KR101642463B1 - 반도체 제조 공정에 있어서 이동 노즐의 정상 동작 확인 장치 - Google Patents

반도체 제조 공정에 있어서 이동 노즐의 정상 동작 확인 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은, 공정 대상인 웨이퍼를 지지하는 지지대; 상기 지지대에 설치되며, 토출 위치로 이동하는 이동 노즐; 상기 이동 노즐을 이동 시키는 이송 모듈; 상기 이동 노즐을 향해 배치되어서, 이동 노즐 이미지를 획득하는 카메라 모듈; 표준 정보를 저장하는 메모리; 및 상기 이동 노즐 이미지와 상기 표준 정보를 분석하여 상기 이동 노즐의 위치 및 상기 이동 노즐의 토출 높이를 확인하는 제어부를 포함하는, 반도체 제조 공정에 있어서 이동 노즐의 정상 동작 확인 장치에 관한 것이다.

Description

반도체 제조 공정에 있어서 이동 노즐의 정상 동작 확인 장치{DEVICE FOR VERIFYING NORMAL OPERATION OF MOVING NOZZLE IN SEMICONDUCTOR PRODUCING PROCESS}
본 발명은, 반도체 제조 공정에 있어서 이동 노즐의 정상 동작 확인 장치에 관한 것이다.
반도체 소자의 제조 공정은 다수의 다양한 프로세스를 통해 이루어지게 된다. 이중에서도, 약액을 토출하여 반도체 소자를 세정하거나, 화학처리하는 공정이 있으며, 이러한 공정에는 고정 노즐 방식과 이동 노즐 방식이 있다.
이동 노즐 방식의 경우, 약액을 웨이퍼상에 토츨할 때, 정위치, 정높이, 그리고, 정상적으로 약액을 토출하여야 공정 에러가 발생하지 않는다.
그런데, 반도체 공정에서 이동 노즐을 교체하거나, 타부품을 교체 수리하는 이유로 하여 노즐의 토출 위치 및 높이가 변경되면, 반도체 소자의 생산 수율이 매우 나빠지게 되는 문제점 있다.
본 발명은 상술한 목적을 해결하기 위해, 카메라 모듈을 이용하여 이동 노즐이 정상적으로 위치하여 정상적으로 토출하는지를 확인할 수 있는, 반도체 제조 공정에 있어서 이동 노즐의 정상 동작 확인 장치를 제공하기 위한 것이다.
상술한 과제를 해결하기 위하여 안출된 본 발명의 일실시예인 반도체 제조 공정에 있어서 이동 노즐의 정상 동작 확인 장치는, 공정 대상인 웨이퍼를 지지하는 지지대; 상기 지지대 상에 설치되며, 토출 위치로 이동하는 이동 노즐; 상기 이동 노즐을 이동 시키는 이송 모듈; 상기 이동 노즐을 향해 배치되어서, 이동 노즐 이미지를 획득하는 카메라 모듈; 표준 정보를 저장하는 메모리; 및 상기 이동 노즐 이미지와 상기 표준 정보를 분석하여 상기 이동 노즐의 위치 및 상기 이동 노즐의 토출 높이를 확인하는 제어부를 포함할 수 있다.
여기서, 상기 제어부는, 상기 이동 노즐의 위치를 확인한 후, 약액을 토출하는 이동 노즐의 토출 높이를 확인할 수 있다.
여기서, 상기 표준 정보는 상기 이동 노즐의 위치를 확인하기 위한 제 1 영역 정보를 포함하고, 상기 제어부는, 상기 이동 노즐 이미지 중 상기 제 1 영역 정보에 해당하는 제 1 영역에 이동 노즐이 위치하는지를 확인할 수 있다.
여기서, 상기 표준 정보는, 상기 이동 노즐의 높이를 확인하기 위한 제 2 영역 정보를 포함하고, 상기 제어부는, 상기 이동 노즐 이미지 중 중 상기 제 2 영역 정보에 해당하는 제 2 영역을 설정하고, 상기 제 2 영역에서 상기 이동노즐로부터 토출되는 약액이 있는지를 확인할 수 있다.
여기서, 상기 표준 정보는, 상기 제 2 영역내에 설정된 기준점에서의 표준 픽셀 정보를 포함하고, 상기 제어부는, 상기 이동 노즐 이미지 상기 기준점에서의 제 1 픽셀 정보를 획득하고, 상기 표준 픽셀 정보와 비교하여, 상기 약액이 정상 토출되는지를 확인할 수 있다.
여기서, 상기 이동 노즐 이미지는 제 1 기준시간의 정지 이미지인 제 1 토출 이미지와 제 2 기준 시간의 정지 이미지인 제 2 토출 이미지를 포함하고, 상기 제어부는, 상기 제 1 토출 이미지와 상기 제 2 토출 이미지를 비교하여, 상기 이동 노즐에서 약액이 토출되는 위치 및 상기 이동 노즐의 토출 높이의 변동을 확인할 수 있다.
여기서, 상기 제어부는, 상기 제 1 토출 이미지의 기준점에서의 제1 픽셀 정보와, 상기 제 2 토출 이미지의 기준점에서의 제 2 픽셀 정보를 비교하여, 약액의 정상 토출 여부를 확인할 수 있다.
상술한 구성을 가진 본 발명의 일실시예에 따르면, 이동 노즐의 위치 뿐 아니라 이동노즐에서 토출하는 약액의 토출 높이도 노즐의 정상 동작 유무를 확인하는 기준으로 삼기 때문에, 즉, 2 단계로 이동 노즐의 정위치에 존재하는지를 확인하기 때문에 이동 노즐의 정상 동작 여부를 보다 정확하게 판단할 수 있다.
또한, 이동 노즐에서 토출되는 약액의 상태를 히스토그램과 같은 기준선에서의 픽셀 정보를 이용하여 확인함으로써, 약액의 토출 상태를 보다 더 용이하고 정확하게 파악할 수 있게 된다.
도 1은, 본 발명의 일실시예인 반도체 제조 공정에 있어서 이동 노즐의 정상 동작 확인 장치의 동작 개념을 설명하기 위한 도면.
도 2는, 본 발명의 일실시예인 반도체 제조 공정에 있어서 이동 노즐의 정상 동작 확인 장치에서, 이동 노즐의 위치와 이동노즐의 토출 높이를 확인하는 방법을 설명하기 위한 도면.
도 3은, 본 발명의 일실시예인 반도체 제조 공정에 있어서 이동 노즐의 정상 동작 확인 장치의 전자적인 구성을 설명하기 위한 블록 구성도.
도 4는, 본 발명의 일실시예인 반도체 제조 공정에 있어서 이동 노즐의 정상 동작 확인 장치 중 웨이퍼 위치 오차 인식 방법을 설명하기 위한 흐름도.
도 5는, 본 발명의 일실시예인 반도체 제조 공정에 있어서 이동 노즐의 정상 동작 확인 장치의 동작의 제 1 실시예를 설명하기 위한 흐름도.
도 6은, 본 발명의 일실시예인 반도체 제조 공정에 있어서 이동 노즐의 정상 동작 확인 장치의 동작의 제 2 실시예를 설명하기 위한 흐름도.
이하, 본 발명의 일실시예인 반도체 제조 공정에 있어서 이동 노즐의 정상 동작 확인 장치에 대하여 도면을 참조하여 보다 상세하게 설명한다.
도 1은, 본 발명의 일실시예인 반도체 제조 공정에 있어서 이동 노즐의 정상 동작 확인 장치의 동작 개념을 설명하기 위한 도면이다. 도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예인 반도체 제조 공정에 있어서 이동 노즐의 정상 동작 확인 장치(100)는, 지지대(110), 이동 노즐(120), 카메라 모듈(140)을 포함하여 구성될 수 있다.
지지대(110)는, 공정의 대상이 되는 웨이퍼(W)가 그 위에 올려지며, 웨이퍼(W)를 지지하는 구성요소이다.
이동 노즐(120)은 지지대(110) 위에 놓이 웨이퍼(W)에 약액을 토출하는 구성요소이다. 보다 구체적으로 설명하면, 이동 노즐(120)은, 이송 모듈(130:도 3 참조)에 의해 연장 방향으로 이동하거나, 회전 방향으로 이동하거나 상하 방향으로 이동되어서, 약액을 타겟 위치에 정확하게 토출하기 위한 구성요소이다. 이 이동 노즐(120)은 토출 위치에 정치해야할 뿐 아니라, 토출 위치에서 정량의 약액을 토출하여야 한다.
