TWI533371B - Processing device - Google Patents

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TWI533371B
TWI533371B TW100122828A TW100122828A TWI533371B TW I533371 B TWI533371 B TW I533371B TW 100122828 A TW100122828 A TW 100122828A TW 100122828 A TW100122828 A TW 100122828A TW I533371 B TWI533371 B TW I533371B
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Seiji Okabe
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Tokyo Electron Ltd
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431Constructional details of the reactor
    • H01J37/32798Further details of plasma apparatus not provided for in groups H01J37/3244 - H01J37/32788; special provisions for cleaning or maintenance of the apparatus
    • H01J37/32807Construction (includes replacing parts of the apparatus)

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Description

處理裝置
本發明是有關具備收容FPD基板等的被處理體的收容室之處理裝置。
例如,在以液晶顯示器(LCD)為代表的平板顯示器(FPD)的製造工程中是使用所謂多腔室型的基板處理裝置,其係於真空壓環境下對玻璃基板等的基板實施蝕刻或CVD等預定處理的處理室(製程腔室)。如此的基板處理裝置具有:具備搬送基板的搬送裝置之搬送室,及設於其周圍的複數個處理室。並且,在此基板處理裝置設有裝載鎖定室,其係於大氣壓環境與被保持於真空的搬送室之間搬送基板時使用。
基板處理裝置是首先開啟設於裝載鎖定室的大氣側的閘(大氣側閘),將藉由大氣壓環境中的搬送自動裝置等搬送而來的基板收容於裝載鎖定室內。然後,關閉大氣側閘而將裝載鎖定室內減壓成為真空狀態後,開啟設於裝載鎖定室的搬送室側的閘(真空側閘),連通裝載鎖定室內與搬送室,藉由搬送室的搬送裝置來從裝載鎖定室搬出基板,搬送至複數的處理室的其中任一。
在各處理室對基板實施預定的處理後,藉由搬送室的搬送裝置來從各處理室取出處理完成的基板,搬入裝載鎖定室內。然後,關閉裝載鎖定室的真空側閘,使室內昇壓而回到大氣壓環境之後,開啟大氣側閘。處理完成的基板是藉由大氣壓環境中的搬送自動裝置等來從裝載鎖定室搬出,往其次的工程搬送而去。
像構成如此的基板處理裝置之處理室,搬送室,裝載鎖定室等那樣,可將基板收容於內部的收容室,為了進行其內部的維修等,大多是構成在頂部設置開口部,以裝卸自如的蓋體來閉塞開口部。
如此具備裝卸自如的蓋體之收容室,以往因維修等,一旦卸下蓋體,則會使該蓋體暫時性地移動至有別於基板處理裝置的設置空間的空間。例如在下列專利文獻1,2是另外確保使蓋體滑動的空間。並且,在下列專利文獻3是用吊車來使卸下的蓋體移動至位於別的空間的台車。
[先行技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]特開2007-067218號公報
[專利文獻2]特開2001-185534號公報
[專利文獻3]特開2009-170533號公報
可是,因為近年來玻璃基板的大型化,構成基板處理裝置的處理室,搬送室,裝載鎖定室等的基板收容室的大型化跟進,隨之,蓋體的大小也越來越大。因此,為了使蓋體暫時性地移動而所必須確保的空間面積也越來越大,妨礙無塵室等的省空間化的點成問題。而且,此空間是只利用在維修時等卸下蓋體時,基板處理裝置運轉時完全不用。
於是,本發明是有鑑於如此的問題而研發者,其目的是在於提供一種不必另外確保用以放置從搬送室等的收容室卸下的蓋體之空間,可謀求省空間化的處理裝置。
為了解決上述課題,若根據本發明的觀點,則可提供一種處理裝置,係具備收容被處理體的收容室之處理裝置,其特徵為:上述收容室係具備:具有開口部的頂部,及可裝卸自如地閉塞上述開口部的蓋體,在上述頂部設置用以暫時性地載置從上述開口部卸下的上述蓋體之蓋體載置區域。
若根據如此的本發明,則可將維修時等卸下的蓋體置於收容室的頂部的上面。
又,上述蓋體載置區域亦可構成與上述開口部鄰接。
若根據此,則可縮短從開口部卸下蓋體來使載置於蓋體載置區域的距離,因此可縮短其作業時間。此情況,上述開口部是設於上述頂部的中央,上述開口部的寬度是上述頂部的寬度的1/3以下為理想。
又,亦可在上述蓋體載置區域具備用以支撐上述蓋體的複數個支撐台。
支撐台較理想是至少與上述蓋體的接觸面為樹脂材所構成。
藉此,在將蓋體載置於蓋體載置區域時,可防止蓋體表面受傷。
又,上述蓋體係設置可裝卸自如地安裝安全柵於其上面的柵安裝部,在上述蓋體安裝上述安全柵的狀態下載置於上述蓋體載置區域時,以上述蓋體上的安全柵能夠沿著上述開口部的邊緣之方式配置上述柵安裝部。
若根據此,則只要將蓋體載置蓋體載置區域,即設有安全柵,因此可使設置安全柵的作業效率提升。
為了解決上述課題,若根據本發明的其他觀點,則可提供一種處理裝置,係具備收容被處理體的複數個收容室之基板處理裝置,其特徵為:上述複數個收容室係包含具備:具有開口部的頂部,及閉塞上述開口部的蓋體者,上述收容室的至少一個係設置用以載置其他的收容室的蓋體之第一蓋體載置區域。
若根據如此的本發明,則可將維修時等卸下的其他收容室的蓋體置於一收容室的頂部的上面。
又,具備上述第一蓋體載置區域的上述收容室亦可具有載置該收容室的蓋體之第二蓋體載置區域。
此情況,具有上述第二蓋體載置區域的上述收容室的開口部可設於頂部的中央,上述第二蓋體載置區域可與上述開口部鄰接設置。
又,上述第一蓋體載置區域與上述第二蓋體載置區域亦可配置成重疊。
又,上述第一蓋體載置區域與上述第二蓋體載置區域亦可配置成比閉塞上述開口部時的上述蓋體的上面更高。
若根據此,則可在原封不動安裝一收容室的蓋體之下,載置其他收容室的蓋體。
另外,上述複數個收容室係包含:處理室,其係於例如真空壓環境中對被處理體實施處理;裝載鎖定室,其係於大氣壓環境與上述處理室之間搬送上述被處理體時暫時性地收容上述被處理體,而將內部切換至大氣壓環境或真空壓環境;及搬送室,其係氣密地連接至上述裝載鎖定室及上述處理室,在內部具備在上述裝載鎖定室與上述處理室之間搬送上述被處理體的搬送裝置。
又,亦可在上述收容室的內部設置搬送裝置,其係使上述被處理體載於保持部而搬送,上述保持部可配合上述開口部的寬度大小來分解自如地構成。
藉此,即使基板保持部的大小比收容室的開口部大,還是可在分解基板保持部下,容易從開口部出入。
若根據本發明,則可將因維修等而被卸下的蓋體置於收容室的頂的上面。藉此,不必在設置處理裝置的空間以外另外確保用以放置蓋體的空間,因此可謀求省空間化。
以下,一邊參照附圖,一邊詳細說明有關本發明的較佳實施形態。另外,在本說明書及圖面中,有關實質上具有同一機能構成的構成要素是附上同一符號,藉此省略重複說明。
(處理裝置)
首先,一邊參照圖面一邊說明有關本發明的實施形態的處理裝置。在此,處理裝置可舉具備對FPD用玻璃基板(以下簡稱「基板」)進行電漿處理的複數個處理室(製程腔室)之多腔室型的基板處理裝置。另外,FPD的具體例,例如可舉液晶顯示器(LCD),電激發光(Electro Luminescence:EL)顯示器,電漿顯示面板(PDP)。
圖1是概略顯示本實施形態的基板處理裝置100的構成立體圖。此基板處理裝置100是具備作為本發明的收容室之裝載鎖定室102,處理室104,搬送室200。更具體而言,基板處理裝置100是在其大致中央具備搬送室200,在搬送室200的周圍具備裝載鎖定室102及3個的處理室104。
在搬送室200與裝載鎖定室102之間,搬送室200與各處理室104之間是分別設有真空側閘閥106,其係氣密地密封該等之間,且構成可開閉。並且,在連通裝載鎖定室102與外側的大氣環境之開口部設有大氣側閘閥(圖示省略)。
處理室104是對基板實施預定的電漿處理(例如蝕刻處理或灰化處理)的期間,其內部空間會被保持於預定的真空壓環境。因為基板處理裝置100具有3個處理室104,所以例如其中2個處理室可作為蝕刻處理室,剩下的1個處理室作為灰化處理室,或者3個處理室全部作為進行同一處理的蝕刻處理室或灰化處理室。另外,處理室的數量並非限於3個,亦可為4個以上,或2個以下。
搬送室200是與處理室104同樣,可保持於預定的真空壓環境。在搬送室200內設有具備用以保持基板的拾取器之搬送裝置(圖示省略)。此搬送裝置可對裝載鎖定室102及3個的處理室104進行存取,在該等之間搬送基板。
裝載鎖定室102是用以在設置於大氣壓環境的搬送裝置(未圖示)與真空壓環境的搬送室200內的搬送裝置之間進行基板的交接者。因此,裝載鎖定室102是構成可將其內部切換成大氣壓環境及真空壓環境。
裝載鎖定室102是具備:收容基板之大致箱狀的容器110,及將設於容器110的頂部112之開口部114予以氣密地閉塞的蓋體120。因為開口部114是設在頂部112的幾乎全域,所以予以閉塞的蓋體120也會變大。又,裝載鎖定室102的大小也按基板的大小而定,所以蓋體120的大小也隨之變大。就處理大型的玻璃基板的裝載鎖定室102而言,有時蓋體120的大小會超過3公尺見方。
在維修裝載鎖定室102的內部時,是從容器110卸下蓋體120,因此蓋體120越大,越需要用以暫時性放置的大空間。本實施形態為了解決此點而下了各種的工夫。有關如此的裝載鎖定室102的蓋體120的載置場所或卸下動作方面會在往後敘述。
裝載鎖定室102的容器110是被隔開成上下二段,在上下段各個的大氣側形成有基板搬出入口116,118。例如藉由未圖示的搬送自動裝置,經由該等的基板搬出入口116或基板搬出入口118來搬入未處理的基板至裝載鎖定室102內的上段或下段的其中任一,且從裝載鎖定室102內的上段或下段搬出處理完成的基板。
在基板處理裝置100連接未圖示的控制部,可藉由此控制部來控制裝載鎖定室102,搬送室200,各處理室104等各部的動作。在控制部連接鍵盤,其係供操作者為了管理基板處理裝置100而進行指令的輸入操作等,或由使基板處理裝置的運轉狀況可視化而顯示的顯示器等所構成的操作部(未圖示)。
在控制部連接未圖示的記憶部,在此記憶部記憶有用以來自控制部的指令實現基板處理裝置100所實行的各種處理之程式,或為了實行程式所必要的複數的處理條件(處方)等。各處理條件是匯集了控制基板處理裝置100的各部之控制參數或設定參數等各種的參數值者。參數的具體例有處理氣體的流量比,處理室內壓力,高頻電力等。
另外,亦可將該等的程式或處理條件記憶於硬碟或半導體記憶體,或亦可在收容於CD-ROM,DVD等可攜性可藉由電腦來讀取的記憶媒體之狀態下設定於記憶部的預定位置。
控制部是根據來自操作部的指示,從記憶部讀出所望的程式及處理條件,在控制各部之下,實行基板處理裝置100的全體處理。並且,可根據來自操作部的指示來編輯處理條件。
(搬送室的構成例)
其次,一邊參照圖面,一邊詳細說明有關搬送室200的構成例。圖2是圖1的部分擴大圖,概略顯示搬送室200的具體構成例的立體圖。搬送室200是具備:收容基板之大致箱形狀的容器210,及將設於容器210的頂部212之開口部214予以氣密地閉塞的蓋體250。開口部214是設於頂部212的中央,在開口部214的兩側設有非開口部216,218。
搬送室200的開口部214是例如圖2中從裝載鎖定室102側到縱深方向呈長的大致矩形狀。在圖2所示的搬送室200的頂部212的非開口部216,218上的一部分各沿著開口部214的緣部來安裝有板狀的補強構件222,224。另外,此情況,因補強構件222,224在非開口部216,218上產生階差,但並非限於此,亦可不在非開口部216,218上產生階差的方式設置補強構件222,224。補強構件222,224的形狀亦非限於板狀。
在搬送室200的容器210內設有搬送裝置(圖示省略),其係具有像後述的圖7所示那樣作為基板保持部的拾取器300。搬送裝置是經由設於容器210的各側面之基板搬出入口220來進行裝載鎖定室102與各處理室104之間的基板的交接。
如此,搬送室200是在容器210內設有搬送裝置,所以需要動作的空間。因此,搬送室200的容器210是比裝載鎖定室102的容器110更大。因此,如圖2所示,即使開口部214為頂部212的一部分,但予以閉塞的蓋體250還是大。
在維修搬送室200的內部時,從容器210卸下蓋體250,因此與裝載鎖定室102時同樣,蓋體250越大,越需要用以暫時性放置的大空間。
於是,本實施形態是在搬送室200的頂部212的上面設置用以暫時性載置從該開口部214卸下的本身容器的蓋體250之蓋體載置區域(第二蓋體載置區域,本身容器蓋體載置區域)X。具體而言,如圖2所示,將開口部214的一方側的非開口部218的上面全體設為蓋體載置區域X。藉此,例如後述的圖3,圖4所示般,可將搬送室200的維修時卸下的蓋體250載置於頂部212,因此可謀求無塵室內的省空間化。
另外,蓋體載置區域X的大小或配置並非限於此,亦可按照蓋體250的大小,將非開口部218的上面的一部分設為蓋體載置區域X,或亦可在另一方的非開口部216設置蓋體載置區域X。
另外,像本實施形態那樣在頂部212的中央設置開口部214時,其開口部214的寬度是頂部212的寬度(開口部214的寬度加上其兩側的非開口部216,218的寬度之全體的寬度)的1/3以下為理想。藉此,可儘可能地爭取開口部214的同時,還可將一方的非開口部216的上部全體設為蓋體載置區域X。
而且,本實施形態的搬送室200是構成裝載鎖定室102的蓋體120也可載置於頂部212的上面。具體而言,如圖2所示,在搬送室200的非開口部216,218的上面,設置用以放置從裝載鎖定室102的開口部114卸下的其他容器的蓋體120之蓋體載置區域(第一蓋體載置區域,其他容器蓋體載置區域)Y。藉此,例如後述的圖5,圖6所示般,可將裝載鎖定室102的維修時卸下的蓋體120載置於搬送室200的頂部212,因此可謀求無塵室內的省空間化。另外,蓋體載置區域Y的大小或配置並非限於此。藉由如此構成在搬送室200的非開口部216,218的上面重疊搬送室200的蓋體載置區域X及裝載鎖定室的蓋體載置區域Y,可更謀求無塵室的省空間化。
並且,搬送室200在其非開口部216,218設置補強構件222,224之下,形成比閉塞開口部214時的蓋體250的上面更高。藉此,可保持裝著搬送室200的蓋體250不動,在非開口部216,218上載置裝載鎖定室102的蓋體120。
而且,在搬送室200的頂部212的非開口部216,218的上面設置用以載置蓋體120,250的複數個支撐台。藉此,可防止蓋體120,250的表面直接接觸而受傷,且可水平載置蓋體120,250。
具體而言,在搬送室200的非開口部218的蓋體載置區域X,配合蓋體250的大小,配置有複數的支撐台244,248。支撐台244為板狀,在支撐台248設有用以將蓋體120的載置位置予以定位的突起部。使支撐台244,248之與蓋體120的接觸面形成同高度下,可水平載置蓋體120。
特別是如圖2所示的搬送室200那樣,在非開口部216,218上的一部分安裝補強構件222,224時,在有補強構件222,224的部分及無補強構件222,224的部分產生階差。如此的情況,可藉由調整複數個支撐台244,248的接觸面的高度,來使蓋體120水平載置。
並且,在搬送室200的非開口部216,218的蓋體載置區域Y,配合蓋體120的大小,配置有複數的支撐台240,242,244,246。支撐台244為板狀,支撐台240,242,246是設有用以將蓋體250的載置位置予以定位的突起部。
另外,各支撐台240,242,246,248是以能夠因應所需來裝卸為理想。支撐台246是在載置蓋體250時成障礙物,所以卸下。並且,支撐台244可在蓋體120,250作為共通的支撐台使用。
並且,各支撐台240,242,246,248是用樹脂等構成為理想,使蓋體120,250不會受傷。此情況,亦可為只有與蓋體120,250的接觸面用樹脂等構成。
又,亦可如圖2所示般,在搬送室200的蓋體250的上面,沿著長邊來設置用以裝卸像後述的圖3所示那樣的安全柵262之複數的安裝孔228。又,亦可在搬送室200的頂部212的非開口部218也將用以安裝安全柵的複數個安裝孔230設於搬送室200。雖未圖示,但在非開口部216也可設置用以裝卸安全柵的複數個安裝孔230。
(搬送室之蓋體的卸下)
其次,一邊參照圖面一邊詳細說明有關從搬送室200的開口部214卸下蓋體250而予以載置蓋體載置區域X的動作。圖3是用以說明卸下蓋體250之前的狀態的立體圖。圖4是用以說明將從開口部214卸下的蓋體250載置於蓋體載置區域X時的狀態立體圖。
首先,在開始從開口部214卸下蓋體250的作業之前,如圖3所示,將安全柵260立設於非開口部216的上面,將安全柵262立設於蓋體250的上面。具體而言,將安全柵260的腳部安裝於非開口部216的複數個安裝孔(圖示省略),將安全柵262的腳部安裝於蓋體250的上面的複數個安裝孔228。另外,在此因為支撐台246不需要所以先卸下。
其次,例如利用未圖示的吊車機構來吊起蓋體250,往圖3所示的箭號的方向搬送,如圖4所示,載置於蓋體載置區域X的支撐台244,248。此時,蓋體250的載置位置可定位於支撐台248的突起部。
藉由如此從開口部214卸下蓋體250,可維修搬送室200的內部。又,由於沿著開口部214來立設有安全柵260,262,所以可防止在頂部212作業的作業者掉落至開口部214。並且,只要從開口部214卸下蓋體250來載置於蓋體載置區域X,安全柵262即沿著開口部214立設。如此一來,用以立設安全柵262的作業效率也可使提升。另外,為了更提高安全性,亦可在安全柵260,262框內追加欄杆或網板。又,安全柵260,262亦可常設,因應所需卸下或移設。
如此,若根據本實施形態,則除了設置基板處理裝置100的空間以外,不必準備用以載置從開口部214卸下的蓋體250的空間。因此,可使設置基板處理裝置100的無塵室的地板面積省空間化。
又,由於將搬送室200的蓋體250的蓋體載置區域X設於非常接近開口部214的非開口部218,所以可大幅度縮短以吊車等來吊起蓋體250而載置於蓋體載置區域X所花的時間。因此,可縮短維修等的作業時間,可使基板處理裝置100的生產性提升。
(裝載鎖定室的蓋體的卸下)
其次,一邊參照圖面一邊詳細說明有關從裝載鎖定室102的開口部114卸下蓋體120而予以載置於蓋體載置區域Y的動作。圖5是用以說明從開口部114卸下蓋體120之前的狀態的立體圖。圖6是用以說明將從開口部114卸下的蓋體120載置於蓋體載置區域Y時的狀態的立體圖。
首先,在開始從開口部114卸下蓋體120的作業之前,將安全柵260立設於非開口部216的上面,將安全柵262立設於非開口部218的上面。具體而言,將安全柵260的腳部安裝於非開口部216的複數個安裝孔(圖示省略),將安全柵262的腳部安裝於非開口部218的複數個安裝孔230。
在此,例如上述圖3,圖4所示那樣蓋體250的卸下/安裝作業即將被進行時等,安全柵262是被固定於蓋體250,支撐台246也未被安裝。如此的情況,只要將支撐台246安裝於補強構件224的預定位置,且使安全柵262移動至非開口部218即可。
其次,例如利用未圖示的吊車機構來吊起蓋體120而往圖5所示的箭號的方向搬送,如圖6所示載置於蓋體載置區域Y的支撐台240,242,244,246。此時,蓋體120的載置位置是可定位於支撐台240,242,246的突起部。
藉由如此從開口部114卸下蓋體120,可維修裝載鎖定室200的內部。又,由於沿著開口部214來立設安全柵260,262,所以可確保在頂部212作業的作業者的安全。
如此,若根據本實施形態,則除了設置基板處理裝置100的空間以外,不必準備用以載置從裝載鎖定室102的開口部114卸下的蓋體120的空間。藉此,可使無塵室的地板面積省空間化。
又,由於將裝載鎖定室102的蓋體120的蓋體載置區域Y設於非常接近開口部114的搬送室的頂部212,所以可大幅度縮短以吊車等來吊起蓋體120而載置於蓋體載置區域Y所花的時間。因此,可縮短維修等的作業時間,可使基板處理裝置100的生產性提升。
可是,本實施形態的搬送室200是在其頂部212設置非開口部216,218來確保蓋體載置區域X,Y,所以相較於未設置該等非開口部216,218時,必須縮小開口部214。因此,可想像依設於搬送室200內的搬送裝置的拾取器300的大小,有無法就這樣從開口部214搬出入的情形。因此,亦可使拾取器300配合開口部214的寬度來分解自如地構成。
一邊參照圖面,一邊說明如此的拾取器300的具體構成例。圖7,圖8是用以說明本實施形態的搬送裝置的拾取器300的構成立體圖。圖7是表示分解之前的拾取器300的狀態圖,圖8是表示分解後的拾取器300的狀態圖。
圖7所示的拾取器300是如圖8所示可分解地構成3個部分(寬度Wa的零件302,寬度Wb的零件304,寬度Wc的零件306)。在此,寬度Wa,Wb,Wc全部是比開口部214的寬度方向的尺寸更小。藉此,因維修等從搬送室200取出拾取器300時,可在搬送室200內將拾取器300分解成零件302,304,306之後,從開口部214取出該等。並且,在搬送室200內搬入拾取器300而設置時,可使零件302,304,306從開口部214插入搬送室200內之後,在搬送室200內組裝拾取器300。藉此,即使開口部214的寬度小,還是可使比開口部寬的拾取器300容易出入。
以上,一邊參照附圖,一邊說明有關本發明的較佳實施形態,但本發明並非限於該例。只要是該當業者,便可在申請專利範圍記載的範疇內,想到各種的變更例或修正例,當然該等也屬於本發明的技術範圍。
例如,以將裝載鎖定室102的蓋體120置於搬送室200上的構成作為本發明的一實施形態來說明,但亦可將處理室104的蓋體置於搬送室200上。又,亦可將搬送室200的蓋體250或處理室104的蓋體置於裝載鎖定室102上。甚至,亦可分割蓋體來載置。
[產業上的利用可能性]
本發明是可適用於具備收容FPD基板等的被處理體的收容室之處理裝置。
100...基板處理裝置
102...裝載鎖定室
104...處理室
106...真空側閘閥
110...容器(裝載鎖定室的容器)
112...頂部
114...開口部
116,118,220...基板搬出入口
120...蓋體(裝載鎖定室的蓋體)
200...搬送室
210...容器(搬送室的容器)
212...頂部
214...開口部
216,218...非開口部
222,224...補強構件
228,230...安裝孔
240,242,244,246,248...支撐台
250...蓋體(搬送室的蓋體)
260,262‧‧‧安全柵
300‧‧‧拾取器
302,304,306‧‧‧零件
S‧‧‧基板
X,Y‧‧‧蓋體載置區域
圖1是概略表示本發明的實施形態的基板處理裝置的構成立體圖。
圖2是表示圖1所示的搬送室的具體構成例的立體圖。
圖3是用以說明在同實施形態中從搬送室的開口部卸下蓋體之前的狀態的立體圖。
圖4是用以說明卸下圖3所示的搬送室的蓋體而載置於蓋體載置區域X時的狀態的立體圖。
圖5是用以說明在同實施形態中從裝載鎖定室的開口部卸下蓋體之前的狀態的立體圖。
圖6是用以說明將圖5所示的裝載鎖定室的蓋體載置於蓋體載置區域Y時的狀態的立體圖。
圖7是用以說明同實施形態的搬送裝置的拾取器的概略構成的立體圖。
圖8是用以說明將圖7所示的拾取器分解時的狀態的立體圖。
102...裝載鎖定室
106...真空側閘閥
110...容器(裝載鎖定室的容器)
112...頂部
114...開口部
116,118,220...基板搬出入口
120...蓋體(裝載鎖定室的蓋體)
200...搬送室
210...容器(搬送室的容器)
212...頂部
214...開口部
216,218...非開口部
222,224...補強構件
228,230...安裝孔
240,242,244,246,248...支撐台
250...蓋體(搬送室的蓋體)
X,Y...蓋體載置區域

Claims (10)

  1. 一種處理裝置,係具備收容被處理體的收容室之處理裝置,其特徵為:上述收容室係具備:具有開口部的頂部,及可裝卸自如地閉塞上述開口部的蓋體,在上述頂部設置用以暫時性地載置從上述開口部卸下的上述蓋體之蓋體載置區域,上述蓋體載置區域係與上述開口部鄰接,上述開口部係設於上述頂部的中央,上述開口部的寬度為上述頂部的寬度的1/3以下。
  2. 如申請專利範圍第1項之處理裝置,其中,在上述蓋體載置區域具備用以支撐上述蓋體的複數個支撐台。
  3. 如申請專利範圍第2項之處理裝置,其中,上述支撐台係至少與上述蓋體的接觸面為樹脂材所構成。
  4. 如申請專利範圍第3項之處理裝置,其中,上述蓋體係設置可裝卸自如地安裝安全柵於其上面的柵安裝部,在上述蓋體安裝上述安全柵的狀態下載置於上述蓋體載置區域時,以上述蓋體上的安全柵能夠沿著上述開口部的邊緣之方式配置上述柵安裝部。
  5. 一種處理裝置,係具備收容被處理體的複數個收容室之基板處理裝置,其特徵為:上述複數個收容室係包含具備:具有開口部的頂部,及閉塞上述開口部的蓋體者,上述收容室的至少一個係設置用以載置其他的收容室 的蓋體之第一蓋體載置區域,具備上述第一蓋體載置區域的上述收容室係具有載置該收容室的蓋體之第二蓋體載置區域。
  6. 如申請專利範圍第5項之處理裝置,其中,具有上述第二蓋體載置區域的上述收容室的開口部係設於頂部的中央,上述第二蓋體載置區域係與上述開口部鄰接設置。
  7. 如申請專利範圍第6項之處理裝置,其中,上述第一蓋體載置區域與上述第二蓋體載置區域係配置成重疊。
  8. 如申請專利範圍第7項之處理裝置,其中,上述第一蓋體載置區域與上述第二蓋體載置區域係配置成比閉塞上述開口部時的上述蓋體的上面更高。
  9. 如申請專利範圍第5~8項中的任一項所記載之處理裝置,其中,上述複數個收容室係包含:處理室,其係於真空壓環境中對被處理體實施處理;裝載鎖定室,其係於大氣壓環境與上述處理室之間搬送上述被處理體時暫時性地收容上述被處理體,而將內部切換至大氣壓環境或真空壓環境;及搬送室,其係氣密地連接至上述裝載鎖定室及上述處理室,在內部具備在上述裝載鎖定室與上述處理室之間搬送上述被處理體的搬送裝置。
  10. 如申請專利範圍第9項之處理裝置,其中,在上述收容室的內部設置搬送裝置,其係使上述被處理體載於保持部而搬送,上述保持部係配合上述開口部的寬度大小來分解自如地構成。
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