JP3694388B2 - 半導体製造装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、密閉チャンバの蓋構造に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年のパソコンやワークステーションの液晶ディスプレイの大型化に伴い、液晶素子、半導体素子が形成されるガラス基板も大型化の一途を辿っており、液晶ディスプレイを製造するＬＣＤ製造装置の大型化は避けられない状況となっている。大型化したＬＣＤ製造装置のメンテナンスでは重量物の取扱による作業の長時間化、煩雑化等に伴い安全性、保守性が問題となっている。
【０００３】
ＬＣＤ製造装置を構成する装置の１つであるプラズマＣＶＤ装置は密閉チャンバとして大型の真空チャンバを有する装置であり、該真空チャンバの天蓋は保守作業の為開閉可能な構造となっている。
【０００４】
図３に於いて、従来の密閉チャンバの蓋構造について説明する。
【０００５】
プラズマＣＶＤ装置１は、六角柱形状の真空チャンバ２を中心として該真空チャンバ２に放射状にそれぞれ連設された第１機能室３、第２機能室４、冷却室５、アンローダ室６、ローダ室７を具備している。
【０００６】
前記真空チャンバ２内には特に図示していないが基板搬送装置が設けられ、該基板搬送装置により前記ローダ室７から前記第１機能室３、第２機能室４へ、又該第１機能室３、第２機能室４から前記冷却室５へ、該冷却室５から前記アンローダ室６へと被処理基板の搬送が行われる。前記真空チャンバ２は基板処理中の真空雰囲気を維持する様、気密構造となっているが、前記基板搬送装置の保守、或は内部の清掃の為、天蓋８を取外すことができる様になっている。
【０００７】
該天蓋８中央上面にはリング状の取手９が設けられている。前記プラズマＣＶＤ装置１脇には、前記天蓋８を開閉する為のクレーン１０が設置されている。該クレーン１０は、鉛直軸を中心に回転可能な吊ビーム１１を有し、該吊ビーム１１の先端部にはウィンチ１２が設けられている。
【０００８】
前記天蓋８を開閉するには、該天蓋８を固着しているボルト（図示せず）を外し、前記クレーン１０の前記吊ビーム１１を回転し、前記ウィンチ１２よりワイヤ１３を繰出し、該ワイヤ１３下端のフック１４を前記取手９に引掛けて前記ウィンチ１２により前記ワイヤ１３を巻取る。前記天蓋８を持上げ前記真空チャンバ２より切離し、該真空チャンバ２の内部を開放する。該真空チャンバ２内のメンテナンス時の安全性を確保する為、更に前記クレーン１０を回転させて前記天蓋８を床に降ろす等して他のスペースに一時保管する。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
上述した様に従来の密閉チャンバの蓋構造では、クレーン等の大掛りな昇降機構を必要とするので、メンテナンスの為の設備費が蒿み、又大掛りな昇降機構の設置スペースに加えて開けた天蓋を一時保管しておくスペースも必要になり、昇降機構による作業は煩雑で危険を伴う。更に天蓋の取付け、取外しには時間が掛り、又複雑な作業であり、発塵の可能性も高い。この為クリーンルーム内の清浄度が阻害され、作業に長時間を要することから稼働率が低下するという問題があった。
【００１０】
本発明は斯かる実情に鑑み、大掛りな昇降機構を必要とせずに、簡便に天蓋の開閉を行うことのできる密閉チャンバの蓋構造を提供するものであり、省スペース化、メンテナンス効率及び安全性の向上を図ると共に稼働率を向上してコストの削減を図るものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明は、密閉チャンバの上端開口部に蓋ベースを固着し、該蓋ベースに少なくとも２つの孔を穿設し、該孔を気密に閉塞する蓋体を回転可能に設けた密閉チャンバの蓋構造に係るものである。
【００１２】
天蓋を分割することにより、それぞれの天蓋を軽量にすると共に回転シャフトを中心に独立して開閉可能とすることにより、大掛りな昇降機構を必要とせずに容易に天蓋を開閉でき、昇降機構の設置スペース及び開けた天蓋の保管スペースが不要となり、効率の良いメンテナンスを低コストで行うことができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態を説明する。尚、図１、図２中、図３中で示したものと同様のものには同符号を付してある。
【００１４】
図１に於いて、プラズマＣＶＤ装置１は六角柱形状であり内部に基板搬送装置（図示せず）を有する真空チャンバ２を中心として該真空チャンバ２に放射状にそれぞれ連設された第１機能室３、第２機能室４、冷却室５、アンローダ室６、ローダ室７を具備している。
【００１５】
前記真空チャンバ２の上端開口部は蓋装置１５により気密に密閉される。該蓋装置１５を以下に説明する。
【００１６】
前記真空チャンバ２の上端には蓋ベース１６が気密に取付けられ、該蓋ベース１６には周縁部を残して略３分割する様に孔１７，１８，１９（孔１９は図示せず）が穿設されている。
【００１７】
該孔１７，１８，１９それぞれに対して該孔１７，１８，１９を挟み、両側に各一対の軸受２０，２０、軸受２１，２１、軸受２２，２２が前記蓋ベース１６に固着され、前記それぞれの軸受２０，２０、軸受２１，２１、軸受２２，２２間に回転シャフト２３、回転シャフト２４、回転シャフト２５が掛渡され、回転シャフト２３には前記孔１７を閉塞する脇蓋体２６が回転軸受ブロック２７，２７を介して回転自在に取付けられ、前記回転シャフト２４には前記孔１８を閉塞する中央蓋体２８が回転軸受ブロック２９，２９を介して回転自在に取付けられ、前記回転シャフト２５には前記孔１９を閉塞する脇蓋体３０が回転軸受ブロック３１，３１を介して回転自在に取付けられている。而して脇蓋体２６，３０、中央蓋体２８をそれぞれ独立して開閉することができる。
【００１８】
前記脇蓋体２６，３０、中央蓋体２８が前記孔１７，１９，１８を気密に閉塞する為該孔１７，１９，１８の周囲にはＯリング３２，３４（図示せず），３３が嵌設されている。
【００１９】
尚、特に図示していないが脇蓋体２６，３０、中央蓋体２８はボルト等により前記蓋ベース１６に固着する様になっている。
【００２０】
保守等の為前記真空チャンバ２を開放する必要が生じた場合は、ボルト等を取外し前記脇蓋体２６，３０、中央蓋体２８を前記回転シャフト２３，２５，２４を中心に回転させる。前記脇蓋体２６，３０、中央蓋体２８を回転させることで前記真空チャンバ２の内部は前記孔１７，１９，１８を通して開放される。
【００２１】
上述した様に天蓋を分割することによりそれぞれの天蓋を軽量化でき、クレーン等の昇降機構を用いることなく回転シャフトを中心に独立して開閉することができるので、天蓋の開閉が容易になり、メンテナンスを効率よく行うことができる。
【００２２】
尚、本発明は真空チャンバに限らず、陽圧チャンバに実施可能であると共に半導体製造装置のチャンバに限られるものではないことは勿論である。
【００２３】
【発明の効果】
以上述べた如く本発明によれば、別途昇降機構を用いることなく、天蓋をスムーズに開閉できるので、作業性が著しく向上し、天蓋開閉の為のスペースを必要としないので省スペース化と天蓋の開閉時間の短縮が可能となり、メンテナンス効率が向上し、装置全体の稼働率が向上し、コストが削減されるという優れた効果を発揮する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態を示す一部を破断した概略斜視図である。
【図２】本発明の実施の形態を示す側面図である。
【図３】従来例を示す概略斜視図である。
【符号の説明】
２ 真空チャンバ
１６ 蓋ベース
１７ 孔
１８ 孔
１９ 孔
２６ 脇蓋体
２８ 中央蓋体
３０ 脇蓋体
【発明の属する技術分野】
本発明は、密閉チャンバの蓋構造に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年のパソコンやワークステーションの液晶ディスプレイの大型化に伴い、液晶素子、半導体素子が形成されるガラス基板も大型化の一途を辿っており、液晶ディスプレイを製造するＬＣＤ製造装置の大型化は避けられない状況となっている。大型化したＬＣＤ製造装置のメンテナンスでは重量物の取扱による作業の長時間化、煩雑化等に伴い安全性、保守性が問題となっている。
【０００３】
ＬＣＤ製造装置を構成する装置の１つであるプラズマＣＶＤ装置は密閉チャンバとして大型の真空チャンバを有する装置であり、該真空チャンバの天蓋は保守作業の為開閉可能な構造となっている。
【０００４】
図３に於いて、従来の密閉チャンバの蓋構造について説明する。
【０００５】
プラズマＣＶＤ装置１は、六角柱形状の真空チャンバ２を中心として該真空チャンバ２に放射状にそれぞれ連設された第１機能室３、第２機能室４、冷却室５、アンローダ室６、ローダ室７を具備している。
【０００６】
前記真空チャンバ２内には特に図示していないが基板搬送装置が設けられ、該基板搬送装置により前記ローダ室７から前記第１機能室３、第２機能室４へ、又該第１機能室３、第２機能室４から前記冷却室５へ、該冷却室５から前記アンローダ室６へと被処理基板の搬送が行われる。前記真空チャンバ２は基板処理中の真空雰囲気を維持する様、気密構造となっているが、前記基板搬送装置の保守、或は内部の清掃の為、天蓋８を取外すことができる様になっている。
【０００７】
該天蓋８中央上面にはリング状の取手９が設けられている。前記プラズマＣＶＤ装置１脇には、前記天蓋８を開閉する為のクレーン１０が設置されている。該クレーン１０は、鉛直軸を中心に回転可能な吊ビーム１１を有し、該吊ビーム１１の先端部にはウィンチ１２が設けられている。
【０００８】
前記天蓋８を開閉するには、該天蓋８を固着しているボルト（図示せず）を外し、前記クレーン１０の前記吊ビーム１１を回転し、前記ウィンチ１２よりワイヤ１３を繰出し、該ワイヤ１３下端のフック１４を前記取手９に引掛けて前記ウィンチ１２により前記ワイヤ１３を巻取る。前記天蓋８を持上げ前記真空チャンバ２より切離し、該真空チャンバ２の内部を開放する。該真空チャンバ２内のメンテナンス時の安全性を確保する為、更に前記クレーン１０を回転させて前記天蓋８を床に降ろす等して他のスペースに一時保管する。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
上述した様に従来の密閉チャンバの蓋構造では、クレーン等の大掛りな昇降機構を必要とするので、メンテナンスの為の設備費が蒿み、又大掛りな昇降機構の設置スペースに加えて開けた天蓋を一時保管しておくスペースも必要になり、昇降機構による作業は煩雑で危険を伴う。更に天蓋の取付け、取外しには時間が掛り、又複雑な作業であり、発塵の可能性も高い。この為クリーンルーム内の清浄度が阻害され、作業に長時間を要することから稼働率が低下するという問題があった。
【００１０】
本発明は斯かる実情に鑑み、大掛りな昇降機構を必要とせずに、簡便に天蓋の開閉を行うことのできる密閉チャンバの蓋構造を提供するものであり、省スペース化、メンテナンス効率及び安全性の向上を図ると共に稼働率を向上してコストの削減を図るものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明は、密閉チャンバの上端開口部に蓋ベースを固着し、該蓋ベースに少なくとも２つの孔を穿設し、該孔を気密に閉塞する蓋体を回転可能に設けた密閉チャンバの蓋構造に係るものである。
【００１２】
天蓋を分割することにより、それぞれの天蓋を軽量にすると共に回転シャフトを中心に独立して開閉可能とすることにより、大掛りな昇降機構を必要とせずに容易に天蓋を開閉でき、昇降機構の設置スペース及び開けた天蓋の保管スペースが不要となり、効率の良いメンテナンスを低コストで行うことができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態を説明する。尚、図１、図２中、図３中で示したものと同様のものには同符号を付してある。
【００１４】
図１に於いて、プラズマＣＶＤ装置１は六角柱形状であり内部に基板搬送装置（図示せず）を有する真空チャンバ２を中心として該真空チャンバ２に放射状にそれぞれ連設された第１機能室３、第２機能室４、冷却室５、アンローダ室６、ローダ室７を具備している。
【００１５】
前記真空チャンバ２の上端開口部は蓋装置１５により気密に密閉される。該蓋装置１５を以下に説明する。
【００１６】
前記真空チャンバ２の上端には蓋ベース１６が気密に取付けられ、該蓋ベース１６には周縁部を残して略３分割する様に孔１７，１８，１９（孔１９は図示せず）が穿設されている。
【００１７】
該孔１７，１８，１９それぞれに対して該孔１７，１８，１９を挟み、両側に各一対の軸受２０，２０、軸受２１，２１、軸受２２，２２が前記蓋ベース１６に固着され、前記それぞれの軸受２０，２０、軸受２１，２１、軸受２２，２２間に回転シャフト２３、回転シャフト２４、回転シャフト２５が掛渡され、回転シャフト２３には前記孔１７を閉塞する脇蓋体２６が回転軸受ブロック２７，２７を介して回転自在に取付けられ、前記回転シャフト２４には前記孔１８を閉塞する中央蓋体２８が回転軸受ブロック２９，２９を介して回転自在に取付けられ、前記回転シャフト２５には前記孔１９を閉塞する脇蓋体３０が回転軸受ブロック３１，３１を介して回転自在に取付けられている。而して脇蓋体２６，３０、中央蓋体２８をそれぞれ独立して開閉することができる。
【００１８】
前記脇蓋体２６，３０、中央蓋体２８が前記孔１７，１９，１８を気密に閉塞する為該孔１７，１９，１８の周囲にはＯリング３２，３４（図示せず），３３が嵌設されている。
【００１９】
尚、特に図示していないが脇蓋体２６，３０、中央蓋体２８はボルト等により前記蓋ベース１６に固着する様になっている。
【００２０】
保守等の為前記真空チャンバ２を開放する必要が生じた場合は、ボルト等を取外し前記脇蓋体２６，３０、中央蓋体２８を前記回転シャフト２３，２５，２４を中心に回転させる。前記脇蓋体２６，３０、中央蓋体２８を回転させることで前記真空チャンバ２の内部は前記孔１７，１９，１８を通して開放される。
【００２１】
上述した様に天蓋を分割することによりそれぞれの天蓋を軽量化でき、クレーン等の昇降機構を用いることなく回転シャフトを中心に独立して開閉することができるので、天蓋の開閉が容易になり、メンテナンスを効率よく行うことができる。
【００２２】
尚、本発明は真空チャンバに限らず、陽圧チャンバに実施可能であると共に半導体製造装置のチャンバに限られるものではないことは勿論である。
【００２３】
【発明の効果】
以上述べた如く本発明によれば、別途昇降機構を用いることなく、天蓋をスムーズに開閉できるので、作業性が著しく向上し、天蓋開閉の為のスペースを必要としないので省スペース化と天蓋の開閉時間の短縮が可能となり、メンテナンス効率が向上し、装置全体の稼働率が向上し、コストが削減されるという優れた効果を発揮する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態を示す一部を破断した概略斜視図である。
【図２】本発明の実施の形態を示す側面図である。
【図３】従来例を示す概略斜視図である。
【符号の説明】
２ 真空チャンバ
１６ 蓋ベース
１７ 孔
１８ 孔
１９ 孔
２６ 脇蓋体
２８ 中央蓋体
３０ 脇蓋体
Claims (1)
- 密閉チャンバの上端開口部に蓋ベースを固着し、該蓋ベースに少なくとも２つの孔を穿設し、該孔を気密に閉塞する蓋体を回転可能に設けたことを特徴とする半導体製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15152297A JP3694388B2 (ja) | 1997-05-26 | 1997-05-26 | 半導体製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15152297A JP3694388B2 (ja) | 1997-05-26 | 1997-05-26 | 半導体製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10326844A JPH10326844A (ja) | 1998-12-08 |
| JP3694388B2 true JP3694388B2 (ja) | 2005-09-14 |
Family
ID=15520362
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15152297A Expired - Lifetime JP3694388B2 (ja) | 1997-05-26 | 1997-05-26 | 半導体製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3694388B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101931906B1 (ko) * | 2018-03-14 | 2018-12-21 | 이형섭 | 진공 증착 설비의 타겟 리프트 장치 |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6440261B1 (en) * | 1999-05-25 | 2002-08-27 | Applied Materials, Inc. | Dual buffer chamber cluster tool for semiconductor wafer processing |
| US7883579B2 (en) | 2005-12-14 | 2011-02-08 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing apparatus and lid supporting apparatus for the substrate processing apparatus |
| WO2009078351A1 (ja) * | 2007-12-14 | 2009-06-25 | Ulvac, Inc. | チャンバ及び成膜装置 |
| JP4903728B2 (ja) * | 2008-01-11 | 2012-03-28 | 株式会社アルバック | 搬送ロボットが装置された搬送室及びそのメンテナンス方法。 |
| JP5154491B2 (ja) * | 2009-03-30 | 2013-02-27 | 住友重機械工業株式会社 | チャンバーライン |
| JP5585238B2 (ja) * | 2010-06-24 | 2014-09-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
| JP5575558B2 (ja) * | 2010-06-30 | 2014-08-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置 |
| JP2013229373A (ja) * | 2012-04-24 | 2013-11-07 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置及びそのメンテナンス方法 |
-
1997
- 1997-05-26 JP JP15152297A patent/JP3694388B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101931906B1 (ko) * | 2018-03-14 | 2018-12-21 | 이형섭 | 진공 증착 설비의 타겟 리프트 장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH10326844A (ja) | 1998-12-08 |
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| KR20050086268A (ko) | 평판표시소자 제조장치 |
Legal Events
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