TWI592448B - 製備隱藏圖案的方法 - Google Patents

製備隱藏圖案的方法 Download PDF

Info

Publication number
TWI592448B
TWI592448B TW105106128A TW105106128A TWI592448B TW I592448 B TWI592448 B TW I592448B TW 105106128 A TW105106128 A TW 105106128A TW 105106128 A TW105106128 A TW 105106128A TW I592448 B TWI592448 B TW I592448B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
acid
succinic anhydride
substrate
alkaline earth
alkali metal
Prior art date
Application number
TW105106128A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201700642A (zh
Inventor
羅傑 博爾斯拓姆
喬琪 史考寇夫
派翠克Ａ Ｃ 甘納
Original Assignee
歐米亞國際公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 歐米亞國際公司 filed Critical 歐米亞國際公司
Publication of TW201700642A publication Critical patent/TW201700642A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI592448B publication Critical patent/TWI592448B/zh

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M3/00—Printing processes to produce particular kinds of printed work, e.g. patterns
    • B41M3/14—Security printing
    • B41M3/148—Transitory images, i.e. images only visible from certain viewing angles
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01—Ink jet
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M3/00—Printing processes to produce particular kinds of printed work, e.g. patterns
    • B41M3/001—Printing processes to produce particular kinds of printed work, e.g. patterns using chemical colour-formers or chemical reactions, e.g. leuco dyes or acids
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/20—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof characterised by a particular use or purpose
    • B42D25/21—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof characterised by a particular use or purpose for multiple purposes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/30—Identification or security features, e.g. for preventing forgery
    • B42D25/36—Identification or security features, e.g. for preventing forgery comprising special materials
    • B42D25/369—Magnetised or magnetisable materials
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/30—Identification or security features, e.g. for preventing forgery
    • B42D25/36—Identification or security features, e.g. for preventing forgery comprising special materials
    • B42D25/373—Metallic materials
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/30—Identification or security features, e.g. for preventing forgery
    • B42D25/36—Identification or security features, e.g. for preventing forgery comprising special materials
    • B42D25/378—Special inks
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B44—DECORATIVE ARTS
    • B44F—SPECIAL DESIGNS OR PICTURES
    • B44F1/00—Designs or pictures characterised by special or unusual light effects
    • B44F1/02—Designs or pictures characterised by special or unusual light effects produced by reflected light, e.g. matt surfaces, lustrous surfaces
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/30—Inkjet printing inks
    • C09D11/32—Inkjet printing inks characterised by colouring agents
    • C09D11/328—Inkjet printing inks characterised by colouring agents characterised by dyes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/30—Inkjet printing inks
    • C09D11/38—Inkjet printing inks characterised by non-macromolecular additives other than solvents, pigments or dyes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/50—Sympathetic, colour changing or similar inks
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M3/00—Printing processes to produce particular kinds of printed work, e.g. patterns
    • B41M3/14—Security printing
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M3/00—Printing processes to produce particular kinds of printed work, e.g. patterns
    • B41M3/14—Security printing
    • B41M3/142—Security printing using chemical colour-formers or chemical reactions, e.g. leuco-dye/acid, photochromes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/0011—Pre-treatment or treatment during printing of the recording material, e.g. heating, irradiating
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/50—Recording sheets characterised by the coating used to improve ink, dye or pigment receptivity, e.g. for ink-jet or thermal dye transfer recording
    • B41M5/52—Macromolecular coatings
    • B41M5/5218—Macromolecular coatings characterised by inorganic additives, e.g. pigments, clays
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/20—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof characterised by a particular use or purpose
    • B42D25/23—Identity cards
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/20—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof characterised by a particular use or purpose
    • B42D25/24—Passports
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/20—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof characterised by a particular use or purpose
    • B42D25/28—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof characterised by a particular use or purpose for use in medical treatment or therapy
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/20—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof characterised by a particular use or purpose
    • B42D25/29—Securities; Bank notes

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Accounting & Taxation (AREA)
  • Finance (AREA)
  • Business, Economics & Management (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Ink Jet Recording Methods And Recording Media Thereof (AREA)
  • Ink Jet (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Paper (AREA)
  • Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
  • Accessory Devices And Overall Control Thereof (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Description

製備隱藏圖案的方法
本發明關於噴墨列印領域，更特別是關於在基材上製備隱藏圖案的方法，藉該方法可獲得的隱藏圖案以及其用途。
產物與品牌盜版是一個普遍且為世界各地人士擔憂的現象，可能導致受影響公司的商業損失，並可能會減損品牌價值和公司的聲譽。根據由2014年歐盟頒布的知識產權歐盟海關執法的報告，觀察到食品、酒精飲料、珠寶和其他配件、手機、CD/DVDs、玩具和遊戲、醫藥、汽車零組件及配件和辦公文具等類別假冒顯著上升。然而，使得如墨水匣和碳粉、運動用品、香煙及其他煙草產物、機器和工具、打火機、標籤(labels)、牌子(tags)、貼紙和紡織品等產物也經常受到仿冒。
因此，對品牌保護和抗仿冒之戰略與技術措施的需求增加。
此外，隨著桌上排版和彩色複印機的改進，文件欺詐的機會急劇增加。因此，對可用於驗證例如護照、駕照、金融卡、信用卡、證件或支付方式等文件真實性的安全元件之需求日益增加。
WO2008/024542 A1描述了一種方法，其中反射特徵是由使用包含金屬顆粒的墨水的直寫列印程序形成。
US 2014/0151996 A1關於安全元件，其具有當視角改良時可能改變安全元件外觀的光學結構。
為了完整起見，申請人茲提及申請號14169922.3的未公開歐洲專利申請案，該申請案係關於一種製造經表面改質材料的方法。
然而，本領域仍需要可靠的安全元件，該安全元件無法輕易地被複製，並且允許簡單和立即驗證。
據上所述，本發明目的為提供製造可靠安全元件的方法，該安全元件難以偽造，並且允許簡單和直接的驗證。還希望該方法容易在現有的列印設備實現。此外，希望該方法可以用於各式各樣的基材上。
本發明的另一個目的為提供一種用於製備安全元件的方法，該安全元件能夠輕易地用於現有技術方法和現有的生產線。還希望該方法適用於小產量和大產量。
本發明目的亦為提供一種隱蔽的安全元件，在特定條件下可為人類肉眼所見，從而不需要使用任何驗證工具。還希望該隱蔽安全元件可以進一步配備使其可為機器讀取且可與現有技藝的安全元件合併的功能。
上述目的與其他目的藉由本發明申請專利範圍獨立項定義的請求標的而解決。
根據本發明一個態樣，提供一種製備在基材上的隱藏圖案的方法，該隱藏圖案在相對於基材表面的第一角度觀視時看不見，而在相對於基材表面的第二角度觀視時看的見， 該方法包含以下步驟：a)提供基材，其中基材包含至少一個外表面，該至少一個外表面包含可成鹽的鹼金屬或鹼土金屬化合物，b)提供液體處理組成物，其包含至少一種酸，以及c)藉噴墨列印把液體處理組成物以預選圖案形式施用於至少一個外表面上，形成隱藏圖案，其中施用的液體處理組成物係以具有小於或等於1000pl體積的液滴形式施用，以及其中液滴間隔係小於或等於1000μm。
本文中所用，縮寫「pl」指的是「皮升」單位且縮寫「fl」指的是「飛升」單位。如此技藝人士所知，1皮升等於10-12升且1飛升等於10-15升。
根據本發明另一態樣，提供包含隱藏圖案的基材，可藉根據本發明方法獲得。
根據本發明又另一態樣，提供包含根據本發明基材的產物，其中產物為品牌產物、安全文件、非安全文件、或裝飾產物，產物較佳為香水、藥物、煙草產物、酒精藥物、醫藥產物、膳食產物、瓶子、服裝、包裝、容器、體育用品、玩具、遊戲機、行動電話、CD、DVD、藍光磁碟機、機器、工具、汽車零件、貼紙、標籤、牌子、海報、護照、駕照、金融卡、信用卡、債券、票據、印花稅票、鈔票、證書、品牌驗證標籤、名片、賀卡、或壁紙。
根據本發明又另一態樣，提供根據本發明基材在安全應用、 公開安全元件、隱秘安全元件、品牌保護、微縮文字、微影像、裝飾應用、藝術應用、視覺應用、或包裝應用的用途。
本發明之有利具體實例定義於對應的申請專利範圍附屬項中。
根據一個具體實例，步驟a)的至少一個外表面係為層壓物或塗覆層形式，其包含可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物。根據另一個具體實例，基材係選自由紙、紙板、箱板、塑膠、不織物、塞璐芬、紡織物、木材、金屬、玻璃、雲母板、大理石、方解石、硝化纖維素、天然石材、複合石材、磚、混凝土、錠劑、以及其層壓物或複合物組成之群，較佳為紙、紙板、箱板或塑膠。根據又另一個具體實例，步驟a)的至少一個外表面以及基材係由相同材料製成。
根據一個具體實例，可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物為鹼金屬或鹼土金屬氧化物、鹼金屬或鹼土金屬氫氧化物、鹼金屬或鹼土金屬醇鹽、鹼金屬或鹼土金屬甲基碳酸鹽、鹼金屬或鹼土金屬羥基碳酸鹽、鹼金屬或鹼土金屬碳酸氫鹽、鹼金屬或鹼土金屬碳酸鹽或其混合物，該可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物較佳為鹼金屬或鹼土金屬碳酸鹽，其較佳選自碳酸鋰、碳酸鈉、碳酸鉀、碳酸鎂、碳酸鈣鎂、碳酸鈣或其混合物，該可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物更佳為碳酸鈣，且該可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物最佳為經研磨碳酸鈣、沉澱碳酸鈣及/或經表面處理之碳酸鈣。
根據一個具體實例，至少一種酸係選自由以下組成之群：鹽酸、硫酸、亞硫酸、磷酸、檸檬酸、乙二酸、乙酸、甲酸、胺基磺酸、酒石酸、植酸、硼酸、丁二酸、辛二酸、苯甲酸、已二酸酸、庚二酸、壬 二酸、癸二酸、異檸檬酸、烏頭酸、丙烷-1,2,3-三羧酸、苯均三酸、乙醇酸、乳酸酸、扁桃酸、酸性有機硫化合物、酸性有機磷化合物、及其混合物，該至少一種酸較佳選自由以下組成之群：鹽酸、硫酸、亞硫酸、磷酸、乙二酸、硼酸、辛二酸、丁二酸、胺基磺酸、酒石酸或其混合物，該至少一種酸更佳選自由以下組成之群：硫酸、磷酸、硼酸、辛二酸、胺基磺酸、酒石酸或其混合物，且該至少一種酸最佳為磷酸及/或硫酸。
根據一個具體實例，液體處理組成物進一步包含螢光染料、磷光染料、紫外線吸收染料、近紅外線吸收染料、熱致變色染料、加酸變色染料、金屬離子、過渡金屬離子、磁性粒子、或其混合物。根據另一個具體實例，液體處理組成物包含以液體處理組成物總重量計0.1至100wt.%之量、較佳在1至80wt.%之量、更佳在3至60wt.%之量、以及最佳為10至50wt.%之量的酸。
根據一個具體實例，預選圖案為一維條碼、二維條碼、三維條碼、安全標記、數字、字母、數字符號、標誌、影像、形狀或設計。根據另一個具體實例，液滴具有體積500pl至1fl、較佳100pl至10fl、更佳50pl至100fl、以及最佳10pl至1pl。根據又另一個具體實例，液滴間隔為10nm至500μm、較佳100nm至300μm、更佳1μm至200μm、以及最佳5μm至100μm。
根據一個具體實例，該方法進一步包含將保護層及/或列印層施用於至少一種表面改質區之上的步驟d)。
根據一個具體實例，隱藏圖案與至少一個外表面的差異在於表面粗度、光澤、吸光性、電磁輻射反射、螢光、磷光、磁性、導電性、 白度及/或亮度。根據另一個具體實例，隱藏圖案包含安全特徵及/或裝飾特徵，較佳為一維條碼、二維條碼、三維條碼、安全標記、數字、字母、數字符號、標誌、影像、形狀或設計。
應理解，基於本發明目的，以下用語具有下列意義。
基於本發明之目的，「酸」定義為布朗斯特-勞立酸(Brønsted-Lowry酸)，換言之，其為H3O+離子提供者。根據本發明，pKa值為表示與給定酸中之給定可電離氫相關之酸解離常數的符號，且表明此氫在給定溫度下於水中之平衡下自此酸解離之天然程度。該等pKa值可發現於諸如Harris,D.C.「Quantitative Chemical Analysis：第3版」,1991,W.H.Freeman & Co.(USA),ISBN 0-7167-2170-8之參考教材中。
本發明中所用「基礎重量」用語係根據DIN EN ISO 536：1996測定，且係定義為以g/m2表示的重量。
基於本發明的目的，「塗覆層」用語指的是從塗層調配物形成、製造、製備的層、覆層、薄膜、皮層等，該塗層調配物主要留在基材一側上。塗覆層可與基材表面直接接觸，或在基材包含一或多層預塗覆層及/或阻擋層情況下可分別與頂部預塗覆層或阻擋層直接接觸。
基於本發明目的，「層壓物」指的是材料片材，可施用於基材上且黏結至基材，從而形成層壓基材。
本案全文中，「液滴間隔」係定義為二滴連續液滴中心之間的距離。
本文所用的「液體處理組成物」用語指的是呈液體形式的組成物，其包含至少一種酸，且可藉噴墨列印被施用於本發基材的外表面。
本發明「研磨碳酸鈣」(GCC)的含意為得自於天然來源，例如石灰、大理石、或白堊，並且經濕式及/或乾式處理例如研磨、篩選及/或分離，例如藉旋風分離器或分級機的碳酸鈣。
本發明含義中，「改質碳酸鈣」(MCC)的特徵可為具有內部結構改質或表面反應產物的天然研磨或沉澱碳酸鈣，亦即「表面反應碳酸鈣」。「表面反應碳酸鈣」為表面上包括碳酸鈣的材料以及不可溶、較佳至少部分結晶的酸陰離子鈣鹽。較佳者，不可溶鈣鹽從至少一部分碳酸鈣表面伸延。形成該陽離子的該至少部分結晶的鈣鹽的鈣離子大部分起源於起始碳酸鈣材料。MCCs敘述於例如US 2012/0031576 A1、WO 2009/074492 A1、EP 2 264 109 A1、WO 00/39222 A1、或EP 2 264 108 A1。
在本發明之含意中，「沉澱碳酸鈣」(PCC)為藉由在二氧化碳及石灰在水性、半乾或潮濕環境中反應後沉澱、或藉由鈣及碳酸鹽來源在水中沉澱而獲得的合成材料PCC。PCC可具有六方方解石、方解石或文石晶體形式。PCCs敘述於例如EP 2 447 213 A1、EP 2 524 898 A1、EP 2 371 766 A1、EP 1 712 597 A1、EP 1 712 523 A1、或WO 2013/142473 A1。
在本文全文中，可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物之「粒徑」藉其粒徑分佈描述。值dx表示相對於其以重量計之x%粒子具有小於dx之直徑的直徑。此意謂d20值為所有粒子中的20wt%小於該值之粒徑，且d75值為所有粒子中的75wt%小於該值之粒徑。d50值因此為重量中值粒徑，亦即所有粒子總重量50wt.%來自較大粒子且所有粒子總重量50wt.%來自小於此粒子尺寸的粒子。出於本發明之目的，除非另外指出，否則將粒徑規定為重量中值粒度d50。為測定重量中值粒徑d50值，可使用Sedigraph。方法及儀 器為熟習此項技術者已知的且常用於測定填料及顏料之粒徑。使用高速攪拌器及超音波分散樣品。
在本發明之含義中，可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物之「比表面積(SSA)」定義為化合物表面積除以其質量。如本文中所用，使用BET等溫線(ISO 9277：2010)藉由氮氣吸附量測比表面積且以m2/g為單位界定。
基於本發明之目的，「流變改質劑」為改變漿料或液體塗覆組成物之流變性行為以匹配所用塗覆法所需規格的添加劑。
在本發明之含義中，「可成鹽」化合物定義為能夠與酸反應形成之化合物。可成鹽化合物之實例為鹼金屬或鹼土金屬氧化物、氫氧化物、醇鹽、甲基碳酸鹽、羥基碳酸鹽、碳酸氫鹽或碳酸鹽。
在本發明之含義中，「經表面處理之碳酸鈣」為構成處理層或塗層(例如脂肪酸、界面活性劑、矽氧烷或聚合物層)之研磨、沉澱或改質碳酸鈣。
在本發明中，要理解用語「基材」為表面適於列印、塗覆或上漆的任何材料，諸如紙、紙板、箱板、塑膠、塞璐芬、紡織物、木材、金屬、玻璃、雲母板、硝化纖維素、石材或混凝土。然而，提及之實例不具有限制性特徵。
基於本發明之目的，層之「厚度」及「層重量」分別指在乾燥所施加塗覆組成物之後的層厚度及層重量。
基於本發明的目的，「黏度」或「布氏(Brookfield)黏度」用語指的是布氏黏度。布氏黏度係用於此目的，藉由布氏DV-II+ Pro黏度計在25℃±1℃及100rpm，使用布氏RV-轉針組的合適轉針進行量測，且以mPa.s 表示。基於此知識，此技藝人士將會從布氏RV-轉針組選擇適合用於待量測黏度範圍的轉針。例如，用於介於200與800mPa.s之間黏度範圍可使用3號轉針，用於介於400與1600mPa.s之間黏度範圍可使用4號轉針，以及用於介於800與3200mPa.s之間黏度範圍可使用5號轉針，用於介於1000與2000mPa.s之間黏度範圍可使用6號轉針，以及用於介於4000與8000mPa.s之間黏度範圍可使用7號轉針。
本發明「懸浮物」或「漿料」的意義為包括不溶的固體以及水，以及視需要進一步添加劑且通常包含大量固體，且因此黏度及密度比形成懸浮物或漿料的液體高。
基於本發明目的，「看的見」用語意謂著物體符合具有解析度λ/2的Rayleigh標準，且因此在波長λ下使用例如人肉眼、光學顯微鏡、掃描電子顯微鏡、或UV-、IR-、X-ray-、或微波檢測器適合檢測方式可識別。用語「看不見」意謂物體無法在以上定義的條件下被識別。根據一個具體實例，用語「看的見」意謂物體較佳在周圍光線下可被未經輔助的或裸視的人類肉眼識別，以及用語「看不見」意謂物體較佳無法在周圍光線下被未經輔助的或裸視的人類肉眼識別。
本發明敘述及申請專利範圍所用「包含」用語，並不排除其他具有主要或次要功能重要性的非特定元件。為了本發明目的，用語「由…組成」被視為「包含」用語的較佳具體實例。如果後文基團被定義為包括至少某數目的具體實例，此亦應理解為揭示較佳僅由此等具體實例組成的基團。
當使用「包括」或「具有」用語，此等用語意謂相當於以上 定義的「包含」。
當使用非定冠詞或定冠詞用於意指單一名詞，例如「a」、「an」或「the」，除非另外陳明，此包含複數個該名詞。
如「可獲得(獲得的)」或「可限定(definable)」與「獲得(obtained)」或「限定(defined)」之用語可互換使用。此例如意謂，除非上下文另外明確規定，否則用語「獲得」不意欲指示例如具體實例必須藉由例如用語「獲得」之前的步驟順序獲得，不過用語「獲得」或「限定」始終包括該種有限理解作為較佳具體實例。
根據本發明，提供用於製備在基材上隱藏圖案的方法，其中圖案在相對於基材表面第一角度觀視時看不見，且在相對於基材表面第二角度觀視時看的見。該方法包含步驟(a)提供基材，其中基材含有包含可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物的至少一個外表面，步驟(b)提供液體處理組成物，其包含至少一種酸，以及步驟(c)藉噴墨列印將為預選圖案形式的液體處理組成物施用於至少一個外表面上以形成隱藏圖案。施用的液體處理組成物具有小於或等於1000pl體積液滴形式，以及液滴間隔係小於或等於1000μm。
下文中，將提供更詳細之本發明方法之詳細內容以及較佳具體實例。要理解，此等技術詳細內容以及具體實例亦適用本發明隱藏圖案以及本發明用途及包含彼之產物。
方法步驟a)
根據本發明方法之步驟a)，提供基材。
基材包含至少一種外表面且可為不透明、半透明或透明。
根據一個具體實例，基材係選自包含紙、紙板、箱板、塑膠、不織物、塞璐芬、紡織物、木材、金屬、玻璃、雲母板、大理石、方解石、硝化纖維素、天然石材、複合石材、磚、混凝土、錠劑、以及其層壓物或複合物之群。根據較佳具體實例，基材係選自包含紙、紙板、箱板或塑膠之群。根據另一個具體實例，基材係紙、塑膠及/或金屬的層壓物，其中塑膠及/或金屬較佳為薄箔形式，例如用於Tetra Pak。根據又另一個具體實例，基材為錠劑，例如醫藥錠劑及/或膳食補充錠劑。根據較佳具體實例，錠劑為壓錠、咀嚼錠劑、多層錠劑、壓塗覆錠劑、緩釋錠劑、母質錠劑、膜塗覆錠劑、腸溶塗覆錠劑、或發泡錠劑，以及更佳為發泡錠劑。然而，具有適合用於列印、塗覆或塗料的表面之任何其它材料亦可作為基材。
根據本發明一個具體實例，基材為紙、紙板或箱板。紙板可包含硬紙板(carton board或boxboard)、瓦楞紙板、或非包裝紙板例如銅板卡紙、或繪圖紙板。箱板可包含掛麵紙板及/或波紋介質。掛麵紙板以及波紋介質二者係用於製備瓦楞板。紙、紙板、或箱板基材可具有10至1000g/m2、20至800g/m2、30至700g/m2、或50至600g/m2的基礎重量。根據一個具體實例，基材為紙，其較佳具有10至400g/m2、20至300g/m2、30至200g/m2、40至100g/m2、50至90g/m2、60至80g/m2、或約70g/m2的基礎重量。
根據另一個具體實例，基材為塑膠基材。適合塑膠材料為例如聚乙烯、聚丙烯、聚氯乙烯、聚酯、聚碳酸酯樹脂或含氟樹脂，較佳聚丙烯。適合聚酯的實例為聚(對苯二甲酸乙二酯)、聚(萘二甲酸乙二酯)或 聚(酯二乙酸酯)。含氟樹脂之實例為聚(四氟乙烯)。可藉由礦物填料、有機顏料、無機顏料或其混合物填充塑膠基材。
基材可僅由一個上文所提及之材料的層組成或可包含具有相同材料或不同材料之若干個子層的層結構。根據一個具體實例，藉由一個層使基材結構化。根據另一個具體實例，基材藉由至少兩個子層，較佳三個、五個或七個子層結構化，其中該等子層可具有平坦或不平坦結構，例如波紋結構。較佳地，基材之子層由紙、紙板、箱板及/或塑膠製成。
基材對溶劑、水或其混合物而言可滲透或不可滲透。根據一個具體實例，基材對水、溶劑或其混合物而言不可滲透。溶劑之實例為脂族醇、具有4至14個碳原子之醚及二醚、二醇、烷氧基化二醇、二醇醚、烷氧基化芳族醇、芳族醇、及其混合物，或其與水之混合物。
根據本發明，步驟a)所提供之基材包含含有可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物層的至少一種外表面。該至少一種外表面可為層壓物或塗層，包含可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物。該層壓物或塗層與基材表面直接接觸。在基材已包含一或多個預塗層及/或阻擋層的情形(其將在下文進一步更詳細描述)中，該層壓物或塗層可分別與頂部預塗層及/或阻擋層直接接觸。
根據一個具體實例，步驟a)的至少一種外表面以及基材係由相同材料製成。因此，根據本發明一個具體實例，基材包含可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物。至少一種外表面可僅為基材外表面或可為由相同材料製成作為基材的層壓物或塗層。
根據一個具體實例，可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物為鹼金 屬或鹼土金屬氧化物、鹼金屬或鹼土金屬氫氧化物、鹼金屬或鹼土金屬醇鹽、鹼金屬或鹼土金屬甲基碳酸鹽、鹼金屬或鹼土金屬羥基碳酸鹽、鹼金屬或鹼土金屬碳酸氫鹽、鹼金屬或鹼土金屬碳酸鹽或其混合物。較佳地，可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物為鹼金屬或鹼土金屬碳酸鹽。
鹼金屬或鹼土金屬碳酸鹽可選自碳酸鋰、碳酸鈉、碳酸鉀、碳酸鎂、碳酸鈣鎂、碳酸鈣或其混合物。根據一較佳具體實例，鹼金屬或鹼土金屬碳酸鹽為碳酸鈣，且鹼金屬或鹼土金屬碳酸鹽更佳為經研磨碳酸鈣、沉澱碳酸鈣及/或經表面處理之碳酸鈣。
研磨(或天然)碳酸鈣(GCC)應理解為自沉積岩(諸如石灰石或白堊)或自變質大理岩、蛋殼或海貝開採的天然存在形式之碳酸鈣。已知碳酸鈣以三種類型之晶體多晶型物形式存在：方解石、文石及六方方解石。方解石為最常見的晶體多晶型物，其被視為碳酸鈣之最穩定晶體形式。文石較為少見，其具有離散或叢集之針狀斜方晶晶體結構。六方方解石為最罕見的碳酸鈣多晶型物，且一般不穩定。研磨碳酸鈣幾乎僅為方解石多晶型物，方解石多晶型物據稱為三方菱面體且代表最穩定的碳酸鈣多晶型物。在本申請案之含義中，用語碳酸鈣「來源」指獲得碳酸鈣的天然存在之礦物質材料。碳酸鈣來源可包含其他天然存在之組分，諸如碳酸鎂、矽酸鋁等。
根據本發明一個具體實例，GCC係藉由乾式研磨而獲得。根據本發明另一個具體實例，GCC係藉由濕式研磨以及接著乾燥而獲得。
一般而言，可用任何習知研磨裝置例如在主要由與第二物體之撞擊產生粉碎的條件下進行研磨步驟，亦即於以下中之一或多者中進 行：球磨機、棒磨機、振動磨機、輥碎機、離心撞擊磨機、豎直砂磨機、磨粉機、針磨機、錘磨機、磨粉機、撕碎機、碎料機、刀切割機或此技藝習知之其他此類設備。在含有碳酸鈣之礦物材料包含經濕式研磨的含有碳酸鈣之礦物材料的情況下，可在使得發生自體研磨之條件下及/或藉由水平球磨研磨及/或此技藝習知之其他此類方法來進行研磨步驟。因此獲得的經濕式處理之含有經研磨碳酸鈣之礦物材料可藉由熟知方法洗滌及脫水，例如藉由在乾燥之前絮凝、離心、過濾或強制蒸發。乾燥之後續步驟可在單個步驟(諸如噴霧乾燥)或在至少兩個步驟中進行。亦常見此類礦物材料經受選礦步驟(諸如浮選、漂白或磁性分離步驟)以移除雜質。
根據本發明之一個具體實例，經研磨碳酸鈣選自由大理石、白堊、白雲石、石灰石及其混合物組成之群。
根據本發明一個具體實例，碳酸鈣包含一種研磨碳酸鈣。根據本發明另一個具體實例，碳酸鈣包含二或多種研磨選自不同來源的碳酸鈣混合物。
在本發明之含意中，「沉澱碳酸鈣」(PCC)為一般藉由在二氧化碳及石灰在水性環境中反應後沉澱、或藉由鈣及碳酸根離子來源在水中沉澱、或藉由自溶液中沉澱出例如來自CaCl2及Na2CO3之鈣離子及碳酸根離子而獲得的合成材料。進一步可能的製備PCC的方法為石灰鹼方法，或索耳末方法，其中PCC為製造氨的副產物。沉澱碳酸鈣以三種主要結晶形式存在：方解石、文石及六方方解石，且此等結晶形式各存在多種不同多晶型物(晶體慣態)。方解石具有典型晶體慣態之三方晶系結構，諸如偏三角面體(S-PCC)、菱面體(R-PCC)、六方柱、軸面、膠狀(C-PCC)、立方 體及柱狀(P-PCC)。文石為具有對生六方柱晶體之典型晶體慣態以及以下不同種別的斜方晶系結構：細長柱狀、彎曲葉片狀、陡錐狀、楔形晶體、分枝樹狀及珊瑚或蠕蟲狀形式。六方方解石屬於六方結晶系統。所得PCC漿料可以機械方式脫水以及乾燥。
根據本發明一個具體實例，碳酸鈣包含一種沉澱碳酸鈣。根據本發明另一個具體實例，碳酸鈣包含二或多種選自不同結晶性形式以及不同沉澱碳酸鈣多晶型物的沉澱碳酸鈣的混合物。例如，至少一個沉澱碳酸鈣可包含一種選自S-PCC的PCC以及一種選自R-PCC的PCC。
根據另一個具體實例，可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物可為經表面處理的材料例如經表面處理的碳酸鈣。
經表面處理之碳酸鈣可提供經研磨碳酸鈣、經改質碳酸鈣或表面上包含處理層或塗層之沉澱碳酸鈣。舉例而言，碳酸鈣可用諸如脂族羧酸、其鹽或酯、或矽氧烷之疏水劑處理或塗覆。適合脂族酸為例如C5至C28脂肪酸，諸如硬脂酸、棕櫚酸、肉豆蔻酸、月桂酸或其混合物。亦可用例如聚丙烯酸鹽或聚二烯丙基二甲基氯化銨(polyDADMAC)處理或塗覆碳酸鈣，使其變為陽離子或陰離子。經表面處理之碳酸鈣例如描述於EP 2 159 258 A1或WO 2005/121257 A1中。
根據一個具體實例，經表面處理之碳酸鈣包含用脂肪酸、其鹽、其酯或其組合處理獲得，較佳用脂族C5至C28脂肪酸、其鹽、其酯或其組合處理獲得，且更佳用硬脂酸銨、硬脂酸鈣、硬脂酸、棕櫚酸、肉豆蔻酸、十二酸或其混合物處理獲得之處理層或表面塗層。根據例示性具體實例，鹼金屬或鹼土金屬碳酸鹽為經表面處理之碳酸鈣，較佳包含用脂肪 酸，較佳硬脂酸處理獲得之包含處理層或表面塗層的經研磨碳酸鈣。
在一個具體實例中，疏水劑為碳原子總數為C4至C24之脂族羧酸及/或其反應產物。因此，碳酸鈣粒子的至少一部分可達表面區域由包含碳原子總數為C4至C24之脂族羧酸及/或其反應產物的處理層覆蓋。術語材料之「可接近」表面積指與液相水溶液、懸浮液、分散液或反應分子(諸如疏水劑)接觸的材料表面之部分。
本發明含義中，脂肪族羧酸的「反應產物」用語指的是使至少一種碳酸鈣與至少一種脂肪族羧酸接觸獲得的產物。該反應產物係在介於至少部分施用至少一種脂肪族羧酸與位於碳酸鈣粒子表面的活性分子之間形成。
脂肪族羧酸在本發明之意義可選自一或多種直鏈、分支鏈、飽和、不飽和及/或脂環羧酸。較佳者，脂肪族羧酸係單羧酸，亦即脂肪族羧酸之特徵為存在單一羧基。該羧基係位於碳骨架末端。
本發明一個具體實例中，脂肪族羧酸係選自飽和非分支鏈羧酸，換言之，脂肪族羧酸較佳係選自由戊酸、己酸、庚酸、辛酸、壬酸、癸酸、十一酸、月桂酸、十三酸、肉荳蔻酸、十五酸、棕櫚酸、十七酸、硬脂酸、十九烷酸、花生酸、二十一酸、山嵛酸、二十三酸、二十四酸以及其混合物組成之羧酸群組。
本發明另一個具體實例，脂肪族羧酸係選自由辛酸、癸酸、月桂酸、肉荳蔻酸、棕櫚酸、硬脂酸、花生酸以及其混合物組成之組群。較佳者，脂肪族羧酸係選自由脂族直鏈或支鏈羧酸選自肉荳蔻酸、棕櫚酸、硬脂酸以及其混合物組成之組群。例如，脂肪族羧酸係硬脂酸。
額外或可替代地，疏水劑可為至少一種單取代之丁二酸酐，其由經選自取代基中碳原子總量為C2至C30的直鏈、分支鏈、脂族及環基單取代之丁二酸酐組成。因此，碳酸鈣粒子之至少一部分可接近表面區域經包含至少一個經單取代之丁二酸酐(由經選自取代基中碳原子總量為C2至C30的直鏈、分支鏈、脂族及環基單取代之丁二酸酐組成)及/或其反應產物的處理層覆蓋。此技藝人士會理解，在至少一種單取代琥珀酸酐由經分支鏈及/或環基單取代之琥珀酸酐組成時，該基團取代基將具有碳原子總量C3至C30。
在本發明之含義中，經單取代之丁二酸酐的「反應產物」用語指藉由碳酸鈣與至少一種經單取代之丁二酸酐接觸獲得的產物。該等反應產物在所施加的至少一種經單取代之丁二酸酐的至少一部分與位於碳酸鈣粒子表面之反應分子之間形成。
例如，至少一種單取代琥珀酸酐由為取代基具有碳原子總量從C2至C30、較佳從C3至C20以及最佳從C4至C18的線性烷基或為取代基具有碳原子總量從C3至C30、較佳從C3至C20以及最佳從C4至C18的分支鏈烷基的一個基團單取代的琥珀酸酐組成。
例如，至少一種單取代琥珀酸酐由為取代基具有碳原子總量從C2至C30、較佳從C3至C20以及最佳從C4至C18的線性烷基的一個基團單取代的琥珀酸酐組成。額外的或可替代的，至少一種單取代琥珀酸酐由為取代基具有碳原子總量從C2至C30、較佳從C3至C20以及最佳從C4至C18的分支鏈烷基的一個基團單取代的琥珀酸酐組成。
本發明含義中，「烷基」用語意指線性或分支鏈、飽和的由 碳與氫構成的有機化合物。換言之，「烷基單取代琥珀酸酐」係由包含側鏈琥珀酸酐基的線性或分支鏈、飽和烴鏈構成。
本發明具體實例，至少一種單取代琥珀酸酐為至少一種線性或分支鏈烷基單取代琥珀酸酐。例如，至少一種烷基單取代琥珀酸酐係選自包括乙基琥珀酸酐、丙基琥珀酸酐、丁基琥珀酸酐、三異丁基琥珀酸酐、戊基琥珀酸酐、己基琥珀酸酐、庚基琥珀酸酐、辛基琥珀酸酐、壬基琥珀酸酐、癸基琥珀酸酐、十二烷基琥珀酸酐、十六烷基琥珀酸酐、十八烷基琥珀酸酐、以及其混合物的組群。
要理解諸如「丁基琥珀酸酐」用語包括線性以及分支鏈丁基琥珀酸酐。線性丁基琥珀酸酐的一個特定實例係n-丁基琥珀酸酐。分支鏈丁基琥珀酸酐的特定實施例係異-丁基琥珀酸酐、二級-丁基琥珀酸酐及/或三級-丁基琥珀酸酐。
此外，要理解諸如「十六烷基琥珀酸酐」用語包括線性以及分支鏈十六烷基琥珀酸酐。線性十六烷基琥珀酸酐的一個特定實例為n-十六烷基琥酸酐。分支鏈十六烷基琥珀酸酐的特定實例係14-甲基十五烷基琥珀酸酐、13-甲基十五烷基琥珀酸酐、12-甲基十五烷基琥珀酸酐、11-甲基十五烷基琥珀酸酐、10-甲基十五烷基琥珀酸酐、9-甲基十五烷基琥珀酸酐、8-甲基十五烷基琥珀酸酐、7-甲基十五烷基琥珀酸酐、6-甲基十五烷基琥珀酸酐、5-甲基十五烷基琥珀酸酐、4-甲基十五烷基琥珀酸酐、3-甲基十五烷基琥珀酸酐、2-甲基十五烷基琥珀酸酐、1-甲基十五烷基琥珀酸酐、13-乙基十四烷基琥珀酸酐、12-乙基十四烷基琥珀酸酐、11-乙基十四烷基琥珀酸酐、10-乙基十四烷基琥珀酸酐、9-乙基十四烷基琥珀酸酐、8-乙基十四烷基 琥珀酸酐、7-乙基十四烷基琥珀酸酐、6-乙基十四烷基琥珀酸酐、5-乙基十四烷基琥珀酸酐、4-乙基十四烷基琥珀酸酐、3-乙基十四烷基琥珀酸酐、2-乙基十四烷基琥珀酸酐、1-乙基十四烷基琥珀酸酐、2-丁基十二烷基琥珀酸酐、1-己基癸基琥珀酸酐、1-己基-2-癸基琥珀酸酐、2-己基癸基琥珀酸酐、6,12-二甲基十四烷基琥珀酸酐、2,2-二乙基十二烷琥珀酸酐、4,8,12-三甲基十三烷基琥珀酸酐、2,2,4,6,8-五甲基十一烷琥珀酸酐、2-乙基-4-甲基-2-(2-甲基戊基)-庚基琥珀酸酐及/或2-乙基-4,6-二甲基-2-丙基壬基琥珀酸酐。
此外，要理解諸如「十八烷基琥珀酸酐」用語包括線性以及分支鏈十八烷基琥珀酸酐。線性十八烷基琥珀酸酐的一個特定實例為n-十八烷基琥珀酸酐。分支鏈十六烷基琥珀酸酐的特定實例為16-甲基十七烷基琥珀酸酐、15-甲基十七烷基琥珀酸酐、14-甲基十七烷基琥珀酸酐、13-甲基十七烷基琥珀酸酐、12-甲基十七烷基琥珀酸酐、11-甲基十七烷基琥珀酸酐、10-甲基十七烷基琥珀酸酐、9-甲基十七烷基琥珀酸酐、8-甲基十七烷基琥珀酸酐、7-甲基十七烷基琥珀酸酐、6-甲基十七烷基琥珀酸酐、5-甲基十七烷基琥珀酸酐、4-甲基十七烷基琥珀酸酐、3-甲基十七烷基琥珀酸酐、2-甲基十七烷基琥珀酸酐、1-甲基十七烷基琥珀酸酐、14-乙基十六烷基琥珀酸酐、13-乙基十六烷基琥珀酸酐、12-乙基十六烷基琥珀酸酐、11-乙基十六烷基琥珀酸酐、10-乙基十六烷基琥珀酸酐、9-乙基十六烷基琥珀酸酐、8-乙基十六烷基琥珀酸酐、7-乙基十六烷基琥珀酸酐、6-乙基十六烷基琥珀酸酐、5-乙基十六烷基琥珀酸酐、4-乙基十六烷基琥珀酸酐、3-乙基十六烷基琥珀酸酐、2-乙基十六烷基琥珀酸酐、1-乙基十六烷基琥珀酸酐、2-己基十二烷基琥珀酸酐、2-庚基十一烷基琥珀酸酐、異-十八烷基琥珀酸酐及/或1- 辛基-2-癸基琥珀酸酐。
本發明一個具體實例，至少一種烷基單取代琥珀酸酐係選自包括丁基琥珀酸酐、己基琥珀酸酐、庚基琥珀酸酐、辛基琥珀酸酐、十六烷基琥珀酸酐、十八烷基琥珀酸酐、以及其混合物的組群。
本發明一個具體實例，至少一種單取代琥珀酸酐係一種烷基單取代琥珀酸酐。例如，一種烷基單取代琥珀酸酐係丁基琥珀酸酐。可替代的，一種烷基單取代琥珀酸酐係己基琥珀酸酐。可替代的，一種烷基單取代琥珀酸酐係庚基琥珀酸酐或辛基琥珀酸酐。可替代的，一種烷基單取代琥珀酸酐係十六烷基琥珀酸酐。例如，一種烷基單取代琥珀酸酐係線性十六烷基琥珀酸酐例如n-十六烷基琥珀酸酐或分支鏈十六烷基琥珀酸酐例如1-己基-2-癸基琥珀酸酐。可替代的，一種烷基單取代琥珀酸酐係十八烷基琥珀酸酐。例如，一種烷基單取代琥珀酸酐係線性十八烷基琥珀酸酐例如n-十八烷基琥珀酸酐或分支鏈十八烷基琥珀酸酐例如異-十八烷基琥珀酸酐或1-辛基-2-癸基琥珀酸酐。
本發明一個具體實例，一種烷基單取代琥珀酸酐係丁基琥珀酸酐例如n-丁基琥珀酸酐。
本發明一個具體實例，至少一種單取代琥珀酸酐係二或多種烷基單取代琥珀酸酐的混合物。例如，至少一種單取代琥珀酸酐係二或三種烷基單取代琥珀酸酐的混合物。
在本發明之一個具體實例中，至少一種經單取代之丁二酸酐由經一個基團單取代之丁二酸酐組成，該基團為取代基中碳原子總量為C2至C30，較佳C3至C20且最佳C4至C18之直鏈烯基或取代基中碳原子總 量為C3至C30，較佳C4至C20且最佳C4至C18之分支鏈烯基。
本發明含義中，「烯基」用語意指由碳與氫構成的線性或分支鏈、不飽和有機化合物。該有機化合物進一步包含取代基中至少一個雙鍵、較佳一個雙鍵。換言之，「烯基單取代琥珀酸酐」係由線性或分支鏈、不飽和烴鏈包含側鏈琥珀酸酐基構成。應理解，本發明含義中，「烯基」用語包含順式及反式異構物。
本發明一個具體實例，至少一種單取代琥珀酸酐係至少一種線性或分支鏈烯基單取代琥珀酸酐。例如，至少一種烯基單取代琥珀酸酐係選自包括乙烯基琥珀酸酐、丙烯基琥珀酸酐、丁烯基琥珀酸酐、三異丁烯基琥珀酸酐、戊烯基琥珀酸酐、己烯基琥珀酸酐、庚烯基琥珀酸酐、辛烯基琥珀酸酐、壬烯基琥珀酸酐、癸烯基琥珀酸酐、十二烯基琥珀酸酐、十六烯基琥珀酸酐、十八烯基琥珀酸酐、以及其混合物。
據上所述，要理解諸如「十六烯基琥珀酸酐」用語包括線性及分支鏈十六烯基琥珀酸酐。線性十六烯基琥珀酸酐的一個特定實例係n-十六烯基琥珀酸酐例如14-十六烯基琥珀酸酐、13-十六烯基琥珀酸酐、12-十六烯基琥珀酸酐、11-十六烯基琥珀酸酐、10-十六烯基琥珀酸酐、9-十六烯基琥珀酸酐、8-十六烯基琥珀酸酐、7-十六烯基琥珀酸酐、6-十六烯基琥珀酸酐、5-十六烯基琥珀酸酐、4-十六烯基琥珀酸酐、3-十六烯基琥珀酸酐及/或2-十六烯基琥珀酸酐。分支鏈十六烯基琥珀酸酐的特定實例係14-甲基-9-十五烯基琥珀酸酐、14-甲基-2-十五烯基琥珀酸酐、1-己基-2-癸烯基琥珀酸酐及/或異-十六烯基琥珀酸酐。
此外，要理解諸如「十八烯基琥珀酸酐」用語包括線性及分 支鏈十八烯基琥珀酸酐。線性十八烯基琥珀酸酐的一個特定實例係n-十八烯基琥珀酸酐例如16-十八烯基琥珀酸酐、15-十八烯基琥珀酸酐、14-十八烯基琥珀酸酐、13-十八烯基琥珀酸酐、12-十八烯基琥珀酸酐、11-十八烯基琥珀酸酐、10-十八烯基琥珀酸酐、9-十八烯基琥珀酸酐、8-十八烯基琥珀酸酐、7-十八烯基琥珀酸酐、6-十八烯基琥珀酸酐、5-十八烯基琥珀酸酐、4-十八烯基琥珀酸酐、3-十八烯基琥珀酸酐及/或2-十八烯基琥珀酸酐。分支鏈十八烯基琥珀酸酐的特定實例係16-甲基-9-十七烯基琥珀酸酐、16-甲基-7-十七烯基琥珀酸酐、1-辛基-2-癸烯基琥珀酸酐及/或異-十八烯基琥珀酸酐。
本發明一個具體實例，至少一種烯基單取代琥珀酸酐係選自包括己烯基琥珀酸酐、辛烯基琥珀酸酐、十六烯基琥珀酸酐、十八烯基琥珀酸酐、以及其混合物的組群。
本發明一個具體實例，至少一種單取代琥珀酸酐係一個烯基單取代琥珀酸酐。例如，一種烯基單取代琥珀酸酐係己烯基琥珀酸酐。可替代的，一種烯基單取代琥珀酸酐係辛烯基琥珀酸酐。可替代的，一種烯基單取代琥珀酸酐係十六烯基琥珀酸酐。例如，一種烯基單取代琥珀酸酐係線性十六烯基琥珀酸酐例如n-十六烯基琥珀酸酐或分支鏈十六烯基琥珀酸酐例如1-己基-2-癸烯基琥珀酸酐。可替代的，一種烯基單取代琥珀酸酐係十八烯基琥珀酸酐。例如，一種烷基單取代琥珀酸酐係線性十八烯基琥珀酸酐例如n-十八烯基琥珀酸酐或分支鏈十八烯基琥珀酸酐例如異-十八烯基琥珀酸酐、或1-辛基-2-癸烯基琥珀酸酐。
本發明一個具體實例，一種烯基單取代琥珀酸酐係線性十八烯基琥珀酸酐例如n-十八烯基琥珀酸酐。本發明一個具體實例，一種烯基 單取代琥珀酸酐係線性辛烯基琥珀酸酐例如n-辛烯基琥珀酸酐。
如果至少一種單取代琥珀酸酐係一種烯基單取代琥珀酸酐，應理解一種烯基單取代琥珀酸酐係以至少一種單取代琥珀酸酐總重量計95wt.%以及較佳96.5wt.%的量存在。
本發明一個具體實例，至少一種單取代琥珀酸酐係二或多種烯基單取代琥珀酸酐的混合物。例如，至少一種單取代琥珀酸酐係二或三種烯基單取代琥珀酸酐的混合物。
本發明一個具體實例，至少一種單取代琥珀酸酐係二或多種烯基單取代琥珀酸酐的混合物，其包括線性十六烯基琥珀酸酐以及線性十八烯基琥珀酸酐。可替代的，至少一種單取代琥珀酸酐係二或多種烯基單取代琥珀酸酐的混合物，其包括分支鏈十六烯基琥珀酸酐以及分支鏈十八烯基琥珀酸酐。例如，一或多種十六烯基琥珀酸酐係線性十六烯基琥珀酸酐諸如n-十六烯基琥珀酸酐及/或分支鏈十六烯基琥珀酸酐諸如1-己基-2-癸烯基琥珀酸酐。額外的或可替代的，一或多種十八烯基琥珀酸酐係線性十八烯基琥珀酸酐諸如n-十八烯基琥珀酸酐及/或分支鏈十八烯基琥珀酸酐諸如異-十八烯基琥珀酸酐及/或1-辛基-2-癸烯基琥珀酸酐。
亦能理解，至少一種單取代琥珀酸酐可為至少一種烷基單取代琥珀酸酐以及至少一種烯基單取代琥珀酸酐的混合物。
如果至少一種單取代琥珀酸酐係至少一種烷基單取代琥珀酸酐以及至少一種烯基單取代琥珀酸酐的混合物，應理解至少一種烷基單取代琥珀酸酐的烷基取代基以及至少一種烯基單取代琥珀酸酐的烯基取代基較佳係相同。例如，至少一種單取代琥珀酸酐係乙基琥珀酸酐以及乙烯 基琥珀酸酐的混合物。可替代的，至少一種單取代琥珀酸酐係丙基琥珀酸酐以及丙烯基琥珀酸酐的混合物。可替代的，至少一種單取代琥珀酸酐係丁基琥珀酸酐以及丁烯基琥珀酸酐的混合物。可替代的，至少一種單取代琥珀酸酐係三異丁基琥珀酸酐以及三異丁烯基琥珀酸酐的混合物。可替代的，至少一種單取代琥珀酸酐係戊基琥珀酸酐以及戊烯基琥珀酸酐的混合物。可替代的，至少一種單取代琥珀酸酐係己基琥珀酸酐以及己烯基琥珀酸酐的混合物。可替代的，至少一種單取代琥珀酸酐係庚基琥珀酸酐以及庚烯基琥珀酸酐的混合物。可替代的，至少一種單取代琥珀酸酐係辛基琥珀酸酐以及辛烯基琥珀酸酐的混合物。可替代的，至少一種單取代琥珀酸酐係壬基琥珀酸酐以及壬烯基琥珀酸酐的混合物。可替代的，至少一種單取代琥珀酸酐係癸基琥珀酸酐以及癸烯基琥珀酸酐的混合物。可替代的，至少一種單取代琥珀酸酐係十二烷基琥珀酸酐以及十二烯基琥珀酸酐的混合物。可替代的，至少一種單取代琥珀酸酐係十六烷基琥珀酸酐以及十六烯基琥珀酸酐的混合物。例如，至少一種單取代琥珀酸酐係線性十六烷基琥珀酸酐以及線性十六烯基琥珀酸酐的混合物或分支鏈十六烷基琥珀酸酐以及分支鏈十六烯基琥珀酸酐的混合物。可替代的，至少一種單取代琥珀酸酐係十八烷基琥珀酸酐以及十八烯基琥珀酸酐的混合物。例如，至少一種單取代琥珀酸酐係線性十八烷基琥珀酸酐以及線性十八烯基琥珀酸酐的混合物或分支鏈十八烷基琥珀酸酐以及分支鏈十八烯基琥珀酸酐的混合物。
本發明一個具體實例，至少一種單取代琥珀酸酐係壬基琥珀酸酐以及壬烯基琥珀酸酐的混合物。
如果至少一種單取代琥珀酸酐係至少一種烷基單取代琥珀酸酐以及至少一種烯基單取代琥珀酸酐的混合物，至少一種烷基單取代琥珀酸酐與至少一種烯基單取代琥珀酸酐之間的重量比例係介於90：10以及10：90(wt.%/wt.%)之間。例如，至少一種烷基單取代琥珀酸酐以及至少一種烯基單取代琥珀酸酐之間的重量比例係介於70：30以及30：70(wt.%/wt.%)之間或介於60：40以及40：60之間。
額外或可替代地，疏水劑可為磷酸酯摻合物。因此，碳酸鈣粒子之至少一部分可接近表面區域經包含一或多種磷酸單酯及/或其反應產物與一或多種磷酸二酯及/或其反應產物之磷酸酯摻合物的處理層覆蓋。
本發明含義中，膦酸單酯與一或多種膦酸二酯的「反應產物」用語指的是使碳酸鈣與至少一種膦酸酯摻混物接觸獲得的產物。該反應產物係在介於至少部分施用膦酸酯摻混物與位於碳酸鈣粒子表面的活性分子之間形成。
本發明含義中，「膦酸單酯」用語指的是經選自醇取代基具有碳原子總數從C6至C30、較佳從C8至C22、更佳從C8至C20以及最佳從C8至C18的不飽和或飽和、分支鏈或直鏈、脂肪族或芳香醇的一種醇分子單酯化的鄰-膦酸分子。
本發明含義中，「膦酸二酯」用語指的是經選自醇取代基具有碳原子總數從C6至C30、較佳從C8至C22、更佳從C8至C20以及最佳從C8至C18的相同或不同、不飽和或飽和、分支鏈或直鏈、脂肪族或芳香醇的二種醇分子二酯化的鄰-膦酸分子。
要理解的是，「一或多種」膦酸單酯用語意謂一或多種膦酸 單酯可存在於膦酸酯摻混物。
據上所述，應留意一或多種膦酸單酯可為一種膦酸單酯。可替代的，一或多種膦酸單酯可為二或多種膦酸單酯的混合物。例如，一或多種膦酸單酯可為二或三種膦酸單酯的混合物，如二種膦酸單酯。
本發明一個具體實例，一或多種膦酸單酯由經選自醇取代基具有碳原子總數從C6至C30的不飽和或飽和、分支鏈或直鏈、脂肪族或芳香醇的一種醇酯化的鄰-膦酸分子組成。例如，一或多種膦酸單酯由經選自醇取代基具有碳原子總數從C8至C22、更佳從C8至C20以及最佳從C8至C18的不飽和或飽和、分支鏈或直鏈、脂肪族或芳香醇的一種醇酯化的鄰-膦酸分子組成。
本發明一個具體實例，一或多種膦酸單酯係選自包含己基膦酸單酯、庚基膦酸單酯、辛基膦酸單酯、2-乙基己基膦酸單酯、壬基膦酸單酯、癸基膦酸單酯、十一烷基膦酸單酯、十二烷基膦酸單酯、十四烷基膦酸單酯、十六烷基膦酸單酯、庚基癸基膦酸單酯、十八烷基膦酸單酯、2-辛基-1-癸基膦酸單酯、2-辛基-1-十二烷基膦酸單酯以及其混合物之群組。
例如，一或多種膦酸單酯係選自包含2-乙基己基膦酸單酯、十六烷基膦酸單酯、庚基癸基膦酸單酯、十八烷基膦酸單酯、2-辛基-1-癸基膦酸單酯、2-辛基-1-十二烷基膦酸單酯以及其混合物。本發明一個具體實例，一或多種膦酸單酯為2-辛基-1-十二烷基膦酸單酯之群組。
要理解的是，「一或多種」膦酸二酯用語意謂一或多種膦酸二酯可存在於碳酸鈣及/或膦酸酯摻混物的塗覆層。
據上所述，應留意一或多種膦酸二酯可為一種膦酸二酯。可 替代的，一或多種膦酸二酯可為二或多種膦酸二酯的混合物。例如，一或多種膦酸二酯可為二或三種膦酸二酯的混合物，如二種膦酸二酯。
本發明一個具體實例，一或多種膦酸二酯由經選自醇取代基具有碳原子總數從C6至C30的不飽和或飽和、分支鏈或直鏈、脂肪族或芳香醇的二種醇酯化的鄰-膦酸分子組成。例如，一或多種膦酸二酯由選自醇取代基具有碳原子總數從C8至C22、更佳從C8至C20以及最佳從C8至C18的不飽和或飽和、分支鏈或直鏈、脂肪族或芳香醇的二種脂肪族醇酯化的鄰-膦酸分子組成。
要理解的是，用於酯化膦酸的二種醇可獨立地選自醇取代基具有碳原子總數從C6至C30的相同或不同、不飽和或飽和、分支鏈或直鏈、脂肪族或芳香醇。換言之，一或多種膦酸二酯可包含衍生自相同醇的二個取代基或膦酸二酯分子可包含衍生自不同醇的二個取代基。
本發明一個具體實例，一或多種膦酸二酯由經選自醇取代基具有碳原子總數從C6至C30、較佳從C8至C22、更佳從C8至C20以及最佳從C8至C18的相同或不同、飽和與直鏈以及脂肪族醇的二種醇酯化的鄰-膦酸分子組成。可替代的，一或多種膦酸二酯由經選自醇取代基具有碳原子總數從C6至C30、較佳從C8至C22、更佳從C8至C20以及最佳從C8至C18的相同或不同、飽和與分支鏈以及脂肪族醇的二種醇酯化的鄰-膦酸分子組成。
本發明一個具體實例，一或多種膦酸二酯係選自包含己基膦酸二酯、庚基膦酸二酯、辛基膦酸二酯、2-乙基己基膦酸二酯、壬基膦酸二酯、癸基膦酸二酯、十一烷基膦酸二酯、十二烷基膦酸二酯、十四烷基膦 酸二酯、十六烷基膦酸二酯、庚基癸基膦酸二酯、十八烷基膦酸二酯、2-辛基-1-癸基膦酸二酯、2-辛基-1-十二烷基膦酸二酯以及其混合物之組群。
例如，一或多種膦酸二酯係選自包含2-乙基己基膦酸二酯、十六烷基膦酸二酯、庚基癸基膦酸二酯、十八烷基膦酸二酯、2-辛基-1-癸基膦酸二酯、2-辛基-1-十二烷基膦酸二酯以及其混合物之組群。本發明一個具體實例，一或多種膦酸二酯係2-辛基-1-十二烷基膦酸二酯。
本發明一個具體實例，一或多種膦酸單酯係選自包含2-乙基己基膦酸單酯、十六烷基膦酸單酯、庚基癸基膦酸單酯、十八烷基膦酸單酯、2-辛基-1-癸基膦酸單酯、2-辛基-1-十二烷基膦酸單酯以及其混合物之組群，以及一或多種膦酸二酯係選自包含2-乙基己基膦酸二酯、十六烷基膦酸二酯、庚基癸基膦酸二酯、十八烷基膦酸二酯、2-辛基-1-癸基膦酸二酯、2-辛基-1-十二烷基膦酸二酯以及其混合物之組群。
例如，碳酸鈣至少部分可接近表面積包含一種膦酸單酯及/或其反應產物以及一種膦酸二酯及/或其反應產物的膦酸酯摻混物。在此情況下，一種膦酸單酯係選自包含2-乙基己基膦酸單酯、十六烷基膦酸單酯、庚基癸基膦酸單酯、十八烷基膦酸單酯、2-辛基-1-癸基膦酸單酯以及2-辛基-1-十二烷基膦酸單酯之組群，一種膦酸二酯係選自包含2-乙基己基膦酸二酯、十六烷基膦酸二酯、庚基壬基膦酸二酯、十八烷基膦酸二酯、2-辛基-1-癸基膦酸二酯以及2-辛基-1-十二烷基膦酸二酯之組群。
膦酸酯摻混物包含呈特定莫耳比值的一或多種膦酸單酯及/或其反應產物比一或多種膦酸二酯及/或其反應產物。特別的，處理層及/或膦酸酯摻混物中一或多種膦酸單酯及/或其反應產物與一或多種膦酸二酯及 /或其反應產物的莫耳比值係從1：1至1：100、較佳從1：1.1至1：60、更佳從1：1.1至1：40、又更佳從1：1.1至1：20以及最佳從1：1.1至1：10。
本發明含義中，「一或多種膦酸單酯以及其反應產物比一或多種膦酸二酯以及其反應產物的莫耳比值」用語指的是膦酸單酯分子的分子量總數及/或其反應產物的膦酸單酯分子的分子量總數比膦酸二酯分子的分子量總數及/或其反應產物的膦酸二酯分子的分子量總數。
本發明一個具體實例，塗覆在至少部分碳酸鈣表面的磷酸酯摻合物可進一步包含一或多種磷酸三酯及/或磷酸與其反應產物。
本發明含義中，「膦酸三酯」用語指的是經選自醇取代基具有碳原子總數從C6至C30、較佳從C8至C22、更佳從C8至C20及最佳從C8至C18的相同或不同、不飽和或飽和、分支鏈或線性、脂肪族或芳香醇的三種醇分子三酯化的鄰-膦酸分子。
應理解的是，「一或多種」膦酸三酯用語意謂一或多種膦酸三酯可存在於碳酸鈣至少部分可接近表面積上。
據上所述，應留意一或多種膦酸三酯可為一種膦酸三酯。可替代的，一或多種膦酸三酯可為二或多種膦酸三酯混合物。例如，一或多種膦酸三酯可為二或三種膦酸三酯的混合物，如二種膦酸三酯的混合物。
根據本發明之較佳具體實例，在方法步驟a)中提供基材，其中基材包含至少一種外表面，其包含碳酸鈣，較佳經研磨碳酸鈣、沉澱碳酸鈣及/或經表面處理之碳酸鈣的塗層。根據進一步較佳具體實例，至少一種外表面為包含碳酸鈣、較佳研磨碳酸鈣、沉澱碳酸鈣及/或經表面處理的碳酸鈣的塗覆層。
根據一個具體實例，可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物呈粒子形式，重量中值粒徑d50為15nm至200μm，較佳20nm至100μm，更佳50nm至50μm，且最佳100nm至2μm。
根據一個具體實例，可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物之比表面積(BET)為4至120cm2/g，較佳8至50cm2/g，使用氮氣以及根據ISO 9277 BET方法量測。
至少一種外表面中可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物之量可在以塗層之總重量計40至99wt%，較佳45至98wt%，且更佳60至97wt%範圍內。
根據一個具體實例，至少一種外表面另外包含較佳以可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物之總重量計1至50wt%，較佳3至30wt%，且更佳5至15wt%之量的黏合劑。
任何適合聚合黏合劑可存在於至少一種外表面內。舉例而言，聚合黏合劑可為親水性聚合物，諸如聚乙烯醇、聚乙烯吡咯啶酮、明膠、纖維素醚、聚唑啉、聚乙烯基乙醯胺、部分水解之聚乙酸乙烯酯/乙烯醇、聚丙烯酸、聚丙烯醯胺、聚烷醚、磺化或磷酸化聚酯及聚苯乙烯、酪蛋白、玉米蛋白、白蛋白、幾丁質、聚葡萄胺糖、聚葡萄糖、果膠、膠原蛋白衍生物、火棉膠、瓊脂-瓊脂、竹芋粉、瓜爾豆、角叉菜膠、澱粉、黃蓍、三仙膠或鼠李聚糖(rhamsan)及其混合物。亦可使用其他黏合劑，諸如疏水性材料，例如聚(苯乙烯-共-丁二烯)、聚胺基甲酸酯乳膠、聚酯乳膠、聚(丙烯酸正丁酯)、聚(甲基丙烯酸正丁酯)、聚(丙烯酸2-乙基己酯)、正丙烯酸丁酯及丙烯酸乙酯之共聚物、乙酸乙烯酯及丙烯酸正丁酯之共聚 物及其類似物及其混合物。適合黏合劑之其他實例為丙烯酸及/或甲基丙烯酸之均聚物或共聚物；伊康酸；及酸酯，諸如丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯；苯乙烯；未經取代或經取代之氯乙烯；乙酸乙烯酯；乙烯；丁二烯；丙烯醯胺及丙烯腈；聚矽氧樹脂；水可稀釋的醇酸樹脂；丙烯酸/醇酸樹脂組合；天然油，諸如亞麻籽油；及其混合物。
根據一個具體實例，黏合劑係選自澱粉、聚乙烯醇、苯乙烯-丁二烯乳膠、苯乙烯-丙烯酸酯、聚乙酸乙烯酯乳膠、聚烯烴、丙烯酸乙烯酯、微纖維化纖維素、微晶纖維素、奈米纖維素、纖維素、羧基甲基纖維素、生物類乳膠或其混合物。
根據另一個具體實例，至少一種外表面不包含黏合劑。
外表面中可存在之其他任選添加劑為例如分散劑、研磨助劑、界面活性劑、流變改質劑、潤滑劑、消泡劑、光學增亮劑、染料、防腐劑或pH值控制劑。根據一個具體實例，至少一種外表面進一步包含流變改質劑。流變改質劑較佳以填充劑之總重量計小於1wt%之量存在。
根據例示性具體實例，可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物用分散劑分散。分散劑可以可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物之總重量計0.01至10wt%，0.05至8wt%，0.5至5wt%，0.8至3wt%或1.0至1.5wt%之量使用。在一較佳具體實例中，可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物用以可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物之總重量計0.05至5wt%之量，且較佳0.5至5wt%之量的分散劑分散。適合分散劑較佳選自包含以下之群：基於例如丙烯酸、甲基丙烯酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸或伊康酸及丙烯醯胺或其混合物之聚羧酸鹽之均聚物或共聚物。丙烯酸之均聚物或共聚物尤其較佳。 此類產物之分子量Mw較佳在2000g/mol至15000g/mol範圍內，其中3000g/mol至7000g/mol之分子量尤其較佳。此類產物之分子量Mw亦較佳在2000至150000g/mol範圍內，且15000至50000g/mol之Mw尤其較佳，例如35000至45000g/mol。根據例示性具體實例，分散劑為聚丙烯酸酯。
至少一種外表面亦可包含活性劑(例如生物活性分子)作為添加劑，例如酶類、對pH值或溫度改變敏感之色度指示劑、螢光材料。
該至少外表面(較佳為層壓物或塗層形式)可具有至少1μm，例如至少5μm、10μm、15μm或20μm之厚度。該外表面較佳具有1μm至150μm範圍內的厚度。
根據一個具體實例，基材包含第一側及相對側，且基材在第一側及相對側上包含具有可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物之外表面。根據一較佳具體實例，基材包含第一側及相對側，且基材在第一側及相對側上包含具有鹼金屬或鹼土金屬碳酸鹽，較佳碳酸鈣之層壓物或塗層。
根據一個具體實例，層壓物或塗層與基材表面直接接觸。
根據另一具體實例，基材在基材與包含可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物的至少一種外表面之間包含一或多個額外預塗層。此類額外預塗層可包含高嶺土、二氧化矽、滑石、塑膠、沉澱碳酸鈣、改質碳酸鈣、經研磨碳酸鈣或其混合物。在此情形下，塗層可與預塗層直接接觸，或若存在一個以上層，則塗層可與頂部預塗層直接接觸。
根據本發明之另一具體實例，基材在基材與包含可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物的至少一種外表面之間包含一或多個阻擋層。在此情形下，至少一種外表面可與阻擋層直接接觸，或若存在一個以上阻擋 層，則至少一種外表面可與頂部阻擋層直接接觸。阻擋層可包含聚合物，例如聚乙烯醇、聚乙烯吡咯啶酮、明膠、纖維素醚、聚唑啉、聚乙烯基乙醯胺、部分水解之聚乙酸乙烯酯/乙烯醇、聚丙烯酸、聚丙烯醯胺、聚烷醚、磺化或磷酸化聚酯及聚苯乙烯、酪蛋白、玉米蛋白、白蛋白、幾丁質、聚葡萄胺糖、聚葡萄糖、果膠、膠原蛋白衍生物、火棉膠、瓊脂-瓊脂、竹芋粉、瓜爾豆、角叉菜膠、澱粉、黃蓍、三仙膠、鼠李聚糖、聚(苯乙烯-共-丁二烯)、聚胺基甲酸酯乳膠、聚酯乳膠、聚(丙烯酸正丁酯)、聚(甲基丙烯酸正丁酯)、聚(丙烯酸2-乙基己酯)、丙烯酸正丁酯與丙烯酸乙酯之共聚物、乙酸乙烯酯與丙烯酸正丁酯之共聚物及其類似物及其混合物。適合阻擋層之其他實例為丙烯酸及/或甲基丙烯酸之均聚物或共聚物；伊康酸；及酸酯，諸如丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯；苯乙烯；未經取代或經取代之氯乙烯；乙酸乙烯酯；乙烯；丁二烯；丙烯醯胺及丙烯腈；聚矽氧樹脂；水可稀釋的醇酸樹脂；丙烯酸/醇酸樹脂組合；天然油，諸如亞麻籽油；及其混合物。根據一個具體實例，阻擋層包含乳膠、聚烯烴、聚乙烯醇、高嶺土、滑石、用於產生曲折結構(堆疊結構)之雲母及其混合物。
根據本發明之另一個具體實例，基材在基材與包含可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物之至少一種外表面之間包含一或多個預塗層及阻擋層。在此情形下，至少一種外表面可分別與頂部預塗層或阻擋層直接接觸。
根據本發明之一個具體實例，步驟a)之基材藉由以下製備i)提供基材，ii)在基材之至少一側上施加包含可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物之塗 覆組成物以形成塗層，及iii)視情況乾燥塗層。
塗覆組成物可呈液體或乾燥形式。根據一個具體實例，塗覆組成物為乾燥塗覆組成物。根據另一具體實例，塗覆組成物為液體塗覆組成物。在此情形下，塗層可經乾燥。
根據本發明之一個具體實例，塗覆組成物為含水組成物，亦即含有水作為僅有溶劑之組成物。根據另一個具體實例，塗覆組成物為非水性組成物。適合溶劑為此技藝習知，且為例如脂族醇、具有4至14個碳原子之醚及二醚、二醇、烷氧基化二醇、二醇醚、烷氧基化芳族醇、芳族醇、其混合物或其與水之混合物。
根據本發明之一個具體實例，塗覆組成物之固體含量在以組成物之總重量計5wt%至75wt%，較佳20至67wt%，更佳30至65wt%，且最佳50至62wt%範圍內。根據一較佳具體實例，塗覆組成物為固體含量在以組成物之總重量計5wt%至75wt%，較佳20至67wt%，更佳30至65wt%，且最佳50至62wt%範圍內之水性組成物。
根據本發明之一個具體實例，塗覆組成物之布氏黏度為20℃下10至4000mPa．s，較佳20℃下100至3500mPa．s，更佳20℃下200至3000mPa．s，且最佳20℃下250至2000mPa．s。
根據一個具體實例，亦在基材之相對側上進行方法步驟ii)及iii)以製造在第一側及相對側上塗覆之基材。可對於各側分別進行或可在第一側及相對側上同時進行此等步驟。
根據本發明之一個具體實例，可使用不同或相同塗覆組成 物進行方法步驟ii)及iii)兩次或兩次以上。
根據本發明之一個具體實例，在方法步驟ii)之前在基材的至少一側上施加一或多種額外塗覆組成物。額外塗覆組成物可為預塗組成物及/或阻擋層組成物。
可藉由通常用於此技術中之習知塗覆方法將塗覆組成物施加至基材上。適合塗覆方法為例如氣刀塗覆、靜電塗覆、計量施膠壓製、薄膜塗覆、噴塗、繞線棒塗覆、狹縫塗覆、滑鬥塗覆、凹版列印、簾幕式塗覆、高速塗覆及其類似方法。此等方法中之一些允許同時塗覆兩個或兩個以上層，其自製造經濟視角為較佳的。然而，亦可使用將適於在基材上形成塗層之任何其他塗覆方法。根據一例示性具體實例，藉由高速塗覆、計量施膠壓製、簾幕式塗覆、噴塗、柔版及凹版列印或刮塗，較佳簾幕式塗覆施加塗覆組成物。
根據步驟iii)，將基材上形成之塗層乾燥。可藉由此項技術中已知之任何方法進行乾燥，且熟練技術人員將根據其方法設備調適諸如溫度之乾燥條件。舉例而言，可藉由紅外乾燥及/或對流乾燥乾燥塗層。可在室溫(亦即20℃±2℃之溫度)下或在其他溫度下進行乾燥步驟。根據一個具體實例，在25至150℃，較佳50至140℃，且更佳75至130℃之基材表面溫度下進行方法步驟iii)。可以相同方式乾燥視情況施加之預塗層及/或阻擋層。
塗覆後，塗覆之基材可進行壓延或超壓延以提高表面光滑度。舉例而言，可在20℃至200℃，較佳60℃至100℃溫度下使用例如具有2至12個夾之壓延機進行壓延。該等夾可為硬的或軟的，硬夾例如可由陶 瓷材料製成。根據一個例示性具體實例，在300kN/m下對塗覆之基材進行壓延以獲得光滑塗層。根據另一例示性具體實例，在120kN/m下對塗覆之基材進行壓延以獲得無光澤塗層。
根據一個具體實例，塗覆層具有0.5至100g/m2、較佳1至75g/m2、更佳2至50g/m2、以及最佳4至25g/m2的塗覆重量。
方法步驟b)
根據本發明方法的步驟b)，提供包含至少一種酸的液體處理組成物。
液體處理組成物可包含任何無機酸或有機酸，該至少一種酸在與可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物反應時形成CO2。根據一個具體實例，酸為有機酸，較佳一元羧酸、二羧基或三羧酸。
根據一個具體實例，該至少一種酸為在20℃下具有0或0以下之pKa之強酸。根據另一具體實例，至少一種酸為在20℃下具有0至2.5之pKa值的中等強酸。若20℃下之pKa值為0或0以下，則該酸較佳選自硫酸、鹽酸或其混合物。若20℃下之pKa值為0至2.5，則該酸較佳選自H2SO3、H3PO4、乙二酸或其混合物。然而，亦可使用pKa值超過2.5之酸，例如辛二酸、丁二酸、乙酸、檸檬酸、甲酸、胺基磺酸、酒石酸、苯甲酸或植酸。
根據本發明之一個具體實例，至少一種酸係選自由以下組成之群：鹽酸、硫酸、亞硫酸、磷酸、檸檬酸、草酸、乙酸、甲酸、胺基磺酸、酒石酸、植酸、硼酸、琥珀酸、辛二酸、苯甲酸、己二酸、庚二酸、壬二酸、癸二酸、異檸檬酸、烏頭酸、丙烷-1,2,3-三羧酸、苯均三 酸、乙醇酸、乳酸、扁桃酸、酸性有機硫化合物、酸性有機磷化合物、以及其混合物。根據較佳具體實例，至少一種酸選自由以下組成之群：鹽酸、硫酸、亞硫酸、磷酸、草酸、硼酸、辛二酸、琥珀酸、胺基磺酸、酒石酸或其混合物，至少一種酸更佳選自由以下組成之群：硫酸、磷酸、硼酸、辛二酸、胺基磺酸、酒石酸、或其混合物，且至少一種酸最佳為磷酸及/或硫酸。
酸性有機硫化合物可選自磺酸例如Nafion、p-甲苯磺酸、甲磺酸、硫代羧酸、亞磺酸及/或次磺酸。酸性有機磷化合物的實例為胺基甲基膦酸、1-羥基亞乙基-1,1-二膦酸(HEDP)、胺基-三(亞甲基膦酸)(ATMP)、乙二胺四(亞甲基膦酸)(EDTMP)、四亞甲基二胺四(亞甲基膦酸)(TDTMP)、六亞甲基二胺四(亞甲基膦酸)(HDTMP)、二乙三胺五(亞甲基膦酸)(DTPMP)、膦丁烷-三羧酸(PBTC)、N-(膦甲基)亞胺基二乙酸(PMIDA)、2-羧乙基膦酸(CEPA)、2-羥基膦羧酸(HPAA)、胺基-三-(亞甲基膦酸)(AMP)、或二-(2-乙基己基)膦酸。
至少一種酸可由僅一種酸組成。或者，至少一種酸可由兩種或兩種以上之酸組成。
至少一種酸可以濃縮形式或稀釋形式施加。根據本發明之一個具體實例，液體處理組成物包含至少一種酸及水。根據本發明之另一具體實例，液體處理組成物包含酸及溶劑。根據本發明之另一具體實例，液體處理組成物包含酸、水及溶劑。適合溶劑為此項技術中已知，且為例如脂族醇、具有4至14個碳原子之醚及二醚、二醇、烷氧基化二醇、二醇醚、烷氧基化芳族醇、芳族醇、其混合物或其與水之混合物。根據一個例 示性具體實例，液體塗覆組成物包含磷酸、乙醇、及水，液體處理組成物較佳包含以液體處理組成物總重量計30至50wt.-%膦酸、10至30wt.-%乙醇、以及25至25wt.%水。根據另一個具體實例，液體處理組成物包含硫酸、乙醇、以及水液體處理組成物，較佳包含以液體處理組成物總重量計1至10wt.-%硫酸、10至30wt.%乙醇、以及70至90wt.%水。
根據一個具體實例，液體處理組成物包含以液體組成物之總重量計0.1至100wt%之量，較佳1至80wt%之量，更佳地2至50wt%之量，且最佳5至30wt%之量的至少一種酸。
除了至少一種酸之外，液體處理組成物可進一步包含螢光染料、磷光染料、紫外線吸收染料、近紅外線吸收染料、熱致變色染料、加酸變色染料、金屬離子、過渡金屬離子、磁性粒子、或其混合物。此種額外化合物賦予製造隱藏圖案額外特徵例如特定吸光性質、電磁輻射反射性質、螢光性質、磷光性質、磁力性質、導電性質、白度、亮度及/或光澤。
方法步驟c)
根據本發明方法步驟c)，藉噴墨列印將液體處理組成物以預選圖案形式施用於至少一種外表面以形成隱藏圖案。
藉為此技藝習知的任何適合噴墨列印技術，液體處理組成物可被施用於至少一種外表面上。根據一個具體實例，藉連續噴墨列印、間歇噴墨列印及/或按需滴墨噴墨列印，施用液體處理組成物。
本發明一項要件為，液體處理組成物係以具有小於或等於1000pl體積之液滴形式施用且液滴間隔小於或等於1000μm。
根據一個具體實例，液滴具有500pl至1fl、較佳100pl至 10fl、更佳50pl至100fl、以及最佳10pl至1pl的體積。根據另一個具體實例，液滴具有小於1000pl、較佳小於600pl、更佳小於200pl、又更佳小於80pl、以及最佳小於20pl的體積。根據又另一個具體實例，液滴具有小於1pl、較佳小於500fl、更佳小於200fl、又更佳小於80fl、以及最佳小於20fl的體積。
根據一個具體實例，液滴間隔為10nm至500μm、較佳100nm至300μm、更佳1μm至200μm、以及最佳5μm至100μm。根據另一個具體實例，液滴間隔係小於800μm、更佳小於600μm、又更佳小於400μm、以及最佳小於80μm。根據又另一個具體實例，液滴間隔係小於500nm、更佳小於300nm、又更佳小於200nm、以及最佳小於80nm。液滴間隔亦可為0，意謂液滴完美地重疊。
此技藝人士將會理解，藉控制液滴體積可以控制液滴直徑，因此可以控制經液體處理組成物處理的面積直徑。兩滴連續液滴間的距離係藉液滴間隔測定。因此，藉改變液滴體積以及液滴間隔，可以調整圖案解析度。
根據一個具體實例，隱藏圖案係以在x與y方向至少150dpi、較佳在x與y方向至少300dpi、更佳在x與y方向至少600dpi、又更佳在x與y方向至少1200dpi、以及最佳在x與y方向至少2400dpi或至少4800dpi的解析度形成。
將液體處理組成物施用於至少一種外表面上可在基材表面溫度上進行，該溫度為室溫，亦即在20±2℃的溫度、或在升高溫度例如在約60℃。在升高溫度進行方法步驟c)可增進液體處理組成物的乾燥，因此 可減少製造時間。根據一個具體實例，方法步驟c)係在大於5℃、較佳大於10℃、更佳大於15℃、以及最佳大於20℃的基材表面溫度進行。根據一個具體實例，方法步驟c)係在5至120℃範圍、更佳在10至100℃範圍、更佳在15至80℃範圍、以及最佳在20至60℃範圍的基材表面溫度進行。
根據一個具體實例，步驟c)包含將來自墨水匣的液體處理組成物、經由列印頭、施用於至少一種外表面上。墨水匣及/或列印頭的溫度較佳大於5℃、較佳在10℃與100℃之間、更佳在15℃與80℃之間、以及最佳在20℃與60℃之間。
根據本發明方法，液體處理組成物預選圖案形式施用於至少一種外表面上。根據本發明一個具體實例，預選圖案為一維條碼、二維條碼、三維條碼、安全標記、數字、字母、數字符號、標誌、影像、形狀或設計。圖案可具有大於150dpi、較佳大於300dpi、更佳大於600dpi、又更佳大於1200dpi、以及最佳大於2400dpi或大於4800dpi的解析度。
不受任何理論束縛，咸信藉由將液體處理組成物施加到至少一種外表面上，外表面之可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物與處理組成物中包括之至少一種酸反應。藉此，可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物至少部分轉化成酸鹽，其可具有與初始材料不同之光散射特性。在可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物為鹼金屬或鹼土金屬碳酸鹽之情形中，化合物將例如藉由酸處理轉化成非碳酸鹽鹼金屬或鹼土金屬鹽。
發明人驚訝的發現，藉使用噴墨列印技術，可將處理組成物的十分小液滴施用到至少一種外表面上，有可能十分準確且局部地轉換外表面甚至小面積而不會影響周圍表面結構。藉此，可在至少一種外表面上 製造高解析度圖案。此外，本發明方法具有的優點為可使用習用噴墨印表機而僅藉由以本發明液體處理組成物取代習用墨水而進行。如此，本發明方法可用於現有列印設施且不需要對現有噴墨列印生產線進行成本密集且耗時的改良。
此外，發明人驚訝的發現，製造的圖案只有在相對於基材表面特定角度下才看的到，而在相對於基材表面其它角度下則為隱藏不見。換言之，本發明可能在基材上製造隱藏圖案，在看第一眼時隱藏不見，但是當改變視角時得以輕易看見。因此，雖然潛在的偽造者可能不知有該圖案，訓練有素的人士能夠在未使用任何特殊工具而僅藉目測就能立即辨識圖案。由本發明方法製造的隱藏圖案亦具有無法藉由使用影印機影印而複製的優點。
此外，本發明藉添加進一步化合物至液體處理組成物可賦予該圖案額外的功能。例如，圖案可藉添加UV吸收染料可在UV光下被檢測或可藉添加磁性粒子或導電粒子可為機器讀取。本發明另一項優點為，由於將可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物轉換成相應酸鹽，製造的隱藏圖案可具有壓花結構，有可能製造盲人以及視障者可觸摸的圖案。
藉由根據方法步驟c)施加液體處理組成物，可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物可轉化成水不溶性或水溶性鹽。
根據一個具體實例，隱藏圖案包含可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物之酸鹽。根據另一具體實例，隱藏圖案包含非碳酸鹽鹼金屬或鹼土金屬鹽，較佳不溶性非碳酸鹽鹼金屬或鹼土金屬鹽。根據一較佳具體實例，隱藏圖案包含非碳酸鹽鈣鹽，較佳不溶性非碳酸鹽鈣鹽。在本發明之含義 中，「水不溶性」材料定義為在20℃下與去離子水混合且在具有0.2μm孔徑之過濾器上過濾以回收液體濾液時，在95℃至100℃下蒸發100g該液體濾液之後提供少於或等於0.1g回收固體材料的材料。「水溶性」材料定義為使得100g該液體濾液在95至100℃下蒸發之後回收大於0.1g回收固體材料之材料。
額外方法步驟
根據本發明一個具體實例，該方法進一步包含將保護層及/或列印層施用於至少一種表面-改質區之上的步驟d)。保護層及/或列印層可為透明層、半透明層、或不透明層。
根據本發明一個具體實例，該方法進一步包含將保護層施用於至少一種表面改質區之上的步驟d)。
保護層可由任何材料製造，適合用於保護底層隱藏圖案免受不欲環境衝擊或機械磨損。適合材料之實例為樹脂、清漆、矽氧烷、聚合物、金屬箔、或以纖維素為基礎之材料。
可藉由此項技術中已知且適於保護層材料之任何方法在隱藏圖案上施加保護層。適合方法為例如氣刀塗覆、靜電塗覆、計量施膠壓製、薄膜塗覆、噴塗、擠壓塗覆、繞線棒塗覆、狹縫塗覆、滑鬥塗覆、凹版列印、簾幕式塗覆、高速塗覆、層壓、列印、黏著性接合及其類似方法。
根據本發明一個具體實例，保護層施用於隱藏圖案上以及周圍外表面。
根據一個具體實例，保護層為可移除的保護層。
根據本發明另一個具體實例，方法進一步包含將列印層施用於步驟d)至少一種表面改質區之上。
列印層可藉為此技藝人士習知的任何適合列印技術施用。例如，列印層可藉噴墨列印、平版列印、輪轉凹版、柔性凸版、或絲網列印製造。根據一個具體實例，列印層為噴墨列印層、平版列印層、輪轉凹版列印層、或柔性凸版列印層。此技藝人士會理解，藉列印技術例如平版或輪轉凹版施用墨水之量仍遠低於表面改質面積亦即隱藏圖案的厚度。換言之，墨水量太低而無法填滿空孔且造成隱藏圖案消失。因此，當從相對於基材表面的第二角度觀看時仍然可看見部分或全部被列印層覆蓋之隱藏圖案
根據本發明之另一具體實例，步驟a)提供之基材包含在第一側的第一外表面及在相對側上的第二外表面，其中第一與第二外表面包含可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物，以及在步驟c)中包含至少一種酸的液體處理組成物施用於第一側與相對側上的第一與第二外表面，在第一與第二外表面上形成隱藏圖案。可對於各側分別進行或可在第一側及相對側上同時進行步驟c)。
根據本發明一個具體實例，方法步驟c)係使用不同或相同液體處理組成物進行。藉此，可以製造具有不同性質的不同隱藏圖案。
隱藏圖案
根據本發明之一個態樣，提供一種可藉由本發明方法獲得之包含隱藏圖案的基材。
根據本發明進一步態樣，提供包含隱藏圖案的基材，其中 基材含有包含可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物的至少一種外表面，且其中至少一種外表面包含至少一種隱藏圖案，其中該隱藏圖案包含可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物的酸鹽。較佳地，可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物為鹼金屬或鹼土金屬碳酸鹽，較佳碳酸鈣，且經表面改質之區包含非碳酸鹽鹼金屬或鹼土金屬鹽，較佳非碳酸鹽鈣鹽。
不受任何理論束縛，發明人相信由於隱藏圖案以及周圍外表面的不同光散射性質，隱藏圖案在相對於基材表面的第一角度觀視時看不見，而在相對於基材表面的第二角度觀視看的見。根據一個具體實例，隱藏圖案在相對於基材表面80°至100°、較佳約90°的角度觀視時看不見，而在相對於基材表面10°至50°、較佳20至30°的角度觀視時看的見。較佳者，隱藏圖案在周圍光線下觀視。相對於視角度所定義的基材表面為隱藏圖案所施用的表面，亦即基材的至少一種外表面。根據一個具體實例，隱藏圖案在周圍光線下在相對於基材表面的第一角度觀視時對未經輔助的或裸視的人類肉眼是看不見的，而在周圍光線下在相對於基材表面的第二角度觀視時對未經輔助的或裸視的人類肉眼是看得見的。
根據一個具體實例，隱藏圖案在相對於基材表面80°至100°、較佳約90°角度照射時是看不見的，而在相對於基材表面角度10°至50°、較佳20至30°照射時是看得見的。根據一個具體實例，隱藏圖案在相對於基材表面的第一角度照射時對未經輔助的或裸視的人類肉眼是看不見的，而在相對於基材表面的第二角度照射時對未經輔助的或裸視的人類肉眼是看得見的。
此外，隱藏圖案與周圍外表面可以有進一步的差異，特別是 如果隱藏圖案包含進一步化合物例如螢光染料、磷光染料、紫外線吸收染料、近紅外線吸收染料、熱致變色染料、加酸變色染料、金屬離子、過渡金屬離子、磁性粒子或其混合物。
根據一個具體實例，隱藏圖案與塗覆層的差異在於表面粗度、光澤、吸光性、電磁輻射反射、螢光、磷光、磁性、導電性、白度及/或亮度。此等差異性質可在例如在UV光或近紅外光下的額外或可替代條件下使用合適檢測器用於檢測隱藏圖案，且可使其為機器讀取。
根據一個具體實例，隱藏圖案包含安全特徵及/或裝飾特徵，較佳為一維條碼、二維條碼、三維條碼、安全標記、數字、字母、數字符號、標誌、影像、形狀或設計。本案全文中，「安全特徵」用語意謂該特徵係用於驗證目的，而「裝飾特徵」意謂提供該特徵主要供驗證之用，而非主要供圖形或裝飾目的。
根據一個具體實例，隱藏圖案顯示可變資訊。根據另一個具體實例，可變資訊包含隱秘資訊及/或公開資訊。根據一個具體實例，隱藏圖案包含壓花結構。
隱藏圖案亦可與例如光學可變特徵、壓花、水紋、螺紋、或全像圖的其它安全特徵併用。
一般而言，包含本發明隱藏特徵的基材可用於任何經受偽造、仿製或複製的產物。此外，包含本發明隱藏特徵的基材可用於非安全或裝飾產物。
根據本發明進一步態樣，提供包含基材包含隱藏圖案根據本發明的產物，其中產物為品牌產物、安全文件、非安全文件、或裝飾產 物，產物較佳為香水、藥物、煙草產物、酒精藥物、醫藥產物、膳食產物、瓶子、服裝、包裝、容器、體育用品、玩具、遊戲機、行動電話、CD、DVD、藍光磁碟機、機器、工具、汽車零件、貼紙、標籤、牌子、海報、護照、駕照、銀行卡、信用卡、債券、票據、印花稅票、鈔票、證書、品牌驗證標籤、名片、賀卡、或壁紙。
如以下所述，根據本發明的隱藏圖案適合範圍廣泛的應用。此技藝人士將會合適地選用隱藏圖案種類供所欲應用。
根據本發明一個具體實例，將包含根據本發明隱藏圖案的基材用於安全應用、公開安全元件、隱秘安全元件、品牌保護、微縮文字、微影像、裝飾應用、藝術應用、視覺應用、或包裝應用。
基於以下圖式及實施例將更好地理解本發明之範疇及利益，該等圖式及實施例意欲說明本發明之某些具體實例且為非限制性的。
實施例
1.量測方法
在下文中，描述在實施例中實施之量測方法。
掃描電子顯微鏡(SEM)顯微照片
經製備附有圖案的樣本經Sigma VP電場發射式掃描電子顯微鏡(Carl Zeiss AG,Germany)以及具有腔體壓力約50Pa的可變壓力第二電子檢測器(VPSE)檢測。
光學顯微鏡相片
經製備附有圖案的樣本經Leica MZ16A立體顯微鏡(Leica Microsystems Ltd.,Switzerland)檢測。
X射線繞射(XRD)分析
使用Bruker D8 Advance粉末繞射儀遵守布拉格定律分析樣品。此繞射儀由2.2kW X射線管、樣品固持器、θ-θ測角計及VÅNTEC-1偵測器組成。所有實驗均採用鎳過濾Cu K α輻射。輪廓在2 θ(XRD GV_7600)中使用每分鐘0.7°之掃描速度自動以圖記錄。所得粉末繞射圖使用DIFFRACsuite軟體套裝EVA及SEARCH，基於ICDD PDF 2資料庫(XRD LTM_7603)之參考圖案，藉由礦物含量分級。
2.材料
可成鹽鹼土金屬化合物
CC1：研磨碳酸鈣(d 50：1.5μm,d 98：10μm)，固體含量為78%的預分散漿料，可購自Omya AG,Switzerland。
CC2：研磨碳酸鈣(d 50：0.7μm,d 98：5μm)，固體含量為78%的預分散漿料，可購自Omya AG,Switzerland。
CC3：文石沉澱碳酸鈣(A-PCC)(d 50：0.45μm,d 98：2μm)，固 體含量為72%的預分散漿料，可購自Omya AG,Switzerland。
CC4：研磨碳酸鈣(d 50：0.21μm,d 98：0.85μm)，固體含量為55%的預分散漿料。
CC5：研磨碳酸鈣(d 50：0.5μm,d 98：3μm)，固體含量為78%的預分散漿料，可購自Omya AG,Switzerland。
KA1：固體含量為72%的預分散高嶺土漿料，細度：在45μm篩網上的殘留物(ISO 787/7)，粒子<2μm(Sedigraph 5120)，可購自Omya AG,Switzerland。
黏合劑
B1：澱粉(C*-Film 07311)，可購自Cargill,USA。
B2：苯乙烯-丁二烯乳膠(Styronal D628)，可購自BASF,Germany。
B3：流變改質劑(Sterocoll FS)，可購自BASF,Germany。
經表面塗覆基材
S1：不可滲透聚丙烯可撓性薄膜(基礎重量：62g/m2)，可購自Synteape/Yupo,Oji-Yuka Synthetic Paper Company Ltd.,Japan。
S2：Z-Offsetkarton,Z-Mail Supra,(基礎重量：170g/m2)，可購自Ziegler Papier,Switzerland。
分別使基材S1或S2具有含有以下表1所示組成之一或多種塗覆層以製備經表面塗覆基材。使用tableop K202 Control Coater(RK PrintCoat Instruments Ltd.,Great Britain)進行塗覆。
面接觸的預塗覆而第二層代表外表面層)。
S3：具有基礎重量90g/m2的雙塗覆紙。塗覆基礎板(baseboard)的預塗覆具有10g/m2塗覆重量且係由100pph CC1以及6pph B2構成。雙塗覆的頂塗覆具有8.5g/m2塗覆重量且係由100pph CC5以及8pph B2構成。
液體處理組成物
L1：41wt.%磷酸、23wt.%乙醇、以及36wt.%水(wt.%係以液體處理組成物總重量計)。
L2：3.7wt.%硫酸、19.2wt.%乙醇、77.1wt.%水(wt.%係以液體處理組成物總重量計)。
3.實施例
實施例1-陣列噴墨列印
藉施用液體處理組成物L1或L2在經表面塗覆基材1製造呈陣列形式的預選圖案。使用配備具有1pl或10pl的液滴體積以匣為主噴墨列印頭之Dimatix Materials Printer(DMP)(Fujifilm Dimatix Inc.,USA)藉噴墨列印將液體處理組成物沉積於基材上。列印方向係從左至右，一次一行(線)。分別以1pl以及10pl的液滴體積且使用不同液滴間隔，將液體處理組成物施用於基材上。目視檢視該列印結果，並且彙整於以下表3以及4。
圖1與圖2顯示經列印液體處理組成物L1的基材之掃描電子顯微鏡(SEM)顯微照片。圖上端數目指示特殊圖案的液滴間隔(μm)。該影像清楚地顯示藉改變液滴體積以及液滴間隔填充面積，可以製備單列或單點。此外，圖2顯示表面面積的放大部分，其中已沉積單一液滴液體處理組成物。從該放大圖可見，經處理表面積的結構與周圍表面結構不同。
X-射線繞射(XRD)量測係使用可旋轉PMMA樣本固定環以經液體處理組成物L1，10pl液滴體積以及10、15、20、25、以及30μm液滴間隔在基材之列印面積上進行列印。量測數據組與ICDD參考圖案的比較透露所有樣本由方解石以及額外相組成，係由施用液體處理組成物而形成。結果簡述於以下表5。
結果證實經表面塗覆基材的表面藉施用液體處理組成物L1而改質，且隱藏圖案包含可成鹽鹼土金屬化合物碳酸鈣的酸鹽。因為藉XRD量測的面積為直徑6mm的圓形，且分析「穿透」基材(不僅分析最外表面)，有其餘未轉換的碳酸鈣(方解石)數量減少且較低的液滴間隔(較大量的酸/面積)的趨勢。隨著磷酸量/面積增加，包含磷酸鹽的化合物相對地增加。
實施例2-標誌形式的隱藏圖案之噴墨列印
藉施用液體處理組成物L1在基材1至4上製造呈標誌、二維條碼以及安全標記形式的預選圖案。使用配備分別具有1pl或10pl的液滴體積以匣為主噴墨列印頭之Dimatix Materials Printer(DMP)(Fujifilm Dimatix Inc.,USA)藉噴墨列印將液體處理組成物沉積於基材上。列印方向係從左至右，一次一行(線)。以1pl的液滴體積及15μm的液滴間隔將液體處理組成物施用於經表面塗覆基材1上，以及以10pl的液滴體積及30μm 的液滴間隔將液體處理組成物施用於經表面塗覆基材2至4。
該列印結果經掃描電子及光學顯微鏡檢視。製造標誌的SEM顯微照片顯示於圖3而製造標誌的光學顯微鏡影像呈現於圖4至6。由該影像可理解，本發明液體處理組成物在經表面塗覆基材上得到相較於其餘非列印面積清晰突出的圖案。
經頂部環境光線照射列印基材2相片顯示於圖7。由該圖可理解，人類肉眼在相對於基材表面約90°的照射角度看不見隱藏圖案。圖8及9顯示分別在35°±5°及20°±5°照射角度的相同列印基材。這些圖顯示減少照射角度，便可以看見隱藏標誌(1)、隱藏二維條碼(2)、以及隱藏安全標記(3)。使用RB 5055 HF Lighting Unit(Kaiser Fototechnik GmbH & Co.KG,Germany)供照射。將列印基材置於照明單元中台(mid table)中央，且經兩盞燈中之一盞照射，其中基材與燈中央距離約50cm。
實施例3-呈錠劑上標誌形式的隱藏圖案的噴墨列印
藉施用液體處理組成物L1在市售包含發泡碳酸鈣錠劑(Calcium-Sandoz®forte 500mg,Hexal AG,Germany)表面上製造呈標誌形式的預選圖案。使用配備具有10pl的液滴體積以匣為主噴墨列印頭之Dimatix Materials Printer(DMP)(Fujifilm Dimatix Inc.,USA)藉噴墨列印將液體處理組成物沉積於錠劑上。列印方向係從左至右，一次一行(線)。以10pl的液滴體積及25μm的液滴間隔將液體處理組成物施用於錠劑上。
以目測檢視該列印結果。在頂部環境光線照射下的未列印原始錠劑(左側錠劑)以及列印錠劑(右側錠劑)相片顯示於圖10。由該圖可以理解，人類肉眼在相對於基材表面約90°照射角度下看不見隱藏圖案。圖11 顯示在20°±5°照射角度下的相同錠劑。此圖透露藉減少照射角度，看得見右側錠劑上隱藏標誌。使用RB 5055 HF Lighting Unit(Kaiser Fototechnik GmbH & Co.KG,Germany)供照射。將列印錠劑置於照明單元中台(mid table)中央，且經兩盞燈中之一盞照射，其中錠劑與燈中央距離約50cm。
實施例4-隱藏圖案的噴墨列印以及平版覆蓋列印
藉施用液體處理組成物L1在基材S3上製造呈標誌與方形形式的預選圖案。使用配備具有10pl的液滴體積以匣為主噴墨列印頭之Dimatix Materials Printer(DMP)(Fujifilm Dimatix Inc.,USA)藉噴墨列印將液體處理組成物沉積於基材上。列印方向係從左至右，一次一行(線)。以10pl的液滴體積將液體處理組成物施用於基材上。方形的液滴間隔為25、30、40、50以及80μm且標誌液滴間隔為25μm。
使用市售平版墨水(Novavit® X 800 Skinnex®,Flint Group Germany GmbH,Germany)以及沒有黏性量測單元的列印機SeGan ISIT墨水表面交互作用試測機(Segan,Great Britain)將圖案100%覆蓋列印。
以目測檢視該列印結果。在20°±5°角度照射的列印基材相片顯示於圖12。由該圖可以理解，當在該角度觀視，人類肉眼看的見隱藏圖案。在相對於基材表面約90°的照射角度，看不見方形以及標誌(未顯示)。使用RB 5055 HF Lighting Unit(Kaiser Fototechnik GmbH & Co.KG,Germany)供照射。將列印基材置於照明單元中台中央，且經兩盞燈中之一盞照射，其中基材與燈中央距離約50cm。
實施例5-隱藏圖案的噴墨列印以及輪轉凹版覆蓋列印
藉施用液體處理組成物L1在基材S3上製造呈標誌與方形 形式的預選圖案。使用配備具有10pl的液滴體積以匣為主噴墨列印頭之Dimatix Materials Printer(DMP)(Fujifilm Dimatix Inc.,USA)藉噴墨列印將液體處理組成物沉積於基材上。列印方向係從左至右，一次一行(線)。以10pl的液滴體積將液體處理組成物施用於基材上。方形的液滴間隔為30、40以及50μm且標誌液滴間隔為30μm。
使用市售輪轉凹版墨水(10-115395-5.1650,Siegwerk Druckfarben AG & Co.KGaA,Germany)以及實驗室凹版列印系統Labratester I(nsm Novert Schläfli AG,Switzerland)以輪轉凹版100%至0%梯度將圖案覆蓋列印。
以目測檢視該列印結果。在20°±5°角度照射的列印基材相片顯示於圖13。由該圖可以理解，當在該角度觀視，人類肉眼看的見隱藏圖案。在相對於基材表面約90°的照射角度，看不見方形以及標誌(未顯示)。使用RB 5055 HF Lighting Unit(Kaiser Fototechnik GmbH & Co.KG,Germany)供照射。將列印基材置於照明單元中台中央，且經兩盞燈中之一盞照射，其中基材與燈中央距離約50cm。
1‧‧‧隱藏標誌
2‧‧‧隱藏二維條碼
3‧‧‧隱藏安全標記
圖1顯示包含塗覆層的表面的掃描電子顯微鏡(SEM)顯微照片，使用10pl液滴體積以不同液滴間隔噴墨列印液體處理組成物。圖中數字顯示特別列印面積的液滴間隔(μm)。
圖2顯示包含塗覆層的表面的掃描電子顯微鏡(SEM)顯微照片，使用1pl液滴體積以不同液滴間隔噴墨列印液體處理組成物。圖中數字顯示特別列印面積的液滴間隔(μm)。
圖3顯示包含塗覆層的表面以及呈標誌形式的隱藏圖案之掃描電子顯微鏡(SEM)顯微照片。
圖4顯示包含塗覆層及呈標誌形式的隱藏圖案的表面的光 學顯微鏡相片。
圖5顯示包含塗覆層及呈標誌形式的隱藏圖案的表面的光學顯微鏡相片。
圖6顯示包含塗覆層及呈標誌形式的隱藏圖案的表面的光學顯微鏡相片。
圖7顯示包含隱藏圖案的包裝箱經頂部的環境光照射的相片。
圖8顯示包含隱藏圖案的包裝箱經相對於基材表面35°角度環境光照射的相片。
圖9顯示包含隱藏圖案的包裝箱經相對於基材表面20°角度環境光照射的相片。
圖10顯示兩種膳食補充錠劑的相片，其中包含隱藏圖案的右側錠劑經頂部的環境光照射。
圖11顯示兩種膳食補充錠劑的相片，其中包含隱藏圖案的右側錠劑經相對於基材表面20°角度環境光照射。
圖12顯示包含隱藏圖案以及平版套印的列印基材經相對於基材表面20°角度環境光照射的相片。
圖13包含隱藏圖案以及輪轉凹版套印的列印基材經相對於基材表面20°角度環境光照射的相片。

Claims (19)

  1. 一種製備在基材上的隱藏圖案的方法，該隱藏圖案在相對於基材表面的第一角度觀視時看不見，而在相對於基材表面的第二角度觀視時看的見，該方法包含以下步驟：a)提供基材，其中基材包含至少一個外表面，該至少一個外表面包含可成鹽的鹼金屬或鹼土金屬化合物，b)提供液體處理組成物，其包含至少一種酸，以及c)藉噴墨列印將該液體處理組成物以預選圖案形式施用於該至少一個外表面上，以形成隱藏圖案，其中該液體處理組成物係以具有小於或等於1000pl體積的液滴形式施用，以及其中該液滴間隔係小於或等於1000μm。
  2. 根據申請專利範圍第1項的方法，其中步驟a)的該至少一個外表面係為層壓物或塗覆層形式，其包含可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物。
  3. 根據申請專利範圍第1項或第2項的方法，其中該基材係選自由紙、紙板、箱板、塑膠、不織物、塞璐芬、紡織物、木材、金屬、玻璃、雲母板、大理石、方解石、硝化纖維素、天然石材、複合石材、磚、混凝土、錠劑、以及其層壓物或複合物組成之群。
  4. 根據申請專利範圍第1項或第2項的方法，其中步驟a)的該至少一個外表面以及該基材係由相同材料製成。
  5. 根據申請專利範圍第1項或第2項的方法，其中可成鹽鹼金屬或鹼土 金屬化合物為鹼金屬或鹼土金屬氧化物、鹼金屬或鹼土金屬氫氧化物、鹼金屬或鹼土金屬醇鹽、鹼金屬或鹼土金屬甲基碳酸鹽、鹼金屬或鹼土金屬羥基碳酸鹽、鹼金屬或鹼土金屬碳酸氫鹽、鹼金屬或鹼土金屬碳酸鹽或其混合物。
  6. 根據申請專利範圍第5項的方法，其中該鹼金屬或鹼土金屬碳酸鹽係選自碳酸鋰、碳酸鈉、碳酸鉀、碳酸鎂、碳酸鈣鎂、碳酸鈣或其混合物。
  7. 根據申請專利範圍第5項的方法，其中該可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物為經研磨碳酸鈣、沉澱碳酸鈣及/或經表面處理之碳酸鈣。
  8. 根據申請專利範圍第1項或第2項的方法，其中至少一種酸係選自由以下組成之群：鹽酸、硫酸、亞硫酸、磷酸、檸檬酸、乙二酸、乙酸、甲酸、胺基磺酸、酒石酸、植酸、硼酸、丁二酸、辛二酸、苯甲酸、已二酸酸、庚二酸、壬二酸、癸二酸、異檸檬酸、烏頭酸、丙烷-1,2,3-三羧酸、苯均三酸、乙醇酸、乳酸酸、扁桃酸、酸性有機硫化合物、酸性有機磷化合物、及其混合物。
  9. 根據申請專利範圍第1項或第2項的方法，其中該液體處理組成物進一步包含螢光染料、磷光染料、紫外線吸收染料、近紅外線吸收染料、熱致變色染料、加酸變色染料、金屬離子、過渡金屬離子、磁性粒子或其混合物。
  10. 根據申請專利範圍第1項或第2項的方法，其中該液體處理組成物包含以液體處理組成物總重量計0.1至100wt.%之量的酸。
  11. 根據申請專利範圍第1項或第2項的方法，其中該預選圖案為一維條 碼、二維條碼、三維條碼、安全標記、數字、字母、數字符號、標誌、影像、形狀或設計。
  12. 根據申請專利範圍第1項或第2項的方法，其中液滴具有體積500pl至1fl。
  13. 根據申請專利範圍第1項或第2項的方法，其中液滴間隔為10nm至500μm。
  14. 根據申請專利範圍第1項或第2項的方法，其中該方法進一步包含將保護層及/或列印層施用於至少一種表面改質區之上的步驟d)。
  15. 一種基材，其包含藉根據申請專利範圍第1至14項中任一項的方法可獲得的隱藏圖案。
  16. 根據申請專利範圍第15項的基材，其中該隱藏圖案與該至少一個外表面的差異在於表面粗度、光澤、吸光性、電磁輻射反射、螢光、磷光、磁性、導電性、白度及/或亮度。
  17. 根據申請專利範圍第15或16項的基材，其中該隱藏圖案包含安全特徵及/或裝飾特徵，其包含一維條碼、二維條碼、三維條碼、安全標記、數字、字母、數字符號、標誌、影像、形狀或設計。
  18. 一種產物，其包含根據申請專利範圍第15至17項中任一項的基材，其中該產物為品牌產物、安全文件、非安全文件、或裝飾產物，其包含香水、藥物、煙草產物、酒精藥物、醫藥產物、膳食產物、瓶子、服裝、包裝、容器、體育用品、玩具、遊戲機、行動電話、CD、DVD、藍光磁碟機、機器、工具、汽車零件、貼紙、標籤、牌子、海報、護照、駕照、金融卡、信用卡、債券、票據、印花稅票、鈔票、證書、 品牌驗證標籤、名片、賀卡、或壁紙。
  19. 一種根據申請專利範圍第15至17項中任一項的基材的用途，其係用於安全應用、公開安全元件、隱秘安全元件、品牌保護、微縮文字、微影像、裝飾應用、藝術應用、視覺應用、或包裝應用。
TW105106128A 2015-03-13 2016-03-01 製備隱藏圖案的方法 TWI592448B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP15159107.0A EP3067214B1 (en) 2015-03-13 2015-03-13 Method for creating a hidden pattern
US201562135802P 2015-03-20 2015-03-20

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201700642A TW201700642A (zh) 2017-01-01
TWI592448B true TWI592448B (zh) 2017-07-21

Family

ID=52875418

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW105106128A TWI592448B (zh) 2015-03-13 2016-03-01 製備隱藏圖案的方法

Country Status (25)

Country Link
US (1) US10618330B2 (zh)
EP (2) EP3067214B1 (zh)
JP (1) JP6496835B2 (zh)
KR (1) KR101999911B1 (zh)
CN (1) CN107428186B (zh)
AR (1) AR104483A1 (zh)
AU (1) AU2016232485B2 (zh)
CA (1) CA2976717C (zh)
CL (1) CL2017002318A1 (zh)
CO (1) CO2017008837A2 (zh)
EA (1) EA035607B1 (zh)
ES (1) ES2663346T3 (zh)
IL (1) IL254448B (zh)
MX (1) MX2017011202A (zh)
MY (1) MY181804A (zh)
NO (1) NO3067214T3 (zh)
PL (1) PL3067214T3 (zh)
PT (1) PT3067214T (zh)
SG (1) SG11201706679VA (zh)
SI (1) SI3067214T1 (zh)
TR (1) TR201802410T4 (zh)
TW (1) TWI592448B (zh)
UA (1) UA122568C2 (zh)
WO (1) WO2016146458A1 (zh)
ZA (1) ZA201706916B (zh)

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3173522A1 (en) * 2015-11-24 2017-05-31 Omya International AG Method of tagging a substrate
EP3293010A1 (en) * 2016-09-13 2018-03-14 Omya International AG Patterning of natural products
EP3293011A1 (en) * 2016-09-13 2018-03-14 Omya International AG Method for manufacturing a water-insoluble pattern
CN109891267A (zh) 2016-10-28 2019-06-14 Ppg工业俄亥俄公司 用于增加近红外检测距离的涂层
EP3406455A1 (en) 2017-05-23 2018-11-28 Omya International AG Method for producing water-insoluble quantum dot patterns
EP3418064A1 (en) 2017-06-22 2018-12-26 Omya International AG Tamper-proof medium for thermal printing
JP2019018479A (ja) * 2017-07-19 2019-02-07 共同印刷株式会社 印刷物及びその製造方法
CN108162623B (zh) * 2017-12-05 2019-06-18 华南理工大学 一种直接喷墨打印短沟道电极的方法
EP3598105A1 (en) 2018-07-20 2020-01-22 Omya International AG Method for detecting phosphate and/or sulphate salts on the surface of a substrate or within a substrate, use of a lwir detecting device and a lwir imaging system
US11461607B2 (en) 2018-11-13 2022-10-04 Ppg Industries Ohio, Inc. Method of detecting a concealed pattern
US11561329B2 (en) 2019-01-07 2023-01-24 Ppg Industries Ohio, Inc. Near infrared control coating, articles formed therefrom, and methods of making the same
US20220138305A1 (en) * 2019-02-05 2022-05-05 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Authentication object, authentication system, and authentication medium production method
EP3855162A1 (en) 2020-01-21 2021-07-28 Omya International AG Lwir imaging system for detecting an amorphous and/or crystalline structure of phosphate and/or sulphate salts on the surface of a substrate or within a substrate and use of the lwir imaging system
EP4267942A1 (en) 2020-12-23 2023-11-01 Omya International AG Method and apparatus for detecting an amorphous and/or crystalline structure of phosphate and/or sulphate salts on the surface of a substrate or within a substrate
CN115184372B (zh) * 2022-07-13 2023-04-18 水利部交通运输部国家能源局南京水利科学研究院 混凝土结构难达部位微裂纹荧光渗透智能探测装置与方法
CN115304978B (zh) * 2022-08-17 2023-07-25 恒昌涂料（惠阳）有限公司 一种漆膜遇水溶解的效果漆及其制备方法和应用
WO2024049213A1 (ko) * 2022-08-30 2024-03-07 삼성전자 주식회사 패턴이 형성된 전자 장치 하우징

Family Cites Families (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2849495C3 (de) * 1978-11-15 1982-05-13 Voss, Gunther M., 8918 Diessen Anwendung eines Tintenstrahldruckers zum Beschriften oder Bedrucken von Arzneimittelformlingen
JPH06228900A (ja) * 1993-02-03 1994-08-16 Toppan Printing Co Ltd 透かし模様入り用紙及びその製造方法
FR2787802B1 (fr) 1998-12-24 2001-02-02 Pluss Stauffer Ag Nouvelle charge ou pigment ou mineral traite pour papier, notamment pigment contenant du caco3 naturel, son procede de fabrication, compositions les contenant, et leurs applications
US6334678B1 (en) * 1999-09-01 2002-01-01 International Paper Company Method for applying chemical watermarks on substrate
JP3985514B2 (ja) * 2001-03-09 2007-10-03 コニカミノルタホールディングス株式会社 インクジェット記録用紙の製造方法
JP2006017690A (ja) * 2004-05-31 2006-01-19 Konica Minolta Photo Imaging Inc インクジェット記録材料の性能検査方法
FR2871474B1 (fr) 2004-06-11 2006-09-15 Omya Development Ag Nouveau pigment mineral sec contenant du carbonate de calcium, suspension aqueuse le contenant et ses usages
EP1712597A1 (en) 2005-04-11 2006-10-18 Omya Development AG Process for preparing precipitated calcium carbonate pigment, especially for use in inkjet printing pater coatings and precipitated calcium carbonate
EP1712523A1 (en) 2005-04-11 2006-10-18 Omya Development AG Precipitated calcium carbonate pigment, especially for use in inkjet printing paper coatings
JP4419090B2 (ja) * 2005-08-05 2010-02-24 東洋紡績株式会社 すかし模様の形成された伸縮性布帛および製造方法
US20070281136A1 (en) 2006-05-31 2007-12-06 Cabot Corporation Ink jet printed reflective features and processes and inks for making them
WO2009025371A1 (ja) * 2007-08-22 2009-02-26 Astellas Pharma Inc. 錠剤印刷装置及び錠剤製造方法並びに錠剤
JP5215643B2 (ja) * 2007-08-24 2013-06-19 富士フイルム株式会社 記録媒体及びその製造方法、並びに、該記録媒体を用いたインクジェット記録方法
EP2028016B1 (en) * 2007-08-24 2011-03-23 FUJIFILM Corporation Recording medium, method for producing the same, and inkjet recording method using the recording medium
DK2093261T3 (da) 2007-11-02 2013-12-02 Omya Int Ag Anvendelse af et overflade-reageret kalciumkarbonat i silkepapir, proces til at fremstille et silkepapirprodukt af forbedret blødhed, og deraf resulterende silkepapirprodukter med forbedret blødhed
EP2070991B1 (en) 2007-12-12 2010-09-08 Omya Development AG Process to make surface-reacted precipitated calcium carbonate
JP5213467B2 (ja) 2008-01-30 2013-06-19 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法
SI2159258T1 (sl) 2008-08-26 2011-12-30 Omya Development Ag Obdelani mineralni polnilni proizvodi, postopki za njihovo pripravo in njihove uporabe
WO2010072388A2 (de) * 2008-12-22 2010-07-01 Mondi Uncoated Fine & Kraft Paper Gmbh Verfahren zur farbgebenden beschriftung von oberflächen
PT2264109E (pt) 2009-06-15 2012-05-09 Omya Development Ag Processo de preparação de carbonato de cálcio com superfície tratada por reacção e sua utilização
DK2264108T3 (da) 2009-06-15 2012-05-29 Omya Development Ag Fremgangsmåde til fremstilling af et calciumcarbonat, der har reageret på overfladen, under anvendelse af en svag syre
ES2407183T3 (es) 2010-04-01 2013-06-12 Omya Development Ag Proceso para obtener carbonato de calcio precipitado
PL2447213T3 (pl) 2010-10-26 2015-10-30 Omya Int Ag Wytwarzanie strącanego węglanu wapnia o dużej czystości
JP2012116168A (ja) * 2010-12-03 2012-06-21 Mimaki Engineering Co Ltd 加飾フィルム
FR2969670B1 (fr) 2010-12-22 2013-09-20 Arjowiggins Security Element pour document de securite comportant une structure optique
CN103459161B (zh) 2011-03-29 2015-06-03 Dnp精细化工有限公司 喷墨记录方法、以及喷墨记录用油墨套装
EP2524898B1 (en) 2011-05-16 2015-09-02 Omya International AG Method for the production of precipitated calcium carbonate from pulp mill waste
AR086508A1 (es) * 2011-05-27 2013-12-18 Sicpa Holding Sa Sustrato con una marcacion de polimero de cristal liquido modificado
DE102011106094A1 (de) * 2011-06-09 2012-12-13 Manroland Web Systems Gmbh Verfahren zur Herstellung eines Druckproduktes
EP2626388B1 (en) * 2012-02-09 2016-05-04 Omya International AG A composition and method for controlling the wettability of surfaces
US9428398B2 (en) 2012-03-23 2016-08-30 Omya International Ag Process for preparing scalenohedral precipitated calcium carbonate
JP6460315B2 (ja) * 2014-03-18 2019-01-30 セイコーエプソン株式会社 インクジェット抜蝕方法およびインクジェット捺染システム

Also Published As

Publication number Publication date
PT3067214T (pt) 2018-03-01
EA035607B1 (ru) 2020-07-15
AU2016232485B2 (en) 2018-06-14
SG11201706679VA (en) 2017-09-28
IL254448A0 (en) 2017-11-30
CA2976717A1 (en) 2016-09-22
PL3067214T3 (pl) 2018-06-29
ES2663346T3 (es) 2018-04-12
KR101999911B1 (ko) 2019-07-12
EA201792029A1 (ru) 2017-12-29
CA2976717C (en) 2020-01-28
MY181804A (en) 2021-01-07
JP2018518381A (ja) 2018-07-12
TR201802410T4 (tr) 2018-03-21
AU2016232485A1 (en) 2017-11-02
IL254448B (en) 2021-12-01
MX2017011202A (es) 2018-01-30
NO3067214T3 (zh) 2018-05-19
TW201700642A (zh) 2017-01-01
WO2016146458A1 (en) 2016-09-22
US10618330B2 (en) 2020-04-14
CO2017008837A2 (es) 2017-11-10
JP6496835B2 (ja) 2019-04-10
SI3067214T1 (en) 2018-04-30
UA122568C2 (uk) 2020-12-10
EP3067214B1 (en) 2017-12-20
AR104483A1 (es) 2017-07-26
CN107428186A (zh) 2017-12-01
EP3268233A1 (en) 2018-01-17
ZA201706916B (en) 2018-12-19
CN107428186B (zh) 2020-03-06
US20180056690A1 (en) 2018-03-01
KR20170125894A (ko) 2017-11-15
CL2017002318A1 (es) 2018-05-04
EP3067214A1 (en) 2016-09-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI592448B (zh) 製備隱藏圖案的方法
TWI638926B (zh) 製備具有內嵌式uv可見圖案的基材的方法，包含內嵌式uv可見圖案的基材，包含該基材的產物，以及該基材的用途
TWI692415B (zh) 標記基材的方法，包含隱蔽光譜可檢測安全特徵的經標記基材，包含經標記基材的產物，經標記基材的用途，以及驗證產物真實性的方法
TW201702088A (zh) 噴墨列印方法
KR20200011440A (ko) 수불용성 양자점 패턴의 제조 방법

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees