KR100849093B1 - 노광기 - Google Patents

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KR100849093B1
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Abstract

본 발명은 스캔수를 줄일 수 있는 노광기에 관한 것이다.
본 발명에 따른 노광기는 기판 상에 형성되는 패턴의 형태를 결정하는 마스크; 및 상기 기판 상부에 상기 마스크가 위치하도록 상기 마스크를 지지하는 적어도 2개의 진공패드쌍들을 구비하며; 상기 적어도 2개의 진공패드쌍들은, 상기 마스크의 폭방향으로 양측에 위치하여 상기 마스크와 소정간격 중첩되게 형성되는 제1패드쌍과, 상기 마스크의 길이방향으로 양측에 위치하여 상기 마스크와 비중첩되게 형성되는 제2패드쌍을 구비한다.

Description

노광기{Exposer}
도 1은 종래의 노광기를 나타내는 도면.
도 2는 도 1에서 선"A-A'"를 따라 절취한 노광기를 나타내는 단면도.
도 3은 도 1에 도시된 노광기를 이용하여 6개의 기판을 스캔순서를 나타내는 도면.
도 4는 본 발명에 따른 노광기를 나타내는 도면.
도 5는 도 4에서 선 "B-B'"를 따라 절취한 노광기를 나타내는 단면도.
도 6은 도 4에 도시된 노광기를 이용하여 6개의 기판을 스캔순서를 나타내는 도면.
< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 >
2,32 : 마스크 4,34 : 진공패드
6,36 : 진공라인 8,38 : 흡착부
10,40 : 블레이드 12,42 : 기판
14,44 : 프레임 16,46 : 크롬패턴
18,48 : 투과막
본 발명은 노광기에 관한 것으로, 특히 스캔수를 줄일 수 있는 노광기에 관한 것이다.
통상적으로, 사진식각법은 기판이나 웨이퍼 상에 에칭재료에 내성이 있는 물질, 즉 포토레지스트(Photo Resist)을 도포한후, 이들 기판(또는 웨이퍼)의 상부에 마련된 마스크에 광을 조사하여 마스크에 형성된 패턴을 기판에 전사시켜 원하는 패턴을 기판에 형성하게 된다. 이 과정에서 마스크에 광을 조사하여 패턴을 전사하는 것을 노광이라 하며, 이를 위한 장비를 노광기(Exposer)라 한다. 이하, 도 1 및 도 2를 결부하여 종래의 노광기에 대하여 살펴보기로 한다.
도 1 및 도 2를 참고하면, 종래 노광기의 마스크 스테이지부는 크롬패턴(16)이 형성되는 마스크(2)와, 마스크(2) 양측에 형성되는 진공패드(4)를 구비한다.
마스크(2) 상에 형성되는 크롬패턴(16)을 이용하여 마스크(2)에 광을 조사하면 기판(12)에 원하는 패턴이 형성된다. 이러한 크롬패턴(16)과 소정간격을 두고 크롬패턴(16) 상에 투과막(Pellicle;18)이 형성된다. 이 투과막(18)을 지지하기 위해 투과막(18) 양측에 프레임(14)이 형성된다.
마스크(2)의 투과막(18)이외의 영역에는 X/Y블레이드(10X,10Y)가 형성된다. X/Y블레이드(10X,10Y)는 마스크(2)의 투과막(18) 이외의 영역에 빛이 투과되지 못 하도록 마스크(2)의 프레임(14)과 진공패드(4) 하부에 형성된다.
진공패드(4)는 마스크(2)가 기판(12) 상부에 위치하도록 흡착부(8)로 마스크(2)를 흡착하여 지지하는 역할을 한다. 이 진공패드(4)는 마스크(2)의 양측에 형성되며, 각 진공패드(4)는 진공라인(6)을 통해 서로 연결되어 있다.
이러한 종래 노광기에 도 3에 도시된 바와 같이 하나의 마스크(2)의 길이방향으로 2개씩, 총 6개의 액정패널의 기판(12)이 삽입되었을 때로 가정하면, 노광기의 최대노광영역은 560mm이다. 여기서, 마스크(2)와 기판(12)을 얼라인 하기 위해 셀프로세스키(CPK)가 위치하게 된다. 이 셀프로세스키(CPK)는 마스크(2)의 길이방향에서 안쪽으로 약 5mm이내로 형성되며, 마스크(2)의 길이방향의 길이는 약 590mm이고, 3개의 마스크(2)를 합한 폭방향의 길이는 약 670mm이다.
그러나, 실제 2개의 액정패널의 기판(12)을 노광하기 위한 영역은 576mm로써, 하나의 마스크(2)로 2개의 액정패널의 기판(12)을 동시에 노광할 수 없다. 이에 따라, 노광기는 도 3에 도시된 6개의 액정패널의 기판(12)을 총 6번 스캔해야 하므로 수율이 낮아지는 문제점이 있다. 이러한 문제점을 해결하기 위해, 마스크(2)의 프레임(14)을 확대하여 스캔 수를 줄이고자 하는 방법이 제안되었다. 그러나, 마스크 스테이지부에서 마스크(2)의 프레임(14)과 접촉이 되어 로딩시 문제가 발생하게 된다.
따라서, 본 발명의 목적은 스캔 수를 줄일 수 있는 노광기를 제공하는데 있 다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 노광기는 기판 상에 형성되는 패턴의 형태를 결정하는 마스크; 및 상기 기판 상부에 상기 마스크가 위치하도록 상기 마스크를 지지하는 적어도 2개의 진공패드쌍들을 구비하며; 상기 적어도 2개의 진공패드쌍들은, 상기 마스크의 폭방향으로 양측에 위치하여 상기 마스크와 소정간격 중첩되게 형성되는 제1패드쌍과, 상기 마스크의 길이방향으로 양측에 위치하여 상기 마스크와 비중첩되게 형성되는 제2패드쌍을 구비한다.
