TWI510374B

TWI510374B - A method for recovering a liquid surface residual film and a hydraulic transfer method thereof, a recovery apparatus thereof and a hydraulic transfer apparatus

Info

Publication number: TWI510374B
Application number: TW099136277A
Authority: TW
Inventors: Youichiro Yoshii; Eiji Suzuki; Sakae Ushiwata
Original assignee: Taica Corp
Priority date: 2009-10-28
Filing date: 2010-10-22
Publication date: 2015-12-01
Also published as: US20120227769A1; HK1171421A1; TW201127639A; EP2495109A4; KR101358046B1; CN102596586A; EP2495109B1; EP2495109A1; KR20120060883A; CN102596586B; US9352609B2; WO2011052636A1

Description

液面殘留膜之回收方法及適用此之液壓轉印方法、其回收裝置及適用此之液壓轉印裝置

本發明係關於如下之液壓轉印者：將藉由轉印墨水而預先施以適當之轉印圖案(表面墨水層)而成之轉印膜浮游支持於液面上，一面將被轉印體按壓於轉印膜上一面使之浸沒於轉印液中，藉此利用其液壓而將膜上之轉印圖案轉印至被轉印體，本發明尤其係關於在使被轉印體浸沒於轉印液中之後，將浮游於液面上之未使用於轉印之多餘的殘留膜確實且迅速地回收，以使殘留膜不到達出液區域之新穎的回收方法及其液壓轉印方法。

眾所周知有如下液壓轉印：使於水溶性膜(承載薄片)上預先施以非水溶性之適當之轉印圖案而成之轉印膜漂浮於轉印槽(轉印液)上而以轉印液(簡單地說為水)使轉印膜(水溶性膜)濕潤，於該狀態下，一面使被轉印體接觸於該轉印膜一面將其壓入轉印槽內之液體中，利用液壓將膜上之轉印圖案轉印形成於被轉印體之表面。再者，於轉印膜中，如上所述，於水溶性膜上藉由墨水而預先形成(印刷)有轉印圖案，且轉印圖案之墨水處於乾燥狀態。因此，於轉印時，必須對轉印膜上之轉印圖案塗佈活性劑或稀釋劑類以使轉印圖案恢復至與印刷後相同之濕潤即表現附著性之狀態，此被稱為活化。

繼而，轉印後自轉印槽中取出之被轉印體大多係於藉由水清洗等而去除半溶解狀態之水溶性膜之後進行乾燥，且為實現對轉印形成於被轉印體上之裝飾層之保護而施以外塗覆。然而，於如此之先前之液壓轉印中，首先，由於外塗覆中使用溶劑系清除塗料故而存在環境負荷高之問題，又，由於外塗覆時之不良或塗裝乾燥需要比較長之時間或能量之情況等而導致液壓轉印整體之成本較高。

由於上述情況而提出有如下方法：將液壓轉印時亦具有表面保護功能之轉印圖案形成於被轉印體上，於轉印後使其硬化而形成裝飾層，從而省略外塗覆(例如，參照專利文獻1、2)。

其中專利文獻1係如下方法：一面使用在水溶性膜上僅形成有轉印圖案之先前之轉印膜，一面使用硬化樹脂組成物(液體)作為活性劑，於轉印後對被轉印體照射紫外線而使與轉印圖案成為渾然一體之硬化樹脂組成物(表面保護層)硬化。

又，專利文獻2係如下方法：使用在水溶性膜與轉印圖案之間形成有硬化性樹脂層之轉印膜，藉由對轉印後之被轉印體進行紫外線等活性能量線之照射或者加熱而使轉印圖案上之硬化性樹脂層硬化。

然而，液壓轉印中，於被轉印體浸沒時(轉印時)，被轉印體進行將浮游於液面上之轉印膜戳破而浸沒於液體中之動作，因此浸沒後殘留於液面上之膜已成為不使用於轉印之多餘者(將其設為液面殘留膜)。

又，若被轉印體戳破液面上之轉印膜，則微細之膜渣(例如混合有水溶性膜與墨水之線屑狀者)大量分散‧放出於轉印液中，故而其滯留於轉印液中。

又，由於被轉印體之浸沒(轉印)係通常於安裝於夾具上之狀態下進行，故而亦存在浸沒時附著於夾具或被轉印體上之剩餘膜於液體中剝離而放出之情形。

因此，自轉印液中提拉之被轉印體之美感面上有時會附著有該液面殘留膜、膜渣、剩餘膜等(由於該等係於轉印後殘留於轉印液面或液體中之多餘者，故而於本說明書中將該等總稱為「夾雜物」)。

此外，又例如圖19(a)所示，於被轉印體W在美感面S1具有開口部Wa之情形時，自液面提拉時大多會於開口部Wa張開有水溶性膜之水溶解物所成之薄膜M，從而存在如下情況：其裂開而使氣泡A附著於被轉印體W之美感面S1，又或者於轉印液L自被轉印體W之突起部或開口部Wa之上緣部等落下至液面時會於液面上產生氣泡A，且該氣泡A附著於美感面S1。亦即，圖19(a)中，最初，於夾具J之框上張開薄膜M，該薄膜M之破裂殘渣之氣泡A漂浮於轉印液L面上，伴隨出液區域P2之液面移動(伴隨被轉印體W之提拉之相對性的下降)，氣泡A進入張開於被轉印體W之開口部Wa之薄膜M，其後，該薄膜M之破裂殘渣作為氣泡A漂浮於液面上而間接性地附著於美感面S1，或者作為氣泡A而直接沿著被轉印體W之表面附著於美感面S1，其結果成為圖19(b)所示之狀態。

而且，若於該狀態下進行利用活性能量線之照射及/或加熱之硬化處理，則例如圖19(c)所示，僅附著有氣泡A之部位因氣泡A之應力或活性能量線之折射等原因，而僅於該部位產生裝飾層(轉印圖案‧表面保護層)之圖案變形不良、或圖案脫落不良(所謂針孔不良)等。當然，該圖案變形不良或脫落係不良不限於氣泡A附著於美感面S1之情形，於上述液面殘留膜、膜渣、剩餘膜等夾雜物附著於美感面S1之情形時亦會產生之現象。此處，圖中符號f係主要表示被轉印至被轉印體W(美感面S1)等上之裝飾層。由於以上情況而重要的是：於形成液壓轉印時具有表面保護功能之轉印圖案之液壓轉印中，極力使液面殘留膜，膜渣、剩餘膜、氣泡A等不附著於美感面S1。再者，產生圖案變形不良或脫落不良之物品(液壓轉印品)曾一度進行硬化處理，故而由圖案變形或脫落所致之凹凸明顯，無法再一次重新轉印(不可再生)，因此，上述不良明顯損害量產性，從而強烈期望降低不良率本身之根本性的解決方法。

當然，回收轉印後浮游於液面上之液面殘留膜之事情本身係自先前以來一直進行著，例如，設置於轉印槽末端之溢流構造便對應於此。亦即，此係如下方法：於使轉印後之液面殘留膜與轉印液一起流入至轉印槽末端之溢流槽中而於此循環使用所回收之轉印液時，於中途之路徑中藉由過濾器等而將液面殘留膜加以去除‧回收。

然而，該回收方法中液面殘留膜會通過出液區域，尤其於液壓轉印時形成表面保護層之液壓轉印中，不可謂之有效之回收方法，期望更積極之回收方法，亦存在已提出者(例如，除上述專利文獻2以外，還參照專利文獻3、4)。

首先，專利文獻2中，揭示有於每次進行液壓轉印時自轉印槽之底部向槽內供給水而將水面上之殘留膜自轉印槽中整體性地沖走之方法。又，專利文獻3中，揭示有於使被轉印體浸沒於水中之期間以真空吸取水面上之膜之方法。進而，專利文獻4中，揭示有於自水槽中提拉被轉印體之後，朝向水槽之一端噴吹空氣，而自水槽之一端沖走墨水皮膜轉印於被轉印體後之轉印渣或殘渣之方法。

然而，該等方法主要係轉印液面上(水面上)之膜回收‧渣回收，而且不僅構造上規模大，而且係每次轉印時進行膜回收‧渣回收之批次處理之方式，故而亦花費時間而效率較差，未必為理想之方法。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2005-169693號公報

[專利文獻2]日本專利特開2005-162298號公報

[專利文獻3]日本專利特開2004-306602號公報

[專利文獻4]日本專利特開2006-123264號公報

本發明係認識到如此背景而完成者，其係於被轉印體之浸沒後(轉印後)至出液為止之期間，可迅速且確實地回收，進而不對存在於轉印位置之轉印膜帶來變形等不良影響之方法，而且係嘗試開發比較簡單之構造且低成本即可之新穎的液面殘留膜之回收方法及液壓轉印方法。

首先，請求項1記載之液壓轉印中之液面殘留膜之回收方法係如下方法：在將以乾燥狀態於水溶性膜上形成至少轉印圖案而成之轉印膜浮游支持於轉印槽內之液面上，且自其上方按壓被轉印體，藉由由此所產生之液壓而將轉印圖案轉印至被轉印體時，將被轉印體浸沒之後不使用於轉印而浮游於液面上之液面殘留膜加以回收，其特徵在於：於使上述浸沒後之被轉印體自轉印液中出液時，係自與浸沒區域不同之下游側之出液區域中進行提拉，又，於上述轉印槽中，於左右兩側壁之內側具備膜保持機構，該膜保持機構對供給至轉印槽中之轉印膜之兩側進行接觸保持，並將轉印膜移送到至少進行轉印之浸沒區域，又，當將轉印後多餘之液面殘留膜加以回收時，於使被轉印體浸沒於轉印液中至出液為止之期間，藉由分割單元以於轉印槽之長度方向分割之方式而進行分斷，並使經分斷之液面殘留膜靠近轉印槽之兩側壁，又，該側壁部分中，解除上述膜保持機構對膜之保持作用，並將經分斷之液面殘留膜自該解除部位排出至轉印槽外。

又，請求項2記載之液壓轉印中之液面殘留膜之回收方法係如下者：除了上述請求項1所述之要件以外，上述液面殘留膜之分割係藉由噴吹至轉印液面上之液面殘留膜之送風而進行。

又，請求項3記載之液壓轉印中之液面殘留膜之回收方法係如下者：除了上述請求項2所述之要件以外，為了於轉印槽之兩側壁部分對上述分斷後之液面殘留膜進行回收，而將設置於兩方之側壁部分之溢流槽適用作排出單元，又，於該溢流槽中，於將液面殘留膜加以回收之排出口之中途部分，設置有將液體回收隔斷之隔斷單元，自隔斷單元之前後回收液面殘留膜。

又，請求項4記載之液壓轉印中之液面殘留膜之回收方法係如下者：除了上述請求項3所述之要件以外，上述膜保持機構係以使膜保持作用之終端部分於側視狀態下與液面殘留膜回收用之溢流槽稍微重疊之方式進行設置，並維持該機構對膜兩側之接觸保持狀態至液面殘留膜到達溢流槽為止。

又，請求項5記載之液壓轉印中之液面殘留膜之回收方法係如下者：除了上述請求項2所述之要件以外，於使上述被轉印體自轉印液中出液之出液區域之左右兩側，將自該出液區域朝向轉印槽之兩側壁之側向偏離流形成於液面附近而使滯留於轉印液中‧液面上之夾雜物遠離出液區域來排出至轉印槽外。

又，請求項6記載之液壓轉印中之液面殘留膜之回收方法係如下者：除了上述請求項5所述之要件以外，上述側向偏離流係藉由設置於液面殘留膜回收用之溢流槽之後段的溢流槽而形成者，又，於該溢流槽之成為液體回收口之排出口，形成有用以加快導入至溢流槽中之轉印液之流速之流速增強用凸緣。

又，請求項7記載之液壓轉印中之液面殘留膜之回收方法係如下者：除了上述請求項6所述之要件以外，於上述出液區域中，進行將該區域液面上所產生之氣泡或夾雜物推向轉印槽之任一方之側壁之送風，與滯留於轉印液中‧液面上之夾雜物之排出一併地，於側向偏離流形成用之溢流槽亦回收該區域液面上之氣泡或夾雜物並排出至槽外。

又，請求項8記載之液壓轉印中之液面殘留膜之回收方法係如下者：除了上述請求項2所述之要件以外，於上述出液區域之下游側，於液面附近形成從自轉印液中提拉之被轉印體之美感面側朝向轉印槽之更下游側之美感面偏離流，而使轉印液面上之氣泡或滯留於液體中之夾雜物遠離出液中之被轉印體之美感面來排出至轉印槽外。

又，請求項9記載之液壓轉印中之液面殘留膜之回收方法係如下者：除了上述請求項8所述之要件以外，於形成上述美感面偏離流時係藉由設置於出液區域之下游側之溢流槽而形成，又，於該溢流槽之成為液體回收口之排出口，形成有用以加快導入至溢流槽中之轉印液之流速之流速增強用凸緣。

又，請求項10記載之液壓轉印中之液面殘留膜之回收方法係如下者：除了上述請求項9所述之要件以外，形成上述美感面偏離流之溢流槽係於轉印槽之長度方向移動自如地形成，即便使被轉印體之位置伴隨出液動作而前後移動，亦可將被轉印體之美感面與溢流槽之距離維持為大致固定。

又，請求項11記載之液壓轉印中之液面殘留膜之回收方法係如下者：除了上述請求項9所述之要件以外，上述膜保持機構中之膜保持作用之終端部分、使上述液面殘留膜分斷之分割單元及將分斷後之液面殘留膜加以回收之溢流槽、於上述出液區域形成側向偏離流之溢流槽及將出液區域液面上之氣泡或夾雜物推向該溢流槽之送風單元、以及產生上述美感面偏離流之溢流槽，係相對於轉印槽之長度方向而移動自如地設置。

又，請求項12記載之液壓轉印中之液面殘留膜之回收方法係如下者：除了上述請求項2所述之要件以外，對上述被轉印體所實施之液壓轉印係如下任一者：適用在水溶性膜上僅使轉印圖案形成為乾燥狀態者作為轉印膜，且使用液體狀之硬化樹脂組成物作為活性劑；或者，適用在水溶性膜與轉印圖案之間具備硬化性樹脂層之轉印膜作為轉印膜；且係藉由液壓轉印而於被轉印體上形成亦具有表面保護功能之轉印圖案，並藉由轉印後之活性能量線照射及/或加熱而使其硬化者。

又，請求項13記載之液壓轉印中之液面殘留膜之回收方法係如下者：除了上述請求項2所述之要件以外，上述被轉印體係於自轉印液中之浸沒區域至出液區域之區間中大致水平地移送。

又，請求項14記載之液壓轉印方法係如下者：將於水溶性膜上以乾燥狀態形成至少轉印圖案而成之轉印膜浮游支持於轉印槽內之液面上，且自其上方按壓被轉印體，藉由由此所產生之液壓而將轉印圖案轉印至被轉印體，且其特徵在於：於使上述被轉印體浸沒之後，將不使用於轉印而浮游於轉印液面上之液面殘留膜加以回收時，藉由上述請求項2所述之回收方法而將液面殘留膜加以回收並排出至轉印槽外。

又，請求項15記載之液壓轉印方法係如下者：除了上述請求項14所述之要件以外，上述被轉印體係由操作器保持而進行自浸沒至出液為止之一系列之搬送者，又，於上述出液區域之下游側設置有溢流槽，藉此形成從自轉印液中提拉之被轉印體之美感面側朝向轉印槽之更下游側之美感面偏離流者，又，於將上述被轉印體自轉印液中提拉時，根據美感面之彎曲形狀或凹凸程度等，使以操作器保持之被轉印體前後移動或者旋轉，藉此一面將美感面與溢流槽之距離維持為大致固定一面提拉被轉印體。

又，請求項16記載之液壓轉印方法係如下者：除了上述請求項14所述之要件以外，於上述被轉印體係在美感面具有開口部者之情形時，於開口部之背面側設置薄膜衍生物而進行液壓轉印，藉此使水溶性膜之水溶解物所成之薄膜形成於開口部之背面側。

又，請求項17記載之液壓轉印中之液面殘留膜之回收裝置係為轉印裝置所具備，且於使被轉印體浸沒於轉印液中之後，將不使用於轉印而浮游於液面上之液面殘留膜加以回收之裝置，上述轉印裝置包括：處理槽，其貯存轉印液；轉印膜供給裝置，其將轉印膜供給至該處理槽；以及被轉印體搬送裝置，其於處理槽之液面上相對於成為活化狀態之轉印膜自上方按壓被轉印體；且將以乾燥狀態於水溶性膜上形成至少轉印圖案而成之轉印膜浮游支持於處理槽內之液面上，自其上方按壓被轉印體，藉由由此所產生之液壓而將轉印圖案轉印至被轉印體，且該液壓轉印中之液面殘留膜之回收裝置之特徵在於：上述被轉印體搬送裝置係形成有搬送軌道以便自與浸沒區域不同之出液區域提拉被轉印體者，又，於上述處理槽中，於左右兩側壁之內側具備膜保持機構，該膜保持機構對供給至處理槽中之轉印膜之兩側進行接觸保持，並將轉印膜移送至至少進行轉印之浸沒區域為止，又，該處理槽係包括分割單元及排出單元而成，該分割單元係於自使被轉印體浸沒於轉印液中至出液為止之期間，將液面殘留膜以於處理槽之長度方向分割之方式而進行分斷，該排出單元係於其後自處理槽中將靠近處理槽之兩側壁之分斷後之液面殘留膜加以回收，當回收時，於經分斷之液面殘留膜所靠近之處理槽之側壁部分，解除上述膜保持機構對膜之保持作用，藉由排出單元而自處理槽之兩側壁部分，將經分斷之液面殘留膜加以回收。

又，請求項18記載之液壓轉印中之液面殘留膜之回收裝置係如下者：除了上述請求項17所述之要件以外，上述分割單元適用送風機，藉由送風而使液面殘留膜分斷。

又，請求項19記載之液壓轉印中之液面殘留膜之回收裝置係如下者：除了上述請求項18所述之要件以外，上述排出單元係適用設置於處理槽之兩方之側壁部分之溢流槽者，又，於該溢流槽中，於將液面殘留膜回收之排出口之中途部分，設置有將液體回收隔斷之隔斷單元，自隔斷單元之前後回收液面殘留膜。

又，請求項20記載之液壓轉印中之液面殘留膜之回收裝置係如下者：除了上述請求項19所述之要件以外，上述膜保持機構係以使膜保持作用之終端部分於側視狀態下與液面殘留膜回收用之溢流槽稍微重疊之方式進行設置，並將該機構對膜兩側之接觸保持狀態維持至液面殘留膜到達溢流槽為止。

又，請求項21記載之液壓轉印中之液面殘留膜之回收裝置係如下者：除了上述請求項18所述之要件以外，於將上述被轉印體自轉印液中提拉之出液區域之左右兩側，設置有將液面附近之轉印液加以回收之排出單元，藉由該排出單元，而形成自出液區域朝向處理槽之兩側壁之側向偏離流，藉此使滯留於轉印液中‧液面上之夾雜物遠離出液區域並排出至轉印槽外。

又，請求項22記載之液壓轉印中之液面殘留膜之回收裝置係如下者：除了上述請求項21所述之要件以外，形成上述側向偏離流之排出單元係適用設置於液面殘留膜回收用之溢流槽之後段之溢流槽者，又，於該溢流槽之成為液體回收口之排出口，形成有用以加快導入至溢流槽中之轉印液之流速之流速增強用凸緣。

又，請求項23記載之液壓轉印中之液面殘留膜之回收裝置係如下者：除了上述請求項22所述之要件以外，於上述處理槽中設置有送風機，該送風機將出液區域之液面上所產生之氣泡或夾雜物推向處理槽之任一方之側壁，與滯留於轉印液中‧液面上之夾雜物之排出一併地，將該區域液面上之氣泡或夾雜物亦自側向偏離流形成用之溢流槽中排出至槽外。

又，請求項24記載之液壓轉印中之液面殘留膜之回收裝置係如下者：除了上述請求項18所述之要件以外，於上述出液區域之下游側設置有偏離流形成單元，形成自出液中之被轉印體之美感面側朝向處理槽之更下游側之美感面偏離流，使轉印液面上之氣泡或滯留於液體中之夾雜物遠離出液中之被轉印體之美感面，並排出至轉印槽外。

又，請求項25記載之液壓轉印中之液面殘留膜之回收裝置係如下者：除了上述請求項24所述之要件以外，作為上述偏離流形成單元，係適用設置於出液區域之下游側之溢流槽者，又，於該溢流槽之成為液體回收口之排出口，形成有用以加快導入至溢流槽中之轉印液之流速之流速增強用凸緣。

又，請求項26記載之液壓轉印中之液面殘留膜之回收裝置係如下者：除了上述請求項25所述之要件以外，作為上述偏離流形成單元之溢流槽係於處理槽之長度方向移動自如地形成，即便被轉印體之位置伴隨出液動作而前後移動，亦可將被轉印體之美感面與溢流槽之距離維持為大致固定。

又，請求項27記載之液壓轉印中之液面殘留膜之回收裝置係如下者：除了上述請求項25所述之要件以外，上述膜保持機構中之膜保持作用之終端部分、作為使上述液面殘留膜分斷之分割單元之送風機及將分斷後之液面殘留膜加以回收之溢流槽、於上述出液區域產生側向偏離流之溢流槽及將出液區域液面上之氣泡或夾雜物推向該溢流槽之送風機、以及產生上述美感面偏離流之溢流槽，係相對於處理槽之長度方向而移動自如地設置。

又，請求項28記載之液壓轉印中之液面殘留膜之回收裝置係如下者：除了上述請求項18所述之要件以外，作為上述轉印膜，係適用在水溶性膜上僅使轉印圖案形成為乾燥狀態者或適用在水溶性膜與轉印圖案之間具備硬化性樹脂層之任一者，進而於適用在水溶性膜上僅使轉印圖案形成為乾燥狀態之膜的情形時，係使用液體狀之硬化樹脂組成物作為活性劑者，藉此於液壓轉印時於被轉印體上形成亦具有表面保護功能之轉印圖案，並藉由轉印後之活性能量線照射及/或加熱而使其硬化。

又，請求項29記載之液壓轉印中之液面殘留膜之回收裝置係如下者：除了上述請求項18所述之要件以外，上述被轉印體搬送裝置係採用在使轉印液中之被轉印體自浸沒區域到達出液區域為止之期間大致水平地移送之搬送軌道。

又，請求項30記載之液壓轉印裝置係包括：處理槽，其貯存轉印液；轉印膜供給裝置，其將轉印膜供給至該處理槽；以及被轉印體搬送裝置，其於處理槽之液面上相對於成為活化狀態之轉印膜自上方按壓被轉印體；且將於水溶性膜上以乾燥狀態形成至少轉印圖案而成之轉印膜浮游支持於處理槽內之液面上，自其上方按壓被轉印體，藉由由此所產生之液壓而將轉印圖案轉印至被轉印體，且該液壓轉印裝置之特徵在於：該裝置具備上述請求項18或29所述之回收裝置，藉此於被轉印體浸沒之後，將不使用於轉印而浮游於液面上之液面殘留膜加以回收並排出至處理槽外。

又，請求項31記載之液壓轉印裝置係如下者：除了上述請求項30所述之要件以外，上述被轉印體搬送裝置適用操作器，且自被轉印體之浸沒至出液為止之一系列搬送係藉由該操作器而進行者，又，於上述出液區域之下游側設置作為偏離流形成單元之溢流槽，藉由該溢流槽而形成自出液中之被轉印體之美感面側朝向處理槽之更下游側之美感面偏離流，又，於將上述被轉印體自轉印液中提拉時，根據美感面之彎曲形狀或凹凸程度等，使以操作器保持之被轉印體前後移動或者旋轉，藉此一面將美感面與溢流槽之距離維持為大致固定一面提拉被轉印體。

又，請求項32記載之液壓轉印裝置係如下者：除了上述請求項30所述之要件以外，於上述被轉印體係在美感面具有開口部者之情形時，於開口部之背面側設置薄膜衍生物而進行液壓轉印，藉此使水溶性膜之水溶解物所成之薄膜形成於開口部之背面側。

將該等各請求項記載之發明之構成作為手段來解決上述課題。

首先，根據請求項1、14、17或30記載之發明，於使被轉印體浸沒於轉印液中至出液為止之期間，使液面殘留膜分斷而轉印槽中排出(回收)，故而可於轉印後迅速且確實地回收液面殘留膜。因此，液面殘留膜不會到達出液區域，從而可防止液面殘留膜附著於自轉印液中逐漸上升而來之被轉印體之美感面。

又，本發明中，由於將轉印後之液面殘留膜分斷後加以回收，故而可不使轉印位置等轉印前之轉印膜產生變形而加以回收。亦即，例如，若欲不使液面殘留膜分斷而加以回收，則會因回收而導致整體性地拉伸未轉印膜，於該情形時認為未轉印之膜產生變形等。

又，根據請求項2、14、18或30記載之發明，藉由送風(送風)而進行液面殘留膜之分斷，作為分割單元之送風機本身不直接接觸於轉印膜，故而進一步抑制對轉印位置之轉印膜造成之變形等。亦即，例如，於以自轉印槽之上方以懸掛狀態固定之棒等直接與液面殘留膜接觸而將轉印膜分斷之情形時，通常自分斷開始地點起對轉印位置之轉印膜施加一些力(變形)。相對於此，本發明中，由於藉由非接觸之送風而對轉印膜進行分割，故而對轉印位置之轉印膜帶來不良影響之可能性極低。當然，若為非接觸，則經分割之轉印膜之碎片等亦不會附著於分割單元(棒)，故而不需要分割單元之更換‧清洗，亦容易維護裝置整體。

又，根據請求項3、14、19或30記載之發明，係藉由溢流槽而回收液面殘留膜者，又，於該溢流槽中，設置有將液體回收隔斷之隔斷單元，故而即便為同一溢流槽，亦可以隔斷單元之前後兩個階段回收液面殘留膜，又，藉由隔斷單元亦可控制回收之引導流速。因此，不會將液面殘留膜整體性地拉伸(不會對轉印位置中之轉印膜帶來不良影響)，可確實地加以回收。

又，根據請求項4、14、20或30記載之發明，由於膜保持機構係以使膜保持作用之終端部分與溢流槽稍微重疊之方式設置，故而可藉由膜保持機構確實地保持分斷後之液面殘留膜至到達溢流槽為止，從而可大致消除拉伸轉印位置之轉印膜之不良影響。

又，根據請求項5、14、21或30記載之發明，由於在出液區域形成側向偏離流，故而除了液面殘留膜之連續地且確實地回收以外，還可使滯留於轉印液中‧液面上之膜渣等夾雜物或液面上所產生之氣泡乘著側向偏離流而遠離出液區域，並自兩側排出至槽外。因此，與液面殘留膜之回收相結合，可進一步實現出液區域之清淨化。

又，根據請求項6、14、22或30記載之發明，上述側向偏離流係藉由溢流槽而形成，又，於該溢流槽中形成有流速增強用之凸緣，故而可更確實地回收主要浮游於出液區域中無需裝飾之面側之液面附近的夾雜物或液面上之氣泡等。

又，根據請求項7、14、23或30記載之發明，於使被轉印體出液時，將於出液區域液面上大量產生之氣泡或膜渣等夾雜物藉由送風之移送單元而推向任一方之側向偏離流用之溢流槽，故而可確實地回收該等，又，可大致完全防止氣泡或膜渣等夾雜物附著於自轉印液中連續提拉之被轉印體。

再者，將出液區域液面上之氣泡或夾雜物移送至側向偏離流用之溢流槽之送風機，亦可與使液面殘留膜分斷之送風機個別地設置，只要可藉由相同送風機而進行雙方之作用，則亦可使該等共用化。

又，根據請求項8、14、24或30記載之發明，由於相對於出液區域中之美感面側，形成朝向更下游側之美感面偏離流，故而可乘著該偏離流使轉印液中‧液面上之氣泡或夾雜物遠離出液中之被轉印體之美感面，並排出至轉印槽外。因此，可使較於出液區域提拉之被轉印體更靠後側(下游側‧美感面側)所產生之氣泡或夾雜物等連續地遠離被轉印體(美感面)，且可進一步強化出液區域之清淨化。

又，根據請求項9、14、25或30記載之發明，上述美感面偏離流係藉由溢流槽而形成，又，於該溢流槽中形成流速增強用之凸緣，故而可更確實地回收主要浮游於出液區域中美感面側之液面附近的夾雜物或液面上之氣泡等。

又，根據請求項10、14、26或30記載之發明，形成美感面偏離流之溢流槽可於轉印槽之前後(上游側或下游側)移動，即便於保持該狀態隨著出液而被轉印體與溢流槽之距離變化之情形時，亦可追隨出液位置之移動而使溢流槽前後移動，藉此可將該距離維持為大致固定，且可確實地回收氣泡或夾雜物。

又，根據請求項11、14、27或30記載之發明，由於膜保持機構、參與液面殘留膜之回收之分割單元及溢流槽、參與出液區域之淨化之溢流槽及送風單元、用以形成美感面偏離流之溢流槽等係相對於轉印槽之長度方向而移動自如，故而，可根據出液區域之位置變更，亦適當調整該等構件之位置。亦即，於液壓轉印時，使用各種類或狀態之轉印膜(轉印圖案)，又對活性劑或尺寸不同之被轉印體進行處理，故而，浸沒區域例如為800 mm，出液區域根據此而必須前後移動800 mm~1200 mm左右，本發明中，可容易地進行上述各構件之移動(設定變更)。

又，根據請求項12、14、28或30記載之發明，由於藉由液壓轉印而於被轉印體形成亦具有表面保護功能之轉印圖案，並藉由事後之活性能量線照射及/或加熱而使其硬化，故而重要的是膜渣等夾雜物或氣泡等不附著於自轉印液中提拉之被轉印體，從而如此之液壓轉印(形成亦具有表面保護功能之轉印圖案之液壓轉印)能夠以極低之不良率而進行。

又，根據請求項13、14、29或30記載之發明，由於被轉印體係於轉印液中自浸沒區域至出液區域為止之區間大致水平地移送，故而不會於轉印液中產生較大之速度變化或角度變化而可使被轉印體移送‧出液。而且，此會帶來難以引發與浸沒同時轉印至被轉印體之轉印圖案變形之效果。相反而言，先前之三角輸送機中，自側面觀察之搬送軌道成為倒三角形狀，於該倒三角形之頂點部分進行被轉印體之浸沒及出液，故而被轉印體於該頂點部分(液面下)產生較大之角度變化或速度變化，此有可能引發轉印至美感面之轉印圖案之變形。

又，根據請求項15或31記載之發明，根據被轉印體之美感面之彎曲形狀或凹凸程度等，而適當移動被轉印體，藉此可一面將美感面與溢流槽之距離保持固定一面將被轉印體提拉，從而可更確實地利用美感面偏離流進行氣泡或夾雜物之回收。

又，根據請求項16或32記載之發明，於被轉印體具有開口部之情形時，將薄膜衍生物設置於開口部之背面側，藉此由於在間隙狹窄之該部位張開有牢固之薄膜(由於在美感面側不使薄膜張開而難裂開)，又，由於使被轉印體背面側所產生之氣泡向薄膜衍生物之通過被隔斷，故而可防止氣泡附著於美感面，從而可進行精緻之液壓轉印。

用以實施本發明之形態係將以下實施例所敍述者作為其一，並且進而包含可於其技術思想內加以改良之各種方法者。

再者，於說明時，首先，就於本發明中較佳地使用之轉印膜F進行說明，其後，一面就液壓轉印裝置1之整體構成進行說明，一面一併地就實質上相當於液面殘留膜之回收裝置之轉印槽2進行說明。繼而，一面就液壓轉印裝置之作動態樣進行說明，一面一併地就液面殘留膜之回收方法進行說明。

[實施例]

首先，就於本發明中宜使用之轉印膜F進行說明。本發明中，宜於液壓轉印時，並非僅將轉印圖案轉印至被轉印體W，而是轉印兼有表面保護功能之轉印圖案(本說明書中，將如此之轉印圖案稱為「亦具有表面保護功能之轉印圖案」)，其原因在於，將變成無需先前於轉印後所實施之外塗覆。亦即，亦賦予有表面保護功能之液壓轉印中，對轉印後之被轉印體W照射例如紫外線或電子射線等活性能量線，藉此可使藉由液壓轉印而形成之轉印圖案硬化來實現表面保護。當然，於轉印亦具有表面保護功能之轉印圖案之後，進而實施外塗覆亦無妨。

由於如此情況，作為轉印膜F，亦宜適用在水溶性膜(例如，PVA(polyvinyl alcohol)；聚乙烯醇)上僅形成有藉由轉印墨水而轉印之轉印圖案之膜，或者於水溶性膜與轉印圖案之間形成有硬化性樹脂層之膜，尤其於使用在水溶性膜上僅形成有轉印圖案之轉印膜F之情形時，使用液體狀之硬化樹脂組成物作為活性劑。此處，所謂硬化樹脂組成物，宜包含光聚合性單體之無溶劑型之紫外線或者電子射線硬化樹脂組成物。

當然，於使用僅在水溶性膜上形成有轉印圖案之轉印膜F，於液壓轉印時不賦予表面保護功能，而於其後實施通常之外塗覆來實現表面保護之情形時(先前之液壓轉印方法)，可適用本發明之回收方法。

此處，作為轉印圖案，可列舉木紋模樣之圖案、金屬(光澤)模樣之圖案、大理石模樣等之模仿岩石表面之石紋模樣之圖案、模仿布紋或布狀模樣之布料模樣之圖案、鑲瓷磚模樣‧砌磚模樣等之圖案、幾何模樣、具有全息圖效果之圖案等各種圖案，亦可為進一步將該等適當複合而成者。再者，關於上述幾何模樣而言，圖形當然亦包含賦予有文字或照片之圖案者。

又，若對被轉印體W中之面進行定義，首先，使形成有裝飾層之轉印面為美感面S1，該美感面S1可謂之要求精緻的轉印之面，成為與浸沒時浮於轉印液面上之轉印膜F(轉印圖案)相對向之面。此處，如上所述，於液壓轉印時形成亦具有表面保護功能之轉印圖案之情形時，係使液面殘留膜F'、剩餘膜、膜渣、氣泡A等儘量不附著於被轉印體W之美感面S1者。

另一方面，使被轉印體W中未形成裝飾層之面(無需液壓轉印之面)為無需裝飾之面S2，此處即便附著有上述膜渣、氣泡A等亦可(例如，自美感面S1側繞入之轉印圖案變形而進行轉印亦可)。

因此，換言之大多情形為：美感面S1成為於將作為成品之被轉印體W(液壓轉印品)最終作為組裝體等加以組裝之狀態下在外觀上被目視到之部分，無需裝飾之面S2係於組裝狀態下在外觀上無法目視到之部分且成為美感面S1之背面側。

其次，就液壓轉印裝置1進行說明。作為一例，如圖1、圖2所示，液壓轉印裝置1係包括如下部件而成者：轉印槽2，其貯存轉印液L；轉印膜供給裝置3，其將轉印膜F供給至該轉印槽2中；活性劑塗佈裝置4，其使轉印膜F活化而成為可轉印之狀態；及被轉印體搬送裝置5，其使被轉印體W自浮游支持於轉印槽2之轉印膜F之上方以適當之姿勢投入(浸沒)且出液(進行提拉)。

進而，轉印槽2係包括如下部件而成者：膜保持機構6，其保持已供給至轉印液面上之轉印膜F之兩側；液面殘留膜回收機構7，其自轉印槽2回收(排出)被轉印體W之浸沒後成為多餘之液面殘留膜F'；出液區域淨化機構8(出液之被轉印體W之主要無需裝飾之面S2側(美感面S1之相反側))，其主要實現出液區域之淨化；美感面淨化機構9，其實現於出液區域中上浮來之被轉印體W之美感面S1側之淨化；及伸展下降防止機構10，其係藉由將遠離觸液之轉印膜F流出至轉印液面上之活性劑成分K去除，而防止供給至轉印液L面上之轉印膜F之伸展下降。以下，就各構成部進行說明。

首先，就轉印槽2進行說明。轉印槽2係於進行液壓轉印時浮游支持轉印膜F之部位，且將可以大致固定之液體水平面(水位)貯存轉印液L之處理槽21作為主要之構成構件。因此，處理槽21係形成頂面開口且前後左右由壁面包圍之有底狀，尤其於構成處理槽21之左右兩側之兩側壁附加符號22。

此處，於處理槽21中，將被處理體W投入至轉印液L中之位置(入射位置)設為浸沒區域P1，將自轉印液L中提拉被處理體W之位置(出射位置)設為出液區域P2。附帶而言，於液壓轉印時，與被轉印體W之浸沒同時執行‧結束轉印，因此，上述浸沒區域P1亦可謂之轉印位置(轉印區域)。又，上述名稱中主要使用稱作「區域」之詞語係因為：通常，藉由轉印膜F之轉印圖案之種類或狀態而使轉印位置前後移動，又，將轉印膜F(轉印圖案)轉印至具有某程度之寬度之美感面S1，因此被轉印體W之浸沒/出液係於相對於液面而言具有某程度之角度之狀態(某程度之範圍或寬度)下進行的情況較多。

而且，本發明中，於被轉印體W浸沒至轉印液L之期間，使液面上所殘留之膜(不使用於轉印而多餘之液面殘留膜F')於轉印槽2之長度方向(液流方向)分斷，因此，宜使上述浸沒區域P1與出液區域P2之間隔設置某程度之距離。再者，於轉印槽2之長度方向被分斷之液面殘留膜F'係於其後靠近(被輸送至)轉印槽2之兩側壁22，並自此處排出(回收)至轉印槽2外者。

又，於處理槽21內，於液面部分中形成有將轉印液L自膜供給側(上游側)輸送至出液區域P2(下游側)之液流。具體而言，於轉印槽2之下游端附近設置有溢流槽(下述之溢流槽82、92等)，此處所回收之轉印液L通過循環管路23，主要自轉印槽2之上游部分循環供給，藉此於轉印液L之液面附近形成上述液流。當然，較理想的是，於該循環管路23設置有沈澱槽或過濾器等淨化裝置24，將分散‧滯留於轉印液L中之剩餘膜或膜渣等夾雜物自回收液(懸濁液)中去除而供再利用。

又，於處理槽21之兩側壁22之內側設置有作為膜保持機構6之鏈條輸送機61，此係藉由保持已供給至液面上之轉印膜F之兩側而將轉印膜F以與轉印液L之液流同步之速度，自上游側移送至下游側者。當然，由於已供給至轉印液面上之轉印膜F(尤其水溶性膜)，係觸液以後逐漸向四方延展開(伸展開)，因此，上述膜保持機構6(鏈條輸送機61)係亦擔負自兩側限制該膜之伸展之作用者。亦即，膜保持機構6(鏈條輸送機61)係擔負如下作用者：於將轉印膜F之伸展維持為大致固定之狀態下，將轉印膜F移送至至少浸沒區域P1(轉印位置)為止，藉此，轉印位置中轉印膜F之伸展每次維持於相同程度而可連續進行精緻之轉印。

如此，膜保持機構6(鏈條輸送機61)係不僅擔負轉印膜F之移送作用，而且亦擔負將轉印位置中之膜之伸展維持於固定之作用(伸展限制作用)者，於本說明書中，將該等總稱為「膜之保持作用」。附帶而言，本發明中，於回收液面殘留膜F'之部位解除該膜之保持作用，其詳細情況將於下文敍述。

此處，上述鏈條輸送機61係包括鏈條62與捲繞有該鏈條62之鏈輪63而成，且係藉由適當地自馬達等對鏈輪63輸入旋轉而以與液流大致相同之速度驅動鏈條62者。而且，上側之鏈條62之通常之軌道係以鏈條62之中心與液面水平面一致的方式而設定，因此，上側之鏈條62之最上表面係出現於較液面水平面稍靠上方之空間者，藉此鏈條62比較牢固地接觸於液面上之轉印膜F之兩側，從而實現該膜之保持。又，由於如此之情況，接觸於鏈條62之轉印膜F之兩側部位通常成為條紋狀。

再者，作為鏈條輸送機61以外之膜保持機構6，可列舉帶式輸送機或比較粗之絞合線等。

又，於處理槽21之膜供給側(上游側)之上方設置有送風機26，藉此實現轉印膜F向周圍之均勻之延展，並且輔助轉印膜F向下游側之行進。

此處，送風機26之送風之較大特徵係使風直接作用(碰觸)於轉印膜F。即，送風機26為對轉印膜F本身送風之方法，且係以風之力強制性地使轉印膜F向周圍擴展(伸展)之構思。

又，由於送風機26係輔助性地擔負轉印膜F之向下游側之移送作用者，因此其送風方向係專門自上游側朝向下游側之一個方向。當然，送風機26之安裝位置亦係設定於轉印槽2之中心位置(寬度中央)者。

進而，由於送風機26係使風直接作用於轉印膜F者，因此考慮將風量設定得比較強(略大些)，伴隨此之起伏會波及至轉印位置(浸沒區域P1)。因此，為了防止此情況，宜於轉印槽2內之送風機26至轉印位置為止之間設置消波板等，實現轉印液面之穩定化，尤其轉印位置之液面之穩定化。

其次，就液面殘留膜回收機構7進行說明。液面殘留膜回收機構7係於被轉印體W浸沒之後，將殘留於轉印液L面上之液面殘留膜F'加以回收之機構，藉此，使液面殘留膜F'不到達出液區域P2。亦即，例如，如圖1所示，轉印膜F係藉由被轉印體W之浸沒而成為被戳破之狀態(此處為打開有橢圓狀之孔之狀態)，被戳破之部分係主要與被轉印體W一併浸沒於液體中且藉由液壓而附著轉印於美感面S1上之部位，殘留於液面上之膜(於開口狀態下浮游之膜)不用於轉印而成為多餘之部位(此係液面殘留膜F')。若將如此之液面殘留膜F'保持原狀放置，則成為污染轉印液L之主要原因，又，若液面殘留膜F'到達下游之出液區域P2為止，則導致附著於自轉印液中提拉出來之被轉印體W(美感面S1)，因此，本發明中，將該液面殘留膜F'於轉印後儘量迅速且確實地回收。具體而言，首先，使液面殘留膜F'於轉印槽2之長度方向即於液流方向分斷，且使其靠近(推向)轉印槽2之兩側壁22而自此處排出至槽外。

因此，作為液面殘留膜回收機構7係包括分割單元71與排出單元72而成者，該分割單元71係將液面殘留膜F'以於液流方向分割之方式而分開，該排出單元72係於轉印槽2之側壁22部分排出至槽外，以下就該等進行說明。

首先，自分割單元71進行說明。分割單元71係於被轉印體W浸沒之後即轉印後使液面殘留膜F'迅速分斷(分支)者，此處採用一面相對於膜為非接觸一面確實地進行分斷之送風方法。具體而言，作為一例，如圖1所示，係將送風機73設置於處理槽21之一方之側壁22上，且自此處起使風碰觸於液面上之液面殘留膜F'者。此處，上述說明中僅記載為「送風機(73)」，但該術語係包含連接於送風機之延長管或噴嘴等者。

又，上述說明中，記載為迅速進行液面殘留膜F'之分斷，分割單元71之分斷作用(此處為風量)使轉印位置(浸沒區域P1)之轉印膜F產生變形(由回波等所致之圖案變形)、應力等等不良影響，從而轉印本身變得無法精緻地進行，故而，設置分割單元71之作用所波及之範圍以使不會對轉印位置帶來不良影響(例如，空開某程度之距離)。若換其他說法，考慮不對轉印位置帶來不良影響而將作為分割單元71之送風機73之風量(風力)設定得比較弱。因此，作為分割單元71之送風機73宜係可根據轉印位置之前後移動，設置位置沿著轉印槽2之長度方向而自如地移動，藉此不對轉印位置帶來不良影響，從而發揮分斷作用之適當之位置之設定變得容易。

此處，就利用上述送風機73進行之液面殘留膜F'之分斷狀況進行說明。液面殘留膜F'係藉由來自送風機73之送風而左右分開者，尤其於液面殘留膜F'中使分斷開始之地點為分斷開始地點P3。又，液面殘留膜F'係自該分斷開始地點P3藉由送風而分為大致圓弧狀或者大致V字狀，看上去猶如線般，因此，將該膜分割線定義為分斷線FL。當然分斷線FL之邊緣附近係逐漸一點一點地溶解，一面散開一面藉由送風或液流而向兩側壁22靠近。因此，圖3中，係於分斷開始地點P3附近以明確之實線來描繪分斷線FL，但是於遠離此處之側壁22部位用虛線來描繪者。

附帶而言，本實施例中，乍看不存在使分斷後之液面殘留膜F'靠近兩側壁22之作用構件，但作為上述分割單元71之送風機73亦起到使分斷後之液面殘留膜F'靠近側壁22之作用。當然，形成於轉印槽2之液流亦加強該作用。

又，本實施例中，由於將作為分割單元71之送風機73設置於一方之側壁22上，將液面殘留膜F'分割為兩個部分，因此，向兩側壁22之分割比率作為一例為約8：2~7：3左右之比例。當然，將液面殘留膜F'分割中，亦可於左右之側壁22大致均等地分割，於該情形時，通常考慮於轉印槽2之寬度中央設置分割單元71(送風機73)，且必須考慮與位於轉印槽2之寬度中央之被轉印體搬送裝置5之設置態樣。

再者，作為分割單元71之送風機73未必限定於一台，亦可將兩台以上加以組合而使用，該情況可謂之無法勉強地如上所述增多(增強)送風機73之風量之對策。具體而言，例如，如結合圖1所示般，於設置有送風機73之側壁22之側，進而設置小型之輔助送風機73a，確實地硬是將液面殘留膜F'較多地回收。

當然，輔助送風機73a之送風方向未必限定於圖1之態樣者，例如，如圖4所示，亦可送風以大致沿著主要之送風機73之送風方向之方式設定輔助送風機73a之送風方向。附帶而言，該圖4之實施例中，液面殘留膜F'最終被分割為三個部分而於三處進行回收，因此，亦可謂之本實施例之表示液面殘留膜F'之分割態樣未必限定於分割為兩個部分(不限定於兩處之回收)。即，可根據轉印膜F之性狀或分割‧回收之狀況等而採用各種分割形態、回收形態。

進而，例如，圖5係設置有三台送風機(將主要之送風機設為73，且將輔助送風機設為73a、73b)作為分割單元71之實施例，輔助送風機73a之風量較弱(難以使之變大)，因此，最後係以其他輔助送風機73b確實地將經分斷之液面殘留膜F'之一方推向橫向之思想。

再者，藉由送風而使液面殘留膜F'分斷之上述方法係於如下方面發揮效果者，即，可使液面殘留膜F'於非接觸狀態下分斷(送風不使送風機73本身直接接觸於膜便可使膜分斷)，且難以對轉印位置之轉印膜F帶來變形等不良影響。

其次，就液面殘留膜回收機構7中之排出單元72進行說明。排出單元72係將推向轉印槽2之側壁22之液面殘留膜F'加以回收並排出至轉印槽2外者，本實施例中適用設置於處理槽21之左右兩側壁22內側之溢流槽75。此處，將溢流槽75之一起導入液面殘留膜F'與轉印液L之回收口設為排出口76。

又，由於採用該溢流之排出構造，因此，如上所述係於排出口76解除膜保持機構6(此處為鏈條輸送機61)對膜之保持作用，且容易排出(回收)已推至兩側壁22之液面殘留膜F'。相反地說，當如通常般鏈條62於溢流槽75之排出口76上行走時，鏈條62堵塞排出口76而阻礙液面殘留膜F'之排出，因此，本發明中於排出口76部分解除對膜之保持作用。

若就具體之解除方法進行說明，則本實施例中，例如，如圖2所示，自側面觀察將成為膜保持作用之終端部之鏈輪63設置於分斷開始地點P3附近，此處，係將鏈條輸送機61(鏈條62)折回者。藉由如此之配置態樣，而於溢流槽75之排出口76部分解除膜保持機構6(鏈條輸送機61)之膜保持作用。

然而，鏈條輸送機61宜係設置為自側面觀察相對於溢流槽75(排出口76部分)而稍微重疊，即自側面觀察成為膜保持作用之終端部之鏈輪63與溢流槽75稍微重合，就該情況將於下文敍述。

再者，為了於排出口76部分解除鏈條輸送機61對膜之保持作用，亦可採用除上述以外之其他方法。亦即，通常，鏈條輸送機61係如上所述，以於側視狀態下上側之鏈條62之中心與液面位準一致之方式進行設定，因此，例如圖6(a)所示，可於排出口76附近，使鏈條輸送機61整體性地沈降至液面下，並於該部分解除膜之保持作用。或者，相反，如圖6(b)所示，亦可於排出口76附近，將鏈條輸送機61升高至液面之上方空間為止而解除膜之保持作用。此處，圖中符號64係以於排出口76附近使鏈條62不堵塞排出口76之方式而將鏈條輸送機61限制於上方或下方之導引體，進而，圖中符號65係以通常之高度(軌道)導引鏈條輸送機61之導引體。

又，本實施例之溢流槽75中，例如圖3所示於排出口76之中途部分設置作為隔斷液體回收之隔斷單元77之擋板78，此係意圖於一個溢流槽75中以隔斷單元77(擋板78)之前後兩個階段回收液面殘留膜F'之構成。又，隔斷單元77由於排出口76之流速引導範圍變窄，因此亦進行使膜之保持作用被解除後之流速減弱之控制，藉此，確實地回收液面殘留膜F'，而且不會對轉印位置(浸入區域P1)帶來不良影響。

附帶而言，當不於排出口76設置隔斷單元77，而自排出口76之整個區域將液面殘留膜F'導入至溢流槽75之情形時，導致將靠近側壁22而來之液面殘留膜F'整體性地拉伸，此情況波及至轉印位置而對轉印位置之轉印膜F帶來變形等不良影響，上述情況係由本案申請人確認出。

又，以該溢流槽75回收之轉印液L包含較多之液面殘留膜F'亦即轉印圖案(墨水成分)或半溶解狀態之水溶性膜等，且夾雜物之混入程度較高，因此，宜直接廢棄，但亦可藉由過濾器等淨化裝置24將該等夾雜物去除之後而供循環使用。

又，溢流槽75宜係以如下方式安裝，即，於相對於轉印槽2之側壁22(框架)而成為液流方向之前後方向藉由螺栓等而固定，可變更溢流槽75之整體高度，並且可調整溢流槽75本身之前後方向之傾斜。又，溢流槽75整體宜係與上述送風機73相同，考慮轉印位置之變更而可於轉印槽2之長度方向自由地前後移動。進而，宜隔斷單元77亦係可適當變更相對於排出口76之設置位置，又其寬度(前後方向長度)亦可適當變更之構成。

此處，根據圖7來說明宜於側視狀態下使膜保持機構6(鏈條輸送機61)相對於溢流槽75(排出口76部分)稍微重疊之理由(經緯)。首先，圖7(b)係表示鏈條輸送機61與溢流槽75不重疊之情形，此時鏈條輸送機61之鏈輪63(移送終端部)係位於較溢流槽75更靠上游側。於該情形時，由鏈條62所保持之液面殘留膜F'之兩側部分(筋狀部分)，傾向於藉由溢流槽75之快速之流速之落液的力而解除鏈條保持(接觸)。亦即，於該狀態下，如圖示般，液面殘留膜F'之兩端部先被溢流落液拉伸而解除保持，其追溯至上游側而可誘發膜整體之圖案彎曲。當然，如此之圖案彎曲之影響係與浸入區域P1之轉印膜F之圖案變形相關者。

相對於此，如圖7(a)所示，於使鏈條輸送機61相對於溢流槽75稍微重疊之情形時，由鏈條輸送機61發揮對膜之保持作用至液面殘留膜F'到達溢流槽75為止。因此，液面殘留膜F'係兩側部分藉由鏈條輸送機61而確實地保持至到達排出口76為止，導入至溢流槽75(隔斷單元77之近前側)之液面殘留膜F'係宛如繞入鏈條輸送機61之末端般而落下，不會對轉印位置帶來不良影響而被確實地回收。此處，例如，上述圖3之實施例中，適用擋板78作為隔斷單元77，但作為隔斷單元77可採用其他形態，例如圖8所示，亦可為收納於溢流槽75內之形態，且係較好者(將其設為收容式隔斷體79)。

亦即，作為一例，圖8所示之收容式隔斷體79係剖面呈字形之側槽狀之構件，該構件並非作為收納回收液之容器(槽)使用，如圖8(b)所示，以使字形剖面之開口部分(開放部分)朝向下方之方式而收納(落入)於溢流槽75中，於字形剖面之中央平面部分將溢流槽75之上部開口側局部性地堵塞。因此，收容式隔斷體79係於溢流槽75內設置為可謂之橋狀者，於該設置狀態下收容式隔斷體79之位於上部之平面部位(將溢流槽75堵塞之部分)，係與上述擋板78相同地擔負擋板之作用者，因如此情況而使該平面部分為擋板作用部79a。又，使成對設置於擋板作用部79a兩側之部位為腳部79b，且將該兩個腳部79b收納於溢流槽75內，藉此，收容式隔斷體79係容許僅前後方向之移動者。再者，將收容式隔斷體79形成為如此之字形之優點如下：僅將該收容式隔斷體79落入至溢流槽75內即可將收容式隔斷體79(固定單元77)固定，又使該收容式隔斷體79於前後方向移動(於轉印槽2之長度方向滑動)，藉此可容易地調整‧變更前後兩個階段之排出位置或其排出平衡。

於該方面，若為上文所述之擋板78，通常將該擋板78豎立設置於溢流槽75之排出口76，因此，另外需要將擋板78安裝於溢流槽75(排出口76)之固定單元，又，為了進行上述之調整而伴隨著裝卸，但若為收容式隔斷體79，則不特別需要如此之固定單元，又，調整亦可極其容易地進行。此處，收容式隔斷體79係如上所述隔斷溢流槽75之液體回收者，因此，如圖8(c)所示，擋板作用部79a(頂面)係設定得高於溢流槽75之排出口76(作為一例為1~3 mm左右)。

而且，該擋板作用部79a係如該圖8(c)所示，設定得稍微低於轉印液L面者(作為一例為2~3 mm左右)，此情況表示於通常排出量設定時收容式隔斷體79略微沒入液體中。然而，即便於如此之狀態下，未設置有收容式隔斷體79(擋板作用部79a)之排出口76部分與擋板作用部79a中亦會產生液體回收之速度差(於擋板作用部79a部分變慢)，且充分發揮作為擋板之功能。

進而，藉由使擋板作用部79a略微沒入水中而使膜渣難以被該部分阻擋，又，即便膜渣被阻擋而停止(擱淺而停止)於該部分，亦可將其回收，從而不會污染轉印槽2內之轉印液L。於該方面，上文所述之擋板78係通常之擋止構造，且擋板78較轉印液L面更向上方突出，由此考慮到膜渣被擋板78阻擋，於該情形時，膜渣不久粉碎而落下至轉印槽2內，從而污染轉印液L。

再者，當於轉印槽2之側壁22部分將液面殘留膜F'加以回收時，亦可未必一側各一處(亦可不於左右之側壁22各一處)，例如，如圖9所示，亦可一側各有兩處。附帶而言，該圖9之實施例係如下實施例：由於難以將作為分割單元71之送風機73之風量設定得較大，故而於不存在將液面殘留膜F'推至鏈條輸送機61之外側之能力的情形時，亦於鏈條輸送機61之內側設置輔助性之溢流槽75a(排出單元72)。不過，於該情形時，由於輔助溢流槽75a係稍微於轉印槽2之中央(被轉印體W之搬送路徑上)伸出狀地設置，故而必須考慮該溢流槽75a不妨礙被轉印體W之搬送。又，即便如此將液面殘留膜F'分割為兩個部分，其後之回收亦可於四處(一側兩處)進行，未必限定分割單元71所進行之液面殘留膜F'之分割數量與回收處之數量一致。又，作為液面殘留膜回收機構7(排出單元72)，未必限定於溢流構造者，亦可採用其他回收方法，例如，可列舉將液面附近之轉印液L與經分斷之液面殘留膜F'一併吸入之真空方法。亦即，於該情形時，適用吸入噴嘴作為排出單元72。

又，本實施例中，於液面殘留膜回收機構7之後段，進而具備出液區域淨化機構8，以下就該機構進行說明。出液區域淨化機構8係將出液區域P2中之主要無需裝飾之面S2側(美感面S1之背面側)之轉印液中‧液面上之夾雜物或氣泡A去除的機構，當具體性地例示回收對象物時，例如，可列舉為了將被轉印體W浸沒於以戳破轉印膜F而產生之膜渣(水溶性膜與墨水混合而成之碎片狀等比較細者)，於浸沒時附著於夾具J或被轉印體W且一旦潛入液面下之後於液體中放出之剩餘膜，於被轉印體W(夾具J)之出液時會於被轉印體W之無需裝飾之面S2側之液面上產生大量之氣泡A或膜渣等。

而且，藉由該機構，而於被轉印體W尚存在於轉印液L中之期間，使該等夾雜物或氣泡A連續性地遠離出液區域P2，實現出液區域P2之淨化，與此同時，儘量防止被轉印體W向美感面S1側繞入。

出液區域淨化機構8中，作為一例，如圖1~3所示，作為排出單元81之溢流槽82係設置於出液區域P2之左右兩側，於側視狀態下，以溢流槽82與出液區域P2重合之方式而設置。更詳細而言，於轉印槽2中之出液區域P2之左右兩側壁22之內側設置排出單元81(溢流槽82)，使自出液區域P2朝向溢流槽82之液流(使其為側向偏離流)主要產生於液面附近，乘著該側向偏離流而以溢流槽82回收膜渣等夾雜物或氣泡A並排出至槽外。因此，於俯視狀態下，如圖1、2所示，液面殘留膜回收用之溢流槽75與出液區域淨化用之溢流槽82係前後相連而設置者。此處，將溢流槽82中一起導入膜渣等夾雜物與轉印液L之回收口設為排出口83。又，於出液區域淨化用之溢流槽82中，作為一例，如圖3所示，係於排出口83形成有回收液導引用之凸緣者，尤其於本實施例中，形成為自排出口83向處理槽21側之伸出長度比較長，此係用以加快導入至溢流槽82之轉印液L之流速之構造(因此，使該凸緣為流速增強用凸緣84)。再者，以溢流槽82所回收之轉印液L由於夾雜物之混入比例比較低，故而回收液宜於藉由過濾器等淨化裝置24而去除夾雜物之後而供循環使用(參照圖2)。

又，出液區域淨化機構8如上所述由於亦係回收出液區域P2之液面上(無需裝飾之面S2側)之夾雜物或氣泡A者，為了更確實地回收，宜向出液區域P2液面上送風，更積極地將夾雜物或氣泡A推至溢流槽82(流速增強用凸緣84)。亦即，本實施例中，如圖1~3所示，於轉印槽2之一方之側壁22上(溢流槽82之上方)設置送風機85，藉由來自此處之送風，而將於出液區域P2之液面上(無需裝飾之面S2側)大量產生之氣泡A或膜渣等夾雜物送入至與設置部位相反側之溢流槽82中並加以回收。如此，出液區域P2係於液面上藉由送風機85而連續性地去除氣泡A或夾雜物，且液體中之夾雜物亦一併藉由溢流槽82而回收，故而藉由該等協同效果，而實現高潔淨化，與此同時，亦可防止夾雜物向被轉印體W之美感面S1側繞入。進而，如上述般，藉由設置作用於出液區域P2液面上之送風機85，若考慮為用以使液面殘留膜F'分斷之送風機73，則於本裝置中，總共會設置複數台送風機。然而，亦考慮根據各種轉印條件，例如根據被轉印體W之形狀或被轉印體搬送裝置5之態樣等，以使液面殘留膜F'分斷之送風，可繼續將出液區域P2液面上之氣泡A或夾雜物送至溢流槽82，於該情形時，可將膜分斷用之送風機73兼用作出液區域淨化用之送風機85，進而將該等送風機結合而以一台送風機進行亦可。

再者，作為出液區域淨化機構8之排出單元81，未必僅為上述溢流構造，亦可採用其他排出方法，例如，可列舉將混入有夾雜物之轉印液L主要於液面附近吸入之真空方法。亦即，於該情形時，適用吸入噴嘴作為排出單元81。其次，就美感面淨化機構9進行說明，在此之前就於出液區域P2之美感面S1側所產生之氣泡A進行說明。出液區域P2中，被轉印體W(夾具J)自液面逐漸向斜上方升高而去，故而已經向液面上方升高之被轉印體W或夾具J位於出液中之被轉印體W之上方(使其為先行提拉之被轉印體W或夾具J)。此時，例如，轉印液L成為液滴自先行提拉之被轉印體W或夾具J滴落至轉印槽2之液面，已落下之液滴例如於液面上飛濺成為氣泡A，有時其會附著於出液中之被轉印體W之美感面S1。其後，當保持該狀態而對被轉印體W照射紫外線等時，由於氣泡A之應力或紫外線之折射等，而使附著有氣泡A之部分成為轉印圖案(裝飾層)之圖案變形不良、或圖案掉落之不良(所謂針孔)。因此，本實施例中具備美感面淨化機構9，該美感面淨化機構9以於出液區域P2中自轉印液L中上浮之被轉印體W之美感面S1之淨化(主要為下述之新水之作用)、與美感面S1側之液面上所產生之氣泡A之去除、又轉印液中‧液面上之夾雜物之排除等為目的。

以下，就美感面淨化機構9進一步進行說明。美感面淨化機構9係形成自出液中之被轉印體W之美感面S1朝向下游之液流者(由於為遠離美感面S1之流向，故使其為美感面偏離流)，其目的在於，如上所述極力使分散‧滯留於轉印液L中之夾雜物不靠近(不附著)於美感面S1，又，使藉由自先行提拉之被轉印體W所落下之液滴而產生之液面上之氣泡A或夾雜物遠離美感面S1而排出至槽外等。因此，美感面偏離流宜係適用不含夾雜物之清潔之水、或者自回收液中將夾雜物去除之淨化水(將該等水總稱為新水)形成。由於如此之情況，而美感面淨化機構9例如係如圖10(a)所示，於出液區域P2中出液而來之被轉印體W之美感面S1側具備作為偏離流形成單元91之溢流槽92而成者。更詳細而言，本實施例中，由於被轉印體W係於出液區域P2中以將美感面S1朝向下方之傾斜狀態而上浮上去，故而，以面向被轉印體W之美感面S1之方式而設置溢流槽92，形成自出液中之被轉印體W(美感面S1)之下側朝向上側的美感面偏離流。此處，於溢流槽92中，使主要將新水與轉印液L一起導入之回收口為排出口93。再者，美感面偏離流宜如上所述藉由新水供給而形成，故而，例如圖2中，於作為偏離流形成單元91之溢流槽92之下方，更詳細而言係轉印液位準之中位附近至液面附近之間，朝向被轉印體W之美感面S1藉由上述循環管路23而供給淨化水之一部分。又，該淨化水供給(新水供給)之一部分宜係利用於上述出液區域淨化機構8之側向偏離流，於該情形時，上述新水供給成為亦有助於出液區域淨化機構8者。

此處，就若無美感面淨化機構9則夾雜物容易附著於美感面S1之情況進行說明。通常，自轉印液L中提拉之被轉印體W係以將很多自上游朝向下游之轉印液L之液流堵塞之狀態而上浮上去者。此時，被堵塞之轉印液L係以繞入被轉印體W之下側或側方之方式而流動，其將成為朝向面向下游側之美感面S1之液流(繞入液流)。

又，於將被轉印體W自液體中提拉時，藉由被轉印體W之提拉速度與所滯留之液面之速度差，而會作用有自被轉印體W之液面附近朝向被轉印體W流動之力。由於如此之情況，而相對於出液中之被轉印體W，自然而然地形成繞入美感面S1之液流(朝向美感面S1之液流)，因此，保持該狀態分散‧滯留於轉印液L中之夾雜物有靠近並附著於美感面S1之情形。因此，本實施例中，係藉由因美感面淨化機構9所引起之美感面偏離流，而將朝向美感面S1之轉印液L之流動消除，或者極力抑制者。又，作為一例，如圖3、圖10(b)所示，亦於美感面淨化用之溢流槽92中，於排出口93形成流速增強用凸緣94，此係為了加快導入至溢流槽92中之轉印液L之流速。再者，作為美感面淨化機構9中之偏離流形成單元91，未必僅為上述溢流構造，亦可採用其他排出方法，例如，如圖10(c)所示，可列舉主要於液面附近吸入包含夾雜物之轉印液L或新水之真空方法。亦即，於該情形時，適用吸入噴嘴95作為偏離流形成單元91。

又，為了使美感面偏離流確實地作用於出液中之被轉印體W之美感面S1，宜將作為偏離流形成單元91之溢流槽92(排出口93)設置於出液中之被轉印體W(美感面S1)之附近(作為一例，10~200 mm左右)。然而，例如，如圖11所示，考慮到即便根據被轉印體W(美感面S1)之彎曲狀態或凹凸程度等，而將被轉印體W以固定之傾斜狀態提拉，亦導致美感面S1漸漸遠離溢流槽92(排出口93)(圖中之D1係出液初期之兩者之距離，D2係出液末期之兩者之距離)。因此，溢流槽92宜為可相對於轉印槽2之長度方向(液流方向)而移動，即，相對於出液中之被轉印體W而接近‧離開自由之構成。當然，溢流槽92中之轉印液L之排出力(回收力)，只要可直接適當地變更美感面偏離流之強度者，則即便藉由出液而導致被轉印體W相對性地遠離，亦可藉由提高轉印液L之回收力而達成相同之效果。附帶而言，作為使回收力增加之其他方法，亦可將溢流槽92之液體位準(水位)下降。

此處，本實施例中，如上所述，設置合計3種溢流槽75、82、92(作用目的則各不相同)，但亦可於轉印槽2之末端(最下游部)設置溢流槽(參照圖10(a))。此係先前較多之轉印槽中於末端設置有溢流槽，沿用該先前之轉印槽而設置有作為上述各機構之溢流槽75、82、92之情形時的形態。附帶而言，於先前之轉印槽中，設置於其末端之溢流槽係為了如下目的而使用者：將轉印液L之液面位準維持為大致固定，並且一面回收液面殘留膜F'等，一面將轉印液L循環使用。

再者，液壓轉印中，如上所述，由於適用各個種類或狀態之轉印膜F(轉印圖案)或活性劑，又，處理各種不同大小之被轉印體W，故而，對於浸沒區域P1而言可使之前後移動例如800 mm左右，由此，有出液區域P2亦根據此情況而使之前後移動800 mm~1200 mm左右之情形。因此，浸沒區域P1、膜保持機構6之解除位置(成為膜保持作用之終端部之鏈輪63之位置)、液面殘留膜回收機構7之分割單元71(送風機73、73a)‧溢流槽75、出液區域淨化機構8之溢流槽82‧送風機85、進而美感面淨化機構9之溢流槽92(偏離流形成單元91)等係處於互相密接之位置關係。因此，宜伴隨浸沒區域P1之移動，而使上述各構成構件亦同時或獨立地移動，由此，本實施例中，例如，如圖2所示，構成為將膜保持作用之終端部之鏈輪63、送風機73、73a、85、及溢流槽75、82以可於轉印槽2之長度方向(前後方向)移動之方式而搭載於基座29，又，使溢流槽92獨立而搭載於可前後移動之基座30，從而使該等構件可根據浸沒區域P1與出液區域P2之移動而適當移動。附帶而言，各基座29、30之移動方法可係手動或者使用線性馬達等而自動控制(實際上結合被轉印體W之提拉程式等而使基座29、30之位置自動地移動之程式較為現實)。

又，本實施例中，係於轉印槽2之底部，更詳細而言，出液區域P2之底部附近沈降設置傾斜板27者，以下就該傾斜板27進行說明。傾斜板27係以複數個板材自轉印槽2之上游側朝向下游側下降且具有傾斜之方式，而以大致固定之間隔配置而成者，傾斜板27係設置於用以將轉印槽2內之轉印液L循環使用之取水口28之近前側(以取水口28位於傾斜板27之內側之方式而設置)。藉由如此之構成，而傾斜板27利用轉印槽2之底部所產生之循環還流所致之微速的液流、與被轉印體W之液中之大致水平的移動(傾斜板27之上方)所致之液流，使夾雜物流入至傾斜板27，並將其捕捉者。因此，傾斜板27係擔負如下作用者：實現分散‧滯留於轉印液L中之夾雜物之沈降捕捉‧抑制再上浮，並阻止夾雜物於轉印液L中循環(譬如轉印液L之清淨化)。又，本實施例中，係具備於將轉印膜F供給至轉印槽2中時，抑制轉印膜F之伸展下降之伸展下降防止機構10者，以下就該機構進行說明。伸展下降防止機構10係防止伴隨觸液而自膜表面游離‧滲出至轉印液L面上之活性劑成分K於液面上滯留導致膜拉伸而阻礙轉印膜F之伸展者，藉此使供給至轉印液L面上之轉印膜F之兩側確實地附著於轉印槽2之側壁22附近所設置之鏈條62。再者，於以下之說明時，首先從藉由自觸液之轉印膜F中流出之活性劑成分K而阻礙轉印膜F之伸展之理由(經緯)開始說明。

於轉印時，轉印膜F中為了將轉印圖案活性化而塗佈有活性劑，但膜上所塗佈之活性劑之一部分係藉由觸液(與轉印液L之接觸)而自轉印膜F之表面遠離(游離)，且向轉印液L面上流出(滲出)而去者(本說明書中，主要將其稱為活性劑成分K)。該活性劑成分K向液面上之流出未必僅限定於轉印膜F之供給方向(液流方向)者，還可向各個方向流出，考慮到由於產生有液流或進行膜供給等而向膜供給方向之流出(先行)比較大。又，由於如此之情況，若反覆進行液壓轉印，則活性劑成分K於轉印液L面上一點一點地增加，從而滯留於例如液流較弱之轉印槽2之側壁22附近。而且，滯留於側壁22附近之活性劑成分K於液體表面高濃度化，成為宛如油分於水面上張開膜(油膜)之狀態(為了方便起見，而將其稱為液膜)，其起作用以阻止轉印膜F之伸展(擴展)。即，若繼續液壓轉印，則由於藉由活性劑成分K而形成之液膜導致阻礙膜之伸展(擴展)。又，供給至轉印液L面上之轉印膜F之伸展受到阻礙亦有其他原因，例如，自環境保護或資源之有效利用(回收再利用)等之觀點考慮，轉印槽2內之轉印液L之大部分被循環使用。因此，放出至轉印液L面上之活性劑成分K(液膜)不僅停留(漂浮)於液面上，而且一部分亦可溶入至轉印液L中。因此，若反覆進行液壓轉印，則轉印液L中之活性劑濃度亦逐漸提拉上去，且轉印液L之黏性增加，其亦成為阻礙轉印膜F之伸展之原因。

進而，紫外線硬化型樹脂之活性劑係於室內之光下會使活性劑成分K輕微硬化，故而轉印液L之黏度有進一步提高之傾向。又，如上所述，轉印液L之大部分被再使用，且處於抑制廢棄液量之社會環境中，故而此將成為轉印液L之黏度進一步提高之主要原因。然而，液壓轉印中，由於要求以高水準穩定地進行轉印，故而必然性地抑制起伏等而實現轉印液L面之穩定化，此起作用以防止活性劑(樹脂成分)混入轉印液L中之情況亦係事實。再者，由於轉印液L面上之活性劑成分K而阻礙轉印膜F伸展之現象，係因形成亦具有表面保護功能之轉印圖案之液壓轉印(不需要外塗覆之液壓轉印)中所使用之活性劑而明顯，該活性劑與通常之溶劑系之活性劑相比黏性較高，因此認為抑制轉印膜F之延伸之傾向較大。

另外，供給至轉印液L面上之轉印膜F通常如圖20所示，於轉印液L面上藉由位於上側之轉印圖案、與位於下側之水溶性膜之延伸差(水溶性膜之延伸率較高)而逐漸向上捲曲。因此，供給至於轉印槽2之轉印膜F變得越來越難以與設置於側壁22附近之膜保持機構6接觸。根據如此情況，於不存在伸展下降防止機構10之情形時，若反覆進行液壓轉印，則當初觸液後伸展至鏈條62為止之轉印膜F不會附著，因此，本實施例中，係藉由該機構而防止如此之伸展下降者。此處，本實施例中，作為伸展下降防止機構10係採用噴吹方法者，且係將於膜保持機構6(鏈條輸送機61)與轉印膜F之間之轉印液L面上成為液膜而擴展、且阻礙轉印膜F之伸展之活性劑成分K藉由送風而去除者。亦即，作為一例，如圖1所示，該機構宜係對認為將轉印液L之流動(液流)變弱且活性劑成分K容易停滯之側壁22附近，尤其於送風機26之左右兩側進行送風，從而將位於(浮游於)該部位之活性劑成分K推至(傳送至)膜保持機構6與側壁22之間。附帶而言，該膜保持機構6與側壁22之間係鏈條輸送機61之上表面設定於較之轉印液L面更高之位置的情況等，故而，係實質上不對轉印位置帶來影響、或者對轉印位置所帶來之影響極少之部位，因此，本實施例中，係將活性劑成分K推至該部位者。再者，本實施例中，如上所述，由於上述送風機26擔負使轉印膜F向周圍擴展之作用，故而，此處係為了明確地區別與送風機26之作用，而將該機構設為伸展下降防止機構10者。

又，本實施例中，如已經敍述般，由於在作為膜保持機構6之鏈條輸送機61之外側，沿著轉印槽2之兩側壁22而設置溢流槽75，故而，此處將傳送至上述膜保持機構6與側壁22之間的活性劑成分K加以回收。當然，於該情形時，例如，如與圖3一併表示般，係亦於溢流槽75之前邊緣側(上游側)形成導入‧回收活性劑成分K之排出口76a者。進而，圖1所示之實施例中，係適用兩台壓縮空氣噴出噴嘴102作為伸展下降防止機構10(去除單元101)者。更詳細而言，已供給至轉印槽2中之轉印膜F本來包含轉印液L且膨化‧軟化，漸漸向四方伸展而去，故而，圖1中，自兩台壓縮空氣噴出噴嘴102噴吹空氣，以作用於(碰觸於)轉印膜F之面向擴展邊緣之液面，並將主要浮游於邊緣附近之活性劑成分K自此處去除，從而實現向轉印膜F之邊緣附近之兩側方向之伸展(實現防止伸展下降)。此處，作為上述壓縮空氣噴出噴嘴102，宜如圖示般具備多關節接頭型之可撓性軟管，其原因在於容易進行噴嘴之位置或送風方向等之微調整。

附帶而言，用以將活性劑成分K去除之送風並非係使風作用(碰觸)於轉印膜F，宜使風僅作用於不存在膜之轉印液面，其原因在於，穩定性地保持轉印液面，而極力將轉印膜F以無起伏之狀態移送至轉印位置(浸沒區域P1)為止。又，於該方面，例如，圖1之放大圖中，表示有空氣之噴出口為比較寬幅狀之噴嘴，但較理想的是，使用形成為朝向噴出口而前端變窄狀之噴嘴，利用針點使空氣作用於所瞄準好之液面(面向膜之擴展邊緣之液面等)。又，圖1中，於送風時，以使空氣作用於轉印膜F藉由觸液而伸展之上游側(前方側)之液面，更具體而言係較之膜保持機構6之作用開始端更靠上游側之液面的方式而送風，此係為了於轉印膜F欲伸展之前，將成為其阻礙主要原因之活性劑成分K去除，藉此更有效地進行轉印膜F之伸展。藉由如此之送風而浮游於轉印液面上之活性劑成分K，係一面於膜保持機構6之作用開始端迂迴，一面被送入至側壁22與膜保持機構6之間者。

又，圖1之實施例中，來自兩台壓縮空氣噴出噴嘴102之送風為稍微向轉印液流逆行之送風形態，兩台壓縮空氣噴出噴嘴102由於可具有將液面上之活性劑成分K(液膜)逼到側壁22之程度之較小的能力(送風力)，故而無需擔心由壓縮空氣噴出噴嘴102所進行之送風阻礙轉印液L之液流本身。附帶而言，相對於轉印液流而逆行之送風係相對於液流方向(下游方向)宜為90度~120度左右。

當然，由壓縮空氣噴出噴嘴102所進行之送風亦可如圖2一併表示般，以如沿著轉印液L之液流般之面向下游而進行。然而，於該情形時，亦宜以將轉印液面上之活性劑成分K逼到兩側壁22之方式而送風。更詳細而言，宜以使浮游於側壁22附近之液面上之活性劑成分K自膜保持機構6(鏈條輸送機61)之開始點之前起，從膜保持機構6(鏈條輸送機61)與轉印膜F之間推至膜保持機構6與側壁22之間的方式而送風。附帶而言，如此之面向下游之送風形態中，宜相對於液流方向(下游方向)為50度~90度左右。

如以上所敍述般，作為伸展下降防止機構10(去除單元101)之送風係於不使空氣直接作用於轉印膜F之情況較好的方面、送風方向較寬之方面，與上述送風機26差異較大者。相反地說，上述送風機26係直接空氣作用於轉印膜F表面者，而且係送風方向亦考慮膜之移送，設定為自上游朝向下游之一個方向者。

其次，就藉由壓縮空氣噴出噴嘴102進行伸展下降防止用之送風時之送風量之調整之基準進行說明。

本案申請人為了確認伸展下降防止機構10之送風效果，而進行如以下般之測試。該測試係將4000公升之轉印液L(水)放入轉印槽2中並使之循環，一面對先前之液壓轉印膜塗佈先前之活性劑一面進行連續運轉，使轉印膜於不附著於(離開)膜保持機構6之時間點結束，從而確認活性劑之使用量者。此處，第1次(試行1)係不進行伸展下降防止用之送風，第2次(試行2)僅進行該送風。其結果為，試行1於約5個小時後，使用有約4 kg之活性劑之時間點，轉印膜變得不附著於膜保持機構6。又，試行2係除了將轉印槽2之水更換，如上所述進行伸展下降防止機構10之送風以外以相同條件而進行，於試行2中，由於完全觀察不到變化，轉印膜一直穩定地到達膜保持機構6而持續，故而於經過10個小時之連續運轉之階段(使用約8 kg之活性劑)，結束確認(測試)。

若根據該測試進行判斷，則認為試行1由於未進行伸展下降防止用之送風，故而轉印膜F之伸展力逐漸降低而產生伸展下降，從而變得不會附著於膜保持機構6。又，認為試行2由於一直進行伸展下降防止用之送風，而液面上之活性劑成分K被去除(液表面之濃度下降)，膜伸展力較強之關係得到保持，從而一直可維持轉印膜F之伸展(到達膜保持機構6)。

由於如此之情況，而於進行伸展下降防止用之送風時，作為調整送風量之基準，總結出可以使(轉印液中之活性劑濃度+欲阻礙伴隨轉印液面上之活性劑濃度之液膜或液體黏度所致之膜伸展的抵抗力)＜膜伸展力之關係成立之方式而進行送風之結論。

此處，作為阻礙轉印膜F之伸展之主要原因(條件)，不僅考慮液面上之活性劑濃度(比例)，亦考慮轉印液中之濃度，係因為如上所述藉由反覆進行轉印，而溶入至轉印液中之活性劑之濃度逐漸高上去。由於上述方面，藉由新水供給可使轉印液中之活性劑濃度下降或者以較低之狀態而維持，故而認為亦可藉由新水供給而實現轉印膜F之伸展下降防止。附帶而言，本實施例中，亦考慮該方面而將新水供給一併進行。

再者，作為伸展下降防止機構10中之去除單元101，未必為僅以送風而將活性劑成分K趕至側壁22，亦可採用其他去除方法，例如，可列舉將液面上之活性劑成分K與轉印液L一起吸入之真空方法。亦即，於該情形時，適用吸入噴嘴作為去除單元101。

又，本實施例中，將伸展下降防止機構10之壓縮空氣噴出噴嘴102與送風機26一起設置，但伸展下降防止機構10未必需要與送風機26一起設置，於藉由伸展下降防止機構10所致之送風(活性劑成分K之去除)、液流或者膜保持機構6所致之移送作用(保持作用)而進行向轉印膜F之周圍擴展之情形時，可自液壓轉印裝置1之整體構成將送風機26刪除。

其次，就轉印膜供給裝置3進行說明。作為一例，如圖1所示，轉印膜供給裝置3係包括如下構件而成：膠捲31，其包含捲筒而成之轉印膜F；熱輥32，其對自該膠捲31拉出之轉印膜F進行加熱；以及導引輸送機33，其係用以將轉印膜F供給至轉印槽2中；轉印膜F係藉由導引輥34而一面經由該等之構件間一面供給至轉印槽2中。

此處，上述說明中，對自捲筒而成之膠捲31依序將轉印膜F陸續饋送至轉印槽2中進行了說明，但亦可例如自最初開始將切割為矩形狀之轉印膜F一片一片地供給至轉印槽2中，並自其上方按壓被轉印體W。

其次，就活性劑塗佈裝置4進行說明。作為一例，活性劑塗佈裝置4係具備滾塗機41而成者，該滾塗機41設置於轉印膜供給裝置3之熱輥32之後段，且對轉印膜F塗佈所需要之活性劑。此處，圖1所示之實施例中，對轉印膜F塗佈活性劑後，將其供給至轉印槽2中，但亦可變更該裝置之配置，而自上方將活性劑塗佈於供給‧觸液至轉印槽2中之狀態之轉印膜F。

其次，就被轉印體搬送裝置5進行說明。被轉印體搬送裝置5係使被轉印體W以適當之姿勢浸沒於轉印液L中，又自轉印液L中提拉者，通常經由轉印用夾具(僅稱為夾具J)而實現被轉印體W之安裝，因此，於本實施例中，被轉印體搬送裝置5係亦具備擔負搬送作用之輸送機51與夾具保持器52而成者。亦即，於進行液壓轉印時，預先將被轉印體W安裝於夾具J上，使該夾具J相對於夾具保持器52裝卸而進行向輸送機51之安裝者。以下，就輸送機51進一步進行說明。

作為一例，如圖1所示，輸送機51係將平行配置之一對鏈接鏈條53橫架於鏈接桿54上，並且以特定之間隔而將夾具保持器52配設於該鏈接桿54上而成，並使被轉印體W與夾具J一併連續性地浸沒於轉印液L中或自轉印液L中出液者。再者，浸沒側中之被轉印體W(夾具J)之向輸送機51之安裝、或轉印後之出液側中之被轉印體W(夾具J)之自輸送機51之卸除既可藉由機械手而自動地進行，亦可由操作者而以手操作來進行。又，輸送機51所進行之被轉印體W之搬送速度(尤其浸沒區域P1中之速度)一般而言係設定為與轉印膜F之液面上之移送速度(亦即，轉印液L之液流速度)大致同調。

若就輸送機51之具體的構成進行說明，則作為一例，如圖1所示，該輸送機51係採用對自側面觀察描繪倒三角形之搬送軌道之通常之三角輸送機部55(使位於倒三角形之下方之頂點部分為浸沒側輪56)追加出液側輪57之構造，大概於自浸沒側輪56至出液側輪57為止之區間使被轉印體W浸沒，且將出液區域P2設定於與浸沒區域P1不同之位置者。更詳細而言，係設定為俯視之出液區域P2相對於浸沒區域P1而明確地位於下游側者。

附帶而言，先前之僅由三角輸送機部55而進行之搬送態樣中，被轉印體W之浸沒係僅於下方之頂點部分(浸沒側輪56)進行，譬如相對於短時間或者瞬間浸沒，本實施例中之被轉印體W之浸沒可謂之直線性，且可謂之確保浸沒時間較長者。

由於如此之情況，而本發明中，係對可確保自浸沒區域P1至出液區域P2為止之距離比較長，於使被轉印體W浸沒之期間將液面殘留膜F'分斷，且於兩側壁22部分加以回收較佳之搬送態樣。

進而，本實施例中，自浸沒側輪56至出液側輪57為止之區間係將液體中之被轉印體W之移動軌跡設定為大致水平者。又，輸送機51係採用於如此之構造上將先前之三角輸送機部55與直線輸送機部58藉由出液側輪57而連接之構成者，以下就該等之構成構件進行說明。

三角輸送機部55係與先前相同，使碰觸到下方頂點之浸沒側輪56為轉動中心而整體性地傾倒自由地構成，藉此構成為被轉印體W之浸沒角可適當變更。附帶而言，所謂此處之浸沒角，係指被轉印體W朝向轉印液L之液面而行進之角度，作為一例，假設有15度~35度左右之設定範圍。

又，直線輸送機部58亦使下方之鏈輪59為中心而轉動自由地構成，採用所謂縮放儀狀之構造。此(使直線輸送機部58轉動自由)係因為，即便藉由三角輸送機部55之轉動而變更被轉印體W之浸沒角，輸送機51整體之移送長度(鏈接鏈條53之全長)亦不變化，又，必須亦維持施加於輸送機51之張力。換言之，藉由使轉動，而使該直線輸送機部58之轉動自由端側作為所謂張力滑輪而發揮功能。

此處，圖12(a)中之實線部分為浸沒角比較小的情形時之搬送軌道(作為一例，為15度左右之浸沒角)，圖12(b)中之實線部分為浸沒角比較大的情形時之搬送軌道(作為一例，為30度左右之浸沒角)。附帶而言，本實施例中，由於自出液側輪57至直線輸送機部58之轉動中心側(鏈輪59)為止之間設定為固定狀態(僅容許固定位置之旋轉)，故而出液角無法變更(設定為固定)。

再者，雖然出液側輪57中負有稱作「輪」之名稱，但未必需要為與鏈接鏈條53之行走一起旋轉之構件，例如，如上述圖12所示，一面抵接於鏈條一面圓滑地將其導引之導引構件亦可(所謂滑動接觸)。

又，出液側輪57之直徑尺寸係與浸沒側輪56宜為相同大小，或較其更大者，其原因在於，若出液側輪57較小，則於被轉印體W出液時於出液側輪57之外側旋轉之圓周速度(旋轉速度)或角度變化變大(相對於轉印液L之速度差變得過大)。亦即，於該輸送機51中，由於安裝有鏈接桿54之鏈接鏈條53部分之移送速度(鏈條行走速度)維持固定，故而若出液側輪57之直徑尺寸(旋轉半徑)變小，則於該輪外側旋轉之被轉印體W之圓周速度(旋轉速度)或角度變化變大。

又，上述圖1、圖12所示之實施例中，如上所述出液角固定，而無法變更，但亦可使出液角可變。亦即，其係如下情形：例如，如圖13所示，將輸送機51(鏈接鏈條53)於側視狀態下，形成為搬送軌道整體性地成為四角形狀(尤其梯形狀)。此處，浸沒側輪56與出液側輪57設定為固定狀態(僅可固定位置之旋轉)，其餘兩個鏈輪59A、59B則形成為各自相對於浸沒側輪56與出液側輪57而轉動自由。即，使與浸沒側輪56及出液側輪57連接之浸沒側及出液側之直線輸送機部58A、58B形成為以浸沒側輪56及出液側輪57為中心而轉動自由。

當然，於本實施例中，亦由於輸送機51整體之移送長度(鏈接鏈條53之全長)仍然無法改變，故而於使被轉印體W之浸沒角變更之情形時，如張力滑輪般出液側之直線輸送機部58B亦振動，從而使出液角變更。因此，本實施例中，雖然出液角可變更，但其係與浸沒角關聯之變更，從而並非無任何限制地使出液角可自由變更者。附帶而言，圖13中之實線部分為浸沒角較大且出液角較小的情形時之搬送態樣。又，圖中之兩點鎖線部分為浸沒角較小且出液角較大的情形時之搬送態樣。附帶而言，作為具體性的角度，列舉一例，浸沒角可於15度~35度左右進行變更，出液角可於75度~90度左右進行變更。

又，上述圖12、圖13等之實施例中，係於自浸沒側輪56至出液側輪57為止之間，將被轉印體W於液體中大致水平地移送者，但被轉印體W之搬送態樣未必限定於此，例如，如圖14所示，亦可為使被轉印體W於上述之區間漸漸上升上去之移送形態。於該情形時，被轉印體W於兩輪間之移送過程中以適當之傾斜角(出液角)而上升移送。根據此情況，若於被轉印體W之浸沒後，於上述之區間僅使出液側輪57漸漸向上方移動上去，則可使被轉印體W之出液角漸漸增加上去。因此，於上述圖13中若使出液側輪57升降自由，則能夠以更高之自由度而變更出液角，根據情形係絲毫不依賴於浸沒角而可變更者。

又，作為輸送機51之搬送軌道，例如，如圖15所示，亦可使被轉印體W於出液側輪57以後於浸沒側形成為折返狀(所謂懸浮狀態)。此處，本圖15中，圖示為將出液後之被轉印體W懸浮狀地移送，但若變更輸送機51相對於轉印槽2(轉印液L)之配置等，則於使被轉印體W出液時以懸浮狀態而提拉，即於使美感面S1朝向上方之表裏相反狀態下將被轉印體W自液體中提拉亦可。

再者，由於上述輸送機51之目的在於在浸沒區域P1與出液區域P2之間，確保某程度之時間‧距離，故而亦可僅由先前之三角輸送機部55而構成輸送機51。但於該情形時，宜將圖12中所示之夾具腳JL設定得稍微長，使被轉印體W於液體中浸沒得比較深，確保自浸沒區域P1至出液區域P2為止之距離較長。當然，由於不僅使夾具腳JL較長，而且於浸沒側輪56(三角輸送機之下方頂點部分)之外側旋轉之被轉印體W之圓周速度或角度變化變大，故而必須考慮此情況而決定整體之移送態樣等。

又，被轉印體搬送裝置5未必限定於上述輸送機51者，例如，亦可適用如圖16所示之機械手110(多關節形機械手，所謂操作器)。於該情形時，轉印槽2亦係沿襲上述形態者，於使被轉印體W浸沒之期間將液面殘留膜F'分斷，並自轉印槽2中排出。當然，更好的是，於在高位準實現轉印液L或出液區域P2之清淨化之情形時，亦具備上述出液區域淨化機構8、美感面淨化機構9、伸展下降防止機構10、傾斜板27等。

再者，圖16中，指示虛線部之符號111係用以使被轉印體W浸沒轉印液L中之轉印機械手之手，一般而言係把持保持被轉印體W之夾具J者。又，圖中，指示兩點鎖線部之符號112係用以將轉印後之被轉印體W自液體中提拉，並使之載置於UV照射步驟用之輸送機C上之移載機械手之手，此處，亦一般而言係把持保持被轉印體W之夾具J。

又，於適用有如此之機械手110之液壓轉印(機械手轉印)之情形時，由於可較之上述輸送機51更自由地變更被轉印體W之姿勢，故而亦可更豐富多彩且自由地設定浸沒角或出液角或者液體中之姿勢或位置。又，由於亦可自由地設定被轉印體W之浸沒時之速度、與液體中之平行移動時或出液時之速度，故而亦可於轉印槽2之左右配置複數個機械手110而交替地進行轉印至提拉為止的步驟。

進而，認為輸送機51中出液時之搬送軌道係僅可沿著輸送機51而直線性地提拉，如上述圖11所示，根據被轉印體W(美感面S1)之彎曲狀態或凹凸程度等，而美感面S1漸漸遠離溢流槽92(排出口93)。相對於此，於由機械手110所進行之提拉之情形時，以根據被轉印體W之彎曲形狀或凹凸程度等，而將美感面S1與溢流槽92(排出口93)之距離保持固定之方式，可將被轉印體W前後移動，或者使之一面旋轉一面提拉，故而藉由自美感面S1朝向溢流槽92之美感面偏離流，可確實地進行美感面S1之淨化、與液面上之氣泡A或轉印液中‧液面上之夾雜物之排除，從而可無人且有效地連續進行精緻的轉印。

又，於機械手轉印中，使於浸沒時朝向液面之美感面S1於液體中旋轉(反轉)，藉此亦可於出液時以將美感面S1朝向上方之表裏相反狀態而將被轉印體W提拉。當然，作為出液時之被轉印體W之姿勢，亦可以相對於液面而美感面S1成大致90度(約90度之出液角)之方式，而自液體中提拉。

適用有液面殘留膜之回收裝置(轉印槽2)之液壓轉印裝置1係如以上般而構成者，以下，一面就該液壓轉印裝置1之轉印方法(轉印態樣)進行說明，一面就液面殘留膜之回收方法一併進行說明。

(1)轉印膜之供給

於進行液壓轉印時，首先，將轉印膜F供給至蓄積有轉印液L之轉印槽2中。此處，如上所述，於液壓轉印時宜形成亦具有表面保護功能之轉印圖案(不需要轉印後之外塗覆)，故而，作為轉印膜F亦使用在水溶性膜之上藉由轉印墨水而僅形成有轉印圖案者，或者使用在水溶性膜與轉印圖案之間形成有硬化性樹脂層者，尤其於使用在水溶性膜上僅形成有轉印圖案之轉印膜F之情形時，宜適用液體狀之硬化樹脂組成物作為活性劑。

又，本實施例中，於將轉印膜F供給至轉印槽2中時，於膜保持機構6(鏈條輸送機61)與轉印膜F之間的轉印液L面上成為液膜狀，且將使轉印膜F之伸展下降之活性劑成分K去除。其中，例如，如圖1所示，藉由壓縮空氣噴出噴嘴102，而對面向轉印膜F之擴展邊緣之液面送風，一面將滯留(浮游)於此處之活性劑成分K繞入至膜保持機構6之作用開始端(前方側)，一面將其逼到膜保持機構6與側壁22之間。藉此，面向轉印膜F之擴展邊緣之液面中，活性劑成分K總是被去除，故而，轉印膜F之兩側部分(兩側邊緣部分)確實地繼續到達作為膜保持機構6之鏈條輸送機61，且以保持著大致固定之延伸率之狀態而被移送至浸沒區域P1(轉印位置)為止。

再者，宜將被逼到膜保持機構6與側壁22之間的活性劑成分K於其後導入至於溢流槽75(排出口76a)而加以回收，其原因在於，將活性劑成分K自轉印槽2中連續性地回收(排出)，並連續地進行轉印膜F之伸展以及精緻的液壓轉印。

(2)被轉印體之浸沒

如此，在轉印膜F於轉印液L面上成為能夠轉印之狀態之後，例如，將保持於輸送機51之被轉印體W，依序以適當之姿勢(以浸沒角)而投入至轉印液L中。當然，該浸沒角可藉由被轉印體W(美感面S1)之形狀或凹凸等而適當變更。

此處，本發明中，浸沒區域P1係與其後自液體中提拉之出液區域P2稍微分開，使被轉印體W浸沒於轉印液L中之時間比較長。附帶而言，浸沒過程中，被轉印體W宜係於液體中大致水平地移送。

又，液面上之轉印膜F係如上述圖1般藉由被轉印體W之浸沒而被戳破成為開有孔之狀態，殘留於該液面之膜係無法用於轉印之液面殘留膜F'。因此，本發明中，以使該液面殘留膜F'不到達下游之出液區域P2為止，而於轉印後儘量早期且確實地回收，以下就該回收態樣進行說明。

(3)液面殘留膜之分斷

於回收液面殘留膜F'時，首先，將液面殘留膜F'於浸沒區域P1之下游側，而且出液區域P2之上游側中，於液流方向分斷，其中如圖1所示，對轉印後之液面殘留膜F'噴吹空氣而將其分斷。其後，將藉由空氣而分斷之液面殘留膜F'藉由送風或液流等以逐漸靠近兩側壁22之方式而傳送，此處，如圖3所示，係藉由設置於兩側壁22之溢流槽75等而回收。

(4)液面殘留膜之回收

而且，本發明中，以不妨礙液面殘留膜F'之回收之方式，於溢流槽75(排出口76)解除膜保持機構6(鏈條輸送機61)對膜之保持作用，而非於鏈條輸送機61之近前(上游側)進行解除，例如，如圖7(a)所示，構成為膜之保持作用宜稍微波及排出口76(重疊狀態)。其原因在於，直至到達溢流槽75為止使液面殘留膜F'確實地保持於鏈條輸送機61，藉此液面殘留膜F'係不會將位於轉印位置之轉印膜F拉伸，而係於溢流槽75部分，以繞入至鏈條輸送機61末端之鏈輪63中之方式而流動，從而落下至溢流槽75中，並將其回收者。

再者，分斷線FL之邊緣附近係如上所述逐漸一點一點地溶解，一面散開一面藉由送風或液流而靠近兩側壁22而去者。因此，宜於回收液面殘留膜F'時，將分斷線FL之塊整體部分、與分斷線FL之散開之夾雜物分兩個階段回收，適合於其之構成係溢流槽75之排出口76之中途部分所設置之隔斷單元77。亦即，藉由隔斷單元77之存在，即便一台溢流槽75，亦可分為隔斷單元77之前後兩個階段回收液面殘留膜F'。具體而言，如圖3、圖8所示，將分斷線FL之塊整體導引至較之隔斷單元77(擋板78或者收容式隔斷體79)更靠上游近前側而於前方之第一階段回收，另一方面，關於分斷線FL之散開之夾雜物而言，則於較之隔斷單元77更後方之第二階段回收。

又，隔斷單元77係使排出口76之流速導引範圍變狹者，因此，隔斷單元77亦進行解除膜之保持作用後之流速變弱之控制。

如此，利用空氣而分斷之液面殘留膜F'係藉由溢流槽75而確實且不對轉印位置(浸沒區域P1)帶來不良影響地被回收者。

此處，作為隔斷單元77，如圖3、圖8所示，可適用擋板78或收容式隔斷體79，但若為收容式隔斷體79，則宜僅藉由落入至溢流槽75中即可將其本身固定，又，藉由使收容式隔斷體79於前後滑動亦可容易地進行相對於排出口76之位置設定、或前後兩個階段所進行之回收比例之調節。

再者，如此之液面殘留膜F'之回收當然係於較之出液區域P2更靠上游側而結束者。

(5)出液區域淨化(無需裝飾之面側)

又，伴隨如此之液面殘留膜F'之回收，本實施例中，係藉由出液區域淨化機構8而將出液區域P2尤其無需裝飾之面S2側淨化者，以下就此情況進行說明。出液區域淨化機構8係使出液區域P2中之轉印液中‧液面上之夾雜物或液面上之氣泡A遠離出液區域P2，並排出至槽外者。其中，例如，如圖3所示，於出液區域P2之左右兩側壁22設置溢流槽82，形成自出液區域P2朝向溢流槽82之側向偏離流，藉此主要使膜渣等之液體中之夾雜物不靠近出液區域P2，且實現其回收。進而，本實施例中，如圖1~3所示，於轉印槽2之一方之側壁22(溢流槽82之上方)上設置送風機85，以使自此處起通過出液區域P2到達相反側之溢流槽82之方式而進行送風。藉此，將出液區域P2(無需裝飾之面S2側)之液面上所產生之氣泡A或夾雜物送入至溢流槽82中，並加以回收。又，由此，於溢流槽82中宜形成流速增強用凸緣84，以加快液面附近之流速(導入速度)。

再者，較理想的是，為了形成上述側向偏離流，而利用一部分新水。

(6)美感面淨化(美感面側)

