TWI545029B - A hydraulic transfer method having a surface cleaning mechanism, and a hydraulic transfer device thereof - Google Patents

Description

具備設計面淨化機構之液壓轉印方法以及其液壓轉印裝置

本發明係關於一種將利用轉印油墨預先施加適宜之轉印圖案(表面油墨層)而成之轉印薄膜於液面上懸浮支持，於此處一面抵壓被轉印體一面使轉印薄膜沒入轉印液中，藉此利用液壓而將薄膜上之轉印圖案轉印至被轉印體的液壓轉印，尤其係關於一種於自轉印液中浮上之被轉印體之設計面上難以靠近轉印液面上之薄膜殘渣或泡等的新穎液壓轉印手法。

已知有如下液壓轉印：於水溶性薄膜(承載薄片)上，使預先施加非水溶性之適宜之轉印圖案而成之轉印薄膜漂浮於轉印槽(轉印液)，使轉印薄膜(水溶性薄膜)於被轉印液(坦白講為水)濕潤之狀態下，一面使被轉印體接觸該轉印薄膜一面將轉印薄膜壓入轉印槽內之液中，利用液壓而於被轉印體之表面上轉印形成薄膜上之轉印圖案。再者，於轉印薄膜上如上述般實現利用油墨在水溶性薄膜上形成(印刷)轉印圖案，轉印圖案之油墨為乾燥狀態。因此，轉印時，需要於轉印薄膜上之轉印圖案塗佈活性劑或稀釋劑類，使轉印圖案返回至與剛印刷後相同之濕潤即顯示附著性之狀態，此被稱為活性化。

而且，轉印後自轉印槽中取出之被轉印體大多係藉由水清洗等將半溶解狀之水溶性薄膜除去後乾燥，為保護被轉印體上轉印形成之裝飾層而實施外塗層。然而，此種先前 之液壓轉印中，首先由於外塗層使用溶劑系透明塗料故存在環境負擔較大之問題，且由於外塗層時之不良或塗佈乾燥需要較長時間或能量等原因，導致液壓轉印全體之成本增加。

據此，提出有一種手法，進行液壓轉印時於被轉印體上形成亦具有表面保護功能之轉印圖案，轉印後使其硬化而形成裝飾層，省去外塗層(例如參照專利文獻1、2)。

其中，專利文獻1係如下手法：使用僅水溶性薄膜上僅形成有轉印圖案之先前之轉印薄膜，使用硬化樹脂組合物(液體)作為活性劑，轉印後對被轉印體照射紫外線，藉此使與轉印圖案渾然一體之硬化樹脂組合物(表面保護層)硬化。

又，專利文獻2係如下手法：使用於水溶性薄膜與轉印圖案之間形成有硬化性樹脂層之轉印薄膜，對轉印後之被轉印體進行紫外線等活性能量線之照射或者加熱，藉此使轉印圖案上之硬化性樹脂層硬化。

然而，於液壓轉印中，當被轉印體沒入時(轉印時)，為被轉印體衝撞液面上懸浮之轉印薄膜而使轉印薄膜沒入液中之動作，故沒入後液面上殘留之薄膜業已變成不用於轉印之多餘者(稱為液面殘留薄膜)。又，由於被轉印體衝撞液面上之轉印薄膜，微細之薄膜殘渣(例如水溶性薄膜與油墨混合而成之碎屑狀者)向轉印液中大量分散、釋放，故變成轉印液中滯留者。進而，被轉印體之沒入(轉印)通常係於安裝於夾具之狀態下進行，故沒入時，亦存在夾具 或被轉印體上附著之過剩薄膜於液中剝離而釋放之情形。因此，自轉印液提起之被轉印體之設計面上，有時會附著此種液面殘留薄膜、薄膜殘渣、過剩薄膜等(該等係轉印後殘留於轉印液面或液中之多餘者，故本說明書中將該等統稱為「夾雜物」)。

進而，例如如圖22(a)所示，於被轉印體W在設計面S1具有開口部Wa之情形時，自液面提起時開口部Wa處水溶性薄膜之水溶解物之薄膜M大多伸展，若其繃緊則於被轉印體W之設計面S1附著泡A，或者轉印液L自被轉印體W之突起部或開口部Wa之上緣部等落下至液面時，液面上會產生泡A，且該泡A有時會附著於設計面S1。即，於圖22(a)中，首先夾具J之框上薄膜M伸展，該破裂殘渣之泡A漂浮於轉印液L面上，伴隨出液區域P2之液面移動(伴隨被轉印體W之提起之相對下降)，泡A進入被轉印體W之開口部Wa處伸展的薄膜M，其後該薄膜M之破裂殘渣作為泡A而漂浮於液面上，間接附著於設計面S1、或者作為泡A而直接傳至被轉印體W之表面後附著於設計面S1，其結果變成圖22(b)所示之狀態。

而且，若於該狀態下進行活性能量線之照射或/及加熱之硬化處理，例如如圖22(c)所示，附著有泡A之部位由於泡A之應力或活性能量線之折射等原因，僅該部位產生裝飾層(轉印圖案、表面保護層)之圖案畸變不良、或圖案脫落之不良(所謂之針孔不良)等。當然，此種圖案畸變不良或脫落不良並不限於設計面S1上附著有泡A之情形，於上 述液面殘留薄膜、薄膜殘渣、過剩薄膜等夾雜物附著於設計面S1時亦會產生此現象。此處圖中符號f表示主要被轉印至被轉印體W(設計面S1)等之裝飾層。據此，於液壓轉印時形成具有表面保護功能之轉印圖案之液壓轉印中，使液面殘留薄膜、薄膜殘渣、過剩薄膜、泡A等儘量不附著於設計面S1變得極為重要，尤其係於本發明中，重視自轉印液L出液中之設計面S1上不附著薄膜殘渣或泡A等。

再者，產生圖案畸變不良或脫落不良之物品(液壓轉印品)係一次性實施硬化處理，於圖案畸變或脫落引起凹凸時，無法再一次進行轉印或修正(不可再生)，因此上述不良顯著影響量產性，強烈希望一種從根本上結局不良率之解決手法。

因此，轉印後將液面上懸浮之液面殘留薄膜回收者，係相當於先前使用之例如設於轉印槽之終端(末端)的溢流構造。即，此種溢流構造將轉印後之液面殘留薄膜與轉印液一併回收，並且於回收後之轉印液循環使用時，於中途之路徑中可利用過濾器等而自回收液中將液面殘留薄膜除去、回收。

然而，此種回收手法中，液面殘留薄膜通過出液區域，尤其係於液壓轉印時形成表面保護層之液壓轉印中，並非有效之回收機構，期望一種更有效的回收手法，且業已有提出(例如除了上述專利文獻2以外，參照專利文獻3、4)。

首先，於專利文獻2中，揭示有如下手法：每當進行液壓轉印時自轉印槽之底部向槽內供給水而將水面上之殘留 薄膜自轉印槽全部沖走。又，於專利文獻3中揭示有於被轉印體沒入之期間藉由真空吸附去除水面上之薄膜的手法。進而，於專利文獻4中揭示有如下手法：被轉印體自水槽中提起之後，朝向水槽之一端噴附空氣，將油墨皮膜轉印至被轉印體後之轉印渣或殘渣自水槽之一端沖走。

然而，該等主要係於轉印液面上(水面上)之薄膜回收、殘渣回收，而且不僅構造龐大，且係每進行一次轉印則進行一次薄膜回收、殘渣回收的批次處理方式，故亦費時而導致效率較差，並非理想手法。

[先行技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2005-169693號公報

[專利文獻2]日本專利特開2005-162298號公報

[專利文獻3]日本專利特開2004-306602號公報

[專利文獻4]日本專利特開2006-123264號公報

本發明係認清此種背景後研究而成者，其嘗試開發一種專門針對被轉印體之出液(浮上)之手法、即使自轉印液中提起之被轉印體之設計面不靠近薄膜殘渣或泡等的手法，而且以比較簡單之構造、及低成本便可實現的新穎液壓轉印手法。

首先，技術方案1係一種具備設計面淨化機構之液壓轉 印方法，其係將水溶性薄膜上至少轉印圖案以乾燥狀態形成而成之轉印薄膜於轉印槽內之液面上懸浮支持，自該轉印薄膜之上方按壓被轉印體，藉由所產生之液壓，將轉印圖案主要轉印至被轉印體之設計面側，其特徵在於：於上述轉印槽之被轉印體自轉印液中提起之出液區域內，形成自出液中之被轉印體之設計面遠離的設計面背離流，使轉印液面上之泡或液中滯留之夾雜物遠離出液中之被轉印體之設計面，而排出至轉印槽外。

又，技術方案2之具備設計面淨化機構之液壓轉印方法係如上述技術方案1之要件，其特徵在於：於上述出液區域之左右兩側，在液面附近形成自成為出液中被轉印體之設計面背側的非裝飾面側朝向轉印槽之兩側壁的側部背離流，使轉印液中、液面上滯留之夾雜物遠離出液區域，而排出至轉印槽外。

又，技術方案3之具備設計面淨化機構之液壓轉印方法係如上述技術方案1或2之要件，其特徵在於：於上述出液區域之前段設有排出機構，該排出機構將由於被轉印體之沒入而未使用於轉印且於液面上懸浮之液面殘留薄膜自轉印槽排出，且將被轉印體至出液之前之期間之液面殘留薄膜予以回收，使該薄膜不到達出液區域。

又，技術方案4之具備設計面淨化機構之液壓轉印方法係如上述技術方案1、2或3之要件，其特徵在於： 上述設計面背離流係藉由以與出液中之被轉印體之設計面面對面之方式設置的溢流槽形成。

又，技術方案5之具備設計面淨化機構之液壓轉印方法係如上述技術方案4之要件，其特徵在於：於以與上述出液中之被轉印體之設計面面對面的方式設置之溢流槽之後段，進而設有回收轉印液之溢流槽。

又，技術方案6之具備設計面淨化機構之液壓轉印方法係如上述技術方案4或5之要件，其特徵在於：上述設計面背離流係藉由將不含夾雜物之清澈水、或者自轉印槽回收之轉印液中除去夾雜物後之淨化水等新水，自設計面背離流形成用之溢流槽之下方朝向上游側之出液區域供給而產生。

又，技術方案7之具備設計面淨化機構之液壓轉印方法係如上述技術方案4之要件，其特徵在於：於上述設計面背離流形成用之溢流槽之下方，設有將不含夾雜物之清澈水、或者自轉印槽回收之轉印液中除去夾雜物後之淨化水等新水供給至槽內的新水供給口；且上述設計面背離流係利用自該新水供給口向出液區域朝上供給之新水而形成。

又，技術方案8之具備設計面淨化機構之液壓轉印方法係如上述技術方案7之要件，其特徵在於：自上述新水供給口亦朝向出液區域供給朝下之新水，且於該新水供給口之背面側設有將含薄膜殘渣等夾雜物之轉印液自下方吸起後排出至槽外的虹吸式排出部； 且上述虹吸式排出部之吸入流係利用朝下供給至上述出液區域之新水而形成。

又，技術方案9之具備設計面淨化機構之液壓轉印方法係如上述技術方案8之要件，其特徵在於：上述轉印槽形成為於新水供給口之下方設有錐形狀之傾斜板，且隨著接近槽末端部而槽深度逐漸變淺；上述虹吸式排出部之吸入口係以與該傾斜板之最上端部面對面的方式設置。

又，技術方案10之具備設計面淨化機構之液壓轉印方法係如上述技術方案8或9之要件，其特徵在於：自上述新水供給口亦供給相對於出液區域而大致平行地面向之新水；該新水係於朝上及朝下向上述出液區域供給之雙方之新水之間自新水供給口供給。

又，技術方案11之具備設計面淨化機構之液壓轉印方法係如上述技術方案7、8、9或10之要件，其特徵在於：於上述新水供給口處在供給新水之噴出口部分設有穿孔金屬，自此處向較廣範圍均勻地噴出供給至轉印槽之新水。

又，技術方案12之具備設計面淨化機構之液壓轉印方法係如上述技術方案4、5、6、7、8、9、10或11之要件，其特徵在於：於形成上述設計面背離流之溢流槽上，在作為液回收口之排出口處形成有用以加快導入溢流槽之轉印液之流速的 流速增強用凸緣。

又，技術方案13之具備設計面淨化機構之液壓轉印方法係如上述技術方案1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11或12之要件，其特徵在於：上述轉印槽係以於被轉印體沒入至出液為止之轉印必要區間內，確保被轉印體之設計面埋入轉印液中之深度的方式形成，其他無須轉印區間內形成地較該深度淺。

又，技術方案14之具備設計面淨化機構之液壓轉印方法係如上述技術方案4、5、6、7、8、9、10、11、12或13之要件，其特徵在於：形成上述設計面背離流之溢流槽係形成為於轉印槽之長度方向上自由移動，且以伴隨被轉印體之出液動作，無論被轉印體之位置為前還是為後，被轉印體之設計面與溢流槽之距離均大致維持固定的方式移動。

又，技術方案15之具備設計面淨化機構之液壓轉印方法係如上述技術方案2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13或14之要件，其特徵在於：上述側部背離流係藉由設於出液區域之左右兩側之溢流槽而形成者；且該溢流槽之作為液回收口的排出口處形成有用以加快導入溢流槽之轉印液之流速的流速增強用凸緣。

又，技術方案16之具備設計面淨化機構之液壓轉印方法係如上述技術方案15之要件，其特徵在於：於上述出液區域內，進行將該區域液面上產生之泡或夾 雜物推向轉印槽之任一側壁的送風，排出轉印液中、液面上滯留之夾雜物，同時亦將該區域液面上之泡或夾雜物藉由側部背離流形成用之溢流槽回收而排出至槽外。

又，技術方案17之具備設計面淨化機構之液壓轉印方法係如上述技術方案15或16之要件，其特徵在於：於形成上述側部背離流之溢流槽之前段，設有用以回收上述液面殘留薄膜之溢流槽；且於該溢流槽之回收液面殘留薄膜之排出口之中途部分設有遮斷液回收之遮斷機構，且自遮斷機構前後回收液面殘留薄膜。

又，技術方案18之具備設計面淨化機構之液壓轉印方法係如上述技術方案17之要件，其特徵在於：將上述液面殘留薄膜回收時，自被轉印體沒入轉印液中直至出液為止之期間，藉由分割機構將液面殘留薄膜於轉印槽之長度方向上分割，使分斷後之液面殘留薄膜靠在轉印槽之兩側壁，藉由上述液面殘留薄膜回收用之溢流槽而進行回收。

又，技術方案19之具備設計面淨化機構之液壓轉印方法係如上述技術方案1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16或18之要件，其特徵在於：對上述被轉印體施加之液壓轉印係應用水溶性薄膜上僅轉印圖案以乾燥狀態形成者作為轉印薄膜，且使用液體狀之硬化性樹脂組合物作為活性劑；或者應用水溶性薄膜與轉印圖案之間具有硬化性樹脂層 的轉印薄膜作為轉印薄膜中之任一者；藉由液壓轉印而於被轉印體上形成亦具有表面保護功能之轉印圖案，藉由轉印後之活性能量線照射或/及加熱而使其硬化。

又，技術方案20係一種具備設計面淨化機構之液壓轉印裝置，其包括：轉印槽，其蓄積轉印液；轉印薄膜供給裝置，其向該轉印槽供給轉印薄膜；及被轉印體搬送裝置，其對轉印槽之液面上變成活性化狀態之轉印薄膜，自上方按壓被轉印體；將水溶性薄膜至少轉印圖案以乾燥狀態形成而成之轉印薄膜，於轉印槽內之液面上懸浮支持，自該轉印薄膜之上方按壓被轉印體，藉由所產生之液壓，將轉印圖案主要轉印至被轉印體之設計面側；其特徵在於：於上述被轉印體自轉印液中提起之出液區域設有對自轉印液中上浮狀態之被轉印體之設計面起作用的背離流形成機構，而形成自出液中之被轉印體之設計面遠離的設計面背離流，藉此使轉印液面上之泡或液中滯留之夾雜物遠離出液中之被轉印體之設計面，而排出至轉印槽外。

又，技術方案21之具備設計面淨化機構之液壓轉印裝置係如上述技術方案20之要件，其特徵在於：於上述出液區域之左右兩側，設有回收液面附近之轉印液之排出機構，形成自成為出液中被轉印體之設計面背側的非裝飾面側朝向轉印槽之兩側壁之側部背離流，藉此使 轉印液中、液面上滯留之夾雜物遠離出液區域，而排出至轉印槽外。

又，技術方案22之具備設計面淨化機構之液壓轉印裝置係如上述技術方案20或21之要件，其特徵在於：於上述出液區域之前段設有排出機構，自轉印槽中排出由於被轉印體之沒入而未使用於轉印且於液面上懸浮之液面殘留薄膜，以將被轉印體至出液之前之期間之液面殘留薄膜予以回收，使該薄膜不會到達出液區域。

又，技術方案23之具備設計面淨化機構之液壓轉印裝置係如上述技術方案20、21或22之要件，其特徵在於：上述設計面背離流係藉由以與出液中之被轉印體之設計面面對面之方式設置的溢流槽而形成。

又，技術方案24之具備設計面淨化機構之液壓轉印裝置係如上述技術方案23之要件，其特徵在於：於上述以與出液中之被轉印體之設計面面對面之方式設置的溢流槽之後段，進而設有回收轉印液之溢流槽。

又，技術方案25之具備設計面淨化機構之液壓轉印裝置係如上述技術方案23或24之要件，其特徵在於：上述設計面背離流係藉由將不含夾雜物之清澈水、或者自轉印槽回收之轉印液中除去夾雜物後之淨化水等新水，自設計面背離流形成用之溢流槽之下方朝向上游側之出液區域供給而產生。

又，技術方案26之具備設計面淨化機構之液壓轉印裝置係如上述技術方案23之要件，其特徵在於： 於上述設計面背離流形成用之溢流槽之下方，設有向槽內供給不含夾雜物之清澈水、或者自轉印槽回收之轉印液中除去夾雜物後之淨化水等新水的新水供給口；且上述設計面背離流係利用自該新水供給口朝下供給至出液區域之新水而形成。

又，技術方案27之具備設計面淨化機構之液壓轉印裝置係如上述技術方案26之要件，其特徵在於：自上述新水供給口亦向出液區域供給朝下之新水；且於該新水供給口之背面側設有將含有薄膜殘渣等夾雜物之轉印液自下方吸起後排出至槽外之虹吸式排出部；上述虹吸式排出部之吸入流係利用朝下供給至上述出液區域之新水而形成。

又，技術方案28之具備設計面淨化機構之液壓轉印裝置係如上述技術方案27之要件，其特徵在於：上述轉印槽係形成為於新水供給口之下方設有錐形狀之傾斜板，且隨著接近槽末端部而槽深度逐漸變淺；且上述虹吸式排出部之吸入口係以與該傾斜板之最上端部面對面之方式設置。

又，技術方案29之具備設計面淨化機構之液壓轉印裝置係如上述技術方案27或28之要件，其特徵在於：自上述新水供給口亦供給相對於出液區域大致平行朝向之新水；且該新水係於朝上及朝下供給至上述出液區域之雙方之新水之間自新水供給口供給。

又，技術方案30之具備設計面淨化機構之液壓轉印裝置係如上述技術方案26、27、28或29之要件，其特徵在於：於上述新水供給口處，在供給新水之噴出口部分設有穿孔金屬，於此處向較廣範圍均勻地噴出供給至轉印槽之新水。

又，技術方案31之具備設計面淨化機構之液壓轉印裝置係如上述技術方案23、24、25、26、27、28、29或30之要件，其特徵在於：於形成上述設計面背離流之溢流槽之作為液回收口之排出口處，形成有用以加快導入溢流槽之轉印液之流速的流速增強用凸緣。

又，技術方案32之具備設計面淨化機構之液壓轉印裝置係如上述技術方案20、21、22、23、24、25、26、27、28、29、30或31之要件，其特徵在於：上述轉印槽形成為於被轉印體沒入直至出液為止之轉印必要區間內，確保被轉印體之設計面埋入轉印液中之深度，其他無須轉印區間內形成地較該深度淺。

又，技術方案33之具備設計面淨化機構之液壓轉印裝置係如上述技術方案23、24、25、26、27、28、29、30、31或32之要件，其特徵在於：上述形成設計面背離流之溢流槽係形成為於轉印槽之長度方向上自由移動，且以伴隨被轉印體之出液動作，無論被轉印體之位置為前還是為後，被轉印體之設計面與溢流槽之距離均維持大致固定的方式移動。

又，技術方案34之具備設計面淨化機構之液壓轉印裝置係如上述技術方案21、22、23、24、25、26、27、28、29、30、31、32或33之要件，其特徵在於：作為形成上述側部背離流之排出機構，係應用設於出液區域之左右兩側之溢流槽；且於該溢流槽之作為液回收口之排出口處，形成有用以加快導入溢流槽之轉印液之流速的流速增強用凸緣。

又，技術方案35之具備設計面淨化機構之液壓轉印裝置係如上述技術方案34之要件，其特徵在於：於上述轉印槽上設有將出液區域之液面上產生之泡或夾雜物推向轉印槽之任一側壁之送風機，且排出轉印液中、液面上滯留之夾雜物之同時亦將該區域液面上之泡或夾雜物自側部背離流形成用之溢流槽排出至槽外。

又，技術方案36之具備設計面淨化機構之液壓轉印裝置係如上述技術方案34或35之要件，其特徵在於：於形成上述側部背離流之溢流槽之前段，設有用以回收上述液面殘留薄膜之溢流槽；且於該溢流槽之回收液面殘留薄膜之排出口之中途部分，設有遮斷液回收之遮斷機構，且自遮斷機構前後回收液面殘留薄膜。

又，技術方案37之具備設計面淨化機構之液壓轉印裝置係如上述技術方案36之要件，其特徵在於：於回收上述液面殘留薄膜之溢流槽之前段，設有將剛轉印後之液面殘留薄膜於轉印槽之長度方向上分斷的分割機 構；且於回收液面殘留薄膜時，自被轉印體沒入轉印液中直至出液為止之期間，藉由溢流槽而回收經分割機構分斷後之液面殘留薄膜。

又，技術方案38之具備設計面淨化機構之液壓轉印裝置係如上述技術方案20、21、22、23、24、25、26、27、28、29、30、31、32、33、34、35、36或37之要件，其特徵在於：作為上述轉印薄膜，係應用水溶性薄膜上僅轉印圖案以乾燥狀態形成者，或應用水溶性薄膜與轉印圖案之間具有硬化性樹脂層者之任一者，進而於應用水溶性薄膜上僅轉印圖案以乾燥狀態形成之薄膜的情形時，係使用液體狀之硬化性樹脂組合物作為活性劑；藉此液壓轉印時於被轉印體上形成亦具有表面保護功能之轉印圖案，藉由轉印後之活性能量線照射或/及加熱而使其硬化。

以該等各技術方案之發明之構成為手段而解決上述問題。

首先，根據技術方案1或20之發明，相對於出液中之被轉印體而形成自設計面遠離之方向上之設計面背離流，故泡或薄膜殘渣等夾雜物難以附著於設計面上，可獲得美觀之轉印製品(被轉印體)。又，由於設計面上難以附著泡或夾雜物，故可精緻地將轉印圖案轉印，從而難以產生圖案 畸變或變形。

又，根據技術方案2或21之發明，於出液區域之左右兩側形成有側部背離流，故轉印液中滯留之薄膜殘渣等夾雜物、或轉印液面上產生之泡藉由該側部背離流而排出至轉印槽外，從而可獲得更美觀之轉印製品(被轉印體)。

又，根據技術方案3或22之發明，自被轉印體之沒入後直至出液為止之間回收液面殘留薄膜，故液面殘留薄膜不會到達出液區域，可獲得進一步美觀之轉印製品(被轉印體)。

又，根據技術方案4或23之發明，形成設計面背離流之手法被具體化，可使設計面背離流確實地作用於自轉印液中出液之被轉印體之設計面。又，作用、目的雖不相同，但溢流槽係此種轉印槽(液壓轉印手法)自先前便使用者，故就液壓轉印裝置之設計上之觀點而言，且亦自實施液壓轉印方法之觀點而言，係易於採用者。

又，根據技術方案5或24之發明，於設計面背離流形成用之溢流槽(第1段OF槽)之後段進而設有溢流槽(第2段OF槽)，故可以如下方式控制轉印槽內之液體之流動。首先，由於第1段OF槽變成液流阻力，故於大致設有第1段OF槽之高度(深度)之中層流變成於該OF槽下方通過之流動。即，中層流於即將到達第1段OF槽之前變成向該OF槽下方潛入之朝下流動，通過第1段OF槽之後變成朝上流動。另一方面，於較中層流更高位置(液位準)流動之上層流(轉印槽中之表面流)被第1段OF槽直接回收。又，於較 中層流更低位置流動的下層流(於轉印槽之底部流動之液流)亦不受第1段OF槽左右，而維持水平流動，故產生中層流所含之夾雜物難以沈降、滯留於轉印槽之底部之屏障效果。又，通過第1段OF槽之後，中層流變成朝上流動，由此下層流被抽出至上側，藉由該等中層流、下層流之朝上流動而將轉印液中尤其認為大多包含於中層流之下面的夾雜物送至第2段OF槽，於此可有效地進行回收。

又，根據技術方案6或25之發明，利用自設計面背離流形成用之溢流槽下方供給之新水而生成設計面背離流，故與將回收後之轉印液大體直接作為設計面背離流重新利用的情形相比，可獲得尤其美觀之轉印製品(被轉印體)。

又，根據技術方案7或26之發明，係利用自設計面背離流形成用之溢流槽之下方朝下供給至出液區域之新水(不含夾雜物之清澈水、或自回收液中除去夾雜物後之淨化水)而生成設計面背離流，故可更確實地形成沿出液中之被轉印體之設計面而自下方朝向上方的流動(設計面背離流)。又，與將所回收之轉印液大體直接作為設計面背離流重新利用之情形相比，可獲得尤其美觀之轉印製品(被轉印體)。

又，根據技術方案8或27之發明，於將新水朝下供給至出液區域之新水供給口之背面側設有虹吸式排出部，故可將轉印液、尤其係中層水中滯留之薄膜殘渣等夾雜物以朝向轉印槽下方(底部)的方式移送之後(流過後)，於此處吸起而有效地進行回收。因此，可使夾雜物不會向上方之出 液區域上升，從而可將出液區域維持為清潔狀態。又，即便虹吸式排出部未將轉印液完全吸起，於轉印槽內新水變成吸入流而形成朝向吸入口之流動(朝下流動)，故可於轉印槽底部形成加快朝下之沈澱分離的流動。

又，根據技術方案9或28之發明，於處理槽之末端底部設有錐形狀之傾斜板，並且將虹吸式排出部之吸入口設為與該傾斜板之最上端部面對面，故可藉由朝下供給至出液區域的新水，而更有效地形成虹吸式排出部之吸入流。即，可使沿傾斜板之傾斜上升之轉印液之流動維持其勢頭而有效地進入虹吸式排出部之吸入口，從而可更容易地利用新水形成吸入流。

又，根據技術方案10或29之發明，於自新水供給口朝上及朝下供給之新水之間，亦供給相對於出液區域而平行朝向之新水，故加快朝上及朝下供給之新水之作用(防止相互阻礙)，有助於擴大出液區域之清潔區域。

又，根據技術方案11或30之發明，於新水供給口之噴出口部分設有穿孔金屬，故於此向較廣範圍均勻地噴出供給至轉印槽之新水，可防止部分新水以直進狀態供給之情形。

又，根據技術方案12或31之發明，於形成設計面背離流之溢流槽形成有流速增強用之凸緣，故可更確實地回收主要於出液區域在設計面側之液面附近懸浮的夾雜物或液面上之泡等。

又，根據技術方案13或32之發明，轉印槽形並非遍及全 長(長度方向)以相同深度(被轉印體完全沒入轉印液中之深度)形成，而是將薄膜供給端部等不用於轉印之部位形成地較淺，故與全體形成為相同深度之情形相比，轉印槽內收容之轉印液只要少量便可。

又，根據技術方案14或33之發明，設計面背離流形成用之溢流槽可於轉印槽之長度方向上移動，且於此狀態下即便被轉印體與溢流槽之距離因出液發生變化時，藉由追隨該變化而使溢流槽前後移動，可將該距離大致維持固定(可將對於溢流槽之出液位置固定)，從而可進一步確實地回收泡或夾雜物。

又，根據技術方案15或34之發明，側部背離流係藉由溢流槽而形成，且該溢流槽上形成有流速增強用之凸緣，故可更確實地回收主要於出液區域在非裝飾面側之液面附近懸浮的夾雜物或液面上之泡等。

又，根據技術方案16或35之發明，除了藉由溢流槽形成側部背離流之外，利用送風而將出液區域液面上產生之泡或夾雜物送入任一溢流槽，故藉由該等之協同效果，實現出液區域之高清潔化(液中及液面上)。即，可更高水準地防止出液區域之液面上及液中產生之泡或夾雜物等向設計面側迴繞。

又，根據技術方案17或36之發明，藉由側部背離流形成用之溢流槽之前段所設的溢流槽而回收液面殘留薄膜，且於該溢流槽上設有遮斷液回收之遮斷機構，故即便利用同一個溢流槽亦可分遮斷機構之前後兩階段回收液面殘留薄 膜，且亦可藉由遮斷機構而控制回收之誘導流速。因此，液面殘留薄膜不會整體被拉拽(不會對轉印位置上之轉印薄膜產生惡劣影響)，從而可確實地回收液面殘留薄膜。

又，根據技術方案18或37之發明，液面殘留薄膜之回收係先被分斷後被回收，故轉印後可迅速且確實地回收液面殘留薄膜。又，液面殘留薄膜不會到達出液區域，且亦可防止轉印液中逐漸上升之被轉印體之設計面上附著液面殘留薄膜。

又，於本發明中，係將液面殘留薄膜分斷後回收，故不會將未轉印薄膜整體拉拽，可使轉印位置等轉印前之轉印薄膜不產生變形地回收。

又，根據技術方案19或38之發明，藉由液壓轉印而於被轉印體形成亦具有表面保護功能之轉印圖案，且藉由事後之活性能量線照射或/及加熱使其硬化，故重要的是自轉印液中提起之被轉印體上不會附著薄膜殘渣等夾雜物或泡等，且此種液壓轉印(形成亦具有表面保護功能之轉印圖案的液壓轉印)可於極低不良率下進行。

以下之實施例所述者僅為用以實施本發明之形態之一，並且用以實施本發明之形態進而包含於其技術思想內可改良而得之各種手法。

再者，進行說明時，首先說明本發明中較佳使用之轉印薄膜F，之後說明液壓轉印裝置1之全體構成。

[實施例]

首先，說明本發明中較佳使用之轉印薄膜F。本發明中，進行液壓轉印時，較佳為並非僅將轉印圖案轉印至被轉印體W，而是轉印一併具有表面保護功能之轉印圖案(本說明書中，將此種轉印圖案稱為「亦具有表面保護功能之轉印圖案」)，無需如先前般在轉印後施加之外塗層。即，於亦賦與表面保護功能之液壓轉印中，藉由向轉印後之被轉印體W照射例如紫外線或電子束等活性能量線，藉此使利用液壓轉印形成之轉印圖案硬化，從而實現表面保護。當然，亦可將具有表面保護功能之轉印圖案轉印之後，進而施加外塗層。

據此，即便於轉印薄膜F較佳應用水溶性薄膜(例如PVA；聚乙烯醇)上僅形成有轉印油墨之轉印圖案之薄膜、或者於水溶性薄膜與轉印圖案之間形成有硬化性樹脂層的薄膜，尤其係使用於水溶性薄膜上僅形成有轉印圖案之轉印薄膜F的情形時，係使用液體狀之硬化樹脂組合物作為活性劑。此處，所謂硬化樹脂組合物較佳為包含光聚合性聚合物之無溶劑類型之紫外線或電子束硬化樹脂組合物。

當然，即便於使用水溶性薄膜上僅形成有轉印圖案之轉印薄膜F，液壓轉印時不賦與表面保護功能，其後施加通常之外塗層而實現表面保護的情形時(先前之液壓轉印手法)，亦可應用作為本發明之特徵性構成的設計面淨化機構9。

此處，作為轉印圖案，可列舉木紋式樣之圖案、金屬(光澤)式樣之圖案、大理石紋樣等模仿岩石表面之石紋式 樣之圖案、模仿布紋或布狀式樣之布料式樣之圖案、瓷磚式樣、砌磚式樣等之圖案、幾何學式樣、具有全息圖效果之圖案等各種圖案，進而亦可為該等圖案適當複合而成者。再者，關於上述幾何學式樣，當然包括圖形，且亦包含施加有文字、寫真之圖案。

又，若對被轉印體W之面進行定義，首先將形成裝飾層的轉印面稱為設計面S1，該設計面S1係要求精緻之轉印之面，且係沒入時與轉印液面上漂浮之轉印薄膜F(轉印圖案)對向的面。此處，如上述般，尤其係於液壓轉印時形成亦具有表面保護功能之轉印圖案的情形時，使被轉印體W之設計面S1上儘量不附著液面殘留薄膜F'、過剩薄膜、薄膜殘渣、泡A等。

另一方面，將被轉印體W上未形成有裝飾層之面(無需液壓轉印之面)稱為非裝飾面S2，其上即便附著上述薄膜殘渣、泡A等亦可(例如即便以自設計面S1側迴繞之轉印圖案畸變之狀態轉印亦可)。

因此，換言之，設計面S1係完成品將被轉印體W(液壓轉印品)最終作為組件等組裝之狀態下外觀可見之部分，非裝飾面S2係組裝狀態下外觀不可見之部分，且大多為設計面S1之背側。

其次，對液壓轉印裝置1進行說明。作為一例，如圖1、2所示，液壓轉印裝置1包括貯留轉印液L之轉印槽2、向該轉印槽2供給轉印薄膜F之轉印薄膜供給裝置3、使轉印薄膜F活性化而使其變成可轉印之狀態的活性劑塗佈裝置4、 及自懸浮支持於轉印槽2之轉印薄膜F上方以適宜之姿勢將被轉印體W投入(沒入)且出液(提起)的被轉印體搬送裝置5。

進而，轉印槽2包括：薄膜保持機構6，保持供給至轉印液面上之轉印薄膜F之兩側；液面殘留薄膜回收機構7，將被轉印體W沒入後不再需要之液面殘留薄膜F'自轉印槽2回收(排出)；出液區域淨化機構8(出液之被轉印體W之主要的非裝飾面S2側(設計面S1之相反側))，主要實現出液區域之淨化；設計面淨化機構9，實現出液區域內浮上之被轉印體W之設計面S1側之淨化；及伸展下降防止機構10，藉由除去自著液之轉印薄膜F脫離而流出至轉印液面上之活性劑成分K，防止供給至轉印液L面上之轉印薄膜F之伸展下降；尤其於本發明中設計面淨化機構9為必需者。以下，對各構成部進行說明。

首先，說明轉印槽2。轉印槽2係進行液壓轉印時對轉印薄膜F懸浮支持之部位，主要構成構件為能夠將轉印液L以大致固定液位準(水位)貯留之處理槽21。因此，處理槽21係為頂面開口，前後左右被壁面包圍之有底狀，尤其係於構成處理槽21之左右兩側之兩側壁附加符號22。

此處，將處理槽21中被處理體W投入至轉印液L中之位置(入射位置)設為沒入區域P1，被處理體W自轉印液L中提起之位置(出射位置)設為出液區域P2。因此，於液壓轉印中，被轉印體W沒入之同時執行並完成轉印，故上述沒入區域P1亦可稱為轉印位置(轉印區域)。又，上述名稱中主 要係使用「區域」之用詞，原因在於通常轉印位置會根據轉印薄膜F之轉印圖案之種類或狀態而前後移動，或者具有某種程度之寬度之設計面S1上為轉印轉印薄膜F(轉印圖案)，被轉印體W之沒入/出液大多係以相對於液面具有某種程度之角度之狀態(某種程度之範圍或寬度)而進行。因此，沒入角並非必須自被轉印體W開始沒入直至沒入結束為止維持固定，對於出液角而言亦相同，並非必須自被轉印體W開始出液直至出液結束為止維持固定。

再者，轉印槽2(處理槽21)係以進行液壓轉印時被轉印體W移動之沒入至出液方向為長度方向的方式、即沒入區域P1朝向出液區域P2為長度方向之方式形成。當然，本實施例中，所謂「(轉印槽2之)長度方向」亦相當於轉印槽2之液面上形成之液流方向。

而且，本實施例中，被轉印體W沒入至轉印液L之期間，係將液面上殘留之薄膜(不用於轉印之無用液面殘留薄膜F')於轉印槽2之長度方向(液流方向/沒入區域P1~出液區域P2之方向)上分斷，故上述沒入區域P1與出液區域P2之間隔係設為某種程度之距離。再者，於轉印槽2之長度方向上被分斷之液面殘留薄膜F'之後靠向(送往)轉印槽2之兩側壁22，並於此被排出(回收)至轉印槽2外。

又，處理槽21內，例如於液面附近(表層部分)形成將轉印液L自薄膜供給側(上游側)送往出液區域P2(下游側)之液流。具體而言，於靠近轉印槽2之下游端附近設置溢流槽(下述溢流槽82、92、97等)，並且將此處所回收之轉印液 L淨化之後，一部分自轉印槽2之上游部分循環供給，藉此於轉印液L之液面附近形成上述液流。因此，回收後之轉印液L之淨化，可列舉例如藉由沈澱槽或過濾環等將轉印液L中分散、滯留之過剩薄膜或薄膜殘渣等夾雜物自回收液(懸浮液)中除去的手法。

又，於處理槽21之兩側壁22之內側設置有作為薄膜保持機構6之輸送機61，其藉由保持供給至液面上之轉印薄膜F之兩側，而將轉印薄膜F以與轉印液L之液流相同速度自上游側移送至下游側。當然，供給至轉印液面上之轉印薄膜F(尤其係水溶性薄膜)在著液之後會逐漸向四面不斷延展(延伸)，故上述薄膜保持機構6(輸送機61)亦發揮自兩側規制該薄膜之延伸之作用。即，薄膜保持機構6(輸送機61)係以將轉印薄膜F之延伸維持為大致固定之狀態而將轉印薄膜F移送至至少沒入區域P1(轉印位置)為止，藉此於轉印位置上轉印薄膜F之延伸每次均維持為相同程度，可以連續地進行精緻之轉印。

如此，薄膜保持機構6(輸送機61)不僅擔負轉印薄膜F之移送作用，且亦發揮將轉印位置之薄膜之延伸維持固定之作用(規制延伸之作用)，於本說明書中將該等統稱為「薄膜之保持作用」。因此，於本實施例中，該薄膜之保持作用係於回收液面殘留薄膜F'之部位被解除，其詳細說明於下文敍述。

作為薄膜保持機構6之輸送機61作為一例如圖5所示，係於複數之滑輪62上捲繞環狀之皮帶63而成，皮帶63分為接 觸轉印薄膜F之兩側而予以保持之軌道部分(一面保持薄膜一面以與液流大致相同之速度將薄膜送往下游方向，故稱為「去路皮帶63G」)、以及於其外側配置於靠近側壁22之位置上的回路部分(將其稱為「回路皮帶63B」)。

又，複數之滑輪中設於薄膜供給側(上游側)者為始端滑輪62A，設於終端部分(液面殘留薄膜回收用之溢流槽側)之滑輪為終端滑輪62B。進而，於該等始端滑輪62A與終端滑輪62B之中途部分，自側方支持去路皮帶63G者為中繼滑輪62C(此處為兩台)。

因此，本實施例中，終端滑輪62B被輸入有馬達等之驅動。

始端滑輪62A、終端滑輪62B、中繼滑輪62C均將旋轉軸64設定於大致鉛垂方向上，且將擔負薄膜之保持作用之去路皮帶63G自身之寬度方向設定為轉印液L之深度(高度)方向，目的在於考慮即便轉印槽2內之液位準發生變化，亦可以皮帶63之寬度尺寸對應，可無須使輸送機61全體上下移動即可完成(易於對應轉印槽2之液位準變化的構造)。

另一方面，回路皮帶63B於設有中繼滑輪62C之部位以軌跡之一部分向下方垂下之方式處理(即折返狀態)，藉由適當變更該垂下部分之長度尺寸而調整施加於皮帶63全體上之張力(因此，將該垂下部位設為張力調整部63C)。

張力調整部63C包括設於中繼滑輪62C兩側之位置固定滑輪62D、及設於其下方之上下移動滑輪62E之共計三個滑輪，於實際之張力調整時，例如欲縮短輸送機61之俯視 尺寸、即始端滑輪62A至終端滑輪62B為止外觀上之全長的情形時，藉由使上下移動滑輪62E下降，伸長張力調整部63C之向下方折返之長度，不改變皮帶63之全長而可縮短輸送機61之外觀上之俯視尺寸。

又，構成張力調整部63C之位置固定滑輪62D與上下移動滑輪62E之旋轉軸64係設定為與轉印槽2之側壁22大致正交之水平狀態。因此，張力調整部63C(垂下部分)中，皮帶63之寬度方向係設定為大致水平，且皮帶63之姿勢於回路部分改變90度(扭轉)。即，於回路皮帶63B之自終端滑輪62B直至位置固定滑輪62D之軌跡部分、及位置固定滑輪62D至始端滑輪62A之軌跡部分，皮帶63扭轉90度。

因此，於圖5中，張力調整部63C係設於兩處，但既可設於一處，亦可設於三處以上。

再者，若考慮轉印薄膜F之各種不同寬度尺寸，則此種薄膜保持機構6(輸送機61)較佳構成為能自由調整左右之去路皮帶63G之間隔(寬度尺寸)，以下對其進行說明。作為此種構成(寬度尺寸調整功能)，例如如圖5之放大圖所示，可列舉將旋轉自由地支持中繼滑輪62C之臂桿65相對於轉印槽2之側壁22自由伸出(自由伸縮)地設置之手法(所謂之伸縮式)。再者，臂桿65係藉由夾板66等而能以任意位置(伸出尺寸)固定。

又，本實施例中，對於始端滑輪62A而言亦藉由相同手法，相對於轉印槽2之寬度方向而伸出自由地設置。因此，即便於對應轉印薄膜F而變更左右之去路皮帶63G之間 隔的情形時，係進行張力調整部63C之調整、即使上下移動滑輪62E上下移動而調整皮帶63全體之張力。

再者，作為將中繼滑輪62C或始端滑輪62A相對於側壁22(轉印槽2)而伸出自由地設置之其他手法，亦考慮將支持滑輪62C、62A之臂桿65相對於轉印槽2之側壁22轉動自由地設置，使該臂桿65藉由夾板66等而以任意轉動位置(角度)固定的手法(所謂之擺動式)。當然，亦可將此種伸縮式與擺動式隨意組合而使用。

又，於本實施例中，作為薄膜保持機構6係採用皮帶63，但亦可使用鏈條或較粗之絞合線等。

又，於處理槽21之薄膜供給側(上游側)上方，設有送風機26，藉此實現轉印薄膜F向周圍之均勻延展，同時輔助轉印薄膜F向下游側之行進。

此處，送風機26之送風之較大特徵在於使風直接作用(碰觸)於轉印薄膜F。即，送風機26係立意於對轉印薄膜F自身送風之手法，以風力使轉印薄膜F強制向周圍擴張(伸展)。

又，送風機26亦發揮輔助承擔轉印薄膜F向下游側之移送作用，故其送風方向係專門自上游側朝向下游側之一方向。當然，送風機26之安裝位置亦係設定於轉印槽2之中心位置(寬度中央)。

進而，送風機26係使風直接作用於轉印薄膜F，故風量設定地比較強(多)，考慮伴隨此之波動會波及到轉印位置(沒入區域P1)。因此，為防止該情形，較佳為於轉印槽2 內之自送風機26直至轉印位置為止之間設置消波板等，實現轉印液面之穩定化、尤其係轉印位置上之液面穩定化。

其次，對液面殘留薄膜回收機構7進行說明。液面殘留薄膜回收機構7係於被轉印體W沒入後將轉印液L面上殘留之液面殘留薄膜F'回收的機構，藉此使液面殘留薄膜F'不會到達出液區域P2。即，轉印薄膜F因被轉印體W沒入而如例如圖1所示，變成被衝撞之狀態(此處為形成橢圓狀之孔之狀態)，被衝撞之部分主要與被轉印體W一併沒入液中，藉由液壓而變成附著轉印於設計面S1之部位，殘留於液面上之薄膜(以開口狀態懸浮之薄膜)並不用於轉印而變成多餘的部位(此為液面殘留薄膜F')。此種液面殘留薄膜F'若持續放置則變成污染轉印液L之主要原因，且若液面殘留薄膜F'到達下游之出液區域P2，則會附著於自轉印液中提起之被轉印體W(設計面S1)上，故於本實施例中，將該液面殘留薄膜F'於轉印後儘快且確實地回收。具體而言，首先將液面殘留薄膜F'於轉印槽2之長度方向(液流方向/沒入區域P1~出液區域P2之方向)上分斷，使其靠向(推向)轉印槽2之兩側壁22，且於此處排出至槽外。

因此，作為液面殘留薄膜回收機構7，包括將液面殘留薄膜F'於長度方向(液流方向/沒入區域P1~出液區域P2之方向)上分割之分割機構71、以及將上述液面殘留薄膜F'於轉印槽2之側壁22部分排出至槽外的排出機構72，以下對該等機構進行說明。

首先說明分割機構71。分割機構71係於被轉印體W沒入 後即轉印後將液面殘留薄膜F'快速分斷(分支)者，此處係採用一面不接觸薄膜一面確實地分斷之送風手法。具體而言，作為一例，如圖1所示，將送風機73設於處理槽21之一方之側壁22上，自此處向液面上之液面殘留薄膜F'吹風。此處，於上述說明中，僅記載有「送風機(73)」，但該用語包含連接於送風機之延長管及噴嘴等。

又，於上述說明中，記載有快速進行液面殘留薄膜F'之分斷，但考慮到分割機構71之分斷作用(此處為風量)會導致轉印位置(沒入區域P1)之轉印薄膜F變形(回湧等之圖案畸變)、應力等之惡劣影響，而無法精緻地進行轉印，故分割機構71之作用波及之範圍係以不對轉印位置造成惡劣影響的方式(例如隔開某種程度之距離)而設置。換言之，作為分割機構71之送風機73之風量(風力)係考慮不對轉印位置造成惡劣影響而設定地比較弱。因此，作為分割機構71之送風機73較佳為對應轉印位置之前後移動，使設置位置能夠沿轉印槽2之長度方向自由移動，藉此不會對轉印位置造成惡劣影響，且發揮分斷作用之適當位置設定變得容易。

此處，對上述送風機73對液面殘留薄膜F'之分斷狀況進行說明。液面殘留薄膜F'藉由來自送風機73之送風而被左右分開，尤其係液面殘留薄膜F'中開始分斷之地點被設為分斷開始地點P3。又，液面殘留薄膜F'藉由送風而自該分斷開始地點P3呈大致圓弧狀或大致V字狀分開，恰好如線般，故將該薄膜分開線定義為分斷線FL。當然，分斷線 FL之端緣附近逐漸溶解，一面散開一面利用送風或液流而靠向兩側壁22。因此，圖4中分斷線FL係於分斷開始地點P3附近以明確的實線繪出，而於自此隔開之側壁22部位則係以虛線繪出。

因此，本實施例中，乍一看認為並無使分斷後之液面殘留薄膜F'靠向兩側壁22之作用構件，但作為上述分割機構71之送風機73亦發揮使分斷後之液面殘留薄膜F'靠向側壁22的作用。當然，形成於轉印槽2之液流亦輔助該作用。

又，於本實施例中，作為分割機構71之送風機73係設於一方之側壁22上，將液面殘留薄膜F'分成兩份，故向兩側壁22之分割比率作為一例為約8：2~7：3左右之比例。當然，將液面殘留薄膜F'分割時，亦可將左右之側壁22均等地分斷，該情形時通常係於轉印槽2之寬度中央設置分割機構71(送風機73)，且需要考慮與位於轉印槽2之寬度中央之被轉印體搬送裝置5之設置態樣。

再者，作為分割機構71之送風機73並非必須限定為一台，亦可將兩台以上組合使用，此為如上述般使送風機73之風量不會不合理地多(強)的對策。具體而言，例如如圖1一併所示，設有送風機73之側壁22上，進而設置小型之輔助送風機73a，確實地擠入以較多地回收液面殘留薄膜F'。

當然，輔助送風機73a之送風方向並非必須限定於圖1之態樣，例如如圖6所示，亦可將輔助送風機73a之送風方向設定為與主線之送風機73之送風方向大致吻合。因此，於該圖6之實施例中，液面殘留薄膜F'最終被分為三份，且 於三處被回收，因此本實施例中，液面殘留薄膜F'之分割態樣並非必須限定為分成兩份(並非必須限定於兩處回收)。即，可根據轉印薄膜F之性狀或分割、回收之狀況等而採用各種分割形態、回收形態。

進而，例如圖7係設置三台送風機(主送風機為73、輔助送風機為73a、73b)作為分割機構71之實施例，由於輔助送風機73a之風量較弱(難以較大)，故最後藉由另一輔助送風機73b而將分斷後之液面殘留薄膜F'之一方確實地推向橫方向。

再者，藉由送風而分斷液面殘留薄膜F'之上述手法可以非接觸狀態將液面殘留薄膜F'分斷(送風機73自身不與薄膜直接接觸而分斷)，實現難以對轉印位置之轉印薄膜F產生變形等惡劣影響的效果。

其次，對液面殘留薄膜回收機構7之排出機構72進行說明。排出機構72係將推向轉印槽2之側壁22之液面殘留薄膜F'回收而將其排出至轉印槽2外者，於本實施例中，係應用設於處理槽21之左右兩側壁22內側之溢流槽75。此處，於溢流槽75上，係以將液面殘留薄膜F'與轉印液L一併導入之回收口設為排出口76。

又，採用此種溢流之排出構造，而如上述般在排出口76處解除薄膜保持機構6(此處為使用皮帶63之輸送機61)對薄膜之保持作用，藉此容易將推向兩側壁22之液面殘留薄膜F'排出(回收)。換言之，若溢流槽75之排出口76處存在皮帶63，則皮帶63會堵住排出口76，恰好阻礙液面殘留薄膜 F'之排出，故本實施例中，係於排出口76部分解除薄膜之保持作用。

若對排出口76之薄膜保持機構6之解除手法進行具體說明，則本實施例中，例如如圖4所示，係將作為薄膜保持作用之終端部之終端滑輪62B自側面觀察設於分斷開始地點P3附近，且於此處使輸送機61(皮帶63)折返。藉由此種配置態樣，而於溢流槽75之排出口76部分解除薄膜保持機構6(輸送機61)對薄膜之保持作用。

其中，較佳為輸送機61自側面觀察係相對於溢流槽75(排出口76部分)而略有重疊、即自側面觀察時終端滑輪62B與溢流槽75略有重疊，關於該點於下文敍述(參照圖9(a))。

再者，於應用鏈條輸送機67作為薄膜保持機構6之情形時(參照圖23)，亦藉由與上述相同之手法，可於排出口76部分解除鏈條輸送機67對薄膜之保持作用，尤其於應用鏈條輸送機67之情形時，亦可採用上述以外之其他手法。即，該情形時通常係於側視之狀態下，以上側之鏈條68之中心與液面位準一致的方式設定，故例如如圖8(a)所示，於排出口76附近可使鏈條輸送機67(鏈條68)整體沈降至液面下，於排出口76之液面部分解除薄膜之保持作用。當然，亦可為與此相反之構成，即如圖8(b)所示，於排出口76之液面部分，將鏈條輸送機67(鏈條68)提昇至高出液面，而解除薄膜之保持作用。此處圖中符號69A係於排出口76附近以鏈條68不堵住排出口76之方式自上或下規制鏈 條輸送機67的導引體，進而圖中符號69B係以通常之高度(軌跡)導引鏈條輸送機67之導引體。

又，於本實施例之溢流槽75中，例如如圖4所示，在排出口76之中途部分設有作為遮斷液回收之遮斷機構77之堰板78，意圖在於即便為一台溢流槽75，亦可於遮斷機構77(堰板78)之前後兩階段回收液面殘留薄膜F'。又，遮斷機構77為縮小排出口76之流速誘導範圍，亦進行使解除薄膜之保持作用後之流速變弱之控制，藉此可將液面殘留薄膜F'確實地、且不對轉印位置(沒入區域P1)造成惡劣影響地回收。

因此，本申請人確認：於排出口76未設置遮斷機構77，自排出口76之整個區域將液面殘留薄膜F'導入至溢流槽75的情形時，會整體拉拽靠向側壁22之液面殘留薄膜F'，波及至轉印位置而對轉印位置之轉印薄膜F造成變形等惡劣影響。

又，藉由該溢流槽75所回收之轉印液L含有大量液面殘留薄膜F'即轉印圖案(油墨成分)或半溶解狀之水溶性薄膜等，且由於夾雜物之混入比例較高，故較佳為直接廢棄，但亦可藉由淨化裝置將該等夾雜物除去後供至循環使用。

又，溢流槽75之相對於轉印槽2之側壁22(框)而為長度方向(液流方向/沒入區域P1~出液區域P2之方向)之前後方向係藉由螺栓等固定，且較佳較為溢流槽75之全體高度可變更，且溢流槽75自身之前後方向之傾斜可調整地安裝。又，溢流槽75全體與上述送風機73同樣地，較佳為考慮轉 印位置之變更而於轉印槽2之長度方向能自由地前後移動。進而，遮斷機構77亦較佳構成為對於排出口76之設置位置可適當變更，且其寬度(前後方向長)亦可適當變更。

此處，基於圖9，對側視狀態下薄膜保持機構6(輸送機61)較佳相對於溢流槽75(排出口76部分)略有重疊的理由(緣由)進行說明。

首先，圖9(b)表示輸送機61不與溢流槽75重疊之情形，此時，輸送機61之終端滑輪62B位於較溢流槽75更上游側。該情形時，由皮帶63(去路皮帶63G)保持之液面殘留薄膜F'之兩側部分因溢流槽75之較快流速之落液之力而區域逐漸解除薄膜保持(接觸)(本來被皮帶63保持之部位亦自皮帶63遠離之傾向)。因此，該情形時，如圖所示，液面殘留薄膜F'之兩側端部先被溢流落液拉拽而解除保持，流至上游側而誘發薄膜全體之圖案彎曲。當然，此種圖案彎曲之影響係會導致沒入區域P1之轉印薄膜F之圖案畸變。

相對於此，如圖9(a)所示，於使輸送機61相對於溢流槽75略有重疊之情形時，輸送機61(去路皮帶63G)對薄膜之保持作用會作用至液面殘留薄膜F'直至到達溢流槽75(排出口76)為止。因此，液面殘留薄膜F'到達排出口76之前，兩側部分被輸送機61確實地保持，導入至溢流槽75(遮斷機構77之近前側)之液面殘留薄膜F'恰好以迴繞終端滑輪62B之方式落水，可確實地回收而不會對轉印位置造成惡劣影響。

此處，例如於上述圖4之實施例中，係應用堰板78作為 遮斷機構77，但遮斷機構77亦可採用其他形態，例如如圖10所示，較佳為能收容至溢流槽75內之形態(設為收容式遮蔽體79)。

即，圖10所示之收容式遮蔽體79作為一例為剖面字型之側槽狀之構件，其並非用作接受回收液之容器(槽)，如圖10(b)所示，以字型剖面之開口部分(放開部分)朝下之方式收容於(落入)溢流槽75內，於字型剖面之中央平面部分將溢流槽75之上部開口側部分閉塞。因此，收容式遮蔽體79於溢流槽75內係設為所謂橋狀者，該設置狀態下位於收容式遮蔽體79上部之平面部位(將溢流槽75閉塞之部分)係與上述堰板78同樣地發揮堰之作用，據此將該平面部分設為堰作用部79a。又，將成對設於堰作用部79a兩側之部位設為托架部79b，並將該兩托架部79b收容於溢流槽75內，藉此收容式遮蔽體79僅允許前後方向之移動。

再者，將收容式遮蔽體79形成為此種字型之優點在於，僅需落入溢流槽75內便可將收容式遮蔽體79(遮斷機構77)固定，且藉由向前後方向移動(於轉印槽2之長度方向滑動)而可容易地調整、變更前後兩階段之排出位置、排出餘量。

就該點而言，於之前敍述之堰板78中，通常係豎立設置於溢流槽75之排出口76處，故另外需要將堰板78安裝至溢流槽75(排出口76)之固定機構，且進行上述調整時會伴隨裝卸，而若為收容式遮蔽體79則無須另外使用此種固定機構，且調整亦變得極為容易進行。

此處，收容式遮蔽體79如上所述係將溢流槽75之液回收遮斷者，故如圖10(c)所示，堰作用部79a(頂面)設定地比溢流槽75之排出口76高(作為一例為1mm~3mm左右)。再者，如圖10(c)所示，該堰作用部79a設定地比轉印液L面略低(作為一例為2~3mm左右)，此表示通常排出量設定時收容式遮蔽體79略沒入至液中。然而，此種狀態下，未設置收容式遮蔽體79(堰作用部79a)之排出口76部分、與堰作用部79a中，會產生液回收之速度差(堰作用部79a部分變慢)，充分發揮作為堰之功能。

進而，藉由使堰作用部79a略微沒入，該部分難以掛上薄膜殘渣，且即便該部分上掛上薄膜殘渣(擱置而停止)，亦可將其回收，不會污染轉印槽2內之轉印液L。

就該點而言，之前所述之堰板78為一般的堆置構造，且堰板78較轉印液L面更向上伸出，故考慮堰板78上會掛上薄膜殘渣，該情形時不久變會粉碎而落入轉印槽2內，難以污染轉印液L。

再者，於轉印槽2之側壁22部分回收液面殘留薄膜F'時，並非必須於每單側各一處(亦可並非左右之側壁22各一處)，例如如圖11所示，亦可於單側兩處。因此，該圖11之實施例係如下者：作為分割機構71之送風機73之風量難以設定地較大，故並無將液面殘留薄膜F'推向輸送機61之外側之能力時，於輸送機61之內側亦設置輔助性溢流槽75a(排出機構72)。然而，該情形時輔助溢流槽75a係設為向轉印槽2之中央(被轉印體W之搬送路徑上)略微突出狀， 故必須考慮該溢流槽75a不會妨礙被轉印體W之搬送。又，如此即便將液面殘留薄膜F'分割為兩份，其後之回收亦可於四處(單側兩處)進行，分割機構71對液面殘留薄膜F'之分割數、與回收場所數並非必須一致。

又，作為液面殘留薄膜回收機構7(排出機構72)，並非必須限定於溢流構造，亦可採用其他回收手法，例如可列舉將液面附近之轉印液L與分斷後之液面殘留薄膜F'一併吸入之真空手法。即，該情形時可使用吸入噴嘴作為排出機構72。

又，於本實施例中，於液面殘留薄膜回收機構7之後段進而具備出液區域淨化機構8，以下說明該機構。出液區域淨化機構8係將出液區域P2之主要在非裝飾面S2側(設計面S1之背側)之轉印液中、液面上之夾雜物或泡A除去的機構，若具體例示回收對象物，則可列舉例如被轉印體W衝撞轉印薄膜F而沒入所產生之薄膜殘渣(水溶性薄膜與油墨混合而成之碎屑狀等較細者)、沒入時附著於夾具J或被轉印體W上而暫時潛入液面下之後於液中釋放的過剩薄膜、被轉印體W(夾具J)之出液時在被轉印體W之非裝飾面S2側之液面上大量產生的泡A或薄膜殘渣等。

而且，藉由該機構，被轉印體W仍存在於轉印液L中之期間，使該等夾雜物或泡A持續遠離出液區域P2，實現出液區域P2之淨化，同時儘量防止被轉印體W向設計面S1側之迴繞。

出液區域淨化機構8作為一例而如圖1、2、4所示，於出 液區域P2之左右兩側設置作為排出機構81之溢流槽82，且側視狀態下溢流槽82與出液區域P2重疊。更詳細而言，於轉印槽2之出液區域P2之左右兩側壁22之內側設置排出機構81(溢流槽82)，主要於液面附近產生自出液區域P2朝向溢流槽82之液流(設為側部背離流)，藉由該側部背離流而將薄膜殘渣等夾雜物或泡A於溢流槽82回收，且排出至槽外。因此，於俯視狀態下，如圖1、2所示，係將液面殘留薄膜回收用之溢流槽75、與出液區域淨化用之溢流槽82前後連續設置。此處，於溢流槽82中，係以將薄膜殘渣等夾雜物與轉印液L一併導入之回收口設為排出口83。

又，於出液區域淨化用之溢流槽82上，作為一例如圖4所示，於排出口83處形成有回收液導引用之凸緣，尤其係於本實施例中，自排出口83向處理槽21側之突出長度形成地比較長，該構造係用以加快導入溢流槽82之轉印液L之流速(因此將該凸緣設為流速增強用凸緣84)。

再者，藉由溢流槽82所回收之轉印液L中夾雜物之混入比例比較低，故較佳藉由沈澱槽或過濾環等而將夾雜物除去之後，供至循環使用(參照圖2參照)。

又，出液區域淨化機構8如上述般係將出液區域P2之液面上(非裝飾面S2側)之夾雜物或泡A回收者，故為更確實地回收，較佳為向出液區域P2液面上送風，更積極地將夾雜物或泡A推向溢流槽82(流速增強用凸緣84)。即，本實施例中，例如如圖1、2、4所示，係於轉印槽2之一方之側壁22上(溢流槽82之上方)設置送風機85者，藉由來自送風 機85之送風而將出液區域P2之液面上(非裝飾面S2側)大量產生之泡A或薄膜殘渣等夾雜物送入與設置場所為相反側之溢流槽82而進行回收。

如此，出液區域P2之液面上藉由送風機85而將泡A或夾雜物連續除去，且亦與液中之夾雜物一併由溢流槽82回收，故藉由該等之協同效果，實現高清潔化，同時亦可防止夾雜物向被轉印體W之設計面S1側迴繞。

進而，藉由如上述般設置對出液區域P2液面上起作用之送風機85，若考慮用以將液面殘留薄膜F'分斷之送風機73，則於本裝置中，共計設置複數台送風機。然而，根據各種轉印條件、例如被轉印體W之形狀、被轉印體搬送裝置5之態樣等，亦考慮將液面殘留薄膜F'分斷之送風繼而使得出液區域P2液面上之泡A或夾雜物送入溢流槽82，該情形時可將薄膜分斷用之送風機73作為出液區域淨化用之送風機85而兼用，進而亦可將該等統一由一台送風機進行。

再者，作為出液區域淨化機構8之排出機構81並非必須為上述溢流構造，亦可採用其他排出手法，例如可列舉將混入有夾雜物之轉印液L主要於液面附近吸入之真空手法。即，該情形時係應用吸入噴嘴作為排出機構81。

其次，對設計面淨化機構9進行說明，之前對出液區域P2之設計面S1側產生的泡A進行說明。於出液區域P2內被轉印體W(夾具J)係自液面逐漸向斜上方提起，故出液中之被轉印體W之上方，有業已提起至液面上方之被轉印體W 或夾具J(設為先提起之被轉印體W或夾具J)。此時，例如先提起之被轉印體W或夾具J上會有轉印液L變成水滴而滴落至轉印槽2之液面，落下之水滴例如於液面上跳動而變成泡A，且該泡A附著於出液中之被轉印體W之設計面S1上。其後，若維持該該狀態向被轉印體W照射紫外線等，則如上述圖22(c)所示，由於泡A之應力或紫外線之折射等原因，附著有泡A之部分變成轉印圖案(裝飾層)之圖案畸變不良、或圖案脫落之不良(所謂之針孔)。因此，於本發明中，出液區域P2內具備以自轉印液L中浮上之被轉印體W之設計面S1之淨化(主要利用下述新水之作用)、以及設計面S1側之液面上產生之泡A之除去、以及轉印液中、液面上之夾雜物之排除等為目的之設計面淨化機構9。

以下，進而對設計面淨化機構9進行說明。設計面淨化機構9係形成自出液中之被轉印體W之設計面S1朝向下游之液流者(由於係自設計面S1遠離之流動，故設為設計面背離流)，其目的在於如上述般使轉印液L中分散、滯留之夾雜物儘量不靠近(附著)設計面S1，且使先提起之被轉印體W上落下之水滴產生之液面上之泡A或夾雜物遠離設計面S1而排出至槽外等。因此，設計面背離流較佳應用不含夾雜物之清澈水、或者自回收液除去夾雜物之淨化水(該等統稱為新水)而形成。

據此，設計面淨化機構9例如如圖12(a)所示，係於出液區域P2內出液之被轉印體W之設計面S1側具有作為背離流形成機構91之溢流槽92而成者。更詳細而言，本實施例 中，被轉印體W於出液區域P2內係以設計面S1朝下方之傾斜狀態浮上，故以與被轉印體W之設計面S1面對面(對向)之方式設置溢流槽92，而形成自出液中之被轉印體W(設計面S1)之下側朝向上側的設計面背離流。此處，於溢流槽92內，主要以將新水與轉印液L一併導入之回收口設為排出口93。

再者，設計面背離流如上述般較佳為藉由新水供給而形成，故例如於圖2中，係自設計面背離流形成用之溢流槽92之下方相對於出液區域P2而朝上供給新水(淨化水)之一部分。又，自溢流槽92之下方相對於出液區域P2而朝上供給之新水之一部分亦可利用為上述出液區域淨化機構8之側部背離流。

此處，說明若無設計面淨化機構9，則設計面S1上易於附著夾雜物之情形。

通常，自轉印液L中提起之被轉印體W大多係以堆置自上游朝向下游之轉印液L之流動的狀態浮上。此時，被堆置之轉印液L係以向被轉印體W之下側或側方迴繞之方式流動，此係朝面向下游側之設計面S1之流動(迴繞流動)。

又，自液中提起被轉印體W時，由於被轉印體W之提起速度與停留液面之速度差，自被轉印體W之液面附近朝向被轉印體W而產生流動力。

據此，相對於出液中之被轉印體W，形成有自動向設計面S1迴繞之流動(朝向設計面S1之流動)，因此該狀態下轉印液L中分散、滯留之夾雜物有時會靠近並附著於設計面 S1上。因此，本發明中，藉由設計面淨化機構9之設計面背離流，而消除或儘量抑制轉印液L朝向設計面S1之流動。

又，於設計面背離流形成用之溢流槽92中，作為一例如圖4、圖12(b)所示，於排出口93處形成有流速增強用凸緣94，其目的在於加快導入溢流槽92之轉印液L之流速。

再者，作為設計面淨化機構9之背離流形成機構91，並非必須為上述溢流構造，亦可採用其他排出手法，例如如圖12(c)所示，可列舉將含夾雜物之轉印液L與新水主要於液面附近吸入之真空手法。即，該情形時，係應用吸入噴嘴95作為背離流形成機構91。

又，自出液開始直至出液結束為止，為使設計面背離流確實且均勻地作用於被轉印體W之設計面S1，較佳為出液動作中將作為背離流形成機構91之溢流槽92(排出口93)與被轉印體W(設計面S1)之距離維持為大致固定(作為一例為10~200mm左右)。然而，例如如圖13所示，由於被轉印體W(設計面S1)之彎曲狀態或凹凸程度等，即便被轉印體W以固定之傾斜姿勢、出液角度提起，設計面S1亦會自溢流槽92(排出口93)逐漸遠離(圖中之D1為出液初期之兩者之距離，D2為出液終期之兩者之距離)。因此，溢流槽92較佳構成為能相對於轉印槽2之長度方向(液流方向/沒入區域P1~出液區域P2之方向)移動，即相對於出液中之被轉印體W而自由接近、背離。當然，若可適當變更溢流槽92對轉印液L之排出力(回收力)、設計面背離流之強度，則即便出液中被轉印體W相對較遠，亦可藉由提高轉印液L之回 收力而達成相同效果。因此，作為增加回收力之其他手法亦可使溢流槽92下降。

又，於本實施例中，於設計面背離流形成用之溢流槽92之後段(下游側)進而設有溢流槽，為方便起見將其稱為末端溢流槽97(參照圖1~圖4)。該末端溢流槽97係藉由回收含薄膜殘渣之轉印液L而將液面位準維持為大致固定同時有助於轉印液L之循環使用者，於先前之轉印槽內常有設置。又，如此將溢流槽呈2段並列狀設置之構造稱為「2段OF構造」(「OF」表示溢流)，於將各溢流槽92、97簡略表(區分)表示之情形時，將設計面背離流形成用之溢流槽92稱為「第1段OF槽」，將末端溢流槽97稱為「第2段OF槽」。

以下，對2段OF構造之作用效果(轉印液中之液流)進行說明。

藉由2段OF構造而可大致以如下方式控制轉印槽2內之液流。首先，將轉印槽2內之液流如例如圖3所示般根據液中之深度(高度)劃分為以下3種。

上層附近(上層流)：圖中之虛線

中層附近(中層流)：圖中之實線

下層附近(下層流)：圖中之一點鏈線

此處，所謂中層流係假定為如下者：以與第1段OF槽92大致相同之高度流動，該OF槽92對液流發揮阻礙板(立壁)之作用而變成液流阻力，主要潛入該OF槽92之下方而流動。另一方面，相對於此種中層流，其上下不會稱為液流 阻力(或者第1段OF槽92之阻力之影響極少)，因此該等上層流及下層流假定為沿液流大致水平地流動者。

當然，此處之「層」係為區別轉印液中之深度(高度)而方便使用之用語，以中層(中層流)為代表，實際之流動整體而言並不會形成層(不會以層狀態平行流動)。

根據此種觀點，若整理轉印液中之流動則如下所示(參照圖3)。

首先，於第1段OF槽92之近前(第1段OF槽92變成液流阻力之前)，上層流、中層流、下層流均於水平方向上大致等速流動。

然後，於第1段OF槽92附近(即將到達)，如上述般僅液面附近之上層流被設計面背離流形成用之第1段OF槽92回收。此時，若該OF槽92上形成有流速增強用凸緣94，該OF槽92內回收之上層流於水平方向上加速。

又，中層流由於第1段OF槽92變成液流阻力，故以潛入之方式變成主要向第1段OF槽92下方潛入之液流(設為朝下流動)。該朝下流動由於第1段OF槽92變成液流阻力，而認為被低速化。如此，潛入第1段OF槽92下方之中層流流過該OF槽92之後，變成朝上之流動(設為朝上流動)。該朝上流動由於液流阻力已被放開故認為被低速化。又，該中層流之朝上流動以使下層流朝上抽出之方式發揮作用。其後，中層流、下層流之朝上流動被第2段OF槽97回收，但該回收亦可於轉印槽2之末端之整個壁面處回收。

此處對中層流潛入第1段OF槽92下方之流動(圖中符號 「Z1」)之作用效果進行說明。

將被轉印體W自轉印液L中提起時，如上述般朝下游側之設計面S1上含夾雜物之轉印液L以迴繞之方式流動，此種碰撞流(迴繞流)不僅於上層附近產生，且於以被轉印體W將液流堆置之方式作用的中層流附近亦產生。然而，於本實施例中，中層流係潛入第1段OF槽92下方而朝下流動，故發揮消除中層附近形成之碰撞流之作用，防止中層流自身靠向設計面S1，進而防止中層流中所含之夾雜物向設計面S1附著。

又，於本實施例中，中層流與下層流之間形成(假定)有邊界(尤其係第1段OF槽92之下方，圖中符號「Z2」)，對該作用效果進行說明。

中層流因第1段OF槽92之阻力而低速化且形成為朝下流動之過程中，下層流係以維持速度、方向之狀態而向下游流動(保持穩定之液流狀態)。因此，抑制中層流中之夾雜物落下、沈降至下層流之上表面(稱為下層流之穩定液流之屏障效果)。此外，於第1段OF槽92之下方，該OF槽92與轉印槽2底部之間隔(轉印槽2之深度)最狹，故中層流快速化。藉由該等，抑制中層流中所含之夾雜物於與下層流之邊界部分向轉印槽底部之落下、滯留(發揮防止夾雜物向轉印附近沈降之功能)。

其次，對中層流變成朝上流動之部位(圖中符號「Z3」)之作用效果進行說明。

中層流若通過第1段OF槽92之下方，則液流阻力消失而 變成上側放開，變成低速化且朝上流動加快。又，伴隨於此，下層流為低速化者，藉此可抑制易對夾雜物造成粉碎影響之攪拌現象，發揮不使中層流與下層流之邊界附近之夾雜物破壞分散之作用。因此，於轉印槽2之中層、下層附近，加快夾雜物之回收，夾雜物越來越難以向轉印槽2之底部沈澱。

又，於本實施例中，係於第2段OF槽97之下方(轉印槽2之角部)設置傾斜板23者，以下對該作用效果進行說明。

傾斜板23發揮使下層流於末端部分朝上流動之作用，中層流通過第1段OF槽92下方之後，變成朝上流動而將夾雜物移送至上方時，一併地使下層流朝上流動，藉此主要發揮輔助變成朝上流動之中層流之後段(下游側)不會變粗的作用。藉此，能更有效地回收中層流、下層流所含之夾雜物。

因此，先前雖亦存在此種傾斜板，但其主要目的在於用以減少液收容量之轉印槽末端之錐形處理。當然，先前之轉印槽中即便多少產生藉由此種轉印槽末端之傾斜板將轉印液L(下層流)誘導(導引)至上側之現象，但先前並不存在第1段OF槽92，故並無該OF槽92之中層流之迴繞(潛入後朝上流動)，當然亦不會產生該流動帶來之下層流之提起。此外，由於無第1段OF槽92，故中層流之流動為水平方向，無論多麼期待傾斜板帶來之轉印液之上升，中層流之水平流動均會妨礙下層流之上升，結果造成僅中層流提起，難以期望與本實施例相同程度之下層流中之夾雜物提 起。

再者，收容於轉印槽2內之轉印液L就成本、處理效率、環境方面而言儘量少之必要性變高(廢棄之夾雜物分離負擔、循環之濾液負擔之兩面)。

又，液壓轉印係利用液壓之轉印手法，故轉印槽2需要使被轉印體W完全沒入(埋沒)轉印液L中之深度(MAX深度)，但該深度並非必須遍及轉印槽2之全體(全長)者，例如只要於自沒入區域P1至出液區域P2為止之轉印必要區間內確保便可。換言之，於薄膜供給端等無須轉印區間內，並非必須要確保該深度，如上述般就減少轉印槽2內之容量之觀點而言，本實施例中，無須轉印區間將轉印槽2之深度形成地較淺。具體而言，例如如圖2、3所示，將轉印槽2之薄膜供給側(上游側)遍及適宜長度而形成地較淺，繼而於中流域部分將槽底部形成為傾斜狀，逐漸增加深度而形成，自側面觀察轉印槽2全體時形成為下窄之大致梯形狀。此處圖中符號24係於轉印槽2之中流域部分形成為傾斜狀態之傾斜部。再者，於本實施例之情形時，係回收液面殘留薄膜F'，故沒入區域P1至出液區域P2為止之間具有適宜之長度，該區間為轉印必要區間，轉印必要區間並非必須視為明確的區間(具有適宜距離之區間)，例如於沒入區域P1與出液區域P2大體一致之液壓轉印中，僅沒入區域P1變成轉印必要區間。

如上所述，第1段OF槽92使中層流潛入，藉此形成朝上流動，且該朝上流動有助於下層流之抽出、夾雜物之沈降 防止、回收(向第2段OF槽97之移送)等。因此，例如如圖3(b)所示，只要構成為第1段OF槽92向液流方向(轉印槽2之長度方向)伸縮自由，便可適當地控制該等中層流之朝上流動及下層流之抽出等。

又，於中層流回收時，例如如圖3(c)所示，可自第1段OF槽92之背側回收。此處，圖3(c)中於緊靠第1段OF槽92之後段以連續狀態而設有其他溢流槽(為方便起見而設為背側OF槽98)，且亦設有第2段OF槽97。

藉由採用此種構造，例如如本圖一併所示，上層流係由第1段OF槽92回收，中層流係由背側OF槽98回收，而下層流可由第2段OF槽97回收。即，圖3(c)中，各層流係藉由各OF槽而回收，例如將因下層流之屏障效果而較多滯留於中層流(下面)之夾雜物係藉由背側OF槽98回收，藉此第2段OF槽97回收之轉印液L(下層流)係以比較清潔之狀態被回收，而將所回收之下層流循環使用之情形時，實現可減輕其清潔負擔(過濾環負擔)之效果(換言之，可根據所回收之轉印液L之夾雜物之混入比例而設定過濾環負擔)。

再者，於圖3(c)中，係設置第2段OF槽97，而於重視自第1段OF槽92之背側回收中層流之情形時，並非必須要設置第2段OF槽97。

其次，對利用側部背離流形成用之溢流槽82、設計面背離流形成用之溢流槽92、末端溢流槽97所回收之轉印液L之淨化手法進行說明。由該等溢流槽82、92、97所回收之轉印液L例如如圖2所示，經過水位調整槽而被送往淨化裝 置，於此處除去夾雜物之後經過溫度調整槽而作為新水(淨化水)重新利用。當然，淨化裝置中捕捉之夾雜物被廢棄。

再者，將溢流槽82所回收之轉印液L(含夾雜物)送入水位調整槽之管路之中途、或水位調整槽之底部，連接有將滯留於此處之夾雜物(殘渣)排出的廢棄管。又，作為液面殘留薄膜回收機構7之溢流槽75中如上述般夾雜物之混入比例較高，故通常係直接廢棄。

因此，水位調整槽或淨化裝置(沈澱槽)等自轉印液中去除夾雜物時係以如下方式實現淨化：藉由板(堰板)等暫時阻止調整槽或沈澱槽內之液體而使其貯留，將貯留水之較清潔之清水送往後段。

又，以上述方式經淨化之新水例如如圖2所示係自薄膜供給側(上游側)之導引輸送機33之下方、或轉印槽2之中流域部分之傾斜部24供給，此外亦自例如設計面背離流形成用之溢流槽92之下方朝向出液區域P2而朝上及朝下地供給。此處所謂「朝向出液區域P2而朝上」係指用以形成設計面背離流或側部背離流之新水供給，所謂「朝向出液區域P2而朝下」，係發揮輔助圖3中用以將夾雜物送往第2段OF槽97之朝上流動(下層流)的作用。

又，向轉印槽2供給新水時之噴出口、具體而言為轉印槽中流域部分之傾斜部24、及溢流槽92之下方處，較佳設有穿孔金屬等，使供給之新水自較廣範圍均勻地噴出(防止部分新水直進)。

再者，於液壓轉印中，如上述般應用各種種類或狀態之轉印薄膜F(轉印圖案)、活性劑，而處理各種不同大小之被轉印體W，故沒入區域P1例如可前後800mm左右移動，因此出液區域P2亦基於此而向前後800mm~1200mm左右移動。因此，沒入區域P1、薄膜保持機構6之終端滑輪62B、液面殘留薄膜回收機構7之分割機構71(送風機73、73a)或溢流槽75、出液區域淨化機構8之溢流槽82或送風機85、進而設計面淨化機構9之溢流槽92(背離流形成機構91)等存在彼此密接之位置關係。因此，較佳為伴隨沒入區域P1之移動，上述各構成構件亦同時、或者獨立地移動，因此於本實施例中例如如圖2所示，構成為將薄膜保持機構6之終端滑輪626、送風機73、73a、85、溢流槽75、82搭載於在轉印槽2之長度方向(前後方向)上可移動之台座28，且搭載於能使溢流槽92獨立地前後移動的台座29上，且該等可對應於沒入區域P1與出液區域P2之移動而適當移動。

因此，各台座28、29之移動方法可藉由手動或者線性馬達等而自動控制(實際上為對應被轉印體W之提起程式等而使台座28、29之位置自動移動的程式)。

又，本實施例中，向轉印槽2供給轉印薄膜F時，具備抑制轉印薄膜F之伸展下降之伸展下降防止機構10，以下對該機構進行說明。伸展下降防止機構10係可防止伴隨著液而自薄膜表面向轉印液L面上游離、滲出之活性劑成分K滯留於液面上並張成膜而阻礙轉印薄膜F之伸展者，藉此 使供給至轉印液L面上之轉印薄膜F之兩側確實地附著於設於轉印槽2之側壁22附近的輸送機61(皮帶63)上。再者，以下之說明中，首先說明因自著液之轉印薄膜F流出之活性劑成分K而阻礙轉印薄膜F之伸展的理由(緣由)。

進行轉印時，轉印薄膜F上塗佈有用以使轉印圖案活性化之活性劑，而塗佈於薄膜上之活性劑之一部分會由於著液(與轉印液L之接觸)而自轉印薄膜F之表面離開(游離)，向轉印液L面上流出(滲出)(於本說明書中主要稱為活性劑成分K)。該活性劑成分K向液面上之流出並不限定於轉印薄膜F之供給方向(液流方向)而是可能向各種方向流出，但由於液流產生及進行薄膜供給等原因故認為大多係向薄膜供給方向流出(優先)。又，據此若重複進行液壓轉印，則活性劑成分K於轉印液L面上不斷增加，例如滯留於液流較弱之轉印槽2之側壁22附近。而且，滯留於側壁22附近之活性劑成分K於液表面為高濃度化，恰如油分於水面上成膜(油膜)之狀態(方便起見稱為液膜)，其成為阻礙轉印薄膜F之伸展(擴展)之作用。即，若繼續進行液壓轉印則由於活性劑成分K所形成之液膜而阻礙薄膜之伸展(擴展)。

又，阻礙供給至轉印液L面上之轉印薄膜F之伸展之要因另有：例如轉印槽2內之轉印液L基於環境保護及資源有效利用(回收)等觀點其大多被循環使用。因此，釋放至轉印液L面上之活性劑成分K(液膜)不僅積存(漂浮)於液面上，其一部分亦溶入轉印液L中。因此，若重複進行液壓轉 印，則轉印液L中之活性劑濃度亦逐漸變高，轉印液L之黏性增加，此亦為阻礙轉印薄膜F之伸展的要因。

進而，紫外線硬化型樹脂之活性劑雖處於屋內但藉由光而多少會使活性劑成分K硬化，故轉印液L之黏度有進而變高之傾向。又，如上述般由於處於使轉印液L大多重複使用，並儘量抑制廢棄液量之社會環境，故此係轉印液L之黏度進一步變高之要因。然而，液壓轉印中要求高位準且穩定地進行轉印，故必然地要抑制波動等而實現轉印液L面之穩定化，事實上此亦發揮防止活性劑(樹脂成分)混入轉印液L中之作用。

再者，因轉印液L面上之活性劑成分K而阻礙轉印薄膜F之伸展的現象對於形成亦具有表面保護功能之轉印圖案之液壓轉印(無須外塗層之液壓轉印)中使用的活性劑而言較為顯著，該活性劑之黏性高於通常之溶劑系，故認為抑制轉印薄膜F延伸之傾向較大。

此外，供給至轉印液L面上之轉印薄膜F通常如圖23所示，因轉印液L面上位於上側之轉印圖案、與位於下側之水溶性薄膜之延伸差(水溶性薄膜之延伸率較高)，而逐漸向上捲起。因此，供給至轉印槽2之轉印薄膜F越難以與設於側壁22附近之薄膜保持機構6接觸。

據此，於無伸展下降防止機構10之情形時，若重複進行液壓轉印則起初延伸至著液後輸送機61之轉印薄膜F不再附著，故本實施例中藉由該機構而防止此種伸展下降。

此處，於本實施例中，係採用鼓風手法作為伸展下降防 止機構10，藉由送風而將薄膜保持機構6(輸送機61)與轉印薄膜F之間之轉印液L面上變成液膜而擴展且阻礙轉印薄膜F伸展的活性劑成分K除去。即，該機構作為一例如圖1所示，較佳為向轉印液L之流動(液流)較弱而活性劑成分K易停滯之側壁22附近、尤其係送風機26左右兩側送風，將位(懸浮)於該部位之活性劑成分K推向(送往)薄膜保持機構6與側壁22之間。因此，該薄膜保持機構6與側壁22之間，由於皮帶63之上端緣係設定於高於轉印液L面的位置上等，故係實質上對轉印位置無影響、或者對轉印位置造成之影響極少之部位，因此本實施例中係將活性劑成分K推向該部位。再者，本實施例中如上述般上述送風機26亦發揮使轉印薄膜F向周圍延展之作用，故此處為明確區別與送風機26之作用，將該機構設為伸展下降防止機構10。

又，本實施例中，如業已說明般作為薄膜保持機構6之輸送機61之外側沿著轉印槽2之兩側壁22而設有溢流槽75，故於此處回收送入上述薄膜保持機構6與側壁22之間的活性劑成分K。當然，該情形時例如如圖4一併所示，於溢流槽75之前緣側(上游側)亦形成有將活性劑成分K導入、回收之排出口76a。

進而，於圖1所示之實施例中，係使用兩台壓縮空氣噴出噴嘴102作為伸展下降防止機構10(除去機構107)。更詳細而言，供給至轉印槽2之轉印薄膜F原本係含轉印液L而膨潤、軟化且不斷向四面伸展，故圖1中自兩台壓縮空氣噴出噴嘴102噴附氣體使其作用(碰觸)於與轉印薄膜F之擴 展端緣面對面的液面，主要除去端緣附近懸浮之活性劑成分K，實現轉印薄膜F之端緣附近向兩側方向之伸展(防止伸展下降)。此處，作為上述壓縮空氣噴出噴嘴102如圖所示較佳具備多關節接頭類型之可撓性軟管，目的在於容易對噴嘴之位置、送風方向等進行微調整。

因此，用以除去活性劑成分K之送風較佳為並非使風作用(碰觸)於轉印薄膜F，而是僅使風作用於不存在薄膜之轉印液面，目的在於穩定地保持轉印液面，將轉印薄膜F以儘量無波動之狀態移送至轉印位置(沒入區域P1)。又，就該點而言，例如如圖1之放大圖所示，理想的是使用朝向噴出口而形成為前窄狀之噴嘴，使氣體以針點形式作用於目標液面(與薄膜之擴展端緣面對面之液面等)。另一方面，送風機73、85等較佳使用噴出口比較寬幅狀者。

又，於圖1中，送風時係以氣體作用於因轉印薄膜F著液而伸展之上游側(前方側)之液面、更具體而言較薄膜保持機構6之作用開始端(始端滑輪62A)更上游側之液面的方式進行送風，目的在於轉印薄膜F伸展之前將成為其阻害要因之活性劑成分K除去，藉此可更有效地進行轉印薄膜F之伸展。藉由此種送風，轉印液面上懸浮之活性劑成分K向薄膜保持機構6之作用開始端(始端滑輪62A)迂迴，而被送入側壁22與薄膜保持機構6之間。

又，於圖1之實施例中，來自兩台壓縮空氣噴出噴嘴102之送風為多少會向轉印液流逆行之送風形態，但兩台壓縮空氣噴出噴嘴102只要具有能將液面上之活性劑成分K(液 膜)壓迫至側壁22之程度的較小能力(送風力)便可，故不用擔心壓縮空氣噴出噴嘴102之送風會阻礙轉印液L之液流本身。因此，相對於轉印液流而逆行之送風較佳為相對於液流方向(下游方向)為90度~120度左右。

當然，壓縮空氣噴出噴嘴102之送風如圖2一併所示亦可以沿轉印液L之液流之下游朝向進行。其中，該情形時亦較佳為以將轉印液面上之活性劑成分K壓迫至兩側壁22之方式進行送風。更詳細而言，較佳以薄膜供給側之側壁22附近懸浮之液面上之活性劑成分K自薄膜保持機構6(輸送機61)之始端滑輪62A之近前起被推向薄膜保持機構6(輸送機61)與側壁22之間的方式送風。因此，此種下游朝向之送風形態中，較佳為相對於液流方向(下游方向)為50度~90度左右。

如上所述，作為伸展下降防止機構10(除去機構101)之送風較佳為並非使氣體直接作用於轉印薄膜F，且送風方向較寬，該點與上述送風機26差異較大。換言之，上述送風機26係使氣體直接作用於轉印薄膜F表面，且送風方向亦考慮薄膜之移送而設定為自上游向下游之一方向。

其次，對藉由壓縮空氣噴出噴嘴102進行伸展下降防止用之送風時其送風量之調整的目標進行說明。

本申請人為了確認伸展下降防止機構10之送風效果而進行如下之試驗。該試驗係如下者：向轉印槽2內置入4000升之轉印液L(水)而使其循環，於先前之液壓轉印薄膜上塗佈先前之活性劑而進行連續運轉，在轉印薄膜不附著於 薄膜保持機構6(離開)之時刻結束，確認活性劑之使用量。此處第1次(試行1)不進行伸展下降防止用之送風，僅於第2次(試行2)進行該送風。其結果為，試行1於約5小時後使用約4kg之活性劑的時刻，轉印薄膜不再附著於薄膜保持機構6。又，試行2中，更換轉印槽2之水，除進行伸展下降防止機構10之送風以外如上述般以相同條件進行，但試行2中，完全未見變化，轉印薄膜始終穩定地持續到達薄膜保持機構6，經過10小時之連續運轉後之階段(使用約8kg之活性劑)，結束確認(試驗)。

根據該試驗進行判斷，試行1由於未進行伸展下降防止用之送風，轉印薄膜F之伸展力逐漸變小而產生伸展下降，不再附著於薄膜保持機構6。又，試行2中由於始終進行伸展下降防止用之送風，將液面上之活性劑成分K除去(液表面之濃度下降)，與薄膜伸展力密切相關，可始終維持轉印薄膜F之伸展(到達薄膜保持機構6)。

據此，進行伸展下降防止用之送風時，作為調整送風量之目標，得出如下結論：只要以(轉印液中之活性劑濃度+轉印液面上之活性劑濃度帶來之液膜或液黏度對薄膜伸展欲阻礙之阻力力)<薄膜伸展力之關係成立的方式進行送風便可。

此處，作為阻礙轉印薄膜F伸展之要因(條件)，不僅考慮液面上之活性劑濃度(比例)且亦考慮轉印液中之濃度，目的在於藉由如上述般重複進行轉印而導致溶入轉印液中之活性劑之濃度不斷變高。就該點而言，可藉由新水供給 而降低轉印液中之活性劑濃度或者將其維持為較低狀態，故藉由新水供給亦可防止轉印薄膜F之伸展下降。因此，本實施例中亦考慮該點而一併進行新水供給。

再者，作為伸展下降防止機構10之除去機構101，不僅並非必須藉由送風將活性劑成分K壓迫至側壁22，且亦可採用其他除去手法，例如可列舉將液面上之活性劑成分K與轉印液L一併吸入之真空手法。即，該情形時係使用吸入噴嘴作為除去機構101。

又，本實施例中，係將伸展下降防止機構10之壓縮空氣噴出噴嘴102與送風機26一併設置，但伸展下降防止機構10並非必須與送風機26一併設置，於藉由伸展下降防止機構10之送風(活性劑成分K之除去)或液流或者薄膜保持機構6之移送作用(保持作用)而可進行轉印薄膜F向周圍之延展的情形時，可自液壓轉印裝置1之全體構成中去掉送風機26。

其次，對轉印薄膜供給裝置3進行說明。轉印薄膜供給裝置3作為一例如圖1所示，包括由輥卷後之轉印薄膜F形成之薄膜輥31、對自該薄膜輥31抽出之轉印薄膜F進行加熱之加熱輥32、以及用以將轉印薄膜F供給至轉印槽2的導引輸送機33，轉印薄膜F係藉由導引輥34而一面經過該等構件間一面供給至轉印槽2。

此處，於上述說明中，說明了自輥卷後之薄膜輥31依序將轉印薄膜F提起至轉印槽2，但亦可為例如首先將切割為矩形狀之轉印薄膜F逐一供給至轉印槽2，自其上方按壓被 轉印體W之所謂的批次式之液壓轉印，以下進行說明。

於批次式之液壓轉印中，例如如圖14所示，有時雖使被轉印體W適宜傾倒，但通常沒入方向及出液方向係設定地於鉛垂方向(垂直方向)上。即，通常係使被轉印體W自正上方沒入轉印槽2，且筆直向上地出液。此處，上述圖14係階段性表示以適宜之傾倒姿勢沒入之被轉印體W自轉印槽2逐漸提起之情形的圖。而且，本圖中伴隨出液，被轉印體W(設計面S1)、與設計面背離流形成用之溢流槽92之間隔逐漸變大，故伴隨出液，溢流槽92逐漸接近被轉印體W，被轉印體W與溢流槽92之距離(圖中之D)維持為大致固定(例如100mm左右)。如此尤其係於批次式之液壓轉印中較理想的是使溢流槽92移動，將被轉印體W相對於溢流槽92之出液位置(即被轉印體W與溢流槽92之距離)保持固定。

其次，對活性劑塗佈裝置4進行說明。活性劑塗佈裝置4作為一例具備輥塗佈器41，該輥塗佈器41係設於轉印薄膜供給裝置3之加熱輥32之後段，向轉印薄膜F塗佈所需之活性劑。此處，於圖1所示之實施例中，向轉印薄膜F塗佈活性劑之後，將其供給至轉印槽2，但亦可變更該裝置之構造等，於供給至轉印槽2且著液之狀態下之轉印薄膜F上，自上方塗佈活性劑。

其次，對被轉印體搬送裝置5進行說明。被轉印體搬送裝置5係使被轉印體W以適宜之姿勢沒入轉印液L中、且自轉印液L中提起者，通常係經由轉印用夾具(僅稱為夾具J) 而實現被轉印體W之安裝，故本實施例中，被轉印體搬送裝置5包括擔負搬送作用之輸送機51及夾具底座52。即，進行液壓轉印時，預先將被轉印體W安裝至夾具J，於夾具底座52上裝卸該夾具J而向輸送機51安置。以下，對輸送機51進而進行說明。

輸送機51作為一例如圖1所示，係平行配置之一對環鏈53上橫架聯桿54，同時以特定間隔於該聯桿54上配設夾具底座52而成者(參照圖12(a))，使被轉印體W與夾具J一併連續地沒入轉印液L中或自轉印液L中出液。再者，沒入側之被轉印體W(夾具J)向輸送機51安裝、及轉印後之出液側之被轉印體W(夾具J)自輸送機51拆卸既可藉由機器人而自動進行，亦可由作業者手動進行。又，輸送機51之被轉印體W之搬送速度(尤其係沒入區域P1之速度)通常係設定為與轉印薄膜F之液面上之移送速度(即轉印液L之液流速度)大致同調。

若對輸送機51之具體構成進行說明，則作為一例如圖1所示，係採用相對於自側面觀察時描繪出倒三角形之搬送軌跡之通常之三角輸送部55(以位於倒三角形下方之頂點部分為沒入側滾輪56)，追加出液側滾輪57之構造，大致而言係使被轉印體W沒入沒入側滾輪56至出液側滾輪57為止之區間，且將出液區域P2設定於與沒入區域P1不同之位置上者。更詳細而言，俯視時之出液區域P2設定為相對於沒入區域P1而明確位於下游側。

因此，於先前之僅使用三角輸送部55之搬送態樣中，被 轉印體W之沒入僅以下方之頂點部分(沒入側滾輪56)進行，為所謂之短時間或瞬間沒入，相對於此本實施例中之被轉印體W之沒入為直線沒入，確保沒入時間較長。

據此，本實施例中，可確保沒入區域P1至出液區域P2為止之距離比較長，且係適於被轉印體W沒入之期間將液面殘留薄膜F'分斷、且於兩側壁22部分回收之搬送態樣。

進而，本實施例中，沒入側滾輪56至出液側滾輪57為止之區間係將液中之被轉印體W之移動軌跡設定為大致水平者。又，輸送機51係於此種構造上採用將先前之三角輸送部55與直線輸送機58藉由出液側滾輪57而連接之構成，以下對該等構成構件進行說明。

三角輸送部55與先前同樣地，構成為以碰觸下方頂點之沒入側滾輪56為轉動中心而整體自由傾倒，藉此構成為可適當變更被轉印體W之沒入角。因此，此處之沒入角係指被轉印體W朝向轉印液L之液面行進之角度，作為一例假定為15度~35度左右之設定範圍。

又，直線輸送部58亦構成為以下方之鏈條滾輪59為中心自由轉動，即採用所謂之縮放狀之構造。(將直線輸送部58設為轉動自由之)原因在於，即便利用三角輸送部55之轉動而變更被轉印體W之沒入角，亦必須不改變輸送機51全體之移送長(環鏈53之全長)且維持輸送機51上之張力。換言之，藉由直線輸送部58轉動，使其轉動自由端側作為所謂之張力滑輪發揮功能。

此處，圖15(a)中之實線部分係沒入角較小時之搬送軌跡 (作為一例為15度左右之沒入角)，圖15(b)中之實線部分係沒入角較大時之搬送軌跡(作為一例為30度左右之沒入角)。因此，於本實施例中，出液側滾輪57~直線輸送部58之轉動中心側(鏈條滾輪59)為止之間係設定為固定狀態(僅允許固定位置之旋轉)，故出液角無法變更(固定設定)。

再者，於出液側滾輪57中，雖附加「滾輪」之名稱，但並非必須為與環鏈53之移動同時旋轉之構件，例如如上述圖15所示，亦可為一面抵接鏈條一面順暢地進行導引之導引構件(所謂之滑動接觸)。

又，出液側滾輪57之直徑尺寸較佳為與沒入側滾輪56大小相同、或大於沒入側滾輪56，原因在於若出液側滾輪57較小，則被轉印體W出液時繞著出液側滾輪57之外側的周速度(旋轉速度)、角度變化變大(對於轉印液L之速度差過大)。即，本輸送機51將安裝有聯桿54之環鏈53部分之移送速度(鏈條移動速度)維持為固定，故若出液側滾輪57之直徑尺寸(旋轉半徑)變小，則繞著該滾輪外側之被轉印體W之周速度(旋轉速度)或角度變化變大。

又，上述圖1、15所示之實施例係如上述般出液角固定而無法變更者，但亦可使出液角可變。即，例如如圖16所示，於自側面觀察輸送機51(環鏈53)之狀態下，搬送軌跡整體形成為四角形狀(尤其係梯形狀)之情形。此處，沒入側滾輪56與出液側滾輪57係設定為固定狀態(僅可於固定位置旋轉)，剩餘的兩個鏈條滾輪59A、59B分別形成為相對於沒入側滾輪56與出液側滾輪57而自由轉動。即，形成 為連接於沒入側滾輪56與出液側滾輪57之沒入側及出液側之直線輸送部58A、58B係以沒入側滾輪56及出液側滾輪57為中心而自由轉動。

當然，本實施例中，由於輸送機51全體之移送長(環鏈53之全長)依然未變，故於變更被轉印體W之沒入角之情形時，如張力滑輪般出液側之直線輸送部58B亦擺動而變更出液角。因此，本實施例中，出液角雖可變更，但其係與沒入角關聯之變更，並非能夠毫無限制地自由變更出液角。因此，圖16中之實線部分係沒入角較大且出液角較小時之搬送態樣，圖中之兩點鏈線部分係沒入角較小且出液角較大時之搬送態樣。又，作為具體角度，作為一例沒入角可於15度~35度左右變更，出液角可於75度~90度左右變更。

又，於上述圖15、16等之實施例中，沒入側滾輪56至出液側滾輪57之間，被轉印體W於液中係大致水平地移送者，但被轉印體W之搬送態樣並非必須限定於此，例如如圖17所示，亦可為被轉印體W在上述區間逐漸上升之移送形態。該情形時，被轉印體W於兩滾輪間之移送過程中係持有適宜之傾斜角(出液角)而上升移送。據此，被轉印體W沒入後，若於上述區間僅出液側滾輪57逐漸向上方移動，則被轉印體W之出液角可能逐漸增加。因此，上述圖16中若將出液側滾輪57設為升降自由，便可以更高自由度變更出液角，有時可完全不依賴於沒入角而進行變更。

又，作為輸送機51之搬送軌跡，例如如圖18所示，亦可 將被轉印體W於出液側滾輪57之後在沒入側形成為折返狀(所謂之懸突狀態)。此處，於本圖18中，雖圖示為將出液後之被轉印體W以懸突狀移送，但若變更輸送機51對於轉印槽2(轉印液L)之配置等，則亦可於使被轉印體W出液時以懸突狀態提起，即以設計面S1朝向上方之表裏相反之狀態自液中提起被轉印體W。

再者，上述輸送機51之目的在於沒入區域P1與出液區域P2之間確保某種程度之時間、距離，故亦可僅由先前之三角輸送部55構成輸送機51。然而，該情形時較佳將圖15中所示之夾具托架JL設定地略長，使被轉印體W較深地沉入液中，確保沒入區域P1至出液區域P2之距離較長。當然，若僅延長夾具托架JL則圍繞沒入側滾輪56(三角輸送機之下方頂點部分)之外側的被轉印體W之周速度、角度變化會變大，故必須考慮該點決定全體之移送態樣等。

又，被轉印體搬送裝置5並非必須限定為上述輸送機51，例如亦可使用如圖19所示之機器人110(多關節形機器人，所謂之操縱器)。該情形時，轉印槽2亦係基於上述形態者，較佳於被轉印體W沒入之期間將液面殘留薄膜F'分斷而自轉印槽2排出。又，當然，較理想為設計面淨化機構9亦具備出液區域淨化機構8及伸展下降防止機構10等，以高水準實現轉印液L、出液區域P2之潔淨化。

再者，圖19中虛線部所指之符號111係用以使被轉印體W沒入轉印液L中之轉印機器人之手，通常用於握持保持被轉印體W之夾具J。又，圖中兩點鏈線部所指之符號112 係自液中提起轉印後之被轉印體W而送往UV照射步驟用之輸送機C之移載機器人之手，此處亦通常為握持保持被轉印體W之夾具J。

又，於應用此種機器人110之液壓轉印(機器人轉印)之情形時，可較上述輸送機51更自由地變更被轉印體W之姿勢，故可更多種多樣且更自由地設定沒入角、出液角或者液中之姿勢及位置。又，亦可自由地設定被轉印體W之沒入速度、液中之移動速度、出液速度。又，亦可於轉印槽2左右配置複數之機器人110而交替自轉印進行至提起。

具體而言，機器人轉印中，使被轉印體W出液時，設計面背離流形成用之溢流槽92係設定為固定(不動)狀態(亦可預先以固定狀態安裝)，相對於該溢流槽92，出液地點以例如100mm以下之距離始終固定地進行提起為佳。該提起手法主要用以防止被轉印體W之設計面S1上附著泡A或夾雜物(稱為殘渣不良)。即，藉由將溢流槽92以接近設計面S1之位置保持為大致固定，出液中之設計面S1始終作用有具背離力之流動(設計面背離流)，藉此將液面上之泡A或轉印液中、液面上之夾雜物自設計面S1排除，且亦實現設計面S1自身之淨化。

又，於具有表面保護功能之液壓轉印中，除了此種殘渣不良以外，亦容易產生如下之潰散不良(與不具有表面保護功能之先前之液壓轉印相比)。

此處對潰散不良進行說明。自轉印液中剛出液後之被轉印體W中，附著於設計面S1之油墨當然處於未硬化、未乾 燥之狀態，故仍為易流動之狀態。因此，於轉印液中由於被轉印體W之移送速度、液面之波動、剛出液後之被轉印體W之振動等而對設計面S1施加負擔時，剛附著於設計面S1之油墨會流動，從而導致設計面引起潰散之不良狀況，此為潰散不良。再者，作為潰散不良之代表例，例如可列舉當設計面S1與液面平行之狀態下自轉印液中提起被轉印體W時產生之現象。

為防止此種潰散不良，理想的是自轉印液中提起被轉印體W時，儘量不使液面波動而依照設計面S1形狀提起。又，關於提起速度，越快速則潰散不良之風險越大，例如本申請人確認2m/分為上限(較佳)。

又，關於提起角度(出液角)，較佳為朝下側之設計面S1相對於液面而以25度~55度傾斜，本申請人確認尤其理想的是一面將設計面S1維持、設定為與液面始終成34度，一面對照設計面S1而自液面提起。

根據以上方面，於機器人轉印之情形時，儘量不產生殘渣不良及潰散不良之理想的提起方法係如下所示。

提起速度以2m/分為上限，一面將被轉印體W(設計面S1)之角度調整為與液面始終成34度，一面以距設計面背離流形成用之溢流槽92為100mm以下之固定距離、速度進行提起。

具備設計面淨化機構9之液壓轉印裝置1係以如下方式構成，以下一面說明本液壓轉印裝置1之轉印態樣，一面說明液壓轉印方法。

(1)轉印薄膜之供給

進行液壓轉印時，首先向貯留有轉印液L之轉印槽2內供給轉印薄膜F。此處，如上述般較佳為進行液壓轉印時形成亦具有表面保護功能之轉印圖案(無須轉印後之外塗層)，故轉印薄膜F係使用水溶性薄膜上僅形成有轉印油墨之轉印圖案者、或者水溶性薄膜與轉印圖案之間形成有硬化性樹脂層者，尤其於使用水溶性薄膜上僅形成有轉印圖案之轉印薄膜F的情形時，較佳使用液體狀之硬化樹脂組合物作為活性劑。

又，於本實施例中，向轉印槽2供給轉印薄膜F時，將薄膜保持機構6(輸送機61)與轉印薄膜F之間之轉印液L面上為液膜狀且使轉印薄膜F之伸展下降的活性劑成分K除去。例如，如圖1所示，藉由壓縮空氣噴出噴嘴102向與轉印薄膜F之擴展端緣面對面的液面送風，使此處積存(懸浮)之活性劑成分K向薄膜保持機構6之作用開始端(始端滑輪62A)迴繞，並壓迫至薄膜保持機構6與側壁22之間。藉此，於與轉印薄膜F之擴展端緣面對面之液面上，活性劑成分K始終被除去，故轉印薄膜F之兩側部分(兩側緣部分)確實地持續到達作為薄膜保持機構6之輸送機61，以確保大致固定延伸率之狀態移送至沒入區域P1(轉印位置)。

再者，壓迫至薄膜保持機構6與側壁22之間之活性劑成分K較佳為之後導入溢流槽75(排出口76a)而被回收，目的在於將活性劑成分K連續地自轉印槽2回收(排出)，從而連續地進行轉印薄膜F之伸展進而連續進行精緻之液壓轉 印。

(2)被轉印體之沒入

如此轉印薄膜F變成於轉印液L面上可轉印之狀態後，將例如由輸送機51保持之被轉印體W依序以適宜之姿勢(沒入角)投入轉印液L。當然，該沒入角可根據被轉印體W(設計面S1)之形狀或凹凸等而適當變更。

此處，本實施例中沒入區域P1係略微離開之後自液中提起之出液區域P2，且被轉印體W沒入轉印液L中的時間比較長。

又，液面上之轉印薄膜F如上述圖1般變成因被轉印體W之沒入而被衝撞後開孔之狀態，該液面上殘留之薄膜變成不用於轉印之液面殘留薄膜F'。因此，本實施例中，以該液面殘留薄膜F'不到達下游之出液區域P2之方式，於轉印後儘可能快且確實地回收，以下說明該回收態樣。

(3)液面殘留薄膜之分斷

回收液面殘留薄膜F'時，首先係將液面殘留薄膜F'於沒入區域P1之下游側、且出液區域P2之上游側，在轉印槽2之長度方向(液流方向/沒入區域P1~出液區域P2之方向)上分斷，如圖1所示，向轉印後之液面殘留薄膜F'噴附氣體而使其分斷。其後，藉由氣體而被分斷之液面殘留薄膜F'利用送風或液流等而逐漸靠向兩側壁22，此處，如圖4所示，藉由設於兩側壁22之溢流槽75等而進行回收。

(4)液面殘留薄膜之回收

而且，於本實施例中，為不妨礙液面殘留薄膜F'之回 收，係於溢流槽75(排出口76)解除薄膜保持機構6(輸送機61)對薄膜之保持作用，而非於溢流槽75之近前(排出口76之上游側)解除，例如，如圖9(a)所示，較佳構成為薄膜之保持作用略微波及排出口76(重疊狀態)。目的在於直至溢流槽75為止將液面殘留薄膜F'確實地保持於輸送機61，藉此液面殘留薄膜F'不會拉拽位於轉印位置之轉印薄膜F，且於溢流槽75部分，該液面殘留薄膜F'向輸送機61之終端滑輪62B迴繞而流動，落至溢流槽75而被回收。

再者，分斷線FL之端緣附近係如上述般一面逐漸溶解、散開，一面藉由送風或液流而靠向兩側壁22。因此，回收液面殘留薄膜F'時，較佳分為兩階段回收分斷線FL之塊全體部分、以及分斷線FL之散開的夾雜物，適於此之構成為於溢流槽75之排出口76之中途部分設置的遮斷機構77。即，由於遮斷機構77之存在，即便為一台溢流槽75亦可分為遮斷機構77之前後兩階段回收液面殘留薄膜F'。具體而言，如圖9(a)所示，將分斷線FL之塊全體自遮斷機構77(堰板78或收容式遮蔽體79)誘導至上游近前側而於前方之第一階段回收，另一方面，對於分斷線FL之散開的夾雜物，則於遮斷機構77後方之第2階段回收。

又，遮斷機構77係縮小排出口76之流速誘導範圍者，因此遮斷機構77亦進行減弱薄膜之保持作用解除後之流速之控制。

如此，被氣體分斷之液面殘留薄膜F'藉由溢流槽75而確實且不對轉印位置(沒入區域P1)造成惡劣影響地被回收。

此處，作為遮斷機構77，如圖4、10所示可使用堰板78或收容式遮蔽體79，較佳為收容式遮蔽體79，僅藉由落入溢流槽75便可固定，且藉由使收容式遮蔽體79前後滑動便可容易地進行對排出口76之位置設定、及前後兩階段進行的回收比例之調節。

再者，此種液面殘留薄膜F'之回收當然係於較出液區域P2更上游側完成。

(5)出液區域淨化(非裝飾面側)

又，伴隨此種液面殘留薄膜F'之回收，本實施例中藉由出液區域淨化機構8而使出液區域P2、尤其係非裝飾面S2側淨化，以下進行說明。出液區域淨化機構8係使出液區域P2之轉印液中、液面上之夾雜物或液面上之泡A遠離出液區域P2而排出至槽外者。例如，如圖4所示，於出液區域P2之左右兩側壁22設置溢流槽82，形成自出液區域P2朝向溢流槽82之側部背離流，藉此主要實現使薄膜殘渣等液中之夾雜物不靠近出液區域P2，且亦實現其回收。進而，本實施例中如圖1、2、4所示，於轉印槽2之一方之側壁22(溢流槽82之上方)上設置送風機85，以自此通過出液區域P2而到達相反側之溢流槽82的方式進行送風。藉此，將出液區域P2(非裝飾面S2側)之液面上產生的泡A或夾雜物送入溢流槽82而進行回收。又，因此較佳為於溢流槽82上形成流速增強用凸緣84，加快液面附近之流速(導入速度)。

再者，形成上述側部背離流時較理想的是利用部分新水。

(6)出液區域淨化(設計面側)

又，本發明中係藉由設計面淨化機構9而使出液區域P2之設計面S1側淨化。即，該機構係於提起被轉印體W時使出液中之被轉印體W之設計面S1淨化，進而使先提起之被轉印體W(夾具J)落下之水滴產生之液面上之泡A、或轉印液中、液面上之夾雜物遠離設計面S1而自出液區域P2排除者，以下進行說明。

出液過程中，被轉印體W係以堆置轉印液L之方式被提起，故面向下游側之設計面S1上自然會產生迴繞流動，設計面淨化機構9係儘量消除此種迴繞流，使設計面S1不靠近夾雜物或泡A者。具體而言，如圖1、2所示，於出液區域P2設置溢流槽92而成，藉此於出液中之被轉印體W(設計面S1)上利用新水形成設計面背離流。此處，上述溢流槽92上較佳形成流速增強用凸緣94，加快液面附近之流速(導入速度)(參照圖4、12)。

再者，伴隨被轉印體W之出液，被轉印體W(設計面S1)自設計面背離流形成用之溢流槽92背離之情形時，較佳使溢流槽92逐漸向被轉印體W接近，將被轉印體W對於溢流槽92之出液地點保持固定。

因此，於使用操縱器作為被轉印體搬送裝置5之情形時，為使被轉印體W儘量不產生殘渣不良及潰散不良，較理想的是一面將提起速度設為以2m/分為上限之固定速度，將被轉印體W(設計面S1)之角度調整為與液面始終成34度，一面以距設計面背離流形成用之溢流槽92為100mm 以下之固定距離進行提起。

此處，藉由上述溢流槽82、92等所回收之轉印液L係除去夾雜物而供至循環使用(參照圖2)。

進而，本實施例中，係採用於設計面背離流形成用之溢流槽(第1段OF槽)92之後段，設有末端溢流槽(第2段OF槽)97之2段OF構造，藉此實現如下之效果。

首先，轉印槽2之中位附近(與第1段OF槽92大致相同高度附近)流動之中層流變成潛入第1段OF槽92下方之流動，故中層流即將到達第1段OF槽92前變成朝下流動，通過第1段OF槽92之後變成朝上流動。而且，藉由第1段OF槽92前之朝下流動而防止中層流向設計面S1迴繞之流動(上層流向設計面S1迴繞之流動係藉由設計面背離流防止)。

又，藉由中層流之通過第1段OF槽92後之朝上流動，下層流朝上被提起，且由於該等中層流與下層流之朝上流動，可藉由第2段OF槽97而有效地回收轉印液中、尤其係中層流之下面部分較多滯留的夾雜物。因此，於本實施例中，藉由液面殘留薄膜回收機構7、出液區域淨化機構8、設計面淨化機構9等，而以高水準實現出液區域P2之清潔化，進而實現轉印液L之清潔化。

因此，於液壓轉印後進行外塗層而實現轉印圖案之表面保護的先前液壓轉印中，係於液壓轉印後進行水清洗等，將附著於被轉印體W(設計面S1)上之水溶性薄膜除去，其後進行外塗層，故轉印時設計面S1上不會附著薄膜殘渣等夾雜物而變得不良。然而，此種先前之液壓轉印中，以高 水準維持出液區域P2之清潔化及轉印液L之清淨度，對於能進行精緻之液壓轉印而言較佳，且對於先前之液壓轉印亦較佳。

(7)被轉印體之出液

被轉印體W係自以上述方式以高水準實現清潔化之出液區域P2提起者，因此設計面S1上大體無夾雜物或泡A之附著(不良率降低)。又，自轉印液L中提起被轉印體W時之出液角可適當地變更。

(8)裝飾層之硬化處理

自轉印液L提起之被轉印體W上，之後實施使轉印圖案(裝飾層)硬化之處理。此處，係對被轉印體W照射紫外線等活性能量線(參照圖20(c))，此時被轉印體W處於設計面S1附著有半溶解狀之PVA之狀態。再者，作為使轉印圖案(裝飾層)硬化之其他手法，除了上述活性能量線照射之外亦可列舉加熱，亦可進行該等兩者而實施硬化。因此，申請專利範圍中記載之「活性能量線照射或/及加熱」之描述係指進行該等硬化處理中之任一者或兩者。

其後，被轉印體W藉由水清洗等而將PVA除去(脫膜)，經過乾燥後結束一系列作業。再者，本實施例業已使轉印圖案(裝飾層)硬化，故無需乾燥後之外塗層，但之後當然亦可進而施加外塗層。

(9)被轉印體於設計面具有開口部時之轉印

其次，對被轉印體W於設計面51具有開口部Wa時之較佳轉印態樣進行說明。關於此種被轉印體W，例如如圖20(a) 所示，較佳為於開口部Wa之背面(非裝飾面S2)側隔開適宜之間隙CL，設置薄膜衍生物120而進行轉印(沒入轉印液L)。目的在於使貼於表側之設計面S1之薄膜M，藉由薄膜衍生物120而如圖20(b)所示般在開口部Wa與薄膜衍生物120之間(間隙CL)繃緊。

此處，對通常貼於設計面S1側之薄膜M藉由薄膜衍生物120而展開至間隙CL之緣由(理由)進行說明。薄膜M通常係與皂泡相同，因此具有減小面積(表面積)而繃緊膜之性質(費馬法則)。因此，藉由以相對於開口部Wa之面積(開口部面積)，減小間隙CL之全周圍面積(設為離開全周面積)的方式設置薄膜衍生物120，可以將薄膜M誘導至間隙CL側(非裝飾面S2側)。

據此，薄膜衍生物120作為一例如圖20(a)一併所示，於正面觀察開口部Wa之狀態下，形成為與開口部Wa大致同等之大小，或者較開口部Wa大一圈，該構成用以於開口部Wa之全周確實地形成間隙CL。

又，使薄膜衍生物120位於開口部Wa之背側時，既可於夾具J上安裝薄膜衍生物120，亦可利用被轉印體W之背面(作為組合之組裝構造)而將薄膜衍生物120直接安裝至被轉印體W。

因此，薄膜衍生物120作為一例如圖20(c)所示較佳為直至裝飾層之硬化處理結束為止而位於非裝飾面S2側。又，薄膜M於出液中或本硬化處理中破裂之狀況並無特別阻礙，原因在於薄膜M係形成於被轉印體W之非裝飾面S2 側，即便破裂亦難以至設計面S1側產生破裂殘渣之泡A。

再者，於進行機器人轉印之情形時、應用輸送機51而使被轉印體W以懸突狀態自液中提起之情形時等，可以設計面S1朝上之表裏相反狀態進行提起，故即便被轉印體W於設計面S1具有開口部Wa，亦可不使用此種薄膜衍生物120而進行液壓轉印(認為設計面S1上難以附著泡A)。原因在於，若於表裏相反狀態下提起，附著於被轉印體W(設計面S1)之液體因重力而自然流入下方之背側，故即便產生破裂殘渣之泡A，該泡A亦沿上述流動而迴繞至非裝飾面S2側。

進而，上述間隙CL並非必須相對於開口部Wa之全周而固定形成，例如如圖21所示，亦可為漸減(此處係以間隙CL朝向出液下方側逐漸變寬之方式設置薄膜衍生物120)，該情形時，轉印沒入時被轉印體W與薄膜衍生物120之間易誘導空氣之散逸，可進行精緻之液壓轉印，且可期待出液後之快速排水及乾燥。

[其他實施例1]

本發明係以以上所述之實施例為一基本技術思想者，進而可考慮如下改變。

首先於上述實施例中，主要係藉由2段OF構造而有效地回收轉印液L中之夾雜物，實現出液區域P2之清潔化，而進行出液區域P2之清潔化(轉印液L之清潔化)時，並非必須為2段OF構造，亦可為如下之形態(設為「其他實施例1」)。

即，該形態(其他實施例1)作為一例如圖24~圖26所示，於設計面背離流形成用之溢流槽92之下方設置新水供給口107，自此處朝向出液區域P2朝上供給新水(其他實施例1中，對該新水附加「PU」之符號)，利用該新水而產生設計面背離流LR。當然，朝上供給至出液區域P2之新水PU不僅用於設計面背離流LR之產生、形成，且亦可利用於上述出液區域淨化機構8之側部背離流LS之產生、形成。再者，此處所述之其他實施例1中，對設計面背離流、側部背離流分別附加「LR」、「LS」之符號。因此，圖中符號「1A」係尤其對其他實施例1之液壓轉印裝置附加的符號。

又，自新水供給口107亦朝向出液區域P2供給朝下之新水PD，容易形成下述虹吸式排出部108之吸入流LV。

又，自新水供給口107亦相對於出液區域P2而供給大致平行(水平)之新水PP(圖24中朝向轉印槽2之上游側之流動)，其係自新水PU與新水PD之間之所謂中層附近以較新水PU及新水PD低的速度噴出(供給)者。此處所謂「中層(附近)」，係指根據液中之深度(高度)將轉印槽2內之轉印液L區分為上層(液面附近)/中層/下層(底部附近)之3種時的中層，其中容易含有薄膜殘渣。

虹吸式排出部108係設於該新水供給口107之背面側，將含薄膜殘渣等夾雜物之轉印液L(主要為中層水)自轉印槽2(處理槽21)下方吸起(回收)而排出至槽外者。即，本實施例(其他實施例1)之虹吸式排出部108形成為，下方之吸入 口108a設於較新水供給口107低之位置上，以能將此處取入之轉，印液L吸起至液面上位置的方式，將中途之移送路徑形成地極窄(例如流路剖面10mm左右之間隔)，將該路徑設為虹吸路徑108b。又，將由虹吸式排出部108吸入之轉印液L中之流動設為吸入流LV，該吸入流LV係利用自新水供給口107朝下供給至出液區域P2的新水PD而形成(藉由新水PD而有效地形成)。

再者，為易於利用新水PD形成吸入流LV(更有效地利用新水PD形成吸入流LV)，如圖24、25所示，較佳於處理槽21之末端底部(新水供給口107之下方)設置錐形狀之傾斜板23，並且將上述虹吸式排出部108之吸入口108a以與該傾斜板23之最上端部面對面的方式形成。即，藉由傾斜板23，轉印槽2(處理槽21)形成為隨著隨著接近槽末端部而槽深度逐漸變淺(槽底部形成地逐漸提昇)，較理想為以與該傾斜板23之最上端部面對面的方式設置上述虹吸式排出部108之吸入口108a。藉此，使沿傾斜板23之傾斜而上升之轉印液L之流動借其勢頭而有效地取入吸入口108a。

又，藉由虹吸式排出部108(或此外亦藉由傾斜板23)而形成吸入流LV之目的在於，將轉印液L(尤其係中層水)中滯留之薄膜殘渣等夾雜物朝向下方(底部)而移送後(流過後)，自此處吸起(回收)，藉此使夾雜物不向上方之出液區域P2上升。因此，即便虹吸式排出部108未完全吸起轉印液L，新水PD變成吸入流LV而形成朝向吸入口108a之流動(朝下流動)，而可於轉印槽2底部形成加快朝下之沈澱分離 之流動。

又，自新水供給口107相對於出液區域P2大致平行(水平)地供給之新水PP用以防止各新水PU、PD之作用相互阻礙，而促進各新水PU、PD之作用。具體而言，新水PP係促進使含夾雜物之中層水藉由新水PD所形成之吸入流LV而排出之作用，且亦加快新水PU變成設計面背離流LR或側部背離流LS而誘導至各溢流槽82、92，有助於清潔區域之擴大化。

其次，對藉由側部背離流形成用之溢流槽82、設計面背離流形成用之溢流槽92、虹吸式排出部108所回收之轉印液L之淨化手法進行說明。藉由該等而回收之轉印液L例如如圖24所示，經過水位調整槽而送至淨化裝置，於此處除去夾雜物之後，經過溫度調整槽而作為新水(淨化水)重新利用。當然，淨化裝置所捕捉之夾雜物被廢棄。

再者，將溢流槽82所回收之轉印液L(含夾雜物)送入水位調整槽之管路之中途、或水位調整槽之底部，連接有將滯留於此之夾雜物(殘渣)排出的廢棄管。又，作為液面殘留薄膜回收機構7之溢流槽75中由於夾雜物之混入比例較高，故通常係直接廢棄。

因此，水位調整槽或淨化裝置(沈澱槽)等自轉印液中除去去除夾雜物時係以如下方式實現淨化：藉由板(堰板)等暫時阻止調整槽或沈澱槽內之液體而使其貯留，將貯留水之比較清潔之清水送往後段。

又，以上述方式經淨化之新水例如如圖24所示係自薄膜 供給側(上游側)之導引輸送機33之下方、或轉印槽2之中流域部分之傾斜部24供給，此外亦自例如新水供給口107(設計面背離流形成用之溢流槽92之下方)朝向出液區域P2而朝上及朝下且平行(水平)地供給。此處所謂「朝向出液區域P2而朝上供給之新水PU」係指如上述般用以形成設計面背離流LR或側部背離流LS之新水，所謂「朝向出液區域P2朝下供給之新水PD」係用以形成上述虹吸式排出部108之吸入流LV的新水。

又，向轉印槽2供給新水時之噴出口、具體而言為轉印槽中流域部分之傾斜部24、及新水供給口107處，較佳設有穿孔金屬等，使供給之新水自較廣範圍均勻地噴出(防止部分新水直進)。

[其他實施例2]

又，於之前所述之基本實施例中，表示了向轉印薄膜F塗佈活性劑之後，供給至轉印槽2之形態(參照圖1)，如上述般轉印薄膜F之活性化亦可以供給至轉印槽2且著液之狀態進行，該情形時，存在與此相稱之較佳活性化態樣，故以下進行說明(設為「其他實施例2」)。即，於其他實施例2中，活性劑塗佈裝置(基本實施例中附加有「4」之符號的裝置)變成使供給至轉印槽之轉印液L面上之轉印薄膜F活性化的態樣，尤其對該裝置附加「活性劑塗佈裝置40」之符號，以與基本實施例進行區別。又，因此，亦對其他實施例2中之液壓轉印裝置附加「1B」之符號。

液壓轉印裝置1B作為一例如圖27~圖29所示，包括貯留 轉印液L之轉印槽20、向該轉印槽20供給轉印薄膜F之轉印薄膜供給裝置30、使供給至轉印槽20之轉印薄膜F於液面上活性化而變成可轉印之狀態的活性劑塗佈裝置40、以及自轉印槽20上懸浮支持之轉印薄膜F之上方以適宜之姿勢使被轉印體W投入(沒入)且出液(提起)的被轉印體搬送裝置50。

又，轉印槽20包括：活性化前導引機構60，保持著液之轉印薄膜F之兩側且將其移送至活性化區域Z2；活性化後導引機構70，保持活性劑塗佈後之轉印薄膜F之兩側且將其移送至轉印區域Z3；以及伸展下降防止機構80，藉由除去轉印液面上之活性劑成分而防止轉印薄膜F之伸展下降。

再者，於圖28所示之實施例中，於轉印槽20之後段進而具備脫膜清洗裝置90，其承擔將轉印時附著於被轉印體W表面之半溶解狀之水溶性薄膜溶解清洗的步驟。

又，於其他實施例2中，將轉印薄膜F於轉印槽20內之轉印液L著液之地點(區域)設為著液地點Z1，將塗佈有活性劑之區域設為活性化區域Z2，將進行轉印之區域稱為轉印區域Z3。因此，轉印係與被轉印體W之沒入同時大致完成，故轉印區域Z3亦稱為沒入區域，其相當於基本實施例中之「沒入區域P1」。又，此處亦使用「活性劑」及「活性劑成分」之用語，所謂「活性劑成分」係塗佈於轉印薄膜F或轉印液面上之活性劑，之後於轉印液面上懸浮、滯留而降低轉印薄膜F之伸展者的名稱。以下，對各構成部 進行說明。

首先，於說明轉印槽20之前，對轉印薄膜供給裝置30進行說明。轉印薄膜供給裝置30作為一例，如圖27所示，包括包含經輥卷之轉印薄膜F而成之薄膜輥31(對與基本實施例相同之構件附加相同符號)、以及將自薄膜輥31提起之轉印薄膜F誘導至轉印槽20時於薄膜兩側部在薄膜寬度方向形成條帶狀之凹凸的凹凸成形輥302。此處，於轉印薄膜F之兩側部形成條帶狀之凹凸係為了於著液後防止水溶性薄膜吸收水分而可能於薄膜兩側產生捲起者，將該凹凸設為防捲起用凹凸R(關於捲起參照圖23)。即，轉印薄膜F向轉印槽20供給時，係以兩側部分以大致固定之寬度尺寸形成防捲起用凹凸R之狀態而被供給(誘導)至轉印液面上。

又，作為一例，如上述圖27一併所示，凹凸成形輥302係由設為外接狀態之橡膠平滑輥303與鋸齒輥304之組合而構成，因此防捲起用凹凸R係形成為沿薄膜之寬度方向之折痕或條紋(條)。

再者，為易於在轉印薄膜F上形成防捲起用凹凸R，既可事先將轉印薄膜F加熱，例如作為一手法可列舉於鋸齒輥304內置加熱器之手法。

以下，說明防捲起用凹凸R防止捲起現象之緣由(理由)。防捲起用凹凸R係沿薄膜之寬度方向而形成之摺線(條紋)，單純形成有此種條紋之薄膜難以於寬度方向彎曲(條紋具有阻止彎曲之黏度或強度)，但並不意味著僅沿寬 度方向形成之摺線(條紋)具有防止捲起之強度，防捲起用凹凸R於上下方向具有某種程度之高低差亦較重要。即，具有高低差之防捲起用凹凸R(條紋)自下側之部位逐漸著液直至凹凸全體著液為止，需要一定程度之時間。即，自凹凸之最下部就開始浸入轉印液L起，直至凹凸之最上部浸入為止存在時間差，藉由該時間差而未著液之凹凸上部具有防止捲起之強度，其係具有防止轉印薄膜F之著液後之捲起的功能者。

又，據此，防捲起用凹凸R為維持黏度，認為折痕程度良好、各凹凸完全切斷之狹縫狀並不佳。因此，上述橡膠平滑輥303與鋸齒輥304之組合因該點(各凹凸未完全切斷之點)而為較佳構成。

再者，一面供給轉印薄膜F即抽出轉印薄膜F，一面於薄膜上形成如上所述之防捲起用凹凸R較為困難之情形時等，可如上述般首先於抽出時將薄膜兩側部加熱(使薄膜容易變形)，然後藉由凹凸成形輥302而形成防捲起用凹凸R。

又，防捲起用凹凸R只要具有能對抗捲起之黏度便可，故薄膜無須為側面觀察狀態完全之摺線(Z字線)，例如亦可如圖32(a)所示之波狀(波形)。該情形時，如圖32(a)一併所示，凹凸成形輥302通常係由相互嚙合之波形之一對齒輪305、306而構成。

又，作為形成防捲起用凹凸R的機構，並非必須不限定於接觸類型之凹凸成形輥302，例如，亦可應用如圖32(b) 所示之非接觸類型之雷射刻號機307，該情形時，與凹凸成形輥302相比可形成尤其微觀之防捲起用凹凸R。當然，雷射刻號機307係於轉印薄膜F之左右兩側各設置一台。

進而，防捲起用凹凸R除了側面觀察為摺線狀(Z字狀)或波狀(波形)以外，亦可形成為如例如圖32(c)所示之角齒狀(鍵狀)之凹凸。

再者，防捲起用凹凸R只要具有與欲向寬度方向上卷之捲起對抗的黏度(強度)便可，故並非必須沿薄膜之寬度方向形成，亦可相對於薄膜寬度方向而傾斜形成。

因此，將轉印薄膜F供給至轉印槽20時，為使轉印薄膜F確實地著液，且使著液地點Z1維持、穩定於固定之位置，較佳為於著液地點Z1處噴附將轉印薄膜F推向液面側之氣體(遍及寬度方向之氣體)。又，為穩定進行轉印薄膜F自凹凸成形輥302向轉印槽20之誘導，較佳設置如滑動台之傾斜導板，但並非必須於薄膜之寬度方向上連續(亦可於寬度方向上部分設置非連續之短條狀者)。

其次，說明活性劑塗佈裝置40。活性劑塗佈裝置40係將轉印薄膜F活性化為可轉印之狀態者，於本實施例(其他實施例2)中如上述般其較大特徵之一為以轉印薄膜F已誘導(供給)至轉印液面上之狀態、換言之轉印薄膜F於液面上懸浮之狀態塗佈活性劑。

作為塗佈活性劑之手法，作為一例，可應用本申請人也已取得專利之日本專利第3845078號之靜電噴射之手法。例如，如圖27所示，該手法係對轉印液面上之轉印薄膜 F(轉印圖案)自噴槍(噴霧噴嘴)401散佈活性劑的塗佈手法，且對於在轉印液面上移送之轉印薄膜F，一面使噴槍401橫切轉印薄膜而往復移動(所謂之來回移動)，一面噴射活性劑。此時，於噴槍401之噴出口使活性劑帶電，並且使轉印液面上懸浮之轉印薄膜F經由轉印液L及轉印槽20而接地，藉此可將活性劑均勻地塗佈於轉印薄膜F。再者，噴槍401係將活性劑呈輻射狀散佈於大致固定之範圍，故噴槍401往復移動之來回移動軌跡係相當於活性化區域Z2之大致中央者(參照圖31(b))。

又，噴槍401構成為以大於轉印薄膜F之寬度尺寸之衝程往復移動，且越過轉印薄膜F之寬度尺寸而散佈活性劑。其目的在於使轉印薄膜F上不存在未散佈活性劑之部位，而使轉印薄膜F均等地伸展。因此，於轉印薄膜F之外方，轉印液面上必然會散佈(懸浮)過剩或者多餘的活性劑(未作為原本使轉印薄膜F之油墨活性化而使用之活性劑)。

據此，本手法中往復移動之噴槍(噴出口)401之前後與兩側部係由濾罩402覆蓋，尤其防止過剩/多餘的活性劑向活性化區域Z2之外部飛散，不使作業環境變化。當然，濾罩402係自液面上之轉印薄膜F隔開若干間隙而設，故較佳為自該間隙亦極少漏出活性劑。再者，液面上之過剩/多餘的活性劑成分係藉由伸展下降防止機構80(下述排水筒802或小型之水泵等)而與轉印液L一併排出(回收)，且濾罩402內懸浮飛散之過剩/多餘的活性劑亦藉由濾罩402內因上述排出產生之氣流而同時被抽吸，且與轉印液L混合排 出。又，經回收之轉印液L與含多餘的活性劑成分之空氣進行混合處理後，進行廢棄處理。

因此，活性化區域Z2通常係設定為自轉印薄膜F著水(著液)之著液地點Z1略微離開之位置上，該期間(著液~活性化為止之期間)用以使薄膜下側之水溶性薄膜含水而變得柔軟，且於其後之活性化時薄膜全體無畸變且均等地伸展(可認為係伸展之準備階段)。即，薄膜上側之乾燥狀態之油墨藉由活性劑之塗佈而瞬間解除伸展抑制狀態，確保應力之散逸通道之寬度方向上無畸變且左右均等地伸展者，著液~活性化為止之區間可認為係使薄膜下側之水溶性薄膜追隨其伸展的膨潤化區間(柔軟化區間)。

再者，作為活性劑，只要為能使轉印薄膜F(轉印圖案)之乾燥狀態之油墨返回至剛印刷後同等濕潤狀態而轉印之狀態者便可，例如可使用於樹脂成分中以適當比例添加顏料、溶劑、增塑劑等而成者，但亦可僅使用能對油墨賦予可塑性之稀釋劑等溶劑。

其次，說明轉印槽20，包含處理槽21及側壁22之基本構造係與之前所述的基本實施例相同，故省略此處之說明。再者，此處(其他實施例2中)，對處理槽21或側壁22等與基本實施例相同之構件附加相同符號。

又，於連續進行液壓轉印之情形時(所謂之連續處理)，通常於處理槽21之液面部分形成有將轉印液L自著液地點Z1(上游側)送至轉印區域Z3(下游側)的液流。具體而言，例如如圖28所示，於轉印槽20之下游端部形成有溢流部 203，將於此處回收之轉印液L通過循環管路204而主要自轉印槽20之上游部分循環供給，藉此於轉印液L之液面附近形成上述液流。當然，溢流部203或循環管路204上設有沈澱槽或過濾環等淨化設備，可將轉印液L中分散、滯留之過剩薄膜或薄膜殘渣等夾雜物自回收液(懸浮液)中除去而重新利用。又，重新利用時，如上述圖28一併所示，較佳為自溢流部203回收之懸浮液中沈澱油墨等固形成分後，進而藉由溫度感測器或加熱器等溫度調節裝置進行水溫調整後供至重新利用(送至轉印槽20之上游側)。

再者，轉印槽2係形成為使活性化區域Z2之後變深、尤其係使轉印區域Z3變深。

又，轉印槽20上設有如上述般將供給至轉印槽20之轉印薄膜F導引至活性化區域Z2為止之活性化前導引機構60、將活性劑塗佈後之轉印薄膜F導引至轉印區域Z3為止之活性化後導引機構70、以及將轉印液面上之活性劑成分除去而加快轉印薄膜F之伸展的伸展下降防止機構80，以下說明該等機構。

首先，說明活性化前導引機構60。活性化前導引機構60於活性化區域Z2之前段係設於轉印槽20之兩側壁22之內側，且一面將供給至轉印槽20之中央液面上的轉印薄膜F於左右均等之位置(距兩側壁22均等之位置)上保持薄膜兩側，一面將該薄膜導引至活性化區域Z2為止。

作為一例，如圖27所示，活性化前導引機構60係由於滑輪602上捲繞環狀之皮帶603而成之輸送機601構成者。此 處，作為滑輪602，有藉由馬達等直接驅動者、及經由皮帶603而傳遞旋轉者，於欲加以區別之情形時，將前者設為驅動滑輪602A、將後者設為從動滑輪602B。再者，於圖27所示之實施例中，滑輪602之旋轉軸604係設定於大致鉛垂方向上，且形成為皮帶603自身之寬度方向為轉印液面之深度(高度)方向，其原因在於，即便轉印槽20內之液位準發生變化，亦可以皮帶603之寬度尺寸對應，可不變更輸送機601全體之高度。

藉由此種活性化前導引機構60(輸送機601)，將供給至轉印槽20之中央之液面上之轉印薄膜F以左右均等位置之兩側受到規制的狀態移送至活性化區域Z2，故移送中之轉印薄膜F不會發生偏離或位置偏移或者蜿蜒等。明瞭地，活性化前導引機構60可防止活性化前之轉印薄膜F之寬度方向之位置偏移或者實現中心對準。

再者，活性化前導引機構60對轉印薄膜F之兩側保持亦可視為寬度方向規制，該情形時，活性化前導引機構60可以對薄膜下側之水溶性薄膜加快厚度方向之膨潤、擴大，其結果為限制(規制)薄膜寬度方向之膨潤、擴大。當然，轉印薄膜F即便著液，薄膜上側之油墨亦較硬，故起初油墨發揮對寬度方向膨潤規制，但活性化前導引機構60亦發揮寬度方向膨潤規制之作用、或者強化該作用。又，使活性化前之轉印薄膜F向厚度方向膨潤(加快)係如上述般為了使活性化階段中轉印薄膜F向寬度方向無畸變且左右均等地伸展。如此，活性化前導引機構60原本係擔當位置對 準之作用，直到活性化前為止，一面加快轉印薄膜F向厚度方向之膨潤且亦抑制寬度方向之伸展，一面向活性化區域Z2供給。

又，活性化前導引機構60對轉印薄膜F之兩側保持係即將到達活性化區域Z2之前解除(放開)。即，塗佈有活性劑之薄膜兩側為自由狀態，其原因在於使得活性劑塗佈之伸展不受到活性化前導引機構60之阻礙。當然，轉印薄膜F係以自著液地點Z1連接於活性化區域Z2(進而直至轉印區域Z3為止)之狀態被移送，故即便於即將到達活性化區域Z2之前解除兩側保持，活性化前導引機構60之導引作用亦作用於上游側之部位，就薄膜全體而言，活性化區域Z2亦發揮位置對準之功能。

再者，轉印薄膜F係於自活性化前導引機構60剛放開後到達活性化區域Z2，故即便於活性劑未塗佈之狀態下，亦與自活性化前導引機構60放開同時地開始稍微之伸展(當然，與活性劑塗佈之伸展相比，伸展度較低)。

又，此種活性化前導引機構60(輸送機601)為了應對各種不同寬度尺寸之轉印薄膜F，較佳為能夠自由調整左右之皮帶603之間隔的構成，以下說明此種實施例。作為此種構成(寬度尺寸調整功能)，例如如圖34(a)所示，可列舉於前端部分將旋轉自由地支持滑輪602(從動滑輪602B)之臂桿605自轉印槽20之側壁22起伸縮自由(伸出自由)地設置的手法(所謂之伸縮式)。再者，臂桿605係可藉由夾板606等而以任意位置(伸出尺寸)固定者。

又，如圖34(b)所示，亦考慮有將支持滑輪602之臂桿605相對於轉印槽20之側壁22轉動自由地設置，藉由夾板606等而將該臂桿605固定於任意轉動位置的手法(所謂之擺動式)。當然，亦可將此種伸縮式與擺動式任意組合使用。

再者，於本實施例中，活性化前導引機構60係由皮帶603構成，但亦可應用鏈條或比較粗的絞合線等。

又，上述圖27中係以左右之皮帶603大致平行之方式設置活性化前導引機構60，但活性化前導引機構6對轉印薄膜F之位置對準只要於轉印薄膜F被送至活性化區域Z2之前進行便可，如例如如圖33所示，活性化前導引機構60(輸送機601)亦可以自著液地點Z1朝向活性化區域Z2逐漸使左右之皮帶間隔變窄的方式設置、即俯視狀態下設為「」字狀。

其次，說明活性化後導引機構70。活性化後導引機構70於活性化區域Z2之後段係設於轉印槽20之兩側壁22之內側，一面保持活性化後之轉印薄膜F之兩側一面將轉印薄膜F導引至轉印區域Z3為止。當然，塗佈有活性劑之轉印薄膜F係向唯一無規制之寬度方向上無畸變且左右均等地伸展(延展)，到達上述活性化後導引機構70(鏈條輸送機701)而結束伸展，故該機構亦擔當自兩側規制該薄膜之延伸的作用。即，活性化後導引機構70(鏈條輸送機701)係以將轉印薄膜F之延伸維持為大致固定的狀態，將轉印薄膜F移送至轉印區域Z3為止，藉此轉印區域Z3內轉印薄膜F之 延伸始終維持為相同程度，從而可連續進行精緻之轉印。

作為一例，如圖27所示，活性化後導引機構70係應用鏈條輸送機701，該鏈條輸送機701係於齒輪702上捲繞鏈條703而成者，且設定為齒輪702之旋轉軸704為水平。鏈條703係以於液面與液中循環移動之方式上下配置，且於液面附近鏈條703之中心與液面位準一致。因此，鏈條703之最上面較液面位準略向上方出現(伸出)，藉此鏈條703構成為與液面上之轉印薄膜F之兩側比較牢固地接觸、保持。

此處，活性化後導引機構70係設於活性化區域Z2之後段，故藉由本機構而保持、規制轉印薄膜F之兩側之寬度尺寸(鏈條輸送機701之間隔)當然設定地比由活性化前導引機構60保持轉印薄膜F之兩側的寬度尺寸(輸送機601之間隔)大。因此，活性化後導引機構70並非必須由鏈條輸送機701構成，亦可由皮帶或比較粗的絞合線等構成。

又，活性化後導引機構70(鏈條輸送機701)中寬度尺寸亦並非必須維持固定，亦可以自活性化區域Z2朝向轉印區域Z3(即朝向下游)使左右之寬度尺寸逐漸變窄的方式設置鏈條輸送機701。藉此，可將活性化後之轉印薄膜F之轉印圖案繃緊(抑制圖案延伸)，從而可將轉印圖案(圖案)更鮮明地轉印。

再者，於上述圖27中，構成為活性化前導引機構60與活性化後導引機構70完全獨立(作為一例皮帶603之輸送機601與鏈條輸送機701為分離構成)，例如，如圖30所示，亦可使活性化前導引機構60保持薄膜兩側之導引構件(此 處為皮帶603)處理至活性化區域Z2之後(作為活性化後導引機構70亦適用)，將因活性化而伸展之轉印薄膜F利用同一導引構件予以保持。該情形時，於活性化區域Z2中，當然為導引構件(皮帶603)避開轉印薄膜F(活性化區域Z2)之配置、例如退避至側壁22附近(參照圖31(a))、或者較深潛入液中。因此，於此種形態(活性化前導引機構60與活性化後導引機構70中使保持薄膜兩側之導引構件共通化的形態)中，可於活性化之前後以相同速度移送轉印薄膜F，於活性化區域Z2與轉印區域Z3使薄膜速度一致而進行轉印之情形時能有效地進行轉印。

另一方面，相對於此如上述圖27般、於使活性化前導引機構60與活性化後導引機構70完全獨立形成之情形時，可於活性化前後變更轉印薄膜F之移送速度，故欲於活性化區域Z2與轉印區域Z3使薄膜速度不同的情形時可有效地進行轉印。

又，活性化前導引機構60或活性化後導引機構70較佳為亦包含活性劑塗佈裝置40，以能適當設定活性化時序或轉印時序的方式，相對於轉印槽20而前後移動自由(以上游側為前)地設置。

其次，對伸展下降防止機構80進行說明。

其他實施例2中，根據將活性劑塗佈(散佈)於液面上、為使轉印薄膜F均等伸展而將活性劑塗佈至越過轉印薄膜F兩側之外側部位等，轉印液面上總會變成過剩/多餘的活性劑易於液面上懸浮、滯留的狀況。此種活性劑成分發揮 阻礙轉印薄膜F之伸展的作用，故本實施例中，活性化區域Z2、因活性化而伸展之轉印薄膜F即將與活性化後導引機構70接觸之前之位置(以下僅稱為「即將接觸前位置」)藉由除去機構801將活性劑成分回收、除去，此為伸展下降防止機構80。

因此，伸展下降防止機構80(除去機構801)係用以將液面上懸浮之活性劑成分回收、除去，加快利用活性化而擴大之轉印薄膜F之伸展，使轉印薄膜F確實且穩定地接觸導引機構、尤其係活性化後導引機構70的機構。又，因此即便進行重複轉印，因活性化而無畸變且左右均等地伸展之轉印薄膜F穩定、持續地(持續伸展加快地)接觸導引機構(活性化後導引機構70)，從而可持續進行精緻之轉印。

此處，說明轉印液面上懸浮、滯留之活性劑成分會阻礙轉印薄膜F伸展之緣由。

於活性化區域Z2中，活性化前導引機構60對薄膜兩側之保持(規制)被解除，故活性化區域Z2至活性化後導引機構70之間，液面之流動趨於變弱，尤其係活性化區域Z2內自薄膜伸出之而塗佈之活性劑易於滯留此處。因此，若直接重複進行液壓轉印，則活性劑成分於活性化區域Z2之轉印液面上逐漸增加，進入轉印薄膜F與導引機構(活性化後導引機構70)之間，阻礙轉印薄膜F之伸展(擴展)。若變成此種狀況，則轉印薄膜F不會到達導引機構，不僅無法獲得左右均等之伸展，而且薄膜之移送亦變得不均勻，亦可能產生圖案彎曲、圖案畸變等各種不良狀況。

再者，此處，如上述般、將伸展下降防止機構80(除去機構801)設於活性化區域Z2、即將接觸前位置之雙方。其中設於活性化區域Z2之除去機構801主要將向轉印薄膜F之外側伸出而噴射至液面上之活性劑(活性劑成分)除去、回收，其係應用排水筒802。

排水筒802作為一例而設為吸入口(回收口)於水面下(例如距液面4mm左右潛入之位置)朝上。此處，排水筒802之回收較佳為將液面上之活性劑成分與轉印液L一併積極地吸入的真空手法，但亦可為使液面上之活性劑成分與轉印液L一併自然落水之回收形態(所謂之溢流)。因此，若為將液面上之活性劑成分與轉印液L一併積極地抽吸之真空手法，則例如如圖31所示，濾罩402內之氣體亦可一併抽吸、排氣，藉此濾罩402內產生濾罩402與轉印薄膜F之間隙、自以噴槍401能往復移動之方式形成於濾罩402上部之開口部朝向排水筒802流動的空氣之流動，該氣流亦有助於活性劑(濾罩402內漂浮之過剩/多餘的活性劑)之排出，亦可有效發揮減少噴射活性化裝置(活性劑塗佈裝置40)周邊之溶劑味之效果。再者，排水筒802較佳於噴槍401往復移動之薄膜之兩外側(兩側部)設置一對。

又，如圖31(尤其係圖31(b))所示，較佳為於排水筒802(吸入口)之內側設置加快氣液接觸之填充材，更佳為於此種排水筒802之排水側後段設置內置由填充材及除霧器的噴霧分隔件803，藉此可使含多餘的活性劑成分之空氣與轉印液(回收液)更有效地氣液混合而排出。因此，於本 實施例中，可將含多餘的活性劑成分之空氣完全溶入轉印液(回收液)，溶入後之回收液藉由水泵而循環再利用或者排出(排氣)。又，藉此對於自排氣扇804釋放之排氣(空氣)，完全除去活性劑、溶劑味，無需另外設置昂貴的溶劑回收裝置，可有效地進行活性劑、溶劑成分之排氣、排水處理。

如此，於本實施例中，藉由排水筒802而有效地回收欲滯留於活性化區域Z2之兩側的活性劑成分，故活性化後之轉印薄膜F易於左右均等地伸展。當然，藉由朝向排水筒802流動之液流，亦可期待使活性化後之轉印薄膜F左右均等地伸展的效果。

再者，作為設於活性化區域Z2之除去機構801，不僅可應用排水筒802(包含自然落水之溢流手法)，亦可使用小型之水泵(真空泵)等。

另一方面，設於即將接觸前位置之除去機構801係將活性化後導引機構70(鏈條輸送機701)與轉印薄膜F之間之轉印液面上成為液膜而欲擴展之活性劑成分除去者，此處係採用鼓風手法。即，於活性化區域Z2中，如上述般認為活性劑成分易停滯，因此用以將活性劑成分除去之氣體作為一例如圖27所示，係以自活性化區域Z2於即將接觸前位置上易停滯之活性劑成分擠壓(送往)導件背側即活性化後導引機構70與側壁22之間的方式送風。因此，由於活性化後導引機構70(鏈條輸送機701)之上表面係設定於較轉印液面高之位置上等，故上述導件背側係實質上對轉印並無影響 或者對轉印造成之影響極少之部位。

再者，自活性化區域Z2於即將接觸前位置易停滯之活性劑成分被擠壓的部位並不僅限於導件背側，亦可逼迫至設於活性化區域Z2之兩側之排水筒802(或水泵)，並於此處回收。

其次，進而對除去即將接觸前位置之活性劑成分之除去機構801之具體構成進行說明。作為一例如圖27所示，除去機構801係應用兩台壓縮空氣噴出噴嘴805者，該壓縮空氣噴出噴嘴805如圖示般較佳具備多關節接頭類型之可撓性軟管，目的在於容易進行噴嘴之位置、送風方向等之微調整。

因此，用以除去活性劑成分之送風較佳為並非使風作用(碰觸)轉印薄膜F自身，而是使風僅作用於不存在薄膜之轉印液面，目的在於穩定維持轉印液面，將轉印薄膜F以儘量無波動之狀態移送至轉印區域Z3。又，其中作為壓縮空氣噴出噴嘴85，較理想為使用形成朝向噴出口而前端變窄狀之噴嘴，使氣體以針點形式作用於目標液面。

又，於圖27中，自兩台壓縮空氣噴出噴嘴805之送風多少係與轉印液流逆行之送風形態，但兩台壓縮空氣噴出噴嘴805只要具有能使液面上之活性劑成分(液膜)逼迫至排水筒802或小型水泵或者導件背側之程度之較小能力(送風力)便可，故不必擔憂壓縮空氣噴出噴嘴805之送風阻礙轉印液L之液流。當然，壓縮空氣噴出噴嘴805之送風例如如圖33所示，亦可大致沿轉印液L之液流(朝向下游側)而送 風。

又，於圖27中，如上述般係以於活性化區域Z2與即將接觸前位置之雙方設置伸展下降防止機構80(除去機構801)之形態為基礎，設置排水筒802與壓縮空氣噴出噴嘴805之雙方，但只要藉由任一方之除去機構801便可將活性劑成分除去至轉印薄膜F能持續進行伸展之程度，則亦可為任意一方。因此，例如可採用如下形態：將於上游側之活性化區域Z2作用之排水筒802設為除去機構801之主線，當該排水筒802之除去能力不足時，使壓縮空氣噴出噴嘴805作動(或者設置)，防止活性劑成分進入轉印薄膜F與活性化後導引機構70(鏈條輸送機701)之間。又，亦可左右設置不同之除去機構801，例如於圖33中，俯視時於液流之左側之側壁22附近設置排水筒802，於相反側之側壁22附近設置壓縮空氣噴出噴嘴805。

其次，對被轉印體搬送裝置50而言亦基本上與之前所述的基本實施例相同之構成，故此處省略說明。其中，對其他實施例2之被轉印體搬送裝置附加符號「50」。

其次，對脫膜清洗裝置90進行說明。脫膜清洗裝置90係於自轉印液L中提起之被轉印體W之表面上，將變成膜狀而附著、殘留之半溶解狀之水溶性薄膜沖洗者(使被轉印體W之表面僅保留經轉印之轉印圖案者)，作為一例，如圖28所示，包括將自轉印槽20(轉印區域Z3)中取出之被轉印體W載置、搬送的輸送機901、向該輸送機901上搬送之被轉印體W噴灑水(熱水)之熱水噴頭902、向水清洗後之被轉 印體W噴灑淋洗水之淋洗水噴頭903、以及貯留脫膜清洗後之熱水及淋洗水(含經溶解之水溶性薄膜之清洗廢水)的貯留槽904。又，貯留槽904上形成有溢流部203並且藉由循環排水管路905而連接於上述轉印槽20，將貯留槽904中溢流之清洗廢水(含水溶性薄膜之脫膜清洗廢水)導至上述轉印槽20之溢流部203之近前，此處亦將脫膜清洗步驟中沖掉之水溶性薄膜沈澱、回收。

當然，於循環排水管路905之中途較佳設置過濾器，此處亦較佳除去脫膜清洗步驟中產生之水溶性薄膜等夾雜物。又，如此於欲極力循環利用水之情形時，可自貯留槽904中重新利用熱水噴頭902用之水、淋洗水噴頭903用之水，該情形時，熱水噴頭902用及淋洗水噴頭903用之供給管路902a、903a中亦較佳設置除去夾雜物之過濾器。

此處，說明極力循環利用水之情形時(將脫膜清洗後之排水重新供給至轉印槽20之情形時)的效果。

[比較例]

首先，於先前之液壓轉印手法即不將脫膜清洗後之排水再次供給至轉印槽20之系統中，一週轉印量與轉印水之更換水量及PVA濃度之變化係如圖35所示之表及圖表所示般，當PVA濃度為500ppm以下時，轉印薄膜F較硬，附著性較差，其後持續良好之薄膜狀態，弱鹼PVA濃度上升至3000ppm則轉印薄膜F變得過於柔軟，產生轉印不良增加之傾向。再者，該一週更換、補充之轉印槽水量為23噸。

[實施例(其他實施例2：圖28)]

另一方面，於將脫膜清洗後之排水再次供給至轉印槽20之本系統中，脫膜清洗裝置90實施利用兩個貯留槽904及循環泵之熱水噴頭902、及20L/分之淋洗水噴頭903，自貯留槽904之末端中層部向轉印槽20導入15L/分之脫膜水(參照圖2)。脫膜水之PVA濃度於3小時後為600ppm、8小時後為1200ppm。

轉印槽2之初期之PVA濃度調整為500ppm，導入上述脫膜水而繼續進行轉印加工，結果為8小時後之轉印水之PVA濃度為1350ppm、16小時後為1700ppm、80小時後為2000ppm、160小時後為2040ppm，轉印薄膜特性亦穩定，未見轉印薄膜F之不良。

期間排出之轉印槽水含沈澱槽之底所存留之油墨殘渣的底水為每2日為200L左右，一週為600L左右。不僅可減少2週之轉印槽水之更換作業工時，亦可削減更換水量45噸，不僅轉印不良削減，亦可獲得對於水資源缺乏之地域尤其有用的效果。

液壓轉印裝置1B係以如上所述之方式構成者，以下一面說明該液壓轉印裝置1B之作動態樣(液壓轉印方法)一面同時說明轉印薄膜之活性化方法。

(1)活性化前：轉印薄膜之供給(應浮於液面之前)

進行液壓轉印時，首先向貯留有轉印液L之轉印槽20上供給轉印薄膜F。此處，如上述般為水上活性，故轉印薄膜F不活性化而供給至轉印槽20。此時，轉印薄膜F係一面通過凹凸成形輥302一面被供給至轉印槽20，藉此轉印薄 膜F係以兩側部形成有防捲起用凹凸R之狀態而被提起至轉印液面上。

(2)活性化前：防捲起

供給至轉印液面上之轉印薄膜F由於形成於兩側之防捲起用凹凸R係以具有對抗寬度方向翹曲之充分黏度(強度)的方式形成等方面，而得以防止捲起現象。因此，供給至轉印液面上之轉印薄膜F使兩側不產生自液面背離之捲起，確實地接觸於活性化前導引機構60(輸送機601之皮帶603)，將兩側準確地予以保持。又，藉此轉印薄膜F不會偏向任一側壁22，且亦不產生位置偏移或蜿蜒，而被移送至活性化區域Z2。進而，可擴大薄膜有效使用寬度，且亦可抑制寬度方向之伸展率，故可緩和圖案延伸感，表現出高精細之轉印設計。再者，形成防捲起用凹凸R時，並非必須使用凹凸成形輥302，亦可應用雷射刻號機307，該情形時，可形成較凹凸成形輥302更微細之防捲起用凹凸R。

(3)活性化前：被活性化前導件保持之期間之轉印薄膜之狀況

接觸活性化前導引機構60且兩側被保持之轉印薄膜F藉由該保持而被規制薄膜寬度方向之位置，故加快向厚度方向之膨潤、擴大。即，著液後之轉印薄膜F尤其係薄膜下側之水溶性薄膜於厚度方向上膨潤、擴大直至活性化區域Z2為止，其結果為變成寬度方向上之膨潤、擴大受到規制之狀態。再者，如此使活性化前之轉印薄膜F(水溶性薄膜)向厚度方向膨潤，目的在於之後的活性化階段中使轉 印薄膜F向寬度方向無畸變且左右均等地伸展。

(4)活性化：解除活性化前導引機構之導引作用

其後，若轉印薄膜F到達活性化區域Z2則塗佈活性劑，在此之前首先解除活性化前導引機構60之導引作用(保持作用)。即，轉印薄膜F於活性化區域Z2內，係以兩側部分均無任何保持、規制之自由狀態而塗佈活性劑。當然，轉印薄膜F自著液地點Z1直至活性化區域Z2為止(進而直至轉印區域Z3為止)係以連續狀態移送，故即便活性化區域Z2之兩側保持被解除，活性化前導引機構60之導引作用亦作用於上游側之部分，就薄膜全體而言於活性化區域Z2內亦作用有位置偏移防止功能。

(5)活性化：轉印薄膜之向寬度方向之伸展

如此，轉印薄膜F於活性化區域Z2內係以薄膜兩側之保持、規制被解除之狀態而塗佈活性劑，藉此轉印薄膜F係於寬度方向上無畸變且左右均等地伸展。當然，此種伸展不僅係由於活性劑自身之作用，且亦起因於直至活性化區域Z2為止之間(事先)使薄膜下側之水溶性薄膜向厚度方向膨潤、擴大至能追隨活性化之伸展之程度。即，藉由活性劑塗佈，轉印薄膜F以使至此膨潤、擴大之厚度尺寸變薄之方式向唯一無規制的寬度方向延伸。

(6)活性化：活性化區域之活性劑成分之除去

又，於活性化區域Z2中，係伸出至轉印薄膜F之側部外方而塗佈活性劑，因此於活性化區域Z2中，藉由除去機構801(排水筒802)而將塗佈於薄膜外方之活性劑與轉印液L 一併回收。藉此，將欲滯留於活性化區域Z2兩側之活性劑成分回收，因活性化而擴大之轉印薄膜F係左右均等地伸展。再者，藉由朝向排水筒802流動之液流，亦可期待使活性化後之轉印薄膜F左右均等地伸展的效果。

又，藉由排水筒802將液面上之活性劑成分與轉印液L一併吸入(回收、排水)係如上述般將濾罩402內之氣體一併抽吸、排氣者，例如於排水筒802(吸入口)設置填充材、或者使自排水筒802吸入之回收液通過內置有填充材及除霧器之噴霧分隔件803，藉此使濾罩402內漂浮之過剩之活性劑溶入回收液(轉印液)，可顯著減少活性劑塗佈裝置40周邊之溶劑味。

(7)活性化後：即將接觸前位置之活性劑成分之回收

於活性化區域Z2塗佈有活性劑成分之轉印薄膜F係於寬度方向上無畸變且左右均等地伸展而接觸於活性化後導引機構70，例如於藉由上述排水筒802未完全回收活性劑成分之情形時等，較佳藉由作用於即將接觸前位置之壓縮空氣噴出噴嘴805將欲進入活性化後導引機構70與轉印薄膜F之間的活性劑成分逼迫至排水筒802(水泵)或導件背側等。藉此，進一步防止轉印薄膜F之伸展下降，即便進行重複轉印亦可確實地接觸活性化後導引機構70。

其後，轉印薄膜F一面由活性化後導引機構70將兩側保持、規制一面被移送至轉印區域Z3。即，轉印薄膜F以活性化後亦成為防止位置偏移或中心對準的狀態、且以維持固定之伸展程度之狀態被移送至轉印區域Z3為止。

(8)轉印：被轉印體之沒入

若被活性化後導引機構70保持、規制之轉印薄膜F到達轉印區域Z3，則被例如輸送機51等之被轉印體搬送裝置50保持的被轉印體W依序以適宜之姿勢(沒入角)投入至轉印液L，而進行轉印。當然，該沒入角可藉由被轉印體W之形狀或凹凸等而適當變更。

再者，於活性化後導引機構70(鏈條輸送機701)之寬度尺寸自活性化區域Z2朝向轉印區域Z3逐漸變窄之情形時，可使活性化後之轉印薄膜F之轉印圖案繃緊(抑制圖案延伸)，從而可更鮮明地將轉印圖案(圖案)轉印。

(9)轉印後：脫膜清洗步驟

轉印結束後，於液面上出液之被轉印體W自被轉印體搬送裝置50上拆卸，載置於脫膜清洗裝置90之輸送機901，受到熱水噴洗902、淋洗水噴洗903，藉此將表面之水溶性薄膜除去。

再者，脫膜清洗步驟後之脫膜清洗廢水包含經溶解之水溶性薄膜等夾雜物，由於脫膜清洗廢水藉由循環排水管路905被導至轉印槽20之溢流部203之近前，故此種夾雜物藉由該溢流部203而一併沈澱、回收。當然，脫膜清洗廢水所含之水溶性薄膜等夾雜物較佳為亦由循環排水管路905中適宜設置之過濾器回收。

其後，被轉印體W適當地經乾燥、外塗等而成為製品。

[產業上之可利用性]

本發明適於轉印時形成亦具有表面保護功能之轉印圖案 之液壓轉印(無需外塗層之液壓轉印)，且亦適用於轉印時形成轉印圖案且藉由轉印後之外塗層而實現其表面保護的先前液壓轉印。

1‧‧‧液壓轉印裝置

1A‧‧‧液壓轉印裝置(其他實施例1)

1B‧‧‧液壓轉印裝置(其他實施例2)

1B‧‧‧液壓轉印裝置

2‧‧‧轉印槽

3‧‧‧轉印薄膜供給裝置

4‧‧‧活性劑塗佈裝置

5‧‧‧被轉印體搬送裝置

6‧‧‧薄膜保持機構

7‧‧‧液面殘留薄膜回收機構

8‧‧‧出液區域淨化機構

9‧‧‧設計面淨化機構

10‧‧‧伸展下降防止機構

20‧‧‧轉印槽

21‧‧‧處理槽

22‧‧‧側壁

23‧‧‧傾斜板

24‧‧‧傾斜部

26‧‧‧送風機

28‧‧‧台座

29‧‧‧台座

30‧‧‧轉印薄膜供給裝置

30‧‧‧轉印薄膜供給裝置

31‧‧‧薄膜輥

31‧‧‧薄膜輥

32‧‧‧加熱輥

33‧‧‧導引輸送機

34‧‧‧導引輥

40‧‧‧活性劑塗佈裝置

40‧‧‧活性劑塗佈裝置

41‧‧‧輥塗佈器

50‧‧‧被轉印體搬送裝置

50‧‧‧被轉印體搬送裝置

51‧‧‧輸送機

51‧‧‧輸送機

52‧‧‧夾具底座

52‧‧‧夾具底座

53‧‧‧環鏈

53‧‧‧環鏈

54‧‧‧聯桿

55‧‧‧三角輸送部

56‧‧‧沒入側滾輪

57‧‧‧出液側滾輪

58‧‧‧直線輸送部

58A‧‧‧直線輸送部

58B‧‧‧直線輸送部

59‧‧‧鏈條滾輪

59A‧‧‧鏈條滾輪

59B‧‧‧鏈條滾輪

60‧‧‧活性化前導引機構

60‧‧‧活性化前導引機構

61‧‧‧輸送機

62‧‧‧滑輪

62A‧‧‧始端滑輪

62B‧‧‧終端滑輪

62C‧‧‧中繼滑輪

62D‧‧‧位置固定滑輪

62E‧‧‧上下移動滑輪

63‧‧‧皮帶

63B‧‧‧回路皮帶

63C‧‧‧張力調整部

63G‧‧‧去路皮帶

64‧‧‧旋轉軸

65‧‧‧臂桿

66‧‧‧夾板

67‧‧‧鏈條輸送機

68‧‧‧鏈條

69A‧‧‧導引體

69B‧‧‧導引體

70‧‧‧活性化後導引機構

71‧‧‧分割機構

72‧‧‧排出機構

73‧‧‧送風機

73a‧‧‧輔助送風機

73b‧‧‧輔助送風機

75‧‧‧溢流槽

75a‧‧‧輔助溢流槽

76‧‧‧排出口

76a‧‧‧排出口

77‧‧‧遮斷機構

78‧‧‧堰板

79‧‧‧收容式遮蔽體

79a‧‧‧堰作用部

79b‧‧‧托架部

80‧‧‧伸展下降防止機構

80‧‧‧伸展下降防止機構

81‧‧‧排出機構

82‧‧‧溢流槽

83‧‧‧排出口

84‧‧‧流速增強用凸緣

85‧‧‧送風機

90‧‧‧脫膜清洗裝置

91‧‧‧背離流形成機構

92‧‧‧溢流槽(第1段OF槽)

93‧‧‧排出口

94‧‧‧流速增強用凸緣

95‧‧‧吸入噴嘴

97‧‧‧末端溢流槽(第2段OF槽)

98‧‧‧背側溢流槽(背側OF槽)

101‧‧‧除去機構

102‧‧‧壓縮空氣噴出噴嘴

107‧‧‧新水供給口

108‧‧‧虹吸式排出部

108a‧‧‧吸入口

108b‧‧‧虹吸路徑

110‧‧‧機器人(多關節形機器人)

111‧‧‧手(轉印機器人)

112‧‧‧手(移載機器人)

120‧‧‧薄膜衍生物

203‧‧‧溢流部

204‧‧‧循環管路

302‧‧‧凹凸成形輥

303‧‧‧橡膠平滑輥

304‧‧‧鋸齒輥

305‧‧‧齒輪(波形之齒)

306‧‧‧齒輪(波形之齒)

307‧‧‧雷射刻號機

401‧‧‧噴槍

402‧‧‧濾罩

601‧‧‧輸送機

602‧‧‧滑輪

602A‧‧‧驅動滑輪

602B‧‧‧從動滑輪

603‧‧‧皮帶

604‧‧‧旋轉軸

605‧‧‧臂桿

606‧‧‧夾板

701‧‧‧鏈條輸送機

702‧‧‧齒輪

703‧‧‧鏈條

704‧‧‧旋轉軸

801‧‧‧除去機構

802‧‧‧排水筒

803‧‧‧噴霧分隔件

804‧‧‧排氣扇

805‧‧‧壓縮空氣噴出噴嘴

901‧‧‧輸送機

902‧‧‧熱水噴頭

902a‧‧‧供給管路

903‧‧‧淋洗水噴頭

903a‧‧‧供給管路

904‧‧‧貯留槽

905‧‧‧循環排水管路

A‧‧‧泡

C‧‧‧輸送機(UV照射步驟用)

CL‧‧‧間隙

F‧‧‧轉印薄膜

f‧‧‧經轉印之裝飾層

F'‧‧‧液面殘留薄膜

FL‧‧‧分斷線

J‧‧‧夾具

JL‧‧‧夾具托架

K‧‧‧活性劑成分

L‧‧‧轉印液

LR‧‧‧設計面背離流

LS‧‧‧側部背離流

LV‧‧‧吸入流

M‧‧‧薄膜

P1‧‧‧沒入區域(轉印位置)

P2‧‧‧出液區域

P3‧‧‧分斷開始地點

PD‧‧‧新水(朝下)

PP‧‧‧新水(平行)

PU‧‧‧新水(朝上)

R‧‧‧防捲起用凹凸

S1‧‧‧設計面

S2‧‧‧非裝飾面

W‧‧‧被轉印體

Wa‧‧‧開口部

Z1‧‧‧著液地點

Z2‧‧‧活性化區域

Z3‧‧‧轉印區域

圖1係表示本發明之具備設計面淨化機構之液壓轉印裝置之一例的平面圖以及側視剖面圖。

圖2係相對於平面圖而將轉印槽之內部構造、尤其係轉印液之使用狀況一併表示的側視剖面圖。

圖3(a)-(c)係概略說明於設計面背離流形成用之溢流槽(第1段OF槽)之後段，進而設置末端溢流槽(第2段OF槽)之2段OF構造之轉印槽內之液流態樣的說明圖。

圖4係表示轉印槽之骨架立體圖。

圖5係表示由皮帶構成薄膜保持機構時之處理例的立體圖。

圖6係使用兩台送風機作為液面殘留薄膜之分割機構，於液流方向上將該薄膜分斷為三份，且於三處回收之轉印槽之平面圖。

圖7係使用三台送風機作為液面殘留薄膜之分割機構，於液流方向上將該薄膜分斷為兩份的轉印槽之平面圖。

圖8(a)、(b)係表示於使用鏈條輸送機作為薄膜保持機構時，使分斷後之液面殘留薄膜靠近轉印槽之側壁部且於此處排出時，接觸該機構之薄膜保持作用的改變例之說明圖(自側面觀察薄膜保持機構之圖)。

圖9係將薄膜保持機構對薄膜之保持作用遍及至液面殘 留薄膜回收用之溢流槽為止的情形(a)、與該保持作用未遍及溢流槽為止之情形(b)進行對比而表示的平面圖。

圖10係表示於液面殘留薄膜回收用之溢流槽內使用收容式遮蔽體作為遮斷液回收之遮斷機構的轉印槽之骨架立體圖(a)、以及僅將該溢流槽放大表示之立體圖(b)、剖面圖(c)。

圖11係表示一面於液流方向上將液面殘留薄膜分斷為兩份，一面於四處回收之轉印槽的平面圖。

圖12係將具備設計面淨化機構之轉印槽與作為被轉印體搬送裝置之輸送機(三角輸送機)一併表示的骨架立體圖(a)，以及將作用於出液中之被轉印體之設計面背離流之情形放大表示的說明圖(b)、(c)。

圖13係表示即便被轉印體以固定之傾斜姿勢、出液角度被提起，由於被轉印體之彎曲狀態或凹凸程度等，設計面自設計面背離流形成用之溢流槽逐漸遠離之情形的說明圖。

圖14(a)-(c)係階段性表示對液壓轉印進行批次處理時，即以固定之傾斜姿勢向正上方提起被轉印體時，設計面背離流形成用之溢流槽之較佳作動狀況的說明圖。

圖15係表示藉由出液側滾輪將三角輸送部與直線輸送部連接之被轉印體搬送裝置的側視圖，(a)係以實線表示沒入角較小之情形的圖，(b)係以實線表示沒入角較大之情形之圖。

圖16係表示搬送軌跡於側視狀態下整體形成為四角形 狀，且可變更沒入角與出液角之被轉印體搬送裝置的側視圖。

圖17係表示於沒入側滾輪直至出液側滾輪為止之區間內於轉印液中將被轉印體逐漸上升移送的被轉印體搬送裝置之部分側視圖。

圖18係表示出液側滾輪之後將被轉印體以於沒入側折返的狀態移送之被轉印體搬送裝置之側視圖。

圖19係表示應用操縱器之機器人轉印之被轉印體之舉動之一例、及與轉印槽關聯表示之與圖1對應的說明圖，且係將被轉印體之較佳出液狀況放大表示之說明圖。

圖20係表示於被轉印體在設計面具有開口部之情形時，於該開口部之背面側隔開間隙而設置薄膜衍生物之情形的被轉印體之背面圖及剖面圖(a)、以及表示設置薄膜衍生物而進行液壓轉印及紫外線照射之情形的說明圖(b)、(c)。

圖21係表示被轉印體上設置薄膜衍生物時與開口部之間隙並非遍及全周固定而是不同之實施例的說明圖。

圖22(a)-(c)係表示液壓轉印時不僅形成轉印圖案且形成表面保護層，其後藉由紫外線照射等而使該等裝飾層硬化之情形、液壓轉印時於設計面附著有泡之情形、以及該狀態下進行紫外線照射之情形的說明圖。

圖23係概念性不是通常供給至轉印液面上之轉印薄膜因上側之轉印圖案、與下側之水溶性薄膜之延伸差而向上方捲起之情形的說明圖。

圖24係將轉印槽之內部構造、尤其係轉印液之使用狀況 不同的其他實施例(其他實施例1)與平面圖一併表示之側視剖面圖。

圖25係於上述圖24所示之其他實施例1中，一併表示自新水供給口供給至轉印槽之新水之噴出形態、及虹吸式排出部之轉印液之吸入態樣的擴大說明圖。

圖26係於上述圖24所示之其他實施例1中表示轉印槽之骨架立體圖。

圖27係表示將轉印薄膜供給至轉印液面上而活性化之其他實施例(其他實施例2)中之液壓轉印裝置之一例的立體圖。

圖28係主要表示其他實施例2中之轉印槽與脫膜清洗裝置之側視圖。

圖29係表示其他實施例2中之液壓轉印裝置之一例的側視圖。

圖30係於其他實施例2中表示活性化後導引機構(及活性化前導引機構)經部分變更後之液壓轉印裝置的平面圖及側視圖。

圖31係於其他實施例2中表示利用排水筒而於活性化區域之濾罩內產生之氣流之情形、將由此回收之含多餘的活性劑成分之空氣溶入轉印液(回收液)而使其淨化之情形的平面圖(a)、以及側視圖(b)。

圖32係於其他實施例2中表示於轉印薄膜上形成防捲起用凹凸的凹凸成形輥之說明圖(側視圖)(a)、以及表示藉由雷射刻號機而形成防捲起用凹凸之情形的說明圖(側視 圖)(b)、以及表示自側面觀察時將防捲起用凹凸形成為鍵狀凹凸之情形的說明圖(端視圖)(c)。

圖33係於其他實施例2中表示將活性化前導引機構或伸展下降防止機構等經部分改變之液壓轉印裝置的平面圖。

圖34(a)、(b)係於其他實施例2中表示能適當變更轉印薄膜之兩側保持、規制之寬度尺寸(導引寬度尺寸)的活性化前導引機構或活性化後導引機構之立體圖。

圖35係表示先前之液壓轉印手法中之一週轉印量與轉印水之更換水量及PVA濃度之變化的表、以及表示此時之轉印槽水之PVA濃度與PH之關係之圖表。

1‧‧‧液壓轉印裝置

2‧‧‧轉印槽

3‧‧‧轉印薄膜供給裝置

4‧‧‧活性劑塗佈裝置

5‧‧‧被轉印體搬送裝置

6‧‧‧薄膜保持機構

7‧‧‧液面殘留薄膜回收機構

8‧‧‧出液區域淨化機構

9‧‧‧設計面淨化機構

10‧‧‧伸展下降防止機構

21‧‧‧處理槽

22‧‧‧側壁

26‧‧‧送風機

28‧‧‧台座

31‧‧‧薄膜輥

32‧‧‧加熱輥

33‧‧‧導引輸送機

34‧‧‧導引輥

41‧‧‧輥塗佈器

51‧‧‧輸送機

52‧‧‧夾具底座

53‧‧‧環鏈

54‧‧‧聯桿

55‧‧‧三角輸送部

56‧‧‧沒入側滾輪

57‧‧‧出液側滾輪

58‧‧‧直線輸送部

59‧‧‧鏈條滾輪

61‧‧‧輸送機

71‧‧‧分割機構

72‧‧‧排出機構

73‧‧‧送風機

73a‧‧‧輔助送風機

75‧‧‧溢流槽

81‧‧‧排出機構

82‧‧‧溢流槽

85‧‧‧送風機

91‧‧‧背離流形成機構

92‧‧‧溢流槽(第1段OF槽)

97‧‧‧末端溢流槽(第2段OF槽)

101‧‧‧除去機構

102‧‧‧壓縮空氣噴出噴嘴

F‧‧‧轉印薄膜

F'‧‧‧液面殘留薄膜

FL‧‧‧分斷線

K‧‧‧活性劑成分

L‧‧‧轉印液

P1‧‧‧沒入區域(轉印位置)

P2‧‧‧出液區域

P3‧‧‧分斷開始地點

S1‧‧‧設計面

S2‧‧‧非裝飾面

Claims (38)

1. 一種具備設計面淨化機構之液壓轉印方法，其係將水溶性薄膜上以乾燥狀態至少形成轉印圖案而成之轉印薄膜，於轉印槽內之液面上懸浮支持，自該轉印薄膜之上方按壓被轉印體，藉由由此所產生之液壓，將轉印圖案主要轉印至被轉印體之設計面側者，其特徵在於：於上述轉印槽內，在將被轉印體自轉印液中提起之出液區域，形成自出液中之被轉印體之設計面遠離的設計面背離流，使轉印液面上之泡或液中滯留之夾雜物遠離出液中之被轉印體之設計面，而排出至轉印槽外。
2. 如請求項1之具備設計面淨化機構之液壓轉印方法，其中於上述出液區域之左右兩側，在液面附近形成有自出液中之被轉印體之成為設計面背側之非裝飾面側朝向轉印槽之兩側壁的側部背離流，使轉印液中、液面上滯留之夾雜物遠離出液區域，而排出至轉印槽外。
3. 如請求項1或2之具備設計面淨化機構之液壓轉印方法，其中於上述出液區域之前段設有排出機構，該排出機構將因被轉印體之沒入而未使用於轉印且於液面上懸浮之液面殘留薄膜自轉印槽排出，以將被轉印體於出液之前之期間之液面殘留薄膜予以回收，使該薄膜不會到達出液區域。
4. 如請求項1或2之具備設計面淨化機構之液壓轉印方法，其中上述設計面背離流係藉由以面向出液中之被轉印體之設計面之方式設置的溢流槽而形成。
5. 如請求項4之具備設計面淨化機構之液壓轉印方法，其中於以面向上述出液中之被轉印體之設計面之方式設置的溢流槽之後段，進而設有回收轉印液之溢流槽。
6. 如請求項4之具備設計面淨化機構之液壓轉印方法，其中上述設計面背離流係藉由將不含夾雜物之清澈水、或者自轉印槽回收之轉印液中除去夾雜物後之淨化水等新水自設計面背離流形成用之溢流槽之下方朝向上游側之出液區域供給而產生。
7. 如請求項4之具備設計面淨化機構之液壓轉印方法，其中於上述設計面背離流形成用之溢流槽之下方，設有新水供給口，該新水供給口向槽內供給不含夾雜物之清澈水、或者自轉印槽回收之轉印液中除去夾雜物後之淨化水等新水；且上述設計面背離流係利用自該新水供給口向出液區域朝上供給之新水而形成。
8. 如請求項7之具備設計面淨化機構之液壓轉印方法，其中自上述新水供給口朝向出液區域亦供給朝下之新水；且於該新水供給口之背面側設有將含薄膜殘渣等夾雜物之轉印液自下方吸起而排出至槽外之虹吸式排出部；上述虹吸式排出部之吸入流係利用向上述出液區域朝下供給之新水而形成。
9. 如請求項8之具備設計面淨化機構之液壓轉印方法，其中上述轉印槽於新水供給口之下方設有錐形狀之傾斜板，且形成為隨著接近槽末端部而槽深度逐漸變淺； 且上述虹吸式排出部之吸入口係以面向該傾斜板之最上端部之方式設置。
10. 如請求項8之具備設計面淨化機構之液壓轉印方法，其中自上述新水供給口亦供給相對於出液區域大致平行朝向之新水；且該新水係於向上述出液區域朝上及朝下供給之雙方之新水之間自新水供給口供給。
11. 如請求項7之具備設計面淨化機構之液壓轉印方法，其中於上述新水供給口處，在供給新水之噴出口部分設有穿孔金屬，自此處以較廣範圍均勻地噴出供給至轉印槽之新水。
12. 如請求項4之具備設計面淨化機構之液壓轉印方法，其中於形成上述設計面背離流之溢流槽上，在作為液回收口之排出口處形成有用以加快導入溢流槽之轉印液之流速的流速增強用凸緣。
13. 如請求項1或2之具備設計面淨化機構之液壓轉印方法，其中上述轉印槽於被轉印體沒入直至出液為止之轉印必要區間內，形成為確保被轉印體之設計面埋入轉印液中之深度，而其他無須轉印區間內則形成為較該深度淺。
14. 如請求項4之具備設計面淨化機構之液壓轉印方法，其中形成上述設計面背離流之溢流槽係形成為於轉印槽之長度方向上自由移動，且以伴隨被轉印體之出液動作，無論被轉印體之位置為前還是為後，被轉印體之設計面與溢流槽之距離均維持為大致固定的方式移動。
15. 如請求項2之具備設計面淨化機構之液壓轉印方法，其中上述側部背離流係藉由設於出液區域之左右兩側之溢流槽而形成者；且該溢流槽之作為液回收口之排出口處，形成有用以加快導入溢流槽之轉印液之流速的流速增強用凸緣。
16. 如請求項15之具備設計面淨化機構之液壓轉印方法，其中於上述出液區域，進行使該區域液面上產生之泡或夾雜物被推向轉印槽之任一側壁的送風，排出轉印液中、液面上滯留之夾雜物，同時亦將該區域液面上之泡或夾雜物藉由側部背離流形成用之溢流槽回收，而排出至槽外。
17. 如請求項15或16之具備設計面淨化機構之液壓轉印方法，其中於形成上述側部背離流之溢流槽之前段，設有用以回收因被轉印體投入而未使用於轉印且於液面上懸浮之液面殘留薄膜之溢流槽；且該溢流槽中，在回收上述液面殘留薄膜之排出口之中途部分設有遮斷液回收之遮斷機構，而自遮斷機構之前後回收上述液面殘留薄膜。
18. 如請求項17之具備設計面淨化機構之液壓轉印方法，其中回收上述液面殘留薄膜時，係於使被轉印體沒入轉印液中直至出液為止之期間，藉由分割機構而以於轉印槽之長度方向上分割的方式將液面殘留薄膜分斷，使分斷後之液面殘留薄膜靠向轉印槽之兩側壁，而藉由上述液面殘留薄膜回收用之溢流槽而進行回收。
19. 如請求項1或2之具備設計面淨化機構之液壓轉印方法，其中對上述被轉印體實施之液壓轉印係應用水溶性薄膜上僅以乾燥狀態形成轉印圖案者作為轉印薄膜，且使用液體狀之硬化性樹脂組合物作為活性劑、或者應用水溶性薄膜與轉印圖案之間具有硬化性樹脂層之轉印薄膜作為轉印薄膜中之任一者；且藉由液壓轉印而於被轉印體上形成亦具有表面保護功能之轉印圖案，藉由轉印後之活性能量線照射或/及加熱而使其硬化。
20. 一種具備設計面淨化機構之液壓轉印裝置，其包括：轉印槽，其貯留轉印液；轉印薄膜供給裝置，其向該轉印槽供給轉印薄膜；及被轉印體搬送裝置，其對轉印槽之液面上變成活性化狀態之轉印薄膜，自上方按壓被轉印體；將於水溶性薄膜上以乾燥狀態至少形成轉印圖案而成之轉印薄膜，於轉印槽內之液面上懸浮支持，自該轉印薄膜之上方按壓被轉印體，藉由由此所產生之液壓，將轉印圖案主要轉印至被轉印體之設計面側；其特徵在於：於將上述被轉印體自轉印液中提起之出液區域，設有作用於自轉印液中上浮中之被轉印體之設計面的背離流形成機構，形成自出液中之被轉印體之設計面遠離的設計面背離流，藉此使轉印液面上之泡或液中滯留之夾雜物遠離出液中之被轉印體之設計面，而排出至轉印槽 外。
21. 如請求項20之具備設計面淨化機構之液壓轉印裝置，其中於上述出液區域之左右兩側設有回收液面附近之轉印液之排出機構，形成有自出液中之被轉印體之成為設計面背側之非裝飾面側朝向轉印槽之兩側壁的側部背離流，藉此使轉印液中、液面上滯留之夾雜物遠離出液區域，而排出至轉印槽外。
22. 如請求項20或21之具備設計面淨化機構之液壓轉印裝置，其中於上述出液區域之前段，設有將因被轉印體沒入而未使用於轉印且於液面上懸浮之液面殘留薄膜自轉印槽排出的排出機構，且將被轉印體出液之前之期間之液面殘留薄膜予以回收，使該薄膜不會到達出液區域。
23. 如請求項20或21之具備設計面淨化機構之液壓轉印裝置，其中上述設計面背離流係藉由以面向出液中之被轉印體之設計面之方式設置的溢流槽而形成。
24. 如請求項23之具備設計面淨化機構之液壓轉印裝置，其中於以面向上述出液中之被轉印體之設計面之方式設置的溢流槽之後段，進而設有回收轉印液之溢流槽。
25. 如請求項23之具備設計面淨化機構之液壓轉印裝置，其中上述設計面背離流係藉由將不含夾雜物之清澈水、或者自轉印槽回收之轉印液中除去夾雜物後之淨化水等新水自設計面背離流形成用之溢流槽之下方朝向上游側之出液區域供給而產生。
26. 如請求項23之具備設計面淨化機構之液壓轉印裝置，其 中於上述設計面背離流形成用之溢流槽之下方，設有新水供給口，該新水供給口向槽內供給不含夾雜物之清澈水、或者自轉印槽回收之轉印液中除去夾雜物後之淨化水等新水；且上述設計面背離流係利用自該新水供給口向出液區域朝上供給之新水而形成。
27. 如請求項26之具備設計面淨化機構之液壓轉印裝置，其中自上述新水供給口朝向出液區域亦供給朝下之新水；且於該新水供給口之背面側設有將含薄膜殘渣等夾雜物之轉印液自下方吸起而排出至槽外之虹吸式排出部；上述虹吸式排出部之吸入流係利用向上述出液區域朝下供給之新水而形成。
28. 如請求項27之具備設計面淨化機構之液壓轉印裝置，其中上述轉印槽於新水供給口之下方設有錐形狀之傾斜板，且形成為隨著接近槽末端部而槽深度逐漸變淺；且上述虹吸式排出部之吸入口係以面向該傾斜板之最上端部之方式設置。
29. 如請求項27之具備設計面淨化機構之液壓轉印裝置，其中自上述新水供給口相對於出液區域亦供給大致平行朝向之新水；且該新水係於向上述出液區域朝上及朝下供給之雙方之新水之間自新水供給口供給。
30. 如請求項26之具備設計面淨化機構之液壓轉印裝置，其中於上述新水供給口處，在供給新水之噴出口部分設有 穿孔金屬，自此處以較廣範圍均勻地噴出供給至轉印槽之新水。
31. 如請求項23之具備設計面淨化機構之液壓轉印裝置，其中於形成上述設計面背離流之溢流槽中，在作為液回收口之排出口，形成有用以加快導入溢流槽之轉印液之流速的流速增強用凸緣。
32. 如請求項20或21之具備設計面淨化機構之液壓轉印裝置，其中上述轉印槽於被轉印體沒入直至出液為止之轉印必要區間內，形成為確保被轉印體之設計面埋入轉印液中之深度，而其他無須轉印區間內形成為較該深度淺。
33. 如請求項23之具備設計面淨化機構之液壓轉印裝置，其中形成上述設計面背離流之溢流槽形成為於轉印槽之長度方向自由移動，且以伴隨被轉印體之出液動作，無論被轉印體之位置為前還是為後，被轉印體之設計面與溢流槽之距離均維持為大致固定的方式移動。
34. 如請求項21之具備設計面淨化機構之液壓轉印裝置，其中作為形成上述側部背離流之排出機構，係應用設於出液區域之左右兩側之溢流槽；且於該溢流槽之作為液回收口之排出口處，形成有用以加快導入溢流槽之轉印液之流速的流速增強用凸緣。
35. 如請求項34之具備設計面淨化機構之液壓轉印裝置，其中於上述轉印槽中設有將出液區域之液面上產生之泡或夾雜物推向轉印槽之任一側壁的送風機，排出轉印液 中、液面上滯留之夾雜物，同時亦將該區域液面上之泡或夾雜物自側部背離流形成用之溢流槽排出至槽外。
36. 如請求項34或35之具備設計面淨化機構之液壓轉印裝置，其中於形成上述側部背離流之溢流槽之前段，設有用以回收因被轉印體投入而未使用於轉印且於液面上懸浮之液面殘留薄膜之溢流槽；且於該溢流槽中，在回收上述液面殘留薄膜之排出口之中途部分設有遮斷液回收之遮斷機構，而自遮斷機構之前後回收上述液面殘留薄膜。
37. 如請求項36之具備設計面淨化機構之液壓轉印裝置，其中於回收上述液面殘留薄膜之溢流槽之前段，設有將剛轉印後之液面殘留薄膜以於轉印槽之長度方向上分割之方式分斷之分割機構；且回收液面殘留薄膜時，於使被轉印體沒入轉印液中直至出液為止之期間，經分割機構分斷後之液面殘留薄膜藉由溢流槽而回收。
38. 如請求項20或21之具備設計面淨化機構之液壓轉印裝置，其中作為上述轉印薄膜係應用於水溶性薄膜上僅以乾燥狀態形成轉印圖案者、或者水溶性薄膜與轉印圖案之間具有硬化性樹脂層者之任一者，進而於應用於水溶性薄膜上僅以乾燥狀態形成轉印圖案之薄膜之情形時，係使用液體狀之硬化性樹脂組合物作為活性劑；藉此於液壓轉印時在被轉印體上形成亦具有表面保護功能之轉印圖案，藉由轉印後之活性能量線照射或/及加熱而使其硬化。