TWI570213B - Adhesive and adhesive tape - Google Patents

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Yuki Ozawa
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Description

黏著劑以及黏著片
本發明係有關於黏著劑(黏著性組合物硬化了的材料)以及黏著片。
近年，作為黏著劑的性質的一個的凹凸追隨性的優良的黏著劑被期待。例如，在液晶面板中，為了使偏振片以及相位差板在液晶單元的玻璃基板等上接著，由黏著劑組合物形成的黏著劑層被使用。近年，隨著液晶面板的薄型化的進展，要對液晶單元進行機械研磨，使至變薄。這樣的機械研磨會使液晶單元的表面變得粗糙，但是，為確保表面粗糙化了的液晶單元和黏著劑層的密著性，期望提高對粗糙化的表面的黏著劑層的凹凸追隨性。
另外，設置為圖案狀的透明導電層的透明導電性薄膜的表面無氣泡等的混入地將黏著劑層疊層，或者硬塗布薄膜表面上設置有圖案化的臺階的印刷層，在該表面上，無氣泡地將黏著劑層疊層，或者通過相當攜帶電話機的框架部分的遮光層的臺階用黏著劑層進行掩埋等，期望在各種的用中途，得到凹凸追隨性優良的黏著劑。
為了使黏著劑層的凹凸追隨性提高，例如，如專 利文獻1以及2的那樣，將可塑劑以及流動石蠟加入丙烯酸系黏著劑中，以使得到的黏著劑層適度柔軟。
【專利文獻】
【專利文獻1】日本特開平5-45517號公報
【專利文獻2】日本特開平9-137143號公報
但是，可塑劑以及流動石蠟的添加得到的黏著劑，會有凝集力不充分，高溫下接著力變低發泡，耐熱性低的問題。另外，隨著時間可塑劑以及流動石蠟從黏著劑層滲出，使接著耐久性變低，被黏著體被污染等，各種各樣的問題被吾人所擔心。
本發明，就是鑒於這樣的實際狀況而成的，提供一種凹凸追隨性以及耐熱性優良的黏著劑以及黏著片。
為了達到本發明的目的，本發明首先提供一種黏著劑，其特徵在於：在將黏著劑層剛形成時的凝膠分率作為G1，黏著劑層形成後在23℃，50%RH的環境下進行7天保管後的凝膠分率作為G2時，從下式算出的凝膠分率變動率在3%以內，凝膠分率變動率(%)=|(G2-G1)/G2 |×100
拉伸試驗時的斷裂伸長率為100-250%，並且斷裂應力為0．2-0．6N/mm2(發明1)。
根據上述1的黏著劑，從而得到物性完全不能予 測的，凹凸追隨性以及耐熱性優良的效果。
如發明1所述的的黏著劑，其特徵在於：上述黏著 劑為使含有重量平均分子量為60萬-200萬的(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)和重量平均分子量為3萬-10萬的，側鏈上具有聚合性雙鍵的反應性(甲基)丙烯酸酯聚合物(B)的黏著性組合物在活性能量射線的照射下硬化而成(發明2)。
如發明2所述黏著劑，其特徵在於：反應性(甲基)丙烯酸酯聚合物(B)的側鏈上的聚合性雙鍵被含在通過異氰酸酯導入側鏈的(甲基)丙烯酰基中(發明3)。
如發明2所述的黏著劑，其特徵在於：對(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)100質量份，上述反應性(甲基)丙烯酸酯聚合物(B)的量為5-30質量份(發明4)。
如發明2所述的黏著劑，其特徵在於：上述黏著性組合物，進一步含有光聚合引發劑(C)(發明5)。
如發明5所述的黏著劑，其特徵在於：對上述反應性(甲基)丙烯酸酯聚合物(B)100質量份，上述光聚合引發劑(C)的量為5-30質量份(發明6)。
如發明2所述的黏著劑，其特徵在於：上述活性能量射線的照射量為50-1000mJ/cm2(發明7)。
如發明1所述的黏著劑，其特徵在於：上述黏著劑為活性能量射線硬化型的黏著劑(發明8)。
如發明1所述的黏著劑，其特徵在於：黏著劑層剛形成時的與上述7天保管後的凝膠分率為30-60%(發明9)。
如發明1所述的黏著劑，其特徵在於：上述霧度值在1．0%以下(發明10)。
一種黏著片，具有基材和黏著劑層，其特徵在於：上述黏著劑層由發明1-10的任一項所述的黏著劑形成(發明11)。
如發明11所述的黏著片，其特徵在於：上述基材為光學部件(發明12)。
一種黏著片，其特徵在於：包括2枚的剝離片和由上述剝離片夾持，由此與上述2枚剝離片的剝離面相接的黏著劑層，其特徵在於：上述黏著劑層由發明1-10的任一項所述的黏著劑構成(發明13)。
本發明的黏著劑，通過使黏著劑層剛一形成時以及7天保管後的凝膠分率變動率在規定的範圍內的同時，通過使斷裂伸長率以及斷裂應力在規定的範圍，從而得到物性完全不能予測的，凹凸追隨性以及耐熱性優良的效果。得到凹凸追隨性以及耐熱性優良的黏著片。
1A，1B‧‧‧黏著片
11‧‧‧黏著劑層
12，12a，12b‧‧‧剝離片
13‧‧‧基材
【圖1】本發明的第1的實施形態的黏著片的截面圖。
【圖2】本發明的第2的實施形態的黏著片的截面圖。
【圖3】說明黏著劑層的凹凸追隨性試驗的平面圖。
【圖4】對黏著劑層的凹凸追隨性試驗進行說明的示意截面圖。
以下，對本發明的實施形態進行說明。
〔黏著劑的物性〕
本實施形態的黏著劑為， 在將黏著劑層剛一形成時的凝膠分率作為G1，從黏著劑層形成起，到在23℃，50%RH的環境下中7天保管後的凝膠分率作為G2，用以下的式凝膠分率變動率(%)=|(G2-G1)/G2 |×100算出的凝膠分率變動率為3%以內， 拉伸試驗的斷裂伸長率為100-250%，並且斷裂應力為0．2-0．6N/mm2。滿足該物性的黏著劑，凹凸追隨性以及耐熱性優良。其理由雖然並不明確，但是認為上述的凝膠分率變動率，斷裂伸長率以及斷裂應力與凹凸追隨性以及耐熱性的雙方有關聯。
在此，所謂黏著劑層剛一形成時，為黏著劑層形成，直至使用時沒有另外的人為的處置的狀態的最初階段。例如，活性能量射線硬化型的黏著劑的場合，指活性能量射線剛照射後的意思。另外，實際測定中，由於從樣品製作到各種測定開始需要相應的時間時，所謂黏著劑層剛一形成時，指從不再進行上述人為的處置的狀態到大約經過半日程度的時間。
上述凝膠分率的測定方法，如下述的試驗例那樣。上述的那樣凝膠分率變動率為3%以內，是指從黏著劑層剛一形成時到黏著劑的硬化為實質上完了。即，從黏著劑層剛一形成時的到黏著劑的諸物性安定。但是，本實施形態的黏著 劑為，不需要以往必要的熟成，由此，具有由該黏著劑形成的黏著劑層的部件的出廠以及投入下一個次工序就可以迅速地進行，這在中間材料的庫存負擔以及生產效率的面是非常有利的。
黏著劑層剛一形成時的凝膠分率G1以及上述7天保管後的凝膠分率G2為，分別以30-60%為佳，特別是以32-56%為佳，進一步以35-50%為佳。如凝膠分率為30%未滿，黏著劑的凝集力不足，高溫下的耐久性(耐熱性)有變低的場合。另外，如凝膠分率超過60%，黏著劑的凹凸追隨性有變低的場合。
上述拉伸試驗為，將疊層等形成的寬度10mm，長度20mm，以及厚度500μm的黏著劑片(不帶基材等的單獨的黏著劑層)用拉伸試驗以200mm/分的速度拉伸來進行。本實施形態的黏著劑的上述拉伸試驗的斷裂伸長率以100-250%為特徵。斷裂伸長率如100%未滿，凹凸追隨性有變低的場合，如超過250%，有耐熱性變低的場合。從這樣的觀點，上述斷裂伸長率，較佳為110-240%，特佳為115-230%，進一步佳為130-200%。
另外，上述拉伸試驗的斷裂應力以0．2-0．6N/mm2為特徵。如斷裂應力為0．2N/mm2未滿，有耐熱性變低的可能，如超過0．6N/mm2，凹凸追隨性有變低的場合。從這樣的觀點，上述斷裂應力，較佳為0．2-0．5N/mm2。
本實施形態的黏著劑的霧度值(按JIS K7105測定的值)為，1．0%以下為佳，特別是以0．7%以下為佳，進一步以0．5%以下為佳。如霧度值為1．0%以下，透明性非常高，考慮光學用途等的適用，為適宜。
〔黏著性組合物〕
本實施形態的黏著劑，以活性能量射線硬化型的黏著劑為佳。另外，所謂活性能量射線硬化型的黏著劑，為活性能量射線照射後作為黏著劑使用的黏著劑。
具有上述的物性的黏著劑，較佳為含有重量平均分子量為60萬-200萬的(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)(以下，有僅稱“聚合物(A)”的場合。)和，重量平均分子量為3萬-10萬，側鏈上具有聚合性雙鍵的反應性(甲基)丙烯酸酯聚合物(B)(以下，有僅稱“聚合物(B)”的場合)的黏著性組合物(以下稱“黏著性組合物P”)，用活性能量射線的照射進行硬化而得到。另外，本說明書中，所謂(甲基)丙烯酸酯，指丙烯酸酯以及甲基丙烯酸酯的兩方。其他的類似用語也同樣。另外，“聚合物”中也包括“共聚物”的概念。
以往，低分子量的聚合物作為可塑劑來使用，從上述黏著性組合物P得到的黏著劑中，多個低分子量的聚合物(B)，有活性能量射線的照射，側鏈的聚合性雙鍵的開裂，相互鍵合形成三維網目構造。多個的高分子量的聚合物(A)，插入在三維網目構造而被約束，高分子量的聚合物(A)相互之間形成擬似的交聯構造(雖然被約束，但是不是共價鍵的構 造)(推定)(這些構造全體在下麵稱為“構造X”。由於這樣的構造X，該黏著劑，被認為可以發揮優良的凹凸追隨性以及耐熱性。以下，對上述黏著性組合物P進行說明。
(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)，較佳為烷基的碳數為1-20的(甲基)丙烯酸烷基酯，根據需要使用的含烷氧基烷基的(甲基)丙烯酸酯，根據需要使用的具有官能基的單體(含官能基單體)以及根據需要使用的其他的單體的共聚物。含有烷基的碳數為1-20的(甲基)丙烯酸烷基酯以及含有具有烷氧基烷基的(甲基)丙烯酸酯，可以得到的對黏著劑賦予所期望的黏著力，含有官能基單體為，由該官能基具有的極性，被認為可以使聚合物(A)有效地插入聚合物(B)的三維網目構造中。
作為烷基的碳數為1-20的(甲基)丙烯酸烷基酯，可以例舉(甲基)丙烯酸甲基酯，(甲基)丙烯酸乙基酯，(甲基)丙烯酸丙基酯，(甲基)丙烯酸n-丁基酯，(甲基)丙烯酸n-戊基酯，(甲基)丙烯酸n-己基酯，(甲基)丙烯酸環己基酯，(甲基)丙烯酸2-乙基己基酯，(甲基)丙烯酸異辛基酯，(甲基)丙烯酸n-葵基酯，(甲基)丙烯酸n-十二烷基酯，(甲基)丙烯酸肉豆蔻基酯，(甲基)丙烯酸棕櫚基酯，(甲基)丙烯酸硬脂基酯等。它們可以單獨使用，也可以2種以上組合使用。
作為含有烷氧基烷基的(甲基)丙烯酸酯，可以例舉(甲基)丙烯酸甲氧基甲基酯，(甲基)丙烯酸甲氧基乙基酯，(甲基)丙烯酸甲氧基丙基酯，(甲基)丙烯酸甲氧基丁 基酯，(甲基)丙烯酸乙氧基甲基酯，(甲基)丙烯酸乙氧基乙基酯，(甲基)丙烯酸乙氧基丙基酯，(甲基)丙烯酸乙氧基丁基酯等。它們可以單獨使用，也可以2種以上組合使用。另外，烷氧基烷基的的碳數以20以下程度為佳。
作為含官能基單體，較佳為例舉分子內有羥基的單體(含羥基單體)，分子內有羧基的單體(含有羧基單體)，分子內具有氨基的單體(含有氨基單體)等。
作為含羥基單體，可以例舉(甲基)丙烯酸2-羥基乙基酯，(甲基)丙烯酸2-羥基丙基酯，(甲基)丙烯酸3-羥基丙基酯，(甲基)丙烯酸2-羥基丁基酯，(甲基)丙烯酸3-羥基丁基酯，(甲基)丙烯酸4-羥基丁基酯等的(甲基)丙烯酸羥基烷基酯等。它們可以單獨使用，也可以2種以上組合使用。
作為含有羧基單體，可以例舉丙烯酸，甲基丙烯酸，巴豆酸，馬來酸，衣康酸，擰康酸等的乙烯性不飽和羧酸。它們可以單獨使用，也可以2種以上組合使用。另外，黏著性組合物P含有下述的氮丙啶系交聯劑的場合，由於羧基與氮丙啶系交聯劑的氮丙啶基的反應性優良，所以(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)以作為構成單位至少含有含羧基單體為佳。
作為含氨基單體，可以例舉，(甲基)丙烯酸氨基乙基酯，(甲基)丙烯酸n-丁基氨基乙基酯等。它們可以單獨使用，也可以2種以上組合使用。
作為上述其他的單體，可以例舉具有(甲基)丙烯酸環己基酯等的具有脂肪族環的(甲基)丙烯酸酯，(甲基) 丙烯酸苯基酯等的具有芳香族環的(甲基)丙烯酸酯，丙烯酸酰胺，甲基丙烯酸胺等的非交聯性的(甲基)丙烯酸酰胺，(甲基)丙烯酸N，N-二甲基氨基乙基酯，(甲基)丙烯酸N，N-二甲基氨基丙基酯等的具有非交聯性的叔胺基的(甲基)丙烯酸酯，醋酸乙烯基酯，苯乙烯等。它們可以單獨使用，也可以2種以上組合使用。
(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)中，作為構成該聚合物的單位，烷基的碳數為1-20的(甲基)丙烯酸烷基酯以及含有烷氧基烷基的(甲基)丙烯酸酯合起來的含有量，以70-99質量%為佳，特別是以70-95質量%為佳，進一步以80-95質量%為佳。(甲基)丙烯酸烷基酯以及含有烷氧基烷基的的(甲基)丙烯酸酯的合計的含有量在上述範圍內，作為黏著劑可以得到適宜的黏著力。另外，如上述(甲基)丙烯酸烷基酯以及含有烷氧基烷基的的(甲基)丙烯酸酯的合計的含有量為70質量%未滿，有黏著力過低的可能。另外，(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)為，僅由烷基的碳數為1-20的(甲基)丙烯酸烷基酯以及含有烷氧基烷基的(甲基)丙烯酸酯構成也可以。
在此，烷基的碳數為1-20的(甲基)丙烯酸烷基酯以及含有烷氧基烷基的(甲基)丙烯酸酯並用的場合，兩者中的烷基的碳數為1-20的(甲基)丙烯酸烷基酯的所佔有的量，以50質量%以上為佳，70質量%以上為特別佳，80質量%以上為進一步佳。另外，作為上述兩者的配合量的上限值，烷基的碳數為1-20的(甲基)丙烯酸烷基酯 為100質量%也可以。
(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)，作為該聚合物的構成單位，含有上述含官能基單體的量，以1-30質量%為佳，特別是以2-20質量%為佳，進一步以3-10質量%為佳。含官能基單體在上述範圍含有時，和下述的聚合物(B)的相溶性提高，可以使上述構造X效率良好地形成(推定)，其結果，得到具有低的霧度值，並且耐熱性優良的黏著劑。
黏著性組合物P為含有下述的氮丙啶系交聯劑的場合，(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)，作為構成該聚合物的單位，含有含羧基單體，以含有1．0-10．0質量%為佳，特別是以3．0-5．0質量%含有為佳。由此，聚合物(A)，介於氮丙啶系交聯劑交聯構造可以良好地形成。
(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)的聚合狀態為，隨機共聚物也可以，嵌段共聚物也可以。
(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)的重量平均分子量為60萬-200萬，較佳為70萬-180萬，特佳為80萬-150萬。即，(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)為高分子量聚合物成分。另外，本說明書中的重量平均分子量為，為用凝膠滲透色譜(GPC)法進行測定的聚苯乙烯換算值。
如(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)的重量平均分子量為上述範圍內，聚合物(A)具有比較的大的分子量，可以良好地形成上述構造X(推定)。
在此，如(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)的重量平均分子量為60萬未滿，得到的黏著劑的凝膠分率低，有耐 熱性差的可能性。另外，(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)的重量平均分子量如超過200萬，與反應性(甲基)丙烯酸酯聚合物(B)等的相溶性變差，有黏著劑的凹凸追隨性變低的可能性。
另外，黏著性組合物P中，(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)為，一種單獨使用也可，2種組合起來使用也可。。
側鏈上具有聚合性雙鍵的反應性(甲基)丙烯酸酯聚合物(B)較佳為，通過使作為構成單位的含有含官能基(x)的單體(甲基)丙烯酸系聚合物(b1)與具有與官能基(x)反應的取代基(y)的含聚合性雙鍵化合物(b2)反應而得到。
(甲基)丙烯酸系聚合物(b1)較佳為，含有官能基(x)單體和，根據需要使用的烷基的碳數為1-20的(甲基)丙烯酸烷基酯，和根據需要使用的其他的單體的共聚物。
上述含官能基(x)單體為，在分子內具有聚合性的雙鍵和，羥基，羧基，氨基，取代氨基，環氧基等的官能基的單體，較佳為含羥基不飽和化合物以及/或含羧基不飽和化合物。
這樣的含官能基(x)單體的具體的例，可以例舉2-羥基乙基丙烯酸酯，2-羥基乙基甲基丙烯酸酯，2-羥基丙基丙烯酸酯，2-羥基丙基甲基丙烯酸酯等的含羥基(甲基)丙烯酸酯以及，丙烯酸，甲基丙烯酸，衣康酸等的含羧基化合物，這些可以單獨或2種以上組合起來使用。
作為烷基的碳數為1-20的(甲基)丙烯酸烷基酯以及其他的單體，可以使用與(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)同樣之物。
(甲基)丙烯酸系聚合物(b1)，作為構成該該單體單位，含有上述官能基(x)單體通常為3-100質量%，較佳為5-40質量%，特佳為10-30質量%的量，上述烷基的碳數為1-20的(甲基)丙烯酸烷基酯來的構成單位通常含有0-97質量%，較佳為60-95質量%，特佳為70-90質量%的量。
另外，(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)的構成單體的含官能基單體以及(甲基)丙烯酸系聚合物(b1)的構成單體的含官能基(x)單體為，可以例舉，分別含羧基單體以及含羥基單體，以使它們的種類不同為佳。這是由於交聯劑(D)以及矽烷偶合劑(E)僅對聚合物(A)起作用的緣故。
另一方面，含聚合性雙鍵化合物(b2)具有的取代基(y)為，根據(甲基)丙烯酸系聚合物(b1)具有的含官能基(x)的單位的官能基(x)的種類，進行適宜選擇。可以例舉，官能基(x)為羥基，氨基或取代氨基的場合，作為取代基(y)，以異氰酸酯基或環氧基為佳，官能基(x)為羧基的場合，作為取代基(y)較佳為氮丙啶基，環氧基或噁唑基，官能基(x)為環氧基的場合，作為取代基(y)，以氨基，羧基或氮丙啶基為佳。這樣的取代基(y)為，含聚合性雙鍵化合物(b2)每1分子一個。
另外含有聚合性雙鍵化合物(b2)中，聚合性 雙鍵(碳-碳雙鍵)為，每1分子通常為1-5個，較佳為1-2個。作為這樣的含聚合性雙鍵化合物(b2)，可以例舉(甲基)丙烯酰氧乙基異氰酸酯，甲基異丙烯基α，α-二甲基芐基異氰酸酯，(甲基)丙烯酰基異氰酸酯，烯丙基異氰酸酯；二異氰酸酯化合物或聚異氰酸酯化合物和羥基乙基(甲基)丙烯酸酯進行反應得到的(甲基)丙烯酰基單異氰酸酯化合物；二異氰酸酯化合物或聚異氰酸酯化合物和多元醇化合物和(甲基)丙烯酸羥基乙基酯反應得到的(甲基)丙烯酰基單異氰酸酯化合物；二環氧甘油(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸；2-(1-氮丙啶)乙基(甲基)丙烯酸酯，2-乙烯基2-唑啉，2-異丙烯基2-唑啉等。
作為含聚合性雙鍵化合物(b2)，在上述之中，作為取代基(y)，具有異氰酸酯基，作為含有聚合性雙鍵基，具有乙烯性雙鍵的基，特別是具有(甲基)丙烯酰基的化合物為佳，具體地說，(甲基)丙烯酰氧乙基異氰酸酯，特別是甲基丙烯酰氧乙基異氰酸酯為佳。
作為反應性(甲基)丙烯酸酯聚合物(B)中的含聚合性雙鍵化合物(b2)的取代基(y)的存在量為，對上述(甲基)丙烯酸系聚合物(b1)的含官能基(x)單體的官能基(x)的存在量，以0．05-0．8摩爾當量為佳，特別是以0．1-0．6摩爾當量為佳，進一步以0．1-0．4摩爾當量為佳。
(甲基)丙烯酸系聚合物(b1)和含聚合性雙鍵化合物(b2)的反應為，通常為常壓，不活性氣氛圍氣下， 室溫或40-70℃的加溫中，醋酸乙基酯等的有機溶媒中，12-48小時程度來進行。反應時，觸媒以及聚合禁止劑等可以適宜使用。可以例舉，官能基(x)為羥基的丙烯酸系共聚物(b1)和取代基(y)為異氰酸酯基的含聚合性雙鍵化合物(b2)進行反應的場合，較佳為二丁基錫月桂酯等的有機錫系的觸媒被使用。另外，根據官能基(x)和取代基(y)的組合，可以對反應的溫度，壓力，溶媒，時間，觸媒的有無，觸媒的種類進行適宜選擇。由此，(甲基)丙烯酸系聚合物(b1)中存在的官能基(x)和含聚合性雙鍵化合物(b2)中的取代基(y)進行反應，側鏈中聚合性雙鍵被導入的反應性(甲基)丙烯酸酯聚合物(B)被得到。此反應中的官能基(x)和取代基(y)的反應率，通常70%以上，較佳為為80%以上，未反應的官能基(x)在反應性(甲基)丙烯酸酯聚合物(B)中殘存也可以。
反應性(甲基)丙烯酸酯聚合物(B)((甲基)丙烯酸系聚合物(b1))的聚合狀態，可以為隨機共聚物，也可以為嵌段共聚物。
反應性(甲基)丙烯酸酯聚合物(B)的重量平均分子量為1萬-10萬，較佳為3萬-8萬，特佳為4萬-6萬。即，反應性(甲基)丙烯酸酯聚合物(B)，與(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)比較，為低分子量的聚合物成分。
如反應性(甲基)丙烯酸酯聚合物(B)的重量平均分子量在上述範圍內，本實施形態的黏著劑特有的三維網目構造被形成，對優良的凹凸追隨性以及耐熱性有貢獻。即， 如反應性(甲基)丙烯酸酯聚合物(B)的重量平均分子量為1萬未滿，良好的三維網目構造就不能得到，就有耐熱性變差的場合。另一方面，如反應性(甲基)丙烯酸酯聚合物(B)的重量平均分子量超過10萬，與(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)等的相溶性變低，有霧度值上升場合。另外，聚合物(B)進一步形成的三維網目構造體中的聚合物(A)的約束狀態不充分，其結果，得到的黏著劑有耐熱性差的場合。
另外，黏著性組合物P中，反應性(甲基)丙烯酸酯聚合物(B)，一種單獨使用也可，2種組合起來使用也可。
對(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)100質量份，反應性(甲基)丙烯酸酯聚合物(B)的配合量為以5-30質量份為佳，特別是以7-25質量份為佳，進一步以10-20質量份為佳。
從以上述比例得到的含有(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)以及反應性(甲基)丙烯酸酯聚合物(B)的黏著性組合物P得到的黏著劑，可以良好地得到上述構造X(推定)。
在此，作為對黏著性組合物P照射的活性能量射線，使用紫外線的場合，黏著性組合物P，佳進一步含有光聚合引發劑(C)。如此含有光聚合引發劑(C)，反應性(甲基)丙烯酸酯聚合物(B)可以被效率良好地硬化，另外可以使氮丙啶丙酸酯以及光線照射量減少。
作為這樣的光聚合引發劑(C)，具體地說，可以例舉二苯甲酮，苯乙酮，苯偶因，苯偶因甲基醚，苯偶因乙基醚，苯偶因異丙基醚，苯偶因異丁基醚，苯偶因安息香酸，苯 偶因安息香酸甲基酯，苯偶因二甲基縮酮，2，4-二乙基塞噸酮，1-羥基環己基苯基酮，芐基二苯基硫化物，四甲基秋蘭姆摩爾硫化物，偶氮雙異丁腈，芐基，二芐基，二乙酰，β-氯蒽醌，(2，4，6-三甲基芐基二苯基)氧化膦，2-苯並噻唑N，N-二乙基二硫代氨基甲酸酯等。
光聚合引發劑(C)的量，對反應性(甲基)丙烯酸酯聚合物(B)100質量份，為1-50質量份，特別是以5-30質量份的範圍為佳。
黏著性組合物P，上述聚合物(A)，聚合物(B)以及光聚合引發劑(C)以外，根據需要，也可以含有交聯劑(D)以及矽烷偶合劑(E)，另外，丙烯酸系黏著劑，可以使用通常使用的各種添加劑，可以例舉黏著賦與劑，帶電防止劑，氧化防止劑，紫外線吸收劑，光安定劑，軟化劑，充填劑等。
作為交聯劑(D)，只要不妨礙本發明的效果，也可以使用其他所希望的交聯劑，在(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)作為反應性官能基具有羧基的場合，與該羧基良好地進行反應的氮丙啶系交聯劑的使用為佳。如此使用氮丙啶系交聯劑使(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)交聯，得到的黏著劑的耐久性，特別是耐濕熱性可以提高。
作為氮丙啶系交聯劑為，可以例舉，二苯基甲烷4,4’-雙(1-氮丙啶甲酰胺)，三羥甲基丙烷三β-氮丙啶丙酸酯，四羥甲基甲烷三β-氮丙啶丙酸酯，甲苯2,4-雙(1-氮丙啶甲酰胺)，三乙烯三聚氰胺，雙異鄰苯二甲基 1-(2-甲基氮丙啶)，三1-(2-甲基氮丙啶)膦，三羥甲基丙烷三β-(2-甲基氮丙啶)丙酸酯等。
黏著性組合物P中的交聯劑(D)的含有量為，對(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)的反應性官能基(可以例舉，羧基)的量，該交聯劑(D)的交聯性基(可以例舉，氮丙啶基)的量，以0．001-0．1摩爾當量為佳，特別是以0．003-0．02摩爾當量為佳。
黏著性組合物P為，如含有矽烷偶合劑(E)，得到的黏著劑的對玻璃基板的密著性可以得以提高。可以例舉，作為(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)反應性官能基為羧基的場合，矽烷偶合劑(E)的有機反應性基等和(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)的羧基反應，另一方的矽烷偶合劑(E)的烷氧基甲矽烷基等與玻璃基板等的被黏著體面進行作用。由此，在例如偏振片在液晶玻璃等上貼合的場合，黏著劑和液晶玻璃之間的密著性會進一步良好。另外，聚合物(A)的反應性官能基為羧基以外場合中，選擇具有與該反應性官能基作用的有機反應性基的矽烷偶合劑(E)適宜。
作為矽烷偶合劑(E)為，分子內具有至少有一個烷氧基甲矽烷基的有機矽化合物，與黏著劑成分的相溶性好，並且有光透過性，例如實質上透明之物適宜。這樣的矽烷偶合劑(E)的配合量為，對(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)100質量份，以0．01-1．0質量份為佳，特別是以0．05-0．5質量份為佳。
矽烷偶合劑(E)的具體例，可以例舉乙烯基三 甲氧基矽烷，乙烯基三乙氧基矽烷，(甲基)丙烯酰氧基丙基三甲氧基矽烷等的含聚合性不飽和基矽化合物；3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷，2-(3，4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷等的具有環氧構造的矽化合物；3-氨基丙基三甲氧基矽烷，N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基矽烷，N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基矽烷等的含氨基矽化合物；3-氯丙基三甲氧基矽烷；3-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷等。它們可以單獨使用，也可以2種組合起來使用。
〔黏著性組合物的製造方法〕
黏著性組合物P為，將(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)和，反應性(甲基)丙烯酸酯聚合物(B)進行分別製造，在將它們混合的同時，根據需要，可以在任意的階段將光聚合引發劑(C)，交聯劑(D)，矽烷偶合劑(E)等添加來製造。
(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)為，可以用通常的自由基聚合法進行製造。(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)的聚合，根據需要可以使用聚合引發劑，可以用溶液聚合法等進行。作為聚合溶媒，可以例舉醋酸乙基酯，醋酸n-丁基酯，醋酸異丁基酯，甲苯，丙酮，己烷，甲基乙基酮等，2種類以上可以並用。
作為聚合引發劑，可以例舉偶氮系化合物，有機過氧化物等，2種類以上並用也可以。作為偶氮系化合物，可以例舉2,2’-偶氮雙異丁腈，2,2’-偶氮雙(2-甲基丁腈)，1,1’-偶氮雙(環己烷1-腈)，2,2’-偶氮雙(2， 4-二甲基戊腈)，2,2’-偶氮雙(2，4-二甲基4-甲氧基戊腈)，二甲基2,2’-偶氮雙(2-甲基丙酸酯)，4,4’-偶氮雙(4-氰基戊酸)，2,2’-偶氮雙(2-羥基甲基丙腈)，2,2’-偶氮雙〔2-(2-咪坐琳2-基)丙烷〕等。
作為有機過氧化物，可以例舉過氧化苯甲酰，t-丁基過苯甲酸，過氧化氫異丙二甲苯異丙基過氧二碳酸酯，二n-丙基過氧二碳酸酯，二(2-乙氧基乙基)過氧二碳酸酯，t-丁基過氧新癸酸，t-丁基過氧特戊酸，(3，5，5-三甲基己酰)過氧化物，二丙酰過氧化物，二乙酰過氧化物等。
另外，上述聚合工序中，可以通過添加2-巰基乙醇等的鏈轉移劑，對得到的聚合物的重量平均分子量進行調節。
另一方面，反應性(甲基)丙烯酸酯聚合物(B)，如上述，可以使(甲基)丙烯酸系聚合物(b1)和含聚合性雙鍵化合物(b2)反應來製造。(甲基)丙烯酸系聚合物(b1)，與上述(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)的製造方法同樣進行製造。
(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)以及反應性(甲基)丙烯酸酯聚合物(B)得到後，將聚合物(A)以及(B)的溶液混合，稀釋溶媒加入。其後，根據需要，將光聚合引發劑(C)，交聯劑(D)，矽烷偶合劑(E)等添加，充分混合，溶媒稀釋的黏著性組合物(塗布溶液)被得到。
將黏著性組合物稀釋為塗布溶液的稀釋溶劑，可 以例舉己烷，庚烷，環己烷等的脂肪族烴；甲苯，二甲苯等的芳香族烴；二氯甲烷，氯乙烯等的為鹵代烴；甲醇，乙醇，丙醇，丁醇，1-甲氧基2-丙醇等的醇；丙酮，甲基乙基酮，2-戊酮，異氟爾酮，環己酮等的酮；醋酸乙基酯，醋酸丁基酯等的酯；乙基溶纖劑等的溶纖劑系溶劑等。
如此調制的塗布溶液的濃度‧黏度，只要在塗布可能的範圍即可，沒有特別的限制，可以根據情況可以適宜選定。例如可以將黏著性組合物的濃度稀釋為10-40質量%。另外，得到塗布溶液時，稀釋溶劑等的添加不是必要條件，黏著性組合物只要為塗布可能的黏度等，不添加稀釋溶劑也可以。此場合，黏著性組合物可以原封不動地作為塗布溶液。
〔黏著劑的形成〕
本實施形態的黏著劑，佳通過將黏著性組合物P在所需要的對象物上塗布乾燥後，用活性能量射線的照射使黏著性組合物P硬化，得到。
黏著性組合物P的乾燥，風幹也可以，但是通常為加熱處理(佳為，熱風乾燥)來進行。進行加熱處理的場合，加熱溫度，以50-150℃為佳，特別是以70-120℃為佳。另外，加熱時間，以10秒-10分為佳，特別是以50秒-2分為佳。另外，(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)具有反應性官能基，黏著性組合物P含有交聯劑(D)的場合，通過上述的加熱處理(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)被交聯。
作為活性能量射線，通常，紫外線，電子線等被使用。活性能量射線的照射量，根據能量線的種類而異，例如 紫外線的場合中，光量以50-1000mJ/cm2為佳，特別是以100-500mJ/cm2為佳。另外，電子線的場合中，以10-1000krad程度為佳。
由上述活性能量射線的照射，多個的反應性(甲基)丙烯酸酯聚合物(B)，側鏈的聚合性雙鍵的開裂，相互鍵合，三維網目構造形成，多個(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)插入上述三維網目構造，上述構造X被形成(推定)。此時，由於黏著性組合物P的硬化迅速進行，熟成沒有必要，得到的黏著劑的諸物性從初期階段就會安定。該黏著劑，由於其構造X，可以發揮優良的凹凸追隨性以及耐熱性。
本實施形態的黏著劑，以作為光學部件用為佳，可以例舉，偏振片(偏光薄膜)和相位差板(相位差薄膜)等的光學部件之間的接著，或者偏振片(偏光薄膜)以及相位差板(相位差薄膜)與玻璃基板之間的接著。
本實施形態的黏著劑，由於凹凸追隨性優良，即使表面為粗糙的液晶單元接著的場合，也可以將凹陷部埋沒，與液晶單元密著，由此可以得到優良的光學特性。另外，本實施形態的黏著劑，耐熱性優良。即，本實施形態的黏著劑可以既有凹凸追隨性又具有耐熱性。
〔黏著片〕
如圖1所示的那樣，第1的實施形態的黏著片1A，由從下數，剝離片12，剝離片12的剝離面疊層的黏著劑層11，在黏著劑層11疊層的基材13構成。
另外，如圖2所示的那樣，第2的實施形態的黏 著片1B為，2枚的剝離片12a，12b和，由該2枚的剝離片12a，12b夾持，由此與該2枚的剝離片12a，12b的剝離面相接的黏著劑層11來構成。另外，本說明書中的所謂剝離片的剝離面，為剝離片中有剝離性的面，實施了剝離處理的面以及即使沒有實施剝離處理，但是卻具有剝離性的面的任何一個都可以。
任何一個的黏著片1A，1B中，黏著劑層11都為上述的黏著性組合物硬化而成的黏著劑構成。
黏著劑層11的厚度為，可以根據黏著片1A，1B的使用目的進行適宜抉定，通常為5-100μm，較佳為10-60μm的範圍，例如作為光學部件用，特別是偏振片用的黏著劑層使用的場合，以10-50μm，特別是以10-30μm為佳。
作為基材13，沒有特別的限制，通常的作為黏著片的基材片使用之物都可以使用。可以例舉，在所期望的光學部件之外，人造絲，丙烯酸，聚酯等的用纖維的紡織布或無紡布；上質紙，格拉辛紙，含浸紙，塗布紙等的紙類；鋁，銅等的金屬箔；合成紙；聚氨酯發泡體，聚乙烯發泡體等的發泡體；聚對苯二甲酸乙二醇酯，聚對苯二甲酸丁二醇酯，聚乙二醇萘二甲酸酯等的聚酯薄膜，聚氨酯薄膜，聚乙烯薄膜，聚丙烯薄膜，三乙酰纖維素等的纖維素薄膜，聚氯乙烯基薄膜，聚偏二氯乙烯薄膜，聚乙烯基醇薄膜，乙烯醋酸乙烯基共聚物薄膜，聚苯乙烯薄膜，聚碳酸酯薄膜，丙烯酸樹脂薄膜，降冰片烯系樹脂薄膜，環烯烴樹脂薄膜等的塑膠薄膜；這些2種以上 的疊層體等也可。塑膠薄膜為，一軸延伸或二軸延伸都可以。
作為光學部件，可以例舉偏振片(偏光薄膜)，偏光子，相位差板(相位差薄膜)，視野角補賞薄膜，輝度提高薄膜，對比度提高薄膜，液晶聚合物薄膜，擴散薄膜，半透過反射薄膜等。
基材13的厚度，根據其種類而異，例如在光學部件的場合中，通常10μm-500μm，較佳為50μm-300μm。
作為剝離片12,12a,12b，可以例舉，聚乙烯薄膜，聚丙烯薄膜，聚丁烯薄膜，聚丁二烯薄膜，聚甲基戊烯薄膜，聚乙烯基薄膜，乙烯基共聚物薄膜，聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜，聚乙萘二甲酸酯薄膜，聚對苯二甲酸丁乙二醇酯薄膜，聚氨酯薄膜，乙烯醋酸乙烯基薄膜，離聚體樹脂薄膜，乙烯‧(甲基)丙烯酸共聚物薄膜，乙烯‧(甲基)丙烯酸酯共聚物薄膜，聚苯乙烯薄膜，聚碳酸酯薄膜，酰亞胺薄膜，氟樹脂薄膜等。另外，它們的交聯薄膜也可以使用。進一步，它們的疊層薄膜也可以。
上述剝離片的剝離面(特別是與黏著劑層11相接的面)中，以剝離處理被實施了的為佳。剝離處理使用的剝離劑，可以例舉醇酸系，聚矽氧烷系，氟系，不飽和聚酯系，聚烯烴系，蠟系的剝離劑。另外，剝離片，以可以透過活性能量射線的透過性之物為佳。
剝離片12，12a，12b的厚度沒有特別是限制，通常為20-150μm程度。
上述黏著片1A的製造，是在剝離片12的剝離面上，將含有黏著性組合物P的溶液(塗布溶液)塗布，乾燥而到黏著性組合物的塗膜，在該塗膜的露出側，將基材13疊層。然後，用活性能量射線透過上述剝離片照射，使黏著劑層11形成。此時，熟成不需要。另外，關於活性能量射線的條件，如上述。
另外，在上述黏著片1B的製造中，在一個剝離片12a(或12b)的剝離面上，用含有上述黏著性組合物的塗布溶液進行塗布，乾燥得到黏著性組合物的塗膜，在該塗膜的露出面側將剝離片12b疊層。然後，從剝離片12a或12b的任一側將活性能量射線照射，形成黏著劑層11。
另外，除上述的那樣透過剝離片將活性能量射線進行照射形成黏著劑層11之外，也可以是在剝離片上使黏著性組合物P的塗膜層形成，其塗膜層露出的狀態下，將活性能量射線照射，形成黏著劑層11，其後，在該黏著劑層11上將基材13以及剝離片疊層。進一步，也可以在基材13上，直接形成黏著性組合物P的塗膜層，對該塗膜層進行活性能量射線照射，形成黏著劑層11。
作為對上述塗布溶液進行塗布的方法，可以例舉條形碼法，刮刀塗布法，輥塗布法，刮刀塗布法，模塗布法，凹板塗布法等。
在此，例如在液晶單元和偏振片構成的液晶表示裝置的製造中，作為黏著片1A的基材13，使用偏振片，將該黏著片1A的剝離片12剝離，將露出的黏著劑層11和液 晶單元貼合即可。
另外，例如在液晶單元和偏振之間將相位差板配置的液晶表示裝置的製造中，作為一例，首先，將黏著片1B的一個剝離片12a(或12b)剝離，黏著片1B露出的黏著劑層11和相位差板進行貼合，接著，將作為基材13使用偏振片的黏著片1A的剝離片12剝離，黏著片1A露出的黏著劑層11和上述相位差板進行貼合。進一步，從上述黏著片B的黏著劑層11將另-個的剝離片12b(或12a)剝離，將黏著片B的露出的黏著劑層11與液晶單元貼合。
根據以上的黏著片1A，1B，由於黏著劑層11的優良的凹凸追隨性，即使對表面為粗糙化的液晶單元的接著的場合，該黏著劑層11與液晶單元可以確實地密著。
以上說明的實施形態是為了對本發明進行理解而記述地，不對本發明有任何限定。但是，上述實施形態公開的各要素，在屬於本發明的技術的範圍的全部的設計變更以及等同物到為本發明的一部分。
例如，黏著片1A的剝離片12可以省略，黏著片1B中的剝離片12a，12b的任一個也可以省略。
【實施例】
以下，用實施例等對本發明進行進一步具體的說明，但是本發明的範圍不受這些實施例等限定。
〔實施例1〕
1．聚合物(A1)的調制
向在裝有攪拌機，溫度計，環流冷卻器，滴下裝置以及氮 導入管的反應容器中，加入丙烯酸n-丁基酯76．5質量份，丙烯酸甲氧基乙基酯20質量份，丙烯酸3．0質量份，丙烯酸2-羥基乙基酯0．5質量份，醋酸乙基酯200質量份，以及2，2’-偶氮雙異丁腈0．08質量份，將上述反應容器內的空氣用氮氣取代。此氮氛圍氣下邊進行攪拌，邊將反應溶液升溫至60℃，16小時反應後，冷卻至室溫。在此，將得到的溶液的一部用下述的方法進行分子量的測定，重量平均分子量80萬的聚合物(A1)的生成被確認。
2．聚合物(B1)的調制
向裝有攪拌機，溫度計，環流冷卻器，滴下裝置以及氮導入管的反應容器中，將丙烯酸n-丁基酯85質量份，丙烯酸2-羥基乙基酯(HEA)15質量份，醋酸乙基酯200質量份，2，2’-偶氮雙異丁腈0．16質量份，以及2-巰基乙醇0．3質量份加入，上述反應容器內的空氣用氮氣取代。在此氮氛圍氣邊進行攪拌，邊將反應溶液升溫至70℃，6小時反應後，冷卻至室溫，作為官能基(x)具有羥基的(甲基)丙烯酸系聚合物(b1)被得到。
接著，將作為聚合性含雙鍵化合物(b2)的2-甲基丙烯酰氧乙基異氰酸酯(MOI)添加，使該MOI的異氰酸酯基的量對(甲基)丙烯酸系聚合物(b1)的HEA為0．1摩爾當量，作為觸媒，添加二丁基錫二月桂酯，常溫(23℃)常壓進行24小時攪拌。在此，將得到的溶液的一部用下述的方法進行分子量的測定，重量平均分子量5萬的聚合物(B1)的生成被確認。
3．黏著性組合物的調制
將上述工序(1)得到的聚合物(A1)100質量份(固體成分換算值)和，上述工序(2)得到的聚合物(B1)20質量份(固體成分換算值)混合後，將作為光聚合引發劑(C)的二苯甲酮以及1-羥基環己基苯基酮以1：1的質量比的混合物(Ciba Specialty Chemicals公司製，IRGACURE500)2．0質量份(聚合物(B1)100質量份的場合，光聚合引發劑(C)為10質量份的相當的量)添加，充分攪拌，黏著性組合物的稀釋溶液被得到。
4．具有黏著劑層的偏振片的製造
將上述工序(3)得到的黏著性組合物的稀釋溶液，在聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜的一個面用聚矽氧烷系剝離劑進行了剝離處理的剝離片(琳得科公司製，SP-PET3811，厚度：38μm)的剝離處理面上，用刮刀塗布法進布塗布，90℃進行1分鐘加熱處理，黏著性組合物的塗膜被得到。
接著，將圓盤狀帶液晶層偏光薄膜構成的，偏光薄膜和視野角擴大薄膜一體化的偏振片與上述黏著性組合物的塗膜進行貼合，由此上述黏著性組合物的塗膜的露出面和圓盤狀液晶層的表面相接，其後，透過剝離片在以下的條件，用紫外線照射，使黏著性組合物的塗膜成為黏著劑層，得到具有黏著劑層的偏振片。另外，黏著劑層的厚度為25μm。
<紫外線照射條件>
‧Fusion公司製無電極燈 使用H燈泡
‧照度600mW/cm2，光量150mJ/cm2
‧UV照度‧光量計使用EYEGRAPHICS公司製”UVPF-36”
〔實施例2〕
使作為含聚合性雙鍵化合物(b2)的2-甲基丙烯酰氧乙基異氰酸酯(MOI)與(甲基)丙烯酸系聚合物(b1)進行反應，此時該MOI的異氰酸酯基的量對(甲基)丙烯酸系聚合物(b1)的HEA為0．2摩爾當量。除此之外，與實施例1的聚合物(B1)同樣，進行聚合物(B2)的製造。將得到的溶液的一部用下述方法進行分子量的測定，重量平均分子量5萬的聚合物(B2)的生成被確認。
除了將聚合物(B1)替換為聚合物(B2)以外，與實施例1同樣，進行黏著性組合物的調制，使用該黏著性組合物進行具有黏著劑層的偏振片的製造。另外，黏著劑層的厚度為25μm。
〔實施例3，比較例1-3〕
除了將聚合物(B)的種類以及配合量按表1所示的那樣變更以外，與實施例1同樣，進行具有黏著劑層的偏振片的製造。另外，黏著劑層的厚度為25μm。
〔比較例4〕
1．聚合物(A2)的調制
向具有攪拌機，溫度計，環流冷卻器，滴下裝置以及氮導入管的反應容器中，加入丙烯酸n-丁基酯76質量份，丙烯酸甲基酯20質量份，丙烯酸4質量份，醋酸乙基酯200質量份，以及2，2’-偶氮雙異丁腈0．08質量份，上述反 應容器內的空氣用氮氣取代。在此氮氛圍氣下邊攪拌，邊將反應溶液升溫至60℃，16小時反應後，冷卻至室溫。在此，將得到的溶液的一部用下述的方法進行分子量測定，重量平均分子量80萬的聚合物(A2)的生成被確認。
2．黏著性組合物的調制
向在上述工序(1)中得到的聚合物(A2)100質量份(固體成分換算值)中，加入作為異氰酸酯系交聯劑，加入三羥甲基丙烷的甲苯二異氰酸酯(TDI系)加成物(日本聚氨酯公司製，CORONATEL)2．5質量份，充分攪拌，得到黏著性組合物的稀釋溶液。
3．具有黏著劑層的偏振片的製造
使用在上述工序(2)中得到的黏著性組合物的稀釋溶液，與實施例1同樣，進行具有黏著劑層的偏振片的製造。另外，黏著劑層的厚度為25μm。
在此，上述的重量平均分子量(Mw)為，用凝膠滲透色譜(GPC)按以下的條件進行測定(GPC測定)的聚苯乙烯換算的重量平均分子量。
<測定條件>
‧GPC測定裝置：Tosoh公司製，HLC-8020
‧GPC柱(以下的順序通過)：Tosoh公司製TSK guard column HXL-H TSK gel GMHXL(×2)TSK gel G2000HXL
‧測定溶媒：四氫呋喃
‧測定溫度：40℃
〔試驗例1〕(凝膠分率的測定)
將在實施例或比較例中製造具有黏著劑層的偏振片的製作中使用的偏振片替換為對聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜的一個面進行了用聚矽氧烷系剝離劑的剝離處理的剝離片(琳得科公司製，SP-PET3801，厚度：38μm)以外，與實施例或比較例同樣，進行對應與各例的具有剝離片/黏著劑層(厚度25μm)/剝離片的構成的黏著片的製作。
將上述的那樣製作的黏著片，製作後馬上(半日內)，80mm×80mm的尺寸取樣，僅對其黏著劑層用聚酯製網(網尺寸200)包起，僅將黏著劑的質量用精密天平秤量。另外，將如上述的那樣製作的黏著片，在23℃，50%RH的條件下進行7天保管，其後，與上述同樣，僅對黏著劑的質量進行秤量。將其質量作為M1。
然後，將上述聚酯製網包住的黏著劑，在室溫下(23℃)在醋酸乙基酯中進行24小時浸漬。另外，對黏著性組合物的塗膜用紫外線進行照射，黏著劑層形成後，取樣，至在醋酸乙基酯中浸漬，所要時間為半日左右。其後將黏著劑取出，溫度23℃，相對濕度50%的環境下，24小時風幹，進一步80℃的烘箱中進行12小時乾燥。僅對乾燥後的黏著劑的質量用精密天平秤量。將此時的質量作為M2。
從得到的M1以及M2，以以下的式凝膠分率(%)=(M2/M1)×100 算出黏著片製作剛形成時(黏著劑層剛形成時)的凝膠分率G1(%)，以及從黏著片製作(黏著劑層形成)至在23℃，50%RH的環境下7天保管後的凝膠分率G2(%)。
另外，從得到的G1以及G2，以以下的式凝膠分率變動率(%)=|(G2-G1)/G2 |×100將凝膠分率變動率(%)算出。結果列於表2。
〔試驗例2〕(霧度值的測定)
作為測定樣品，使用與凝膠分率的測定中使用的黏著片同樣的黏著片(7天保管完了)。對該黏著片的黏著劑層，用霧度計(日本電色工業公司製，NDH2000)，按JIS K7105對霧度值(%)進行測定。結果列於表2。
〔試驗例3〕(拉伸試驗)
將在實施例或比較例中調制的黏著性組合物，在一個面被用聚矽氧烷系剝離劑進行了剝離處理了的聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜的剝離片(琳得科公司製，SP-PET3811)的剝離處理面上塗布，100℃，1分鐘加熱，黏著性組合物的塗膜形成。該塗膜和，聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜的一個面被用聚矽氧烷系剝離劑進行了剝離處理的另一個剝離片(琳得科公司製，SP-PET3801)的剝離處理面向貼合，在以下的條件，進行紫外線照射，使黏著劑層形成，黏著片得到。另外，黏著劑層的厚度為25μm。
<紫外線照射條件>
‧Fusion公司製無電極燈 H燈泡使用
‧照度600mW/cm2，光量150mJ/cm2
‧UV照度‧光量計為EYEGRAPHICS公司製”UVPF-36”使用
將上述黏著劑層多個層進行疊層，使上述黏著片的黏著劑層的合計厚度為500μm，並且僅使疊層體的最表層的剝離片留下。其後(僅比較例4，熟成必要，在23℃，50%RH的氛圍氣下，2星期放置。)，從上述黏著劑層多個層疊的黏著片切出10mm寬度×75mm長的樣品，將疊層體的最表層疊層的剝離片剝離，將樣品設置，使樣品測定部位為10mm寬度×20mm長(伸長方向)，在23℃，50%RH的環境下，用拉伸試驗機(ORIENTEC公司製，坦錫倫)，以拉伸速度200mm/分伸長，對斷裂伸長率(%)以及斷裂應力(N/mm2)進行測定。結果列於表2。
〔試驗例4〕(耐熱性評價)
將在實施例或比較例得到的具有黏著劑層的偏振片，用截斷裝置(荻野製作所公司製超級刀，PN1-600)調整233mm×309mm尺寸。將剝離片剝離，介於露出的黏著劑層，在聚甲基丙烯酸甲基酯(PMMA)板(三菱人造絲公司製，ACRYLITEL001透明，厚度2．0mm)貼附後，用栗原製作所制高壓釜中0．5MPa，50℃中，20分加壓。
其後，80℃乾燥的環境下投入，100小時後用10倍放大鏡，對浮起以及剝離的有無進行確認。評價基準如以下所述。結果表示為表2。
○：浮起，剝離，發泡等沒有被確認到。
×：浮起，剝離，發泡等被確認到。
〔試驗例5〕(凹凸追隨性試驗)
將實施例或比較例中調制的黏著性組合物，在厚度100μm的聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜的一個面塗布，由此使乾燥後的塗布厚為50μm，90℃，進行1分鐘加熱處理(乾燥處理)，得到黏著性組合物的塗膜後，在以下的條件進行紫外線照射，黏著劑層形成，樣品被製成。
<紫外線照射條件>
‧Fusion公司製無電極燈 使用H燈泡
‧照度600mW/cm2，光量150mJ/cm2
‧UV照度‧光量計使用EYEGRAPHICS公司製”UVPF-36”使用
如圖3以及圖4表示的那樣，在尺寸125mm×125mm，厚度1.1mm的PMMA板(三菱人造絲公司製，ACRYLITEL001透明)之上，將尺寸25mm×25mm，厚度25μm或50μm的PET薄膜載置，將上述樣品貼附於PMMA板，使上述樣品的黏著劑面為厚度25μm或50μm的PET薄膜封止。接著，在栗原製作所公司製高壓釜中，0．5MPa，50℃中，20分加壓。進而，上述封止的PET薄膜的端部近傍中發生的黏著劑層的浮起的長度L(將從厚度25μm或50μm的PET薄膜的端部，到黏著劑層和無堿玻璃板的接著部分的距離任意測定5點，將它們平均的距離)進行測定。評價基準如以下。結果列於表2。
◎：浮起的長L為0．1mm未滿
○：浮起的長L為0．1mm以上0．5mm未滿
△：浮起的長L為0．5mm以上1．0mm未滿
×：浮起的長L為1．0mm以上
如表2明確的那樣，實施例中得到的黏著劑層的黏著劑，其凝膠分率變動率，斷裂伸長率以及斷裂應力，都滿足本發明的要件，凹凸追隨性以及耐熱性的都優良。
【產業上的利用可能性】
本發明的黏著劑，對光學部件，可以例舉偏振片以及相位差板的接著適宜，另外，本發明的黏著片，作為偏振 片以及相位差板等的光學部件用的黏著片也是適宜的。
1A‧‧‧黏著片
11‧‧‧黏著劑層
12‧‧‧剝離片
13‧‧‧基材

Claims (11)

  1. 一種黏著劑，其係使含有重量平均分子量為60萬-200萬的(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)和重量平均分子量為3萬-10萬、側鏈上具有聚合性雙鍵的反應性(甲基)丙烯酸酯聚合物(B)的黏著性組合物在活性能量射線的照射下硬化而成者，其特徵在於：該反應性(甲基)丙烯酸酯聚合物(B)係使具有作為構成單體單位的含官能基(x)的單體的(甲基)丙烯酸系聚合物(b1)和具有與該官能基(x)反應的取代基(y)的含聚合性雙鍵化合物(b2)反應而得到者，該反應性(甲基)丙烯酸酯聚合物(B)中，相對於該(甲基)丙烯酸系聚合物(b1)的該含官能基(x)單體的該官能基(x)的存在量，作為該含聚合性雙鍵化合物(b2)的該取代基(y)的存在量為0.05-0.6摩爾當量，在將黏著劑層剛形成時的凝膠分率作為G1，黏著劑層形成後在23℃，50%RH的環境下進行7天保管後的凝膠分率作為G2時，從下式算出的凝膠分率變動率在3%以內，凝膠分率變動率(%)=｜(G2-G1)/G2｜×100拉伸試驗時，斷裂應力為0．2-0．6N/mm2。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的黏著劑，其中反應性(甲 基)丙烯酸酯聚合物(B)的側鏈上的聚合性雙鍵被含在通過異氰酸酯導入側鏈的(甲基)丙烯酰基中。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的黏著劑，其中對(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)100質量份，上述反應性(甲基)丙烯酸酯聚合物(B)的量為5-30質量份。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的黏著劑，其中上述黏著性組合物，進一步含有光聚合引發劑(C)。
  5. 如申請專利範圍第4項所述的黏著劑，其中對上述反應性(甲基)丙烯酸酯聚合物(B)100質量份，上述光聚合引發劑(C)的量為5-30質量份。
  6. 如申請專利範圍第1項所述的黏著劑，其中上述活性能量射線的照射量為50-1000mJ/cm2。
  7. 如申請專利範圍第1項所述的黏著劑，其中黏著劑層剛形成時的與上述7天保管後的凝膠分率為30-60%。
  8. 如申請專利範圍第1項所述的黏著劑，其中上述霧度值在1．0%以下。
  9. 一種黏著片，具有基材和黏著劑層，其特徵在於：上述黏著劑層由申請專利範圍第1至8項中任一項所述的黏著劑形成。
  10. 如申請專利範圍第9項所述的黏著片，其中上述基材為光學部件。
  11. 一種黏著片，其特徵在於：包括2枚的剝離片和由上述剝離片夾持，由此與上述2枚剝離片的剝離面相接的黏著 劑層，其特徵在於：上述黏著劑層由申請專利範圍第1至8項中任一項所述的黏著劑構成。
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