카메라 모듈(140)은 상기 이송 노즐을 향해 배치되어서, 이동 노즐 이미지를 획득하는 구성요소이다. 카메라 모듈(140)은 정지 이미지 뿐 아니라 동영상 이미지도 획득할 수 있게 구성되어서, 제어부(160)는 정지 이미지를 통해 이동 노즐(120)이 정위치에 정상적으로 동작하는지를 확인할 뿐 아니라, 이동 노즐(120)에서 토출되는 토출량이 정상적인지를 확인하게 되고, 더욱이, 공정 에러 발생시 동영상 이미지를 통해 실제 어떤 문제가 있었는지를 확인하게 된다. 이에 대해서는 도 3 및 도 4에서 보다 상세하게 설명하도록 한다.
도 2는, 본 발명의 일실시예인 반도체 제조 공정에 있어서 이동 노즐의 정상 동작 확인 장치에서, 이동 노즐의 위치와 이동 노즐의 토출 높이를 확인하는 방법을 설명하기 위한 이미지도이다. 도 2에 도시된 바와 같이, 이동 노즐(120)은 연장방향, 회전 방향, 및 상하방향으로 이동가능하게 구성될 수 있다. 반도체 제조 공정이 개시되면, 웨이퍼(W)가 지지대(110)에 정위치하고, 이 정위치가 확인되면, 이동 노즐(120)을 설정된 토출위치로 이동하게 된다. 이동이 완료되면, 카메라 모듈(140)은, 토출위치에 놓인 이동 노즐(120)에 대하여 촬상을 하여 이동 노즐 이미지를 획득한다. 이 때, 이 이동 노즐 이미지는 이동 노즐(120)이 정상 위치에 놓였을 때의 이미지이거나 또는 이동 노즐(120)이 정상 위치에 놓인 후, 약액이 토출될 때의 이미지를 의미한다.
이 때. 이동 노즐 이미지에는, 토출되는 약액의 토출선(L)과, 웨이퍼(W) 상의 타겟 위치(T)그리고 제 1 영역(A)와 제 2 영역(B)이 포함될 수 있다.
도 2에 도시된 바와 같이, 이동 노즐 이미지에는 2개의 영역, 즉 제 1 영역(A)과 제 2 영역(B)을 포함할 수 있다. 제 1 영역(A)은 이동 노즐(120)이 정위치에 있는지를 확인하기 위한 영역이고, 제 2 영역(B)은 이동 노즐(120)의 토출 높이가 정상 위치 인지를 확인하기 위한 영역이다. 즉, 제어부(160)는, 제 1 영역(A)에 이동 노즐(120)이 위치하는지를 확인하고, 제 2 영역(B)에는 이동 노즐(120)이 위치하지 않으면서 약액이 정상 토출하는지를 확인하게 된다. 즉, 이미지 전체를 분석하는 것이 아니라 설정된 제 1 영역(A)에서는, "이동 노즐(120)이 있는지" 제 2 영역(B)에서는 "약액이 정상 높이에서 정상적으로 토출되는지"를 확인하기 때문에, 이미지 처리가 편리하게 되고, 이동 노즐(120)의 동작을 2단계의 단순화된 이미지 처리로 정상여부를 확인할 수 있게 된다.
도시된 바와 같이, 제 2 영역에 이동 노즐(120)이 확인되지 않으면서, 제 2 영역(B) 중 상단 영역(B1)부터 약액의 토출의 개시가 확인되어야 한다. 상기 상단 영역(B1)에서 약액 토출의 개시가 확인되지 않으면, 이동 노즐(120)은 정상 위치에 있다 하더라도, 토출 높이가 정상 높이보다 높은 곳에서 토출이 이루어지므로, 수율이 낮아지게 된다. 또한, 제 1 영역(A) 뿐 아니라 제 2 영역(B)에서도 이동 노즐(120)의 일부가 확인되게 되면, 토출 높이가 정상 높이보다 낮은 곳에서 이루어짐을 알 수 있게 된다.
한편, 제 2 영역(B)에서 토출되는 약액이 타겟위치(T)에 토출되는 경우, 약액이 정상적으로 토출하는지 여부를 제 2 영역(B)에 대한 분석을 통해 확인할 수 있다. 이에 대해서는 도 3 및 4를 참조하여 보다 상세하게 설명하도록 한다.
도 3은, 본 발명의 일실시예인 반도체 제조 공정에 있어서 이동 노즐(120)의 정상 동작 확인 장치(100)의 전자적인 구성을 설명하기 위한 블록 구성도이다. 도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예인 반도체 제조 공정에 있어서 이동 노즐의 정상 동작 확인 장치(100)는, 이동 노즐(120), 이송 모듈(130), 카메라 모듈(140), 메모리(150) 및 제어부(160)를 포함하여 구성될 수 있다.
