TWI572689B - 黏著劑、膠帶、其用途及由其封裝之電子組件 - Google Patents

黏著劑、膠帶、其用途及由其封裝之電子組件 Download PDF

Info

Publication number
TWI572689B
TWI572689B TW101138854A TW101138854A TWI572689B TW I572689 B TWI572689 B TW I572689B TW 101138854 A TW101138854 A TW 101138854A TW 101138854 A TW101138854 A TW 101138854A TW I572689 B TWI572689 B TW I572689B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
adhesive
copolymer
block
sensitive adhesive
adhesive according
Prior art date
Application number
TW101138854A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201345996A (zh
Inventor
席羅 多爾斯
索斯坦 克羅溫克爾
白明庸
Original Assignee
特薩股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 特薩股份有限公司 filed Critical 特薩股份有限公司
Publication of TW201345996A publication Critical patent/TW201345996A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI572689B publication Critical patent/TWI572689B/zh

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B17/00Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
    • B32B17/06Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B17/00Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
    • B32B17/06Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
    • B32B17/10Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04Interconnection of layers
    • B32B7/12Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C27/00Joining pieces of glass to pieces of other inorganic material; Joining glass to glass other than by fusing
    • C03C27/06Joining glass to glass by processes other than fusing
    • C03C27/10Joining glass to glass by processes other than fusing with the aid of adhesive specially adapted for that purpose
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L93/00Compositions of natural resins; Compositions of derivatives thereof
    • C08L93/04Rosin
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J153/00Adhesives based on block copolymers containing at least one sequence of a polymer obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J163/00Adhesives based on epoxy resins; Adhesives based on derivatives of epoxy resins
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J193/00Adhesives based on natural resins; Adhesives based on derivatives thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J193/00Adhesives based on natural resins; Adhesives based on derivatives thereof
    • C09J193/04Rosin
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/30Adhesives in the form of films or foils characterised by the adhesive composition
    • C09J7/38Pressure-sensitive adhesives [PSA]
    • C09J7/381Pressure-sensitive adhesives [PSA] based on macromolecular compounds obtained by reactions involving only carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C09J7/387Block-copolymers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00Materials not provided for elsewhere
    • C09K3/10Materials in mouldable or extrudable form for sealing or packing joints or covers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/29Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the material, e.g. carbon
    • H01L23/293Organic, e.g. plastic
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • H01L31/042PV modules or arrays of single PV cells
    • H01L31/048Encapsulation of modules
    • H01L31/0481Encapsulation of modules characterised by the composition of the encapsulation material
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/80Constructional details
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L53/00Compositions of block copolymers containing at least one sequence of a polymer obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L63/00Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L93/00Compositions of natural resins; Compositions of derivatives thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2203/00Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2203/326Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils for bonding electronic components such as wafers, chips or semiconductors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2453/00Presence of block copolymer
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K2102/00Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
    • H10K2102/301Details of OLEDs
    • H10K2102/311Flexible OLED
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/80Constructional details
    • H10K50/84Passivation; Containers; Encapsulations
    • H10K50/842Containers
    • H10K50/8426Peripheral sealing arrangements, e.g. adhesives, sealants
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/26Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
    • Y10T428/269Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension including synthetic resin or polymer layer or component
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/28Web or sheet containing structurally defined element or component and having an adhesive outermost layer
    • Y10T428/2852Adhesive compositions
    • Y10T428/287Adhesive compositions including epoxy group or epoxy polymer

Description

黏著劑、膠帶、其用途及由其封裝之電子組件
本發明涉及一種特別用於電子組件之封裝的黏著劑。
(光電)電子組件在商業產品上的應用範圍愈來愈廣,同時也有愈來愈多的(光電)電子組件即將被引進市場。這種組件具有無機或有機電子結構,例如有機半導體、金屬有機半導體、聚合物半導體、或是這些半導體的混合物。可以根據應用上的需要將這些組件製作成硬性或軟性的組件,其中尤以對軟性組件的需求愈來愈大。製造這種組件的方法很多,其中一種是印刷法,例如凸版印刷、凹版印刷、篩網印刷、平版印刷、或是所謂的非衝擊式印刷(”non impacting printing”),例如熱轉移印刷、噴墨印刷、或數位印刷。另外一種常用的方法是真空法,例如化學氣相沉積法(CVD)、物理氣相沉積法(PVD)、電漿輔助化學或物理沉積法(PECVD)、濺鍍法、(電漿)腐蝕法、或蒸鍍法,其中所需的圖案化步驟通常是利用掩模完成。
以下是一些已商業化或有市場潛力之(光電)電子應用的例子:電泳或電色譜構成物或顯示器、應用於顯示裝置或照明裝置的有機發光二極體(OLED)或聚合物發光二極體(PLED)、電致發光燈、發光的電化學電池(LEEC)、有機太陽能電池(特別是色素太陽能電池或聚合物太陽能電池)、無機太陽能電池(特別是薄 膜太陽能電池,尤其是以矽、鍺、銅、銦及硒為基的薄膜太陽能電池)、有機場效應電晶體、有機電路組件、有機光學放大器、有機雷射二極體、有機或無機傳感器、有機或無機RFID轉發器。
在無機及/或有機(光電)電子學的領域,尤其是對有機(光電)電子學的領域而言,為了使(光電)電子組件具有夠長的使用壽命及足夠的功能,如何保護組件中的成分免於受到滲透物的影響是一個很大的技術挑戰。滲透物可能是低分子有機或無機化合物,其中尤以水蒸氣及氧最為常見。
無機及/或有機(光電)電子學領域中的許多(光電)電子組件,尤其是應用有機原材料的組件,對於水蒸氣及氧都很敏感,其中有許多組件又以水蒸氣的滲入是最大的問題。因此在電子組件的使用壽命期間,有必要透過封裝保護電子組件,否則在使用期間電子組件的效率將降低。例如在組件發生氧化時,(如電致發光燈(EL燈)或有機發光二極體(OLED)之類的發光組件的)發光能力、(如電泳顯示器(EP顯示器)的)對比度、或(如太陽能電池的)發光效能將會在極短的時間內大幅下降。
無機及/或有機(光電)電子學(尤其是有機(光電)電子學)對能夠防止氧及/或水蒸氣等滲透物滲入的軟性黏著劑有非常大的需求。除了防止滲透外,這種(光電)電子組件對於軟性黏著劑還有許多其他的要求。因此軟性黏著劑不只要能夠在兩個基板之間形成良好 的黏著效果,還要具備其他優良特性,例如很高的抗剪強度及抗剝離強度、很好的化學耐受性及抗老化性、很高的透明性、易加工性、以及很好的撓曲性及韌性。
因此先前技術常用的一種解決方案是將電子組件置於兩個不透水蒸氣及氧的基板之間,然後再將邊緣封裝住。對非軟性的構成物是以玻璃或金屬基板作為基板,玻璃及金屬基板都具有很好的防滲透作用,但缺點是對機械負載的抵抗力不足。另外一個缺點是會使整個組件的厚度變得相當大。如果是金屬基板則不具有透明性。軟性組件則是使用扁平基板,例如可製成多層式的透明或不透明薄膜。扁平基板可以是由不同的聚合物組合而成,也可以是由無機或有機薄膜所組成。使用這種扁平基板可以製造出具有撓曲性且非常薄的構成物。可以針對不同的應用選擇不同的基板,例如薄膜、編平面構成物、絨頭平面構成物、紙、或這些材料的組合。
為了盡可能達到良好的封裝效果,應使用特殊的阻隔黏著材料。好的(光電)電子組件封裝用黏著材料需具備氧及水蒸氣的滲透率很低、以及在組件上有良好的黏著性及流動性等特性。在組件上的流動性變小可能是因為組件表面未完全潤濕,以及殘留的氣孔使交界面的阻隔作用降低,因此不論黏著材料具有何種特性,氧及水蒸氣都可能從側面滲入。只有在黏著材料及基板之間的接觸面是不能滲透的情況下,黏著材 料的特性才會對黏著材料的阻隔作用起到特定的作用。
通常是以氧滲透率OTR(Oxygen Transmission Rate)及水蒸氣滲透率WVTR(Water Vapor Transmission Rate)來表示阻隔作用。OTR及WVTR分別表示在特定的溫度及分壓條件(必要時還包括其他的測量條件,例如相對濕度)下單位面積及單位時間通過薄膜的氧氣流及水蒸氣流。OTR及WVTR的數值愈低,代表該材料愈適於作為封裝材料。滲透性的表述不光是指WVTR或OTR的數值,而是還包括關於滲透路徑長度的說明,例如材料厚度或標準化成一個特定的路徑長度。
滲透率P是衡量物體被氣體及/或液體透過的程度。P值低代表良好的阻隔作用。滲透率P是一特定材料及一特定滲透物在固定條件下(特定的滲透路徑長度、分壓及溫度)的一個特定的值。滲透率P是擴散項D及溶解項S的乘積:P=D*S。
其中溶解項S是描述阻隔黏著材料對滲透物的親合性。以滲透物為水蒸氣為例,疏水的材料可以達到較低的S值。擴散項D是描述滲透物在阻隔材料內的移動性,其大小是直接由滲透物的分子移動性或自由空間等特性決定。高度交聯或高度結晶的材料通常能夠達到相當低的D值。但是高度結晶的材料的透明度通常較低,而高度交聯則會使材料的撓曲性變差。滲 透率P通常會隨著分子移動性的升高而變大,例如當溫度升高或跨越玻璃轉換點。
光是靠很低的溶解項S通常並不能達到良好的阻隔特性。一個典型的例子是矽氧烷彈性體。這種材料非常疏水(溶解項很低),但由於自由旋轉Si-O鍵(擴散項很大)的關係,使得這種材料對水蒸氣及氧的阻隔作用相當差。因此要達到良好的阻隔作用的一個先決條件是溶解項S及擴散項D之間要達到良好的平衡。
要提高黏著劑的阻隔作用,就必須從這兩個參數(D及S)下手,尤其是考量這兩個參數對水蒸氣及氧的滲透的影響。除了這些化學特性外,也必須考慮到物理特性對滲透率的影響,尤其是平均滲透路徑長度及交界面特性(黏著材料的流動特性,黏著力)。理想的阻隔黏著材料的D值及S值均很低,而且能夠很好的黏著在基板上。
為此目前使用的主要是以環氧化物為基的液態黏著劑及膠黏劑(WO 98/21287 A1;US 4,051,195 A;US 4,552,604 A)。由於高度交聯的關係,此類液態黏著劑及膠黏劑的擴散項D都很低,且主要是應用在硬性組件的邊緣黏著,但亦可應用在半軟性組件的邊緣黏著。此類液態黏著劑及膠黏劑可以經由加熱或照射紫外線硬化。由於硬化產生的收縮,因此幾乎不可能達到全面積黏著的程度,這是因為硬化會在黏著劑及基板料之產生應力,這可能導致黏著處剝離。
使用這種液態黏著劑有許多缺點。例如其低分子 成分(VOC:揮發性有機物)可能會對組件的敏感電子結構造成損害,導致產品中的組件難以與其他組件溝通。必須很費事的將黏著劑塗在電子組件的每一個組成組件上。另外一個缺點是需使用昂貴的撒布裝置及固定裝置,才能確保液態黏著劑的精確定位。此外,其塗覆方式不利於快速連續作業的進行,以及後續需進行的層壓步驟可能會因為黏滯性較低而無法達到特定的層厚度及在狹窄區域的黏著寬度。
此外,高度交聯的黏著劑在硬化後僅剩下很小的撓曲性。熱交聯系統的使用被限制在低溫範圍,或是雙成分系統的使用受到使用期的限制,也就是說必須在膠凝前完成加工步驟。在高溫範圍及反應時間很長的情況下敏感的(光電)電子結構也會對這種系統的可用性造成限制:(光電)電子結構的最高可使用溫度通常是60℃,因為一旦超過這個溫度,(光電)電子結構就可能受損。尤其是含有有機電子組件並以透明聚合物膜(或聚合物膜與無機膜的複合物)封裝的軟性組件的可使用溫度範圍特別窄。這對於在高壓下進行的層壓步驟也是如此。為了達到較佳的耐久性,最好是刪除承受溫度負荷的步驟,以及用較低的壓力進行層壓。
如果不使用可加熱硬化液態黏著劑,一種替代方法是使用可輻射硬化黏著劑(US 2004/0225025 A1)。使用可輻射硬化黏著劑可以避免電子組件承受長時間的熱負荷。
尤其是如果(光電)電子組件需具有柔軟性,則封裝所使用的黏著劑不能太硬及易脆。因此壓敏性黏著劑及可熱活化黏著的黏著膜特別適於這種封裝。為了能夠在基底上具有良好的流動性,所使用的黏著劑還需要能夠達到很高的黏著強度,因此剛開始時黏著劑要盡可能的軟,然而之後又要能夠被交聯。應根據黏著劑的主要化學成分決定以加熱硬化及/或輻射硬化作為交聯機制。其中加熱硬化的速度相當緩慢,輻射硬化則可以在數秒內被引發。因此輻射硬化(尤其是紫外線硬化)對於連續製造方法特別有利。
DE 10 2008 060 113 A1提出一種防止滲透物的封裝電子組件的方法,這種方法是先製備以丁烯嵌段共聚物(尤其是異丁烯嵌段共聚物)為基的壓性黏著劑,然後將這種黏著劑應用於封裝過程。較佳是有添加作為彈性體的特定的樹脂(以DACP值及MMAP值描述樹脂的特性)。此外,黏著劑較佳是透明的,而且能夠阻斷紫外線。黏著劑的阻隔能力較佳是達到WVTR<40g/m2*d及OTR<5000g/m2*d的程度。在封裝過程中,可以在塗上壓敏性黏著劑時及/或之後將壓敏性黏著劑加熱。可以使壓敏性黏著劑交聯,例如使用輻射化學交聯。建議使用有利於交聯反應的基材材料等級。但是並未提出體積滲透及交界面滲透都非常低且具有高透明性及撓曲性的具體的例子。
EP 1 518 912 A1提出一種封裝電致發光元件用的黏著劑,此種黏著劑含有光致陽離子硬化化合物及光致陽 離子引發劑。光刺激造成的暗反應會使黏著劑硬化。黏著劑較佳是以環氧化物為基。也可以添加脂肪族氫氧化物及聚酯作為共交聯成分。此外,黏著劑也可以含有黏性樹脂,以調整黏著性及內聚性,例如其可為聚異丁烯。這個專利並未特別提及各成分之間的相容性,也沒有說明聚合物的莫耳質量。
JP 4,475,084 B1教示一種用於透明有機電致發光元件的封印胚料,例如以嵌段共聚物為基的胚料。並舉SIS、SBS、以及其他氫化的變體為例說明。但並未提及塗覆後能夠產生交聯的成份。亦並未提及封印胚料的阻隔特性。可明顯看出封印層並沒有承擔阻隔任務。
US 2006/100299 A1提出一種壓敏性黏著劑,這種壓敏性黏著劑含有一種US 2006/100299 A1定義之軟化溫度高於+60℃的聚合物、一種US 2006/100299 A1定義之軟化溫度低於+30℃的可聚合環氧樹脂、以及一種能夠引發樹脂及聚合物之間的反應的光引發劑。但是活性聚合物並非很容易可取得的材料,因此這種聚合物的選擇會受到一定的限制,尤其是對聚合物的特性更多要求或會導致成本增加的情況。此外,每一種官能基化(應經由反應性產生)都會使基本極性升高,因而導致水蒸氣滲透性變大。未提及任何一種以異丁烯或丁烯為基的共聚物,也沒有說明聚合物的莫耳質量。
US 2009/026934 A1提出封裝有機電致發光元件用的黏著劑層。黏著劑含有聚異丁烯及一種氫化烴樹脂。為了在使用後產生交聯,可以添加不同的活性樹脂及環 氧化物。其舉例典型的WVTR值在5g/m2*d至20g/m2*d之間。未說明ODR值。與其他軟性單體經共聚反應產生的聚異丁烯聚合物可作為共聚物使用。聚合物的莫耳質量通常>500000g/mol。
WO 2008/144080 A1提出含有被封裝之敏感有機層的結構。以一種硬化的彈性層壓黏著劑進行封裝。所使用的黏著劑是由活性寡聚物及/或聚合物及活性單體混合而成。可經由輻射或加熱使黏著劑硬化。根據此專利的說明,活性是透過(甲基)丙烯酸酯基產生。未精確說明環氧樹脂的陽離子硬化。未提及以共聚物作為彈性體的主要成分,也沒有說明聚合物的莫耳質量。
US 2010/0137530 A1提出以環氧樹脂混合物為基的黏著劑層。其中一種環氧樹脂的莫耳質量較低,另一種環氧樹脂的莫耳質量較高。以陽離子硬化,紫外線引發。未設置彈性體基底。
本發明的目的是提出一種黏著劑,這種黏著劑具有以下的特性:對有害物質具有阻隔作用,因此能夠阻止氧及水蒸氣對敏感的功能層(例如太陽能模組的有機光電池範圍或有機發光二極體(OLED)的範圍)造成的有害影響,能夠將功能元件的不同組件連結在一起,在黏著過程中易於使用,也就是能夠以很有彈性及乾淨的方式被使用,而且製造商也很容易對其進行加工。
採用本發明之主申請專利項目描述的黏著劑即可達到上述目的。附屬申請專利項目的內容為本發明的各種 有利的實施方式。此外,本發明的內容還包括應用本發明的黏著劑。
本發明的黏著劑(較佳是壓敏性黏著劑)含有:(a)至少一種共聚物,此種共聚物至少含有作為一種共聚單體的異丁烯或丁烯,以及至少一種軟化溫度高於40℃的被假想為均聚物的共聚單體;(b)至少一種至少部分氫化的黏性樹脂;(c)至少一種以環醚為基的活性樹脂,其軟化溫度低於40℃,或較佳是低於20℃;(d)至少一種引發陽離子硬化的光引發劑。
非晶形材料的軟化溫度相當於玻璃轉換溫度,(半)晶形材料的軟化溫度相當於熔化溫度。
壓敏性黏著劑的最大特徵是具有永久黏性及撓曲性。具有永久黏性的材料必須在任何時候都具有附著性及內聚性的適當組合。為了達到良好的黏合特性,必須將壓敏性黏著劑的附著性及內聚性調整到理想的平衡狀態。
較佳是以壓敏性黏著劑作為黏著劑,壓敏性黏著劑是一種黏彈性材料,在室溫乾燥狀態下具有永久黏性,而且始終保持在可黏著的狀態。使用時只需輕輕施壓即可使壓敏性黏著劑幾乎黏著在任何基板上。
根據一種有利的實施方式,黏著劑所含之共聚物為統計共聚物、交變共聚物、嵌段共聚物、星形共聚物、及/或接枝共聚物,其重量平均分子量Mw為300,000g/mol或更低、較佳為200,000g/mol或更小。由於較低的分子 量有助於改善可加工性,因此較佳是使用分子量較低的共聚物。
以下是共聚物的例子:由至少兩種不同的單體構成的統計共聚物,其中至少有一種是異丁烯或丁烯,以及至少有一種是軟化溫度高於40℃的共聚單體(視為假想的均聚物)。以下是這種共聚單體的有利的例子:乙烯芳香物(包括部分氫化或部氫化的變種),甲基丙烯酸甲酯,甲基丙烯酸環己酯,甲基丙烯酸異茨酯,丙烯酸異茨酯。
特別有利的例子是苯乙烯及α-甲基苯乙烯,以上僅是若干可能的例子,並不包括所有的可能性。
根據另一種有利的實施方式,黏著劑所含之共聚物為嵌段共聚物、星形共聚物、及/或接枝共聚物,其具有至少一個軟化溫度低於-20℃的第一聚合物嵌段(“軟嵌段”),以及至少一個軟化溫度低於高於+40℃的第二聚合物嵌段(“硬嵌段”)。
軟嵌段較佳是非極性結構,且較佳是含有丁烯或異丁烯作為均聚物嵌段或共聚物嵌段,其中共聚物嵌段較佳是與本身、彼此、或其他非極性共聚單體共聚化。例如(部分)氫化的聚丁二烯、(部分)氫化的聚異戊二烯、及/或聚烯烴都是適當的非極性共聚物。
硬嵌段較佳是由乙烯芳香物(包括部分氫化或部氫化的變種)、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸異茨酯及/或丙烯酸異茨酯苯乙烯構成。特別有利的例子是苯乙烯及α-甲基苯乙烯,以上僅是若干可能的 例子,並不包括所有的可能性。硬嵌段含有至少一種軟化溫度高於40℃的被假想為均聚物的共聚單體。
一種特別有利的實施方式是共聚物同時含有以上描述之軟嵌段及硬嵌段。
一種有利的方式是,該至少一個嵌段共聚物是一種三嵌段共聚物,也就是由兩個尾端硬嵌段及一個中間軟嵌段構成的三嵌段共聚物。此外,也可以是雙嵌段共聚物,或是三嵌段共聚物及雙嵌段共聚物的混合物。
一種特別有利的三嵌段共聚物是聚苯乙烯-嵌段-聚異丁烯-嵌段-聚苯乙烯。例如Kaneka公司生產的SIBStar及BASF公司生產的Oppanol IBS都屬於這種三嵌段共聚物系統。EP 1 743 928 A1有揭示其他可使用的有利的系統。
由於共聚物含有一部分作為至少一種共聚單體的異丁烯或丁烯,因此產生一種有利的非極性黏著劑,這種黏著劑尤其對水蒸氣具有很低的體積阻隔特性。
相較於先前技術,由於這種共聚物的莫耳質量較小,因此對製造商而言具有較佳的可加工性,尤其是成型及塗覆過程的可加工性。如果加工過程有使用到溶劑(尤其是異烯聚合物及丁烯聚合物只有很少的溶劑可供選擇),則較小的莫耳質量能夠產生較好且更快的溶解性。而且在溶液中也可以達到較高的共聚物濃度。即使是未使用溶劑的加工過程,莫耳質量較小的共聚物也是有利的,因為其熔化黏滯性低於莫耳質量較大的可比較 之系統的熔化黏滯性。
