TR201802410T4 - Gizli Bir Desen Oluşturmaya Yönelik Yöntem. - Google Patents

Gizli Bir Desen Oluşturmaya Yönelik Yöntem. Download PDF

Info

Publication number
TR201802410T4
TR201802410T4 TR2018/02410T TR201802410T TR201802410T4 TR 201802410 T4 TR201802410 T4 TR 201802410T4 TR 2018/02410 T TR2018/02410 T TR 2018/02410T TR 201802410 T TR201802410 T TR 201802410T TR 201802410 T4 TR201802410 T4 TR 201802410T4
Authority
TR
Turkey
Prior art keywords
acid
succinic anhydride
substrate
alkaline
phosphoric acid
Prior art date
Application number
TR2018/02410T
Other languages
English (en)
Inventor
Bollström Roger
Schoelkopf Joachim
A C Gane Patrick
Original Assignee
Omya Int Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Omya Int Ag filed Critical Omya Int Ag
Publication of TR201802410T4 publication Critical patent/TR201802410T4/tr

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M3/00—Printing processes to produce particular kinds of printed work, e.g. patterns
    • B41M3/14—Security printing
    • B41M3/148—Transitory images, i.e. images only visible from certain viewing angles
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01—Ink jet
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M3/00—Printing processes to produce particular kinds of printed work, e.g. patterns
    • B41M3/001—Printing processes to produce particular kinds of printed work, e.g. patterns using chemical colour-formers or chemical reactions, e.g. leuco dyes or acids
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/20—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof characterised by a particular use or purpose
    • B42D25/21—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof characterised by a particular use or purpose for multiple purposes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/30—Identification or security features, e.g. for preventing forgery
    • B42D25/36—Identification or security features, e.g. for preventing forgery comprising special materials
    • B42D25/369—Magnetised or magnetisable materials
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/30—Identification or security features, e.g. for preventing forgery
    • B42D25/36—Identification or security features, e.g. for preventing forgery comprising special materials
    • B42D25/373—Metallic materials
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/30—Identification or security features, e.g. for preventing forgery
    • B42D25/36—Identification or security features, e.g. for preventing forgery comprising special materials
    • B42D25/378—Special inks
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B44—DECORATIVE ARTS
    • B44F—SPECIAL DESIGNS OR PICTURES
    • B44F1/00—Designs or pictures characterised by special or unusual light effects
    • B44F1/02—Designs or pictures characterised by special or unusual light effects produced by reflected light, e.g. matt surfaces, lustrous surfaces
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/30—Inkjet printing inks
    • C09D11/32—Inkjet printing inks characterised by colouring agents
    • C09D11/328—Inkjet printing inks characterised by colouring agents characterised by dyes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/30—Inkjet printing inks
    • C09D11/38—Inkjet printing inks characterised by non-macromolecular additives other than solvents, pigments or dyes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/50—Sympathetic, colour changing or similar inks
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M3/00—Printing processes to produce particular kinds of printed work, e.g. patterns
    • B41M3/14—Security printing
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M3/00—Printing processes to produce particular kinds of printed work, e.g. patterns
    • B41M3/14—Security printing
    • B41M3/142—Security printing using chemical colour-formers or chemical reactions, e.g. leuco-dye/acid, photochromes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/0011—Pre-treatment or treatment during printing of the recording material, e.g. heating, irradiating
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/50—Recording sheets characterised by the coating used to improve ink, dye or pigment receptivity, e.g. for ink-jet or thermal dye transfer recording
    • B41M5/52—Macromolecular coatings
    • B41M5/5218—Macromolecular coatings characterised by inorganic additives, e.g. pigments, clays
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/20—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof characterised by a particular use or purpose
    • B42D25/23—Identity cards
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/20—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof characterised by a particular use or purpose
    • B42D25/24—Passports
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/20—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof characterised by a particular use or purpose
    • B42D25/28—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof characterised by a particular use or purpose for use in medical treatment or therapy
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/20—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof characterised by a particular use or purpose
    • B42D25/29—Securities; Bank notes

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Accounting & Taxation (AREA)
  • Business, Economics & Management (AREA)
  • Finance (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Ink Jet Recording Methods And Recording Media Thereof (AREA)
  • Ink Jet (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Paper (AREA)
  • Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
  • Accessory Devices And Overall Control Thereof (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Abstract

Mevcut buluş, mürekkep püskürtmeli baskı alanıyla ve daha özel olarak, bir alt tabaka üzerinde gizli bir desen oluşturmaya yönelik bir yönteme, sözü edilen yöntemle elde edilebilen gizli bir desene ve kullanımına ilişkindir.

Description

TARIFNAME Gizli Bir Desen Olusturmaya Yönelik Yöntem Mevcut bulus, mürekkep püskürtmeli baski alaniyla ve daha özel olarak, bir alt tabaka üzerinde gizli bir desen olusturmaya yönelik bir yönteme, sözü edilen yöntemle elde edilebilen gizli bir desene ve kullanimina iliskindir. Ürün ve marka korsanligi, etkilenen sirketlerin ticari kayiplarina neden olabilecek ve marka degerini ve sirket itibarini azaltabilecek yaygin ve dünya çapinda endise verici bir olgudur.2014 tarihinde Avrupa Birligi tarafindan düzenlenen AB fikri mülkiyet haklari gümrük idaresine iliskin Rapora göre, gida maddeleri, alkollü içecekler, mücevherat ve diger aksesuarlar, cep telefonlari, CD/DVD'ler, oyuncaklar ve oyunlar, ilaçlar, otomobil parçalari ve aksesuarlari ve kirtasiye kategorileri için sahtecilikte önemli artislar gözlemlendi. Bununla birlikte mürekkep kartuslari ve tonerler, spor malzemeleri, sigara ve diger tütün ürünleri, makineler ve edavatlar, çakmaklar, etiketler, fiyat etiketleri ve çikartmalar ve tekstil gibi ürünler siklikla sahtecilige tabidir. Sonuç olarak, marka koruma ve sahtecilige karsi stratejik ve teknik önlemler için artan bir talep sözkonusudur. Ayrica, masaüstü yayincilik ve renkli fotokopi cihazlarindaki gelismelerle birlikte, belge sahteciligi açisindan firsatlar önemli ölçüde artmaktadir. Sonuç olarak, örnegin, pasaport, ehliyet, banka karti, kredi karti, sertifika veya ödeme araci gibi bir belgenin özgünlügünü dogrulmak için kullanilabilen güvenlik unsurlarina yönelik artan bir talep mevcuttur. içeren mürekkep kullanilarak dogrudan yazma baski yöntemi ile olusturuldugu bir yöntemi açiklamaktadir. görünümünü degistirmeyi mümkün kilan optik yapiya sahip güvenlik elemanlari ile ilgilidir. EP2028016, alt tabaka üzerinde bir desen olusturmaya yönelik bir yöntemi açiklar, yöntem bir alt tabaka temin eder, burada alt tabaka, kalsiyum karbonat bilesigi içeren en az harici yüzey en az bir asit içeren sivi muamele bilesiminin temin edilmesi ve sivi muamele bilesiminin en azindan dis yüzey üzerine uygulanmasini ve bahsedilen dis yüzey üzerinde önceden belirlenmis görüntü verilerine dayali renkli bir mürekkep görüntüsü olusturmak üzere CMYK mürekkeplerinin uygulanmasinmasini içerir. Tamamlamak için, basvuru sahibi, yüzeyi degistirilmis malzemenin imal edilmesine yönelik usule iliskin olan bahsetmek istemektedir. Bununla birlikte, teknikte kolayca üretilemeyen güvenilir güvenlik unsurlarina ihtiyaç duyulmaktadir ve kolay ve dogrudan dogrulamaya olanak saglamaktadir. Buna göre, bu bulusun bir amaci, taklit edilmesi zor ve güvenilir ve basit bir kimlik dogrulamasina izin veren güvenilir güvenlik unsuru olusturmak için bir yöntem sunmaktir. Yöntemin mevcut baski tesislerinde uygulanmasinin kolay olmasi da arzu edilir. Ayrica, yöntemin çok çesitli alt tabakalar için kullanilabilmesi de arzu edilir. Mevcut bulusun diger bir amaci, önceki teknigin yöntemlerine ve mevcut üretim hatlarina kolaylikla uygulanabilen güvenlik elemani olusturmak için yöntem sunmaktir. Metodun hem küçük hem de büyük üretim hacmi için uygun olmasi da arzu edilir. Bu bulusun baska bir amaci da belirli kosullar altinda insan gözüyle gözlemlenebilen ve herhangi bir dogrulama aracinin kullanilmasini gerektirmeyen gizli bir güvenlik elemani saglamaktir. Gizli güvenlik unsurunun, makinece okunabilir hale getiren ve önceki teknik güvenlik unsurlari ile kombine edilebilen baska islevlerle donatilabilecegi de arzu edilmektedir. Yukaridaki ve diger amaçlar, bagimsiz istemlerde burada tanimlandigi gibi konu ile çözülmüstür. Mevcut bulusun bir yönüne göre, alt tabakanin yüzeyine göre birinci açiyla görülmez olan ve alt tabakanin yüzeyine göre ikinci açiyla bakildiginda görünür olan alt tabaka üzerinde gizli bir desen olusturmaya yönelik bir yöntem temin edilmistir, Yöntem asagidaki adimlari içennektedir: a) bir alt tabaka saglayarak, burada alt tabaka, tuzla bilesik yapma yetenegine sahip alkalin veya alkalin toprak bilesimi ihtiva even en az bir harici yüzey ihtiva eder, burada tuzla bilesik yapma yetenegine sahip alkalin veya alkalin toprak bilesimi,alkalin veya alkalin toprak hidroksit, alkalin veya alkalin toprak bikarbonat, alkalin veya alkalin toprak karbonat, veya bunlarin bir karisimidir b) en az bir asit ihtiva eden sivi muamele bilesimin saglanmasini, ve 0) gizli desen olusturmak için mürekkep püskürtmeli baski ile önceden seçilmis desenin formunda en az bir harici yüzey üzerine sivi muamele bilesiminin uygulanmasi, burada sivi muamele bilesimi 1000 pl'ye esit veya daha düsük bir hacme sahip olan damla biçiminde uygulanir ve burada damla araligi 1000 um'den daha küçük veya buna esittir. Burada kullanilan "pl" kisaltmasi "piko litre" birimini ve "fl" kisaltmasi "femto litre" birimini belirtir. Teknikte uzman kisilerce bilindigi gibi, 1 piko litre 10'12 litredir ve 1 femto litre, 10"15 litreye esittir. Mevcut bulusun bir baska yanina göre, mevcut bulusa göre bir yöntemle elde edilebilen gizli desen içeren alt tabaka saglanmaktadir. Bu bulusun yine bir baska yönüne göre, mevcut bulusa uygun olarak bir ürün ihtiva eden alt tabaka içeren bir ürün saglanmakta olup, burada ürün; markali bir ürün, güvenli belge, güvenli olmayan belge ve dekoratif üründür, tercihen ürün; parûim, ilaç, tütün ürünü, alkolik ilaç, sise, giysi, ambalaj, konteyner, spor ürünü, oyuncak, oyun, cep telefonu, CD, DVD, blu-ray diski, makine, alet, araba parçasi, çikartma, etiket, isaret, poster, pasaport, ehliyet, banka karti, kredi karti, tahvil, bilet, vergi pulu, banknot, sertifika, marka kimlik dogrulama etiketi, kartvizit, tebrik karti veya duvar kâgididir. Bu bulusun bir baska uygulamasina göre, mevcut bulusa göre alt tabakanin kullanimi, güvenlik uygulamalarinda, açik güvenlik unsurlarinda, gizli güvenlik unsurlarinda, marka korumasinda, mikro hartlemede, mikro görüntülemede, dekoratif uygulamalarda sanatsal uygulamalarda, görsel uygulamalarda veya paketleme uygulamalarinda kullanilir. Mevcut bulusun avantajli uygulamalari, ilgili alt istemlerde tanimlanmaktadir. Bir uygulamaya göre, a) adiminin en azindan bir harici yüzeyi, tabaka halinde ya da tuzla bilesik yapma yetenegine sahip alkalin veya alkalin toprak bilesigi içeren kaplama tabakasi halindedir. Baska bir uygulamaya göre, alt tabaka kâgit, mukavva, karton, plastik, dokumasiz, selofan, tekstil, ahsap, metal, cam, mika levha, mermer, kalsit, nitroselüloz, dogal tas, kompozit tas, tugla, beton ve laminatlar veya bunlarin kompozitleri, tercihen kâgit, mukavva, kartondan veya plastikten olusur. Yine bir baska uygulamaya göre en az bir harici yüzey ve a) adimindaki alt tabaka ayni malzemeden yapilmistir. Bir uygulamaya göre, tuzla bilesik yapma yetenegine sahip alkalin veya toprak alkalin bilesimi, alkalin veya toprak alkalin karbonat, tercihen lityum karbonat, sodyum karbonat, potasyum karbonat, magnezyum karbonat, kalsiyum magnezyum karbonat kalsiyum karbonat veya bunlarin karisimlarindan seçilir, daha tercihen tuzla bilesik yapma yetenegine sahip alkalin veya toprak alkalin bilesimi kalsiyum karbonattir ve en çok tercih edilen haliyle tuzla bilesik yapma yetenegine sahip alkalin veya toprak alkalin bilesimi, çöktürülmüs bir kalsiyum karbonat ve/veya yüzeyi islenmis kalsiyum karbonattir. Bir uygulamaya göre, en az bir asit hidroklorik asit, sülfürik asit, sültîirlü asit, fosforik asit, sitrik asit, oksalik asit, asetik asit, formik asit, sülfamik asit, tartarik asit, fitik asit, borik asit, süksinik asit, suberik asit, benzoik asit, adipik asit, pimelik asit, azelaik asit, sebaik asit, izokitrik asit, aknitik asit, propan-l, 2, 3- trikarboksilik asit, trimesik asit, glikolik asit, laktik asit, mandelik asit, asidik organosülIür bilesikleri, asidik organofosfor bilesikleri ve bunlarin karisimlarini ihtiva eden gruptan seçilir, tercihen en az bir asit; hidroklorik asit, sülfürik asit, sülfürlü asit, fosforik asit, oksalik asit, borik asit, suberik asit, süksinik asit, sülfamik asit, tartarik asit ve bunlarin karisimlarini ihtiva eden gruptan seçilir, daha da tercihen en az bir asit; sülfürik asit, fosforik asit, borik asit, suberik asit, sülfamik asit, tartarik asit ve bunlarin karisimlarini ihtiva eden gruptan seçilir ve en çok tercih edilen haliyle en az bir asit, fosforik asit ve / veya sültîirik asittir. Bir uygulamaya göre, sivi isleme bilesimi ayrica; Ilüoresan boya, fosforlu boya, ultraviyole emici boya, yakin kizilötesi emici boya, termokromik boya, halokromik boya, metal iyonlari, geçis metali iyonlari, manyetik parçaciklar veya bunlarin karisimini ihtiva eder. Baska bir uygulamaya göre, sivi muamele bilesimi, sivi muamele bilesiminin toplam agirligina dayanilarak, agirlikça % 0.1 ila 100 Wt., tercihen agirlikça % 1 ila 80 Wt., daha tercihen agirlikça % 3 ila 60 Wt. ve en çok tercih edilen haliyle agirlikça % 10 ila 50 wt. arasinda degisen bir miktarda asit içerir. Bir uygulamaya göre, önceden seçilmis desen, tek boyutlu barkod, iki boyutlu barkod, üç boyutlu barkod, güvenlik isareti, numara, harf, alfanümerik sembol, logo, resim, sekil veya tasarimdir. Baska bir uygulamaya göre, damlalar 500 pl ila ila 1 pl hacme sahiptir. Yine bir baska uygulamaya göre, damla araligi 10 nm ila tercihen 5 um ila 100 um arasindadir. Bir uygulamaya göre gizli desen; yüzey pürüzlülügü, parlaklik, isik emme, elektromanyetik radyasyon yansimasi, flüoresan, fosforesans, manyetik özellik, elektrik iletkenligi, beyazlik ve/veya parlaklik bakimindan en az bir harici yüzeyden farklidir. Baska bir uygulamaya göre, gizli desen güvenlik özelligi ve/veya dekoratif özellik, tercihen tek boyutlu barkod, iki boyutlu barkod, üç boyutlu barkod, güvenlik isareti, sayi, harf, alfanümerik sembol, logo, resim, sekil veya tasarim ihtiva eder. Bu bulusun amacina uygun olarak asagidaki terimlerin asagidaki anlamlara sahip oldugu anlasilmalidir: Mevcut bulusun amaci için bir "asit", Bransted Lowry asidi olarak, yani H30+ iyon saglayicisi olarak tanimlanir. Mevcut bulusa uygun olarak, pKa, belirli bir asitte iyonize hidrojen ile ilgili asit çözünme sabitini temsil eder ve belirli bir sicaklikta sudaki dengede hidrojenin asitten ayrilmasinin dogal derecesinin bir göstergesidir. Bu gibi pKa degerleri, Harris, D. C. "Quantitative Chemical gibi referans kitaplarinda bulunabilir. Mevcut bulusta kullanilan "temel agirlik" terimi, DIN EN ISO 536: 1996'ya göre belirlenir ve g/ ni2 cin sinden agirlik olarak tanimlanir. Mevcut bulusun amaci dogrultusunda, "kaplama tabakasi" terimi, agirlikli olarak alt tabakanin bir kenarinda kalan kaplama formülasyonundan, olusturulan, yaratilan, hazirlanan vb. tabaka, kaplama, film ve cilde vb. atifta bulunmaktadir. Kaplama tabakasi, alt tabakanin yüzeyi ile dogrudan temas halinde olabilir veya alt tabaka bir veya daha fazla ön kaplama tabakasi ve/veya engelleyici tabaka içeriyorsa, sirasiyla üst ön kaplama tabakasi veya engelleyici tabaka ile dogrudan temas halinde olabilir. Bu bulusun amaci için, I'laminat", alt tabaka üzerine uygulanabilir ve alt tabakaya baglanabilen, böylece lamine edilmis alt tabaka olusturan malzeme tabakasini belirtir. Mevcut belge boyunca, "damla araligi", birbirini izleyen iki damla merkezleri arasindaki mesafe olarak tanimlanir. Bu tarifnamede kullanildigi haliyle, "sivi muamele bilesimi" terimi, en azindan bir asit içeren sivi içindeki bilesimi belirtir ve mürekkep püskürtmeli baski ile bu bulusun alt tabakasinin dis yüzeyine uygulanabilir. Mevcut bulusun anlamiyla "ögütülmüs kalsiyum karbonat" (GCC) kireç tasi, mermer veya tebesir gibi dogal kaynaklardan elde edilen ve örnegin bir siklon veya siniflandirici ile ögütme, tarama ve/veya fraksiyonlama gibi islak ve/veya kuru isleme tabi tutulan bir kalsiyum karbonattir. Mevcut bulusun anlamindaki "modifiye edilmis kalsiyum karbonat" (MCC), bir içyapi modifikasyonu veya yüzey reaksiyon ürünü, yani "yüzey reaksiyonlu kalsiyum karbonat" ile dogal zemin veya çöktürülmüs kalsiyum karbonat ihtiva edebilir. "Yüzeyi islem görmüs kalsiyum karbonat", kalsiyum karbonat ve çözünmez, terchien en az kismen kristal haldeki, yüzey üzerindeki anyonlarin asitlerinin kalsiyum tuzlarini ihtiva eden bir malzemedir. Tercihen, çözünmeyen kalsiyum tuzu kalsiyum karbonatin en azindan bir kisminin yüzeyinden uzanir. Bahsedilen anyonun bahsedilen en azindan kismen kristalimsi kalsiyum tuzunu olusturan kalsiyum iyonlari, büyük ölçüde baslangiç kalsiyum karbonat tarif edilmistir. Mevcut bulusun kapsami dâhilinde "Çöktürülmüs kalsiyum karbonat" (PCC); karbon dioksit ve kirecin, sulu, yari kuru veya nemli bir ortamda reaksiyona girmesinden sonra çökeltme ile elde edilen veya suda kalsiyum ve karbonat iyonu kaynaginin çökeltilmesi ile elde edilen sentezlenmis bir malzemedir. PCC; vateritik, kalsitik veya aragonitik kristal formunda olabilir. PCC'ler, örnegin, EP 2 Mevcut belge boyunca, tuzla bilesik yapma yetenegine sahip alkalin veya toprak alkali bilesigin "parçacik boyutu", parçacik boyutlarinin dagilimi ile açiklanmaktadir. DX degeri, parçaciklarin agirlikça %X'inin dx'den daha küçük çaplara sahip oldugu çapi temsil eder. Bu, dzo degerinin, tüm parçaciklarin %20 wt.'sinin daha küçük oldugu parçacik boyutudur ve d75 degeri, tüm parçaciklarin agirlikça %75 wt.'sinin daha küçük oldugu parçacik boyutudur. Dolayisiyla dso degeri, agirlik maddesinin parçacik boyutudur, yani tüm parçaciklarin toplam agirliginin %50 Wt.'si, daha büyük parçaciklardan olusur ve tüm parçaciklarin toplam agirliginin %50 Wt.'si, bu parçacik boyutundan daha küçük parçaciklardan olusur. Mevcut bulusun amaci için, aksi belirtilmedikçe, partikül boyutu, agirlik medyan partikül boyutu d50 olarak belirtilir. Agirlik medyan partikül boyutu d50 degerini belirlemek için Sedigraf kullanilabilir. Metod ve enstrüman uzman kisilerce bilinmektedir ve dolgu maddelerinin ve pigmentlerin tane boyutunu belirlemek için siklikla kullanilir. Numuneler, yüksek hizli bir karistirici ve süperkersonikler kullanilarak dagitilir. Mevcut bulusun anlamindatuzla bilesik yapma yetenegine sahip alkali veya alkalin toprak bilesiginin "özgül yüzey alani (SSA)", bilesigin yüzey alani kütlesi ile bölünmüs olarak tanimlanmaktadir. Burada kullanilan özgül yüzey alani, BET izoteimi (ISO 9277: 2010) kullanilarak azot gazi adsorpsiyon ile ölçülür ve m2/g olarak belirtilir. Mevcut bulusun amaci için bir "reoloji modifiye edici", harç veya sivi bir kaplama bilesiminin reolojik hareketini, kullanilan kaplama yöntemi için gerekli spesifikasyona uyacak sekilde degistiren bir katki maddesidir. Mevcut bulusun anlaminda "tuzla bilesik yapma yetenegine sahip" bilesigi bir tuz olusturmak üzere -asit ile reaksiyona girebilen bir bilesik olarak tanimlanir. Mevcut bulusta kullanilan tuzla bilesik yapma yetenegine sahip bilesikler; alkalin veya alkalin toprak hidroksitler, bikarbonatlar veya karbonatlardir. Mevcut bulusun anlaminda, "yüzeyi muamele edilmis kalsiyum karbonat", örnegin yag asitleri, sürfaktan, siloksanlar veya polimerlerden olusan bir tabaka gibi muamele veya kaplama tabakasi ihtiva eden Çöktürülmüs veya modifiye edilmis kalsiyum karbonattir. Mevcut baglamda, "alt tabaka" terimi; mukavva, plastik, selofan, tekstil, ahsap, metal, cam, mika levha, nitroselüloz, tas veya beton gibi baski, kaplama veya boyama için uygun bir yüzeye sahip herhangi bir malzeme olarak anlasilmalidir. Ancak, bahsedilen örnekler sinirlayici degildir. Bu bulusun amaci için, bir katmanin "kalinligi" ve "katman agirligi", sirasiyla, uygulanan kaplama bilesiminin kurutulduktan sonraki katmanin kalinligi ve katman agirligina deginmektedir. Mevcut bulusun amaci için, "viskozite" veya "Brookfield viskozitesi" terimi, Brookfield viskozitesini belirtir. Brookfield viskozitesi, Brookfield DV-II + Pro viskometresi ile 25 ± 1 ° C 'de 100 rpm'de Brookfield RV mil setinin uygun bir mili kullanilarak ölçüldü ve mPa s cinsinden belirtildi. Teknik bilgisine dayanarak, deneyimli kisi, ölçülecek viskozite araligi için uygun olan Brookfield RV mil setinden bir mili seçecektir. Örnegin, 200 ila 800 mPa.s arasinda bir viskozite araligi için, is mili sayisi 3 kullanilabilir, 400 ila 1600 mPa.s arasinda bir viskozite araligi için, is mili sayisi 4 kullanilabilir, 800 ila 3 200 mPa.s arasinda arasinda bir viskozite araligi için, is mili sayisi 6 kullanilabilir ve 4 000 ile 8 000 000 mPa.s arasinda bir viskozite araligi için, is mili sayisi 7 kullanilabilir. Bu bulusun anlami içinde I'siispansiyon" veya I'harç", çözülmeyen katilar ve su içerir, istege göre baska katki maddeleri içerebilir ve genellikle yüksek miktarlarda kati madde içerir ve bu nedenle daha yapiskan olur ve olustugu sividan daha yüksek yogunlukta olabilmektedir. Mevcut bulusun amaci dogrultusunda, "görünür" terimi, nesnenin 2 M2 çözünürlüge sahip oldugu Rayleigh kriterlerini yerine getirdigi ve böylece, insan gözü, optik mikroskop, taramali elektron mikroskopu veya UV-, IR-, X-isini veya mikrodalga detektörleri gibi uygun bir tespit vasitasiyla ?t dalga uzunlugunda taninabilmesi anlamina gelir. "Görünmez" terimi, bir nesnenin yukarida tanimlanan kosullar altinda tespit edilemeyecegi anlamina gelir. Bir uygulamaya göre, "görünür" terimi bir nesnenin, tercihen ortam isigi altinda, desteksiz veya çiplak insan gözü tarafindan algilanabilecegi anlamina gelir ve "görünmez" terimi, bir nesnenin çevredeki isik altinda tercihen desteksiz veya çiplak bir insan gözü tarafindan algilanamayacagi anlamina gelir. Mevcut tarifnamede ve istemlerde "kapsayan" teriminin kullanildigi yerlerde, diger unsurlari dislamaz. Bu bulusun amaçlari için "olusan" terimi, "kapsayan" teriminin tercih edilen bir uygulamasi olarak düsünülmektedir. Bundan böyle bir grup, en azindan belli sayida uygulama içerecek sekilde tanimlandiysa, bu ayni zamanda yalnizca bu uygulamalardan olusan bir grubu açikladigi anlasilmalidir. tanimlanan "ihtiva eden" ile esdeger oldugu ifade edilmektedir. Belirli bir isme atifta bulunuldugunda örnegin "bir" veya "biri", belirtili ve belirtisiz nesne kullanildigi zaman, özellikle aksi bir sey belirtilmedigi müddetçe, bu durum, 0 ismin çogulunu içerir. terimler birbirlerinin yerine kullanilirlar. Böyle sinirli bir anlayis, tercih edilen bir uygulama olarak, "elde edilen" veya "tanimlanan" terimleri her zaman dâhil edilmis olsa dahi, örnegin, aksi açikça belirtilmedikçe, "elde edilen" terimi, örnegin "elde edilen" terimini izleyen adimlar dizisiyle elde edilmesi gereken bir uygulamayi belirtmek anlamina gelmez. Bu bulusa göre, alt tabaka üzerinde gizli bir desen olusturmak için bir yöntem sunulmaktadir; burada desen, alt tabakanin yüzeyine göre birinci açiyla bakildiginda görünmezdir ve alt tabakanin yüzeyine göre ikinci açidan bakildiginda görülebilmektedir. Bir alt katmanin temin edilmesine yönelik adimlari (a) içeren bir yöntem olup, burada alt katman, tuzla bilesik yapma yetenegine sahip alkalin veya alkalin toprak bilesigi ihtiva eden en azindan harici bir yüzey içerir, burada tuzla bilesik yapma yetenegine sahip alkalin veya alkalin toprak bilesigi, (b) en az bir asit ihtiva eden sivi muamele isleminini temin ederek ve (c) sivi islem bilesimini gizli bir desen olusturmak üzere mürekkep püskürtmeli baski ile önceden seçilmis desen biçiminde en az bir dis yüzey üzerine uygulanmasiyla birlikte, alkalin veya alkalin toprak hidroksit, alkalin veya alkalin toprak bikarbonat, alkalin veya alkalin toprak karbonat veya bunlarin karisimidir. Sivi muamele bilesimi, 1000 pl'ye esit veya daha düsük hacme sahip olan damlalar halinde uygulanir ve damla araligi, 1000 um'den düsük veya bu degere Asagida, bulus yönteminin ayrintilari ve tercih edilen uygulamalari daha ayrintili olarak ortaya konacaktir. Bu teknik ayrintilarin ve uygulamalarin ayni zamanda, bulusun gizli desen ve bulusun kullanimi ile bunlari içeren ürünler için de geçerli oldugu anlasilmalidir. Yöntem adimi a) Bu bulusun yönteminin a) adimina göre, alt tabaka temin edilmistir. Alt tabaka, opak, yari seffaf veya seffaf olabilecek en az bir harici yüzey içerir. Bir uygulamaya göre, alt tabaka; kâgit, mukavva, karton, plastik, dokumasiz, selofan, tekstil, ahsap, metal, cam, mika levha, mermer, kalsit, nitroselüloz, dogal tas, kompozit tas, tugla, beton ve bunlarin laminatlari veya karisimlarini ihtiva eden gruptan seçilir. Tercih edilen bir uygulamaya göre, alt tabaka kâgit, mukavva, kaplama tahtasi veya plastikten olusan gruptan seçilir. Bir baska uygulamaya göre, alt tabaka; kâgit, plastik ve/veya metalden olusan bir laminattir, burada tercihen plastik ve/veya metal, örnegin Tetra Pak'ta kullanilan ince folyolar seklindedir. Bununla birlikte, baski, kaplama veya boyama için uygun yüzeye sahip baska herhangi bir malzeme alt tabaka olarak da kullanilabilir. Mevcut bulusun bir uygulamasina göre, alt tabaka kâgit, karton veya konteyner kartonudur. Karton; karton tahta veya kutu kartonu, oluklu mukavva veya kromo karton veya çizim mukavva gibi ambalajlanmamis mukavva içerebilir. Kutu kartonu, layner kartonu ve/veya oluklu bir ortami kapsayabilir. Layner karton ve oluklu ortam, oluklu mukavva üretimi için kullanilir. Kâgit, mukavva veya kutu 600 g/m2 arasinda bir temel agirliga sahip olabilir. Bir uygulamaya göre, alt g/mz, 60 ila 80 g/mz, veya yaklasik 70 g/m2 temel agirliga sahip olan tercihen bir kagittir. Bir baska uygulamaya göre, alt tabaka plastik alt tabakadir. Uygun plastik malzemeler, örnegin, polietilen, polipropilen, polivinilklorür, poliesterler, polikarbonat reçineler veya Ilor içeren reçineler, tercihen polipropilendir. Uygun poliesterlerin örnekleri, poli(etilen tereftalat), poli(etilen naftalat) veya poli (ester diasetat)'tir. Flor içeren reçineler için örnek, poli(tetrafloro etilen) dir. Plastik alt- tabaka mineral dolgu maddesi, organik pigment, inorganik pigment veya bunlarin karisimlari ile doldurulabilir. Alt tabaka yukarida adi geçen malzemelerin sadece bir katindan olusabilir veya ayni malzemenin veya farkli malzemelerin birkaç alt katmanina sahip olan katman yapisi içerebilir. Bir uygulamaya göre, alt tabaka katman ile yapilandirilmistir. Bir baska uygulamaya göre alt tabaka en az iki alt tabaka, tercihen üç, bes veya yedi alt tabaka ile yapilandirilinistir, alt tabaka düz veya düz olmayan bir yapiya, örnegin kivrimlibir yapiya sahip olabilir. Tercihen alt tabakanin alt tabakalari kâgit, mukavva, kaplama tahtasi ve/veya plastikten imal edilir. Alt tabaka; çözücüler, su veya bunlarin karisimlari için geçirgen veya geçirimsiz olabilir. Bir uygulamaya göre, alt tabaka su, çözücüler veya bunlarin karisimlari için geçirimsizdir. Çözücüler için örnekler 4 ila 14 karbon atomuna sahip alifatik alkoller, eterler ve dieterler, glikoller, alkoksillenmis glikoller, glikol eterler, alkoksillenmis aromatik alkoller, aromatik alkoller, bunlarin karisimlari veya bunlarin su ile karisimlaridir. Bu bulusa göre, a) adiminda saglanan alt tabaka, tuzla bilesik yapma yetenegine sahip olan alkalin veya toprak alkali bilesigi içeren en azindan bir dis yüzey ihtiva eder burada, tuzla bilesik yapma yetenegine sahip olan alkalin veya alkalin toprak bilesigi alkalin veya alkalin toprakli hidroksit, alkalin veya alkalin toprakli bikarbonat, alkalin veya alkalin toprakli karbonat veya bunlarin bir karisimidir. En az bir dis yüzey, tuzla bilesik yapma yetenegine sahip olan toprakli alkalin bilesik ihtiva eden bir laminat veya kaplama tabakasi olabilir. Laminat veya kaplama tabakasi alt tabakanin yüzeyi ile dogrudan temas halindedir. Alt tabaka hali hazirda bir veya daha fazla Ön kaplama tabakasi ve/veya engelleyici tabakalar (daha ayrintili olarak asagida tarif edilecektir) içeriyorsa, laminat veya kaplama tabakasi sirasiyla üst Ön kaplama tabakasi veya bariyer tabakasiyla dogrudan temas halinde olabilir. Bir uygulamaya göre, en azindan bir harici yüzey ve a) adimindaki alt tabaka ayni malzemeden yapilir. Dolayisiyla, mevcut bulusun bir uygulamasina göre, alt tabaka, tuzla bilesik yapma yetenegine sahip bir alkalin veya alkalin toprak bilesigi içennektedir. En az bir dis yüzey, sadece alt tabakanin dis yüzeyi olabilir veya bir alt tabaka ile ayni malzemeden imal edilmis laminat veya kaplama tabakasi olabilir. Bulusa göre tuzla bilesik yapma yetenegine sahip olan alkalin veya toprak alkali bilesim; alkalin veya alkalin toprak hidroksit, alkalin veya alkalin toprakli bikarbonat, alkalin veya alkalin toprak karbonat veya bunlarin bir karisimidir. Tercihen, tuzla bilesik yapma yetenegine sahip alkalin veya toprak alkali bilesim, alkalin veya alkalin toprak karbonattir. Alkali veya toprak alkalin karbonat lityum karbonat; sodyum karbonat, potasyum karbonat, magnezyum karbonat, kalsiyum magnezyum karbonat, kalsiyum karbonat veya bunlarin karisimlarindan seçilebilir. Tercih edilen bir uygulamaya göre, alkalin veya alkalin toprak karbonat, kalsiyum karbonattir ve daha tercihen alkalin veya alkalin toprak karbonat; kati kalsiyum karbonat ve/veya yüzeyi Kati (veya dogal) kalsiyum karbonat (GCC); kireçtasi veya tebesir gibi tortul kayaçlardan veya metamorfik mermer kayalardan, yumurta kabuklarindan veya deniz kabuklarindan çikartilan, dogal olarak olusan bir kalsiyum karbonat formundan üretildigi anlasilmaktadir. Kalsiyum karbonatin üç çesit kristal polimorfu olarak var oldugu bilinmektedir: kalsit, aragonit ve vaterit. Kalsit, en yaygin kristal polimorf, kalsiyum karbonatin en kararli kristal biçimi olarak kabul edilir. Ayrik veya kümelenmis igne ortorombik kristal yapiya sahip olan aragonit daha az görülür. Vaterit nadir bulunan kalsiyum karbonat polimoriudur ve genellikle kararsizdir. Kati kalsiyum karbonat neredeyse sadece trigonal- rhombohedral olarak adlandirilan ve kalsiyum karbonat polimorflarinin en kararliligini temsil eden kalsitik polimorfa sahiptir. Mevcut bulusun anlamindaki kalsiyum karbonatin "kaynagi" terimi, kalsiyum karbonatin elde edildigi dogal olarak olusan mineral maddesini belirtir. Kalsiyum karbonatin kaynagi, magnezyum karbonat, alumino silikat vb. gibi dogal olarak olusan diger bilesenleri de içerebilir. Mevcut bulusun bir uygulamasina göre, GCC kuru ögütme ile elde edilmektedir. Mevcut bulusun bir baska uygulamasina göre, GCC, islak ögütme ve istege bagli olarak daha sonra kurutma ile elde edilir. Genel olarak, ögütme adimi, herhangi bir klasik Ögütme cihazi ile gerçeklestirilebilir, örnegin, bu sartlar altinda parçalanma çogunlukla, bilyali degirmen, çubuk degirmeni, titresim degirmeni, silindir kirici, santrifuj darbe degirmeni, dikey boncuk degirmeni, ögütme degirmeni, pin degirmeni, çekiç degirmeni, pülverizatör, parçalayici, kirici, biçak kesici veya teknikte yetkin bir kisi tarafindan bilinen bu gibi diger yöntemle ikinci bir yapidan kaynakli etkilerden ortaya çikar. Kalsiyum karbonat içeren mineral malzeme, mineral malzeme içeren islak zemin kalsiyum karbonat içerdigi durumda, ögütme adimi otojen ögütme yatay bilyali ögütme ve/Veya uzman kisi tarafindan bilinen diger islemlerle yapildiginda ögütme adimi gerçeklestirilebilir. Bu sekilde elde edilen mineral malzeme içeren islak islenmis kati kalsiyum karbonat, kurutmadan önce topaklastirma, santrifiijleme, süzme veya basinçli buharlastirma gibi bilinen islemlerle yikanabilir ve sudan arindirilabilir. Sonraki kurutma adimi, püskürterek kurutma gibi tek bir adimda veya en azindan iki adimda gerçeklestirilebilir. Bu tür bir mineral maddenin, kirlilikleri gidermek için zenginlestirme adimina (örnegin, Ilotasyon, agaitma veya manyetik ayirma adimi) maruz kalmasi da yaygindir. Mevcut bulusun bir uygulamasina göre, ögütülmüs kalsiyum karbonat; mermer, tebesir, dolomit, kireç tasi ve bunlarin karisimlarindan olusan gruptan seçilir. Bu bulusun bir uygulamasina göre, kalsiyum karbonat, bir çesit kati kalsiyum karbonat içermektedir. Mevcut bulusun bir baska uygulamasina göre, kalsiyum karbonat, farkli kaynaklardan seçilen iki veya daha fazla ögütülmüs kalsiyum karbonatin bir karisimini içermektedir. sulu bir ortamda karbondioksit ve kirecin reaksiyonundan sonra çökeltme ile elde edilen veya suda kalsiyum ve karbonat iyonu kaynaginin çökeltilmesi veya kalsiyum ve karbonat iyonlarinin örnegin CaClz ve NazCOg gibi çökelmesiyle elde edilen sentezlenmis bir materyaldir. PCC'yi üretmenin diger olasi yollari, kireç soda prosesi veya PCC'nin amonyak üretiminin bir yan ürünü oldugu Solvay prosesidir. Çökertilmis kalsiyum karbonat üç ana kristalin formda bulunur: kalsit, aragonit ve vaterit ve bu kristal formlarin her biri için birçok farkli polimorf (kristal aliskanligi) vardir. Kalsit; skalenohedral (S-PCC), rhombohedral (R-PCC), altigen prizmatik, pinakoidal, koloidal (C-PCC), kübik ve prizmatik (P-PCC) gibi tipik kristal aliskanliklarina sahip trigonal bir yapiya sahiptir. Aragonit; ikizlenmis altigen prizmatik kristallerin tipik kristal aliskanliklarina sahip olan ortorombik bir yapiya sahip oldugu gibi ince uzun prizmatik, kavisli, dik piramit, keski seklinde kristaller, dallanan agaç ve mercan veya solucan seklinde de bulunmaktadir. Vaterit, altigen kristal sistemine aittir. Elde edilen PCC harçlari mekanik olarak sudan arindirilabilir ve kurutulabilir. Bu bulusun uygulamasina göre, kalsiyum karbonat çöktürülmüs kalsiyum karbonat içerir. Bu bulusun bir baska uygulamasina göre, kalsiyum karbonat, farkli kristalimsi biçimlerden seçilen iki ya da daha fazla çöktürülmüs kalsiyum karbonatin ve çöktürülmüs kalsiyum karbonatin farkli polimorflarinin karisimini içermektedir. Örnegin, en az bir çöktürülmüs kalsiyum karbonat, S-PCC ve R- PCC'den seçilmis PCC arasindan seçilen PCC içerebilir. Baska bir uygulamaya göre, tuzla bilesik yapma yetenegine sahip olan alkalin veya toprak alkalin bilesim yüzeyi islem görmüs malzeme, örnegin yüzeyi islenmis kalsiyum karbonat olabilir. Yüzeyi islenmis kalsiyum karbonat; kati kalsiyum karbonat, modifiye edilmis kalsiyum karbonat veya islem veya yüzeyinde kaplama tabakasi ihtiva eden çöktürülmüs kalsiyum karbonat içerebilir. Örnegin, kalsiyum karbonat; örnegin alifatik karboksilik asitler, bunlarin tuzlari veya esterleri veya siloksan gibi bir hidrofobiklestirici madde ile islenebilir veya kaplanabilir. Uygun alifatik asitler, örnegin, stearik asit, palmitik asit, miristik asit, laurik asit veya bunlarin bir karisimi gibi C5 ila Czg yag asitleridir. Kalsiyum karbonat ayrica örnegin bir poliakrilat veya polidialildimetil-amonyum klorid (poliDADMAC) ile katyonik veya anyonik hale gelecek sekilde islem görebilir veya kaplanabilir. Yüzeyi islem A 1 'de tarif edilmektedir. Bir uygulamaya göre, yüzeyi islem görmüs kalsiyum karbonat; yag asitleri, tuzlari, esterleri veya bunlarin kombinasyonlari ile islemden elde edilen muamele tabakasi veya yüzey kaplamasi, tercihen alifatik C5 ila Czg yag asitleri, tuzlari, esterleri veya bunlarin kombinasyonlari ile muamele edilmesinden, daha da tercih edilen haliyle amonyum stearat, kalsiyum stearat, stearik asit, palmitik asit, miristik asit, laurik asit veya bunlarin karisimlarini ihtiva eder. Örnek teskil eden bir uygulamaya göre, alkalin ya da alkalin toprak karbonat, yüzeyi islem görmüs bir kalsiyum karbonat, tercihen yagli asit, tercihen stearik asit ile islem görmesiyle elde edilen muamele tabakasi veya yüzey kaplamasi içeren kati kalsiyum karbonattir. Bir uygulamada hidrofobik hale getirici madde, C4 ila C24'e kadar toplam karbon atomu miktarina ve/Veya bunun reaksiyon ürünlerine sahip olan bir alifatik karboksilik asittir. Buna göre, kalsiyum karbonat parçaciklarinin erisilebilir yüzey alaninin en azindan bir kismi, C4 ila C24'e kadar toplam karbon atomu miktarina sahip olan alifatik karboksilik asit ve/veya bunun reaksiyon ürünlerini içeren muamele tabakasi ile kaplanmaktadir. Bir malzemenin "erisilebilir" yüzey alani, malzeme yüzeyinin sulu bir çözeltinin, süspansiyonun, dagilimin veya hidrofobik hale getirici madde gibi reaktif moleküllerin sivi faziyla temas halinde olan kismini ifade eder. Mevcut bulusun anlamindaki alifatik karboksilik asidin "reaksiyon ürünleri" terimi, en az bir kalsiyum karbonatin en az bir alifatik karboksilik asit ile temas ettirilmesiyle elde edilen ürünler anlamina gelmektedir. Adi geçen reaksiyon ürünleri, uygulanan en az bir alifatik karboksilik asidin ve kalsiyum karbonat parçaciklarinin yüzeyinde bulunan reaktif moleküllerin en azindan bir kismi arasinda olusturulmaktadir. Bu bulusun anlamindaki alifatik karboksilik asit, bir veya daha fazla düz Zincirli, dallanmis Zincirli, doymus, doymamis ve/veya alisiklik karboksilik asitler arasindan seçilebilir. Tercihen alifatik karboksilik asit bir monokarboksilik asittir, yani alifatik karboksilik asitin özelligi tek bir karboksil grubunun bulunmasidir. Adi geçen karboksil grubu karbon iskeletinin sonuna yerlestirilir. Bu bulusun bir uygulamasinda, alifatik karboksilik asit, doymus dallanmamis karboksilik asitlerden seçilir, bir baska deyisle, alifatik karboksilik asit; pentanoik asit, heksanoik asit, heptanoik asit, oktanoik asit, nonanoik asit, dekanoik asit, undekanoik asit, laurik asit, tridekanoik asit, miristik asit, pentadekanoik asit, palmitik asit, heptadekanoik asit, stearik asit, nonadekanoik asit, arasidik asit, heenikosilik asit, behenik asit, trikosilik asit, lignoserik asit ve bunlarin karisimlarindan olusan karboksilik asitler grubundan tercihen seçilir. Bu bulusun bir baska uygulamasinda, alifatik karboksilik asit; oktanoik asit, dekanoik asit, laurik asit, miristik asit, palmitik asit, stearik asit, arasidik asit ve bunlarin karisimlarindan olusan gruptan seçilmektedir. Tercihen alifatik karboksilik asit; miristik asit, palmitik asit, stearik asit ve bunlarin karisimlarindan olusan gruptan seçilir. Örnegin, alifatik karboksilik asit, stearik asittir. Ek olarak veya alternatif olarak, hidrofobik hale getirici madde ikame edicide C2 ila C30 arasinda toplam karbon atomu miktarina sahip olan dogrusal, dallanmis, alifatik ve siklik bir gruptan seçilen bir grup ile mono-ikame edilmis süksinik anhidridden olusan en az bir mono-ikame edilmis süksinik anhidrit olabilir. Buna göre, kalsiyum karbonat parçaciklarinin erisilebilir yüzey alaninin en azindan bir kismi ikame edicide ve/veya reaksiyon ürünlerinde C2 ila C30 karbon atomlarinin toplam miktarina sahip olan dogrusal, dalli, alifatik ve siklik bir gruptan seçilen grup ile mono-ikame edilmis süksinik anhidridden olusan en az bir mono-ikameli süksinik anhidrid ihtiva eden muamele tabakasi ile kaplanir. En az bir mono- ikame edilmis sukkinik anhidridin, dalli ve/veya siklik bir grup ile mono-ikame edilmis sukkinik anhidritten olusmasi durumunda, bahsedilen grup, ikame edicide C3 ila C3O arasinda toplam karbon atomu miktarina sahip olacagi teknikte uzman kisilerce takdir edilecektir. Mevcut bulusun anlamindaki mono-ikame edilmis sukkinik anhidridin "reaksiyon ürünleri" terimi, kalsiyum karbonatin en az bir mono-ikame edilmis sukkinik anhidrid ile temas ettirilmesiyle elde edilen ürünleri belirtmektedir. Bahsedilen reaksiyon ürünleri, uygulanan en az bir mono-ikame süksin anhidridin ve kalsiyum karbonat parçaciklarinin yüzeyinde konumlandirilan reaktif moleküllerin en azindan bir kismi arasinda olusturulmaktadir. Örnegin, en az bir adet mono-ikame edilmis sukkinik anhidrid, C2 ila C30, tercihen C3 ila C20 ve en çok tercih edilen haliyle C4 ila C20 arasinda degisen bir karbon atomu miktarina sahip dogrusal bir alkil grubu olan grup ile mono-ikame edilmis sukkinik anhidridden olusur C3 ila C30, tercihen C3 ila C20 ve en çok tercih edilen haliyle C4 ila C18 arasinda degisen karbon atomuna sahip olan dallanmis bir alkil grubudur. Örnegin, en az bir mono-ikameli sukkinik anhidrit, ikame edicide C2 ila C30, tercihen C3 ila C20 ve en çok tercihen C4 ila C18 karbon atomlarina sahip olan bir dogrusal alkil grubu olan mono-sübstitüe süksinik anhidridden olusur. Ilave olarak veya alternatif olarak, en az bir mono-ikameli süksinik anhidrid, ikame edicide C3 ila C30, tercihen C3 ila C20 ve en çok tercihen C4 ila C18 karbon atomuna sahip olan dalli bir alkil grubu olan bir grupla mono-ikame edilmis süksinik anhidridden olusur. Bu bulusun anlamindaki "alkil" terimi, karbon ve hidrojenden olusan bir dogrusal veya dalli, doymus organik bilesigi belirtir. Baska bir deyisle, "alkil mono-ikame edilmis sukkinik anhidritler", ilave süksinik anhidrit grubu içeren lineer veya dalli doymus hidrokarbon zincirlerinden olusur. Bu bulusun bir uygulamasinda, en az bir mono-ikameli süksinik anhidrit; en az bir dogrusal veya dalli alkil mono-ikame süksinik anhidrittir. Örnegin, en az bir alkil mono-ikameli süksinik anhidrid; etilsüksinik anhidrid, propilsüksinik anhidrid, butilsüksinik anhidrid, triizobütil süksinik anhidrit, pentilsüksinik anhidrid, heksilsüksinik anhidrid, heptilsüksinik anhidrid, oktilsüksinik anhidrit, nonilsüksinik anhidrid, desil süksinik anhidrid, dodesil süksinik anhidrid, heksadekanil süksinik anhidrit, oktadekanil süksinik anhidrid ve bunlarin karisimlarindan olusan gruptan seçilir. Takdir edilecegi gibi, "bütilüksinik anhidrid" terimi, lineer ve dalli bütilüksinik anhidrid(ler)i kapsar. Lineer butil süksinik anhidrit(ler)in spesifik bir örnegi, n- bütilsüksinik anhidriddir. Dallanmis bütilsüksinik anhidrit(ler)in spesifik örnekleri, izo-bütilsüksinik anhidrit, sek-butil süksinik anhidrid ve/Veya tert- butilsüksin ik anhidriddir. Ayrica, örneklerden "heksadekanil süksinik anhidrit" terimi dogrusal ve dalli heksadekanil süksinik anhidrit(ler)i kapsar. Dogrusal heksadekanil süksinik anhidrit(ler)in spesifik bir örnegi n-heksadekanil süksinik anhidriddir. Dallanmis heksadekanil süksinik anhidrit(ler)in spesifik örnekleri 14-metilpentadekanil süksinik anhidrit,13 metilpentadekanil süksinik anhidrit, 12-metilpentadekanil süksinik anhidrit, ll-metilpentadekanil süksinik anhidrit, 10-metilpentadekanil süksinik anhidrit, 9-metilpentadekanil süksinik anhidrit, 8-metilpentadekanil süksinik anhidrit, 7-metilpentadekanil süksinik anhidrit, 6-metilpentadekanil süksinik anhidrit, 5-metilpentadekanil süksinik anhidrit, 4-metilpentadekanil süksinik anhidrit, 3-metilpentadekanil süksinik anhidrit, 2-metilpentadekanil süksinik anhidrit, l-metilpentadekanil süksinik anhidrit, l3-etilbutadekanil süksinik anhidrit, l2-etilbütadekanil süksinik anhidrit, ll-etilbütadekanil süksinik anhidrit, lO-etilbutadekanil süksinik anhidrit, 9-etilbütadekanil süksinik anhidrid, 8-etilbütadekanil süksinik anhidrit, 7-eti1butadekani1 süksinik anhidrit, 6- etilbütadekanil süksinik anhidrit, -etilbütadekanil süksinik anhidrit, 4-etilbutadekanil süksinik anhidrit, 3- etilbütadekanil süksinik anhidrit, 2-etilbütadekani1 süksinik anhidrit, l- etilbütadekanil süksinik anhidrit, 2-bütild0desanki1 süksinik anhidrit, 1- heksildekanil süksinik anhidrit, l-heksil-Z-dekanil süksinik anhidrit, 2- heksildekanil süksinik anhidrid, 6,12-dimetilbütadekanil süksinik anhidrit, 2,2- dietildodesanil süksinik anhidrit, 4,8,12-trimetiltridekanil süksinik anhidrit, 2,2,4,6,8-pentametildüankadesil süksinik anhidrit, 2-etil-4-metil-2- (2-metilpentil) -heptil süksinik anhidrit ve / veya 2-etil-4,6-dirnetil-2-pr0piln0nil süksinik anhidrittir. Ayrica, örneklerden "oktadekanil süksinik anhidrit" terimi lineer ve dallanmis oktadekanil süksinik anhidrit(ler)i kapsar. Lineer oktadekanil süksinik anhidrit(ler)in spesifik bir örnegi, n-oktadekanil süksinik anhidriddir. Dallanmis heksadekanil süksinik anhidrit(1er)in spesifik örnekleri,16-metilheptadekanil süksinik anhidrit, 15-metilheptadekanil süksinik anhidrit, 14-n1etilheptadekanil süksinik anhidrit, 13-metilheptadekanil süksinik anhidrit, 12-metilheptadekanil süksinik anhidrit, ll-metilheptadekanil süksinik anhidrit, 10-metilheptadekani1 süksinik anhidrit, 9-metilheptadekanil süksinik anhidrit, 8-metilheptadekanil süksinik anhidrit, 7-metilheptadekanil süksinik anhidrit, 6-n1etilheptadekanil süksinik anhidrit, 5-metilheptadekani1 süksinik anhidrit, 4-metilheptadekani1 süksinik anhidrit, 3-metilheptadekanil süksinik anhidrit, 2-metilheptadekanil süksinik anhidrit, l-metilheptadekanil süksinik anhidrit, 14 etilheksadekanil süksinik anhidrit,13-etilheksadekanil süksinik anhidrit, 12-etilheksadekani1 süksinik anhidrit,1l-etilheksadekanil süksinik anhidrit, 10-eti1heksadekani1 süksinik anhidrit, 9-etilheksadekanil süksinik anhidrit, 8-etilheksadekanil süksinik anhidrit,7-etilheksadekanil süksinik anhidrit, 6-etilheksadekanil süksinik anhidrit, -etilheksadekanil süksinik anhidrit, 4-eti1heksadekanil süksinik anhidrit,3- etilheksadekanil süksinik anhidrit, 2-etilheksadekanil süksinik anhidrit,l- etilheksadekanil süksinik anhidrit, 2-heksild0dekanil süksinik anhidrit, 2- heptüplündekanil süksinik anhidrit, izo-oktadekanil süksinik anhidrid ve / veya 1- 0ktil-2-dekanil süksinik anhidrittir. Mevcut bulusun bir uygulamasinda en az alkil mono-sübstitüe süksin anhidrid; butilsüksinik anhidrid, heksilsüksinik anhidrit, heptilsüksinik anhidrit, oktilsüksinik anhidrid, heksadesekil süksinik anhidrit, oktadekanil süksinik anhidrid ve bunlarin karisimlarini içeren gruptan seçilir. Bu bulusun bir uygulamasinda en az bir mono-ikameli süksinik anhidrid, bir tür alkil mono-ikameli süksinik anhidriddir. Örnegin, alkil mono-ikameli süksinik anhidrid, butil süksinik anhidrittir. Alternatif olarak alkil mono-ikameli süksinik anhidrid, heksilsüksinik anhidrittir. Alternatif olarak alkil mono-ikameli süksinik anhidrid, heptilsüksinik anhidrid veya oktilsüksinik anhidrittir. Alternatif olarak alkil mono-ikameli süksinik anhidrid, heksadekanil süksinik anhidriddir. Örnegin, alkil mono-ikameli süksinik anhidrid, lineer hekzadekanil süksinik anhidrid, örnegin n-hekzadekanil süksinik anhidrid veya dallanmis heksadekanil süksinik anhidrid, örnegin l-heksil-2-dekanil süksinik anhidridtir. Alternatif olarak alkil mono-ikameli süksinik anhidrid, oktadekanil süksinik anhidriddir. Örnegin, alkil mono-ikameli sükinik anhidrid, n-oktadekanil süksinik anhidrid veya izo- oktadekanil süksinik anhidrid veya 1-0ktil-2-dekanil süksinik anhidrit gibi dallanmis oktadesekil süksinik anhidrit gibi dogrusal oktadesekil süksinik anhidrittir. Bu bulusun bir uygulamasinda alkil mono-ikameli süksinik anhidrid, n- butilsüksinik anhidrid gibi butil süksinik anhidrittir. Mevcut bulusun bir uygulamasinda en az bir mono-ikameli süksinik anhidrit, iki veya daha fazla alkil mono-ikameli süksinik anhidridin bir karisimidir. Örnegin, en az bir mono-ikameli süksinik anhidrid, iki veya üç çesit alkil mono-ikameli süksinik anhidridin bir karisimidir. Bu bulusun bir uygulamasinda, en az bir mono-ikameli süksinik anhidrid; C2 ila C30`a kadar toplam karbon atomu miktarina sahip olan dogrusal alkenil grubu olan bir grup ile mono ikame edilmis süksinik anhidrid, tercihen C3 ila C20 ve en çok tercihen C4 ila C18 arasindadir veya C3 ila C30 arasinda toplam karbon atomu miktarina sahip dalli bir alkenil grubu, tercihen C4 ila C20 arasindadir ve en çok tercihen C4 ila C18'den olusur. Bu bulusun anlamindaki "alkenil" terimi, karbon ve hidrojenden olusan bir dogrusal veya dallanmis, doymamis organik bilesigi belirtir. Bahsedilen organik bilesik ayrica ikame edicide en az bir çift bag, tercihen bir çift bag içerir. Diger bir deyisle, "alkenil mono-ikame edici süksinik anhidritler", ilave süksinik anhidrit grubu içeren lineer veya dalli, doymamis hidrokarbon zincirlerinden olusur. Mevcut bulusun anlamindaki "alkenil" teriminin yan ve trans izomerleri içerdigi kabul edilmektedir. Bu bulusun bir uygulamasinda en az bir mono-ikame edici süksinik anhidrid, en az bir lineer veya dalli alkenil mono- ikame edici süksinik anhidriddir. Örnegin, en az bir alkenil mono-ikame süksinik anhidrid; ctenilsüksinik anhidrit, propenilüksinik anhidrid, butenilüksinik anhidrid, triizobutenil süksinik anhidrit, pentenilüksinik anhidrit, heksenilsüksinik anhidrit, heptenilsüksin anhidrid, oktenilüksinik anhidrid, nonenilsüksinik anhidrit, desenil süksinik anhidrid, dodesenil süksinik anhidrit, heksadesenil süksinik anhidrid, oktadesenil süksinik anhidrid ve bunlarin karisimlarini ihtiva eden gruptan seçilir. Buna göre, örneklerden "heksadesenil süksinik anhidrit" terimi dogrusal ve dalli heksadesenil süksinik anhidrid(ler)i kapsar. Dogrusal heksadesenil süksinik anhidrit(ler)in spesifik örnegi, 14-heksadesenil süksinik anhidrit, l3-heksadesenil süksinik anhidrit, lZ-heksadesenil süksinik anhidrid, ll-heksadesenil süksinik anhidrit, 10-heksadesenil süksinik anhidrit, 9-heksadesenil süksinik anhidrit, 8- heksadesenil süksinik anhidrit, 7-heksadesenil süksinik anhidrit, 6-heksadesenil süksinik anhidrit, 5-heksadesenil süksinik anhidrit,4-heksadesenil süksinik anhidrit, 3-heksadeseni1 süksinik anhidrit ve/veya 2-heksadesenil süksinik anhidrit gibi n-heksadesenil süksinik anhidrittir. Dallanmis heksadesenil süksinik anhidrit(ler)in spesifik örnekleri, 14-metil-9-pentadesenil süksinik anhidrit, 14- metil-Z-pentadesenil süksinik anhidrit, l-heksil-Z-desenil süksinik anhidrid ve/veya izo-heksadesenil süksinik anhidrittir. Ayrica, örneklerden "oktadesenil süksinik anhidrit" teriminin dogrusal ve dalli oktadesenil süksinik anhidrid(ler)i kapsadigi anlasilacaktir. Lineer oktadesenil süksinik anhidrit(1er)in spesifik bir örnegi,16-0ktadesenil süksinik anhidrit, 15- oktadesenil süksinik anhidrit,14-0ktadesenil süksinik anhidrit, l3-0ktadesenil süksinik anhidrit, 12-0ktadesenil süksinik anhidrit, ll-oktadesenil süksinik anhidrit, lO-oktadesenil süksinik anhidrit, 9-0ktadeseni1 süksinik anhidrit, 8- oktadesenil süksinik anhidrid, 7- oktadesenil süksinik anhidrit, 6-0ktadesenil süksinik anhidrid, 5-0ktadesenil süksinik anhidrit, 4-0ktadesenil süksinik anhidrit, 3-0ktadesenil süksinik anhidrit ve / veya 2-0ktadesenil süksinik anhidrit gibi n- oktadesenil süksinik anhidrittir. Dallanmis oktadesenil süksinik anhidrid(1er)in spesifik ömekleri,16-metil-9-heptadesenil süksinik anhidrit, 16-metil-7- heptadesenil süksinik anhidrid, 1-0ktil-2-desenil süksinik anhidrid ve/veya izo- oktadesenil süksinik anhidrittir. Bu bulusun bir uygulamasinda, en az bir alkenil mono-ikameli süksinik anhidrid; heksenilsüksinik anhidrit, oktenilsüksinik anhidrid, heksadesenil süksinik anhidrit, oktadesenil süksinik anhidrid ve bunlarin karisimlarini ihtiva eden gruptan seçilir. Bu bulusun bir uygulamasinda en az bir mono-ikameli süksinik anhidrid, alkenil mono-ikameli süksinik anhidriddir. Örnegin, alkenil mono-ikameli süksinik anhidrid, heksenilsüksinik anhidrittir. Alternatif olarak, alkenil mono-ikameli süksinik anhidrid, oktenilüksinik anhidrittir. Alternatif olarak, alkenil mono- ikameli süksinik anhidrid, heksadesenil süksinik anhidriddir. Örnegin, alkenil mono-ikameli süksinik anhidrid; l-heksil-Z-desenil süksinik anhidrid gibi n- heksadesenil süksinik anhidrid veya dalli heksadesenil süksinik anhidrit gibi lineer hekzadesenil süksinik anhidrittir. Alternatif olarak alkenil mono-ikameli süksinik anhidrid, oktadesenil süksinik anhidrittir. Örnegin, alkil mono-ikameli süksinik anhidrid, n-oktadesenil süksinik anhidrit veya dalli oktadesenil süksinik anhidrid, örnegin izo-oktadesenil süksinik anhidrit veya l-oktil-2-desenil süksinik anhidrit gibi dogrusal oktadesenil süksinik anhidrittir. Bu bulusun bir uygulamasinda, alkenil mono-ikameli süksinik anhidrid, n- oktadesenil süksinik anhidrid gibi dogrusal oktadesenil süksinik anhidrittir. Bu bulusun bir baska uygulamasinda, alkenil mono-ikameli süksinik anhidrid, n- oktenilsüksinik anhidrit gibi lineer oktenilsüksinik anhidrittir. Eger en az adet mono-ikameli süksinik anhidrit, alkenil mono-ikame edilmis süksinik anhidrid ise, alkenil mono-ikameli süksinik anhidritin en az bir mono- ikameli süksinik anhidridin toplam agirligina dayanilarak agirlikça 2% 95 Wt -% ve tercihen 2% 96.5 wt -% olacagi takdir edilmelidir. Mevcut bulusun bir uygulamasinda en az bir mono-ikameli süksinik anhidrid, iki veya daha fazla alkenil mono-ikameli süksinik anhidridin bir karisimidir. Örnegin, en az bir mono-ikameli süksinik anhidrid, iki veya üç çesit alkenil mono-ikameli süksinik anhidridin bir karisimidir. Bu bulusun bir uygulamasinda en az bir mono-ikameli süksinik anhidrid, dogrusal heksadesenil süksinik anhidrid(ler) ve dogrusal oktadesenil süksinik anhidrid(ler)i içeren iki veya daha fazla alkenil mono-ikameli süksinik anhidridin bir karisimidir. Alternatif olarak, en az bir mono-ikameli süksinik anhidrid; dallanmis heksadesenil süksinik anhidrid (ler) ve dallanmis oktadesenil süksinik anhidrid(ler)i içeren iki veya daha fazla alkenil mono-ikameli süksinik anhidridin bir karisimidir. Örnegin, bir veya daha fazla heksadesenil süksinik anhidrit, l- heksil-Z-desenil süksinik anhidrid gibi n-heksadesenil süksinik anhidrid ve/Veya dalli heksadesenil süksinik anhidrit gibi lineer hekzadesenil süksinik anhidrittir. Ilave olarak veya altematifolarak, bir veya daha fazla oktadesenil süksin anhidrid; n-oktadesenil süksin anhidrid ve/veya izo-oktadesenil süksinik anhidrit ve/Veya l- 0ktil-2-desenil süksinik anhidrit gibi dalli oktadesenil süksinik anhidrit gibi lineer oktadesenil süksinik anh idrittir. Ayrica, en az bir mono-ikameli süksinik anhidridin, en az bir alkil mono-ikameli süksinik ve en az bir alkenil mono-ikameli süksinik anhidritten olusan bir karisim olabilecegi de takdir edilmektedir. Eger en az bir adet mono-ikameli süksinik anhidrid, en az bir alkil mono-ikameli süksinik anhidrid ve en az bir alkenil mono-ikameli süksinik anhidridin bir karisimi ise, en az bir alkil mono-ikameli süksinik anhidritlerin alkil ikame edicisi ve en az bir alkenil mono-ikameli süksinik anhidridlerin alkenil ikame edicisi tercihen aynidir. Örnegin, en az bir mono-ikame edilmis süksinik anhidrit, etilsüksinik anhidrit ve etenilsüksinik anhidritin bir karisimidir. Alternatif olarak, en az bir mono-ikameli süksinik anhidrid, propilsüksinik anhidrit ve propenilüksinik anhidritten olusan bir karisimdir. Alternatif olarak, en az bir mono-ikameli süksinik anhidrit, bir butilüksinik anhidrid ve butenil süksinik anhidridin bir karisimidir. Alternatif olarak, en az bir mono- ikameli süksinik anhidrid, triizobütil süksinik anhidrit ve triizobutenil süksinik anhidritin bir karisimidir. Alternatif olarak, en az bir mono-ikameli süksinik anhidrid, pentilsüksinik anhidrid ve pentenilüksinik anhidridin bir karisimidir. Alternatif olarak, en az bir mono-ikameli süksinik anhidrid, heksilsüksinik anhidrit ve heksenilsüksinik anhidritten olusan bir karisimdir. Alternatif olarak, en az bir mono-ikameli süksinik anhidrid, heptilsüksinik anhidrid ve heptenilsüksinik anhidritin bir karisimidir. Altematif olarak, en az bir mono-ikameli süksinik anhidrid, oktilsüksinik anhidrid ve oktenilüksinik anhidritten olusan bir karisimdir. Alternatif olarak, en az bir mono-ikameli süksinik anhidrit, nonilsüksinik anhidrit ve nonenilüksinik anhidritten olusan bir karisimdir. Alternatif olarak, en az bir mono-ikameli süksinik anhidrid, desil süksinik anhidrid ve desenil süksinik anhidridin bir karisimidir. Alternatif olarak, en az bir mono- ikameli süksin anhidrid, bir dodesil süksinik anhidrid ve dodesenil süksinik anhidrit karisimidir. Alternatif olarak, en az bir mono-ikameli süksinik anhidrid, hekzadekanil süksinik anhidrit ve heksadesenil süksinik anhidridin karisimidir. Örnegin, en az bir mono-ikameli süksinik anhidrid, dogrusal hekzadekanil süksinik anhidrid ve dogrusal heksadesenil süksinik anhidridin bir karisimi ya da dalli bir hekzadekanil süksinik anhidrid ve dallanmis heksadesenil süksinik anhidridin bir karisimidir. Alternatif olarak, en az bir mono-ikameli süksinik anhidrid, oktadekanil süksinik anhidrit ve oktadesenil süksinik anhidritin bir karisimidir. Örnegin, en az bir mono-ikameli süksinik anhidrid, dogrusal bir oktadekanil süksinik anhidrid ve dogrusal oktadesenil süksinik anhidridin bir karisimi ya da dalli bir oktadekanil süksinik anhidrid ve dalli oktadesenil süksinik anhidridin bir karisimidir. Bu bulusun bir uygulamasinda en az bir mono-ikameli süksinik anhidrit, nonilsüksinik anhidrit ve nonenilsüksinik anhidritteii olusan bir karisimdir. Eger en az bir adet mono-ikameli süksinik anhidrid; en az bir alkil mono-ikameli süksinik anhidrid ve en az bir alkenil mono-ikameli süksinik anhidridin bir karisimiysa en az bir alkil mono-ikameli süksinik anhidrid ile en az bir alkenil mono-ikameli süksinik anhidrid arasindaki agirlik orani 90:10 ila 10:90 (agirlikça- anhidrid ile en az bir alkenil mono-ikameli süksinik anhidrid arasindaki agirlik arasinda degisen miktardadir. Ilaveten veya alternatif olarak hidrofobiklestirici madde bir fosforik asit ester karisimi olabilir. Buna göre, kalsiyum karbonat parçaciklarinin erisilebilir yüzey alaninin en azindan bir kismi, bir veya daha fazla fosforik asit mono-ester ve/Veya bunun reaksiyon ürünlerinin bir fosforik asit ester karisimi ve bir veya daha fazla fosforik asit di-ester ve/veya bunlarin tepkime ürünlerinden olusan bir islem tabakasi ile kaplanir. Mevcut bulusun anlamindaki fosforik asit mono esterin ve bir veya daha fazla fosforik asit di-esterin "reaksiyon ürünleri" terimi, kalsiyum karbonatin en az bir fosforik asit ester karisimi ile temas ettirilmesiyle elde edilen ürünler anlamina gelir. Bahsedilen reaksiyon ürünleri, uygulanan fosforik asit ester karisiminin en az bir kismi ile kalsiyum karbonat parçaciklarinin yüzeyinde konumlandirilan reaktif moleküller arasinda olusturulmaktadir. Bu bulusun anlami dahilindeki "fosforik asit mono ester" terimi, alkol ikamesi içinde C6 ila C30 arasinda, tercihen C8 ila C22 arasinda, daha tercih edilen haliyle C8 ila C20 arasinda ve en çok tercih edilen haliyle C8 ila Cl8 arasinda degisen toplam karbon atomuna sahip doymamis veya doymus, dalli veya dogrusal, alifatik veya aromatik alkollerden seçilen bir alkol molekülü ile mono esterlestirilen o-fosforik asit molekülüne atifta bulunur. Bu bulusun anlami dahilindeki "fosforik asit di- ester" terimi, alkol ikamesi içinde C6 ila C30 arasinda, tercihen C8 ila C22 arasinda, daha tercih edilen haliyle C8 ila C20 arasinda ve en çok tercih edilen haliyle C8 ila Cl8 arasinda degisen toplam karbon atomuna sahip doymamis veya doymus, dalli veya dogrusal, alifatik veya aromatik alkollerden seçilen ikii alkol molekülü ile di esterlestirilen o-fosforik asit molekülüne atifta bulunur. karisiminda bir veya daha fazla fosforik asit mono esterinin mevcut olabilecegi anlamina gelir. Buna göre, bir veya daha fazla fosforik asit mono-esterin bir tür fosforik asit mono-ester olabilecegi belirtilmelidir. Altematif olarak, bir veya daha fazla fosforik asit mono-ester, iki veya daha fazla fosforik asit mono-esterin bir karisimi olabilir. Örnegin, bir veya daha fazla fosforik asit mono-ester, iki çesit fosforik asit mono-ester gibi iki veya üç çesit fosforik asit mono-ester karisimi olabilir. Bu bulusun bir uygulamasinda, bir veya daha fazla fosforik asit mono-ester; alkol ikamesinde C6 ile C30'dan karbon atomlarinin toplam miktarina sahip doymamis veya doymus dalli veya düz alifatik veya aromatik alkollerden seçilen bir alkolle esterlestirilmis o-fosforik asit molekülünden olusur. Örnegin, bir veya daha fazla fosforik asit mono-esteri, alkol ikamesi içerisinde toplam karbon atom miktari C8 ile C22 arasinda, daha tercih edilen haliylea C8 ile C20 arasinda ve en çok tercih edilen haliyle C8 ile CIS arasinda degisen doymamis veya doymus, dalli veya dogrusal, alifatik veya aromatik alkollerden seçilen bir alkollü esterefiye edilmis o-fosforik asit molekülünden olusur. Bu bulusun bir uygulamasinda, bir veya daha fazla fosforik asit mono-ester; heksil fosforik asit mono-ester, heptil fosforik asit mono-ester, oktil fosforik asit monoester, 2-etilheksil fosforik asit mono-ester, nonil fosforik asit mono-ester, desil fosforik asit mono-ester, undesil fosforik asit mono-ester, dodesil fosforik asit mono-ester, tetradesil fosforik asit mono-ester, heksadesilfosforik asit mono- ester, heptilnonil fosforik asit mono-ester, oktadesil fosforik asit mono-ester, 2- oktil-l-desilfosforik asit mono-ester, 2-oktil-1-dodesilfosforik asit mono-ester ve bunlarin karisimlarindan olusan gruptan seçilir. Örnegin, bir veya daha fazla fosforik asit mono-ester; 2-etilheksil fosforik asit mono-ester, heksadesil fosforik asit mono-ester, heptilnonil fosforik asit mono- ester, oktadesil fosforik asit mono-ester, 2-0ktil-1-desilfosforik asit mono-ester, 2- oktil-l-dodesilfosforik asit mono-ester ve bunlarin karisimlarini ihtiva eden gruptan seçilir. Bu bulusun bir uygulamasinda bir veya daha fazla fosforik asit mono-ester, 2-oktil-l-dodesilfo sforik asit mono-esterdir. fosforik asit di-ester, kalsiyum karbonat ve/veya fosforik asit ester karisiminin kaplama katmaninda bulunabilecegi takdir edilmektedir. Buna göre, bir veya daha fazla fosforik asit di-esterin bir tür fosforik asit di-ester olabilecegi unutulmamalidir. Alternatif olarak, bir veya daha fazla fosforik asit di- ester, iki veya daha fazla fosforik asit di-ester karisimi olabilir. Örnegin, bir veya daha fazla fosforik asit di-ester, iki çesit fosforik asit di-ester gibi iki veya üç çesit fosforik asit di-ester karisimi olabilir. Bu bulusun bir uygulamasinda, bir veya daha fazla fosforik asit di-ester, alkol ikamesi içinde C6 ila C30'dan karbon atomlarinin toplam miktarina sahip doymamis, doymus, dalli veya dogrusal, alifatik veya aromatik alkollerden seçilen iki alkolle birlikte esterlestirilmis o-fosforik asit molekülünden olusur. Örnegin, bir veya daha fazla fosforik asit di-ester, alkol ikamesi içerisinde toplam karbon atomlari miktari C8 ila C22, daha tercihen C8 ile C20 ve en çok tercih edilen haliyle C8 ile C18 arasinda olan doymamis veya doymus, dalli veya dogrusal, alifatik veya aromatik alkollerden seçilen iki yagli akolle esterlestirilmis o- fosforik asit molekülünden olusur. Fosforik asidi esterifelestirmek için kullanilan iki alkol; alkol ikamesi içerisinde C6 ila C30'dan karbon atomlarinin toplam miktarina sahip ayni veya farkli, doymamis veya doymus, dalli veya dogrusal, alifatik veya aromatik alkollerden bagimsiz olarak seçilebilecegi takdir edilmektedir. Bir baska deyisle, bir veya daha fazla fosforik asit diesteri, ayni alkollerden türetilen iki ikame ediciyi içerebilir veya fosforik asit di-ester molekülü, farkli alkollerden türetilen iki ikame ediciyi içerebilir. Bu bulusun bir uygulamasinda, bir veya daha fazla fosforik asit di-ester, alkol ikamesinde C6 ile C30 tercihen C8 ila C22, daha tercihen C8 ila C20 ve en çok tercih edilen sekliyle C8 ila Cl8 karbon atomlarinin toplam miktarina sahip ayni veya farkli, doymus veya dogrusal ve alifatik alkollerden seçilen iki alkolle birlikte esterlestirilmis bir o-fosforik asit molekülünden olusur. Altematif olarak, bir veya daha fazla fosforik asit di-ester, alkol ikamesi içerisinde C6 ile C30, tercihen C8 ila C22, daha tercihen C8 ila C20 ve en çok tercih edilen haliyle C8 ila C18 arasinda degisen toplam karbon atomu miktarina sahip ayni veya farkli, doymus veya doymamis ve alifatik alkollerden seçilen iki alkolle esterlestirilmis fosforik asit molekülünden olusur. Bu bulusun bir uygulamasinda, bir veya daha fazla fosforik asit di-ester, heksil fosforik asit di-ester, heptil fosforik asit di-ester, oktil fosforik asit di-ester, 2- etilheksil fosforik asit di-ester, nonil fosforik asit di-ester, desil fosforik asit di- ester, undesil fosforik asit di-ester, dodesil fosforik asit di-ester, tetradesil fosforik asit di-ester, heksadesil fosforik asit di-ester, heptilnonil fosforik asit di-ester, oktadesil fosforik asit di-ester, 2-oktil-l-desilfosforik asit di-ester, 2-0ktil-1- dodesilfosforik asit di-ester ve bunlarin karisimlarini ihtiva eden gruptan seçilir. Örnegin, bir veya daha fazla fosforik asit di-ester; 2-etilheksil fosforik asit di- ester, heksadesil fosforik asit di-ester, heptilnonil fosforik asit di-ester, oktadesil fosforik asit di-ester, 2-0ktil-l-desilfosIbrik asit di-ester, 2-oktil-l-dodesilfosforik asit di-ester ve bunlarin karisimlarini ihtiva eden gruptan seçilir. Bu bulusun bir uygulamasinda, bir veya daha fazla fosforik asit di-ester; 2-oktil-l-dodesilfosforik asit di-esterdir. Bu bulusun bir uygulamasinda, bir veya daha fazla fosforik asit mono-ester; 2- etilheksil fosforik asit mono-ester, heksadesil fosforik asit mono-ester, heptilnonil fosforik asit mono-ester, oktadesil fosforik asit mono-ester, 2-0ktil-l-desilfosf0rik asit mono-ester, 2-0ktil-l-dodesilfosforik asit mono-ester ve bunlarin karisimlarindan olusan gruptan seçilir ve bir veya daha fazla fosforik asit di-ester; 2-etilheksil fosforik asit di-ester, heksadesil fosforik asit di-ester, heptilnonil fosforik asit di-ester, oktadesil fosforik asit di-ester, 2-0ktil-1-desilfosforik asit di- ester, 2-oktil-l dodesilfosforik asit di-ester ve bunlarin karisimlarini ihtiva eden gruptan seçilir. Örnegin, kalsiyum karbonatin ulasilabilir yüzey alaninin en azindan bir kismi; fosforik asit mono-esterin ve/veya bunun reaksiyon ürünlerinin fosforik asit ester karisimi ve fosforik asit di-ester ve/veya bunlarin reaksiyon ürünlerini ihtiva eder. Bu durumda, fosforik asit mono-ester; 2-etilheksil fosforik asit mono-ester, heksadesil fosforik asit mono-ester, heptilnonil fosforik asit monoester, oktadesil fosforik asit mono-ester, 2-0ktil-1-desilfosf0rik asit mono-ester ve 2-oktil-1- dodesilfosforik asit mono-ester ihtiva eden gruptan seçilir, f0 sforik asit di-ester; 2- etilheksil fosforik asit di-ester, heksadesil fosforik asit di-ester, heptilnonil fosforik asit di-ester, oktadesil fosforik asit diester, 2-0ktil-1-desilf0sf0rik asit di- ester ve 2-oktil-l-d0desilf0 sforik asit di-ester ihtiva eden gruptan seçilir. Fosforik asit ester karisimi; spesifik molar orani içerisinde bir veya birden fazla fosforik asit mono-ester ve/veya bunlarin tepkime ürünlerini bir veya birden fazla fosforik asit di-ester ve/veya bunlarin tepkime ürünleri içinde yer alir. Özellikle, muamele katmani ve/veya fosforik asit esteri karisimindaki bir veya birden fazla fosforik asit mono-ester ve/veya bunlarin tepkime ürünlerinin bir veya birden fazla fosforik asit di-ester ve/veya bunlarin tepkime ürünlerine molar orani; 1:10 1:40 arasinda hatta daha tercihen 1:1.1 ila 1:20 arasinda ve en çok tercih edilen haliyle 1:1.1 ila 1:10 arasinda degisen orandadir. Mevcut bulusun anlami dâhilindeki "bir veya daha fazla fosforik asit mono esterin ve bunun tepkime ürünlerinin bir veya daha fazla fosforik asit di-ester ve bunlarin tepkime ürünleri için molar orani ifadesi, fosforik asit mono-ester moleküllerinin molekül agirliginin toplaminin ve/veya bunlarin tepkime ürünlerindeki fosforik asit mono-ester moleküllerinin moleküler agirliginin toplaminin fosforik asit di-ester moleküllerinin agirliginin toplamina ve/veya bunlarin tepkime ürünlerindeki fosforik asit di-ester moleküllerinin moleküler agirliginin toplamina atifta bulunmaktadir Mevcut bulusun bir uygulamasinda, kalsiyum karbonatin yüzeyinin en azindan bir kismi üzerine kaplanan fosforik asit ester karisimi ayrica bir ya da daha fazla fosforik asit tri-ester ve/veya fosforik asit ve/veya bunlarin reaksiyon ürünlerini de içerebilir. Bu bulusun anlami kapsami dahilindeki "fosforik asit tri-ester" terimi, alkol ikamesindeki C6 ile C3O arasindaki, tercihen C8 ila C22 arasinda, daha tercih edilen haliyle C8 ila C20 ve en çok tercih edilen haliyle C8 ile C18 arasinda degisen toplam karbon atomuna sahip ayni veya farkli, doymamis veya doymus, dalli ve dogrusal, alifatik veya aromatik alkollerinden seçilen üç alkol ile tri- esterlestirilmis o-fosforik asit molekülü anlamina gelir. asit tri-ester türünün, kalsiyum karbonatin ulasilabilir yüzey alaninin en azindan bir bölümünde mevcut olabilecegi anlamina gelir. Buna göre, bir veya daha fazla fosforik asit tri-esterin bir çesit fosforik asit tri- ester olabilecegi belirtilmelidir. Altematif olarak, bir veya daha fazla fosforik asit tri-ester, iki veya daha fazla fosforik asit tri-esterin bir karisimi olabilir. Örnegin, bir veya daha fazla fosforik asit tri-ester, iki çesit fosforik asit tri-ester gibi iki veya üç çesit fosforik asit tri-esterden olusan bir karisim olabilir. Bu bulusun tercih edilen bir uygulamasina göre, a) adiminda, alt-tabaka, kalsiyum karbonat, tercihen ögütülmüs kalsiyum karbonat, çöktürülmüs kalsiyum karbonat ve/veya yüzeyi islem görmüs kalsiyum karbonat içeren en az bir harici yüzey içeren alt-tabaka temin edilmistir. Bir baska tercih edilen uygulamaya göre, en az bir harici yüzey, kalsiyum karbonat, tercihen ögütülmüs kalsiyum karbonat, çöktürülmüs kalsiyum karbonat ve/Veya yüzeyi islem görmüs kalsiyum karbonat içeren kaplama tabakasidir. Bir uygulamaya göre tuzla bilesik yapma yetenegine sahip alkalin toprak bilesigi, en fazla tercihen 100 nm ila 2 um arasinda bir agirlik medyan parçacik boyutu dso'ye sahip partiküller biçimindedir. Bir uygulamaya göre, tuzla bilesik yapma yetenegi kazandiran alkalin veya alkalin toprak bilesigi, ISO 9277'e uygun olarak nitrojen ve BET yöntemi kullanilarak ölçülen 4 ila 120 cmz/g, tercihen 8'den 50'ye kadar cm2/g arasinda degisen miktarlarda belirli özgül yüzey agirligina sahiptir. En az bir harici yüzey, tuzla bilesik yapma yetenegine sahip alkalin veya alkalin toprak bilesigi miktari, kaplama tabakasinin toplam miktarina dayali olarak agirlikça %40 ila 99 wt., tercihen agirlikça %45 ila 98 wt., ve daha tercihen agirlikça % 60 ila 97 Wt. arasinda degisebilir. Bir uygulamaya göre, en az bir harici yüzey ayrica tercihen agirlikça %1 ila 50 wt. arasinda degisen miktarda, tuzla bilesik yapma yetenegine sahip alkalin veya alkalin toprak bilesiginin toplam agirligina bagli olarak, tercihen agirlikça %3 ila Wt. arasinda ve daha tercihen agirlikça %5 ila 15 Wt. arasinda degisen bir baglayici içerir. En az bir harici yüzeyde herhangi bir uygun polimerik baglayici mevcut olabilir. Örnegin, polimerik baglayici; polivinil alkol, polivinil pirolidon, jelatin, selüloz eterleri, polioksazolinler, polivinil asetamidler, kismen hidrolize polivinil asetat/vinil alkol, poliakrilik asit, poliakrilamid, polialkilen oksit, sülfonatli veya fosfatlanmis poliesterler ve polistrenler, kazein, zein, albümin, kitin, kitozan, dekstran, pektin, kolajen türevleri, kolodiyen, jeloz, ararot, guar, karra gen, nisasta, kitre, ksantan veya rhamsan ve bunlarin karisimlari gibi hidrofilik polimer olabilir. Hidrofobik malzemeler gibi diger baglayicilarin kullanilmasi da ayrica mümkündür örnegin; poli(stiren-k0-butadien), poliüretan lateksi, polyester lateks, poli(n-bütil akrilat), poli(n-butil metakrilat), poli (2-etilheksil akrilat), n- butilakrilat ve etilakrilatin kopolimerleri, vinilasetat ve n-butilakrilatin kopolimerleri ve benzerleri ve bunlarin karisimlari. Uygun baglayicilarin diger örnekleri; etilakrilat, bütil akrilat, stiren, ikame edilmemis veya ikame edilmis vinil klorür, vinil asetat, etilen, butadien, akrilamidler ve akrilonitriller, silikon reçineler, su ile seyreltilebilir alkid reçineleri, akrilik / alkid reçinesi kombinasyonlari, keten tohumu yagi gibi dogal yaglar ve bunlarin karisimlari gibi akrilik ve / veya metakrilik asitlerin homopolimerleri veya kopolimerleri, itakonik asit ve asit esterleridir. Bir uygulamaya göre, baglayici; nisasta, polivinilalkol, stiren-bütadien lateksi, stiren-akrilat, polivinil asetat lateksi, poliolefinler, etilen akrilat, mikrofibrile selüloz, mikrokristalin selüloz, nanoselülpz, selüloz, karboksimetilselüloz, biyolojik esasli lateks veya bunlarin karisimlarindan seçilir. Baska bir uygulamaya göre, en azindan bir dis yüzey baglayici içermez. Dis yüzeyde bulunabilecek diger istege bagli katki maddeleri; örnegin dagiticilar, ögütme yardimcilari, yüzey aktif cisimleri, reoloji degistiriciler, yaglayicilar, köpük gidericiler, optik parlaticilar, boyalar, koruyucular ya da pH kontrol maddeleridir. Bir uygulamaya göre, en azindan bir harici yüzey ayrica bir reoloj i dönüstürücü içerir. Tercihen reoloji dönüstürücü, dolgu maddesinin toplam agirligina dayanildiginda agirlikça % l'in altinda bir miktarda mevcuttur. Örnek teskil eden bir uygulamaya göre, tuzla bilesik yapma yetenegine sahip alkalin veya toprak alkali bilesimi bir dagitici ile dagitilir. Dagitici, tuzla bilesik yapma yetenegine sahip alkalin veya alkalin toprak bilesiginin toplam agirligina ila 5 wt., agirlikça %0.8 ila 3 wt., agirlikça %1.0 ila 1.5 wt. miktarlarinda kullanilabilir. Tercih edilen bir uygulamada, tuzla bilesik yapma yetenegine sahip alkalin veya alkalin toprak bilesigi, agirlikça %005 ila 5 Wt. miktarinda ve tercihen dagiticinin agirlikça % 0.5 ila 5 Wt. miktarinda tuzla bilesik yapma yetenegine sahip alkalin veya alkalin toprak bilesigi toplam agirligina dayali olarak dagitilir. Uygun dagitici madde, örnegin, akrilik asit, metakrilik asit, maleik asit, fumarik asit veya itakonik asit ve akrilamid veya bunlarin karisimlarina dayali polikarboksilik asit tuzlarinin homopolimerleri veya kopolimerlerini ihtiva eden gruptan tercihen seçilir. Akrilik asit homopolimerleri veya kopolimerleri özellikle tercih edilir. Bu tür ürünlerin molekül agirligi MW poliakrilattir. En az bir dis yüzey, aktif maddeler, örnegin, katki maddeleri olarak biyoaktif molekülleri, örnegin enzimler, pH veya sicaklikta degisime duyarli kromatik göstergeler veya Ilüoresan malzemeler içerebilir. En azindan dis yüzey, tercihen laminant veya kaplama tabakasi formunda, en az 1 um, örnegin en az 5 um,10 um, 15 um veya 20 um kalinliga sahip olabilir. Tercihen dis yüzey l um ila 150 um araliginda bir kalinliga sahiptir. Bir uygulamaya göre, alt tabaka birinci taraI` ve ters taraf içerir ve alt tabaka, birinci tarafta ve ters tarafta tuzla bilesik yapma yetenegine sahip alkali veya alkali toprak bilesigi içeren dis yüzey içerir. Tercih edilen bir uygulamaya göre, alt tabaka, birinci kenar ve bir ters kenar içerir ve alt tabaka alkalin veya alkalin toprak karbonati tercihen birinci kenarinda ve ters kenarinda kalsiyum karbonat ihtiva eden bir laminant veya kaplama tabakasi içerir. Bir uygulamaya göre, laminat veya kaplama tabakasi alt tabakanin yüzeyi ile dogrudan temas halindedir. Bir baska uygulamaya göre, alt tabaka, tuzla bilesik yapma yetenegine sahip alkalin veya alkalin toprak bilesigi ihtiva eden alt tabaka ve en az bir dis yüzey arasindaki bir veya daha fazla ilave ön kaplama tabakasi içerir. Bu tür ön kaplama tabakalari; kaolin, silika, talk, plastik, Çöktürülmüs kalsiyum karbonat, modifiye edilmis kalsiyum karbonat, ögütülmüs kalsiyum karbonat veya bunlarin karisimlarini içerebilir. Bu durumda, kaplama tabakasi ön kaplama tabakasi ile dogrudan temas halinde olabilir veya birden fazla ön kaplama tabakasi mevcutsa, kaplama tabakasi üst ön kaplama tabakasi ile dogrudan temas halindedir. Bu bulusun bir baska uygulamasina göre, alt tabaka, tuzla bilesik yapma yetenegine sahip alkalin veya alkalin toprak bilesigi ihtiva eden alt tabaka ve en az bir dis yüzey arasinda bir veya daha fazla engel tabakasi ihtiva eder. Bu durumda en azindan bir dis yüzey engel tabakasiyla dogrudan temas halinde olabilir veya birden fazla engel tabakasi mevcutsa en az bir dis yüzey üst engel tabakasiyla dogrudan temas halinde olabilir. Engel tabakasi; örnegin polivinil alkol, polivinil pirrolidon, jelatin, selüloz eterleri, polioksazolinler, polivinilasetamidler, kismen hidrolize polivinil asetat/ vinil alkol, poliakrilik asit, poliakrilamit, polialkilen oksit, sülfonatli veya fosfatlanmis poliesterler ve polistrenler, kazein, zein, albümin, kitin, kitozan, dekstran, pektin, kollajen türevleri, kollodiyan, jeloz, ararot, guar, karajenan, nisasta, tragasant, ksantan, rhamsan, poli (stiren-ko- bütadien), poliüretan lateksi, polyester lateks, poli (n-bütil akrilat), poli(n-butil metakrilat), poli (2-etilheksil akrilat), n-butilakrilat ve etilakrilatin kopolimerleri, vinilasetat ve n-bütilakrilatin kopolimerleri benzerleri ve bunlarin karisimlari gibi polimer içerebilir. Uygun engel tabakalarinin örnekleri ayrica, etilakrilat, bütil akrilat, stiren, ikame edilmemis veya ikame edilmis vinil klorür, vinil asetat, etilen, butadien, akrilamidler ve akrilonitriller, silikon reçineler, su ile seyreltilebilir alkid reçineleri, akrilik/ alkid reçineleri kombinasyonlari, keten tohumu yagi gibi dogal yaglar ve bunlarin karisimlari gibi akrilik ve/veya metakrilik asitlerin homopolimerleri veya kopolimerleri, itakonik asit ve asit esterleridir. Bir uygulamaya göre, engel katmani; lateksleri, poliolefinleri, polivinilalkolleri, kaolini, talki, bükülgen yapilar olusturmak için mikayi (kümeli yapilar) ve bunlarin karisimlarini ihtiva eder. Bu bulusun tercih edilen bir uygulamasina göre, alt tabaka, tuzla bilesik yapma yetenegine sahip olan alkalin veya alkalin toprak bilesigi ihtiva eden alt tabaka ve en az bir dis yüzey arasindaki bir veya birden fazla ön kaplama ve engel tabakalari içerir. Bu durumda, en azindan bir dis yüzey, sirasiyla üst ön kaplama tabakasi veya engel tabakasiyla dogrudan temas halinde olabilir. Bu bulusun bir uygulamasina göre, a) adimindaki alt tabaka, sunlarla hazirlanir: i) Alt tabaka saglayarak ii) kaplama tabakasi olusturmak için alt tabakanin en az bir kenari üzerindeki tuzla bilesik yapma yetenegine sahip olan alkalin veya alkalin toprak bilesigi ihtiva eden bir kaplama bilesigi uygulama ve iii) istege bagli olarak kaplama tabakasini kurutmak. Kaplama bilesimi sivi veya kuru formda olabilir. Bir uygulamaya göre, kaplama bilesimi kuru kaplama bilesimidir. Baska bir uygulamaya göre, kaplama bilesimi sivi bir kaplama bilesimidir. Bu durumda, kaplama tabakasi kurutulabilir. Mevcut bulusun bir düzenlemesine göre, kaplama bilesimi, sulu bir bilesim, yani tek çözücü olarak su içeren bir bilesimdir. Baska bir düzenlemeye göre kaplama bilesimi sulu olmayan bir bilesimdir. Uygun çözücüler, uzman kisilerce bilinmektedir ve bunlar, örnegin, alifatik alkoller, 4 ila 14 karbon atomuna sahip eterler ve dieterler, glikoller, alkoksillenmis glikoller, glikol eterler, alkoksillenmis aromatik alkoller, aromatik alkoller, bunlarin karisimlari veya bunlarin su ile karisimlaridir. Bu bulusun bir uygulamasina göre, kaplama bilesiminin katilar içerigi, bilesimin toplam agirligina dayali olarak agirlikça %5 ila 75 wt., tercihen agirlikça %20 ila 67 wt., daha tercihen agirlikça %30 ila 65 wt. ve en çok tercih edilen haliyle agirlikça %50 ila 62 wt. arasindaki araliktadir. Tercih edilen bir uygulamaya göre, kaplama bilesimi, bilesimin toplam agirligina dayali olarak agirlikça %5 ila 75 wt., tercihen agirlikça %20 ila 67 wt., daha tercihen agirlikça %30 ila 65 wt. ve en çok tercih edilen haliyle agirlikça %50 ila 62 wt. arasindaki araliktaki kati içeriklerine sahip olan sulu bir bilesimdir. Mevcut bulusun bir uygulamasina göre, kaplama bilesimi, 20°C'de 10 ila 4000 mPa~s arasinda, tercihen 20°C'de 100 ve 3500 mPa~s arasinda daha tercihen Brookfield viskozitesine sahiptir. Bir uygulamaya göre, yöntem basamaklar ii) ve iii) de alt tabakanin ters tarafinda gerçeklestirilir ve birinci ve arka tarafta kaplanan bir alt tabaka imal edilir. Bu adimlar, her bir taraf için ayri ayri gerçeklestirilebilir veya eszamanli olarak birinci ve arka kenarda gerçeklestirilebilir. Bu bulusun bir uygulamasina göre, yöntem basamaklar ii) ve iii), farkli veya ayni kaplama bilesimi kullanilarak iki veya daha fazla kez gerçeklestirilir. Mevcut bulusun bir uygulamasina göre, bir veya daha fazla ilave kaplama bilesimi, yöntem adimi ii) 'den önce alt tabakanin en az bir tarafina uygulanir. Ilave kaplama bilesimleri, ön-kaplama bilesimleri ve/veya bir engel tabaka bilesimleri olabilir. Kaplama bilesimleri, bu alanda yaygin olarak kullanilan geleneksel kaplama araçlari ile alt tabakaya uygulanabilir. Uygun kaplama yöntemleri, örnegin hava biçagi kaplama, elektrostatik kaplama, ölçme ebat pres, film kaplama, sprey kaplama, filmasin sargi kaplama, yiv kaplama, slayt hazne kaplamasi, gravür, perde kaplama, yüksek hizli kaplama ve benzeridir. Bu yöntemlerden bazilari, imalat ekonomik perspektifinden tercih edilen, iki ya da daha fazla tabakanin ayni anda kaplanmasina olanak tanir. Bununla birlikte, alt tabaka üzerinde kaplama tabakasi olusturmak için uygun baska herhangi bir kaplama yöntemi de kullanilabilir. Örnek teskil eden bir uygulamaya göre, kaplama bilesimi, yüksek hizli kaplama, ölçme ebat presi, perde kaplama, püskürtme kaplama, flekso ve gravür veya biçak kaplamasi, tercihen perde kaplama ile uygulanir. Basamak iii) göre, alt tabaka üzerinde olusturulan kaplama tabakasi kurutulur. Kurutma teknikte bilinen herhangi bir yöntemle gerçeklestirilebilir ve uzman kisi, sicakligi proses ekipmanina göre ayarlayacaktir. Örnegin, kaplama tabakasi, kizilötesi kurutma ve/veya konveksiyonlu kurutmayla kurutulabilir. Kurutma adimi, oda sicakliginda, diger bir deyisle 20 ° C ± 2°C'lik bir sicaklikta veya diger sicakliklarda gerçeklestirilebilir. Bir uygulamaya göre, yöntem adimi iii), 25 ila sicakliginda gerçeklestirilir. Istege bagli olarak uygulanan ön kaplama tabakalari ve/veya engel tabakalari ayni sekilde kurutulabilir. Kaplamadan sonra, kaplanmis alt tabaka, yüzey pürüzsüzlügünü arttirmak için kalenderleme veya süper kalenderlemeye tabi tutulabilir. Örnegin, kalenderleme ila 200°C arasindaki bir sicaklikta, tercihen 60 ila lOO°C arasindaki bir sicaklikta, örnegin 2 ila 12 nip arasinda bir kalender kullanilarak gerçeklestirilebilir. Bahsedilen nipler, sert veya yumusak olabilir, örnegin sert nipler seramik bir malzemeden yapilabilir. Örnek teskil eden bir uygulamaya göre, kaplanmis alt tabaka parlak bir kaplama elde etmek için 300 kN / m'de kalenderlenir. Baska bir örnek teskil eden uygulamaya göre, kaplanmis alt tabaka, mat bir kaplama elde etmek için 120 kN/m'de kalenderlenir. Bir uygulamaya göre, kaplama tabakasi 0.5 ila 100 g/mz, tercihen 1 ila 75 g/mz, daha tercihen 2 ila 50 gmz ve en çok tercih edilen haliyle 4 ila 25 g/m2 araligindaki kaplama agirligina sahiptir. Yöntem adimi bi Bu bulusa ait yöntemin b) adimina göre, en az asit ihtiva eden sivi muamele bilesimi saglanmaktadir. Sivi muamele bilesimi; tuzla bilesik yapma yetenegine sahip alkalin veya alkalin toprak bilesimi ile reaksiyon gösterdiginde COz olusturan herhangi bir inorganik veya organik asit içerebilir. Bir uygulamaya göre, en az bir asit; organik asit, tercihen monokarboksilik, dikarboksilik veya trikarboksilik asittir. Bir uygulamaya göre, en az bir asit, 20°C'de 0 veya daha düsük bir pKa'ya sahip güçlü bir asittir. Baska bir uygulmaya göre en az bir asit, 20°C'de 0 ila 2.5 pKa degerine sahip olan orta siddette bir asittir. Sayet 20°C'deki pKu, 0 veya daha az ise, asit tercihen sülfürik asit, hidroklorik asit veya bunlarin karisimlarindan seçilir. Sayet 20°C'deki pKa, 0 ila 2.5 ise, asit tercihen HzSO3, H3PO4, oksalik asit veya bunlarin karisimlarindan seçilir. Bununla birlikte, örnegin süberik asit, süksinik asit, asetik asit, sitrik asit, formik asit, sülfamik asit, tartarik asit, benzo ik asit veya fitik asit gibi 2.5'den daha yüksek bir pKa degerine sahip asitler de kullanilabilir. Bulusun bir uygulamasina göre, en az bir asit, hidroklorik asit, sülfürik asit, sülûirlü asit, fosforik asit, sitrik asit, oksalik asit, asetik asit, formik asit, sülfamik asit, tartarik asit, fitik asit, borik asit, süksinik asit, suberik asit, benzoik asit, adipik asit, pimelik asit, azelaik asit, sebaik asit, izokitrik asit, aknitik asit, propan- 1,2,3-trikarboksilik asit, trimesik asit, glikolik asit, laktik asit, mandelik asit, asidik organosülfür bilesikleri, asidik organofosfor bilesikleri ve bunlarin karisimlarindan olusan gruptan seçilir. Tercih edilen bir uygulamaya göre, en az bir asit; hidroklorik asit, sülfürik asit, sülfürlü asit, fosforik asit, oksalik asit, borik asit, süberik asit, süksinik asit, sülfamik asit, tartarik asit ve bunlarin karisimlarindan olusan gruptan seçilir, daha tercihen en az bir asit; sülfürik asit fosforik asit, borik asit, suberik asit, sülfamik asit, tartarik asit ve bunlarin karisimlarindan olusan gruptan seçilir ve en çok tercihen en az bir asit, fosforik Asidik organosülfür bilesikleri; nafion, p-toluensülfonik asit, metansülfonik asit, tiokarboksilik asitler, sülfinik asitler ve/Veya sülfonik asitler gibi sülfonik asitler arasindan seçilebilir. Asidik organofosfor bilesikleri için örnekler aminometilfosfonik asit, 1-hidroksietiliden-l,1-difosfonik asit (HEDP), amino tris(metilenfosfonik asit) (ATMP), etilendiamin tetra (metilen fosfonik asit) (EDTMP), tetrametilendiamin tetra (metilen fosfonik asit) (TDTMP), heksametilendiamin tetra (metilen fosfonik asit) (HDTMP), dietilentriamin penta (metilen fosfonik asit) (DTPMP), fosfonobütan-trikarboksilik asit (PBTC), N- (fosfonometil) iminodiasetik asit (PMIDA), 2-karboksietil fosfonik asit (CEPA), 2-hidroksifosfonokarboksilik asit (HPAA), amino-tris- (metilen-fosfonik asit) (AMP) veya di- (2-etilheksil) fosforik asittir. En az bir asit, sadece bir tür asitten olusabilir. Altematif olarak en az bir asit, iki veya daha fazla asit tipinden olusabilir. En az bir asit konsantre formda veya seyreltilmis formda uygulanabilir. Bu bulusun bir uygulamasina göre, sivi muamele bilesimi en az bir asit ve su içermektedir. Bu bulusun bir baska uygulamasina göre, sivi muamele bilesimi en az bir asit ve bir çözücü içermektedir. Bu bulusun bir baska uygulamasina göre, sivi muamele bilesimi en az bir asit, su ve bir çözücü içermektedir. Uygun solventler teknikte bilinmektedir ve örnegin alifatik alkoller, 4 ila 14 karbon atomuna sahip eterler ve dieterler, glikoller, alkoksillenmis glikoller, glikol eterler, alkoksillenmis aromatik alkoller, aromatik alkoller, bunlarin karisimlari veya bunlarin su ile karisimlaridir. Örnek teskil eden bir uygulamaya göre, sivi muamele bilesimi sivi isleme bilesiminin toplam agirligina göre fosforik asit, etanol ve su içerir, tercihen sivi isleme bilesimi agirlikça %30 ila 50 wt. fosforik asit, agirlikça % 10 ila 30 wt. etanol ve agirlikça % 25 ila 25 wt. su içerir. Örnek teskil eden bir uygulamaya göre, sivi muamele bilesimi sivi isleme bilesiminin toplam agirligina göre sülfürik asit, etanol ve su içerir, tercihen sivi isleme bilesimi agirlikça %1 ila 10 wt. arasinda degisen sülfirik asit, agirlikça % 10 ila 30 wt. arasinda degisen etanol ve agirlikça % 70 ila 90 wt. arasinda degisen su içerir. Bir uygulamaya göre, sivi muamele bilesimi, sivi muamele bilesiminin toplam agirligina bagli olarak, agirlikça % 0.1 ila 100 Wt. arasinda degisen en az bir asit, tercihen agirlikça % 1 ila 80 wt. arasinda degisen, daha tercihen % 2 ila 50 wt. arasinda degisen ve çok tercihen edilen haliyle agirlikça % 5 ila 30 wt. arasinda degisen bir asit içerir. En az bir aside ilave olarak, sivi muamele bilesimi ayrica; flüoresan boya, fosforlu boya, ultraviyole emici boya, yakin kizil ötesi emici boya, termokromik boya, halokromik boya, metal iyonlari, geçis metal iyonlari, manyetik parçaciklar veya bunlarin bir karisimini ihtiva eder. Bu tür ilave bilesikler, özel isik emme özellikleri, elektromanyetik radyasyon yansitma özellikleri, floresans özellikleri, fosforesans özellikleri, manyetik özellikler, elektrik iletkenligi, beyazlik, parlaklik ve/veya glos gibi ek özellikler içeren olusturulmus gizli modelleri hazirlayabilir. Yöntem adimi C) Bu bulusa ait yöntemin c) adimina göre, sivi isleme bilesimi, gizli bir model olusturmak üzere mürekkep püskürtmeli baski ile önceden seçilmis bir model biçiminde en az bir dis yüzey üzerine uygulanir. Sivi isleme bilesimi, teknikte bilinen herhangi bir uygun mürekkep püskürtme teknigiyle en az bir dis yüzey üzerine uygulanabilir. Bir uygulamaya göre, sivi isleme bilesimi kesintisiz mürekkep püskürtmeli baski, aralikli mürekkep püskürtmeli baski ve/veya istege bagli birakma mürekkep püskürtmeli baski ile uygulanir. Mevcut bulusun bir gerekliligi, sivi isleme bilesiminin, 1000 pl'ye esit veya daha düsük bir hacme sahip olan damlalar halinde uygulanmasi ve damla araligi 1000 um'den düsük veya bu degere esit oldugudur. Bir uygulamaya göre, damlalar 500 pl ila 1 Il, tercihen 100 pl ila 10 fl, daha tercihen 50pl ila 100 Il, en çok tercih edilen haliyle 100 pl ila 1 pl araliginda hacme sahiptir. Bir baska uygulamaya göre, damlalar, 1000 pl'den daha az, tercihen 600 pl'den daha az, daha tercihen 200 pl'den daha az, daha da tercihen 80 pl'den daha az ve en çok tercih edilen haliyle 20 pl'den daha az hacme sahiptir. Yine bir baska uygulamaya göre, damlalar; 1 pl'den daha az, tercihen 500 Il'den daha az, daha tercihen 500 fl'den daha az, daha tercihen 200 fl'den daha az, daha da tercihen 80 ilden daha az ve en çok tercih edilen haliyle 20 ilden daha az hacme sahiptir. daha tercihen 1 ila 200 um, en çok tercihen 5 ila 100 um'dir. Bir uygulamaya göre, damla araligi, 800 um°den daha az, daha tercihen 600 um7den daha az, daha da tercihen 400 um°den daha az ve en çok tercih edilen haliyle 80 um"den daha azdir. Yine bir baska uygulamaya göre, damla araligi 500 um'den daha az, daha tercihen 300 um'den daha az, daha da tercihen 200 um'deii daha az ve en çok tercihen 80 um'den daha azdir. Damla araligi da sifir olabilir, bu da damlalarin mükemmel biçimde üst üste bindigi anlamina gelir. Teknikte uzman kisiler, damla hacmini kontrol ederek damla çapi kontrol edilebilecegini ve böylece sivi aritma bilesimi ile muamele edilen alanin çapinin kontrol edilebilecegini takdir edeceklerdir. Ardisik iki damla arasindaki mesafe düsme araligi ile belirlenir. Bu nedenle, damla hacmi ve damla araligi degistirilerek desenin çözünürlügü ayarlanabilir. Bir uygulamaya göre, gizli desen, X ve y yönlerinde en az 150 dpi çözünürlük, tercihen x ve y yönünde en az 300 dpi, daha da tercihen en az x ve y yönünde en az 600 dpi, daha da tercihen en az 1200 dpi ve en çok tercihen x ve y yönlerinde en az 2400 dpi ve x ve y yönlerinde en az 4800 dpi ile olusturulur. En az bir dis yüzey üzerine sivi islem bilesiminin uygulamasi, örnegin 20±2°C derece olan oda sicakliginda veya örnegin yaklasik 60°C 'de yükseltilmis bir sicaklik olan alt tabakanin yüzey sicakliginda gerçeklestirilebilir. Yöntem adimi C) artirabilir ve bu nedenle üretim süresini azaltabilir. Bir uygulamaya göre, yöntem adimi c), 5°C'den daha fazla, tercihen 10°C'den daha fazla, daha tercihan °C'den ve en tercih edilen sekilde 20°C'den daha yüksek bir alt tabaka yüzey sicakliginda gerçeklestirilmektedir. Bir uygulamaya göre, yöntem adimi c), 5 ila ila 80°C arasinda ve en çok tercih edilen haliyle 20 ila 60°C arasindaki alt tabaka yüzey sicakliginda gerçeklestirilir. Bir uygulamaya göre, adim c), sivi islem bilesiminin bir mürekkep haznesinden, bir baski kafasi vasitasiyla ve en az bir harici yüzeye uygulanmasini içerir. Tercihen, mürekkep haznesinin ve/veya baski kafasinin sicakligi 5°C'den fazla, tercihen 10°C ila 100°C arasinda, daha tercihen 15°C ila 80°C arasinda ve en fazla tercihen 20°C ila 60°C arasindadir. Bu bulusun yöntemine göre, sivi muamele bilesimi, önceden seçilmis bir model biçiminde en azindan bir harici yüzey üzerine uygulanmaktadir. Bu bulusun bir uygulamasina göre, önceden seçilmis desen; tek boyutlu barkod, iki boyutlu barkod, üç boyutlu barkod, güvenlik isareti, numara, harf, alfanümerik sembol, logo, resim, sekil veya tasarimdir. Desen, 150 dpi'den daha fazla, tercihen 300 dpi'den daha fazla, daha tercihen 600 dpi'den daha fazla, daha da tercihen 1200 dpi'den daha fazla ve en çok tercih edilen haliyle 2400 dpi veya 4800 dpi'den daha fazla bir çözünürlüge sahip olabilir. Herhangi bir teoriye bagli kalmaksizin, SlVl muamele bilesiminin en az bir harici yüzeye uygulanmasiyla, dis yüzeyin tuzla bilesik yapma yetenegine sahip alkalin veya alkalin toprak bilesigi, muamele bilesiminde bulunan en az bir asit ile reaksiyona girdigi düsünülmektedir. Böylece, tuzla bilesik yapma yetenegine sahip alkalin veya alkalin toprak bilesimi, orjinal maddeye kiyasla farkli isik saçma özelliklerine sahip olabilecek asit tuzuna en azindan kismen dönüstürülür. Tuzla bilesik yapma yetenegine sahip olan alkalin veya alkalin toprak bilesimi, alkalin veya alkalin toprak bilesimi olmasi durumunda, örnegin, bilesim asit muamelesi ile karbonat olmayan alkalin veya alkalin toprak tuzuna dönüstürülürdü. Bulus sahipleri, dis yüzeyin küçük alanlarini çevreleyen yüzey yapisini etkilemeden çok hassas ve lokal olarak dönüstürme olanagi saglayan, mürekkep püskürtmeli baski teknolojisini kullanarak, isleme bilesiminin çok küçük damlalarini en az bir harici yüzey üzerine uygulanabilecegini sasirtici bir sekilde bulmuslardi Böylece, en az bir harici yüzey üzerinde yüksek çözünürlüklü modeller olusturulabilir. Dahasi, bu bulusun yöntemi geleneksel mürekkep püskürtmeli yazicilarla, sadece geleneksel mürekkebin mevcut bulusun sivi muamele bilesimi ile yer degistirmesiyle gerçeklestirilebilecegi avantajina sahiptir. Böylece, mevcut bulusun yöntemi, mevcut baski tesislerinde gerçeklestirilebilir ve mevcut mürekkep püskürtmeli baski hatlarinin asiri maliyetli ve zaman alici de gisikliklerine ihtiyaç duymaz. Dahasi, bulusun sahipleri, alt katmanin yüzeyine göre diger açilarda bakildiginda gizlenirken, alt katmanin yüzeyine göre belirli açilar altinda görüntülendiginde olusturulan desenin görülebildigini sasirtici bir sekilde kesfetmislerdir. Diger bir deyisle, mevcut bulus, ilk bakista görünmeyen ancak görüs açisi degistirildiginde kolaylikla tespit edilebilen, alt tabaka üzerinde gizli bir desen olusturma olasiligi saglar. Bu nedenle, potansiyel bir sahtecinin desenin varligi hakkinda bilgisi olmayabilirken, egitimli bir kisi deseni sadece görsel incelemeyle özel bir alet kullanmadan tanimlayabilir. Bu bulusun yöntemiyle olusturulan gizli desen, bir fotokopi makinesi kullanarak kopyalayarak çogaltma imkâni bulunmayan bir avantaja da sahiptir. Ayrica mevcut bulus, sivi isleme bilesimine ilave bilesikler ilave ederek bahsedilen modele ek fonksiyonalite ile donatilma imkâni saglar. Örnegin, desen bir UV emici boya ilave ederek UV isigi altinda algilanabilir veya manyetik parçaciklar veya elektrik iletken parçaciklar ekleyerek makine tarafindan okunabilir hale getirilebilir. Bu bulusun bir baska avantaji, olusturulan gizli desen, tuzla bilesik yapma yetenegine sahip alkalin veya alkalin toprak bilesiginin karsilik gelen asit tuzuna dönüstürülmesi nedeniyle kabartmali bir yapiya sahip olabilir; bu, görme engelli ve kismen görebilen kullanicilarin dokunabilecegi bir model yaratma imkâni saglar. Sivi muamele bilesiminin, yöntem adimi c) 'ye göre uygulanmasiyla, tuzla bilesik yapma yetenegine sahip alkalin veya toprak alkali bilesik, suda çözünmeyen veya suda çözünür bir tuza dönüstürülebilir. Bir uygulamaya göre, gizli desen, tuzla bilesik yapma yetenegine sahip alkalin veya alkalin toprak bilesiginin bir asit tuzunu içerir. Baska bir uygulamaya göre, gizli desen, karbonat olmayan alkalin veya toprak alkalin tuzu, tercihen çözünmez karbonat olmayan alkalin veya toprak alkalin tuzu ihtiva eder. Tercih edilen bir uygulamaya göre gizli desen, karbonat olmayan kalsiyum tuzu, tercihen çözünmeyen karbonat olmayan kalsiyum tuzu içennektedir. Mevcut bulusun anlaminda, "suda çözünmeyen" malzemeler, bahsedilen sivi filtratin 100 gr'inin 95 ila 100°C'de yogunlasmasini takiben 0.1 gr'dan daha az veya esit geri kazanilan kati maddeyi temin eden, deiyonize su ile karistirilan ve sivi Iiltrati geri kazanmak için 20°C'de 0.2 um gözenek boyutuna sahip bir filtre üzerinde filtrelenen malzemeler olarak tanimlanir. "Suda-çözünür" malzemeler, sözü geçen Iiltrattan 95 ila 100°C"de yogunlasmasini takip eden elde edilen kati malzemenin 0.1 gramindan daha fazlasini geri kazandirmaya götüren malzemeler olarak tanimlanir. Ek islem adimlari Bulusun bir uygulamasina göre, yöntem ayrica, en az bir yüzeyi degistirilmis bölgenin üzerine koruyucu katman uygulama d) adimini içermektedir. Koruyucu tabaka, esas gizli desenleri istenmeyen çevresel etkilere veya mekanik asinmaya karsi korumak için uygun olan herhangi bir malzemeden imal edilebilir. Uygun malzemeler için örnekler, reçineler, vernikler, silikonlar, polimerler, metal folyolar veya selüloz esasli malzemelerdir. Koruyucu tabaka, teknikte bilinen ve koruyucu tabakanin malzemesi için uygun olan herhangi bir yöntemle gizli desen üzerine uygulanabilir. Uygun yöntemler, örnegin, hava biçagi kaplama, elektrostatik kaplama, ölçme ebatli pres, film kaplama, püskürtme kaplama, ekstrüzyon kaplama, yara filmli çubuk kaplama, yuva kaplama, sürgülü huni kaplama, gravür, perde kaplama, yüksek hizli kaplama, laminasyon, baski, yapistirma ve benzeridir. Mevcut bulusun bir uygulamasina göre, koruyucu kat, gizli desenin ve çevreleyen Bir uygulamaya göre, koruyucu tabaka, çikarilabilir bir koruyucu tabakadir. Mevcut bulusun baska bir uygulamasina göre, a) adiminda saglanan alt tabaka, birinci tarafta birinci dis yüzey ve ters tarafta ikinci dis yüzey ihtiva eder burada birinci ve ikinci harici yüzey, tuzla bilesik yapma yetenegine sahip alkalin veya toprak alkalin bilesigi içerir ve c) adiminda en az bir asit içeren sivi isleme bilesimi, birinci ve ters yüzey üzerine gizli deseni olusturmak için birinci ve ters kenar üzerine birinci ve ikinci harici yüzey üzerine uygulanir. Adim 0), her iki taraf için ayri ayri gerçeklestirilebilir veya birinci ve arka tarafta ayni anda gerçeklestirilebilir. Mevcut bulusun bir uygulamasina göre, yöntem adimi c), farkli veya ayni sivi isleme bilesimi kullanilarak iki veya daha fazla kez gerçeklestirilir. Böylece, farkli özelliklere sahip farkli gizli desenler olusturulabilir. Gizli desen Bu bulusun bir yönüne göre, mevcut bulusa göre yöntemle elde edilebilen gizli bir desen içeren alt tabaka saglanmaktadir. Bu bulusun bir yönüne göre, mevcut bulusa göre yöntemle elde edilebilen gizli bir deseni içeren alt tabaka saglanmaktadir. Mevcut bulusun bir baska yönüne göre, gizli bir desen ihtiva eden alt tabaka saglanmistir burada alt tabaka tuzla bilesik yapma yetenegine sahip alkalin veya toprak alkalin bilesigini ihtiva eden en az bir harici yüzey ihtiva eder, burada tuzla bilesik yapma yetenegine sahip alkalin veya toprak alkalin bilesigi, alkalin veya alkalin toprak hidroksit, alkalin veya alkalin toprak bikarbonat, alkali veya alkalin toprak karbonat veya bunlarin karisimidir ve burada en az bir harici yüzey, en az bir gizli desen ihtiva eder, burada gizli desen tuzla bilesik yapma yetenegine sahip alkalin veya toprak alkalin bilesiginin asit tuzunu ihtiva eder. Tercihen, tuzla bilesik yapma yetenegine sahip alkalin veya alkalin toprak bilesigi, alkalin veya alkalin toprak karbonatidir, tercihen kalsiyum karbonat ve yüzeyi modifiye edilmis bölge, karbonat-olmayan alkalin veya alkalin toprak tuzu, tercihen karbonat-olmayan kalsiyum tuzu ihtiva eder. Herhangi bir kurama bagli kalmaksizin, bulus sahipleri, gizli desenin ve çevreleyen dis yüzeyin farkli isik saçma özelliklerinden dolayi, gizli desen, alt katmanin yüzeyine göre birinci açiyla bakildiginda görünmez ve alt katmanin yüzeyine göre ikinci bir açiyla bakildiginda görülebilir. Bir uygulamaya göre, alt tabakanin yüzeyine göreceli olarak 80° ila 100° arasindaki bir açidan, tercihen 90°'den bakildiginda gizli desen görünmez ancak alt tabakanin yüzeyine göreceli olarak 10° ila 50° araligindaki bir açidan, tercihen 20 ila 30°'lik bir açidan bakildiginda görülebilir. Tercihen, gizli desen ortam isigi altinda görüntülenir. Inceleme açisinin tanimlandigi göreceli alt tabakanin yüzeyi, gizli desenin uygulandigi yüzeydir, diger bir deyisle alt tabakanin en az bir harici yüzeyidir. Bir uygulamaya göre, gizli desen, ortam isigi altindaki alt katmanin yüzeyine göre birinci açiyla bakildiginda, desteksiz veya çiplak insan gözü için görünmezdir ve ortam isigi altindaki alt tabakanin yüzeyine göre ikinci bir açiyla bakildiginda yardimsiz veya çiplak insan gözü tarafindan görülebilir. Bir uygulamaya göre, gizli desen, alt tabakanin yüzeyine bagli olarak 80° ila 100° araligindaki, tercihen yaklasik 90° araliginda görünmezdir, ancak alt tabakanin yüzeyine bagli olarak 10° ila 50°'lik açida tercihen 20° ila 30° derecelik açida görünürdür. Bir uygulamaya göre, gizli desen alt tabakanin yüzeyine bagli olarak ilk görüs açisinda isiklandirildiginda, yardimsiz veya çiplak insan gözüyle görülemez ve alt tabakanin yüzeyine bagli olarak ikinci görüs açisinda isiklandirildiginda yardimsiz veya çiplak insan gözüyle görülebilir. Ayrica, gizli desen diger yönlerden çevreleyen harici yüzeyden farki olabilir, özellikle gizli desen, flüoresan boya, fosforlu boya, ultraviyole emici boya, yakin kizil ötesi emici boya, termokromik boya, halokromik boya, metal iyonlari, geçis metal iyonlari, manyetik parçaciklar veya bunlarin karisimlari gibi baska bilesikleri ihtiva eder. Bir uygulamaya göre, gizli desen, yüzey pürüzlülügü, parlaklik, isik emme, elektromanyetik radyasyon yansimasi, flüoresan, fosforesans, manyetik özellik, elektrik iletkenligi, beyazlik ve/veya parlaklik yönlerinden kaplama tabakasindan farklidir. Bu ayirt edilebilen özellikler, örnegin UV isigi altinda veya uygun bir dedektör kullanilarak yakin kizil ötesi isik altinda ek veya alternatif kosullardaki gizli desen tespiti için kullanilabilir ve makinece okunabilir hale getirebilir. Bir uygulamaya göre, gizli desen; bir güvenlik özelligi ve/veya dekoratif bir özellik, tercihen tek boyutlu barkod, iki boyutlu barkod, üç boyutlu barkod, güvenlik isareti, sayi, harf, alfanümerik sembol, logo, resim, sekil veya tasarim ihtiva eder. Mevcut baglamda, "güvenlik özelligi" terimi, özelliklerin kimlik dogrulama amaciyla kullanildigi anlamina gelirken, "dekoratif özellik", özelliklerin öncelikle kimlik dogrulamasi için saglandigi, daha çok grafiksel veya dekoratif bir amaçla saglandigi anlamina gelir. Bir uygulamaya göre, gizli desen degisken bilgiyi gösterir. Bir baska uygulamaya göre, degisken bilgi gizli bilgi ve/veya açik bilgiyi içermektedir. Bir uygulamaya göre, gizli desen, kabartmali bir yapi içermektedir. Gizli desen; optik olarak degisken özellikler, kabartma, filigran veya hologramlar gibi diger güvenlik özellikleri ile birlestirilebilir. Genellikle, mevcut bulusun gizli özelligini içeren alt tabaka sahte, taklit veya kopyalamaya tabi olan herhangi bir üründe kullanilabilir. Dahasi, bu bulusun gizli özelligini içeren alt tabaka, güvenlik amaçli olmayan veya dekoratif ürünler olarak kullanilabilir. Bu bulusun bir baska yönüne göre, mevcut bulusa uygun olarak gizli bir desen ihtiva eden alt tabaka içeren bir ürün saglanmakta olup, burada ürün; markali bir ürün, güvenli belge, güvenli olmayan belge ve dekoratif üründür, tercihen ürün; parfüm, ilaç, tütün ürünü, alkolik ilaç, sise, giysi, ambalaj, konteyner, spor ürünü, oyuncak, oyun, cep telefonu, CD, DVD, blu-ray diski, makine, alet, araba parçasi, çikartma, etiket, isaret, poster, pasaport, ehliyet, banka karti, kredi karti, tahvil, bilet, vergi pulu, banknot, sertifika, marka kimlik dogrulama etiketi, kartvizit, tebrik karti veya duvar kâgididir. Daha önce belirtildigi gibi, bu bulusa göre gizli desen, genis bir uygulama yelpazesi için uygundur. Uzman kisi, istenen uygulama için gizli kalip türünü uygun sekilde seçecektir. Bu bulusun bir uygulamasina göre, mevcut bulusa göre gizli desen ihtiva eden alt tabaka, güvenlik uygulamalarinda, açik güvenlik unsurlarinda, gizli güvenlik unsurlarinda, marka korumasinda, mikro harfleme, mikro görüntüleme, dekoratif uygulamalarda sanatsal uygulamalarda, görsel uygulamalarda veya paketleme uygulamalarinda kullanilir. Bu bulusun kapsami ve ilgi alani, mevcut bulusun bazi uygulamalarini örneklemek amaciyla ve sinirlayici olmamak üzere, asagidaki sekil ve örneklere dayanilarak daha iyi anlasilacaktir. Sekillerin açiklamasi Sekil 1, 10 pl'luk bir damla hacmi kullanilarak farkli damla araliklarina sahip bir sivi muamele bilesimi ile mürekkep püskürtmeli olarak basilan kaplama tabakasini içeren yüzeyin taramali elektron mikroskopu (SEM) mikrografini göstermektedir. Sekildeki rakamlar, belirli basili alan için damla araligini um cinsinden göstermektedir. Sekil 2, l pl'luk bir damla hacmi kullanilarak farkli damla araliklarina sahip bir sivi muamele bilesimi ile mürekkep püskürtmeli olarak basilan kaplama tabakasini içeren yüzeyin taramali elektron mikroskopu (SEM) mikrografini göstermektedir. Sekildeki rakamlar, belirli basili alan için damla araligini nm cinsinden göstermektedir. Sekil 3, kaplama tabakasi ve logo biçiminde gizli bir desen içeren yüzeyin taramali elektron mikroskopu (SBM) mikro grafini göstermektedir. Sekil 4, kaplama tabakasi ve logo biçiminde gizli bir desen içeren yüzeyin optik mikroskop görüntüsünü göstermektedir. Sekil 5, kaplama tabakasi ve logo biçiminde gizli bir desen içeren yüzeyin optik mikroskop görüntüsünü göstermektedir. Sekil 6, kaplama tabakasi ve logo biçiminde gizli bir desen içeren yüzeyin optik mikroskop görüntüsünü göstermektedir. Sekil 7, tepe ortam isigi ile aydinlatilmis gizli desenleri içeren ambalaj kutusu fotografini göstermektedir. Sekil 8, alt tabakanin yüzeyine göre 35°'lik ortam isigi ile aydinlatilmis gizli desenleri içeren ambalaj kutusu fotografini göstermektedir. Sekil 9, alt tabakanin yüzeyine göre 20°'1ik ortam isigi ile aydinlatilmis gizli desenleri içeren ambalaj kutusu fotografini göstermektedir. Örnekler 1. Ölçüm yöntemleri Asagida, örneklerde uygulanan ölçüm yöntemleri anlatilmaktadir. Taramali elektron mikroskopu ( SEM) mikro graflari Hazirlanan desenli numuneler, Sigma VP alan emisyon taramali elektron mikroskopu (Carl Zeiss AG, Almanya) ve yaklasik 50 Pa'lik bir oda basincina sahip degisken basinçli bir ikincil elektron detektörü (VPSE) ile incelendi. Optik mikroskop resimleri Hazirlanan desen örnekleri Leica MZlöA stereomikroskop (Leica Microsystems Ltd., Isviçre) ile incelendi. Numuneler, Bragg yasasina uyan bir Bruker D8 Advance toz difraktometresi ile analiz edildi. Bu kirinim ölçeri 2.2 kW'lik X-isini tüpü, bir numune tutucu, 9- 9 goniometre ve VÄNTEC-l dedektöründen olusuyordu. Tüm deneylerde Nickelfiltered Cu Ka isini kullanildi. Profiller, 2 9 'de dakikada 0.7 ° tarama hizi kullanilarak otomatik olarak grafik seklinde kaydedildi. (XRD GV_7600). Ortaya çikan toz kirinim deseni, ICDD PDF 2 veritabaninin referans modellerine dayanan DlFFRAC sm yazilim paketleri EVA ve SEARCH kullanilarak mineral içerigi ile siniflandirildi. (XRD LTM_7603). 2. Malzemeler Tuzla bilesik yapma yetenegine sahip alkalin toprak bilesikleri CCl: ögütülmüs kalsiyum karbonat (d50: 1.5 um, dgs: lO um), kati hal içerigi %78 olan önceden dagilmis harç, Omya AG, Isviçre'den ticari olarak temin edilebilir. CC2: ögütülmüs kalsiyum karbonat (dso: 0.7 um, dgs: 5 um), kati hal içerigi %78 olan önceden dagilmis harç, Omya AG, Isviçre'den ticari olarak temin edilebilir. CC3: Aragonitik Çöktürülmüs kalsiyum karbonat (A-PCC) (d50: 0.45 um, dgs: 2 mm), kati hal içerigi %72 olan önceden dagitilmis harç, ticari olarak Omya AG, Isviçre'den temin edilebilir. CC4: ögütülmüs kalsiyum karbonat (d50: 0.21 um, dgs: 0.85 um), kati hal içerigi KAl: %72 kati içerigine sahip önceden dagitilmis kaolin bulamaci, incelik: Omya AG, Isviçre'den ticari olarak temin edilebilen, 45 um'lik bir elek üzerinde kalinti (ISO 787/7), <2 iim'lik parçaciklar (Sedigraph 5120). Baglayicilar B1: Nisasta (C * -Film 07311), ticari olarak Cargill, ABD'den temin edilebilir. B2: Stiren-bütadien lateksi (Styronal D628), BASF, Almanya'dan ticari olarak temin edilebilir. B3: Reoloji dönüstürücü (Sterocoll FS), ticari olarak BASF, Almanya'dan temin edilebilir. Yüzeyi kapli alt tabakalar Sl: Synteape/Yupo, Oji-Yuka Synthetic Paper Company Ltd., Japonya'dan ticari olarak temin edilebilen geçirgen olmayan polipropilen esnek film (temel agirlik: 62 g/ m2). SZ: Ziegler Papier, Isviçre'den ticari olarak temin edilebilen Z- Offsetkarton, Z-Mail Supra, (temel agirlik: 170 g/mz). Yüzey kaplamali alt tabakalari, sirasiyla, Sl veya SZ alt tabakasini, asagidaki Tablo 1'de belirtilen bilesime sahip bir veya daha fazla kaplama katmani ile donatmak suretiyle hazirlandi. Kaplama, bir masa üstü K202 Kontrol Kaplamasi ile gerçeklestirildi. (RK PrintCoat Instruments Ltd., Büyük Britanya). Tablo 1: Kaplama katmanlarinin bilesimi (agirlikça % mineral bilesiginin toplam agirligina dayanmaktadir). Kaplama tabakasi Mineral bilesen Baglayici A 100 wt.-% CC2 10 wt.-% 82 8 100 wt.-% CC1 @wt.-%81 3 wt.-% 82 C 70 wt.-% CC2 10 wt.-% 82 wt.-% KA1 D 100 wt.-% CCS 10 wt.-% 82 Tablo 2: Tabakalarin bilesimi (iki kaplama tabakasi mevcutsa, birincisi ön kaplama alt tabaka yüzeyi ile temas halindedir ve ikincisi dis yüzey katmanini temsil eder). Yüzeyi kaplanmis Substrat Kaplamatabakasi Kaplamatabakasi kalinligi substrat [9/m2] 1 81 A 10 2 82 8 (pre-Goat) 20 3 82 B (pre-Goat) 20 4 83 B (pre-Goat) 20 Sivi isleme bilesimleri L1: agirlikça %41 wt. fosforik asit, agirlikça %23 wt. etanol ve agirlikça %36 wt. su (agirlikça % wt., sivi isleme bilesiminin toplam agirligina dayanmaktadir). L2: agirlikça %3.7 wt. sülfürik asit, agirlikça %192 wt. etanol, agirlikça %77.1 wt. su (agirlikça % Wt., sivi isleme bilesiminin toplam agirligina dayanmaktadir). 3.Örnekler Örnek 1 -Dizilerin mürekkep püskürtmeli baskisi Dizi seklindeki önceden seçilmis desen, sivi kaplama bilesimi Ll veya L2 uygulanarak yüzey kaplamali alt tabaka l üzerinde olusturulmustur. Sivi muamele bilesimleri, Fujifilm Dimatix Inc., ABD firmasinin Dimatix Malzeme Yazicisi (DMP) kullanilarak mürekkep püskürtmeli baski ile 1 veya 10 pl'lik damla hacmine sahip kartus tabanli mürekkep püskürtmeli baski kafasiyla alt tabakaya birakilmistir. Yazdirma yönü soldan saga, bir kerede bir satirdi (diziydi). Sivi muamele bilesimleri, farkli damla araliklari kullanilarak sirasiyla l pl ve 10 pl'lik damla hacmi ile alt tabaka üzerine uygulandi. Bahsedilen baskilarin sonuçlari görsel olarak incelendi ve asagida Tablo 3 ve 4'te derlendi. Tablo 3: 10 pl damla hacmi ve sivi muamele bilesimi L] veya L2 kullanilarak, farkli damla aralikli mürekkep püskürtmeli baski testlerinin sonuçlari. 505 ,4 a'a ig S ':1 Isleme Diles M " " Yuzey kapsam Aa" basi"a basi a" 1.. rvj M (ta'i lriil -rri~'[ as: M (ta'i :mlnm31 › l 1 ' ll" 4 . ::Çil .Asr dus-g.." .A . "34 . 14-E- ' iizci .Asi'i doygunluk i 41 0 ' 3,70 ' 44 `Asi'i do'jgunluk Ö WH II . 1 '53 158 HI: ,Kiçh ncs ..dar . :SH-1 . II .MJ 4i: O E› % 'BC, _giar . ;n .RH . i': ;iza 50 ' 4 i: .Te-:il "ioktalar ` i -Cii: ' 075 H i 3 I.: Ö Te-til "-:ikîalar . 'IJ .HE . II III! i' 1th:) t i.: Tiul 'noktalar 'IJ Jî Ir: (iki Tablo 4: l pl'lik damla hacmi veya sivi muamele bilesimi Ll ya da L2 kullanilarak farkli damla aralikli mürekkep püskürtmeli baski testlerinin sonuçlari. Bosluk araligi [um] - Sivi isleme bilesiminin miktari [ml/m2]- Yüzey kapsami- Alan basina basilan asit miktari [ml/m2] Bosluk araligi Sivi isleme bilesiminin Yüzey kapsami Alan basina basilan Sekiller 1 ve 2, sivi isleme bilesimi Ll ile basilmis alt tabakalarin taramali elektron mikroskopu (SEM) mikrograIlarini göstermektedir. Sekillerin üstündeki rakamlar, belirli bir desen için damla araligini um olarak gösterir. Bahsedilen görüntüler, damla hacminin ve damla boslugu dolgulu alanlarin degistirilmesiyle, tek tek siralar veya tek tek noktalar hazirlanabilecegini açikça göstermektedir. Buna ek olarak, Sekil 2, bir yüzey alaninin büyütülmüs kesitini gösterir; burada, sivi isleme bilesiminin bir damlasi biriktirilir. Bahsedilen büyütmeyle, muamele edilen yüzey alaninin yapisinin çevresindeki yüzey yapisindan farkli oldugu X-isini kirinim (XRD) ölçümleri, 10 pl bir damla hacmi ve dönebilir PMMA isleme bilesimi Ll ile baskili alt katmanlarin basili alanlari üzerinde gerçeklestirildi. Ölçüleri veri setlerinin ICDD referans sablonlariyla karsilastirilmasi, tüm numunelerin, kalsitten ve ilave fazlardan olustugunu ortaya koymustur; bunlar, sivi tedavi kompozisyonunun uygulanmasiyla olusturulmustur. Sonuçlar asagidaki Tablo 5'te özetlenmistir. Tablo 5: XRD ölçümlerinin sonuçlari. Mineral Adi Formül Bosluk araligi [pm] Kalsiyum Fosfat CaP206 - 5 14 13 6 Monetit (kalsiyum hidrojen fosfat) CaHPO4 - - 20 21 28 Yüzeyi kapli alt tabakanin yüzeyi, sivi muamele bilesimi Ll'in uygulamasiyla degistirildigini ve gizli desenin tuzla bilesik yapma yetenegine sahip alkalin toprak bilesimi kalsiyum karbonatin asit tuzlarini ihtiva ettigini sonuçlar dogrulamaktadir. XRD ile ölçülen alan, 6 mm°lik bir çapa sahip bir daire oldugundan ve analiz alt katman "içinden" geçtiginden (sadece en dis yüzey analiz edilmedi), daha düsük düsme araligi (alan basina daha fazla asit) ile geri dönüsümsüz kalsiyum karbonat (kalsit) miktarinda azalma egilimi vardir. Alan basina daha yüksek miktarda fosforik asit ile fosfat içeren bilesikler nispeten artmaktadir. Örnek 2 - Logo biçimindeki gizli desenlerin mürekkep püskürtmeli baskisi Logo formundaki önceden seçilmis desenler, iki boyutlu barkod ve güvenlik isaretleri, sivi islem bilesimi Ll uygulayarak 1 ila 4 arasindaki alt tabakalar üzerinde olusturuldu. Sivi islem bilesimi, Fujifilm Dimatix Inc., ABD'nin Dimatix Malzeme Yazicisi (DMP) kullanilarak mürekkep püskürtmeli baski ile sirasiyla 1 pl veya 10 pl'luk damla hacmine sahip kartus tabanli mürekkep püskürtmeli baski kafalari ile alt tabaka üzerine birakilmistir. Yazdirma yönü soldan saga, bir kerede bir satirdi (diziydi). Sivi muamele bilesimi, l pl"lik damla hacmi ve 15 um"lik bir düsme araligi ile yüzeyi kapli alt katman lie uygulanir ve 10 pl"lik damla hacmi ve 30 um7lik düsme araligi ile yüzeyi kapli altkatman 2 ila 4'e uygulandi. Söz konusu baskilarin sonuçlari taramali elektron ve optik mikroskopi ile incelendi. Olusturulan logonun SEM mikrografi Sekil 3'te gösterilmistir ve olusturulan logonun optik mikroskop görüntüleri Sekil 4 ila 6'da sunulmustur. Sözü edilen görüntülerden elde edilebilecegi gibi, sivi muamele kompozisyonunun uygulanmasi baskisiz kalan alan üzerinde açikça göze çarpan yüzeyi kapli alt tabaka üzerindeki desenle sonuçlanir. Üst ortam isiginda aydinlatilan basili alt tabaka Z'ye ait olan resim, Sekil 7'de gösterilir. Sözü geçen sekilden elde edilebilecegi gibi, gizli desenler, alt tabaka yüzeyine göre yaklasik 90°'lik bir aydinlatma açisi ile insan gözü için görünmezdir. Sekiller 8 ve 9, sirasiyla 35° ± 5° ve 20° ± 5 O aydinlatma isigindaki ayni basili alt tabakayi göstermektedir. Bu sekiller, aydinlatma açisini azaltarak gizli logo (1), gizli iki boyutlu barkodu (2) ve gizli güvenlik isaretlerini (3) görülebilir hale getirdigini göstermektedir. Aydinlatma için RB 5055 HF Aydinlatma Ünitesi (Kaiser Fototechnik GmbH & C0.KG, Almanya) kullanildi. Basilmis yüzeyler, aydinlatma biriminin orta masasinin ortasina yerlestirildi ve iki lambadan biriyle aydinlatildi; burada, alt-tabaka ve lamba merkezi arasindaki mesafe yaklasik 50 cm idi. TR

Claims (1)

1.ISTEMLER 1) Alt tabakanin yüzeyine göre birinci açiyla bakildiginda görünmeyen ve alt tabakanin yüzeyine göre ikinci bir açiyla bakildiginda görülen alt tabaka üzerinde gizli bir desen olusturmaya yönelik bir yöntem olup, yöntem asagidaki adimlari içerir: a) Bir alt tabakanin saglanmasi, burada alt tabaka; tuzla bilesik yapma yetenegine sahip alkalin veya alkalin toprak bilesimi ihtiva eden en az bir harici yüzey ihtiva eder, burada tuzla bilesik yapma yetenegine sahip alkalin veya alkalin toprak bilesimi, alkalin veya alkalin toprak hidroksit, alkalin veya alkalin toprak bikarbonat, alkalin veya alkalin toprak karbonat b) en az bir asit ihtiva eden sivi muamele bilesiminin temin edilmesi ve c) sivi islem bilesiminin, gizli desen olusturmak üzere mürekkep püskürtmeli baski ile önceden seçilmis desen seklindeki en az bir dis yüzey üzerine uygulanmasi, burada sivi muamele bilesimi 1000 pl'ye esit veya daha düsük hacme sahip olan damlalar biçiminde uygulanir, ve burada damla araligi 1000 um'den küçük veya 2) Istem 1'in yöntemi olup burada adim a)'n1n en az bir dis yüzeyi, tuzla bilesik yapma yetenegine sahip alkalin veya alkalin toprak bilesigi içeren kaplama tabakasi veya laminat formundadir. 3) Önceki istemlerden herhangi birine uygun yöntem olup burada alt tabaka kâgit, mukavva, karton, plastik, dokumasiz, selofan, tekstil, ahsap, metal, cam, mika levha, mermer, kalsit, nitroselüloz, dogal tas, kompozit tas, tugla, beton ve laminatlar veya bunlarin kompozitleri tercihen kâgit, mukavva, kartondan veya plastikten olusan gruptan seçilir. Önceki istemlerden herhangi birine uygun yöntem olup, burada en azindan bir harici yüzey ve a) adimindaki alt tabaka ayni malzemeden yapilmistir. Önceki istemlerden herhangi birine uygun yöntem olup burada tuzla bilesik yapma yetenegine sahip alkalin veya alkalin toprak bilesimi, lityum karbonat, sodyum karbonat, potasyum karbonat, magnezyum karbonat, kalsiyum magnezyum karbonat veya bunlarin karisimlarindan tercihen seçilen alkalin veya alkalin toprak karbonattir, daha tercihen tuzla bilesik yapma yetenegine sahip alkalin veya alkalin toprak bilesimi, kalsiyum karbonattir ve en çok tercihen edilen haliyle tuzla bilesik yapma yetenegine sahip alkalin veya alkalin toprak bilesimi; ögütülmüs kalsiyum karbonat, çöktürülmüs kalsiyum karbonat ve/veya yüzeyi islenmis kalsiyum karbonattir. Önceki istemlerin herhangi birine uygun yöntem olup burada en az bir asit hidroklorik asit, sülûirik asit, sülfürlü asit, fo sforik asit, sitrik asit, oksalik asit, asetik asit, formik asit, sülfamik asit, tartarik asit, fitik asit, borik asit, süksinik asit, suberik asit, benzo ik asit, adipik asit, pimelik asit, azelaik asit, sebaik asit, izosirk asit, aknitik asit, propan-l,2,3-trikarb0ksilik asit, trimesik asit, glikolik asit, laktik asit, mandelik asit, asidik organosülfür bilesikleri, asidik organofosfor bilesikleri ve bunlarin karisimlarindan olusan gruptan seçilir, tercihen en az bir asit hidroklorik asit, sülfürik asit, sülIîirlü asit, fosforik asit, oksalik asit, borik asit, suberik asit, süksinik asit, sülfamik asit, tartarik asit ve bunlarin karisimlarindan olusan gruptan seçilir, daha tercihen en az bir asit, sülfürik asit, fosforik asit, borik asit, suberik asit, sülfamik asit, tartarik asit ve bunlarin karisimlarindan olusan gruptan seçilir ve en çok tercih edilen haliyle en az bir asit, fosforik asit ve/Veya sülfürik asittir. Önceki istemlerin herhangi birine uygun yöntem olup burada sivi isleme bilesimi ayrica Ilüoresan boya, fosforlu boya,ultraviyole emici boya, yakin kizil ötesi emici boya, termokromik boya, halokromik boya, metal iyonlari, geçis metal iyonlari, manyetik parçaciklar veya bunlarin bir karisimini ihtiva Önceki istemlerin herhangi birine uygun yöntem olup burada sivi isleme bilesimi, sivi isleme bilesiminin toplam agirligina dayali olarak agirlikça % 0.1,den 100 Wtfye kadar bir miktarda, tercihen agirlikça % 1°den 80 Wt.,ye kadar bir miktarda, daha tercihen agirlikça % 3Sten 60 wt.°ye kadar bir miktarda ve en çok tercihen agirlikça %10°dan 50 wtfye kadar bir miktarda asit ihtiva eder. Önceki istemlerin herhangi birine uygun yöntem olup burada önceden seçilmis desen, tek boyutlu barkod, iki boyutlu barkod, üç boyutlu barkod, güvenlik isareti, numara, harf, alfanümerik sembol, logo, resim, sekil veya tasarimdir. 10) Önceki istemlerin herhangi birine uygun yöntem olup burada damlalar 500 pl edilen sekliyle 10 pl ila 1 pl araliginda bir hacime sahiptir. 11) Önceki istemlerin herhangi birine uygun yöntem olup burada damla araligi, 10 arasinda ve en fazla tercihen 5 um ila 100 um arasindadir. 12) Alt tabakanin yüzeyine göre birinci açiyla bakildiginda görülmeyen ve alt tabakanin yüzeyine göre ikinci açiyla bakildiginda görünür olan gizli desen ihtiva eden alt tabaka istem 1 ila ll'den herhangi birine uygun bir yöntemle elde edilebilir olup burada gizli desen tuzla bilesik yapma yetenegine sahip alkalin veya alkalin toprak bilesiminin asit tuzunu içermektedir. 13) Istem 12'nin substrati olup burada gizli desen yüzey pürüzlülügü, parlaklik, isik emme, elektromanyetik radyasyon yansimasi, flüoresan, fosforesans, manyetik özellik, elektrik iletkenligi, beyazlik ve/veya parlaklikta en az bir harici yüzeyden farklidir. 14) Istem 12 veya 13'ün substrati olup burada gizli desen güvenlik özelligi ve / veya dekoratif bir özellik, tercihen tek boyutlu barkod, iki boyutlu barkod, üç boyutlu barkod, güvenlik isareti, sayi, harf, alfanümerik sembol, logo, resim, sekil veya tasarim ihtiva eder. 15) Istem 12 ila 14'ün herhangi birine göre substrat ihtiva eden bir ürün olup burada ürün; markali bir ürün, güvenli belge, güvenli olmayan belge ve dekoratif üründür, tercihen ürün; parfüm, ilaç, tütün ürünü, alkolik ilaç, sise, giysi, ambalaj, konteyner, spor ürünü, oyuncak, oyun, cep telefonu, CD, DVD, blu-ray diski, makine, alet, araba parçasi, çikartma, etiket, isaret, poster, pasaport, ehliyet, banka karti, kredi karti, tahvil, bilet, vergi pulu, banknot, sertifika, marka kimlik dogrulama etiketi, kartvizit, tebrik karti veya duvar kâgididir. 16) Güvenlik uygulamalarinda, açik güvenlik unsurlarinda, gizli güvenlik unsurlarinda, marka korumasinda, mikro harflemede, mikro görüntülemede, dekoratif uygulamalarda, sanatsal uygulamalarda, görsel uygulamalarda veya paketleme uygulamalarinda istem 12 ila l4'ten herhangi birine göre substratin kullanimi. TR
TR2018/02410T 2015-03-13 2015-03-13 Gizli Bir Desen Oluşturmaya Yönelik Yöntem. TR201802410T4 (tr)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP15159107.0A EP3067214B1 (en) 2015-03-13 2015-03-13 Method for creating a hidden pattern

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TR201802410T4 true TR201802410T4 (tr) 2018-03-21

Family

ID=52875418

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TR2018/02410T TR201802410T4 (tr) 2015-03-13 2015-03-13 Gizli Bir Desen Oluşturmaya Yönelik Yöntem.

Country Status (25)

Country Link
US (1) US10618330B2 (tr)
EP (2) EP3067214B1 (tr)
JP (1) JP6496835B2 (tr)
KR (1) KR101999911B1 (tr)
CN (1) CN107428186B (tr)
AR (1) AR104483A1 (tr)
AU (1) AU2016232485B2 (tr)
CA (1) CA2976717C (tr)
CL (1) CL2017002318A1 (tr)
CO (1) CO2017008837A2 (tr)
EA (1) EA035607B1 (tr)
ES (1) ES2663346T3 (tr)
IL (1) IL254448B (tr)
MX (1) MX2017011202A (tr)
MY (1) MY181804A (tr)
NO (1) NO3067214T3 (tr)
PL (1) PL3067214T3 (tr)
PT (1) PT3067214T (tr)
SG (1) SG11201706679VA (tr)
SI (1) SI3067214T1 (tr)
TR (1) TR201802410T4 (tr)
TW (1) TWI592448B (tr)
UA (1) UA122568C2 (tr)
WO (1) WO2016146458A1 (tr)
ZA (1) ZA201706916B (tr)

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3173522A1 (en) 2015-11-24 2017-05-31 Omya International AG Method of tagging a substrate
EP3293011A1 (en) * 2016-09-13 2018-03-14 Omya International AG Method for manufacturing a water-insoluble pattern
EP3293010A1 (en) * 2016-09-13 2018-03-14 Omya International AG Patterning of natural products
WO2018081613A1 (en) 2016-10-28 2018-05-03 Ppg Industries Ohio, Inc. Coatings for increasing near-infrared detection distances
EP3406455A1 (en) 2017-05-23 2018-11-28 Omya International AG Method for producing water-insoluble quantum dot patterns
EP3418064A1 (en) 2017-06-22 2018-12-26 Omya International AG Tamper-proof medium for thermal printing
JP2019018479A (ja) * 2017-07-19 2019-02-07 共同印刷株式会社 印刷物及びその製造方法
CN108162623B (zh) * 2017-12-05 2019-06-18 华南理工大学 一种直接喷墨打印短沟道电极的方法
EP3598105A1 (en) 2018-07-20 2020-01-22 Omya International AG Method for detecting phosphate and/or sulphate salts on the surface of a substrate or within a substrate, use of a lwir detecting device and a lwir imaging system
KR20210087991A (ko) * 2018-11-13 2021-07-13 피피지 인더스트리즈 오하이오 인코포레이티드 은닉 패턴을 검출하는 방법
US11561329B2 (en) 2019-01-07 2023-01-24 Ppg Industries Ohio, Inc. Near infrared control coating, articles formed therefrom, and methods of making the same
WO2020162177A1 (ja) * 2019-02-05 2020-08-13 東京応化工業株式会社 被認証物、認証システム、及び認証用媒体の生成方法
EP3855162A1 (en) 2020-01-21 2021-07-28 Omya International AG Lwir imaging system for detecting an amorphous and/or crystalline structure of phosphate and/or sulphate salts on the surface of a substrate or within a substrate and use of the lwir imaging system
EP4267942A1 (en) 2020-12-23 2023-11-01 Omya International AG Method and apparatus for detecting an amorphous and/or crystalline structure of phosphate and/or sulphate salts on the surface of a substrate or within a substrate
CN115184372B (zh) * 2022-07-13 2023-04-18 水利部交通运输部国家能源局南京水利科学研究院 混凝土结构难达部位微裂纹荧光渗透智能探测装置与方法
CN115304978B (zh) * 2022-08-17 2023-07-25 恒昌涂料（惠阳）有限公司 一种漆膜遇水溶解的效果漆及其制备方法和应用
WO2024049213A1 (ko) * 2022-08-30 2024-03-07 삼성전자 주식회사 패턴이 형성된 전자 장치 하우징

Family Cites Families (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2849495C3 (de) * 1978-11-15 1982-05-13 Voss, Gunther M., 8918 Diessen Anwendung eines Tintenstrahldruckers zum Beschriften oder Bedrucken von Arzneimittelformlingen
JPH06228900A (ja) * 1993-02-03 1994-08-16 Toppan Printing Co Ltd 透かし模様入り用紙及びその製造方法
FR2787802B1 (fr) 1998-12-24 2001-02-02 Pluss Stauffer Ag Nouvelle charge ou pigment ou mineral traite pour papier, notamment pigment contenant du caco3 naturel, son procede de fabrication, compositions les contenant, et leurs applications
US6334678B1 (en) * 1999-09-01 2002-01-01 International Paper Company Method for applying chemical watermarks on substrate
JP3985514B2 (ja) * 2001-03-09 2007-10-03 コニカミノルタホールディングス株式会社 インクジェット記録用紙の製造方法
JP2006017690A (ja) * 2004-05-31 2006-01-19 Konica Minolta Photo Imaging Inc インクジェット記録材料の性能検査方法
FR2871474B1 (fr) 2004-06-11 2006-09-15 Omya Development Ag Nouveau pigment mineral sec contenant du carbonate de calcium, suspension aqueuse le contenant et ses usages
EP1712523A1 (en) 2005-04-11 2006-10-18 Omya Development AG Precipitated calcium carbonate pigment, especially for use in inkjet printing paper coatings
EP1712597A1 (en) 2005-04-11 2006-10-18 Omya Development AG Process for preparing precipitated calcium carbonate pigment, especially for use in inkjet printing pater coatings and precipitated calcium carbonate
JP4419090B2 (ja) * 2005-08-05 2010-02-24 東洋紡績株式会社 すかし模様の形成された伸縮性布帛および製造方法
US20070281136A1 (en) 2006-05-31 2007-12-06 Cabot Corporation Ink jet printed reflective features and processes and inks for making them
WO2009025371A1 (ja) 2007-08-22 2009-02-26 Astellas Pharma Inc. 錠剤印刷装置及び錠剤製造方法並びに錠剤
JP5215643B2 (ja) * 2007-08-24 2013-06-19 富士フイルム株式会社 記録媒体及びその製造方法、並びに、該記録媒体を用いたインクジェット記録方法
US20090053409A1 (en) 2007-08-24 2009-02-26 Fujifilm Corporation Recording medium, method for producing the same, and inkjet recording method using the recording medium
PL2093261T3 (pl) 2007-11-02 2014-06-30 Omya Int Ag Zastosowanie aktywowanego powierzchniowo węglanu wapnia w papierze bibułkowym, sposób wytwarzania produktu stanowiącego papier bibułkowy o zwiększonej miękkości i uzyskane produkty stanowiące papier bibułkowy o zwiększonej miękkości
EP2070991B1 (en) 2007-12-12 2010-09-08 Omya Development AG Process to make surface-reacted precipitated calcium carbonate
JP5213467B2 (ja) * 2008-01-30 2013-06-19 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法
ES2370453T3 (es) 2008-08-26 2011-12-16 Omya Development Ag Productos de carga mineral tratada, proceso de preparación de los mismos y usos de los mismos.
WO2010072388A2 (de) * 2008-12-22 2010-07-01 Mondi Uncoated Fine & Kraft Paper Gmbh Verfahren zur farbgebenden beschriftung von oberflächen
DK2264109T3 (da) 2009-06-15 2012-05-21 Omya Development Ag Fremgangsmåde til fremstilling af overfladereaktivt calciumcarbonat og dets anvendelse
RS52297B (en) 2009-06-15 2012-12-31 Omya Development Ag PROCEDURE FOR OBTAINING SURFACE CARBONATE CALCIUM BY THE APPLICATION OF LOW ACID
PT2371766E (pt) 2010-04-01 2013-05-22 Omya Development Ag Processo para preparar um produto de carbonato de cálcio precipitado, material e uso do produto de carbonato de cálcio precipitado
DK2447213T3 (en) 2010-10-26 2015-07-27 Omya Int Ag Preparation of precipitated calcium carbonate with high purity
JP2012116168A (ja) * 2010-12-03 2012-06-21 Mimaki Engineering Co Ltd 加飾フィルム
FR2969670B1 (fr) 2010-12-22 2013-09-20 Arjowiggins Security Element pour document de securite comportant une structure optique
EP2692537B1 (en) * 2011-03-29 2016-06-22 DNP Fine Chemicals Co., Ltd. Inkjet recording method and ink set for inkjet recording
PT2524898E (pt) 2011-05-16 2015-11-03 Omya Int Ag Método para a produção de carbonato de cálcio precipitado a partir de refugos de fábricas de pasta de papel
AR086508A1 (es) * 2011-05-27 2013-12-18 Sicpa Holding Sa Sustrato con una marcacion de polimero de cristal liquido modificado
DE102011106094A1 (de) * 2011-06-09 2012-12-13 Manroland Web Systems Gmbh Verfahren zur Herstellung eines Druckproduktes
EP2626388B1 (en) 2012-02-09 2016-05-04 Omya International AG A composition and method for controlling the wettability of surfaces
AU2013235257B2 (en) 2012-03-23 2016-06-30 Omya International Ag Process for preparing scalenohedral precipitated calcium carbonate
JP6460315B2 (ja) * 2014-03-18 2019-01-30 セイコーエプソン株式会社 インクジェット抜蝕方法およびインクジェット捺染システム

Also Published As

Publication number Publication date
IL254448B (en) 2021-12-01
CO2017008837A2 (es) 2017-11-10
CA2976717C (en) 2020-01-28
SG11201706679VA (en) 2017-09-28
PT3067214T (pt) 2018-03-01
IL254448A0 (en) 2017-11-30
EP3067214B1 (en) 2017-12-20
TWI592448B (zh) 2017-07-21
KR20170125894A (ko) 2017-11-15
JP6496835B2 (ja) 2019-04-10
WO2016146458A1 (en) 2016-09-22
NO3067214T3 (tr) 2018-05-19
UA122568C2 (uk) 2020-12-10
MX2017011202A (es) 2018-01-30
EP3268233A1 (en) 2018-01-17
ES2663346T3 (es) 2018-04-12
AR104483A1 (es) 2017-07-26
MY181804A (en) 2021-01-07
EA035607B1 (ru) 2020-07-15
CN107428186B (zh) 2020-03-06
US20180056690A1 (en) 2018-03-01
CL2017002318A1 (es) 2018-05-04
PL3067214T3 (pl) 2018-06-29
CN107428186A (zh) 2017-12-01
KR101999911B1 (ko) 2019-07-12
ZA201706916B (en) 2018-12-19
CA2976717A1 (en) 2016-09-22
TW201700642A (zh) 2017-01-01
AU2016232485B2 (en) 2018-06-14
AU2016232485A1 (en) 2017-11-02
EA201792029A1 (ru) 2017-12-29
JP2018518381A (ja) 2018-07-12
EP3067214A1 (en) 2016-09-14
SI3067214T1 (en) 2018-04-30
US10618330B2 (en) 2020-04-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA2976717C (en) Method for creating a hidden pattern
US12024825B2 (en) Methods for verifying the authenticity of products
EP3380331B1 (en) Printed watermark
AU2016232469B2 (en) Inkjet printing method