여기서, 이동 노즐(120), 이송 모듈(130), 및 카메라 모듈(140)의 동작에 대해서는 이미 설명하였으므로, 발명의 설명의 간략화를 위하여 이에 대한 설명은 생략하도록 한다.
메모리(150)에는 표준 정보가 저장되어 있다. 이 표준 정보는 상기 이동 노즐(120)이 정위치에 있는지, 그리고 토출 높이가 정상 높이인지를 확인하기 위한 정보가 포함되어 있다. 즉, 표준 정보는 상기 이동 노즐(120)의 위치를 확인하기 위한 제 1 영역 정보와, 상기 이동 노즐(120)의 높이를 확인하기 위한 제 2 영역 정보와, 제 2 영역내의 기준점에서의 픽셀 정보를 포함할 수 있다. 여기서의 픽셀 정보는 설정된 소정 길이의 연속적인 밝기 정보인 히스토그램 정보일 수 있다.
제어부(160)는, 상기 이동 노즐 이미지와 상기 표준 정보를 분석하여 상기 이동 노즐(120)의 위치 및 상기 이동 노즐(120)의 토출 높이를 확인하는 기능을 한다. 보다 구체적으로 설명하면, 제어부(160)는, 상기 이동 노즐 이미지 중 제 1 영역 정보에 해당하는 제 1 영역에 이동 노즐(120)이 위치하는지를 확인하고, 상기 이동 노즐 이미지 중 상기 제 2 영역 정보에 해당하는 제 2 영역을 설정하고, 상기 제 2 영역에서 상기 이동 노즐(120)로부터 토출되는 약액이 있는지를 확인하는 기능을 한다. 또한, 이동 노즐(120)에서 토출되는 약액이 정상인지 여부를 확인하기 위하여, 상기 이동 노즐 이미지 상기 기준점에서의 제 1 픽셀 정보를 획득하고, 상기 표준 픽셀 정보와 비교하여, 상기 약액이 정상 토출되는지를 확인하는지를 확인할 수 있게 된다.
한편, 카메라 모듈(140)은 제 1 기준시간에 정지이미지(제 1 토출 이미지)와 제 2 기준 시간의 정지 이미지(제 2 토출 이미지)를 획득하고, 제어부(160)는, 상기 제 1 토출 이미지와 상기 제 2 토출 이미지를 비교하여, 상기 이동 노즐(120)에서 약액이 토출되는 위치 및 상기 이동 노즐(120)의 토출 높이의 변동을 확인할 수 있다. 여기서, 제어부(160)는, 상기 제 1 토출 이미지의 기준점에서의 제 1 픽셀 정보와, 상기 제 2 토출 이미지의 기준점에서의 제 2 픽셀 정보를 비교하여, 약액의 정상 토출 여부를 확인하게 된다.
한편 본 발명의 일실시예인 정상 동작 확인 장치는 웨이퍼의 작업 위치가 정상 위치에 놓인지를 확인하는 기능도 구비한다.이에 대해서는 도 4를 통해 보다 상세하게 설명하도록 한다.
도 4는 본 발명의 일실시예인 반도체 제조 공정에 있어서 이동 노즐의 정상 동작 확인 장치중 웨이퍼 위치 오차 인식 방법을 설명하기 위한 흐름도이다. 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예인 정상 동작 확인 장치는, 우선 웨이퍼가 정상 위치에 놓여져 있는지를 확인하게 된다. 먼저, 방사형 보드를 이용하는 캘리브레이션 파라미터 추출하여 맵핑함수를 구하는 단계(S1), 맵핑함수와 검사 대상영상을 처리하여 검사대상웨이퍼의 중심점을 획득하는 검사대상영상처리 단계(S2) 및 캘리브레이션 추출과정에서 획득된 방사형 보드의 중심점으로부터 검사대상영상처리단계에서 획득한 검사대상 웨이퍼의 중심점의 이탈 값을 산출하는 단계(S3)를 포함한다.
이동 노즐의 정상 동작 확인 장치에서의 웨이퍼 위치 오차 인식 방법을 설명하면, 이동 노즐의 정상 동작 확인 장치가 시작되면, 카메라 모듈(140)은 등록된 캘리브레이션 파라미터가 있는 지를 확인하여 등록된 캘리브레이션 파라미터가 없으면, 다음에 더욱 상세하게 설명되는 바와 같이 캘리브레이션 파라미터를 추출하여 맵핑함수를 구한다(S1).
