TWI620985B - 感光性組成物及圖案狀透明體 - Google Patents

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Abstract

本發明為一種感光性組成物及使用其的圖案狀透明體,所述感光性組成物含有:鹼可溶性聚合物(A)、多官能環氧化合物(B)、具有聚合性雙鍵的化合物(C)、光聚合起始劑(D)、1,2-醌二疊氮化合物(E)、及溶劑(F)。此處,鹼可溶性聚合物(A)是使含有具有羧基的自由基聚合性單體(a1)與其他自由基聚合性單體(a2)的自由基聚合性單體混合物聚合而獲得,但具有羧基的自由基聚合性單體(a1)與其他自由基聚合性單體(a2)均不具有環氧基或氧雜環丁基。

Description

感光性組成物及圖案狀透明體
本發明涉及一種感光性組成物、及由所述組成物製造的圖案狀透明體,所述感光性組成物用以製造液晶顯示元件、有機電場發光元件、觸控面板等中所使用的圖案狀透明體。
圖案狀透明體已被用於間隔件(spacer)、層間絕緣膜、保護膜等液晶顯示元件的多個部分、以及觸控面板的絕緣膜中,迄今為止,在所述用途中已提出有多種感光性組成物(例如,參照專利文獻1)。特別是近年來,因對高精細顯示器或移動用顯示器、及搭載於所述顯示器的觸控面板的需求不斷提高,從而要求可形成直徑10μm以下的小的圖案、且根據用途而控制圖案形狀。
在液晶顯示元件、有機電場發光顯示元件、及觸控面板的生產中,在使用光的平行度差的曝光機(例如,近接式曝光(proximity exposure)機)的情況下,存在與罩幕尺寸相比圖案尺寸變大(圖案變粗)的缺點,因此難以形成小的圖案。另外,在高感度的感光性組成物中,所述傾向更為顯著,且存在非常難以使高感度與小的圖案並存的問題。
以前,在使用光的平行度差的曝光機的情況下,為了形成圖案尺寸的大小大致與罩幕尺寸相同的圖案狀透明體,而提出有在聚醯胺酸酯中混合萘醌二疊氮(naphthoquinone diazide)化合物及光聚合起始劑而成的負型感光性樹脂組成物(例如,參照專利文獻2)、以及在鹼可溶性聚合物中混合萘醌二疊氮化合物及光聚合起始劑而成的感光性組成物(例如,參照專利文獻3)。
所述在使用光的平行度差的曝光機的情況下,形成圖案尺寸的大小大致與罩幕尺寸相同的圖案狀透明體的以往方法中,專利文獻2所記載的組成物雖為高解析度,但感度低,因此不可以說是實用性的組成物。專利文獻3中所記載的組成物為高解析度且為高感度,但40℃以上的熱穩定性存在問題,若在元件的製造步驟中用於塗佈部與加熱部接近的裝置中,則產生塗佈液在傳送線待機時受到加熱、組成物在傳送線中發生變化的問題。
[現有技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2001-324809號
[專利文獻2]日本專利特開平06-130664號
[專利文獻3]日本專利特開2006-251009號
考慮所述狀況,而期望開發一種感光性組成物,所述感光性組成物在使用光的平行度差的曝光機的情況下,可形成與罩幕尺寸為大致相同大小的圖案狀透明體,且組成物可耐受40℃以上的保存或使用。
本發明者等人為了解決所述問題點而進行了各種研究,結果發現藉由含有如下成分的感光性組成物可達成所述目的,從而完成了本發明,所述成分為:使含有具有羧基的自由基聚合性單體與其他自由基聚合性單體的自由基聚合性單體混合物聚合而獲得的鹼可溶性聚合物、多官能環氧化合物、具有聚合性雙鍵的化合物、光聚合起始劑、1,2-醌二疊氮(quinone diazide)化合物、以及溶劑。
本發明具有以下的構成。
[1]一種感光性組成物,其含有:鹼可溶性聚合物(A)、多官能環氧化合物(B)、具有聚合性雙鍵的化合物(C)、光聚合起始劑(D)、1,2-醌二疊氮化合物(E)、及溶劑(F);鹼可溶性聚合物(A)是使含有具有羧基的自由基聚合性單體(a1)與其他自由基聚合性單體(a2)的自由基聚合性單體混合物聚合而獲得,且具有羧基的自由基聚合性單體(a1)與其他自由基聚合性單體(a2)均不具有環氧基或氧雜環丁基(oxetanyl)。
[2]根據[1]項所記載的感光性組成物,其中,鹼可溶性聚合物(A)是使自由基聚合性單體混合物聚合而獲得的共聚物,所述自由基聚合性單體混合物相對於具有羧基的自由基聚合性單體(a1)與其他自由基聚合性單體(a2)的總重量,含有10重量%~60重量%的具有羧基的自由基聚合性單體(a1)以及含有40重量%~90重量%的其他自由基聚合性單體(a2)。
[3]根據[1]項或[2]項所記載的感光性組成物,其中,具有羧基的自由基聚合性單體(a1)為選自丙烯酸與甲基丙烯酸中的至少一種。
[4]根據[1]項至[3]項中任一項所記載的感光性組成物,其中,其他自由基聚合性單體(a2)含有選自具有芳香環的(甲基)丙烯酸酯、具有二環戊基的(甲基)丙烯酸酯、具有二環戊烯基的(甲基)丙烯酸酯、及N-取代順丁烯二醯亞胺中的至少一種。
[5]根據[1]項至[4]項中任一項所記載的感光性組成物,其中,其他自由基聚合性單體(a2)相對於其他自由基聚合性單體(a2)的總重量,含有50重量%以上的選自(甲基)丙烯酸苄基酯、(甲基)丙烯酸二環戊基酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯基氧乙酯、N-苯基順丁烯二醯亞胺、及N-環己基順丁烯二醯亞胺中的至少一種。
[6]根據[1]項所記載的感光性組成物,其中,多官能環氧化合物(B)為選自縮水甘油醚型環氧化合物(Ba)、脂環式脂肪族環氧化合物(Bb)、及含環氧基的聚合物(Bc)中的至少一種;此處,含環氧基的聚合物(Bc)是使含有具有環氧基的自由基聚合性單體(b1)與其他自由基聚合性單體(b2)的自由基聚合性單體混合物聚合而獲得,且具有環氧基的自由基聚合性單體(b1)與其他自由基聚合性單體(b2)均不具有羧基。
[7]根據[6]項所記載的感光性組成物,其中,縮水甘油醚型環氧化合物(Ba)為選自1,3-雙[4-[1-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-1-[4-[1-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-1-甲基乙基]苯基]乙基]苯氧 基]-2-丙醇、及2-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-2-[4-[1,1-雙[4-([2,3-環氧丙氧基]苯基)]乙基]苯基]丙烷中的至少一種,脂環式脂肪族環氧化合物(Bb)為2,2-雙(羥基甲基)-1-丁醇的1,2-環氧-4-(2-氧雜環丙基(oxiranyl))環己烷加成物。
[8]根據[1]項所記載的感光性組成物,其中,具有聚合性雙鍵的化合物(C)相對於具有聚合性雙鍵的化合物(C)的總重量,含有50重量%以上的選自二季戊四醇六丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、及異氰脲酸(isocyanuric acid)環氧乙烷改性三丙烯酸酯中的至少一種。
[9]根據[8]項所記載的感光性組成物,其中,具有聚合性雙鍵的化合物(C)為選自二季戊四醇六丙烯酸酯與季戊四醇四丙烯酸酯中的至少一種。
[10]根據[1]項所記載的感光性組成物,其中,光聚合起始劑(D)相對於光聚合起始劑(D)的總重量而含有50重量%以上的下述式(D-1)所表示的化合物, 式中,R11、R12、R13分別獨立地為氫、碳數1~5的烷基、碳數2~5的烯基、或碳數2~5的炔基;R14為碳數1~15的烷基、碳數2~15的烯基、或碳數2~15的炔基,n分別獨立地為1~5的整數。
[11]根據[10]項所記載的感光性組成物,其中,式(D-1) 所表示的化合物為1,2-辛烷二酮-1-[4-(苯硫基)苯基]-2-(O-苯甲醯肟(benzoyloxime))。
[12]根據[1]項所記載的感光性組成物,其中,1,2-醌二疊氮化合物(E)為1,2-萘醌二疊氮磺酸酯。
[13]根據[12]項所記載的感光性組成物,其中,1,2-萘醌二疊氮磺酸酯為選自2,3,4-三羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯、及4,4'-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯中的至少一種。
[14]一種圖案狀透明體,其是使用根據[1]至[13]中任一項所述的感光性組成物而製造。
本發明的感光性組成物可耐受40℃以上的保存或使用,且即便在使用光的平行度差的曝光機的情況下,也可形成小的圖案。藉由本發明,提供一種感光性組成物,所述感光性組成物即便在使用近接式曝光機的情況下,也可形成與罩幕尺寸為大致相同大小的圖案狀透明體,且可耐受40℃以上的保存或使用。
本說明書中,所謂“圖案狀透明體”是指為整體膜狀、凹凸膜狀、開孔膜狀、突起狀、線狀等形狀,且波長400nm的光的透過率為80%以上的硬化物。
本說明書中,為了表示丙烯酸及甲基丙烯酸的一者或兩者而以“(甲基)丙烯酸”的方式進行表述。另外,同樣為了表示丙 烯酸酯及甲基丙烯酸酯的一者或兩者而以“(甲基)丙烯酸酯”的方式進行表述。
本說明書中,所謂“烯基”是具有雙鍵的直鏈或支鏈的烯基,具體而言可列舉:乙烯基、1-丙烯基、2-丙烯基、1-甲基乙烯基、1-丁烯基、2-丁烯基、3-丁烯基、2-甲基-2-丙烯基、1-戊烯基、2-戊烯基、4-戊烯基、3-甲基-2-丁烯基、1-己烯基、2-己烯基、1-庚烯基、2-庚烯基、1-辛烯基、2-辛烯基、1,3-辛二烯基、2-壬烯基、1,3-壬二烯基、及2-癸烯基。所謂“炔基”是具有三鍵的直鏈或支鏈的炔基,具體而言可列舉:乙炔基、1-丙炔基、2-丙炔基、1-丁炔基、2-丁炔基、3-丁炔基、1-戊炔基、2-戊炔基、4-戊炔基、1-辛炔基、6-甲基-1-庚炔基、及2-癸炔基。
<1.本發明的感光性組成物>
本發明的第1方面是有關於一種感光性組成物,所述感光性組成物含有鹼可溶性聚合物(A)、多官能環氧化合物(B)、具有聚合性雙鍵的化合物(C)、光聚合起始劑(D)、1,2-醌二疊氮化合物(E)、及溶劑(F)。
在本發明的含有鹼可溶性聚合物(A)、多官能環氧化合物(B)、具有聚合性雙鍵的化合物(C)、光聚合起始劑(D)、1,2-醌二疊氮化合物(E)、及溶劑(F)的感光性組成物中,鹼可溶性聚合物(A)、多官能環氧化合物(B)、具有聚合性雙鍵的化合物(C)、光聚合起始劑(D)、及1,2-醌二疊氮化合物(E)的重量比優選為相對於鹼可溶性聚合物(A)100重量份,多官能環氧化合物(B)為10重量份~150重量份,具有聚合性雙鍵的化合物(C)為40重量份~400重量份,光聚合起始劑(D)為2重量份~60 重量份,及1,2-醌二疊氮化合物(E)為0.1重量份~50重量份。另外,優選為在本發明的感光性組成物中,以固體成分濃度成為10重量%~50重量%的方式調配溶劑(F)。
本發明的感光性組成物並不特別受所述說明的限定,藉由使由照射紫外線所產生的兩種現象,即,(1)因由光聚合起始劑(D)所引起的具有聚合性雙鍵的化合物(C)的聚合而不溶於鹼的現象、與(2)1,2-醌二疊氮化合物(E)產生羧酸而可溶於鹼的現象良好地獲得平衡,而可消除圖案變粗且可獲得與罩幕尺寸為大致相同大小的圖案。為了使所述微妙的平衡顯現,重要的是使用具有特定結構的聚合物。
<1-1.鹼可溶性聚合物(A)>
如上所述,本發明中使用的鹼可溶性聚合物(A)是使自由基聚合性單體混合物聚合而獲得的共聚物,所述自由基聚合性單體混合物含有具有羧基的自由基聚合性單體(a1)(以下,有時稱為“成分(a1)”)、及可與自由基聚合性單體(a1)共聚的自由基聚合性單體(a1)以外的其他自由基聚合性單體(a2)(以下,有時稱為“成分(a2)”)。鹼可溶性聚合物(A)可為1種也可為2種以上。
在本發明的感光性組成物所含有的鹼可溶性聚合物(A)聚合時,相對於具有羧基的自由基聚合性單體(a1)與其他自由基聚合性單體(a2)的總重量,優選為使用10重量%~60重量%的具有羧基的自由基聚合性單體(a1)。若為所述範圍,則使用本發明的感光性組成物而製造的圖案狀透明體的圖案尺寸接近於罩幕尺寸。若所述單體的所述範圍為15重量%~40重量%,則在使 用本發明的感光性組成物而製造圖案狀透明體時感度高(藉由低照射量而可獲得所需的圖案狀透明體),因此進一步優選。
對於將鹼可溶性聚合物(A)添加於本發明的感光性組成物中的方法而言,可直接使用聚合反應後的溶液,也可使所述溶液濃縮後取出固體成分而僅添加固體成分。
<1-1-1.具有羧基的自由基聚合性單體(a1)>
鹼可溶性聚合物(A)所含有的具有羧基的自由基聚合性單體(a1)只要具有此種官能性基,則並無特別限定。具有羧基的自由基聚合性單體(a1)的具體例為:(甲基)丙烯酸、丁烯酸、α-氯丙烯酸、肉桂酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、衣康酸、檸康酸、中康酸、ω-羧基聚己內酯單(甲基)丙烯酸酯、丁二酸單[2-(甲基)丙烯醯基氧基乙基]酯、順丁烯二酸單[2-(甲基)丙烯醯基氧基乙基]酯、環己烯-3,4-二羧酸單[2-(甲基)丙烯醯基氧基乙基]酯。
所述化合物中,優選為(甲基)丙烯酸、丁二酸單(2-丙烯醯基氧基乙基)酯,特別是在使用(甲基)丙烯酸時硬化物的圖案尺寸接近於罩幕尺寸,可獲得透明性高的硬化物,因此進一步優選。
所述具有羧基的自由基聚合性單體(a1)可單獨地使用所述化合物,也可混合2種以上而使用。
<1-1-2.其他自由基聚合性單體(a2)>
本發明的其他自由基聚合性單體(a2)只要為不具有羧基、環氧基、及氧雜環丁基且可與具有羧基的自由基聚合性單體(a1)共聚的自由基聚合性單體,則並無特別限定。此種自由基聚合性單體的例子為:(甲基)丙烯酸酯、N-取代順丁烯二醯亞胺、大分子單體、苯乙烯、甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、氯甲基苯乙烯、茚、(甲 基)丙烯醯胺、及N-丙烯醯基嗎啉。(甲基)丙烯酸酯的具體例為:(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯、(甲基)丙烯酸二環戊基酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯基酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯基氧乙酯、(甲基)丙烯酸苯基酯、(甲基)丙烯酸苄基酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、及甘油單(甲基)丙烯酸酯。N-取代順丁烯二醯亞胺的具體例為N-苯基順丁烯二醯亞胺及N-環己基順丁烯二醯亞胺。大分子單體的具體例為聚苯乙烯大分子單體及聚甲基丙烯酸甲酯大分子單體。
所述化合物中,使用含有如下鹼可溶性聚合物(A)的感光性組成物而製造的圖案狀透明體的耐熱性高,因此優選,所述鹼可溶性聚合物(A)是使選自(甲基)丙烯酸苄基酯、(甲基)丙烯酸二環戊基酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯基氧乙酯、N-苯基順丁烯二醯亞胺、及N-環己基順丁烯二醯亞胺中的至少一種進行共聚而成。
所述其他自由基聚合性單體(a2)可單獨地使用所述化合物,也可混合2種以上而使用。
<1-2.多官能環氧化合物(B)>
本發明的多官能環氧化合物(B)為每一分子具有2個以上的環氧基的化合物,只要具有此種結構特徵則並無特別限定。多官能環氧化合物可單獨使用,也可混合2種以上使用。
本發明的感光性組成物所含有的多官能環氧化合物(B)的含量相對於鹼可溶性聚合物(A)100重量份若為10重量份~150重量份,則本發明的感光性組成物的保存穩定性良好而優選, 若為20重量份~100重量份,則使用本發明的感光性組成物而製造的圖案狀透明體的透明性良好而進一步優選。
多官能環氧化合物(B)的例子為:雙酚A型環氧化合物、雙酚F型環氧化合物、縮水甘油醚型環氧化合物(Ba)、苯酚酚醛清漆型環氧化合物、甲酚酚醛清漆型環氧化合物、雙酚A酚醛清漆型環氧化合物、脂肪族聚縮水甘油醚、脂環式脂肪族環氧化合物(Bb)、及含環氧基的聚合物(Bc)。此處,所謂含環氧基的聚合物(Bc)是使含有具有環氧基的自由基聚合性單體(b1)與其他自由基聚合性單體(b2)的自由基聚合性單體混合物聚合而獲得的共聚物。
所述化合物中,優選為縮水甘油醚型環氧化合物(Ba)、雙酚A酚醛清漆型環氧化合物、脂環式脂肪族環氧化合物(Bb)、及含環氧基的聚合物(Bc),進一步優選為縮水甘油醚型環氧化合物(Ba)、脂環式脂肪族環氧化合物(Bb)、及含環氧基的聚合物(Bc)。使用所述多官能環氧化合物的感光性組成物的保存穩定性優異,使用所述感光性組成物而製造的圖案狀透明體的透明性高。
<1-2-1.縮水甘油醚型環氧化合物(Ba)>
縮水甘油醚型環氧化合物(Ba)的優選具體例為:1,3-雙[4-[1-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-1-[4-[1-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-1-甲基乙基]苯基]乙基]苯氧基]-2-丙醇、及2-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-2-[4-[1,1-雙[4-([2,3-環氧丙氧基]苯基)]乙基]苯基]丙烷。
<1-2-2.脂環式脂肪族環氧化合物(Bb)>
脂環式脂肪族環氧化合物(Bb)的優選具體例為:2,2-雙(羥基甲基)-1-丁醇的1,2-環氧-4-(2-氧雜環丙基)環己烷加成物。
所述多官能環氧化合物(B)可使用如下述般的市售品。雙酚A型環氧化合物的具體例為jER 828、1004、及1009(均為商品名,三菱化學股份有限公司)。雙酚F型環氧化合物的具體例為jER 806及4005P(均為商品名,三菱化學股份有限公司)。縮水甘油醚型環氧化合物(Ba)的具體例為特克莫(Techmore)VG3101L(商品名,普林泰科(Printec)股份有限公司)、EPPN-501H、502H(均為商品名,日本化藥股份有限公司)及jER 1032H60(商品名,三菱化學股份有限公司)。苯酚酚醛清漆型環氧化合物的具體例為EPPN-201(商品名,日本化藥股份有限公司)、jER 152及154(均為商品名,三菱化學股份有限公司)。甲酚酚醛清漆型環氧化合物的具體例為EOCN-102S、103S、104S、及1020(均為商品名,日本化藥股份有限公司)。雙酚A酚醛清漆型環氧化合物的具體例為jER 157S65及157S70(均為商品名,三菱化學股份有限公司)。脂環式脂肪族環氧化合物(Bb)的具體例為賽羅西德(Celloxide)2021P及EHPE-3150(均為商品名,大賽璐(Daicel)股份有限公司)。此外,作為縮水甘油醚型環氧化合物(Ba)的特克莫(Techmore)VG3101L為2-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-2-[4-[1,1-雙[4-([2,3-環氧丙氧基]苯基)]乙基]苯基]丙烷與1,3-雙[4-[1-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-1-[4-[1-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-1-甲基乙基]苯基]乙基]苯氧基]-2-丙醇的混合物。作為脂環式脂肪族環氧化合物(Bb)的EHPE-3150為2,2-雙(羥基甲基)-1-丁醇的1,2-環氧基-4-(2-氧雜環丙基)環己烷加成物。
<1-2-3.含環氧基的聚合物(Bc)>
如上所述,本發明中使用的含環氧基的聚合物(Bc)是使含 有具有環氧基的自由基聚合性單體(b1)及可與自由基聚合性單體(b1)共聚的其他自由基聚合性單體(b2)的自由基聚合性單體混合物聚合而獲得的共聚物。
在含環氧基的聚合物(Bc)聚合時,相對於具有環氧基的自由基聚合性單體(b1)與其他自由基聚合性單體(b2)的總重量,優選為使用20重量%~95重量%的具有環氧基的自由基聚合性單體(b1)。若為此種範圍,則使用本發明的感光性組成物而製造的圖案狀透明體的圖案尺寸接近於罩幕尺寸,且耐化學品性變高。若所述單體的所述範圍為50重量%~80重量%,則使用本發明的感光性組成物而製造的圖案狀透明體的耐熱性變良好,因此進一步優選。
對於將含環氧基的聚合物(Bc)添加於本發明的感光性組成物中的方法而言,可直接使用聚合反應後的溶液,也可使所述溶液濃縮後取出固體成分而僅添加固體成分。
<1-2-3-1.具有環氧基的自由基聚合性單體(b1)>
作為含環氧基的聚合物(Bc)的原料的具有環氧基的自由基聚合性單體(b1),只要具有至少一個環氧基則並無特別限定。具有環氧基的自由基聚合性單體(b1)的例子為(甲基)丙烯酸縮水甘油酯及(甲基)丙烯酸縮水甘油基甲酯。使用使選自所述自由基聚合性單體中的至少一種聚合而獲得的含環氧基的聚合物(Bc)的感光性組成物可形成小的圖案,且使用所述感光性組成物而製造的圖案狀透明體的耐化學品性高,因此優選。
若使用使具有環氧基的自由基聚合性單體(b1)、特別是選自丙烯酸縮水甘油酯及甲基丙烯酸縮水甘油酯中的至少一種 共聚而成的含環氧基的聚合物(Bc),則耐熱性變高,因此進一步優選。
具有環氧基的自由基聚合性單體(b1)可單獨使用,也可混合2種以上而使用。
<1-2-3-2.其他自由基聚合性單體(b2)>
與具有環氧基的自由基聚合性單體(b1)共聚的其他自由基聚合性單體(b2),只要為不具有羧基、環氧基、及氧雜環丁基且可與具有環氧基的自由基聚合性單體(b1)共聚的自由基聚合性單體,則並無特別限定。此種自由基聚合性單體的例子可列舉所述與具有羧基的自由基聚合性單體(a1)共聚的其他自由基聚合性單體(a2)的說明中所例示的自由基聚合性單體。
所述化合物中,利用使用如下含環氧基的聚合物(Bc)的感光性組成物而製造的圖案狀透明體的圖案尺寸接近於罩幕尺寸,透明性高,耐熱性高,因此優選,所述含環氧基的聚合物(Bc)使選自(甲基)丙烯酸苄基酯、(甲基)丙烯酸二環戊基酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯基氧乙酯、N-苯基順丁烯二醯亞胺、及N-環己基順丁烯二醯亞胺中的至少一種進行共聚而獲得。
其他自由基聚合性單體(b2)可單獨地使用所述化合物,也可混合2種以上而使用。
<1-3.具有聚合性雙鍵的化合物(C)>
本發明的感光性組成物所含有的具有聚合性雙鍵的化合物(C)只要具有聚合性雙鍵,則並無特別限定。
本發明的感光性組成物所含有的具有聚合性雙鍵的化合物(C)的例子為:乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基) 丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、表氯醇(epichlorohydrin)改性乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性四丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烷改性三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、甘油丙烯酸酯甲基丙烯酸酯、甘油二(甲基)丙烯酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性甘油三(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、甲氧化環己基二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、羥基三甲基乙酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、己內酯改性羥基三甲基乙酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、二甘油四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、硬脂酸改性季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、烷基改性二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、烷基改性二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、烷基改性二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己內酯改性二季戊四醇六 (甲基)丙烯酸酯、烯丙基化環己基二(甲基)丙烯酸酯、雙[(甲基)丙烯醯氧基新戊二醇]己二酸酯、雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、雙酚F二(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性雙酚F二(甲基)丙烯酸酯、雙酚S二(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性雙酚S二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,3-丁二醇(甲基)丙烯酸酯、二丙烯酸二環戊基酯、環氧乙烷改性磷酸二(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性磷酸三(甲基)丙烯酸酯、己內酯,環氧乙烷改性磷酸二(甲基)丙烯酸酯、己內酯,環氧乙烷改性磷酸三(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性鄰苯二甲酸二(甲基)丙烯酸酯、四溴雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、三甘油二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇改性三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、異氰脲酸環氧乙烷改性二丙烯酸酯、異氰脲酸環氧乙烷改性三丙烯酸酯、己內酯改性三[(甲基)丙烯醯氧基乙基]異氰脲酸酯、及(甲基)丙烯酸化異氰脲酸酯。
具有聚合性雙鍵的化合物(C)可單獨地使用所述化合物,也可混合2種以上而使用。
在具有聚合性雙鍵的化合物(C)中,若使用三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、異氰脲酸環氧乙烷改性二丙烯酸酯、異氰脲酸環氧乙烷改性三丙烯酸酯、或者所述的混合物,則感光性組成物的硬化速度變快,因而優選。
作為三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、異氰脲酸環氧乙烷改性二丙烯酸酯、異氰脲酸環氧乙烷 改性三丙烯酸酯、或者所述的混合物,可使用如下般的市售品。三羥甲基丙烷三丙烯酸酯的具體例為亞羅尼斯(Aronix)M-309(商品名,東亞合成股份有限公司)。季戊四醇三丙烯酸酯與季戊四醇四丙烯酸酯的混合物的具體例為亞羅尼斯(Aronix)M-306(65重量%~70重量%)、M-305(55重量%~63重量%)、M-303(30重量%~60重量%)、M-452(25重量%~40重量%)、及M-450(小於10重量%,以下簡稱為“M-450”)(均為商品名,東亞合成股份有限公司,括號內的含有率為混合物中的季戊四醇三丙烯酸酯的含有率的目錄登載值)。二季戊四醇五丙烯酸酯與二季戊四醇六丙烯酸酯的混合物的具體例為亞羅尼斯(Aronix)M-403(50重量%~60重量%)、M-400(40重量%~50重量%)、M-402(30重量%~40重量%,以下簡稱為“M-402”)、M-404(30重量%~40重量%)、M-406(25重量%~35重量%)、及M-405(10重量%~20重量%)(均為商品名,東亞合成股份有限公司,括號內的含有率為混合物中的二季戊四醇五丙烯酸酯的含有率的目錄登載值)。異氰脲酸環氧乙烷改性二丙烯酸酯的具體例為亞羅尼斯(Aronix)M-215(商品名,東亞合成股份有限公司)。異氰脲酸環氧乙烷改性二丙烯酸酯與異氰脲酸環氧乙烷改性三丙烯酸酯的混合物的具體例為亞羅尼斯(Aronix)M-313(30重量%~40重量%)及M-315(3重量%~13重量%,以下簡稱為“M-315”)(均為商品名,東亞合成股份有限公司,括號內的含有率為混合物中的異氰脲酸環氧乙烷改性二丙烯酸酯的含有率的目錄登載值)。
