又，該乳膠所包含之微粒子係直接殘留於樹脂層。
上述易接著組成物為水系時，較佳為在上述胺基甲酸乙酯樹脂的製造中使用中和劑。藉由使用中和劑，可提昇在水中之胺基甲酸乙酯樹脂的安定性。作為中 和劑，例如可列舉氨、N-甲基嗎啉、三乙胺、二甲基乙醇胺、甲基二乙醇胺、三乙醇胺、嗎啉、三丙胺、乙醇胺、三異丙醇胺、2-胺基-2-甲基-1-丙醇等。此等可單獨、或者組合2種以上使用。
上述易接著組成物為水系時，胺基甲酸乙酯樹脂的製造時，較佳為可使用相對於上述聚異氰酸酯為不活性，且與水相溶之有機溶劑。作為該有機溶劑，例如可列舉乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙基溶纖劑乙酸酯等之酯系溶劑；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮等之酮系溶劑；二噁烷、四氫呋喃、丙二醇單甲醚等之醚系溶劑等。此等可單獨、或者組合2種以上使用。
上述易接著組成物為水系時，較佳係微粒子作為水分散體進行摻合。摻合微粒子之水分散體之水系之易接著組成物，可使易接著層形成時之作業性更為優異。
上述易接著組成物較佳為包含交聯劑。該交聯劑可採用任意之適當交聯劑。具體而言，上述胺基甲酸乙酯樹脂具有羧基時，作為交聯劑，較佳為可列舉具有可與羧基反應之基之聚合物。作為可與羧基反應之基，例如可列舉有機胺基、噁唑啉基、環氧基、碳二醯亞胺基等。較佳為交聯劑具有噁唑啉基。此等當中，具有噁唑啉基之交聯劑，由於和上述胺基甲酸乙酯樹脂混合時之室溫的使用期限(Pot life)長，且藉由加熱進行交聯反應，作業性變為良好。
上述易接著組成物可進一步包含任意之適當 添加劑。作為添加劑，例如可列舉分散安定劑、觸變劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、消泡劑、增稠劑、分散劑、界面活性劑、觸媒、填料、潤滑劑、抗靜電劑等。
如上述，易接著組成物較佳為水系。在易接著組成物之胺基甲酸乙酯樹脂的濃度較佳為1.5~15重量%，再更佳為2~10重量%。在易接著組成物之胺基甲酸乙酯樹脂的濃度若為上述範圍，由於易接著層形成時之作業性優異故較佳。又，易接著組成物包含交聯劑時，易接著組成物中之交聯劑(固體含量)的含量相對於胺基甲酸乙酯樹脂(固體含量)100重量份，較佳為1~30重量份，再更佳為3~20重量份。藉由成為1重量份以上，和偏光子的密著性優異，藉由成為30重量份以下，可於易接著層抑制相位差表現。易接著組成物中之微粒子(固體含量)的含量相對於胺基甲酸乙酯樹脂(固體含量：包含交聯劑時，亦包含交聯劑之固體含量)100重量份，較佳為0.1~15重量份，更佳為0.3~5重量份，再更佳為0.5~3重量份。具體而言，在易接著層之微粒子的含量相對於樹脂固體含量100重量份，較佳為0.1~15重量份，更佳為0.3~5重量份，再更佳為0.5~3重量份。藉由設定在如此之範圍，於易接著層表面形成適當之凹凸，可有效率地減低在MAR薄膜與易接著層及/或易接著層彼此的接觸面之摩擦力，且阻塞抑制能優異的同時，提昇易接著層的強度與易接著性，可充分確保和其他機能性薄膜的接著力。又，作為偏光子保護薄膜使用時，可更加抑制偏光板之光學特 性所給予的影響。
上述易接著層的厚度可設定為任意之適當值。較佳為0.1~10μm，更佳為0.1~5μm，特佳為0.2~1.0μm。藉由設定在如此之範圍，和其他機能性薄膜的密著性優異，可於易接著層抑制相位差表現。
易接著層的厚度d、與易接著層所包含之微粒子的平均粒徑r的比r/d較佳為0.3~1.4，更佳為0.4~1.1，再更佳為0.5~1.0。藉由設定在如此之範圍，可將在本發明之光學薄膜之耐阻塞性變為確實。與易接著層的厚度d相比較之微粒子的粒徑r，超過上述比r/d的範圍小時，易接著層所包含未露出於易接著層的表面之微粒子，亦即雖然對耐阻塞性的提昇沒有貢獻，但恐有使光學薄膜的霧度率上昇之虞。和易接著層的厚度d相比較之微粒子的平均粒徑r，超過上述比r/d的範圍大時，降低易接著層的強度，恐有微粒子變成易從易接著層脫落之虞。
[光學薄膜]
於圖1表示本發明之光學薄膜的一例。圖1所示之光學薄膜1係於MAR薄膜2之一側的表面具有形成易接著層3之構造。對於MAR薄膜2及易接著層3之具體構成係如上所述。尚，本發明之光學薄膜可於MAR薄膜的雙方的表面形成易接著層。
作為本發明之光學薄膜的霧度率較佳為1.0%以下。尚，霧度率係依JISK7105之規定測定。
作為在本發明之光學薄膜的易接著層表面之靜摩擦係數，較佳為0.1~0.60，更佳為0.1~0.55，再更佳為0.1~0.50。靜摩擦係數若為上述範圍，可使薄膜的捲繞時所產生之阻塞的抑制能優異。
本發明之光學薄膜由於捲繞輥時之耐阻塞性優異，可捲繞輥(可為薄膜輥)。本發明之光學薄膜的薄膜輥由於耐阻塞性優異，光學薄膜的捲繞時及後加工之重複進行時，可使薄膜的操作性優異。
與形成在本發明之光學薄膜之易接著層的表面相反側的表面中，如有必要，可形成各種機能性塗佈層。機能性塗佈層，例如可列舉抗靜電層、黏接著劑層、接著層、易接著層、防眩(無眩光)層、光觸媒層等之防污層、抗反射層、硬塗層、紫外線遮蔽層、熱線遮蔽層、電磁波遮蔽層、氣體阻隔層等。
本發明之光學薄膜，例如為偏光子保護薄膜、相位差薄膜、視野角補償薄膜、光擴散薄膜、反射薄膜、抗反射薄膜、防眩薄膜、亮度提昇薄膜、觸控面板用導電薄膜。又，上述當中，特佳為作為偏光子保護薄膜使用。表示本發明之光學薄膜之相位差，可藉由丙烯酸樹脂薄膜的組成及延伸狀態進行調控。本發明之光學薄膜可為光學性上各向同性之薄膜，可為光學性上具有各向異性之(例如表現如相位差般之雙折射)薄膜。
[偏光板]
於圖2表示本發明之偏光板的一例。圖2所示之偏光板10係具有於MAR薄膜2之一側的表面，於具有易接著層3之偏光子保護薄膜4之易接著層側的表面透過接著劑5，層合偏光子6之構造。尚，雖未圖示，偏光板10可於和偏光子6之偏光子保護薄膜4相反側，具有透過接著劑層所層合之第2偏光子保護薄膜。
上述偏光板係具有於MAR薄膜的表面，具有易接著層之偏光子保護薄膜的易接著層表面透過接著劑層層合偏光子之構造。該偏光子保護薄膜所形成之易接著層，由於易接著層的強度及易接著性優異，故可成為偏光子與偏光子保護薄膜的密著性及耐久性優異之偏光板。又，由於偏光子保護薄膜的易接著層所包含之有機微粒子的平均粒徑較可見光波長更小，故可抑制藉由粒子之光散射，可成為光學特性優異之偏光板。
作為上述偏光子，因應目的可採用任意之適當偏光子。例如可列舉於聚乙烯基醇系薄膜、部分縮醛化之聚乙烯基醇系薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等之親水性高分子薄膜，使碘或二色性染料等之二色性物質吸著之經一軸延伸者、聚乙烯基醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等多烯系配向薄膜等。此等當中，於聚乙烯基醇系薄膜使碘等之二色性物質吸著之經一軸延伸之偏光子係偏光二色比提高故特佳。此等偏光子的厚度雖並未特別限制，但一般而言為1~80μm左右。
作為形成上述接著劑層之接著劑，可採用任 意之適當接著劑。較佳係接著劑層為由包含聚乙烯基醇系樹脂之接著劑組成物所形成。
作為上述第2偏光子保護薄膜，可採用任意之適當保護薄膜。作為形成第2偏光子保護薄膜之材料的代表例，可列舉二乙醯基纖維素、三乙醯基纖維素等之纖維素系聚合物。第2偏光子保護薄膜可用與上述之MAR薄膜相同之材料形成。
[畫像顯示裝置]
本發明之畫像顯示裝置係具備本發明之偏光板。作為畫像顯示裝置之具體例，可使用在如電致發光(EL)顯示器、電漿顯示器(PD)、電界放出顯示器(FED)之自發光型顯示裝置、液晶顯示裝置(LCD)。液晶顯示裝置(LCD)係具有液晶元件、與配置於該液晶元件之至少一側之上述偏光板。
[光學薄膜的製造方法]
本發明之光學薄膜的製造方法並未特別限制，雖可藉由周知的方法製造，但較佳為例如於MAR薄膜的至少一側的表面，塗佈包含胺基甲酸乙酯樹脂與(甲基)丙烯腈系微粒子之易接著組成物，形成該易接著組成物之塗佈膜(塗佈步驟)、使形成之塗佈膜乾燥，將包含上述微粒子之易接著層形成於上述表面(乾燥步驟)。
作為塗佈步驟中塗佈易接著組成物之方法， 可採用任意之適當方法。例如可列舉棒塗佈法、輥塗佈法、凹版塗佈法、桿塗佈法、槽孔塗佈法、簾式塗佈法、噴水塗佈法(Fountain)等。塗佈步驟中所形成之塗佈膜的厚度，該塗佈膜成為易接著層時，可因應必要之厚度，進行適當調整。
塗佈在(甲基)丙烯酸樹脂薄膜之易接著組成物的表面，較佳為實施表面處理。作為表面處理，較佳為電暈放電處理、電漿處理。藉由實施電暈放電處理，可使MAR薄膜與易接著層的密著性提昇。電暈放電處理可以任意之適當條件實施。作為電暈放電電子照射量，例如較佳為10~150W/m2/min，更佳為10~100W/m2/min。
乾燥步驟並未特別限制，可使用以往周知的方法。作為乾燥溫度，代表性為50℃以上，較佳為90℃以上，再更佳為110℃以上。藉由將乾燥溫度定為如此之範圍，可成為耐色性(尤其是在高溫高濕下)優異之光學薄膜。乾燥溫度的上限較佳為200℃以下，再更佳為180℃以下。
藉由本發明之光學薄膜的製造方法，製造來自未延伸之MAR薄膜之延伸薄膜的光學薄膜時，以及製造來自經一軸延伸之MAR薄膜之二軸延伸薄膜的光學薄膜時，有必要將此等之MAR薄膜以任一個時間點進行延伸。MAR薄膜的延伸可於易接著層之形成前進行，可於易接著層之形成後進行。又，亦可易接著層的形成、與MAR薄膜的延伸同時進行。
易接著層的形成、與MAR薄膜的延伸同時進行時，例如於塗佈步驟之後，將形成易接著組成物之塗佈膜之MAR薄膜以加熱雰圍下進行延伸即可。為了延伸藉由加在該薄膜之熱，乾燥MAR薄膜的表面所形成之易接著組成物的塗佈膜，成為易接著層。若能如此進行，由於可同時實施薄膜的延伸處理與易接著組成物的乾燥，因生產性優異故較佳。尚，通常光學薄膜所使用之MAR，玻璃轉移溫度(Tg)為100℃以上的情況多，上述之延伸溫度由於從易接著組成物之塗佈膜形成易接著層，有充分高之溫度。
本發明之偏光板代表性係藉由將上述光學薄膜與上述偏光子透過接著劑層進行層合來製造。於此，將上述光學薄膜以其易接著層成為偏光子側般來進行層合。具體而言，可列舉於偏光子或光學薄膜的任一側之單側塗佈上述接著劑組成物之後，貼合偏光子與光學薄膜並使其乾燥之方法。
[實施例]
以下，藉由實施例，進一步詳細說明本發明。尚，本發明並非被限定於以下之實施例者。
製造例1
將甲基丙烯酸系樹脂[Tg：135℃]之顆粒使用單軸擠出機(=20.0mm、L/D=25)及衣架型T模(寬150mm)，以 280℃進行熔融擠出，將擠出物保持在110℃並使用冷卻輥進行冷卻，形成厚度100μm之甲基丙烯酸系樹脂薄膜。
製造例2
混合胺基甲酸乙酯樹脂[第一工業製藥製、Superflex 210、固體含量35重量%]10g、包含丙烯腈系微粒子(微粒子A)之乳膠[積水化學工業製、ADVANCELL NS K-001、平均粒徑150nm、固體含量20重量%]0.22g及純水30g，而得到係乳膠狀分散體之易接著組成物(1)。
製造例3
除了將包含前述微粒子A之乳膠的量增加至0.44g之外，其他與製造例2同樣進行，而得到易接著組成物(2)。
製造例4
除了將包含前述微粒子A之乳膠的量增加至1.09g之外，其他與製造例2同樣進行，而得到易接著組成物(3)。
製造例5
除了將包含前述微粒子A之乳膠的量增加至2.19g之外，其他與製造例2同樣進行，而得到易接著組成物 (4)。
製造例6
除了使用胺基甲酸乙酯樹脂[DIC製、HYDRANAP-40N、固體含量35重量%]取代胺基甲酸乙酯樹脂[第一工業製藥製、Superflex 210、固體含量35重量%]之外，其他與製造例2同樣進行，而得到易接著組成物(5)。
製造例7
除了使用包含丙烯腈系微粒子(微粒子B)之乳膠[東洋紡製、TAFTIC F-120、平均粒徑200nm、固體含量20重量%]取代包含前述微粒子A之乳膠之外，其他與製造例2同樣進行，而得到易接著組成物(6)。
製造例8
除了使用包含膠體二氧化矽微粒子(微粒子C)之乳膠[扶桑化學工業製、QuartronPL-7、平均一次粒徑75nm、固體含量25重量%]0.88g取代包含前述微粒子A之乳膠0.22g之外，其他與製造例2同樣進行，而得到易接著組成物(7)。
製造例9
除了將包含微粒子C之乳膠的量增加至1.75g之外，其他與製造例8同樣進行，而得到易接著組成物(8)。
製造例10
除了使用包含膠體二氧化矽微粒子(微粒子D)之乳膠[扶桑化學工業製、QuartronPL-20、平均一次粒徑220nm、固體含量20重量%]1.09g取代包含前述微粒子A之乳膠0.22g之外，其他與製造例2同樣進行，而得到易接著組成物(9)。
製造性11
除了將包含前述微粒子D之乳膠的量增加至2.19g之外，其他與製造例10同樣進行，而得到易接著組成物(10)。
製造性12
除了不使用包含前述微粒子D之乳膠之外，其他與製造例10同樣進行，而得到係乳膠狀之分散體之易接著組成物(11)。
實施例1
於製造例1所作成之甲基丙烯酸系樹脂薄膜的一側的表面，將製造例2所作成之易接著組成物(1)，使用棒塗佈機進行塗佈後，投入熱風乾燥機以100℃乾燥90秒。其次，使用桌延伸機將該薄膜進行一軸延伸(延伸倍率：2.5倍)，而得到於厚度40μm之甲基丙烯酸系樹脂薄膜的 表面，具有包含胺基甲酸乙酯樹脂與微粒子之厚度0.3μm之易接著層的光學薄膜。在易接著層之微粒子的含量，相對於胺基甲酸乙酯樹脂100重量份為1.25重量份。
實施例2~6、比較例1~5
除了使用表1所示之易接著組成物取代易接著組成物(1)之外，其他與實施例1同樣進行，而得到光學薄膜。易接著層中，相對於胺基甲酸乙酯樹脂100重量份之微粒子的含量(重量份)係如表1所示。
針對各實施例及比較例所得之光學薄膜，進行以下所示之評價。將評價結果示於表1。
(1)靜摩擦係數(易接著層與MAR薄膜之間)
測定裝置：Tribogear TYPE14[新東科學製]使固定在玻璃板上之各實施例及比較例所得之光學薄膜、與固定在10mm 之不銹鋼製之圓盤之製造例1所得之甲基丙烯酸系樹脂薄膜密著，從固定在圓盤之丙烯酸樹脂薄膜之上施加200g加重以6.0mm/分鐘速度，於水平方向移動時從開始移動之最大負荷求得靜摩擦係數。
(2)密著性
於各實施例及比較例所得之光學薄膜的易接著層側，塗佈聚乙烯基醇系接著劑組成物，透過該接著劑組成物與厚度30μm之碘系偏光子層合之後，投入熱風乾燥機 (70℃)乾燥5分鐘，而得到與偏光子貼合之層合體。從上述所得之層合體切出25mm×250mm尺寸之樣品片，於光學薄膜的表面實施黏著加工，貼合於玻璃板。然後，掌握層合體之偏光子，依日本接著劑工業規格JAI 13-1996之浮動輥法，測定於90度之剝離接著強度。尚，將剝離接著強度之單位作為(N/25mm)表示。
如表1所示，具有包含胺基甲酸乙酯樹脂與丙烯腈系微粒子之易接著層之實施例1~6的光學薄膜，耐阻塞性優異的同時，與不包含微粒子之比較例5的光學薄膜相比較，顯示與其他機能性薄膜的密著性高的結果。 另外，形成包含胺基甲酸乙酯樹脂與膠體二氧化矽微粒子之易接著層之比較例1~4的光學薄膜，雖耐阻塞性優異，但與不摻合微粒子之比較例5相比較，顯示與其他機能性薄膜的密著性較低的結果。

Claims (6)

  1. 一種光學薄膜，其特徵為具有易接著層，該易接著層係於(甲基)丙烯酸系樹脂薄膜至少一側的表面，包含將多元醇與聚異氰酸酯進行反應所得到之胺基甲酸乙酯樹脂與(甲基)丙烯腈系微粒子。
  2. 如請求項1之光學薄膜，其中，前述易接著層相對於前述胺基甲酸乙酯樹脂100重量份，包含0.1~15重量份之前述微粒子。
  3. 如請求項1或2之光學薄膜，其中，前述胺基甲酸乙酯樹脂係於分子中具有陰離子性官能基。
  4. 如請求項1或2之光學薄膜，其中，前述多元醇係選自聚酯多元醇、聚丙烯酸多元醇、聚醚多元醇、及聚碳酸酯多元醇中之1種以上。
  5. 如請求項1或2之光學薄膜，其中，前述微粒子的粒徑為50~350nm。
  6. 一種光學薄膜的製造方法，其係如請求項1或2之光學薄膜的製造方法，其特徵為於(甲基)丙烯酸系樹脂薄膜至少一側的表面，塗佈包含胺基甲酸乙酯樹脂與(甲基)丙烯腈系微粒子之易接著組成物而形成塗膜，並乾燥前述塗膜而形成易接著層。
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