KR102039373B1

KR102039373B1 - 노광 묘화 장치 및 노광 묘화 방법

Info

Publication number: KR102039373B1
Application number: KR1020147025942A
Authority: KR
Inventors: 아키히로 하시구치
Original assignee: 가부시키가이샤 아도테크 엔지니어링
Priority date: 2012-03-14
Filing date: 2013-02-25
Publication date: 2019-11-01
Also published as: CN104169799B; TW201339768A; CN104169799A; JP2013190660A; JP5940328B2; KR20140141589A; TWI578111B; WO2013136959A1

Abstract

복수의 작업을 연속해서 행할 때에 불필요한 노광 처리를 최대한 행하지 않고 부주의한 라인 정지를 억제할 수 있는 노광 묘화 장치를 제공한다. 기판 정보가 각각 설정되고, 노광 처리를 요구하는 복수의 노광 처리 요구에 의거하여 기판에 대하여 노광 처리 각각을 순서대로 실행하는 노광 처리 실행 수단과, 노광 처리 대상의 기판의 기판 정보를 검출하는 검출 수단과, 검출 기판 정보와 실행 중의 노광 처리 요구에 설정된 실행 중 기판 정보를 비교하는 비교 수단과, 비교 결과에 의거하여 다음에 노광 처리 대상이 되는 기판의 검출 기판 정보가 실행 중 기판 정보와 동일할 경우에는 다음에 노광 처리 대상이 되는 기판에 대하여 실행 중의 노광 처리 요구가 계속해서 실행되고, 검출 기판 정보가 실행 중 기판 정보와 다르며 또한 다음의 노광 처리 요구에 설정된 기판 정보와 동일할 경우에는 실행 중의 노광 처리 요구를 종료해서 다음의 노광 처리 요구의 실행이 개시된다.

Description

노광 묘화 장치 및 노광 묘화 방법{EXPOSURE/DRAWING DEVICE AND EXPOSURE/DRAWING METHOD}

본 발명은 노광 묘화 장치 및 노광 묘화 방법에 관한 것이고, 특히 피노광 기판에 대하여 광빔을 노광함으로써 회로 패턴을 묘화하는 노광 묘화 장치, 노광 묘화 장치에 의해 실행되는 프로그램, 및 피노광 기판에 대하여 광빔을 노광함으로써 회로 패턴을 묘화하는 노광 묘화 방법에 관한 것이다.

종래, 화상 기록 장치 및 노광 묘화 장치 등의 장치에 대하여 복수의 처리 요구를 연속해서 행할 경우에 한번에 요구된 각각 관련되는 복수의 처리 요구를 일괄적으로 1작업으로 하고, 처리 요구가 발생한 순서에 따라서 복수의 작업을 연속해서 순차 실행한다. 그때, 실행 중의 작업에 설정되어 있는 처리 매수의 처리를 완료한 단계에서 실행 중의 작업을 종료하고 다음 작업의 실행을 개시한다.

그런데, 복수의 작업을 실행할 때에 처리 대상으로 하는 기록 매체가 부족해지거나 반송되어 온 기록 매체의 종류나 사이즈가 작업에 설정되어 있는 것과 다른 경우에는 처리를 계속할 수 없기 때문에 에러를 발생시켜서 처리를 정지시킨다. 특히, 장치가 노광 묘화 장치인 경우에는 에러 등에 의해 노광 처리를 일단 정지시켜버리면 회복시키는데 일정 시간을 요하기 때문에 가능한 한 노광 처리를 정지시키지 않고 최후까지 계속시키는 것이 바람직하다.

이를 해결하는 방법으로서 일본 특허 공개 평 11-162827호 공보(특허문헌 1)에는 미리 실시 처리 설정된 작업이 다른 경우에 더미 작업 노광 처리를 등록함으로써 에러 발생에 의한 라인 정지나 2차 피해 발생을 억제하는 기술이 개시되어 있다. 이 기술에서는 상류로부터 이송되어 온 작업 등록 데이터인 레시피가 레시피 파일에 없는 것일 경우에 더미 작업을 등록하고, 더미 작업이 등록된 것을 오퍼레이터에 통지해서 이벤트 대기에 들어간다. 더미 작업이 등록된 것을 통지된 오퍼레이터가 그 더미 작업을 정상인 작업으로 교체함으로써 그 작업이 실행되는 단계에 이르러도 정상적으로 노광 처리는 계속되고, 노광 처리를 중단하는 일 없이 계속시킬 수 있다.

상기 특허문헌 1의 기술에서는 더미 작업이 등록되고나서 상기 더미 작업이 실행될 때까지 더미 작업을 정상인 작업으로 교체할 필요가 있고, 교체가 늦었을 경우에는 노광 처리를 중단시키지 않고 계속시키는 것이 가능해도 더미 작업에 의한 불필요한 노광 처리가 발생해버린다는 문제가 있었다.

본 발명은 상기 문제를 감안하여 이루어진 것이며, 복수의 작업을 연속해서 행할 때에 불필요한 노광 처리를 최대한 행하지 않고 부주의한 라인 정지를 억제할 수 있는 노광 묘화 장치, 프로그램 및 노광 묘화 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.

상기 목적을 달성하기 위해서 본 발명의 일실시형태에 의한 노광 묘화 장치는 피노광 기판의 종류를 나타내는 기판 정보가 각각 설정되고, 노광 정보에 따른 노광 처리를 요구하는 복수의 노광 처리 요구에 의거하여 피노광 기판에 대하여 노광 처리 각각을 순서대로 실행하는 노광 처리 실행 수단과, 노광 처리 대상의 피노광 기판의 기판 정보를 검출하는 검출 수단과, 상기 검출 수단에 의해 검출된 검출 기판 정보와 실행 중의 노광 처리 요구에 설정된 실행 중 기판 정보를 비교하는 비교 수단과, 상기 비교 수단의 비교 결과에 의거하여 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판의 검출 기판 정보가 실행 중 기판 정보와 동일할 경우에는 상기 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판에 대하여 실행 중의 노광 처리 요구가 계속해서 실행됨과 아울러, 검출 기판 정보가 실행 중 기판 정보와 다르며 또한 다음의 노광 처리 요구에 설정된 기판 정보와 동일할 경우에는 상기 실행 중의 노광 처리 요구를 종료해서 상기 다음의 노광 처리 요구의 실행이 개시되도록 상기 노광 처리 실행 수단에 의해 실행되는 노광 처리 요구를 스위칭하는 스위칭 수단을 구비하고 있다.

이 노광 묘화 장치에 의하면, 노광 처리 실행 수단에 의해 피노광 기판의 종류를 나타내는 기판 정보가 각각 설정되고, 노광 정보에 따른 노광 처리를 요구하는 복수의 노광 처리 요구에 의거하여 피노광 기판에 대하여 노광 처리의 각각이 순서대로 실행된다.

여기에서, 본 발명의 일실시형태에서는 검출 수단에 의해 노광 처리 대상의 피노광 기판의 기판 정보가 검출되고, 비교 수단에 의해 상기 검출 수단에 의해 검출된 검출 기판 정보와 실행 중의 노광 처리 요구에 설정된 실행 중 기판 정보가 비교된다.

또한, 본 발명의 일실시형태에서는 스위칭 수단에 의해 상기 비교 수단의 비교 결과에 의거하여 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판의 검출 기판 정보가 실행 중 기판 정보와 동일할 경우에는 상기 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판에 대하여 실행 중의 노광 처리 요구가 계속해서 실행됨과 아울러, 검출 기판 정보가 실행 중 기판 정보와 다르며 또한 다음의 노광 처리 요구에 설정된 기판 정보와 동일할 경우에는 상기 실행 중의 노광 처리 요구를 종료해서 상기 다음의 노광 처리 요구의 실행이 개시되도록 상기 노광 처리 실행 수단에 의해 실행되는 노광 처리 요구가 스위칭된다.

이와 같이, 본 발명의 일실시형태에 의한 노광 묘화 장치에 의하면, 복수의 노광 처리 요구(작업)를 연속해서 행할 때에 다음 처리 대상으로 하는 피노광 기판의 기판 정보에 의하면, 상기 피노광 기판이 실행 중의 작업에서 사용되는 기판이 아닌 다음 작업에서 사용되는 피노광 기판인 경우, 실행 중의 작업이 종료되어서 다음 작업을 개시하는 결과, 불필요한 노광 처리를 최대한 행하지 않고 부주의한 라인 정지를 억제할 수 있다.

또한, 본 발명의 일실시형태는 상기 복수의 노광 처리 요구 각각에는 기판의 처리 매수를 나타내는 매수 정보가 각각 설정되고, 상기 스위칭 수단은 상기 노광 처리 실행 수단에 의해 실행된 노광 처리 매수가 실행 중의 노광 처리 요구에 설정된 처리 매수에 따라서 정해진 소정 매수가 되었을 때에 상기 비교 수단의 비교 결과에 의거하여 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판의 검출 기판 정보가 실행 중 기판 정보와 동일할 경우에는 상기 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판에 대하여 실행 중의 노광 처리 요구가 계속해서 실행됨과 아울러, 검출 기판 정보가 실행 중 기판 정보와 다르며 또한 다음의 노광 처리 요구에 설정된 기판 정보와 동일할 경우에는 상기 실행 중의 노광 처리 요구를 종료해서 상기 다음의 노광 처리 요구의 실행이 개시되도록 상기 노광 처리 실행 수단에 의해 실행되는 노광 처리 요구를 스위칭하도록 해도 좋다. 이것에 의해 적절한 타이밍에서 작업을 스위칭할 것인지의 여부를 판정할 수 있다.

또한, 상기 목적을 달성하기 위해서 본 발명의 일실시형태에 의한 노광 묘화 장치는 피노광 기판의 종류를 나타내는 기판 정보가 각각 설정되고, 노광 정보에 따른 노광 처리를 요구하는 복수의 노광 처리 요구에 의거하여 피노광 기판에 대하여 노광 처리 각각을 순서대로 실행하는 노광 처리 실행 수단과, 노광 처리 대상의 피노광 기판의 기판 정보를 검출하는 검출 수단과, 상기 검출 수단에 의해 검출된 검출 기판 정보와 스위칭된 노광 처리 요구에 설정된 스위칭 기판 정보를 비교하는 비교 수단과, 실행 중의 노광 처리 요구를 종료해서 다음의 노광 처리 요구의 실행이 개시되도록 스위칭한 후, 상기 비교 수단의 비교 결과에 의거하여 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판의 검출 기판 정보가 스위칭 기판 정보와 동일할 경우에는 상기 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판에 대하여 스위칭 후의 노광 처리 요구가 실행됨과 아울러, 검출 기판 정보가 스위칭 기판 정보와 다르며 또한 스위칭 직전에 실행하고 있었던 노광 처리 요구에 설정된 기판 정보와 동일할 경우에는 상기 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판에 대하여 스위칭 직전에 실행하고 있었던 노광 처리 요구가 계속해서 실행되도록 상기 노광 처리 실행 수단에 의해 실행되는 노광 처리 요구를 스위칭하는 스위칭 수단을 구비하고 있다.

이와 같이, 본 발명의 일실시형태에 의한 노광 묘화 장치에 의하면, 복수의 노광 처리 요구(작업)를 연속해서 행할 때에 작업을 스위칭한 후, 다음에 처리 대상으로 하는 피노광 기판의 기판 정보에 의하면, 상기 피노광 기판이 스위칭 후의 작업에서 사용되는 기판이 아닌 전의 작업에서 사용되는 피노광 기판이었을 경우, 스위칭 직전의 작업이 계속해서 실행되는 결과, 불필요한 노광 처리를 최대한 행하지 않고 부주의한 라인 정지를 억제할 수 있다.

또한, 본 발명의 일실시형태는 상기 복수의 노광 처리 요구 각각에는 기판의 처리 매수를 나타내는 매수 정보가 각각 설정되고, 상기 스위칭 수단은 실행 중의 노광 처리 요구를 종료해서 다음의 노광 처리 요구의 실행이 개시되도록 스위칭한 후, 상기 노광 처리 실행 수단에 의해 실행된 노광 처리 매수가 실행 중의 노광 처리 요구에 설정된 처리 매수에 따라서 정해진 소정 매수가 되었을 때에 상기 비교 수단의 비교 결과에 의거하여 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판의 검출 기판 정보가 스위칭 기판 정보와 동일할 경우에는 상기 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판에 대하여 스위칭 후의 노광 처리 요구가 실행됨과 아울러, 검출 기판 정보가 스위칭 기판 정보와 다르며 또한 스위칭 직전에 실행하고 있었던 노광 처리 요구에 설정된 기판 정보와 동일할 경우에는 상기 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판에 대하여 스위칭 직전에 실행하고 있었던 노광 처리 요구가 계속해서 실행되도록 상기 노광 처리 실행 수단에 의해 실행되는 노광 처리 요구를 스위칭하도록 해도 좋다. 이것에 의해 적절한 타이밍에서 작업을 스위칭할 것인지의 여부를 판정할 수 있다.

또한, 본 발명의 일실시형태는 노광 처리 요구의 스위칭을 허용하는 상기 피노광 기판의 매수의 입력을 접수하는 접수 수단을 더 구비하고, 상기 소정 매수는 실행 중의 노광 처리에 설정된 처리 매수 및 상기 접수 수단에 의해 접수된 매수에 따라서 정해지도록 해도 좋다. 이것에 의해 노광 처리 요구의 스위칭을 허용하는 피노광 기판의 매수에 따라서 작업을 스위칭할 것인지의 여부를 판정할 수 있다.

또한, 본 발명의 일실시형태는 노광 처리 요구의 스위칭을 허용하는 상기 피노광 기판의 매수의 입력을 접수하는 접수 수단을 더 구비하고, 상기 스위칭 수단은 상기 노광 처리 실행 수단에 의해 실행 중의 노광 처리 요구에 있어서 실행된 노광 처리 매수가 실행 중의 노광 처리에 설정된 처리 매수로부터 상기 접수 수단에 의해 접수된 매수를 감산해서 1을 가산한 매수 이상일 때에 상기 비교 수단의 비교 결과에 의거하여 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판의 검출 기판 정보가 스위칭 기판 정보와 동일할 경우에는 상기 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판에 대하여 스위칭 후의 노광 처리 요구가 실행됨과 아울러, 검출 기판 정보가 스위칭 기판 정보와 다르며 또한 스위칭 직전에 실행하고 있었던 노광 처리 요구에 설정된 기판 정보와 동일할 경우에는 상기 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판에 대하여 스위칭 직전에 실행하고 있었던 노광 처리 요구가 계속해서 실행되도록 상기 노광 처리 실행 수단에 의해 실행되는 노광 처리 요구를 스위칭하도록 해도 좋다. 또한, 본 발명은 노광 처리 요구의 스위칭을 허용하는 상기 피노광 기판의 매수의 입력을 접수하는 접수 수단을 더 구비하고, 상기 스위칭 수단은 상기 노광 처리 실행 수단에 의해 실행 중의 노광 처리 요구에 있어서 실행된 노광 처리 매수가 상기 접수 수단에 의해 접수된 매수 이하일 때에 상기 비교 수단의 비교 결과에 의거하여 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판의 검출 기판 정보가 스위칭 기판 정보와 동일할 경우에는 상기 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판에 대하여 스위칭 후의 노광 처리 요구가 실행됨과 아울러, 검출 기판 정보가 스위칭 기판 정보와 다르며 또한 스위칭 직전에 실행하고 있었던 노광 처리 요구에 설정된 기판 정보와 동일할 경우에는 상기 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판에 대하여 스위칭 직전에 실행하고 있었던 노광 처리 요구가 계속해서 실행되도록 상기 노광 처리 실행 수단에 의해 실행되는 노광 처리 요구를 스위칭하도록 해도 좋다. 이것에 의해 노광 처리 요구의 스위칭을 허용하는 피노광 기판의 매수에 따라서 작업을 스위칭할 것인지의 여부를 판정할 수 있다.

또한, 본 발명의 일실시형태는 상기 스위칭 수단이 상기 노광 처리 실행 처리 수단에 의해 실행되는 노광 처리 요구를 스위칭했을 경우, 미리 정해진 정보를 출력하는 출력 수단을 더 구비하도록 해도 좋다. 이것에 의해 작업이 스위칭된 것을 작업자에게 보고할 수 있다.

또한, 본 발명의 일실시형태는 상기 기판 정보는 기판의 사이즈 및 기판에 형성된 얼라인먼트 마크의 위치 및 종류를 포함하는 정보이며, 상기 검출 수단은 상기 노광 처리 대상의 피노광 기판의 사이즈, 피노광 기판에 형성된 얼라인먼트 마크의 위치, 및 피노광 기판에 형성된 얼라인먼트 마크의 종류의 적어도 1개를 기판 정보로서 검출하도록 해도 좋다. 이것에 의해 간이하게 피노광 기판의 기판 정보를 검출할 수 있다.

또한, 본 발명의 일실시형태는 상기 검출 기판 정보가 실행 중 기판 정보와 다르며, 또한 상기 다음의 노광 처리 요구에 설정된 기판 정보와 다른 경우에는 상기 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판을 노광 처리를 행하지 않고 장치 외부로 배출하는 배출 수단을 더 구비하도록 해도 좋다. 또한, 본 발명은 상기 검출 기판 정보가 스위칭 기판 정보와 다르며, 또한 스위칭 직전에 실행하고 있었던 노광 처리 요구에 설정된 기판 정보와 다른 경우에는 상기 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판을 노광 처리를 행하지 않고 장치 외부로 배출하는 배출 수단을 더 구비하도록 해도 좋다. 이것에 의해 노광 처리를 계속할 수 없을 경우에 불필요한 노광 처리가 행해지는 것을 회피할 수 있다.

또한, 본 발명의 일실시형태는 상기 검출 수단은 상기 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판의 반입시에 상기 노광 처리 대상의 피노광 기판의 사이즈를 검출하고, 상기 비교 수단의 비교 결과에 의거하여 검출 기판 정보가 실행 중 기판 정보와 다르며, 또한 다음의 노광 처리 요구에 설정된 기판 정보와 다른 경우에는 상기 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판을 노광 처리를 행하지 않고 그대로 장치 외부로 배출하는 배출 수단을 더 구비하도록 해도 좋다. 또한, 본 발명은 상기 검출 수단은 상기 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판의 반입시에 상기 노광 처리 대상의 피노광 기판의 사이즈를 검출하고, 상기 비교 수단의 비교 결과에 의거하여 검출 기판 정보가 스위칭 기판 정보와 다르며, 또한 스위칭 직전에 실행하고 있었던 노광 처리 요구에 설정된 기판 정보와 다른 경우에는 상기 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판을 노광 처리를 행하지 않고 그대로 장치 외부로 배출하는 배출 수단을 더 구비하도록 해도 좋다. 이것에 의해 노광 처리를 계속할 수 없을 경우에 불필요한 노광 처리가 행해지는 것을 회피할 수 있다.

한편, 상기 목적을 달성하기 위해서 본 발명의 일실시형태에 의한 프로그램은 컴퓨터를 상기 노광 묘화 장치에 있어서의 비교 수단 및 스위칭 수단으로서 기능시킨다.

따라서, 본 발명의 일실시형태에 의한 프로그램에 의하면, 컴퓨터를 노광 묘화 장치와 마찬가지로 작용시킬 수 있으므로 노광 묘화 장치와 마찬가지로 작용하므로 노광 묘화 장치와 마찬가지로 복수의 작업을 연속해서 행할 때에 불필요한 노광 처리를 최대한 행하지 않고 부주의한 라인 정지를 억제할 수 있다.

한편, 상기 목적을 달성하기 위해서 본 발명의 일실시형태에 의한 노광 묘화 방법은 피노광 기판의 종류를 나타내는 기판 정보가 각각 설정되고, 노광 정보에 따른 노광 처리를 요구하는 복수의 노광 처리 요구에 의거하여 피노광 기판에 대하여 노광 처리 각각을 순서대로 실행하는 노광 처리 실행 스텝과, 노광 처리 대상의 피노광 기판의 기판 정보를 검출하는 검출 스텝과, 상기 검출 스텝에서 검출된 검출 기판 정보와 실행 중의 노광 처리 요구에 설정된 실행 중 기판 정보를 비교하는 비교 스텝과, 상기 비교 스텝의 비교 결과에 의거하여 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판의 검출 기판 정보가 실행 중 기판 정보와 동일할 경우에는 상기 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판에 대하여 실행 중의 노광 처리 요구가 계속해서 실행됨과 아울러, 검출 기판 정보가 실행 중 기판 정보와 다르며 또한 다음의 노광 처리 요구에 설정된 기판 정보와 동일할 경우에는 상기 실행 중의 노광 처리 요구를 종료해서 상기 다음의 노광 처리 요구의 실행이 개시되도록 상기 노광 처리 실행 스텝에서 실행되는 노광 처리 요구를 스위칭하는 스위칭 스텝을 구비하고 있다.

따라서, 본 발명의 일실시형태에 의한 노광 묘화 방법에 의하면, 노광 묘화 장치와 마찬가지로 작용하므로 노광 묘화 장치와 마찬가지로 복수의 작업을 연속해서 행할 때에 불필요한 노광 처리를 최대한 행하지 않고 부주의한 라인 정지를 억제할 수 있다.

또한, 상기 목적을 달성하기 위해서 본 발명의 일실시형태에 의한 노광 묘화 방법은 피노광 기판의 종류를 나타내는 기판 정보가 각각 설정되고, 노광 정보에 따른 노광 처리를 요구하는 복수의 노광 처리 요구에 의거하여 피노광 기판에 대하여 노광 처리 각각을 순서대로 실행하는 노광 처리 실행 스텝과, 노광 처리 대상의 피노광 기판의 기판 정보를 검출하는 검출 스텝과, 상기 검출 스텝에서 검출된 검출 기판 정보와 스위칭된 노광 처리 요구에 설정된 스위칭 기판 정보를 비교하는 비교 스텝과, 실행 중의 노광 처리 요구를 종료해서 다음의 노광 처리 요구의 실행이 개시되도록 스위칭한 후, 상기 비교 스텝의 비교 결과에 의거하여 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판의 검출 기판 정보가 스위칭 기판 정보와 동일할 경우에는 상기 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판에 대하여 스위칭 후의 노광 처리 요구가 실행됨과 아울러, 검출 기판 정보가 스위칭 기판 정보와 다르며 또한 스위칭 직전에 실행하고 있었던 노광 처리 요구에 설정된 기판 정보와 동일할 경우에는 상기 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판에 대하여 스위칭 직전에 실행하고 있었던 노광 처리 요구가 계속해서 실행되도록 전기 노광 처리 실행 스텝에서 실행되는 노광 처리 요구를 스위칭하는 스위칭 스텝을 구비하고 있다.

(발명의 효과)

본 발명에 의하면, 복수의 작업을 연속해서 행할 때에 불필요한 노광 처리를 최대한 행하지 않고 부주의한 라인 정지를 억제할 수 있다는 효과를 나타낸다.

도 1은 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템의 전체의 구성을 나타내는 구성 도이다.
도 2는 실시형태에 의한 노광 묘화 장치의 내부 구성을 나타내는 사시도이다.
도 3은 실시형태에 의한 노광 묘화 장치의 기판 사이즈 계측부의 설치 위치를 나타내는 개략 상면도이다.
도 4는 실시형태에 의한 노광 묘화 장치의 전기 계통의 구성을 나타내는 블록도이다.
도 5는 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템의 제어 장치의 전기 계통의 구성을 나타내는 블록도이다.
도 6은 실시형태에 의한 작업 설정 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우 차트이다.
도 7(A)는 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템에 있어서의 실행 작업 정보의 일례를 나타내는 모식도이며, 도 7(B)는 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템에 있어서의 기판 종류 정보의 일례를 나타내는 모식도이다.
도 8은 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템에 있어서의 노광 묘화 처리를 설명하기 위한 개념도이다.
도 9는 제 1 실시형태에 의한 제 1 노광 감시 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우 차트이다.
도 10(A) 및 도 10(B)는 제 1 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템에 있어서의 제 1 감시 처리를 설명하기 위한 개념도이다.
도 11(A) 및 도 11(B)는 제 1 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템에 있어서의 제 1 감시 처리의 다른 예를 설명하기 위한 개념도이다.
도 12는 제 1 실시형태에 의한 제 2 노광 감시 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우 차트이다.
도 13(A) 및 도 13(B)는 제 1 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에 있어서의 제 2 감시 처리를 설명하기 위한 개념도이다.
도 14는 제 2 실시형태에 의한 제 3 노광 감시 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우 차트이다.

[제 1 실시형태]

이하, 제 1 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템에 대해서 첨부 도면을 사용해서 상세하게 설명한다. 또한, 제 1 실시형태에서는 노광 묘화 시스템(1)으로서 프린트 배선 기판 및 플랫 패널 디스플레이용 유리 기판 등의 평판 기판을 피노광 기판으로 해서 피노광 기판의 편면 또는 양면에 노광 묘화를 행하는 시스템을 예로서 설명한다.

도 1은 제 1 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)의 전체의 구성을 나타내는 구성도이다. 도 1에 나타내는 바와 같이 노광 묘화 시스템(1)은 피노광 기판[후술하는 피노광 기판(C)]에 광빔을 노광해서 회로 패턴 등의 화상을 묘화하는 노광 묘화 장치(2) 및 노광 묘화 장치(2)에 의한 노광 묘화를 제어하는 제어 장치(3)를 구비하고 있다.

도 2는 제 1 실시형태에 의한 노광 묘화 장치(2)의 내부 구성을 나타내는 사시도이다. 또한, 이하에서는 스테이지(10)가 이동하는 방향을 Y 방향으로 정하고, 이 Y 방향에 대하여 수평면 내에서 직교하는 방향을 X 방향으로 정하고, Y 방향에 연직면 내에서 직교하는 방향을 Z방향으로 정하고, 또한 Z축을 중심으로 해서 시계 방향으로 회전하는 회전 방향을 θ방향으로 정한다.

도 2에 나타내는 바와 같이 노광 묘화 장치(2)는 피노광 기판(C)을 고정하기 위한 평판형상의 스테이지(10)를 구비하고 있다. 스테이지(10)는 상면에 피노광 기판(C)이 적재되었을 때에 피노광 기판(C) 및 스테이지(10) 사이의 공기를 흡입해서 피노광 기판(C)을 상면에 진공 흡착시킨다.

스테이지(10)는 탁자 형상의 베이스체(11)의 상면에 이동 가능하게 설치된 평판형상의 베이스대(12)에 지지되어 있다. 베이스체(11)의 상면에는 1개 또는 복수개(본 실시형태에서는 2개)의 가이드 레일(14)이 설치되어 있다. 베이스대(12)는 가이드 레일(14)을 따라 Y 방향으로 자유자재로 이동할 수 있도록 지지되어 있고, 모터 등에 의해 구성된 스테이지 구동부[후술하는 스테이지 구동부(41)]에 의해 이동한다. 그리고, 스테이지(10)는 이 이동 가능한 베이스대(12)의 상면에 지지되도록 베이스대(12)의 이동에 연동해서 가이드 레일(14)을 따라 이동한다. 또한, 스테이지(10)에 고정된 피노광 기판(C)은 스테이지(10)의 이동에 따라 노광 위치까지 이동하고, 후술하는 노광부(16)에 의해 광빔이 조사되어서 회로 패턴 등의 화상이 묘화된다.

베이스체(11)의 상면에는 가이드 레일(14)을 걸치도록 문형의 게이트(15)가 세워서 설치되어 있고, 이 게이트(15)에는 스테이지(10)에 적재된 피노광 기판(C)의 표면에 대하여 노광하는 노광부(16)가 부착되어 있다. 노광부(16)는 복수개(본 실시형태에서는 16개)의 노광 헤드(16a)를 포함해서 구성되어 있고, 스테이지(10)의 이동 경로 상에 고정 배치되어 있다. 노광부(16)에는 후술하는 광원 유닛(17)으로부터 인출된 광 섬유(18)와, 후술하는 화상 처리 유닛(19)으로부터 인출된 신호 케이블(20)이 각각 접속되어 있다.

각 노광 헤드(16a)는 반사형의 공간 광변조 소자로서의 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD)를 갖고, 화상 처리 유닛(19)으로부터 입력되는 화상 데이터에 의거하여 DMD를 제어해서 광원 유닛(17)으로부터의 광빔을 변조한다. 노광 묘화 장치(2)는 이 변조한 광빔을 피노광 기판(C)에 조사함으로써 노광 묘화를 행한다. 또한, 공간 광변조 소자로서 액정 등의 투과형의 공간 광변조 소자를 사용해도 좋다.

또한, 베이스체(11)의 상면에는 가이드 레일(14)을 걸치도록 게이트(22)가 설치되어 있다. 게이트(22)에는 스테이지(10)에 적재된 피노광 기판(C)에 설치된 노광 기준용의 얼라인먼트 마크를 촬영하기 위한 1개 또는 복수개(본 실시형태에서는 2개)의 촬영부(23)가 부착되어 있다. 촬영부(23)는 1회의 발광 시간이 매우 짧은 스트로보를 내장한 CCD 카메라 등이다. 각각의 촬영부(23)는 수평면 내에 있어서 스테이지(10)의 이동 방향(Y 방향)에 대하여 수직인 방향(X 방향)으로 이동 가능하게 설치되어 있다.

노광 묘화 장치(2)는 외부로부터 제 1 반송부(5)에 반입된 피노광 기판(C)을 스테이지(10)의 상면에 반송함과 아울러, 노광이 완료된 피노광 기판(C)을 스테이지(10)로부터 제 2 반송부(6)로 반송하는 오토 캐리어 핸드(이하, AC 핸드라고 한다)(24)를 구비하고 있다. AC 핸드(24)는 평판형상으로 형성됨과 아울러, 수평 방향 및 연직 방향으로 이동 가능하게 설치되어 있다. 또한, AC 핸드(24)의 하면에는 공기를 흡인함으로써 피노광 기판(C)을 진공 흡착에 의해 흡착 유지하는 흡착부(25)를 갖는 흡착 기구와, 피노광 기판(C)을 하방을 향해서 압박하는 상하 이동 가능한 압박부(26)를 갖는 압박 기구가 설치되어 있다. AC 핸드(24)는 제 1 반송부(5)에 적재된 미노광의 피노광 기판(C)을 흡착 기구에 의해 흡착 유지함으로써 상방으로 리프팅하고, 리프팅한 피노광 기판(C)을 스테이지(10)의 상면의 미리 정해진 위치에 적재한다.

AC 핸드(24)는 피노광 기판(C)을 스테이지(10)에 적재시킬 때에 압박 기구에 의해 피노광 기판(C)을 스테이지(10)에 압박하면서 흡착부(25)에 의한 흡착을 해제함으로써 피노광 기판(C)을 스테이지(10)에 진공 흡착시켜 피노광 기판(C)을 스테이지(10)에 흡착 고정시킨다. 또한, AC 핸드(24)는 스테이지(10)의 상면에 적재된 노광이 완료된 피노광 기판(C)을 흡착 기구에 의해 흡착 유지함으로써 상방으로 리프팅하고, 리프팅한 피노광 기판(C)을 흡착 유지한 상태로 제 2 반송부(6)까지 이동시킨 후에 흡착 기구에 의한 흡착을 해제함으로써 피노광 기판(C)을 제 2 반송부(6)에 이동시킨다. 제 2 반송부(6)로 반송된 피노광 기판(C)은 노광 묘화 장치(2)의 외부로 배출된다.

또한, 제 1 반송부(5)의 상면에는 피노광 기판(C)을 반송하는 컨베이어부(5a)가 설치되어 있다. 컨베이어부(5a)는 복수의 회전 롤러와 회전 롤러를 회전하는 구동 모터를 갖고 있다. 회전 롤러는 복수개가 평행하게 부설되고, 회전 롤러의 일단에는 벨트 또는 와이어에 의해 전달되는 회전력을 받는 스프로킷 또는 활차가 부착된다. 회전 롤러를 회전하는 구동 모터의 회전력을 전달하는 수단으로서는 벨트 또는 와이어 이외에 원통형상의 마그넷에 의한 전달 방법도 채용할 수 있다. 또한, 컨베이어부(5a)에는 피노광 기판(C)의 사이즈를 계측하는 기판 사이즈 계측부(27)가 형성되어 있다. 기판 사이즈 계측부(27)는 피노광 기판(C)의 폭(단변)을 측정하는 폭 계측부(27a)와, 피노광 기판(C)의 길이(장변)를 측정하는 길이 계측부(27b)를 갖고 있다.

도 3은 제 1 실시형태에 의한 노광 묘화 장치(2)의 기판 사이즈 계측부(27)의 설치 위치를 나타내는 개략 상면도이다. 도 3에 나타내는 바와 같이 폭 계측부(27a)는 컨베이어부(5a)의 상면에 있어서 피노광 기판(C)이 사이즈에 관계없이 반드시 통과하는 중앙 부근에 설치되어 있다. 폭 계측부(27a)는 피노광 기판(C)이 컨베이어부(5a)가 반송될 때에 피노광 기판(C)의 반송 시간을 계측하고, 반송 속도와 피노광 기판(C)의 반송 시간의 곱으로부터 피노광 기판(C)의 폭을 도출한다.

한편, 길이 계측부(27b)는 컨베이어부(5a)의 상면에 있어서 Y 방향으로 이동 가능하게 복수(본 실시형태에서는 2개) 설치되어 있다. 복수의 길이 계측부(27b)는 피노광 기판(C)이 컨베이어부(5a)를 X 방향으로 반송될 때에 각각 피노광 기판(C)의 측면에 접촉하도록 Y 방향에 있어서 양측으로부터 피노광 기판(C)을 끼워넣고, 각각의 길이 계측부(27b) 사이의 거리를 계측하고, 계측한 거리로부터 피노광 기판(C)의 길이를 도출한다.

도 4는 제 1 실시형태에 의한 노광 묘화 장치(2)의 전기 계통의 구성을 나타내는 블록도이다. 도 4에 나타내는 바와 같이 노광 묘화 장치(2)에는 장치 각 부에 각각 전기적으로 접속되는 시스템 제어부(40)가 설치되어 있고, 이 시스템 제어부(40)가 각 부를 통괄적으로 제어하고 있다. 시스템 제어부(40)는 AC 핸드(24)를 제어해서 피노광 기판(C)의 스테이지(10)로의 반입 동작 및 스테이지(10)로부터의 배출 동작을 행하게 한다. 또한, 시스템 제어부(40)는 기판 사이즈 계측부(27)로부터 피노광 기판의 사이즈(폭 및 길이)를 나타내는 정보를 취득한다. 또한, 시스템 제어부(40)는 스테이지 구동부(41)를 제어해서 스테이지(10)의 이동을 행하게 하면서 후술하는 이동 제어부(43)를 통해서 촬영부(23)를 이동시켜서 피노광 기판(C)의 얼라인먼트 마크의 촬영을 행해서 노광 위치를 조정함과 아울러, 광원 유닛(17) 및 화상 처리 유닛(19)을 제어해서 노광 헤드(16a)에 노광 처리를 행하게 한다. 또한, 시스템 제어부(40)는 제어 장치(3)로부터 노광 개시를 지시하기 위한 신호를 수신한 타이밍에서 피노광 기판(C)에 대한 노광 처리를 개시함과 아울러, 노광 정지를 지시하기 위한 신호를 수신한 타이밍에서 그때 행해지고 있는 피노광 기판(C)에 대한 노광 처리를 완료한 시점에서 노광 처리를 정지한다.

또한, 노광 묘화 장치(2)는 조작 장치(42)를 구비하고 있다. 조작 장치(42)는 시스템 제어부(40)의 제어에 의해 정보를 표시하는 표시부와 유저 조작에 의해 정보를 입력하는 입력부를 갖는다. 상기 입력부는, 예를 들면 피노광 기판(C)에 대한 노광 처리의 강제 정지 지시 등을 입력할 때에 유저에 의해 조작된다.

또한, 노광 묘화 장치(2)는 이동 제어부(43)를 구비하고 있다. 이동 제어부(43)는 시스템 제어부(40)의 지시에 의거하여 피노광 기판(C)의 얼라인먼트 마크가 스테이지(10)의 이동시에 복수의 촬영부(23) 중 어느 하나 또는 각각의 촬영 영역의 중앙을 통과하도록 촬영부(23)의 이동 구동을 제어하고 있다.

도 5는 제 1 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)의 제어 장치(3)의 전기 계통의 구성을 나타내는 블록도이다. 도 5에 나타내는 바와 같이 노광 묘화 시스템(1)은 노광 묘화 시스템(1)에 있어서의 노광 처리를 제어하는 제어부(50), 제어부(50)에 의한 노광 처리에 필요한 노광 처리 프로그램이나 각종 데이터를 기억하는 ROM 및 HDD 등을 갖는 기억부(51), 제어부(50)의 제어에 의거하여 데이터를 표시하는 디스플레이 등의 표시부(52), 유저 조작에 의해 데이터를 입력하는 키보드 등의 입력부(53), 및 제어부(50)의 제어에 의거하여 노광 묘화 장치(2)에 대한 데이터의 송수신을 행하는 통신 인터페이스(54)를 구비하고 있다.

여기에서, 본 실시형태에 의한 노광 묘화 장치(2)는 제어 장치(3)로부터 동일 종류의 복수의 피노광 기판(C)에 대하여 동일한 화상을 동일 조건으로 노광 묘화하는 일괄의 노광 처리 요구(이하, 「작업」이라고도 한다)를 접수했을 때, 접수한 작업의 내용에 따라서 복수의 피노광 기판(C)에 대하여 노광 처리를 실행한다. 또한, 노광 묘화 장치(2)는 제어 장치(3)로부터 복수의 작업을 실행 순서를 지정된 상태로 접수했을 경우에는 지정된 작업의 실행 순서에 따라 복수의 피노광 기판(C)에 대하여 작업마다 연속적으로 노광 처리를 행하는 기능을 구비하고 있다.

작업자는 노광 묘화 장치(2)에 복수의 작업을 연속적으로 실행시키고 싶을 경우에 제어 장치(3)에 각각의 작업에 대해서 대상으로 하는 피노광 기판(C)의 기판 종류, 처리 매수, 표면 화상, 이면 화상, 및 화상 배율 등을 입력함과 아울러, 각각의 작업의 실행 순서를 입력한다. 제어 장치(3)는 입력된 복수의 작업이 입력된 실행 순서로 행해지도록 각각의 작업을 설정하는 작업 설정 처리를 행한다.

여기에서, 제 1 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에 의한 작업 설정 처리의 흐름에 대해서 설명한다.

도 6은 제 1 실시형태에 의한 작업 설정 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우 차트이며, 상기 프로그램은 제어 장치(3)의 기억부(51)에 구비된 기록 매체인 ROM의 소정 영역에 미리 기억되어 있다.

제어 장치(3)의 제어부(50)는 미리 정해진 타이밍[본 실시형태에서는 작업자에 의해 입력부(53)를 통해서 작업의 설정을 지시하기 위한 미리 정해진 조작이 된 타이밍]에서 상기 작업 설정 처리 프로그램을 실행한다.

처음에 스텝 S101에 있어서 제어부(50)는 작업자에 의해 입력부(53)를 통해서 작업의 작성 지시가 입력되었는지의 여부를 판정한다. 상기 작업의 작성 지시는 입력부(53)의 미리 정해진 조작에 의해 입력된다. 스텝 S101에 있어서 작업의 작성 지시가 입력되어 있지 않은 경우에는 제어부(50)는 작업의 작성 지시가 입력될 때까지 대기한다.

스텝 S101에 있어서 작업의 작성 지시가 입력된 경우에는 스텝 S103에 있어서 제어부(50)는 스텝 S101에 있어서 작성 지시된 작업에 있어서 노광 대상이 되는 피노광 기판(C)에 기판 종류의 입력을 접수한다. 복수의 기판 종류에 관한 정보가 미리 기억부(51)에 기억되어 있어서 유저가 입력부(53)를 통해서 상기 복수의 기판 종류 중 어느 하나를 선택함으로써 기판 종류의 정보를 입력해도 좋다. 또한, 기억부(51)에는 기판 종류마다 상기 기판의 사이즈(폭 및 길이 등) 및 얼라인먼트 마크의 위치 및 종류 등(이하, 「위치 등」이라고도 한다)이 기억되어 있다.

스텝 S105에 있어서 제어부(50)는 스텝 S101에 있어서 작성 지시된 작업에 있어서의 피노광 기판(C)의 처리 매수의 입력을 접수한다. 또한, 스텝 S107에 있어서 제어부(50)는 스텝 S101에 있어서 작성 지시된 작업에 있어서 피노광 기판(C)의 주면인 제 1 면(이하, 표면이라고도 한다)에 노광 묘화하는 표면 화상 및 제 1 면(C1)에 대향하는 주면인 제 2 면(이하, 이면이라고도 한다)에 노광 묘화하는 이면 화상의 입력을 접수한다.

스텝 S109에 있어서 제어부(50)는 스텝 S101에 있어서 작성 지시된 작업에 있어서의 노광 조건의 입력을 접수한다. 이때 입력되는 노광 조건은 노광 묘화되는 화상의 배율 등이다. 스텝 S111에 있어서 제어부(50)는 스텝 S101에 있어서 작성 지시된 작업의 실행 순위의 입력을 접수한다. 이때 입력되는 실행 순위는 노광 처리를 행할 때의 순서를 나타내는 정보이다.

스텝 S113에 있어서 제어부(50)는 스텝 S101에 있어서 작성 지시된 작업을 스텝 S103~S111에 있어서 입력된 정보에 의거하여 작성하고, 작성한 작업에 관한 정보를 기억부(51)에 기억한다.

도 7(A)는 제 1 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템에 있어서의 실행 작업 정보(60)의 일례를 나타내는 모식도이며, 도 7(B)는 제 1 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템에 있어서의 기판 종류 정보(70)의 일례를 나타내는 모식도이다. 제어 장치(3)는 연속해서 실행하는 일련의 작업에 관한 정보를 실행 작업 정보(60)로서 기억부(51)에 기억하고 있다.

도 7(A)에 나타내는 바와 같이 실행 작업 정보(60)는 각각의 작업에 대해서 작업의 실행 순위를 나타내는 작업 순위 정보(61), 그 작업을 식별하기 위한 작업 식별 정보(62), 그 작업에 있어서의 피노광 기판(C)의 처리 매수를 나타내는 처리 매수 정보(63), 그 작업에 있어서 피노광 기판(C)의 표면에 노광 묘화하는 화상을 나타내는 표면 화상 정보(64), 피노광 기판(C)의 이면에 노광 묘화하는 화상을 나타내는 이면 화상 정보(65), 피노광 기판(C)에 노광 묘화하는 화상의 배율을 나타내는 배율 정보(66), 및 노광 대상의 피노광 기판(C)의 종류를 나타내는 기판 식별 정보(67) 등이 각각 대응된 정보이다. 또한, 실행 작업 정보(60)는 그 밖의 화상의 노광 피치를 나타내는 정보나, 사용 재료를 나타내는 정보 등을 각각의 작업에 대해서 적당히 기억하고 있다. 제어 장치(3)는 이 실행 작업 정보(60)에 의거하여 복수의 작업을 미리 결정된 실행 순서[작업 순위 정보(61)에 기재된 순위]에 따라 연속적으로 복수의 피노광 기판(C)에 대하여 작업을 스위칭하면서 노광 처리를 행한다.

또한, 기억부(51)는 기판 종류마다 기판의 특징을 나타내는 기판 종류 정보(70)를 미리 기억하고 있다. 도 7(B)에 나타내는 바와 같이 기판 종류 정보(70)는 기판 종류를 나타내는 기판 식별 정보(67)에 대하여 기판의 폭, 길이, 및 두께를 나타내는 기판의 사이즈를 나타내는 사이즈 정보(72), 기판에 미리 형성되어 있는 얼라인먼트 마크의 위치 및 종류(예를 들면, 형상 및 크기) 등을 나타내는 마크 정보(73)가 각각 대응된 정보이다. 노광 묘화 시스템(1)에서는 제어부(50)는 피노광 기판(C)의 사이즈 또는 피노광 기판(C)의 얼라인먼트 마크의 위치 등으로부터 상기 피노광 기판(C)의 기판 종류를 특정할 수 있다.

그리고, 스텝 S115에 있어서, 제어부(50)는 입력을 계속할 것인지의 여부, 즉 다음 작업을 작성할 것인지의 여부를 판정한다. 이때, 제어부(50)는, 예를 들면 입력부(53)를 통해서 다음 작업을 작성하기 위한 조작이 행해진 경우에 다음 작업을 작성한다고 판정한다.

제어부(50)는 스텝 S115에 있어서, 다음 작업을 작성한다고 판정되었을 경우에는 다음 작업에 대해서 스텝 S101~스텝 S115의 처리를 행하는 한편, 스텝 S115에 있어서 다음 작업을 작성하지 않는다고 판정되었을 경우에는 제어부(50)는 스텝 S117에 있어서 실행 작업 정보(60)에 의거하여 노광 처리를 실행한다. 또한, 제어부(50)는 스텝 S117에 있어서 노광 처리를 실행하지 않고, 작업자에 의해 입력부(53)를 통해서 노광 처리의 실행 지시가 별도 입력되었을 때에 노광 처리를 실행하도록 해도 좋다.

도 8은 제 1 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에 있어서의 노광 묘화 처리를 설명하기 위한 개념도이다. 본 발명에 의한 노광 묘화 시스템(1)에서는 실행 작업 정보(60)에 따라 복수의 작업을 실행 순서에 의거하여 연속해서 실행한다. 예를 들면, 도 7(A)에 나타내는 실행 작업 정보(60)에 의한 노광 처리에서는 작업 A(처리 매수 10매), 작업 B(처리 매수 15매), 작업 C(처리 매수 20매)의 실행 순서로 작업이 실행된다. 그리고, 복수의 작업을 연속적으로 실행할 때, 실행 작업 정보(60)에 의해 설정되어 있는 처리 매수와, 실제로 노광 처리를 행하고 있는 피노광 기판(C)의 매수를 비교하고, 실행 중의 작업에 설정되어 있는 처리 매수의 피노광 기판(C)에 대한 노광 처리를 완료한 단계에서 작업의 스위칭, 실행 중의 작업을 종료하고 다음 작업의 실행을 개시한다.

작업자는 실행 작업 정보(60)에 설정되어 있는 실행 순서에 따라 복수의 작업의 각각에 있어서 피노광 기판(C)의 종류나 처리 매수를 확인하고, 노광 대상으로 하는 피노광 기판(C)을 대기시키는 위치인 기판 대기 위치에 배치한다. 한편, 노광 묘화 장치(2)는 기판 대기 위치에 배치되어 있는 피노광 기판(C)을 순차 취득해서 실행 작업 정보(60)에 기재되어 있는 내용에 따라서 노광 처리를 행한다.

또한, 스텝 S119에 있어서 제어부(50)는 스텝 S117에 있어서 복수의 작업이 실행된 경우에 실행된 작업이 실행 작업 정보(60)에 의해 설정된 바와 같이 실행되어 있는지의 여부를 감시하는 감시 처리(후술하는 제 1 노광 감시 처리, 제 2 노광 감시 처리, 및 제 2 실시형태의 제 3 노광 감시 처리)를 실행한다.

이와 같이, 작업자가 실행 작업 정보(60)를 참조하면서 노광 대상으로 하는 피노광 기판(C)을 종류나 매수를 확인하면서 수동으로 노광 묘화 장치(2)에 투입하기 위한 위치에 배치하기 때문에 작업자의 부주의에 의해 피노광 기판(C)의 매수를 실수로 배치해버리는 것이 고려된다. 이 경우에는 종래의 노광 묘화 장치에 있어서는 에러가 발생해서 노광 처리가 정지해버린다.

특히, 작업자가 피노광 기판(C)의 매수를 셀 때에 1매 많게(또는 적게) 세어버린 경우 등에는 실행 작업 정보가 바르게 설정되어 있어도 작업자에 의해 배치된 피노광 기판(C)이 단지 1매 어긋나고 있기 때문에 노광 묘화 장치가 작업의 스위칭을 바르게 인식할 수 없어 에러가 발생해버린다. 노광 묘화 장치가 에러 등에 의해 정지해버리면 회복하는데에 시간을 필요로 하기 때문에 가능한 한 노광 처리를 정지시키지 않고 노광 처리를 최후까지 계속시키는 것이 바람직하다.

그래서, 본 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에서는 제어 장치(3)는 노광 직전에 계측해서 얻은 피노광 기판(C)의 사이즈 및 피노광 기판(C)의 얼라인먼트 마크의 위치 등에 의거하여 노광 대상이 되어 있는 피노광 기판(C)의 기판 종류와 설정되어 있는 작업의 기판 종류를 비교함으로써 실행되고 있는 작업과 설정되어 있는 작업이 일치하고 있는지의 여부를 감시하는 제 1 노광 감시 처리 및 제 2 노광 감시 처리를 행한다.

도 9는 제 1 실시형태에 의한 제 1 노광 감시 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우 차트이며, 상기 프로그램은 제어 장치(3)의 기억부(51)에 구비된 기록 매체인 ROM의 소정 영역에 미리 기억되어 있다.

제어 장치(3)의 제어부(50)는 미리 정해진 타이밍[본 실시형태에서는 스텝 S119 등에서 노광 묘화 장치(2)에 의한 노광 처리가 개시된 타이밍]에서 상기 노광 감시 처리 프로그램을 실행한다.

또한, 본 실시형태에서는 작업 스위칭 직전의 k매(처리 매수가 N매인 작업에 있어서 N-k+1매째로부터 N매째까지의 k매)와, 작업 스위칭의 직후의 k매(처리 매수가 N매인 작업에 있어서 1매째로부터 k매째까지의 k매)에 대해서 작업 스위칭을 행하는 타이밍인지의 여부를 판정한다. k의 값은 N보다 작은 값(예를 들면, N이 10인 경우에 k는 2 또는 3)이며, 작업자에 의해 미리 입력부(53)를 통해서 입력되어서 기억부(51)에 기억되어 있다.

처음에 스텝 S117에 있어서, 노광 처리가 실행되고 있는 상태에 있어서 스텝 S201에 있어서 제어부(50)는 현재 실행 중의 작업의 전체 처리 매수를 N매로 했을 때에 다음 처리 대상으로 하는 피노광 기판(C)이 현재 실행 중의 작업에 있어서 N-k+1매째 이상인지의 여부를 판정한다.

스텝 S201에 있어서, N-k+1매째 이상이라고 판정되었을 경우에는 스텝 S203에 있어서 제어부(50)는 다음 처리 대상으로 하는 피노광 기판(C)의 계측된 사이즈를 취득한다. 이때, 제어부(50)는 다음 처리 대상으로 하는 피노광 기판(C)이 제 1 반송부(5)에 의해 반송되어 있을 때에 노광 묘화 장치(2)의 기판 사이즈 계측부(27)에 의해 계측된 피노광 기판(C)의 사이즈에 관한 정보를 취득한다.

스텝 S205에 있어서, 제어부(50)는 다음 처리 대상으로 하는 피노광 기판(C)의 얼라인먼트 마크의 위치 등을 취득한다. 이때, 시스템 제어부(40)가 다음 처리 대상으로 하는 피노광 기판(C)이 촬영부(23)에 의해 촬영되어 있는 촬영 화상으로부터 얼라인먼트 마크를 검출하고, 검출한 얼라인먼트 마크의 위치 등을 나타내는 정보를 생성한다. 제어부(50)는 시스템 제어부(40)로부터 상기 얼라인먼트 마크의 위치 등을 나타내는 정보를 수신함으로써 취득한다.

스텝 S207에 있어서, 제어부(50)는 스텝 S203에 있어서 취득한 피노광 기판(C)의 사이즈와, 스텝 S205에 있어서 취득한 피노광 기판의 얼라인먼트 마크의 위치 등을 기억부(51)에 미리 기억되어 있는 기판 종류마다 사이즈나 얼라인먼트 마크의 위치 등과 비교함으로써 다음 처리 대상으로 하는 피노광 기판(C)의 기판 종류를 판정한다.

스텝 S209에 있어서, 제어부(50)는 스텝 S207에 의해 판정된 다음 처리 대상으로 하는 피노광 기판(C)의 기판 종류와, 실행 중의 작업에 있어서 설정되어 있는 기판 종류를 비교함으로써 기판 종류가 실행 작업 정보(60)에 설정되어 있는 작업에 적합한지의 여부를 판정한다. 이때, 제어부(50)는 다음 처리 대상으로 하는 피노광 기판(C)의 기판 종류가 실행 중의 작업에 있어서 설정되어 있는 기판 종류와 일치한 경우에 실행 중의 작업에 적합하다고 판정한다.

스텝 S209에 있어서, 실행 중의 작업에 적합하다고 판정되었을 경우에는 스텝 S211에 있어서 제어부(50)는 그대로 실행 중의 작업에서 노광 처리를 계속한다.

스텝 S209에 있어서, 실행 중의 작업에 적합하지 않다고 판정되었을 경우에는 스텝 S213에 있어서 제어부(50)는 스텝 S207에 의해 판정된 다음 처리 대상으로 하는 피노광 기판(C)의 기판 종류와, 실행 중의 작업의 다음 작업에 있어서 설정되어 있는 기판 종류를 비교함으로써 기판 종류가 다음 작업에 적합한지의 여부를 판정한다.

스텝 S213에 있어서, 다음 작업에 적합하다고 판정되었을 경우에는 스텝 S215에 있어서 제어부(50)는 실행 중의 작업을 위한 피노광 기판(C)의 매수가 부족했던 것으로 판단하고, 현재 실행 중의 작업을 1개 진행하여 다음에 노광 대상이 되는 피노광 기판(C)에 대하여 실행 중의 작업의 다음 작업이 실행되도록 다음 작업으로 스위칭한다.

도 10(A) 및 도 10(B)는 제 1 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에 있어서의 제 1 감시 처리를 설명하기 위한 개념도이다. 또한, 도 10은 k가 1 이상으로 설정되어 있을 경우를 나타내고 있다. 도 10(A)에 나타내는 바와 같이 처리 매수가 N매인 작업 A의 N(=N-1+1)매째의 피노광 기판(C)에 대해서 노광 처리를 행할 때에 이 피노광 기판(C)이 작업 B에 사용되는 기판인 경우에는 도 10(B)에 나타내는 바와 같이 제어부(50)는 작업 A로부터 작업 B로 스위칭하는 타이밍을 1매분 전에 어긋나게 하고, 작업 A의 N매째의 피노광 기판(C)을 작업 B의 1매째의 피노광 기판(C)으로 하고, 이 시점에서 작업 A를 종료하고, 작업 B를 개시한다.

도 11(A) 및 도 11(B)는 제 1 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에 있어서의 제 1 감시 처리의 다른 예를 설명하기 위한 개념도이다. 또한, 도 11은 k=3 이상으로 설정되어 있을 경우를 나타내고 있다. 도 11(A)에 나타내는 바와 같이 처리 매수가 N매인 작업 A의 N-2(=N-3+1)매째의 피노광 기판(C)에 대해서 노광 처리를 행할 때와 마찬가지로 이 피노광 기판(C)이 작업 B에 사용되는 기판인 경우에는 도 11(B)에 나타내는 바와 같이 제어부(50)는 작업 A로부터 작업 B로 스위칭하는 타이밍을 3매분 전에 어긋나게 하고, 작업 A의 N-2매째의 피노광 기판(C)을 작업 B의 1매째의 피노광 기판(C)으로 하고, 이 시점에서 작업 A를 종료하고, 작업 B를 개시한다.

스텝 S217에 있어서, 제어부(50)는 작업 A의 피노광 기판(C)의 매수가 적었기 때문에 작업을 진행한 취지를 출력하고, 스텝 S211에 있어서 다음 작업에서 노광 처리를 계속한다. 그 취지를 출력하는 방법은 표시부(52)에 그 취지를 표시시키는 방법이어도 좋고, 음성으로 그 취지를 출력하는 방법이어도 좋다.

스텝 S213에 있어서, 다음 작업에 적합하지 않다고 판정되었을 경우에는 스텝 S219에 있어서 제어부(50)는 노광 처리를 계속할 수 없다고 판단하고, 피노광 기판(C)을 노광 묘화 장치(2)의 외부로 배출한다.

이와 같이 해서, 제 1 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에서는 복수의 작업을 연속해서 행할 때에 피노광 기판(C)의 사이즈에 의해 실행되고 있는 작업과 설정되어 있는 작업이 일치하고 있는지의 여부를 판정하고, 다른 경우에는 실행되고 있는 작업과 설정되어 있는 작업의 다음 작업이 일치하고 있는지의 여부를 더 판정하고, 일치하고 있었던 경우에는 실행 대상의 작업이 설정되어 있는 작업의 다음 작업으로 스위칭하여 실행을 계속함으로써 불필요한 노광 처리를 최대한 행하지 않고 부주의한 라인 정지를 억제할 수 있다.

도 12는 제 1 실시형태에 의한 제 2 노광 감시 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우 차트이며, 상기 프로그램은 제어 장치(3)의 기억부(51)에 구비된 기록 매체인 ROM의 소정 영역에 미리 기억되어 있다.

처음에 스텝 S117에 있어서 노광 처리가 실행되고 있는 상태에 있어서, 스텝 S301에 있어서 제어부(50)는 현재 실행 중의 작업의 전체 처리 매수를 N매라고 했을 때에 다음 처리 대상으로 하는 피노광 기판(C)이 현재 실행 중의 작업에 있어서 k매째 이하인지의 여부를 판정한다.

스텝 S301에 있어서, k매째 이하인 것으로 판정되었을 경우에는 스텝 S303에 있어서 제어부(50)는 스텝 S203과 마찬가지의 방법으로 다음 처리 대상으로 하는 피노광 기판(C)의 사이즈를 취득한다. 또한, 스텝 305에 있어서 제어부(50)는 스텝 S205과 마찬가지의 방법으로 다음 처리 대상으로 하는 피노광 기판(C)의 얼라인먼트 마크의 위치 등을 취득한다.

스텝 S307에 있어서, 제어부(50)는 스텝 S303에 있어서 취득한 피노광 기판(C)의 사이즈와, 스텝 S305에 있어서 취득한 피노광 기판(C)의 얼라인먼트 마크의 위치 등을 기억부(51)에 미리 기억되어 있는 기판 종류마다 사이즈나 얼라인먼트 마크의 위치 등과 비교함으로써 다음 처리 대상으로 하는 피노광 기판(C)의 기판 종류를 판정한다.

스텝 S309에 있어서, 제어부(50)는 스텝 S209의 처리와 마찬가지의 방법으로 스텝 S307에 의해 판정된 다음 처리 대상으로 하는 피노광 기판(C)의 기판 종류와, 스위칭 후의 작업에 있어서 설정되어 있는 기판 종류를 비교함으로써 기판 종류가 스위칭 후의 작업에 적합한지의 여부를 판정한다.

스텝 S309에 있어서, 스위칭 후의 작업에 적합하다고 판정되었을 경우에는 스텝 S311에 있어서 제어부(50)는 그대로 스위칭 후의 작업에서 노광 처리를 계속한다.

스텝 S309에 있어서, 스위칭 후의 작업에 적합하지 않다고 판정되었을 경우에는 스텝 S313에 있어서 제어부(50)는 스텝 S307에 의해 판정된 다음 처리 대상으로 하는 피노광 기판(C)의 기판 종류와, 스위칭 후의 작업의 1개 전의 작업에 있어서 설정되어 있는 기판 종류를 비교함으로써 기판 종류가 전의 작업에 적합한지의 여부를 판정한다.

스텝 S313에 있어서, 전의 작업에 적합하다고 판정되었을 경우에는 스텝 S315에 있어서 제어부(50)는 스위칭 후의 작업 전의 작업의 피노광 기판(C)의 매수가 많았던 것으로 판단하고, 작업의 스위칭 타이밍이 되어도 작업을 스위칭하는 일 없이 실행 중의 작업을 1개 되돌려서 스위칭 후의 작업의 1개 전의 작업을 설정한다.

도 13(A) 및 도 13(B)는 제 1 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에 있어서의 제 2 감시 처리를 설명하기 위한 개념도이다. 또한, 도 13은 k가 1 이상으로 설정되어 있는 경우를 나타내고 있다. 도 13(A)에 나타내는 바와 같이 처리 매수가 N매인 작업 B의 1매째의 피노광 기판(C)에 대해서 노광 처리를 행할 때에 이 피노광 기판(C)이 작업 A에 사용되는 기판인 경우에는 도 13(B)에 나타내는 바와 같이 제어부(50)는 작업 A로부터 작업 B로 스위칭하는 타이밍을 1매분 후에 어긋나게 하고, 작업 B의 1매째의 피노광 기판(C)을 작업 A의 최후의 피노광 기판(C)으로 하고, 이 시점에서 작업 B를 개시하지 않고 작업 A로 스위칭하여 실행한다.

스텝 S317에 있어서, 제어부(50)는 작업 A의 피노광 기판(C)의 매수가 많았기 때문에 작업을 되돌린(진행하지 않은) 취지를 출력하고, 스텝 S311에 있어서 전의 작업에서 노광 처리를 계속한다. 그 취지를 출력하는 방법은 표시부(52)에 그 취지를 표시시키는 방법이어도 좋고, 음성으로 그 취지를 출력하는 방법이어도 좋다.

스텝 S313에 있어서, 다음 작업에 적합하지 않다고 판정되었을 경우에는 스텝 S319에 있어서 제어부(50)는 노광 처리를 계속할 수 없다고 판단하고, 피노광 기판(C)을 노광 묘화 장치(2)의 외부로 배출한다.

이와 같이 해서, 제 1 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에서는 복수의 작업을 연속해서 행할 때에 피노광 기판(C)의 사이즈 및 얼라인먼트 마크의 위치 등에 의해 실행되고 있는 작업과 설정되어 있는 작업이 일치하고 있는지의 여부를 판정하고, 다른 경우에는 실행되고 있는 작업과 설정되어 있는 작업의 다음 작업이 일치하고 있는지의 여부를 더 판정하고, 일치하고 있었던 경우에는 실행 대상의 작업이 설정되어 있는 작업의 다음 작업으로 스위칭하여 실행을 계속함으로써 불필요한 노광 처리를 최대한 행하지 않고 부주의한 라인 정지를 억제할 수 있다.

또한, 제 1 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에서는 복수의 작업을 연속해서 행할 때에 피노광 기판(C)의 사이즈 및 얼라인먼트 마크의 위치 등에 의해 실행되고 있는 작업과 설정되어 있는 작업이 일치하고 있는지의 여부를 판정하고, 다른 경우에는 실행되고 있는 작업과 설정되어 있는 작업 전의 작업이 일치하고 있는지의 여부를 더 판정하고, 일치하고 있었던 경우에는 실행 대상의 작업이 설정되어 있는 작업 전의 작업으로 스위칭하여 실행을 계속함으로써 불필요한 노광 처리를 최대한 행하지 않고 부주의한 라인 정지를 억제할 수 있다.

또한, 제 1 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에서는 작업을 감시하는 타이밍을 작업의 스위칭이 예정되어 있는 타이밍 직전의 k매로부터 작업의 스위칭이 행해진 직후의 k매까지로 하고, k의 값을 작업자가 적당히 설정할 수 있도록 함으로써 작업의 스위칭이 부주의하게 행해지는 것이 회피된다. 또한, k=0으로 설정된 경우에는 실행 작업 정보(60)에 의해 설정되어 있는 작업의 스위칭 타이밍을 실행시에 변경하는 것이 허용되지 않는다.

또한, 제 1 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에서는 스텝 S207(S307)에 있어서, 스텝 S203(S303)에서 취득한 피노광 기판(C)의 사이즈 및 스텝 S205(S305)에서 취득한 얼라인먼트 마크의 위치 등의 쌍방을 사용해서 기판 종류를 판정하고 있기 때문에 연속해서 실행되는 작업 간에 피노광 기판(C)의 사이즈가 동일한 경우라도 정확하게 작업을 판정할 수 있고, 이것에 의해 작업의 스위칭을 정확하게 행할 수 있다.

또한, 제 1 실시형태에 의한 노광 묘화 장치(2)에서는 작업에 관한 정보를 입력하지만, 이것에 한정되지 않고, 미리 기억부(51)에 기억되어 있는 실행 작업 정보를 작업자가 입력부(53)를 통해서 선택함으로써 실행 대상으로 하는 작업을 설정해도 좋다.

또한, 제 1 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에서는 스텝 S207(S307)에 있어서, 스텝 S203(S303)에서 취득한 피노광 기판(C)의 사이즈 및 스텝 S205(S305)에서 취득한 얼라인먼트 마크의 위치 등을 사용해서 기판 종류를 판정하고 있지만, 이것에 한정되지 않고, 스텝 S207(S307)에 있어서 피노광 기판(C)의 사이즈, 피노광 기판(C)에 형성되어 있는 얼라인먼트 마크의 위치, 피노광 기판(C)에 형성되어 있는 얼라인먼트 마크의 종류 중 적어도 하나를 사용해서 기판 종류를 판정해도 좋다.

[제 2 실시형태]

이하, 제 2 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에 대해서 첨부 도면을 참조해서 상세하게 설명한다. 또한, 제 2 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)은 제 1 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)과 마찬가지로 도 1~도 5에 나타내는 구성을 갖고 있기 때문에 상기 구성에 관해서 중복하는 설명을 생략한다.

제 1 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에서는 복수의 작업을 미리 정해진 실행 순서에 따라서 실행할 때에 피노광 기판(C)의 사이즈 및 얼라인먼트 마크의 위치 등에 의해 피노광 기판(C)의 기판 종류를 추측하고, 추측된 기판 종류가 작업에 설정되어 있는 기판 종류와 다른 경우에 작업이 다르다고 판정하는 것이지만, 제 2 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)은 노광 대상으로 하는 피노광 기판(C)의 사이즈가 피노광 기판(C)의 기판 종류를 추측하고, 추측된 기판 종류가 작업에 설정되어 있는 기판 종류와 다른 경우에 작업이 다르다고 판정하는 것이다.

제 2 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에서는 제 1 실시형태의 실행 작업 정보(60)에 따라서 복수의 작업을 연속적으로 실행하고, 그 때에 실행되고 있는 작업과 설정되어 있는 작업이 다른지의 여부를 감시하는 제 3 노광 감시 처리를 실행한다.

제 2 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에 있어서의 제 3 노광 감시 처리의 흐름에 대해서 설명한다.

도 14는 제 2 실시형태에 의한 제 3 노광 감시 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우 차트이며, 상기 프로그램은 제어 장치(3)의 기억부(51)에 구비된 기록 매체인 ROM의 소정 영역에 미리 기억되어 있다.

또한, 본 실시형태에서는 작업 스위칭 직전의 k매(처리 매수가 N매인 작업에 있어서 N-k+1매째로부터 N매째까지의 k매)와, 작업 스위칭의 직후의 k매(처리 매수가 N매인 작업에 있어서 1매째로부터 k매째까지의 k매)에 대해서 작업 스위칭을 행하는 타이밍인지의 여부를 판정한다. k의 값은 N보다 작은 값이며, 작업자에 의해 미리 입력부(53)를 통해서 입력되어서 기억부(51)에 기억되고 있다.

최초에 스텝 S401에 있어서, 스텝 S117에 있어서 노광 처리가 실행되고 있는 상태에 있어서 제어부(50)는 현재 실행 중의 작업의 전체 처리 매수를 N매로 했을 때에 다음 처리 대상으로 하는 피노광 기판(C)이 현재 실행 중의 작업에 있어서 N-k+1매째 이상인지의 여부를 판정한다.

스텝 S401에 있어서, N-k+1매째 이상인 것으로 판정되었을 경우에는 스텝 S403에 있어서 제어부(50)는 스텝 S201의 처리와 마찬가지의 방법으로 다음 처리 대상으로 하는 피노광 기판(C)의 사이즈를 취득한다.

스텝 S405에 있어서, 제어부(50)는 스텝 S403에 있어서 취득한 피노광 기판(C)의 사이즈와, 기억부(51)에 미리 기억되어 있는 기판 종류마다 사이즈와 비교함으로써 다음 처리 대상으로 하는 피노광 기판(C)의 기판 종류를 판정한다.

스텝 S405에 있어서, 실행 중의 작업에 적합하다고 판정되었을 경우에는 스텝 S407에 있어서 제어부(50)는 스텝 S205의 처리와 마찬가지의 방법으로 다음 처리 대상으로 하는 피노광 기판(C)의 얼라인먼트 마크의 위치 등을 취득한다.

스텝 S409에 있어서, 제어부(50)는 스텝 S407에 있어서 취득한 피노광 기판의 얼라인먼트 마크의 위치 등을 기억부(51)에 미리 기억되어 있는 얼라인먼트 마크의 위치 등과 비교함으로써 실행 중의 작업에 적합한지의 여부를 판정한다.

스텝 S409에 있어서, 실행 중의 작업에 적합하다고 판정되었을 경우에는 스텝 S411에 있어서 제어부(50)는 실행 중의 작업에서 그대로 노광 처리를 계속한다.

스텝 S409에 있어서, 실행 중의 작업에 적합하지 않다고 판정되었을 경우에는 스텝 S413에 있어서 제어부(50)는 스텝 S409에 의해 판정된 다음 처리 대상으로 하는 피노광 기판(C)의 기판 종류와, 실행 중의 작업의 다음 작업에 있어서 설정되어 있는 기판 종류를 비교함으로써 기판 종류가 다음 작업에 적합한지의 여부를 판정한다.

스텝 S413에 있어서, 다음 작업에 적합하다고 판정되었을 경우에는 스텝 S415에 있어서 제어부(50)는 실행 중의 작업을 위한 피노광 기판(C)의 매수가 부족했던 것으로 판단하고, 현재 실행 중의 작업을 1개 진행하여 다음 처리 대상으로 하는 피노광 기판(C)에 대하여 실행 중의 작업의 다음 작업이 실행되도록 스위칭한다.

스텝 S417에 있어서, 제어부(50)는 작업 A의 피노광 기판(C)의 매수가 적었기 때문에 작업을 진행한 취지를 출력하고, 스텝 S411에 있어서 다음 작업에서 노광 처리를 계속한다. 그 취지를 출력하는 방법은 표시부(52)에 그 취지를 표시시키는 방법이어도 좋고, 음성으로 그 취지를 출력하는 방법이어도 좋다.

한편, 스텝 S405에 있어서, 실행 중의 작업에 적합하지 않다고 판정되었을 경우에는 스텝 S419에 있어서 제어부(50)는 스텝 S409에 의해 판정된 다음 처리 대상으로 하는 피노광 기판(C)의 사이즈와, 실행 중의 작업의 다음 작업에 있어서 설정되어 있는 기판의 사이즈를 비교함으로써 기판 종류가 다음 작업에 적합한지의 여부를 판정한다.

스텝 S419에 있어서, 다음 작업에 적합하다고 판정되었을 경우에는 스텝 S421에 있어서 제어부(50)는 스텝 S205의 처리와 마찬가지의 방법으로 다음 처리 대상으로 하는 피노광 기판(C)의 얼라인먼트 마크의 위치 등을 취득한다.

스텝 S421에 있어서, 제어부(50)는 스텝 S419에 있어서 취득한 피노광 기판(C)의 얼라인먼트 마크의 위치 등을 기억부(51)에 미리 기억되어 있는 얼라인먼트 마크의 위치 등과 비교함으로써 실행 중의 작업의 다음 작업에 적합한지의 여부를 판정한다. 스텝 S423에 있어서 다음 작업에 적합하다고 판정되었을 경우에는 스텝 S415로 이행한다.

스텝 S419 또는 스텝 S423에 있어서 다음 작업에 적합하지 않다고 판정되었을 경우에는 스텝 S425에 있어서 제어부(50)는 노광 처리를 계속할 수 없다고 판단하여 다음 처리 대상으로 하는 피노광 기판(C)을 노광 묘화 장치(2)의 외부로 배출한다.

이와 같이 해서, 제 2 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에서는 피노광 기판(C)이 반송되어 온 단계에서 피노광 기판(C)의 사이즈에 따라 실행되고 있는 작업과 설정되어 있는 작업이 다른지의 여부를 판정하기 때문에 피노광 기판(C)이 반입되어 온 단계에서 작업이 다른지의 여부를 판정할 수 있고, 작업이 다르다고 판정되었을 경우에는 노광 처리를 행하는 일 없이[피노광 기판(C)을 스테이지(10)에 적재하는 일 없이] 피노광 기판(C)을 신속하게 노광 묘화 장치(2)의 외부로 배출할 수 있다.

또한, 제 2 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에서는 피노광 기판(C)이 반송되어 온 단계에서 반송된 피노광 기판(C)의 작업을 스위칭했는지의 여부를 사전에[피노광 기판(C)을 스테이지(10)에 적재하기 전 단계에 있어서] 판단하기 때문에 화상 데이터 스위칭의 개시 타이밍을 빠르게 할 수 있다. 특히, 노광 대상 화상의 화상 데이터의 데이터 용량이 클 경우에는 화상 데이터의 스위칭에 일정 시간을 요하지만, 이 화상 데이터의 스위칭을 위한 대기 시간을 단축시킬 수 있다.

또한, 제 2 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에 있어서 작업의 스위칭 직전에 기판 종류가 다음 작업에 적합한지의 여부를 판정할 경우(제 1 노광 감시 처리에 대응)에 대해서 설명했지만, 이것에 한정되지 않고, 작업의 스위칭 직후에 기판 종류가 전의 작업에 적합한지의 여부를 판정해도 좋다(제 2 노광 감시 처리에 대응). 이 경우, 스텝 S401에 있어서 처리 매수가 N매인 작업에 있어서 현재의 처리 매수가 k매째 이하인지를 판정하고, 스텝 S409에서 스위칭 후의 작업에 적합한지의 여부를 판정하고, 스텝 S413, 스텝 S419, 및 스텝 S423에 있어서 기판 종류가 스위칭 후의 작업 전의 작업에 적합한지의 여부를 판정하고, 스텝 S415에 있어서 스위칭 후의 작업을 1개 되돌려서 전의 작업을 설정하고, 또한 스텝 S417에 있어서 작업을 되돌린 취지를 출력한다.

또한, 제 1 노광 감시 처리, 제 2 노광 감시 처리, 및 제 3 감시 처리는 피노광 기판(C)에 대하여 노광 처리를 행하고 있는 동안에 상기 피노광 기판(C)의 다음에 노광 대상으로 하는 피노광 기판(C)에 대하여 행해지도록 하면 좋다. 이것에 의해 작업의 스위칭의 판단을 노광 처리를 개시하기 전에 미리 행할 수 있다.

일본 특허 출원 2012-057467호의 개시는 그 전체가 참조에 의해 본 명세서에 도입된다.

본 명세서에 기재된 모든 문헌, 특허출원, 및 기술규격은 각각의 문헌, 특허출원, 및 기술규격이 참조에 의해 도입되는 것이 구체적이고 각각에 기재된 경우와 동일한 정도로 본 명세서 중에 참조에 의해 도입된다.

1: 노광 묘화 시스템 2: 노광 묘화 장치
3: 제어 장치 5: 제 1 반송부
5a: 컨베이어부 6: 제 2 반송부
10: 스테이지 11: 베이스체
12: 베이스대 14: 가이드 레일
15: 게이트 16: 노광부
16a: 노광 헤드 17: 광원 유닛
18: 광 섬유 19: 화상 처리 유닛
20: 신호 케이블 22: 게이트
23: 촬영부 24: AC 핸드
25: 흡착부 26: 압박부
27: 기판 사이즈 계측부 27a: 폭 계측부
27b: 길이 계측부 40: 시스템 제어부
41: 스테이지 구동부 42: 조작 장치
43: 이동 구동부 50: 제어부
51: 기억부 52: 표시부
53: 입력부 54: 통신 인터페이스
60: 실행 작업 정보 70: 기판 종류 정보
C: 피노광 기판

Claims

피노광 기판의 종류를 나타내는 기판 정보가 각각 설정되고, 노광 정보에 따른 노광 처리를 요구하는 복수의 노광 처리 요구에 의거하여 피노광 기판에 대하여 노광 처리 각각을 순서대로 실행하는 노광 처리 실행 수단과,
노광 처리 대상의 피노광 기판의 기판 정보를 검출하는 검출 수단과,
상기 검출 수단에 의해 검출된 검출 기판 정보와 실행 중의 노광 처리 요구에 설정된 실행 중 기판 정보를 비교하는 비교 수단과,
상기 비교 수단의 비교 결과에 의거하여 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판의 검출 기판 정보가 실행 중 기판 정보와 동일할 경우에는 상기 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판에 대하여 실행 중의 노광 처리 요구가 계속해서 실행됨과 아울러, 검출 기판 정보가 실행 중 기판 정보와 다르며 또한 다음의 노광 처리 요구에 설정된 기판 정보와 동일할 경우에는 상기 실행 중의 노광 처리 요구를 종료해서 상기 다음의 노광 처리 요구의 실행이 개시되도록 상기 노광 처리 실행 수단에 의해 실행되는 노광 처리 요구를 스위칭하는 스위칭 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 노광 묘화 장치.
제 1 항에 있어서,
상기 복수의 노광 처리 요구 각각에는 기판의 처리 매수를 나타내는 매수 정보가 각각 설정되고,
상기 스위칭 수단은 상기 노광 처리 실행 수단에 의해 실행된 노광 처리 매수가 실행 중의 노광 처리 요구에 설정된 처리 매수에 따라서 정해진 소정 매수가 되었을 때에 상기 비교 수단의 비교 결과에 의거하여 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판의 검출 기판 정보가 실행 중 기판 정보와 동일할 경우에는 상기 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판에 대하여 실행 중의 노광 처리 요구가 계속해서 실행됨과 아울러, 검출 기판 정보가 실행 중 기판 정보와 다르며 또한 다음의 노광 처리 요구에 설정된 기판 정보와 동일할 경우에는 상기 실행 중의 노광 처리 요구를 종료해서 상기 다음의 노광 처리 요구의 실행이 개시되도록 상기 노광 처리 실행 수단에 의해 실행되는 노광 처리 요구를 스위칭하는 것을 특징으로 하는 노광 묘화 장치.
피노광 기판의 종류를 나타내는 기판 정보가 각각 설정되고, 노광 정보에 따른 노광 처리를 요구하는 복수의 노광 처리 요구에 의거하여 피노광 기판에 대하여 노광 처리 각각을 순서대로 실행하는 노광 처리 실행 수단과,
노광 처리 대상의 피노광 기판의 기판 정보를 검출하는 검출 수단과,
상기 검출 수단에 의해 검출된 검출 기판 정보와 스위칭된 노광 처리 요구에 설정된 스위칭 기판 정보를 비교하는 비교 수단과,
실행 중의 노광 처리 요구를 종료해서 다음의 노광 처리 요구의 실행이 개시되도록 스위칭한 후, 상기 비교 수단의 비교 결과에 의거하여 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판의 검출 기판 정보가 스위칭 기판 정보와 동일할 경우에는 상기 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판에 대하여 스위칭 후의 노광 처리 요구가 실행됨과 아울러, 검출 기판 정보가 스위칭 기판 정보와 다르며 또한 스위칭 직전에 실행하고 있었던 노광 처리 요구에 설정된 기판 정보와 동일할 경우에는 상기 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판에 대하여 스위칭 직전에 실행하고 있었던 노광 처리 요구가 계속해서 실행되도록 상기 노광 처리 실행 수단에 의해 실행되는 노광 처리 요구를 스위칭하는 스위칭 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 노광 묘화 장치.
제 3 항에 있어서,
상기 복수의 노광 처리 요구 각각에는 기판의 처리 매수를 나타내는 매수 정보가 각각 설정되고,
상기 스위칭 수단은 실행 중의 노광 처리 요구를 종료해서 다음의 노광 처리 요구의 실행이 개시되도록 스위칭한 후, 상기 노광 처리 실행 수단에 의해 실행된 노광 처리 매수가 실행 중의 노광 처리 요구에 설정된 처리 매수에 따라서 정해진 소정 매수가 되었을 때에 상기 비교 수단의 비교 결과에 의거하여 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판의 검출 기판 정보가 스위칭 기판 정보와 동일할 경우에는 상기 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판에 대하여 스위칭 후의 노광 처리 요구가 실행됨과 아울러, 검출 기판 정보가 스위칭 기판 정보와 다르며 또한 스위칭 직전에 실행하고 있었던 노광 처리 요구에 설정된 기판 정보와 동일할 경우에는 상기 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판에 대하여 스위칭 직전에 실행하고 있었던 노광 처리 요구가 계속해서 실행되도록 상기 노광 처리 실행 수단에 의해 실행되는 노광 처리 요구를 스위칭하는 것을 특징으로 하는 노광 묘화 장치.
제 2 항 또는 제 4 항에 있어서,
노광 처리 요구의 스위칭을 허용하는 상기 피노광 기판의 매수의 입력을 접수하는 접수 수단을 더 구비하고,
상기 소정 매수는 실행 중의 노광 처리에 설정된 처리 매수 및 상기 접수 수단에 의해 접수된 매수에 따라서 정해지는 것을 특징으로 하는 노광 묘화 장치.
제 2 항에 있어서,
노광 처리 요구의 스위칭을 허용하는 상기 피노광 기판의 매수의 입력을 접수하는 접수 수단을 더 구비하고,
상기 스위칭 수단은 상기 노광 처리 실행 수단에 의해 실행 중의 노광 처리 요구에 있어서 실행된 노광 처리 매수가 실행 중의 노광 처리에 설정된 처리 매수로부터 상기 접수 수단에 의해 접수된 매수를 감산해서 1을 가산한 매수 이상일 때에 상기 비교 수단의 비교 결과에 의거하여 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판의 검출 기판 정보가 실행 중 기판 정보와 동일할 경우에는 상기 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판에 대하여 실행 중의 노광 처리 요구가 계속해서 실행됨과 아울러, 검출 기판 정보가 실행 중 기판 정보와 다르며 또한 다음의 노광 처리 요구에 설정된 기판 정보와 동일할 경우에는 상기 실행 중의 노광 처리 요구를 종료해서 상기 다음의 노광 처리 요구의 실행이 개시되도록 상기 노광 처리 실행 수단에 의해 실행되는 노광 처리 요구를 스위칭하는 것을 특징으로 하는 노광 묘화 장치.
제 4 항에 있어서,
노광 처리 요구의 스위칭을 허용하는 상기 피노광 기판의 매수의 입력을 접수하는 접수 수단을 더 구비하고,
상기 스위칭 수단은 상기 노광 처리 실행 수단에 의해 실행 중의 노광 처리 요구에 있어서, 실행된 노광 처리 매수가 상기 접수 수단에 의해 접수된 매수 이하일 때에 상기 비교 수단의 비교 결과에 의거하여 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판의 검출 기판 정보가 스위칭 기판 정보와 동일할 경우에는 상기 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판에 대하여 스위칭 후의 노광 처리 요구가 실행됨과 아울러, 검출 기판 정보가 스위칭 기판 정보와 다르며 또한 스위칭 직전에 실행하고 있었던 노광 처리 요구에 설정된 기판 정보와 동일할 경우에는 상기 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판에 대하여 스위칭 직전에 실행하고 있었던 노광 처리 요구가 계속해서 실행되도록 상기 노광 처리 실행 수단에 의해 실행되는 노광 처리 요구를 스위칭하는 것을 특징으로 하는 노광 묘화 장치.
제 1 항에 있어서,
상기 스위칭 수단이 상기 노광 처리 실행 수단에 의해 실행되는 노광 처리 요구를 스위칭했을 경우, 미리 정해진 정보를 출력하는 출력 수단을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 노광 묘화 장치.
제 1 항에 있어서,
상기 기판 정보는 기판의 사이즈 및 기판에 형성된 얼라인먼트 마크의 위치 및 종류를 포함하는 정보이며,
상기 검출 수단은 상기 노광 처리 대상의 피노광 기판의 사이즈, 피노광 기판에 형성된 얼라인먼트 마크의 위치, 및 피노광 기판에 형성된 얼라인먼트 마크의 종류의 적어도 1개를 기판 정보로서 검출하는 것을 특징으로 하는 노광 묘화 장치.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 검출 기판 정보가 실행 중 기판 정보와 다르며, 또한 상기 다음의 노광 처리 요구에 설정된 기판 정보와 다른 경우에는 상기 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판을 노광 처리를 행하지 않고 장치 외부로 배출하는 배출 수단을 더 구비한 것을 특징으로 하는 노광 묘화 장치.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 검출 기판 정보가 실행 중 기판 정보와 다르며, 또한 상기 다음의 노광 처리 요구에 설정된 기판 정보와 다른 경우에는, 노광 처리를 계속할 수 없다고 판단하는 판단 수단을 더 구비한 것을 특징으로 하는 노광 묘화 장치.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 검출 기판 정보가 실행 중 기판 정보와 다르며, 또한 상기 다음의 노광 처리 요구에 설정된 기판 정보와 다른 경우에는, 노광 처리를 계속할 수 없다고 판단하는 판단 수단과,
상기 판단 수단이 노광 처리를 계속할 수 없다고 판단한 경우에는, 피노광 기판을 노광 묘화 장치의 외부로 배출하는 배출 수단을 더 구비한 것을 특징으로 하는 노광 묘화 장치.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 검출 수단은 상기 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판의 반입시에 상기 노광 처리 대상의 피노광 기판의 사이즈를 검출하고,
상기 비교 수단의 비교 결과에 의거하여 검출 기판 정보가 실행 중 기판 정보와 다르며, 또한 다음의 노광 처리 요구에 설정된 기판 정보와 다른 경우에는 상기 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판을 노광 처리를 행하지 않고 그대로 장치 외부로 배출하는 배출 수단을 더 구비한 것을 특징으로 하는 노광 묘화 장치.
제 3 항 또는 제 4 항에 있어서,
상기 검출 기판 정보가 스위칭 기판 정보와 다르며, 또한 스위칭 직전에 실행하고 있었던 노광 처리 요구에 설정된 기판 정보와 다른 경우에는 상기 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판을 노광 처리를 행하지 않고 장치 외부로 배출하는 배출 수단을 더 구비한 것을 특징으로 하는 노광 묘화 장치.
제 3 항 또는 제 4 항에 있어서,
상기 검출 기판 정보가 스위칭 기판 정보와 다르며, 또한 스위칭 직전에 실행하고 있었던 노광 처리 요구에 설정된 기판 정보와 다른 경우에는 노광 처리를 계속할 수 없다고 판단하는 판단 수단을 더 구비한 것을 특징으로 하는 노광 묘화 장치.
제 3 항 또는 제 4 항에 있어서,
상기 검출 기판 정보가 스위칭 기판 정보와 다르며, 또한 스위칭 직전에 실행하고 있었던 노광 처리 요구에 설정된 기판 정보와 다른 경우에는 노광 처리를 계속할 수 없다고 판단하는 판단 수단과,
상기 판단 수단이 노광 처리를 계속할 수 없다고 판단한 경우에는, 피노광 기판을 노광 묘화 장치의 외부로 배출하는 배출 수단을 더 구비한 것을 특징으로 하는 노광 묘화 장치.
제 3 항 또는 제 4 항에 있어서,
상기 검출 수단은 상기 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판의 반입시에 상기 노광 처리 대상의 피노광 기판의 사이즈를 검출하고,
상기 비교 수단의 비교 결과에 의거하여 검출 기판 정보가 스위칭 기판 정보와 다르며, 또한 스위칭 직전에 실행하고 있었던 노광 처리 요구에 설정된 기판 정보와 다른 경우에는 상기 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판을 노광 처리를 행하지 않고 그대로 장치 외부로 배출하는 배출 수단을 더 구비한 것을 특징으로 하는 노광 묘화 장치.
피노광 기판의 종류를 나타내는 기판 정보가 각각 설정되고, 노광 정보에 따른 노광 처리를 요구하는 복수의 노광 처리 요구에 의거하여 피노광 기판에 대하여 노광 처리 각각을 순서대로 실행하는 노광 처리 실행 수단과,
노광 처리 대상의 피노광 기판의 기판 정보를 검출하는 검출 수단을 구비한 노광 묘화 장치에 있어서,
컴퓨터에,
상기 검출 수단에 의해 검출된 검출 기판 정보와 실행 중의 노광 처리 요구에 설정된 실행 중 기판 정보를 비교시키고,
상기 비교 결과에 의거하여 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판의 검출 기판 정보가 실행 중 기판 정보와 동일할 경우에는 상기 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판에 대하여 실행 중의 노광 처리 요구가 계속해서 실행됨과 아울러, 검출 기판 정보가 실행 중 기판 정보와 다르며 또한 다음의 노광 처리 요구에 설정된 기판 정보와 동일할 경우에는 상기 실행 중의 노광 처리 요구를 종료해서 상기 다음의 노광 처리 요구의 실행이 개시되도록 상기 노광 처리 실행 수단에 의해 실행되는 노광 처리 요구를 스위칭시키는 처리를 실행시키는 프로그램이 저장된 것을 특징으로 하는 컴퓨터 가독 기억 매체.
피노광 기판의 종류를 나타내는 기판 정보가 각각 설정되고, 노광 정보에 따른 노광 처리를 요구하는 복수의 노광 처리 요구에 의거하여 피노광 기판에 대하여 노광 처리 각각을 순서대로 실행하는 노광 처리 실행 수단과,
노광 처리 대상의 피노광 기판의 기판 정보를 검출하는 검출 수단을 구비한 노광 묘화 장치에 있어서,
컴퓨터에,
상기 검출 수단에 의해 검출된 검출 기판 정보와 스위칭된 노광 처리 요구에 설정된 스위칭 기판 정보를 비교시키고,
실행 중의 노광 처리 요구를 종료해서 다음의 노광 처리 요구의 실행이 개시되도록 스위칭한 후, 상기 비교 결과에 의거하여 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판의 검출 기판 정보가 스위칭 기판 정보와 동일할 경우에는 상기 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판에 대하여 스위칭 후의 노광 처리 요구가 실행됨과 아울러, 검출 기판 정보가 스위칭 기판 정보와 다르며 또한 스위칭 직전에 실행하고 있었던 노광 처리 요구에 설정된 기판 정보와 동일할 경우에는 상기 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판에 대하여 스위칭 직전에 실행하고 있었던 노광 처리 요구가 계속해서 실행되도록 상기 노광 처리 실행 수단에 의해 실행되는 노광 처리 요구를 스위칭시키는 처리를 실행시키는 프로그램이 저장된 것을 특징으로 하는 컴퓨터 가독 기억 매체.
피노광 기판의 종류를 나타내는 기판 정보가 각각 설정되고, 노광 정보에 따른 노광 처리를 요구하는 복수의 노광 처리 요구에 의거하여 피노광 기판에 대하여 노광 처리 각각을 순서대로 실행하는 노광 처리 실행 스텝과,
노광 처리 대상의 피노광 기판의 기판 정보를 검출하는 검출 스텝과,
상기 검출 스텝에서 검출된 검출 기판 정보와 실행 중의 노광 처리 요구에 설정된 실행 중 기판 정보를 비교하는 비교 스텝과,
상기 비교 스텝의 비교 결과에 의거하여 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판의 검출 기판 정보가 실행 중 기판 정보와 동일할 경우에는 상기 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판에 대하여 실행 중의 노광 처리 요구가 계속해서 실행됨과 아울러, 검출 기판 정보가 실행 중 기판 정보와 다르며 또한 다음의 노광 처리 요구에 설정된 기판 정보와 동일할 경우에는 상기 실행 중의 노광 처리 요구를 종료해서 상기 다음의 노광 처리 요구의 실행이 개시되도록 상기 노광 처리 실행 스텝에서 실행되는 노광 처리 요구를 스위칭하는 스위칭 스텝을 구비한 것을 특징으로 하는 노광 묘화 방법.
피노광 기판의 종류를 나타내는 기판 정보가 각각 설정되고, 노광 정보에 따른 노광 처리를 요구하는 복수의 노광 처리 요구에 의거하여 피노광 기판에 대하여 노광 처리 각각을 순서대로 실행하는 노광 처리 실행 스텝과,
노광 처리 대상의 피노광 기판의 기판 정보를 검출하는 검출 스텝과,
상기 검출 스텝에서 검출된 검출 기판 정보와 스위칭된 노광 처리 요구에 설정된 스위칭 기판 정보를 비교하는 비교 스텝과,
실행 중의 노광 처리 요구를 종료해서 다음의 노광 처리 요구의 실행이 개시되도록 스위칭한 후, 상기 비교 스텝의 비교 결과에 의거하여 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판의 검출 기판 정보가 스위칭 기판 정보와 동일할 경우에는 상기 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판에 대하여 스위칭 후의 노광 처리 요구가 실행됨과 아울러, 검출 기판 정보가 스위칭 기판 정보와 다르며 또한 스위칭 직전에 실행하고 있었던 노광 처리 요구에 설정된 기판 정보와 동일할 경우에는 상기 다음에 노광 처리 대상이 되는 피노광 기판에 대하여 스위칭 직전에 실행하고 있었던 노광 처리 요구가 계속해서 실행되도록 상기 노광 처리 실행 스텝에서 실행되는 노광 처리 요구를 스위칭하는 스위칭 스텝을 구비한 것을 특징으로 하는 노광 처리 방법.