TWI536116B - 曝光裝置 - Google Patents

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Description

曝光裝置
本發明係關於一種利用分割曝光製造顯示3維影像的液晶顯示裝置的定向材料膜的曝光裝置，特別是關於一種將在定向材料膜中對應液晶顯示裝置的各色素的部分2分割並從不同方向進行曝光，或是使對應各畫素的部分針對在該寬度方向上隣接的各畫素從不同方向進行曝光，藉此使定向材料膜受到光定向的曝光裝置。
以往，關於例如液晶顯示器等產品所使用的液晶，可使用由複數個苯或是環乙烷分子以及由兩端部的修飾基所構成的棒狀分子所構成者，使棒狀的液晶分子朝單一方向整齊排列，便可對液晶顯示器等產品的視野角度以及對比等特性進行調整。
關於使液晶分子整齊排列的方法，以往，係在夾持液晶的玻璃基板的表面上形成由例如聚亞醯胺等物質所構成的定向膜，藉由在定向膜之間夾持液晶，以使液晶分子配合定向膜的定向方向而朝既定方向整齊排列。
在玻璃基板的表面上形成定向膜時，可採用以下的製造方法：將例如聚亞醯胺溶液塗佈在玻璃基板上並進行燒成，形成數十nm左右的聚亞醯胺膜(定向材料膜)，之後利用表面捲繞著布的摩擦輥子(例如專利文獻1)，朝單一方向摩擦聚亞醯胺膜(定向材料膜)的表面。
然而，在玻璃基板的表面上形成定向膜並使液晶分子整齊排列的方法中，由於定向膜的形成採用上述的製造方法，從摩擦輥子脫離的摩擦布以及被削取下來的聚亞醯胺膜的塵屑，會損傷定向膜，塵屑會附著在定向膜的表面上。因此，容易造成液晶顯示器的顯示瑕疵以及顯示不良情況。
為了解決該等問題，最近吾人提出一種使用紫外線對定向材料膜進行定向的光定向技術。亦即，用直線偏光或是無偏向的紫外光照射聚亞醯胺或是偶氮苯等的定向材料膜，使定向材料膜因為其光分解特性而朝同一方向受到定向。因此，利用光線以非接觸方式便可形成定向特性良好的定向膜，進而能夠防止液晶顯示器等產品產生顯示瑕疵以及顯示不良的情況。
然而，在該光定向過程中，在以紫外光朝單一方向照射定向材料膜的情況下，定向膜的定向方向只會朝向單一方向，故定向膜之間所挾持的液晶分子只會朝某一特定方向整齊排列。因此，對於液晶顯示器等產品而言，會產生視野角度狹窄的問題。
為了解決該等問題，最近吾人提出一種稱為定向分割的定向材料膜的曝光技術(例如專利文獻2至4)。圖9係表示習知的定向分割曝光技術的示意圖，圖9(a)係表示利用習知的曝光裝置進行定向分割曝光的側視圖，圖9(b)係立體圖。如圖9所示的，在採用定向分割方式的曝光裝置中，係從2個光源(第1光源11以及第2光源12)分別以不同射出角度射出曝光光線11a、12a，讓曝光光線11a、12a透過配置在第1光源11以及第2光源12與曝光對象構件2之間的遮罩13。圖10係表示在採用該定向分割方式的曝光裝置中利用遮罩以及1次曝光所形成的定向膜的圖式。如圖9(b)所示的，遮罩13係由框體130與其中央的圖案形成部131所構成的，如圖10所示的，在圖案形成部131上形成有第1透光區域群131a以及第2透光區域群131b，其分別由複數個透光區域排成1列所構成，且分別對應第1以及第2光源11、12的曝光光線。第1透光區域群131a與第2透光區域群131b在定向材料膜的對遮罩13的相對掃描方向上間隔配置，複數個透光區域分別對應在1個色素的寬度方向上被分割成一半的區域。然後，第1透光區域群131a的各透光區域與第2透光區域群131b的各透光區域以在掃描方向上不重疊的方式彼此隔著間隔排列。如圖10(b)所示的，第1以及第2透光區域群131a、131b的各個透光區域在掃描方向上並排著複數個[在圖10(b)中為6個]。然後，對該遮罩13的不同區域131a、131b分別以第1以及第2光源11、12的曝光光線11a、12a從不同方向進行照射，藉此，使透過透光區域的光線照射到平台15上所支持的曝光對象構件2的表面的定向材料膜上，以使其曝光。如是，利用1次曝光，如圖10(c)所示的，分別針對色素的分割方向亦即寬度方向以及與其垂直的長度方向(掃描方向)，藉由透過複數個透光區域的曝光光線，使定向材料膜受到曝光，以對應定向方向一致的色素的區域在該寬度方向以及長度方向上並排複數個的方式形成定向膜。
此時，由於曝光光線11a、12a相對於曝光對象面的傾斜角度並不相同，故可製得朝2個方向定向的定向膜。因此，將作為液晶顯示器等產品的R(紅)、G(綠)、B(藍)的各色素的部分分割成2個區域，分別照射曝光光線11a、12a。如是，便可在液晶顯示器等產品的1色素內，使定向膜的定向方向成為2個方向，並使液晶分子朝2個方向整齊排列。藉此，便可使液晶顯示器等產品的視野角度更廣。另外，在採用該等定向分割方式的曝光裝置中，亦可取代將圖10所示的遮罩的各透光區域在掃描方向上並排複數個的作法，而以各透光區域在掃描方向上延伸的方式構成，並使各透光區域對應包含在掃描方向上並排的複數個畫素在內的區域，藉由持續性地使光透過該透光區域，讓定向膜的定向方向一致的區域以在掃描方向上延伸成帶狀的方式形成。藉此，便可製造出針對每個成為在寬度方向上隣接的畫素的區域使其定向方向均不相同的定向膜。
[習知技術文獻]
[專利文獻]
專利文獻1：日本特開2009-294609號公報
專利文獻2：日本特開2010-39485號公報
專利文獻3：日本特開2001-42365號公報
專利文獻4：日本特開2003-43492號公報
然而，在上述習知技術中，存在以下的問題點。在採用定向分割方式的曝光裝置中，係將支持遮罩13的遮罩台14配置在2個光源當中的其中一方光源該側。因此，在習知的曝光裝置中，當必須根據定向膜的定向方向而縮小曝光光線11a相對於曝光對象面的傾斜角度時，如圖11所示的，由於遮罩台14的上部(圖11的部分A)位於曝光光線11a的光線路徑上，故會干涉曝光光線11a，而無法以既定圖案使定向膜受到曝光。
另外，如圖9至圖11所示的，在習知的曝光裝置中，第1以及第2光源11、12所射出的曝光光線11a、12a，分別透過遮罩13的靠近各光源側的區域。因此，當有必要縮小曝光光線11a、12a相對於曝光對象面的傾斜角度時，必須拉長第1以及第2光源11、12之間的距離，因此會使曝光裝置趨向大型化。
有鑑於相關問題點，本發明之目的為：在以定向分割曝光方式製造顯示3維影像的液晶顯示裝置所使用的定向材料膜的曝光裝置中，提供一種即使在有必要縮小曝光光線相對於曝光對象面的傾斜角度的情況下，也能夠以既定圖案對定向材料膜正常地進行曝光，且能夠趨向小型化的曝光裝置。
本發明的曝光裝置係一種對於液晶顯示裝置的定向材料膜，將各色素在其寬度方向上2分割並從不同方向進行曝光以使該定向材料膜受到光定向的曝光裝置，其特徵為包含：第1以及第2光源，其射出曝光光線；遮罩，其形成有可讓該第1以及第2光源的曝光光線透過的複數個透光區域分別排成1列的第1透光區域群以及第2透光區域群；遮罩支持部，其配置在該第1光源側並支持該遮罩；以及移動機構，其使該定向材料膜與該遮罩相對性移動，而利用該曝光光線掃描該定向材料膜；該第1以及第2透光區域群在該定向材料膜的對該遮罩的相對掃描方向上間隔配置，複數個透光區域分別對應1個色素的在寬度方向上被分割成一半的區域，該第1透光區域群的透光區域與該第2透光區域群的透光區域以在該掃描方向上不重疊的方式相互之間隔著間隔而沿該掃描方向所垂直的方向排列，使該第1光源以及該第2光源 的曝光光線在該第1以及第2光源與該遮罩之間的光線路徑上以互相交叉的方式傾斜，分別透過該遮罩的該第1透光區域群及該第2透光區域群，並照射該定向材料膜的對應各色素的各分割區域的區域。本曝光裝置，以使液晶顯示裝置的各色素在其寬度方向上被2分割並使其定向方向為不同方向的方式進行曝光，可用來形成視野角度較寬廣的定向膜。
本發明的另一態樣的曝光裝置係一種對於液晶顯示裝置的定向材料膜，將各色素在其寬度方向上2分割並從不同方向進行曝光以使該定向材料膜受到光定向的曝光裝置，其特徵為包含：第1以及第2光源，其射出曝光光線；第1遮罩，其形成有可讓該第1光源的曝光光線透過的複數個透光區域被配置成1列的第1透光區域群；第1遮罩支持部，其配置在該第2光源側並支持該第1遮罩；第2遮罩，其形成有可讓該第2光源的曝光光線透過的複數個透光區域被配置成1列的第2透光區域群；第2遮罩支持部，其配置在該第1光源側並支持該第2遮罩；以及移動機構，其使該定向材料膜與該第1遮罩及該第2遮罩相對性移動，而利用該曝光光線掃描該定向材料膜；在該第1以及第2透光區域群中，複數個透光區域分別對應1個色素的在寬度方向上被分割成一半的區域，該第1透光區域群的透光區域與該第2透光區域群的透光區域以在該掃描方向上不重疊的方式相互之間隔著間隔而沿該掃描方向所垂直的方向排列，使該第1光源以及該第2光源的曝光光線在該第1以及第2光源與該遮罩之間的光線路徑上以互相交叉的方式傾斜，分別透過該第1遮罩的該第1透光區域群及該第2遮罩的該第2透光區域群，並照射該定向材料膜的對應各色素的各分割區域的區域。本曝光裝置，以使液晶顯示裝置的各色素在其寬度方向上被2分割並使其定向方向分別為不同方向的方式進行曝光，可形成視野角較寬廣的定向膜。
本發明的另一態樣的曝光裝置係一種對於液晶顯示裝置的定向材料膜，將由複數個色素所構成的各畫素針對在其寬度方向上隣接的各畫素從不同方向進行曝光以使該定向材料膜受到光定向 的曝光裝置，其特徵為包含：第1以及第2光源，其射出曝光光線；遮罩，其形成有可讓該第1以及第2光源的曝光光線透過的複數個透光區域分別排成1列的第1透光區域群以及第2透光區域群；遮罩支持部，其配置在該第1光源側並支持該遮罩；以及移動機構，其使該定向材料膜與該遮罩相對性移動，而利用該曝光光線掃描該定向材料膜；該第1以及第2透光區域群在該定向材料膜的對該遮罩的相對掃描方向上間隔配置，複數個透光區域分別對應包含在該掃描方向上並排的複數個畫素在內的區域，該第1透光區域群的透光區域與該第2透光區域群的透光區域以在該掃描方向上不重疊的方式相互之間隔著間隔而沿該掃描方向所垂直的方向排列，使該第1光源以及該第2光源的曝光光線在該第1以及第2光源與該遮罩之間的光線路徑上以互相交叉的方式傾斜，分別透過該遮罩的該第1透光區域群及該第2透光區域群，並照射該定向材料膜的對應包含在該掃描方向上並排的複數個畫素在內的區域的區域。本曝光裝置，以使液晶顯示裝置的各畫素針對在其寬度方向上隣接的各畫素使其定向方向為不同方向的方式進行曝光，可形成用來當作例如3D顯示器用的偏光薄膜。
本發明的另一態樣的曝光裝置係一種對於液晶顯示裝置的定向材料膜，將由複數個色素所構成的各畫素針對在其寬度方向上隣接的各畫素從不同方向進行曝光，以使該定向材料膜受到光定向的曝光裝置，其特徵為包含：第1以及第2光源，其射出曝光光線；第1遮罩，其形成有可讓該第1光源的曝光光線透過的複數個透光區域被配置成1列的第1透光區域群；第1遮罩支持部，其配置在該第2光源側並支持該第1遮罩；第2遮罩，其形成有可讓該第2光源的曝光光線透過的複數個透光區域被配置成1列的第2透光區域群；第2遮罩支持部，其配置在該第1光源側並支持該第2遮罩；以及移動機構，其使該定向材料膜與該第1遮罩及該第2遮罩相對性移動，而利用該曝光光線掃描該定向材料膜；在該第1以及第2透光區域群中，複數個透光區域分別對應包含在該掃描方向上並排的複數個畫素在內的區域，該第1透光 區域群的透光區域與該第2透光區域群的透光區域以在該掃描方向上不重疊的方式相互之間隔著間隔而沿該掃描方向所垂直的方向排列，使該第1光源以及該第2光源的曝光光線在該第1以及第2光源與該遮罩之間的光線路徑上以互相交叉的方式傾斜，分別透過該第1遮罩的該第1透光區域群及該第2遮罩的該第2透光區域群，並照射該定向材料膜的對應包含在該掃描方向上並排的複數個畫素在內的區域的區域。本曝光裝置，以使液晶顯示裝置的各畫素針對在其寬度方向上隣接的畫素使其定向方向為不同方向的方式進行曝光，可形成用來當作例如3D顯示器用的偏光薄膜。
本發明的曝光裝置，使第1光源以及第2光源的曝光光線在第1以及第2光源與定向材料膜之間的光線路徑上互相交叉並照射定向材料膜的對應各色素的各分割區域的區域或是對應包含在掃描方向上並排的複數個畫素在內的區域的區域。如是，比起未使各曝光光線之間彼此交叉的情況而言，更能拉近光源之間的距離。因此，本發明的曝光裝置，比起習知的曝光裝置而言，曝光光線不會受到裝置本身的干涉，可照射的範圍更廣，即使縮小曝光光線相對於曝光對象面的傾斜角度，也能夠使定向材料膜正常地受到曝光。
另外，由於能夠拉近光源之間的距離，故可使裝置整體趨向小型化。
以下，參照附圖具體說明本發明的實施態樣。首先，說明第1實施態樣的曝光裝置的構造。圖1(a)係表示本發明的第1實施態樣的曝光裝置所進行的定向分割曝光的側視圖，圖1(b)係立體圖。圖2(a)係表示在本發明的第1實施態樣的曝光裝置中的遮罩的俯視圖，圖2(b)係表示圖2(a)的透光區域群的A部分的放大圖，圖2(c)係表示在本發明的第1實施態樣的曝光裝置 中，利用1次曝光所形成的定向膜的圖式。圖3係表示在第1實施態樣的曝光裝置中遮罩以及曝光光線之間的關係的示意圖。另外，在本實施態樣中係就以下態樣進行說明：各透光區域以在掃描方向上延伸的方式構成，使各透光區域對應包含在掃描方向上並排的複數個畫素在內的區域，利用連續曝光，以定向方向一致的區域在掃描方向上延伸成帶狀的方式形成。
如圖1所示的，曝光裝置1係由射出曝光光線11a、12a的2個光源(第1光源11以及第2光源12)，在表面上形成有圖案的遮罩13，以及支持遮罩13的遮罩台14所構成的，平台15上所支持的曝光對象構件2，例如在表面上形成有定向材料膜的玻璃基板，受到曝光光線11a、12a的照射曝光，而朝既定方向定向。另外，在圖1以及圖2等的各圖式中，係將曝光對象構件2圖示成比遮罩13更大若干，惟本發明並不因為曝光對象構件2的大小而受到限定。
第1以及第2光源11、12分別宜使用可射出例如紫外光的光源，例如：水銀燈、氙氣燈、準分子燈以及紫外光LED等。在從第1以及第2光源11、12射出的曝光光線11a、12a的光線路徑上，分別配置了例如準直透鏡及/或反射鏡等構件，以對例如曝光對象構件2的表面的定向材料膜照射既定光量的曝光光線11a、12a。第1以及第2光源11、12可利用例如圖中未顯示的控制裝置調整曝光光線11a、12a的射出方向，藉此，便可調整對曝光對象構件2的入射角。本實施態樣的曝光裝置1從第1以及第2光源11、12以在第1以及第2光源11、12與遮罩13之間互相交叉的方式射出曝光光線11a、12a。本實施態樣的曝光光線11a、12a，雙方為例如P偏向或S偏向其中之一的直線偏光的曝光光線，故即使在該光線路徑上交叉，也不會互相干涉。藉由對定向材料膜分別照射預傾角不同的曝光光線11a以及曝光光線12a，便可使液晶分子的定向方向彼此相異，針對例如1個色素或在寬度方向上隣接的各畫素，使定向膜的定向方向為2個不同方向，便可讓液晶顯示器等產品的視野角度更寬廣。
如圖1(b)所示的，遮罩13係由例如框體130與其中央的圖案形成部131所構成的，如圖2(a)所示的，在圖案形成部131上，以分別對應第1以及第2光源11、12的曝光光線的方式，形成複數個透光區域分別在與掃描方向垂直的方向上排成1列的第1透光區域群131a以及第2透光區域群131b。在本實施態樣中，第1透光區域群131a與第2透光區域群131b，在定向材料膜的對遮罩13的相對掃描方向上間隔配置，如圖2(b)所示的，複數個透光區域在掃描方向上延伸，對應包含在掃描方向上並排的複數個畫素在內的區域。然後，第1透光區域群131a的各透光區域與第2透光區域群131b的各透光區域，以在掃描方向上不重疊的方式彼此隔著間隔排列。例如第1透光區域群131a的各透光區域與第2透光區域群131b的各透光區域，以在掃描方向上不重疊的方式，在與掃描方向垂直的方向上互相交錯排列。在本實施態樣中，第1以及第2透光區域群的各透光區域，可為具有曝光光線11a、12a可透過的形狀的開口，或是透光性構件。然後，讓第1以及第2光源11、12的曝光光線11a、12a從不同方向照射該遮罩13的各個相異區域131a、131b，藉此對平台15上所支持的曝光對象構件2的表面上的定向材料膜照射透過透光區域的光線，以進行曝光。在本實施態樣中，如圖2(a)所示的，在圖案形成部131的透光區域中，對應第1光源11所射出的曝光光線11a的第1透光區域群131a形成在第2光源12側，對應第2光源12所射出的曝光光線12a的第2透光區域群131b形成在第1光源11側。因此，在本實施態樣中，如圖2(c)所示的，第1光源11的曝光光線11a的曝光區域與第2光源12的曝光光線12a的曝光區域，彼此之間隔著間隔距離。
遮罩台14係在第1光源11側支持遮罩13的框體130的構件。在本發明中，係將遮罩台14側的光源取名為第1光源，惟第1以及第2這些名稱本身並無特別意義。遮罩台14可被固定在曝光裝置內的圖中未顯示的其他構件上，或者，以可配合曝光光線的照射區域移動的方式設置遮罩台14。例如，使遮罩台14可在水平方 向上移動以配合曝光光線11a及/或曝光光線12a相對於曝光對象構件2的曝光對象面的傾斜角度。又例如，遮罩台14以可在垂直方向上移動的方式設置。
支持曝光對象構件2的平台15，可藉由例如電腦控制來調整位置，在設置曝光對象構件2之後，藉由移動平台15，便可使曝光對象構件2的表面上的曝光光線的照射區域移動。藉此，便可對曝光對象構件2上的複數區域依序進行曝光。
在本實施態樣中，如圖2所示的，2道曝光光線11a、12a透過遮罩13在曝光對象構件2的表面上所照射的區域，根據照射的各開口或透光構件，係例如液晶顯示器等產品的(由R、G、B這3個色素所構成的)畫素在單一方向(在曝光裝置中的掃描方向)上並排複數個的區域，第1光源11的曝光光線11a的曝光區域與第2光源12的曝光光線12a的曝光區域彼此隔開。因此，雖然無法使畫素的互相隣接的區域同時曝光，然而隣接的未曝光的畫素會因為平台15一邊移動一邊進行曝光的關係，而被另一方的曝光光線所曝光。亦即，在本實施態樣中，以時序錯開的方式對彼此隣接的畫素進行曝光，形成第1光源11所射出的曝光光線11a的曝光區域與第2光源12所射出的曝光光線12a的曝光區域互相隣接的定向膜。
在習知的曝光裝置中，如圖9所示的，係使射出角度不同的2道曝光光線以1個色素的一半區域或是在寬度方向上隣接的畫素相互隣接的方式進行照射，使1個色素或是在寬度方向上互相隣接的畫素分別被相異的2個光源同時曝光。相對於此，本實施態樣的曝光裝置1，係從第1以及第2光源11、12，以光線路徑在第1以及第2光源11、12與遮罩13之間互相交叉的方式射出曝光光線11a、12a，使其各自透過遮罩13的另一方光源側的圖案，2道曝光光線以彼此隔開的方式照射曝光對象構件2的表面。因此，在本實施態樣中，能夠拉近第1光源11與第2光源12之間的距離，使裝置整體趨向小型化。
接著就本實施態樣的曝光裝置的動作進行說明。在開始曝光 之前，首先，在平台15上設置曝光對象構件2，例如在表面上形成了既定厚度的定向材料膜的玻璃基板。此時，例如，以曝光對象構件2上的定向材料膜的曝光對象面與平台15的表面平行的方式調整曝光對象構件2的位置。另外，例如，以定向材料膜的曝光對象部位進入曝光光線的照射區域內的方式，調整曝光對象構件2的位置。該曝光對象構件2的位置調整，宜採用在由電腦控制的可動平台15上設置曝光對象構件2之後，使平台移動的方式進行。藉此，便可對曝光對象構件2的複數區域依序進行曝光。
接著，針對各個成為在掃描方向上並排的畫素的區域，決定其定向材料膜的定向方向。然後，以對應所決定的定向方向對各分割區域從既定角度照射曝光光線的方式，決定第1以及第2光源11、12的曝光光線的射出方向。接著，以可對曝光對象構件2上所形成的定向材料膜的既定區域照射曝光光線的方式調整第1光源11與第2光源12之間的距離，同時調整遮罩台14的位置，藉此調整遮罩13的透光區域的圖案的位置。遮罩13應選用配合定向材料膜的曝光圖案者。
在本實施態樣中，以從第1光源11射出的曝光光線11a與從第2光源12射出的曝光光線12a在照射到遮罩12的圖案形成部131之前的光線路徑互相交叉的方式，調整第1以及第2光源11、12的位置。因此，第1光源11與第2光源12之間的距離，比習知的曝光裝置更小。藉此，曝光光線11a、12a不會受到裝置本身(例如遮罩台14或是遮罩的框體130)的干涉，且能夠照射的範圍變廣。
第1與第2光源11、12以及遮罩13的位置決定之後，接著，便從各光源射出曝光光線。從各光源所射出的曝光光線11a、12a，會透過例如準直透鏡及/或被鏡子等的光學構件反射而形成既定光量射向遮罩13。
在本實施態樣中，使第1光源11射出的曝光光線11a與第2光源12射出的曝光光線12a在照射到遮罩13的圖案形成部131之前的光線路徑上交叉。然而，曝光光線11a以及12a以不會互 相干涉的方式射向定向材料膜。由於使2道曝光光線11a、12a互相交叉，即使曝光光線11a、12a相對於曝光對象面的傾斜角度縮小，曝光光線11a、12a也不會受到遮罩台等構件的干涉，而能夠射向遮罩13的既定的透光區域群131a、131b。當曝光光線11a、12a照射到圖案形成部131的各自對應的透光區域群131a、131b時，曝光光線11a、12a會對應圖案形成部131的透光區域的圖案而透過遮罩13，透過遮罩13的光線會射向曝光對象構件2。
然後，曝光光線11a以及曝光光線12a照射到定向材料膜上的彼此隔開的區域。在本實施態樣中，曝光光線11a以及曝光光線12a的照射區域，就遮罩13的各透光區域而言，係例如液晶顯示器等產品的(由R、G、B這3個色素所構成的)畫素在單一方向(在曝光裝置中的掃描方向)上並排複數個的區域，根據在遮罩13的圖案形成部131上所形成的(在與掃描方向垂直的寬度方向上並排)複數個透光區域，成為在掃描方向上並排的複數個畫素的區域分別受到曝光。在受到曝光光線11a以及曝光光線12a照射的區域中，定向材料膜會因為其光分解特性，對應曝光光線的照射角度，朝既定方向受到定向。因此，曝光光線11a的照射區域的定向材料膜，會因為曝光光線11a的入射角，而朝第1方向定向，曝光光線12a的照射區域的定向材料膜，會因為曝光光線12a的入射角，而朝與第1方向相異的第2方向定向。藉此，就在掃描方向上並排的複數個畫素而言，朝第1方向定向的定向膜與朝第2方向定向的定向膜，分別以在掃描方向上延伸成帶狀的方式形成。在本實施態樣中，對定向材料膜所照射的曝光光線11a、12a，在其光線路徑上不會受到裝置本身的干涉，而能夠使定向材料膜正常地受到曝光。
如是，在持續照射曝光光線11a、12a的狀態下，例如，利用電腦控制移動平台15，讓曝光對象構件2沿著例如掃描方向以一定速度移動，以使曝光光線11a、12a持續進行照射，進而使曝光對象構件2持續受到曝光。藉此，隣接的未曝光的畫素很快地就會被另一方的曝光光線所曝光，形成第1光源11的曝光光線11a 的曝光區域與第2光源12的曝光光線12a的曝光區域互相隣接的定向膜。
然後，在曝光對象構件2上的所有曝光對象部位都被曝光之後，便可移動平台15，將曝光對象構件2送出曝光裝置1。藉此，便可在例如玻璃基板上，對應在掃描方向上並排的各畫素，形成定向方向一致的帶狀區域，製造出在與掃描方向垂直的方向上隣接的各畫素之間的定向方向不同的定向膜。然後，在所製造的2片玻璃基板的定向膜之間夾持液晶。如是，液晶的棒狀的分子會因為定向膜的定向方向而朝既定方向整齊排列。藉此，完成視野角較廣並採用定向分割方式的液晶顯示器材料。另外，利用本實施態樣的定向膜的形成方法，亦可製造出例如3D顯示器用的偏光薄膜。亦即，若利用2個光源的曝光光線，例如，對每一個成為在薄膜的寬度方向上隣接的畫素的區域，交互照射P偏光以及S偏光的直線偏光的曝光光線，便可使由複數個色素所構成的各個畫素的定向材料膜的定向方向不同。藉此，便可製得在薄膜面上定向方向相互差90°而與1/4λ板有相同功能的定向膜，並可將所製得的薄膜當作偏光薄膜使用。亦即，若使直線偏光的影像顯示用的光線透過該偏光薄膜，則會對在由複數個畫素所構成的薄膜的寬度方向上延伸的顯示列，射出彼此旋轉方向相反的圓偏光的透射光。該圓偏光的2道透過光線可分別當作例如3D顯示器的右眼用以及左眼用的顯示光使用。
如以上所述，在本實施態樣的曝光裝置1中，由於曝光光線11a、12a以在第1以及第2光源11、12與遮罩13之間的光線路徑上互相交叉的方式射出，故可拉近第1光源11與第2光源12之間的距離，即使曝光光線11a、12a相對於曝光對象面的傾斜角度縮小，也能夠使定向材料膜正常地受到曝光。
另外，在本實施態樣中，於遮罩13的第1以及第2透光區域群131a、131b中的各透光區域，如圖2(b)如所示的，係分別對應包含在掃描方向上並排的複數個畫素在內的區域，惟此係利用使曝光光線連續射出的連續曝光，以在掃描方向上延伸的方式形 成定向方向一致的定向膜的情況。本發明並非僅限於該等態樣，亦可應用於對曝光對象構件間歇性地照射曝光光線以進行曝光的情況。亦即，例如圖4(a)以及圖4(b)所示的，使第1以及第2透光區域群131a、131b的各透光區域沿著掃描方向分割成複數個[在圖4(b)中為6個]，使各透光區域對應1個色素在與掃描方向垂直的寬度方向上2分割的區域。藉此，便能夠以1次曝光使對應複數個色素的區域受到曝光。然後，例如利用平台15，使曝光對象構件2在第1光源11側或是第2光源12側沿著例如掃描方向以一定速度水平移動，移動距離在掃描方向上移動了圖案的長度[在本變化實施例中為6個色素的長度(參照圖4)]，此時照射曝光光線以進行曝光。但是，在此時，在曝光對象構件2的表面上的2道曝光光線的照射區域宜隔開例如色素的長度的整數倍。亦即，在本變化實施例中，如圖4(c)所示的，第1光源11的曝光區域與第2光源12的曝光區域彼此隔開，並將相互之間的距離設為色素的長度的整數倍，藉此便可在一半區域已被一方光源曝光的色素中，精確地使另一方光源的曝光區域與色素的剩下的另一半區域對齊一致而使其受到曝光。藉此，便可製得作為1個色素的區域被2分割且在各分割區域分別形成定向方向不同的定向膜的區域並排成複數個矩陣狀的產品。
另外，在本實施態樣中，平台15係受到電腦控制而能夠沿著掃描方向移動，惟本發明的曝光裝置並非僅限於本實施態樣，例如亦可利用電腦控制平台15移動方向。亦即，例如，亦可在以上述變化實施例的步驟進行曝光的情況下，於1曝光對象部位的定向膜的完成之後，以使已形成圖案的區域朝例如色素的分割方向亦即寬度方向移動的方式，控制平台15的移動方向。藉此，對在色素的寬度方向上的相隣的曝光對象部位依序進行曝光。另外，例如，即使在曝光對象構件2的曝光對象部位並非配置成互相隣接(連續性配置)的情況下，只要移動平台15而將各曝光對象部位置於曝光光線的照射區域之下，亦可對各曝光對象部位依序進行曝光步驟。
接著，就本發明的第2實施態樣(參考例)的曝光裝置進行說明。圖5(a)係表示第2實施態樣(參考例)的曝光裝置的定向分割曝光情況的側視圖，圖5(b)係立體圖。圖6係表示在第2實施態樣(參考例)的曝光裝置中遮罩以及曝光光線之間的關係的示意圖。
在第1實施態樣中，係使第1以及第2光源11、12所射出的曝光光線11a、12a在第1以及第2光源11、12與遮罩13之間交叉，惟在本實施態樣中，如圖5以及圖6所示的，第1以及第2光源11、12以2道曝光光線11a、12a的交叉位置在遮罩13與定向材料膜之間的方式射出。
另外，遮罩13以及遮罩台14的位置比起第1實施態樣而言離曝光對象構件2更遠。其他構造與第1實施態樣相同。
在本實施態樣中，由於曝光光線11a、12a以在遮罩13與定向材料膜之間互相交叉的方式射出，故如圖5所示的，第1光源11與第2光源12之間的距離必須比第1實施態樣的距離更遠一些，然而比起習知裝置而言還是可以使裝置整體趨向小型化。
另外，曝光光線11a、12a不會受到裝置本身(例如遮罩台14或是遮罩的框體130)干涉的可照射範圍也比習知的曝光裝置更廣，即使曝光光線11a、12a相對於曝光對象面的傾斜角度縮小，曝光光線11a、12a也不會受到遮罩台等構件的干涉，而能夠照射定向材料膜，使定向材料膜正常地受到曝光。
另外，在本實施態樣中，亦與第1實施態樣相同，如圖2(a)以及圖2(b)所示的，第1以及第2透光區域群131a、131b的各透光區域以在掃描方向上延伸的方式構成，使曝光對象構件2沿著例如掃描方向以一定速度移動，持續地使曝光光線透過各透光區域，對曝光對象構件2持續照射曝光光線使其曝光，製得在沿著掃描方向的帶狀區域定向方向一致的定向膜，藉此便可製造出例如3D顯示器用的偏光薄膜。此時，由於無須使各個作為色素的2分割曝光區域之間互相隣接，2道曝光光線的各照射區域之間的在掃描方向上的距離便無限制。
另外，如圖6所示的，在曝光對象構件2的表面上的第1光源11的曝光光線11a的照射區域與第2光源12的曝光光線12a的照射區域彼此隔開，惟在間歇性射出曝光光線，而各次曝光光線的照射使對應複數個色素的曝光區域受到曝光的情況下，與第1實施態樣相同，係將該等照射區域之間的距離設定為1個色素的長度的整數倍。藉此，與第1實施態樣的變化實施例的情況相同，在圖6所示狀態下於曝光完成之後，藉由移動平台15，使曝光對象構件2以一定速度移動，曝光對象構件移動在掃描方向上的圖案的長度(在使用如圖4所示的遮罩13的情況下為6個色素的長度)，若此時照射曝光光線，便可製得曝光光線11a的曝光區域與曝光光線12a的曝光區域隣接，且1個色素的一半區域分別朝不同方向定向的定向膜。亦即，在本實施態樣中，亦以時序錯開的方式對1個色素的分割成2塊的區域進行曝光。藉此，便可製造出作為1個色素的區域被2分割且在各分割區域分別形成定向方向不同的定向膜的區域以複數矩陣狀並排的產品。