그 다음, 웨이퍼진입센서(도시되지 않음)를 통하여 웨이퍼(W)의 진입이 있는지를 판단한다(S2). 이때, 웨이퍼(W)의 진입이 없으면 카메라 모듈(140)은 대기하고, 웨이퍼 (W)의 진입이 있으면 다음에 더욱 상세하게 설명되는 바와 같이 검사 대상 영상처리를 수행한다(S3).
그 다음, 카메라 모듈(140)은 방사형 보드의 중심점으로부터 검사대상 웨이퍼의 중심점의 이탈 값을 구하여(S4), 그 결과를 제어부(160)로 보낸다. 이에 따라, 제어부(160)는 방사형 보드의 중심점으로부터 검사대상 웨이퍼의 중심점의 이탈 값이 웨이퍼(W)가 허용오차 이상의 위치를 이탈 하였는지를 판단한다(S5). 이때, 웨이퍼(W)가 허용오차 이상의 위치를 이탈하였으면 제어부(30)는 이송로봇 제어부(도시되지 않음)로 작업정지 신호를 송출한다(S6). 이에 따라, 이송로봇 제어부는 이송로봇의 작업을 정지한다.
반면에, 웨이퍼(W)가 허용오차 이상의 위치를 이탈하지 안했으면, 제어부(160)는 웨이퍼진입센서를 통하여 새로운 웨이퍼(W)가 진입하는지를 판단한다(S7). 이때, 새로운 웨이퍼(W)의 진입이 없으면 제어부(160)는 검사할 웨이퍼가 없는 지를 판단하여(S8), 더 이상 검사해야 할 웨이퍼가 없으면 종료하고 검사해야 할 웨이퍼가 있으면 S7 단계로 회귀 및 그 이후의 단계를 수행한다. 반면에, 새로운 웨이퍼(W)의 진입이 있으면 제어부(160)는 카메라 모듈(140)에 검사대상 영상처리 및 그 이후의 단계를 수행하도록 하는 제어신호를 제공한다. 이에 따라, 카메라 모듈(140)는 S3 및 S4 단계를 수행하게 된다.
다음으로, 제어부(160)에 의한 이동 노즐의 분사 방법에 대한 동작을 도 5를 통해 보다 상세하게 설명하도록 한다.
도 5는, 본 발명의 일실시예인 반도체 제조 공정에 있어서 이동 노즐의 정상 동작 확인 장치의 동작의 제 1 실시예를 설명하기 위한 흐름도이다. 도 5에 도시된 바와 같이, 우선 공정 대상이 되는 웨이퍼(W)는 지지대(110)에 정위치하고, 그 다음 이동 노즐(120)이 이동하여 토출위치에 놓이게 된다(S11). 그 다음, 카메라 모듈(140)을 통해 이동 노즐 이미지를 획득한 후, 메모리(150)의 표준정보에 포함되어 있는 제 1 영역 정보를 이용하여, 이동 노즐(120)이 제 1 영역(제 1 위치)에 있는지를 확인한다(S13). 만약 제 1 영역에 이동 노즐(120)이 위치하고 있지 않으면, 에러 처리하게 된다(S20). 만약, 제 1 영역에 이동 노즐(120)이 있다면, 이동 노즐(120)은 정상 토출 위치에 있음이 확인되는 것이다. 즉, 도 1 및 도 2에서 보면, 이동 노즐(120)이 정상적으로 회전 및 연장 방향 이동을 하여 토출위치에 이동하게 되는 것이다. 그 다음, 제 2 영역에 토출이 이루어지는지를 확인하여 이동 노즐(120)의 토출 높이를 확인한다(S15). 만약, 제 2 영역에서 약액 토출을 확인하지 못하면, 에러 처리하게 된다(S10). 그 다음, 이동 노즐 이미지 중 제 2 영역을 분석하여, 토출하는 약액의 픽셀 정보(밝기 히스토그램 정보)가 표준 정보의 표준 픽셀 정보와 매칭이 되는지 여부를 확인한다(S17). 즉, 제어부(160)는 약액이 토출되는 선 중 하나의 기준점에서 일정한 거리를 내의 픽셀 정보, 즉 히스토그램 정보를 획득한 후, 이를 표준 픽셀 정보와 비교하여 약액 토출이 정상적으로 이루어지는지를 확인한다. 이와 유사하게, 2개의 이동 노즐 이미지를 비교하여 정상적으로 약액이 토출되는지를 확인할 수도 있다. 즉, 이동 노즐 이미지를 두 개 획득하고, 시간적으로 우선한 제 1 토출 이미지와 시간적으로 뒤에 있는 상기 제 2 토출 이미지를 비교하여, 상기 제 1 토출 이미지의 기준점에서의 제1 픽셀 정보와, 상기 제 2 토출 이미지의 기준점에서의 제 2 픽셀 정보를 비교하여, 약액의 정상 토출 여부를 확인할 수 있다.