雖然降低莫耳質量自然會使黏著劑達到更好的溶解性,以及較低的溶劑黏滯性及熔化黏滯性,但是莫耳質量較小也會對一些重要的特性造成不利的影響,例如黏著劑的內聚力。因此本發明是透過所使用的至少第二種共聚單體(視為假想的均聚物,軟化溫度高於40℃)來抵消這些負面影響。
本發明的黏著劑含有至少一種至少部分氫化的黏性樹脂,而且最好是有摻入共聚物及/或由硬嵌段及軟嵌段構成的共聚物的黏性樹脂,其中主要是與軟嵌段相容(軟性樹脂)。
一種有利的方式是,這種黏性樹脂的性樹脂軟化溫度高於25℃。另外一種有利的方式是再添加至少一種軟化溫度低於20℃的黏性樹脂。這樣做的好處是可以對黏著劑在黏著基底上的黏著特性及流動特性進行微調。
例如以下的樹脂均可作為添加到壓敏性黏著劑中的樹脂:以松香及松香衍生物為基的部分氫化或完全氫化的樹脂、雙環戊二烯的氫化聚合產物、以C5-,C5/C9-或C9-單體流為基的部分氫化、選擇性氫化或完全氫化的烴樹脂、以α-蒎烯及/或β-蒎烯及/或δ-苧烯為基的多萜樹脂、純C8-及C9-芳香物的氫化聚合產物。以上提及的黏性樹脂均可單獨或與其他黏性樹脂混合使用。
在室溫中為固態及液態的樹脂均可使用。為了確保具有很好的抗老化及紫外線穩定性,應使用氫化度至少90%、或最好是至少95%的氫化樹脂。
此外,DACP值(二丙酮醇濁點)高於30℃及MMAP值(混合甲基環己酮苯胺點)高於50℃的非極性樹脂,尤其是DACP值高於37℃及MMAP值高於60℃的非極性樹脂,也是很好的選擇。樹脂的DACP值及MMAP值是描述其在特定溶劑中的溶解度。選擇這個範圍的DACP值及MMAP值,可以達到特別高的滲透阻隔作用,尤其是對水蒸氣的滲透阻隔作用。
此外,本發明的黏著劑還含有至少一種用於輻射化學交聯及/或熱交聯的以環醚為基的活性樹脂,其軟化溫度低於40℃,或較佳是低於20℃。
這種以環醚為基的活性樹脂主要是環氧化物(也就是具有至少一個環氧乙烷基的化合物)或環氧丙烷。也可以是具有芳香族、或尤其是脂肪族或環脂肪族的性質。
單官能基、雙官能基、三官能基、四官能基、以及更高官能性至多官能基的活性樹脂均可使用,其中官能度的計算是以環醚基為準。
舉例但並非限制為:3,4-環氧環己基甲基-3’,4’-環氧環己基羧酸酯(EEC)及其衍生物,二氧化二環戊二烯及其衍生物,3-乙基-3-環氧丙烷甲醇及其衍生物,四氫化鄰苯二甲酸二縮水甘油酯及其衍生物,六氫化鄰苯二甲酸二縮水甘油酯及其衍生物,1,2-乙烷二縮水甘油醚及其衍生物,1,3-丙烷二縮水甘油醚及其衍生物,1,4-丁二醇二縮水甘油醚及其衍生物,高級數1-正烷二縮水甘油醚及其衍生物,貳-[(3,4-環氧環己基)甲基]-己二酸酯及其衍生物,乙烯基環己基二氧化物其衍生物,1,4-環己烷 二甲醇-貳-(3,4-環氧環己烷羧酸酯)及其衍生物,4,5-環氧四氫化鄰苯二甲酸二縮水甘油酯及其衍生物,貳-[1-乙基(3-環氧丙烷基)甲基]醚及其衍生物,季戊四醇四縮水甘油醚及其衍生物,雙酚-A-二縮水甘油醚(DGEBA)及其衍生物,氫化雙酚-A-二縮水甘油醚,雙酚-F-二縮水甘油醚,氫化雙酚-F-二縮水甘油醚,環氧酚-酚醛清漆,氫化環氧酚-酚醛清漆,環氧甲酚-酚醛清漆,氫化環氧甲酚-酚醛清漆,2-(7-氧雜二環螺(1,3-二【口+咢】烷-5,3’-(7-氧雜二環[4.1.0]-庚烷)),1,4-貳((2,3-環氧丙氧基)甲基)環己烷。
可以使用單聚物、二聚物、三聚物、一直到寡聚物形式的活性樹脂。
也可以使用活性樹脂的混合物,或是活性樹脂的混合物再加上其他的共反應化合物,例如醇類(單官能基或多官能基)或乙烯醚(單官能基或多官能基)。
此外,黏著劑配方還含有至少一種使活性樹脂陽離子硬化的光引發劑。較佳是使用以鋶、錪、金屬茂為基的陽離子紫外線硬化引發劑。
在US 6,908,722 B1(尤其是第10至21行)的實施方式中有提及以鋶為基的陽離子的例子。
以下是可作為上述提及之陽離子之平衡離子的陰離子的例子:四氟硼酸根,四苯硼酸根,六氟磷酸根,高氯酸根,四氯化鐵酸根,六氟砷酸根,六氟銻酸根,五氟羥基銻酸根,六氯焦銻酸,肆-(五氟苯基)硼酸根,肆-(五氟甲基苯基)硼酸根,貳-(三氟甲基磺基)-醯胺,叄 -(三氟甲基磺基)-甲基化物。此外,對於以錪為基的引發劑亦可使用氯化物、溴化物或碘化物作為陰離子,但較佳是使用不含氯溴的引發劑。
以下是可使用之系統的具體例子:
˙鋶鹽(例如US 4,231,951 A,US 4,256,828 A,US 4,058,401 A,US 4,138,255 A,US 2010/063221 A1):三苯基鋶六氟砷酸鹽,三苯基鋶六氟硼酸鹽,三苯基鋶四氟硼酸鹽,三苯基鋶肆-(五氟芐基)-硼酸鹽,甲基二苯基鋶四氟硼酸鹽,甲基二苯基鋶肆-(五氟芐基)-硼酸鹽,二甲基苯基鋶六氟磷酸鹽,三苯基鋶六氟磷酸鹽,三苯基鋶六氟銻酸鹽,二苯基萘基鋶六氟砷酸鹽,三甲苯基鋶六氟磷酸鹽,茴香二苯基鋶六氟銻酸鹽,4-丁氧基苯基二苯基鋶四氟硼酸鹽,4-丁氧基苯基二苯基鋶肆-(五氟芐基)-硼酸鹽,4-氯苯基二苯基鋶六氟銻酸鹽,叄-(4-苯氧基苯基)-鋶六氟磷酸鹽,二-(4-乙氧苯基)-甲基鋶六氟砷酸鹽,4-乙醯基苯基二苯基鋶四氟硼酸鹽,4-乙醯基苯基二苯基鋶肆-(五氟芐基)-硼酸鹽,叄-(4-甲硫基苯基)-鋶六氟磷酸鹽,二-(甲氧基磺苯基)-甲基鋶六氟銻酸鹽,二-(甲氧基萘基)-甲基鋶四氟硼酸鹽,二-(甲氧基萘基)-甲基鋶肆-(五氟芐基)-硼酸鹽,二-(甲酯基苯基)-甲基鋶六氟磷酸鹽,(4-辛氧基苯基)-二苯基鋶肆-(3,5-貳-三氟甲基苯基)-硼酸鹽,叄-[4-(4-乙醯基苯基)-苯硫基]-鋶肆-(五氟苯基)-硼酸鹽,叄-(十二苯基)-鋶肆-(3,5-貳-三氟甲基苯基)-硼酸鹽,4-乙醯胺苯基二苯基鋶四氟硼 酸鹽,4-乙醯胺苯基二苯基鋶肆-(五氟芐基)-硼酸鹽,二甲基萘基鋶六氟磷酸鹽,三氟甲基二苯基鋶四氟硼酸鹽,三氟甲基二苯基鋶肆-(五氟芐基)-硼酸鹽,苯基甲基芐基鋶六氟磷酸鹽,5-甲基噻蒽鎓六氟磷酸鹽,10-苯基-9,9-二甲基噻吨鎓六氟磷酸鹽,10-苯基-9-氧代噻吨鎓四氟硼酸鹽,10-苯基-9-氧代噻吨鎓肆-(五氟芐基)-硼酸鹽,5-甲基-10-氧代噻蒽鎓四氟硼酸鹽,5-甲基-10-氧代噻蒽鎓肆-(五氟芐基)-硼酸鹽,5-甲基-10,10-二氧代噻蒽鎓六氟磷酸鹽。
˙錪鹽(例如US 3,729,313 A,US 3,741,769 A,US 4,250,053 A,US 4,394,403 A,US 2010/063221 A1):二苯基錪四氟硼酸鹽,二-(4-甲基苯基)-錪四氟硼酸鹽,苯基-4-甲基苯基錪四氟硼酸鹽,二-(4-氯苯基)-錪六氟磷酸鹽,二萘基錪四氟硼酸鹽,二-(4-三氟甲基苯基)-錪四氟硼酸鹽,二苯基錪六氟磷酸鹽,二-(4-甲基苯基)-錪六氟磷酸鹽,二苯基錪六氟砷酸鹽,二-(4-苯氧基苯基)-錪四氟硼酸鹽,苯基-2-噻吩基錪六氟磷酸鹽,3,5-二甲基吡唑基-4-苯基錪六氟磷酸鹽,二苯基錪六氟銻酸鹽,2,2’-二苯基錪四氟硼酸鹽,二-(2,4-二氯苯基)-錪六氟磷酸鹽,二-(4-溴苯基)-錪六氟磷酸鹽,二-(4-甲氧基苯基)-錪六氟磷酸鹽,二-(3-羧苯基)-錪六氟磷酸鹽,二-(3-甲氧基羧苯基基)-錪六氟磷酸鹽,二-(3-甲養基磺基苯基)-錪六氟磷酸鹽,二-(4-乙醯胺基苯基)-錪六氟磷酸鹽,二-(2-苯并噻吩基)-錪六氟磷酸鹽; 二芳基錪叄-(三氟甲基磺基)-甲基化物,例如二苯基錪六氟銻酸鹽;二芳基錪肆-(五氟苯基)-硼酸鹽,例如二苯基錪肆-(五氟苯基)-硼酸鹽;(4-正癸氧基苯基)-苯基錪六氟銻酸鹽,[4-(2-羥基正十四烷氧基)-苯基]-苯基錪六氟銻酸鹽,[4-(2-羥基正十四烷氧基)-苯基]-苯基錪三氟磺酸鹽,[4-(2-羥基正十四烷氧基)-苯基]-苯基錪六氟磷酸鹽,[4-(2-羥基正十四烷氧基)-苯基]-苯基錪肆-(五氟苯基)-硼酸鹽,雙-(4-叔丁苯基)錪六氟銻酸鹽,雙-(4-叔丁苯基)錪六氟磷酸鹽,雙-(4-叔丁苯基)錪三氟磺酸鹽,雙-(4-叔丁苯基)錪四氟硼酸鹽,雙-(十二烷基苯基)錪六氟銻酸鹽,雙-(十二烷基苯基)錪四氟硼酸鹽,雙-(十二烷基苯基)錪六氟磷酸鹽,雙-(十二烷基苯基)錪三氟甲基磺酸鹽,二-(十二烷基苯基)錪六氟銻酸鹽,二-(十二烷基苯基)錪三氟甲磺酸鹽(di-(dodecylphenyl)-iodonium triflate),二苯基錪重硫酸酸鹽,4,4’-二氯二苯基錪重硫酸酸鹽,4,4’-二溴二苯基錪重硫酸酸鹽,3,3’-二硝基二苯基錪重硫酸酸鹽,4,4’-二甲基二苯基錪重硫酸酸鹽,4,4’-雙-琥珀醯亞胺基二苯基錪重硫酸酸鹽,3-硝基二苯基錪重硫酸酸鹽,4,4’-甲氧基二苯基錪重硫酸酸鹽,雙-(十二烷基苯基)錪肆-(五氟苯基)-硼酸鹽,(4-辛氧基苯基)-苯基錪肆-(3,5-雙-三氟甲基苯基)-硼酸鹽,(甲苯基異丙苯基)-錪肆-(五氟苯基)-硼酸鹽。 以及
˙二茂鐵鎓鹽(例如EP 542 716 B1):η5-(2,4-環戊二烯-1-基)-[(1,2,3,4,5,6,9)-(1-甲基乙基)-苯]-鐵。以下均為市面上可購得的光引發劑的例子:Cyracure UVI-6990、Cyracure UVI-6992、Cyracure UVI-6974及Cyracure UVI-6976(製造商:Union Carbide),Optomer SP-55、Optomer SP-150、Optomer SP-151、Optomer SP-170及Optomer SP-172(製造商:Adeka),San-Aid SI-45L、San-Aid SI-60L、San-Aid SI-80L、San-Aid SI-100L、San-Aid SI-110L、San-Aid SI-150L及San-Aid SI-180L(製造商:Sanshin Chemical),SarCat CD-1010、SarCat CD-1011及SarCat CD-1012(製造商:Sartomer)、Degacure K185(製造商:Degussa),Rhodorsil Photoinitiator 2074(製造商:Rhodia),CI-2481、CI-2624、CI-2639、CI-2064、CI-2734、CI-2855、CI-2823及CI-2758(製造商:Nippon Soda),Omnicat 320、Omnicat 430、Omnicat 432、Omnicat 440、Omnicat 445、Omnicat 550、Omnicat 550BL及Omnicat 650(製造商:IGM Resins),Daicat II(製造商:Daicel),UVAC 1591(製造商:Daicel-Cytec),FFC 509(製造商:3M),BBI-102、BBI-103、BBI-105、BBI-106、BBI-109、BBI-110、BBI-201、BBI-301、BI-105、DPI-105、DPI-106、DPI-109、DPI-201、DTS-102、DTS-103、DTS-105、NDS-103、NDS-105、NDS-155、NDS-159、NDS-165、TPS-102、TPS-103、TPS-105、TPS-106、TPS-109、 TPS-1000、MDS-103、MDS-105、MDS-109、MDS-205、MPI-103、MPI-105、MPI-106、MPI-109、DS-100、DS-101、MBZ-101、MBZ-201、MBZ-301、NAI-100、NAI-101、NAI-105、NAI-106、NAI-109、NQAI-1002、NAI-1003、NAI-1004、NB-101、NB-201、NDI-101、NDI-105、NDI-106、NDI-109、PAI-01、PAI-101、PAI-106、PAI-1001、PI-105、PI-106、PI-109、PYR-100、SI-101、SI-105、SI-106及SI-109(製造商:Midori Kagaku),Kayacure PCI-204、Kayacure PCI-205、Kayacure PCI-615、Kayacure PCI-625、Kayarad 220及Kayarad 620、PCI-061T、PCI-062T、PCI-020T、PCI-022T(製造商:Nippon Kayaku),TS-01及TS-91(製造商:Sanwa Chemical),Deuteron UV 1240(製造商:Deuteron),Tego Photocompound 1465N(製造商:Evonik),UV 9380 C-D1(製造商:GE Bayer Silicones),FX 512(製造商:Cytec),Silicolease UV Cata 211(製造商:Bluestar Silicones),以及Irgacure 250、Irgacure 261、Irgacure 270、Irgacure PAG 103、Irgacure PAG 121、Irgacure PAG 203、Irgacure PAG 290、Irgacure CGI 725、Irgacure CGI 1380、Irgacure CGI 1907及Irgacure GSID 26-1(製造商:BASF)。
除了以上的例子外,還有其他可被本發明使用的光引發劑,而且這些光引發劑也都是熟習該項技術者所知道的。可以只使用一種光引發劑,也可以使用兩種或多種光引發劑的組合。
較佳是含有吸收小於350nm且有利為大於250nm的光引發劑。也可以使用吸收範圍在350nm以上(例如在紫光範圍)的光引發劑。較佳是使用以鋶為基的光引發劑,因為其具有非常有利的紫外線吸收特性。
此外,也可以使用光敏化劑,其作用是在氧化還原過程中將光引發劑還原。在這個過程中,光引發劑會被分解,並形成能夠啟動陽離子聚合的活性陽離子。這種反應方式容許在較大波長的情況下引發陽離子聚合。以下是這種光敏化劑的例子:二苯甲酮及其衍生物,苯乙酮衍生物(例如Irgacure 651),蒽衍生物(例如2-乙基-9,10-二甲氧基-蒽、9-羥甲基-蒽),苯基酮(例如1-羥環己基-苯酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙-1-酮、4-(2-羥基乙氧基)-苯基-(2-羥基-2-甲基丙基)-酮;Irgacure 184,Darocur 1173,Irgacure 2959),噻噸衍生物(例如4-異丙基-9-噻噸,1-氯-4-丙氧基-噻噸)。
考慮中間產物的氧化還原電位及延遲電位可以決定光引發劑及光敏化劑的最佳組合,例如以二芳基錪為基的光引發劑及苯乙酮的組合,此部分在Bulut U.,Crivello J.V.,J.Polym.Sci.2005,43,3205-3220中有描述。
較佳是先將壓敏性黏著劑塗在電子組件上,然後再部分或最終交聯。
可以在黏著劑中添加常用的添加物,例如抗臭氧化劑、抗氧化劑、光防護劑等。
以下是常用的黏著劑添加物:-- 塑化劑(例如軟化油),或低分子液態聚合物(例如 低分子聚丁烯);-- 一次抗氧化劑,例如空間位阻酚;-- 二次抗氧化劑,例如亞磷酸鹽或硫醚;-- 過程穩定劑,例如C游離基補捉劑;-- 光防護劑,例如紫外線吸收劑或空間位阻胺;-- 加工輔助劑;-- 晶格添加劑;-- 增黏劑;-- 終端嵌段強化樹脂;-- 具有彈性體性質的其他聚合物;其他可用的彈性體包括以純碳氫化合物為基的彈性體,例如不飽和聚二烯烴、天然或合成的聚異戊二烯或聚丁二烯、化學上趨近飽和的彈性體,例如飽和乙烯-丙烯-共聚物、α-烯烴聚合物、聚異丁烯、丁基橡膠、乙丙橡膠,以及化學官能基化的烴,例如含鹵素、含丙烯酸酯、含烯丙基、或含乙烯醚的聚烯烴。
黏著劑並非一定要添加以上提及之任何添加劑或添加劑的組合,即使不含任何添加劑,黏著劑仍可發揮功能。
一種有利的方式是在本發明的壓敏性黏著劑中加入填充料。最好是以奈米級填充料及/或透明填充料作為黏著劑的填充料。此處所謂的奈米級填充料是指至少有一邊的最大長度大約是100nm(或最好是10nm)的填充料。一種特別有利的方式是使用具有片狀結晶結構及在均勻分佈時縱橫尺寸比很高的透明填充料。具有片狀結 晶結構及縱橫尺寸比遠大於100之填充料的厚度通常只有若干nm,但是晶粒的長度或寬度可能會大到若干μm。這種填充料也被稱為奈米微粒。填充料的小尺寸粒狀結構對於壓敏性黏著劑的透明性是非常有利的。
透過上述填充料的協助可在黏著劑基質內形成迷宮式的結構,因此使氧及水蒸氣的擴散路徑變長到使其透過黏著劑層的滲透率變低的程度。為了提高這些填充料在壓敏性黏著劑基質內的分散性,可以用有機化合物對填充料進行表面改良。例如US 2007/0135552A1及WO 02/026908A1有關於使用這種填充料的說明。
本發明的另外一種有利的實施方式使用的填充料能夠與氧及/或水蒸氣產生特殊的交互作用。滲入(光電)電子組件的氧或水蒸氣會與這種填充料產生化學或物理結合。這種填充料也被稱為”吸氣劑”、”脫氧劑”、”乾燥劑”、或”吸收劑”。以下是這種填充料的若干例子:可氧化的金屬、鹵化物、鹽、矽酸鹽、氧化物、氫氧化物、硫酸鹽、亞硫酸鹽、金屬及過渡金屬的碳酸鹽、過氯酸鹽及活性碳,包含其變體。例如氯化鈷、氯化鈣、溴化鈣、氯化鋰、氯化鋅、溴化鋅、二氧化矽(矽膠)、氧化鋁(活性鋁)、硫化鈣、硫化銅、二硫亞磺酸鈉、碳酸鈉、碳酸鎂、二氧化鈦、膨土、微晶高嶺石、矽藻土、沸石、以及鹼金屬/鹼土金屬的氧化物(例如氧化鋇、氧化鈣、氧化鐵、氧化鎂)、碳奈米管。此外,也可以使用有機吸收劑,例如聚烯烴-共聚物、聚胺-共聚物、PET-共聚物、或其他以混成聚合物為基的吸收劑(大部分與催化劑合 併使用,例如鈷)。其他有機吸收劑還包括輕度交聯的聚丙烯酸、抗壞血酸鹽(Ascorbate)、葡萄糖、五倍子酸、不飽和脂肪及油。
為了盡可能使填充料達到很好的阻隔作用,填充料的含量不應過低。填充料的含量至少應有5%、較佳為至少10%、或最好是至少有15%(重量百分比)。典型的作法是在不會使黏著劑之黏著力降低過多或損及黏著劑之其他特性的前提下,盡可能提高填充料的含量。視填充料的種類而定,填充料的含量可以在40%至70%(重量百分比)之間。
此外,應盡可能使填充料分佈均勻及盡可能具有最大的表面積。這樣做可以提高填充料的效能及吸收能力,因此奈米級填充料在這方面具有特別的優勢。
黏著劑並非一定要添加以上提及之任何填充料或填充料的組合,即使不含任何填充料,黏著劑仍可發揮功能。
一種有利的方式是使用在可見光的光譜範圍(波長範圍400nm至800nm)是透明的黏著劑。這主要是透過使用無色的黏性樹脂及調整共聚物(對嵌段共聚物及接枝共聚物之類的微相位分離系統是調整其軟嵌段)及黏性樹脂的相容性達到所需的透明性,也可以使用活性樹脂達到所需的透明性。為此目的使用的活性樹脂較佳是屬於脂肪族或環脂肪族系統的樹脂。這種壓敏性黏著劑特別適於將(光電)電子結構進行全面積的黏著。對一大致設置於中央位置的電子結構而言,全面積黏著比邊緣 封裝更好的地方是滲透物必須擴散通過整個面才能滲透到電子結構內部,因此滲透路徑會明顯變長。相較於以液態黏著劑進行邊緣封裝,這種實施方式延長的滲透路徑對於整體阻隔作用具有正面影響,因為滲透路徑與滲透率是成反比的。
所謂”透明”是指可見光對黏著劑的平均透過率至少達到75%、或最好是高於90%,不過這指的是未修正過的透過率,也就是未將交界面反射損耗計入的透過率。
黏著劑的霧度值小於5.0%、或較佳是小於2.5%。
壓敏性黏著劑的製造及加工可以從溶液、彌散液或溶融液進行。最好是以溶液或熔融液進行壓敏性黏著劑的製造及加工。一種特別有利的方式是以溶液製造壓敏性黏著劑。這種方法是將壓敏性黏著劑的成分溶解在適當的溶劑中,例如甲苯或汽油及丙酮的混合物,然後以一般常用之方法塗覆在載體上。以熔融液進行加工時,可以利用噴嘴或壓延機進行塗覆。以溶液進行加工時,可以利用刮板、刀片、滾筒、或噴嘴進行塗覆。
在無溶劑的塗覆過程中,可以透過塗覆溫度影響塗覆結果。熟習該項技術者都知道要獲得透明的黏著劑層應使用那些過程參數。在有溶劑的塗覆過程中,可以透過所選擇的溶劑或混合溶劑影響塗覆結果。沸點低於100℃的非極性溶劑與沸點高於100℃的溶劑(最好是芳香族溶劑)是一種很有利的組合。
較佳是溶劑或溶融液進行塗覆。本發明的配方對此非常有利,這將在本文後面加以說明。
一種特別有利的方式是將本發明的黏著應用於單面或雙面膠帶。這種應用方式可以使黏著劑的塗覆變得特別簡單,而且塗覆得非常均勻。
所謂”膠帶”通常是指一種單面或雙面含有(壓敏性)黏著劑的載體材料。載體材料包括所有的平面構成物,例如在二度空間中伸展的薄膜或薄膜段、長而窄的帶子、一段帶子、沖裁帶(例如形式為將(光電)電子組件的邊界包覆住的帶子)、多層配置帶。可以針對不同的應用將不同的載體(例如薄膜、織物、絨頭織物、紙)與黏著劑組合在一起。此外,“膠帶”也包括所謂的”無基材雙面膠帶”,也就是一種沒有載體的膠帶。無基材雙面膠帶是在使用之前先將黏著劑塗在具有離型層及/或抗黏著性特性的軟性襯料之間。無基材雙面膠帶的使用通常是先去除一層襯料,接著將黏著劑黏上去,然後再去除第二個襯料。可以用壓敏性黏著劑直接連結(光電)電子組件內的兩個表面。
除了具有兩個襯料的膠帶外,也可以使用只有一個可從雙面分開之襯料的膠帶。在這種情況下,膠帶軌道的頂面被雙面可分開的襯料的一個面覆蓋住,膠帶軌道的底面被雙面可分開的襯料的背面覆蓋住,尤其是被一個球或捲筒的一個相鄰的繞圈的背面覆蓋住。
在本發明中,較佳是以聚合物膜、複合薄膜、帶有或有機及/或無機層的薄膜或複合薄膜作為膠帶的載體 材料。所有常用於製造薄膜的塑膠都可用來製造這種薄膜/複合薄膜,例如但並非限制為:聚乙烯、聚丙烯(尤其是經由單軸或雙軸拉伸產生的定向聚丙烯(OPP))、環烯烴共聚物(COC)、聚氯乙烯(PVC))、聚酯(尤其是聚對苯二甲酸乙二酯(PET)及聚2,6-萘二甲酸乙二酯(PEN))、乙烯-乙烯醇(EVOH)、聚偏二氯乙烯(PVDC)、聚偏二氟乙烯(PVDF)、聚丙烯腈(PAN)、聚碳酸酯(PC)、聚醯胺(PA)、聚硫醚(PES)、聚醯亞胺(PI)。
載體也可以和有機或無機鍍膜或塗層結合在一起。有多種常用的方法可以達到這個目的,例如塗漆、壓印、蒸鍍、濺鍍、共擠壓、層壓等方法。例如但並非限制為:矽及鋁的氧化物或氮化物、氧化銦物(ITO)、溶膠-凝膠鍍膜。
很薄的玻璃也可以製造出非常好的載體膜。例如層厚度小於1 mm或甚至薄到只有30μm。例如Schott公司生產的D263T及Corning公司生產的Willow Glass都是市面上可購得的產品。如果需要的話,可以經由無基材雙面膠帶將一層塑膜膜(例如聚酯膜)層壓在玻璃薄膜上,以提高玻璃薄膜的穩定性。
較佳是使用厚度在15至200μm、較佳為20至100μm、又較佳為25至75μm、或最佳為30至50μm的薄玻璃。
一種有利的方式是使用硼矽玻璃(例如Schott公司生產的D263T eco)、鹼金屬-鹼土金屬矽玻璃、或鋁硼矽玻璃(例如Schott公司生產的AF 32 eco)。
不含鹼的薄玻璃(例如AF32 eco)是有利的,因為紫 外線透過率比較高。因此紫外線硬化的黏著劑系統可以使用在UV-C範圍具有最大吸收性的引發劑,這可以提高未交聯之黏著劑對日光的穩定性。
含鹼的薄玻璃(例如D263T eco)是有利的,因為熱膨脹係數較大,而且與OLED-結構的其他聚合物成分具有很好的適配性。
可以利用下拉法(例如WO 00/41978 A1)或其他方法(例如EP 1 832 558 A1)製造這種玻璃。此外,WO 00/41978 A1也有揭示以薄玻璃及聚合物層或聚合物膜製成的複合物。
一種特別有利的方式是,這種薄膜/薄膜複合物(尤其是聚合物膜)對氧及水蒸氣具有滲透阻隔作用,而且其滲透阻隔作用高於封裝範圍的要求(WVTR<10-1g/(m2d),OTR<10-1cm3/(m2d bar))。
由於玻璃本身就具有很好的阻隔特性,因此薄玻璃膜或薄玻璃膜複合物並不需相應的阻隔鍍膜。
和聚合物膜一樣,較佳是將薄玻璃膜或薄玻璃膜複合物製作成帶狀並捲繞成捲筒。Corning公司生產的名為Willow Glass的產品就是捲繞成捲筒的玻璃膜。製作成這種型式產品特別適合與同樣是製作帶狀的黏著劑層壓在一起。
此外,一種有利的方式是製作透明的薄膜/薄膜複合物,以使這種黏著劑產品的整個結構都是透明的。所謂”透明”是指可見光對黏著劑的平均透過率至少達到75%、或最好是高於90%。
雙面(自黏)膠帶的頂層及底層可以是由相同或不同的本發明的黏著劑構成,及/或具有相同或不同的層厚度。可以使用先前技術的方法對載體的一面或雙面進行預處理,例如目的是為了改善黏著劑在載體上的錨定。同樣的,膠帶的一面或兩面可以配置功能層,例如阻擋層。可以選擇性的利用離型紙或離型膜將壓敏性黏著劑層覆蓋住。一種替代方式是只用雙面均可分離的襯料將一個黏著劑層覆蓋住。有一種變化方式是雙面(自黏)膠帶含有一種本發明的黏著劑及另外一種任意的黏著劑,其中這另外一種黏著劑在覆蓋基底上有很好的附著性,或是具有非常好的可復原性。
此外,本發明的黏著劑及/或其製成的膠帶很適於用來封裝電子組件,以阻隔滲透物,其作法是將黏著劑或膠帶塗覆及/或環繞在電子組件的要封裝的範圍上。
所謂封裝並非僅指用前面提及的壓敏性黏著劑將(光電)電子組件的四周整個封住,而是包括已將壓敏性黏著劑塗覆在(光電)電子組件上要封裝的範圍,例如單面覆蓋或將電子結構圍繞住。
原則上可以用膠帶執行兩種封裝方式。其中一種方式是先將膠帶裁剪好,然後僅將要封裝的部分圍繞黏著住,另外一種方式是用膠帶將整個要封裝的範圍黏著住。第二種方式的優點是比較容易執行,而且保護效果通常較好。
本發明的依據的第一個認知是,雖然可能會有以上的缺點,但仍可使用(壓敏性)黏著劑封裝電子組件,但 前提是要使前面提及之壓敏性黏著劑的缺點不會發生,或減輕這些缺點。事實顯示,本發明的以一種共聚物為基的黏著劑特別適於用來封裝電子組件,其中該共聚物至少含有作為共聚單體的異丁烯或丁烯及至少一種軟化溫度高於40℃的被假想為均聚物的共聚單體。
黏著劑較佳是一種壓敏性黏著劑,由於使用時無需預固定,因此很容易使用。壓敏性黏著劑的加工彈性很大,而且很乾淨。製作成膠帶可以很容易的控制壓敏性黏著劑的劑量,而且不會有溶劑造成污染的問題。至少在塗覆到目標基板上之後,壓敏性黏著劑就會受到光引發劑的刺激而產生交聯反應。
相較於其他的壓敏性黏著劑,本發明的黏著劑的優點是:對氧及水蒸氣具有特別好的阻隔特性,對不同的基板具有很好的交界面附著性,很好的內聚性,比液態黏著劑具有更好的撓曲性,以及易於應用在(光電)電子組件內及(光電)電子組件的封裝。此外,本發明還可以為特定的實施方式提供能夠以特殊方式應用在(光電)電子組件的高透明性的黏著劑,以便將入射光或射出光的減弱程度控制在很低的範圍。
經由對(光電)電子結構的至少一部分與扁平阻隔材料(例如玻璃,尤其是薄玻璃、金屬氧化鍍膜、金屬膜、多層基板材料)進行層壓形成的封裝,可以在簡單的滾筒對滾筒過程中達到很好的阻隔作用。除了受壓敏性黏著劑的撓曲性的影響外,整個結構的撓曲性還受到其他因素的影響,例如(光電)電子結構及扁平阻 隔材料的幾何形狀及厚度。壓敏性黏著劑的高撓曲性可以實現很薄、可撓曲及軟性的(光電)電子結構。
對(光電)電子結構的封裝而言,一種非常有利的方式是在塗覆壓敏性黏著劑之前、塗覆期間或塗覆之後將(光電)電子結構加熱。這樣可以使壓敏性黏著劑的流動更順暢,因而降低(光電)電子結構及壓敏性黏著劑之交界面的滲透率。應加熱至30℃以上、或最好是50℃以上,以提高壓敏性黏著劑的流動性。但是也不應加熱至過高的溫度,以免損及(光電)電子結構。應盡可能使加熱溫度低於100℃。理想的溫度範圍在50℃至70℃之間。同樣的,在塗覆壓敏性黏著劑之前、塗覆期間或塗覆之後加熱,也是一種有利的方式。
從以上的說明可知,本發明的黏著劑能夠滿足對於封裝(光電)電子組件之黏著劑的所有要求,包括:‧對水蒸氣及氧的體積滲透率很低,也就是WVTR(Mocon)值小於10g/m2d,且OTR(Mocon)值小於1000cm3/m2*d*bar;‧對水蒸氣及氧的交界面滲透率,也就是WVTR(Ca試驗)值小於1g/m2d,以及黏著劑在目標基板上有很好的流動性;‧可選擇性具有高透明性,較佳是透過率大於90%;‧可選擇性但較佳使霧度值小於5.0%、或較佳是小於2.5%;‧非常好的層壓特性,例如根據滾筒對滾筒試驗,未交聯系統在玻璃上的黏著力大於1.5N/cm、或較佳是大 於2.5N/cm,以及交聯系統在玻璃上的動態抗剪強度大於25N/cm2、較佳為大於50N/cm2、或最好是大於100N/cm2。以下配合圖式及有利的實施方式對本發明的細節、目標、特徵及優點做進一步的說明。
第1圖顯示(光電)電子組件1的第一種構造方式。組件1具有一個基板2,電子結構3設置在基板2上。基板2本身就是滲透物的一個阻隔層,並構成電子結構3之封裝的一部分。在電子結構3的上方間隔一段距離處有另外一個具阻隔作用的蓋板4。
為了將電子結構3的側面也封裝住,並使蓋板4與電子組件1連結在一起,故以壓敏性黏著劑5沿著基板2上的電子結構3的邊緣將電子結構3封住。另外一種實施方式並不是以純壓敏性黏著劑5進行封裝,而是以含有至少一種本發明之壓敏性黏著劑的膠帶5進行封裝。壓敏性黏著劑5將蓋板4與基板2連結在一起。只要壓敏性黏著劑5的厚度足夠,即可維持蓋板4與電子結構3之間原本的間隔。
壓敏性黏著劑5是一種如前面所述之本發明的壓敏性黏著劑,以下將在實施方式中對壓敏性黏著劑5做進一步的說明。壓敏性黏著劑5的任務不只是將基板2與蓋板4連結在一起,而是還包括構成一個對滲透物的阻隔層,以防止滲透物(例如水蒸氣及氧)從側面滲入電子結構3。
在本實施方式中,壓敏性黏著劑5是由雙面膠帶沖裁成的沖裁件提供。這種沖裁件在使用上特別方便。
第2圖顯示(光電)電子組件1的另外一種構造方式。如第2圖所示,電子結構3被設置在基板2上、並被基板2從底部封住。電子結構3的上方及側面均被壓敏性黏著劑5全面積封住。因此電子結構3的上方整個被壓敏性黏著劑5封住。接著在壓敏性黏著劑5的上方設置一蓋板4。由於壓敏性黏著劑5已提供很好的阻隔作用,因此蓋板4不必像前面提及的第一種構造方式必須具有很好的阻隔作用。例如蓋板4可以只具有力學上的保護作用,當然除此之外,蓋板4也可以具有滲透阻隔作用。
第3圖顯示(光電)電子組件1的另外一種構造方式。和前面兩種構造方式不同的是,第3圖的構造方式使用兩種壓敏性黏著劑5a,5b,在本實施方式中這兩種壓敏性黏著劑5a,5b是相同的壓敏性黏著劑。其中第一種壓敏性黏著劑5a將整個基板2覆蓋住。電子結構3被設置在壓敏性黏著劑5a上、並被壓敏性黏著劑5a固定住。接著以另外一種壓敏性黏著劑5b將壓敏性黏著劑5a及電子結構3構成的複合體整個覆蓋住,這樣電子結構3的每一個面都被壓敏性黏著劑5a,5b封裝住。同樣的,在壓敏性黏著劑5b的方同也設有一蓋板4。
在這種構造方式中,基板2及蓋板4都不必具 有對滲透物的阻隔作用。當然也可以使基板2及蓋板4具有對滲透物的阻隔作用,以進一步防止滲透物滲入電子結構3。
此處要指出的是,第2圖及第3圖僅為示意圖。從這兩個圖並無法看出壓敏性黏著劑5最好是以均勻厚度被塗覆上去。均勻塗覆的好處是在過渡到電子結構的位置不會出現尖銳的棱角,而是很順暢的過渡到電子結構,同時可以保留原有的未填滿及充氣的小區域。但必要時亦可使壓敏性黏著劑與基底完全密合,尤其是在真空中或較高的壓力下進行塗覆的情況。此外,由於壓敏性黏著劑會在局部受到不同程度的壓縮,因此經由流動過程可以在某種程度上縮小在棱角處的厚度差。此外,為了便於說明及理解,上述圖示並非按照正確的比例尺繪製,尤其是電子結構實際上通常是非常扁平的,其厚度通常小於1μm。
以上所有實施方式都是將壓敏性黏著劑5製作成膠帶使用。膠帶的種類原則上可以是具有載體的雙面膠帶,也可以是無基材雙面膠帶。以上所有實施例使用的都是無基材雙面膠帶。
不論是製作成無基材雙面膠帶,或是塗覆在扁平的構造物上,壓敏性黏著劑的厚度都是在約1μm至約150μm之間、較佳是在約5μm至約75μm之間、或最好是在約12μm至約50μm之間。如果要提高在基板上的黏著力及/或在(光電)電子組件內 達到減震效果,可以使用較厚的壓敏性黏著劑層(50μm至150μm之間)。但這樣做的缺點是滲透斷面會變大。較小的厚度(1μm至12μm之間)可以縮小滲透斷面,以減少橫向滲透及(光電)電子組件的總厚度。但這樣做的缺點是會降低在基板上的黏著力。前面提及的最佳厚度範圍可以在較小的厚度(因此滲透斷面較小,以減少橫向滲透)及較大厚度(以產生足夠的黏著力)之間取得很好的平衡。理想的厚度是由(光電)電子組件、終端應用、以及壓敏性黏著劑的種類等因素(有時還包括扁平基板)決定。
雙面膠帶的阻隔黏著劑的厚度亦適用上一段提及的範圍,也就是說各個壓敏性黏著劑層的厚度都是在約1μm至約150μm之間、較佳是在約5μm至約75μm之間、或最好是在約12μm至約50μm之間。如果除了本發明的阻隔黏著劑外,雙面膠帶還含有另一種阻隔黏著劑,則其厚度較佳是在150μm以上。
以下將配合若干範例對本發明做進一步的說明,但是本發明並不受這些範例的任何限制。
試驗方法 黏著力
按照以下的方式測定黏著力:以一片玻璃板(浮法玻璃)作為黏著底板。在可黏著扁平單元帶有易分離之襯料的那一個面上加上一層厚度36μm的 PET膜。將待測量的可黏著扁平單元裁剪成成寬度20mm及長度25cm的試體(帶有一操作用的段落)並黏在黏著底板上,然後直接用4kg的鋼製滾筒以10m/min的進給速度在所選擇的黏著底板上滾壓5次。滾壓結束後,利用Zwick公司生產的拉伸試驗機以180度的角度及300mm/min的速度將黏在黏著底板上的扁平單元撕開,並測量所需的拉力。取3次測量的平均值作為試驗結果(單位:N/cm)。這個試驗是在未交聯品上進行。
氧滲透率(OTR)及水蒸氣滲透率(WVTR)
按照DIN 53380第3部分及ASTM F-1249的規定測量氧滲透率(OTR)及水蒸氣滲透率(WVTR)。將厚度50μm的壓敏性黏著劑塗覆在一可滲透的薄膜上。氧滲透率的測量是利用Mocon OX-Tran 2/21的測量儀器在23℃及相對濕度50%的環境中進行。水蒸氣滲透率的測量是在37.5℃及相對濕度90%的環境中進行。
使用壽命試驗
以鈣試驗測定(光電)電子組件的使用壽命。如第4圖所示。在真空中將一面積20x20mm2的很薄的鈣層23沉積在一片玻璃板21上,然後置於氮氣環境中。鈣層23的厚度約為100nm。利用含有待試驗之黏著劑22的膠帶(26x26mm2)將鈣層23封住,其中膠帶是以可撓曲之薄玻璃24(35μm,製造商:Schott)作為載體。為了提高穩定性,藉由厚度50μm的光學高透明性之丙烯酸酯壓敏性黏著劑製成的無基材雙面膠帶25將 薄玻璃片與一層厚度100μm的PET膜26層壓在一起。將黏著劑22塗覆在玻璃板21上,使黏著劑22以超出邊緣3mm的方式(A-A)將鈣層23覆蓋住。
由於玻璃載體24是不會被滲透,因此僅測得滲透過壓敏性黏著劑或沿著交界面的滲透。
這個試驗是以鈣與水蒸氣及氧的反應為基礎,例如來自:A.G.Erlat et.al.“47th Annual Technical Conference Proceedings-Society of Vacuum Coaters”,2004,第654-659頁,及M.E.Gross et.al.“46th Annual Technical Conference Proceedings-Society of Vacuum Coaters”,2003,第89-92頁。進行試驗時要監控光線對鈣層的透射率,這個透射率會隨著鈣被轉換成氫氧化鈣及氧化鈣而變大。由於試驗是從邊緣開始進行,因此鈣層的可見面積會變小。當鈣層的光吸收率減半時,就視為使用壽命已結束。這種方法可以同時觀察到鈣層的面積從邊緣開始以逐點方式被分解,以及鈣層的厚度以全面積分解的方式均勻縮小。
測量環境為60℃及相對濕度90%。將一層厚度25μm且壓敏性黏著劑全面積且無氣泡地黏在試體上。取3次測量的平均值作為試驗結果(單位:h)。
從鈣層整個被分解的時間可以計算出水蒸氣滲透率(Ca-WVTR)。將被蒸發的鈣的質量乘上一個0.9的係數(從金屬鈣到透明的氫氧化鈣的轉換反應的H2O/Ca的質量比),以計算出滲入之水蒸氣的質量。這涉及滲透斷面(試體的周長x黏著劑的厚度)及鈣層 整個被分解的時間。將計算出的測量值除以邊緣寬度(單位:mm),然後標準化為1 mm的滲透路段。Ca-WVTR的單位為g/m2*d。
黏性樹脂軟化溫度
黏性樹脂軟化溫度的測定是根據相關的方法進行,此種被稱為環與球法的方法是按照ASTM E28的規定制定的標準化方法。
利用Herzog公司生產的環與球自動測定儀HRB 754測定黏性樹脂軟化溫度。首先將樹脂樣品磨成粉狀。接著將樹脂粉末放入底部有開口的黃銅量筒(量筒上部內徑20mm,量筒底部開口直徑16mm,量筒高度6mm),然後放到加熱台上使其熔化。裝到量筒中的粉末量要達到樹脂在熔化後將量筒整個填滿的程度。
將所產生的試體及量筒一起放到HRB 754的試體固定架上。如果黏性樹脂軟化溫度在50℃至150℃之間,應使用加滿甘油的回火槽。如果黏性樹脂軟化溫度低於這個範圍,可使用水浴。試驗的直徑9.5mm,重量3.5g。按照HRB 754的程序,將試驗球置於回火槽內的試體上方,置於試體上。在量筒底部下方25mm處設有一個承接盤,承接盤上方2mm處設有一個光柵。在測量過程中以5℃/min的速度升高溫度。到達樹脂軟化溫度的溫度範圍時,試驗球開始移動通過量筒的底部開口,直到停在承接盤上為止。試驗球在這個位置被光柵偵測到,並記錄回火槽在這個時間點的溫度。進行兩次測定。取兩次測定的平均值作為黏性樹脂軟化溫度。
軟化溫度
共聚物、硬嵌段及軟嵌段、以及未硬化之活性樹脂的軟化溫度是以”差示掃描卡計分析法”(DSC)按照DIN 53765:1994-03的規定測定。加熱曲線是以10K/min的加熱速度變化。將樣品放在帶有有孔鍋蓋及充滿氮氣的鋁製坩鍋內測量。計算出第二條加熱曲線。非晶形材料出現的是玻璃轉換溫度,(半)晶形材料出現的是熔化溫度。從溫度自記曲線的階段可以看出玻璃轉換。溫度自記曲線的峰值就是玻璃轉換溫度。出現最高反應熱的溫度就是熔化溫度。
透明度
經由VIS光譜測量黏著劑的透明度。VIS光譜的吸收是在是Kontron公司生產的UVIKON 923吸收光譜儀上進行。被測量之光譜的波長範圍包括在1nm解析度下所有介於800nm及400nm之間的波長。將黏著劑塗覆在一PET載體上,並在測量前對載體進行涵蓋整個波長範圍的空通道測量作為比較用的參考值。將上述波長範圍內的透明度測量的平均值作為測量結果。未進行交界面反射損耗的修正。
霧度測量
霧度值是描述光線在穿透試體時,被試體向前大角度散射的光線所佔的比例。因此霧度值可以用來量化會干擾透明性的材料表面或結構缺陷。規範ASTM D 1003有描述測量霧度值的方法。這個規範要求需進行4次透射度測量。每一次透射度測量都要計算光透 射度。將4個光透射度換算成以百分比表示的霧度值。以Byk-Gardner GmbH公司生產的Haze-gard Dual霧度計測量霧度值。
分子量
以凝膠滲透色譜法(GPC)測定以重量計算的平均分子量MW(也稱為莫耳質量)。以含0.1%(體積百分比)之三氟醋酸的THF作為洗提劑。在25℃的溫度中進行測量。以PSS-SDV,5μm,103Å,ID 8.0mm x 50mm之電堆作為前電堆。以PSS-SDV,5μm,103Å及105Å及106Å,每次ID 8.0mm x 300mm之電堆進行分拆。試體濃度為4g/l,流量為每分鐘1.0ml。以PS標準進行測量。
動態剪切試驗
將無基材雙面膠帶黏在兩片玻璃板(浮法玻璃)之間,以照射紫外線使其硬化。靜置24小時後,在溫度23℃及相對空氣濕度50%的環境中將所形成的複合體放在拉力試驗機中以50mm/min的拉動速度將兩片玻璃板以180度的角度扯開,並記錄最大扯開力(單位:N/cm2)。使用邊長25mm的正方形試體進行這個試驗。
除非另有說明,在以下範例中提及的比例都是重量百分比/或佔總成份的重量比。
範例1
所使用之共聚物為Kaneka公司生產的聚苯乙烯-嵌段-聚異丁烯之嵌段共聚物。苯乙烯佔總聚合物的比例為20%(重量百分比)。使用Sibstar 62M(300g)。莫耳質量為60,000g/mol。聚苯乙烯嵌段的玻璃轉換溫度 為100℃,聚異丁烯嵌段的玻璃轉換溫度為-60℃。所使用的黏性樹脂為Exxon公司生產的Escorez 5300(環與球法105℃,DACP=71,MMAP=72),這是一種完全氫化的烴樹脂,使用量200g。所使用的活性樹脂是Dow公司生產的Uvacure 1500,這是一種環脂肪族雙環氧化物,使用量為500g。Uvacure 1500的玻璃轉換溫度為-53℃。將這些原料溶解在甲苯(300g)、丙酮(150g)及揮發油(benzine)60/95(550g)的混合物中,因而形成濃度50%(重量百分比)的溶液。
接著將一種光引發劑加到溶液中。也就是10g的三芳基鋶六氟銻酸鹽(製造商:Sigma Aldrich)。此種光引發劑是溶解在碳酸丙烯酯中,濃度為50%(重量百分比)。此種光引發劑在320nm至360nm範圍具有最大吸收能力。
利用到刀將溶液塗覆在一種矽化PET襯料上,並在120℃中乾燥15分鐘。塗覆量為50g/m2。接著用另外一層容易分離的矽化PET襯料將樣品覆蓋住。
用這些樣品製造出黏著力量測用的試體。在玻璃(浮法玻璃)上的黏著力為4.2N/cm。另外製作動態剪切試驗用的樣品(以無摻雜的水銀燈照射,使其硬化,照射劑量80mJ/cm2)。動態剪切試驗的結果為150N/cm2
將樣品放到手套箱中。其中一部分樣品用於使用壽命試驗。使紫外線穿過覆蓋玻璃將樣品硬化(照射劑量80mJ/cm2,照射燈的種類:無摻雜的水銀燈)。將此樣 品用於使用壽命試驗。在相同的條件下使紫外線穿過PET襯料將其他的樣品(無需經過層壓處理)硬化。將這些樣品用於WVTR及OTR測量(Mocon),以及用於光學特性的檢驗。
WVTR測量(Mocon)的結果為9g/m2*d,OTR測量(Mocon)的結果為800cm3/m2*d*bar。經由Ca-Dots(Ca-WVTR)之時間變動測定的使用壽命驗的結果為0.8g/m2*d。
去除兩層PET襯料後,對硬化的樣品進行光學特性檢驗,結果顯示透射率為91%,霧度為1.5%。
範例2
所使用之共聚物為Kaneka公司生產的聚苯乙烯-嵌段-聚異丁烯之嵌段共聚物。苯乙烯佔總聚合物的比例為30%(重量百分比)。使用Sibstar 103T(300g)。莫耳質量為100,000g/mol。聚苯乙烯嵌段的玻璃轉換溫度為100℃,聚異丁烯嵌段的玻璃轉換溫度為-60℃。所使用的黏性樹脂為Eastman公司生產的R1100(環與球法100℃,DACP=45,MMAP=82),這是一種完全氫化的烴樹脂,使用量200g。所使用的活性樹脂是Momentive公司生產的Bakelite EPR 166,這是一種雙酚A雙環氧化物,使用量為500g。EPR 166的玻璃轉換溫度為-19℃。將這些原料溶解在甲苯(300g)、丙酮(150g)及揮發油60/95(550g)的混合物中,因而形成濃度50%(重量百分比)的溶液。
接著將一種光引發劑加到溶液中。也就是10g的 三芳基鋶六氟磷酸鹽(製造商:Sigma Aldrich)。此種光引發劑是溶解在碳酸丙烯酯中,濃度為50%(重量百分比)。此種光引發劑在320nm至360nm範圍具有最大吸收能力。
利用刮刀將溶液塗覆在一種矽化PET襯料上,並在120℃中乾燥15分鐘。塗覆量為50g/m2。接著用另外一層容易分離的矽化PET襯料將樣品覆蓋住。
用這些樣品製造出黏著力量測用的試體。在玻璃(浮法玻璃)上的黏著力為3.5N/cm。另外製作動態剪切試驗用的樣品。動態剪切試驗的結果為200N/cm2
將樣品放到手套箱中。其中一部分樣品用於使用壽命試驗。使紫外線穿過覆蓋玻璃將樣品硬化(照射劑量80mJ/cm2,照射燈的種類:無摻雜的水銀燈)。將此樣品用於使用壽命試驗。在相同的條件下使紫外線穿過PET襯料將其他的樣品(無需經過層壓處理)硬化。將這些樣品用於WVTR及OTR測量(Mocon),以及用於光學特性的檢驗。
WVTR測量(Mocon)的結果為9g/m2*d,OTR測量(Mocon)的結果為860cm3/m2*d*bar。經由Ca-Dots(Ca-WVTR)之時間變動測定的使用壽命驗的結果為0.9g/m2*d。
去除兩層PET襯料後,對硬化的樣品進行光學特性檢驗,結果顯示透射率為75%,霧度為5%。
範例3
所使用之共聚物為Kaneka公司生產的聚苯乙烯- 嵌段-聚異丁烯之嵌段共聚物。苯乙烯佔總聚合物的比例為30%(重量百分比)。使用Sibstar 73T(300g)。莫耳質量為70,000g/mol。聚苯乙烯嵌段的玻璃轉換溫度為100℃,聚異丁烯嵌段的玻璃轉換溫度為-60℃。所使用的黏性樹脂為Eastman公司生產的Regalite R1100(環與球法100℃,DACP=45,MMAP=82),這是一種完全氫化的烴樹脂,使用量200g。所使用的活性樹脂是Cytec公司生產的Uvacure 1500,使用量為500g。Uvacure 1500的玻璃轉換溫度為-53℃。將這些原料溶解在甲苯(300g)、丙酮(150g)及揮發油60/95(550g)的混合物中,因而形成濃度50%(重量百分比)的溶液。
接著將一種光引發劑加到溶液中。也就是10g的[4-(1-甲基乙基)-苯基]-(4-甲基苯基)-錪肆-(五氟苯基)-硼酸鹽,Silicolease UV Cata 211(製造商:Bluestar Silicones)。此種光引發劑是溶解在異丙醇中,濃度為20%(重量百分比)。
利用刮刀將溶液塗覆在一種矽化PET襯料上,並在120℃中乾燥15分鐘。塗覆量為50g/m2。接著用另外一層容易分離的矽化PET襯料將樣品覆蓋住。
用這些樣品製造出黏著力量測用的試體。
在玻璃(浮法玻璃)上的黏著力為3.2N/cm。另外製作動態剪切試驗用的樣品。動態剪切試驗的結果為180N/cm2
將樣品放到手套箱中。其中一部分樣品用於使用壽 命試驗。使紫外線穿過覆蓋玻璃將樣品硬化(照射劑量80mJ/cm2,照射燈的種類:無摻雜的水銀燈)。將此樣品用於使用壽命試驗。在相同的條件下使紫外線穿過PET襯料將其他的樣品(無需經過層壓處理)硬化。將這些樣品用於WVTR及OTR測量(Mocon),以及用於光學特性的檢驗。
WVTR測量(Mocon)的結果為6g/m2*d,OTR測量(Mocon)的結果為412cm3/m2*d*bar。經由Ca-Dots(Ca-WVTR)之時間變動測定的使用壽命驗的結果為0.3g/m2*d。
去除兩層PET襯料後,對硬化的樣品進行光學特性檢驗,結果顯示透射率為90%,霧度為1.9%。
範例4
所使用之共聚物為Kaneka公司生產的聚苯乙烯-嵌段-聚異丁烯之嵌段共聚物。苯乙烯佔總聚合物的比例為20%(重量百分比)。使用Sibstar 62M(425g)。莫耳質量為60,000g/mol。聚苯乙烯嵌段的玻璃轉換溫度為100℃,聚異丁烯嵌段的玻璃轉換溫度為-60℃。所使用的黏性樹脂為Exxon公司生產的Escorez 5300(環與球法105℃,DACP=71,MMAP=72),這是一種完全氫化的烴樹脂,使用量425g。所使用的活性樹脂是Dow公司生產的Uvacure 1500,這是一種環脂肪族雙環氧化物,使用量為150g。Uvacure 1500的玻璃轉換溫度為-53℃。將這些原料溶解在甲苯(300g)、丙酮(150g)及有揮發油60/95(550g)的混合物中,因而形成 濃度50%(重量百分比)的溶液。
接著將一種光引發劑加到溶液中。也就是3g的三芳基鋶六氟銻酸(製造商:Sigma Aldrich)。此種光引發劑是溶解在碳酸丙烯酯中,濃度為50%(重量百分比)。此種光引發劑在320nm至360nm範圍具有最大吸收能力。
利用刮刀將溶液塗覆在一種矽化PET襯料上,並在120℃中乾燥15分鐘。塗覆量為50g/m2。接著用另外一層容易分離的矽化PET襯料將樣品覆蓋住。
用這些樣品製造出黏著力量測用的試體。
在玻璃(浮法玻璃)上的黏著力為7.1N/cm。另外製作動態剪切試驗用的樣品(以無摻雜的水銀燈照射,使其硬化,照射劑量80mJ/cm2)。動態剪切試驗的結果為100N/cm2
將樣品放到手套箱中。其中一部分樣品用於使用壽命試驗。使紫外線穿過覆蓋玻璃將樣品硬化(照射劑量80mJ/cm2,照射燈的種類:無摻雜的水銀燈)。將此樣品用於使用壽命試驗。在相同的條件下使紫外線穿過PET襯料將其他的樣品(無需經過層壓處理)硬化。將這些樣品用於WVTR及OTR測量(Mocon),以及用於光學特性的檢驗。
WVTR測量(Mocon)的結果為9g/m2*d,OTR測量(Mocon)的結果為900cm3/m2*d*bar。經由Ca-Dots(Ca-WVTR)之時間變動測定的使用壽命驗的結果為0.4g/m2*d。
去除兩層PET襯料後,對硬化的樣品進行光學特性檢驗,結果顯示透射率為93%,霧度為1.4%。
範例5
所使用之共聚物為Kaneka公司生產的聚苯乙烯-嵌段-聚異丁烯之嵌段共聚物。苯乙烯佔總聚合物的比例為20%(重量百分比)。使用Sibstar 62M(400g)。莫耳質量為60,000g/mol。聚苯乙烯嵌段的玻璃轉換溫度為100℃,聚異丁烯嵌段的玻璃轉換溫度為-60℃。所使用的黏性樹脂為Exxon公司生產的Escorez 5300(環與球法105℃,DACP=71,MMAP=72),這是一種完全氫化的烴樹脂,使用量400g。所使用的活性樹脂是Dow公司生產的Uvacure 1500,這是一種環脂肪族雙環氧化物,使用量為200g。Uvacure 1500的玻璃轉換溫度為-53℃。將這些原料溶解在甲苯(300g)、丙酮(150g)及揮發油60/95(550g)的混合物中,因而形成濃度50%(重量百分比)的溶液。
接著將一種光引發劑加到溶液中。也就是4g的三芳基鋶六氟銻酸鹽(製造商:Sigma Aldrich)。此種光引發劑是溶解在碳酸丙烯酯中,濃度為50%(重量百分比)。此種光引發劑在320nm至360nm範圍具有最大吸收能力。
利用刮刀將溶液塗覆在一種矽化PET襯料上,並在120℃中乾燥15分鐘。塗覆量為50g/m2。接著用另外一層容易分離的矽化PET襯料將樣品覆蓋住。
用這些樣品製造出黏著力量測用的試體。在玻璃 (浮法玻璃)上的黏著力為6.2N/cm。另外製作動態剪切試驗用的樣品(以無摻雜的水銀燈照射,使其硬化,照射劑量80mJ/cm2)。動態剪切試驗的結果為150N/cm2
將樣品放到手套箱中。其中一部分樣品用於使用壽命試驗。使紫外線穿過覆蓋玻璃將樣品硬化(照射劑量80mJ/cm2,照射燈的種類:無摻雜的水銀燈)。將此樣品用於使用壽命試驗。在相同的條件下使紫外線穿過PET襯料將其他的樣品(無需經過層壓處理)硬化。將這些樣品用於WVTR及OTR測量(Mocon),以及用於光學特性的檢驗。
WVTR測量(Mocon)的結果為9g/m2*d,OTR測量(Mocon)的結果為900cm3/m2*d*bar。經由Ca-Dots(Ca-WVTR)之時間變動測定的使用壽命驗的結果為0.3g/m2*d。
去除兩層PET襯料後,對硬化的樣品進行光學特性檢驗,結果顯示透射率為93%,霧度為1.4%。
範例6
所使用之共聚物為Kaneka公司生產的聚苯乙烯-嵌段-聚異丁烯之嵌段共聚物。苯乙烯佔總聚合物的比例為20%(重量百分比)。使用Sibstar 62H(375g)。莫耳質量為60,000g/mol。聚苯乙烯嵌段的玻璃轉換溫度為100℃,聚異丁烯嵌段的玻璃轉換溫度為-60℃。所使用的黏性樹脂為Exxon公司生產的Escorez 5300(環與球法105℃,DACP=71,MMAP=72),這是一種完全 氫化的烴樹脂,使用量375g。所使用的活性樹脂是Dow化學公司生產的Uvacure 1500,這是一種環脂肪族雙環氧化物,使用量為250g。Uvacure 1500的玻璃轉換溫度為-53℃。將這些原料溶解在甲苯(300g)、丙酮(150g)及揮發油60/95(550g)的混合物中,因而形成濃度50%(重量百分比)的溶液。
接著將一種光引發劑加到溶液中。也就是5g的三芳基鋶六氟銻酸鹽(製造商:Sigma Aldrich)。此種光引發劑是溶解在碳酸丙烯酯中,濃度為50%(重量百分比)。此種光引發劑在320nm至360nm範圍具有最大吸收能力。
利用刮刀將溶液塗覆在一種矽化PET襯料上,並在120℃中乾燥15分鐘。塗覆量為50g/m2。接著用另外一層容易分離的矽化PET襯料將樣品覆蓋住。
用這些樣品製造出黏著力量測用的試體。在玻璃(浮法玻璃)上的黏著力為6N/cm。另外製作動態剪切試驗用的樣品(以無摻雜的水銀燈照射,使其硬化,照射劑量80mJ/cm2)。動態剪切試驗的結果為140N/cm2
將樣品放到手套箱中。其中一部分樣品用於使用壽命試驗。使紫外線穿過覆蓋玻璃將樣品硬化(照射劑量80mJ/cm2,照射燈的種類:無摻雜的水銀燈)。將此樣品用於使用壽命試驗。在相同的條件下使紫外線穿過PET襯料將其他的樣品(無需經過層壓處理)硬化。將這些樣品用於WVTR及OTR測量(Mocon),以及用於光學特性的檢驗。
WVTR測量(Mocon)的結果為9g/m2*d,OTR測量(Mocon)的結果為798cm3/m2*d*bar。經由Ca-Dots(Ca-WVTR)之時間變動測定的使用壽命驗的結果為0.25g/m2*d。
去除兩層PET襯料後,對硬化的樣品進行光學特性檢驗,結果顯示透射率為93%,霧度為1.4%。
範例7
所使用之共聚物為Kaneka公司生產的聚苯乙烯-嵌段-聚異丁烯之嵌段共聚物。苯乙烯佔總聚合物的比例為20%(重量百分比)。使用Sibstar 62M(333g)。莫耳質量為60,000g/mol。聚苯乙烯嵌段的玻璃轉換溫度為100℃,聚異丁烯嵌段的玻璃轉換溫度為-60℃。所使用的黏性樹脂為Exxon公司生產的Escorez 5300(環與球法105℃,DACP=71,MMAP=72),這是一種完全氫化的烴樹脂,使用量333g。所使用的活性樹脂是Dow公司生產的Uvacure 1500,這是一種環脂肪族雙環氧化物,使用量為333g。Uvacure 1500的玻璃轉換溫度為-53℃。將這些原料溶解在甲苯(300g)、丙酮(150g)及揮發油60/95(550g)的混合物中,因而形成濃度50%(重量百分比)的溶液。
接著將一種光引發劑加到溶液中。也就是6.6g的三芳基鋶六氟銻酸鹽(製造商:Sigma Aldrich)。此種光引發劑是溶解在碳酸丙烯酯中,濃度為50%(重量百分比)。此種光引發劑在320nm至360nm範圍具有最大吸收能力。
利用刮刀將溶液塗覆在一種矽化PET襯料上,並在120℃中乾燥15分鐘。塗覆量為50g/m2。接著用另外一層容易分離的矽化PET襯料將樣品覆蓋住。
用這些樣品製造出黏著力量測用的試體。在玻璃(浮法玻璃)上的黏著力為5.1N/cm。另外製作動態剪切試驗用的樣品(以無摻雜的水銀燈照射,使其硬化,照射劑量80mJ/cm2)。動態剪切試驗的結果為270N/cm2
將樣品放到手套箱中。其中一部分樣品用於使用壽命試驗。使紫外線穿過覆蓋玻璃將樣品硬化(照射劑量80mJ/cm2,照射燈的種類:無摻雜的水銀燈)。將此樣品用於使用壽命試驗。在相同的條件下使紫外線穿過PET襯料將其他的樣品(無需經過層壓處理)硬化。將這些樣品用於WVTR及OTR測量(Mocon),以及用於光學特性的檢驗。
WVTR測量(Mocon)的結果為9g/m2*d,OTR測量(Mocon)的結果為621cm3/m2*d*bar。經由Ca-Dots(Ca-WVTR)之時間變動測定的使用壽命驗的結果為0.2g/m2*d。
去除兩層PET襯料後,對硬化的樣品進行光學特性檢驗,結果顯示透射率為93%,霧度為1.4%。
範例8
所使用之共聚物為Kaneka公司生產的聚苯乙烯-嵌段-聚異丁烯之嵌段共聚物。苯乙烯佔總聚合物的比例為20%(重量百分比)。使用Sibstar 62M(333g)。莫 耳質量為60,000g/mol。聚苯乙烯的玻璃轉換溫度為100℃,聚異丁烯的玻璃轉換溫度為-60℃。所使用的黏性樹脂為Exxon公司生產的Escorez 5300(環與球法105℃,DACP=71,MMAP=72),這是一種完全氫化的烴樹脂,使用量333g。所使用的活性樹脂是Dow公司生產的Uvacure 1500,這是一種環脂肪族雙環氧化物,使用量為333g。Uvacure 1500的玻璃轉換溫度為-53℃。將這些原料溶解在甲苯(300g)、丙酮(150g)及揮發油60/95(550g)的混合物中,因而形成濃度50%(重量百分比)的溶液。
接著將一種光引發劑加到溶液中。也就是16.65g的二芳基錪肆-(五氟苯基)-硼酸鹽(製造商:Bluestar Silicon)。此種光引發劑是溶解在異丙醇中,濃度為20%(重量百分比)。此種光引發劑在190nm至230nm範圍具有最大吸收能力,並搭配一種光敏化劑苯酮(製造商:Sigama Aldrich),使用量為3.33g。
利用刮刀將溶液塗覆在一種矽化PET襯料上,並在120℃中乾燥15分鐘。塗覆量為50g/m2。接著用另外一層容易分離的矽化PET襯料將樣品覆蓋住。
用這些樣品製造出黏著力量測用的試體。在玻璃(浮法玻璃)上的黏著力為5.2N/cm。另外製作動態剪切試驗用的樣品(以無摻雜的水銀燈照射,使其硬化,照射劑量80mJ/cm2)。動態剪切試驗的結果為250N/cm2
將樣品放到手套箱中。其中一部分樣品用於使用壽 命試驗。使紫外線穿過覆蓋玻璃將樣品硬化(照射劑量80mJ/cm2,照射燈的種類:無摻雜的水銀燈)。將此樣品用於使用壽命試驗。在相同的條件下使紫外線穿過PET襯料將其他的樣品(無需經過層壓處理)硬化。將這些樣品用於WVTR及OTR測量(Mocon),以及用於光學特性的檢驗。
WVTR測量(Mocon)的結果為10g/m2*d,OTR測量(Mocon)的結果為730cm3/m2*d*bar。經由Ca-Dots(Ca-WVTR)之時間變動測定的使用壽命驗的結果為0.22g/m2*d。
去除兩層PET襯料後,對硬化的樣品進行光學特性檢驗,結果顯示透射率為93%,霧度為1.6%。
範例9
製作一種單面黏性黏著膜。黏著劑所含之共聚物為Kaneka公司生產的聚苯乙烯-嵌段-聚異丁烯之嵌段共聚物。苯乙烯佔總聚合物的比例為20%(重量百分比)。使用Sibstar 62H(375g)。莫耳質量為60,000g/mol。聚苯乙烯的玻璃轉換溫度為100℃,聚異丁烯的玻璃轉換溫度為-60℃。所使用的黏性樹脂為Exxon公司生產的Escorez 5300(環與球法105℃,DACP=71,MMAP=72),這是一種完全氫化的烴樹脂,使用量375g。所使用的活性樹脂是Dow公司生產的Uvacure 1500,這是一種環脂肪族雙環氧化物,使用量為250g。Uvacure 1500的玻璃轉換溫度為-53℃。將這些原料溶解在甲苯(300g)、丙酮(150g)及揮發油 60/95(550g)的混合物中,因而形成濃度50%(重量百分比)的溶液。
接著將一種光引發劑加到溶液中。也就是5g的三芳基鋶六氟銻酸鹽(製造商:Sigma Aldrich)。此種光引發劑是溶解在碳酸丙烯酯中,濃度為50%(重量百分比)。此種光引發劑在320nm至360nm範圍具有最大吸收能力。
利用刮刀將溶液塗覆在一種矽化PET襯料上,並在120℃中乾燥15分鐘。塗覆量為50g/m2。接著用另外一層可撓曲的薄玻璃(D263T,製造商:Schott公司,厚度30μm)將樣品覆蓋住。
將樣品放到手套箱中。其中一部分樣品用於使用壽命試驗。使紫外線穿過薄玻璃載體將樣品硬化(照射劑量80mJ/cm2,照射燈的種類:無摻雜的水銀燈)。將此樣品用於使用壽命試驗(Ca-Test),試驗結果為Ca-WVTR=0.26g/m2d。
範例10
製作一種單面黏性黏著膜。黏著劑所含之共聚物為Kaneka公司生產的聚苯乙烯-嵌段-聚異丁烯之嵌段共聚物。苯乙烯佔總聚合物的比例為20%(重量百分比)。使用Sibstar 62H(375g)。莫耳質量為60,000g/mol。聚苯乙烯的玻璃轉換溫度為100℃,聚異丁烯的玻璃轉換溫度為-60℃。所使用的黏性樹脂為Exxon公司生產的Escorez 5300(環與球法105℃,DACP=71,MMAP=72),這是一種完全氫化的烴樹脂, 使用量375g。所使用的活性樹脂是Dow公司生產的Uvacure 1500,這是一種環脂肪族雙環氧化物,使用量為250g。Uvacure 1500的玻璃轉換溫度為-53℃。將這些原料溶解在甲苯(300g)、丙酮(150g)及揮發油60/95(550g)的混合物中,因而形成濃度50%(重量百分比)的溶液。
接著將一種光引發劑加到溶液中。也就是5g的三芳基鋶六氟銻酸鹽(製造商:Sigma Aldrich)。此種光引發劑是溶解在碳酸丙烯酯中,濃度為50%(重量百分比)。此種光引發劑在320nm至360nm範圍具有最大吸收能力。
利用刮刀將溶液塗覆在一種矽化PET襯料上,並在120℃中乾燥15分鐘。塗覆量為50g/m2。接著用另外一層容易分離的矽化PET襯料將樣品覆蓋住。
用這些樣品製造出黏著力量測用的試體。在玻璃(浮法玻璃)上的黏著力為6N/cm。另外製作動態剪切試驗用的樣品(以無摻雜的水銀燈照射,使其硬化,照射劑量80mJ/cm2)。動態剪切試驗的結果為140N/cm2
將厚度25μm的光學透明無基材雙面膠帶(tesa 69101)層壓到厚度50μm的光學透明聚酯膜(Melinex 723)上。將無基材雙面膠帶的第二襯料揭開,並覆蓋一層可撓曲的薄玻璃(D263T,製造商:Schott公司,厚度30μm)。將以聚苯乙烯-嵌段-聚異丁烯之嵌段共聚物為基的黏著劑層(塗覆量50g/m2)未被覆蓋的那一面層壓在此薄玻璃的未被覆蓋的那一面上。
將樣品放到手套箱中。其中一部分樣品用於使用壽命試驗。使紫外線穿過含有薄玻璃的複合體載體將樣品硬化(照射劑量80mJ/cm2,照射燈的種類:無摻雜的水銀燈)。將此樣品用於使用壽命試驗(Ca-Test),試驗結果為Ca-WVTR=0.26g/m2*d。
以上的範例不僅展示了本發明之黏著劑對防止滲透物之封裝的適用性,同時亦展示了應用以薄玻璃或薄玻璃層壓層作為載體材料的膠帶防止滲透物之封裝的適用性。
1‧‧‧(光電)電子組件
2‧‧‧基板
3‧‧‧電子結構
4‧‧‧蓋板
5‧‧‧膠帶/壓敏性黏著劑
5a,5b‧‧‧壓敏性黏著劑
21‧‧‧玻璃板
22‧‧‧黏著劑
23‧‧‧鈣層
24‧‧‧薄玻璃片/玻璃載體
25‧‧‧無基材雙面膠帶
26‧‧‧PET膜
第1圖:第一個(光電)電子組件的示意圖。
第2圖:第二個(光電)電子組件的示意圖。
第3圖:第三個(光電)電子組件的示意圖。
第4圖:(光電)電子組件的使用壽命試驗示意圖。
1‧‧‧(光電)電子組件
2‧‧‧板
3‧‧‧子結構
4‧‧‧板
5‧‧‧帶/壓敏性黏著劑

Claims (34)

  1. 一種黏著劑,特別用於封裝電子組件以防止滲透物,含有:(a)至少一種共聚物,此種共聚物至少含有作為一種共聚單體的異丁烯或丁烯,以及至少一種軟化溫度高於40℃的被假想為均聚物的共聚單體;(b)至少一種至少部分氫化的黏性樹脂;(c)至少一種以環醚為基的活性樹脂,其軟化溫度低於40℃;(d)至少一種引發陽離子硬化的光引發劑。
  2. 如申請專利範圍第1項的黏著劑,其中該軟化溫度低於20℃。
  3. 如申請專利範圍第1項的黏著劑,其中該共聚物為統計共聚物、交變共聚物、嵌段共聚物、星形共聚物、及/或接枝共聚物,其重量平均分子量Mw為300,000g/mol或更小。
  4. 如申請專利範圍第3項的黏著劑,其中該重量平均分子量Mw為200,000g/mol或更小。
  5. 如申請專利範圍第1項或第2項的黏著劑,其中該共聚物為嵌段共聚物、星形共聚物、及/或接枝共聚物,其具有至少一個軟化溫度低於-20℃的第一聚合物嵌段(“軟嵌段”),以及至少一個軟化溫度高於+40℃的第二聚合物嵌段(“硬嵌段”)。
  6. 如申請專利範圍第5項的黏著劑,其中該軟嵌段是非極性結構,且含有丁烯或異丁烯作為均聚物嵌段或共 聚物嵌段,其中該共聚物嵌段是與本身、彼此、或其他共聚單體共聚合。
  7. 如申請專利範圍第6項的黏著劑,其中該其他共聚單體為非極性共聚單體。
  8. 如申請專利範圍第5項的黏著劑,其中該硬嵌段是由苯乙烯、苯乙烯衍生物、及/或其他芳香族或(環)脂肪族碳氫化合物單體構成,或是由甲基丙烯酸酯或丙烯酸酯構成。
  9. 如申請專利範圍第2項的黏著劑,其中該至少一個嵌段共聚物是一種三嵌段共聚物,也就是由兩個尾端硬嵌段及一個中間軟嵌段構成的三嵌段共聚物。
  10. 如申請專利範圍第1或2項的黏著劑,其中該黏性樹脂的氫化度至少是70%。
  11. 如申請專利範圍第10項的黏著劑,其中該黏性樹脂的氫化度至少95%。
  12. 如申請專利範圍第1或2項的黏著劑,其中該黏著劑含有至少一種樹脂,且其DACP值高於30℃,MMAP值高於50℃。
  13. 如申請專利範圍第12項的黏著劑,其中該DACP值高於37℃,該MMAP值高於60℃。
  14. 如申請專利範圍第1或2項的黏著劑,其中該黏著劑含有至少一種活性樹脂,且該至少一種活性樹脂帶有至少一個環氧基或至少一個環氧丙基。
  15. 如申請專利範圍第1或2項的黏著劑,其中該黏著劑含有至少一種具有脂肪族或環脂肪族的性質的活性樹 脂。
  16. 如申請專利範圍第1或2項的黏著劑,其中該黏著劑含有能夠吸收波長350nm以下的紫外線,並能夠引發陽離子硬化的光引發劑。
  17. 如申請專利範圍第16項的黏著劑,其中該光引發劑係以鋶、錪、金屬茂為基的系統。
  18. 如申請專利範圍第1或2項的黏著劑,其中該黏著劑含有紫外線吸收高於250nm且低於350nm的光引發劑。
  19. 如申請專利範圍第1或2項的黏著劑,其中該黏著劑係壓敏性黏著劑,且含有以下一或多種添加物:塑化劑、一次抗氧化劑、二次抗氧化劑、製程穩定劑、光防護劑、加工輔助劑、終端嵌段強化樹脂、聚合物。
  20. 如申請專利範圍第19項的黏著劑,其中該聚合物係具有彈性體性質的聚合物。
  21. 如申請專利範圍第1或2項的黏著劑,其中該黏著劑係壓敏性黏著劑,且含有以下一或多種填充料:奈米級填充料、透明填充料、及/或吸氣劑填充料及/或脫氧劑填充料。
  22. 如申請專利範圍第1或2項的黏著劑,其中該黏著劑在可見光的光譜範圍(波長範圍400nm至800nm)是透明的。
  23. 如申請專利範圍第1或2項的黏著劑,其中該黏著劑的霧度值小於5.0%。
  24. 如申請專利範圍第23項的黏著劑,其中該黏著劑的霧度值小於2.5%。
  25. 一種膠帶,含有至少一層如申請專利範圍第1至24項的黏著劑及一個載體,其中該載體具有WVTR<0.1g/(m2d)及OTR<0.1cm3/(m2d bar)的滲透阻隔作用。
  26. 如申請專利範圍第25項的膠帶,其中該載體是一種有塗覆的塑膠膜。
  27. 如申請專利範圍第25項的膠帶,其中該載體帶有一層有撓曲性的薄玻璃,其厚度最高1mm。
  28. 如申請專利範圍第27項的膠帶,其中該厚度最高100μm,該薄玻璃是以硼矽玻璃或不含鹼的鋁硼矽玻璃製成。
  29. 如申請專利範圍第27項的膠帶,其中該薄玻璃的形狀為帶狀。
  30. 一種如申請專利範圍第1至24項的黏著劑或以其製成的單面或雙面膠帶之用途,其係用以封裝(光電)電子組件。
  31. 如申請專利範圍第30項的用途,其中該黏著劑係壓敏性黏著劑,並在塗覆壓敏性黏著劑之前、塗覆期間或塗覆之後,將壓敏性黏著劑及/或電子組件要封裝的範圍加熱。
  32. 如申請專利範圍第30項或第31項的用途,其中該黏著劑係壓敏性黏著劑,並先將壓敏性黏著劑塗在電子組件上,然後再部分或最終交聯。
  33. 一種電子組件,其具有電子結構,以及具有一種壓敏性黏著劑,其中電子結構至少被壓敏性黏著劑部分封 裝,其特徵為:該壓敏性黏著劑是如申請專利範圍第1至24項的黏著劑。
  34. 如申請專利範圍第33項的電子組件,其中該電子結構係有機電子結構。
TW101138854A 2011-10-21 2012-10-19 黏著劑、膠帶、其用途及由其封裝之電子組件 TWI572689B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102011085030 2011-10-21
DE102012202377A DE102012202377A1 (de) 2011-10-21 2012-02-16 Klebemasse insbesondere zur Kapselung einer elektronischen Anordnung

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201345996A TW201345996A (zh) 2013-11-16
TWI572689B true TWI572689B (zh) 2017-03-01

Family

ID=48051458

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW101138854A TWI572689B (zh) 2011-10-21 2012-10-19 黏著劑、膠帶、其用途及由其封裝之電子組件

Country Status (11)

Country Link
US (1) US20140315016A1 (zh)
EP (1) EP2768919B1 (zh)
JP (1) JP6263122B2 (zh)
KR (1) KR101959973B1 (zh)
CN (1) CN104011161B (zh)
BR (1) BR112014009386A2 (zh)
DE (1) DE102012202377A1 (zh)
MX (1) MX2014004595A (zh)
PL (1) PL2768919T3 (zh)
TW (1) TWI572689B (zh)
WO (1) WO2013057265A1 (zh)

Families Citing this family (55)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2781571B1 (en) * 2012-01-06 2020-07-29 LG Chem, Ltd. Encapsulation film
CN104937059B (zh) * 2013-02-12 2017-09-22 三菱化学株式会社 透明双面粘接片、使用该透明双面粘接片的用于构成图像显示装置的叠层体、该叠层体的制造方法、以及使用该叠层体而形成的图像显示装置
TWI479464B (zh) * 2013-05-09 2015-04-01 Au Optronics Corp 顯示面板及其封裝方法
EP3001477B1 (en) * 2013-05-21 2021-10-20 LG Chem, Ltd. Organic electronic device
DE102013224773A1 (de) 2013-12-03 2015-06-03 Tesa Se Mehrphasige Polymerzusammensetzung
KR101762778B1 (ko) 2014-03-04 2017-07-28 엘지이노텍 주식회사 무선 충전 및 통신 기판 그리고 무선 충전 및 통신 장치
DE102014207074A1 (de) 2014-04-11 2015-10-15 Tesa Se Klebeband für die Kapselung einer organischen elektronischen Anordnung
DE102014208111A1 (de) * 2014-04-29 2015-10-29 Tesa Se Verfahren zur Herstellung einer Verklebung auf Permeat sensiblen Oberflächen
DE102014208109A1 (de) * 2014-04-29 2015-10-29 Tesa Se Spaltbares Klebend mit dosierfähigen spaltbaren Flüssigklebstoff
JP6378985B2 (ja) * 2014-09-10 2018-08-22 積水化学工業株式会社 有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止剤
EP3206862B1 (en) * 2014-10-15 2024-01-17 Media Lario s.r.l. Process for forming an article with a precision surface
PL3212728T3 (pl) * 2014-10-29 2019-02-28 Tesa Se Masy klejące z wielofunkcyjnymi wodnymi wyłapywaczami siloksanów
DE102014119453A1 (de) 2014-12-22 2016-06-23 Endress+Hauser Flowtec Ag Verfahren zur Defekterkennung der Signalleitung zwischen einer Elektrode und einer Mess- und/oder Auswerteeinheit eines magnetisch-induktiven Durchflussmessgerätes
KR101740183B1 (ko) * 2015-03-24 2017-05-25 주식회사 엘지화학 접착제 조성물
EP3275942A4 (en) * 2015-03-24 2018-03-07 LG Chem, Ltd. Adhesive composition
CN107592877B (zh) * 2015-03-24 2021-04-13 株式会社Lg化学 粘合剂组合物
DE102015217860A1 (de) * 2015-05-05 2016-11-10 Tesa Se Klebeband mit Klebemasse mit kontinuierlicher Polymerphase
DE102015210346A1 (de) 2015-06-04 2016-12-08 Tesa Se Verfahren zur Herstellung viskoser Epoxidsirupe und danach erhältliche Epoxidsirupe
DE102015210345A1 (de) 2015-06-04 2016-12-08 Tesa Se Wasserdampfsperrende Klebemasse mit anpolymerisiertem Epoxidsirup
CN104934519B (zh) * 2015-06-23 2018-03-27 深圳市华星光电技术有限公司 一种有机发光二极管的封装方法及显示装置
DE102015212058A1 (de) 2015-06-29 2016-12-29 Tesa Se Klebemasse insbesondere zur Kapselung einer elektronischen Anordnung
DE102015113505A1 (de) * 2015-08-17 2017-02-23 Endress+Hauser Flowtec Ag Durchflussmessgerät und Verfahren zur Herstellung eines Messrohres
DE102016207540A1 (de) * 2016-05-02 2017-11-02 Tesa Se Wasserdampfsperrende Klebemasse mit hochfunktionalisiertem Poly(meth)acrylat
DE102016213840A1 (de) * 2016-07-27 2018-02-01 Tesa Se Klebeband zur Verkapselung elektronischer Aufbauten
DE102016213911A1 (de) 2016-07-28 2018-02-01 Tesa Se OLED kompatible Klebemassen mit cyclischen Azasilanwasserfängern
TW201828505A (zh) * 2017-01-20 2018-08-01 聯京光電股份有限公司 光電封裝體及其製造方法
US9960389B1 (en) 2017-05-05 2018-05-01 3M Innovative Properties Company Polymeric films and display devices containing such films
US11522025B2 (en) * 2017-05-05 2022-12-06 3M Innovative Properties Company Polymeric films and display devices containing such films
KR101962744B1 (ko) * 2017-08-22 2019-03-27 (주)이녹스첨단소재 유기전자장치 봉지재용 접착필름 및 이를 포함하는 유기전자장치용 봉지재
DE102017219310A1 (de) 2017-10-27 2019-05-02 Tesa Se Plasmarandverkapselung von Klebebändern
KR20200081371A (ko) * 2017-11-02 2020-07-07 커먼웰쓰 사이언티픽 앤 인더스트리알 리서치 오거니제이션 전해질 조성물
JP2019137721A (ja) * 2018-02-06 2019-08-22 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 樹脂組成物、隙間充填用接着剤、隙間充填用接着剤の製造方法及び隙間充填方法
DE102018202545A1 (de) 2018-02-20 2019-08-22 Tesa Se Zusammensetzung zur Erzeugung einer Klebemasse insbesondere zur Kapselung einer elektronischen Anordnung
DE102018204463A1 (de) * 2018-03-23 2019-09-26 Tesa Se Witterungsbeständige Klebemasse mit gutem Auffließvermögen und darauf basierende Klebebänder
TWI799557B (zh) 2018-03-28 2023-04-21 日商琳得科股份有限公司 樹脂組合物、密封片及密封體
DE102018208168A1 (de) * 2018-05-24 2019-11-28 Tesa Se Kombination einer transparenten vollflächigen Verkapselung mit einer (intransparenten) Randverkapselung mit hohem Gettergehalt
CN112424245A (zh) 2018-07-12 2021-02-26 3M创新有限公司 包含苯乙烯-异丁烯嵌段共聚物和烯键式不饱和单体的组合物
EP3826838A1 (de) * 2018-07-26 2021-06-02 Saint-Gobain Glass France Verbundscheibe mit funktionselement mit elektrisch steuerbaren optischen eigenschaften mit verbesserter randversiegelung
CN109266014A (zh) * 2018-09-11 2019-01-25 安徽晨讯智能科技有限公司 一种用于晶体管封装的凝胶材料
US20200202192A1 (en) * 2018-12-20 2020-06-25 Shenzhen Leadercolor Smart Card Co., Ltd Attached-type smart label
TWI718463B (zh) 2018-12-28 2021-02-11 友達光電股份有限公司 顯示裝置
CN109815838A (zh) * 2018-12-29 2019-05-28 武汉华星光电技术有限公司 高分子复合材料的制备方法及指纹识别的显示面板
WO2020203902A1 (ja) * 2019-03-29 2020-10-08 三菱ケミカル株式会社 樹脂組成物、フィルム及び多層構造体
CN112310302A (zh) * 2019-07-30 2021-02-02 陕西坤同半导体科技有限公司 一种有机发光器件
WO2021064534A2 (en) * 2019-10-03 2021-04-08 3M Innovative Properties Company Silicone elastomers by free radical mediated cure
DE102020207783A1 (de) 2020-06-23 2021-12-23 Tesa Se Leitfähiger doppelseitiger Haftklebestreifen
DE102020210893B4 (de) 2020-08-28 2022-12-08 Tesa Se Verfahren zur Herstellung von versiegelten Klebebändern mit aushärtbaren Klebemassen, versiegeltes Klebeband und Verwendung
DE102021201094A1 (de) 2021-02-05 2022-08-11 Tesa Se Polyvinylaromat-Polydien-Blockcopolymer basierende Haftklebemassen mit gesteigerter Wärmescherfestigkeit
CN113683865B (zh) * 2021-08-25 2024-04-16 湖南国芯半导体科技有限公司 一种灌封用环氧组合物及灌封材料和应用
DE102022105738A1 (de) 2022-03-11 2023-09-14 Tesa Se Aushärtbare Klebemasse mit verbesserter Stanzbarkeit
DE102022105737A1 (de) 2022-03-11 2023-09-14 Tesa Se Aushärtbare Klebemasse mit verbesserter Stanzbarkeit und verbesserten Schockeigenschaften
DE102022111036A1 (de) 2022-05-04 2023-11-09 Tesa Se Lichthärtende Klebemasse mit Iodonium Photoinitiatoren
DE102022124902A1 (de) 2022-09-28 2024-03-28 Tesa Se Kationisch härtbare Klebemasse mit Indikation der Haltefestigkeit
DE102022124904A1 (de) 2022-09-28 2024-03-28 Tesa Se Aushärtbare Haftklebemasse mit verbesserten Klebeeigenschaften
DE102022124903A1 (de) 2022-09-28 2024-03-28 Tesa Se Kationisch härtbare Klebemasse mit definierter Färbung im ausgehärteten Zustand

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200404858A (en) * 2002-07-24 2004-04-01 Adhesives Res Inc Transformable pressure sensitive adhesive tape and use thereof in display screens
TW201025465A (en) * 2008-12-03 2010-07-01 Tesa Se Method for encapsulating an electronic device
TW201111463A (en) * 2009-08-04 2011-04-01 3M Innovative Properties Co Non-halogentaed polyisobutylene-thermoplastic elastomer blend pressure sensitive adhesives

Family Cites Families (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3729313A (en) 1971-12-06 1973-04-24 Minnesota Mining & Mfg Novel photosensitive systems comprising diaryliodonium compounds and their use
US3741769A (en) 1972-10-24 1973-06-26 Minnesota Mining & Mfg Novel photosensitive polymerizable systems and their use
AU497960B2 (en) 1974-04-11 1979-01-25 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photopolymerizable compositions
US4058401A (en) 1974-05-02 1977-11-15 General Electric Company Photocurable compositions containing group via aromatic onium salts
US4256828A (en) 1975-09-02 1981-03-17 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photocopolymerizable compositions based on epoxy and hydroxyl-containing organic materials
US4051195A (en) 1975-12-15 1977-09-27 Celanese Polymer Specialties Company Polyepoxide-polyacrylate ester compositions
GB1552046A (en) 1977-02-02 1979-09-05 Ciba Geigy Ag Film adhesives
US4138255A (en) 1977-06-27 1979-02-06 General Electric Company Photo-curing method for epoxy resin using group VIa onium salt
US4231951A (en) 1978-02-08 1980-11-04 Minnesota Mining And Manufacturing Company Complex salt photoinitiator
US4250053A (en) 1979-05-21 1981-02-10 Minnesota Mining And Manufacturing Company Sensitized aromatic iodonium or aromatic sulfonium salt photoinitiator systems
US5089536A (en) 1982-11-22 1992-02-18 Minnesota Mining And Manufacturing Company Energy polmerizable compositions containing organometallic initiators
US5128388A (en) * 1987-11-30 1992-07-07 Sunstar Giken Kabushiki Kaisha Hot melt adhesive crosslinkable by ultraviolet irradiation, optical disc using the same and process for preparing thereof
JPH1077038A (ja) * 1996-08-30 1998-03-24 Showa Denko Plast Prod Kk 合成樹脂製パレットの滑り止め材
EP0938526B1 (en) 1996-11-12 2003-04-23 Minnesota Mining And Manufacturing Company Thermosettable pressure sensitive adhesive
KR20010109278A (ko) 1999-01-11 2001-12-08 추후기재 폴리머 코딩된 유리 박막 기판
DE10048059A1 (de) 2000-09-28 2002-04-18 Henkel Kgaa Klebstoff mit Barriereeigenschaften
CN1916760B (zh) 2001-06-29 2010-10-13 Jsr株式会社 酸发生剂、磺酸、磺酸衍生物及辐射敏感树脂组合物
WO2003011939A1 (en) 2001-08-03 2003-02-13 Dsm N.V. Curable compositions for display devices
TW200402456A (en) 2002-06-17 2004-02-16 Sekisui Chemical Co Ltd Adhesive, tape and a double side adhensive tape for sealing organic electroluminescent element; an organic electroluminescent element and method thereof
DE10234369A1 (de) * 2002-07-27 2004-02-12 Henkel Kgaa Strahlungsvernetzbare Schmelzhaftklebstoffe
US7449629B2 (en) * 2002-08-21 2008-11-11 Truseal Technologies, Inc. Solar panel including a low moisture vapor transmission rate adhesive composition
EP1473595A1 (en) * 2003-04-29 2004-11-03 KRATON Polymers Research B.V. Photopolymerizable compositions and flexographic printing plates derived therefrom
JP4475084B2 (ja) 2003-10-03 2010-06-09 Jsr株式会社 有機el素子用透明封止材
DE10357321A1 (de) * 2003-12-05 2005-07-21 Tesa Ag Hochtackige Klebmasse, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung
WO2005093005A1 (ja) 2004-03-26 2005-10-06 Kaneka Corporation シール材組成物
JP4711171B2 (ja) 2004-12-28 2011-06-29 日本電気硝子株式会社 板ガラス製造装置及び板ガラス製造方法
US20070135552A1 (en) 2005-12-09 2007-06-14 General Atomics Gas barrier
JP2007197517A (ja) * 2006-01-24 2007-08-09 Three M Innovative Properties Co 接着性封止組成物、封止フィルム及び有機el素子
US8809458B2 (en) 2006-12-01 2014-08-19 Kaneka Corporation Polysiloxane composition
WO2008144080A1 (en) 2007-05-18 2008-11-27 Henkel Ag & Co. Kgaa Organic electronic devices protected by elastomeric laminating adhesive
US8232350B2 (en) * 2008-06-02 2012-07-31 3M Innovative Properties Company Adhesive encapsulating composition and electronic devices made therewith
JP2010018797A (ja) * 2008-06-11 2010-01-28 Sekisui Chem Co Ltd 光学部品用硬化性組成物、光学部品用接着剤及び有機エレクトロルミネッセンス素子用封止剤
JP5201347B2 (ja) 2008-11-28 2013-06-05 株式会社スリーボンド 有機el素子封止用光硬化性樹脂組成物
DE102008062130A1 (de) * 2008-12-16 2010-06-17 Tesa Se Verfahren zur Kapselung einer elektronischen Anordnung

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200404858A (en) * 2002-07-24 2004-04-01 Adhesives Res Inc Transformable pressure sensitive adhesive tape and use thereof in display screens
TW201025465A (en) * 2008-12-03 2010-07-01 Tesa Se Method for encapsulating an electronic device
TW201111463A (en) * 2009-08-04 2011-04-01 3M Innovative Properties Co Non-halogentaed polyisobutylene-thermoplastic elastomer blend pressure sensitive adhesives

Also Published As

Publication number Publication date
BR112014009386A2 (pt) 2017-04-18
WO2013057265A1 (de) 2013-04-25
JP6263122B2 (ja) 2018-01-17
PL2768919T3 (pl) 2016-01-29
DE102012202377A1 (de) 2013-04-25
EP2768919B1 (de) 2015-08-05
MX2014004595A (es) 2014-05-27
KR20140090636A (ko) 2014-07-17
EP2768919A1 (de) 2014-08-27
JP2014534309A (ja) 2014-12-18
KR101959973B1 (ko) 2019-03-19
US20140315016A1 (en) 2014-10-23
CN104011161B (zh) 2016-08-31
CN104011161A (zh) 2014-08-27
TW201345996A (zh) 2013-11-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI572689B (zh) 黏著劑、膠帶、其用途及由其封裝之電子組件
KR101915795B1 (ko) 접착제 물질, 특히, 전자 장치를 캡슐화하기 위한 접착제 물질
US9627646B2 (en) Method for encapsulating an electronic arrangement
TWI660019B (zh) 具高度官能化聚(甲基)丙烯酸酯之水氣阻隔性黏著劑之用途及包含其之膠帶及電子裝置
KR102064332B1 (ko) 접착제 조성물, 특히, 전자 장치를 캡슐화하기 위한 접착제 조성물.
JP6470409B2 (ja) シラン系水捕捉剤を含むoled適合接着剤
KR101933961B1 (ko) 다기능성 실록산 물 스캐빈저를 포함하는 접착제 화합물
KR102200974B1 (ko) 사이클릭 아자실란 물 스캐빈저를 포함하는 oled-양립성 접착제