又，本實施例中，係藉由美感面淨化機構9而將出液區域P2之美感面S1側淨化者。亦即，該機構係於將被轉印體W提拉時，將出液中之被轉印體W之美感面S1淨化，進而使由於自先行提拉之被轉印體W(夾具J)落下之液滴而產生的液面上之氣泡A、或轉印液中‧液面上之夾雜物遠離美感面S1並自出液區域P2中排除者，以下就此情況進行說明。

美感面淨化機構9係於出液中通常朝向下游側，故而可極力消除繞入至美感面S1之液流而使夾雜物不靠近美感面S1。具體而言，如圖1、圖2所示，於出液區域P2設置溢流槽92，藉此於出液中之被轉印體W(美感面S1)，形成由新水所致之美感面偏離流。此處，於上述溢流槽92宜形成流速增強用凸緣94，以加快液面附近之流速(導入速度)(參照圖3、圖10)。

再者，於伴隨被轉印體W之出液，而被轉印體W(美感面S1)自作為偏離流形成單元91之溢流槽92相反而去之情形時，宜使溢流槽92漸漸接近被轉印體W，或者藉由降低溢流槽92之水位(液體位準)提高流速，而使美感面偏離流強化(參照圖11)。

附帶而言，於使用操作器作為被轉印體搬送裝置5之情形時，以將被轉印體W與溢流槽92之距離宜保持固定之方式，而控制被轉印體W之出液軌道以使之出液。

此處，由上述溢流槽82、92所回收之轉印液L係將夾雜物去除而供循環使用者。

進而，本實施例中，係於轉印槽2之底部設置傾斜板27者，該傾斜板27係利用轉印槽2之底部所產生之循環還流所致之微速的液流、與被轉印體W之液體中之大致水平的移動(傾斜板27之上方)所致之液流，來捕捉滯留於轉印液L中之夾雜物者。因此，傾斜板27擔負將轉印液L淨化之作用，若考慮循環使用轉印液L，則可謂之間接性地有助於出液區域P2之潔淨化。因此，本實施例中，係藉由該等液面殘留膜回收機構7、出液區域淨化機構8、美感面淨化機構9、傾斜板27等，而於高位準達成出液區域P2之潔淨化者。

附帶而言，於液壓轉印後進行外塗覆，實現轉印圖案之表面保護之先前之液壓轉印中，於液壓轉印後進行水洗淨等而將附著於被轉印體W(美感面S1)之水溶性膜去除，其後進行外塗覆，故而，於轉印時膜渣等夾雜物附著於美感面S1之情況並非本身即成為不良。然而，於如此之先前之液壓轉印中，亦於高位準維持出液區域P2之潔淨化或轉印液L之清淨度之情況係於可進行精緻的液壓轉印之方面較佳，本實施例中之如此技術思想係於先前之液壓轉印中亦較佳者。

(7)被轉印體之出液

被轉印體W係如上述般自於高位準達成潔淨化之出液區域P2中提拉者，因此，幾乎無向美感面S1之夾雜物或氣泡A之附著(降低不良率)。又，將被轉印體W自轉印液L中提拉時之出液角可適當變更。

再者，被轉印體W宜係於轉印液L中(自浸沒側輪56至出液側輪57之區間中之搬送軌道中)大致水平地移送，其原因在於，於轉印液L中及出液時之旋轉動作中，避免對被轉印體W賦予伴隨過度之速度或角度變化之向美感面S1之應力。

(8)裝飾層之硬化處理

對自轉印液L中提拉之被轉印體W，於其後實施使轉印圖案(裝飾層)硬化之處理。此處，係對被轉印體W照射紫外線等之活性能量線者(參照圖17(c))，此時，被轉印體W係保持半溶解狀態之PVA附著於美感面S1之狀態。再者，作為使轉印圖案(裝飾層)硬化之其他方法，除了上述活性能量線照射以外亦可列舉加熱，亦可進行該等兩者而使之硬化。附帶而言，申請專利範圍中所記載之稱作「活性能量線照射或/及加熱」之敍述，係指進行該等硬化處理之中任一者或兩者。

其後，被轉印體W由於藉由水洗淨等而PVA被去除(脫膜)，經過乾燥，結束一系列操作。再者，本實施例中，由於已經使轉印圖案(裝飾層)硬化，故而不需要乾燥後之外塗覆，但此後，進而進行外塗覆之情況本身亦可。

(9)關於被轉印體係於美感面具有開口部之情形時之轉印

其次，就被轉印體W係於美感面S1具有開口部Wa之情形時之較佳的轉印態樣進行說明。關於如此之被轉印體W，例如，如圖17(a)所示，宜於開口部Wa之背面(無需裝飾之面S2)側空開適當之間隙CL而設置薄膜衍生物120以進行轉印(使之浸沒至轉印液L中)。其原因在於，保持如此之狀態使拉伸於表側之美感面S1上之薄膜M藉由薄膜衍生物120而如圖17(b)所示，於開口部Wa與薄膜衍生物120之間(間隙CL)拉伸。

此處，就通常使於美感面S1側拉伸之薄膜M可藉由薄膜衍生物120而於間隙CL拉伸之經緯(理由)進行說明。薄膜M一般與肥皂氣泡相同，因此具有稱作以使面積(表面積)變小之方式而將膜拉伸之性質(FELLMER法則)。因此，以相對於開口部Wa之面積(開口部面積)而使間隙CL之圓周面積(使其為離開圓周面積)變小之方式而設置薄膜衍生物120，藉此可將薄膜M導引至間隙CL側(無需裝飾之面S2側)。

由於如此之情況，而作為一例，如與圖17(a)一併表示般，薄膜衍生物120係於自正面觀察開口部Wa之狀態下，形成為與開口部Wa大致同等之大小，或較之開口部Wa大一圈者，其係用以於開口部Wa之圓周中確實地形成間隙CL之構成。

又，於使薄膜衍生物120位於開口部Wa之背面側時，既可將薄膜衍生物120安裝於夾具J上，亦可利用被轉印體W之背面(作為集合之安裝構造)而將薄膜衍生物120直接安裝於被轉印體W上。

附帶而言，作為一例，如圖17(c)所示，直至結束裝飾層之硬化處理為止，宜使薄膜衍生物120位於無需裝飾之面S2側。又，關於薄膜M於出液中或該硬化處理中破裂之情況無特別障礙，其原因在於，薄膜M形成於被轉印體W之無需裝飾之面S2側，即便破裂亦難以於美感面S1側產生由破裂殘渣所引起之氣泡A。

再者，於進行機械手轉印之情形時，或於即便適用輸送機51亦將被轉印體W以懸浮狀態自液體中提拉之情形時等，能夠於使美感面S1朝上之表裏相反狀態下提拉，故而，即便被轉印體W於美感面S1具有開口部Wa，亦可不使用如此之薄膜衍生物120而進行液壓轉印(認為氣泡A難以附著於美感面S1)。其原因在於，認為若為於表裏相反狀態下之提拉，則附著於被轉印體W(美感面S1)之液體會由於重力而自然地流入至碰觸到下方之背面側，故而，即便產生由破裂殘渣所引起之氣泡A，其亦沿著上述液流而繞入至無需裝飾之面S2側。

進而，上述間隙CL未必需要相對於開口部Wa之圓周而形成為固定，例如，如圖18所示，亦可使之漸減(此處，以使朝向出液下方側而間隙CL漸漸變寬之方式設置薄膜衍生物120)，於該情形時，於轉印浸沒時被轉印體W與薄膜衍生物120之間容易誘導空氣洩漏，可進行精緻的液壓轉印，又，可期待出液後之迅速排水與乾燥。

[產業上之利用可能性]

本發明係於液壓轉印時，將不使用於轉印而浮游於液面上之液面殘留膜於被轉印體之浸沒後迅速且確實地回收者，且適合於轉印時形成亦具有表面保護功能之轉印圖案之液壓轉印(不需要外塗覆之液壓轉印)，但亦可適用於轉印時形成轉印圖案，且藉由轉印後之外塗覆而實現其表面保護之先前之液壓轉印中。

再者，本發明係如上所述般將液面殘留膜F'以簡單之構造而確實地回收之技術思想，但將以伴隨轉印膜F之觸液會流出‧滯留於轉印液L面上而阻止膜之伸展之方式張開膜之活性劑成分K去除之伸展下降防止機構10亦為極具劃時代性之技術思想。

1．．．液壓轉印裝置

2．．．轉印槽

3．．．轉印膜供給裝置

4．．．活性劑塗佈裝置

5．．．被轉印體搬送裝置

6．．．膜保持機構

7．．．液面殘留膜回收機構

8．．．出液區域淨化機構

9．．．美感面淨化機構

10．．．伸展下降防止機構

21．．．處理槽

22．．．側壁

23．．．循環管路

24．．．淨化裝置

25．．．循環泵

26．．．送風機

27．．．傾斜板

28．．．取水口

29．．．基座

30．．．基座

31．．．膠捲

32．．．熱輥

33．．．引導輸送機

34．．．導引輥

41．．．滾塗機

51．．．輸送機

52．．．夾具保持器

53．．．鏈接鏈條

54．．．鏈接桿

55．．．三角輸送機部

56．．．浸沒側輪

57．．．出液側輪

58．．．直線輸送機部

58A．．．直線輸送機部

58B．．．直線輸送機部

59．．．鏈輪

59A．．．鏈輪

59B．．．鏈輪

61．．．鏈條輸送機

62．．．鏈條

63．．．鏈輪

64．．．導引體

65．．．導引體

71．．．分割單元

72．．．排出單元

73．．．送風機

73a．．．輔助送風機

73b．．．輔助送風機

75．．．溢流槽

75a．．．輔助溢流槽

76．．．排出口

76a．．．排出口

77．．．隔斷單元

78．．．襯板

79．．．收容式遮蔽體

79a．．．擋板作用部

79b．．．腳部

81．．．排出單元

82．．．溢流槽

83．．．排出口

84．．．流速增強用凸緣

85．．．送風機

91．．．偏離流形成單元

92．．．溢流槽

93．．．排出口

94．．．流速增強用凸緣

95．．．吸入噴嘴

101．．．去除單元

102．．．壓縮空氣噴出噴嘴

110．．．機械手(多關節形機械手)

111．．．手(轉印機械手)

112．．．手(移載機械手)

120．．．薄膜衍生物

A．．．氣泡

C．．．輸送機(UV照射步驟用)

CL．．．間隙

F．．．轉印膜

FL．．．分斷線

F'．．．液面殘留膜

f．．．經轉印之裝飾層

J．．．夾具

JL．．．夾具腳

K．．．活性劑成分

L．．．轉印液

M．．．薄膜

P1．．．浸沒區域(轉印位置)

P2．．．出液區域

P3．．．分斷開始地點

S1．．．美感面

S2．．．無需裝飾之面

W．．．被轉印體

Wa．．．開口部

圖1係表示適用本發明之液面殘留膜之回收裝置的液壓轉印裝置之一例之平面圖及側面剖面圖。

圖2同上係相對於平面圖而言將轉印槽之內部構造一併表示之側面剖面圖。

圖3係表示轉印槽之骨架性立體圖。

圖4係使用兩台送風機作為分割單元，將液面殘留膜於液流方向分斷為三個部分，並於三處加以回收之轉印槽之平面圖。

圖5係使用三台送風機作為分割單元，將液面殘留膜於液流方向分斷為兩個部分之轉印槽之平面圖。

圖6(a)、(b)係表示使經分斷之液面殘留膜靠近轉印槽之側壁部而自此處排出時，解除膜保持機構對膜之保持作用之其他實施例之說明圖(自側面觀察膜保持機構之圖)。

圖7(a)、(b)係將使鏈條輸送機之膜保持作用波及至液面殘留膜回收機構之溢流槽為止之情況、與使該保持作用不波及至溢流槽之情況加以對比而表示之說明圖。

圖8係表示適用有收容式隔斷體作為藉由溢流槽將液體回收隔斷之隔斷單元之轉印槽之骨架性立體圖(a)，及將設置有收容式隔斷體之溢流槽放大表示之立體圖(b)‧剖面圖(c)。

圖9係表示一面將液面殘留膜於液流方向分斷為兩個部分，一面於四處加以回收之轉印槽之平面圖。

圖10(a)~(c)係表示設置有自轉印液於出液中之被轉印體之美感面形成偏離流之美感面淨化機構的轉印槽之說明圖。

圖11係表示即便將被轉印體以固定之傾斜狀態提拉，亦藉由被轉印體之彎曲狀態或凹凸程度等，而導致美感面漸漸遠離作為偏離流形成單元之溢流槽之情況的說明圖。

圖12係表示將三角輸送機部與直線輸送機部藉由出液側輪而連接之被轉印體搬送裝置之側面圖，(a)係將浸沒角比較小之情形以實線來表示之圖，(b)係將浸沒角比較大之情形以實線來表示之圖。

圖13係表示將搬送軌道於側視狀態下整體性地形成為四角形狀，從而可變更浸沒角與出液角之被轉印體搬送裝置之側面圖。

圖14係表示於浸沒側輪至出液側輪為止之區間中將被轉印體於轉印液中漸漸上升移送之被轉印體搬送裝置之部分性的側面圖。

圖15係表示出液側輪以後，將被轉印體以折返狀態移送至浸沒側之被轉印體搬送裝置之側面圖。

圖16係使適用有機械手之被轉印體搬送裝置之被轉印體之移動的一例、與轉印槽相關聯而表示之圖1所對應的說明圖。

圖17(a)係表示於被轉印體於美感面具有開口部之情形時，於該開口部之背面側空開間隙而設置有薄膜衍生物之情況的被轉印體之背面圖及剖面圖，及圖17(b)、(c)表示設置薄膜衍生物而進行液壓轉印及紫外線照射之情況之說明圖。

圖18係表示於被轉印體設置薄膜衍生物時使與開口部之間隙於圓周上不固定，而使之不同之實施例的說明圖。

圖19(a)~(c)係表示於液壓轉印時不僅形成轉印圖案而且形成表面保護層，於其後藉由紫外線照射等而使該等裝飾層硬化之情形時，於液壓轉印時氣泡附著於美感面之情況、及於該狀態下進行紫外線照射之情況的說明圖。

圖20係概念性地表示通常供給至轉印液面上之轉印膜藉由上側之轉印圖案、與下側之水溶性膜之延伸差而向上方捲曲之情況之說明圖。