CN104662479A - 曝光描绘装置、曝光描绘系统、程序及曝光描绘方法 - Google Patents
曝光描绘装置、曝光描绘系统、程序及曝光描绘方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN104662479A CN104662479A CN201380049240.4A CN201380049240A CN104662479A CN 104662479 A CN104662479 A CN 104662479A CN 201380049240 A CN201380049240 A CN 201380049240A CN 104662479 A CN104662479 A CN 104662479A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- exposure
- information
- image
- conditions
- job information
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
Abstract
提供一种能够防止在向被曝光基板的两面描绘图像时在各面描绘彼此不对应的图像的曝光描绘装置、曝光描绘系统、程序及曝光描绘方法。基于将表示向被曝光基板的第一面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息建立了对应的第一作业信息(60A),将第一面曝光,从而将由该第一作业信息(60A)表示的图像向第一面描绘,存储将表示向被曝光基板的第二面描绘的图像的图像信息和曝光条件信息分别建立了对应的多个第二作业信息(60B),基于多个第二作业信息(60A)中的具有与对第一面进行的图像的描绘所使用的第一作业信息(60A)所表示的曝光条件信息相同的曝光条件信息的第二作业信息(60B),将在该第一面描绘了图像的被曝光基板的第二面曝光,从而将由该第二作业信息表示的图像向第二面描绘。
Description
技术领域
本发明涉及曝光描绘装置、曝光描绘系统、程序及曝光描绘方法,尤其是涉及向被曝光基板的两面描绘图像的曝光描绘装置及曝光描绘系统、通过该曝光描绘装置及曝光描绘系统执行的程序和向被曝光基板的两面描绘图像的曝光描绘方法。
背景技术
以往,开发出一种在作为打印基板的被曝光基板对基于图像信息而调制的光束进行曝光,并在该被曝光基板描绘图像的曝光描绘装置。而且,为了向被曝光基板的两面描绘图像,也开发有如下曝光描绘系统:将该曝光描绘装置并列设置2台,将一方用于第一面的描绘,并将另一方用于与第一面相反的第二面的描绘。在该曝光描绘系统中,通过第一面用的曝光描绘装置向被曝光基板的第一面描绘图像之后,将该被曝光基板传送至第二面用的曝光描绘装置的预定位置,通过该曝光描绘装置向被曝光基板的第二面描绘图像。
作为与该曝光描绘系统相关的技术,在专利文献1中公开了一种曝光描绘系统,其提高了使用2台的曝光描绘装置向被曝光基板的第一面及第二面分别描绘图像时的被曝光基板的传送处理的通过量。
该曝光描绘系统所具有的各曝光描绘装置具备描绘单元,该描绘单元具有:台,载置被曝光基板;台移动构件,使台呈直线状地移动;以及光束扫描构件,在载置于台的被曝光基板的第一面扫描光束。而且,各曝光描绘装置具备在台的移动方向上配置于描绘单元的上游侧的上游侧单元和在台的移动方向上配置于描绘单元的下游侧的下游侧单元。而且,各曝光描绘装置具备送入构件,该送入构件保持上游侧单元的被曝光基板并使其沿着与台的移动方向相同的方向即传送方向移动,将被曝光基板送入到描绘单元内的台上。而且,各曝光描绘装置具备送出构件,该送出构件保持描绘单元内的台上的被曝光基板并使其沿着传送方向移动,将被曝光基板送出到下游侧单元。
在各曝光描绘装置中,当在被曝光基板的第一面扫描光束时,使台从传送方向的上游侧向下游侧移动,将被曝光基板送入到位于上游侧的台,并从位于下游侧的台送出被曝光基板。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2002-341550号公报
发明内容
发明要解决的课题
通常,当使用曝光描绘装置在被曝光基板描绘图像时,作业者对曝光描绘装置输入向被曝光基板描绘的图像及表示指定了描绘时的曝光条件的处理要求(作业)的作业信息。当以同一曝光条件在多个被曝光基板连续地描绘同一图像的情况下,在作业信息中一并表示一系列的处理。并且,曝光描绘装置基于输入的作业信息而进行对被曝光基板的曝光描绘处理。
在上述专利文献1所公开的曝光描绘系统中,分别使用2台曝光描绘装置而在被曝光基板的每个单面描绘图像,因此作业者向一方的曝光描绘装置输入第一面的作业信息,向另一方的曝光描绘装置输入第二面的作业信息。由此,由于作业者对各曝光描绘装置个别地输入作业信息,因此在作业者错误地进行输入的情况下,存在可能在被曝光基板的各面描绘彼此不对应的图像这样的问题。
另外,有时在一方的曝光描绘装置中将曝光描绘处理失败而成为不合格品的被曝光基板去除。在这种情况下,即使在作业信息的输入正确进行的情况下,在向另一方的曝光描绘装置输入的作业信息未被更新的情况下,也存在可能在被曝光基板的各面描绘彼此不对应的图像这样的问题。
本发明鉴于上述问题而完成,目的在于提供能够在被曝光基板的两面描绘图像时防止在各面描绘彼此不对应的图像的情况的曝光描绘装置、曝光描绘系统、程序及曝光描绘方法。
用于解决课题的技术方案
为了实现上述目的,本发明的曝光描绘装置包括:第一描绘构件,基于将表示向被曝光基板的第一面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息建立了对应的第一作业信息,将所述第一面曝光,从而将由该第一作业信息表示的图像向所述第一面描绘;存储构件,存储多个第二作业信息,该多个第二作业信息将表示向被曝光基板的与所述第一面相反的第二面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息分别建立了对应;以及第二描绘构件,基于所述存储构件所存储的所述多个第二作业信息中的具有与利用所述第一描绘构件对被曝光基板的所述第一面进行的图像的描绘所使用的所述第一作业信息所表示的曝光条件信息相同的曝光条件信息的所述第二作业信息,将在该第一面描绘了图像的被曝光基板的所述第二面曝光,从而将由该第二作业信息表示的图像向所述第二面描绘。
根据本发明所涉及的曝光描绘装置,通过第一描绘构件,基于将表示向被曝光基板的第一面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息建立了对应的第一作业信息,将所述第一面曝光,从而将由该第一作业信息表示的图像向所述第一面描绘。
在此,在本发明中,通过存储构件,存储多个第二作业信息,该多个第二作业信息将表示向被曝光基板的与所述第一面相反的第二面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息分别建立了对应。并且,在本发明中,通过第二描绘构件,基于所述存储构件所存储的所述多个第二作业信息中的具有与利用所述第一描绘构件对被曝光基板的所述第一面进行的图像的描绘所使用的所述第一作业信息所表示的曝光条件信息相同的曝光条件信息的所述第二作业信息,将在该第一面描绘了图像的被曝光基板的所述第二面曝光,从而将由该第二作业信息表示的图像向所述第二面描绘。
由此,根据本发明的曝光描绘装置,使用具有与向第一面描绘图像时所使用的第一作业信息的曝光条件信息相同的曝光条件信息的第二作业信息,向第二面描绘图像,因此能够防止在向被曝光基板的两面描绘图像时在各面描绘彼此不对应的图像的情况。
另外,本发明所涉及的曝光描绘装置也可以是,所述曝光条件包括所述被曝光基板的尺寸、所述被曝光基板的作为曝光对象的片数、在所述被曝光基板设置有用于决定图像的描绘区域的标记的情况下的该标记的配置图案以及所述被曝光基板的感光材料种类中的至少一个。由此,能够以适用的曝光条件向被曝光基板的各面描绘图像。
另一方面,为了实现上述目的,本发明的曝光描绘系统具有第一曝光描绘装置和第二曝光描绘装置,所述第一曝光描绘装置包括:第一描绘构件,基于将表示向被曝光基板的第一面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息建立了对应的第一作业信息,将所述第一面曝光,从而将由该第一作业信息表示的图像向所述第一面描绘;以及发送构件,发送利用所述第一描绘构件对被曝光基板的所述第一面进行的图像的描绘所使用的所述第一作业信息的曝光条件信息,所述第二曝光描绘装置包括:存储构件,存储多个第二作业信息,该多个第二作业信息将表示向被曝光基板的与所述第一面相反的第二面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息分别建立了对应;接收构件,接收由所述发送构件发送的所述曝光条件信息;以及第二描绘构件,基于所述存储构件所存储的所述多个第二作业信息中的具有与由所述接收构件接收到的曝光条件信息相同的曝光条件信息的所述第二作业信息,将利用所述第一描绘构件在所述第一面描绘了图像的被曝光基板的所述第二面曝光,从而将由该第二作业信息表示的图像向该第二面描绘。
根据本发明所涉及的曝光描绘系统,通过第一曝光描绘装置的第一描绘构件,基于将表示向被曝光基板的第一面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息建立了对应的第一作业信息,将所述第一面曝光,从而将由该第一作业信息表示的图像向所述第一面描绘。而且,通过第一曝光描绘装置的发送构件,发送利用所述第一描绘构件对被曝光基板的所述第一面进行的图像的描绘所使用的所述第一作业信息的曝光条件信息。
另一方面,在本发明所涉及的曝光描绘系统中,通过第二曝光描绘装置的第二存储构件,存储多个第二作业信息,该多个第二作业信息将表示向被曝光基板的与所述第一面相反的第二面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息分别建立了对应。而且,通过第二曝光描绘装置的接收构件,接收由所述发送构件发送的所述曝光条件信息。进而,通过第二曝光描绘装置的第二描绘构件,基于所述存储构件所存储的所述多个第二作业信息中的具有与由所述接收构件接收到的曝光条件信息相同的曝光条件信息的所述第二作业信息,将利用所述第一描绘构件在所述第一面描绘了图像的被曝光基板的所述第二面曝光,从而将由该第二作业信息表示的图像向该第二面描绘。
由此,根据本发明的曝光描绘系统,第二曝光描绘装置使用具有与向第一面描绘了图像时所使用的第一作业信息的曝光条件信息相同的曝光条件信息的第二作业信息,向第二面描绘图像,因此能够防止在向被曝光基板的两面描绘图像时在各面描绘彼此不对应的图像的情况。
另外,本发明所涉及的曝光描绘系统也可以是,所述第一曝光描绘装置的所述发送构件发送由所述第一描绘构件进行的描绘正常地结束时的曝光条件信息。由此,与未适用本发明的情况相比,能够更切实地防止在向被曝光基板的两面描绘图像时在各面描绘彼此不对应的图像的情况。
另外,本发明所涉及的曝光描绘系统也可以是,所述第一曝光描绘装置的所述发送构件在由所述第一描绘构件进行的描绘异常地结束的情况下,发送表示发生了错误的错误信息。由此,与未适用本发明的情况相比,能够更切实地防止在向被曝光基板的两面描绘图像时在各面描绘彼此不对应的图像的情况。
另外,本发明所涉及的曝光描绘系统也可以是,所述第二曝光描绘装置还具备受理构件,在由所述存储构件存储的所述多个第二作业信息中存在多个具有与由所述接收构件接收到的曝光条件信息相同的曝光条件信息的所述第二作业信息的情况下,所述受理构件受理存在多个的所述第二作业信息中的任一个所述第二作业信息的选择,所述第二曝光描绘装置的所述第二描绘构件基于由所述受理构件受理了选择的所述第二作业信息来向所述第二面描绘图像。由此,即使存在多个具有与向第一面描绘了图像时所使用的第一作业信息的曝光条件信息相同的曝光条件信息的第二作业信息,也能够防止在向被曝光基板的两面描绘图像时在各面描绘彼此不对应的图像的情况。
另外,本发明所涉及的曝光描绘系统也可以是,还具备控制装置,该控制装置包括:第二存储构件,存储所述第一作业信息以及所述第二作业信息;以及第二发送构件,将由所述第二存储构件存储的所述第一作业信息向所述第一曝光描绘装置发送,并将所述第二作业信息向所述第二曝光描绘装置发送,所述第一曝光描绘装置还具备接收由所述第二发送构件发送的所述第一作业信息的第二接收构件,所述第一曝光描绘装置的所述第一描绘构件使用由所述第二接收构件接收到的所述第一作业信息,将由该第一作业信息表示的图像向所述第一面描绘,所述第二曝光描绘装置还具备接收由所述第二发送构件发送的所述第二作业信息的第三接收构件,所述第二曝光描绘装置的所述存储构件存储多个由所述第三接收构件接收到的所述第二作业信息。由此,通过控制装置,能够在总体上管理系统整体。
尤其是,本发明的曝光描绘系统也可以是,所述控制装置还具备受理所述第一作业信息以及所述第二作业信息的输入的第二受理构件,所述控制装置的所述第二存储构件存储由所述第二受理构件受理的所述第一作业信息以及所述第二作业信息。由此,能够利用使用者输入的作业信息向被曝光基板的各面描绘彼此对应的图像。
另一方面,为了实现上述目的,本发明所涉及的曝光描绘系统具有第一曝光描绘装置、控制装置及第二曝光描绘装置,所述第一曝光描绘装置包括:第一描绘构件,基于将表示向被曝光基板的第一面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息建立了对应的第一作业信息,将所述第一面曝光,从而将由该第一作业信息表示的图像向所述第一面描绘;以及第一发送构件,发送利用所述第一描绘构件对被曝光基板的所述第一面进行的图像的描绘所使用的所述第一作业信息的曝光条件信息,所述控制装置包括:存储构件,存储多个第二作业信息,该多个第二作业信息将表示向被曝光基板的与所述第一面相反的第二面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息分别建立了对应;第一接收构件,接收由所述第一发送构件发送的曝光条件信息;以及第二发送构件,发送由所述存储构件存储的所述多个第二作业信息中的具有与由所述第一接收构件接收到的曝光条件信息相同的曝光条件信息的所述第二作业信息,所述第二曝光描绘装置包括:第二接收构件,接收由所述第二发送构件发送的所述第二作业信息;以及第二描绘构件,基于由所述第二接收构件接收到的所述第二作业信息,将利用所述第一描绘构件在所述第一面描绘了图像的被曝光基板的所述第二面曝光,从而将由该第二作业信息表示的图像向该第二面描绘。
根据本发明所涉及的曝光描绘系统,通过第一曝光描绘装置的第一描绘构件,基于将表示向被曝光基板的第一面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息建立了对应的第一作业信息,将所述第一面曝光,从而将由该第一作业信息表示的图像向所述第一面描绘。而且,通过第一曝光描绘装置的第一发送构件,发送利用所述第一描绘构件对被曝光基板的所述第一面进行的图像的描绘所使用的所述第一作业信息的曝光条件信息。
另一方面,在本发明所涉及的曝光描绘系统中,通过控制装置的存储构件,存储多个第二作业信息,该多个第二作业信息将表示向被曝光基板的与所述第一面相反的第二面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息分别建立了对应。而且,通过控制装置的第一接收构件,接收由所述第一发送构件发送的曝光条件信息。进而,通过控制装置的第二发送构件,发送由所述存储构件存储的所述多个第二作业信息中的具有与由所述第一接收构件接收到的曝光条件信息相同的曝光条件信息的所述第二作业信息。
进而,在本发明所涉及的曝光描绘系统中,通过第二曝光描绘装置的第二接收构件,接收由所述第二发送构件发送的所述第二作业信息,通过第二曝光描绘装置的第二描绘构件,基于由所述第二接收构件接收到的所述第二作业信息,将利用所述第一描绘构件在所述第一面描绘了图像的被曝光基板的所述第二面曝光,从而将由该第二作业信息表示的图像向该第二面描绘。
由此,根据本发明的曝光描绘系统,控制装置将从第一曝光描绘装置接收到的具有与在向第一面描绘了图像时所使用的第一作业信息的曝光条件信息相同的曝光条件信息的第二作业信息向第二曝光描绘装置发送,因此在不向曝光描绘装置追加新的功能的情况下,能够防止在向被曝光基板的两面描绘图像时在各面描绘彼此不对应的图像的情况。
另外,本发明所涉及的曝光描绘系统也可以是,所述曝光条件包括所述被曝光基板的尺寸、所述被曝光基板的作为曝光对象的片数、在所述被曝光基板设置有用于决定图像的描绘区域的标记的情况下的该标记的配置图案以及所述被曝光基板的感光材料种类中的至少一个。由此,能够以适用的曝光条件向被曝光基板的各面描绘图像。
另一方面,为了实现上述目的,本发明所涉及的程序用于使计算机作为第一控制构件和第二控制构件发挥功能,所述第一控制构件使第一描绘构件,基于将表示向被曝光基板的第一面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息建立了对应的第一作业信息,将所述第一面曝光,从而将由该第一作业信息表示的图像向所述第一面描绘,所述第二控制构件使第二描绘构件,基于将表示向被曝光基板的与所述第一面相反的第二面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息分别建立了对应的多个第二作业信息中的具有与利用所述第一描绘构件对被曝光基板的所述第一面进行的图像的描绘所使用的所述第一作业信息的曝光条件信息相同的曝光条件信息的所述第二作业信息,将在该第一面描绘了图像的被曝光基板的所述第二面曝光,从而将由该第二作业信息表示的图像向所述第二面描绘。
因此,根据本发明所涉及的程序,能够使计算机与本发明所涉及的曝光描绘装置同样地发挥作用,因此与该曝光描绘装置同样地,能够防止在向被曝光基板的两面描绘图像时在各面描绘彼此不对应的图像的情况。