接著，就本發明的第3實施態樣的曝光裝置進行說明。圖7(a)係表示第3實施態樣的曝光裝置的定向分割曝光情況的側視圖，圖7(b)係立體圖。圖8係表示在第3實施態樣的曝光裝置中的遮罩的俯視圖。
在本實施態樣中，如圖7所示的，在第1實施態樣中的遮罩13，被分割成使第1光源11的曝光光線11a透過的第1遮罩13a與使第2光源12的曝光光線12a透過的第2遮罩13b，因此，如圖7(b)以及圖8所示的，使第1光源11的曝光光線11a透過的第1透光區域群131a設置在第1遮罩13a，使第2光源12的曝光光線12a透過的第2透光區域群131b設置在第2遮罩13b。第1以及第2透光區域群131a、131b，與第1以及第2實施態樣相同，分別以在與掃描方向垂直的方向上並排的方式配置成1列。然後，複數個透光區域在掃描方向上延伸，對應包含在掃描方向上並排的複數個畫素在內的區域。第1遮罩13a以及第2遮罩13b分別被遮罩台14所支持，藉此，第1遮罩13a以及第2遮罩13b 可分別獨立移動。亦即，在本實施態樣中，如圖7所示的，支持第1遮罩13a的遮罩台14配置在第2光源12側，支持第2遮罩13b的遮罩台14配置在第1光源11側。其他構造與第1實施態樣相同。
在本實施態樣中，亦與第1實施態樣的曝光裝置相同，能夠拉近第1光源11與第2光源12之間的距離，使裝置整體趨向小型化，曝光光線11a、12a不會受到裝置本身(例如遮罩台14或是遮罩的框體130)的干涉，可照射範圍更廣，另外，即使曝光光線11a、12a相對於曝光對象面的傾斜角度縮小，也能夠使定向材料膜正常地受到曝光。在本實施態樣中，由於更進一步將遮罩13分割成第1遮罩13a以及第2遮罩13b，且以可分別獨立移動的方式被遮罩台14所支持，故可針對各個光源分別調整遮罩的位置以及對曝光對象構件2所照射的曝光光線的光量等。因此，當一方光源的曝光光線未在曝光對象構件2上照射既定光量時，可利用遮罩台14移動曝光光線可透過的遮罩13a或是遮罩13b，以調節曝光光線的位置以及光量等。
在本實施態樣中，亦與第1以及第2實施態樣相同，如圖2(a)以及圖2(b)所示的，第1以及第2透光區域群131a、131b的各透光區域以在掃描方向上延伸的方式構成，使曝光對象構件2沿著例如掃描方向以一定速度移動，持續地使曝光光線透過各透光區域，對曝光對象構件2持續地照射曝光光線使其曝光，藉此製得在沿著掃描方向的帶狀區域定向方向一致的定向膜，以製造出例如3D顯示器用的偏光薄膜。
另外，在本實施態樣中，亦可如圖4(a)以及圖4(b)所示的，將第1以及第2透光區域群131a，131b的各透光區域沿著掃描方向分割成複數個，使各透光區域對應1個色素在與掃描方向垂直的寬度方向上被2分割的區域，進行曝光步驟，以製造出作為1個色素的區域被2分割且在各分割區域分別形成定向方向不同的定向膜的區域並排成複數個矩陣狀的產品。
[產業上的可利用性]
本發明的曝光裝置，將定向材料膜的對應液晶顯示裝置的各色素的部分2分割並從不同方向進行曝光，或是就對應各畫素的部分針對在其寬度方向上隣接的各畫素從不同方向進行曝光，藉此使定向材料膜受到光定向。如是，本發明的曝光裝置，便可在製造顯示3維影像的液晶顯示裝置的定向材料膜時，使定向材料膜以既定圖案正常地受到分割曝光。
1‧‧‧曝光裝置
2‧‧‧曝光對象構件
11‧‧‧第1光源
12‧‧‧第2光源
11a‧‧‧(第1光源的)曝光光線
12a‧‧‧(第2光源的)曝光光線
13‧‧‧遮罩
13a‧‧‧第1遮罩
13b‧‧‧第2遮罩
130‧‧‧框體
131‧‧‧圖案形成部
131a‧‧‧第1透光區域群
131b‧‧‧第2透光區域群
14‧‧‧遮罩台
15‧‧‧平台
A‧‧‧部分
R‧‧‧紅
G‧‧‧綠
B‧‧‧藍
[圖1](a)係表示本發明的第1實施態樣的曝光裝置的定向分割曝光情況的側視圖，(b)係同上情況的立體圖。
[圖2](a)係表示在本發明的第1實施態樣的曝光裝置中的遮罩的俯視圖，(b)係表示在圖2(a)中的透光區域群的A部分的放大圖，(c)係表示在本發明的第1實施態樣的曝光裝置中受到1次曝光所形成的定向膜的圖式。
[圖3]係表示在本發明的第1實施態樣的曝光裝置中遮罩以及曝光光線之間的關係的示意圖。
[圖4](a)以及(b)係表示在本發明的第1實施態樣的曝光裝置中遮罩的變化實施例的圖式，(c)係表示利用圖4(a)以及(b)的遮罩所形成的定向膜的圖式。
[圖5](a)係表示本發明的第2實施態樣(參考例)的曝光裝置的定向分割曝光情況的側視圖，(b)係同上情況的立體圖。
[圖6]係表示在本發明的第2實施態樣(參考例)的曝光裝置中遮罩以及曝光光線之間的關係的示意圖。
[圖7](a)係表示本發明的第3實施態樣的曝光裝置的定向分割曝光情況的側視圖，(b)係同上情況的立體圖。
[圖8]係表示在本發明的第3實施態樣的曝光裝置中的遮罩的俯視圖。
[圖9](a)係表示習知曝光裝置的定向分割曝光情況的側視圖，(b)係同上情況的立體圖。
[圖10](a)係表示在習知曝光裝置中的遮罩的俯視圖，(b) 係表示在圖10(a)中的透光區域群的A部分的放大圖，(c)係表示在習知曝光裝置中受到1次曝光所形成的定向膜的圖式。
[圖11]係表示在習知曝光裝置中遮罩以及曝光光線之間的關係的示意圖。
1．．．曝光裝置
2．．．曝光對象構件
11．．．第1光源
12．．．第2光源
11a．．．(第1光源的)曝光光線
12a．．．(第2光源的)曝光光線