또한 이와 같이, 제 1 토출 이미지와 제 2 토출 이미지를 이용하여 상기 이동 노즐(120)에서 약액이 토출되는 위치 및 상기 이동 노즐(120)의 토출 높이의 변동을 확인할 수도 있다.
이와 같은 3가지 조건을 모두 만족하는 경우, 이동 노즐(120)이 정상적으로 동작한다고 판단한다(S19).
본 발명에서는, 발명의 명확한 설명을 위하여 S3, S5, S7의 순으로 진행하나, 이 순서는 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상적인 지식을 가지는 자에게 변경가능함이 이해되어야 할 것이다.
한편, 카메라 모듈은 동영상 이미지도 촬영가능하다. 이에 따라, 제어부는 카메라 모듈은 동영상 촬영을 계속하도록 하면서, 상기와 같이 에러가 발생된 경우, 에러 발생의 공정 정보와 시간 정보를 추출한다. 그리고, 동영상 정보중 상기 공정 정보와 시간 정보에 매칭되는 동영상 정보를 추출하여 공정 에러의 원인을 파악할 수 있게 된다. 즉, 이동 노즐의 에러가 발생한 경우, 이 때의 이미지 정보에 포함되어 있는 시간 정보와 공정 정보를 이용하여 공정 에러 발생시의 상황의 동영상 정보를 용이하게 추출할 수 있게 된다.
도 6은, 본 발명의 일실시예인 반도체 제조 공정에 있어서 이동 노즐의 정상 동작 확인 장치의 동작의 제 2 실시예를 설명하기 위한 흐름도이다. 우선, 웨이퍼가 공정이 진행되는 챔버내에 정위치하게 된다(S21). 그 다음, 이동 노즐을 구동하여 스캔 동작을 실행한다. 이 때, 카메라 모듈은 스캔 동작을 하는 이동 노즐에 대하여 촬영을 하게 되고, 이에 따라 제어부는 궤적 정보를 획득하게 된다(S22). 이와 같은 스캔 동작 및 궤적정보 획득 동작이 완료된 후, 정상적인 이동 노즐의 동작이 실행된다(S23). 이와 같은 정상적인 이동 노즐 동작이 실행될 때, 상기 궤적정보를 이용하여 제어부는, 이동 노즐이 정상 궤적을 따라 이동하는지를 확인하게 된다(S24). 만약 실제 궤적이 상기 궤적 정보와 이격되어 소정값 이상 이탈하게 되는 경우, 에러 정보를 생성하게 된다(S25). 만약 실제 궤적인 상기 궤적 정보와 매칭이 되는 경우, 정상 동작으로 확인하게 된다(S26).
상술한 구성을 가진 본 발명의 일실시예에 따르면, 이동 노즐의 위치 뿐 아니라 이동노즐에서 토출하는 약액의 토출 높이도 노즐의 정상 동작 유무를 확인하는 기준으로 삼기 때문에, 즉, 2 단계로 이동 노즐의 정위치에 존재하는지를 확인하기 때문에 이동 노즐의 정상 동작 여부를 보다 정확하게 판단할 수 있다.
또한, 이동 노즐에서 토출되는 약액의 상태를 히스토그램과 같은 기준선에서의 픽셀 정보를 이용하여 확인함으로써, 약액의 토출 상태를 보다 더 용이하고 정확하게 파악할 수 있게 된다.
상기와 같이 설명된 반도체 제조 공정에 있어서 이동 노즐의 정상 동작 확인 장치는 상기 설명된 실시예들의 구성과 방법이 한정되게 적용될 수 있는 것이 아니라, 상기 실시예들은 다양한 변형이 이루어질 수 있도록 각 실시예들의 전부 또는 일부가 선택적으로 조합되어 구성될 수도 있다.
100 : 이동 노즐의 정상 동작 확인 장치
110 : 지지대
120 : 이동 노즐
130 : 이송 모듈
140 : 카메라 모듈
150 : 메모리
160 : 제어부

Claims (8)

  1. 공정 대상인 웨이퍼를 지지하는 지지대;
    상기 지지대에 설치되며, 토출 위치로 이동하는 이동 노즐;
    상기 이동 노즐을 이동 시키는 이송 모듈;
    상기 이동 노즐을 향해 배치되어서, 이동 노즐 이미지를 획득하고, 상기 웨이퍼에 대한 검사 대상 영상을 생성하는 카메라 모듈;
    상기 이동 노즐의 위치를 확인하기 위한 제 1 영역 정보와 상기 이동 노즐의 높이 및 약액 토출 상태를 확인하기 위한 제 2 영역 정보 및 상기 제 2 영역 정보내에 설정된 기준점에서의 표준 픽셀정보를 포함하는 표준 정보를 저장하는 메모리; 및
    상기 이동 노즐이 스캔 동작됨에 따라 상기 카메라 모듈이 스캔 동작중인 상기 이동 노즐을 촬영하여 궤적 정보를 획득하고, 상기 스캔 동작 후, 상기 이동 노즐이 정상 동작될 때 상기 궤적 정보를 이용하여 상기 이동 노즐이 정상 궤적을 따라 정상 이동하는지를 확인하고, 상기 이동 노즐 이미지 중 상기 제 1 영역에 이동 노즐이 위치하는지를 확인하여 상기 이동 노즐이 정상 위치에 있는지 확인하고, 상기 제 2 영역 중 상단부에서 상기 약액의 도출이 개시되는지를 확인하여 토출 높이를 확인하고, 상기 이동 노즐 이미지 중 상기 기준점에서의 제 1 픽셀정보를 획득하고, 상기 표준 픽셀 정보와 비교하여 상기 제 2 영역에서 토출되는 약액이 정상적으로 토출하는지 여부를 확인하는 제어부를 포함하는, 반도체 제조 공정에 있어서 이동 노즐의 정상 동작 확인 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제어부는,
    상기 이동 노즐의 위치를 확인한 후, 약액을 토출하는 이동 노즐의 토출 높이를 확인하는, 반도체 제조 공정에 있어서 이동 노즐의 정상 동작 확인 장치.
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 표준 정보는, 상기 제 2 영역내에 설정된 기준점에서의 표준 픽셀 정보를 포함하고,
    상기 제어부는,
    상기 이동 노즐 이미지 상기 기준점에서의 제 1 픽셀 정보를 획득하고, 상기 표준 픽셀 정보와 비교하여, 상기 약액이 정상 토출되는지를 확인하는, 반도체 제조 공정에 있어서 이동 노즐의 정상 동작 확인 장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 이동 노즐 이미지는 제 1 기준시간의 정지 이미지인 제 1 토출 이미지와 제 2 기준 시간의 정지 이미지인 제 2 토출 이미지를 포함하고,
    상기 제어부는,
    상기 제 1 토출 이미지와 상기 제 2 토출 이미지를 비교하여, 상기 이동 노즐에서 약액이 토출되는 위치 및 상기 이동 노즐의 토출 높이의 변동을 확인하는, 반도체 제조 공정에 있어서 이동 노즐의 정상 동작 확인 장치.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 제어부는,
    상기 제 1 토출 이미지의 기준점에서의 제1 픽셀 정보와, 상기 제 2 토출 이미지의 기준점에서의 제 2 픽셀 정보를 비교하여, 약액의 정상 토출 여부를 확인하는, 반도체 제조 공정에 있어서 이동 노즐의 정상 동작 확인 장치.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 제어부는,
    방사형 보드를 이용하는 칼리브레이션 파라미터를 추출하여 맴핑함수를 구하고, 맵핑 함수와 상기 검사 대상 영상을 처리하여 상기 웨이퍼의 중심점을 획득한 후, 상기 방사형 보드의 중심점과 상기 웨이퍼의 중심점과의 이탈값을 산출한 후, 상기 이탈값이 허용오차범위에 있는지 여부에 기초하여 웨이퍼가 정상 위치에 있는지 확인하는, 반도체 제조 공정에 있어서 이동 노즐의 정상 동작 확인 장치.
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