JP6389928B2 - 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 - Google Patents

露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6389928B2
JP6389928B2 JP2017125490A JP2017125490A JP6389928B2 JP 6389928 B2 JP6389928 B2 JP 6389928B2 JP 2017125490 A JP2017125490 A JP 2017125490A JP 2017125490 A JP2017125490 A JP 2017125490A JP 6389928 B2 JP6389928 B2 JP 6389928B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
information
image
exposure
job
exposed
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2017125490A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2017161953A (ja
Inventor
幸久 尾崎
幸久 尾崎
佐藤 淳一
淳一 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Adtec Engineering Co Ltd
Original Assignee
Adtec Engineering Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Adtec Engineering Co Ltd filed Critical Adtec Engineering Co Ltd
Priority to JP2017125490A priority Critical patent/JP6389928B2/ja
Publication of JP2017161953A publication Critical patent/JP2017161953A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6389928B2 publication Critical patent/JP6389928B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Description

本発明は、露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法に係り、特に、被露光基板の両面に画像を描画する露光描画装置及び露光描画システムと、当該露光描画装置及び露光描画システムにより実行されるプログラムと、被露光基板の両面に画像を描画する露光描画方法とに関する。
従来、プリント基板である被露光基板に、画像情報に基づいて変調された光ビームを露光し、当該被露光基板に画像を描画する露光描画装置が開発されている。また、被露光基板の両面に画像を描画するために、この露光描画装置を2台並列させ、一方を第1面の描画に使用し、他方を第1面とは反対の第2面の描画に使用する露光描画システムも開発されている。この露光描画システムでは、第1面用の露光描画装置によって被露光基板の第1面に画像が描画された後、当該被露光基板が第2面用の露光描画装置の所定位置まで搬送され、当該露光描画装置によって被露光基板の第2面に画像が描画される。
この露光描画システムに関する技術として、特許文献1には、2台の露光描画装置を用いて被露光基板の第1面及び第2面にそれぞれ画像を描画する際の被露光基板の搬送処理のスループットを向上させた露光描画システムが開示されている。
この露光描画システムが有する各露光描画装置は、被露光基板が載置されるステージと、ステージを直線状に移動させるステージ移動手段と、ステージに載置された被露光基板の第1面に光ビームを走査するビーム走査手段とを有する描画ユニットを備える。また、各露光描画装置は、ステージの移動方向で、描画ユニットの上流側に配置された上流側ユニットと、ステージの移動方向で、描画ユニットの下流側に配置された下流側ユニットとを備える。また、各露光描画装置は、上流側ユニットの被露光基板を保持してステージの移動方向と同一方向である搬送方向に移動させるようにして、描画ユニット内のステージ上に被露光基板を搬入する搬入手段を備える。また、各露光描画装置は、描画ユニット内のステージ上の被露光基板を保持して搬送方向に移動させるようにして、下流側ユニットに被露光基板を搬出する搬出手段を備える。
各露光描画装置では、被露光基板の第1面に光ビームを走査するときに、ステージを搬送方向の上流側から下流側に移動させ、上流側に位置するステージに被露光基板を搬入し、下流側に位置するステージから被露光基板を搬出する。
特開2002−341550号公報
一般に、露光描画装置を用いて被露光基板に画像を描画する際には、作業者が露光描画装置に対して、被露光基板に描画する画像、及び描画する際の露光条件が指定された処理要求(ジョブ)を示すジョブ情報を入力する。複数の被露光基板に同一の画像を同一の露光条件で連続して描画する場合には、ジョブ情報において一連の処理が一括りにされて表される。そして、露光描画装置は、入力されたジョブ情報に基づいて被露光基板に対する露光描画処理を行う。
上記特許文献1に開示された露光描画システムでは、2台の露光描画装置の各々を用いて被露光基板の片面ずつ画像を描画するため、作業者は、一方の露光描画装置に第1面のジョブ情報を入力し、他方の露光描画装置に第2面のジョブ情報を入力する。このように、作業者が各露光描画装置に対して別個にジョブ情報を入力するため、作業者が入力を誤った場合には、被露光基板の各面で相互に対応しない画像が描画されてしまう可能性がある、という問題があった。
また、一方の露光描画装置において露光描画処理に失敗し、不良品となった被露光基板が取り除かれることがある。この場合、ジョブ情報の入力が正しく行われていた場合であっても、他方の露光描画装置に入力されたジョブ情報が更新されなかった場合には、被露光基板の各面で相互に対応しない画像を描画してしまう可能性がある、という問題もあった。
本発明は上記問題に鑑みてなされたものであり、被露光基板の両面に画像を描画する際に各面で相互に対応しない画像を描画してしまうことを防止することができる露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明に係る露光描画装置は、被露光基板の第1面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第1ジョブ情報に基づいて前記第1面を露光することにより、該第1ジョブ情報により示される画像を前記第1面に描画する第1描画手段と、被露光基板の前記第1面とは反対の第2面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが各々対応付けられた複数の第2ジョブ情報を記憶する記憶手段と、前記記憶手段が記憶している前記複数の第2ジョブ情報から、前記第1描画手段で被露光基板の前記第1面に対する画像の描画に用いた前記第1ジョブ情報により示される露光条件情報と同一の露光条件情報を有する前記第2ジョブ情報を選択し、選択した前記第2ジョブ情報に基づいて該第1面に画像を描画した被露光基板の前記第2面を露光することにより、該第2ジョブ情報により示される画像を前記第2面に描画する第2描画手段と、を備えている。
本発明に係る露光描画装置によれば、第1描画手段により、被露光基板の第1面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第1ジョブ情報に基づいて前記第1面を露光することにより、該第1ジョブ情報により示される画像が前記第1面に描画される。
ここで、本発明では、記憶手段により、被露光基板の前記第1面とは反対の第2面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが各々対応付けられた複数の第2ジョブ情報が記憶される。そして、本発明では、第2描画手段により、前記記憶手段が記憶している前記複数の第2ジョブ情報から、前記第1描画手段で被露光基板の前記第1面に対する画像の描画に用いた前記第1ジョブ情報により示される露光条件情報と同一の露光条件情報を有する前記第2ジョブ情報を選択し、選択した前記第2ジョブ情報に基づいて該第1面に画像を描画した被露光基板の前記第2面を露光することにより、該第2ジョブ情報により示される画像が前記第2面に描画される。
このように、本発明の露光描画装置によれば、第1面に画像を描画した際に用いた第1ジョブ情報の露光条件情報と同一の露光条件情報を有する第2ジョブ情報を用いて第2面に画像を描画するので、被露光基板の両面に画像を描画する際に各面で相互に対応しない画像を描画してしまうことを防止することができる。
なお、本発明に係る露光描画装置は、前記露光条件が、前記被露光基板のサイズ、前記被露光基板の露光対象とする枚数、前記被露光基板に画像の描画領域を決定するためのマークが設けられている場合の該マークの配置パターン、及び前記被露光基板の感材種の少なくとも1つを含むようにしても良い。これにより、適用した露光条件で被露光基板の各面に画像を描画することができる。
一方、上記目的を達成するために、本発明に係る露光描画システムは、被露光基板の第1面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第1ジョブ情報に基づいて前記第1面を露光することにより、該第1ジョブ情報により示される画像を前記第1面に描画する第1描画手段、及び前記第1描画手段で被露光基板の前記第1面に対する画像の描画に用いた前記第1ジョブ情報の露光条件情報を送信する送信手段を備えた第1露光描画装置と、被露光基板の前記第1面とは反対の第2面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが各々対応付けられた複数の第2ジョブ情報を記憶する記憶手段、前記送信手段により送信された前記露光条件情報を受信する受信手段、及び前記記憶手段により記憶している前記複数の第2ジョブ情報から、前記受信手段により受信した露光条件情報と同一の露光条件情報を有する前記第2ジョブ情報を選択し、選択した前記第2ジョブ情報に基づいて前記第1描画手段で前記第1面に画像を描画した被露光基板の前記第2面を露光することにより、該第2ジョブ情報により示される画像を該第2面に描画する第2描画手段を備えた第2露光描画装置と、を有している。
本発明に係る露光描画システムによれば、第1露光描画装置の第1描画手段により、被露光基板の第1面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第1ジョブ情報に基づいて前記第1面を露光することにより、該第1ジョブ情報により示される画像が前記第1面に描画される。また、第1露光描画装置の送信手段により、前記第1描画手段で被露光基板の前記第1面に対する画像の描画に用いた前記第1ジョブ情報の露光条件情報が送信される。
一方、本発明に係る露光描画システムでは、第2露光描画装置の第2記憶手段により、被露光基板の前記第1面とは反対の第2面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが各々対応付けられた複数の第2ジョブ情報が記憶される。また、第2露光描画装置の受信手段により、前記送信手段により送信された前記露光条件情報が受信される。さらに、第2露光描画装置の第2描画手段により、前記記憶手段により記憶している前記複数の第2ジョブ情報から、前記受信手段により受信した露光条件情報と同一の露光条件情報を有する前記第2ジョブ情報を選択し、選択した前記第2ジョブ情報に基づいて前記第1描画手段で前記第1面に画像を描画した被露光基板の前記第2面を露光することにより、該第2ジョブ情報により示される画像が該第2面に描画される。
このように、本発明の露光描画システムによれば、第2露光描画装置が、第1面に画像を描画した際に用いた第1ジョブ情報の露光条件情報と同一の露光条件情報を有する第2ジョブ情報を用いて第2面に画像を描画するので、被露光基板の両面に画像を描画する際に各面で相互に対応しない画像を描画してしまうことを防止することができる。
なお、本発明に係る露光描画システムは、前記第1露光描画装置の前記送信手段が、前記第1描画手段による描画が正常に終了した場合の露光条件情報を送信するようにしても良い。これにより、本発明を適用しない場合に比較して、より確実に、被露光基板の両面に画像を描画する際に各面で相互に対応しない画像を描画してしまうことを防止することができる。
また、本発明に係る露光描画システムは、前記第1露光描画装置の前記送信手段が、前記第1描画手段による描画が異常に終了した場合、エラーが発生した旨を示すエラー情報を送信するようにしても良い。これにより、本発明を適用しない場合に比較して、より確実に、被露光基板の両面に画像を描画する際に各面で相互に対応しない画像を描画してしまうことを防止することができる。
一方、上記目的を達成するために、本発明に係る露光描画システムは、被露光基板の第1面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第1ジョブ情報に基づいて前記第1面を露光することにより、該第1ジョブ情報により示される画像を前記第1面に描画する第1描画手段、及び前記第1描画手段で被露光基板の前記第1面に対する画像の描画に用いた前記第1ジョブ情報の露光条件情報を送信する第1送信手段を備えた第1露光描画装置と、被露光基板の前記第1面とは反対の第2面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが各々対応付けられた複数の第2ジョブ情報を記憶する記憶手段、前記第1送信手段により送信された露光条件情報を受信する第1受信手段、及び前記記憶手段により記憶された前記複数の第2ジョブ情報から、前記第1受信手段により受信した露光条件情報と同一の露光条件情報を有する前記第2ジョブ情報を選択し、選択した前記第2ジョブ情報を送信する第2送信手段を備えた制御装置と、前記第2送信手段により送信された前記第2ジョブ情報を受信する第2受信手段、及び前記第2受信手段により受信した前記第2ジョブ情報に基づいて前記第1描画手段により前記第1面に画像を描画した被露光基板の前記第2面を露光することにより、該第2ジョブ情報により示される画像を該第2面に描画する第2描画手段を備えた第2露光描画装置と、を有している。
本発明に係る露光描画システムによれば、第1露光描画装置の第1描画手段により、被露光基板の第1面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第1ジョブ情報に基づいて前記第1面を露光することにより、該第1ジョブ情報により示される画像が前記第1面に描画される。また、第1露光描画装置の第1送信手段により、前記第1描画手段で被露光基板の前記第1面に対する画像の描画に用いた前記第1ジョブ情報の露光条件情報が送信される。
一方、本発明に係る露光描画システムでは、制御装置の記憶手段により、被露光基板の前記第1面とは反対の第2面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが各々対応付けられた複数の第2ジョブ情報が記憶される。また、制御装置の第1受信手段により、前記第1送信手段により送信された露光条件情報が受信される。さらに、制御装置の第2送信手段により、前記記憶手段により記憶された前記複数の第2ジョブ情報から、前記第1受信手段により受信した露光条件情報と同一の露光条件情報を有する前記第2ジョブ情報が選択され、選択された前記第2ジョブ情報が送信される。
さらに、本発明に係る露光描画システムでは、第2露光描画装置の第2受信手段により、前記第2送信手段により送信された前記第2ジョブ情報が受信され、第2露光描画装置の第2描画手段により、前記第2受信手段により受信した前記第2ジョブ情報に基づいて前記第1描画手段により前記第1面に画像を描画した被露光基板の前記第2面を露光することにより、該第2ジョブ情報により示される画像が該第2面に描画される。
このように、本発明の露光描画システムによれば、制御装置が、第1露光描画装置から受信した、第1面に画像を描画した際に用いた第1ジョブ情報の露光条件情報と同一の露光条件情報を有する第2ジョブ情報を第2露光描画装置に送信するので、露光描画装置に新たな機能を追加することなく、被露光基板の両面に画像を描画する際に各面で相互に対応しない画像を描画してしまうことを防止することができる。
なお、本発明に係る露光描画システムは、前記露光条件が、前記被露光基板のサイズ、前記被露光基板の露光対象とする枚数、前記被露光基板に画像の描画領域を決定するためにマークが設けられている場合の該マークの配置パターン、及び前記被露光基板の感材種の少なくとも1つを含むようにしても良い。これにより、適用した露光条件で被露光基板の各面に画像を描画することができる。
一方、上記目的を達成するために、本発明に係るプログラムは、コンピュータを、第1描画手段に、被露光基板の第1面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第1ジョブ情報に基づいて前記第1面を露光することにより、該第1ジョブ情報により示される画像を前記第1面に描画させる第1制御手段と、第2描画手段に、被露光基板の前記第1面とは反対の第2面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが各々対応付けられた複数の第2ジョブ情報から、前記第1描画手段で被露光基板の前記第1面に対する画像の描画に用いた前記第1ジョブ情報の露光条件情報と同一の露光条件情報を有する前記第2ジョブ情報を選択し、選択した前記第2ジョブ情報に基づいて該第1面に画像を描画した被露光基板の前記第2面を露光することにより、該第2ジョブ情報により示される画像を前記第2面に描画させる第2制御手段と、として機能させる。
従って、本発明に係るプログラムによれば、コンピュータを本発明に係る露光描画装置と同様に作用させることができるので、当該露光描画装置と同様に、被露光基板の両面に画像を描画する際に各面で相互に対応しない画像を描画してしまうことを防止することができる。
さらに、上記目的を達成するために、本発明に係る露光描画方法は、第1描画手段に、被露光基板の第1面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第1ジョブ情報に基づいて前記第1面を露光することにより、該第1ジョブ情報により示される画像を前記第1面に描画させる第1制御ステップと、第2描画手段に、被露光基板の前記第1面とは反対の第2面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが各々対応付けられた複数の第2ジョブ情報から、前記第1描画手段で被露光基板の前記第1面に対する画像の描画に用いた前記第1ジョブ情報の露光条件情報と同一の露光条件情報を有する前記第2ジョブ情報を選択し、選択した前記第2ジョブ情報に基づいて該第1面に画像を描画した被露光基板の前記第2面を露光することにより、該第2ジョブ情報により示される画像を前記第2面に描画させる第2制御ステップと、を有している。
従って、本発明に係る露光描画方法によれば、本発明に係る露光描画装置と同様に作用するので、当該露光描画装置と同様に、被露光基板の両面に画像を描画する際に各面で相互に対応しない画像を描画してしまうことを防止することができる。
本発明によれば、被露光基板の両面に画像を描画する際に各面で相互に対応しない画像を描画してしまうことを防止することができる、という効果を奏する。
実施形態に係る露光描画システムの全体の構成を示す概略平面図である。 実施形態に係る第1露光描画装置及び第2露光描画装置の構成を示す斜視図である。 実施形態に係る露光ヘッドによる露光領域および露光ヘッドの配列パターンを示す概略平面図である。 実施形態に係る露光ヘッドにより被露光基板上に描画される画像の画像領域を示す概略平面図である。 実施形態に係る反転装置の構成を示す一部破断斜視図である。 実施形態に係る第1露光描画装置及び第2露光描画装置の電気系の構成を示すブロック図である。 実施形態に係る制御装置の電気系の構成を示すブロック図である。 実施形態に係るジョブ情報の一例を示す模式図である。 実施形態に係るジョブ情報の一例を示す模式図である。 第1実施形態に係るジョブ設定処理プログラムの処理の流れを示すフローチャートである。 第1実施形態に係るジョブ入力画面の構成例を示す構成図である。 第1実施形態に係る露光描画システムによる露光描画処理の説明に供する模式図である。 第1実施形態に係る第1ジョブ実行処理プログラムの処理の流れを示すフローチャートである。 第1実施形態に係る第2ジョブ実行処理プログラムの処理の流れを示すフローチャートである。 第1実施形態に係るジョブ選択画面の構成例を示す構成図である。 第2実施形態に係るジョブ設定処理プログラムの処理の流れを示すフローチャートである。 第2実施形態に係る第1ジョブ実行処理プログラムの処理の流れを示すフローチャートである。 第2実施形態に係るジョブ選択処理プログラムの処理の流れを示すフローチャートである。 第2実施形態に係る第2ジョブ実行処理プログラムの処理の流れを示すフローチャートである。
[第1実施形態]
以下、実施形態に係る露光描画装置について添付図面を用いて詳細に説明する。なお、各実施形態では、本発明を、被露光基板(後述する被露光基板C)に光ビームを露光して回路パターンを示す画像を描画する露光描画システムに適用した場合を例に挙げて説明する。また、被露光基板Cは、プリント配線基板、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板などの平板基板である。
図1に示すように、本実施形態に係る露光描画システム1は、被露光基板Cの第1面に対する露光を行う第1露光描画装置2、及び被露光基板Cの第1面とは反対の第2面に対する露光を行う第2露光描画装置3を備えている。また、露光描画システム1は、第1露光描画装置2及び第2露光描画装置3の間に設けられ、被露光基板Cの表裏を反転する反転装置4、及び被露光基板Cの第1面及び第2面に対する露光を制御する制御装置5を備えている。
また、第1露光描画装置2と制御装置5との間、第2露光描画装置3と制御装置5との間は、それぞれ有線ケーブル8aで接続されており、制御装置5は、第1露光描画装置2及び第2露光描画装置3との間で、有線ケーブル8aを介して通信する。同様に、第1露光描画装置2及び第2露光描画装置3は有線ケーブル8bで接続されており、これらの各露光描画装置は、有線ケーブル8bを介して通信する。
次に、本実施形態に係る第1露光描画装置2及び第2露光描画装置3の構成について説明する。なお、第1露光描画装置2及び第2露光描画装置3は同一の構成を有するため、ここでは第1露光描画装置2について説明し、第2露光描画装置3についての説明を省略する。
図2に示すように、本実施形態に係る第1露光描画装置2は、被露光基板Cを固定するための平板状のステージ10を備えている。また、ステージ10の上面には、空気を吸入する複数の吸入孔(図示省略)が設けられている。ステージ10の上面に被露光基板Cが載置された際に、被露光基板C及びステージ10間の空気が吸入孔を介して吸入されることで被露光基板Cがステージ10に真空吸着される。
また、ステージ10は、卓状の基体11の上面に移動可能に設けられた平板状の基台12に支持されている。すなわち、基体11の上面には、1本または複数本(本実施形態では、2本)のガイドレール14が設けられている。基台12は、ガイドレール14に沿って自在に移動できるように支持されており、モータなどにより構成された駆動機構(後述するステージ駆動部42)により駆動されて移動する。ステージ10は、基台12の移動に連動してガイドレール14に沿って移動する。
なお、以下では、ステージ10が移動する方向をY方向と定め、このY方向に対して水平面内で直交する方向をX方向と定め、Y方向に鉛直面内で直交する方向をZ方向と定める。
基体11の上面には、2本のガイドレール14を跨ぐように立設された門型のゲート15が設けられている。ステージ10に載置された被露光基板Cは、ゲート15の開口部をガイドレール14に沿って出入りするようにして移動する。ゲート15の開口部の上部には、当該開口部に向けて光ビームを露光する露光部16が取り付けられている。この露光部16により、ステージ10がガイドレール14に沿って移動して上記開口部に位置している場合に、ステージ10に載置された被露光基板Cの上面に光ビームが露光される。
本実施形態に係る露光部16は、複数個(本実施形態では、16個)の露光ヘッド16aを含んで構成されている。露光ヘッド16aの各々は、露光部16においてマトリクス状に配列されている。また、露光部16には、後述する光源ユニット17から引き出された光ファイバ18と、後述する画像処理ユニット19から引き出された信号ケーブル20とがそれぞれ接続されている。
露光ヘッド16aの各々は、反射型の空間光変調素子としてのデジタルマイクロミラーデバイス(DMD)を有している。露光ヘッド16aは、画像処理ユニット19から入力される画像情報に基づいてDMDを制御することで光源ユニット17からの光ビームを変調する。第1露光描画装置2は、この変調した光ビームを被露光基板Cに照射することにより被露光基板Cに対する露光を行う。なお、空間光変調素子は反射型に限定されず、液晶などの透過型の空間光変調素子であっても良い。
図3Aに示すように、露光ヘッド16aで露光される領域である画像領域P1は、一方の辺が、ステージ10の移動方向(Y方向)に対して予め定められた傾斜角で傾斜した矩形状である。なお、図3Aにおいては、本実施形態に係る複数の露光ヘッド16aのうちの一部のみを示している。また、ステージ10がゲート15の開口部を移動する際に露光ヘッド16aにより被露光基板Cに光ビームが露光されると、図3Bに示すように、ステージ10の移動に伴って被露光基板Cに露光ヘッド16a毎に帯状の露光済み領域P2が形成される。マトリクス状に配列された露光ヘッド16aの各々は、X方向に、画像領域P1の長辺の長さを自然数倍(本実施形態では、1倍)した距離ずつずらして配置されている。そして、露光済み領域P2の各々は、隣接する露光済み領域P2と部分的に重ねられて形成される。
図2に示すように、基体11の上面には、さらに、2本のガイドレール14を跨ぐように立設された門型のゲート22が設けられている。ステージ10に載置された被露光基板Cは、ゲート22の開口部をガイドレール14に沿って出入りするようにして移動する。
ゲート22の開口部の上部には、開口部を撮影するための1個または複数個(本実施形態では、3個)の撮影部23が取り付けられている。撮影部23は、1回の発光時間が極めて短いストロボを内蔵したCCDカメラなどである。また、ゲート22の開口部の上部には、水平面内においてステージ10の移動方向(Y方向)に対して垂直な方向(X方向)に沿ってレール23aが設けられ、撮影部23の各々はレール23aに案内されて移動可能に設けられている。この撮影部23により、ステージ10がガイドレール14に沿って移動して上記開口部に位置している場合に、ステージ10に載置された被露光基板Cの上面が撮影される。
図1及び図2に示すように、第1露光描画装置2は、外部から搬入された被露光基板Cを第1露光描画装置2の所定位置まで搬送する第1搬送部6、被露光基板Cを第1露光描画装置2から反転装置4の所定位置まで搬送する第2搬送部7を備えている。同様に、第2露光描画装置3は、被露光基板Cを反転装置4から第2露光描画装置3の所定位置まで搬送する第1搬送部6、被露光基板Cを第2露光描画装置3の外部へ搬送する第2搬送部7を備えている。
第1搬送部6及び第2搬送部7は、複数の回転ローラと当該回転ローラを回転する駆動モータとを有している。上記複数の回転ローラは、各々が平行に敷設され、回転ローラの一端にはベルト又はワイヤーによって伝達される回転力を受けるスプロケット又は滑車が取り付けられる。回転ローラを回転する駆動モータの回転力を伝達する手段としては、ベルト又はワイヤー以外に円筒状のマグネットによる伝達方法も採用できる。
また、図2に示すように、第1露光描画装置2は、第1搬送部6により所定位置まで搬送されてきた被露光基板Cを、当該所定位置からステージ10まで搬送するオートキャリアハンド(以下、ACハンド)24を備えている。ACハンド24は平板状に形成されるとともに、X方向及びZ方向に移動可能に設けられている。ACハンド24の下面には、空気を吸入する複数の吸入孔25が設けられている。ACハンド24は、ACハンド24の下面が被露光基板Cの上面に接する位置に移動した際に、ACハンド24及び被露光基板Cの間の空気を吸入孔25で吸入することにより、被露光基板CをACハンド24の下面に真空吸着させて吸着保持する。また、ACハンド24の下面には、被露光基板Cを吸着保持した状態でACハンド24がステージ10の上面まで移動した際に、被露光基板Cを下方に向けて押し出してステージ10に押し付けるZ方向に移動自在な押付部26が設けられている。
第1露光描画装置2のACハンド24は、第1搬送部6まで搬送されてきた未露光の被露光基板Cを吸着保持して上方に移動させ、ステージ10の上面に載置する。また、第1露光描画装置2のACハンド24は、ステージ10の上面に載置された第1面が露光済みの被露光基板Cを吸着保持することにより上方に移動させ、被露光基板Cを第2搬送部7まで移動させる。第2搬送部7まで移動した第1面が露光済みの被露光基板Cは、第2搬送部7により第1露光描画装置2の外部へ搬出される。
また、第2露光描画装置3のACハンド24は、第1搬送部6まで搬送されてきた第1面が露光済みの被露光基板Cを吸着保持して上方に移動させ、被露光基板Cをステージ10の上面に載置する。また、第2露光描画装置3のACハンド24は、ステージ10の上面に載置された第1面及び第2面が露光済みの被露光基板Cを吸着保持することにより上方に移動させ、被露光基板Cを第2搬送部7まで移動させる。第2搬送部7まで移動した第1面及び第2面が露光済みの被露光基板Cは、第2搬送部7により露光描画システム1の外部へ搬出される。
次に、本実施形態に係る反転装置4の構成について説明する。
図4に示すように、反転装置4は、回動軸Lに回動自在に軸支された平板状のサブフレーム30を備えている。サブフレーム30は、被露光基板Cを内部に保持した状態で180度回転することにより被露光基板Cの表裏を反転させる。
また、図4に示すように、サブフレーム30が有する側面のうちの第1露光描画装置2が位置する側の側面に、被露光基板Cがサブフレーム30の内部に搬入される搬入口31設けられている。さらに、サブフレーム30の内部にはモータ33で駆動される複数のローラ対34が設けられている。ローラ対34は、サブフレーム30の内部に収納された被露光基板Cを挟持した状態で搬送する。被露光基板Cは、ローラ対34によって搬入口31を介してサブフレーム30の内部に搬送されると共に、サブフレーム30の回転によって表裏が反転され、ローラ対34によって搬入口31を介してサブフレーム30の外部に搬送される。なお、サブフレーム30は、被露光基板Cの搬出を終えると、次の被露光基板Cを内部に搬入するために再び180度回動する。
次に、本実施形態に係る第1露光描画装置2及び第2露光描画装置3の電気系の構成について説明する。なお、第1露光描画装置2及び第2露光描画装置3は同一の電気系の構成を有するため、ここでは第1露光描画装置2について説明し、第2露光描画装置3についての説明を省略する。
図5に示すように、第1露光描画装置2には、装置各部にそれぞれ電気的に接続されるシステム制御部40が設けられており、このシステム制御部40により第1露光描画装置2の各部が統括的に制御される。また、第1露光描画装置2は、ジョブ記憶部41、ステージ駆動部42、表示装置43、入力装置44、撮影駆動部46、及び外部入出力部48を有している。
システム制御部40は、CPU(Central Processing Unit)、RAM(Random Access Memory)、ROM(Read Only Memory)、及びHDD(Hard Disk Drive)を有している。また、システム制御部40は、上記CPUにより、ステージ10の移動に応じたタイミングで、光源ユニット17から光ビームを出射させると共に、対応する画像情報を画像処理ユニット19により出力させる。システム制御部40は、このようにして露光ヘッド16aによる被露光基板Cに対する光ビームの露光を制御する。
ジョブ記憶部41は、RAMや不揮発性メモリを有し、実行対象とするジョブを示すジョブ情報を記憶する。本実施形態におけるジョブは、同一種類の1枚または複数枚の被露光基板Cの第1面に同一の画像を同一条件で露光描画すると共に、第2面にも同一の画像を同一条件で露光描画する一括りの露光処理要求である。なお、ジョブ情報の詳細については後述する。本実施形態では、ジョブ記憶部41は、実行対象とするジョブのジョブ情報をリスト形式で記憶するが、これに限定されず、キュー形式で記憶しても良い。
ステージ駆動部42は、モータまたは油圧ポンプなどにより構成された駆動機構を有しており、システム制御部40の制御によってステージ10を駆動する。
表示装置43は、システム制御部40の制御により各種情報を表示する液晶ディスプレイ等の表示手段である。
入力装置44は、ユーザ操作により各種情報を入力するタッチセンサや操作ボタン等の入力手段である。
撮影駆動部46は、モータまたは油圧ポンプなどにより構成された駆動機構を有しており、システム制御部40の制御によって撮影部23を駆動する。
外部入出力部48は、第1露光描画装置2に接続された第2露光描画装置3及び制御装置5を含む各種情報処理装置との間で各種情報の入出力を行う。なお、第2露光描画装置3の外部入出力部48は、第2露光描画装置3に接続された第1露光描画装置2及び制御装置5を含む各種情報処理装置との間で各種情報の入出力を行う。
次に、本実施形態に係る制御装置5の電気系の構成について説明する。
図6に示すように、制御装置5は、露光描画システム1における露光描画処理を制御する制御部50を備えている。また、制御装置5は、制御部50による露光描画処理に必要なプログラムや各種データを記憶するROM及びHDD等を有する記憶部51を備えている。なお、記憶部51は、ジョブ情報、ジョブ設定処理プログラム、第1ジョブ実行処理プログラム、第2ジョブ実行処理プログラム、及び第2実施形態のジョブ選択処理プログラムも記憶している。
また、制御装置5は、制御部50の制御に基づいて各種情報を表示する液晶ディスプレイ等の表示部52、及びユーザ操作により各種情報を入力するキーボードやマウス等の入力部53を備えている。さらに、制御装置5は、制御部50の制御に基づいて第1露光描画装置2及び第2露光描画装置3に対する各種情報の送受信を行う通信インタフェース54を備えている。
ここで、本実施形態に係る制御装置5は、ユーザ操作によるジョブに関する情報の入力を受け付ける。また、制御装置5は、ジョブに関する情報の入力を受け付けた際、第1露光描画装置2及び第2露光描画装置3に各々対応するジョブ情報を生成し、生成したジョブ情報を各々対応する露光描画装置に送信する。本実施形態に係る第1露光描画装置2及び第2露光描画装置3は、ジョブ情報を受信した際、受信したジョブ情報をジョブ記憶部41に記憶し、記憶したジョブの内容に従って被露光基板Cに対する露光描画処理を実行する。この際、本実施形態に係る第1露光描画装置2は、複数のジョブ情報を記憶している場合には、各ジョブ情報を受信した順に、各ジョブ情報によって示されるジョブを実行する。なお、本実施形態に係る第2露光描画装置3は、第1露光描画装置2で実行されたジョブに対応するジョブを順次実行する。
ジョブ情報の生成に際し、制御装置5は、第1露光描画装置2に被露光基板Cの第1面に画像を描画させるためのジョブ情報60A、及び第2露光描画装置3に被露光基板Cの第2面に画像を描画させるためのジョブ情報60Bをそれぞれ生成する。すなわち、同一の被露光基板Cに関するジョブであっても、第1面及び第2面に対してそれぞれ別個の露光描画装置で露光描画処理を行うため、第1面用のジョブ情報60A、及び第2面用のジョブ情報60Bをそれぞれ別個に生成する。
ジョブ情報60A、60Bは、一例として図7A及び図7Bに示すように、ジョブ識別情報61と、画像情報62と、露光条件情報63とがそれぞれジョブ毎に対応付けられた情報である。なお、ジョブ識別情報61は、各々のジョブを識別するための情報である。また、画像情報62は、描画対象とする画像を示す情報である。また、露光条件情報63は、被露光基板Cに対応する画像を描画するために光ビームを露光する際の露光条件を示す情報である。本実施形態に係る露光条件情報63は、描画対象とする被露光基板C(以下、「対象基板」という。)の基板サイズを示す基板サイズ情報、及び対象基板の描画枚数を示す描画枚数情報を含んでいる。また、本実施形態に係る露光条件情報63は、対象基板に対応する画像の描画領域を決定するためのマークが設けられている場合の当該マークの配置パターンが座標で示されたマーク情報、及び対象基板の感材種を示す感材種情報等を含んでいる。しかしながら、露光条件情報63に含まれる情報はこれらに限定されず、光ビームの強度を示す情報、ステージ10の移動速度を示す情報等、露光描画処理を行う際に使用される情報であれば任意の情報であって良い。
作業者は、第1露光描画装置2及び第2露光描画装置3にジョブを実行させたい場合に、入力部53を介して、ジョブ情報60A、60Bに含まれる各情報を制御装置5に入力する。これに応じて、制御装置5は、入力された各情報に基づいて第1面用のジョブ情報60A、及び第2面用のジョブ情報60Bを生成して記憶部51に記憶するジョブ設定処理を行う。
次に、図8を参照して、本実施形態に係る露光描画システム1の作用を説明する。なお、図8は、入力部53を介して実行指示が入力された際に制御装置5の制御部50によって実行されるジョブ設定処理プログラムの処理の流れを示すフローチャートである。当該プログラムは、記憶部51のROMの所定領域に予め記憶されている。
まず、ステップS101では、ユーザによるジョブに関する情報の入力を補助するためのジョブ入力画面を表示部52に表示させる制御を行う。図9に示すように、本実施形態に係るジョブ入力画面70は、第1面のジョブに関する入力か第2面のジョブに関する入力かを選択する描画対象面選択欄71を有している。また、ジョブ入力画面70は、描画する画像を示す画像識別情報を入力する画像入力欄72を有している。画像識別情報は、画像情報を含むファイルのファイル名や、画像ファイルの格納先を示すURL(Uniform Resource Locator)等である。また、ジョブ入力画面70は、入力対象とするジョブに適用される被露光基板Cの基板種類を示す基板種類情報を入力する基板種類入力欄73を有している。また、ジョブ入力画面70は、対象とするジョブにおける被露光基板Cの描画枚数を示す描画枚数情報を入力する描画枚数入力欄74を有している。さらに、ジョブ入力画面70は、入力が終了した旨を示す情報を指定するための入力終了ボタン75を有している。なお、各入力欄に各情報を入力する際、入力欄毎にリスト表示等によって選択候補が表示され、表示された選択候補の何れか1つを入力部53を介して選択するようにしても良い。ユーザは、入力部53を用いて、描画対象面選択欄71で描画対象とする面を選択し、各入力欄に対応する情報を入力した後、入力終了ボタン75を指定する。
そこで、次のステップS103では、入力終了ボタン75が指定されるまで待機することにより、ジョブに関する情報の入力が終了するまで待機する。
次のステップS105では、描画対象面選択欄71で選択された描画対象の面、及び各入力欄に入力された各情報に基づいてジョブ情報60A、60Bを生成し、生成したジョブ情報60A、60Bを記憶部51に記憶する。この際、制御部50は、描画対象面選択欄71で第1面が選択された場合、画像入力欄72に入力された情報が示す画像の画像情報を画像情報62とし、描画枚数入力欄74に入力された情報を描画枚数情報とし、第1面のジョブ情報60Aを生成する。また、ジョブ情報60Aでは、基板種類入力欄73に入力された情報から、基板サイズ情報、マーク情報、及び感材種情報を決定する。すなわち、本実施形態に係る露光描画システム1では、被露光基板Cの基板種類毎に、基板サイズ情報、マーク情報、及び感材種情報がそれぞれ対応付けられて記憶部51に記憶されている。そして、本実施形態に係る露光描画システム1では、基板種類入力欄73に入力された情報が示す基板種類に対応する基板サイズ情報、マーク情報、及び感材種情報を、ジョブ情報60Aの基板サイズ情報、マーク情報、及び感材種情報とする。
また、制御部50は、描画対象面選択欄71で第2面が選択された場合、画像入力欄72に入力された情報が示す画像の画像情報を画像情報62とし、描画枚数入力欄74に入力された情報を描画枚数情報として、第2面のジョブ情報60Bを生成する。また、制御部50は、ジョブ情報60Bでも、ジョブ情報60Aと同様にして、基板サイズ情報、マーク情報、及び感材種情報を決定して適用する。
次のステップS107では、上記ステップS105の処理において生成したジョブ情報が、第1面のジョブ情報60Aであるか否かを判定する。ステップS107で肯定判定となった場合はステップS109に移行し、生成したジョブ情報60Aを第1露光描画装置2に有線ケーブル8aを介して送信する。これに対して第1露光描画装置2は、受信したジョブ情報60Aを自身のジョブ記憶部41に記憶する。
一方、ステップS107で否定判定となった場合は上記ステップS105の処理によって生成したジョブ情報が第2面のジョブ情報60Bであったと見なしてステップS111に移行する。
ステップS111では、生成したジョブ情報60Bを第2露光描画装置3に有線ケーブル8aを介して送信した後、本ジョブ設定処理プログラムを終了する。これに対して第2露光描画装置3は、受信したジョブ情報60Bを自身のジョブ記憶部41に記憶する。
このように、本実施形態に係る露光描画システム1では、図10に示すように、制御装置5が、ユーザによって入力された情報に基づいて第1面のジョブ情報60A、及び第2面のジョブ情報60Bを生成する。そして、制御装置5によって生成された第1面のジョブ情報60Aは第1露光描画装置2のジョブ記憶部41に受信された順に記憶され、第2面のジョブ情報60Bは第2露光描画装置3のジョブ記憶部41に受信された順に記憶される。
第1露光描画装置2は、制御装置5からジョブ情報60Aを受信して記憶すると、予め定められたユーザ操作に従って、記憶したジョブ情報60Aを用いて被露光基板Cの第1面に画像を描画する第1ジョブ実行処理を行う。
次に、図11を参照して、本実施形態に係る第1ジョブ実行処理を実行する際の第1露光描画装置2の作用を説明する。なお、図11は、この際に第1露光描画装置2のシステム制御部40によって実行される第1ジョブ実行処理プログラムの処理の流れを示すフローチャートである。当該プログラムは、システム制御部40が備えているROMの所定領域に予め記憶されている。なお、当該プログラムが実行されるタイミングは、予め定められたユーザ操作に従ったタイミングに限らず、ジョブ情報60Aを受信したタイミングであっても良い。
始めに、ステップS200では、ジョブ記憶部41に記憶しているジョブ情報60Aを表示装置43に表示させる制御を行う。この際、システム制御部40は、複数のジョブ情報60Aが記憶されている場合には、各ジョブ情報60Aをリスト形式で表示させる制御を行う。ユーザは、実行対象とするジョブ情報60Aの描画枚数情報により示される枚数の被露光基板Cを第1露光描画装置2の第1搬送部6の上流側に配置する。そして、ユーザは、入力装置44を介して、表示されたジョブ情報60Aを選択指定することにより、指定したジョブ情報60Aによって示されるジョブの実行指示を入力する。
次のステップS201では、上記ジョブの実行指示が入力されるまで待機し、次のステップS203では、実行が指示されたジョブ(以下、「実行第1面ジョブ」という。)に対応するジョブ情報60Aから画像情報62を取得する。なお、本実施形態では、描画する画像の画像情報62を取得する際、自身のジョブ記憶部41に記憶されている画像情報(ジョブ情報60Aの画像情報62)を取得するが、これに限定されない。すなわち、ジョブ情報60Aに上記画像識別情報を付与しておき、当該画像識別情報に基づいて、描画する画像の画像情報を、制御装置5や外部の記憶装置から取得しても良い。
次のステップS205では、実行第1面ジョブの実行により被露光基板Cに画像を描画する際の露光条件を決定する。この際、システム制御部40は、実行第1面ジョブのジョブ情報60Aにおける基板サイズ情報、描画枚数情報、マーク情報、及び感材種情報に基づいて露光条件を決定する。本実施形態では、まず、システム制御部40は、撮影部23により被露光基板Cに設けられた上記マークを撮影し、撮影によって得られた画像から当該マークの位置を計測する。また、システム制御部40は、計測したマークの位置に基づいて画像を描画する描画領域を決定する。さらに、システム制御部40は、決定した描画領域のサイズや形状に基づいて描画対象とする画像を変形させる。そして、システム制御部40は、上記感材種情報が示す感材種に応じて、露光する光ビームの強度、ステージ10の移動速度(または光ビームの露光時間)等を決定する。
次のステップS207では、決定した露光条件に応じて、被露光基板Cに光ビームを露光して画像を描画する露光描画処理を開始する。本実施形態に係る露光描画処理では、システム制御部40は、変形させた画像に基づいて変調させた光ビームを露光ヘッド16aにより露光することにより当該変形させた画像を被露光基板Cに描画する。
次のステップS209では、予め定められたエラーが発生したか否かを判定する。この際、システム制御部40は、被露光基板Cの変形や位置決め不良、光源ユニット17や画像処理ユニット19、露光部16等の露光描画を行う際に用いられる部位の故障等により露光描画処理が途中で停止した場合等に、エラーが発生したと判定する。ステップS209で肯定判定となった場合はステップS211に移行し、エラーが発生した旨を示すエラー情報を制御装置5に送信し、本第1ジョブ実行処理プログラムを終了する。これに対し、エラー情報を受信した制御装置5は、エラー情報を表示部52に表示させる制御を行う。なお、システム制御部40は、エラー情報を第2露光描画装置3に送信しても良い。これに対し、エラー情報を受信した第2露光描画装置3は、当該エラー情報を表示装置43に表示する制御を行ったり、エラーが発生した実行第1面ジョブに対応するジョブのジョブ情報60Bを削除したりする。
一方、ステップS209で肯定判定となった場合はステップS213に移行する。
ステップS213では、1枚の被露光基板Cに対する露光描画処理が完了したか否かを判定する。ステップS213で否定判定となった場合は上記ステップS209に戻る一方、ステップS213で肯定判定となった場合はステップS215に移行する。
ステップS215では、実行第1面ジョブの露光条件情報63を第2露光描画装置3に送信する。なお、本実施形態では、第1露光描画装置2から第2露光描画装置3に実行第1面ジョブの露光条件情報63を送信するが、これに限定されない。すなわち、送信される情報は、第2露光描画装置3が実行第1面ジョブの露光条件情報63を含んだ情報であれば良いため、例えばジョブ情報60Aそのものであっても良い。また、送信される情報は、実行第1面ジョブの露光条件情報63に含まれる予め定められた情報(例えば基板サイズ情報のみ、基板サイズ及びマーク情報等)であってもよい。
次のステップS217では、実行第1面ジョブが完了したか否かを判定する。この際、システム制御部40は、露光条件情報63の描画枚数情報に示される描画枚数の被露光基板Cに対する露光描画処理が完了した場合に、実行第1面ジョブが完了したと判定する。
ステップS217で否定判定となった場合は上記ステップS209に戻る一方、肯定判定となった場合は本第1ジョブ実行処理プログラムを終了する。
本実施形態に係る第2露光描画装置3は、実行第1面ジョブの露光条件情報63を第1露光描画装置2から受信すると、露光条件情報63と制御装置5から受信したジョブ情報60Bとに基づいて、被露光基板Cの第2面に画像を描画する第2ジョブ実行処理を行う。
次に、図12を参照して、本実施形態に係る第2ジョブ実行処理を実行する際の第2露光描画装置3の作用を説明する。なお、図12は、この際に第2露光描画装置3のシステム制御部40によって実行される第2ジョブ実行処理プログラムの処理の流れを示すフローチャートである。当該プログラムは、システム制御部40が備えているROMの所定領域に予め記憶されている。なお、当該プログラムが実行されるタイミングは、実行対象のジョブのジョブ識別情報を受信したタイミングに限らず、ユーザにより入力装置44を介して予め定められた実行指示が入力されたタイミング等であっても良い。
始めに、ステップS301では、ジョブ記憶部41に記憶しているジョブ情報60Bに、受信した実行第1面ジョブの露光条件情報63と同一の露光条件情報63を有するジョブ情報60Bが複数存在するか否かを判定する。
ステップS301で肯定判定となった場合はステップS303に移行し、ユーザによるジョブの選択を補助するためのジョブ選択画面76を表示装置43に表示する制御を行う。図13に示すように、本実施形態に係るジョブ選択画面76は、ジョブ記憶部41に記憶されているジョブ情報60Bの何れか1つを選択する選択ボタン77、及び何れのジョブも選択しない非選択ボタン78を有している。ユーザは、入力装置44を用いて、何れかの選択ボタン77または非選択ボタン78を指定する。
次のステップS304では、何れかの選択ボタン77または非選択ボタン78が選択されるまで待機する。
次のステップS305では、何れかのジョブが選択されたか否かを判定する。この際、システム制御部40は、何れかの選択ボタン77が選択された場合、何れかのジョブが選択されたと判定(肯定判定)し、非選択ボタン78が選択された場合、何れかのジョブが選択されなかったと判定(否定判定)する。
ステップS305で肯定判定となった場合は、選択されたジョブを実行対象とするジョブ(以下、「実行第2面ジョブ」という。)とし、後述するステップS309に移行する。一方、ステップS305で否定判定となった場合はステップS317に移行し、ジョブが選択されなった旨を示すエラー情報を制御装置5に送信して、本第2ジョブ実行処理プログラムを終了する。これに対し、制御装置5は、受信したエラー情報を表示部52に表示する制御を行う。
一方、ステップS301で否定判定となった場合はステップS307に移行する。
ステップS307では、ジョブ記憶部41に記憶しているジョブ情報60Bに、受信した実行第1面ジョブの露光条件情報63と同一の露光条件情報63を有する第2面のジョブを示すジョブ情報60Bが1つのみ存在するか否かを判定する
ステップS307で否定判定となった場合はステップS317に移行し、実行対象とするジョブが存在しない旨を示すエラー情報を制御装置5に送信し、本第2ジョブ実行処理プログラムを終了する。これに対し、制御装置5は、受信したエラー情報を表示部52に表示する制御を行う。
一方、ステップS307で肯定判定となった場合は、上記ステップS307の処理によって存在すると判定されたジョブ情報60Bを実行第2面ジョブとし、ステップS309に移行する。なお、この際、上記ステップS307の処理によって存在すると判定されたジョブ情報60Bを表示装置43に表示し、当該ジョブ情報60Bにより示されるジョブの実行指示の入力を受け付けても良い。この場合には、実行指示の入力を受け付けた後に、ステップS309に移行する。
ステップS309では、実行第2面ジョブのジョブ情報60Bから被露光基板Cの第2面に描画する画像の画像情報62を取得する。なお、本実施形態では、画像情報62を取得する際、自身のジョブ記憶部41に記憶されている画像情報(ジョブ情報60Bの画像情報62)を取得するが、これに限定されない。すなわち、ジョブ情報60Bに上記画像識別情報を付与しておき、当該画像識別情報に基づいて、描画する画像の画像情報を、制御装置5や外部の記憶装置から取得しても良い。
次のステップS311では、実行対象とするジョブである実行第2面ジョブにおいて被露光基板Cに画像を描画する際の露光条件を決定する。この際、システム制御部40は、上記ステップS205と同様の手法で、実行第2面ジョブのジョブ情報60Bにおける基板サイズ情報、描画枚数情報、マーク情報、及び感材種情報に基づいて露光条件を決定する。
一例として図7A及び図7Bに示すように、ジョブAとジョブA’とは同一の露光条件情報63を有し、ジョブBとジョブB’とは同一の露光条件情報63を有するとする。また、一例として図10に示すように、第1露光描画装置2において、第1面に対応する画像を描画するジョブAのジョブ情報60A、ジョブBのジョブ情報60A等が記憶されているとする。さらに、第2露光描画装置3において、第2面に対応する画像を描画するジョブA’のジョブ情報60B、ジョブB’のジョブ情報60Bが記憶されているとする。この状態で第1露光描画装置2においてジョブAが実行された場合、第2露光描画装置3では、ジョブAと同一の露光条件情報63を有するジョブA’が実行対象とされる。
次のステップS313では、前述した第1ジョブ実行処理プログラムのステップS207の処理と同様に、決定した露光条件に応じて、被露光基板Cに光ビームを露光して画像を描画する露光描画処理を開始する。
次のステップS315では、予め定められたエラーが発生したか否かを判定する。この際、システム制御部40は、被露光基板Cの変形や位置決め不良、光源ユニット17や画像処理ユニット19、露光部16等の露光描画を行う際に用いられる部位の故障等により露光描画処理が途中で停止した場合等に、エラーが発生したと判定する。ステップS315で肯定判定となった場合はステップS317に移行し、エラーが発生した旨を示すエラー情報を制御装置5に送信し、本第2ジョブ実行処理プログラムを終了する。これに対し、制御装置5は、受信したエラー情報を表示部52に表示する制御を行う。
一方、ステップS315で肯定判定となった場合はステップS319に移行する。
ステップS319では、被露光基板Cに対する露光描画処理が完了したか否かを判定する。ステップS319で否定判定となった場合は上記ステップS315に戻る一方、肯定判定となった場合はステップS321に移行する。
次のステップS321では、実行第2面ジョブが完了したか否かを判定する。この際、システム制御部40は、露光条件情報63の描画枚数情報に示される描画枚数の被露光基板Cに対する露光描画処理が完了した場合に、実行第2面ジョブが完了したと判定する。ステップS321で否定判定となった場合はステップS323に移行する。
ステップS323では、実行第2面ジョブにおける次の被露光基板Cに対する画像の描画を行うための露光条件情報を受信するまで待機する。
次のステップS325では、受信した露光条件情報が、実行第2面ジョブのジョブ情報60Bの露光条件情報と同一であるか否かを判定する。ステップS325で肯定判定となった場合は、実行第2面ジョブの実行を継続し、上記ステップS315に移行する。一方、ステップS325で否定判定となった場合はステップS317に移行し、実行第2面ジョブのジョブ情報60Bの露光条件情報とは異なった露光条件情報を受信した旨を示すエラー情報を制御装置5に送信して、本第1ジョブ実行処理プログラムを終了する。
一方、ステップS321で肯定判定となった場合は本第1ジョブ実行処理プログラムを終了する。
[第2実施形態]
以下、第2実施形態に係る露光描画システム1について添付図面を用いて詳細に説明する。
上記第1実施形態では、第1露光描画装置2から第2露光描画装置3に実行第1面ジョブを示す情報を送信し、第2露光描画装置3で対応するジョブを選択して実行する。一方、第2実施形態では、第1露光描画装置2から制御装置5に実行第1面ジョブを示す情報を送信し、制御装置5で対応するジョブを選択し、選択したジョブを第2露光描画装置3に送信する。
なお、第2実施形態に係る露光描画システム1の構成は、第1実施形態に係る露光描画システム1と同様であるので、ここでは説明は省略する。
次に、図14を参照して、本実施形態に係るジョブ設定処理を実行する際の制御装置5の作用を説明する。なお、図14は、この際に制御装置5の制御部50によって実行されるジョブ設定処理プログラムの処理の流れを示すフローチャートである。当該プログラムは、記憶部51のROMの所定領域に予め記憶されている。
まず、ステップS401乃至S405では、第1実施形態のステップS101乃至S105と同様の処理を行う。
次のステップS407では、生成した第1面のジョブ情報60Aを第1露光描画装置2に有線ケーブル8aを介して送信して、本ジョブ設定処理プログラムを終了する。第1露光描画装置2は、受信したジョブ情報60Aをジョブ記憶部41に記憶する。
第1露光描画装置2は、ジョブ情報60Aを記憶すると、予め定められたユーザ操作に従って、ジョブ情報60Aに基づいて被露光基板Cの第1面に画像を描画する第1ジョブ実行処理を行う。
次に、図15を参照して、本実施形態に係る第1ジョブ実行処理を実行する際の第1露光描画装置2の作用を説明する。なお、図15は、この際に第1露光描画装置2のシステム制御部40によって実行される第1ジョブ実行処理プログラムの処理の流れを示すフローチャートである。当該プログラムは、システム制御部40が備えているROMの所定領域に予め記憶されている。なお、当該プログラムが実行されるタイミングは、予め定められたユーザ操作に従ったタイミングに限らず、ジョブ情報60Aを受信したタイミング等であっても良い。
ステップS500乃至S513では、第1実施形態のステップS201乃至S213と同様の処理を行う。
ステップS515では、実行第1面ジョブのジョブ情報60Aにおける露光条件情報63を制御装置5に送信する。
次のステップS517では、第1実施形態のステップS217と同様の処理を行い、本第1ジョブ実行処理プログラムを終了する。
本実施形態に係る制御装置5は、ジョブ情報60Aの露光条件情報を第1露光描画装置2から受信すると、記憶部51に記憶しているジョブ情報60Bから、受信した露光条件情報と同一の露光条件情報を有するジョブ情報60Bを選択するジョブ選択処理を行う。
次に、図16を参照して、本実施形態に係るジョブ選択処理を実行する際の制御装置5の作用を説明する。なお、図16は、この際に制御装置5の制御部50によって実行されるジョブ選択処理プログラムの処理の流れを示すフローチャートである。当該プログラムは、記憶部51のROMの所定領域に予め記憶されている。なお、当該プログラムが実行されるタイミングは、露光条件情報を受信したタイミングに限らず、ユーザにより入力部53を介して予め定められた実行指示が入力されたタイミング等であっても良い。
まず、ステップS601では、記憶部51に記憶している第2面のジョブ情報60Bのうち、受信した実行第1面ジョブの露光条件情報63と同一の露光条件情報63を有する第2面のジョブ情報60Bが存在するか否かを判定する。
ステップS601で肯定判定となった場合はステップS605に移行し、実行第1面ジョブの露光条件情報63と同一の露光条件情報63を有する第2面のジョブ情報60Bを第2露光描画装置3に有線ケーブル8aを介して送信する。第2露光描画装置3は、受信した第2面のジョブ情報60Bをジョブ記憶部41に記憶する。
一方、ステップS601で否定判定となった場合はステップS605に移行し、実行第1面ジョブの露光条件情報63と同一の露光条件情報63を有する第2面のジョブ情報60Bが存在しない旨を示すエラー情報を表示部52に表示する制御を行う。
本実施形態に係る第2露光描画装置3は、上記第2面のジョブ情報60Bを制御装置5から受信すると、受信したジョブ情報60Bに基づいて、被露光基板Cの第2面に画像を描画する第2ジョブ実行処理を行う。
次に、図17を参照して、本実施形態に係る第2ジョブ実行処理を実行する際の第2露光描画装置3の作用を説明する。なお、図17は、この際に第2露光描画装置3のシステム制御部40によって実行される第2ジョブ実行処理プログラムの処理の流れを示すフローチャートである。当該プログラムは、システム制御部40が備えているROMの所定領域に予め記憶されている。なお、当該プログラムが実行されるタイミングは、ジョブ情報60Bを受信したタイミングに限らず、ユーザにより入力装置44を介して予め定められた実行指示が入力されたタイミング等であっても良い。
始めに、ステップS701乃至S705では、第1実施形態のステップS301乃至305と同様の処理を行う。
ステップS707乃至S723では、第1実施形態のステップS309乃至S325と同様の処理を行い、本第2ジョブ実行処理プログラムを終了する。
1 露光描画システム
2 第1露光描画装置
3 第2露光描画装置
4 反転装置
5 制御装置
10 ステージ
16a 露光ヘッド
40 システム制御部
41 ジョブ記憶部
50 制御部
51 記憶部
60A 第1ジョブ情報
60B 第2ジョブ情報
C 被露光基板

Claims (9)

  1. 被露光基板の第1面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第1ジョブ情報に基づいて前記第1面を露光することにより、該第1ジョブ情報により示される画像を前記第1面に描画する第1描画手段と、
    被露光基板の前記第1面とは反対の第2面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが各々対応付けられた複数の第2ジョブ情報を、前記第1ジョブ情報とは別に記憶する記憶手段と、
    前記記憶手段が記憶している前記複数の第2ジョブ情報から、前記第1描画手段で被露光基板の前記第1面に対する画像の描画に用いた前記第1ジョブ情報に対応する前記第2ジョブ情報を選択し、選択した前記第2ジョブ情報に基づいて該第1面に画像を描画した被露光基板の前記第2面を露光することにより、該第2ジョブ情報により示される画像を前記第2面に描画する第2描画手段と、
    を備えた露光描画装置。
  2. 前記露光条件は、前記被露光基板のサイズ、前記被露光基板の露光対象とする枚数、前記被露光基板に画像の描画領域を決定するためのマークが設けられている場合の該マークの配置パターン、及び前記被露光基板の感材種の少なくとも1つを含む
    請求項1記載の露光描画装置。
  3. 被露光基板の第1面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第1ジョブ情報に基づいて前記第1面を露光することにより、該第1ジョブ情報により示される画像を前記第1面に描画する第1描画手段、及び
    前記第1描画手段で被露光基板の前記第1面に対する画像の描画に用いた前記第1ジョブ情報の露光条件情報を送信する送信手段
    を備えた第1露光描画装置と、
    被露光基板の前記第1面とは反対の第2面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが各々対応付けられ複数の第2ジョブ情報を、前記第1ジョブ情報とは別に記憶する記憶手段、
    前記送信手段により送信された前記露光条件情報を受信する受信手段、及び
    前記記憶手段により記憶している前記複数の第2ジョブ情報から、前記受信手段により受信した露光条件情報と同一の露光条件情報を有し、前記第1描画手段で被露光基板の前記第1面に対する画像の描画に用いた前記第1ジョブ情報に対応する前記第2ジョブ情報を選択し、選択した前記第2ジョブ情報に基づいて前記第1描画手段で前記第1面に画像を描画した被露光基板の前記第2面を露光することにより、該第2ジョブ情報により示される画像を該第2面に描画する第2描画手段
    を備えた第2露光描画装置と、
    を有する露光描画システム。
  4. 前記第1露光描画装置の前記送信手段は、前記第1描画手段による描画が正常に終了した場合の露光条件情報を送信する
    請求項3記載の露光描画システム。
  5. 前記第1露光描画装置の前記送信手段は、前記第1描画手段による描画が異常に終了した場合、エラーが発生した旨を示すエラー情報を送信する
    請求項3または4記載の露光描画システム。
  6. 被露光基板の第1面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第1ジョブ情報に基づいて前記第1面を露光することにより、該第1ジョブ情報により示される画像を前記第1面に描画する第1描画手段、及び
    前記第1描画手段で被露光基板の前記第1面に対する画像の描画に用いた前記第1ジョブ情報の露光条件情報を送信する第1送信手段
    を備えた第1露光描画装置と、 被露光基板の前記第1面とは反対の第2面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが各々対応付けられた複数の第2ジョブ情報を、前記第1ジョブ情報とは別に記憶する記憶手段、
    前記第1送信手段により送信された露光条件情報を受信する第1受信手段、及び
    前記記憶手段により記憶された前記複数の第2ジョブ情報から、前記第1受信手段により受信した露光条件情報と同一の露光条件情報を有し、前記第1描画手段で被露光基板の前記第1面に対する画像の描画に用いた前記第1ジョブ情報に対応する前記第2ジョブ情報を選択し、選択した前記第2ジョブ情報を送信する第2送信手段
    を備えた制御装置と、
    前記第2送信手段により送信された前記第2ジョブ情報を受信する第2受信手段、及び
    前記第2受信手段により受信した前記第2ジョブ情報に基づいて前記第1描画手段により前記第1面に画像を描画した被露光基板の前記第2面を露光することにより、該第2ジョブ情報により示される画像を該第2面に描画する第2描画手段
    を備えた第2露光描画装置と、
    を有する露光描画システム。
  7. 前記露光条件は、前記被露光基板のサイズ、前記被露光基板の露光対象とする枚数、前記被露光基板に画像の描画領域を決定するためのマークが設けられている場合の該マークの配置パターン、及び前記被露光基板の感材種の少なくとも1つを含む
    請求項3乃至6の何れか1項記載の露光描画システム。
  8. コンピュータを、
    第1描画手段に、被露光基板の第1面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第1ジョブ情報に基づいて前記第1面を露光することにより、該第1ジョブ情報により示される画像を前記第1面に描画させる第1制御手段と、
    第2描画手段に、被露光基板の前記第1面とは反対の第2面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが各々対応付けられた複数の第2ジョブ情報であり、前記第1ジョブ情報とは別に記憶された第2ジョブ情報から、前記第1描画手段で被露光基板の前記第1面に対する画像の描画に用いた前記第1ジョブ情報に対応する前記第2ジョブ情報を選択し、選択した前記第2ジョブ情報に基づいて該第1面に画像を描画した被露光基板の前記第2面を露光することにより、該第2ジョブ情報により示される画像を前記第2面に描画させる第2制御手段と、
    として機能させるためのプログラム。
  9. 第1描画手段に、被露光基板の第1面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第1ジョブ情報に基づいて前記第1面を露光することにより、該第1ジョブ情報により示される画像を前記第1面に描画させる第1制御ステップと、
    第2描画手段に、被露光基板の前記第1面とは反対の第2面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが各々対応付けられた複数の第2ジョブ情報であり、前記第1ジョブ情報とは別に記憶された第2ジョブ情報から、前記第1描画手段で被露光基板の前記第1面に対する画像の描画に用いた前記第1ジョブ情報に対応する前記第2ジョブ情報を選択し、選択した前記第2ジョブ情報に基づいて該第1面に画像を描画した被露光基板の前記第2面を露光することにより、該第2ジョブ情報により示される画像を前記第2面に描画させる第2制御ステップと、
    を有する露光描画方法。
JP2017125490A 2017-06-27 2017-06-27 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 Active JP6389928B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017125490A JP6389928B2 (ja) 2017-06-27 2017-06-27 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017125490A JP6389928B2 (ja) 2017-06-27 2017-06-27 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012215122A Division JP6198378B2 (ja) 2012-09-27 2012-09-27 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2017161953A JP2017161953A (ja) 2017-09-14
JP6389928B2 true JP6389928B2 (ja) 2018-09-12

Family

ID=59857616

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017125490A Active JP6389928B2 (ja) 2017-06-27 2017-06-27 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6389928B2 (ja)

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001284231A (ja) * 2000-03-31 2001-10-12 Canon Inc 露光装置及びエラー発生時のパターンで処理を振り分ける方法
JP4381009B2 (ja) * 2003-03-12 2009-12-09 新光電気工業株式会社 パターン描画装置、パターン描画方法、および検査装置
JP2006276206A (ja) * 2005-03-28 2006-10-12 Fuji Photo Film Co Ltd 露光装置および露光方法
JP2011022309A (ja) * 2009-07-15 2011-02-03 Nsk Ltd 露光装置の制御方法
JP5333063B2 (ja) * 2009-08-28 2013-11-06 ウシオ電機株式会社 両面露光装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2017161953A (ja) 2017-09-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5813556B2 (ja) 露光描画装置、プログラム及び露光描画方法
US8223319B2 (en) Exposure device
JP6198378B2 (ja) 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法
KR20160103927A (ko) 주변 노광 장치, 주변 노광 방법, 프로그램, 및 컴퓨터 기억 매체
US20180084191A1 (en) Image acquisition system
KR20060080561A (ko) 아이디위치 검사기능을 갖는 레이저마킹 시스템 및 그검사방법
JP2007309718A (ja) 検査装置および検査方法
JP6389928B2 (ja) 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法
JP6096453B2 (ja) 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法
JP2000155430A (ja) 両面露光装置における自動アライメント方法
JP4317488B2 (ja) 露光装置、露光方法および露光処理プログラム
TW201702758A (zh) 無罩曝光裝置及曝光方法
JP5940328B2 (ja) 露光描画装置、プログラム及び露光描画方法
CN104425308A (zh) 测定装置、基板处理系统和测定方法
KR20020065872A (ko) 뇨분석기
JP2009141152A (ja) パネル搬送装置およびパネル搬送方法
JPWO2022215692A5 (ja)
JP2020192734A (ja) 画像形成装置
JP2005166927A (ja) 部品実装装置
JPH10186524A (ja) 印刷版作成工程における印刷版の画像面積測定方法及びそれに用いる焼付装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170627

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180403

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20180330

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180427

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180807

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20180820

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6389928

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250