13．．．遮罩
130．．．框體
131．．．圖案形成部
131a．．．第1透光區域群
131b．．．第2透光區域群
14．．．遮罩台
15．．．平台

Claims (4)

  1. 一種曝光裝置，其對於液晶顯示裝置的定向材料膜，將各色素在寬度方向上2分割並從不同方向進行曝光，以使該定向材料膜受到光定向，其特徵為包含：第1以及第2光源，其射出曝光光線；遮罩，其形成有可讓該第1以及第2光源的曝光光線透過的複數個透光區域分別排成1列的第1透光區域群以及第2透光區域群；遮罩支持部，其配置在該第1光源側並支持該遮罩；以及移動機構，其使該定向材料膜與該遮罩相對性移動，而利用該曝光光線掃描該定向材料膜；該第1以及第2透光區域群在該定向材料膜的對該遮罩的相對掃描方向上間隔配置，複數個透光區域分別對應1個色素的在寬度方向上被分割成一半的區域，該第1透光區域群的透光區域與該第2透光區域群的透光區域以在該掃描方向上不重疊的方式相互之間隔著間隔而沿該掃描方向所垂直的方向排列，使該第1光源以及該第2光源的曝光光線在該第1以及第2光源與該遮罩之間的光線路徑上以互相交叉的方式傾斜，分別透過該遮罩的該第1透光區域群及該第2透光區域群，並照射該定向材料膜的對應各色素的各分割區域的區域。
  2. 一種曝光裝置，其對於液晶顯示裝置的定向材料膜，將各色素在寬度方向上2分割並從不同方向進行曝光，以使該定向材料膜受到光定向，其特徵為包含：第1以及第2光源，其射出曝光光線；第1遮罩，其形成有可讓該第1光源的曝光光線透過的複數個透光區域配置成1列的第1透光區域群；第1遮罩支持部，其配置在該第2光源側並支持該第1遮罩；第2遮罩，其形成有可讓該第2光源的曝光光線透過的複數個透光區域配置成1列的第2透光區域群；第2遮罩支持部，其配置在該第1光源側並支持該第2遮罩； 以及移動機構，其使該定向材料膜與該第1遮罩及該第2遮罩相對性移動，而利用該曝光光線掃描該定向材料膜；在該第1以及第2透光區域群中，複數個透光區域分別對應1個色素的在寬度方向上被分割成一半的區域，該第1透光區域群的透光區域與該第2透光區域群的透光區域以在該掃描方向上不重疊的方式相互之間隔著間隔而沿該掃描方向所垂直的方向排列，使該第1光源以及該第2光源的曝光光線在該第1以及第2光源與該遮罩之間的光線路徑上以互相交叉的方式傾斜，分別透過該第1遮罩的該第1透光區域群及該第2遮罩的該第2透光區域群，並照射該定向材料膜的對應各色素的各分割區域的區域。
  3. 一種曝光裝置，其對於液晶顯示裝置的定向材料膜，將由複數個色素所構成的各畫素針對在寬度方向上隣接的各畫素從不同方向進行曝光，以使該定向材料膜受到光定向，其特徵為包含：第1以及第2光源，其射出曝光光線；遮罩，其形成有可讓該第1以及第2光源的曝光光線透過的複數個透光區域分別排成1列的第1透光區域群以及第2透光區域群；遮罩支持部，其配置在該第1光源側並支持該遮罩；以及移動機構，其使該定向材料膜與該遮罩相對性移動，而利用該曝光光線掃描該定向材料膜；該第1以及第2透光區域群在該定向材料膜的對該遮罩的相對掃描方向上間隔配置，複數個透光區域分別對應包含在該掃描方向上並排的複數個畫素在內的區域，該第1透光區域群的透光區域與該第2透光區域群的透光區域以在該掃描方向上不重疊的方式相互之間隔著間隔而沿該掃描方向所垂直的方向排列，使該第1光源以及該第2光源的曝光光線在該第1以及第2光源與該遮罩之間的光線路徑上以互相交叉的方式傾斜，分別透過該遮罩的該第1透光區域群及該第2透光區域群，並照射該定向材料膜的對應包含在該掃描方向上並排的複數個畫素在內的區域的區 域。
  4. 一種曝光裝置，其對於液晶顯示裝置的定向材料膜，將由複數個色素所構成的各畫素針對在寬度方向上隣接的各畫素從不同的方向進行曝光，以使該定向材料膜受到光定向，其特徵為包含：第1以及第2光源，其射出曝光光線；第1遮罩，其形成有可讓該第1光源的曝光光線透過的複數個透光區域配置成1列的第1透光區域群；第1遮罩支持部，其配置在該第2光源側並支持該第1遮罩；第2遮罩，其形成有可讓該第2光源的曝光光線透過的複數個透光區域配置成1列的第2透光區域群；第2遮罩支持部，其配置在該第1光源側並支持該第2遮罩；以及移動機構，其使該定向材料膜與該第1遮罩及該第2遮罩相對性移動，而利用該曝光光線掃描該定向材料膜；在該第1以及第2透光區域群中，複數個透光區域分別對應包含在該掃描方向上並排的複數個畫素在內的區域，該第1透光區域群的透光區域與該第2透光區域群的透光區域以在該掃描方向上不重疊的方式相互之間隔著間隔而沿該掃描方向所垂直的方向排列，使該第1光源以及該第2光源的曝光光線在該第1以及第2光源與該遮罩之間的光線路徑上以互相交叉的方式傾斜，分別透過該第1遮罩的該第1透光區域群及該第2遮罩的該第2透光區域群，並照射該定向材料膜的對應包含在該掃描方向上並排的複數個畫素在內的區域的區域。
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Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5629941B2 (ja) * 2011-02-23 2014-11-26 株式会社ブイ・テクノロジー スキャン露光装置
KR101829778B1 (ko) * 2011-06-29 2018-02-20 삼성디스플레이 주식회사 노광 장치 및 액정 표시 장치의 제조 방법
TW201314374A (zh) * 2011-09-30 2013-04-01 Chimei Innolux Corp 配向膜之光配向裝置及配向膜製造方法及液晶顯示裝置製造方法
JP5953512B2 (ja) 2012-07-05 2016-07-20 株式会社ブイ・テクノロジー 光配向露光装置及び光配向露光方法
JP6078843B2 (ja) * 2012-07-05 2017-02-15 株式会社ブイ・テクノロジー 光配向露光方法及び光配向露光装置
CN104965388B (zh) * 2015-07-06 2019-05-31 深圳市华星光电技术有限公司 用于光配向的光罩及光配向方法
JP6660144B2 (ja) * 2015-10-23 2020-03-04 株式会社ブイ・テクノロジー 光照射装置
JP2017151405A (ja) * 2016-02-22 2017-08-31 株式会社ブイ・テクノロジー 偏光光照射装置
WO2017145975A1 (ja) * 2016-02-22 2017-08-31 株式会社ブイ・テクノロジー 偏光光照射装置
US10821717B2 (en) 2016-07-22 2020-11-03 General Electric Company Layer orientation control for pixel-based additive manufacturing
CN108345180B (zh) * 2017-01-25 2020-04-10 上海微电子装备（集团）股份有限公司 一种曝光和光配向一体的装置及其使用方法
JP6755472B2 (ja) * 2017-04-17 2020-09-16 株式会社ブイ・テクノロジー 光照射装置
CN109212837B (zh) * 2017-06-30 2021-04-09 上海微电子装备（集团）股份有限公司 一种光配向装置及方法
US11951679B2 (en) 2021-06-16 2024-04-09 General Electric Company Additive manufacturing system
US11731367B2 (en) 2021-06-23 2023-08-22 General Electric Company Drive system for additive manufacturing
US11958249B2 (en) 2021-06-24 2024-04-16 General Electric Company Reclamation system for additive manufacturing
US11958250B2 (en) 2021-06-24 2024-04-16 General Electric Company Reclamation system for additive manufacturing
US11826950B2 (en) 2021-07-09 2023-11-28 General Electric Company Resin management system for additive manufacturing
US11813799B2 (en) 2021-09-01 2023-11-14 General Electric Company Control systems and methods for additive manufacturing

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100379873B1 (ko) * 1995-07-11 2003-08-21 우시오덴키 가부시키가이샤 막질개량방법
JP3597446B2 (ja) 1999-05-24 2004-12-08 シャープ株式会社 液晶表示装置
JP2002031804A (ja) 2000-07-18 2002-01-31 Nec Corp 液晶表示装置
JP4334166B2 (ja) 2001-08-01 2009-09-30 シャープ株式会社 液晶表示装置及び配向膜の露光装置及び配向膜の処理方法
KR100849093B1 (ko) * 2001-11-15 2008-07-30 엘지디스플레이 주식회사 노광기
JP4826897B2 (ja) * 2005-03-31 2011-11-30 Ｄｉｃ株式会社 液晶配向膜の製造方法、及び液晶配向膜のチルト角を減じる方法
JP2007041175A (ja) * 2005-08-02 2007-02-15 Sharp Corp 表示パネル用の基板およびこの基板に対する露光方法
WO2007086474A1 (ja) 2006-01-26 2007-08-02 Sharp Kabushiki Kaisha 液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置
JP4764197B2 (ja) * 2006-02-17 2011-08-31 株式会社ブイ・テクノロジー 液晶表示用基板の製造方法
US8134668B2 (en) * 2007-03-05 2012-03-13 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display device and production method thereof
WO2009037889A1 (ja) 2007-09-21 2009-03-26 Sharp Kabushiki Kaisha 液晶表示装置及びその製造方法
JP5097623B2 (ja) 2008-06-09 2012-12-12 富士フイルム株式会社 ラビング処理方法および光学フィルムの製造方法
KR100911459B1 (ko) * 2008-08-06 2009-08-11 삼성전자주식회사 배향막 형성방법, 이를 이용한 액정 표시 장치의 제조방법및 배향막 형성 장치

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