具有聚合性雙鍵的化合物(C)還對使用感光性組成物製造圖案狀透明體時的顯影時的黏接性造成大的影響。若以相對 於具有聚合性雙鍵的化合物(C)的總重量而含有20重量%以上的具有3個以上聚合性雙鍵的化合物的方式來製備,則在使用感光性組成物製造圖案狀透明體時的顯影時,與基板的黏接性提高,因此優選。
具有聚合性雙鍵的化合物(C)還對使用感光性組成物製造圖案狀透明體時的圖案尺寸造成大的影響。其中,若以相對於具有聚合性雙鍵的化合物(C)的總重量而含有20重量%以上的選自季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、及異氰脲酸環氧乙烷改性三丙烯酸酯中的至少一種的方式來製備,則使用感光性組成物而製造的圖案狀透明體的圖案尺寸接近於罩幕尺寸,因此進一步優選。
<1-4.光聚合起始劑(D)>
本發明的感光性組成物所含有的光聚合起始劑(D)只要為可引發含有鹼可溶性聚合物(A)、多官能環氧化合物(B)、及具有聚合性雙鍵的化合物(C)的組成物的聚合的光聚合起始劑,則並無特別限定。
作為本發明的感光性組成物所含有的光聚合起始劑(D),例如,可例示下述式(D-1)所表示的化合物。
式中,R11、R12、R13分別獨立地為氫、碳數1~5的烷基、碳數2~5的烯基、或碳數2~5的炔基。R14為碳數1~15的烷基、 碳數2~15的烯基、或碳數2~15的炔基。n分別獨立地為1~5的整數。
式(D-1)所表示的化合物特別優選為1,2-辛烷二酮-1-[4-(苯硫基)苯基]-2-(O-苯甲醯肟)。本化合物作為豔佳固(IRGACURE)OXE01(商品名,日本巴斯夫(BASF Japan)股份有限公司)而市售。
相對於光聚合起始劑(D)的總重量,若式(D-1)所表示的化合物為20重量%以上,則使用感光性組成物而製造的圖案狀透明體的圖案尺寸接近於罩幕尺寸,因而優選。另外,進一步優選為50重量%以上。光聚合起始劑(D)可僅包含式(D-1)所表示的化合物。光聚合起始劑(D)可單獨地使用式(D-1)所表示的化合物,也可混合2種以上而使用。
與式(D-1)所表示的化合物混合使用的其他光聚合起始劑的例子為:二苯甲酮、米氏酮(Michler's ketone)、4,4'-雙(二乙基氨基)二苯甲酮、氧雜蒽酮(xanthone)、硫雜蒽酮(thioxanthone)、異丙基氧雜蒽酮、2,4-二乙基硫雜蒽酮、2-乙基蒽醌、苯乙酮、2-羥基-2-甲基苯丙酮、2-羥基-2-甲基-4'-異丙基苯丙酮、1-羥基環己基苯基甲酮、異丙基安息香醚、異丁基安息香醚、2,2-二乙氧基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、樟腦醌(camphaquinone)、苯并蒽酮(benzanthrone)、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉基丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁酮-1、4-二甲基氨基苯甲酸乙酯、4-二甲基氨基苯甲酸異戊酯、4,4'-二(叔丁基過氧羰基)二苯甲酮、3,4,4'-三(叔丁基過氧羰基)二苯甲酮、2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦、2-(4'-甲氧基苯乙 烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(3',4'-二甲氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(2',4'-二甲氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(2'-甲氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(4'-戊氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、4-[對-N,N-二(乙氧基羰基甲基)]-2,6-二(三氯甲基)-均三嗪、1,3-雙(三氯甲基)-5-(2'-氯苯基)-均三嗪、1,3-雙(三氯甲基)-5-(4'-甲氧基苯基)-均三嗪、2-(對二甲基氨基苯乙烯基)苯并噁唑、2-(對二甲基氨基苯乙烯基)苯并噻唑、2-巰基苯并噻唑、3,3'-羰基雙(7-二乙基氨基香豆素)、2-(鄰氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基-1,2'-聯咪唑、2,2'-雙(2-氯苯基)-4,4',5,5'-四(4-乙氧基羰基苯基)-1,2'-聯咪唑、2,2'-雙(2,4-二氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基-1,2'-聯咪唑、2,2'-雙(2,4-二溴苯基)-4,4',5,5'-四苯基-1,2'-聯咪唑、2,2'-雙(2,4,6-三氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基-1,2'-聯咪唑、3-(2-甲基-2-二甲基氨基丙醯基)咔唑、3,6-雙(2-甲基-2-嗎啉基丙醯基)-9-正十二烷基咔唑、1-羥基環己基苯基甲酮、及雙(η5-2,4-環戊二烯-1-基)-雙(2,6-二氟-3-(1H-吡咯-1-基)-苯基)鈦。
所述化合物可單獨使用,也可混合2種以上使用。
在光聚合起始劑(D)為式(D-1)所表示的化合物與其他光聚合起始劑的混合物的情況下,若其他光聚合起始劑為選自4,4'-雙(二乙基氨基)二苯甲酮、3-苯甲醯基-7-二乙基氨基香豆素、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉基丙烷-1-酮、及2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁酮-1中的至少一種,則可使高感度與圖案尺寸接近於罩幕尺寸的情況並存,因此優選。
<1-5. 1,2-醌二疊氮化合物(E)>
用作本發明的感光性組成物所含有的1,2-醌二疊氮化合物 (E)的化合物的例子為醌二疊氮磺酸酯、1,2-萘醌二疊氮磺酸酯、1,2-苯醌二疊氮磺醯胺、及1,2-萘醌二疊氮磺醯胺。
1,2-醌二疊氮化合物(E)的具體例為以下所羅列的化合物。
2,3,4-三羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、2,3,4-三羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯、2,4,6-三羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、2,4,6-三羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯;2,2',4,4'-四羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、2,2',4,4'-四羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯、2,3,3',4-四羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、2,3,3',4-四羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯、2,3,4,4'-四羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、2,3,4,4'-四羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯;雙(2,4-二羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、雙(2,4-二羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯、雙(對羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、雙(對羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯;三(對羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、三(對羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯、1,1,1-三(對羥基苯基)乙烷-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、1,1,1-三(對羥基苯基)乙烷-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯;雙(2,3,4-三羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、雙(2,3,4-三羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯、2,2-雙(2,3,4-三羥基苯基)丙烷-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、2,2-雙(2,3,4-三羥基 苯基)丙烷-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯;1,1,3-三(2,5-二甲基-4-羥基苯基)-3-苯基丙烷-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、1,1,3-三(2,5-二甲基-4-羥基苯基)-3-苯基丙烷-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯、4,4'-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、4,4'-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯;雙(2,5-二甲基-4-羥基苯基)-2-羥基苯基甲烷-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、雙(2,5-二甲基-4-羥基苯基)-2-羥基苯基甲烷-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯、3,3,3',3'-四甲基-1,1'-螺二茚-5,6,7,5',6',7'-己醇-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、3,3,3',3'-四甲基-1,1'-螺二茚-5,6,7,5',6',7'-己醇-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯;2,2,4-三甲基-7,2',4'-三羥基黃烷(flavane)-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、及2,2,4-三甲基-7,2',4'-三羥基黃烷-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯。
所述化合物可單獨使用,也可組合2種以上而使用。
特別是,若使用選自2,3,4-三羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、2,3,4-三羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯、4,4'-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、及4,4'-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯中的至少一種,則感光性組成物的透明性變高,因此優選。
<1-6.溶劑(F)>
本發明中使用的溶劑(F),優選為沸點為100℃~200℃的化合物的至少一種,或者為含有20重量%以上的所述化合物的混合 溶劑。沸點為100℃~200℃的化合物的例子為:水、乙酸丁酯、丙酸丁酯、乳酸乙酯、氧基乙酸甲酯、氧基乙酸乙酯、氧基乙酸丁酯、甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯、3-氧基丙酸甲酯、3-氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、2-氧基丙酸甲酯、2-氧基丙酸乙酯、2-氧基丙酸丙酯、2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-氧基-2-甲基丙酸乙酯、2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸丙酯、乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯、2-氧代丁酸甲酯、2-氧代丁酸乙酯、二噁烷、乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、丙二醇、二丙二醇、三丙二醇、1,4-丁二醇、乙二醇單異丙醚、乙二醇單丁醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯(以下簡稱為“PGMEA(Propylene Glycol Monomethyl Ether Acetate)”)、丙二醇單乙醚乙酸酯、丙二醇單丙醚乙酸酯、乙二醇單丁醚乙酸酯、環己酮、環戊酮、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單甲醚乙酸酯、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單乙醚乙酸酯、二乙二醇單丁醚、二乙二醇單丁醚乙酸酯、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、二乙二醇甲基乙醚、甲苯、二甲苯、γ-丁內酯、及N,N-二甲基乙醯胺。
所述溶劑中,若使用選自丙二醇單甲醚、PGMEA、丙二醇單乙醚乙酸酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、二乙二醇單乙醚乙酸酯、二乙二醇單丁醚乙酸酯、二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲基乙醚、及乳酸乙酯中的至少一種,則塗佈均勻性變 高,因此進一步優選。若使用選自PGMEA、3-甲氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、二乙二醇甲基乙醚、及乳酸乙酯中的至少一種,則感光性組成物的塗佈均勻性變高、對人體的安全性變高,因此更進一步優選。
溶劑(F)可將鹼可溶性聚合物(A)或者含環氧基的聚合物(Bc)的聚合反應中使用的溶劑以溶液的方式直接用於感光性組成物,也可除所述溶液中所含的溶劑以外,還添加稀釋用溶劑(固體成分濃度調整用溶劑)。另外,關於所述聚合物,在僅將對聚合反應後的溶液進行濃縮而取出的固體成分用於感光性組成物的情況下,在感光性組成物的製備時,將全部量的溶劑(F)與成分(A)~成分(E)一起添加。
<1-7.添加劑>
就提高解析度、塗佈均勻性、顯影性、黏接性等本發明的感光性組成物的特性的觀點而言,本發明的感光性組成物也可含有添加劑。添加劑的例子為:丙烯酸系、苯乙烯系、聚乙烯亞胺系及氨基甲酸酯系等高分子分散劑;陰離子系、陽離子系、非離子系及氟系等界面活性劑;矽聚合物系塗佈性改進劑;矽烷系偶合劑及鋁系偶合劑等黏附性改進劑;烷氧基二苯甲酮類等紫外線吸收劑;聚丙烯酸鈉等抗凝聚劑;多官能環氧化合物(B)以外的環狀醚化合物;三聚氰胺化合物及雙疊氮(bisazide)化合物等熱交聯劑;鹼可溶性聚合物(A)以外的羧基化合物、羧酸酐、苯酚化合物等環氧硬化劑;以及受阻系苯酚等抗氧化劑。
相對於鹼可溶性聚合物(A)、多官能環氧化合物(B)、及具有聚合性雙鍵的化合物(C)的合計100重量份,添加劑的添 加量若為10重量份以下,則可無損本發明的目的地提高感光性組成物的特性,因此優選。
黏附性改進劑的具體例為:作為矽烷系偶合劑的3-縮水甘油基氧基丙基二甲基乙氧基矽烷、3-縮水甘油基氧基丙基甲基二乙氧基矽烷及3-縮水甘油基氧基丙基三甲氧基矽烷;作為鋁系偶合劑的乙醯基烷氧基二異丙醇鋁(acetoalkoxyaluminum diisopropylate);作為鈦酸酯系偶合劑的四異丙基雙(亞磷酸二辛酯)鈦酸酯。
界面活性劑的具體例為:珀利弗洛(Polyflow)No.45、珀利弗洛(Polyflow)KL-245、珀利弗洛(Polyflow)No.75、珀利弗洛(Polyflow)No.90、珀利弗洛(Polyflow)No.95(均為商品名,共榮社化學股份有限公司),迪斯帕畢克(Disperbyk)161、迪斯帕畢克(Disperbyk)162、迪斯帕畢克(Disperbyk)163、迪斯帕畢克(Disperbyk)164、迪斯帕畢克(Disperbyk)166、迪斯帕畢克(Disperbyk)170、迪斯帕畢克(Disperbyk)180、迪斯帕畢克(Disperbyk)181、迪斯帕畢克(Disperbyk)182、BYK300、BYK306、BYK310、BYK320、BYK330、BYK342、BYK346(均為商品名,日本畢克化學(BYK-Chemie Japan)股份有限公司),KP-341、KP-358、KP-368、KF-96-50CS、KF-50-100CS(均為商品名,信越化學工業股份有限公司),沙福隆(Surflon)S-611、沙福隆(Surflon)SC-101、沙福隆(Surflon)KH-40(均為商品名,旭硝子清美化學(AGC Seimi Chemical)股份有限公司),福傑特(Ftergent)222F、福傑特(Ftergent)251、DFX-18、FTX-218(均為商品名,尼奧斯(NEOS)股份有限公司),艾福拓(EFTOP) EF-351、艾福拓(EFTOP)EF-352、艾福拓(EFTOP)EF-601、艾福拓(EFTOP)EF-801、艾福拓(EFTOP)EF-802(均為商品名,三菱綜合材料(Mitsubishi Materials)股份有限公司),美佳法(Megafac)F-171、美佳法(Megafac)F-177、美佳法(Megafac)F-475、美佳法(Megafac)R-08、美佳法(Megafac)R-30(均為商品名,迪愛生(DIC)股份有限公司)、氟烷基苯磺酸鹽、氟烷基羧酸鹽、氟烷基聚氧乙烯醚、氟烷基碘化銨、氟烷基甜菜鹼、氟烷基磺酸鹽、二甘油四(氟烷基聚氧乙烯醚)、氟烷基三甲基銨鹽、氟烷基氨基磺酸鹽、聚氧乙烯壬基苯基醚、聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯烷基醚、聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯油烯基醚、聚氧乙烯十三烷基醚、聚氧乙烯鯨蠟基醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯月桂酸酯、聚氧乙烯油酸脂、聚氧乙烯硬脂酸酯、聚氧乙烯月桂基胺、脫水山梨糖醇(sorbitan)月桂酸酯、脫水山梨糖醇棕櫚酸酯、脫水山梨糖醇硬脂酸酯、脫水山梨糖醇油酸脂、脫水山梨糖醇脂肪酸酯、聚氧乙烯脫水山梨糖醇月桂酸酯、聚氧乙烯脫水山梨糖醇棕櫚酸酯、聚氧乙烯脫水山梨糖醇硬脂酸酯、聚氧乙烯脫水山梨糖醇油酸脂、聚氧乙烯萘基醚、烷基苯磺酸鹽、及烷基二苯基醚二磺酸鹽。
作為受阻系苯酚等抗氧化劑,可使用如下般的公知的化合物,即,在苯酚的OH的鄰位具有叔丁基且可進一步具有烷基等取代基的化合物、及經由對位的二價有機基而在對位進行鍵結的所述化合物的2聚物~4聚物。市售品的例子為艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-60(商品名,艾迪科(ADEKA)股份有限公司)。
<1-8.鹼可溶性聚合物(A)或含環氧基的聚合物(Bc) 的製造方法>
鹼可溶性聚合物(A)或含環氧基的聚合物(Bc)的聚合方法並無特別限定,優選為在使用溶劑的溶液中的自由基聚合。聚合溫度只要為自所使用的聚合起始劑充分產生自由基的溫度,則並無特別限定,通常為50℃~150℃的範圍。聚合時間也無特別限定,通常為1小時~24小時的範圍。另外,所述聚合可在加壓、減壓或大氣壓的任一壓力下進行。
<1-8-1.鹼可溶性聚合物(A)或含環氧基的聚合物(Bc)的聚合反應中所使用的溶劑>
鹼可溶性聚合物(A)的聚合反應中所使用的溶劑優選為溶解所使用的具有羧基的自由基聚合性單體(a1)、其他自由基聚合性單體(a2)、及所生成的鹼可溶性聚合物(A)的溶劑。含環氧基的聚合物(Bc)的聚合反應中所使用的溶劑優選為溶解所使用的具有環氧基的自由基聚合性單體(b1)、其他自由基聚合性單體(b2)、及所生成的含環氧基的聚合物(Bc)的溶劑。以下,有時將聚合反應中所使用的溶劑稱為聚合溶劑。
鹼可溶性聚合物(A)或含環氧基的聚合物(Bc)的聚合反應中所使用的溶劑的具體例為:甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、丙酮、2-丁酮、乙酸乙酯、乙酸丙酯、四氫呋喃、乙腈、二噁烷、甲苯、二甲苯、環己酮、乙二醇單乙醚、丙二醇單甲醚、PGMEA、二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲基乙醚、3-甲氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、環戊酮、N-甲基-2-吡咯烷酮、及N,N-二甲基甲醯胺。聚合溶劑可單獨使用,也可混合2種以上使用。
所述溶劑中,優選為丙二醇單甲醚、PGMEA、3-甲氧基 丙酸甲酯、及二乙二醇甲基乙醚。
<1-8-2.鹼可溶性聚合物(A)或含環氧基的聚合物(Bc)的聚合反應中所使用的聚合起始劑>
鹼可溶性聚合物(A)或含環氧基的聚合物(Bc)的聚合中,可使用公知的聚合起始劑。本發明中所使用的用於鹼可溶性聚合物(A)的聚合的聚合起始劑、及用於含環氧基的聚合物(Bc)的聚合的聚合起始劑,可使用適宜地選自因熱而產生自由基的化合物、偶氮雙異丁腈等偶氮系起始劑、及過氧化苯甲醯等過氧化物系起始劑中的至少一種化合物。所述自由基聚合反應中,為了調節所生成的鹼可溶性聚合物(A)、及含環氧基的聚合物(Bc)的分子量,也可適量添加巰基乙酸(thioglycolic acid)等鏈轉移劑。
<1-8-3.鹼可溶性聚合物(A)或含環氧基的聚合物(Bc)的重量平均分子量>
所獲得的鹼可溶性聚合物(A)或含環氧基的聚合物(Bc)的重量平均分子量優選為1,000~100,000,進一步優選為3,000~20,000。若為所述範圍,則塗佈後的膜厚均勻性進一步變良好。
本說明書中的重量平均分子量為由凝膠滲透色譜(Gel Penetration Chromatography,GPC)法(管柱溫度:35℃、流速:1mL/min)求出的藉由聚苯乙烯換算而得的值。標準的聚苯乙烯可使用分子量為645~132,900的聚苯乙烯(例如,安捷倫(Agilent)S-M2-10聚苯乙烯校正套組PL2010-0102(商品名,安捷倫科技(Agilent Technologies)股份有限公司))、管柱可使用PLgel MIXED-D(商品名,安捷倫科技(Agilent Technologies)股份有限公司)、且使用四氫呋喃(Tetrahydrofuran,THF)作為移動相 而進行測定。此外,本說明書中的市售品的重量平均分子量為目錄登載值。
本發明的感光性組成物若在溫度為-5℃~50℃的範圍內進行遮光而保存,則組成物的經時穩定性良好。保存溫度若為0℃~25℃,則經時穩定性進一步良好。
對本發明的感光性組成物進行曝光後進行顯影的情況下的顯影液優選為鹼水溶液。作為鹼,例如可列舉四甲基氫氧化銨、碳酸鈉、碳酸氫鈉、碳酸鉀、碳酸氫鉀、氫氧化鈉、及氫氧化鉀,可適宜地使用所述鹼的水溶液。
出於降低顯影殘渣或使圖案形狀恰當的目的,也可在顯影液中添加界面活性劑。界面活性劑可自陰離子系、陽離子系、非離子系中選擇使用。特別是若添加非離子系的聚氧乙烯烷基醚,則圖案形狀變良好,因此優選。
顯影方法並無特別限定。可使用浸漬顯影、水坑式(paddle)顯影、噴淋顯影的任一種。
<2.使用本發明的感光性組成物而製造的圖案狀透明體>
本發明的第2方面是有關於一種使用本發明的感光性組成物而製造的圖案狀透明體。本發明的圖案狀透明體最適於形成圖案化時的解析度高且直徑小的突起狀硬化物。所述圖案狀透明體以如下的方式而形成。首先,藉由旋轉塗佈、輥塗佈、及狹縫塗佈等將感光性組成物塗佈於玻璃等基板上。基板的例子為:白板玻璃、青板玻璃、及塗佈有二氧化矽的青板玻璃等透明玻璃基板,聚碳酸酯、聚酯、丙烯酸樹脂、氯乙烯樹脂、芳香族聚醯胺樹脂、 聚醯胺醯亞胺、及聚醯亞胺等合成樹脂製片材,膜或者基板,鋁板、銅板、鎳板、及不銹鋼板等金屬基板,其他陶瓷板,以及具有光電轉換元件的半導體基板。對於所述基板,可視需要進行矽烷偶合劑等化學品處理、電漿處理、離子鍍、濺鍍、氣相反應法、及真空蒸鍍等前處理。對基板的感光性樹脂組成物的塗佈,可藉由旋轉塗佈法、輥塗佈法、及浸漬法等以前公知的方法來進行。
其次,在加熱板或烘箱中,通常在60℃~120℃下,乾燥1分鐘~5分鐘。對於經乾燥的基板,介隔為所需圖案形狀的掩膜而照射紫外線。照射量以i射線計適當為5mJ/cm2~1000mJ/cm2。感光性組成物為負型的情況下,照射到紫外線的部分因具有聚合性雙鍵的化合物(C)的聚合而成為三維化交聯體,不溶於鹼顯影液。感光性組成物為正型的情況下,照射到紫外線的部分因自1,2-醌二疊氮化合物(E)的羧酸的生成,而對於鹼顯影液的溶解性提高。鹼顯影液的具體例為碳酸鈉、氫氧化鈉、氫氧化鉀等無機鹼類的水溶液,以及四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨等有機鹼類的水溶液。另外,也可在所述鹼顯影液中適量添加甲醇、乙醇、及界面活性劑等而使用。
再次,藉由噴淋顯影、噴霧顯影、水坑式顯影、浸漬顯影等將基板浸入鹼顯影液中,溶解去除不需要的部分。最後,在180℃~250℃下,進行10分鐘~120分鐘的煆燒,則可獲得所需圖案的圖案狀透明體。
[實施例]
以下,藉由實施例來對本發明進一步進行說明,但本發明不受所述實施例的限定。
對於合成例、比較合成例、參考例、實施例及比較例中所使用的化合物,針對每一成分而預先記述。
具有羧基的自由基聚合性單體(a1):
a1-1:甲基丙烯酸
其他自由基聚合性單體(a2):
a2-1:甲基丙烯酸苄基酯
a2-2:甲基丙烯酸二環戊基酯
a2-3:甲基丙烯酸二環戊烯基氧乙酯
a2-4:作為甲氧基聚乙二醇甲基丙烯酸酯的範克力(Fancryl)FA-400M(商品名,日立化成股份有限公司,以下簡稱為“FA-400M”)
a2-5:N-苯基順丁烯二醯亞胺
a2-6:N-環己基順丁烯二醯亞胺
鹼可溶性聚合物(A)的聚合反應中所使用的聚合起始劑:
2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)(以下簡稱為“V-65”)
鹼可溶性聚合物(A)的聚合反應中所使用的溶劑:
PGMEA
縮水甘油醚型環氧化合物(Ba):
Ba-1:特克莫(Techmore)VG3101L(商品名,普林泰科(Printec)股份有限公司)
脂環式脂肪族環氧化合物(Bb):
Bb-1:EHPE-3150(商品名,大賽璐(Daicel)股份有限公司)
具有環氧基的自由基聚合性單體(b1):
b1-1:甲基丙烯酸縮水甘油酯
其他自由基聚合性單體(b2):
b2-1:N-苯基順丁烯二醯亞胺
含環氧基的聚合物(Bc)的聚合反應中所使用的聚合起始劑:
V-65
含環氧基的聚合物(Bc)的聚合反應中所使用的溶劑:
PGMEA
具有聚合性雙鍵的化合物(C):
C-1:M-402
C-2:M-450
C-3:M-315
D-1:OXE01
E-1:2,3,4-三羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯(以下簡稱為“NT-200”)
E-2:4,4'-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯
添加劑-1:作為氟系界面活性劑的福傑特(Ftergent)DFX-18(商品名,尼奧斯(NEOS)股份有限公司,以下簡稱為“DFX-18”)
[合成例1]鹼可溶性聚合物(A-1)的合成
在附有攪拌器的4口燒瓶中,以下述的組成投入作為聚合溶劑的PGMEA,作為成分(a1)的甲基丙烯酸,作為成分(a2)的甲基丙烯酸苄基酯、甲基丙烯酸二環戊基酯、及N-苯基順丁烯二 醯亞胺,作為聚合起始劑的V-65;在90℃下加熱6小時。
甲基丙烯酸 6.000g
甲基丙烯酸苄基酯 6.000g
甲基丙烯酸二環戊基酯 9.000g
N-苯基順丁烯二醯亞胺 9.000g
V-65 1.500g
PGMEA 70.000g
將反應結束後的溶液冷卻至室溫,獲得鹼可溶性聚合物(A-1)的30重量%溶液。藉由GPC分析而求出的重量平均分子量為4,100。
此外,此處所謂的“鹼可溶性聚合物(A-1)的30重量%溶液”是指認為如所述般投入的化合物已全部進行反應而求出的由固形物的重量與溶劑的重量換算而得的濃度為30重量%。對於以下的合成例及比較合成例而言也同樣。
[合成例2]鹼可溶性聚合物(A-2)的合成
與合成例1同樣地進行,以下述的重量投入下述的成分,進行聚合。
甲基丙烯酸 6.000g
甲基丙烯酸苄基酯 6.000g
甲基丙烯酸二環戊烯基氧乙酯 9.000g
N-苯基順丁烯二醯亞胺 9.000g
V-65 1.500g
PGMEA 70.000g
進行與合成例1同樣的處理,獲得鹼可溶性聚合物(A-2)的30重量%溶液。藉由GPC分析而求出的重量平均分子量為4,500。
[合成例3]鹼可溶性聚合物(A-3)的合成
與合成例1同樣地進行,以下述的重量投入下述的成分,進行聚合。
甲基丙烯酸 9.000g
甲基丙烯酸二環戊基酯 12.000g
N-環己基順丁烯二醯亞胺 9.000g
V-65 1.500g
PGMEA 70.000g
進行與合成例1同樣的處理,獲得鹼可溶性聚合物(A-3)的30重量%溶液。藉由GPC分析而求出的重量平均分子量為3,600。
[合成例4]鹼可溶性聚合物(A-4)的合成
與合成例1同樣地進行,以下述的重量投入下述的成分,進行聚合。
甲基丙烯酸 9.000g
甲基丙烯酸二環戊基酯 10.500g
FA-400M 1.500g
N-環己基順丁烯二醯亞胺 9.000g
V-65 1.500g
PGMEA 70.000g
進行與合成例1同樣的處理,獲得鹼可溶性聚合物(A-4)的30重量%溶液。藉由GPC分析而求出的重量平均分子量為3,800。
[合成例5]鹼可溶性聚合物(Ba-1)的合成
與合成例1同樣地進行,以下述的重量投入下述的成分,進行聚合。其中,加熱溫度設為80℃。
甲基丙烯酸縮水甘油酯 24.000g
N-苯基順丁烯二醯亞胺 6.000g
V-65 1.500g
PGMEA 70.000g
進行與合成例1同樣的處理,獲得鹼可溶性聚合物(Ba-1)的30重量%溶液。藉由GPC分析而求出的重量平均分子量為8,200。
[比較例用合成例1]比較例用聚合物(Z-1)的合成
與合成例1同樣地進行,以下述的重量投入下述的成分,進行聚合。
甲基丙烯酸 6.000g
甲基丙烯酸二環戊基酯 9.000g
N-苯基順丁烯二醯亞胺 6.000g
甲基丙烯酸縮水甘油酯 9.000g
V-65 1.500g
PGMEA 70.000g
進行與合成例1同樣的處理,獲得比較例用聚合物(Z-1)的 30重量%溶液。藉由GPC分析而求出的重量平均分子量為6,300。
[比較例用合成例2]比較例用聚合物(Z-2)的合成
與合成例1同樣地進行,以下述的重量投入下述的成分,進行聚合。
甲基丙烯酸苄基酯 12.000g
甲基丙烯酸二環戊基酯 9.000g
N-苯基順丁烯二醯亞胺 9.000g
V-65 1.500g
PGMEA 70.000g
進行與合成例1同樣的處理,獲得比較例用聚合物(Z-2)的30重量%溶液。藉由GPC分析而求出的重量平均分子量為3,200。
[比較例用合成例3]比較例用聚合物(Z-3)的合成
與合成例1同樣地進行,以下述的重量投入下述的成分,進行聚合。
甲基丙烯酸 30.000g
V-65 1.500g
PGMEA 70.000g
進行與合成例1同樣的處理,獲得比較例用聚合物(Z-3)的30重量%溶液。藉由GPC分析而求出的重量平均分子量為7,200。
[實施例1]
以下述的組成混合溶解鹼可溶性聚合物(A-1)的30重量%溶液、作為多官能環氧化合物(B)的特克莫(Techmore)VG3101L及EHPE-3150、作為具有聚合性雙鍵的化合物(C)的M-402、作為光聚合起始劑(D)的OXE01、作為1,2-醌二疊氮化合物(E)的NT-200、作為添加劑的DFX-18、作為稀釋用溶劑的PGMEA,而獲得感光性組成物。所述感光性組成物的黏度為7.8mPa‧s。
鹼可溶性聚合物(A-1)的30重量%溶液 10.000g
特克莫(Techmore)VG3101L 1.800g
EHPE-3150 1.200g
M-402 3.000g
OXE01 0.450g
NT-200 0.090g
DFX-18 0.009g
PGMEA 10.717g
此外,所述組成物中所含的溶劑(F)的總量為鹼可溶性聚合 物(A-1)的30重量%溶液中所含的PGMEA與稀釋用途中所添加的PGMEA的總量。在實施例2及以下中也同樣。
以600rpm在玻璃基板上將所述感光性組成物旋轉塗佈10秒,在100℃的加熱板上乾燥2分鐘。在空氣中,介隔點圖案的掩膜,使用近接式曝光機TME-150PRC(商品名,拓普康(Topcon)股份有限公司),將通過波長截止濾波器的350nm以下的光截止而取出g射線、h射線、i射線,以100μm的曝光間隙對所述基板進行曝光。以累計光量計UIT-102(商品名,優志旺(USHIO)股份有限公司)、受光器UVD-365PD(商品名,優志旺(USHIO)股份有限公司)進行測定而曝光量為50mJ/cm2。以0.4重量%四甲基氫氧化銨水溶液對曝光後的玻璃基板進行60秒浸漬顯影,去除未曝光部。以純水對顯影後的基板清洗20秒,然後以100℃的加熱板乾燥2分鐘。進而在烘箱中在220℃下進行30分鐘後烘烤,而獲得附有圖案狀透明體的玻璃基板。
以下示出本實施例及本比較例中進行的各物性的測定方法及各特性的評價方法。
[顯影後殘膜率的算出方法]
使用階差.表面粗糙度.微細形狀測定裝置P-16+(商品名,科磊(KLA TENCOR)股份有限公司),測定顯影前膜厚及顯影後膜厚,算出顯影後的殘膜率(顯影後膜厚×100%/顯影前膜厚)。
[圖案尺寸的測定方法、圖案變粗特性的評價方法]
以1,000倍的光學顯微鏡觀察所獲得的附有圖案狀透明體的玻璃基板,測定對應於10μm見方的罩幕尺寸的點圖案的對角線長度。關於圖案變粗特性,將對角線長度為9μm~11μm的情 況設為“○”,將其以外的情況設為“×”。
[黏度的測定方法、保存穩定性的評價方法]
使用E型黏度計在25℃下對感光性組成物進行測定。在容積為20mL的螺旋管中保管10g的感光性組成物,密封後在40℃的烘箱中保管7天。測定第1天的黏度及第8天的黏度,算出增黏率(第8天的黏度×100%/(第1天的黏度×7天))。關於保存穩定性,將增黏率-1%/天~小於1%/天的情況設為“○”,將其以外的情況設為“×”。
[實施例2~實施例6、比較例1~比較例4]
以下表的組成與實施例1同樣地製備感光性組成物。以固體成分濃度成為35重量%的方式,調整溶劑的量。以後烘烤後的膜厚成為4.0μm~4.1μm的轉速旋轉塗佈所述感光性組成物,進行與實施例1同樣的評價。關於黏度變化的試驗,也進行與實施例1同樣的評價。將結果示於表2。
實施例1~實施例6的感光性組成物含有鹼可溶性聚合物(A)、多官能環氧化合物(B)、具有聚合性雙鍵的化合物(C)、光聚合起始劑(D)、1,2-醌二疊氮化合物(E)、及溶劑(F)。相對於此,比較例1的感光性組成物不含1,2-醌二疊氮化合物(E)。比較例2的感光性組成物不含鹼可溶性聚合物(A)、及多官能環氧化合物(B),而含有使具有羧基的自由基聚合性單體(a1)、具有環氧基的自由基聚合性單體(b1)、及其他自由基聚合性單體(a2)的混合物聚合而獲得的比較例用聚合物(Z-1)。比較例3的感光性組成物不含鹼可溶性聚合物(A),而含有使其他的自由基聚合性單體(a2)的混合物聚合而獲得的比較例用聚合物(Z-2)。比較例4的感光性組成物不含鹼可溶性聚合物(A),而含有使具有羧基的自由基聚合性單體(a1)聚合而獲得的比較例用聚合物(Z-3)。
由以上所述可明確,實施例1~實施例6中獲得的圖案尺寸均接近於罩幕尺寸,可獲得小的圖案,且保存穩定性良好。相對於此,未使用1,2-醌二疊氮化合物(E)的比較例1的圖案的大小與罩幕尺寸相比大。另外,使用與本發明的鹼可溶性聚合物 (A)不同的比較例用聚合物(Z-1)的比較例2、及使用比較例用聚合物(Z-3)的比較例4中,保存穩定性不良。另外,使用與本發明的鹼可溶性聚合物(A)不同的比較例用聚合物(Z-2)的比較例3中,無法製成圖案。
[產業上的可利用性]
藉由將本發明的感光性組成物用於液晶顯示元件、有機電場發光元件及觸控面板的製造步驟中,可製造保管有效期長且缺陷少的優異液晶顯示元件、有機電場發光元件及觸控面板。特別是可提高黑色矩陣細的高精細顯示器的顯示品質。

Claims (14)

  1. 一種感光性組成物,含有:鹼可溶性聚合物(A)、多官能環氧化合物(B)、具有聚合性雙鍵的化合物(C)、光聚合起始劑(D)、1,2-醌二疊氮化合物(E)、及溶劑(F);相對於鹼可溶性聚合物(A)100重量份,多官能環氧化合物(B)為10重量份~150重量份,具有聚合性雙鍵的化合物(C)為40重量份~400重量份,鹼可溶性聚合物(A)是使含有具有羧基的自由基聚合性單體(a1)與其他自由基聚合性單體(a2)的自由基聚合性單體混合物聚合而獲得,且具有羧基的自由基聚合性單體(a1)與其他自由基聚合性單體(a2)均不具有環氧基或氧雜環丁基。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的感光性組成物,其中,鹼可溶性聚合物(A)是使自由基聚合性單體混合物聚合而獲得的共聚物,所述自由基聚合性單體混合物相對於具有羧基的自由基聚合性單體(a1)與其他自由基聚合性單體(a2)的總重量,含有10重量%~60重量%的具有羧基的自由基聚合性單體(a1)以及含有40重量%~90重量%的其他自由基聚合性單體(a2)。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的感光性組成物,其中,具有羧基的自由基聚合性單體(a1)為選自丙烯酸與甲基丙烯酸中的至少一種。
  4. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的感光性組成物,其 中,其他自由基聚合性單體(a2)含有選自具有芳香環的(甲基)丙烯酸酯、具有二環戊基的(甲基)丙烯酸酯、具有二環戊烯基的(甲基)丙烯酸酯、及N-取代順丁烯二醯亞胺中的至少一種。
  5. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的感光性組成物,其中,其他自由基聚合性單體(a2)相對於其他自由基聚合性單體(a2)的總重量,含有50重量%以上的選自(甲基)丙烯酸苄基酯、(甲基)丙烯酸二環戊基酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯基氧乙酯、N-苯基順丁烯二醯亞胺、及N-環己基順丁烯二醯亞胺中的至少一種。
  6. 如申請專利範圍第1項所述的感光性組成物,其中,多官能環氧化合物(B)為選自縮水甘油醚型環氧化合物(Ba)、脂環式脂肪族環氧化合物(Bb)、及含環氧基的聚合物(Bc)中的至少一種;含環氧基的聚合物(Bc)是使含有具有環氧基的自由基聚合性單體(b1)與其他自由基聚合性單體(b2)的自由基聚合性單體混合物聚合而獲得,且具有環氧基的自由基聚合性單體(b1)與其他自由基聚合性單體(b2)均不具有羧基。
  7. 如申請專利範圍第6項所述的感光性組成物,其中,縮水甘油醚型環氧化合物(Ba)為選自1,3-雙[4-[1-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-1-[4-[1-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-1-甲基乙基]苯基]乙基]苯氧基]-2-丙醇、及2-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-2-[4-[1,1-雙[4-([2,3-環氧丙氧基]苯基)]乙基]苯基]丙烷中的至 少一種,脂環式脂肪族環氧化合物(Bb)為2,2-雙(羥基甲基)-1-丁醇的1,2-環氧-4-(2-氧雜環丙基)環己烷加成物。
  8. 如申請專利範圍第1項所述的感光性組成物,其中,具有聚合性雙鍵的化合物(C)相對於具有聚合性雙鍵的化合物(C)的總重量,含有50重量%以上的選自二季戊四醇六丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、及異氰脲酸環氧乙烷改性三丙烯酸酯中的至少一種。
  9. 如申請專利範圍第8項所述的感光性組成物,其中,具有聚合性雙鍵的化合物(C)為選自二季戊四醇六丙烯酸酯與季戊四醇四丙烯酸酯中的至少一種。
  10. 如申請專利範圍第1項所述的感光性組成物,其中,光聚合起始劑(D)相對於光聚合起始劑(D)的總重量而含有50重量%以上的下述式(D-1)所表示的化合物, 式中,R11、R12、R13分別獨立地為氫、碳數1~5的烷基、碳數2~5的烯基、或碳數2~5的炔基;R14為碳數1~15的烷基、碳數2~15的烯基、或碳數2~15的炔基,n分別獨立地為1~5的整數。
  11. 如申請專利範圍第10項所述的感光性組成物,其中,式(D-1)所表示的化合物為1,2-辛烷二酮-1-[4-(苯硫基)苯基]-2-(O-苯甲醯肟)。
  12. 如申請專利範圍第1項所述的感光性組成物,其中,1,2-醌二疊氮化合物(E)為1,2-萘醌二疊氮磺酸酯。
  13. 如申請專利範圍第12項所述的感光性組成物,其中,1,2-萘醌二疊氮磺酸酯為選自2,3,4-三羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯、及4,4'-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯中的至少一種。
  14. 一種圖案狀透明體,其特徵在於:其是使用如申請專利範圍第1項至第13項中任一項所述的感光性組成物而製造。
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101863249B1 (ko) 2015-08-27 2018-05-31 삼성에스디아이 주식회사 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR20170061056A (ko) * 2015-11-25 2017-06-02 제이엔씨 주식회사 감광성 조성물
KR102504338B1 (ko) * 2015-12-03 2023-02-28 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 유기 절연막
JP2017122912A (ja) * 2016-01-06 2017-07-13 Jnc株式会社 感光性組成物
US20190079396A1 (en) * 2016-03-28 2019-03-14 Zeon Corporation Radiation sensitive resin composition and electronic component
WO2020162464A1 (ja) * 2019-02-05 2020-08-13 日立化成株式会社 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
WO2022030053A1 (ja) * 2020-08-07 2022-02-10 昭和電工マテリアルズ株式会社 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、及びプリント配線板の製造方法
KR20230103406A (ko) * 2021-12-31 2023-07-07 주식회사 동진쎄미켐 감광성 수지 조성물, 표시장치 및 패턴 형성 방법

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200836012A (en) * 2007-02-28 2008-09-01 Chisso Corp Positive type photosensitive resin composition
TW201512774A (zh) * 2013-08-27 2015-04-01 Zeon Corp 放射線感應性樹脂組合物、樹脂膜以及電子元件

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4492393B2 (ja) * 2005-03-08 2010-06-30 チッソ株式会社 感光性組成物およびそれを用いた表示素子
JP2008040180A (ja) * 2006-08-07 2008-02-21 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 層間絶縁膜用感光性樹脂組成物
JP2011053246A (ja) * 2009-08-31 2011-03-17 Fujifilm Corp 感光性樹脂組成物、硬化膜の形成方法、硬化膜、有機el表示装置、及び、液晶表示装置
JP2011138116A (ja) * 2009-12-04 2011-07-14 Jsr Corp 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜並びにそれらの形成方法
JP2012113227A (ja) * 2010-11-26 2012-06-14 Jnc Corp 感光性樹脂組成物、パターン状透明膜、及び表示素子
JP2012185408A (ja) * 2011-03-08 2012-09-27 Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd 感光性樹脂組成物およびタッチパネル用絶縁膜
JP2013171278A (ja) * 2012-02-23 2013-09-02 Sumitomo Chemical Co Ltd 感光性樹脂組成物
TWI479264B (zh) * 2012-12-20 2015-04-01 Chi Mei Corp 感光性樹脂組成物、彩色濾光片及其液晶顯示元件

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200836012A (en) * 2007-02-28 2008-09-01 Chisso Corp Positive type photosensitive resin composition
TW201512774A (zh) * 2013-08-27 2015-04-01 Zeon Corp 放射線感應性樹脂組合物、樹脂膜以及電子元件

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