TWI606307B - 曝光微影裝置、曝光微影系統、儲存程式的記錄媒體和曝光微影方法 - Google Patents
曝光微影裝置、曝光微影系統、儲存程式的記錄媒體和曝光微影方法 Download PDFInfo
- Publication number
- TWI606307B TWI606307B TW102134835A TW102134835A TWI606307B TW I606307 B TWI606307 B TW I606307B TW 102134835 A TW102134835 A TW 102134835A TW 102134835 A TW102134835 A TW 102134835A TW I606307 B TWI606307 B TW I606307B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- image
- information
- exposure
- lithography
- task information
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012215122A JP6198378B2 (ja) | 2012-09-27 | 2012-09-27 | 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201413398A TW201413398A (zh) | 2014-04-01 |
TWI606307B true TWI606307B (zh) | 2017-11-21 |
Family
ID=50387814
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW102134835A TWI606307B (zh) | 2012-09-27 | 2013-09-26 | 曝光微影裝置、曝光微影系統、儲存程式的記錄媒體和曝光微影方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6198378B2 (ja) |
KR (1) | KR102119429B1 (ja) |
CN (1) | CN104662479B (ja) |
TW (1) | TWI606307B (ja) |
WO (1) | WO2014050405A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6096453B2 (ja) * | 2012-09-27 | 2017-03-15 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 |
CN110741746B (zh) * | 2017-06-07 | 2021-05-04 | 株式会社富士 | 元件判定系统及元件判定方法 |
TWI725393B (zh) * | 2019-03-12 | 2021-04-21 | 萬里科技股份有限公司 | 用於戒指攝影的轉盤與光箱 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6172216A (ja) * | 1984-09-17 | 1986-04-14 | Shinku Lab:Kk | 露光方法 |
JPH11307424A (ja) * | 1998-04-22 | 1999-11-05 | Hitachi Ltd | 半導体製造方法および製造装置、ならびにそれにより製造された半導体デバイス |
JP2001284231A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-10-12 | Canon Inc | 露光装置及びエラー発生時のパターンで処理を振り分ける方法 |
JP2002341550A (ja) * | 2001-05-17 | 2002-11-27 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | レーザー露光装置 |
JP4034975B2 (ja) * | 2002-02-13 | 2008-01-16 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体デバイスの製造方法 |
JP4381009B2 (ja) * | 2003-03-12 | 2009-12-09 | 新光電気工業株式会社 | パターン描画装置、パターン描画方法、および検査装置 |
JP4317488B2 (ja) * | 2004-05-28 | 2009-08-19 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置、露光方法および露光処理プログラム |
JP4606990B2 (ja) * | 2005-10-07 | 2011-01-05 | 富士フイルム株式会社 | デジタル露光装置 |
JP2008242218A (ja) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Fujifilm Corp | 描画装置及び描画方法 |
JP4922071B2 (ja) * | 2007-05-28 | 2012-04-25 | 株式会社オーク製作所 | 露光描画装置 |
JP5004786B2 (ja) * | 2007-12-27 | 2012-08-22 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置の反転部 |
JP2009223262A (ja) * | 2008-03-19 | 2009-10-01 | Orc Mfg Co Ltd | 露光システムおよび露光方法 |
JP5333063B2 (ja) * | 2009-08-28 | 2013-11-06 | ウシオ電機株式会社 | 両面露光装置 |
-
2012
- 2012-09-27 JP JP2012215122A patent/JP6198378B2/ja active Active
-
2013
- 2013-08-27 CN CN201380049240.4A patent/CN104662479B/zh active Active
- 2013-08-27 KR KR1020157005395A patent/KR102119429B1/ko active IP Right Grant
- 2013-08-27 WO PCT/JP2013/072818 patent/WO2014050405A1/ja active Application Filing
- 2013-09-26 TW TW102134835A patent/TWI606307B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201413398A (zh) | 2014-04-01 |
CN104662479A (zh) | 2015-05-27 |
JP6198378B2 (ja) | 2017-09-20 |
JP2014071158A (ja) | 2014-04-21 |
KR102119429B1 (ko) | 2020-06-05 |
WO2014050405A1 (ja) | 2014-04-03 |
CN104662479B (zh) | 2016-11-16 |
KR20150060682A (ko) | 2015-06-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101650113B1 (ko) | 노광 장치 및 포토마스크 | |
EP2184643A2 (en) | Exposure device | |
TWI606307B (zh) | 曝光微影裝置、曝光微影系統、儲存程式的記錄媒體和曝光微影方法 | |
CN102804075B (zh) | 对准方法、对准装置及曝光装置 | |
JP2008292915A (ja) | 露光描画装置 | |
TWI581070B (zh) | 曝光微影裝置、記錄程式的記錄媒體以及曝光微影方法 | |
KR100802596B1 (ko) | 아이디위치 검사기능을 갖는 레이저마킹 시스템 및 그검사방법 | |
TWI673502B (zh) | 電子零件搬送裝置及電子零件檢查裝置 | |
KR101674132B1 (ko) | 얼라인먼트 방법, 얼라인먼트 장치 및 노광 장치 | |
JP2007309718A (ja) | 検査装置および検査方法 | |
TWI603160B (zh) | 曝光微影裝置、曝光微影系統、儲存程式的記錄媒體和曝光微影方法 | |
JP6389928B2 (ja) | 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 | |
TW201702758A (zh) | 無罩曝光裝置及曝光方法 | |
JP4317488B2 (ja) | 露光装置、露光方法および露光処理プログラム | |
KR100748108B1 (ko) | 음극선관용 패널의 검사장치 및 그 방법 | |
JP2008170254A (ja) | 基板検査装置 | |
KR20190042179A (ko) | 커버 글라스 분석 장치 | |
TWI578111B (zh) | 曝光微影裝置以及曝光微影方法 | |
KR100823118B1 (ko) | 디스플레이 패널 및 디스플레이 패널의 백라이트 조립 방법 | |
JPH02176972A (ja) | 画像検索システム | |
TWI258638B (en) | Exposing device of strip-shaped work, and method for setting mask and work stage in parallel | |
KR101329238B1 (ko) | 인쇄회로기판 좌표 인식 장치 및 방법 | |
JP2021009080A (ja) | 検査装置、検査システム、及び検査方法 |