进而,为了实现上述目的,本发明所涉及的曝光描绘方法包括如下步骤:第一控制步骤,使第一描绘构件,基于将表示向被曝光基板的第一面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息建立了对应的第一作业信息,将所述第一面曝光,从而将由该第一作业信息表示的图像向所述第一面描绘;以及第二控制步骤,使第二描绘构件,基于将表示向被曝光基板的与所述第一面相反的第二面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息分别建立了对应的多个第二作业信息中的具有与利用所述第一描绘构件对被曝光基板的所述第一面进行的图像的描绘所使用的所述第一作业信息的曝光条件信息相同的曝光条件信息的所述第二作业信息,将在该第一面描绘了图像的被曝光基板的所述第二面曝光,从而将由该第二作业信息表示的图像向所述第二面描绘。
因此,根据本发明所涉及的曝光描绘方法,与本发明所涉及的曝光描绘装置同样地发挥作用,因此与该曝光描绘装置同样地,能够防止在向被曝光基板的两面描绘图像时在各面描绘彼此不对应的图像的情况。
发明效果
根据本发明,起到如下效果:能够防止在向被曝光基板的两面描绘图像时在各面描绘彼此不对应的图像的情况。
附图说明
图1是表示实施方式所涉及的曝光描绘系统整体的结构的概略俯视图。
图2是表示实施方式所涉及的第一曝光描绘装置及第二曝光描绘装置的结构的立体图。
图3A是表示实施方式所涉及的曝光头的曝光区域及曝光头的排列图案的概略俯视图。
图3B是表示通过实施方式所涉及的曝光头在被曝光基板上描绘的图像的图像区域的概略俯视图。
图4是表示实施方式所涉及的翻转装置的结构的局部剖切立体图。
图5是表示实施方式所涉及的第一曝光描绘装置及第二曝光描绘装置的电力系统的结构的框图。
图6是表示实施方式所涉及的控制装置的电力系统的结构的框图。
图7A是表示实施方式所涉及的作业信息的一例的示意图。
图7B是表示实施方式所涉及的作业信息的一例的示意图。
图8是表示第一实施方式所涉及的作业设定处理程序的处理的流程的流程图。
图9是表示第一实施方式所涉及的作业输入画面的结构例的结构图。
图10是用于第一实施方式所涉及的曝光描绘系统的曝光描绘处理的说明的示意图。
图11是表示第一实施方式所涉及的第一作业执行处理程序的处理的流程的流程图。
图12是表示第一实施方式所涉及的第二作业执行处理程序的处理的流程的流程图。
图13是表示第一实施方式所涉及的作业选择画面的结构例的结构图。
图14是表示第二实施方式所涉及的作业设定处理程序的处理的流程的流程图。
图15是表示第二实施方式所涉及的第一作业执行处理程序的处理的流程的流程图。
图16是表示第二实施方式所涉及的作业选择处理程序的处理的流程的流程图。
图17是表示第二实施方式所涉及的第二作业执行处理程序的处理的流程的流程图。
具体实施方式
[第一实施方式]
以下,利用附图来详细地说明实施方式所涉及的曝光描绘装置。另外,在各实施方式中,列举适用于在被曝光基板(后述的被曝光基板C)将光束曝光并描绘表示电路图案的图像的曝光描绘系统的情况为例来说明本发明。而且,被曝光基板C是打印配线基板、平板显示器用玻璃基板等平板基板。
如图1所示,本实施方式所涉及的曝光描绘系统1具备对被曝光基板C的第一面进行曝光的第一曝光描绘装置2以及对被曝光基板C的与第一面相反的第二面进行曝光的第二曝光描绘装置3。而且,曝光描绘系统1具备:翻转装置4,设置在第一曝光描绘装置2及第二曝光描绘装置3之间,并对被曝光基板C的正反进行翻转;以及控制装置5,控制对被曝光基板C的第一面及第二面的曝光。
另外,第一曝光描绘装置2与控制装置5之间、第二曝光描绘装置3与控制装置5之间分别由有线线缆8a连接,控制装置5与第一曝光描绘装置2及第二曝光描绘装置3之间经由有线线缆8a进行通信。同样地,第一曝光描绘装置2及第二曝光描绘装置3由有线线缆8b连接,上述各曝光描绘装置经由有线线缆8b进行通信。
接下来,说明本实施方式所涉及的第一曝光描绘装置2及第二曝光描绘装置3的结构。另外,第一曝光描绘装置2及第二曝光描绘装置3具有相同的结构,因此这里对第一曝光描绘装置2进行说明,而省略对于第二曝光描绘装置3的说明。
如图2所示,本实施方式所涉及的第一曝光描绘装置2具备用于固定被曝光基板C的平板状的台10。而且,在台10的上表面设置有吸入空气的多个吸入孔(省略图示)。当在台10的上表面载置被曝光基板C时,被曝光基板C及台10间的空气经由吸入孔被吸入,由此将被曝光基板C真空吸附于台10。
另外,台10由以能够移动的方式设置在桌状的基体11的上表面上的平板状的基台12支撑。即,在基体11的上表面设置有1根或多根(在本实施方式中为2根)导轨14。基台12被支撑为能够沿导轨14自由地移动,通过由电动机等构成的驱动机构(后述的台驱动部42)进行驱动而移动。台10与基台12的移动连动地沿导轨14移动。
另外,以下,将台10移动的方向确定为Y方向,将与该Y方向在水平面内正交的方向确定为X方向,将与Y方向在竖直面内正交的方向确定为Z方向。
在基体11的上表面设置有以横跨2根导轨14的方式竖立设置的门型的门体15。载置于台10的被曝光基板C以沿着导轨14出入门体15的开口部的方式移动。在门体15的开口部的上部安装有朝向该开口部对光束进行曝光的曝光部16。通过该曝光部16,在台10沿着导轨14移动并位于上述开口部的情况下,在载置于台10的被曝光基板C的上表面对光束进行曝光。
本实施方式所涉及的曝光部16构成为包括多个(在本实施方式中为16个)曝光头16a。曝光头16a分别在各曝光部16呈矩阵状排列。而且,在曝光部16各自连接有从后述的光源单元17引出的光纤18和从后述的图像处理单元19引出的信号线缆20。
曝光头16a分别具有作为反射型的空间光调制元件的数字微反射镜器件(DMD)。曝光头16a基于从图像处理单元19输入的图像信息来控制DMD,从而对来自光源单元17的光束进行调制。第一曝光描绘装置2通过将该调制后的光束向被曝光基板C照射,而进行对被曝光基板C的曝光。另外,空间光调制元件不限定为反射型,也可以是液晶等的透光型的空间光调制元件。
如图3A所示,由曝光头16a曝光的区域即图像区域P1是一方的边相对于台10的移动方向(Y方向)以预先确定的倾斜角倾斜的矩形形状。另外,在图3A中,仅示出本实施方式所涉及的多个曝光头16a中的一部分。而且,台10在门体15的开口部移动时,如果通过曝光头16a在被曝光基板C对光束进行曝光,则如图3B所示,伴随着台10的移动而在被曝光基板C上按照每个曝光头16a形成带状的曝光完成区域P2。呈矩阵状排列的曝光头16a的每一个沿X方向各自错开图像区域P1的长边的长度的自然数倍(在本实施方式中为1倍)的距离而配置。并且,曝光完成区域P2各自与相邻的曝光完成区域P2局部重叠地形成。
如图2所示,在基体11的上表面还设置有以横跨2根导轨14的方式竖立设置的门型的门体22。载置于台10的被曝光基板C以沿着导轨14出入门体22的开口部的方式移动。
在门体22的开口部的上部安装有用于对开口部进行摄影的一个或多个(在本实施方式中为3个)摄影部23。摄影部23是内置有单次的发光时间极短的闪光灯的CCD照相机等。而且,在门体22的开口部的上部,在水平面内沿着与台10的移动方向(Y方向)垂直的方向(X方向)设置有轨道23a,摄影部23分别设置成由轨道23a引导而能够移动。在台10沿着导轨14移动而位于上述开口部的情况下,通过该摄影部23对载置于台10的被曝光基板C的上表面进行摄影。
如图1及图2所示,第一曝光描绘装置2具备将从外部送入的被曝光基板C传送至第一曝光描绘装置2的预定位置的第一传送部6、将被曝光基板C从第一曝光描绘装置2传送至翻转装置4的预定位置的第二传送部7。同样地,第二曝光描绘装置3具备将被曝光基板C从翻转装置4传送至第二曝光描绘装置3的预定位置的第一传送部6、将被曝光基板C向第二曝光描绘装置3的外部传送的第二传送部7。
第一传送部6及第二传送部7具有多个旋转辊和使该旋转辊旋转的驱动电动机。上述多个旋转辊各自平行地铺设,在旋转辊的一端安装有接受由带或金属丝线传递的旋转力的链轮或滑轮。作为传递使旋转辊旋转的驱动电动机的旋转力的单元,除了带或金属丝线以外,还可以采用由圆筒状的磁铁进行的传递方法。
另外,如图2所示,第一曝光描绘装置2具备将通过第一传送部6传送至预定位置的被曝光基板C从该预定位置传送至台10的自动运载手(auto carrier hand,以下,称为AC手)24。AC手24形成为平板状,且设置成能够沿X方向及Z方向移动。在AC手24的下表面设置有吸入空气的多个吸入孔25。在AC手24的下表面移动到与被曝光基板C的上表面接触的位置时,AC手24利用吸入孔25吸入AC手24及被曝光基板C之间的空气,由此使被曝光基板C真空吸附于AC手24的下表面而进行吸附保持。而且,在AC手24的下表面设置有沿Z方向移动自如的推压部26,当AC手24在吸附保持有被曝光基板C的状态下移动至台10的上表面时,该推压部26将被曝光基板C朝向下方推出而按压于台10。
第一曝光描绘装置2的AC手24对传送至第一传送部6的未曝光的被曝光基板C进行吸附保持而使其向上方移动,并载置在台10的上表面。而且,第一曝光描绘装置2的AC手24通过对载置在台10的上表面上的第一面曝光完成的被曝光基板C进行吸附保持而使其向上方移动,从而使被曝光基板C移动至第二传送部7。移动至第二传送部7的第一面曝光完成的被曝光基板C由第二传送部7向第一曝光描绘装置2的外部送出。
并且,第二曝光描绘装置3的AC手24对传送至第一传送部6的第一面曝光完成的被曝光基板C进行吸附保持而向上方移动,将被曝光基板C载置在台10的上表面。并且,第二曝光描绘装置3的AC手24通过对载置在台10的上表面上的第一面及第二面曝光完成的被曝光基板C进行吸附保持而使其向上方移动,从而使被曝光基板C移动至第二传送部7。移动至第二传送部7的第一面及第二面曝光完成的被曝光基板C由第二传送部7向曝光描绘系统1的外部送出。
接下来,对本实施方式所涉及的翻转装置4的结构进行说明。
如图4所示,翻转装置4具备转动自如地轴支撑于转动轴L的板状的侧框架30。侧框架30在内部保持有被曝光基板C的状态下旋转180度,从而使被曝光基板C的正反翻转。
另外,如图4所示,在侧框架30所具有的侧面中的第一曝光描绘装置2所处的一侧的侧面设置有将被曝光基板C向侧框架30的内部送入的送入口31。进而,在侧框架30的内部设置有由电动机33驱动的多个辊对34。辊对34将容纳在侧框架30的内部的被曝光基板C在夹持的状态下传送。被曝光基板C由辊对34经由送入口31传送至侧框架30的内部,并且通过侧框架30的旋转而将正反翻转,由辊对34经由送入口31向侧框架30的外部传送。另外,在结束被曝光基板C的送出时,侧框架30为了将下一被曝光基板C向内部送入而再次转动180度。
接下来,说明本实施方式所涉及的第一曝光描绘装置2及第二曝光描绘装置3的电力系统的结构。另外,由于第一曝光描绘装置2及第二曝光描绘装置3具有相同的电力系统的结构,在此,对第一曝光描绘装置2进行说明,省略对于第二曝光描绘装置3的说明。
如图5所示,在第一曝光描绘装置2设置有分别与装置各部分电连接的系统控制部40,通过该系统控制部40总体上地控制第一曝光描绘装置2的各部分。而且,第一曝光描绘装置2具有作业存储部41、台驱动部42、显示装置43、输入装置44、摄影驱动部46及外部输入输出部48。
系统控制部40具有CPU(Central Processing Unit)、RAM(RandomAccessMemory)、ROM(Read Only Memory)及HDD(Hard Disk Drive)。而且,通过上述CPU,系统控制部40在与台10的移动对应的时刻使光束从光源单元17射出,并且通过图像处理单元19使对应的图像信息输出。系统控制部40以上述方式控制曝光头16a对被曝光基板C的光束的曝光。
作业存储部41具有RAM、非易失性存储器,存储对作为执行对象的作业进行表示的作业信息。本实施方式的作业是在同一种类的1片或多片被曝光基板C的第一面以同一条件将同一图像进行曝光描绘,并且在第二面也以同一条件将同一图像进行曝光描绘的一并进行的曝光处理要求。另外,关于作业信息的详情在后文叙述。在本实施方式中,作业存储部41将作为执行对象的作业的作业信息以列表形式存储,但并不限定于此,也能够以队列(queue)形式进行存储。
台驱动部42具有由电动机或液压泵等构成的驱动机构,通过系统控制部40的控制而对台10进行驱动。
显示装置43是通过系统控制部40的控制而显示各种信息的液晶显示器等显示机构。
输入装置44是通过使用者操作而输入各种信息的触摸传感器或操作按钮等的输入构件。
摄影驱动部46具有由电动机或液压泵等构成的驱动机构,通过系统控制部40的控制而对摄影部23进行驱动。
外部输入输出部48在与连接于第一曝光描绘装置2的包括第二曝光描绘装置3及控制装置5的各种信息处理装置之间进行各种信息的输入输出。另外,第二曝光描绘装置3的外部输入输出部48在与连接于第二曝光描绘装置3的包括第一曝光描绘装置2及控制装置5的各种信息处理装置之间进行各种信息的输入输出。
接下来,说明本实施方式的控制装置5的电力系统的结构。
如图6所示,控制装置5具备对曝光描绘系统1中的曝光描绘处理进行控制的控制部50。而且,控制装置5具备存储部51,该存储部51具有存储由控制部50进行的曝光描绘处理所需的程序或各种数据的ROM及HDD等。另外,存储部51也存储作业信息、作业设定处理程序、第一作业执行处理程序、第二作业执行处理程序及第二实施方式的作业选择处理程序。
另外,控制装置5具备基于控制部50的控制而显示各种信息的液晶显示器等显示部52及通过使用者操作而输入各种信息的键盘或鼠标等输入部53。进而,控制装置5具备通信接口54,该通信接口54基于控制部50的控制而进行对第一曝光描绘装置2及第二曝光描绘装置3的各种信息的发送接收。
在此,本实施方式所涉及的控制装置5受理由使用者操作进行的与作业相关的信息的输入。而且,控制装置5在受理了与作业相关的信息的输入时,生成与第一曝光描绘装置2及第二曝光描绘装置3分别对应的作业信息,并将生成的作业信息分别向对应的曝光描绘装置发送。本实施方式所涉及的第一曝光描绘装置2及第二曝光描绘装置3在接收到作业信息时,将接收到的作业信息存储于作业存储部41,并根据所存储的作业的内容而执行对被曝光基板C的曝光描绘处理。此时,本实施方式所涉及的第一曝光描绘装置2在存储多个作业信息的情况下,按照接收到各作业信息的顺序,执行由各作业信息表示的作业。另外,本实施方式所涉及的第二曝光描绘装置3依次执行与由第一曝光描绘装置2执行的作业对应的作业。
在生成作业信息时,控制装置5分别生成用于使第一曝光描绘装置2在被曝光基板C的第一面描绘图像的作业信息60A及用于使第二曝光描绘装置3在被曝光基板C的第二面描绘图像的作业信息60B。即,即使是与同一被曝光基板C相关的作业,由于对第一面及第二面分别通过单独的曝光描绘装置进行曝光描绘处理,因此分别单独地生成第一面用的作业信息60A及第二面用的作业信息60B。
如图7A及图7B所示,作为一例,作业信息60A、60B是将作业识别信息61、图像信息62、曝光条件信息63分别与每个作业建立对应的信息。另外,作业识别信息61是用于识别各自的作业的信息。而且,图像信息62是表示作为描绘对象的图像的信息。而且,曝光条件信息63是表示为了描绘与被曝光基板C对应的图像而对光束进行曝光时的曝光条件的信息。本实施方式所涉及的曝光条件信息63包括表示作为描绘对象的被曝光基板C(以下,称为“对象基板”)的基板尺寸的基板尺寸信息及表示对象基板的描绘片数的描绘片数信息。而且,本实施方式所涉及的曝光条件信息63包括标记信息、及表示对象基板的敏化材料种类的敏化材料种类信息等,该标记信息以坐标表示设置有用于决定与对象基板对应的图像的描绘区域的标记时的该标记的配置图案。然而,曝光条件信息63所包含的信息并不限定于此,只要是表示光束的强度的信息、表示台10的移动速度的信息等在进行曝光描绘处理时所使用的信息即可,可以是任意的信息。
作业者在想要使第一曝光描绘装置2及第二曝光描绘装置3执行作业的情况下,经由输入部53,将作业信息60A、60B所包含的各信息向控制装置5输入。由此,控制装置5基于输入的各信息,进行生成第一面用的作业信息60A及第二面用的作业信息60B并存储于存储部51的作业设定处理。
接着,参照图8,说明本实施方式所涉及的曝光描绘系统1的作用。另外,图8是表示在经由输入部53输入了执行指示时通过控制装置5的控制部50执行的作业设定处理程序的处理的流程的流程图。该程序预先存储于存储部51的ROM的预定区域。
首先,在步骤S101中,进行使用于对与由使用者进行的作业相关的信息的输入进行辅助的作业输入画面显示于显示部52的控制。如图9所示,本实施方式所涉及的作业输入画面70具有选择是与第一面的作业相关的输入还是与第二面的作业相关的输入的描绘对象面选择栏71。而且,作业输入画面70具有将表示描绘的图像的图像识别信息输入的图像输入栏72。图像识别信息是包含图像信息的文件的文件名、表示图像文件的存储目的地的URL(Uniform Resource Locator)等。而且,作业输入画面70具有输入基板种类信息的基板种类输入栏73,该基板种类信息表示适用于作为输入对象的作业的被曝光基板C的基板种类。而且,作业输入画面70具有输入描绘片数信息的描绘片数输入栏74,该描绘片数信息表示作为对象的作业的被曝光基板C的描绘片数。进而,作业输入画面70具有用于指定表示输入结束的信息的输入结束按钮75。另外,也可以是,在向各输入栏输入各信息时,在各输入栏通过列表显示等来显示选择候补,并经由输入部53来选择所显示的选择候补的任一个。使用者在利用输入部53在描绘对象面选择栏71选择作为描绘对象的面并输入了与各输入栏对应的信息之后,指定输入结束按钮75。
因此,在接下来的步骤S103中,待机至输入结束按钮75被指定为止,从而待机至与作业相关的信息的输入结束为止。
在接下来的步骤S105中,基于由描绘对象面选择栏71选择的描绘对象的面及向各输入栏输入的各信息来生成作业信息60A、60B,并将生成的作业信息60A、60B存储于存储部51。此时,在描绘对象面选择栏71中选择了第一面的情况下,控制部50将输入到图像输入栏72的信息所表示的图像的图像信息作为图像信息62,并将输入到描绘片数输入栏74的信息作为描绘片数信息,生成第一面的作业信息60A。而且,在作业信息60A中,根据输入到基板种类输入栏73的信息,来决定基板尺寸信息、标记信息及敏化材料种类信息。即,在本实施方式所涉及的曝光描绘系统1中,按照每个被曝光基板C的基板种类,将基板尺寸信息、标记信息及敏化材料种类信息分别建立对应地存储于存储部51。并且,在本实施方式所涉及的曝光描绘系统1中,将与输入到基板种类输入栏73的信息所表示的基板种类对应的基板尺寸信息、标记信息及敏化材料种类信息作为作业信息60A的基板尺寸信息、标记信息及敏化材料种类信息。
另外,在描绘对象面选择栏71中选择了第二面的情况下,控制部50将输入到图像输入栏72的信息所表示的图像的图像信息作为图像信息62,将输入到描绘片数输入栏74的信息作为描绘片数信息,而生成第二面的作业信息60B。而且,控制部50在作业信息60B中也与作业信息60A同样地,决定并应用基板尺寸信息、标记信息及敏化材料种类信息。
在接下来的步骤S107中,判定在上述步骤S105的处理中生成的作业信息是否为第一面的作业信息60A。在步骤S107中为肯定判定的情况下向步骤S109转移,将生成的作业信息60A经由有线线缆8a向第一曝光描绘装置2发送。对此,第一曝光描绘装置2将接收到的作业信息60A存储于自身的作业存储部41。
另一方面,在步骤S107中为否定判定时,将通过上述步骤S105的处理而生成的作业信息看作第二面的作业信息60B而向步骤S111转移。
在步骤S111中,将生成的作业信息60B经由有线线缆8a发送到第二曝光描绘装置3之后,结束本作业设定处理程序。对此,第二曝光描绘装置3将接收到的作业信息60B存储于自身的作业存储部41。
由此,在本实施方式所涉及的曝光描绘系统1中,如图10所示,控制装置5基于由使用者输入的信息而生成第一面的作业信息60A及第二面的作业信息60B。并且,通过控制装置5生成的第一面的作业信息60A按照接收到的顺序存储于第一曝光描绘装置2的作业存储部41,第二面的作业信息60B按照接收到的顺序存储于第二曝光描绘装置3的作业存储部41。
当第一曝光描绘装置2从控制装置5接收作业信息60A并进行存储时,按照预先确定的使用者操作,使用存储的作业信息60A进行向被曝光基板C的第一面描绘图像的第一作业执行处理。
接着,参照图11,说明执行本实施方式所涉及的第一作业执行处理时的第一曝光描绘装置2的作用。另外,图11是表示此时通过第一曝光描绘装置2的系统控制部40执行的第一作业执行处理程序的处理的流程的流程图。该程序预先存储于系统控制部40所具备的ROM的预定区域。另外,执行该程序的时刻并不局限于按照预先确定的使用者操作的时刻,也可以是接收到作业信息60A的时刻。
首先,在步骤S200中,进行使存储于作业存储部41的作业信息60A显示于显示装置43的控制。此时,系统控制部40在存储有多个作业信息60A的情况下,进行使各作业信息60A以列表形式显示的控制。使用者将通过作为执行对象的作业信息60A的描绘片数信息表示的片数的被曝光基板C配置在第一曝光描绘装置2的第一传送部6的上游侧。并且,使用者经由输入装置44,对显示的作业信息60A进行选择指定,从而输入由指定的作业信息60A表示的作业的执行指示。
在接下来的步骤S201中,待机至上述作业的执行指示被输入为止,在接下来的步骤S203中,从与被指示执行的作业(以下,称为“执行第一面作业”)对应的作业信息60A取得图像信息62。另外,在本实施方式中,在取得描绘的图像的图像信息62时,取得存储于自身的作业存储部41的图像信息(作业信息60A的图像信息62),但并未限定于此。即,也可以是,预先向作业信息60A赋予上述图像识别信息,并基于该图像识别信息从控制装置5或外部的存储装置取得描绘的图像的图像信息。
在接下来的步骤S205中,决定通过执行第一面作业的执行而在被曝光基板C描绘图像时的曝光条件。此时,系统控制部40基于执行第一面作业的作业信息60A中的基板尺寸信息、描绘片数信息、标记信息及敏化材料种类信息来决定曝光条件。在本实施方式中,首先,系统控制部40通过摄影部23对设置于被曝光基板C的上述标记进行摄影,根据通过摄影得到的图像来计测该标记的位置。而且,系统控制部40基于计测到的标记的位置来决定描绘图像的描绘区域。进而,系统控制部40基于决定的描绘区域的尺寸和形状,使作为描绘对象的图像变形。并且,系统控制部40根据上述敏化材料种类信息所表示的敏化材料种类,来决定曝光的光束的强度、台10的移动速度(或光束的曝光时间)等。
在接下来的步骤S207中,根据决定的曝光条件,开始在被曝光基板C将光束曝光而描绘图像的曝光描绘处理。在本实施方式所涉及的曝光描绘处理中,系统控制部40将基于变形的图像而调制的光束通过曝光头16a进行曝光,从而将该变形的图像描绘于被曝光基板C。
在接下来的步骤S209中,判定预先确定的错误是否发生。此时,系统控制部40在由于被曝光基板C的变形或定位不良、光源单元17、图像处理单元19和曝光部16等的进行曝光描绘时使用的部位的故障等而使曝光描绘处理在中途停止的情况等,判定为错误发生。在步骤S209中为肯定判定的情况下向步骤S211转移,将表示发生了错误的错误信息向控制装置5发送,结束本第一作业执行处理程序。对此,接收到错误信息的控制装置5进行使错误信息显示于显示部52的控制。另外,系统控制部40也可以将错误信息向第二曝光描绘装置3发送。对此,接收到错误信息的第二曝光描绘装置3进行将该错误信息显示于显示装置43的控制,或删除与发生了错误的执行第一面作业对应的作业的作业信息60B。
另一方面,在步骤S209中为肯定判定的情况下,向步骤S213转移。
在步骤S213中,判定对1片被曝光基板C的曝光描绘处理是否完成。在步骤S213中为否定判定的情况下,返回上述步骤S209,而在步骤S213中为肯定判定的情况下,向步骤S215转移。
在步骤S215中,将执行第一面作业的曝光条件信息63向第二曝光描绘装置3发送。另外,在本实施方式中,从第一曝光描绘装置2向第二曝光描绘装置3发送执行第一面作业的曝光条件信息63,但是并不限定于此。即,发送的信息只要是第二曝光描绘装置3包含执行第一面作业的曝光条件信息63的信息即可,因此可以是例如作业信息60A其本身。而且,发送的信息也可以是执行第一面作业的曝光条件信息63所包含的预先确定的信息(例如仅基板尺寸信息、基板尺寸及标记信息等)。
在接下来的步骤S217中,判定执行第一面作业是否完成。此时,在对曝光条件信息63的描绘片数信息所表示的描绘片数的被曝光基板C的曝光描绘处理完成的情况下,系统控制部40判定为执行第一面作业完成。
在步骤S217中为否定判定的情况下,返回上述步骤S209,而在为肯定判定的情况下,结束本第一作业执行处理程序。
本实施方式所涉及的第二曝光描绘装置3在从第一曝光描绘装置2接收执行第一面作业的曝光条件信息63时,基于曝光条件信息63和从控制装置5接收到的作业信息60B,进行向被曝光基板C的第二面描绘图像的第二作业执行处理。
接着,参照图12,说明执行本实施方式所涉及的第二作业执行处理时的第二曝光描绘装置3的作用。另外,图12是表示此时通过第二曝光描绘装置3的系统控制部40执行的第二作业执行处理程序的处理的流程的流程图。该程序预先存储于系统控制部40所具备的ROM的预定区域。另外,执行该程序的时刻并不局限于接收到执行对象的作业的作业识别信息的时刻,也可以是通由使用者经由输入装置44输入了预先确定的执行指示的时刻等。
首先,在步骤S301中,判定在存储于作业存储部41的作业信息60B中,是否存在多个具有与接收到的执行第一面作业的曝光条件信息63相同的曝光条件信息63的作业信息60B。
在步骤S301中为肯定判定的情况下,向步骤S303转移,进行将用于对使用者的作业的选择进行辅助的作业选择画面76显示于显示装置43的控制。如图13所示,本实施方式所涉及的作业选择画面76具有选择作业存储部41所存储的作业信息60B中的任一个的选择按钮77以及不选择任一作业的不选择按钮78。使用者使用输入装置44来指定某个选择按钮77或不选择按钮78。
在接下来的步骤S304中,待机至某个选择按钮77或不选择按钮78被选择为止。
在接下来的步骤S305中,判定是否选择了某个作业。此时,系统控制部40在某个选择按钮77被选择的情况下,判定为选择了某个作业(肯定判定),在不选择按钮78被选择的情况下,判定为任意的作业都未选择(否定判定)。
在步骤S305中为肯定判定的情况下,将选择的作业设为作为执行对象的作业(以下,称为“执行第二面作业”。),向后述的步骤S309转移。另一方面,在步骤S305中为否定判定的情况下,向步骤S317转移,将表示未选择作业的错误信息向控制装置5发送,结束本第二作业执行处理程序。对此,控制装置5进行将接收到的错误信息显示于显示部52的控制。
另一方面,在步骤S301中为否定判定的情况下,向步骤S307转移。
在步骤S307中,判定作业存储部41所存储的作业信息60B中,表示具有与接收到的执行第一面作业的曝光条件信息63相同的曝光条件信息63的第二面的作业的作业信息60B是否仅存在一个。
在步骤S307中为否定判定的情况下,向步骤S317转移,将表示作为执行对象的作业不存在的错误信息向控制装置5发送,结束本第二作业执行处理程序。对此,控制装置5进行将接收到的错误信息显示于显示部52的控制。
另一方面,在步骤S307中为肯定判定的情况下,将通过上述步骤S307的处理而判定为存在的作业信息60B作为执行第二面作业,向步骤S309转移。另外,此时,也可以将通过上述步骤S307的处理而判定为存在的作业信息60B显示于显示装置43,并受理由该作业信息60B表示的作业的执行指示的输入。这种情况下,在受理了执行指示的输入之后,向步骤S309转移。
在步骤S309中,从执行第二面作业的作业信息60B取得向被曝光基板C的第二面描绘的图像的图像信息62。另外,在本实施方式中,当取得图像信息62时,取得存储于自身的作业存储部41的图像信息(作业信息60B的图像信息62),但并不限定于此。即,也可以是,预先向作业信息60B赋予上述图像识别信息,基于该图像识别信息,从控制装置5或外部的存储装置取得描绘的图像的图像信息。
在接下来的步骤S311中,在作为执行对象的作业即执行第二面作业中,决定向被曝光基板C描绘图像时的曝光条件。此时,系统控制部40通过与上述步骤S205同样的方法,基于执行第二面作业的作业信息60B中的基板尺寸信息、描绘片数信息、标记信息及敏化材料种类信息来决定曝光条件。
作为一例,如图7A及图7B所示,作业A和作业A’具有相同的曝光条件信息63,且作业B和作业B’具有相同的曝光条件信息63。而且,作为一例,如图10所示,在第一曝光描绘装置2中,存储描绘与第一面对应的图像的作业A的作业信息60A、作业B的作业信息60A等。进而,在第二曝光描绘装置3中,存储描绘与第二面对应的图像的作业A’的作业信息60B、作业B’的作业信息60B。在该状态下,在第一曝光描绘装置2中执行了作业A的情况下,在第二曝光描绘装置3中,将具有与作业A相同的曝光条件信息63的作业A’作为执行对象。
在接下来的步骤S313中,与上述的第一作业执行处理程序的步骤S207的处理同样地,根据决定的曝光条件,开始在被曝光基板C将光束曝光而描绘图像的曝光描绘处理。
在接下来的步骤S315中,判定是否发生了预先确定的错误。此时,系统控制部40在由于被曝光基板C的变形、定位不良、光源单元17、图像处理单元19和曝光部16等的进行曝光描绘时使用的部位的故障等而使曝光描绘处理在中途停止的情况等,判定为发生了错误。在步骤S315中为肯定判定的情况下向步骤S317转移,将表示发生了错误的错误信息向控制装置5发送,结束本第二作业执行处理程序。对此,控制装置5进行将接收到的错误信息显示于显示部52的控制。
另一方面,在步骤S315中为肯定判定的情况下向步骤S319转移。
在步骤S319中,判定对被曝光基板C的曝光描绘处理是否完成。在步骤S319中为否定判定的情况下,返回上述步骤S315,而在为肯定判定的情况下,向步骤S321转移。
在接下来的步骤S321中,判定执行第二面作业是否完成。此时,在对曝光条件信息63的描绘片数信息所表示的描绘片数的被曝光基板C的曝光描绘处理完成的情况下,系统控制部40判定为执行第二面作业完成。在步骤S321中为否定判定的情况下向步骤S323转移。
在步骤S323中,待机至接收用于进行执行第二面作业中的对接下来的被曝光基板C的图像的描绘的曝光条件信息为止。
在接下来的步骤S325中,判定接收到的曝光条件信息是否与执行第二面作业的作业信息60B的曝光条件信息相同。在步骤S325中为肯定判定的情况下,继续执行第二面作业的执行,向上述步骤S315转移。而在步骤S325中为否定判定的情况下,向步骤S317转移,将表示接收到与执行第二面作业的作业信息60B的曝光条件信息不同的曝光条件信息的错误信息向控制装置5发送,结束本第一作业执行处理程序。
另一方面,在步骤S321中为肯定判定的情况下,结束本第一作业执行处理程序。
[第二实施方式]
以下,利用附图来详细地说明第二实施方式所涉及的曝光描绘系统1。
在上述第一实施方式中,从第一曝光描绘装置2向第二曝光描绘装置3发送表示执行第一面作业的信息,在第二曝光描绘装置3中选择并执行对应的作业。而在第二实施方式中,从第一曝光描绘装置2向控制装置5发送表示执行第一面作业的信息,在控制装置5中选择对应的作业,并将选择的作业向第二曝光描绘装置3发送。
另外,第二实施方式所涉及的曝光描绘系统1的结构与第一实施方式所涉及的曝光描绘系统1相同,因此这里省略说明。
接着,参照图14,说明执行本实施方式所涉及的作业设定处理时的控制装置5的作用。另外,图14是表示此时通过控制装置5的控制部50执行的作业设定处理程序的处理的流程的流程图。该程序预先存储于存储部51的ROM的预定区域。
首先,在步骤S401至S405中,进行与第一实施方式的步骤S101至S105相同的处理。
在接下来的步骤S407中,将生成的第一面的作业信息60A经由有线线缆8a向第一曝光描绘装置2发送,结束本作业设定处理程序。第一曝光描绘装置2将接收到的作业信息60A存储于作业存储部41。
第一曝光描绘装置2在存储作业信息60A时,根据预先确定的使用者操作,基于作业信息60A而进行向被曝光基板C的第一面描绘图像的第一作业执行处理。
接着,参照图15,说明执行本实施方式所涉及的第一作业执行处理时的第一曝光描绘装置2的作用。另外,图15是表示此时通过第一曝光描绘装置2的系统控制部40执行的第一作业执行处理程序的处理的流程的流程图。该程序预先存储于系统控制部40所具备的ROM的预定区域。另外,执行该程序的时刻并不局限于按照预先确定的使用者操作的时刻,也可以是接收到作业信息60A的时刻等。
在步骤S500至S513中,进行与第一实施方式的步骤S201至S213同样的处理。
在步骤S515中,将执行第一面作业的作业信息60A中的曝光条件信息63向控制装置5发送。
在接下来的步骤S517中,进行与第一实施方式的步骤S217同样的处理,结束本第一作业执行处理程序。
本实施方式所涉及的控制装置5在从第一曝光描绘装置2接收作业信息60A的曝光条件信息时,进行从存储部51所存储的作业信息60B中选择具有与接收到的曝光条件信息相同的曝光条件信息的作业信息60B的作业选择处理。
接着,参照图16,说明执行本实施方式所涉及的作业选择处理时的控制装置5的作用。另外,图16是表示此时通过控制装置5的控制部50执行的作业选择处理程序的处理的流程的流程图。该程序预先存储于存储部51的ROM的预定区域。另外,执行该程序的时刻并不局限于接收到曝光条件信息的时刻,也可以是由使用者经由输入部53输入了预先确定的执行指示的时刻等。
首先,在步骤S601中,判定在存储部51所存储的第二面的作业信息60B中,是否存在具有与接收到的执行第一面作业的曝光条件信息63相同的曝光条件信息63的第二面的作业信息60B。
在步骤S601中为肯定判定的情况下向步骤S605转移,将具有与执行第一面作业的曝光条件信息63相同的曝光条件信息63的第二面的作业信息60B经由有线线缆8a向第二曝光描绘装置3发送。第二曝光描绘装置3将接收到的第二面的作业信息60B存储于作业存储部41。
另一方面,在步骤S601中为否定判定的情况下向步骤S605转移,进行将错误信息显示于显示部52的控制,该错误信息表示不存在具有与执行第一面作业的曝光条件信息63相同的曝光条件信息63的第二面的作业信息60B。
本实施方式所涉及的第二曝光描绘装置3在从控制装置5接收到上述第二面的作业信息60B时,基于接收到的作业信息60B,进行向被曝光基板C的第二面描绘图像的第二作业执行处理。
接着,参照图17,说明执行本实施方式所涉及的第二作业执行处理时的第二曝光描绘装置3的作用。另外,图17是表示此时通过第二曝光描绘装置3的系统控制部40执行的第二作业执行处理程序的处理的流程的流程图。该程序预先存储于系统控制部40所具备的ROM的预定区域。另外,执行该程序的时刻并不局限于接收到作业信息60B的时刻,也可以是由使用者经由输入装置44输入了预先确定的执行指示的时刻等。
首先,在步骤S701至S705中,进行与第一实施方式的步骤S301至305同样的处理。
在步骤S707至S723中,进行与第一实施方式的步骤S309至S325同样的处理,结束本第二作业执行处理程序。
标号说明
1 曝光描绘系统
2 第一曝光描绘装置
3 第二曝光描绘装置
4 翻转装置
5 控制装置
10 台
16a 曝光头
40 系统控制部
41 作业存储部
50 控制部
51 存储部
60A 第一作业信息
60B 第二作业信息
C 被曝光基板
Claims (12)
1.一种曝光描绘装置,包括:
第一描绘构件,基于将表示向被曝光基板的第一面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息建立了对应的第一作业信息,将所述第一面曝光,由此将由该第一作业信息表示的图像向所述第一面描绘;
存储构件,存储多个第二作业信息,该多个第二作业信息将表示向被曝光基板的与所述第一面相反的第二面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息分别建立了对应;以及
第二描绘构件,基于所述存储构件所存储的所述多个第二作业信息中的具有与利用所述第一描绘构件对被曝光基板的所述第一面进行的图像的描绘所使用的所述第一作业信息所表示的曝光条件信息相同的曝光条件信息的所述第二作业信息,将在该第一面描绘了图像的被曝光基板的所述第二面曝光,由此将由该第二作业信息表示的图像向所述第二面描绘。
2.根据权利要求1所述的曝光描绘装置,其中,
所述曝光条件包括所述被曝光基板的尺寸、所述被曝光基板的作为曝光对象的片数、在所述被曝光基板设置有用于决定图像的描绘区域的标记的情况下的该标记的配置图案以及所述被曝光基板的感光材料种类中的至少一个。
3.一种曝光描绘系统,具有第一曝光描绘装置和第二曝光描绘装置,
所述第一曝光描绘装置包括:
第一描绘构件,基于将表示向被曝光基板的第一面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息建立了对应的第一作业信息,将所述第一面曝光,由此将由该第一作业信息表示的图像向所述第一面描绘;以及
发送构件,发送利用所述第一描绘构件对被曝光基板的所述第一面进行的图像的描绘所使用的所述第一作业信息的曝光条件信息,
所述第二曝光描绘装置包括:
存储构件,存储多个第二作业信息,该多个第二作业信息将表示向被曝光基板的与所述第一面相反的第二面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息分别建立了对应;
接收构件,接收由所述发送构件发送的所述曝光条件信息;以及
第二描绘构件,基于所述存储构件所存储的所述多个第二作业信息中的具有与由所述接收构件接收到的曝光条件信息相同的曝光条件信息的所述第二作业信息,将利用所述第一描绘构件在所述第一面描绘了图像的被曝光基板的所述第二面曝光,由此将由该第二作业信息表示的图像向该第二面描绘。
4.根据权利要求3所述的曝光描绘系统,其中,
所述第一曝光描绘装置的所述发送构件发送由所述第一描绘构件进行的描绘正常地结束时的曝光条件信息。
5.根据权利要求3或4所述的曝光描绘系统,其中,
所述第一曝光描绘装置的所述发送构件在由所述第一描绘构件进行的描绘异常地结束的情况下,发送表示发生了错误的错误信息。
6.根据权利要求3~5中任一项所述的曝光描绘系统,其中,
所述第二曝光描绘装置还具备受理构件,在由所述存储构件存储的所述多个第二作业信息中存在多个具有与由所述接收构件接收到的曝光条件信息相同的曝光条件信息的所述第二作业信息的情况下,所述受理构件受理存在多个的所述第二作业信息中的任一个所述第二作业信息的选择,
所述第二曝光描绘装置的所述第二描绘构件基于由所述受理构件受理了选择的所述第二作业信息来向所述第二面描绘图像。
7.根据权利要求3~6中的任一项所述的曝光描绘系统,其中,
所述曝光描绘系统还具备控制装置,该控制装置包括:第二存储构件,存储所述第一作业信息以及所述第二作业信息;以及
第二发送构件,将由所述第二存储构件存储的所述第一作业信息向所述第一曝光描绘装置发送,并将所述第二作业信息向所述第二曝光描绘装置发送,
所述第一曝光描绘装置还具备接收由所述第二发送构件发送的所述第一作业信息的第二接收构件,
所述第一曝光描绘装置的所述第一描绘构件使用由所述第二接收构件接收到的所述第一作业信息,将由该第一作业信息表示的图像向所述第一面描绘,
所述第二曝光描绘装置还具备接收由所述第二发送构件发送的所述第二作业信息的第三接收构件,
所述第二曝光描绘装置的所述存储构件存储多个由所述第三接收构件接收到的所述第二作业信息。
8.根据权利要求7所述的曝光描绘系统,其中,
所述控制装置还具备受理所述第一作业信息以及所述第二作业信息的输入的第二受理构件,
所述控制装置的所述第二存储构件存储由所述第二受理构件受理的所述第一作业信息以及所述第二作业信息。
9.一种曝光描绘系统,具有第一曝光描绘装置、控制装置以及第二曝光描绘装置,
所述第一曝光描绘装置包括:
第一描绘构件,基于将表示向被曝光基板的第一面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息建立了对应的第一作业信息,将所述第一面曝光,由此将由该第一作业信息表示的图像向所述第一面描绘;以及
第一发送构件,发送利用所述第一描绘构件对被曝光基板的所述第一面进行的图像的描绘所使用的所述第一作业信息的曝光条件信息,
所述控制装置包括:
存储构件,存储多个第二作业信息,该多个第二作业信息将表示向被曝光基板的与所述第一面相反的第二面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息分别建立了对应;
第一接收构件,接收由所述第一发送构件发送的曝光条件信息;以及
第二发送构件,发送由所述存储构件存储的所述多个第二作业信息中的具有与由所述第一接收构件接收到的曝光条件信息相同的曝光条件信息的所述第二作业信息,
所述第二曝光描绘装置包括:
第二接收构件,接收由所述第二发送构件发送的所述第二作业信息;以及
第二描绘构件,基于由所述第二接收构件接收到的所述第二作业信息,将利用所述第一描绘构件在所述第一面描绘了图像的被曝光基板的所述第二面曝光,由此将由该第二作业信息表示的图像向该第二面描绘。
10.根据权利要求3~9中的任一项所述的曝光描绘系统,其中,
所述曝光条件包括所述被曝光基板的尺寸、所述被曝光基板的作为曝光对象的片数、在所述被曝光基板设置有用于决定图像的描绘区域的标记的情况下的该标记的配置图案以及所述被曝光基板的感光材料种类中的至少一个。
11.一种程序,用于使计算机作为第一控制构件和第二控制构件发挥功能,
所述第一控制构件使第一描绘构件,基于将表示向被曝光基板的第一面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息建立了对应的第一作业信息,将所述第一面曝光,由此将由该第一作业信息表示的图像向所述第一面描绘,
所述第二控制构件使第二描绘构件,基于将表示向被曝光基板的与所述第一面相反的第二面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息分别建立了对应的多个第二作业信息中的具有与利用所述第一描绘构件对被曝光基板的所述第一面进行的图像的描绘所使用的所述第一作业信息的曝光条件信息相同的曝光条件信息的所述第二作业信息,将在该第一面描绘了图像的被曝光基板的所述第二面曝光,由此将由该第二作业信息表示的图像向所述第二面描绘。
12.一种曝光描绘方法,包括如下步骤:
第一控制步骤,使第一描绘构件,基于将表示向被曝光基板的第一面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息建立了对应的第一作业信息,将所述第一面曝光,由此将由该第一作业信息表示的图像向所述第一面描绘;以及
第二控制步骤,使第二描绘构件,基于将表示向被曝光基板的与所述第一面相反的第二面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息分别建立了对应的多个第二作业信息中的具有与利用所述第一描绘构件对被曝光基板的所述第一面进行的图像的描绘所使用的所述第一作业信息的曝光条件信息相同的曝光条件信息的所述第二作业信息,将在该第一面描绘了图像的被曝光基板的所述第二面曝光,由此将由该第二作业信息表示的图像向所述第二面描绘。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012-215122 | 2012-09-27 | ||
JP2012215122A JP6198378B2 (ja) | 2012-09-27 | 2012-09-27 | 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 |
PCT/JP2013/072818 WO2014050405A1 (ja) | 2012-09-27 | 2013-08-27 | 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN104662479A true CN104662479A (zh) | 2015-05-27 |
CN104662479B CN104662479B (zh) | 2016-11-16 |
Family
ID=50387814
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201380049240.4A Active CN104662479B (zh) | 2012-09-27 | 2013-08-27 | 曝光描绘装置、曝光描绘系统、程序及曝光描绘方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6198378B2 (zh) |
KR (1) | KR102119429B1 (zh) |
CN (1) | CN104662479B (zh) |
TW (1) | TWI606307B (zh) |
WO (1) | WO2014050405A1 (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110741746A (zh) * | 2017-06-07 | 2020-01-31 | 株式会社富士 | 元件判定系统及元件判定方法 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6096453B2 (ja) * | 2012-09-27 | 2017-03-15 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 |
TWI725393B (zh) * | 2019-03-12 | 2021-04-21 | 萬里科技股份有限公司 | 用於戒指攝影的轉盤與光箱 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002341550A (ja) * | 2001-05-17 | 2002-11-27 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | レーザー露光装置 |
CN1702557A (zh) * | 2004-05-28 | 2005-11-30 | 株式会社Orc制作所 | 曝光装置、曝光方法以及曝光处理程序 |
CN101283312A (zh) * | 2005-10-07 | 2008-10-08 | 富士胶片株式会社 | 数字曝光装置 |
JP2008242218A (ja) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Fujifilm Corp | 描画装置及び描画方法 |
CN101320220A (zh) * | 2007-05-28 | 2008-12-10 | 株式会社Orc制作所 | 曝光绘图装置 |
JP2009223262A (ja) * | 2008-03-19 | 2009-10-01 | Orc Mfg Co Ltd | 露光システムおよび露光方法 |
CN102004398A (zh) * | 2009-08-28 | 2011-04-06 | 优志旺电机株式会社 | 两面曝光装置 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6172216A (ja) * | 1984-09-17 | 1986-04-14 | Shinku Lab:Kk | 露光方法 |
JPH11307424A (ja) * | 1998-04-22 | 1999-11-05 | Hitachi Ltd | 半導体製造方法および製造装置、ならびにそれにより製造された半導体デバイス |
JP2001284231A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-10-12 | Canon Inc | 露光装置及びエラー発生時のパターンで処理を振り分ける方法 |
JP4034975B2 (ja) * | 2002-02-13 | 2008-01-16 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体デバイスの製造方法 |
JP4381009B2 (ja) * | 2003-03-12 | 2009-12-09 | 新光電気工業株式会社 | パターン描画装置、パターン描画方法、および検査装置 |
JP5004786B2 (ja) * | 2007-12-27 | 2012-08-22 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置の反転部 |
-
2012
- 2012-09-27 JP JP2012215122A patent/JP6198378B2/ja active Active
-
2013
- 2013-08-27 CN CN201380049240.4A patent/CN104662479B/zh active Active
- 2013-08-27 WO PCT/JP2013/072818 patent/WO2014050405A1/ja active Application Filing
- 2013-08-27 KR KR1020157005395A patent/KR102119429B1/ko active IP Right Grant
- 2013-09-26 TW TW102134835A patent/TWI606307B/zh active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002341550A (ja) * | 2001-05-17 | 2002-11-27 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | レーザー露光装置 |
CN1702557A (zh) * | 2004-05-28 | 2005-11-30 | 株式会社Orc制作所 | 曝光装置、曝光方法以及曝光处理程序 |
CN101283312A (zh) * | 2005-10-07 | 2008-10-08 | 富士胶片株式会社 | 数字曝光装置 |
JP2008242218A (ja) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Fujifilm Corp | 描画装置及び描画方法 |
CN101320220A (zh) * | 2007-05-28 | 2008-12-10 | 株式会社Orc制作所 | 曝光绘图装置 |
JP2009223262A (ja) * | 2008-03-19 | 2009-10-01 | Orc Mfg Co Ltd | 露光システムおよび露光方法 |
CN102004398A (zh) * | 2009-08-28 | 2011-04-06 | 优志旺电机株式会社 | 两面曝光装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110741746A (zh) * | 2017-06-07 | 2020-01-31 | 株式会社富士 | 元件判定系统及元件判定方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6198378B2 (ja) | 2017-09-20 |
KR20150060682A (ko) | 2015-06-03 |
TWI606307B (zh) | 2017-11-21 |
KR102119429B1 (ko) | 2020-06-05 |
WO2014050405A1 (ja) | 2014-04-03 |
CN104662479B (zh) | 2016-11-16 |
JP2014071158A (ja) | 2014-04-21 |
TW201413398A (zh) | 2014-04-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4607949A (en) | Photographic print making method | |
JP4922071B2 (ja) | 露光描画装置 | |
JP2006178205A (ja) | デジタルプラットフォーム装置 | |
CN104662479A (zh) | 曝光描绘装置、曝光描绘系统、程序及曝光描绘方法 | |
CN101185032A (zh) | 图像处理装置 | |
CN104204953B (zh) | 曝光描绘装置以及曝光描绘方法 | |
CN105388707A (zh) | 描绘装置 | |
CN106442520A (zh) | Pcb板孔位检测设备 | |
CN109116686A (zh) | 一种dmd多区域激光投影系统及曝光方法 | |
KR20150033730A (ko) | 디지털 스테레오 이미지 인쇄를 위한 가동 가압 및 차광 메커니즘 및 이를 위한 방법 | |
JP2011221542A (ja) | デジタルプラットフォーム装置 | |
TWI693478B (zh) | 無罩曝光裝置及曝光方法 | |
CN104641299A (zh) | 曝光描绘装置、曝光描绘系统、程序及曝光描绘方法 | |
CN104169799B (zh) | 曝光描绘装置及曝光描绘方法 | |
JP2008276219A (ja) | デジタルプラットフォーム装置 | |
CN204964402U (zh) | Pcb板孔位检测设备 | |
JP4317488B2 (ja) | 露光装置、露光方法および露光処理プログラム | |
JP6389928B2 (ja) | 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 | |
CN104205291A (zh) | 曝光描绘装置及曝光描绘方法 | |
JPH10180977A (ja) | 印刷版作成工程における印刷版の画像面積測定方法 | |
JP5296144B2 (ja) | デジタルプラットフォーム装置 | |
JP2011043855A (ja) | デジタルプラットフォーム装置 | |
JPH10186524A (ja) | 印刷版作成工程における印刷版の画像面積測定方法及びそれに用いる焼付装置 | |
WO2006000217A2 (en) | Method and system for exposing an area according to digital image data |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
EXSB | Decision made by sipo to initiate substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant |