TWI622093B - 基板處理裝置及吐出檢查裝置 - Google Patents

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TWI622093B
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Abstract

本發明之基板處理裝置之吐出檢查裝置中，光射出部係藉由沿著預先決定之光存在面將光加以射出，將光照射至自位在檢查區域之吐出噴頭之複數個吐出口而被吐出之處理液。攝影部係拍攝通過來自光射出部之面狀光的處理液，而取得含有複數個輝點的檢查圖像。然後，根據檢查圖像與參照圖像，該參照圖像係為自位在設計檢查位置之吐出噴頭而進行正常吐出時之圖像，而修正圖像偏差之後，進行吐出動作之良否判定，該圖像偏差係根據取得檢查圖像時之吐出噴頭之位置與設計檢查位置的差異。藉此，可修正自在檢查區域中之吐出噴頭之設計檢查位置的位置偏差，並提升複數個吐出口之吐出動作的檢查精確度。

Description

基板處理裝置及吐出檢查裝置
本發明係關於基板處理裝置及吐出檢查裝置。
習知以來，在半導體基板(以下有時簡稱為「基板」)的製造步驟中，係使用基板處理裝置對具有氧化膜等之絕緣膜的基板施行各種處理。例如，藉由對基板表面供給洗淨液，而進行將附著於基板表面上之微粒等去除的洗淨處理。
於日本專利特開平11-329936號公報(文獻1)中，揭示有由配置在基板上方之1個處理液供給噴嘴，對基板上吐出光阻液的基板處理裝置。該裝置中，係使CCD攝影機朝向處理液供給噴嘴與基板之間，拍攝由處理液供給噴嘴所吐出之處理液的液柱。然後，比較所拍攝之處理液之液柱寬(亦即來自處理液供給噴嘴的吐出寬)與既定之基準寬，在小於基準寬的情況下，作為吐出異常而被檢測。
於日本專利特開2008-135679號公報(文獻2)中，揭示有由塗佈液噴嘴對基板上供給塗佈液的液處理裝置。該裝置中，係使塗佈液噴嘴於基板上方與屬於待機位置之噴嘴槽(nozzle bath)之間進行搬送，並拍攝搬送中之塗佈液噴嘴的前端部。拍攝所使用之CCD攝影機，係與塗佈液噴嘴一起固定於噴嘴噴頭部。然後，根據拍攝結果，檢測由塗佈液噴嘴之前端部的垂液、或滴下的發生。
於日本專利特開2012-9812號公報(文獻3)，揭示了由處理液噴嘴對基板上供給處理液的液處理裝置。該裝置中，直線狀地排列為1列的11根噴嘴係由噴嘴頭部所保持。又，在此等噴嘴之前端部起至基板表面的區域照射線狀雷射光，藉由朝向該區域的攝影機，拍攝由各噴嘴所吐出之抗蝕液的液柱。然後，藉由比較拍攝結果、與預先拍攝了由噴嘴正常地吐出抗蝕液之狀態的基準資訊，判定有無來自噴嘴的抗蝕液吐出、及吐出狀態有無變化。
另一方面，日本專利特開2012-209513號公報(文獻4)中，揭示有使來自複數個吐出口之處理液的微小液滴朝向基板吐出的基板處理裝置。在該裝置中，複數個吐出口被排成1列的吐出口列係列設有複數個。
另一方面，日本專利特開2009-88078號公報(文獻5)，揭示了使用噴射出使液體與氣體衝突而生成之液滴的二流體噴嘴，對基板施行洗淨處理的基板洗淨裝置。
然而，在如文獻2般將攝影機固定於噴嘴噴頭部的構造中，將使噴嘴噴頭部大型化。因此，若不需要觀察移動中之塗佈液噴嘴的樣子，則攝影機較佳係由噴嘴噴頭部獨立出來而設於待機位置附近等。
於基板處理裝置中，通常在吐出噴頭移動至待機位置時，即使其停止在由設計上之待機位置稍微偏差的位置，仍不致對基板之處理產成實質影響。然而，若欲藉由固定於待機位置附近之攝影部拍攝來自吐出噴頭之處理液並檢查吐出動作之良否，則有因吐出噴頭之位置偏差而檢查精確度降低之虞。尤其是在如文獻4般、由複數個吐出口吐出微小液滴的裝置，由於微小液滴之間隔或各微小液滴的 尺寸將因距攝影部的距離而改變，故有因吐出噴頭之位置而使檢查精確度大幅降低的可能性。
另外，於文獻5般之裝置中，由於從二流體噴嘴噴射出多數液滴，故無法輕易判定液滴是否正常吐出。
本發明係適用於基板處理裝置，其目的之一在於修正噴出噴頭的位置偏差，提升檢查精確度。本發明之目的之一在於精確度良好地判定來自吐出部的吐出狀態。本發明係亦適用於檢測來自複數個吐出口之液體之吐出動作的吐出檢查裝置，其目的之一在於精確度良好地判定複數個吐出口之吐出動作的良否。
本發明之一的基板處理裝置係具備有：基板保持部，其保持基板；吐出噴頭，其在上述基板上方自複數個吐出口朝向上述基板吐出液體，而對上述基板進行既定之處理；噴頭移動機構，其使上述吐出噴頭自上述基板上方而朝向檢查區域進行移動；及吐出檢查裝置，其檢查來自上述吐出噴頭之上述複數個吐出口之液體的吐出動作。上述吐出檢查裝置係具備有：光射出部，其藉由沿著預先決定之光存在面將光加以射出，而在複數個飛翔體通過上述光存在面之時，對上述複數個飛翔體照射光，該複數個飛翔體係為自位在上述檢查區域之上述吐出噴頭之上述複數個吐出口而被吐出之液體；攝影部，其係藉由拍攝通過上述光存在面之上述複數個飛翔體，而取得含有在上述複數個飛翔體上所出現之複數個輝點的檢查圖像；參照圖像記憶部，其在來自位在上述檢查區域內之既定設計檢查位置之上述吐出噴頭之上述複數個吐出口而以正常之方式將液體加以吐出之狀態下，一 方面自上述光射出部射出光，一方面記憶藉由上述攝影部所取得之圖像即參照圖像；與判定部，其根據上述參照圖像及上述檢查圖像，針對上述檢查圖像之相對於上述參照圖像之相對偏差進行修正，而加以判定在上述複數個吐出口之吐出動作的良否，該相對偏差係根據取得上述檢查圖像時之上述吐出噴頭之位置與上述設計檢查位置的差異。藉此，可修正吐出噴頭的位置偏差、提升檢查精確度。
本發明之一較佳實施形態中，係根據上述參照圖像與上述檢查圖像，將上述吐出噴頭朝向上述設計檢查位置進行移動之後，自上述複數個吐出口將液體加以吐出，而再取得含有在通過上述光存在面之複數個飛翔體上所出現之複數個輝點的檢查圖像，藉此進行藉由上述判定部所進行之上述相對偏差的修正，上述判定部根據再取得之上述檢查圖像而加以判定在上述複數個吐出口之吐出動作的良否。
本發明之其他較佳實施形態中，上述吐出檢查裝置係更進一步具備有判定框設定部，該判定框設定部係在上述檢查圖像上設定對應於上述複數個吐出口之複數個正常吐出判定框；上述判定部係在修正上述檢查圖像之上述偏差之後，取得在各正常吐出判定框內之輝點的存否資訊，根據上述存否資訊而加以判定在對應至上述各正常吐出判定框之吐出口之吐出動作的良否。
本發明之其他較佳實施形態中，上述判定部係在修正上述檢查圖像之上述偏差之後，根據上述參照圖像與上述檢查圖像的差異，而加以判定在上述複數個吐出口之各別之吐出動作的良否。
本發明之一的吐出檢查裝置係具備有：光射出部，其藉由沿著預先決定之光存在面將光加以射出，而在複數個飛翔體通過上述光存在面之時，對上述複數個飛翔體照射光，該複數個飛翔體係為 自複數個吐出口而被吐出之液體；攝影部，其藉由拍攝通過上述光存在面之上述複數個飛翔體，而取得含有在上述複數個飛翔體上所出現之複數個輝點的檢查圖像；參照圖像記憶部，其在自上述複數個吐出口而以正常之方式將液體加以吐出之狀態下，一方面自上述光射出部射出光，一方面記憶藉由上述攝影部所取得之圖像即參照圖像；及判定部，其根據上述參照圖像與上述檢查圖像的差異，加以判定在上述複數個吐出口之吐出動作的良否。藉此，可精確度良好地判定複數個吐出口之吐出動作的良否。
本發明之其他基板處理裝置係具備有：基板保持部，其保持基板；吐出噴頭，其朝向上述基板吐出液體，而對上述基板進行既定之處理；及上述吐出檢查裝置，其檢查來自上述吐出噴頭之上述複數個吐出口之液體的吐出動作。
本發明之其他的基板處理裝置係具備有：基板保持部，其保持基板；吐出部，其朝向上述基板吐出液體，而對上述基板進行既定之處理；及吐出檢查裝置，其檢查來自上述吐出部之液體的吐出動作。上述吐出檢查裝置係具備有：光射出部，其藉由沿著預先決定之光存在面將光加以射出，在自上述吐出部而被吐出之液體通過上述光存在面之時，對上述液體照射光；攝影部，其藉由拍攝通過上述光存在面之上述液體，而取得含有在上述液體上所出現之複數個輝點的檢查圖像；與判定部，其係根據上述檢查圖像，加以判定在上述吐出部之吐出動作的良否。藉此，精確度良好地判定來自吐出部的吐出狀態。
以下參照隨附圖式，詳細說明本發明之上述目的及其他目的、特徵、態樣及優點。
1、1a~1c‧‧‧基板處理裝置
3‧‧‧處理液供給部
4‧‧‧待機艙
5‧‧‧吐出檢查部
6‧‧‧腔室
7‧‧‧控制單元
8、8a~8d‧‧‧檢查圖像
9‧‧‧基板
21‧‧‧基板保持部
22‧‧‧杯部
23‧‧‧基板旋轉機構
31‧‧‧吐出噴頭
32‧‧‧處理液配管
33‧‧‧氣體配管
34、34a‧‧‧吐出部
35‧‧‧噴頭移動機構
36‧‧‧保護液供給部
51‧‧‧光射出部
52‧‧‧攝影部
60‧‧‧內部空間
71‧‧‧處理控制部
72‧‧‧檢查控制部
73‧‧‧檢查演算部
74‧‧‧判定框設定部
75‧‧‧判定部
76‧‧‧輪廓抽出部
79‧‧‧通知部
80‧‧‧合焦範圍
81‧‧‧輝點
82、82a‧‧‧差分圖像
83、83a‧‧‧輝點分佈區域
84‧‧‧非分佈區域
85‧‧‧正常吐出判定框
86a‧‧‧第1正常吐出判定框列
86b‧‧‧第2正常吐出判定框列
86c‧‧‧第3正常吐出判定框列
86d‧‧‧第4正常吐出判定框列
87、87a‧‧‧傾斜吐出判定框
88‧‧‧保護液膜內吐出判定框
89‧‧‧最大吐出判定框
91‧‧‧上表面
93‧‧‧保護液膜
94‧‧‧假想線
95‧‧‧交點
220‧‧‧上部開口
311‧‧‧下表面
313a~313d‧‧‧吐出口列
314a~314d‧‧‧吐出口
314e‧‧‧外周吐出口
316‧‧‧吐出口配置區域
341‧‧‧下表面
342‧‧‧液體吐出口
343‧‧‧氣體吐出口
346‧‧‧吐出口
351‧‧‧臂
352‧‧‧旋轉軸
353‧‧‧噴頭旋轉機構
354‧‧‧噴頭升降機構
510‧‧‧面狀光
731‧‧‧參照圖像記憶部
732‧‧‧參照圖像
751‧‧‧位置偏差修正部
752‧‧‧良否判定部
821‧‧‧第1區域
822‧‧‧第2區域
823‧‧‧第3區域
830‧‧‧第4區域
831‧‧‧(輝點分佈區域之)外輪廓
832‧‧‧(輝點分佈區域之)內輪廓
833、835‧‧‧輪廓
836‧‧‧(輝點分佈區域之)輪廓
841‧‧‧輪廓
851‧‧‧第1正常吐出判定框
852‧‧‧第2正常吐出判定框
853‧‧‧正常吐出判定框
J1、J2、J3‧‧‧光軸
圖1為一實施形態之基板處理裝置的前視圖。
圖2為基板處理裝置之俯視圖。
圖3為表示吐出噴頭之下表面的仰視圖。
圖4為表示控制單元之機能的區塊圖。
圖5為吐出噴頭及待機艙的側面圖。
圖6為表示吐出噴頭、光射出部及攝影部的立體圖。
圖7為表示檢查圖像的圖。
圖8為表示檢查圖像的圖。
圖9為表示吐出噴頭、面狀光及保護液膜之一部分的概略圖。
圖10A為表示檢查圖像之一部分的圖。
圖10B為表示檢查圖像之一部分的圖。
圖10C為表示檢查圖像之一部分的圖。
圖10D為表示檢查圖像之一部分的圖。
圖10E為表示檢查圖像之一部分的圖。
圖11為表示修正完成檢查圖像的圖。
圖12為表示修正完成檢查圖像的圖。
圖13為表示修正完成檢查圖像的圖。
圖14為表示修正完成檢查圖像的圖。
圖15為表示修正完成檢查圖像的圖。
圖16為表示差分圖像的圖。
圖17為第2實施形態之基板處理裝置的前視圖。
圖18為表示檢查圖像的圖。
圖19為表示差分圖像的圖。
圖20為第3實施形態之基板處理裝置的前視圖。
圖21為基板處理裝置之俯視圖。
圖22為表示吐出噴頭之下表面的仰視圖。
圖23為表示控制單元之機能的區塊圖。
圖24為吐出噴頭及待機艙的側面圖。
圖25為表示吐出部、光射出部及攝影部的立體圖。
圖26為表示檢查圖像的圖。
圖27為表示檢查圖像的圖。
圖28為表示檢查圖像的圖。
圖29為表示檢查圖像的圖。
圖30為表示檢查圖像的圖。
圖31為表示檢查圖像的圖。
圖32為表示檢查圖像的圖。
圖33為表示檢查圖像的圖。
圖34為表示檢查圖像的圖。
圖35為表示檢查圖像的圖。
圖36為表示檢查圖像的圖。
圖37為第4實施形態之基板處理裝置的前視圖。
圖38為表示吐出噴頭之下表面的仰視圖。
圖39為表示檢查圖像的圖。
圖40為表示檢查圖像的圖。
圖41為表示檢查圖像的圖。
圖42為表示檢查圖像的圖。
圖43為表示檢查圖像的圖。
圖44為表示檢查圖像的圖。
圖45為表示檢查圖像的圖。
圖46為表示檢查圖像的圖。
圖47為表示檢查圖像的圖。
圖1為本發明第1實施形態之基板處理裝置1的前視圖。圖2為基板處理裝置1之俯視圖。圖2係由圖1改變了基板處理裝置1之方向。基板處理裝置1係逐片處理半導體基板9(以下簡稱為「基板9」)的單片式裝置。基板處理裝置1係對基板9吐出液體而進行既定處理。本實施形態中，藉由於基板9上吐出洗淨液之液滴，進行由基板9去除微粒等之洗淨處理。基板處理裝置1中，係對基板9使例如直徑約20μm的液滴依噴霧狀而吐出。
如圖1及圖2所示，基板處理裝置1具備基板保持部21、杯部22、基板旋轉機構23、處理液供給部3、噴頭移動機構35、保護液供給部36、待機艙4、吐出檢查部5、腔室6、控制單元。腔室6係於內部空間60中收容基板保持部21、杯部22、基板旋轉機構23、處理液供給部3、噴頭移動機構35、保護液供給部36、待機艙4及吐出檢查部5等構成。腔室6係遮蔽光對內部空間60之入射的遮光腔室。圖1及圖2中，以虛線表示腔室6，圖示腔室6內部。
基板保持部21係於腔室6內依基板9一主面91(以下稱為「上表面91」)朝上側之狀態保持基板9。於基板9之上表面91，形成有電路圖案等細微圖案。杯部22係包圍基板9及基板保持部21之周圍的大致圓筒狀構件。基板旋轉機構23係配置於基板保持部21下 方。基板旋轉機構23係以通過基板9中心且垂直於基板9之上表面91的旋轉軸為中心，使基板9與基板保持部21一起於水平面內進行旋轉。
處理液供給部3係具備：將處理液朝下方吐出之吐出噴頭31；與對吐出噴頭31供給處理液的處理液配管32。圖2中，省略了處理液配管32之圖示。吐出噴頭31係於杯部22內側中配置在處理保持部21上方。換言之，吐出噴頭31之下表面係位於杯部22之上部開口220、與基板9之上表面91之間。吐出噴頭31係由後述之複數個吐出口連續吐出互相分離之微小液滴的裝置。藉由吐出噴頭31，朝基板9上表面91吐出處理液。作為處理液，係利用純水(較佳為去離子水(DIW：deionized water)、碳酸水、氨水與過氧化氫水之混合液等液體。來自吐出噴頭31之處理液於設計上的吐出方向，係大致平行於上下方向(亦即重力方向)。
圖3為表示吐出噴頭31下表面311的仰視圖。於吐出噴頭31之下表面311，設有包含4個吐出口列313a~313d的複數個吐出口。吐出口列313a~313d係分別為使既定排列間隙而大致直線狀地排列於圖3中之左右方向的複數個吐出口314a~314d的集合。吐出口314a~314d之直徑為約5μm~10μm。圖3中，各吐出口314a~314d係描繪成較實際上大，且吐出口314a~314d之個數係描繪成較實際上少。又，圖3中，係以二點鏈線圈圍吐出噴頭31之下表面311中設置複數個吐出口314a~314d的吐出口配置區域316。吐出口配置區域316為大致矩形。於吐出噴頭31，由複數個吐出口314a~314d分別噴射出處理液的微小液滴。
以下說明中，將屬於各吐出口列313a~313d之吐出口排列方向的圖3中之左右方向，稱為「排列方向」。吐出口列313a~313d 係分別於該排列方向上延伸之直線狀。吐出口列313a~313d係彼此平行排列在垂直於排列方向的方向上(亦即圖3中之上下方向)。再者，吐出口列313a~313d並不一定垂直於上述配置方向而排列，亦可在相對於排列方向呈傾斜的方向上排列。
以下說明中，將圖3之上側起至下側所排列的吐出口列313a~313d，分別稱為「第1吐出口列313a」、「第2吐出口列313b」、「第3吐出口列313c」及「第4吐出口列313d」。進而，將第1吐出口列313a之複數個吐出口314a稱為「第1吐出口314a」。將第2吐出口列313b之複數個吐出口314b稱為「第2吐出口314b」。將第3吐出口列313c之複數個吐出口314c稱為「第3吐出口314c」。將第4吐出口列313d之複數個吐出口314d稱為「第4吐出口314d」。
在垂直於上述排列方向的方向上，第1吐出口列313a與第2吐出口列313b之間的距離，係與第3吐出口列313c及第4吐出口列313d之間的距離相等，且小於第2吐出口列313b與第3吐出口列313c之間的距離。第2吐出口列313b係由第1吐出口列313a朝排列方向一側即圖3中之右側偏離既定位移距離而配置。第4吐出口列313d係由第3吐出口列313c朝圖3中之右側偏離既定位移距離而配置。該位移距離係小於上述排列間隙的距離，例如為排列間隙之一半的距離。
吐出噴頭31中，在由垂直於排列方向、且平行於吐出噴頭31下表面311之方向觀看時，複數個第1吐出口314a與複數個第2吐出口314b係於排列方向上交替排列，複數個第3吐出口314c與複數個第4吐出口314d係於排列方向上交替排列。又，複數個第1吐出口314a與複數個第3吐出口314c係分別重疊，複數個第2吐出 口314b與複數個第4吐出口314d係分別重疊。
如圖1及圖2所示，噴頭移動機構35係具備臂351、旋轉軸352、噴頭旋轉機構353、噴頭升降機構354。臂351係由旋轉軸352起朝水平方向延伸。於臂351之前端部，安裝吐出噴頭31。噴頭移動機構353係使吐出噴頭31與臂351一起以旋轉軸352為中心於水平方向上旋轉移動。噴頭升降機構354係使吐出噴頭31與臂351一起於上下方向移動。噴頭移動機構353係例如具備電動馬達。噴頭升降機構354係具備滾珠螺桿機構及電動馬達，可精密地定位吐出噴頭31。噴頭升降機構354亦可具備氣壓缸。
保護液供給部36係直接或間接固定於吐出噴頭31，朝斜下方吐出保護液。作為保護液，係與上述處理液同樣地利用純水(較佳為去離子水)、碳酸水、氨水與過氧化氫水之混合液等液體。保護液可為與處理液相同種類的液體、亦可為相異種類的液體。基板處理裝置1中，由保護液供給部36朝基板9之上表面91吐出為液柱狀的保護液，係在吐出噴頭31下方於基板9上擴展，藉此於吐出噴頭31正下方形成既定厚度的保護液的膜(以下稱為「保護液膜」)。保護液供給部36係藉由噴頭旋轉機構353及噴頭升降機構354，與吐出噴頭31一起移動。
圖4為表示控制單元7之機能的方塊圖。圖4中亦一併描繪了控制單元7以外的構成。控制單元7具備處理控制部71、檢查控制部72、與檢查演算部73。藉由處理控制部71，控制基板旋轉機構23、處理液供給部3、噴頭移動機構35及保護液供給部36等，而進行基板9的處理。藉由檢查控制部72，控制處理液供給部3、噴頭移動機構35及吐出檢查部5等，而進行來自吐出噴頭31之複數個吐出口 314a~314d(參照圖3)的處理液之吐出動作之檢查。
檢查演算部73為吐出檢查部5的一部分，具備參照圖像記憶部731、判定框設定部74、與判定部75。於參照圖像記憶部731係預先記憶著參照圖像732。判定部75具備位置偏差修正部751、與良否判定部752。參照圖像記憶部731、判定框設定部74及判定部75係利用於上述之吐出動作檢查。
於圖1及圖2所示之基板處理裝置1中進行基板9之處理時，首先，基板9被搬入至腔室6內並由基板保持部21所保持。在基板9之搬入時，吐出噴頭31係如圖2中二點鏈線所示般，在設於杯部22外側之待機艙4上之待機位置進行待機。圖5為將位於待機位置之吐出噴頭31與待機艙4一起擴大顯示的側面圖。待機艙4為大致直方體的容器，於上部設有開口。於待機位置，吐出噴頭31之一部分經由上述開口而插入至待機艙4。再者，圖5中，省略了保護液供給部36的圖示。又，以二點鏈線表示位於後述之檢查區域的吐出噴頭31。如圖1及圖2所示，在藉基板保持部21保持基板9時，藉由處理控制部71(參照圖4)驅動基板旋轉機構23，開始基板9的旋轉。
接著，藉由處理控制部71，驅動噴頭旋轉機構353及噴頭升降機構354，使吐出噴頭31及保護液供給部36係由待機位置上升、移動至杯部22上方後再下降。藉此，吐出噴頭31及保護液供給部36經由杯部22之上部開口220而移動至杯部22之內側及基板保持部21上方。接著，由保護液供給部36開始對基板9上供給保護液，形成被覆基板9之上表面91一部分的保護液膜。又，由吐出噴頭31之複數個吐出口314a~314d(參照圖3)，朝形成了保護液膜的基板9的上表面91開始吐出處理液(亦即微小液滴之噴射)。保護液膜係被覆來 自複數個吐出口314a~314d之處理液於基板9上之設計上的複數個著液點(亦即，微小液滴的著液點)。
由吐出噴頭31朝保護液膜所噴射的多數微小液滴，係衝突至基板9之上表面91上的保護液膜，經由保護液膜間接衝突至基板9之上表面91。然後，附著於基板9上表面91之微粒等異物，藉由因處理液之微小液滴的衝突所造成之衝擊而由基板9上被去除。換言之，藉由因處理液之微小液滴經由保護液膜對基板9間接賦予的運動能量，進行基板9上表面91的洗淨處理。
如此，藉由使處理液之微小液滴經由保護液膜而衝突至基板9，相較於使微小液滴直接衝突至基板的情況，可一方面防止或抑制對形成於基板9上表面91之圖案等造成損傷，一方面進行基板9的洗淨處理。又，由於藉保護液被覆基板9上之進行洗淨處理的部位，故可防止或抑制由基板9被去除之微粒等再次附著於基板9上表面91的情形。
基板處理裝置1中，係與保護液及處理液之吐出並行地進行由噴頭旋轉機構353所進行之吐出噴頭31及保護液供給部36的旋轉移動。吐出噴頭31及保護液供給部36係在旋轉中之基板9之中央部上方與基板9之外緣部上方之間，水平地重複來回移動。藉此，對基板9之上表面91全體進行洗淨處理。供於基板9之上表面91的保護液及處理液，係因基板9之旋轉而與被去除的異物一起移動到基板9的邊緣，且由基板9之邊緣飛散至外側。由基板9飛散之保護液及處理液係由杯部22所承接而予以廢棄或回收。
由來自吐出噴頭31之處理液所進行之既定處理(亦即，基板9之洗淨處理)結束時，停止保護液及處理液的吐出。吐出噴頭31 及保護液供給部36係藉由噴頭升降機構354而上升至較杯部22之上部開口220更上側，藉噴頭旋轉機構353由基板9上方旋轉移動至待機艙4之上方的檢查區域。
檢查區域係上述待機位置之上方的區域。檢查區域係以設計上之既定檢查位置(以下稱為「設計檢查位置」)為大致中心之小區域。換言之，檢查區域係包含設計檢查位置、及設計檢查位置之極接近的位置。在吐出噴頭31由基板9上方旋轉移動至待機艙4上方時，吐出噴頭31係停止於檢查區域內之任一位置。於該檢查區域中，藉由吐出檢查部5，定期地、或視需要地進行來自吐出噴頭31之複數個吐出口314a~314d的處理液吐出動作的檢查。
圖6為表示檢查區域中之吐出噴頭31、及配置於吐出噴頭31周圍之吐出檢查部5的立體圖。吐出檢查部5具備光射出部51、與攝影部52。光射出部51及攝影部52係避開吐出噴頭31正下方，配置於吐出噴頭31之斜下方。光射出部51及攝影部52係如圖4所示般，藉由控制單元7之檢查控制部72所控制。
圖6所示之光射出部51具備光源、與使來自該光源之光轉換為於大致水平方向上延伸之線狀光的光學系統。作為光源，係利用例如雷射二極體或LED(light emitting diode)元件。光射出部51係沿著預先決定之假想面即光存在面，朝吐出噴頭31下方射出光。圖6中，以一點鏈線描繪光射出部51之光軸J1，以加註符號510之二點鏈線表示由光射出部51所射出之面狀的光輪廓。
來自光射出部51之面狀光510，係於吐出噴頭31之下表面311附近，通過吐出噴頭31正下方。於基板處理裝置1，由檢查控制部72對處理液供給部3送出既定之驅動信號，由吐出噴頭31之 複數個吐出口314a~314d(參照圖3)朝待機艙4內部吐出處理液。然後，在由位於檢查區域之吐出噴頭31之複數個吐出口314a~314d所吐出之處理液即複數個飛翔體通過上述光存在面(亦即，通過面狀光510)時，由光射出部51對該複數個飛翔體照射光。面狀光510係與來自吐出噴頭31之處理液之設計上的吐出方向(亦即，複數個飛翔體之預先決定的既定吐出方向)呈約垂直。嚴格來說，面狀光510(亦即，光存在面)較佳係相對於與複數個飛翔體之既定吐出方向呈垂直的平面，僅傾斜少許角度(例如5°~10°)。
攝影部52係在較上述光存在面更靠下方，使攝影軸J2朝向位於吐出噴頭31下方之面狀光510而配置。攝影部52之攝影方向(亦即，攝影軸J2朝向之方向)，係相對於垂直於複數個飛翔體之既定吐出方向的平面呈傾斜。作為攝影部52，係利用CCD(charge-coupled device)攝影機。攝影部52係藉由對通過面狀光510之處理液(亦即，複數個飛翔體)進行攝影，而取得包含在該複數個飛翔體上出現之複數個輝點的檢查圖像。攝影部52係配置為在圖3中之4個吐出口列313a~313d中、第1吐出口列313a看起來為最靠近的位置。
吐出檢查部5中，由攝影部52所得的攝影結果，抽出1畫格的靜止畫面作為檢查圖像。檢查圖像被送至控制單元7之檢查演算部73(參照圖4)。於檢查演算部73中，對檢查圖像進行2值化處理，抽出複數個輝點並去除背景雜訊等。
圖7為表示檢查圖像8之圖。檢查圖像8中，分別對應至吐出噴頭31之複數個吐出口314a~314d的複數個輝點81，係排列於對應至吐出口314a~314d之排列方向的方向上。於吐出檢查部5，由於面狀光510仍具有些微厚度，故各輝點81於檢查圖像8中成為在對應 上下方向之方向上稍長的大致楕圓形。如後述，複數個輝點81中之一部分輝點81係位於攝影部52之對焦範圍外側，在檢查圖像8中呈模糊(所謂的失焦)而擴展為較其他輝點81大。圖7中，以加註符號80之二點鏈線圈圍表示合焦範圍。又，關於位於合焦範圍80外側之輝點81，係以細線表示假設位於合焦範圍80內側時之輝點尺寸。圖8、圖11至圖15中亦相同。
接著，藉由判定部75之位置偏差修正部751，比較檢查圖像8、與預先記憶於參照圖像記憶部731的參照圖像732。參照圖像732係於基板處理裝置1中，依吐出噴頭31位於上述檢查區域內之設計檢查位置、且由複數個吐出口314a~314d正常吐出處理液的狀態，一方面由光射出部51射出面狀光510、一方面藉攝影部52所取得的圖像。參照圖像732係在基板處理裝置1中進行基板9之處理前(例如，基板處理裝置1之製造現場中基板處理裝置1的出貨前)被取得，且與檢查圖像8同樣地於進行2值化處理後，預先記憶於參照圖像記憶部731。
於位置偏差修正部751，根據檢查圖像8及參照圖像732，求得檢查圖像8相對於參照圖像732的相對偏差(以下稱為「圖像偏差」)。該圖像偏差係因取得檢查圖像8時之吐出噴頭31位置、與設計檢查位置之間的差所產生。圖像偏差之量的算出，係藉由例如使檢查圖像8在圖7中之上下方向及左右方向進行移動、或以垂直於檢查圖像8之旋轉軸為中心進行旋轉、或擴大或縮小檢查圖像8，直到檢查圖像8與參照圖像732之差成為最小(亦即，檢查圖像8之複數個輝點81與參照圖像732之複數個輝點的重疊程度成為最大)為止而進行。在檢查圖像8與參照圖像732之差成為最小時的檢查圖像8的移 動量、旋轉量及變倍量，為檢查圖像8之圖像偏差量。圖像偏差量亦可藉由將一般型樣匹配(pattern matching)用之圖像處理函數應用至檢查圖像8及參照圖像732而求得。
於位置偏差修正部751，係根據所求得之圖像偏差量，修正檢查圖像8的圖像偏差。具體而言，將檢查圖像8上之複數個輝點81的位置，修正至假設為依吐出噴頭31位於檢查區域內之設計檢查位置之狀態取得檢查圖像8時的位置。如此生成修正了圖像偏差量之檢查圖像(以下稱為「輝點位置修正檢查圖像」)。
藉由取代修正圖像偏差並生成輝點位置修正檢查圖像，對輝點81進行再攝影，亦可取得修正圖像偏差後的檢查圖像8。具體而言，首先，藉由處理控制部71，根據藉位置偏差修正部751所求得的圖像偏差量，控制噴頭移動機構35之噴頭旋轉機構353及噴頭升降機構354。藉此，使吐出噴頭31移動(亦即，進行吐出噴頭31之位置微調整)，使吐出噴頭31位於設計檢查位置。其後，由吐出噴頭31之複數個吐出口314a~314d，吐出處理液的微小液滴。然後，藉攝影部52對複數個微小液滴通過面狀光510時所發生之複數個輝點81進行攝影，取得修正圖像偏差後之檢查圖像(以下稱為「再取得檢查圖像」)。由於再取得檢查圖像係依使吐出噴頭31、光射出部51及攝影部52位於設計上設定之位置關係的狀態所取得者，故可使其與同樣位於設計上設定之位置的正常吐出判定框85(後述)間之位置偏差成為極小。又，以下說明中，將位置偏差修正部751藉圖像數據處理所生成之輝點位置修正檢查圖像、與藉再攝影所取得之再取得檢查圖像總稱為修正完成檢查圖像8c。
接著，如圖8所示，分別對應至複數個吐出口314a~314d 之複數個正常吐出判定框85，係藉由判定框設定部74(參照圖4)，被設定於修正了圖像偏差後之修正完成檢查圖像8c上。正常吐出判定框85的個數等同於吐出口314a~314d的個數。各正常吐出判定框85為既定尺寸之大致矩形狀，複數個正常吐出判定框85於修正完成檢查圖像8c上的尺寸彼此相同。本實施形態中，各正常吐出判定框85為大致正方形，其4邊係平行於修正完成檢查圖像8c的上下方向或左右方向。各正常吐出判定框85係表示由對應之吐出口朝既定之吐出方向、或由該吐出方向僅稍微偏離容許範圍內之偏差量的方向，吐出處理液時所通過之面狀光510上的區域。
各正常吐出判定框85之位置(亦即，修正完成檢查圖像8c上之座標)，係根據來自對應於各正常吐出判定框85之吐出口的處理液的輝點基準位置所決定。輝點基準位置係由位於設計檢查位置之吐出噴頭31之各吐出口起朝處理液之設計上之吐出方向延伸的吐出中心線、與面狀光510(亦即，上述光存在面)相交的點。各正常吐出判定框85係以修正完成檢查圖像8c上之輝點基準位置為中心而設定。從而，假設若將複數個正常吐出判定框85設定於參照圖像732上，則參照圖像732之各輝點係位置對應之正常吐出判定框85的大致中央。
修正完成檢查圖像8c上之輝點基準位置，係藉各種方法所求得。例如，根據設計檢查位置中之吐出噴頭31的方向、吐出噴頭31中之各吐出口314a~314d的位置、設計上之處理液的吐出方向、面狀光510之位置、以及攝影部52之位置及方向，求得基板處理裝置1中所設定之3維座標系統中各輝點基準位置的座標。換言之，根據吐出噴頭31、光射出部51及攝影部52的相對位置，求得複數個輝點基準位置的座標。
接著，藉由使用視野轉換矩陣對複數個輝點基準位置的座標進行視野轉換，求得以攝影部52為原點之3維座標系統中之複數個輝點基準位置的座標。接著，藉由對經視野轉換之複數個輝點基準位置的座標進行透視投影轉換，而取得修正完成檢查圖像8c上之2維座標系統中之複數個輝點基準位置的座標。再者，基板處理裝置1中，由於在攝影部52利用非遠心光學系統，故如上述般進行透視投影轉換；但在攝影部52利用遠心光學系統時，則藉由對經視野轉換之複數個輝點基準位置之座標進行正射影(亦稱為平行射影或平行投影)，取得修正完成檢查圖像8c上之複數個輝點基準位置的座標。
複數個正常吐出判定框85係於修正完成檢查圖像8c上，配置於對應至上述配置方向的方向上。於以下說明中，將分別對應至第1吐出口列313a、第2吐出口列313b、第3吐出口列313c及第4吐出口列313d的正常吐出判定框85的列，稱為「第1正常吐出判定框列86a」、「第2正常吐出判定框列86b」、「第3正常吐出判定框列86c」及「第4正常吐出判定框列86d」。
於修正完成檢查圖像8c上，在排列方向上相鄰接之輝點基準位置間的距離，係隨著越遠離觀察視點即攝影部52(亦即隨著由靠前側朝向深度側)、越變小。因此，第1正常吐出判定框列86a所含之複數個正常吐出判定框85的間隔，亦同樣地隨著遠離攝影部52而變小。第2正常吐出判定框列86b、第3正常吐出判定框列86c及第4正常吐出判定框列86d亦同樣。
如圖8所示，複數個正常吐出判定框85係彼此不重疊地配置於修正完成檢查圖像8c上。再者，在修正完成檢查圖像8c上正常吐出判定框85彼此重疊的情況下，係變更攝影部52之位置或方 向、來自光射出部51之面狀光510之位置或方法等，反覆進行正常吐出判定框85的設定，直到複數個正常吐出判定框85彼此不重複為止。
在結束正常吐出判定框85之設定時，藉由判定框設定部74，於複數個正常吐出判定框85周圍分別設定複數個傾斜吐出判定框87。傾斜吐出判定框87係具有較正常吐出判定框85大的大致矩形狀輪廓的判定框。於各傾斜吐出判定框87的內側，存在1個正常吐出判定框85。大致正方形之各傾斜吐出判定框87的位置，係根據所對應之正常吐出判定框85的位置而設定。具體而言，各傾斜吐出判定框87係依使對應之正常吐出判定框85位於大致中心的方式，包圍該正常吐出判定框85而配置。正常吐出判定框85之個數係與傾斜吐出判定框87之個數相等。各傾斜吐出判定框87係表示朝向自既定吐出方向偏差了某程度之方向所吐出之處理液所通過之面狀光510上的區域。
在結束傾斜吐出判定框87之設定時，藉由判定框設定部74，於修正完成檢查圖像8c上在複數個傾斜吐出判定框87周圍設定對應至基板9上之保護液膜的1個保護液膜內吐出判定框88。保護液膜內吐出判定框88係表示來自配置於吐出口配置區域316(參照圖3)外周部之複數個吐出口(以下稱為「外周吐出口」)的處理液、在著液於基板9上之保護液膜上時所通過之面狀光510上的區域。保護液膜內吐出判定框88的設定係根據複數個外周吐出口的位置、基板9上之保護液膜之外周部的位置、位於複數個外周吐出口與保護液膜之間的光存在面的位置所進行。
具體而言，如圖9所示，由一外周吐出口314e，朝基板9上保護液膜93外周部(更詳言之，保護液膜93之外周緣)上最靠近該外周吐出口314e之點拉出假想線94，求得假想線94與光存在面(亦 即，面狀光510)的交點95。然後，分別針對複數個外周吐出口314e，於面狀光510上求得對應之交點95，將此等交點95投影於修正完成檢查圖像8c上並依序連接，藉此設定圖8所示之保護液膜內吐出判定框88。
在結束保護液膜內吐出判定框88之設定時，藉由判定框設定部74，於修正完成檢查圖像8c上設定包圍保護液膜內吐出判定框88之一個最大吐出判定框89。最大吐出判定框89為大致矩形狀，為複數個吐出判定框中位於最外側的外側吐出判定框。最大吐出判定框89係對應至由吐出噴頭31所吐出之處理液於基板9上之可能著液的最大範圍。最大吐出判定框89係與保護液膜內吐出判定框88同樣地，根據該最大範圍之外周部的位置、複數個外周吐出口314e之位置、與光存在面之位置所設定。再者，正常吐出判定框85、傾斜吐出判定框87、保護液膜內吐出判定框88及最大吐出判定框89的設定順序亦可適當變更。
各吐出判定框(亦即，正常吐出判定框85、傾斜吐出判定框87、保護液膜內吐出判定框88及最大吐出判定框89)之設定結束時，藉由判定部75之良否判定部752，取得各吐出判定框內之輝點81的存否資訊、亦即表示輝點81是否存在於各吐出判定框內的資訊。於良否判定部752，若輝點81之至少一部分位於吐出判定框內，則判定為輝點81存在於該吐出判定框內。又，在輝點81跨越位於內側及外側之2個吐出判定框時，判定輝點81不存在於外側之吐出判定框內、而存在於內側之吐出判定框內。例如，在輝點81跨越位於正常吐出判定框85與傾斜正常吐出判定框87時，判定輝點81不在傾斜正常吐出判定框87內、但存在於正常吐出判定框85內。另一方面，在輝點81 之至少一部分存在於傾斜吐出判定框87內之除了正常吐出判定框85以外的區域、且輝點81全體位於正常吐出判定框85外側的情況，則判定輝點81存在於傾斜吐出判定框87內。有關保護液膜內吐出判定框88與最大吐出判定框89中之輝點81存否，亦同樣。
良否判定部752之輝點81之存否資訊的取得，係首先，取得各正常吐出判定框85內之輝點81的存否資訊。具體而言，於修正完成檢查圖像8c上，檢測一個輝點81作為注目輝點。接著，抽出位於最接近注目輝點之正常吐出判定框85及傾斜吐出判定框87，作為對應至注目輝點的正常吐出判定框85及傾斜吐出判定框87。
然後，比較注目輝點之位置、與所抽出之正常吐出判定框85及傾斜吐出判定框87的位置，判定注目輝點是否存在於該正常吐出判定框85內、及是否存在於該傾斜吐出判定框87內。於良否判定部752，如上述般，若注目輝點之至少一部分位於正常吐出判定框85內，則判定為注目輝點存在於該正常吐出判定框85內。又，若注目輝點全體為位於正常吐出判定框85外、注目輝點之至少一部分位於傾斜吐出判定框87內，則判定注目輝點存在於傾斜吐出判定框87內。
另一方面，在注目輝點被判定為不存在於正常吐出判定框85及傾斜吐出判定框87時，係比較注目輝點之位置、與保護液膜內吐出判定框88的位置，判定注目輝點是否存在於保護液膜內吐出判定框88內。若注目輝點之至少一部分位於保護液膜內吐出判定框88內，則判定為注目輝點存在於保護液膜內吐出判定框88內。在注目輝點被判定為不存在於保護液膜內吐出判定框88內時，係比較注目輝點之位置、與最大吐出判定框89的位置，判定注目輝點是否存在於最大吐出判定框89內。若注目輝點之至少一部分位於最大吐出判定框89 內，則判定為注目輝點存在於最大吐出判定框89內。
於良否判定部752，在判定輝點81之存否時，係將修正完成檢查圖像8c中較最大吐出判定框89更外側的區域，由輝點檢測之對象區域排除。如此，最大吐出判定框89係發揮遮阻其外側區域之輝點檢測用遮罩的功能。藉此，縮短良否判定部752之輝點檢測所需時間，可縮短吐出檢查部5之吐出動作良否判定所需時間。
於檢查演算部73，根據於上述各正常吐出判定框85內、各傾斜吐出判定框87內、保護液膜內吐出判定框88內及最大吐出判定框89內之輝點81存否資訊，藉由良否判定部752判定對應至各正常吐出判定框85之吐出口314a~314d的吐出動作良否。關於吐出動作之良否判定的具體例，係一方面參照圖10.A至圖10.E一方面說明如下。
圖10.A至圖10.E為概念性表示修正完成檢查圖像8c之一部分的圖。圖10.A至圖10.E中，表示第1正常吐出判定框列86a之一部分之正常吐出判定框85、對應至該複數個正常吐出判定框85的複數個傾斜吐出判定框87、與保護液膜內吐出判定框88之一部分、最大吐出判定框89之一部分、輝點81。
於圖10.A之情況，由良否判定部752取得5個正常吐出判定框85之各別的內側中存在1個輝點81的資訊、及於各正常吐出判定框85之外側區域不存在輝點81的資訊作為輝點81之存否資訊。然後，根據該存否資訊，判定分別對應至5個正常吐出判定框85之5個第1吐出口314a的吐出動作為良好(亦即正常)。
於圖10.B之情況，由良否判定部752取得在圖中左側起第1個正常吐出判定框85內不存在輝點81、於其他4個正常吐出判 定框85內分別存在1個輝點81的資訊，及在左側起第1個傾斜吐出判定框87內存在1個輝點81的資訊作為輝點81之存否資訊。又，由良否判定部752亦取得在保護液膜內吐出判定框88及最大吐出判定框89內不存在輝點81的資訊作為輝點81的存否資訊。
於良否判定部752，根據該等存否資訊，判定分別對應至左側起第2~5個正常吐出判定框85之4個第1吐出口314a的吐出動作為良好。又，關於對應至左側起第1個正常吐出判定框85之第1吐出口314a，由於對應於該第1吐出口314a之輝點81存在於傾斜吐出判定框87內，故判定其發生了處理液由正常吐出範圍偏離而吐出之吐出不良(所謂的傾斜吐出)。吐出不良的發生，係由良否判定部752經由吐出檢查部5等之監測器等通知部79(參照圖4)通知作業者等。然後，在進行其後預定之基板9的處理前，進行吐出口314a之清潔等吐出噴頭31的維修。
於圖10.C之情況，由良否判定部752取得在圖中左側起第1個正常吐出判定框85及傾斜吐出判定框87內不存在輝點81、於其他4個正常吐出判定框85內分別存在1個輝點81的資訊，及在保護液膜內吐出判定框88內存在1個輝點81的資訊作為輝點81之存否資訊。於良否判定部752，根據該等存否資訊，判定分別對應至左側起第2~5個正常吐出判定框85之4個第1吐出口314a的吐出動作為良好。
關於對應至左側起第1個正常吐出判定框85及傾斜吐出判定框87之第1吐出口314a，由於在該正常吐出判定框85及傾斜吐出判定框87內不存在輝點81、於保護液膜內吐出判定框88內在該傾斜吐出判定框87附近存在輝點81，故判定其發生了處理液由對應至 傾斜吐出判定框87之傾斜吐出範圍偏離、大幅傾斜地吐出之吐出不良。又，來自該第1吐出口314a之處理液，係被判定為在吐出至基板9上時著液於保護液膜93上。吐出不良的發生，係由良否判定部752經由通知部79通知作業者等，進行吐出噴頭31之維修。
再者，於良否判定部752，亦可不特定出對應至保護液膜內吐出判定框88內之輝點81的吐出口。此時，針對左側起第1個第1吐出口314a，判定為其發生了朝對應至傾斜吐出判定框87之範圍外的大幅傾斜吐出、及因吐出口堵塞等造成之不吐出的任一種吐出不良。又，判定為由左側起第1個第1吐出口314a及未圖示之其他吐出口314a~314d中任一吐出口，發生了在對應至傾斜吐出判定框87之區域的外側著液於保護液膜93之大幅傾斜吐出。
於圖10.D之情況，由良否判定部752取得在圖中左側起第1個正常吐出判定框85及傾斜吐出判定框87內不存在輝點81、於其他4個正常吐出判定框85內分別存在1個輝點81的資訊，及在保護液膜內吐出判定框88內不存在輝點81的資訊，以及在最大吐出判定框89內存在1個輝點81的資訊作為輝點81之存否資訊。於良否判定部752，根據該等存否資訊，判定分別對應至左側起第2~5個正常吐出判定框85之4個第1吐出口314a的吐出動作為良好。
關於對應至左側起第1個正常吐出判定框85之第1吐出口314a，由於在對應該第1吐出口314a之正常吐出判定框85及傾斜吐出判定框87內不存在輝點81、於保護液膜內吐出判定框88內亦不存在輝點81、於最大吐出判定框89內存在輝點81，故判定處理液係由吐出方向非常大幅地偏離吐出，在吐出至基板9上時著液於保護液膜93外側。吐出不良的發生，係由良否判定部752經由吐出檢查部 5之監測器等之通知部79通知作業者等。若於基板9上處理液著液於保護液膜93外側，則有對基板9上之圖案造成損傷的可能性，故對吐出噴頭31進行例如拆解維修、或交換為其他吐出噴頭31。
再者，於良否判定部752，亦可不特定出對應至最大吐出判定框89內之輝點81的吐出口。此時，針對左側起第1個第1吐出口314a，判定為其發生了朝最大吐出判定框89之外側的非常大幅傾斜吐出、及因不吐出的任一種吐出不良。又，判定為由左側起第1個第1吐出口314a及未圖示之其他吐出口314a~314d中任一吐出口，發生了朝保護液膜93外側之非常大幅傾斜吐出。
於圖10.E之情況，由良否判定部752取得在圖中左側起第1個正常吐出判定框85及傾斜吐出判定框87內不存在輝點81、於其他4個正常吐出判定框85內分別存在1個輝點81的資訊，及在保護液膜內吐出判定框88及最大吐出判定框89內不存在輝點81的資訊作為輝點81之存否資訊。於良否判定部752，根據該等存否資訊，判定分別對應至左側起第2~5個正常吐出判定框85之4個第1吐出口314a的吐出動作為良好。又，判定對應至左側起第1個正常吐出判定框85之第1吐出口314a係發生了不吐出處理液的不吐出之吐出不良。
然而，作為判定複數個吐出口之吐出動作良否的吐出檢查部，可考慮取得與上述相同的檢查圖像，測定檢查圖像上之複數個輝點的排列方向的間隔。於此種吐出檢查部(以下稱為「第1比較例之吐出檢查部」)中，若複數個輝點之間隔與既定間隔約相等，則判定為各吐出口的吐出動作良好。另一方面，在相鄰接之2個輝點之間隔為既定間隔之2倍以上大時，判定在對應該2個輝點之2個吐出口之間，存在有不吐出之吐出口。
於第1比較例之吐出檢查部中，若存在間隔較既定間隔大(或小)至某程度以上的相鄰接的2個輝點，則判定在對應該2個輝點之2個吐出口中、任一者或兩者發生了傾斜吐出之吐出不良。然而，要判定出2個吐出口中何者吐出口發生吐出不良並不容易。又，在來自一吐出口之處理液由其一吐出口遠離偏離、來自另一吐出口之處理液由其一吐出口遠離偏離的情況，即使來自各吐出口之處理液的偏差為容許範圍，仍如上述般判斷2個吐出口之至少一者為錯誤而吐出不良。又，在連續之複數個吐出口發生吐出不良、對應該複數個吐出口之複數個輝點於同方向上以相同距離發生偏離時，由於複數個輝點之間隔為與既定間隔約相等，故無法檢測出此等吐出不良。
相對於此，於基板處理裝置1之吐出檢查部5，係藉由判定框設定部74，在修正完成檢查圖像8c上設定分別對應至複數個吐出口314a~314d的複數個正常吐出判定框85。然後，藉由判定部75，取得各正常吐出判定框85內之輝點81的存否資訊，根據該存否資訊判定對應至各正常吐出判定框85的吐出口314a~314d的吐出動作良否。藉此，可個別(亦即由其他之吐出口314a~314d的吐出動作良否獨立出來)地、精確度良好地判定複數個吐出口314a~314d個別的吐出動作良否。其結果，可抑制或防止因吐出不良而對基板9之處理所造成的不良影響。作為該不良影響，可認為有例如因處理液之不吐出而使基板9之處理品質降低、因處理液之傾斜吐出而對基板9上之圖案造成損傷等。
另外，基板處理裝置1中，係藉由判定部75之位置偏差修正部751，根據參照圖像732及檢查圖像8，將由取得檢查圖像8時之吐出噴頭31之位置與設計檢查位置間之差所造成之圖像偏差予以 修正後，藉由良否判定部752，進行上述存否資訊的取得、及吐出動作的良否判定。藉此，可修正檢查區域中之吐出噴頭31由設計檢查位置的位置偏差、提升複數個吐出口314a~314d的吐出動作檢查精確度。
如上述，吐出噴頭31係藉由噴頭旋轉機構353而在基板9上方與檢查區域之間旋轉移動。因此，將因噴頭旋轉機構353所進行之旋轉量的稍微偏差，使檢查圖像8上之輝點81位置大幅且複雜地偏離。基板處理裝置1中，係如上述般，由於可修正吐出噴頭31的位置偏差並精確度良好地進行吐出動作檢查，故基板處理裝置1之構造係特別適合於吐出噴頭31進行旋轉移動的基板處理裝置的構造中。
吐出噴頭31係如圖3所示，設有多數之吐出口314a~314d。因此，於參照圖像732及檢查圖像8分別存在多數輝點。因此，即使是在檢查時之吐出噴頭31存在不吐出之吐出口、檢查圖像8上之輝點81數較參照圖像732上之輝點數少的情況，藉由比較檢查圖像8上殘留之多數輝點81的位置與參照圖像732上之輝點的位置，則可精確度良好地取得檢查圖像8之圖像偏差量。
如上述，吐出噴頭31之複數個吐出口314a~314d，係包含分別於排列方向上大致直線狀地延伸且排列在對排列方向呈傾斜之方向上的吐出口列313a~313d。因此，即使在1個吐出口列之端部的吐出口為不吐出的情況，在圖像偏差的檢測時，可防止在檢查圖像8於不吐出之吐出口側僅由參照圖像732偏離了對應排列間隙之距離的位置上、判斷檢查圖像8與參照圖像732之差為最小的情形。藉此，可精確度更佳地取得檢查圖像8之圖像偏差量。
吐出檢查部5中，係藉由判定框設定部74，在修正完成檢查圖像8c上設定分別對應至複數個吐出口314a~314d的複數個傾斜 吐出判定框87。然後，藉由判定部75，取得各傾斜吐出判定框87內之輝點81的存否資訊，根據該存否資訊判定對應至各傾斜吐出判定框87的吐出口314a~314d有無發生傾斜吐出。藉此，可個別地、精確度良好地判定複數個吐出口314a~314d個別的傾斜吐出、更詳言之為朝對應至傾斜吐出判定框87之區域內的輕度傾斜吐出。
又，吐出檢查部5中，係藉由判定框設定部74，在修正完成檢查圖像8c上設定對應至保護液膜93之保護液膜內吐出判定框88。然後，藉由判定部75，取得保護液膜內吐出判定框88內之輝點81的存否資訊，根據該存否資訊判定有無發生朝對應至傾斜吐出判定框87之區域外、且形成保護液膜93之區域內的更大傾斜吐出。藉此，可精確度良好地判定更大傾斜吐出的發生。
再者，在形成於基板9上之保護液膜93的外周部，在保護液膜93的膜厚較既定厚度薄之情況下，在上述保護液膜內吐出判定框88的設定時，亦可將作為基板之一的保護液膜93的外周部視為保護液膜93之具有既定厚度之部位的外周緣。藉此，可判定由吐出方向大幅偏離吐出之處理液是否著液於保護液膜93之具有既定厚度的部位、或著液於較該部位更外側的區域。
進而，吐出檢查部5中，係藉由判定框設定部74，在修正完成檢查圖像8c上設定包圍保護液膜內吐出判定框88的最大吐出判定框89。然後，藉由判定部75，取得最大吐出判定框89內之輝點81的存否資訊，根據該存否資訊判定有無發生朝形成保護液膜93之區域外的非常大幅的傾斜吐出。藉此，可精確度良好地判定著液於保護液膜93外側的傾斜吐出的發生。
於吐出檢查部5中，攝影部52之攝影方向，係相對於 與來自吐出噴頭31之處理液之既定吐出方向為垂直之平面呈傾斜。藉此，可抑制在修正完成檢查圖像8c上複數個輝點81彼此重疊的情形。又，於修正完成檢查圖像8c上，可抑制複數個正常吐出判定框85彼此重疊、亦可抑制複數個傾斜吐出判定框87彼此重疊。其結果，可提升複數個吐出口314a~314d的吐出動作的良否判定精確度。此種吐出檢查部5的構造，特別適合於具有彼此平行排列之複數個吐出口列的吐出噴頭的吐出動作良否判定。
如上述，於吐出檢查部5中，光存在面係相對於與處理液之既定吐出方向為垂直之平面呈傾斜。藉此，可抑制在修正完成檢查圖像8c上複數個輝點81、複數個正常吐出判定框85、及複數個傾斜吐出判定框87彼此重疊。其結果，可進而提升複數個吐出口314a~314d的吐出動作的良否判定精確度。此種吐出檢查部5的構造，亦特別適合於具有彼此平行排列之複數個吐出口列的吐出噴頭的吐出動作良否判定。
於上述例中，係在修正了圖像偏差之修正完成檢查圖像8c上設定正常吐出判定框85，但亦可在未修正圖像偏差之檢查圖像8上設定正常吐出判定框85，根據圖像偏差藉由位置偏差修正部751修正正常吐出判定框85的位置。即使於此情況下，亦可在根據參照圖像732及檢查圖像8修正圖像偏差後，藉由良否判定部752，根據各正常吐出判定框85內之輝點81的存否資訊，精確度良好地判定對應至各正常吐出判定框85之吐出口314a~314d的吐出動作良否。
又，上述例中，雖針對設定與正常吐出判定框85相同數量之傾斜吐出判定框87的情況進行說明，但如圖11所示般，亦可藉由判定框設定部74，在修正完成檢查圖像8c上設定使複數個正常吐 出判定框85位於內側之較大的傾斜吐出判定框87a。於圖11所示例中，係在對應至第1吐出口列313a之所有第1吐出口314a(參照圖3)的複數個正常吐出判定框85(亦即第1正常吐出判定框例86a)的周圍，設定大致矩形狀之1個傾斜吐出判定框87a。又，於第2正常吐出判定框列86b、第3正常吐出判定框列86c及第4正常吐出判定框列86d的個別的周圍，設定與上述傾斜吐出判定框87a約同樣形狀的傾斜吐出判定框87a。修正完成檢查圖像8c上之各傾斜吐出判定框87a的位置，係根據所對應之正常吐出判定框列的位置所設定。於4個傾斜吐出判定框87a周圍，設定與上述同樣之保護液膜內吐出判定框88，於保護液膜內吐出判定框88周圍設定有外側吐出判定框即最大吐出判定框89。
於檢查演算部73中，係根據在上述各正常吐出判定框85內、傾斜吐出判定框87a內、保護液膜內吐出判定框88內及最大吐出判定框89內之輝點81的存否資訊，藉由良否判定部752判定對應至各正常吐出判定框85的吐出口314a~314d的吐出動作良否。
然而，基板處理裝置1中，若攝影部52與處理液之間的距離相異，則修正完成檢查圖像8c上之輝點81的尺寸、亦即輝點81外觀的尺寸亦改變。例如，距攝影部52較遠之輝點81的外觀尺寸，係較接近攝影部52之輝點81小，因傾斜吐出所造成之輝點81之外觀移動量亦變較小。因此，在正常吐出判定框85等之吐出判定框內的輝點81存否判定時，有即使是距攝影部52較遠之輝點81因傾斜吐出而由輝點基準位置偏離時，仍較接近攝影部52之輝點81更容易被判定為存在於吐出判定框內的可能性。
另一方面，由於接近攝影部52之輝點81之外觀尺寸較 距攝影部52遠之輝點81大，故即使輝點81重心位於吐出判定框之外側的情況，輝點81之一部分仍位於吐出判定框內的可能性變高。其結果，有接近攝影部52之輝點81的重心雖位於吐出判定框外，但較距攝影部52遠之輝點81更容易被判定其存在於吐出判定框內的可能性。
另外，基板處理裝置1中，由於吐出噴頭31、光射出部及攝影部52的配置，複數個輝點81中之一部分輝點81係位於攝影部52之合焦範圍80外側。此情況下，該一部分輝點81係於修正完成檢查圖像8c上模糊(所謂的失焦)、較合焦範圍80內之輝點81較大地擴展。經擴展的輝點81由於其一部分位於吐出判定框內之可能性變高，故於正常吐出判定框85等之吐出判定框內之輝點81之存否判定時，相較於其他輝點81，有容易被判定為存在於吐出判定框內的可能性。
因此，吐出檢查部5中，視需要必須進行用於減低因攝影部52與輝點81間之距離、以及合焦範圍80外之輝點81之模糊所造成之對吐出動作良否判定的影響的調整。以下說明該調整之2種方法。於第1調整方法中，係在由判定框設定部74進行正常吐出判定框85之設定時，調整正常吐出判定框85尺寸。於第2調整方法中，係在由判定部75進行吐出動作良否判定前，調整輝點81於修正完成檢查圖像8c上的尺寸。
於第1調整方法中，首先，求得圖8所示之屬於對應至各正常吐出判定框85的輝點基準位置、與攝影部52之攝影軸J2之起點間之距離的檢查距離。接著，依隨著檢查距離變大、使正常吐出判定框85變小的方式，調整正常吐出判定框85之尺寸。具體而言，以各正常吐出判定框85之隨著檢查距離變大、而變小之檢查距離的既定函數作為界限縮小率，不變更各正常吐出判定框85的中心位置(亦即， 輝點基準位置)，而對各正常吐出判定框85之4個邊長分別乘上界限縮小率，藉此，如圖12所示般，調整各正常吐出判定框85的尺寸。圖12中，省略正常吐出判定框85以外之吐出判定框的圖示(圖13至圖15亦同樣)。
接著，進一步依隨著攝影部52之合焦距離與對應至各正常吐出判定框85之檢查距離間的差(以下稱為「焦點偏差量」)變大、而使各正常吐出判定框85變小的方式，進行調整。具體而言，係以隨著焦點偏差量變大、而變大之焦點偏差量的既定函數作為模糊量，不變更各正常吐出判定框85之中心位置，由各正常吐出判定框85之4個邊長分別減算模糊量，藉此，如圖13所示，設定各正常吐出判定框85。
然後，根據經尺寸調整之正常吐出判定框85內的輝點81存否資訊，進行各吐出口314a~314d的吐出動作良否判定。於正常吐出判定框85的調整中，如上述般，係進行隨著對應至各正常吐出判定框85之檢查距離變大，而減小各正常吐出判定框85的調整。藉此，可減低因攝影部52與輝點81間之距離對吐出動作良否判定所造成的影響，可提升吐出動作良否判定的精確度。
又，進行隨著屬於對應至各正常吐出判定框85之檢查距離與攝影部52之合焦距離間之差的焦點偏差量變大，而減小各正常吐出判定框85的調整。藉此，可減低因合焦範圍80外之輝點81的模糊對吐出動作良否判定的影響，可進一步提升吐出動作良否判定的精確度。
再者，上述例子中，雖對各正常吐出判定框85根據檢查距離進行調整、以及根據焦點偏差量進行調整，但並不一定需要進 行兩者調整，而亦可視需要僅進行任一者調整。
上述第2調整方法中，係依隨著對應至各輝點81之檢查距離變小、而各輝點81變小之方式，修正輝點81之尺寸。具體而言，係以隨著檢查距離變小、而變小之檢查距離之既定函數作為輝點縮小率，不變更各輝點81之重心位置，依該輝點縮小率縮小各輝點81，藉此，如圖14所示般，修正各輝點81之尺寸。接著，依隨著焦點偏差量變大、而各輝點81變小的方式，修正輝點81之尺寸。具體而言，係以隨著焦點偏差量變大、而變大之焦點偏差量的既定函數作為輝點模糊量，不變更各輝點81重心位置，由各輝點81之縱橫各長度減算輝點模糊量，藉此，如圖15所示般，修正各輝點81之尺寸。
然後，根據修正了尺寸之輝點81於正常吐出判定框85內之存否資訊(亦即，表示修正後之輝點81之至少一部分是否存在的資訊)，進行各吐出口314a~314d的吐出動作良否判定。於輝點81之修正中，如上述，係進行隨著對應至各輝點81之檢查距離變小、而縮小輝點81的修正。藉此，可抑制或防止即使輝點81之大部分位於正常吐出判定框85外側、一部分仍位於正常吐出判定框85內的情形。其結果，可減低因攝影部52與輝點81間之距離對吐出動作良否判定的影響，可提升吐出動作良否判定的精確度。
又，進行隨著屬於對應至各輝點81之檢查距離與攝影部52之合焦距離間之差的焦點偏差量變大、而縮小各輝點81的修正。藉此，可減低因合焦範圍80外之輝點81模糊對吐出動作良否判定造成的影響，可更加提升吐出動作良否判定的精確度。
再者，上述例子中，雖對各輝點81根據檢查距離進行調整、以及根據焦點偏差量進行調整，但並不一定需要進行兩者調整， 而亦可視需要僅進行任一者調整。
基板處理裝置1中，若由光射出部51所射出之面狀光510於上下方向的厚度變厚，則在藉攝影部52所取得的檢查圖像8中，各輝點81於上下方向(亦即，處理液於設計上的吐出方向)變大。來自光射出部51之面狀光510的厚度，雖然於對由吐出噴頭31所吐出之處理液所照射之區域中為大致一定，但即使在該區域內，隨著距由光射出部51所射出之面狀光510之吐出方向之厚度成為最小之位置(亦即，面狀光510於上下方向上最壓縮的位置，以下稱為「光最薄位置」)的距離變大、仍會稍微增大。因此，相較於接近光最薄位置的輝點81，距光最薄位置較遠之輝點81係於上下方向變大。其結果，在正常吐出判定框85等之吐出判定框內的輝點81的存否判定時，相較於接近光最薄位置的輝點81，距光最薄位置較遠的輝點81較容易被判定為存在於吐出判定框內。
因此，吐出檢查部5中，進行用於減低因光最薄位置與輝點81間之距離對吐出動作良否判定造成之影響的調整。以下說明該調整之2種方法。為了與上述第1及第2調整方法有所區別，將該2種調整方法分別稱為「第3調整方法」及「第4調整方法」。於第3調整方法中，係在由判定框設定部74進行正常吐出判定框85之設定時，調整正常吐出判定框85尺寸。於第4調整方法中，係在由判定部75進行吐出動作良否判定前，調整輝點81於修正完成檢查圖像8c上的尺寸。
於第3調整方法中，係根據屬於光射出部51之光軸J1起點與對應至各正常吐出判定框85之輝點基準位置間於平行光軸J1方向上之距離(以下稱為「照射距離」)、與光射出部51之光軸J1起始 與光最薄位置間於平行光軸J1方向上之距離(以下稱為「光最薄距離」)間的差的判定框照射距離誤差，調整各正常吐出判定框85於上下方向(亦即，處理液設計上的吐出方向)的高度。具體而言，係隨著各正常吐出判定框85之判定框照射距離誤差變大，使各正常吐出判定框85於上下方向縮小。藉此，可減低因判定框照射距離誤差對吐出動作良否判定所造成的影響，可提升吐出動作良否判定的精確度。
第4調整方法中，係根據屬於各輝點81之照射距離(亦即，光射出部51之光軸J1起點與對應至各輝點81之輝點基準位置間於平行光軸J1之方向上的距離)與光最薄距離間之差的輝點照射距離誤差，調整各輝點81之上下方向的高度。具體而言，係隨著各輝點81之輝點照射距離誤差變大、使各輝點81於上下方向縮小。藉此，可減低因輝點照射距離誤差對吐出動作良否判定的影響，可提升吐出動作良否判定的精確度。
上述4種調整方法亦可適當組合實施。例如，可實施第1及第3調整方法，調整正常吐出判定框85尺寸。或實施第2及第4調整方法，修正輝點81尺寸。又，第1至第4調整方法中，亦可將2個以上之調整方法任意組合實施。
上述說明中，在由良否判定部752進行於正常吐出判定框85等之吐出判定框內之輝點81存否判定時，若輝點81之至少一部分位於吐出判定框內，則判定於輝點81存在於該吐出判定框，但亦可在輝點81之一半以上位於吐出判定框內之情況下，判定為輝點81存在於該吐出判定框內。
或者，亦可僅在輝點81全體位於吐出判定框內的情況下，判定為輝點81存在於該吐出判定框內。此情況下，藉由以上述第 1調整方法所進行之正常吐出判定框85的調整，隨著焦點偏差量變大、而對正常吐出判定框85之各邊加算模糊量，擴大正常吐出判定框85。藉此，可減低因合焦範圍80外之輝點81的模糊對吐出動作良否判定造成的影響，可更加提升吐出動作良否判定的精確度。又，藉由以上述第3調整方法所進行之正常吐出判定框85的調整，隨著判定框照射距離誤差變大、而使正常吐出判定框85於上下方向擴大。藉此，可減低因判定框照射距離誤差對吐出動作良否判定造成的影響，可更加提升吐出動作良否判定的精確度。
又，於良否判定部752，亦可求得於修正完成檢查圖像8c上複數個輝點81之個別的重心，取得各正常吐出判定框85內之輝點81的重心存否，作為各正常吐出判定框85內之輝點81的存否資訊。藉此，可防止例如因為位於合焦範圍80外側之輝點81之僅有模糊擴展部分位於正常吐出判定框85內、而判定輝點81存在於正常吐出判定框85內的情形。於其他吐出判定框內之輝點81的存否判定亦同樣。其結果，可更加提升複數個吐出口314a~314d的吐出動作良否判定精確度。由該重心之存否所進行之輝點81的存否判定，亦可與上述第1調整方法或第3調整方法一起進行。然而，上述第2調整方法或第4調整方法，並不與由重心之存否所進行之輝點81的存否判定一起進行。
於基板處理裝置1之檢查演算部73，亦可不利用正常吐出判定框85等之吐出判定框，而進行吐出動作的檢查。此時，由檢查演算部73省略判定框設定部74。在進行不利用吐出判定框之檢查時，首先，與上述同樣地，取得檢查圖像8，對檢查圖像8進行2值化處理後，藉由判定部75之位置偏差修正部751，比較檢查圖像8與參照圖像732，求得上述圖像偏差。於位置偏差修正部751，根據所求得之圖 像偏差量，如上述般修正檢查圖像8之圖像偏差，生成修正完成檢查圖像8c。
接著，藉由判定部75之良否判定部752，如圖16所示般生成參照圖像732與修正完成檢查圖像8c的差分圖像82。具體而言，首先，由參照圖像732之各畫素的畫素值，減算在修正完成檢查圖像8c中所對應之畫素的畫素值。於參照圖像732及修正完成檢查圖像8c中，各輝點所含之畫素的畫素值為正值，背景所包含之畫素的畫素值為零。因此，在參照圖像732之輝點與修正完成檢查圖像8c之輝點81重疊的位置，由參照圖像732之畫素值減算了檢查圖像8之畫素值的值的差分值成為零。又，在參照圖像732之背景與修正完成檢查圖像8c之背景重疊的位置，差分值亦成為零。另一方面，在雖存在參照圖像732之輝點、但不存在修正完成檢查圖像8c之輝點81的位置，差分值成為正值。在雖存在檢查圖像8之輝點81、但不存在參照圖像732之輝值的位置，差分值成為負值。
於良否判定部752中，係以差分值為負值之畫素的階度值作為最暗的零，以差分值為零之畫素的階度值作為中間亮度127，以差分值為正值之畫素的階度值作為最亮255，生成差分圖像82。圖16中，關於屬於階度值為255之畫素之集合的第1區域821，僅圖示輪廓。又，在屬於階度值為127之畫素之集合的第2區域822，加註平行斜線。在屬於階度值為零之畫素之集合的第3區域823，則塗黑表示。
接著，藉由良否判定部752，由差分圖像82抽出第1區域821及第3區域823。於圖16中，在差分圖像82之左側區域，存在1個第1區域821、與接近該第1區域821的1個第3區域823。又，於參照圖像732之右側區域，存在1個第1區域821。
左側之1個第1區域821，係對應至參照圖像732上之1個輝點，表示在修正完成檢查圖像8c上對應該輝點之位置並不存在輝點81。又，在接近第1區域821之1個第3區域823，對應至檢查圖像8上之1個輝點81，表示在參照圖像732上對應該輝點81的位置並不存在輝點。因此，於良否判定部752，判定在對應第1區域821的吐出口中，未進行朝設計上之吐出方向的處理液吐出，而朝第3區域823之方向吐出了處理液。
於良否判定部752中，係求取第1區域821與第3區域823間的距離(例如，重心間之距離)。該距離係修正完成檢查圖像8c上對應至第3區域823之1個輝點81、與參照圖像732上對應至該1個輝點81之輝點間的距離。然後，在該距離大於既定距離的情況，判定在對應至上述1個輝點81之吐出口，發生傾斜吐出之吐出不良。吐出不良的發生，將經由通知部79(參照圖4)而通知作業者等。另一方面，在上述距離為既定距離以下的情況，判定來自對應至上述1個輝點81之吐出口的處理液，係朝由設計上之吐出方向稍微偏離了容許範圍內之偏差量的方向被吐出。此時，並不進行經由通知部79對作業者等的通知。
差分圖像82上之右側之1個第1區域821，亦對應至參照圖像732上之1個輝點，表示在修正完成檢查圖像8c上對應該輝點之位置並不存在輝點81。由於在第1區域821附近不存在第3區域823，故於良否判定部752，判定在對應第1區域821的吐出口中，發生了不吐出處理液之不吐出的吐出不良。吐出不良的發生，將經由通知部79(參照圖4)而通知作業者等。
如以上，於判定部75之良否判定部752，係根據參照圖 像732與修正完成檢查圖像8c的差，判定複數個吐出口314a~314d之個別的吐出動作良否。藉此，可使吐出動作良否判定簡單化。又，於良否判定部752中，在修正檢查圖像8之圖像偏差後，設定上述複數個正常吐出判定框85，或求得上述參照圖像732與檢查圖像8的差，進行吐出動作良否判定。藉此，可修正檢查區域中距吐出噴頭31之設計檢查位置的位置偏差，提升複數個吐出口314a~314d之吐出動作的檢查精確度。
檢查圖像8之圖像偏差的修正，可藉由以圖像數據處理修正檢查圖像8而進行，亦可藉由使吐出噴頭31位於設計檢查位置後對複數個輝點81進行再攝影而取得再取得檢查圖像。
接著，說明本發明第2實施形態之基板處理裝置1a。圖17所示之基板處理裝置1a，係除了由圖4所示之控制單元7之檢查演算部73省略了判定框設定部74的點之外，其餘具備與圖1至圖6所示基板處理裝置1大致相同的構成。以下說明中，對基板處理裝置1a之與基板處理裝置1對應的構成加註同樣符號。基板處理裝置1a之基板9的處理，係與基板處理裝置1同樣地進行。於基板處理裝置1a中，來自吐出噴頭31之複數個吐出口314a~314d的處理液的吐出動作檢查，係依與基板處理裝置1相異的方法進行。
圖18為表示檢查圖像8a的圖。檢查圖像8a係與上述檢查圖像8同樣的順序所取得。於檢查圖像8a中，分別對應至吐出噴頭31之複數個吐出口314a~314d的複數個輝點81，係排列於對應至吐出口314a~314d之排列方向的方向上。於吐出檢查部5中，由於面狀光510具有稍微之厚度，故各輝點81係於檢查圖像8a中成為在對應上下方向之方向上稍長的大致楕圓形。
接著，藉由判定部75之位置偏差修正部751，比較檢查圖像8a、與預先記憶於參照圖像記憶部731的參照圖像732。參照圖像732係於基板處理裝置1a中，依吐出噴頭31位於上述檢查區域內之設計檢查位置、且由複數個吐出口314a~314d正常吐出處理液的狀態，一方面由光射出部51射出面狀光510、一方面藉攝影部52所取得的圖像。參照圖像732係在基板處理裝置1a中進行基板9之處理前(例如，基板處理裝置1a之製造現場中基板處理裝置1a的出貨前)所取得，在進行與檢查圖像8a同樣地2值化處理後，預先記憶於參照圖像記憶部731。
於位置偏差修正部751中，係根據檢查圖像8a及參照圖像732，求得檢查圖像8a相對於參照圖像732的相對偏差(以下稱為「圖像偏差」)。該圖像偏差係因取得檢查圖像8a時之吐出噴頭31位置、與設計檢查位置之間的差所產生。圖像偏差之量的算出，係藉由例如使檢查圖像8a在圖18中之上下方向及左右方向進行移動、或以垂直於檢查圖像8a之旋轉軸為中心進行旋轉、或擴大或縮小檢查圖像8a，直到檢查圖像8a與參照圖像732之差成為最小(亦即，檢查圖像8a之複數個輝點81與參照圖像732之複數個輝點的重疊程度成為最大)為止而進行。在檢查圖像8a與參照圖像732之差成為最小時的檢查圖像8a的移動量、旋轉量及變倍量，為檢查圖像8a之圖像偏差量。圖像偏差量亦可藉由將一般型樣匹配(pattern matching)用之圖像處理函數應用至檢查圖像8a及參照圖像732而求得。
於位置偏差修正部751中，係根據所求得之圖像偏差量，修正檢查圖像8a的圖像偏差。具體而言，將檢查圖像8a上之複數個輝點81的位置，修正至假設為依吐出噴頭31位於檢查區域內之 設計檢查位置之狀態取得檢查圖像8a時的位置。
接著，藉由判定部75之良否判定部752，如圖19所示般生成參照圖像732與檢查圖像8a的差分圖像82a。具體而言，首先，由參照圖像732之各畫素的畫素值，減算在檢查圖像8a中所對應之畫素的畫素值。於參照圖像732及檢查圖像8a，各輝點所含之畫素的畫素值為正值，背景所包含之畫素的畫素值為零。因此，在參照圖像732之輝點與檢查圖像8a之輝點81重疊的位置，由參照圖像732之畫素值減算了檢查圖像8a之畫素值的值的差分值成為零。又，在參照圖像732之背景與檢查圖像8a之背景重疊的位置，差分值亦成為零。另一方面，在雖存在參照圖像732之輝點、但不存在檢查圖像8a之輝點81的位置，差分值成為正值。在雖存在檢查圖像8a之輝點81、但不存在參照圖像732之輝值的位置，差分值成為負值。
於良否判定部752，係以差分值為負值之畫素的階度值作為最暗的零，以差分值為零之畫素的階度值作為中間亮度127，以差分值為正值之畫素的階度值作為最亮255，生成差分圖像82a。於圖19中，關於階度值為255之畫素之集合即第1區域821，僅圖示輪廓。又，在階度值為127之畫素之集合即第2區域822，加註平行斜線。在階度值為零之畫素之集合即第3區域823，則塗黑表示。
接著，藉由良否判定部752，由差分圖像82a抽出第1區域821及第3區域823。於圖19中，在差分圖像82a之左側區域，存在1個第1區域821、與接近該第1區域821的1個第3區域823。又，於差分圖像82a之右側區域，存在1個第1區域821。
左側之1個第1區域821，係對應至參照圖像732上之1個輝點，表示在檢查圖像8a上對應該輝點之位置並不存在輝點81。 又，在接近第1區域821之1個第3區域823，對應至檢查圖像8a上之1個輝點81，表示在參照圖像732上對應該輝點81的位置並不存在輝點。因此，於良否判定部752，判定在對應第1區域821的吐出口中，未進行朝設計上之吐出方向的處理液吐出，而朝第3區域823之方向傾斜吐出了處理液。
於良否判定部752中，係求取第1區域821與第3區域823間的距離(例如，重心間之距離)。該距離係檢查圖像8a上對應至第3區域823之1個輝點81、與參照圖像732上對應至該1個輝點81之輝點間的距離。然後，在該距離大於既定距離的情況，判定在對應至上述1個輝點81之吐出口，發生傾斜吐出之吐出不良。吐出不良的發生，將經由通知部79(參照圖4)而通知作業者等。另一方面，在上述距離為既定距離以下的情況，判定來自對應至上述1個輝點81之吐出口的處理液，係朝由設計上之吐出方向稍微偏離了容許範圍內之偏差量的方向被吐出。此時，並不進行經由通知部79對作業者等的通知。
於檢查圖像8a上，在排列方向上相鄰接之輝點81間的距離，係隨著越遠離觀察視點即攝影部52(亦即隨著由靠己側朝向深度側)、越變小。因此，上述既定距離，亦同樣地隨著輝點81遠離攝影部52而變小。
檢查圖像8a上之右側之1個第1區域821，亦對應至參照圖像732上之1個輝點，表示在檢查圖像8a上對應該輝點之位置並不存在輝點81。由於在第1區域821附近不存在第3區域823，故於良否判定部752，判定在對應第1區域821的吐出口中，發生了不吐出處理液之不吐出的吐出不良。吐出不良的發生，將經由通知部79(參照圖4)而通知作業者等。
如此，於良否判定部752，在於差分圖像82a上檢測出第1區域821(亦即，輝點81之圖像雖存在於參照圖像732、但不存在於檢查圖像8a上的區域)的情況下，係著眼於該第1區域821，如差分圖像82a之左側之第1區域821般，探尋在其附近是否檢測到第3區域823(亦即，輝點81之圖象雖存在於檢查圖像8a上、但不存在於參照圖像732上的區域)。在藉由良否判定部752發現第3區域823時，判定為於對應至該第1區域821的吐出口發生傾斜吐出之吐出不良。另一方面，如差分圖像82a之右側之第1區域821般，在藉由良否判定部752於所著眼之第1區域821附近並未發現到第3區域823的情況下，判定於在對應該第1區域821的吐出口發生不吐出之吐出不良。
另外，在周圍不存在第1區域821、且發現到孤立之第3區域823的情況下，有發生了對應至該第3區域823之吐出口在取得參照圖像732時並未作動、在拍攝檢查圖像8a時於攝影部52附著了水滴等、或由位置偏差修正部751所進行之檢查圖像8a的圖像偏差修正並未正確施行等不良情況的可能性。因此，在發現了此種孤立之第3區域823的情況下，亦可經由通知部79(參照圖4)通知作業者等。
然而，於第1比較例之吐出檢查部中，若存在間隔較既定間隔大(或小)至某程度以上的相鄰接的2個輝點，則判定在對應該2個輝點之2個吐出口中、任一者或兩者發生了傾斜吐出之吐出不良。然而，要判定出2個吐出口中何者吐出口發生吐出不良並不容易。又，在來自其一吐出口之處理液自另一吐出口遠離偏離、來自另一吐出口之處理液自其一吐出口遠離偏離的情況，即使來自各吐出口之處理液的偏差為容許範圍，仍如上述般2個吐出口之至少一者被錯誤判斷為吐出不良。再者，在連續之複數個吐出口發生吐出不良、對應該複數 個吐出口之複數個輝點於同方向上以相同距離發生偏離時，由於複數個輝點之間隔為與既定間隔約相等，故無法檢測出此等吐出不良。
對此，於良否判定部752中，係根據參照圖像732與檢查圖像8a間之差，判定複數個吐出口314a~314d之個別的吐出動作良否。藉此，可個別(亦即由其他之吐出口314a~314d的吐出動作良否獨立出來)地、精確度良好地判定複數個吐出口314a~314d各個的吐出動作良否。又，可使吐出動作良否判定簡單化。進而，於良否判定部752中，係在修正檢查圖像8a之圖像偏差後，求取上述參照圖像732與檢查圖像8a間之差，進行吐出動作良否判定。藉此，可修正由檢查區域中之吐出噴頭31之設計檢查位置的位置偏差，提升複數個吐出口314a~314d之吐出動作的檢查精確度。其結果，可抑制或防止因吐出不良而對基板9之處理所造成的不良影響。作為該不良影響，可認為有例如因處理液之不吐出而使基板9之處理品質降低、因處理液之傾斜吐出而對基板9上之圖案造成損傷等。
於吐出噴頭31，設有多數之吐出口314a~314d，並排列為在排列方向上大致直線地延伸之吐出口列313a~313d。因此，檢查圖像8a上多數輝點81接近存在，不易把握各輝點81與吐出口314a~314d間的對應關係。於基板處理裝置1a中，係如上述般，藉由使與複數個吐出口314a~314d間的對應關係明確的參照圖像732上的複數個輝點、與檢查圖像8a上之複數個輝點81予以對應，故可個別地對各吐出口314a~314d之吐出動作精確度良好地進行判定，因此，基板處理裝置1a的構造，係特別適合於具有彼此平行排列之複數個吐出口列的吐出噴頭的吐出動作良否判定。
作為基板處理裝置，亦可考慮取代上述參照圖像732， 根據藉計算所求取之正常之輝點位置與檢查圖像上之輝點位置間的差，檢查吐出動作者(以下稱為「第2比較例之基板處理裝置」)。上述所謂正常之輝點位置，係指假設為處理液由吐出噴頭正常吐出之情況、於檢查圖像上之輝點的位置，可根據基板處理裝置之設計數據等藉計算求得。然而，於第2比較例之基板處理裝置中，即使在因吐出噴頭於製造時之公差(例如，於吐出噴頭31製造時，吐出口之容許範圍內的位置偏差)，而於檢查圖像上發生輝點之位置偏差的情況，仍有視為傾斜吐出而判定為吐出不良的可能性。又，即使在因光射出部或攝影部於設置時之容許範圍內的位置偏差或方向偏差等，而於檢查圖像上發生輝點之位置偏差的情況，仍有視為傾斜吐出而判定為吐出不良的可能性。原本，此種輝點的位置偏差，並非因傾斜吐出所造成，故不應判定為吐出不良。
對此，於圖17所示基板處理裝置1a，係在實際製造之基板處理裝置1a中，取得對應至正常吐出狀態的參照圖像732。因此，參照圖像732中之輝點，係位於反映了上述吐出噴頭31於製造時之公差或光射出部51及攝影部52於設置時之公差等影響的位置。因此，在根據參照圖像732與檢查圖像8a間之差判定吐出動作良否時，上述般之因公差等所造成之輝點81的位置偏差並未被視為差而檢測出，可防止因該公差等所造成之錯誤判定(例如，判定為傾斜吐出)。
於第2比較例之基板處理裝置，亦可考慮在視計算求得正常之輝點位置後，修正上述各種公差。然而，為了進行該修正，必須取得對應至正常吐出狀態的圖像，由設計數據等藉計算算出與所求得輝點位置間之差並進行修正，故為了準備吐出檢查將產生許多作業。對此，在圖17所示之基板處理裝置1a，僅藉由取得對應至正常吐 出狀態之圖像，以該圖像作為參照圖像732並記憶於參照圖像記憶記731即完成上述準備作業。如此，基板處理裝置1a可使吐出檢查之準備作業簡化。
於基板處理裝置1a中，如上述，求得檢查圖像8a上之1個輝點81、與參照圖像732中對應至該1個輝點81的輝點間的距離。然後，在該距離大於既定距離時，判定於對應至上述輝點81之吐出口，發生了傾斜吐出之吐出不良。如此，藉由判定來自吐出口之處理液吐出方向是否在容許範圍內或容許範圍外，可精確度良好地檢測出傾斜吐出之吐出不良。又，上述既定距離係隨著輝點81由攝影部52遠離而變小，故可依更高精確度檢測傾斜吐出之吐出不良。
如上述，於基板處理裝置1a之吐出檢查部5中，攝影部52之攝影方向係相對於與來自吐出噴頭31之處理液之既定吐出方向垂直之平面呈傾斜。藉此，攝影部52不配置於吐出口正下方，可藉攝影部52確實取得包含有對應至來自所有吐出口314a~314d之液滴的輝點81的檢查圖像8a。進而，可抑制於檢查圖像8a上複數個輝點81彼此重疊。其結果，可提升複數個吐出口314a~314d的吐出動作良否判定精確度。此種吐出檢查部5的構造，特別適合於具有彼此平行排列之複數個吐出口列的吐出噴頭的吐出動作良否判定。
如上述，於吐出檢查部5中，光存在面係相對於與處理液之既定吐出方向垂直之平面呈傾斜。藉此，可抑制於檢查圖像8a上複數個輝點81彼此重疊。其結果，可更加提升複數個吐出口314a~314d的吐出動作良否判定精確度。此種吐出檢查部5的構造，亦特別適合於具有彼此平行排列之複數個吐出口列的吐出噴頭的吐出動作良否判定。
吐出噴頭31之複數個吐出口314a~314d，係如上述般，包含分別於排列方向上大致直線狀地延伸且排列在對排列方向呈傾斜之方向上的吐出口列313a~313d。因此，即使在1個吐出口列之端部的吐出口為不吐出的情況，在圖像偏差的檢測時，可防止在檢查圖像8a於不吐出之吐出口側僅由參照圖像732偏離了對應排列間隙之距離的位置上、判斷檢查圖像8a與參照圖像732之差為最小的情形。藉此，可精確度更佳地取得檢查圖像8a之圖像偏差量。
圖20為本發明第3實施形態之基板處理裝置1b的前視圖。圖21為基板處理裝置1b之俯視圖。於圖21中，係由圖20變更了基板處理裝置1b的方向。基板處理裝置1b係單片處理半導體基板9(以下有時簡稱為「基板9」)的單片式裝置。基板處理裝置1b係對基板9吐出液體而進行既定處理。本實施形態中，藉由於基板9上吐出洗淨液之液滴，進行由基板9去除微粒等之洗淨處理。
如圖20及圖21所示，基板處理裝置1b具備基板保持部21、杯部22、基板旋轉機構23、處理液供給部3、噴頭移動機構35、待機艙4、吐出檢查部5、腔室6、控制單元。腔室6係於內部空間60中收容基板保持部21、杯部22、基板旋轉機構23、處理液供給部3、噴頭移動機構35、待機艙4及吐出檢查部5等構成。腔室6係遮蔽光對內部空間60之入射的遮光腔室。圖20及圖21中，以虛線表示腔室6，圖示腔室6內部(圖37中亦相同)。
基板保持部21係於腔室6內依基板9一主面91(以下稱為「上表面91」)朝上側之狀態保持基板9。於基板9之上表面91，形成有電路圖案等細微圖案。杯部22係包圍基板9及基板保持部21之周圍的大致圓筒狀構件。基板旋轉機構23係配置於基板保持部21下 方。基板旋轉機構23係以通過基板9中心且垂直於基板9之上表面91的旋轉軸為中心，使基板9與基板保持部21一起於水平面內進行旋轉。
處理液供給部3係具備：屬於外部混合型之二流體噴嘴的吐出部34；對吐出部34供給處理液的處理液配管32；與對吐出部34供給壓縮空氣等氣體的氣體配管33。圖21中，省略了處理液配管32及氣體配管33之圖示。作為處理液，係利用純水(較佳為去離子水(DIW：deionized water))、碳酸水、氨水與過氧化氫水之混合液等液體。
吐出部34係以在上下方向延伸之中心軸J3為中心的大致圓柱狀。吐出部34係在杯部22中配置於基板保持部21上方。吐出部34之下表面，係位於杯部22之上部開口220、與基板9之上表面91之間。由吐出部34之下表面，朝下方之基板9吐出處理液，於基板9上進行上述洗淨處理。
圖22為表示吐出部34之下表面341的仰視圖。吐出部34之下表面341設有液體吐出口342、氣體吐出口343。液體吐出口342係以中心軸J3為中心的大致圓環狀且狹隙狀。氣體吐出口343亦為以中心軸J3為中心的大致圓環狀且狹隙狀。液體吐出口342位於氣體吐出口343的徑方向內側(亦即，較靠近中心軸J3側)。
於處理液供給部3中，係使由處理液配管32(參照圖20)供給至吐出部34的處理液由液體吐出口342吐出。又，由氣體配管33(參照圖20)供給至吐出部34的氣體，係由液體吐出口342周圍之氣體吐出口343所噴射。由氣體吐出口343所噴射之氣體，係藉由衝突至由液體吐出口342所吐出之處理液，而生成多數之處理液的液滴。該液滴係由吐出部34朝基板9以噴霧狀所噴射。由吐出部34朝下方噴射之液滴的分佈區域，係在垂直於中心軸J3的平面(亦即水平面) 上，以中心軸J3為中心的大致圓環狀。該液滴之分佈區域之內徑及外徑，係隨著由吐出部34朝下方遠離而變大。
如圖20及圖21所示，噴頭移動機構35係具備臂351、旋轉軸352、噴頭旋轉機構353、噴頭升降機構354。臂351係由旋轉軸352起朝水平方向延伸。於臂351之前端部，安裝有吐出部34。噴頭移動機構353係使吐出部34與臂351一起以旋轉軸352為中心於水平方向上旋轉移動。噴頭升降機構354係使吐出部34與臂351一起於上下方向移動。噴頭移動機構353係例如具備電動馬達。噴頭升降機構354係具備滾珠螺桿機構及電動馬達，可精密地定位吐出部34。噴頭升降機構354亦可具備氣壓缸。
圖23為表示控制單元7之機能的區塊圖。圖23中亦一併描繪了控制單元7以外的構成。控制單元7具備處理控制部71、檢查控制部72、與檢查演算部73。藉由處理控制部71，控制基板旋轉機構23、處理液供給部3、噴頭移動機構35等，而進行基板9的處理。藉由檢查控制部72，控制處理液供給部3、噴頭移動機構35及吐出檢查部5等，而進行來自吐出部34的處理液之吐出動作之檢查。檢查演算部73為吐出檢查部5的一部分，具備輪廓抽出部76、判定框設定部74、與判定部75。輪廓抽出部76、判定框設定部74及判定部75係利用於上述吐出動作的檢查。
於圖20及圖21所示之基板處理裝置1b中進行基板9之處理時，首先，基板9被搬入至腔室6內並由基板保持部21所保持。在基板9之搬入時，吐出部34係如圖21中二點鏈線所示般，在設於杯部22外側之待機艙4上之待機位置進行待機。圖24為將位於待機位置之吐出部34與待機艙4一起擴大顯示的側面圖。待機艙4為大致 直方體的容器，於上部設有開口。於待機位置，吐出部34之一部分經由上述開口而插入至待機艙4。又，以二點鏈線表示位於後述之檢查區域的吐出部34。如圖20及圖21所示，在藉基板保持部21保持基板9時，藉由處理控制部71(參照圖23)驅動基板旋轉機構23，開始基板9的旋轉。
接著，藉由處理控制部71，驅動噴頭旋轉機構353及噴頭升降機構354，使吐出部34由待機位置上升、移動至杯部22上方後再下降。藉此，吐出部34經由杯部22之上部開口220而移動至杯部22之內側及基板保持部21上方。接著，由吐出部34開始對基板9之上表面91吐出處理液(亦即，液滴的噴射)。
由吐出部34朝基板9所噴射的多數液滴，係衝突至基板9之上表面91。然後，附著於基板9上表面91之微粒等異物，藉由因處理液之液滴的衝突所造成之衝擊而由基板9上被去除。
於基板處理裝置1b中，係與處理液之吐出並行地進行由噴頭旋轉機構353所進行之吐出部34的旋轉移動。吐出部34係在旋轉中之基板9之中央部上方與基板9之外緣部上方之間，水平地重複來回移動。藉此，對基板9之上表面91全體進行洗淨處理。供於基板9之上表面91的處理液，係因基板9之旋轉而與被去除的異物一起移動到基板9的邊緣，且由基板9之邊緣飛散至外側。由基板9飛散之處理液係由杯部22所承接而予以廢棄或回收。
由來自吐出部34之處理液所進行之既定處理(亦即，基板9之洗淨處理)結束時，停止處理液的吐出。吐出部34係藉由噴頭升降機構354而上升至較杯部22之上部開口220更上側，藉噴頭旋轉機構353由基板9上方旋轉移動至待機艙4之上方的檢查位置。檢查 位置為上述待機位置之上方的位置。於該檢查位置，藉由吐出檢查部5，定期地、或視需要地進行來自吐出部34的處理液吐出動作的檢查。
圖25為表示於檢查位置之吐出部34、及配置於吐出部34周圍之吐出檢查部5的立體圖。吐出檢查部5具備光射出部51、與攝影部52。光射出部51及攝影部52係避開吐出部34正下方，配置於吐出部34之斜下方。光射出部51及攝影部52係如圖23所示般，由控制單元7之檢查控制部72所控制。
圖25所示之光射出部51具備光源、與使來自該光源之光轉換為於大致水平方向上延伸之線狀光的光學系統。作為光源，係利用例如雷射二極體或LED(light emitting diode)元件。光射出部51係沿著預先決定之屬於假想面的光存在面，朝吐出部34下方射出光。圖25中，以一點鏈線描繪光射出部51之光軸J1，以加註符號510之二點鏈線表示由光射出部51所射出之面狀的光之輪廓。
來自光射出部51之面狀光510，係於吐出部34之下表面341附近，通過吐出部34正下方。於基板處理裝置1b，由檢查控制部72對處理液供給部3送出既定之驅動信號，由吐出部34朝待機艙4(參照圖24)內部吐出處理液。然後，在屬於由位於檢查區域之吐出部34所吐出之處理液之複數個液滴即複數個飛翔體通過上述光存在面(亦即，通過面狀光510)時，由光射出部51對處理液(亦即，上述複數個飛翔體)照射光。面狀光510係與來自吐出部34之處理液之設計上的吐出方向(亦即，上下方向)呈約垂直。嚴格來說，面狀光510(亦即，光存在面)較佳係相對於與處理液之設計上之吐出方向呈垂直的平面，僅傾斜稍微角度(例如5°~10°)。
攝影部52係在較上述光存在面更靠下方，使攝影軸J2 朝向位於吐出部34下方之面狀光510而配置。攝影部52之攝影方向(亦即，攝影軸J2朝向之方向)，係相對於與處理液之設計上之吐出方向呈垂直的平面呈傾斜。作為攝影部52，係利用CCD(charge-coupled device)攝影機。攝影部52係藉由對通過面狀光510之處理液進行攝影，而取得包含在處理液(亦即，複數個飛翔體)上出現之複數個輝點所分佈之輝點分佈區域的檢查圖像。吐出檢查部5係由攝影部52所得的攝影結果，抽出1畫格的靜止畫面作為檢查圖像。
圖26為表示檢查圖像8b之圖。檢查圖像8b中，在大致楕圓環狀之輝點分佈區域83分佈省略圖示的複數個輝點。於圖26中，以粗實線表示輝點分佈區域83之外側輪廓831、832，對輝點分佈區域83加註平行斜線(圖27至圖36亦同樣)。以下說明中，將輝點分佈區域83之外側輪廓831稱為「外輪廓831」，將內側輪廓832稱為「內輪廓832」。外輪廓831及內輪廓832分別為大致楕圓狀。內輪廓832係位於外輪廓831內側。
外輪廓831及內輪廓832係由上述畫格圖像藉輪廓抽出部76所抽出。於輪廓抽出部76，對上述畫格圖像進行拉普拉斯處理而抽出輪廓成分(亦即，輪廓之候補)，依既定閾值進行2值化處理，藉此取得外輪廓831及內輪廓832。此時，作為上述閾值，係預先設定為不致檢測到背影之雜訊等、可確實抽出外輪廓831及內輪廓832的值。
於輪廓抽出部76，為了減低或防止輪廓抽出時之雜訊等的影響，較佳係在輪廓成分的抽出前，對畫格圖像進行平均化處理或中值濾波處理，藉此由畫格圖像而預先去除雜訊。又，在畫格圖像中設定含有輝點分佈區域83的監視區域，將監視區域外由輪廓抽出之對象區域予以排除亦較佳。藉此，可縮短由輪廓抽出部76進行之外輪廓 831及內輪廓832之抽出所需要的時間。其結果，可縮短吐出檢查部5進行之吐出動作良否判定所需時間。
由輪廓抽出部76進行之外輪廓831及內輪廓832的抽出，亦可藉由其他各種方法進行。例如，上述輪廓成分，亦可藉由對畫格圖像進行微分處理或索貝爾濾波(sobel filter)處理而抽出。又，外輪廓831及內輪廓832的抽出，亦可藉由將於畫格圖像上之輝點分佈區域83之輪廓上的複數個點，由作業者等人在畫面上等點擊而指示出，並將該複數個點連接而進行。換言之，外輪廓831及內輪廓832亦可由作業者所輸入。
接著，如圖27所示，在檢查圖像8b上藉由判定框設定部74(參照圖23)設定在檢查圖像8b上對應至輝點分佈區域83之外輪廓831的正常吐出判定框851、與對應至內輪廓832的正常吐出判定框852。於以下說明中，將正常吐出判定框851、852分別稱為「第1正常吐出判定框851」及「第2正常吐出判定框852」。
第1正常吐出判定框851及第2正常吐出判定框852，係分別為大致楕圓環狀。第2正常吐出判定框852係於第1正常吐出判定框851之徑方向內側、由第1正常吐出判定框851離開而配置。第2正常吐出判定框852之外緣，係位於較第1正常吐出判定框851之內緣更靠徑方向內側。第1正常吐出判定框851及第2正常吐出判定框852係分別表示，在由吐出部34朝設計上之吐出方向、或距該吐出方向依容許範圍內之偏差量稍微偏離的方向吐出處理液時，筒狀之噴霧狀之處理液的外側面及內側面所通過之面狀光510上的區域。
檢查圖像8b上之第1正常吐出判定框851及第2正常吐出判定框852的位置，係例如根據外輪廓831及輪廓832之設計上 的位置(以下稱為「設計輪廓位置」)所求得。設計輪廓位置係根據檢查位置之吐出部34之設計位置及方向、吐出部34之下表面341之液體吐出口342及氣體吐出口343的形狀及位置、設計上之處理液的吐出方向及噴霧狀之處理液之擴展、面狀光510之位置、以及攝影部52之位置及方向，作成為在基板處理裝置1b中所設定之3維座標系統上的位置所求得。換言之，係根據吐出部34、光射出部51及攝影部52之相對位置，求得設計輪廓位置的座標。
接著，藉由使用視野轉換矩陣對設計輪廓位置的座標進行視野轉換，求得以攝影部52為原點之3維座標系統中之設計輪廓位置的座標。接著，藉由對經視野轉換之設計輪廓位置的座標進行透視投影轉換，而取得檢查圖像8b上之2維座標系統中之設計輪廓位置的座標。再者，基板處理裝置1b中，由於在攝影部52利用非遠心光學系統，故如上述般進行透視投影轉換；但在攝影部52利用遠心光學系統時，則藉由對經視野轉換之設計輪廓位置之座標進行正射影(亦稱為平行射影或平行投影)，取得檢查圖像8b上之設計輪廓位置的座標。
第1正常吐出判定框851係設定為在對應至外輪廓831之設計輪廓位置的內側及外側擴展的大致楕圓環狀的區域。第1正常吐出判定框851中，較對應至外輪廓831之設計輪廓位置更靠內側之部位的寬(亦即，徑方向之寬)，係與較該設計輪廓位置更靠外側之部位的寬約相等。第2正常吐出判定框852係設定為在對應至輪廓832之設計輪廓位置的內側及外側擴展的大致楕圓環狀的區域。第2正常吐出判定框852中，較對應至內輪廓832之設計輪廓位置更靠內側的部位的寬，係與較該設計輪廓位置更靠外側之部位的寬約相等。
如圖27所示，第1正常吐出判定框851與第2正常吐 出判定框852，係彼此不重疊地配置於檢查圖像8b上。再者，在檢查圖像8b上第1正常吐出判定框851與第2正常吐出判定框852重疊的情況下，係變更攝影部52之位置或方向、來自光射出部51之面狀光510的位置或方向等，重複第1正常吐出判定框851及第2正常吐出判定框852的設定，直到第1正常吐出判定框851與第2正常吐出判定框852彼此不重複為止。
在第1正常吐出判定框851與第2正常吐出判定框852之設定結束時，藉由判定部75(參照圖23)，取得第1正常吐出判定框851內之輝點分佈區域83之外輪廓831的存否資訊、亦即、表示於第1正常吐出判定框851內是否存在外輪廓831的資訊。於判定部75中，對外輪廓831進行逐線掃描(raster scan)等之通常的輪廓追蹤，取得外輪廓831與第1正常吐出判定框851的位置關係。然後，取得外輪廓831之全體存在於第1正常吐出判定框851內、或僅有外輪廓831之一部分存在於第1正常吐出判定框851內、或於第1正常吐出判定框851完全不存在外輪廓831等的存否資訊。
又，藉由判定部75，取得第2正常吐出判定框852內之輝點分佈區域83之內輪廓832的存否資訊，亦即，表示於第2正常吐出判定框852內是否存在內輪廓832的資訊。於判定部75中，對內輪廓832進行逐線掃描等之通常的輪廓追蹤，取得內輪廓832與第2正常吐出判定框852的位置關係。然後，取得內輪廓832之全體存在於第2正常吐出判定框852內、或僅有內輪廓832之一部分存在於第2正常吐出判定框852內、或於第2正常吐出判定框852完全不存在內輪廓832等的存否資訊。
於檢查演算部73中，根據第1正常吐出判定框851內 之外輪廓831的存否資訊、及第2正常吐出判定框852內之內輪廓832的存否資訊，由判定部75判定吐出部34的吐出動作良否。關於藉由判定部75根據檢查圖像8b進行該吐出動作之良否判定的具體例，係一方面參照圖27至圖36一方面說明如下。
如圖27所示，在輝點分佈區域83之外輪廓831全體存在於第1正常吐出判定框851內、內輪廓832全體存在於第2正常吐出判定框852內的情況下，判定為吐出部34之處理液之吐出動作良好。另一方面，如圖28所示，在於第1正常吐出判定框851及第2正常吐出判定框852內不存在外輪廓831及內輪廓832，且於檢查圖像8b上之其他區域亦不存在外輪廓831及內輪廓832的情況，亦即，於檢查圖像8b上不存在輝點分佈區域83的情況，係判定為發生了由吐出部34不吐出處理液之不吐出的吐出不良。吐出不良的發生，係經由通知部79(參照圖23)通知作業者等。於以下各種吐出不良的情況，吐出不良的發生亦同樣地經由通知部79通知作業者等。
於圖29的情況下，輝點分佈區域83之外輪廓831之全體係存在於第1正常吐出判定框851內。然而，輝點分佈區域83之內輪廓832之一部分存在於較第2正常吐出判定框852更徑方向外側的區域，內輪廓832之其他一部分存在於較第2正常吐出判定框852更靠徑方向內側的區域。因此，判定發生了處理液之複數個液滴之分佈在周方向上較可容許程度更大幅地偏離的吐出不良。該吐出不良係發生在例如在來自液體吐出口342之處理液的吐出、或來自氣體吐出口343之氣體的噴出，於周方向上不均勻的情況(圖30的情況亦同樣)。
於圖30的情況下，輝點分佈區域83之內輪廓832之全體係存在於第2正常吐出判定框852內。然而，輝點分佈區域83之外 輪廓831之一部分存在於較第1正常吐出判定框851更徑方向外側的區域，外輪廓831之其他一部分存在於較第1正常吐出判定框851更靠徑方向內側的區域。因此，判定發生了處理液之複數個液滴之分佈在周方向上較可容許程度更大幅地偏離的吐出不良。
於圖31的情況下，輝點分佈區域83之外輪廓831之全體係存在於第1正常吐出判定框851內。然而，輝點分佈區域83之內輪廓832之一部分朝徑方向內側突出、且存在於較第2正常吐出判定框852更徑方向內側的區域。因此，判定發生了由吐出部34所噴出之一部分液滴、朝向與其他液滴大幅相異之方向飛翔的吐出不良。該吐出不良係發生在例如在來自液體吐出口342之處理液的吐出、或來自氣體吐出口343之氣體的噴出，於周方向之一部分上朝徑方向內側大幅傾斜而進行的情況(圖33的情況亦同樣)。
於圖32的情況下，輝點分佈區域83之內輪廓832之全體係存在於第2正常吐出判定框852內。然而，輝點分佈區域83之外輪廓831之一部分朝徑方向外側突出、且存在於較第1正常吐出判定框851更徑方向外側的區域。因此，判定發生了由吐出部34所噴出之一部分液滴、朝向與其他液滴大幅相異之方向飛翔的吐出不良。該吐出不良係發生在例如在來自液體吐出口342之處理液的吐出、或來自氣體吐出口343之氣體的噴出，於周方向之一部分上朝徑方向外側大幅傾斜而進行的情況(圖34的情況亦同樣)。
於圖33的情況下，輝點分佈區域83之外輪廓831之全體係存在於第1正常吐出判定框851內，且內輪廓832全體存在於第2正常吐出判定框852內。然而，存在有與該輝點分佈區域83離開之大致圓形的另一個輝點分佈區域830，且輝點分佈區域830之輪廓833 存在於較內輪廓832及第2正常吐出判定框852更徑方向內側。因此，判定發生了由吐出部34所噴出之一部分液滴、朝向與其他液滴大幅相異之方向飛翔的吐出不良。
於圖34的情況下，輝點分佈區域83之外輪廓831之全體係存在於第1正常吐出判定框851內，且內輪廓832全體存在於第2正常吐出判定框852內。然而，存在有與該輝點分佈區域83離開之大致圓形的另一個輝點分佈區域830，且輝點分佈區域830之輪廓833存在於較外輪廓831及第1正常吐出判定框851更徑方向外側。因此，判定發生了由吐出部34所噴出之一部分液滴、朝向與其他液滴大幅相異之方向飛翔的吐出不良。
於圖35的情況下，輝點分佈區域83之外輪廓831之全體係存在於第1正常吐出判定框851內，且內輪廓832全體存在於第2正常吐出判定框852內。然而，在輝點分佈區域83內，存在有不存在輝點之某程度尺寸之區域的非分佈區域84。非分佈區域84為大致圓形的區域，且非分佈區域84之輪廓841係存在於第1正常吐出判定框851與第2正常吐出判定框852之間的區域。因此，判定發生了液體吐出口342之一部分堵塞等、處理液之液滴應飛翔之區域之一部分中不存在液滴的吐出不良。
再者，即使在非分佈區域84之輪廓841全體存在於第1正常吐出判定框851內或與第2正常吐出判定框852內的情況下，亦較佳為由判定部75判定為吐出不良。此情況下，於吐出檢查部5，係在由輪廓抽出部76檢測到由外輪廓831及內輪廓832之雙方離開之其他輪廓時，由判定部75判斷為吐出不良。
於圖36的情況下，由於輝點分佈區域83之周方向之一 部分欠缺，故外輪廓831及內輪廓832均非大致楕圓環狀，而為大致楕圓弧狀。外輪廓831之兩端與內輪廓832之兩端分別由在大致徑方向上伸延之其他輪廓835所連接。如此，在外輪廓831及內輪廓832為非環狀之情況下，於判定部75，判定為發生了液體吐出口342之一部分堵塞等、於周方向之一部分不噴出液滴的吐出不良。圖36中，若將輪廓835作為外輪廓831之一部分，則外輪廓831之一部分位於較第1正常吐出判定框851更靠徑方向內側。又，若將輪廓835作為內輪廓832之一部分，則內輪廓832之一部分位於較第2正常吐出判定框852更靠徑方向外側。
然而，作為判定吐出部之吐出動作良否的吐出檢查部，可考慮取得與上述同樣之檢查圖像，測定檢查圖像上之輝點分佈區域之面積者。此種吐出檢查部(以下稱為「第3比較例之吐出檢查部」)中，若輝點分佈區域之面積約相等於所定面積，則判定吐出部之吐出動作良好。另一方面，在輝點分佈區域之面積較既定面積大至某程度以上時、或小至某程度以上時，則判定發生了吐出部之吐出不良。
然而，於第3比較例之吐出檢查部中，關於輝點分佈區域83之徑方向之寬於周方向為不均勻的吐出不良(參照圖29及圖30)、或輝點分佈區域83之一部分變形的吐出不良(參照圖31及圖32)等，在輝點分佈區域83之面積未大幅變化之前提下，並無法檢測出。又，即使在如圖33及圖34般存在另1個輝點分佈區域830的情況，若該另1個輝點分佈區域830的面積較小，亦無法檢測到吐出不良。又，即使在如圖35般，於輝點分佈區域83內存在非分佈區域84的情況下，若非分佈區域84較小，仍無法檢測到吐出不良。
對此，於基板處理裝置1b之吐出檢查部5，係藉由判定 框設定部74，在檢查圖像8b上設定分別對應至輝點分佈區域83之外輪廓831及內輪廓832的第1正常吐出判定框851與第2正常吐出判定框852。然後，藉由判定部75，取得第1正常吐出判定框851內之外輪廓831的存否資訊、及第2正常吐出判定框852內之內輪廓832的存否資訊，根據此等存否資訊判定吐出部34的吐出動作良否。藉此，可精確度良好地判定吐出部34的吐出動作良否。其結果，可抑制或防止因吐出不良而對基板9之處理所造成的不良影響。作為該不良影響，可認為有例如因處理液之部分性不吐出而使基板9之處理品質降低、因處理液之傾斜吐出而對基板9上之圖案造成損傷等。
另外，在吐出檢查部5中，如上述般，在於檢查圖像8b上存在外輪廓831及內輪廓832以外之輪廓情況下，判定為發生吐出不良。藉此，可精確度更佳地判定吐出部34之吐出動作良否。
吐出檢查部5中，攝影部52之攝影方向係相對於與來自吐出部34之處理液之設計上之吐出方向垂直的平面呈傾斜。藉此，攝影部52不配置在吐出口與下方，可藉攝影部52確實取得包括對應至來自所有吐出口314a~314d之液滴的輝點81的檢查圖像8b。又，於檢查圖像8b上，可抑制第1正常吐出判定框851與第2正常吐出判定框852彼此重疊。其結果，可提升吐出部34之吐出動作良否判定精確度。此種吐出檢查部5的構造，適合於在輝點分佈區域83內分佈多數輝點之屬於二流體噴嘴之吐出部34的吐出動作良否判定。尤其適合於液體吐出口342為大致圓環狀、輝點分佈區域83成為環狀的屬於二流體噴嘴之吐出部34的吐出動作良否判定。
如上述，於吐出檢查部5，光存在面係相對於與來自吐出部34之處理液之吐出方向為垂直之平面呈傾斜。藉此，可抑制在檢 查圖像8b上輝點分佈區域83內之複數個輝點彼此重疊。又，可抑制於檢查圖像8b上，第1正常吐出判定框851與第2正常吐出判定框852彼此重疊。其結果，可提升吐出部34的吐出動作的良否判定精確度。此種吐出檢查部5的構造，適合於在輝點分佈區域83內分佈多數輝點之屬於二流體噴嘴之吐出部34的吐出動作良否判定。尤其適合於液體吐出口342為大致圓環狀、輝點分佈區域83成為環狀的屬於二流體噴嘴之吐出部34的吐出動作良否判定。
於基板處理裝置1b中，在使吐出部34移動至檢查位置時，有由設計上之檢查位置稍微偏離而配置的可能性。若吐出部34之檢查位置偏離，則光射出部51及攝影部52相對於吐出部34的相對位置亦偏離。檢查圖像8b上之第1正常吐出判定框851與第2正常吐出判定框852的位置，係以吐出部34位於設計上之檢查位置為前提所設定。因此，若吐出部34之檢查位置偏離，則由吐出部34所噴射之處理液液滴所造成的輝點分佈區域83、與第1正常吐出判定框851與第2正常吐出判定框852在檢查圖像8b上的位置關係亦發生變化。其結果，即使處理液朝設計上之吐出方向正常吐出，仍有輝點分佈區域83之外輪廓831及內輪廓832位於第1正常吐出判定框851與第2正常吐出判定框852之外部、而判定為吐出異常的可能性。
因此，於基板處理裝置1b中，在有吐出部34之檢查位置偏離之虞的情況等之下，在由判定框設定部74設定第1正常吐出判定框851與第2正常吐出判定框852時，可根據檢查圖像8b上之輝點分佈區域83的實際位置，設定第1正常吐出判定框851與第2正常吐出判定框852。具體而言，係以使第1正常吐出判定框851與第2正常吐出判定框852之中心、與檢查圖像8b上之輝點分佈區域83之內輪 廓832之中心、或外輪廓831之中心一致的方式，設定第1正常吐出判定框851與第2正常吐出判定框852的位置。
如此，藉由根據輝點分佈區域83於檢查圖像8b上之位置，設定第1正常吐出判定框851與第2正常吐出判定框852之位置，即使是在吐出部34之檢查位置由設計上之檢查位置偏離之情況下，仍可高精確度地進行吐出部34之吐出動作良否判定。
圖37為本發明第4實施形態之基板處理裝置1c的前視圖。於基板處理裝置1c中，係取代圖20所示之吐出部34，設置與吐出部34構造相異的吐出部34a。基板處理裝置1c之其他構成係與圖20所示基板處理裝置1b同樣，於以下說明中，對對應的構成加註相同符號。
圖38為表示吐出部34a之下表面341的仰視圖。吐出部34a之下表面341設有大致圓形的吐出口346。於吐出部34a中，由處理液配管32(參照圖37)供給至吐出部34a的處理液係由吐出口346朝下方之基板9以柱狀被吐出。來自吐出部34a之處理液於設計上之吐出方向係平行於上下方向。
圖39為表示由吐出檢查部5之攝影部52(參照圖25)所取得的檢查圖像8d之圖。於檢查圖像8d中，在大致楕圓環狀之輝點分佈區域83a分佈省略圖示的複數個輝點。圖39中，以粗實線表示輝點分佈區域83a之輪廓836，對輝點分佈區域83a加註平行斜線(圖40至圖47亦同樣)。輝點分佈區域83a內之複數個輝點，係因由吐出部34a所吐出之柱狀之處理液所含有的多數氣泡，使來自光射出部51(參照圖25)之光發生亂反射而產生。輪廓836係藉由輪廓抽出部76(參照圖23)，依與上述外輪廓831及內輪廓832同樣的手法所抽出。
接著，如圖40所示，在檢查圖像8d上藉由判定框設定部74(參照圖23)設定對應至輝點分佈區域83a之輪廓836的正常吐出判定框853。正常吐出判定框853為大致楕圓環狀。正常吐出判定框853係表示，在由吐出部34a朝設計上之吐出方向、或距該吐出方向依容許範圍內之偏差量稍微偏離的方向吐出處理液之情況下，柱狀之處理液所通過之面狀光510上的區域。
檢查圖像8d上之正常吐出判定框853的位置，係例如根據輪廓836之設計上的位置(以下稱為「設計輪廓位置」)所求得。設計輪廓位置係根據檢查位置之吐出部34a之設計位置及方向、吐出部34a之下表面341之吐出口346的形狀及位置、設計上之處理液的吐出方向、面狀光510之位置、以及攝影部52之位置及方向，作成為在基板處理裝置1c中所設定之3維座標系統上的位置所求得。換言之，係根據吐出部34a、光射出部51及攝影部52之相對位置，求得設計輪廓位置的座標。
接著，藉由使用視野轉換矩陣對設計輪廓位置的座標進行視野轉換，求得以攝影部52為原點之3維座標系統中之設計輪廓位置的座標。接著，藉由對經視野轉換之設計輪廓位置的座標進行透視投影轉換，而取得檢查圖像8d上之2維座標系統中之設計輪廓位置的座標。再者，於基板處理裝置1c中，由於在攝影部52利用非遠心光學系統，故如上述般進行透視投影轉換；但在攝影部52利用遠心光學系統時，則藉由對經視野轉換之設計輪廓位置之座標進行正射影(亦稱為平行射影或平行投影)，取得檢查圖像8d上之設計輪廓位置的座標。
正常吐出判定框853係設定為在對應至輪廓836之設計輪廓位置的內側及外側擴展的大致楕圓環狀的區域。正常吐出判定框 853中，較對應至輪廓836之設計輪廓位置更靠內側之部位的寬(亦即，徑方向之寬)，係與較該設計輪廓位置更靠外側之部位的寬約相等。
若正常吐出判定框853之設定結束，則藉由判定部75(參照圖23)，取得正常吐出判定框853內之輝點分佈區域83a之輪廓836的存否資訊，亦即，表示正常吐出判定框853內是否存在輪廓836的資訊。於判定部75中，對輪廓836進行逐線掃描等之通常的輪廓追蹤，取得輪廓836與正常吐出判定框853的位置關係。然後，取得輪廓836之全體存在於正常吐出判定框853內、或僅有輪廓836之一部分存在於正常吐出判定框853內、或於正常吐出判定框853完全不存在輪廓836等的存否資訊。
於檢查演算部73中，根據正常吐出判定框853內之輪廓836的存否資訊，由判定判定部75判定吐出部34a的吐出動作良否。關於藉由判定部75根據檢查圖像8d進行該吐出動作之良否判定的具體例，係一方面參照圖40至圖47一方面說明如下。
如圖40所示，在輝點分佈區域83a之輪廓836全體存在於正常吐出判定框853內的情況，判定為吐出部34a之處理液之吐出動作良好。另一方面，如圖41所示，在於正常吐出判定框853內不存在輪廓836的情況，亦即，於檢查圖像8d上不存在輝點分佈區域83a的情況下，係判定為發生了由吐出部34a不吐出處理液之不吐出的吐出不良。吐出不良的發生，係經由通知部79(參照圖23)通知作業者等。於以下各種吐出不良的情況下亦同樣地，吐出不良的發生係經由通知部79通知作業者等。
於圖42的情況下，輝點分佈區域83a之輪廓836之一部分存在於較正常吐出判定框853更靠徑方向外側的區域，且輪廓836 之其他一部分存在於較正常吐出判定框853更靠徑方向內側的區域。因此，判定發生了處理液之吐出方向由設計上之吐出方向較可容許程度更大幅地偏離的傾斜吐出的吐出不良。該吐出不良係發生在例如於吐出口346附著異物而改變吐出方向的情況。
於圖43的情況下，輝點分佈區域83a之輪廓836之全體係存在於較正常吐出判定框853更靠徑方向內側的區域。因此，判定發生了柱狀之處理液較設計上之處理液更細的吐出不良。又，於圖44的情況下，輝點分佈區域83a之輪廓836之全體係存在於較正常吐出判定框853更靠徑方向外側的區域。因此，判定發生了柱狀之處理液較設計上之處理液更粗的吐出不良。
於圖45的情況，輝點分佈區域83a之輪廓836之一部分朝徑方向外側突出、存在於較正常吐出判定框853更靠徑方向外側的區域。又，於圖46的情況下，輝點分佈區域83a之輪廓836之全體雖存在於正常吐出判定框853內，但存在有與該輝點分佈區域83a離開之大致圓形的另一個輝點分佈區域830，輝點分佈區域830之輪廓833存在於較輪廓836及正常吐出判定框853更徑方向外側。於圖45及圖46的情況下，判定發生了由吐出部34a所吐出之處理液之一部分、朝向與其他處理液相異之方向吐出的吐出不良。
於圖47的情況下，輝點分佈區域83a之輪廓836之全體係存在於正常吐出判定框853內，但在輝點分佈區域83a內，存在有不存在輝點之某程度尺寸之區域的非分佈區域84。非分佈區域84為大致圓形的區域，非分佈區域84之輪廓841係存在於較正常吐出判定框853更靠徑方向內側的區域。因此，判定發生了吐出口346之一部分堵塞等、處理液之吐出區域之一部分中不存在處理液的吐出不良。
再者，即使在非分佈區域84之輪廓841全體存在於正常吐出判定框853內的情況下，較佳亦由判定部75判定為吐出不良。此情況下，於吐出檢查部5中，係在由輪廓抽出部76檢測到由輪廓836離開之其他輪廓時，由判定部75判斷為吐出不良。
然而，於上述比較例的吐出檢查部，關於因傾斜吐出而改變輝點分佈區域83a之位置的吐出不良(參照圖42)、或輝點分佈區域83a之一部分變形的吐出不良(參照圖45)等，在輝點分佈區域83a之面積未大幅變化之前提下，並無法檢測出。又，即使在如圖46般存在另1個輝點分佈區域830的情況下，若該另1個輝點分佈區域830的面積較小，亦無法檢測到吐出不良。又，即使在如圖47般，於輝點分佈區域83a內存在非分佈區域84的情況，若非分佈區域84較小，則無法檢測到吐出不良。
對此，於基板處理裝置1c之吐出檢查部5，係藉由判定框設定部74，在檢查圖像8d上設定對應至輝點分佈區域83a之輪廓836的正常吐出判定框853。然後，藉由判定部75，取得正常吐出判定框853內之輪廓836的存否資訊，根據此等存否資訊判定吐出部34a的吐出動作良否。藉此，可精確度良好地判定吐出部34a的吐出動作良否。其結果，可抑制或防止因吐出不良而對基板9之處理所造成的上述般之不良影響。
另外，在吐出檢查部5中，如上述般，係在於檢查圖像8d上存在輪廓836以外之輪廓時，判定為發生吐出不良。藉此，可精確度更佳地判定吐出部34a之吐出動作良否。
於吐出檢查部5中，攝影部52之攝影方向係相對於與來自吐出部34a之處理液之設計上之吐出方向垂直的平面呈傾斜。藉 此，攝影部52不配置在吐出口與下方，可藉攝影部52確實取得包括輪廓836的檢查圖像8d。進而，於檢查圖像8d上，可抑制輝點分佈區域83a內之複數個輝點彼此重疊。其結果，可提升吐出部34a之吐出動作良否判定精確度。
另外，於吐出檢查部5，光存在面係相對於與來自吐出部34a之處理液之吐出方向為垂直之平面呈傾斜。藉此，可抑制在檢查圖像8d上輝點分佈區域83a內之複數個輝點彼此重疊。其結果，可提升吐出部34a的吐出動作的良否判定精確度。
於基板處理裝置1c中，與基板處理裝置1b同樣地，在有吐出部34a之檢查位置偏離之虞的情況等之下，在由判定框設定部74設定正常吐出判定框853時，可根據檢查圖像8d上之輝點分佈區域83a的實際位置，設定正常吐出判定框853之位置。具體而言，例如以使正常吐出判定框853之中心、與檢查圖像8d上之輝點分佈區域83a之輪廓836之中心一致的方式，設定正常吐出判定框853的位置。
如此，藉由根據輝點分佈區域83a於檢查圖像8d上之位置，設定正常吐出判定框853之位置，即使是在吐出部34a之檢查位置由設計上之檢查位置偏離，仍可高精確度地進行吐出部34a之吐出動作良否判定。但是，先前使用圖42所說明之進行傾斜吐出檢測的情況並不限定於此。
上述基板處理裝置1~1c中，可進行各種變更。
圖1所示之基板處理裝置1的吐出檢查部5中，在藉判定框設定部74於修正完成檢查圖像8c設定吐出判定框之情況下，雖必定設定正常吐出判定框85，但正常吐出判定框85以外之吐出判定框並不一定需要設定。於該吐出檢查部5中，根據參照圖像732及檢查 圖像8進行圖像偏差之修正後所進行的吐出動作良否判定，並不一定限定於利用上述正常吐出判定框85或差分圖像82者，而可藉由各種方法進行。
在關於圖1及圖17所示之基板處理裝置1、1a的上述說明中，雖然由良否判定部752將處理液之不吐出或傾斜吐出判定為吐出不良，但其他之吐出動作亦可判定為吐出不良。例如，由吐出噴頭31所吐出之液滴有於飛翔中分裂而成為複數個極小液滴的可能性。此種極小液滴無法對基板9上之上表面91賦予充分的運動能量，有無法適當洗淨基板9的可能性。因此，此種極小液滴之吐出亦可判定為吐出口之吐出不良。在將極小液滴之吐出判定為吐出不良之情況下，於基板處理裝置1中，例如，於檢查圖像8中，將在正常吐出判定框85內檢測到1個輝點81的情形判定為正常吐出，將在正常吐出判定框85內檢測到複數個輝點81的情形判定為吐出不良。或者，於差分圖像82中，將在第1區域821附近檢測到較通常小之第3區域823的情形判定為吐出不良。於基板處理裝置1a中，係例如在差分圖像82a中，將在第1區域821附近檢測到較通常小之第3區域823的情形判定為吐出不良。
於圖17所示之基板處理裝置1a的判定部75的良否判定部752中，並不一定需要生成差分圖像82a，若為根據參照圖像732與檢查圖像8a之差判定複數個吐出口314a~314d的吐出動作良否者，則可依各種方法進行良否判定。
圖20所示之基板處理裝置1b中，亦可不利用第1正常吐出判定框851及第2正常吐出判定框852，進行吐出部34的吐出動作檢查。例如，亦可將上述檢查圖像8b與對應至正常吐出狀態之參照 圖像予以重疊比較，根據檢查圖像8b與參照圖像之差，判定吐出部34的吐出動作良否。再者，參照圖像係於基板處理裝置1b中，依由吐出部34正常吐出處理液的狀態，一方面由光射出部51射出面狀光510、一方面藉攝影部52所取得的圖像。在比較的結果，檢查圖像8b與參照圖像之差較大(亦即，兩圖像間一部分區域不重疊)時，判定吐出部34之吐出動作不良。
圖37所示之基板處理裝置1c中，亦同樣地可不利用正常吐出判定框853，進行吐出部34a的吐出動作檢查。例如，將上述檢查圖像8d與對應至正常吐出狀態之參照圖像予以重疊比較，根據檢查圖像8d與參照圖像的差，判定吐出部34a之吐出動作良否。
於圖20所示之基板處理裝置1b中，亦可利用各種構造之二流體噴嘴作為吐出部34。例如，於圖22所示之吐出部34的下表面341，液體吐出口342亦可為大致圓形。或者，不僅是在大致圓環狀之液體吐出口342之徑方向外側，於徑方向內側亦可設置氣體吐出口。此情況下，設於液體吐出口342之徑方向內側的氣體吐出口，可為大致圓形，亦可為大致圓環狀且狹隙狀。作為吐出口34而被利用的二流體噴嘴，亦可為內部混合型的二流體噴嘴。
於基板處理裝置1~1c之光射出部51中，並不一定需要面狀地射出光，而亦可沿著光存在面由光射出部51射出朝前方直線狀延伸之光，該光係沿著光存在面藉由多邊形鏡等掃描手段所掃描。藉此，在由複數個吐出口314a~314d所吐出之處理液的複數個飛翔體通過光存在面時，光照射至該複數個飛翔體。又，光存在面可與來自吐出噴頭31之處理液於設計上之吐出方向呈垂直，攝影部52之攝影方向亦可平行於與該設計上之吐出方向垂直的平面。
基板處理裝置1~1c之光射出部51及攝影部52，亦可配置於吐出噴頭31之斜下方以外的位置，例如吐出噴頭31之斜上方。上述檢查區域，亦可設定於待機艙4之上方以外的區域。此時，光射出部51及攝影部52係配置於該檢查區域附近。
基板處理裝置1、1a之吐出噴頭31的複數個吐出口，並不一定需要包含彼此平行排列的複數個吐出口。又，使吐出噴頭31在基板9上方與檢查區域之間移動的噴頭移動機構，並不一定必須為使吐出噴頭31旋轉移動的機構，亦可為例如使吐出噴頭31直線移動的機構。
基板處理裝置1~1c亦可利用於基板9之洗淨以外的各種處理。又，基板處理裝置1~1c亦可利用於半導體基板以外，例如液晶顯示裝置、電漿顯示器、FED(field emission display)等之顯示裝置所使用的玻璃基板的處理。或者，基板處理裝置1亦可利用於光碟用基板、磁碟用基板、光磁碟用基板、光罩用基板、陶瓷用基板及太陽電池用基板等的處理。
上述具備光射出部51、攝影部52、參照圖像記憶部731及判定部75的裝置，亦可使用作為由基板處理裝置1~1c之其他構成獨立出來的吐出檢查裝置。該吐出檢查裝置，係例如於對上述各種基板由複數個吐出口吐出液體的裝置中，利用於來自複數個吐出口之液體的吐出動作檢查。
上述實施形態及各變形例的構成，在不彼此矛盾的前提下，可予以適當組合。
以上雖詳細說明了本發明，但上述說明為例示、並非限定。因此，在不脫離本發明範圍之前提下，亦可為多種變形或態樣。

Claims (41)

  1. 一種基板處理裝置，其具備有：基板保持部，其保持基板；吐出噴頭，其在上述基板上方自複數個吐出口朝向上述基板吐出液體，而對上述基板進行既定之處理；噴頭移動機構，其使上述吐出噴頭自上述基板上方而朝向檢查區域進行移動；及吐出檢查裝置，其檢查來自上述吐出噴頭之上述複數個吐出口之液體的吐出動作；上述吐出檢查裝置係具備有：光射出部，其藉由沿著預先決定之光存在面將光加以射出，而在複數個飛翔體通過上述光存在面之時，對上述複數個飛翔體照射光，該複數個飛翔體係為自位在上述檢查區域之上述吐出噴頭之上述複數個吐出口而被吐出之液體；攝影部，其藉由拍攝通過上述光存在面之上述複數個飛翔體，而取得含有在上述複數個飛翔體上所出現之複數個輝點的檢查圖像；參照圖像記憶部，其在來自位在上述檢查區域內之既定設計檢查位置之上述吐出噴頭之上述複數個吐出口而以正常之方式將液體加以吐出之狀態下，一方面自上述光射出部射出光，一方面記憶藉由上述攝影部所取得之圖像即參照圖像；及判定部，其根據上述參照圖像及上述檢查圖像，針對上述檢查圖像之相對於上述參照圖像之相對偏差進行修正，而加以判定在上述複數個吐出口之吐出動作的良否，該相對偏差係根據取得上述檢查圖像時之上述吐出噴頭之位置與上述設計檢查位置的差異。
  2. 如申請專利範圍第1項之基板處理裝置，其中，根據上述參照圖像與上述檢查圖像，將上述吐出噴頭朝向上述設計檢查位置進行移動之後，自上述複數個吐出口將液體加以吐出，而再取得含有在通過上述光存在面之複數個飛翔體上所出現之複數個輝點的檢查圖像，藉此進行藉由上述判定部所進行之上述相對偏差的修正；上述判定部係根據再取得之上述檢查圖像而加以判定在上述複數個吐出口之吐出動作的良否。
  3. 如申請專利範圍第2項之基板處理裝置，其中，上述複數個吐出口係包含有複數個吐出口列，該等吐出口列係為分別於吐出口排列方向上以呈直線狀之方式加以排列之吐出口的集合；且上述複數個吐出口列係相對上述吐出口排列方向而排列於呈傾斜的方向。
  4. 如申請專利範圍第3項之基板處理裝置，其中，藉由上述噴頭移動機構，使上述吐出噴頭以既定之旋轉軸為中心進行旋轉，而藉此在上述基板之上方與上述檢查區域之間移動。
  5. 如申請專利範圍第4項之基板處理裝置，其中，上述攝影部的攝影方向係相對於與上述複數個飛翔體之既定吐出方向產生垂直之平面而呈傾斜。
  6. 如申請專利範圍第5項之基板處理裝置，其中，上述光存在面係相對於與上述複數個飛翔體之既定吐出方向產生垂直之平面而呈傾斜。
  7. 如申請專利範圍第1項之基板處理裝置，其中，上述複數個吐出口係包含有複數個吐出口列，該等吐出口列係為分別於吐出口排列方向上以呈直線狀之方式加以排列之吐出口的集合； 上述複數個吐出口列係相對上述吐出口排列方向而排列於呈傾斜的方向。
  8. 如申請專利範圍第7項之基板處理裝置，其中，藉由上述噴頭移動機構，使上述吐出噴頭以既定之旋轉軸為中心進行旋轉，而藉此在上述基板之上方與上述檢查區域之間移動。
  9. 如申請專利範圍第8項之基板處理裝置，其中，上述攝影部的攝影方向係相對於與上述複數個飛翔體之既定吐出方向產生垂直之平面而呈傾斜。
  10. 如申請專利範圍第9項之基板處理裝置，其中，上述光存在面係相對於與上述複數個飛翔體之既定吐出方向產生垂直之平面而呈傾斜。
  11. 如申請專利範圍第1項之基板處理裝置，其中，藉由上述噴頭移動機構，使上述吐出噴頭以既定之旋轉軸為中心進行旋轉，而藉此在上述基板之上方與上述檢查區域之間移動。
  12. 如申請專利範圍第11項之基板處理裝置，其中，上述攝影部的攝影方向係相對於與上述複數個飛翔體之既定吐出方向產生垂直之平面而呈傾斜。
  13. 如申請專利範圍第12項之基板處理裝置，其中，上述光存在面係相對於與上述複數個飛翔體之既定吐出方向產生垂直之平面而呈傾斜。
  14. 如申請專利範圍第1項之基板處理裝置，其中，上述攝影部的攝影方向係相對於與上述複數個飛翔體之既定吐出方向產生垂直之平面而呈傾斜。
  15. 如申請專利範圍第14項之基板處理裝置，其中，上述光存在 面係相對於與上述複數個飛翔體之既定吐出方向產生垂直之平面而呈傾斜。
  16. 如申請專利範圍第1項之基板處理裝置，其中，上述光存在面係相對於與上述複數個飛翔體之既定吐出方向產生垂直之平面而呈傾斜。
  17. 如申請專利範圍第1至16項中任一項之基板處理裝置，其中，上述吐出檢查裝置係更進一步具備有判定框設定部，該判定框設定部係在上述檢查圖像上設定對應於上述複數個吐出口之複數個正常吐出判定框；上述判定部係在修正上述檢查圖像之上述偏差之後，取得在各正常吐出判定框內之輝點的存否資訊，根據上述存否資訊而加以判定在對應至上述各正常吐出判定框之吐出口之吐出動作的良否。
  18. 如申請專利範圍第1至16項中任一項之基板處理裝置，其中，上述判定部係在修正上述檢查圖像之上述偏差之後，根據上述參照圖像與上述檢查圖像的差異，而加以判定在上述複數個吐出口之各別之吐出動作的良否。
  19. 一種吐出檢查裝置，其為檢查來自複數個吐出口之液體之吐出動作者，其具備有：光射出部，其藉由沿著預先決定之光存在面將面狀光加以射出，而在複數個飛翔體通過上述光存在面之時，對上述複數個飛翔體照射光，該複數個飛翔體係為自複數個吐出口而被吐出之液體；攝影部，其藉由拍攝通過上述光存在面之上述複數個飛翔體，而取得含有在上述複數個飛翔體上所出現之複數個輝點的檢查圖像；參照圖像記憶部，其在自上述複數個吐出口而以正常之方式將液 體加以吐出之狀態下，一方面自上述光射出部射出光，一方面記憶藉由上述攝影部所取得之圖像即參照圖像；及判定部，其根據上述參照圖像與上述檢查圖像的差異，加以判定在上述複數個吐出口之吐出動作的良否；上述攝影部的攝影方向係相對於與上述複數個飛翔體之既定吐出方向產生垂直之平面而呈傾斜。
  20. 如申請專利範圍第19項之吐出檢查裝置，其中，上述檢查圖像係為1畫格之靜止畫面。
  21. 一種吐出檢查裝置，其為檢查來自複數個吐出口之液體之吐出動作者，其具備有：光射出部，其藉由沿著預先決定之光存在面將面狀光加以射出，而在複數個飛翔體通過上述光存在面之時，對上述複數個飛翔體照射光，該複數個飛翔體係為自複數個吐出口而被吐出之液體；攝影部，其藉由拍攝通過上述光存在面之上述複數個飛翔體，而取得含有在上述複數個飛翔體上所出現之複數個輝點的檢查圖像；參照圖像記憶部，其在自上述複數個吐出口而以正常之方式將液體加以吐出之狀態下，一方面自上述光射出部射出光，一方面記憶藉由上述攝影部所取得之圖像即參照圖像；及判定部，其根據上述參照圖像與上述檢查圖像的差異，加以判定在上述複數個吐出口之吐出動作的良否；上述光存在面係相對於與上述複數個飛翔體之既定吐出方向產生垂直之平面而呈傾斜。
  22. 如申請專利範圍第21項之吐出檢查裝置，其中，上述檢查圖像係為1畫格之靜止畫面。
  23. 一種吐出檢查裝置，其為檢查來自複數個吐出口之液體之吐出動作者，其具備有：光射出部，其藉由沿著預先決定之光存在面將面狀光加以射出，而在複數個飛翔體通過上述光存在面之時，對上述複數個飛翔體照射光，該複數個飛翔體係為自複數個吐出口而被吐出之液體；攝影部，其藉由拍攝通過上述光存在面之上述複數個飛翔體，而取得含有在上述複數個飛翔體上所出現之複數個輝點之作為1畫格之靜止畫面的檢查圖像；參照圖像記憶部，其在自上述複數個吐出口而以正常之方式將液體加以吐出之狀態下，一方面自上述光射出部射出光，一方面記憶藉由上述攝影部所取得之圖像即參照圖像；及判定部，其根據上述參照圖像與上述檢查圖像的差異，加以判定在上述複數個吐出口之吐出動作的良否。
  24. 如申請專利範圍第19至23項中任一項之吐出檢查裝置，其中，藉由對上述檢查圖像進行2值化處理，來抽出上述複數個輝點。
  25. 如申請專利範圍第19至23項中任一項之吐出檢查裝置，其中，上述複數個吐出口係包含有複數個吐出口列，該等吐出口列係為分別於吐出口排列方向上以呈直線狀之方式加以排列之吐出口的集合；且上述複數個吐出口列係相對上述吐出口排列方向而排列於呈傾斜的方向。
  26. 如申請專利範圍第19至23項中任一項之吐出檢查裝置，其中，上述判定部係在上述檢查圖像中之一輝點與在上述參照圖像中 對應於上述一輝點之輝點之間的距離為大於既定距離之情況下，而判定為在對應於上述一輝點之吐出口，發生有傾斜吐出。
  27. 一種基板處理裝置，其具備有：基板保持部，其保持基板；吐出噴頭，其自複數個吐出口朝向上述基板吐出液體，而對上述基板進行既定之處理；及吐出檢查裝置，其檢查來自上述吐出噴頭之上述複數個吐出口之液體的吐出動作；上述吐出檢查裝置係具備有：光射出部，其藉由沿著預先決定之光存在面將光加以射出，而在複數個飛翔體通過上述光存在面之時，對上述複數個飛翔體照射光，該複數個飛翔體係為自複數個吐出口而被吐出之液體；攝影部，其藉由拍攝通過上述光存在面之上述複數個飛翔體，而取得含有在上述複數個飛翔體上所出現之複數個輝點的檢查圖像；參照圖像記憶部，其在自上述複數個吐出口而以正常之方式將液體加以吐出之狀態下，一方面自上述光射出部射出光，一方面記憶藉由上述攝影部所取得之圖像即參照圖像；及判定部，其根據上述參照圖像與上述檢查圖像的差異，加以判定在上述複數個吐出口之吐出動作的良否。
  28. 一種基板處理裝置，其具備有：基板保持部，其保持基板；吐出部，其朝向上述基板吐出液體，而對上述基板進行既定之處理；及吐出檢查裝置，其檢查來自上述吐出部之液體的吐出動作； 上述吐出檢查裝置係具備有：光射出部，其藉由沿著預先決定之光存在面將光加以射出，在自上述吐出部而被吐出之液體通過上述光存在面之時，對上述液體照射光；攝影部，其藉由拍攝通過上述光存在面之上述液體，而取得含有在上述液體上所出現之複數個輝點的檢查圖像；及判定部，其根據上述檢查圖像，加以判定在上述吐出部之吐出動作的良否。
  29. 如申請專利範圍第28項之基板處理裝置，其中，更進一步具備有在上述檢查圖像上設定正常吐出判定框之判定框設定部；上述判定部係取得在上述正常吐出判定框內之上述輝點分佈區域之輪廓的存否資訊，根據上述存否資訊而加以判定在上述吐出部之吐出動作的良否。
  30. 如申請專利範圍第29項之基板處理裝置，其中，上述吐出部係為噴射出使氣體對上述液體產生衝突而生成之上述液體之液滴的二流體噴嘴。
  31. 如申請專利範圍第30項之基板處理裝置，其中，上述液體吐出口係為圓環狀且為狹隙狀，且上述輝點分佈區域係為環狀。
  32. 如申請專利範圍第31項之基板處理裝置，其中，上述攝影部的攝影方向係相對於與上述液體之吐出方向產生垂直之平面而呈傾斜。
  33. 如申請專利範圍第29項之基板處理裝置，其中，上述吐出部係自吐出口將液體以呈柱狀之方式加以吐出； 上述輝點分佈區域為橢圓狀。
  34. 如申請專利範圍第33項之基板處理裝置，其中，上述攝影部的攝影方向係相對於與上述液體之吐出方向產生垂直之平面而呈傾斜。
  35. 如申請專利範圍第28項之基板處理裝置，其中，上述吐出部係為噴射出使氣體對上述液體產生衝突而生成之上述液體之液滴的二流體噴嘴。
  36. 如申請專利範圍第35項之基板處理裝置，其中，上述液體吐出口係為圓環狀且為狹隙狀，且上述輝點分佈區域係為環狀。
  37. 如申請專利範圍第36項之基板處理裝置，其中，上述攝影部的攝影方向係相對於與上述液體之吐出方向產生垂直之平面而呈傾斜。
  38. 如申請專利範圍第28項之基板處理裝置，其中，上述吐出部係自吐出口將液體以呈柱狀之方式加以吐出，且上述輝點分佈區域係為橢圓狀。
  39. 如申請專利範圍第38項之基板處理裝置，其中，上述攝影部的攝影方向係相對於與上述液體之吐出方向產生垂直之平面而呈傾斜。
  40. 如申請專利範圍第28項之基板處理裝置，其中，上述攝影部的攝影方向係相對於與上述液體之吐出方向產生垂直之平面而呈傾斜。
  41. 如申請專利範圍第28至40項中任一項之基板處理裝置，其中，上述光存在面係相對於與上述液體之吐出方向產生垂直之平面 而呈傾斜。
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