상기 마스크의 투과막 이외의 영역의 광을 차단하는 제1 및 제2 블레이드를 구비한다.
상기 마스크 당 적어도 두 개의 기판이 대응된다.
상기 마스크의 길이방향의 길이는 590mm이다.
상기 마스크의 노광영역은 580mm이다.
상기 진공패드쌍들은 진공라인을 통해 상호 연결되어 있다.
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상기 목적외에 본 발명의 다른 목적 및 특징들은 첨부도면을 참조한 실시예에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다.
도 4 내지 도 6을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명 하기로 한다.
도 4 및 도 5를 참고하면, 본 발명에 따른 노광기의 마스크 스테이지부는 크롬패턴(46)이 형성되는 마스크(32)와, 마스크(32) 양측에 형성되는 제1 및 제2 진공패드(34a,34b)를 구비한다.
마스크(32) 상에 형성되는 크롬패턴(46)을 이용하여 마스크(32)에 광을 조사하면 기판(42)에 원하는 패턴이 형성된다. 이러한 크롬패턴(46)과 소정간격을 두고 크롬패턴(46) 상에 투과막(Pellicle;48)이 형성된다. 이 투과막(48)을 지지하기 위해 투과막(48) 양측에 프레임(44)이 형성된다.
마스크(32)의 투과막(48)이외의 영역에는 X/Y블레이드(40X,40Y)가 형성된다. X/Y블레이드(40X,40Y)는 마스크(32)의 투과막(48) 이외의 영역에 빛이 투과되지 못하도록 마스크(32)의 프레임(44)과 진공패드(34) 하부에 형성된다.
제1 및 제2 진공패드(34a,34b)는 흡착부(38)로 마스크(32)를 흡착하여 마스크(32)가 기판(42) 상부에 위치하도록 지지하는 역할을 한다. 제1 진공패드(34a)는 마스크(32)의 폭방향으로 양측에 위치하며, 마스크(32)와 소정간격 중첩되게 형성된다. 제2 진공패드(34b)는 마스크(32)의 길이방향으로 양측에 위치하며, 종래의 마스크와 중첩되는 영역을 제거하여 마스크(32)와 소정간격을 사이에 두고 형성된다. 제1 및 제2 진공패드(34a,34b)는 진공라인(36)을 통해 서로 연결되어 있으므로 완전히 제거할 수는 없다. 또는, 제1 진공패드(34a)가 마스크(32)를 지지하므로 제2 진공패드(34b)는 제거하여도 무방하다.
제2 진공패드(34b)의 일부영역을 제거함으로써, 마스크(32)의 노광영역이 대략 580mm로 종래보다 증가하게 된다.
이러한 노광기의 마스크 스테이지부에 도 6에 도시된 바와 같이 마스크(32)의 단축방향으로 2개의 기판(42)을 삽입하였을 때, 기판(42) 상에 실제 노광되는 영역은 576mm이기 때문에 580mm의 노광영역을 갖는 노광기로 2개의 기판(42)을 충 분히 노광할 수 있다. 그래서, 도 6에 도시된 바와 같이 기판(42)이 총 6개 배치될 경우, 3번의 스캔으로 기판(42)이 모두 노광된다.
본 발명에 따른 노광기의 마스크(32)를 이용하여 기판(42) 상에 원하는 패턴을 형성할 수 있다. 예를 들어, 액정패널의 절연막, 게이트전극, 소스전극, 드레인전극, 신호라인 및 접촉홀 등이 형성될 수 있다.
상술한 바와같이, 본 발명에 따른 노광기는 마스크와 중첩되는 진공패드의 일부영역을 제거함으로써, 노광영역이 확대된다. 확대된 노광영역으로 하나의 마스크로 2개의 패널을 동시에 스캔할 수 있다. 이에 따라, 스캔수가 줄어들어 수율이 향상될 수 있다.
이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여 져야만 할 것이다.

Claims (6)

  1. 기판 상에 형성되는 패턴의 형태를 결정하는 마스크; 및
    상기 기판 상부에 상기 마스크가 위치하도록 상기 마스크를 지지하는 적어도 2개의 진공패드쌍들을 구비하며;
    상기 적어도 2개의 진공패드쌍들은, 상기 마스크의 폭방향으로 양측에 위치하여 상기 마스크와 소정간격 중첩되게 형성되는 제1패드쌍과, 상기 마스크의 길이방향으로 양측에 위치하여 상기 마스크와 비중첩되게 형성되는 제2패드쌍을 구비하는 것을 특징으로 하는 노광기.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 마스크의 투과막 이외의 영역의 광을 차단하는 제1 및 제2 블레이드를 구비하는 것을 특징으로 하는 노광기.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 마스크 당 적어도 두 개의 기판이 대응되는 것을 특징으로 하는 노광기.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 마스크의 길이방향의 길이는 590mm인 것을 특징으로 하는 노광기.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 마스크의 노광영역은 580mm인 것을 특징으로 하는 노광기.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 진공패드쌍들은 진공라인을 통해 상호 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 노광기.
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