JP2014071158A - 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 - Google Patents
露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014071158A JP2014071158A JP2012215122A JP2012215122A JP2014071158A JP 2014071158 A JP2014071158 A JP 2014071158A JP 2012215122 A JP2012215122 A JP 2012215122A JP 2012215122 A JP2012215122 A JP 2012215122A JP 2014071158 A JP2014071158 A JP 2014071158A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure
- information
- image
- job
- exposed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
Abstract
【解決手段】被露光基板の第1面に描画する画像を示す画像情報と露光条件情報とが対応付けられた第1ジョブ情報60Aに基づいて第1面を露光することにより、該第1ジョブ情報60Aにより示される画像を第1面に描画し、被露光基板の第2面に描画する画像を示す画像情報と露光条件情報とが各々対応付けられた複数の第2ジョブ情報60Bを記憶し、複数の第2ジョブ情報60Aのうち第1面に対する画像の描画に用いた第1ジョブ情報60Aにより示される露光条件情報と同一の露光条件情報を有する第2ジョブ情報60Bに基づいて該第1面に画像を描画した被露光基板の第2面を露光することにより、該第2ジョブ情報により示される画像を第2面に描画する。
【選択図】図10
Description
2 第1露光描画装置
3 第2露光描画装置
4 反転装置
5 制御装置
10 ステージ
16a 露光ヘッド
40 システム制御部
41 ジョブ記憶部
50 制御部
51 記憶部
60A 第1ジョブ情報
60B 第2ジョブ情報
C 被露光基板
Claims (12)
- 被露光基板の第1面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第1ジョブ情報に基づいて前記第1面を露光することにより、該第1ジョブ情報により示される画像を前記第1面に描画する第1描画手段と、
被露光基板の前記第1面とは反対の第2面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが各々対応付けられた複数の第2ジョブ情報を記憶する記憶手段と、
前記記憶手段が記憶している前記複数の第2ジョブ情報のうち前記第1描画手段で被露光基板の前記第1面に対する画像の描画に用いた前記第1ジョブ情報により示される露光条件情報と同一の露光条件情報を有する前記第2ジョブ情報に基づいて該第1面に画像を描画した被露光基板の前記第2面を露光することにより、該第2ジョブ情報により示される画像を前記第2面に描画する第2描画手段と、
を備えた露光描画装置。 - 前記露光条件は、前記被露光基板のサイズ、前記被露光基板の露光対象とする枚数、前記被露光基板に画像の描画領域を決定するためのマークが設けられている場合の該マークの配置パターン、及び前記被露光基板の感材種の少なくとも1つを含む
請求項1記載の露光描画装置。 - 被露光基板の第1面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第1ジョブ情報に基づいて前記第1面を露光することにより、該第1ジョブ情報により示される画像を前記第1面に描画する第1描画手段、及び
前記第1描画手段で被露光基板の前記第1面に対する画像の描画に用いた前記第1ジョブ情報の露光条件情報を送信する送信手段
を備えた第1露光描画装置と、
被露光基板の前記第1面とは反対の第2面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが各々対応付けられた複数の第2ジョブ情報を記憶する記憶手段、
前記送信手段により送信された前記露条件情報を受信する受信手段、及び
前記記憶手段により記憶している前記複数の第2ジョブ情報から前記受信手段により受信した露光条件情報と同一の露光条件情報を有する前記第2ジョブ情報に基づいて前記第1描画手段で前記第1面に画像を描画した被露光基板の前記第2面を露光することにより、該第2ジョブ情報により示される画像を該第2面に描画する第2描画手段
を備えた第2露光描画装置と、
を有する露光描画システム。 - 前記第1露光描画装置の前記送信手段は、前記第1描画手段による描画が正常に終了した場合の露光条件情報を送信する
請求項3記載の露光描画システム。 - 前記第1露光描画装置の前記送信手段は、前記第1描画手段による描画が異常に終了した場合、エラーが発生した旨を示すエラー情報を送信する
請求項3または4記載の露光描画システム。 - 前記第2露光描画装置は、前記記憶手段により記憶している前記複数の第2ジョブ情報に前記受信手段により受信した露光条件情報と同一の露光条件情報を有する前記第2ジョブ情報が複数存在した場合、複数存在する前記第2ジョブ情報のうち何れか1つの前記第2ジョブ情報の選択を受け付ける受付手段を更に備え、
前記第2露光描画装置の前記第2描画手段は、前記受付手段により選択が受け付けられた前記第2ジョブ情報に基づいて前記第2面に画像を描画する
請求項3乃至5の何れか1項記載の露光描画システム。 - 前記第1ジョブ情報及び前記第2ジョブ情報を記憶する第2記憶手段、及び
前記第2記憶手段により記憶している前記第1ジョブ情報を前記第1露光描画装置に送信し、前記第2ジョブ情報を前記第2露光描画装置に送信する第2送信手段
を備えた制御装置を更に備え、
前記第1露光描画装置は、前記第2送信手段により送信された前記第1ジョブ情報を受信する第2受信手段を更に備え、
前記第1露光描画装置の前記第1描画手段は、前記第2受信手段により受信した前記第1ジョブ情報を用いて、該第1ジョブ情報により示される画像を前記第1面に描画し、
前記第2露光描画装置は、前記第2送信手段により送信された前記第2ジョブ情報を受信する第3受信手段を更に備え、
前記第2露光描画装置の前記記憶手段は、前記第3受信手段により受信した前記第2ジョブ情報を複数記憶する
請求項3乃至6の何れか1項記載の露光描画システム。 - 前記制御装置は、前記第1ジョブ情報及び前記第2ジョブ情報の入力を受け付ける第2受付手段を更に備え、
前記制御装置の前記第2記憶手段は、前記第2受付手段により受け付けた前記第1ジョブ情報及び前記第2ジョブ情報を記憶する
請求項7記載の露光描画システム。 - 被露光基板の第1面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第1ジョブ情報に基づいて前記第1面を露光することにより、該第1ジョブ情報により示される画像を前記第1面に描画する第1描画手段、及び
前記第1描画手段で被露光基板の前記第1面に対する画像の描画に用いた前記第1ジョブ情報の露光条件情報を送信する第1送信手段
を備えた第1露光描画装置と、
被露光基板の前記第1面とは反対の第2面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが各々対応付けられた複数の第2ジョブ情報を記憶する記憶手段、
前記第1送信手段により送信された露光条件情報を受信する第1受信手段、及び
前記記憶手段により記憶された前記複数の第2ジョブ情報のうち前記第1受信手段により受信した露光条件情報と同一の露光条件情報を有する前記第2ジョブ情報を送信する第2送信手段
を備えた制御装置と、
前記第2送信手段により送信された前記第2ジョブ情報を受信する第2受信手段、及び
前記第2受信手段により受信した前記第2ジョブ情報に基づいて前記第1描画手段により前記第1面に画像を描画した被露光基板の前記第2面を露光することにより、該第2ジョブ情報により示される画像を該第2面に描画する第2描画手段
を備えた第2露光描画装置と、
を有する露光描画システム。 - 前記露光条件は、前記被露光基板のサイズ、前記被露光基板の露光対象とする枚数、前記被露光基板に画像の描画領域を決定するためのマークが設けられている場合の該マークの配置パターン、及び前記被露光基板の感材種の少なくとも1つを含む
請求項3乃至9の何れか1項記載の露光描画システム。 - コンピュータを、
第1描画手段に、被露光基板の第1面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第1ジョブ情報に基づいて前記第1面を露光することにより、該第1ジョブ情報により示される画像を前記第1面に描画させる第1制御手段と、
第2描画手段に、被露光基板の前記第1面とは反対の第2面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが各々対応付けられた複数の第2ジョブ情報のうち、前記第1描画手段で被露光基板の前記第1面に対する画像の描画に用いた前記第1ジョブ情報の露光条件情報と同一の露光条件情報を有する前記第2ジョブ情報に基づいて該第1面に画像を描画した被露光基板の前記第2面を露光することにより、該第2ジョブ情報により示される画像を前記第2面に描画させる第2制御手段と、
として機能させるためのプログラム。 - 第1描画手段に、被露光基板の第1面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第1ジョブ情報に基づいて前記第1面を露光することにより、該第1ジョブ情報により示される画像を前記第1面に描画させる第1制御ステップと、
第2描画手段に、被露光基板の前記第1面とは反対の第2面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが各々対応付けられた複数の第2ジョブ情報のうち、前記第1描画手段で被露光基板の前記第1面に対する画像の描画に用いた前記第1ジョブ情報の露光条件情報と同一の露光条件情報を有する前記第2ジョブ情報に基づいて該第1面に画像を描画した被露光基板の前記第2面を露光することにより、該第2ジョブ情報により示される画像を前記第2面に描画させる第2制御ステップと、
を有する露光描画方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012215122A JP6198378B2 (ja) | 2012-09-27 | 2012-09-27 | 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 |
KR1020157005395A KR102119429B1 (ko) | 2012-09-27 | 2013-08-27 | 노광 묘화 장치, 노광 묘화 시스템, 프로그램, 및 노광 묘화 방법 |
CN201380049240.4A CN104662479B (zh) | 2012-09-27 | 2013-08-27 | 曝光描绘装置、曝光描绘系统、程序及曝光描绘方法 |
PCT/JP2013/072818 WO2014050405A1 (ja) | 2012-09-27 | 2013-08-27 | 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 |
TW102134835A TWI606307B (zh) | 2012-09-27 | 2013-09-26 | 曝光微影裝置、曝光微影系統、儲存程式的記錄媒體和曝光微影方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012215122A JP6198378B2 (ja) | 2012-09-27 | 2012-09-27 | 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017125490A Division JP6389928B2 (ja) | 2017-06-27 | 2017-06-27 | 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014071158A true JP2014071158A (ja) | 2014-04-21 |
JP6198378B2 JP6198378B2 (ja) | 2017-09-20 |
Family
ID=50387814
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012215122A Active JP6198378B2 (ja) | 2012-09-27 | 2012-09-27 | 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6198378B2 (ja) |
KR (1) | KR102119429B1 (ja) |
CN (1) | CN104662479B (ja) |
TW (1) | TWI606307B (ja) |
WO (1) | WO2014050405A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014071157A (ja) * | 2012-09-27 | 2014-04-21 | Fujifilm Corp | 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018225168A1 (ja) * | 2017-06-07 | 2018-12-13 | 株式会社Fuji | 部品判定システム、および部品判定方法 |
TWI725393B (zh) * | 2019-03-12 | 2021-04-21 | 萬里科技股份有限公司 | 用於戒指攝影的轉盤與光箱 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6172216A (ja) * | 1984-09-17 | 1986-04-14 | Shinku Lab:Kk | 露光方法 |
JP2001284231A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-10-12 | Canon Inc | 露光装置及びエラー発生時のパターンで処理を振り分ける方法 |
JP2002341550A (ja) * | 2001-05-17 | 2002-11-27 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | レーザー露光装置 |
JP2003243280A (ja) * | 2002-02-13 | 2003-08-29 | Hitachi Ltd | 半導体デバイスの製造システム及び製造方法 |
JP2004279446A (ja) * | 2003-03-12 | 2004-10-07 | Shinko Electric Ind Co Ltd | パターン描画装置、パターン描画方法、および検査装置 |
JP2008242218A (ja) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Fujifilm Corp | 描画装置及び描画方法 |
JP2008292915A (ja) * | 2007-05-28 | 2008-12-04 | Orc Mfg Co Ltd | 露光描画装置 |
JP2009157248A (ja) * | 2007-12-27 | 2009-07-16 | Orc Mfg Co Ltd | 露光装置の反転部 |
JP2009223262A (ja) * | 2008-03-19 | 2009-10-01 | Orc Mfg Co Ltd | 露光システムおよび露光方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11307424A (ja) * | 1998-04-22 | 1999-11-05 | Hitachi Ltd | 半導体製造方法および製造装置、ならびにそれにより製造された半導体デバイス |
JP4317488B2 (ja) * | 2004-05-28 | 2009-08-19 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置、露光方法および露光処理プログラム |
JP4606990B2 (ja) * | 2005-10-07 | 2011-01-05 | 富士フイルム株式会社 | デジタル露光装置 |
JP5333063B2 (ja) * | 2009-08-28 | 2013-11-06 | ウシオ電機株式会社 | 両面露光装置 |
-
2012
- 2012-09-27 JP JP2012215122A patent/JP6198378B2/ja active Active
-
2013
- 2013-08-27 KR KR1020157005395A patent/KR102119429B1/ko active IP Right Grant
- 2013-08-27 WO PCT/JP2013/072818 patent/WO2014050405A1/ja active Application Filing
- 2013-08-27 CN CN201380049240.4A patent/CN104662479B/zh active Active
- 2013-09-26 TW TW102134835A patent/TWI606307B/zh active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6172216A (ja) * | 1984-09-17 | 1986-04-14 | Shinku Lab:Kk | 露光方法 |
JP2001284231A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-10-12 | Canon Inc | 露光装置及びエラー発生時のパターンで処理を振り分ける方法 |
JP2002341550A (ja) * | 2001-05-17 | 2002-11-27 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | レーザー露光装置 |
JP2003243280A (ja) * | 2002-02-13 | 2003-08-29 | Hitachi Ltd | 半導体デバイスの製造システム及び製造方法 |
JP2004279446A (ja) * | 2003-03-12 | 2004-10-07 | Shinko Electric Ind Co Ltd | パターン描画装置、パターン描画方法、および検査装置 |
JP2008242218A (ja) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Fujifilm Corp | 描画装置及び描画方法 |
JP2008292915A (ja) * | 2007-05-28 | 2008-12-04 | Orc Mfg Co Ltd | 露光描画装置 |
JP2009157248A (ja) * | 2007-12-27 | 2009-07-16 | Orc Mfg Co Ltd | 露光装置の反転部 |
JP2009223262A (ja) * | 2008-03-19 | 2009-10-01 | Orc Mfg Co Ltd | 露光システムおよび露光方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014071157A (ja) * | 2012-09-27 | 2014-04-21 | Fujifilm Corp | 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201413398A (zh) | 2014-04-01 |
TWI606307B (zh) | 2017-11-21 |
KR102119429B1 (ko) | 2020-06-05 |
CN104662479A (zh) | 2015-05-27 |
CN104662479B (zh) | 2016-11-16 |
JP6198378B2 (ja) | 2017-09-20 |
WO2014050405A1 (ja) | 2014-04-03 |
KR20150060682A (ko) | 2015-06-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4606990B2 (ja) | デジタル露光装置 | |
US8223319B2 (en) | Exposure device | |
JP6198378B2 (ja) | 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 | |
JP5813556B2 (ja) | 露光描画装置、プログラム及び露光描画方法 | |
KR20160103927A (ko) | 주변 노광 장치, 주변 노광 방법, 프로그램, 및 컴퓨터 기억 매체 | |
KR20060080561A (ko) | 아이디위치 검사기능을 갖는 레이저마킹 시스템 및 그검사방법 | |
JP6389928B2 (ja) | 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 | |
JP2007309718A (ja) | 検査装置および検査方法 | |
JP6096453B2 (ja) | 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 | |
TW201702758A (zh) | 無罩曝光裝置及曝光方法 | |
JP4317488B2 (ja) | 露光装置、露光方法および露光処理プログラム | |
KR102039373B1 (ko) | 노광 묘화 장치 및 노광 묘화 방법 | |
JP2009141152A (ja) | パネル搬送装置およびパネル搬送方法 | |
JP2005166927A (ja) | 部品実装装置 | |
JP2008076169A (ja) | 基板検査システム | |
JP2011170171A (ja) | プリアライメント装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20140129 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20140421 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150805 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160906 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20170328 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170627 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20170705 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170815 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170822 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6198378 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |