TWI622501B - 液壓轉印用基膜、其製造方法、液壓轉印用膜、以及液壓轉印方法 - Google Patents
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Abstract
本發明之課題係提供一種能充分防止浮在液面時之捲縮而能夠形成轉印效率優異的液壓轉印用膜之液壓轉印用基膜、及其製造方法。
本發明之解決手段係一種液壓轉印用基膜,其係包含聚乙烯醇與含第二烷基之界面活性劑;及一種液壓轉印用基膜之製造方法,其係具有使用包含聚乙烯醇與含第二烷基之界面活性劑的製膜原液而製膜之步驟。於液壓轉印用基膜中,相對於聚乙烯醇100質量份而言,較佳含有0.05至4質量份的含第二烷基之界面活性劑,又,較佳為至少一側面之算術平均粗糙度(Ra)為400nm以下。
Description
本發明係關於一種用以形成在具有存在凹凸之立體面或曲面的成形體等之被轉印物上實施印刷時所用之液壓轉印用膜的液壓轉印用基膜、其製造方法、使用由該液壓轉印用基膜所形成的液壓轉印用膜及使用該液壓轉印用膜之液壓轉印方法。
作為形成用以在具有存在凹凸之立體面或曲面的成形體表面賦予設計性、或用以使表面物性提高之印刷層的手段,習知使用在水溶性或水膨潤性之膜表面形成有轉印用印刷層的液壓轉印用膜之方法。例如,在專利文獻1中記載:藉由使液壓轉印用膜之印刷面朝上而浮在以水為首之液體液面後,從其上方將被轉印物之各種成形體壓入而利用液壓將印刷層轉印至被轉印物表面之方法。
於液壓轉印方法中,重要的是防止將液壓轉印用膜浮在液面時之捲縮。例如,在專利文獻2中記載:由於近年來設計之印刷為多層印刷,或逐漸轉變為使用耐久性優異的印刷用印墨,為了防止起因於液壓轉印用膜之設計印刷面與非印刷面上產生之吸水性差異等所導致之捲縮,於製造液壓轉印用基膜時,對與接觸於製膜
帶或製膜轉筒之面成為相反側之面進行熱處理。
[專利文獻1]日本特開昭54-33115號公報
[專利文獻2]日本特開2009-1009號公報
然而,於專利文獻2記載的方法中,由於捲縮之防止功效尚不足,轉印效率差。因此,於本發明中,其目的在於提供一種能充分防止浮在液面時之捲縮而能夠形成轉印效率優異的液壓轉印用膜之液壓轉印用基膜、其製造方法、使用由該液壓轉印用基膜所形成的液壓轉印用膜及使用該液壓轉印用膜之液壓轉印方法。
本發明人等為了達成上述目的而不斷鑽研之結果,發現:若使用包含聚乙烯醇(以下,有將「聚乙烯醇」簡稱為「PVA」)與含第二烷基之界面活性劑的製膜原液時,可容易獲得表面粗糙度小的液壓轉印用基膜;由使用它構成之液壓轉印用膜於液壓轉印時可抑制在以水為首的液體液面之溶解速度不均而抑制在印刷花紋之不均;及由使用包含PVA與含第二烷基之界面活性劑的液壓轉印用基膜構成之液壓轉印用膜,可高度抑制將它浮在液面時之捲縮。本發明人等係基於該等之見解,進一步不斷探討而使本發明完成。
亦即,本發明係關於:[1]一種液壓轉印用基膜,其係包含PVA與含第二烷基之界面活性劑;[2]如上述[1]之液壓轉印用基膜,其中相對於PVA100質量份而言,含有0.05至4質量份的含第二烷基之界面活性劑;[3]如上述[1]之液壓轉印用基膜,其中PVA之皂化度為80至98莫耳%;[4]如上述[1]之液壓轉印用基膜,其中至少一側面之算術平均粗糙度(Ra)為400nm以下;[5]一種液壓轉印用基膜之製造方法,其係具有使用包含聚乙烯醇與含第二烷基之界面活性劑的製膜原液而製膜之步驟;[6]一種液壓轉印用膜,其係由在上述[1]至[4]中任一項之液壓轉印用基膜之表面實施印刷而成;[7]一種液壓轉印方法,其係具有:將上述[6]之液壓轉印用膜以使已實施印刷的面朝上之方式浮在液面之步驟、與從飄浮的液壓轉印用膜之上方將被轉印物壓入之步驟。
若根據本發明,提供一種能充分防止浮在液面時之捲縮而能夠形成轉印效率優異的液壓轉印用膜之液壓轉印用基膜、其製造方法、使用由該液壓轉印用基膜所形成的液壓轉印用膜及使用該液壓轉印用膜之液壓轉印方法。
以下,針對本發明而詳加說明。
本發明之液壓轉印用基膜係包含PVA。作為該PVA,能夠使用藉由皂化使乙酸乙烯酯、甲酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯、三甲基乙酸乙烯酯、維沙狄克酸乙烯酯(vinyl versatate)、月桂酸乙烯酯、硬脂酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯、乙酸異丙烯酯等之乙烯酯的1種或2種以上進行聚合所得之聚乙烯酯所得者。於上述乙烯酯之中,從PVA之製造容易性、取得容易性、成本等之觀點,較佳為乙酸乙烯酯。
上述聚乙烯酯較佳為僅將1種或2種以上之乙烯酯作為單體使用而得者,更佳為僅將1種乙烯酯作為單體使用而得者,若在不損害本發明功效之範圍內,亦可為1種或2種以上之乙烯酯、與可與其共聚合的其他單體之共聚物。
作為可與上述乙烯酯共聚合的其他單體,例如,可舉出乙烯、丙烯、1-丁烯、異丁烯等之碳數2至30之α-烯烴;(甲基)丙烯酸或其鹽;(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸-2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸十二酯、(甲基)丙烯酸十八酯等之(甲基)丙烯酸酯;(
甲基)丙烯醯胺、N-甲基(甲基)丙烯醯胺、N-乙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、二丙酮(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯醯胺丙磺酸或其鹽、(甲基)丙烯醯胺丙基二甲基胺或其鹽、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺或其衍生物等之(甲基)丙烯醯胺衍生物;N-乙烯基甲醯胺、N-乙烯基乙醯胺、N-乙烯基丙醯胺等之N-乙烯基醯胺;甲基乙烯基醚、乙基乙烯基醚、正丙基乙烯基醚、異丙基乙烯基醚、正丁基乙烯基醚、異丁基乙烯基醚、第三丁基乙烯基醚、十二烷基乙烯基醚、硬脂醯基乙烯基醚等之乙烯基醚;(甲基)丙烯腈等之氰乙烯;氯乙烯、偏氯乙烯、氟乙烯、偏氟乙烯等之鹵化乙烯;乙酸烯丙酯、氯丙烯等之烯丙基化合物;順丁烯二酸或其鹽、酯或酸酐;亞甲基丁二酸或其鹽、酯或酸酐;乙烯基甲氧基矽烷等之乙烯基矽基化合物;不飽和磺酸等。上述之聚乙烯酯能夠具有源自1種或2種以上前述其他單體之構成單元。
上述聚乙烯酯中所佔之源自前述其他單體的構成單元之比例,其根據構成聚乙烯酯之全部構成單元之莫耳數,較佳為25莫耳%以下,更佳為15莫耳%以下,進一步更佳為5莫耳%以下。若該比例超過25莫耳%時,有液壓轉印用基膜與印刷層之親和性等降低之傾向。
若在不損害本發明功效之範圍內,上述PVA亦可為由1種或2種以上之可接枝共聚合的單體所改性者。作為該可接枝共聚合的單體,例如,可舉出不飽和羧酸或其衍生物;不飽和磺酸或其衍生物;碳數2至30之α-
烯烴等。在PVA中之源自可接枝共聚合的單體之結構單元的比例,其根據構成PVA之全部構成單元的莫耳數,較佳為5莫耳%以下。
上述PVA,其羥基之一部分可被交聯或未被交聯。又,上述PVA,其羥基之一部分可與乙醛、丁醛等之醛化合物等反應而形成縮醛結構,亦可不與該等化合物反應而不形成縮醛結構。
上述PVA之聚合度較佳為500至3000之範圍內,更佳為700至2800之範圍內,進一步更佳為1000至2500之範圍內。PVA之聚合度小於500之情形下,有所得之液壓轉印用基膜之機械強度將會不足之情形。另一方面,若PVA之聚合度超過3000時,有製造液壓轉印用基膜時之生產效率將會降低之情形,又,有液壓轉印用基膜、甚至液壓轉印用膜之水溶性將會降低而於成本考量之步驟速度下進行液壓轉印將會變得困難之情形。還有,在本專利說明書中之所謂PVA之聚合度係意指依據JIS K6726-1994之記載所測定的平均聚合度。
上述PVA之皂化度較佳為80至98莫耳%之範圍內,更佳為83至96莫耳%之範圍內,進一步更佳為85至90莫耳%之範圍內。於PVA之皂化度小於80莫耳%之情形下,有液壓轉印用基膜、甚至液壓轉印用膜之水溶性將會降低而於成本考量之步驟速度下進行液壓轉印將會變得困難之情形。另一方面,也於PVA之皂化度超過98莫耳%之情形下,有液壓轉印用基膜或液壓轉印用膜之水溶性將會降低而於成本考量之步驟速度下進行液壓轉
印將會變得困難之情形。還有,在本專利說明書之PVA皂化度係指相對於藉皂化而可被轉換成乙烯醇單元結構單元(典型而言,乙烯酯單元)與乙烯醇單元之合計莫耳數而言,PVA所具有的該乙烯醇單元之莫耳數所佔之比例(莫耳%)。皂化度能夠依據JIS K6726-1994之記載而測定。
從確保作為液壓轉印用基膜的基本物性等之觀點,在液壓轉印用基膜之PVA的含有率較佳為50質量%以上,更佳為80質量%以上,進一步更佳為85質量%以上。雖然該含有率之上限並無特別之限制,但該含有率較佳為99質量%以下,更佳為98質量%以下。
本發明之液壓轉印用基膜係包含含第二烷基之界面活性劑。藉由使液壓轉印用基膜包含含第二烷基之界面活性劑,能充分防止由其所形成的液壓轉印用膜浮在液面時之捲縮。雖並非本發明之任何限定,惟認為其理由係:因於將液壓轉印用膜浮在液面時,含第二烷基之界面活性劑會溶出而被覆液面,藉此可抑制在液面上之液壓轉印用膜的擴散而阻止捲縮之進行。
含第二烷基之界面活性劑係意指其構造中具有至少1個第二烷基。於此,第二烷(基)係意指具有至少1個二級碳原子的烷(基)。從能更有效防止將所得之液壓轉印用膜浮在液面時之捲縮而言,第二烷基之碳數較佳為3至20之範圍內,更佳為5至18之範圍內。
作為含第二烷基之界面活性劑,例如,可舉出含第二烷基之烷基醚型界面活性劑、含第二烷基之脂
肪酸酯型界面活性劑、第二醇之硫酸酯鹽(鈉鹽、鉀鹽、銨鹽等)等。含第二烷基之界面活性劑可單獨使用1種或合併使用2種以上。從能更有效防止將所得之液壓轉印用膜浮在液面時之捲縮而言,含第二烷基之界面活性劑較佳為含第二烷基之烷基醚型界面活性劑及/或含第二烷基之脂肪酸酯型界面活性劑,更佳為含第二烷基之烷基醚型界面活性劑。
在含第二烷基之烷基醚型界面活性劑中之烷基醚型界面活性劑,係意指使烷基與除此之外的有機基(例如,聚氧伸烷基等之親水性基等)經由氧原子而具有醚鍵((C)-O-(C))之結構的界面活性劑。在含第二烷基之烷基醚型界面活性劑中,對於第二烷基之位置並無特別之限制,但從能更有效防止將所得之液壓轉印用膜浮在液面時之捲縮而言,含第二烷基之烷基醚型界面活性劑較佳為使第二烷基與除此之外的有機基(例如,聚氧伸烷基等之親水性基等)經由氧原子而具有醚鍵((C)-O-(C))之結構者。
又,在含第二烷基之脂肪酸酯型界面活性劑中之脂肪酸酯型界面活性劑,係意指使構成脂肪酸之乙醯基與除此之外的有機基(例如,聚氧伸烷基等之親水性基等)經由氧原子而具有酯鍵((乙醯基)-O-(C))之結構的界面活性劑。在含第二烷基之脂肪酸酯型界面活性劑中,對於第二烷基之位置並無特別之限制,但從能更有效防止將所得之液壓轉印用膜浮在液面時之捲縮而言,含第二烷基之脂肪酸酯型界面活性劑較佳為使相當於經第
二烷基鍵結至羰基之結構的乙醯基與除此之外的有機基(例如,聚氧伸烷基等之親水性基等)經由氧原子而具有酯鍵((乙醯基)-O-(C))之結構者。
作為含第二烷基之烷基醚型界面活性劑,例如,可舉出聚氧乙烯第二烷基醚、聚氧丙烯第二烷基醚、聚氧丁烯第二烷基醚、聚氧辛烯第二烷基醚等之聚氧伸烷基第二烷基醚;聚氧乙烯第二烷基醚硫酸鹽、聚氧丙烯第二烷基醚硫酸鹽、聚氧丁烯第二烷基醚硫酸鹽、聚氧辛烯第二烷基醚硫酸鹽等之聚氧伸烷基第二烷基醚硫酸鹽;聚氧乙烯第二烷基醚磷酸鹽、聚氧丙烯第二烷基醚磷酸鹽、聚氧丁烯第二烷基醚磷酸鹽、聚氧辛烯第二烷基醚磷酸鹽等之聚氧伸烷基第二烷基醚磷酸鹽;聚氧乙烯第二烷基醚乙酸鹽、聚氧丙烯第二烷基醚乙酸鹽、聚氧丁烯第二烷基醚乙酸鹽、聚氧辛烯第二烷基醚乙酸鹽等之聚氧伸烷基第二烷基醚羧酸鹽;聚氧乙烯第二烷基磺基琥珀酸鹽、聚氧丙烯第二烷基磺基琥珀酸鹽、聚氧丁烯第二烷基磺基琥珀酸鹽、聚氧辛烯第二烷基磺基琥珀酸鹽等之聚氧伸烷基第二烷基磺基琥珀酸鹽等。還有,於含第二烷基之烷基醚型界面活性劑為鹽之情形下,例如,可舉出鈉鹽、鉀鹽、銨鹽等。
又,作為含第二烷基之脂肪酸酯型界面活性劑,例如,可舉出聚氧乙烯第二脂肪酸酯、聚氧丙烯第二脂肪酸酯、聚氧丁烯第二脂肪酸酯、聚氧辛烯第二脂肪酸酯等之聚氧伸烷基第二脂肪酸酯;聚氧乙烯丙三醇第二脂肪酸酯、聚氧丙烯丙三醇第二脂肪酸酯、聚氧丁
烯丙三醇第二脂肪酸酯、聚氧辛烯丙三醇第二脂肪酸酯等之聚氧伸烷基丙三醇第二脂肪酸酯等。
於該等之含第二烷基之烷基醚型界面活性劑及含第二烷基之脂肪酸酯型界面活性劑之中,從能更有效防止將所得之液壓轉印用膜浮在液面時之捲縮而言,較佳為非離子系之界面活性劑,更佳為聚氧伸烷基第二烷基醚及/或聚氧伸烷基第二脂肪酸酯,進一步更佳為聚氧伸烷基第二烷基醚。
作為上述聚氧伸烷基第二烷基醚及聚氧伸烷基第二脂肪酸酯,例如,能夠使用以下式(I)所代表之化合物。
式(I)中,R1及R2係表示各自的碳數1至18之烷基,R3係表示單鍵或碳數1至10之伸烷基,f係表示0或1,R4係表示碳數1至4之伸烷基,n係表示1至20之整數。
在式(I)中,R1及R2所表示的烷基可為直鏈狀或分枝鏈狀。該烷基之碳數為1至18之範圍內,較佳為1至16之範圍內,更佳為1至14之範圍內。還有,R1及R2可互為相同亦可不同。
在式(I)中,R3所表示的伸烷基係其碳鏈可為直鏈狀亦可為分枝鏈狀。該伸烷基之碳數為1至10之範圍內,較佳為1至8之範圍內,更佳為1至6之範圍內。從能
更有效防止將所得之液壓轉印用膜浮在液面時之捲縮、及取得為容易等之觀點,R3較佳為單鍵。
在式(I)中,f為0或1。f為0之情形下,以式(I)所表示的化合物係成為聚氧伸烷基第二烷基醚;f為1之情形下,以式(I)所表示的化合物係成為聚氧伸烷基第二脂肪酸酯。
在式(I)中,R4所表示的伸烷基係其碳鏈可為直鏈狀亦可為分枝鏈狀。作為該伸烷基,例如,可舉出1,2-伸乙基、1,2-伸丙基、1,2-伸丁基等,從能更有效防止將所得之液壓轉印用膜浮在液面時之捲縮、及取得為容易等之觀點,較佳為1,2-伸乙基。
在式(I)中,n係1至20整數中任一個。其中,從能更有效防止將所得之液壓轉印用膜浮在液面時之捲縮、及取得為容易等之觀點,n較佳為3至18整數中任一個,更佳為5至12整數中任一個。還有,依照聚氧伸烷基第二烷基醚及聚氧伸烷基第二脂肪酸酯之製法等,會有n具有分布之情形,惟如上所述,在本發明所用之含第二烷基之界面活性劑可單獨使用1種或合併使用2種以上中任一種,因此,可單獨使用n為單一之整數且不具有分布者,或是亦可使用n為具有分布者(亦即,併用n為相互不同者)中任一種。
在式(I)中,將第二烷基部分之全體碳數,亦即,將以下式(I’)所代表的部分結構之全體碳數設為m時,若該m與上述n之關係符合m>n,則能更有效防止將所得之液壓轉印用膜浮在液面時之捲縮。從該觀點,m及n較
佳符合1≦m-n≦9之關係,更佳符合2≦m-n≦7之關係。
式(I’)中,R1、R2及R3係與上述同義。
相對於PVA 100質量份而言,液壓轉印用膜較佳含有0.05至4質量份之含第二烷基之界面活性劑,更佳為含有0.1至3.5質量份,進一步更佳為0.5至3質量份。藉由使相對於PVA 100質量份之含第二烷基之界面活性劑的含量為上述下限以上,能更有效防止將所得之液壓轉印用膜浮在液面時之捲縮;另一方面,藉由為上述上限以下,能有效抑制界面活性劑流出。
藉由使液壓轉印用基膜中含有塑化劑而能夠賦予柔軟性。作為塑化劑較佳為多元醇,作為具體例,可舉出乙二醇、丙三醇、丙二醇、二乙二醇、二丙三醇、三乙二醇、四乙二醇、三羥甲基丙烷等。相對於PVA 100質量份而言,在液壓轉印用基膜中之塑化劑的含量較佳為20質量份以下,更佳為15質量份以下。若塑化劑的含量超過20質量份時,有在液壓轉印用基膜中發生結塊之情形。
又,以:在液壓轉印用基膜中形成印刷層時賦予必要的機械強度;維持操作液壓轉印用基膜時之耐濕性;或是調節將形成有印刷層之液壓轉印用膜浮在液面時之因液體吸收所造成的柔軟化速度、在液面之延展
性、擴散至液體中所需要的時間、在液壓轉印步驟之變形容易性等為目的,較佳在上述液壓轉印用基膜中使其含有澱粉及/或PVA以外的水溶性高分子。
作為澱粉,例如,可舉出玉米澱粉、馬鈴薯澱粉、甘藷澱粉、小麥澱粉、米澱粉、樹薯澱粉、西米澱粉等之天然澱粉類;已實施醚化加工、酯化加工、氧化加工等之加工澱粉類等;特佳為加工澱粉類。相對於PVA 100質量份而言,在液壓轉印用基膜中之澱粉的含量較佳為15質量份以下,更佳為10質量份以下。若澱粉的含量超過15質量份時,有液壓轉印用基膜或液壓轉印用膜之耐衝擊性將會降低而變脆、步驟通過性將會降低之情形。
作為PVA以外之水溶性高分子,例如,可舉出糊精、明膠、骨膠、酪蛋白、蟲膠、阿拉伯膠、聚丙烯酸醯胺、聚丙烯酸鈉、聚乙烯基甲基醚、甲基乙烯基醚與順丁烯二酸酐之共聚物、乙酸乙烯酯與亞甲基丁二酸之共聚物、聚乙烯吡咯啶酮、纖維素、乙酸纖維素、乙酸丁基纖維素、羧甲基纖維素、甲基纖維素、乙基纖維素、羥乙基纖維素、褐藻酸鈉等。相對於PVA 100質量份而言,在液壓轉印用基膜中之PVA以外之水溶性高分子的含量較佳為15質量份以下,更佳為10質量份以下。若PVA以外之水溶性高分子的含量超過15質量份時,有液壓轉印時之液壓轉印用膜的溶解性及分散性將會降低之情形。
又,以調節將形成有印刷層之液壓轉印用膜
浮在液面時之因液體吸收所造成的柔軟化速度、在液面之延展性、對液體中之擴散所需要的時間、在液壓轉印步驟之變形容易性等為目的,較佳在上述液壓轉印用基膜中含有硼系化合物。
作為硼系化合物,較佳為硼酸或硼砂。相對於PVA 100質量份而言,在液壓轉印用基膜中之硼系化合物的含量較佳為5質量份以下,更佳為1質量份以下。若硼系化合物的含量超過5質量份時,有液壓轉印用基膜或液壓轉印用膜之水溶性將會降低而於成本考量之步驟速度下進行液壓轉印將會變得困難之情形。
又,液壓轉印用基膜亦可含有上述含第二烷基之界面活性劑以外的其他界面活性劑中之1種或2種以上。如上述之其他界面活性劑之種類並無特別之限制,能夠使用習知之陰離子系界面活性劑、陽離子系界面活性劑、非離子系界面活性劑等。於液壓轉印用基膜係含有如上述之其他界面活性劑之情形下,相對於PVA 100質量份而言,液壓轉印用基膜中之亦含有含第二烷基之界面活性劑的總含量(全部界面活性劑的含量)較佳為4質量份以下。若界面活性劑的總含量超過4質量份時,有將會流出而使操作性降低之情形。
於液壓轉印用基膜中,除了上述之成分以外,也能夠含有熱安定劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、著色劑、填料等之其他成分。該等其他成分的含量也視其種類而定,相對於PVA 100質量份而言,通常較佳為10質量份以下,更佳為5質量份以下。若其他成分之含量超
過10質量份時,液壓轉印方法的耐衝擊性將會惡化之情形。
本發明之液壓轉印用基膜的水分率較佳為2至6質量%之範圍內,更佳為3至5質量%之範圍內。若水分率低於2質量%時,所得之液壓轉印用膜的水分率也容易變低,於液壓轉印時,有使捲縮程度變大之傾向。另一方面,若水分率超過6質量%時,有使印刷精確度降低等之不當情形變得容易發生之情形。
本發明之液壓轉印用基膜的厚度只要考量水溶性與步驟通過性之均衡而適當選擇即可,通常為10至100μm之範圍內,較佳為20至80μm之範圍內,更佳為30至50μm之範圍內。一旦使厚度低於10μm時,有液壓轉印用基膜之強度將會不足而發生步驟通過性降低之情形。另一方面,一旦使厚度超過100μm時,有液壓轉印用基膜或液壓轉印用膜之水溶性將會降低而於成本考量之步驟速度下進行液壓轉印將會變得困難之情形。
從在該面側實施印刷時,能夠容易形成高精細之印刷花紋,同時在將所得之液壓轉印用膜浮在液面時,也能夠抑制在液面之液壓轉印用膜的溶解速度不均而能夠抑制在印刷花紋中之不均而言,本發明之液壓轉印用基膜之至少一側面的算術平均粗糙度(Ra)較佳為400nm以下,更佳為350nm以下,特佳為300nm以下。作為該算術平均粗糙度(Ra)之下限,例如,可舉出100nm。如後述,具有如此算術平均粗糙度(Ra)之液壓轉印用基膜係藉由使用包含PVA與含第二烷基之界面活性劑的
製膜原液製造液壓轉印用基膜而能夠容易製造。雖並非本發明之任何限定,惟認為其理由係:因所使用之含第二烷基之界面活性劑不易析出於經製膜而成之液壓轉印用基膜之膜面。
又,用於使液壓轉印用基膜表面之滑動性提高等之目的,也較佳在液壓轉印用基膜表面實施毛面處理。作為毛面處理之方法,可舉出於製膜時,使輥或帶上之毛面表面轉印至薄膜的聯機式毛面處理法;暫時將所製膜的薄膜捲繞至輥後,實施壓紋處理之方法等。已實施表面處理之面的表面粗糙度,以算術平均粗糙度(Ra)較佳為0.5μm以上,更佳為1μm以上。作為該算術平均粗糙度(Ra)之上限,例如,可舉出10μm。又,最大高度粗糙度(Rz)較佳為1μm以上,更佳為3μm以上。作為該最大高度粗糙度(Rz)之上限,例如,可舉出20μm。作為本發明之液壓轉印用基膜較佳的形態之一,可舉出一種液壓轉印用基膜,其係膜之一側面為已實施上述毛面處理之面,另一側面係算術平均粗糙度(Ra)為400nm(較佳為350nm以下,更佳為300nm以下)以下之面。
在本專利說明書中,算術平均粗糙度(Ra)及最大高度粗糙度(Rz)分別能夠以在所欲測定的膜表面之任意5處測定出的每個算術平均粗糙度(Ra)及每個最大高度粗糙度(Rz)之平均值而求出。於此,每個算術平均粗糙度(Ra)及每個最大高度粗糙度(Rz)可依據JIS B0601:2001而測定。
一般之液壓轉印用基膜若有長條膜之情形,
也有矩形膜之情形,而於長條膜之情形下,能夠一面連續纏繞已捲成捲筒狀者、一面在其表面實施印刷而作成液壓轉印用膜,原狀態下或暫時捲繞成捲筒狀後,再度纏繞而連續提供至液壓轉印。也於本發明之液壓轉印用基膜中,其形狀可為長條膜,亦可為長度較短(例如,任一邊之長度皆小於1μm)的矩形膜中任一種,進一步亦可為三角形、五角形等之多角形或圓形,從液壓轉印時之操作性等之觀點,較佳為長條膜及矩形膜。若考量使連續進行印刷或液壓轉印成為可能之觀點等時,較佳為長條膜。
在長條膜中,其長度與寬度並無特別之限制,但從印刷時之生產性之觀點,長度較佳為1m以上,更佳為100m以上,進一步更佳為1000m以上。又,作為長度之上限,例如,可舉出10000m。另一方面,從提高印刷時之生產性之觀點,寬度較佳為50cm以上,更佳為80cm以上,進一步更佳為100cm以上。從具有均勻厚度之液壓轉印用基膜的生產為容易等之觀點,較佳為4m以下,更佳為3m以下。
若根據本發明之液壓轉印用基膜,能夠形成能充分防止浮在液面時之捲縮的液壓轉印用膜。液壓轉印用膜之捲縮程度係藉由評估液壓轉印用基膜本身之捲縮程度而能夠模式化地評估。於本專利說明書中係將捲縮面積率作為評估液壓轉印用基膜的捲縮程度之方法而利用。捲縮面積,係浮在水面後之液壓轉印用基膜端部因捲縮而變得與水面不接觸之部分的面積相對於浮在水
面前之液壓轉印用基膜的面積之比例,可藉後述之方法測定。捲縮面積率,係意指其值越小越能防止捲縮而成為使液壓轉印用膜之轉印效率越優異者,具體而言,較佳為7%以下,更佳為6%以下,進一步更佳為5%以下。
本發明之液壓轉印用基膜之製膜方法並無特別之限制,但從能夠容易製造表面粗糙度小的液壓轉印用基膜而言,較佳使用包含PVA與含第二烷基之界面活性劑的製膜原液而製膜。作為如此之製膜原液的具體例,可舉出使PVA與含第二烷基之界面活性劑溶解於液體介質中之製膜原液、及包含PVA、含第二烷基之界面活性劑及液體介質且PVA經熔融之製膜原液等。
作為在製膜原液調製所用之液體介質,例如,可舉出水、二甲基亞碸、二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯啶酮、乙二醇、丙三醇、丙二醇、二乙二醇、三乙二醇、四乙二醇、三羥甲基丙烷、伸乙基二胺、二伸乙基三胺等,能夠使用該等之中的1種或2種以上。其中,從帶給環境之負荷或回收性之觀點,適合使用水。
製膜原液之揮發分率(製膜時因揮發或蒸發所去除的液體介質等之揮發性成分的含有比例)係根據製膜方法、製膜條件等而不同,一般而言,較佳為50至95質量%,進一步更佳為55至90質量%,特佳為60至85質量%。若製膜原液之揮發分率過低時,有使製膜原液之黏度變得過高而使製膜原液調製時之過濾或脫泡將會變得困難、雜質或缺陷少的液壓轉印用基膜之製造將會
變得困難之傾向。另一方面,若製膜原液之揮發分率過高時,有使得製膜原液之濃度變得過低而使得工業的液壓轉印用基膜之製造將會變得困難之傾向。
作為使用上述之製膜原液而製造液壓轉印用基膜時之製膜方法,例如,可採取濕式製膜法、凝膠製膜法、澆鑄製膜法、擠出製膜法等。又,也能夠採用藉組合該等所得之方法等。於上述製膜方法之中,從可獲得膜之厚度與寬度為均一且物性良好的液壓轉印用基膜之觀點,較佳採用澆鑄製膜法或擠出製膜法。
作為具體之製膜方法,工業上較佳能夠採用下列之方法:使用T型狹縫模頭、漏斗型板、I-模頭、唇型塗布模頭等,將製膜原液均勻噴出或澆鑄於位在最上游側之旋轉中的加熱輥(或帶)之外圍面上,從噴出或澆鑄於該輥(或帶)上的膜之一側面,使揮發性成分蒸發而乾燥,接著在配置於其下游側之1個或複數個旋轉中的加熱輥之外圍面上進一步進行乾燥,或是進一步使其通過熱風乾燥裝置而乾燥後,藉捲取裝置而捲取。亦可適當組合藉加熱輥之乾燥與藉熱風乾燥裝置之乾燥而實施。
製膜後之液壓轉印用基膜可為未拉伸者,於配合液壓轉印時之轉印條件等而改善機械特性之目的下,亦可實施單軸拉伸或雙軸拉伸。
藉由對本發明之液壓轉印用基膜表面實施印刷而能夠作成液壓轉印用膜。該印刷方法並無特別之限制,能夠藉由採用習知之印刷方式而形成印刷層,例如,能夠採用照相凹版印刷、網板印刷、膠板印刷、輥塗
膜等。該印刷可藉印刷印墨而直接進行至液壓轉印用基膜,亦可暫時將印刷層形成於其他之膜上後,藉由將其轉印至液壓轉印用基膜而進行印刷。如前者而藉印刷印墨在液壓轉印用基膜進行直接印刷之情形下,由於有發生印刷印墨之組成限制或乾燥步驟的問題、多色印刷時之色差的問題等,故較佳為如後者而暫時將印刷層形成於其他之膜上後,將其轉印至液壓轉印用基膜而進行印刷。作為印刷所用之印刷印墨能夠使用習知者。
藉由將上述液壓轉印用膜以使已實施印刷之面朝上之方式浮在水等之液體液面,從其上方將各種成形體等之被轉印物壓入,能夠進行液壓轉印。作為更詳細之液壓轉印方法,例如,可舉出由下列各步驟構成之液壓轉印方法:第1步驟,將液壓轉印用膜以使已實施印刷之面朝上之方式浮在液面的同時,噴塗印墨活性劑等而使印刷層活化;第2步驟,從浮在液面之液壓轉印用膜上方,以使被轉印面成為下方的方式來使被轉印物下降而壓入;第3步驟,於液壓轉印用膜之印刷層充分固定於被轉印物表面後,去除在該液壓轉印用膜之液壓轉印用基膜部分;第4步驟,將使印刷層轉印至被轉印面而成之被轉印物充分乾燥。
對於被轉印物之種類並無特別之限制,例如,可舉出木、合板、木屑膠合板等之木質基材;各種塑膠類;石膏板;紙漿水泥板、石板、石棉水泥板等之纖維水泥板;矽酸鈣板、矽酸鎂板;玻璃纖維補強水泥;混凝土;鐵、不鏽鋼、銅、鋁等之金屬板;該等之複合
物等。被轉印物係其表面形狀不論為平坦、粗面,或具有凹凸形狀中任一種皆可,由於能有效活用液壓轉印之優點,較佳為具有存在凹凸之立體面或曲面之被轉印物。
以下,藉實施例而進一步詳細說明本發明,惟該等並非本發明之任何限定。還有,以下敘述液壓轉印用基膜的水分率、算術平均粗糙度(Ra)及捲縮面積率的各測定方法以及所用之界面活性劑的種類。
液壓轉印用基膜的水分率之測定
使用卡耳費雪(Karl Fisher)水分計而測定。
液壓轉印用基膜的算術平均粗糙度(Ra)之測定
使用KEYENCE公司製形狀測定雷射顯微鏡「VK-X200」而測定。具體而言,在液壓轉印用基膜之一側面上,將任意5處設定為測定位置(各個測定位置之面積為20mm3),在各測定位置測定各個算術平均粗糙度(Ra),算出其平均值而設為液壓轉印用基膜之算術平均粗糙度(Ra)。還有,針對液壓轉印用基膜之兩側面而算出各自的算術平均粗糙度(Ra),其中較小的值為300nm以下之時判定為「○」(良好),超過300nm、400nm以下之時判定為「△」(稍微良好),若超過400nm則判定為「×」(不佳)。
液壓轉印用基膜的捲縮面積率之測定
將10升之水加入長420mm×寬320mm×高160mm之容
器中並調整至30℃後,使下列實施例或比較例所製作的液壓轉印用基膜(尺寸:200mm×200mm)之與接觸於製膜時之不鏽鋼製帶(製膜原液所噴塗或澆鑄的載體)之面為相反側之面而浮在上述容器中之水面。藉此操作,通常而言會使液壓轉印用基膜之端部變得相對於水面而向上捲縮。從開始浮起25秒後,測定其與水面接觸之部分的面積(A mm2),依照下式而算出捲縮面積率(%)。還有,上述之面積(A mm2)係藉由電腦而影像處理相機拍攝一連串操作所得之影像數據後測定。
捲縮面積率(%)=[1-A/(200×200)]×100
將捲縮面積率為7%以下者判定為「○」(良好)、較7%為大者判定為「×」(不佳)。
界面活性劑之種類
在以下之實施例或比較例中,使用下列之界面活性劑。
[界面活性劑A]
聚氧乙烯第二烷基醚。結構上具有相當於環氧乙烷加成至碳數12之2級醇而成之結構者。伸氧乙基單元數=9。亦即,為以式(I)所代表之化合物,R1及R2中之一者為戊基,另一者為己基,R3為單鍵,f為0,R4為1,2-伸乙基,n為9之化合物(第二烷基部分之全體的碳數m為12)。
[界面活性劑B]
聚氧乙烯第二烷基醚。結構上具有相當於環氧乙烷加成至碳數12之2級醇而成之結構者。伸氧乙基單元數=7。亦即,為以式(I)所代表之化合物,R1及R2中之一者為
戊基,另一者為己基,R3為單鍵,f為0,R4為1,2-伸乙基,n為7之化合物(第二烷基部分之全體的碳數m為12)。
[界面活性劑C]
聚氧乙烯第二烷基醚。結構上具有相當於環氧乙烷加成至碳數14之2級醇而成之結構者。伸氧乙基單元數=9。亦即,為以式(I)所代表之化合物,R1及R2中之一者為己基,另一者為庚基,R3為單鍵,f為0,R4為1,2-伸乙基,n為9之化合物(第二烷基部分之全體的碳數m為14)。
[界面活性劑D]
聚氧乙烯第二烷基醚。結構上具有相當於環氧乙烷加成至碳數16之2級醇而成之結構者。伸氧乙基單元數=9。亦即,為以式(I)所代表之化合物,R1及R2中之一者為庚基,另一者為辛基,R3為單鍵,f為0,R4為1,2-伸乙基,n為9之化合物(第二烷基部分之全體的碳數m為16)。
[界面活性劑E]
聚氧乙烯第二烷基醚。結構上具有相當於環氧乙烷加成至碳數14之2級醇而成之結構者。伸氧乙基單元數=5。亦即,為以式(I)所代表之化合物,R1及R2中之一者為己基,另一者為庚基,R3為單鍵,f為0,R4為1,2-伸乙基,n為5之化合物(第二烷基部分之全體的碳數m為14)。
[界面活性劑F]
聚氧乙烯第二烷基醚。結構上具有相當於環氧乙烷加成至碳數12之2級脂肪酸而成之結構者。伸氧乙基單元數=9。亦即,為以式(I)所代表之化合物,R1及R2皆為庚基,R3為單鍵,f為1,R4為1,2-伸乙基,n為9之化合物(
第二烷基部分之全體的碳數m為11)。
[界面活性劑G]
聚氧乙烯第二烷基醚硫酸鈉。伸氧乙基單元數=9。具有式:CH(C5H11)(C6H13)-O-(CH2CH2O)9-SO3Na之結構者。
[界面活性劑H]
聚氧乙烯月桂基醚。結構上具有相當於環氧乙烷加成至正第十二醇而成之結構者。伸氧乙基單元數=9。
[界面活性劑I]
聚氧乙烯山梨糖醇酐單月桂酯。伸氧乙基單元數=9。
[實施例1]
將包含皂化度88莫耳%、聚合度2400之PVA(乙酸乙烯酯之同元聚合物的皂化物)100質量份、丙三醇3質量份、玉米澱粉(平均粒度20μm)5質量份及界面活性劑A 2質量份且PVA的濃度為18質量%之水溶液作為製膜原液使用,將其澆鑄於溫度95℃之不鏽鋼製帶上,乾燥2分鐘。乾燥後,將與接觸於帶之面為相反側之面利用80℃之熱處理輥進行8秒鐘熱處理,獲得厚度40μm之液壓轉印用基膜(水分率4.0質量%)。
針對所得之液壓轉印用基膜,依照上述之方法而測定算術平均粗糙度(Ra)及捲縮面積率。將結果顯示於表1。
[實施例2]
除了使用界面活性劑B取代界面活性劑A以外,與實施例1同樣地進行操作,獲得厚度40μm之液壓轉印用基膜(水分率4.0質量%)。
針對所得之液壓轉印用基膜,依照上述之方法而測定算術平均粗糙度(Ra)及捲縮面積率。將結果顯示於表1。
[實施例3]
除了將界面活性劑A之用量從2質量份變更成1質量份以外,與實施例1同樣地進行操作,獲得厚度40μm之液壓轉印用基膜(水分率4.0質量%)。
針對所得之液壓轉印用基膜,依照上述之方法而測定算術平均粗糙度(Ra)及捲縮面積率。將結果顯示於表1。
[實施例4]
除了將界面活性劑A之用量從2質量份變更成5質量份以外,與實施例1同樣地進行操作,獲得厚度40μm之液壓轉印用基膜(水分率4.0質量%)。
針對所得之液壓轉印用基膜,依照上述之方法而測定算術平均粗糙度(Ra)及捲縮面積率。將結果顯示於表1。
[實施例5]
除了使用界面活性劑C取代界面活性劑A以外,與實施例1同樣地進行操作,獲得厚度40μm之液壓轉印用基膜(水分率4.0質量%)。
針對所得之液壓轉印用基膜,依照上述之方法而測定算術平均粗糙度(Ra)及捲縮面積率。將結果顯示於表1。
[實施例6]
除了使用界面活性劑D取代界面活性劑A以外,與實施例1同樣地進行操作,獲得厚度40μm之液壓轉印用基膜(水分率4.0質量%)。
針對所得之液壓轉印用基膜,依照上述之方法而測定算術平均粗糙度(Ra)及捲縮面積率。將結果顯示於表1。
[實施例7]
除了使用界面活性劑E取代界面活性劑A以外,與實施例1同樣地進行操作,獲得厚度40μm之液壓轉印用基膜(水分率4.0質量%)。
針對所得之液壓轉印用基膜,依照上述之方法而測定算術平均粗糙度(Ra)及捲縮面積率。將結果顯示於表1。
[實施例8]
除了使用界面活性劑F取代界面活性劑A以外,與實施例1同樣地進行操作,獲得厚度40μm之液壓轉印用基膜(水分率4.0質量%)。
針對所得之液壓轉印用基膜,依照上述之方法而測定算術平均粗糙度(Ra)及捲縮面積率。將結果顯示於表1。
[實施例9]
除了使用界面活性劑G取代界面活性劑A以外,與實施例1同樣地進行操作,獲得厚度40μm之液壓轉印用基膜(水分率4.0質量%)。
針對所得之液壓轉印用基膜,依照上述之方法而測定算術平均粗糙度(Ra)及捲縮面積率。將結果顯示於表1。
[比較例1]
除了使用界面活性劑H取代界面活性劑A以外,與實施例1同樣地進行操作,獲得厚度40μm之液壓轉印用基膜(水分率4.0質量%)。
針對所得之液壓轉印用基膜,依照上述之方法而測定算術平均粗糙度(Ra)及捲縮面積率。將結果顯示於表1。
[比較例2]
除了使用界面活性劑I取代界面活性劑A以外,與實施例1同樣地進行操作,獲得厚度40μm之液壓轉印用基膜(水分率4.0質量%)。
針對所得之液壓轉印用基膜,依照上述之方法而測定算術平均粗糙度(Ra)及捲縮面積率。將結果顯示於表1。
[比較例3]
除了不使用界面活性劑A以外,與實施例1同樣地進行操作,獲得厚度40μm之液壓轉印用基膜(水分率4.0質量%)。
針對所得之液壓轉印用基膜,依照上述之方法而測定算術平均粗糙度(Ra)及捲縮面積率。將結果顯示於表1。
於實施例1至9中,得知藉由使用包含PVA與含第二烷基之界面活性劑的製膜原液而製膜,能夠容易獲得表面粗糙度小的液壓轉印用基膜,又,由於該液壓轉印用基膜係包含含第二烷基之界面活性劑,故能夠使捲縮面積率之值小,並充分防止浮在液面時之捲縮,而為轉印效率優異的液壓轉印用膜。另一方面,於比較例1至3中,由於未使用含第二烷基之界面活性劑,故表面粗糙度變大、或捲縮面積率之值變大。
本發明之液壓轉印用基膜能充分防止浮在液面時之捲縮而能夠形成轉印效率優異的液壓轉印用膜,能夠適合使用於具有存在凹凸之立體面或曲面的被轉印物表面形成印刷層時之液壓轉印。
Claims (6)
- 一種液壓轉印用基膜,其係包含聚乙烯醇與含第二烷基之界面活性劑,相對於該聚乙烯醇100質量份而言,含有0.05至4質量份的該含第二烷基之界面活性劑,該含第二烷基之界面活性劑係以式(I)所代表,將為式(I)部分結構之式(I’)之全體碳數設為m時,符合1≦m-n≦9之關係,式(I)中,R1及R2係表示各自的碳數1至18之烷基,R3係表示單鍵或碳數1至10之伸烷基,f係表示0或1,R4係表示碳數1至4之伸烷基,n係表示1至20之整數,式(I’)中,R1、R2及R3係與上述同義。
- 如請求項1之液壓轉印用基膜,其中該聚乙烯醇之皂化度為80至98莫耳%。
- 如請求項1之液壓轉印用基膜,其中至少一側面之算術平均粗糙度(Ra)為400nm以下。
- 一種液壓轉印用基膜之製造方法,其係具有使用包含聚乙烯醇與含第二烷基之界面活性劑的製膜原液而製膜之步驟,該含第二烷基之界面活性劑係以式(I)所代表,將為式(I)部分結構之式(I’)之全體碳數設為m時,符合1≦m-n≦9之關係,式(I)中,R1及R2係表示各自的碳數1至18之烷基,R3係表示單鍵或碳數1至10之伸烷基,f係表示0或1,R4係表示碳數1至4之伸烷基,n係表示1至20之整數,式(I’)中,R1、R2及R3係與上述同義。
- 一種液壓轉印用膜,其係由在如請求項1至3中任一項之液壓轉印用基膜之表面實施印刷而成。
- 一種液壓轉印方法,其係具有將如請求項5之液壓轉印用膜以使已實施印刷之面朝上之方式浮在液面之步驟、與從漂浮的液壓轉印用膜之上方將被轉印物壓入之步驟。
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